JP2003161937A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光反射モードおよび光透過モードの各場合の
色のバランスを調整できる。 【解決手段】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタ
を備えるとともに、該画素領域は前記カラーフィルタを
間の層としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素
電極が形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一
部以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成され
る光透過領域とに区分けされ、前記カラーフィルタの光
反射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開
口部に前記第１画素電極と第２画素電極との接続を図る
コンタクト部が形成されている。
色のバランスを調整できる。 【解決手段】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタ
を備えるとともに、該画素領域は前記カラーフィルタを
間の層としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素
電極が形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一
部以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成され
る光透過領域とに区分けされ、前記カラーフィルタの光
反射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開
口部に前記第１画素電極と第２画素電極との接続を図る
コンタクト部が形成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特に、部分透過型と称される液晶表示装置に関す
る。
り、特に、部分透過型と称される液晶表示装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】いわゆる部分透過型と称される液晶表示
装置は、たとえば携帯電話用の小型液晶表示装置として
用いられており、必要に応じて太陽の反射光あるいは内
蔵するバックライトの光によって表示面の映像を認識で
きるようになっている。
装置は、たとえば携帯電話用の小型液晶表示装置として
用いられており、必要に応じて太陽の反射光あるいは内
蔵するバックライトの光によって表示面の映像を認識で
きるようになっている。
【０００３】すなわち、液晶を介して対向配置される各
透明基板のうち、その一方の透明基板の液晶側の面に
は、ｘ方向に延在されｙ方向に並設されるゲート信号線
とｙ方向に延在されｘ方向に並設されるドレイン信号線
とで囲まれた領域を画素領域とし、これら各画素領域に
は一方のゲート信号線からの走査信号の供給により駆動
される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介
して一方のドレイン信号線からの映像信号が供給される
画素電極とが形成されている。
透明基板のうち、その一方の透明基板の液晶側の面に
は、ｘ方向に延在されｙ方向に並設されるゲート信号線
とｙ方向に延在されｘ方向に並設されるドレイン信号線
とで囲まれた領域を画素領域とし、これら各画素領域に
は一方のゲート信号線からの走査信号の供給により駆動
される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介
して一方のドレイン信号線からの映像信号が供給される
画素電極とが形成されている。
【０００４】この画素電極は、画素領域においてその一
部に反射膜を兼ねて形成される第１画素電極と少なくと
も前記一部以外の他の部分に形成される光透過性の第２
画素電極からなり、他方の基板の液晶側の面に各画素領
域に共通に形成された透光性の電極からなる対向電極と
の間に電界を発生せしめ、その電界によって画素領域内
の液晶を挙動させるようになっている。
部に反射膜を兼ねて形成される第１画素電極と少なくと
も前記一部以外の他の部分に形成される光透過性の第２
画素電極からなり、他方の基板の液晶側の面に各画素領
域に共通に形成された透光性の電極からなる対向電極と
の間に電界を発生せしめ、その電界によって画素領域内
の液晶を挙動させるようになっている。
【０００５】この場合、反射膜を兼ねる第１画素電極が
形成された部分を光反射領域として用い、光透過性の第
２画素電極が形成された部分を光透過領域として用いて
いる。また、このような構成の液晶表示装置において、
第１画素電極および第２画素電極が形成された一方の基
板側にカラーフィルタを形成したものが知られている。
他方の基板側にカラーフィルタを形成したものと比べて
各基板の合わせ裕度が大きくとれるからである。
形成された部分を光反射領域として用い、光透過性の第
２画素電極が形成された部分を光透過領域として用いて
いる。また、このような構成の液晶表示装置において、
第１画素電極および第２画素電極が形成された一方の基
板側にカラーフィルタを形成したものが知られている。
他方の基板側にカラーフィルタを形成したものと比べて
各基板の合わせ裕度が大きくとれるからである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように構
成された液晶表示装置は、その光反射領域における光の
通過においてカラーフィルタを２回通過し、光透過領域
において１回通過することとなって、光反射モードの場
合と光透過モードの場合とで色のバランスがくずれると
いうことが指摘されていた。また、光反射領域における
第１画素電極と光透過領域における第２画素電極は同電
位に保たなければならないため、それらを電気的に接続
しなければならず、そのためのコンタクト部をカラーフ
ィルタ面に形成しなければならないという不都合があっ
た。カラーフィルタは他の層と比較して膜厚が大きく、
該カラーフィルタに対して上層に形成する光透過性の第
２画素電極に段切れが生じる可能性が大きくなるからで
ある。本発明は、このような事情に基づいてなされたも
のであり、その目的は、光反射モードおよび光透過モー
ドの各場合に色のバランスを調整できる液晶表示装置を
提供することにある。また、本発明による他の目的は、
反射膜を兼ねる画素電極と光透過性の画素電極との接続
の信頼性を向上させた液晶表示装置を提供することにあ
る。
成された液晶表示装置は、その光反射領域における光の
通過においてカラーフィルタを２回通過し、光透過領域
において１回通過することとなって、光反射モードの場
合と光透過モードの場合とで色のバランスがくずれると
いうことが指摘されていた。また、光反射領域における
第１画素電極と光透過領域における第２画素電極は同電
位に保たなければならないため、それらを電気的に接続
しなければならず、そのためのコンタクト部をカラーフ
ィルタ面に形成しなければならないという不都合があっ
た。カラーフィルタは他の層と比較して膜厚が大きく、
該カラーフィルタに対して上層に形成する光透過性の第
２画素電極に段切れが生じる可能性が大きくなるからで
ある。本発明は、このような事情に基づいてなされたも
のであり、その目的は、光反射モードおよび光透過モー
ドの各場合に色のバランスを調整できる液晶表示装置を
提供することにある。また、本発明による他の目的は、
反射膜を兼ねる画素電極と光透過性の画素電極との接続
の信頼性を向上させた液晶表示装置を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。 手段１．本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶
を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶
側の面の画素領域にカラーフィルタを備えるとともに、
該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下
層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光
反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に
光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区
分けされ、前記カラーフィルタの光反射領域の一部に開
口が形成されているとともに、該開口部に前記第１画素
電極と第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成
されていることを特徴とするものである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。 手段１．本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶
を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶
側の面の画素領域にカラーフィルタを備えるとともに、
該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下
層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光
反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に
光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区
分けされ、前記カラーフィルタの光反射領域の一部に開
口が形成されているとともに、該開口部に前記第１画素
電極と第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成
されていることを特徴とするものである。
【０００８】手段２．本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備え
るとともに、該画素領域は前記カラーフィルタを間の層
として一方の側の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が
形成される光反射領域と他方の側の少なくとも前記一部
以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される
光透過領域とに区分けされ、前記カラーフィルタの光反
射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開口
の一部に前記第１画素電極と第２画素電極との接続を図
るコンタクト部が形成されていることを特徴とするもの
である。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備え
るとともに、該画素領域は前記カラーフィルタを間の層
として一方の側の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が
形成される光反射領域と他方の側の少なくとも前記一部
以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される
光透過領域とに区分けされ、前記カラーフィルタの光反
射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開口
の一部に前記第１画素電極と第２画素電極との接続を図
るコンタクト部が形成されていることを特徴とするもの
である。
【０００９】手段３．本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備え
るとともに、該画素領域は前記カラーフィルタを間の層
としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が
形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一部以外
の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される光透
過領域とに区分けされ、前記カラーフィルタの光反射領
域の一部に複数個からなる開口が形成されているとも
に、該各開口のうち幾つかの開口内に前記第１画素電極
と第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成され
ていることを特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備え
るとともに、該画素領域は前記カラーフィルタを間の層
としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が
形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一部以外
の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される光透
過領域とに区分けされ、前記カラーフィルタの光反射領
域の一部に複数個からなる開口が形成されているとも
に、該各開口のうち幾つかの開口内に前記第１画素電極
と第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成され
ていることを特徴とするものである。
【００１０】手段４．本発明による液晶表示装置は、た
とえば、手段１ないし３のうちいずれかの構成を前提と
して、一方の基板の液晶側の面の画素領域は一対の並設
されたゲート信号線と一対の並設されたドレイン信号線
とで囲まれた領域からなり、この画素領域内には該ゲー
ト信号線のうち一方のゲート信号線からの走査信号によ
って作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジ
スタを介して前記ドレイン信号線のうち一方のドレイン
信号線からの映像信号が供給される前記第１画素電極お
よび第２画素電極を備えていることを特徴とするもので
ある。
とえば、手段１ないし３のうちいずれかの構成を前提と
して、一方の基板の液晶側の面の画素領域は一対の並設
されたゲート信号線と一対の並設されたドレイン信号線
とで囲まれた領域からなり、この画素領域内には該ゲー
ト信号線のうち一方のゲート信号線からの走査信号によ
って作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジ
スタを介して前記ドレイン信号線のうち一方のドレイン
信号線からの映像信号が供給される前記第１画素電極お
よび第２画素電極を備えていることを特徴とするもので
ある。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の実施例を図面を用いて説明をする。 実施例１． 《全体構成》図３は、本発明による液晶表示装置の一実
施例を示す等価回路図である。同図は回路図ではある
が、実際の幾何学的配置に対応して描かれている。同図
において、透明基板ＳＵＢ１がある。この透明基板ＳＵ
Ｂ１は液晶を介して他の透明基板ＳＵＢ２と対向配置さ
れるようになっている。該液晶は透明基板ＳＵＢ２の周
辺に形成されたシール材ＳＬによって封入され、また該
シール材ＳＬは透明基板ＳＵＢ１に対する透明基板ＳＵ
Ｂ２の固着を兼ねるようになっている。
の実施例を図面を用いて説明をする。 実施例１． 《全体構成》図３は、本発明による液晶表示装置の一実
施例を示す等価回路図である。同図は回路図ではある
が、実際の幾何学的配置に対応して描かれている。同図
において、透明基板ＳＵＢ１がある。この透明基板ＳＵ
Ｂ１は液晶を介して他の透明基板ＳＵＢ２と対向配置さ
れるようになっている。該液晶は透明基板ＳＵＢ２の周
辺に形成されたシール材ＳＬによって封入され、また該
シール材ＳＬは透明基板ＳＵＢ１に対する透明基板ＳＵ
Ｂ２の固着を兼ねるようになっている。
【００１２】この透明基板ＳＵＢ１の液晶側の面の周辺
を除く中央部には、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設さ
れるゲート信号線ＧＬ、およびｙ方向に延在しｘ方向に
並設されるドレイン信号線ＤＬが形成され、これら各信
号線で囲まれた領域によって画素領域が形成され、この
画素領域はマトリクス状に多数配置されて液晶表示部Ａ
Ｒを構成するようになっている。
を除く中央部には、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設さ
れるゲート信号線ＧＬ、およびｙ方向に延在しｘ方向に
並設されるドレイン信号線ＤＬが形成され、これら各信
号線で囲まれた領域によって画素領域が形成され、この
画素領域はマトリクス状に多数配置されて液晶表示部Ａ
Ｒを構成するようになっている。
【００１３】そして、ゲート信号線ＧＬとこれに隣接す
る他のゲート信号線ＧＬとの間にはｘ方向に延在する容
量信号線ＣＬが延在して形成され、この容量信号線ＣＬ
は各画素領域において後述する容量素子Ｃａｄｄの一方
の容量電極ＣＴに接続されるようになっている。
る他のゲート信号線ＧＬとの間にはｘ方向に延在する容
量信号線ＣＬが延在して形成され、この容量信号線ＣＬ
は各画素領域において後述する容量素子Ｃａｄｄの一方
の容量電極ＣＴに接続されるようになっている。
【００１４】各画素領域には、一方のゲート信号線ＧＬ
からの走査信号の供給によって駆動される薄膜トランジ
スタＴＦＴと、この薄膜トランジスタＴＦＴを介して一
方のドレイン信号線ＤＬからの映像信号が供給される画
素電極ＰＸとを備え、また、この画素電極ＰＸと前記容
量信号線ＣＬとの間には容量素子Ｃａｄｄが形成されて
いる。
からの走査信号の供給によって駆動される薄膜トランジ
スタＴＦＴと、この薄膜トランジスタＴＦＴを介して一
方のドレイン信号線ＤＬからの映像信号が供給される画
素電極ＰＸとを備え、また、この画素電極ＰＸと前記容
量信号線ＣＬとの間には容量素子Ｃａｄｄが形成されて
いる。
【００１５】前記各ゲート信号線ＧＬは、その一端（図
中左側）においてシール材ＳＬを越え透明基板ＳＵＢ１
面に形成された走査駆動回路Ｖに接続され、この走査駆
動回路Ｖから出力される走査信号が順次供給されるよう
になっている。
中左側）においてシール材ＳＬを越え透明基板ＳＵＢ１
面に形成された走査駆動回路Ｖに接続され、この走査駆
動回路Ｖから出力される走査信号が順次供給されるよう
になっている。
【００１６】また、前記各ドレイン信号線ＤＬは、その
一端（図中下側）においてシール材ＳＬを越え透明基板
ＳＵＢ１面に形成された映像信号駆動回路Ｈｅに接続さ
れ、前記走査信号の供給のタイミングに合わせて映像信
号が供給されるようになっている。
一端（図中下側）においてシール材ＳＬを越え透明基板
ＳＵＢ１面に形成された映像信号駆動回路Ｈｅに接続さ
れ、前記走査信号の供給のタイミングに合わせて映像信
号が供給されるようになっている。
【００１７】さらに、前記容量信号線ＣＬは、その一端
（図中左側）において、端子Ｖｃｏｍに接続されるよう
になっている。なお、この端子Ｖｃｏｍは透明基板ＳＵ
Ｂ２の液晶側の面に各画素領域に共通に形成される対向
電極（図示せず）にも接続され、該対向電極は前記画素
電極ＰＸとの間に電界を発生させるようになっている。
（図中左側）において、端子Ｖｃｏｍに接続されるよう
になっている。なお、この端子Ｖｃｏｍは透明基板ＳＵ
Ｂ２の液晶側の面に各画素領域に共通に形成される対向
電極（図示せず）にも接続され、該対向電極は前記画素
電極ＰＸとの間に電界を発生させるようになっている。
【００１８】《画素構成》図１は本発明による液晶表示
装置の画素領域の一実施例を示す平面図であり、そのII
−II線における断面を図２に示している。図１は、図２
に示した液晶表示部ＡＲを構成する各画素領域のうち一
の画素領域の構成を示したものとなっている。
装置の画素領域の一実施例を示す平面図であり、そのII
−II線における断面を図２に示している。図１は、図２
に示した液晶表示部ＡＲを構成する各画素領域のうち一
の画素領域の構成を示したものとなっている。
【００１９】まず、透明基板ＳＵＢ１の表面の一部に、
たとえばポリシリコン層からなる半導体層ＰＳが形成さ
れている。この半導体層ＰＳはたとえばプラズマＣＶＤ
装置によって成膜したアモルファスＳｉ膜をエキシマレ
ーザによって多結晶化したものである。この半導体層Ｐ
Ｓは後述するゲート信号線ＧＬとほぼ平行に帯状をなす
パターンで形成されている。
たとえばポリシリコン層からなる半導体層ＰＳが形成さ
れている。この半導体層ＰＳはたとえばプラズマＣＶＤ
装置によって成膜したアモルファスＳｉ膜をエキシマレ
ーザによって多結晶化したものである。この半導体層Ｐ
Ｓは後述するゲート信号線ＧＬとほぼ平行に帯状をなす
パターンで形成されている。
【００２０】そして、このように半導体層ＰＳが形成さ
れた透明基板ＳＵＢ１の表面には、該半導体層ＰＳをも
覆ってたとえばＳｉＯ２あるいはＳｉＮからなる絶縁膜
ＧＩが形成されている。この絶縁膜ＧＩは前記薄膜トラ
ンジスタＴＦＴのゲート絶縁膜として機能するととも
に、後述するゲート信号線ＧＬとドレイン信号線ＤＬの
層間絶縁膜の一つとして機能するようになっている。
れた透明基板ＳＵＢ１の表面には、該半導体層ＰＳをも
覆ってたとえばＳｉＯ２あるいはＳｉＮからなる絶縁膜
ＧＩが形成されている。この絶縁膜ＧＩは前記薄膜トラ
ンジスタＴＦＴのゲート絶縁膜として機能するととも
に、後述するゲート信号線ＧＬとドレイン信号線ＤＬの
層間絶縁膜の一つとして機能するようになっている。
【００２１】そして、絶縁膜ＧＩの上面には、図中ｘ方
向に延在しｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬが形成
され、このゲート信号線ＧＬは後述するドレイン信号線
ＤＬとともに矩形状の画素領域を画するようになってい
る。なお、このゲート信号線ＧＬは耐熱性を有する導電
膜であればよく、たとえばＡｌ、Ｃｒ、Ｔａ、ＴｉＷ等
が選択される。
向に延在しｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬが形成
され、このゲート信号線ＧＬは後述するドレイン信号線
ＤＬとともに矩形状の画素領域を画するようになってい
る。なお、このゲート信号線ＧＬは耐熱性を有する導電
膜であればよく、たとえばＡｌ、Ｃｒ、Ｔａ、ＴｉＷ等
が選択される。
【００２２】また、このゲート信号線ＧＬはその一部が
画素領域内に延在され、前記半導体層ＰＳに交差するよ
うにして重畳されている。このゲート信号線ＧＬの延在
部は薄膜トランジスタＴＦＴのゲート電極ＧＴとして構
成されている。
画素領域内に延在され、前記半導体層ＰＳに交差するよ
うにして重畳されている。このゲート信号線ＧＬの延在
部は薄膜トランジスタＴＦＴのゲート電極ＧＴとして構
成されている。
【００２３】なお、このゲート信号線ＧＬの形成後は、
絶縁膜ＧＩを介して不純物のイオン打ち込みをし、前記
半導体層ＰＳにおいて前記ゲート電極ＧＴの直下を除く
領域を導電化させることによって、薄膜トランジスタＴ
ＦＴのソース領域およびドレイン領域が形成されるよう
になっている。
絶縁膜ＧＩを介して不純物のイオン打ち込みをし、前記
半導体層ＰＳにおいて前記ゲート電極ＧＴの直下を除く
領域を導電化させることによって、薄膜トランジスタＴ
ＦＴのソース領域およびドレイン領域が形成されるよう
になっている。
【００２４】また、画素領域の中央における絶縁膜ＧＩ
の上面には図中ｘ方向に延在する容量信号線ＣＬが形成
され、この容量信号線ＣＬは画素領域の図中上側の領域
に延在する容量電極ＣＴと一体に形成されるようになっ
ている。この容量信号線ＣＬ（容量電極ＣＴ）はたとえ
ばゲート信号線ＧＬと同層でかつ同一の材料で形成され
ている。
の上面には図中ｘ方向に延在する容量信号線ＣＬが形成
され、この容量信号線ＣＬは画素領域の図中上側の領域
に延在する容量電極ＣＴと一体に形成されるようになっ
ている。この容量信号線ＣＬ（容量電極ＣＴ）はたとえ
ばゲート信号線ＧＬと同層でかつ同一の材料で形成され
ている。
【００２５】そして、前記ゲート信号線ＧＬおよび容量
信号線ＣＬ（容量電極ＣＴ）をも覆って前記絶縁膜ＧＩ
の上面には第１層間絶縁膜ＩＮ１がたとえばＳｉＯ２あ
るいはＳｉＮによって形成されている。
信号線ＣＬ（容量電極ＣＴ）をも覆って前記絶縁膜ＧＩ
の上面には第１層間絶縁膜ＩＮ１がたとえばＳｉＯ２あ
るいはＳｉＮによって形成されている。
【００２６】この第１層間絶縁膜ＩＮ１の上面には図中
ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬ
が形成されている。このドレイン信号線ＤＬの一部は前
記第１層間絶縁膜ＩＮ１および絶縁膜ＧＩに予め形成さ
れたコンタクトホールＣＨ１を通して前記薄膜トランジ
スタＴＦＴのドレイン領域と接続されるようになってい
る。
ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬ
が形成されている。このドレイン信号線ＤＬの一部は前
記第１層間絶縁膜ＩＮ１および絶縁膜ＧＩに予め形成さ
れたコンタクトホールＣＨ１を通して前記薄膜トランジ
スタＴＦＴのドレイン領域と接続されるようになってい
る。
【００２７】また、たとえば該ドレイン信号線ＤＬの形
成の際に、画素領域の上側の領域を被うようにして光反
射機能を有する画素電極ＰＸ（Ｒ）が形成され、この画
素電極ＰＸ（Ｒ）の一部は前記第１層間絶縁膜ＩＮ１お
よび絶縁膜ＧＩに予め形成されたコンタクトホールＣＨ
２を通して前記薄膜トランジスタＴＦＴのソース領域と
接続されるようになっている。
成の際に、画素領域の上側の領域を被うようにして光反
射機能を有する画素電極ＰＸ（Ｒ）が形成され、この画
素電極ＰＸ（Ｒ）の一部は前記第１層間絶縁膜ＩＮ１お
よび絶縁膜ＧＩに予め形成されたコンタクトホールＣＨ
２を通して前記薄膜トランジスタＴＦＴのソース領域と
接続されるようになっている。
【００２８】この画素電極ＰＸ（Ｒ）は、画素領域中に
て光反射領域の画素電極を担当するものであり、その材
料としてはＡｌあるいはその合金等のように光反射効率
の良好なものが選定される。
て光反射領域の画素電極を担当するものであり、その材
料としてはＡｌあるいはその合金等のように光反射効率
の良好なものが選定される。
【００２９】なお、この画素電極ＰＸ（Ｒ）は前記容量
電極ＣＴに重畳されて形成され、該容量素子ＣＴとの間
に第１層間絶縁膜を誘電体膜とする容量素子Ｃａｄｄが
形成されるようになっている。この容量素子Ｃａｄｄ
は、たとえば、画素電極ＰＸに映像信号が供給された際
にその信号を長く蓄積させるために設けられている。
電極ＣＴに重畳されて形成され、該容量素子ＣＴとの間
に第１層間絶縁膜を誘電体膜とする容量素子Ｃａｄｄが
形成されるようになっている。この容量素子Ｃａｄｄ
は、たとえば、画素電極ＰＸに映像信号が供給された際
にその信号を長く蓄積させるために設けられている。
【００３０】そして、このように形成されたドレイン信
号線ＤＬおよび画素電極ＰＸ（Ｒ）をも被って第２層間
絶縁膜ＩＮ２が形成されている。この第２層間絶縁膜Ｉ
Ｎ２はたとえばＳｉＯ２あるはＳｉＮ等から構成されて
いる。
号線ＤＬおよび画素電極ＰＸ（Ｒ）をも被って第２層間
絶縁膜ＩＮ２が形成されている。この第２層間絶縁膜Ｉ
Ｎ２はたとえばＳｉＯ２あるはＳｉＮ等から構成されて
いる。
【００３１】また、第２層間絶縁膜ＩＮ２の上面にはカ
ラーフィルタＦＩＬが形成されている。このカラーフィ
ルタＦＩＬはｙ方向に並設される各画素領域に共通の色
を呈するフィルタから構成されている。
ラーフィルタＦＩＬが形成されている。このカラーフィ
ルタＦＩＬはｙ方向に並設される各画素領域に共通の色
を呈するフィルタから構成されている。
【００３２】ｙ方向に並設される画素領域群のうちの一
の画素領域群においてたとえば赤色のカラーフィルタが
形成されている場合、その両隣の画素領域群のうち一方
の画素領域群には緑色のカラーフィルタが、他方の画素
領域群には青色のカラーフィルタが形成されている。
の画素領域群においてたとえば赤色のカラーフィルタが
形成されている場合、その両隣の画素領域群のうち一方
の画素領域群には緑色のカラーフィルタが、他方の画素
領域群には青色のカラーフィルタが形成されている。
【００３３】そして、このように構成されるカラーフィ
ルタＦＩＬは、その画素領域のうち光反射領域の中央部
にて開口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形成されている。この開口
部ＦＩＬ（ＨＬ）は、光透過領域において光がカラーフ
ィルタＦＩＬを１回しか通過しないのに拘わらず、光反
射領域においてはカラーフィルタＦＩＬを２回通過して
しまうことによる色バランスの不均衡の調整を図るため
に設けられている。
ルタＦＩＬは、その画素領域のうち光反射領域の中央部
にて開口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形成されている。この開口
部ＦＩＬ（ＨＬ）は、光透過領域において光がカラーフ
ィルタＦＩＬを１回しか通過しないのに拘わらず、光反
射領域においてはカラーフィルタＦＩＬを２回通過して
しまうことによる色バランスの不均衡の調整を図るため
に設けられている。
【００３４】そして、カラーフィルタＦＩＬの開口部Ｆ
ＩＬ（ＨＬ）を被うとともに画素領域の光透過領域に及
んでたとえばＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜からなる画素
電極ＰＸ（Ｔ）が形成されている。
ＩＬ（ＨＬ）を被うとともに画素領域の光透過領域に及
んでたとえばＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜からなる画素
電極ＰＸ（Ｔ）が形成されている。
【００３５】この画素電極ＰＸ（Ｔ）は、前記カラーフ
ィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）内の一部におい
て、前記第２層間絶縁膜ＩＮ２に予め形成されたコンタ
クトホールＣＨ３を通して前記画素電極ＰＸ（Ｒ）と電
気的な接続がなされている。この画素電極ＰＸ（Ｔ）
は、画素領域中にて前記光反射領域を除いた領域、すな
わち光透過領域の画素電極を担当するようになってい
る。
ィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）内の一部におい
て、前記第２層間絶縁膜ＩＮ２に予め形成されたコンタ
クトホールＣＨ３を通して前記画素電極ＰＸ（Ｒ）と電
気的な接続がなされている。この画素電極ＰＸ（Ｔ）
は、画素領域中にて前記光反射領域を除いた領域、すな
わち光透過領域の画素電極を担当するようになってい
る。
【００３６】このように構成された液晶表示装置は、カ
ラーフィルタＦＩＬにおいてその光反射領域の一部に開
口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形成された構成となっている。こ
れは、上述したように光透過領域において光がカラーフ
ィルタＦＩＬを１回しか通過しないのに拘わらず、光反
射領域においてはカラーフィルタＦＩＬを２回通過して
しまうことによる色バランスの不均衡の調整のためのも
ので、この調整によって該開口部ＦＩＬ（ＨＬ）の面積
が概略定められるようになっている。
ラーフィルタＦＩＬにおいてその光反射領域の一部に開
口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形成された構成となっている。こ
れは、上述したように光透過領域において光がカラーフ
ィルタＦＩＬを１回しか通過しないのに拘わらず、光反
射領域においてはカラーフィルタＦＩＬを２回通過して
しまうことによる色バランスの不均衡の調整のためのも
ので、この調整によって該開口部ＦＩＬ（ＨＬ）の面積
が概略定められるようになっている。
【００３７】また、反射膜を兼ねる画素電極ＰＸ（Ｒ）
と光透過性の画素電極ＰＸ（Ｔ）との接続を図るコンタ
クト部（コンタクトホールＣＨ３）は前記開口部ＦＩＬ
（ＨＬ）内に形成されたものとなっている。
と光透過性の画素電極ＰＸ（Ｔ）との接続を図るコンタ
クト部（コンタクトホールＣＨ３）は前記開口部ＦＩＬ
（ＨＬ）内に形成されたものとなっている。
【００３８】この場合、カラーフィルタＦＩＬの開口部
ＦＩＬ（ＨＬ）は比較的大きな面積を有することから、
該コンタクト部も大きく形成でき、画素電極ＰＸ（Ｒ）
と画素電極ＰＸ（Ｔ）との接続を信頼性あるものとする
ことができる。
ＦＩＬ（ＨＬ）は比較的大きな面積を有することから、
該コンタクト部も大きく形成でき、画素電極ＰＸ（Ｒ）
と画素電極ＰＸ（Ｔ）との接続を信頼性あるものとする
ことができる。
【００３９】そして、実施例で示したように、カラーフ
ィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）の一部において層
間絶縁膜ＩＮ２に形成されたコンタクトホールを通して
該コンタクト部を形成している。このことは層間絶縁膜
ＩＮ２とカラーフィルタＦＩＬとの段差をそれぞれ場所
を異にして２つの段差に分けることができることを意味
する。したがって、それぞれの段差を跨って形成される
光透光性の画素電極ＰＸ（Ｔ）に該段差による段切れを
生じさせ難くする効果を奏する。
ィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）の一部において層
間絶縁膜ＩＮ２に形成されたコンタクトホールを通して
該コンタクト部を形成している。このことは層間絶縁膜
ＩＮ２とカラーフィルタＦＩＬとの段差をそれぞれ場所
を異にして２つの段差に分けることができることを意味
する。したがって、それぞれの段差を跨って形成される
光透光性の画素電極ＰＸ（Ｔ）に該段差による段切れを
生じさせ難くする効果を奏する。
【００４０】このことから、本発明はカラーフィルタＦ
ＩＬに形成される開口部ＦＩＬ（ＨＬ）を有効に利用し
てその内部に形成されるコンタクト部の信頼性の向上を
図ったものとなっている。
ＩＬに形成される開口部ＦＩＬ（ＨＬ）を有効に利用し
てその内部に形成されるコンタクト部の信頼性の向上を
図ったものとなっている。
【００４１】なお、上述した画素領域の構成において、
実際の製品における光反射領域、光透過領域、カラーフ
ィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）、およびコンタク
ト部のそれぞれの概略の面積比率を図４に示している。
実際の製品における光反射領域、光透過領域、カラーフ
ィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）、およびコンタク
ト部のそれぞれの概略の面積比率を図４に示している。
【００４２】実施例２．図５は本発明による液晶表示装
置の他の実施例を示す構成図で、図４に対応した図とな
っている。図４の場合と比較して異なる構成は、まず、
カラーフィルタＦＩＬの光反射領域の一部に第１開口部
ＦＩＬ（ＨＬ１）と第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）が形成
され、該第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）は第１開口部ＦＩ
Ｌ（ＨＬ１）より面積が小さくなっているともに、コン
タクト部は第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）側に設けられて
いる。ここで、カラーフィルタＦＩＬの第１開口部ＦＩ
Ｌ（ＨＬ１）および第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）はいず
れも色バランスの均衡の調整がなされる開口部となって
いる。
置の他の実施例を示す構成図で、図４に対応した図とな
っている。図４の場合と比較して異なる構成は、まず、
カラーフィルタＦＩＬの光反射領域の一部に第１開口部
ＦＩＬ（ＨＬ１）と第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）が形成
され、該第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）は第１開口部ＦＩ
Ｌ（ＨＬ１）より面積が小さくなっているともに、コン
タクト部は第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）側に設けられて
いる。ここで、カラーフィルタＦＩＬの第１開口部ＦＩ
Ｌ（ＨＬ１）および第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）はいず
れも色バランスの均衡の調整がなされる開口部となって
いる。
【００４３】実施例３．実施例１および２では、画素領
域における光反射領域と光透過領域とが該画素領域のほ
ぼ中央をｘ方向に横切る仮想の線を境界として区分され
たものであるが、この実施例では、図６に示すように、
画素領域をｙ方向に横切る２本の仮想の線で３区分さ
れ、その真中の領域を光反射領域とし、両脇の各領域を
光透過領域として構成されたものである。
域における光反射領域と光透過領域とが該画素領域のほ
ぼ中央をｘ方向に横切る仮想の線を境界として区分され
たものであるが、この実施例では、図６に示すように、
画素領域をｙ方向に横切る２本の仮想の線で３区分さ
れ、その真中の領域を光反射領域とし、両脇の各領域を
光透過領域として構成されたものである。
【００４４】実施例１に示した図１の場合と比較して異
なる部分は、反射膜を兼ねる画素電極ＰＸ（Ｒ）は前記
光反射領域に及んで、また光透光性の画素電極ＰＸ
（Ｔ）は前記光反射領域と光透過領域に及んで形成され
ていることにある。
なる部分は、反射膜を兼ねる画素電極ＰＸ（Ｒ）は前記
光反射領域に及んで、また光透光性の画素電極ＰＸ
（Ｔ）は前記光反射領域と光透過領域に及んで形成され
ていることにある。
【００４５】この場合においても、カラーフィルタＦＩ
Ｌは前記光反射領域の一部に開口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形
成され、この開口部ＦＩＬ（ＨＬ）内の一部において該
光透過性の画素電極ＰＸ（Ｔ）が反射膜を兼ねる画素電
極ＰＸ（Ｒ）と電気的接続がなされるコンタクトホール
ＣＨ３が形成されている。
Ｌは前記光反射領域の一部に開口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形
成され、この開口部ＦＩＬ（ＨＬ）内の一部において該
光透過性の画素電極ＰＸ（Ｔ）が反射膜を兼ねる画素電
極ＰＸ（Ｒ）と電気的接続がなされるコンタクトホール
ＣＨ３が形成されている。
【００４６】なお、図６のVII−VII線における断面図を
図７に示している。このように構成された液晶表示装置
においても、実施例１で説明した効果を奏するようにな
る。なお、上述した画素領域の構成において、実際の製
品における光反射領域、光透過領域、カラーフィルタＦ
ＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）、およびコンタクト部のそ
れぞれの概略の面積比率を図８に示している。
図７に示している。このように構成された液晶表示装置
においても、実施例１で説明した効果を奏するようにな
る。なお、上述した画素領域の構成において、実際の製
品における光反射領域、光透過領域、カラーフィルタＦ
ＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）、およびコンタクト部のそ
れぞれの概略の面積比率を図８に示している。
【００４７】実施例４．図９は、本発明による液晶表示
装置の他の実施例を示す構成図で、図８に対応した図と
なっている。この実施例は、図８と同様、画素領域内の
光反射領域が図中ｙ方向へ細長く形成され、その両脇に
光透過領域が同様ｙ方向へ細長く形成されている。そし
て、カラーフィルタＦＩＬに形成される開口部ＦＩＬ
（ＨＬ）は、前記光反射領域の一端側において比較的面
積は小さいが複数個たとえばマトリクス状に配置されて
形成されている。また、画素電極ＰＸ（Ｔ）のコンタク
ト部ＣＨは、複数の前記開口部のうち幾つかの開口部の
領域に複数個設けられて形成されている。コンタクト部
ＣＨは、その面積が上述した実施例と比較して小さくな
るが、複数個設けられていることによってその信頼性を
確保している。
装置の他の実施例を示す構成図で、図８に対応した図と
なっている。この実施例は、図８と同様、画素領域内の
光反射領域が図中ｙ方向へ細長く形成され、その両脇に
光透過領域が同様ｙ方向へ細長く形成されている。そし
て、カラーフィルタＦＩＬに形成される開口部ＦＩＬ
（ＨＬ）は、前記光反射領域の一端側において比較的面
積は小さいが複数個たとえばマトリクス状に配置されて
形成されている。また、画素電極ＰＸ（Ｔ）のコンタク
ト部ＣＨは、複数の前記開口部のうち幾つかの開口部の
領域に複数個設けられて形成されている。コンタクト部
ＣＨは、その面積が上述した実施例と比較して小さくな
るが、複数個設けられていることによってその信頼性を
確保している。
【００４８】実施例５．図１０は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す構成図で、図８に対応した図
となっている。なお、図１０のXI−XI線における断面図
を図１１に示している。この実施例は、図８と同様、画
素領域内の光反射領域が図中ｙ方向へ細長く形成され、
その両脇に光透過領域が同様ｙ方向へ細長く形成されて
いる。そして、カラーフィルタＦＩＬに形成される開口
部ＦＩＬ（ＨＬ）は、前記光反射領域の長手方向に沿っ
てほぼ等間隔に並設された複数のそれからなり、各開口
部ＦＩＬ（ＨＬ）は図中ｘ方向に延在された長方形状を
なしている。また、このように構成されるカラーフィル
タＦＩＬはその表面に凹凸の度合いがはげしくなること
から、該カラーフィルタＦＩＬの上面に平坦化膜ＯＣが
形成されている。
示装置の他の実施例を示す構成図で、図８に対応した図
となっている。なお、図１０のXI−XI線における断面図
を図１１に示している。この実施例は、図８と同様、画
素領域内の光反射領域が図中ｙ方向へ細長く形成され、
その両脇に光透過領域が同様ｙ方向へ細長く形成されて
いる。そして、カラーフィルタＦＩＬに形成される開口
部ＦＩＬ（ＨＬ）は、前記光反射領域の長手方向に沿っ
てほぼ等間隔に並設された複数のそれからなり、各開口
部ＦＩＬ（ＨＬ）は図中ｘ方向に延在された長方形状を
なしている。また、このように構成されるカラーフィル
タＦＩＬはその表面に凹凸の度合いがはげしくなること
から、該カラーフィルタＦＩＬの上面に平坦化膜ＯＣが
形成されている。
【００４９】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、光反射モードおよ
び光透過モードの各場合の色のバランスを調整できるよ
うになる。また、反射膜を兼ねる画素電極と光透過性の
画素電極との接続の信頼性を向上させることができる。
本発明による液晶表示装置によれば、光反射モードおよ
び光透過モードの各場合の色のバランスを調整できるよ
うになる。また、反射膜を兼ねる画素電極と光透過性の
画素電極との接続の信頼性を向上させることができる。
【図１】 本発明による液晶表示装置の画素の一実施例
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図２】 図１のII−II線における断面図である。
【図３】 本発明による液晶表示装置の一実施例を示す
等価回路図である。
等価回路図である。
【図４】 本発明による液晶表示装置の画素の一実施例
を示す面積比率を概ね考慮した平面図である。
を示す面積比率を概ね考慮した平面図である。
【図５】 本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す平面図である。
例を示す平面図である。
【図６】 本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す平面図である。
例を示す平面図である。
【図７】 図６のVII−VII線における断面図である。
【図８】 本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す面積比率を概ね考慮した平面図である。
例を示す面積比率を概ね考慮した平面図である。
【図９】 本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す平面図である。
例を示す平面図である。
【図１０】 本発明による液晶表示装置の画素の他の実
施例を示す平面図である。
施例を示す平面図である。
【図１１】 図１０のXI−XI線における断面図である。
ＳＵＢ１…透明基板、ＧＬ…ゲート信号線、ＤＬ…ドレ
イン信号線、ＣＬ…容量信号線、ＴＦＴ…薄膜トランジ
スタ、Ｃａｄｄ…容量素子、ＰＸ（Ｒ）…反射膜を兼ね
る画素電極、ＰＸ（Ｔ）…光透光性の画素電極、ＦＩＬ
…カラーフィルタ、ＦＩＬ（ＨＬ）…開口部、ＣＨ３…
コンタクトホール（コンタクト部）。
イン信号線、ＣＬ…容量信号線、ＴＦＴ…薄膜トランジ
スタ、Ｃａｄｄ…容量素子、ＰＸ（Ｒ）…反射膜を兼ね
る画素電極、ＰＸ（Ｔ）…光透光性の画素電極、ＦＩＬ
…カラーフィルタ、ＦＩＬ（ＨＬ）…開口部、ＣＨ３…
コンタクトホール（コンタクト部）。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 長谷川 篤
千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立
製作所ディスプレイグループ内
Ｆターム(参考） 2H091 FA02Y FA15Y FD04 FD23
GA03 LA13
2H092 GA13 JA42 JA45 PA06 PA12
5C094 AA08 AA31 BA03 BA08 BA43
CA19 CA24 DA13 EA04 EA10
FA01 HA10
Claims (4)
- 【請求項１】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタ
を備えるとともに、 該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下
層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光
反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に
光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区
分けされ、 前記カラーフィルタの光反射領域の一部に開口が形成さ
れているとともに、該開口部に前記第１画素電極と第２
画素電極との接続を図るコンタクト部が形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタ
を備えるとともに、 該画素領域は前記カラーフィルタを間の層として一方の
側の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光
反射領域と他方の側の少なくとも前記一部以外の他の部
分に光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域と
に区分けされ、 前記カラーフィルタの光反射領域の一部に開口が形成さ
れているとともに、該開口の一部に前記第１画素電極と
第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成されて
いることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項３】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタ
を備えるとともに、 該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下
層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光
反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に
光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区
分けされ、 前記カラーフィルタの光反射領域の一部に複数個からな
る開口が形成されているとともに、該各開口のうち幾つ
かの開口内に前記第１画素電極と第２画素電極との接続
を図るコンタクト部が形成されていることを特徴とする
液晶表示装置。 - 【請求項４】 一方の基板の液晶側の面の画素領域は一
対の並設されたゲート信号線と一対の並設されたドレイ
ン信号線とで囲まれた領域からなり、この画素領域内に
は該ゲート信号線のうち一方のゲート信号線からの走査
信号によって作動される薄膜トランジスタと、この薄膜
トランジスタを介して前記ドレイン信号線のうち一方の
ドレイン信号線からの映像信号が供給される前記第１画
素電極および第２画素電極を備えていることを特徴とす
る請求項１ないし３のうちいずれかに記載の液晶表示装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001359523A JP4025059B2 (ja) | 2001-11-26 | 2001-11-26 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001359523A JP4025059B2 (ja) | 2001-11-26 | 2001-11-26 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003161937A true JP2003161937A (ja) | 2003-06-06 |
| JP4025059B2 JP4025059B2 (ja) | 2007-12-19 |
Family
ID=19170515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001359523A Expired - Fee Related JP4025059B2 (ja) | 2001-11-26 | 2001-11-26 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4025059B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006215060A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示装置 |
| WO2011045953A1 (ja) * | 2009-10-15 | 2011-04-21 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネルおよびその製造方法、液晶表示装置 |
| CN104570522A (zh) * | 2013-10-18 | 2015-04-29 | 株式会社半导体能源研究所 | 显示装置及电子设备 |
| JP2017016152A (ja) * | 2005-12-26 | 2017-01-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
-
2001
- 2001-11-26 JP JP2001359523A patent/JP4025059B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2017016152A (ja) * | 2005-12-26 | 2017-01-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
| WO2011045953A1 (ja) * | 2009-10-15 | 2011-04-21 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネルおよびその製造方法、液晶表示装置 |
| CN102483540A (zh) * | 2009-10-15 | 2012-05-30 | 夏普株式会社 | 液晶显示面板及其制造方法、液晶显示装置 |
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