[go: up one dir, main page]

JP2003015313A - 開放型のマクロ光学系を備える、版の画像付け装置 - Google Patents

開放型のマクロ光学系を備える、版の画像付け装置

Info

Publication number
JP2003015313A
JP2003015313A JP2002098860A JP2002098860A JP2003015313A JP 2003015313 A JP2003015313 A JP 2003015313A JP 2002098860 A JP2002098860 A JP 2002098860A JP 2002098860 A JP2002098860 A JP 2002098860A JP 2003015313 A JP2003015313 A JP 2003015313A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
plate
image
optical
optical system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP2002098860A
Other languages
English (en)
Inventor
Martin Forrer
フォーラー マルティン
Hans-Joerg Heimbeck
ハイムベック ハンス−イエーク
Eckhard Langenbach
ランゲンバッハ エックハルト
Bernd Vosseler
フォセラー ベルント
Bernard Beier
バイアー ベルナルト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Heidelberger Druckmaschinen AG
Original Assignee
Heidelberger Druckmaschinen AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Heidelberger Druckmaschinen AG filed Critical Heidelberger Druckmaschinen AG
Publication of JP2003015313A publication Critical patent/JP2003015313A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0856—Catadioptric systems comprising a refractive element with a reflective surface, the reflection taking place inside the element, e.g. Mangin mirrors
    • G02B17/086—Catadioptric systems comprising a refractive element with a reflective surface, the reflection taking place inside the element, e.g. Mangin mirrors wherein the system is made of a single block of optical material, e.g. solid catadioptric systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/008—Systems specially adapted to form image relays or chained systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
    • G02B17/0808—Catadioptric systems using two curved mirrors on-axis systems with at least one of the mirrors having a central aperture
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/082—Catadioptric systems using three curved mirrors
    • G02B17/0824—Catadioptric systems using three curved mirrors on-axis systems with at least one of the mirrors having a central aperture
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0884—Catadioptric systems having a pupil corrector
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 出射された光の発散の簡単な低減と、収差の
少ない結像を可能にする。 【解決手段】 版の画像付け装置は、光源１２のアレイ
と、その後に配置された、光源１２の中間虚像１８を生
成するミクロ光学系１４とを備え、ミクロ光学系１４の
後に、共通の曲率中心をもつ凸面鏡２６と凹面鏡２４の
光学機構１０、すなわち開放型の組み合わせが配置され
ている光学機構１０は中間虚像１８の実像２８を生成す
る。凸面鏡２６と凹面鏡２４の光学機構１０のモノリシ
ック構造により、コンパクトで省スペースな構造を得る
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光源のアレイと、
その後に配置された、光源の虚像を生成するミクロ光学
系とを備える、版の画像付け装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】版露光器においてであれダイレクトイメ
ージング印刷ユニットにおいてであれ、版の画像付けを
するために、列をなす光源アレイまたはマトリクス形状
をなす光源アレイを利用することは、使用されるべき結
像光学系に対して高い要求を課すことになる。通常、光
源アレイは、一定の相互間隔で、通常実質的に同じ間隔
をおきながら半導体基板の上に配置され、結晶破断面に
よって正確に定義された共通の出射面を備えている一定
数のダイオードレーザ、有利には単一モードレーザで構
成されている。このような光源またはダイオードレーザ
の光放出円錐は、互いに実質的に直交する２つの対称面
で、異なる広さに開いている。その結果、一方では、こ
の非対称性を有利には少数のモジュールで低減させ、有
利には最小限に抑えるとともに、他方では、できるだけ
結像誤差のない、エミッタのアレイの全体的な結像を可
能にする結像光学系の必要性が生じる。
【０００３】従来技術より、特に画像媒体に画像付けを
するダイオードレーザ列の結像のために具体化された、
多数の結像光学系が公知となっている。たとえば米国特
許明細書４，４２８，６４７より、個々のレーザに、レ
ーザアレイと対物レンズの間で近くのレンズがそれぞれ
付属している半導体レーザアレイが公知である。これら
のレンズの目的は、レーザアレイの表面から出射される
光線の発散角を、光が対物レンズによってできるだけ効
率的に集められて画像媒体に集束されるように、変化さ
せることである。これらのレンズの屈折力は、各々のレ
ンズについて、中間虚像が、出射する表面の後に生成さ
れるように選択されており、これらのレンズの出射間隔
は、出射される光線の間隔にほぼ相当しており、この場
合、エミッタ中間像は拡大されている。
【０００４】たとえば欧州特許出願明細書０６９４４０
８Ｂ１には、どうすればミクロ光学系が軸対称な光学部
材によって、出射される光の発散の低減を達成すること
ができるかが記載されている。
【０００５】したがって、たとえば１０×０，００１ｍ
ｍ2としばしば異常に大きい、このような種類の光源ア
レイの横のフィールドディメンションにおける差異は、
特別なミクロ結像とマクロ結像を必要とする。このよう
なディメンションに対して球面光学系を使用すること
は、比較的大型でコストのかかる光学系デザインでなけ
れば解決できない問題である。球面マクロ光学系を使用
する場合の欠点は、結像品質が、光学軸に対する距離の
関数として変化することである。円柱レンズや円柱レン
ズアレイの利用も、これまでのところ、所望の一定の品
質での、特にダイオードレーザ列の形態の光源アレイの
結像をもたらしていない。
【０００６】米国特許明細書３，７４８，０１５より、
凸面および凹面の球面鏡の機構を含み、これらの鏡の曲
率中心が１つの点に集まっている、単位拡大率と高い解
像度で物体の像を形成するための光学系が公知である。
この鏡機構は、系の内部で少なくとも３つの反射点を生
成するとともに、光学軸から間隔をおいている２つの共
役領域を、曲率中心を含む平面に単位拡大率で生成し、
このとき、系の光学軸は曲率中心を通る前記平面に対し
て直交する。このような種類の鏡の組み合わせには球面
収差、コマ収差、および歪みがなく、使用されている反
射をする鏡表面の厚さまたは屈折力の代数和が０であれ
ば、生成される像には非点収差がなく、三次像フィール
ド湾曲もない。このような種類の光学系は、開放型の光
学機構と呼ばれている。
【０００７】この関連で触れておくと、たとえば米国特
許明細書５，５９２，４４４には、複数のトラックで同
時に光学記憶媒体へデータの書き込みと読み取りをする
方法、およびこれに付属する装置が記載されている。こ
の場合、同明細書に記載されている、個々に制御可能な
複数のダイオードレーザのための結像光学系は、上に説
明した開放型の球面鏡の機構を含んでおり、つまり、共
通の曲率中心をもつ球面の凹面鏡と凸面鏡からなる組み
合わせを含んでいるが、発散を低減させるミクロ光学系
によっては、特に拡大された中間虚像は生成されない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、印刷機
の版露光器または印刷ユニットで、版の画像付け装置を
用いるには、上記以外の方策も必要となる。一方では、
このような種類の機械では設計スペースが非常に限られ
ており、また他方では、画像付け装置を実施するため
に、版露光器または印刷ユニットの構造や配列にあまり
大きな改変を加えることもできないので、必要な設計ス
ペースを減らすことが必要である。しかも、印刷機また
は版露光器の結像光学系が揺れや振動にさらされるの
で、このような結像光学系は、互いに相対的に調節する
必要のある部品ができるだけ少ないことが望ましいた
め、従来技術から公知の光学機構は、印刷機の版露光器
または印刷ユニットの内部で利用するために簡単に転用
することができない。
【０００９】本発明の目的は、出射された光の発散の簡
単な低減と、収差の少ない結像とが可能になるように、
光源のアレイのための結像光学系を提供することであ
る。さらに、版の画像付け装置のための結像光学系は、
できるだけ少ない所要スペースと、できるだけ少ない部
品、したがってできるだけ少ない調節の自由度とを備え
るように具体化するのが望ましい。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的は、請求項１の
特徴を備える画像付け装置によって達成される。本発明
による画像付け装置の有利な実施形態および発展例は、
従属請求項に記載されている。
【００１１】光源のアレイと、その後に配置された、光
源の虚像を生成するミクロ光学系とを備える、本発明に
よる版の画像付け装置は、ミクロ光学系の後に、共通の
曲率中心をもつ、凹面鏡の少なくとも１つの扇形部分と
凸面鏡の１つの扇形部分とを含む光学機構が配置されて
おり、このとき、屈折力の強さの代数和が０であるのが
好ましく、換言すれば、開放型のマクロ光学系または組
み合わせが好まく、前記光学機構は中間虚像の実像を生
成することを特徴としている。少なくとも１つの鏡は、
単純連続面と非単純連続面をいずれも定めることのでき
る１つの扇形部分だけを、最大４πである特定の部分立
体角領域に有していることができるが、以下においては
簡略化のために、凸面鏡と凹面鏡の機構という言い方も
用いる。この場合、凹面鏡および凸面鏡の曲率中心は、
特定の実施形態の実際問題として、開放型の光学機構の
所望の特性を、本発明による画像付け装置で利用するた
めの十分な精度で得るためには、完全に正確に重なって
いなくてもよい。
【００１２】本発明の画像付け装置では、少数の光学屈
折面を利用しながら、アレイのそれぞれの光源が中間虚
像を介してミクロな要求事項に合わせて調節され、すな
わち特に発散に合わせて調節される。開放型の光学機構
の公知の特性を生かした、後に配置されているマクロな
結像、すなわち、共通の曲率中心をもつ凸面鏡の少なく
とも１つの扇形部分と凹面鏡の１つの扇形部分との組み
合わせは、実質的に円形に延びる線に沿った点の、好都
合な結像を可能にする。このとき、マクロ光学系として
ミクロ光学系の後に配置されている、本発明による画像
付け装置の光学機構は、実質的に１列に配置された光源
の中間虚像点が、この円周に対してわずかな間隔を有す
るように設計されている。すなわち、本発明の画像付け
装置は、少数の光学部材で、特にダイオードレーザであ
る多数の光源の一定の出射修正を可能にする。円柱レン
ズの組み合せによって、各々の光源の中間虚像で同時に
拡大をしながらミクロ光学的な対称化がなされるととも
に、後に配置された凸面鏡と凹面鏡の光学機構によっ
て、これらの中間虚像から実像への、できるだけ収差の
ない結像が行われ、特に有利な結像特性を備えた版の画
像付け装置が提供される。
【００１３】光源の出射された光の発散を調節するため
に、ミクロ光学系は非球面に作られるのが好ましい。こ
れはたとえば円柱レンズ、またはアナモルフォトプリズ
ムの組み合わせであってよい。後に配置された凸面鏡と
凹面鏡のマクロ光学機構は、回転対称光学系の少なくと
も１つの円切片を有しており、中間虚像点の列の実質的
に直線状に延びる投影は、この回転対称光学系に付属す
る物体円周に対してわずかに保たれた間隔を有してお
り、この物体円周は、凸面鏡と凹面鏡の光学機構の２つ
の共役領域のうちの一方の内部に位置している。それに
より、開放型の光学系を用いて、中間虚像点の実質的に
直線状に延びる列を、第２の共役領域に単位拡大率で実
像で結像することが可能である。この場合、凸面鏡と凹
面鏡の光学機構に収差がないという格別な利点がある。
【００１４】本発明の画像付け装置の所要スペースを減
らすために、凸面鏡と凹面鏡の光学機構の内部で、光路
の少なくとも１回の折り返しを行うのが好ましい。した
がって、ミクロ光学系の後に配置された光学機構に、凸
面鏡と凹面鏡の光学機構の反射面の前および／または後
のいずれでもよいので、少なくとも１つの光方向転換面
を設けるのが好ましい。それにより、本発明の画像付け
装置の結像光学系を通る光路がコンパクトになるので、
版露光器または印刷ユニットの内部で具体化するための
措置スペースの削減が可能である。そのうえ、格別に有
利なことに、凸面鏡と凹面鏡の光学機構の少なくとも一
部を単一の部品として構成することができ、つまり、屈
折率が周囲と異なる適切な材料で、たとえばガラスその
他の透明な材料で、モノリシックに構成することができ
る。この場合、単一の部品ないしモノリスは、部分的に
内方に向けて鏡面加工された面を有しており、この面
は、たとえば凸面鏡と凹面鏡の光学機構の凸面および凹
面の反射面を具体化する。これらの内面は、モノリスの
能動内面とも呼ばれる。モノリスには、少なくとも１つ
の光源から出射される光のための少なくとも１つの入射
窓と射出窓が設けられ、これらの窓は、干渉フィルタの
形態の反射防止コーティングを備えているのが好まし
い。有利な発展例では、モノリシック構造に、ビームを
方向転換させるプリズムや光方向転換面といった、さら
に別の光学部材が付属していてよい。
【００１５】本発明の画像付け装置は、版露光器または
印刷ユニットで使用できるという格別な利点がある。給
紙装置と、少なくとも１つの印刷ユニットと、排紙装置
とを含む本発明の印刷機は、本発明の画像付け装置を備
える少なくとも１つの印刷ユニットを有していることを
特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
【００１７】図１は、本発明による、版の画像付け装置
の１つの実施形態における、光学部材の構成を示す概略
図である。本発明の画像付け装置は、ミクロ光学系１４
が付属している光源１２と、その後に配置された光学機
構１０とを有している。光源１２から出射された発散光
１６はミクロ光学系１４によって虚像１８に結像され
る。その後に配置された光学機構１０により、光線２０
は中間虚像１８を起点とし、種々の光学部材を経て実像
点２８に変換される。光学機構１０は、本実施形態で
は、まず最初に方向転換部材２２を有するとともに、光
学軸２３に沿って、およびこれと回転対称に設計された
１組の鏡、すなわち光学軸２３に沿って共通の曲率中心
をもつ凹面鏡２４および凸面鏡２６を有している。凹面
鏡２４と凸面鏡２６で構成されたこの１組は、物体領域
の点を像領域の点に結像する。これら領域は互いに共役
である。追加の方向転換部材２２により、光学機構１０
を通る光路の左右対称性が破られているので、共役点と
しての像点２８には中間虚像１８が付属しているが、版
平面２９に方向転換部材２７がない共役点には付属して
いない。しかし、中間虚像１８と凹面鏡２４の間の光学
的距離は、凹面鏡２４と版平面２９の像点２８との間の
光学的長さに等しい。
【００１８】図１では、ミクロ光学系１４と、その後に
配置された光学機構１０、すなわちマクロ光学系とによ
る１つの光源１２の結像が、本発明の画像付け装置のよ
り良い理解のために図示されているが、それに対して、
これに対応する本発明の有利な実施形態では、通常列を
なして配置される複数の光源１２が、有利には各々の光
源１２について個別の特徴を備えるミクロ光学系１４
と、凸面鏡および凹面鏡の光学機構１０に相当する、複
数の中間像１８に作用するマクロ光学系とによって、結
像される。
【００１９】図２には、追加のビームプロフィルフィル
タを備える本発明の版の画像付け装置の別の実施形態に
おける、光学部材の構成が概略図で示されている。この
場合、本発明の画像付け装置は、光源１２と、ミクロ光
学系１４と、光学機構１０が中にあるカプセル３３の内
部への入射窓３２と、版２９が後に配置された射出窓３
４とを含んでいる。この場合、光学機構１０は方向転換
部材２２と、凹面鏡２４と、波面修正部材またはビーム
形成部材３０、すなわちたとえばガウスビームプロフィ
ルを備え、有利には光源１２の基本モードを透過させる
ためのいわゆるビームプロフィルフィルタと、凸面鏡２
６とを含んでいる。つまり光学機構１０は同じく共役の
領域をもつ凸面鏡と凹面鏡の光学機構であり、光源１２
の発散光１６からミクロ光学系１４によって生成された
中間虚像１８は第１の共役領域にあり、版平面２９の像
点２８は第２の共役領域にある。方向転換部材２２の使
用によって、図示したように光路を折り返すことで、そ
れがたとえここに図２に示すように凸面鏡２６の前を通
過し、凸面鏡２６と凹面鏡２４の間の光路を横切るよう
にであれ、あるいはこれに代えて凸面鏡の後ろを通過す
るようにであれ、いっそうコンパクトな構造を得ること
が可能である。
【００２０】図３は、光源のアレイの虚像点の列に対す
る焦点線の位置、すなわち、凸面鏡と凹面鏡の光学機構
の第１の共役領域で選択された点の位置を説明するため
の概略図である。図３には、光学機構１０の凹面鏡２４
と凸面鏡２６の光学軸２３に沿った投影が図示されてい
る。実質的に円形の焦点線３６は、ここで一例として選
択した左右対称な光路の場合について、凹面鏡２４への
共役領域の投影を表している。すなわち、凸面鏡と凹面
鏡の光学機構の物点と像点は、実質的に逆相で円形の焦
点線３６上に位置しており、つまり光学軸２３を中心と
して１８０度逆を向いている。焦点線３６は、実質的
に、きわめて有利な変換特性、つまり最低限の収差をも
つ点を表している。ここでの目的は、虚像点３８の列を
この焦点線３６にできるだけ近づけることである。この
場合、本発明との関連においては、円切片３６と線３８
の間隔を測定するのに、どのような正確な測定基準を選
択するか、あるいはどのような尺度を選択するかは重要
でない。一例として、光学軸２３に対する、投影３８に
おける光源の平均距離、つまり距離の合計を光源の個数
で割ったものを、尺度として利用することができる。光
学機構１０によって、収差を最低限に抑えた有利な結像
を得るために、焦点線３６の半径に対する、虚像点３８
の列の投影の間隔を短く保ち、もしくは調節する。
【００２１】さらに、凸面鏡と凹面鏡の光学機構１０
は、焦点線３６の投影ができるだけ大きな曲率半径を有
するように設計するのが望ましいことが明らかである。
すなわち、局所的に見たとき、つまり光源３８の投影に
おける、互いに最大限離れている光源の像点の間隔を尺
度として見たとき、焦点線３６は、光源３８の列の投影
と比較して、できるだけ平坦に延びているのが望まし
い。つまり、使用する光学機構１０は、凸面鏡と凹面鏡
の回転対称な光学系の少なくとも１つの円切片を有して
さえいればよい。
【００２２】図４には、本発明の画像付け装置におけ
る、モノリシックに構成された光学機構の実施形態の概
略図が示されている。モノリシック構造によって、凸面
鏡と凹面鏡の光学機構のいっそうの小型化を達成するこ
とを目指している。図４には、このような種類のモノリ
シック構造を説明する一例として、左右対称な光路が示
されている。光学機構１０は軸４１に対して左右対称で
ある。ここには図示しない光源およびミクロ光学系の中
間虚像１８を起点として、光線２０が入射窓３２を通っ
て、一例として高屈折ガラスまたは使用する波長に対し
て透過性のポリマーでできたモノリス４０に入る。モノ
リスは、光線２０を反射する凹面４２を有しているの
で、光線は、凹面４２に向き合っている実質的に平坦な
鏡面４６に当たる。光線は鏡面４６から凸面４４に出射
され、そこからさらに対称軸４１の他方の側で左右対称
に鏡面４６に当たり、続いて凹面４２に光線が当たっ
て、光線は最後に射出窓３４を通ってモノリスから出
て、ここには図示しない版平面にある像点２８に収束す
るのが好ましい。図４に示すようなモノリシック構造
は、凸面鏡と凹面鏡の光学機構では、特に、光学軸また
は対称軸４１から離れて位置している凹面鏡の領域が、
第１の共役領域から凸面鏡への反射のため、および凸面
鏡から第２の共役領域への反射のために利用されるとい
う事実を活用している。それにより、反射面４６を導入
することが可能なので、光学軸または対称軸４１の近く
にある凹面４２を凸面４４で置き換えることができる。
当然ながら、位置と曲率は、凸面鏡と凹面鏡の光学機構
の条件によって決定される。凸面４４は、反射面４６が
なければ光線２０が光路５０に沿って当たるはずの地点
４８にある凸面鏡に相当している。光線２０が反射され
るべきモノリス４０の側は、金属層によってであれ干渉
フィルタによってであれ、適切なコーティングによって
できるだけ反射をするようになっているのに対し、入射
窓３２および／または射出窓３４には、たとえば干渉フ
ィルタなどによって反射防止コーティングが施されてい
るので、モノリスの内外への、できるだけ強力な光の入
射ないし射出が可能となっている。
【００２３】図５には、２回のビーム折り返しを利用し
た、モノリシックに構成された別の凸面鏡と凹面鏡の光
学機構の概略図が示されている。光源１２はミクロ光学
系１４によって中間虚像１８に変換される。この中間虚
像１８から出射した光線２０はモノリス４０に入り、第
１の方向転換面５１と第２の方向転換面５２に当たって
凹面４２に投射される。そして光線２０は、鏡面４６、
凸面４４に当たり、あらためて鏡面４６、凹面４２に当
たってから、射出窓３４を通ってモノリス４０から出
て、像点２８で収束する。
【００２４】左右対称に構成された別の凸面鏡と凹面鏡
の光学機構が図６に概略図で示されており、ここでは上
記に加えてプリズムの形態の方向転換部材が用いられて
いる。ここには図示しない光源１２の中間虚像１８から
出射された光線２０が、光線を基底面で反射するプリズ
ムの方向転換部材５４に入射して、モノリス４０の中に
入る。左右対称な光路が想定されており、光線２０はま
ず凹面４２、鏡面４６、凸面に当たってから、あらため
て鏡面４６と凹面４２に当たる。続いて、同じくプリズ
ムの方向転換部材５４が設けられており、その基底面で
光線２０は全体的に反射される。光は像点２８に収束す
る。
【００２５】図７には、結像されるべき光を導入するた
めの追加の凸面状の球とプリズムとを備える、モノリシ
ックに構成されたさらに別の凸面鏡と凹面鏡の光学機構
の概略図が示されている。ここには図示しない光源およ
びミクロ光学系の中間虚像１８から出た光２０は、プリ
ズム５８に入り、そこから凸面状の球５６に入る。この
球の表面には、通過する光線２０ができるだけ反射され
ずにモノリス４０に入ることのできる領域が設けられて
いる。光線２０は、モノリスのさまざまな内面で反射さ
れる。この内面は、切子面６０、凹面４２、鏡面４６、
および凸面４４を含んでいる。像点２８に至るまでの、
光２０の光路が図示されている。この光は、射出窓３４
を通ってモノリス４０から出ることができる。通常、凸
面４４は鏡面加工されており、それによって光はモノリ
ス４０の内部で反射される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による版の画像付け装置の１つの実施形
態における、光学部材の構成を示す概略図である。
【図２】追加のビームプロフィルフィルタを備える本発
明の画像付け装置の別の実施形態における、光学部材の
構成を示す概略図である。
【図３】光源のアレイの虚像点の列に対する、凸面鏡と
凹面鏡の光学機構の焦点線の位置を説明するための概略
図である。
【図４】モノリシックに構成された凸面鏡と凹面鏡の光
学機構を示す概略図である。
【図５】２回のビーム折り返しを利用している、モノリ
シックに構成された別の凸面鏡と凹面鏡の光学機構を示
す概略図である。
【図６】プリズムの形態の追加のビーム方向転換部材を
備える、モノリシックに構成された左右対称な別の凸面
鏡と凹面鏡の光学機構を示す概略図である。
【図７】結像されるべき光を導入するための凸面状の球
とプリズムとを備える、モノリシックに構成されたさら
に別の凸面鏡と凹面鏡の光学機構を示す概略図である。
【符号の説明】
１０ 光学機構 １２ 光源 １４ ミクロ光学系 １６ 光 １８ 中間虚像 ２０ 光線 ２２ 方向転換部材 ２４ 凹面鏡 ２６ 凸面鏡 ２８ 像点 ２９ 版平面 ３０ ビーム形成部材 ３２ 入射窓 ３３ カプセル ３４ 射出窓 ３６ 焦点線 ３８ 像点 ４０ モノリス ４１ 対称軸 ４２ 凹面 ４４ 凸面 ４６ 鏡面 ４８ 地点 ５０ 光路 ５１ 方向転換面 ５２ 方向転換面 ５４ 方向転換部材 ５６ 凸面の球 ５８ プリズム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 390009232 Ｋｕｒｆｕｅｒｓｔｅｎ−Ａｎｌａｇｅ 52−60，Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ，Ｆｅｄｅ ｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅｒ ｍａｎｙ (72)発明者 マルティン フォーラー スイス連邦共和国 9008 サンクト ガレ ン レシンクシュトラーセ 15 (72)発明者 ハンス−イエーク ハイムベック スイス連邦共和国 9435 ヒーアブルック シュラットシュトラーセ ５ (72)発明者 エックハルト ランゲンバッハ スイス連邦共和国 9037 スパイチェルシ ュヴェンディ リックシュトラーセ 14デ ー (72)発明者 ベルント フォセラー ドイツ連邦共和国 69120 ハイデルベル ク ハントシュシャイマー ラントシュト ラーセ 36 (72)発明者 ベルナルト バイアー ドイツ連邦共和国 68526 ラーデンブル ク ルストガルテンシュトラーセ 21 Ｆターム(参考） 2H097 AA03 BA10 CA06

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光源（１２）のアレイと、その後に配置
    され、前記光源（１２）の中間虚像を生成するミクロ光
    学系（１４）とを備える、版（２９）の画像付け装置に
    おいて、 前記ミクロ光学系の後に、共通の曲率中心をもつ、凸面
    鏡（２６）の少なくとも１つの扇形部分と凹面鏡（２
    ４）の１つの扇形部分とを含み、実像（２８）を生成す
    る光学機構（１０）が配置されていることを特徴とす
    る、版の画像付け装置。
  2. 【請求項２】 中間虚像（１８）が前記光源（１２）の
    拡大された結像である、請求項１に記載の版の画像付け
    装置。
  3. 【請求項３】 前記ミクロ光学系（１４）が、出射され
    た光（１６）の発散を調節するために非球面である、請
    求項１または２に記載の版の画像付け装置。
  4. 【請求項４】 凸面鏡（２６）と凹面鏡（２４）の前記
    光学機構（１０）が、回転対称光学系の円切片を少なく
    とも１つ有しており、中間虚像点（３８）の列の実質的
    に直線状に延びる投影が、この回転対称光学系に付属す
    る物体円周（３６）に対してわずかに選択された間隔を
    有している、請求項１から３までのいずれか１項に記載
    の版の画像付け装置。
  5. 【請求項５】 少なくとも１つの光方向転換部材（２
    ２）が、凸面鏡（２６）と凹面鏡（２４）の前記光学機
    構（１０）の反射面の前および／または後に設けられて
    おり、および／またはビーム形成部材（３０）が、凸面
    鏡と凹面鏡の前記光学機構（１０）の各反射面の間に設
    けられている、請求項１から４までのいずれか１項に記
    載の版の画像付け装置。
  6. 【請求項６】 前記光学機構（１０）が少なくとも部分
    的にモノリシックに構成されている、請求項１から５ま
    でのいずれか１項に記載の版の画像付け装置。
  7. 【請求項７】 モノリス（４０）の能動内面が鏡面加工
    されている、請求項６に記載の版の画像付け装置。
  8. 【請求項８】 反射防止層を備える少なくとも１つの入
    射窓（３２）および射出窓（３４）が設けられている、
    請求項６または７に記載の版の画像付け装置。
  9. 【請求項９】 前記モノリシック構造（４０）に、ビー
    ム方向転換および／またはビーム形成および／または波
    面修正のための別の光学部材（５４，５６，５８）が付
    属している、請求項６から８までのいずれか１項に記載
    の版の画像付け装置。
  10. 【請求項１０】 前記モノリス（４０）が、その周囲と
    比較して高い屈折率をもつガラスを有している、請求項
    ６から９までのいずれか１項に記載の版の画像付け装
    置。
  11. 【請求項１１】 版露光器において、 請求項１から１０までのいずれか１項に記載の少なくと
    も１つの画像付け装置を含んでいることを特徴とする版
    露光器。
  12. 【請求項１２】 印刷ユニットにおいて、 請求項１から１０までのいずれか１項に記載の少なくと
    も１つの画像付け装置を含んでいることを特徴とする版
    露光器。
  13. 【請求項１３】 給紙装置と、少なくとも１つの印刷ユ
    ニットと、排紙装置とを備える印刷機において、 請求項１２に記載の少なくとも１つの印刷ユニットを有
    していることを特徴とする印刷機。
JP2002098860A 2001-03-30 2002-04-01 開放型のマクロ光学系を備える、版の画像付け装置 Ceased JP2003015313A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10115875A DE10115875A1 (de) 2001-03-30 2001-03-30 Bebilderungseinrichtung für eine Druckform mit einer Makrooptik vom Offner-Typ
DE10115875.0 2001-03-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003015313A true JP2003015313A (ja) 2003-01-17

Family

ID=7679743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002098860A Ceased JP2003015313A (ja) 2001-03-30 2002-04-01 開放型のマクロ光学系を備える、版の画像付け装置

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6661447B2 (ja)
EP (1) EP1245985B1 (ja)
JP (1) JP2003015313A (ja)
CN (1) CN1299168C (ja)
CA (1) CA2375422A1 (ja)
CZ (1) CZ200234A3 (ja)
DE (2) DE10115875A1 (ja)
IL (1) IL148740A (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10233491B4 (de) * 2002-07-24 2012-12-20 Heidelberger Druckmaschinen Ag Kompakte Einrichtung zur Bebilderung einer Druckform
US6919997B2 (en) 2002-07-24 2005-07-19 Heidelberger Druckmaschinen Ag Compact device for imaging a printing form
US6975933B2 (en) * 2003-02-13 2005-12-13 Nissan Motor Co., Ltd. Fuel properties estimation for internal combustion engine
US7101053B2 (en) * 2004-01-15 2006-09-05 Associated Universities, Inc. Multidirectional retroreflectors
JP2005345582A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 投影光学系およびパターン描画装置
US7173686B2 (en) * 2004-09-02 2007-02-06 Agilent Technologies, Inc. Offner imaging system with reduced-diameter reflectors
US7315352B2 (en) * 2004-09-02 2008-01-01 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Offner imaging system with reduced-diameter reflectors
CN102200643B (zh) * 2011-05-14 2013-01-02 苏州大学 一种用于红外景象仿真器的投影光学系统
JP6344933B2 (ja) * 2014-03-03 2018-06-20 株式会社ミツトヨ 光電式エンコーダ
WO2016190921A1 (en) 2015-02-05 2016-12-01 Associated Universities, Inc. Fiber optic based laser range finder
CN114942520B (zh) * 2022-06-20 2023-06-13 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于锤形优化的低失调敏感度三反望远镜设计方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3748015A (en) * 1971-06-21 1973-07-24 Perkin Elmer Corp Unit power imaging catoptric anastigmat
US4428647A (en) * 1982-11-04 1984-01-31 Xerox Corporation Multi-beam optical system using lens array
US4749840A (en) * 1986-05-16 1988-06-07 Image Micro Systems, Inc. Intense laser irradiation using reflective optics
US4933714A (en) * 1988-05-31 1990-06-12 The Perkin-Elmer Corporation Apparatus and method for reproducing a pattern in an annular area
IL101570A0 (en) * 1992-04-10 1992-12-30 Amir Alon Method and apparatus for reading data
US5581605A (en) * 1993-02-10 1996-12-03 Nikon Corporation Optical element, production method of optical element, optical system, and optical apparatus
IL106009A0 (en) * 1993-06-14 1993-10-20 Amir Alon Method and apparatus for the simultaneous writing of data on an optical disk
US5729331A (en) * 1993-06-30 1998-03-17 Nikon Corporation Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US5704700A (en) * 1994-07-25 1998-01-06 Proxima Corporation Laser illuminated image projection system and method of using same
US5619245A (en) * 1994-07-29 1997-04-08 Eastman Kodak Company Multi-beam optical system using lenslet arrays in laser multi-beam printers and recorders
GB2332553B (en) * 1997-12-19 2000-05-10 John S Wilson Frame for mounting a cd jewel box
GB2332533A (en) * 1997-12-19 1999-06-23 Image Automation Limited Optical system comprising beam splitter and Offner relay
US6104511A (en) * 1998-07-16 2000-08-15 Siros Technologies, Inc. Reflector-based off-axis optical system for holographic storage

Also Published As

Publication number Publication date
CZ200234A3 (cs) 2002-11-13
EP1245985B1 (de) 2004-01-28
CN1299168C (zh) 2007-02-07
CN1379287A (zh) 2002-11-13
EP1245985A2 (de) 2002-10-02
US20030007066A1 (en) 2003-01-09
EP1245985A3 (de) 2002-10-09
IL148740A (en) 2006-08-20
IL148740A0 (en) 2002-09-12
CA2375422A1 (en) 2002-09-30
DE10115875A1 (de) 2002-10-10
HK1050932A1 (en) 2003-07-11
DE50200226D1 (de) 2004-03-04
US6661447B2 (en) 2003-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02115814A (ja) 光ビーム走査装置
JP2007531030A (ja) 投射モジュール及び投射モジュールを用いる投射機
JP2003015313A (ja) 開放型のマクロ光学系を備える、版の画像付け装置
KR100335624B1 (ko) 레이저빔주사장치
JP2722269B2 (ja) 走査光学系
US5161064A (en) Radiation source for a printer
JPH09304720A (ja) 光学走査装置及び光学レンズ
CN100587549C (zh) 用于印版成象的紧凑型装置
JP2000292721A (ja) 光走査装置及びマルチビーム光走査装置
CN113126460A (zh) 一种激光扫描单元
JPH11281911A (ja) 光走査光学系
JPS6411926B2 (ja)
JPH11249040A (ja) 光走査装置
JPH063616A (ja) ポリゴンスキャナ
JP3385678B2 (ja) 光走査装置
JP2002258185A (ja) ビーム合成方法・ビーム合成用プリズム・マルチビーム走査用光源装置・マルチビーム走査装置
JPH04107517A (ja) 光源ユニット及び該光源ユニットに用いられるレンズ
JP2003057582A (ja) マルチビーム発光装置
JPH0248630A (ja) 光走査装置
JP2000221432A (ja) 光走査装置
JPH04289814A (ja) 光走査装置
JPH03107811A (ja) 走査光学装置
JP2974343B2 (ja) 光走査光学系および該光学系を用いた画像走査装置
JPH05249399A (ja) 光ビーム走査光学系
JPS63189822A (ja) 光走査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041111

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20041111

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070808

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070815

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071115

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080109

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080407

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080508

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080513

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20080606

A045 Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20101020