[go: up one dir, main page]

JP2002368420A - ガラスセラミック多層基板の製造方法およびガラスセラミック多層基板 - Google Patents

ガラスセラミック多層基板の製造方法およびガラスセラミック多層基板

Info

Publication number
JP2002368420A
JP2002368420A JP2001169108A JP2001169108A JP2002368420A JP 2002368420 A JP2002368420 A JP 2002368420A JP 2001169108 A JP2001169108 A JP 2001169108A JP 2001169108 A JP2001169108 A JP 2001169108A JP 2002368420 A JP2002368420 A JP 2002368420A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
green sheet
powder
firing
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001169108A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Moriya
要一 守屋
Yasutaka Sugimoto
安隆 杉本
Osamu Chikagawa
修 近川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2001169108A priority Critical patent/JP2002368420A/ja
Priority to CNB021228221A priority patent/CN1183815C/zh
Priority to US10/161,599 priority patent/US6797093B2/en
Publication of JP2002368420A publication Critical patent/JP2002368420A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B18/00Layered products essentially comprising ceramics, e.g. refractory products
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C14/00Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C14/00Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
    • C03C14/004Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/46Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
    • C04B35/462Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4867Applying pastes or inks, e.g. screen printing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/14Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
    • H01L23/15Ceramic or glass substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4688Composite multilayer circuits, i.e. comprising insulating layers having different properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2214/00Nature of the non-vitreous component
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2214/00Nature of the non-vitreous component
    • C03C2214/20Glass-ceramics matrix
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2214/00Nature of the non-vitreous component
    • C03C2214/30Methods of making the composites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3206Magnesium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3215Barium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • C04B2235/3222Aluminates other than alumino-silicates, e.g. spinel (MgAl2O4)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3232Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3244Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3281Copper oxides, cuprates or oxide-forming salts thereof, e.g. CuO or Cu2O
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3284Zinc oxides, zincates, cadmium oxides, cadmiates, mercury oxides, mercurates or oxide forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3409Boron oxide, borates, boric acids, or oxide forming salts thereof, e.g. borax
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3418Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/36Glass starting materials for making ceramics, e.g. silica glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/656Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
    • C04B2235/6562Heating rate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/96Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
    • C04B2235/9607Thermal properties, e.g. thermal expansion coefficient
    • C04B2235/9615Linear firing shrinkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/32Ceramic
    • C04B2237/34Oxidic
    • C04B2237/343Alumina or aluminates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/32Ceramic
    • C04B2237/34Oxidic
    • C04B2237/345Refractory metal oxides
    • C04B2237/348Zirconia, hafnia, zirconates or hafnates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/095Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
    • H01L2924/097Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
    • H01L2924/09701Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/16Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • H05K1/162Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed capacitors
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24926Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including ceramic, glass, porcelain or quartz layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガラスセラミック多層基板を平坦でかつ焼成
収縮率の低い状態で確実に製造できるようにする。 【解決手段】 互いに異なる焼成収縮挙動を示す第1お
よび第2のグリーンシート2および3を積層した生の積
層体6を焼成して、ガラスセラミック多層基板1を製造
するにあたって、焼成工程における、第1および第2の
グリーンシート2および3の収縮開始温度(℃)を、そ
れぞれ、TSaおよびTSbとし、第1および第2のグリー
ンシート2および3の焼結完了時の収縮量の90%の収
縮量となる温度(℃)を、それぞれ、TFaおよびTFb
し、かつ、昇温速度をX℃/分としたとき、(TFa+3
X)<TSbまたは(TFb+3X)<TSaの関係を満たす
ようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガラスセラミッ
ク多層基板の製造方法およびこれによって得られたガラ
スセラミック多層基板に関するもので、特に、ガラスセ
ラミック多層基板を得るための焼成工程での収縮をより
高い信頼性をもって抑制できるようにするための改良に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】導体膜およびビアホール導体のような配
線導体を備える多層基板を製造する場合、配線導体が、
多層基板を得るための焼成条件下に置かれることにな
る。そのため、Ag、Cu等の低抵抗導体を配線導体と
して用いる場合、多層基板は比較的低温で焼結可能な材
料をもって構成されなければならず、このような条件を
満足するものとして、ガラスセラミック多層基板が実用
化されている。
【0003】Ag、Cu等の低抵抗導体をもって構成さ
れた配線導体を備えるガラスセラミック多層基板は、ガ
ラス粉末とセラミック粉末との混合粉末に樹脂および溶
剤等を混合して得られたスラリーをシート状に成形する
ことによって作製されたグリーンシートに、Agまたは
Cu等の低抵抗導体を導電成分とする導電性ペーストを
印刷するなどして配線導体を形成し、次いで、複数のグ
リーンシートを積層し、得られた生の積層体を焼成す
る、各工程を経て製造される。
【0004】しかしながら、上述した焼成工程におい
て、導電性ペーストとグリーンシートとの焼成収縮挙動
の違いや、導電性ペーストに含まれる金属成分がグリー
ンシートに含まれるガラスに拡散することによる、配線
導体まわりのガラスの収縮挙動の変化等により、反りの
ない、すなわち平坦なガラスセラミック多層基板を製造
することが困難である。
【0005】また、ガラスセラミック多層基板の焼成収
縮量は、原材料の品質ばらつき、グリーンシート作製時
のスラリーの材料配合比のばらつき、生の積層体の作製
時のプレス圧のばらつき等が起因して、必ずしも一定で
はない。このような状況下では、ガラスセラミック多層
基板の外表面上に形成される導体膜の位置ずれが多発
し、たとえばフリップチップ実装のような形態で微細な
電子部品を実装する場合の寸法誤差が許容範囲を超え、
歩留まりを著しく悪化させることがある。
【0006】そのため、ガラスセラミック多層基板にお
ける平面方向での焼成収縮量が少なく、焼成収縮率
(%)を、{(焼成前の寸法)−(焼成後の寸法)}×
100/(焼成前の寸法)と定義したとき、この焼成収
縮率がたとえば10%以内であるという条件を満足し得
るガラスセラミック多層基板の製造技術の実現が望まれ
るところである。
【0007】上述した要望に対応して、特開平4−24
3978号公報には、次のようなガラスセラミック多層
基板の製造方法が提案されている。すなわち、ガラス粉
末およびセラミック粉末を固形分とする複数のグリーン
シートを積層してなる生の積層体の両面または片面に、
当該生の積層体の焼成温度では焼結しないセラミック粉
末を固形分とする拘束用グリーンシートを積層し、この
状態で焼成することによって、積層体の平面方向での収
縮を抑制しながら、厚み方向のみに収縮させて、ガラス
セラミック多層基板を製造しようとするものである。こ
の方法によれば、結果として、平坦なガラスセラミック
多層基板の製造も可能となる。
【0008】しかしながら、上述の製造方法では、生の
積層体の両面または片面に積層された拘束用グリーンシ
ートは、焼成後に剥離除去されるものであり、製品とし
てのガラスセラミック多層基板には不要なものである。
そのため、この拘束用グリーンシートを作製するための
コスト、およびこれを剥離除去するためのコストが、ガ
ラスセラミック多層基板の製造コストに加算されること
になり、ガラスセラミック多層基板を製造する上でのコ
スト高の原因となる。
【0009】そこで、近年注目されている技術として、
特開平6−97656号公報または特開平6−1720
17号公報に記載されたガラスセラミック多層基板の製
造方法がある。これらの公報には、焼成工程では焼結す
るが、焼成収縮挙動の互いに異なる第1のグリーンシー
トと第2のグリーンシートとを用い、これらを積層して
得られた生の積層体を焼成することによって、平面方向
への収縮が抑制され、かつ平坦であるガラスセラミック
多層基板の製造を可能とする方法が記載されている。こ
れら公報に記載された技術の基本原理は、次のとおりで
ある。
【0010】すなわち、第1のグリーンシートの焼結温
度に対応する比較的低い焼成温度で最初に焼成すると、
第1のグリーンシートは焼結収縮しようとするが、この
焼成温度は、第2のグリーンシートの焼結温度よりも低
いため、第2のグリーンシートは未焼結の状態に保持さ
れ、収縮がほとんど起こらない。したがって、第1のグ
リーンシートの平面方向での収縮は、第2のグリーンシ
ートからの拘束作用によって抑制される。
【0011】次に、第2のグリーンシートの焼結温度に
対応する比較的高い焼成温度で焼成すると、第2のグリ
ーンシートは焼結収縮しようとするが、第1のグリーン
シートをもって得られた焼結層からの拘束作用によっ
て、第2のグリーンシートの平面方向での収縮は抑制さ
れる。
【0012】このようにして、積層体の焼成収縮は、実
質的に厚み方向にのみ生じ、平面方向にはほとんど生じ
ず、結果として、焼成収縮量が少なくかつ平坦な状態で
ガラスセラミック多層基板を製造することが可能にな
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た特開平6−97656号公報または特開平6−172
017号公報に記載されたガラスセラミック多層基板の
製造方法では、これら公報において開示された技術を実
施しても、焼成時での平面方向の収縮を十分に抑制でき
ない場合、より特定的には、10%以内の焼成収縮率を
必ずしも達成できない場合があり、そのため、平坦なガ
ラスセラミック多層基板を確実に製造することが困難で
あるという問題が残されている。
【0014】この不確実性の問題は、一方のグリーンシ
ートの収縮終了温度と他方のグリーンシートの収縮開始
温度との差および焼成工程での昇温速度に関係してお
り、一方のグリーンシートの収縮終了温度と他方のグリ
ーンシートの収縮開始温度との差が小さいほど、あるい
は昇温速度が大きいほど、この問題が生じやすい。
【0015】そのため、一方のグリーンシートの収縮終
了温度と他方のグリーンシートの収縮開始温度との中間
温度域で一定温度での焼成帯を設けたり、昇温速度を小
さくしたりすることによって、平面方向での収縮を抑え
ることが可能ではあるが、それでは、焼成工程を長時間
化してしまい、製造コストの観点からも好ましくない。
【0016】そこで、この発明の目的は、昇温速度を大
きくしても、焼成工程での平面方向の収縮をより高い信
頼性をもって抑制できる、ガラスセラミック多層基板の
製造方法およびこの製造方法によって得られたガラスセ
ラミック多層基板を提供しようとすることである。
【0017】
【課題を解決するための手段】この発明に係るガラスセ
ラミック多層基板の製造方法は、第1のガラス粉末およ
び第1のセラミック粉末を固形分とする第1のグリーン
シートを作製する、第1の工程と、第2のガラス粉末お
よび第2のセラミック粉末を固形分とし、かつ第1のグ
リーンシートとは異なる焼成収縮挙動を示す第2のグリ
ーンシートを作製する、第2の工程と、第1および第2
のグリーンシートの少なくとも一方に、導体膜およびビ
アホール導体の少なくとも一方を形成する、第3の工程
と、少なくとも1枚の第1のグリーンシートおよび少な
くとも1枚の第2のグリーンシートを積層することによ
って、生の積層体を得る、第4の工程と、生の積層体を
焼成する、第5の工程とを備え、上述した技術的課題を
解決するため、次のような構成を備えることを特徴とし
ている。
【0018】まず、この発明では、第5の工程におい
て、生の積層体を、第1および第2のガラス粉末の各々
のガラス転移点のいずれか低い方の温度を超えた後、X
℃/分(X>1)の昇温速度をもって昇温する昇温過程
を経て最高温度に到達させる、焼成プロファイルに従っ
て焼成することが行なわれる。
【0019】そして、第5の工程における、第1および
第2のグリーンシートの収縮開始温度(℃)を、それぞ
れ、TSaおよびTSbとし、第1および第2のグリーンシ
ートの焼結完了時の収縮量の90%の収縮量となる温度
(℃)を、それぞれ、TFaおよびTFbとしたとき、(T
Fa+3X)<TSbまたは(TFb+3X)<TSaの関係を
満たすように条件が設定されることを特徴としている。
【0020】この発明に係るガラスセラミック多層基板
の製造方法は、上述のように、(T Fa+3X)<TSb
たは(TFb+3X)<TSaの関係を満たすように条件が
設定されることを特徴とするものであるが、このような
条件を満たすようにするため、第1および第2のグリー
ンシートの材料設計からの解決を図っても、昇温速度か
らの解決を図っても、さらには、これら両者からの解決
を図ってもよい。
【0021】上述した第1および第2のグリーンシート
の材料設計からの解決を図ろうとする場合、この発明の
他の局面では、このような条件を満たす第1および第2
のグリーンシートを作製するため、次のような準備工程
が実施された上で、この発明に係るガラスセラミック多
層基板の製造方法が実施される。
【0022】すなわち、この発明に係るガラスセラミッ
ク多層基板の製造方法は、他の局面によれば、第1のガ
ラス粉末および第1のセラミック粉末を固形分とする第
1の試験用グリーンシートを作製するとともに、第2の
ガラス粉末および第2のセラミック粉末を固形分とし、
かつ第1の試験用グリーンシートとは異なる焼成収縮挙
動を示す第2の試験用グリーンシートを作製し、第1お
よび第2の試験用グリーンシートについて、それぞれ、
その収縮量を測定しながら、たとえば1℃/分といった
所定の昇温速度をもって昇温する昇温過程を経て最高温
度に到達させる焼成プロファイルに従って焼成し、その
ときの収縮開始温度TSa(℃)およびT Sb(℃)を求め
るとともに、焼結完了時の収縮量の90%の収縮量とな
る温度T Fa(℃)およびTFb(℃)を求め、第1および
第2の試験用グリーンシートが、(TFa+3X)<TSb
または(TFb+3X)<TSaの関係を有していることを
確認する、各工程を備える、準備工程をまず備えてい
る。
【0023】そして、第1の試験用グリーンシートと同
様の第1のグリーンシートを作製する、第1の工程と、
第2の試験用グリーンシートと同様の第2のグリーンシ
ートを作製する、第2の工程と、第1および第2のグリ
ーンシートの少なくとも一方に、導体膜およびビアホー
ル導体の少なくとも一方を形成する、第3の工程と、少
なくとも1枚の第1のグリーンシートおよび少なくとも
1枚の第2のグリーンシートを積層することによって、
生の積層体を得る、第4の工程と、生の積層体を、第1
および第2のガラス粉末の各々のガラス転移点のいずれ
か低い方の温度を超えた後、X℃/分(X>1)の昇温
速度をもって昇温する昇温過程を経て最高温度に到達さ
せる、焼成プロファイルに従って焼成する、第5の工程
とが実施される。
【0024】この発明において、第1のグリーンシート
と第2のグリーンシートとの熱膨張係数の差は、20℃
から第1および第2のガラス粉末の各々のガラス転移点
のいずれか低い方の温度までの平均熱膨張係数で、±
0.5×10-6℃以内であることが好ましい。
【0025】また、第1のグリーンシートと第2のグリ
ーンシートとが異なる焼成収縮挙動を示すようにするた
めには、次の3つの条件のうちの少なくとも1つを満足
するようにすればよい。すなわち、第1の条件は、第1
のガラス粉末と第2のガラス粉末とが異なる組成である
ことである。第2の条件は、第1のセラミック粉末と第
2のセラミック粉末とが異なる組成であることである。
第3の条件は、第1のグリーンシートにおける第1のガ
ラス粉末と第1のセラミック粉末との配合比率と第2の
グリーンシートにおける第2のガラス粉末と第2のセラ
ミック粉末との配合比率とが異なることである。したが
って、第1および第2のガラス粉末は互いに同じ組成で
あることも、第1および第2のセラミック粉末が互いに
同じ組成であることもある。
【0026】前述した第4の工程において、好ましく
は、第1および第2のグリーンシートのいずれか一方を
内層に、および第1および第2のグリーンシートのいず
れか他方を外層に、それぞれ1枚以上積層するようにさ
れる。
【0027】好ましい実施態様では、第1のガラス粉末
は、BaO−MgO−SiO2 −B 2 3 系ガラスから
なり、第1のセラミック粉末は、アルミナ、スピネルお
よびジルコニアから選ばれた少なくとも1種からなり、
第1のグリーンシートにおいて、第1のガラス粉末と第
1のセラミック粉末との混合比が、重量比で、40:6
0〜100:0とされる。
【0028】上述の第1のガラス粉末は、添加物とし
て、Al2 3 、ZnO、TiO2 、ZrO2 およびR
2 O(Rはアルカリ金属)から選ばれた少なくとも1種
を含んでいてもよい。
【0029】また、上述した第1のグリーンシートは、
酸化銅を含んでいてもよい。
【0030】また、好ましい実施態様において、第2の
ガラス粉末は、MgO−ZnO−SiO2 −B2 3
ガラスからなり、第2のセラミック粉末は、BaO−R
23 −Nd2 3 −TiO2 系セラミック(Reは
希土類元素)からなり、第2のガラス粉末と第2のセラ
ミック粉末との混合比が、重量比で、10:90〜4
0:60とされる。
【0031】上述した第2のガラス粉末は、添加物とし
て、BaO、CaO、Al2 3 およびR2 O(Rはア
ルカリ金属)から選ばれた少なくとも1種を含んでいて
もよい。
【0032】また、上述した第2のグリーンシートは、
酸化銅を含んでいてもよい。
【0033】この発明に係るガラスセラミック多層基板
の製造方法において、焼成収縮率(%)を、{(焼成前
の寸法)−(焼成後の寸法)}×100/(焼成前の寸
法)と定義したとき、第5の工程における積層体の焼成
収縮率は、好ましくは、10%以内である。
【0034】この発明は、また、上述したような製造方
法によって得られたガラスセラミック多層基板にも向け
られる。
【0035】
【発明の実施の形態】図1は、この発明の一実施形態に
よるガラスセラミック多層基板の製造方法を説明するた
めのものである。この製造方法では、図1(1)および
(2)にそれぞれ示した工程を経て、図1(3)に示す
ようなガラスセラミック多層基板1が製造される。
【0036】まず、図1(1)に示すように、第1のガ
ラス粉末および第1のセラミック粉末を固形分とする第
1のグリーンシート2を作製する、第1の工程と、第2
のガラス粉末および第2のセラミック粉末を固形分とす
る第2のグリーンシート3を作製する、第2の工程とが
実施される。
【0037】上述した第1のグリーンシート2と第2の
グリーンシート3とは互いに異なる焼成収縮挙動を示す
もので、そのため、第1のガラス粉末と第2のガラス粉
末とが異なる組成のものとされたり、第1のセラミック
粉末と第2のセラミック粉末とが異なる組成のものとさ
れたり、第1のグリーンシート2における第1のガラス
粉末と第1のセラミック粉末との配合比率と第2のグリ
ーンシート3における第2のガラス粉末と第2のセラミ
ック粉末との配合比率とを異ならせたりすることが行な
われる。
【0038】第1のグリーンシート2に含まれる第1の
ガラス粉末としては、たとえば、BaO−MgO−Si
2 −B2 3 系ガラスからなるものが用いられる。
【0039】また、第1のグリーンシート2に含まれる
第1のセラミック粉末としては、たとえば、アルミナ、
スピネルおよびジルコニアから選ばれた少なくとも1種
からなるものが用いられる。
【0040】また、第1のグリーンシート2において、
第1のガラス粉末と第1のセラミック粉末との混合比
は、重量比で、たとえば40:60〜100:0となる
ように選ばれる。
【0041】上述した第1のガラス粉末は、添加物とし
て、Al2 3 、ZnO、TiO2、ZrO2 およびR
2 O(Rはアルカリ金属)から選ばれた少なくとも1種
を含んでいてもよい。
【0042】また、第1のグリーンシート2は、酸化銅
を含んでいてもよい。
【0043】他方、第2のグリーンシート3に含まれる
第2のガラス粉末としては、たとえば、MgO−ZnO
−SiO2 −B2 3 系ガラスからなるものが用いられ
る。
【0044】第2のグリーンシート3に含まれる第2の
セラミック粉末としては、たとえば、BaO−Re2
3 −Nd2 3 −TiO2 系セラミック(Reは希土類
元素)からなるものが用いられる。
【0045】これら第2のガラス粉末と第2のセラミッ
ク粉末との混合比は、重量比で、たとえば10:90〜
40:60となるようにされる。
【0046】上述した第2のガラス粉末は、添加物とし
て、BaO、CaO、Al2 3 およびR2 O(Rはア
ルカリ金属)から選ばれた少なくとも1種を含んでいて
もよい。
【0047】また、第2のグリーンシート3は、酸化銅
を含んでいてもよい。
【0048】第1および第2のグリーンシート2および
3を作製するにあたっては、ガラス粉末およびセラミッ
ク粉末等の固形分を、有機バインダおよび有機溶剤から
なる有機ビヒクル中に分散させてスラリーを作製し、こ
のスラリーを、ドクターブレード法等によってシート状
に成形することが行なわれる。
【0049】次に、同じく図1(1)に示すように、第
1および第2のグリーンシート2および3の少なくとも
一方に、導体膜4およびビアホール導体5の少なくとも
一方を形成する、第3の工程が実施される。この実施形
態では、第1および第2のグリーンシート2および3の
各々に、導体膜4およびビアホール導体5が形成され
る。
【0050】これら導体膜4およびビアホール導体5を
形成するため、たとえば銀を導電成分として含む導電性
ペーストが用いられ、たとえば印刷を適用して、グリー
ンシート2および3に付与される。なお、ビアホール導
体5を形成するにあたっては、グリーンシート2および
3には、貫通孔が予め設けられる。
【0051】次に、図1(2)に示すように、少なくと
も1枚の第1のグリーンシート2および少なくとも1枚
の第2のグリーンシート3を積層することによって、生
の積層体6を得る、第4の工程が実施される。この第4
の工程は、第1および第2のグリーンシート2および3
のいずれか一方を内層に、第1および第2のグリーンシ
ート2および3のいずれか他方を外層に、それぞれ1枚
以上積層するように実施されることが好ましい。特に、
図示の実施形態では、複数枚、たとえば3枚の第2のグ
リーンシート3を内層にしながら、これらを挟むよう
に、各々複数枚、たとえば各々3枚ずつの第1のグリー
ンシート2を外層として積層することが行なわれる。
【0052】上述した積層の後、生の積層体6は、その
積層方向にプレスされ、グリーンシート2および3間の
密着性が高められる。
【0053】次に、生の積層体6を焼成する、第5の工
程が実施され、それによって、図1(3)に示すような
ガラスセラミック多層基板1が得られる。
【0054】上述した第5の工程において、互いに異な
る焼成収縮挙動を示す第1および第2のグリーンシート
2および3を積層した生の積層体6を焼成するので、前
述した特開平6−97656号公報等に記載された技術
と同様の作用に従って、積層体6の平面方向での収縮が
抑制される。
【0055】すなわち、第5の工程では、適宜の昇温速
度をもって昇温する昇温過程を経て最高温度に到達させ
る焼成プロファイルに従って焼成されるが、第1のグリ
ーンシート2が第2のグリーンシート3に比べてより低
い焼結温度を有しているとすれば、まず、第1のグリー
ンシート2の焼結温度に対応する比較的低い温度の段階
では、第1のグリーンシート2は焼結して第1の焼結層
7となる。この第1のグリーンシート2が第1の焼結層
7となるとき、収縮を伴うが、この段階での温度は、第
2のグリーンシート3の焼結温度よりも低いため、第2
のグリーンシート3は、未焼結の状態に保たれ、実質的
に収縮されない。したがって、第1のグリーンシート2
から第1の焼結層7に至る段階においては、第2のグリ
ーンシート3からの拘束作用によって、厚み方向には収
縮するが、平面方向への収縮は実質的に生じないように
することができる。
【0056】次いで、昇温過程において、第2のグリー
ンシート3の焼結温度に達すると、第2のグリーンシー
ト3は焼結して第2の焼結層8となる。この第2のグリ
ーンシート3から第2の焼結層8に至る段階では、収縮
が生じるが、第2のグリーンシート3には、既に焼結さ
れた第1の焼結層7からの拘束作用が及ぼされているた
め、厚み方向の収縮は生じるが、平面方向での収縮は実
質的に生じない。
【0057】このようなことから、生の積層体6は、平
面方向での収縮が抑制された状態で焼結され、ガラスセ
ラミック多層基板1となる。
【0058】以上のようなガラスセラミック多層基板1
の製造方法において、この実施形態では、第1および第
2のグリーンシート2および3の各焼成収縮挙動または
昇温速度に対して、次のような条件が付加される。
【0059】すなわち、前述した第5の工程における、
第1および第2のグリーンシートの収縮開始温度(℃)
を、それぞれ、TSaおよびTSbとし、第1および第2の
グリーンシート2および3の焼結完了時の収縮量の90
%の収縮量となる温度(℃)を、それぞれ、TFaおよび
Fbとし、かつ、昇温速度をX℃/分としたとき、(T
Fa+3X)<TSbまたは(TFb+3X)<TSaの関係を
有するように条件が設定される。
【0060】また、第5の工程では、生の積層体6を、
第1および第2のガラス粉末の各々のガラス転移点のい
ずれか低い方の温度を超えた後、X℃/分(X>1)の
昇温速度をもって昇温する昇温過程を経て最高温度に到
達させる、焼成プロファイルに従って焼成することが行
なわれる。
【0061】前述したような(TFa+3X)<TSbまた
は(TFb+3X)<TSaといった条件によれば、1℃/
分を超える昇温速度が採用されても、焼成時における生
の積層体6の平面方向での焼成収縮率を10%以内に確
実に抑えることが可能になる。その理由を以下に述べ
る。
【0062】図2には、ある特定のグリーンシートの焼
成収縮挙動が示されていて、そこには、収縮開始温度T
S 、および焼結完了時の収縮量の90%の収縮量となる
温度TF が表示されている。
【0063】TS およびTF は、たとえば、理学製Di
latometer5000を用い、昇温速度1℃/分
で測定して求められたものとする。しかし、TS は、昇
温速度の影響を受け、昇温速度が大きくなるほど、矢印
11で示すように、高温側にずれ、点線で示すような焼
成収縮挙動を示すようになる。他方、TS は、ガラスの
物性値である軟化点に相当するため、昇温速度の影響を
受けない。
【0064】この実施形態における第1のグリーンシー
ト2の収縮開始温度TSaおよび90%の収縮量となる温
度TFaならびに第2のグリーンシート3の収縮開始温度
Sbおよび90%の収縮量となる温度TFbについて見る
と、理論的には、TFa<TSbまたはTFb<TSaの関係さ
え満たせば、第1および第2のグリーンシート2および
3を積層した生の積層体6の焼成による平面方向での収
縮を最小限に抑えることができる。
【0065】しかし、TFa<TSbであっても、その温度
差が僅差である場合、あるいは、T Fb<TSaであって
も、その温度差が僅差である場合には、焼成時での昇温
速度がたとえば1℃/分を超えて大きくなると、第1お
よび第2のグリーンシート2および3のいずれか一方が
90%の収縮量に達する以前に、いずれか他方の収縮が
始まり、そのため、平面方向での収縮をたとえば10%
以内に抑えることができなくなる場合がある。
【0066】このことを、図3を参照しながら、より具
体的に説明する。図3には、第1のグリーンシート2の
SaおよびTSbが、それぞれ、第2のグリーンシート3
のT SbおよびTFbより低い場合が示されている。また、
図3において、実線は昇温速度1℃/分の場合の焼成収
縮挙動を示し、点線は昇温速度が1℃/分を超えた場合
の焼成収縮挙動を示している。
【0067】図3に示すように、昇温速度が1℃/分の
場合には、TFa<TSbであっても、昇温速度が1℃を超
えてより大きくなるに従って、第1のグリーンシート2
の焼成収縮挙動を示すカーブは、矢印12方向へずれ、
点線で示すような焼成収縮挙動を示すようになり、TFa
が上昇する。その結果、TFa≧TSbとなって、第1のグ
リーンシート2が90%の収縮量に達する以前に、第2
のグリーンシート3の収縮が始まることがある。
【0068】このような場合であっても、第1のグリー
ンシート2の収縮量が焼結完了時の収縮量の90%とな
る温度TFa(℃)と第2のグリーンシート3の収縮開始
温度TSb(℃)との差が、3X℃を超えるように、すな
わち、(TFa+3X)<TSbとなるように余裕をもたせ
て、第1および第2のグリーンシート2および3の材料
設計を行なうと、焼成時における昇温速度に関らず、生
の積層体6の平面方向での焼成収縮率を10%以内に確
実に抑えることが可能となる。
【0069】逆に、第1のグリーンシート2のTSaおよ
びTSbが、それぞれ、第2のグリーンシート3のTSb
よびTFbより高い場合には、(TFb+3X)<TSaの関
係を有するように、第1および第2のグリーンシート2
および3の材料設計を行なうと、焼成時における昇温速
度に関わらず、生の積層体6の平面方向での焼成収縮率
を確実に10%以内に抑えることが可能となる。
【0070】このようなことから、ガラスセラミック多
層基板1をこの発明に従って製造するにあたっては、そ
の量産体制に入る前に、少なくとも1回、次のような準
備工程を実施することが通常行なわれる。
【0071】すなわち、第1のガラス粉末および第1の
セラミック粉末を固形分とする第1の試験用グリーンシ
ートを作製するとともに、第2のガラス粉末および第2
のセラミック粉末を固形分とし、かつ第1の試験用グリ
ーンシートとは異なる焼成収縮挙動を示す第2の試験用
グリーンシートを作製する。
【0072】次に、第1および第2の試験用グリーンシ
ートの各々について、それぞれ、その収縮量を測定しな
がら、たとえば1℃/分といった所定の昇温速度をもっ
て昇温する昇温過程を経て最高温度に到達させる焼成プ
ロファイルに従って焼成し、そのときの収縮開始温度T
Sa(℃)およびTSb(℃)を求めるとともに、焼結完了
時の収縮量の90%の収縮量となる温度TFa(℃)およ
びTFb(℃)を求める。
【0073】そして、第1および第2の試験用グリーン
シートが、(TFa+3X)<TSbまたは(TFb+3X)
<TSaの関係を有していることが確認された後、第1の
グリーンシート2を、第1の試験用グリーンシートと同
様に作製し、また、第2のグリーンシート3を、第2の
試験用グリーンシートと同様に作製して、量産体制に入
り、前述したような各工程を実施して、ガラスセラミッ
ク多層基板1を製造することが行なわれる。
【0074】なお、ガラスセラミック多層基板1の導体
膜4のうち、外表面上に位置する導体膜4の位置ずれに
よる実装歩留まりの低下の問題は、焼成収縮率が10%
以内であれば、導体膜4の面積を大きくするなどの比較
的簡便な工程または構造の改善により解消されることが
可能であるが、好ましくは、焼成収縮率が5%以内、よ
り好ましくは、2%以内に抑制される。このようなより
低い焼成収縮率を達成するためには、第1および第2の
グリーンシート2および3の一方が5%または2%以内
の焼成収縮率に達する前に、第1および第2のグリーン
シート2および3の他方の収縮が開始されるように、第
1および第2のグリーンシート2および3に含まれる固
形分の種類または配合比率を選択すればよい。
【0075】また、(TFa+3X)<TSbまたは(TFb
+3X)<TSaにおける昇温速度X℃/分については、
厳密に言えば、第1および第2のグリーンシート2およ
び3のいずれか一方の90%の収縮量となる温度TFa
たはTFbと、いずれか他方の収縮開始温度TSbまたはT
Saとの間での昇温速度がX℃/分であれば、この発明の
目的は達成される。したがって、それ以外の昇温過程で
の昇温速度は、生の積層体6が有する特性等に合わせて
任意に設定すればよい。
【0076】好ましくは、第1のグリーンシート2と第
2のグリーンシート3との熱膨張係数の差は、20℃か
ら第1および第2のガラス粉末の各々のガラス転移点の
いずれか低い方の温度までの平均熱膨張係数で、±0.
5×10-6/℃以内であり、より好ましくは、±0.1
×10-6/℃以内である。
【0077】第1のグリーンシート2と第2のグリーン
シート3との熱膨張係数の差を上述のように選ぶことに
より、ガラスセラミック多層基板1の信頼性を向上させ
ることができる。熱膨張係数の差が±0.5×10-6
℃を超えると、第1のグリーンシート2を焼結させた第
1の焼結層7と第2のグリーンシート3を焼結させた第
2の焼結層8との界面で比較的大きな応力が発生し、微
細なクラックが生じる場合がある。そして、このような
微細なクラックは、ガラスセラミック多層基板1の強度
を著しく低下させる。
【0078】次に、この発明による効果を確認するため
に実施した実験例について説明する。
【0079】
【実験例】BaO−MgO−SiO2 −B2 3 系ガラ
ス粉末とアルミナ粉末とを重量比で80:20で混合し
た混合粉末に、アクリル系樹脂、キシレン、ブタノー
ル、可塑剤および分散剤を混合してスラリーとし、ドク
ターブレード法によって、図1(1)に示すような第1
のグリーンシート2を作製した。
【0080】他方、MgO−ZnO−SiO2 −B2
3 系ガラス粉末とBaO−Sm2 3 −SiO2 −Ti
2 系セラミック粉末とを重量比で30:70の割合で
混合した混合粉末を用いたことを除いて、第1のグリー
ンシート2の場合と同様に、図1(1)に示すような第
2のグリーンシート3を作製した。
【0081】これら第1および第2のグリーンシート2
および3について、収縮開始温度T SaおよびTSbならび
に焼結完了時の収縮量の90%の収縮量となる温度TFa
およびTFbを、理学製Dilatometer5000
を用いて、昇温速度1℃/分で測定した。その結果、第
1のグリーンシート2のTSaは718℃であり、TFa
771℃であった。また、第2のグリーンシート3のT
Sbは816℃であり、TFbは862℃であった。したが
って、第1のグリーンシート2のTFaと第2のグリーン
シート3のTSbとの差は、45℃であった。
【0082】次に、第1および第2のグリーンシート2
および3に、銀を導電成分として含む導電性ペーストの
印刷により、図1(1)に示すような導体膜4およびビ
アホール導体5を形成した。
【0083】次に、図1(2)に示すように、第2のグ
リーンシート3を3枚積層し、その両面に、それぞれ、
第1のグリーンシート2を3枚ずつ積層することによっ
て、生の積層体6を得た。ここで、積層されたグリーン
シート2および3の各々の平面寸法は、40mm×40
mmであった。
【0084】次に、生の積層体6を、100℃の温度に
おいて、100kgf/cm2 の圧力で30秒間プレス
した後、大気中において、表1に示すような2℃/分〜
20℃/分の間で変更された各昇温速度をもって昇温す
る昇温過程を経て、最高温度900℃で30分間保持す
るといった焼成プロファイルに従って焼成した。
【0085】
【表1】
【0086】表1には、昇温速度をX℃/分としたとき
の3X、焼成収縮率および反りの評価結果が示されてい
る。
【0087】表1を参照して、まず、反りについては、
実施例1〜7および比較例1〜3のいずれについても発
生していなかった。
【0088】しかしながら、実施例1〜7と比較例1〜
3とを比較すれば、第1のグリーンシート2のTFaと第
2のグリーンシー3のTSbとの差である45℃に比べて
3Xの方が小さい実施例1〜7によれば、焼成収縮率を
10%以内に抑えることができるが、45℃に比べて3
Xの方が大きい比較例1〜3によれば、焼成収縮率が1
0%を超えることがわかる。
【0089】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、焼成
収縮挙動が互いに異なる第1および第2のグリーンシー
トを積層した生の積層体を焼成するにあたって、第1お
よび第2のグリーンシートにそれぞれ含まれる第1およ
び第2のガラス粉末の各々のガラス転移点のいずれか低
い方の温度を超えた後、1℃/分を超える昇温速度をも
って昇温する昇温過程を経て最高温度に到達させる、焼
成プロファイルを採用しながら、焼成工程における、収
縮開始温度(℃)を、それぞれ、TSaおよびTSbとし、
焼結完了時の収縮量の90%の収縮量となる温度(℃)
を、それぞれ、T FaおよびTFbとし、かつ、昇温速度を
X℃/分としたとき、(TFa+3X)<T Sbまたは(T
Fb+3X)<TSaの関係を有するように条件を設定して
いるので、たとえば、一方のグリーンシートの収縮終了
温度と他方のグリーンシートの収縮開始温度との中間温
度域で一定温度での焼成帯を設けたりすることなく、平
面方向での焼成収縮率を10%以内に確実に抑えてガラ
スセラミック多層基板を製造することができる。
【0090】したがって、焼成工程をより短時間化する
ことができ、製造コストを低減することができるととも
に、ガラスセラミック多層基板に設けられる導体膜やビ
アホール導体に対して、高い寸法精度を与えることがで
きる。
【0091】この発明において、第1のグリーンシート
と第2のグリーンシートとの熱膨張係数の差が、20℃
から第1および第2のガラス粉末の各々のガラス転移点
のいずれか低い方の温度までの平均熱膨張係数で、±
0.5×10-6℃以内とされると、熱膨張係数の差によ
る微細なクラックを生じにくくすることができ、ガラス
セラミック多層基板の強度に対する信頼性をより高める
ことができる。
【0092】また、この発明において、生の積層体を得
るにあたって、第1および第2のグリーンシートのいず
れか一方を内層に、第1および第2のグリーンシートの
いずれか他方を外層に、それぞれ1枚以上積層するよう
にすれば、焼成工程において反りをより生じにくくする
ことができ、したがって、平坦なガラスセラミック多層
基板を得ることがより容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態によるガラスセラミック
多層基板の製造方法に含まれる典型的な工程を順次図解
的に示す断面図である。
【図2】ガラス粉末およびセラミック粉末を含むグリー
ンシートの焼成収縮挙動を示す図である。
【図3】図2に相当する図であって、この発明の実施形
態において用いられた第1および第2のグリーンシート
2および3の各々の焼成収縮挙動関係を説明するための
図である。
【符号の説明】
1 ガラスセラミック多層基板 2 第1のグリーンシート 3 第2のグリーンシート 4 導体膜 5 ビアホール導体 6 生の積層体 7 第1の焼結層 8 第2の焼結層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近川 修 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5E346 AA24 AA43 CC18 CC39 DD13 EE24 EE27 EE29 FF18

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1のガラス粉末および第1のセラミッ
    ク粉末を固形分とする第1のグリーンシートを作製す
    る、第1の工程と、 第2のガラス粉末および第2のセラミック粉末を固形分
    とし、かつ前記第1のグリーンシートとは異なる焼成収
    縮挙動を示す第2のグリーンシートを作製する、第2の
    工程と、 前記第1および第2のグリーンシートの少なくとも一方
    に、導体膜およびビアホール導体の少なくとも一方を形
    成する、第3の工程と、 少なくとも1枚の前記第1のグリーンシートおよび少な
    くとも1枚の前記第2のグリーンシートを積層すること
    によって、生の積層体を得る、第4の工程と、 前記生の積層体を、前記第1および第2のガラス粉末の
    各々のガラス転移点のいずれか低い方の温度を超えた
    後、X℃/分(X>1)の昇温速度をもって昇温する昇
    温過程を経て最高温度に到達させる、焼成プロファイル
    に従って焼成する、第5の工程とを備え、 前記第5の工程における、前記第1および第2のグリー
    ンシートの収縮開始温度(℃)を、それぞれ、TSaおよ
    びTSbとし、前記第1および第2のグリーンシートの焼
    結完了時の収縮量の90%の収縮量となる温度(℃)
    を、それぞれ、T FaおよびTFbとしたとき、(TFa+3
    X)<TSbまたは(TFb+3X)<TSaの関係を有して
    いることを特徴とする、ガラスセラミック多層基板の製
    造方法。
  2. 【請求項2】 第1のガラス粉末および第1のセラミッ
    ク粉末を固形分とする第1の試験用グリーンシートを作
    製するとともに、第2のガラス粉末および第2のセラミ
    ック粉末を固形分とし、かつ前記第1の試験用グリーン
    シートとは異なる焼成収縮挙動を示す第2の試験用グリ
    ーンシートを作製し、 前記第1および第2の試験用グリーンシートについて、
    それぞれ、その収縮量を測定しながら、所定の昇温速度
    をもって昇温する昇温過程を経て最高温度に到達させる
    焼成プロファイルに従って焼成し、そのときの収縮開始
    温度TSa(℃)およびTSb(℃)を求めるとともに、焼
    結完了時の収縮量の90%の収縮量となる温度T
    Fa(℃)およびTFb(℃)を求め、 前記第1および第2の試験用グリーンシートが、(TFa
    +3X)<TSbまたは(TFb+3X)<TSaの関係を有
    していることを確認する、各工程を備える、準備工程を
    備え、さらに、 前記第1の試験用グリーンシートと同様の第1のグリー
    ンシートを作製する、第1の工程と、 前記第2の試験用グリーンシートと同様の第2のグリー
    ンシートを作製する、第2の工程と、 前記第1および第2のグリーンシートの少なくとも一方
    に、導体膜およびビアホール導体の少なくとも一方を形
    成する、第3の工程と、 少なくとも1枚の前記第1のグリーンシートおよび少な
    くとも1枚の前記第2のグリーンシートを積層すること
    によって、生の積層体を得る、第4の工程と、 前記生の積層体を、前記第1および第2のガラス粉末の
    各々のガラス転移点のいずれか低い方の温度を超えた
    後、X℃/分(X>1)の昇温速度をもって昇温する昇
    温過程を経て最高温度に到達させる、焼成プロファイル
    に従って焼成する、第5の工程とを備える、ガラスセラ
    ミック多層基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記第1のグリーンシートと前記第2の
    グリーンシートとの熱膨張係数の差は、20℃から前記
    第1および第2のガラス粉末の各々のガラス転移点のい
    ずれか低い方の温度までの平均熱膨張係数で、±0.5
    ×10-6/℃以内である、請求項1または2に記載のガ
    ラスセラミック多層基板の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記第1および第2のグリーンシート
    は、前記第1のガラス粉末と前記第2のガラス粉末とが
    異なる組成であること、前記第1のセラミック粉末と前
    記第2のセラミック粉末とが異なる組成であること、お
    よび前記第1のグリーンシートにおける前記第1のガラ
    ス粉末と前記第1のセラミック粉末との配合比率と前記
    第2のグリーンシートにおける前記第2のガラス粉末と
    前記第2のセラミック粉末との配合比率とが異なること
    の3つの条件のうちの少なくとも1つを満足する、請求
    項1ないし3のいずれかに記載のガラスセラミック多層
    基板の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記第4の工程は、前記第1および第2
    のグリーンシートのいずれか一方を内層に、前記第1お
    よび第2のグリーンシートのいずれか他方を外層に、そ
    れぞれ1枚以上積層する工程を備える、請求項1ないし
    4のいずれかに記載のガラスセラミック多層基板の製造
    方法。
  6. 【請求項6】 前記第1のガラス粉末は、BaO−Mg
    O−SiO2 −B23 系ガラスからなり、前記第1の
    セラミック粉末は、アルミナ、スピネルおよびジルコニ
    アから選ばれた少なくとも1種からなり、前記第1のグ
    リーンシートにおいて、前記第1のガラス粉末と前記第
    1のセラミック粉末との混合比が、重量比で、40:6
    0〜100:0である、請求項1ないし5のいずれかに
    記載のガラスセラミック多層基板の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記第1のガラス粉末は、添加物とし
    て、Al2 3 、ZnO、TiO2 、ZrO2 およびR
    2 O(Rはアルカリ金属)から選ばれた少なくと1種を
    含む、請求項6に記載のガラスセラミック多層基板の製
    造方法。
  8. 【請求項8】 前記第1のグリーンシートは、酸化銅を
    含む、請求項6または7に記載のガラスセラミック多層
    基板の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記第2のガラス粉末は、MgO−Zn
    O−SiO2 −B23 系ガラスからなり、前記第2の
    セラミック粉末は、BaO−Re2 3 −Nd2 3
    TiO2 系セラミック(Reは希土類元素)からなり、
    前記第2のガラス粉末と前記第2のセラミック粉末との
    混合比が、重量比で、10:90〜40:60である、
    請求項1ないし8のいずれかに記載のガラスセラミック
    多層基板の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記第2のガラス粉末は、添加物とし
    て、BaO、CaO、Al2 3 およびR2 O(Rはア
    ルカリ金属)から選ばれた少なくとも1種を含む、請求
    項9に記載のガラスセラミック多層基板の製造方法。
  11. 【請求項11】 前記第2のグリーンシートは、酸化銅
    を含む、請求項9または10に記載のガラスセラミック
    多層基板の製造方法。
  12. 【請求項12】 焼成収縮率(%)を、{(焼成前の寸
    法)−(焼成後の寸法)}×100/(焼成前の寸法)
    と定義したとき、前記第5の工程における前記積層体の
    焼成収縮率は、10%以内である、請求項1ないし11
    のいずれかに記載のガラスセラミック多層基板の製造方
    法。
  13. 【請求項13】 請求項1ないし12のいずれかに記載
    の製造方法によって得られた、ガラスセラミック多層基
    板。
JP2001169108A 2001-06-05 2001-06-05 ガラスセラミック多層基板の製造方法およびガラスセラミック多層基板 Pending JP2002368420A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001169108A JP2002368420A (ja) 2001-06-05 2001-06-05 ガラスセラミック多層基板の製造方法およびガラスセラミック多層基板
CNB021228221A CN1183815C (zh) 2001-06-05 2002-06-05 玻璃陶瓷多层基板的制造方法
US10/161,599 US6797093B2 (en) 2001-06-05 2002-06-05 Glass ceramic multilayer substrate manufacturing method and glass ceramic multilayer substrate product

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001169108A JP2002368420A (ja) 2001-06-05 2001-06-05 ガラスセラミック多層基板の製造方法およびガラスセラミック多層基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002368420A true JP2002368420A (ja) 2002-12-20

Family

ID=19011223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001169108A Pending JP2002368420A (ja) 2001-06-05 2001-06-05 ガラスセラミック多層基板の製造方法およびガラスセラミック多層基板

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6797093B2 (ja)
JP (1) JP2002368420A (ja)
CN (1) CN1183815C (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005108327A1 (ja) * 2004-05-06 2005-11-17 Asahi Glass Company, Limited 積層誘電体製造方法
KR100755547B1 (ko) 2004-11-22 2007-09-06 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 유사-대칭으로 구성된 저온 동시소성 세라믹 구조체의 구속소결 방법
JP2009522792A (ja) * 2006-01-05 2009-06-11 エプコス アクチエンゲゼルシャフト モノリシックセラミック素子および作製方法
US7687137B2 (en) 2005-02-28 2010-03-30 Kyocera Corporation Insulating substrate and manufacturing method therefor, and multilayer wiring board and manufacturing method therefor
KR20110116041A (ko) * 2009-02-03 2011-10-24 에프코스 아게 전기적 다층 소자
JP2017135250A (ja) * 2016-01-27 2017-08-03 日本特殊陶業株式会社 窒化アルミニウム基板、半導体製造用部品、cvdヒータ、及び窒化アルミニウム基板の製造方法
CN112802757A (zh) * 2020-12-28 2021-05-14 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 基板制备方法及基板结构、芯片封装方法及芯片封装结构

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6776861B2 (en) * 2002-06-04 2004-08-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Tape composition and process for internally constrained sintering of low temperature co-fired ceramic
US6827800B2 (en) * 2003-01-30 2004-12-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the constrained sintering of asymmetrically configured dielectric layers
US7221050B2 (en) * 2004-09-02 2007-05-22 Intel Corporation Substrate having a functionally gradient coefficient of thermal expansion
KR100768662B1 (ko) * 2004-10-26 2007-10-18 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 세라믹 원료 조성물, 세라믹 기판 및 비가역 회로소자
US7175724B2 (en) * 2004-11-22 2007-02-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the constrained sintering of a pseudo-symmetrically configured low temperature cofired ceramic structure
JP4821855B2 (ja) * 2007-04-11 2011-11-24 株式会社村田製作所 多層セラミック基板およびその製造方法
WO2008132913A1 (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. 多層セラミック基板およびその製造方法ならびに電子部品
JP5012899B2 (ja) * 2007-07-26 2012-08-29 株式会社村田製作所 多層セラミック基板およびその製造方法
JP4840935B2 (ja) * 2007-09-28 2011-12-21 双信電機株式会社 セラミック多層基板
WO2009104619A1 (ja) * 2008-02-19 2009-08-27 株式会社村田製作所 積層型セラミック電子部品の製造方法
DE112011100633T5 (de) * 2010-03-31 2013-06-20 Murata Manufacturing Co., Ltd. Mehrschichtkeramiksubstrat und Verfahren zum Herstellen desselben
CN103413780B (zh) * 2013-08-20 2015-07-01 厦门大学 一种基于熔融玻璃骨架的三维通孔互联结构制作方法
CN108987286B (zh) * 2018-06-29 2020-11-24 广东风华高新科技股份有限公司 一种ltcc共烧失配的改善方法
US20230307314A1 (en) * 2022-03-24 2023-09-28 Texas Instruments Incorporated Direct bond copper substrate with metal filled ceramic substrate indentations

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5147484A (en) * 1987-10-19 1992-09-15 International Business Machines Corporation Method for producing multi-layer ceramic substrates with oxidation resistant metalization
US5102720A (en) * 1989-09-22 1992-04-07 Cornell Research Foundation, Inc. Co-fired multilayer ceramic tapes that exhibit constrained sintering
JP3061282B2 (ja) 1990-04-27 2000-07-10 株式会社日立製作所 セラミック多層回路板および半導体モジュール
US5254191A (en) 1990-10-04 1993-10-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for reducing shrinkage during firing of ceramic bodies
JPH04369509A (ja) * 1991-06-19 1992-12-22 Fujitsu Ltd 多層セラミック基板の製造方法
JPH0697656A (ja) 1992-09-11 1994-04-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd セラミック多層基板の製造方法
JPH06172017A (ja) 1992-12-08 1994-06-21 Unitika Ltd セラミツクス基板用グリーンシート及びセラミツクス基板
JP3669056B2 (ja) 1996-05-22 2005-07-06 日本特殊陶業株式会社 セラミック多層配線基板の製造方法
JPH1065336A (ja) * 1996-08-14 1998-03-06 Sumitomo Metal Ind Ltd 低温焼成ガラスセラミックス多層配線基板とその製造方法
US5866240A (en) * 1997-03-06 1999-02-02 Sarnoff Corporation Thick ceramic on metal multilayer circuit board
JPH10308584A (ja) * 1997-05-08 1998-11-17 Sumitomo Kinzoku Electro Device:Kk セラミック多層基板およびその製造方法
JPH11106265A (ja) * 1997-10-02 1999-04-20 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd セラミックス交互積層体の焼結方法
EP1099246A1 (de) * 1998-07-15 2001-05-16 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung eines keramischen körpers mit einem integrierten passiven elektronischen bauelement, derartiger körper und verwendung des körpers
JP3666321B2 (ja) * 1999-10-21 2005-06-29 株式会社村田製作所 多層セラミック基板およびその製造方法
JP3554962B2 (ja) * 1999-10-28 2004-08-18 株式会社村田製作所 複合積層体およびその製造方法
JP3633435B2 (ja) * 2000-04-10 2005-03-30 株式会社村田製作所 多層セラミック基板、その製造方法および設計方法、ならびに電子装置
GB2371775B (en) * 2000-12-19 2002-12-31 Murata Manufacturing Co Composite multilayer ceramic electronic parts and method of manfacturing the same

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005108327A1 (ja) * 2004-05-06 2005-11-17 Asahi Glass Company, Limited 積層誘電体製造方法
US7687015B2 (en) 2004-05-06 2010-03-30 Asahi Glass Company, Limited Method for producing laminated dielectric
KR100755547B1 (ko) 2004-11-22 2007-09-06 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 유사-대칭으로 구성된 저온 동시소성 세라믹 구조체의 구속소결 방법
US7687137B2 (en) 2005-02-28 2010-03-30 Kyocera Corporation Insulating substrate and manufacturing method therefor, and multilayer wiring board and manufacturing method therefor
US9532454B2 (en) 2006-01-05 2016-12-27 Epcos Ag Monolithic ceramic component and production method
JP2013033992A (ja) * 2006-01-05 2013-02-14 Epcos Ag シート積層体およびセラミック素子作製方法
JP2009522792A (ja) * 2006-01-05 2009-06-11 エプコス アクチエンゲゼルシャフト モノリシックセラミック素子および作製方法
KR20110116041A (ko) * 2009-02-03 2011-10-24 에프코스 아게 전기적 다층 소자
JP2012517097A (ja) * 2009-02-03 2012-07-26 エプコス アーゲー 電気的多層コンポーネント
KR101665742B1 (ko) 2009-02-03 2016-10-12 에프코스 아게 전기적 다층 소자
JP2017135250A (ja) * 2016-01-27 2017-08-03 日本特殊陶業株式会社 窒化アルミニウム基板、半導体製造用部品、cvdヒータ、及び窒化アルミニウム基板の製造方法
CN112802757A (zh) * 2020-12-28 2021-05-14 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 基板制备方法及基板结构、芯片封装方法及芯片封装结构
CN112802757B (zh) * 2020-12-28 2022-08-05 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 基板制备方法及基板结构、芯片封装方法及芯片封装结构

Also Published As

Publication number Publication date
US6797093B2 (en) 2004-09-28
US20020189742A1 (en) 2002-12-19
CN1394113A (zh) 2003-01-29
CN1183815C (zh) 2005-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002368420A (ja) ガラスセラミック多層基板の製造方法およびガラスセラミック多層基板
JP4557003B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法ならびに多層セラミック基板作製用複合グリーンシート
JP5104761B2 (ja) セラミック基板およびその製造方法
JP4508488B2 (ja) セラミック回路基板の製法
JP2003110238A (ja) ガラスセラミック多層基板の製造方法
KR101188770B1 (ko) 저온 소결 세라믹 재료, 저온 소결 세라믹 소결체 및 다층 세라믹 기판
JP4557002B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法ならびに多層セラミック基板作製用複合グリーンシート
JP2009206233A (ja) セラミック基板の製造方法
JP2004319706A (ja) 導体ペースト並びに多層基板及びその製造方法
JP5015550B2 (ja) ガラスセラミック回路基板およびその製造方法
JP2002261443A (ja) 回路基板の製造方法
JP2003204168A (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP5354011B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP4502977B2 (ja) 未焼結積層シート
JP3216260B2 (ja) 低温焼成セラミックス多層基板及びその製造方法
JP2008031005A (ja) 多層セラミック基板および多層セラミック基板作製用複合グリーンシート
JP4419487B2 (ja) 酸化物磁器組成物、セラミック多層基板およびセラミック電子部品
JP3193626B2 (ja) セラミック多層基板の製造方法
JP4284371B2 (ja) 積層ガラス−セラミック回路基板
JP2008037675A (ja) 低温焼結セラミック組成物、セラミック基板およびその製造方法、ならびに電子部品
JP2003002751A (ja) セラミック部品の製造方法
JP2002290037A (ja) 回路基板の製造方法
JPH06338686A (ja) 多層基板の製造方法
JP3914958B2 (ja) 積層ガラス−セラミック回路基板の製造方法
JP4507705B2 (ja) セラミック基板の製造方法および未焼結複合積層体

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050929

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051011

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060221