JP2002363210A - オレフィンの重合方法 - Google Patents
オレフィンの重合方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】遷移金属化合物を用いて重合するに際し、高い
重合活性で、分子量分布および組成分布が狭く、高分子
量のオレフィン(共)重合体を生成する方法を提供する
こと。 【解決手段】 本発明に係るオレフィンの重合方法は、
(A)遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物と、
(C)遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成
する化合物とからなるオレフィン重合触媒の存在化にオ
レフィンを重合または共重合させるのに際して、予め上
記遷移金属化合物(A)と有機金属化合物(B)とを実
質的にオレフィンが存在しない状態で接触させた後、上
記オレフィン重合触媒とオレフィンを接触させる。
重合活性で、分子量分布および組成分布が狭く、高分子
量のオレフィン(共)重合体を生成する方法を提供する
こと。 【解決手段】 本発明に係るオレフィンの重合方法は、
(A)遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物と、
(C)遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成
する化合物とからなるオレフィン重合触媒の存在化にオ
レフィンを重合または共重合させるのに際して、予め上
記遷移金属化合物(A)と有機金属化合物(B)とを実
質的にオレフィンが存在しない状態で接触させた後、上
記オレフィン重合触媒とオレフィンを接触させる。
Description
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、オレフィンの重合方法に
関し、さらに詳しくは、特定の遷移金属化合物と有機金
属化合物、遷移金属化合物と反応してイオン対を形成す
る化合物を用いてオレフィンを重合または共重合させる
オレフィンの重合方法に関する。
関し、さらに詳しくは、特定の遷移金属化合物と有機金
属化合物、遷移金属化合物と反応してイオン対を形成す
る化合物を用いてオレフィンを重合または共重合させる
オレフィンの重合方法に関する。
【0002】
【発明の技術的背景】従来からエチレン重合体、エチレ
ン・α-オレフィン共重合体等のオレフィン重合体を製
造するための触媒として、チタン化合物と有機アルミニ
ウム化合物とからなるチタン系触媒、バナジウム化合物
と有機アルミニウム化合物とからなるバナジウム系触媒
が知られている。
ン・α-オレフィン共重合体等のオレフィン重合体を製
造するための触媒として、チタン化合物と有機アルミニ
ウム化合物とからなるチタン系触媒、バナジウム化合物
と有機アルミニウム化合物とからなるバナジウム系触媒
が知られている。
【0003】また、高い重合活性でオレフィン重合体を
製造することのできる触媒としてジルコノセン等のメタ
ロセン化合物と有機アルミニウムオキシ化合物(アルミ
ノキサン、アルモキサンともいわれる。)とからなるチ
ーグラー型触媒が知られている。さらに最近新しいオレ
フィン重合触媒として、窒素原子または酸素原子を配位
子中に含有する遷移金属錯体と、有機金属化合物、有機
アルミニウムオキシ化合物および該遷移金属錯体と反応
してイオン対を形成する化合物から選ばれる少なくとも
1種の化合物からなる触媒がポストメタロセン触媒とし
て提案されている。
製造することのできる触媒としてジルコノセン等のメタ
ロセン化合物と有機アルミニウムオキシ化合物(アルミ
ノキサン、アルモキサンともいわれる。)とからなるチ
ーグラー型触媒が知られている。さらに最近新しいオレ
フィン重合触媒として、窒素原子または酸素原子を配位
子中に含有する遷移金属錯体と、有機金属化合物、有機
アルミニウムオキシ化合物および該遷移金属錯体と反応
してイオン対を形成する化合物から選ばれる少なくとも
1種の化合物からなる触媒がポストメタロセン触媒とし
て提案されている。
【0004】しかし、このようなポストメタロセン触媒
は、高活性を示すものの、生成するポリマーの分子量が
低い場合がある。このような状況のもと本願出願人が鋭
意検討した結果、上記遷移金属錯体と、有機金属化合物
と、該遷移金属錯体と反応してイオン対を形成する化合
物とからなるオレフィン重合触媒の存在化にオレフィン
を重合するに際して、上記遷移金属錯体と有機金属化合
物とを実質的にオレフィンが存在しない状態で接触させ
た後、上記オレフィン重合触媒とオレフィンとを接触さ
せると、高い重合活性で高分子量のオレフィン重合体が
得られることを見出して本発明を完成するに至った。
は、高活性を示すものの、生成するポリマーの分子量が
低い場合がある。このような状況のもと本願出願人が鋭
意検討した結果、上記遷移金属錯体と、有機金属化合物
と、該遷移金属錯体と反応してイオン対を形成する化合
物とからなるオレフィン重合触媒の存在化にオレフィン
を重合するに際して、上記遷移金属錯体と有機金属化合
物とを実質的にオレフィンが存在しない状態で接触させ
た後、上記オレフィン重合触媒とオレフィンとを接触さ
せると、高い重合活性で高分子量のオレフィン重合体が
得られることを見出して本発明を完成するに至った。
【0005】
【発明の目的】本発明は、遷移金属化合物を用いオレフ
ィンをて重合するに際し、高い重合活性で、高分子量の
オレフィン(共)重合体を生成するオレフィンの重合方
法を提供することを目的としている。
ィンをて重合するに際し、高い重合活性で、高分子量の
オレフィン(共)重合体を生成するオレフィンの重合方
法を提供することを目的としている。
【0006】
【発明の概要】本発明に係るオレフィンの重合方法は、
(A)遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物と、
(C)遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成
する化合物とからなるオレフィン重合触媒の存在化にオ
レフィンを重合または共重合させるに際して、予め上記
遷移金属化合物(A)と有機金属化合物(B)とを実質
的にオレフィンが存在しない状態で接触させた後、上記
オレフィン重合触媒とオレフィンを接触させることを特
徴としている。
(A)遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物と、
(C)遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成
する化合物とからなるオレフィン重合触媒の存在化にオ
レフィンを重合または共重合させるに際して、予め上記
遷移金属化合物(A)と有機金属化合物(B)とを実質
的にオレフィンが存在しない状態で接触させた後、上記
オレフィン重合触媒とオレフィンを接触させることを特
徴としている。
【0007】本発明に係るオレフィンの重合方法では、
上記遷移金属化合物(A)は、例えば下記一般式
(I)、(IIa)、(IIb)または(III)で表される。
上記遷移金属化合物(A)は、例えば下記一般式
(I)、(IIa)、(IIb)または(III)で表される。
【0008】
【化4】
【0009】(式中、M1は、周期表第3〜11族から
選ばれる遷移金属原子を示し、m1は1〜6の整数を示
し、Aは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、
または置換基−R5を有する窒素原子を示し、Dは、−
C(R6)(R7)−、−Si(R8)(R9)−、−P(O)(R10)
−、−P(R1 1)−、−SO−または−S−を示し、Z
は、いずれもNに結合する−R12および−R13、=C
(R14)R15または=NR16を示し、R1〜R16は、互い
に同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有
基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残
基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有
基を示し、これらのうちの2個以上が互いに結合して環
を形成していてもよく、また、m1が2以上の場合には
いずれか一つの配位子に含まれるR1〜R16のうちの1
個の基と、他の配位子に含まれるR1〜R16のうちの1
個の基とが連結されていてもよく、n1は、M1の価数を
満たす数であり、X1は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示し、n1が2以上
の場合は、X1で示される複数の基は互いに同一でも異
なっていてもよく、またX1で示される複数の基は互い
に結合して環を形成してもよい。)。
選ばれる遷移金属原子を示し、m1は1〜6の整数を示
し、Aは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、
または置換基−R5を有する窒素原子を示し、Dは、−
C(R6)(R7)−、−Si(R8)(R9)−、−P(O)(R10)
−、−P(R1 1)−、−SO−または−S−を示し、Z
は、いずれもNに結合する−R12および−R13、=C
(R14)R15または=NR16を示し、R1〜R16は、互い
に同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有
基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残
基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有
基を示し、これらのうちの2個以上が互いに結合して環
を形成していてもよく、また、m1が2以上の場合には
いずれか一つの配位子に含まれるR1〜R16のうちの1
個の基と、他の配位子に含まれるR1〜R16のうちの1
個の基とが連結されていてもよく、n1は、M1の価数を
満たす数であり、X1は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示し、n1が2以上
の場合は、X1で示される複数の基は互いに同一でも異
なっていてもよく、またX1で示される複数の基は互い
に結合して環を形成してもよい。)。
【0010】
【化5】
【0011】(式中、M2は周期表第3〜11族から選
ばれる遷移金属原子を示し、m2aは1〜3の整数、m2b
は1〜6の整数を示し、Eは、窒素原子または−C(R
21)=を示し、Gは、酸素原子、イオウ原子もしくはセ
レン原子、または置換基−R22を有する窒素原子を示
し、R17〜R22は、互いに同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニ
ウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうちの2
個以上が互いに結合して環を形成していてもよく、ま
た、m2aが2以上の場合にはいずれか一つの配位子に含
まれるR17〜R22のうちの1個の基と、他の配位子に含
まれるR17〜R22のうちの1個の基とが連結されていて
もよく、m2bが2以上の場合にはいずれか一つの配位子
に含まれるR 17〜R19、R21、R22のうちの1個の基
と、他の配位子に含まれるR17〜R19、R21、R22のう
ちの1個の基とが連結されていてもよく、n2は、M2の
価数を満たす数であり、X2は、水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有
基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残
基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、n2
が2以上の場合は、X2で示される複数の基は互いに同
一でも異なっていてもよく、またX2で示される複数の
基は互いに結合して環を形成してもよい。)。
ばれる遷移金属原子を示し、m2aは1〜3の整数、m2b
は1〜6の整数を示し、Eは、窒素原子または−C(R
21)=を示し、Gは、酸素原子、イオウ原子もしくはセ
レン原子、または置換基−R22を有する窒素原子を示
し、R17〜R22は、互いに同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニ
ウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうちの2
個以上が互いに結合して環を形成していてもよく、ま
た、m2aが2以上の場合にはいずれか一つの配位子に含
まれるR17〜R22のうちの1個の基と、他の配位子に含
まれるR17〜R22のうちの1個の基とが連結されていて
もよく、m2bが2以上の場合にはいずれか一つの配位子
に含まれるR 17〜R19、R21、R22のうちの1個の基
と、他の配位子に含まれるR17〜R19、R21、R22のう
ちの1個の基とが連結されていてもよく、n2は、M2の
価数を満たす数であり、X2は、水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有
基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残
基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、n2
が2以上の場合は、X2で示される複数の基は互いに同
一でも異なっていてもよく、またX2で示される複数の
基は互いに結合して環を形成してもよい。)。
【0012】
【化6】
【0013】(式中、M3は周期表第3〜11族から選
ばれる遷移金属原子を示し、m3は1〜6の整数を示
し、Uは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−
R24を有する炭素原子を示し、Tは、窒素原子またはリ
ン原子を示し、Jは、窒素原子もしくはリン原子、また
は置換基−R25を有する炭素原子を示し、Lは、窒素原
子もしくはリン原子、または置換基−R26を有する炭素
原子を示し、Qは、窒素原子もしくはリン原子、または
置換基−R27を有する炭素原子を示し、R23〜R27は、
互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含
有基を示し、これらのうちの2個以上が互いに結合して
環を形成していてもよく、また、m3が2以上の場合に
はいずれか一つの配位子に含まれるR23〜R27のうちの
1個の基と、他の配位子に含まれるR23〜R27のうちの
1個の基とが連結されていてもよく、n3は、それぞれ
M3の価数を満たす数であり、X3は、水素原子、ハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、n
3が2以上の場合は、X3で示される複数の基は互いに同
一でも異なっていてもよく、またX3で示される複数の
基は互いに結合して環を形成してもよい。)。
ばれる遷移金属原子を示し、m3は1〜6の整数を示
し、Uは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−
R24を有する炭素原子を示し、Tは、窒素原子またはリ
ン原子を示し、Jは、窒素原子もしくはリン原子、また
は置換基−R25を有する炭素原子を示し、Lは、窒素原
子もしくはリン原子、または置換基−R26を有する炭素
原子を示し、Qは、窒素原子もしくはリン原子、または
置換基−R27を有する炭素原子を示し、R23〜R27は、
互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含
有基を示し、これらのうちの2個以上が互いに結合して
環を形成していてもよく、また、m3が2以上の場合に
はいずれか一つの配位子に含まれるR23〜R27のうちの
1個の基と、他の配位子に含まれるR23〜R27のうちの
1個の基とが連結されていてもよく、n3は、それぞれ
M3の価数を満たす数であり、X3は、水素原子、ハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、n
3が2以上の場合は、X3で示される複数の基は互いに同
一でも異なっていてもよく、またX3で示される複数の
基は互いに結合して環を形成してもよい。)。
【0014】
【発明の具体的な説明】以下、本発明におけるオレフィ
ンの重合方法について具体的に説明する。なお、本明細
書において「重合」という語は、単独重合だけでなく、
共重合をも包含した意味で用いられることがあり、「重
合体」という語は、単独重合体だけでなく、共重合体を
も包含した意味で用いられることがある。
ンの重合方法について具体的に説明する。なお、本明細
書において「重合」という語は、単独重合だけでなく、
共重合をも包含した意味で用いられることがあり、「重
合体」という語は、単独重合体だけでなく、共重合体を
も包含した意味で用いられることがある。
【0015】本発明に係るオレフィンの重合方法は、
(A)上記遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物
と、(C)遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を
形成する化合物とからなるオレフィン重合触媒において
オレフィンを重合または共重合させに際して、上記遷移
金属化合物(A)と有機金属化合物(B)とを特定の条
件で接触させる。
(A)上記遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物
と、(C)遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を
形成する化合物とからなるオレフィン重合触媒において
オレフィンを重合または共重合させに際して、上記遷移
金属化合物(A)と有機金属化合物(B)とを特定の条
件で接触させる。
【0016】まず、本発明で用いられるオレフィン重合
触媒を形成する各触媒成分について説明する。(A)遷移金属化合物 本発明で用いられる(A)遷移金属化合物としては、下
記一般式(I)で表される化合物がある。
触媒を形成する各触媒成分について説明する。(A)遷移金属化合物 本発明で用いられる(A)遷移金属化合物としては、下
記一般式(I)で表される化合物がある。
【0017】
【化7】
【0018】(なお、N−M、A−Mは、共有結合、配
位結合等の化学結合を示す。) 一般式(I)中、M1は周期表第3〜11族から選ばれ
る遷移金属原子(3族にはランタノイドも含まれる)を
示し、好ましくは第3〜9族(第3族にはランタノイド
も含まれる)の金属原子であり、特に好ましくは第4族
または第5族の金属原子である。具体的には、スカンジ
ウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウム、イットリ
ウム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、
レニウム、鉄、ルテニウム等であり、好ましくはスカン
ジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウム等であり、
より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、
コバルト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタル等
であり、特に好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニ
ウムである。
位結合等の化学結合を示す。) 一般式(I)中、M1は周期表第3〜11族から選ばれ
る遷移金属原子(3族にはランタノイドも含まれる)を
示し、好ましくは第3〜9族(第3族にはランタノイド
も含まれる)の金属原子であり、特に好ましくは第4族
または第5族の金属原子である。具体的には、スカンジ
ウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウム、イットリ
ウム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、
レニウム、鉄、ルテニウム等であり、好ましくはスカン
ジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウム等であり、
より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、
コバルト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタル等
であり、特に好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニ
ウムである。
【0019】m1は、1〜6、好ましくは1〜4の整数
を示す。Aは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原
子、または置換基−R5を有する窒素原子(−N(R5)
−)を示す。Dは、−C(R6)(R7)−、−Si(R8)(R
9)−、−P(O)(R10)−、−P(R1 1)−、−SO−また
は−S−を示す。
を示す。Aは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原
子、または置換基−R5を有する窒素原子(−N(R5)
−)を示す。Dは、−C(R6)(R7)−、−Si(R8)(R
9)−、−P(O)(R10)−、−P(R1 1)−、−SO−また
は−S−を示す。
【0020】Zは、いずれもNに結合する−R12および
−R13、=C(R14)R15または=NR16を示す。R1〜
R16は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ
環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示す。
−R13、=C(R14)R15または=NR16を示す。R1〜
R16は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ
環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示す。
【0021】R1〜R16が示すハロゲン原子としては、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。R1〜R16
が示す炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、
n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、se
c-ブチル、tert-ブチル、ネオペンチル、n-ヘキシル等
の炭素原子数1〜30、好ましくは1〜20の直鎖状ま
たは分岐状のアルキル基;ビニル、アリル、イソプロペ
ニル等の炭素原子数が2〜30、好ましくは2〜20の
直鎖状または分岐状のアルケニル基;エチニル、プロパ
ルギル等の炭素原子数2〜30、好ましくは2〜20の
直鎖状または分岐状のアルキニル基;シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダ
マンチル等の炭素原子数3〜30、好ましくは3〜20
のシクロアルキル基;シクロペンタジエニル、インデニ
ル、フルオレニル等の炭素原子数5〜30の環状不飽和
炭化水素基;フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニ
リル、ターフェニリル、フェナントリル、アントリル等
の炭素原子数6〜30、好ましくは6〜20のアリール
基;トリル、iso-プロピルフェニル、t-ブチルフェニ
ル、ジメチルフェニル、ジ tert-ブチルフェニル等のア
ルキル置換アリール基等が挙げられる。
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。R1〜R16
が示す炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、
n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、se
c-ブチル、tert-ブチル、ネオペンチル、n-ヘキシル等
の炭素原子数1〜30、好ましくは1〜20の直鎖状ま
たは分岐状のアルキル基;ビニル、アリル、イソプロペ
ニル等の炭素原子数が2〜30、好ましくは2〜20の
直鎖状または分岐状のアルケニル基;エチニル、プロパ
ルギル等の炭素原子数2〜30、好ましくは2〜20の
直鎖状または分岐状のアルキニル基;シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダ
マンチル等の炭素原子数3〜30、好ましくは3〜20
のシクロアルキル基;シクロペンタジエニル、インデニ
ル、フルオレニル等の炭素原子数5〜30の環状不飽和
炭化水素基;フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニ
リル、ターフェニリル、フェナントリル、アントリル等
の炭素原子数6〜30、好ましくは6〜20のアリール
基;トリル、iso-プロピルフェニル、t-ブチルフェニ
ル、ジメチルフェニル、ジ tert-ブチルフェニル等のア
ルキル置換アリール基等が挙げられる。
【0022】上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで
置換されていてもよく、例えば、トリフルオロメチル、
ペンタフルオロフェニル、クロロフェニル等の炭素原子
数1〜30、好ましくは1〜20のハロゲン化炭化水素
基が挙げられる。また、上記炭化水素基は、他の炭化水
素基で置換されていてもよく、例えば、ベンジル、クミ
ル等のアリール基置換アルキル基等が挙げられる。
置換されていてもよく、例えば、トリフルオロメチル、
ペンタフルオロフェニル、クロロフェニル等の炭素原子
数1〜30、好ましくは1〜20のハロゲン化炭化水素
基が挙げられる。また、上記炭化水素基は、他の炭化水
素基で置換されていてもよく、例えば、ベンジル、クミ
ル等のアリール基置換アルキル基等が挙げられる。
【0023】さらに上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合
物残基;アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、
エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート
基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基
等の酸素含有基;アミノ基、イミノ基、アミド基、イミ
ド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロ
ソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、
アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩とな
ったもの等の窒素含有基;ボランジイル基、ボラントリ
イル基、ジボラニル基等のホウ素含有基;メルカプト
基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、
チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル
基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカル
ボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、スルフェニル基等のイオウ含
有基;ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル
基、ホスファト基等のリン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を有していてもよい。
物残基;アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、
エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート
基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基
等の酸素含有基;アミノ基、イミノ基、アミド基、イミ
ド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロ
ソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、
アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩とな
ったもの等の窒素含有基;ボランジイル基、ボラントリ
イル基、ジボラニル基等のホウ素含有基;メルカプト
基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、
チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル
基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカル
ボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、スルフェニル基等のイオウ含
有基;ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル
基、ホスファト基等のリン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を有していてもよい。
【0024】炭化水素基としては、これらのうち、特
に、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ネオペ
ンチル、n-ヘキシル等の炭素原子数1〜30、好ましく
は1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;フェニ
ル、ナフチル、ビフェニリル、ターフェニリル、フェナ
ントリル、アントリル等の炭素原子数6〜30、好まし
くは6〜20のアリール基;これらのアリール基にハロ
ゲン原子、炭素原子数1〜30、好ましくは1〜20の
アルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数6〜30、
好ましくは6〜20のアリール基またはアリーロキシ基
等の置換基が1〜5個置換した置換アリール基等が好ま
しい。
に、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ネオペ
ンチル、n-ヘキシル等の炭素原子数1〜30、好ましく
は1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;フェニ
ル、ナフチル、ビフェニリル、ターフェニリル、フェナ
ントリル、アントリル等の炭素原子数6〜30、好まし
くは6〜20のアリール基;これらのアリール基にハロ
ゲン原子、炭素原子数1〜30、好ましくは1〜20の
アルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数6〜30、
好ましくは6〜20のアリール基またはアリーロキシ基
等の置換基が1〜5個置換した置換アリール基等が好ま
しい。
【0025】R1〜R16が示す酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基として
は、上記例示したものと同様のものが挙げられる。R1
〜R16が示すヘテロ環式化合物残基としては、ピロー
ル、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジン等の
含窒素化合物、フラン、ピラン等の含酸素化合物、チオ
フェン等の含イオウ化合物等の残基、およびこれらのヘ
テロ環式化合物残基に炭素原子数が1〜30、好ましく
は1〜20のアルキル基、アルコキシ基等の置換基がさ
らに置換した基等が挙げられる。
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基として
は、上記例示したものと同様のものが挙げられる。R1
〜R16が示すヘテロ環式化合物残基としては、ピロー
ル、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジン等の
含窒素化合物、フラン、ピラン等の含酸素化合物、チオ
フェン等の含イオウ化合物等の残基、およびこれらのヘ
テロ環式化合物残基に炭素原子数が1〜30、好ましく
は1〜20のアルキル基、アルコキシ基等の置換基がさ
らに置換した基等が挙げられる。
【0026】R1〜R16が示すケイ素含有基としては、
シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水
素置換シロキシ基等が挙げられる。炭化水素置換シリル
基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、
トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、ト
リエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニ
ルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチ
ルシリル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリル
等が挙げられ、炭化水素置換シロキシ基として具体的に
は、トリメチルシロキシ等が挙げられる。これらの中で
は、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリ
ル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリル等が
好ましく、特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、
トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好まし
い。
シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水
素置換シロキシ基等が挙げられる。炭化水素置換シリル
基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、
トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、ト
リエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニ
ルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチ
ルシリル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリル
等が挙げられ、炭化水素置換シロキシ基として具体的に
は、トリメチルシロキシ等が挙げられる。これらの中で
は、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリ
ル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリル等が
好ましく、特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、
トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好まし
い。
【0027】R1〜R16が示すゲルマニウム含有基およ
びスズ含有基としては、上記ケイ素含有基のケイ素をゲ
ルマニウムまたはスズに置換したものが挙げられる。次
に上記で説明したR1〜R16の例について、より具体的
に説明する。酸素含有基のうち、アルコキシ基として
は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキ
シ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシ等が、
アリーロキシ基としては、フェノキシ、2,6-ジメチルフ
ェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシ等が、アシル基
としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、p-
クロロベンゾイル基、p-メトキシベンソイル基等が、エ
ステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキ
シ、メトキシカルボニル、フェノキシカッルボニル、p-
クロロフェノキシカルボニル等が好ましく例示される。
びスズ含有基としては、上記ケイ素含有基のケイ素をゲ
ルマニウムまたはスズに置換したものが挙げられる。次
に上記で説明したR1〜R16の例について、より具体的
に説明する。酸素含有基のうち、アルコキシ基として
は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキ
シ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシ等が、
アリーロキシ基としては、フェノキシ、2,6-ジメチルフ
ェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシ等が、アシル基
としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、p-
クロロベンゾイル基、p-メトキシベンソイル基等が、エ
ステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキ
シ、メトキシカルボニル、フェノキシカッルボニル、p-
クロロフェノキシカルボニル等が好ましく例示される。
【0028】窒素含有基のうち、アミド基としては、ア
セトアミド、N-メチルアセトアミド、N-メチルベンズア
ミド等が、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチル
メチルアミノ、ジフェニルアミノ等が、イミド基として
は、アセトイミド、ベンズイミド等が、イミノ基として
は、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブ
チルイミノ、フェニルイミノ等が好ましく例示される。
セトアミド、N-メチルアセトアミド、N-メチルベンズア
ミド等が、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチル
メチルアミノ、ジフェニルアミノ等が、イミド基として
は、アセトイミド、ベンズイミド等が、イミノ基として
は、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブ
チルイミノ、フェニルイミノ等が好ましく例示される。
【0029】イオウ含有基のうち、アルキルチオ基とし
ては、メチルチオ、エチルチオ等が、アリールチオ基と
しては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナルチル
チオ等が、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベ
ンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカ
ルボニル等が、スルホンエステル基としては、スルホン
酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニル等
が、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミ
ド、N-メチルスルホンアミド、N-メチル-p-トルエンス
ルホンアミド等が好ましく挙げられる。
ては、メチルチオ、エチルチオ等が、アリールチオ基と
しては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナルチル
チオ等が、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベ
ンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカ
ルボニル等が、スルホンエステル基としては、スルホン
酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニル等
が、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミ
ド、N-メチルスルホンアミド、N-メチル-p-トルエンス
ルホンアミド等が好ましく挙げられる。
【0030】R1〜R16のうちR4は水素以外の置換基で
あることが好ましい。すなわち、R 4はハロゲン原子、
炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、
イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケ
イ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基であ
ることが好ましい。特にR4は、ハロゲン原子;炭化水
素基;ヘテロ環式化合物残基;アルコキシ基、アリーロ
キシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基から選ば
れる酸素含有基;アミド基、アミノ基、イミド基、イミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基から選ばれる窒素含有基;ア
ルキルチオ基;アリールチオ基、チオエステル基、スル
ホンエステル基、スルホンアミド基から選ばれるイオウ
含有基;炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ
基から選ばれるケイ素含有基であることが好ましく、さ
らにハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基
であることが好ましい。
あることが好ましい。すなわち、R 4はハロゲン原子、
炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、
イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケ
イ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基であ
ることが好ましい。特にR4は、ハロゲン原子;炭化水
素基;ヘテロ環式化合物残基;アルコキシ基、アリーロ
キシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基から選ば
れる酸素含有基;アミド基、アミノ基、イミド基、イミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基から選ばれる窒素含有基;ア
ルキルチオ基;アリールチオ基、チオエステル基、スル
ホンエステル基、スルホンアミド基から選ばれるイオウ
含有基;炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ
基から選ばれるケイ素含有基であることが好ましく、さ
らにハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基
であることが好ましい。
【0031】R4として好ましい炭化水素基としては、
メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチ
ル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ネオペン
チル、n-ヘキシル等の炭素原子数1〜30、好ましくは
1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、アダマンチル等の炭素原子数3〜30、好ましくは
3〜20のシクロアルキル基;フェニル、ベンジル、ナ
フチル、ビフェニリル、トリフェニリル等の炭素原子数
が6〜30、好ましくは6〜20のアリール基;およ
び、これらの基に炭素原子数が1〜30、好ましくは1
〜20のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数が
1〜30、好ましくは1〜20のハロゲン化アルキル
基、炭素原子数が6〜30、好ましくは6〜20のアリ
ール基またはアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニ
トロ基、ヒドロキシ基等の置換基がさらに置換した基等
が好ましく挙げられる。
メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチ
ル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ネオペン
チル、n-ヘキシル等の炭素原子数1〜30、好ましくは
1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、アダマンチル等の炭素原子数3〜30、好ましくは
3〜20のシクロアルキル基;フェニル、ベンジル、ナ
フチル、ビフェニリル、トリフェニリル等の炭素原子数
が6〜30、好ましくは6〜20のアリール基;およ
び、これらの基に炭素原子数が1〜30、好ましくは1
〜20のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数が
1〜30、好ましくは1〜20のハロゲン化アルキル
基、炭素原子数が6〜30、好ましくは6〜20のアリ
ール基またはアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニ
トロ基、ヒドロキシ基等の置換基がさらに置換した基等
が好ましく挙げられる。
【0032】R4として好ましい炭化水素置換シリル基
としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチル
シリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシ
リル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、
ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、
ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリル等が挙げら
れる。特に好ましくは、トリメチルシリル、トリエチル
フェニル、ジフェニルメチルシリル、イソフェニルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリ
ル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリル等が挙げ
られる。
としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチル
シリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシ
リル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、
ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、
ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリル等が挙げら
れる。特に好ましくは、トリメチルシリル、トリエチル
フェニル、ジフェニルメチルシリル、イソフェニルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリ
ル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリル等が挙げ
られる。
【0033】R4としては特に、イソプロピル、イソブ
チル、sec-ブチル、tert-ブチル、ネオペンチル等の炭
素原子数3〜30、好ましくは3〜20の分岐状アルキ
ル基;これらの分岐状アルキル基の水素原子を炭素原子
数が6〜30、好ましくは6〜20のアリール基で置換
した基(クミル基等);アダマンチル、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等
の炭素原子数が3〜30、好ましくは3〜20のシクロ
アルキル基から選ばれる基であることが好ましく、フェ
ニル、ナフチル、フルオレニル、アントリル、フェナン
トリル等の炭素原子数6〜30、好ましくは6〜20の
アリール基、炭化水素置換シリル基であることも好まし
い。
チル、sec-ブチル、tert-ブチル、ネオペンチル等の炭
素原子数3〜30、好ましくは3〜20の分岐状アルキ
ル基;これらの分岐状アルキル基の水素原子を炭素原子
数が6〜30、好ましくは6〜20のアリール基で置換
した基(クミル基等);アダマンチル、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等
の炭素原子数が3〜30、好ましくは3〜20のシクロ
アルキル基から選ばれる基であることが好ましく、フェ
ニル、ナフチル、フルオレニル、アントリル、フェナン
トリル等の炭素原子数6〜30、好ましくは6〜20の
アリール基、炭化水素置換シリル基であることも好まし
い。
【0034】R1〜R16は、これらのうちの2個以上の
基、好ましくは隣接する基が互いに結合して脂肪環、芳
香環または、窒素原子等の異原子を含む炭化水素環を形
成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有して
いてもよい。m1が2以上の場合には、R1同士、R2同
士、R3同士、R4同士、R5同士、R 6同士、R7同士、
R8同士、R9同士、R10同士、R11同士、R12同士、R
13同士、R14同士、R15同士、R16同士は、互いに同一
でも異なってもよく、また、いずれか一つの配位子に含
まれるR1〜R16のうちの1個の基と、他の配位子に含
まれるR1〜R16のうちの1個の基とが連結されていて
もよい。
基、好ましくは隣接する基が互いに結合して脂肪環、芳
香環または、窒素原子等の異原子を含む炭化水素環を形
成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有して
いてもよい。m1が2以上の場合には、R1同士、R2同
士、R3同士、R4同士、R5同士、R 6同士、R7同士、
R8同士、R9同士、R10同士、R11同士、R12同士、R
13同士、R14同士、R15同士、R16同士は、互いに同一
でも異なってもよく、また、いずれか一つの配位子に含
まれるR1〜R16のうちの1個の基と、他の配位子に含
まれるR1〜R16のうちの1個の基とが連結されていて
もよい。
【0035】n1は、M1の価数を満たす数であり、具体
的には0〜5、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜
3の整数である。X1は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示す。
的には0〜5、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜
3の整数である。X1は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示す。
【0036】X1が示すハロゲン原子としては、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。X1が示す炭化
水素基としては、上記R1〜R16で例示したものと同様
のものが挙げられる。具体的には、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシ
ル、アイコシル等の炭素原子数1〜30のアルキル基;
シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダ
マンチル等の炭素原子数3〜30のシクロアルキル基;
ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等の炭素原子数
2〜30アルケニル基;ベンジル、フェニルエチル、フ
ェニルプロピル等の炭素原子数7〜30のアリールアル
キル基;フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメ
チルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビ
フェニリル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、
フェナントリル等の炭素原子数6〜30のアリール基等
が挙げられる。また、これらの炭化水素基には、ハロゲ
ン化炭化水素基、具体的には炭素原子数1〜20の炭化
水素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基
も含まれる。これらのうち、炭素原子数1〜20のもの
が好ましい。
素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。X1が示す炭化
水素基としては、上記R1〜R16で例示したものと同様
のものが挙げられる。具体的には、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシ
ル、アイコシル等の炭素原子数1〜30のアルキル基;
シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダ
マンチル等の炭素原子数3〜30のシクロアルキル基;
ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等の炭素原子数
2〜30アルケニル基;ベンジル、フェニルエチル、フ
ェニルプロピル等の炭素原子数7〜30のアリールアル
キル基;フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメ
チルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビ
フェニリル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、
フェナントリル等の炭素原子数6〜30のアリール基等
が挙げられる。また、これらの炭化水素基には、ハロゲ
ン化炭化水素基、具体的には炭素原子数1〜20の炭化
水素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基
も含まれる。これらのうち、炭素原子数1〜20のもの
が好ましい。
【0037】X1が示す酸素含有基としては、上記R1〜
R16で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的に
は、ヒドロキシ基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシ等のアルコキシ基;フェノキシ、メチルフェノ
キシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシ等のアリーロキ
シ基;フェニルメトキシ、フェニルエトキシ等のアリー
ルアルコキシ基;アセトキシ基;カルボニル基等が挙げ
られる。
R16で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的に
は、ヒドロキシ基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシ等のアルコキシ基;フェノキシ、メチルフェノ
キシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシ等のアリーロキ
シ基;フェニルメトキシ、フェニルエトキシ等のアリー
ルアルコキシ基;アセトキシ基;カルボニル基等が挙げ
られる。
【0038】X1が示す窒素含有基として具体的には、
上記R1〜R16で例示したものと同様のものが挙げら
れ、具体的には、アミノ基;メチルアミノ、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルア
ミノ、ジシクロヘキシルアミノ等のアルキルアミノ基;
フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、
ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノ等のアリール
アミノ基またはアルキルアリールアミノ基等が挙げられ
る。
上記R1〜R16で例示したものと同様のものが挙げら
れ、具体的には、アミノ基;メチルアミノ、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルア
ミノ、ジシクロヘキシルアミノ等のアルキルアミノ基;
フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、
ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノ等のアリール
アミノ基またはアルキルアリールアミノ基等が挙げられ
る。
【0039】X1が示すホウ素含有基として具体的に
は、BR4(Rは水素、アルキル基、置換基を有しても
よいアリール基、ハロゲン原子等を示す)が挙げられ
る。X1が示すイオウ含有基としては、上記R1〜R16で
例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、メ
チルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネー
ト、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネー
ト、p-トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンス
ルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネー
ト、p-クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロ
ベンゼンスルフォネート等のスルフォネート基;メチル
スルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルス
ルフィネート、p-トルエンスルフィネート、トリメチル
ベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスル
フィネート等のスルフィネート基;アルキルチオ基;ア
リールチオ基等が挙げられる。
は、BR4(Rは水素、アルキル基、置換基を有しても
よいアリール基、ハロゲン原子等を示す)が挙げられ
る。X1が示すイオウ含有基としては、上記R1〜R16で
例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、メ
チルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネー
ト、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネー
ト、p-トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンス
ルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネー
ト、p-クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロ
ベンゼンスルフォネート等のスルフォネート基;メチル
スルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルス
ルフィネート、p-トルエンスルフィネート、トリメチル
ベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスル
フィネート等のスルフィネート基;アルキルチオ基;ア
リールチオ基等が挙げられる。
【0040】X1が示すリン含有基として具体的には、
トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィン等のトリアルキルホスフィン
基;トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン等
のトリアリールホスフィン基;メチルホスファイト、エ
チルホスファイト、フェニルホスファイト等のホスファ
イト基(ホスフィド基);ホスホン酸基;ホスフィン酸
基等が挙げられる。
トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィン等のトリアルキルホスフィン
基;トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン等
のトリアリールホスフィン基;メチルホスファイト、エ
チルホスファイト、フェニルホスファイト等のホスファ
イト基(ホスフィド基);ホスホン酸基;ホスフィン酸
基等が挙げられる。
【0041】X1が示すヘテロ環式化合物残基として
は、上記R1〜R16で例示したものと同様のものが挙げ
られる。X1が示すアルミニウム含有基として具体的に
は、AlR4(Rは水素、アルキル基、置換基を有して
もよいアリール基、ハロゲン原子等を示す。)が挙げら
れる。
は、上記R1〜R16で例示したものと同様のものが挙げ
られる。X1が示すアルミニウム含有基として具体的に
は、AlR4(Rは水素、アルキル基、置換基を有して
もよいアリール基、ハロゲン原子等を示す。)が挙げら
れる。
【0042】X1が示すハロゲン含有基として具体的に
は、PF6、BF4等のフッ素含有基、ClO4、SbC
l6 等の塩素含有基、IO4 等のヨウ素含有基が挙げら
れる。X1が示すケイ素含有基として具体的には、上記
R1〜R16で例示したものと同様のものが挙げられ、具
体的には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、
トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチ
ルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチル
シリル等の炭化水素置換シリル基;トリメチルシリルエ
ーテル等の炭化水素置換シリルエーテル基;トリメチル
シリルメチル等のケイ素置換アルキル基;トリメチルシ
リルフェニル等のケイ素置換アリール基等が挙げられ
る。
は、PF6、BF4等のフッ素含有基、ClO4、SbC
l6 等の塩素含有基、IO4 等のヨウ素含有基が挙げら
れる。X1が示すケイ素含有基として具体的には、上記
R1〜R16で例示したものと同様のものが挙げられ、具
体的には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、
トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチ
ルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチル
シリル等の炭化水素置換シリル基;トリメチルシリルエ
ーテル等の炭化水素置換シリルエーテル基;トリメチル
シリルメチル等のケイ素置換アルキル基;トリメチルシ
リルフェニル等のケイ素置換アリール基等が挙げられ
る。
【0043】X1が示すゲルマニウム含有基として具体
的には、上記R1〜R16で例示したものと同様のものが
挙げられ、具体的には、上記ケイ素含有基のケイ素をゲ
ルマニウムに置換した基が挙げられる。X1が示すスズ
含有基として具体的には、上記R1〜R16で例示したも
のと同様のものが挙げられ、より具体的には、上記ケイ
素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。
的には、上記R1〜R16で例示したものと同様のものが
挙げられ、具体的には、上記ケイ素含有基のケイ素をゲ
ルマニウムに置換した基が挙げられる。X1が示すスズ
含有基として具体的には、上記R1〜R16で例示したも
のと同様のものが挙げられ、より具体的には、上記ケイ
素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。
【0044】なお、n1が2以上の場合は、X1で示され
る複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また
X1で表される複数の基は互いに結合して環を形成して
もよい。以下に、上記一般式(I)で表される遷移金属
化合物の具体的な例を示す。なお、下記具体例において
Mは遷移金属原子であり、例えばSc(III)、Ti(I
II)、Ti(IV)、Zr(III)、Zr(IV)、Hf(I
V)、V(IV)、Nb(V)、Ta(V)、Co(I
I)、Co(III)、Rh(II)、Rh(III)、Rh(I
V)等を示す。これらのなかでは特に、Ti(IV)、Z
r(IV)、Hf(IV)が好ましい。
る複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また
X1で表される複数の基は互いに結合して環を形成して
もよい。以下に、上記一般式(I)で表される遷移金属
化合物の具体的な例を示す。なお、下記具体例において
Mは遷移金属原子であり、例えばSc(III)、Ti(I
II)、Ti(IV)、Zr(III)、Zr(IV)、Hf(I
V)、V(IV)、Nb(V)、Ta(V)、Co(I
I)、Co(III)、Rh(II)、Rh(III)、Rh(I
V)等を示す。これらのなかでは特に、Ti(IV)、Z
r(IV)、Hf(IV)が好ましい。
【0045】Xは、Cl、Br等のハロゲン、またはメ
チル等のアルキル基を示す。また、Xが複数ある場合
は、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。nは
金属Mの価数により決定される。例えば、2種のモノア
ニオン種が金属に結合している場合、2価金属ではn=
0、3価金属ではn=1、4価金属ではn=2、5価金
属ではn=3になる。例えば金属がTi(IV)の場合は
n=2であり、Zr(IV)の場合はn=2であり、Hf
(IV)の場合はn=2である。
チル等のアルキル基を示す。また、Xが複数ある場合
は、これらは互いに同一でも異なっていてもよい。nは
金属Mの価数により決定される。例えば、2種のモノア
ニオン種が金属に結合している場合、2価金属ではn=
0、3価金属ではn=1、4価金属ではn=2、5価金
属ではn=3になる。例えば金属がTi(IV)の場合は
n=2であり、Zr(IV)の場合はn=2であり、Hf
(IV)の場合はn=2である。
【0046】
【化8】
【0047】
【化9】
【0048】
【化10】
【0049】
【化11】
【0050】
【化12】
【0051】
【化13】
【0052】
【化14】
【0053】
【化15】
【0054】
【化16】
【0055】
【化17】
【0056】なお、上記例示中、Meはメチル基、Et
はエチル基、iPrはi-プロピル基、tBuはtert-ブ
チル基、Phはフェニル基を示す。また本発明で用いら
れる(A)遷移金属化合物としては、下記一般式(II
a)または(IIb)で表される化合物がある。
はエチル基、iPrはi-プロピル基、tBuはtert-ブ
チル基、Phはフェニル基を示す。また本発明で用いら
れる(A)遷移金属化合物としては、下記一般式(II
a)または(IIb)で表される化合物がある。
【0057】
【化18】
【0058】なお上記一般式(IIa)および一般式(II
b)中のG……M2は、一般的には配位しているか、結合
していないことを示すが、本発明においては少なくとも
一方が配位結合であることが好ましい。一般式(IIa)
および一般式(IIb)中、M2は周期表第3〜11族から
選ばれる遷移金属原子(3族にはランタノイドも含まれ
る)を示し、好ましくは3〜10族(3族にはランタノ
イドも含まれる)の金属原子であり、より好ましくは3
〜5族および8〜10族の金属原子であり、特に好まし
くは第8〜10族の金属原子である。
b)中のG……M2は、一般的には配位しているか、結合
していないことを示すが、本発明においては少なくとも
一方が配位結合であることが好ましい。一般式(IIa)
および一般式(IIb)中、M2は周期表第3〜11族から
選ばれる遷移金属原子(3族にはランタノイドも含まれ
る)を示し、好ましくは3〜10族(3族にはランタノ
イドも含まれる)の金属原子であり、より好ましくは3
〜5族および8〜10族の金属原子であり、特に好まし
くは第8〜10族の金属原子である。
【0059】M2として具体的には、スカンジウム、イ
ットリウム、ランタノイド、チタン、ジルコニウム、ハ
フニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ロジウム、
イットリウム、クロム、モリブデン、タングステン、マ
ンガン、レニウム、鉄、コバルト、ルテニウム、ロジウ
ム、ニッケル、パラジウム等であり、好ましくはスカン
ジウム、ランタノイド、チタン、ジルコニウム、ハフニ
ウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、鉄、コバルト、
ロジウム、ニッケル、パラジウム等であり、より好まし
くは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、鉄、コバルト、ロジウム、ニッ
ケル、パラジウム等であり、特に好ましくは鉄、コバル
ト、ロジウム、ニッケル、パラジウムであるm2aは、1
〜3、好ましくは1〜2の整数を示し、m2bは、1〜
6、好ましくは1〜4、さらに好ましくは1〜2の整数
を示す。
ットリウム、ランタノイド、チタン、ジルコニウム、ハ
フニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ロジウム、
イットリウム、クロム、モリブデン、タングステン、マ
ンガン、レニウム、鉄、コバルト、ルテニウム、ロジウ
ム、ニッケル、パラジウム等であり、好ましくはスカン
ジウム、ランタノイド、チタン、ジルコニウム、ハフニ
ウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、鉄、コバルト、
ロジウム、ニッケル、パラジウム等であり、より好まし
くは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、鉄、コバルト、ロジウム、ニッ
ケル、パラジウム等であり、特に好ましくは鉄、コバル
ト、ロジウム、ニッケル、パラジウムであるm2aは、1
〜3、好ましくは1〜2の整数を示し、m2bは、1〜
6、好ましくは1〜4、さらに好ましくは1〜2の整数
を示す。
【0060】Eは、窒素原子または−C(R21)=を示
す。Gは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、
または置換基−R22を有する窒素原子(−N(R22)−)
を示す。R17〜R22は、互いに同一でも異なっていても
よく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニ
ウム含有基またはスズ含有基を示す。
す。Gは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、
または置換基−R22を有する窒素原子(−N(R22)−)
を示す。R17〜R22は、互いに同一でも異なっていても
よく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニ
ウム含有基またはスズ含有基を示す。
【0061】R17〜R22が示すハロゲン原子、炭化水素
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
【0062】R17〜R22は、これらのうちの2個以上の
基、好ましくは隣接する基が互いに結合して脂肪環、芳
香環または、窒素原子等の異原子を含む炭化水素環を形
成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有して
いてもよい。m2aが2以上の場合には、上記一般式(II
a)中のR17同士、R18同士、R19同士、R20同士、R
21同士、R22同士は、互いに同一でも異なってもよく、
m2bが2以上の場合には、上記一般式(IIb)中のR17
同士、R18同士、R19同士、R21同士、R22同士は、互
いに同一でも異なってもよい。またm2aが2以上の場合
には、上記一般式(IIa)中のいずれか一つの配位子に
含まれるR17〜R22のうちの1個の基と、他の配位子に
含まれるR17〜R22のうちの1個の基とが連結されてい
てもよく、m2bが2以上の場合には上記一般式(IIb)
中のいずれか一つの配位子に含まれるR17〜R19、
R21、R22のうちの1個の基と、他の配位子に含まれる
R17〜R19、R21、R22のうちの1個の基とが連結され
ていてもよい。
基、好ましくは隣接する基が互いに結合して脂肪環、芳
香環または、窒素原子等の異原子を含む炭化水素環を形
成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有して
いてもよい。m2aが2以上の場合には、上記一般式(II
a)中のR17同士、R18同士、R19同士、R20同士、R
21同士、R22同士は、互いに同一でも異なってもよく、
m2bが2以上の場合には、上記一般式(IIb)中のR17
同士、R18同士、R19同士、R21同士、R22同士は、互
いに同一でも異なってもよい。またm2aが2以上の場合
には、上記一般式(IIa)中のいずれか一つの配位子に
含まれるR17〜R22のうちの1個の基と、他の配位子に
含まれるR17〜R22のうちの1個の基とが連結されてい
てもよく、m2bが2以上の場合には上記一般式(IIb)
中のいずれか一つの配位子に含まれるR17〜R19、
R21、R22のうちの1個の基と、他の配位子に含まれる
R17〜R19、R21、R22のうちの1個の基とが連結され
ていてもよい。
【0063】n2は、M2の価数を満たす数であり、具体
的には0〜5、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜
3の整数である。X2は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示す。
的には0〜5、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜
3の整数である。X2は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示す。
【0064】X2が示すハロゲン原子、炭化水素基、酸
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
【0065】なお、n2が2以上の場合は、X2で示され
る複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また
X2で示される複数の基は互いに結合して環を形成して
もよい。以下に、上記一般式(IIa)または(IIb)で表
される遷移金属化合物の具体的な例を示す。なお、下記
具体例においてMは遷移金属原子であり、例えばSc
(III)、Ti(III)、Ti(IV)、Zr(III)、Z
r(IV)、Hf(IV)、V(IV)、Nb(V)、Ta
(V)、Co(II)、Co(III)、Rh(II)、Rh
(III)、Rh(IV)等を示す。
る複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また
X2で示される複数の基は互いに結合して環を形成して
もよい。以下に、上記一般式(IIa)または(IIb)で表
される遷移金属化合物の具体的な例を示す。なお、下記
具体例においてMは遷移金属原子であり、例えばSc
(III)、Ti(III)、Ti(IV)、Zr(III)、Z
r(IV)、Hf(IV)、V(IV)、Nb(V)、Ta
(V)、Co(II)、Co(III)、Rh(II)、Rh
(III)、Rh(IV)等を示す。
【0066】Xは、Cl、Br等のハロゲン、またはメ
チル等のアルキル基を示す。また、Xが複数ある場合
は、これらはこれらは互いに同一でも異なっていてもよ
い。nは遷移金属Mの価数により決定される。例えば、
2種のモノアニオン種が金属に結合している場合、2価
金属ではn=0、3価金属ではn=1、4価金属ではn
=2、5価金属ではn=3になる。例えば金属がTi
(IV)の場合はn=2であり、Zr(IV)の場合はn=
2であり、Hf(IV)の場合はn=2である。
チル等のアルキル基を示す。また、Xが複数ある場合
は、これらはこれらは互いに同一でも異なっていてもよ
い。nは遷移金属Mの価数により決定される。例えば、
2種のモノアニオン種が金属に結合している場合、2価
金属ではn=0、3価金属ではn=1、4価金属ではn
=2、5価金属ではn=3になる。例えば金属がTi
(IV)の場合はn=2であり、Zr(IV)の場合はn=
2であり、Hf(IV)の場合はn=2である。
【0067】
【化19】
【0068】
【化20】
【0069】
【化21】
【0070】
【化22】
【0071】
【化23】
【0072】
【化24】
【0073】
【化25】
【0074】
【化26】
【0075】
【化27】
【0076】
【化28】
【0077】
【化29】
【0078】なお、上記例示中、Meはメチル基、Et
はエチル基、iPrはi-プロピル基、tBuはtert-ブ
チル基、Phはフェニル基を示す。本発明で用いられる
(A)遷移金属化合物としては、下記一般式(III)で
表される化合物がある。
はエチル基、iPrはi-プロピル基、tBuはtert-ブ
チル基、Phはフェニル基を示す。本発明で用いられる
(A)遷移金属化合物としては、下記一般式(III)で
表される化合物がある。
【0079】
【化30】
【0080】(なお、N……M3は、一般的には配位し
ていることを示すが、本発明においては配位していなく
てもよい。) 一般式(III)中、M3は周期表3〜11族から選ばれる
遷移金属原子(3族にはランタノイドも含まれる)を示
し、好ましくは3〜9族(3族にはランタノイドも含ま
れる)の金属原子であり、より好ましくは3〜5族およ
び9族の金属原子であり、特に好ましくは4族または5
族の金属原子である。具体的には、スカンジウム、チタ
ン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
タンタル、コバルト、ロジウム、イットリウム、クロ
ム、モリブデン、タングステン、マンガン、レニウム、
鉄、ルテニウム等であり、好ましくはスカンジウム、チ
タン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、コバルト、ロジウム等であり、より好ま
しくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバル
ト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタル等であ
り、特に好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウム
である。
ていることを示すが、本発明においては配位していなく
てもよい。) 一般式(III)中、M3は周期表3〜11族から選ばれる
遷移金属原子(3族にはランタノイドも含まれる)を示
し、好ましくは3〜9族(3族にはランタノイドも含ま
れる)の金属原子であり、より好ましくは3〜5族およ
び9族の金属原子であり、特に好ましくは4族または5
族の金属原子である。具体的には、スカンジウム、チタ
ン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
タンタル、コバルト、ロジウム、イットリウム、クロ
ム、モリブデン、タングステン、マンガン、レニウム、
鉄、ルテニウム等であり、好ましくはスカンジウム、チ
タン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、コバルト、ロジウム等であり、より好ま
しくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバル
ト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタル等であ
り、特に好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウム
である。
【0081】m3は、1〜6、好ましくは1〜4の整数
を示す。Uは、窒素原子もしくはリン原子、または置換
基−R24を有する炭素原子(−C(R24)=)を示す。T
は、窒素原子またはリン原子を示す。Jは、窒素原子も
しくはリン原子、または置換基−R25を有する炭素原子
(−C(R25)=)を示す。
を示す。Uは、窒素原子もしくはリン原子、または置換
基−R24を有する炭素原子(−C(R24)=)を示す。T
は、窒素原子またはリン原子を示す。Jは、窒素原子も
しくはリン原子、または置換基−R25を有する炭素原子
(−C(R25)=)を示す。
【0082】Lは、窒素原子もしくはリン原子、または
置換基−R26を有する炭素原子(−C(R26)=)を示
す。Qは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−
R27を有する炭素原子(−C(R27)=)を示す。R23〜
R27は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ
環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示す。
置換基−R26を有する炭素原子(−C(R26)=)を示
す。Qは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−
R27を有する炭素原子(−C(R27)=)を示す。R23〜
R27は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ
環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示す。
【0083】R23〜R27が示すハロゲン原子、炭化水素
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
【0084】R23〜R27は、これらのうちの2個以上の
基、好ましくは隣接する基が互いに結合して脂肪環、芳
香環または、窒素原子等の異原子を含む炭化水素環を形
成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有して
いてもよい。m3が2以上の場合には、R23同士、R24
同士、R25同士、R26同士、R27同士は、互いに同一で
も異なってもよく、いずれか一つの配位子に含まれるR
23〜R27のうちの1個の基と、他の配位子に含まれるR
23〜R27のうちの1個の基とが連結されていてもよい。
基、好ましくは隣接する基が互いに結合して脂肪環、芳
香環または、窒素原子等の異原子を含む炭化水素環を形
成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有して
いてもよい。m3が2以上の場合には、R23同士、R24
同士、R25同士、R26同士、R27同士は、互いに同一で
も異なってもよく、いずれか一つの配位子に含まれるR
23〜R27のうちの1個の基と、他の配位子に含まれるR
23〜R27のうちの1個の基とが連結されていてもよい。
【0085】n3は、M3の価数を満たす数であり、具体
的には0〜5、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜
3の整数である。X3は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示す。
的には0〜5、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜
3の整数である。X3は、水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イ
オウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アル
ミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示す。
【0086】X3が示すハロゲン原子、炭化水素基、酸
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
【0087】なお、n3が2以上の場合は、X3で示され
る複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また
X3で示される複数の基は互いに結合して環を形成して
もよい。以下に、上記一般式(III)で表される遷移金
属化合物の具体的な例を示す。なお、下記具体例におい
てMは遷移金属原子であり、例えばSc(III)、Ti
(III)、Ti(IV)、Zr(III)、Zr(IV)、Hf
(IV)、V(IV)、Nb(V)、Ta(V)、Co(I
I)、Co(III)、Rh(II)、Rh(III)、Rh(I
V)等を示す。
る複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また
X3で示される複数の基は互いに結合して環を形成して
もよい。以下に、上記一般式(III)で表される遷移金
属化合物の具体的な例を示す。なお、下記具体例におい
てMは遷移金属原子であり、例えばSc(III)、Ti
(III)、Ti(IV)、Zr(III)、Zr(IV)、Hf
(IV)、V(IV)、Nb(V)、Ta(V)、Co(I
I)、Co(III)、Rh(II)、Rh(III)、Rh(I
V)等を示す。
【0088】Xは、Cl、Br等のハロゲン、またはメ
チル等のアルキル基を示す。また、Xが複数ある場合
は、これらはこれらは互いに同一でも異なっていてもよ
い。nは遷移金属Mの価数により決定される。例えば、
2種のモノアニオン種が金属に結合している場合、2価
金属ではn=0、3価金属ではn=1、4価金属ではn
=2、5価金属ではn=3になる。例えば金属がTi
(IV)の場合はn=2であり、Zr(IV)の場合はn=
2であり、Hf(IV)の場合はn=2である。
チル等のアルキル基を示す。また、Xが複数ある場合
は、これらはこれらは互いに同一でも異なっていてもよ
い。nは遷移金属Mの価数により決定される。例えば、
2種のモノアニオン種が金属に結合している場合、2価
金属ではn=0、3価金属ではn=1、4価金属ではn
=2、5価金属ではn=3になる。例えば金属がTi
(IV)の場合はn=2であり、Zr(IV)の場合はn=
2であり、Hf(IV)の場合はn=2である。
【0089】
【化31】
【0090】
【化32】
【0091】
【化33】
【0092】
【化34】
【0093】
【化35】
【0094】なお、上記例示中、Meはメチル基、Et
はエチル基、iPrはi-プロピル基、tBuはtert-ブ
チル基、Phはフェニル基を示す。また、本発明で用い
られる(A)遷移金属化合物としては、上記一般式
(I)、(IIa)、(IIb)または(III)で表される遷
移金属化合物以外にも、例えば下記(1)ないし(6)
の遷移金属化合物が挙げられる。
はエチル基、iPrはi-プロピル基、tBuはtert-ブ
チル基、Phはフェニル基を示す。また、本発明で用い
られる(A)遷移金属化合物としては、上記一般式
(I)、(IIa)、(IIb)または(III)で表される遷
移金属化合物以外にも、例えば下記(1)ないし(6)
の遷移金属化合物が挙げられる。
【0095】(1)下記一般式(IV)で表される遷移金
属化合物
属化合物
【0096】
【化36】
【0097】式中、M4は、周期表第3〜11族から選
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m4は、1〜6の整数を示す。A
は、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、または
結合基として−R35を有する窒素原子(−N(R35)−)
を示す。
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m4は、1〜6の整数を示す。A
は、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、または
結合基として−R35を有する窒素原子(−N(R35)−)
を示す。
【0098】Bは、いずれもNに結合する−R36および
−R37、=C(R38)R39または=NR40を示す。R31〜
R40は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ
環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示し、R31〜R40が示す基のうちの2
個以上が互いに結合して環を形成していてもよい。
−R37、=C(R38)R39または=NR40を示す。R31〜
R40は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ
環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示し、R31〜R40が示す基のうちの2
個以上が互いに結合して環を形成していてもよい。
【0099】R31〜R40が示すハロゲン原子、炭化水素
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
【0100】m4が2以上のときは、R31同士、R32同
士、R33同士、R34同士、R35同士、R36同士、R37同
士、R38同士、R39同士、R40同士は互いに同一でも異
なっていてもよく、またいずれか一つの配位子に含まれ
るR31〜R40のうちの1個の基と、他の配位子に含まれ
るR31〜R40のうちの1個の基とが連結されていていも
よい。
士、R33同士、R34同士、R35同士、R36同士、R37同
士、R38同士、R39同士、R40同士は互いに同一でも異
なっていてもよく、またいずれか一つの配位子に含まれ
るR31〜R40のうちの1個の基と、他の配位子に含まれ
るR31〜R40のうちの1個の基とが連結されていていも
よい。
【0101】n4は、M4の価数を満たす数である。X4
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n4が2以上の場合には、X4で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX4で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n4が2以上の場合には、X4で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX4で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。
【0102】X4が示すハロゲン原子、炭化水素基、酸
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
【0103】(2)下記一般式(V)で表される遷移金
属化合物
属化合物
【0104】
【化37】
【0105】式中、M5は周期表第5〜11族から選ば
れる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1として例
示した遷移金属原子のうち周期表第5〜11族のものが
挙げられる。Aは酸素原子、イオウ原子または炭化水素
置換窒素原子(−N(R46)−)を示す。R46は上記R1
〜R16と同様の炭化水素基を示す。
れる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1として例
示した遷移金属原子のうち周期表第5〜11族のものが
挙げられる。Aは酸素原子、イオウ原子または炭化水素
置換窒素原子(−N(R46)−)を示す。R46は上記R1
〜R16と同様の炭化水素基を示す。
【0106】Eは酸素原子またはイオウ原子を示す。m
5は、1または2を示す。R41〜R45は、互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、炭化水
素置換シリル基を示す。R41〜R45が示す炭化水素基お
よび炭化水素置換シリル基としては、上記R1〜R16と
同様の炭化水素基および炭化水素置換シリル基が挙げら
れる。
5は、1または2を示す。R41〜R45は、互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、炭化水
素置換シリル基を示す。R41〜R45が示す炭化水素基お
よび炭化水素置換シリル基としては、上記R1〜R16と
同様の炭化水素基および炭化水素置換シリル基が挙げら
れる。
【0107】n5は、M5の価数を満たす数である。X5
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n5が2以上の場合は、X5で示さ
れる複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、ま
たX5で示される複数の基は互いに結合して環を形成し
てもよい。
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n5が2以上の場合は、X5で示さ
れる複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、ま
たX5で示される複数の基は互いに結合して環を形成し
てもよい。
【0108】X5が示すハロゲン原子、炭化水素基、酸
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
【0109】(3)下記一般式(VIa)ないし(VId)の
いずれかで表される遷移金属化合物
いずれかで表される遷移金属化合物
【0110】
【化38】
【0111】式中、M6は、周期表第3〜11族から選
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m6は、1〜6の整数を示す。A
は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または窒素原子
を示す。Aは、遷移金属M6との結合様式に応じて置換
基R52を有することもできる。
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m6は、1〜6の整数を示す。A
は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または窒素原子
を示す。Aは、遷移金属M6との結合様式に応じて置換
基R52を有することもできる。
【0112】Dは、―C(R53)(R54)−、―Si(R55)
(R56)−、−CO−、−SO2−、−SO−、または−
P(O)(OR57)−を示す。R47〜R57は、互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化
水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素
含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示
し、これらのうちの2個以上が互いに結合して環を形成
していてもよい。
(R56)−、−CO−、−SO2−、−SO−、または−
P(O)(OR57)−を示す。R47〜R57は、互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化
水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素
含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示
し、これらのうちの2個以上が互いに結合して環を形成
していてもよい。
【0113】また、m6が2以上のときは、R47同士、
R48同士、R49同士、R50同士、R5 1同士、R52同士、
R53同士、R54同士、R55同士、R56同士、R57同士は
互いに同一でも異なっていてもよく、いずれか一つの配
位子に含まれる、R47〜R57のうちの1個の基と、他の
配位子に含まれるR47〜R57のうちの1個の基とが連結
されていてもよい。
R48同士、R49同士、R50同士、R5 1同士、R52同士、
R53同士、R54同士、R55同士、R56同士、R57同士は
互いに同一でも異なっていてもよく、いずれか一つの配
位子に含まれる、R47〜R57のうちの1個の基と、他の
配位子に含まれるR47〜R57のうちの1個の基とが連結
されていてもよい。
【0114】n5は、M5の価数を満たす数である。X5
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n5が2以上の場合には、X5で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX5で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n5が2以上の場合には、X5で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX5で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。
【0115】X5が示すハロゲン原子、炭化水素基、酸
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
【0116】(4)下記一般式(VIIa)ないし(VIId)
のいずれかで表される遷移金属化合物
のいずれかで表される遷移金属化合物
【0117】
【化39】
【0118】式中、M7は、周期表第3〜11族から選
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m7は、1〜6の整数を示す。A
は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または窒素原子
を示す。Aは、遷移金属M7との結合様式に応じて置換
基R62を有することもできる。
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m7は、1〜6の整数を示す。A
は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または窒素原子
を示す。Aは、遷移金属M7との結合様式に応じて置換
基R62を有することもできる。
【0119】Bは、いずれもNと結合する−R63および
−R64、=NR65または=CR66R 67を示す。R58〜R
67は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、
ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式
化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基または
スズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が互いに結
合して環を形成していてもよい。
−R64、=NR65または=CR66R 67を示す。R58〜R
67は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、
ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式
化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基または
スズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が互いに結
合して環を形成していてもよい。
【0120】R58〜R67が示すハロゲン原子、炭化水素
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
【0121】m7が2以上のときは、R58同士、R59同
士、R60同士、R61同士、R62同士、R63同士、R64同
士、R65同士、R66同士、R67同士は互いに同一でも異
なっていてもよく、またいずれか一つの配位子に含まれ
るR58〜R67のうちの1個の基と、他の配位子に含まれ
るR58〜R67のうちの1個の基とが連結されていていも
よい。
士、R60同士、R61同士、R62同士、R63同士、R64同
士、R65同士、R66同士、R67同士は互いに同一でも異
なっていてもよく、またいずれか一つの配位子に含まれ
るR58〜R67のうちの1個の基と、他の配位子に含まれ
るR58〜R67のうちの1個の基とが連結されていていも
よい。
【0122】n7は、M7の価数を満たす数であり、X7
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n7が2以上の場合には、X7で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX7で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。
は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、ハ
ロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
はスズ含有基を示し、n7が2以上の場合には、X7で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX7で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。
【0123】X7が示すハロゲン原子、炭化水素基、酸
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
【0124】(5)下記一般式(VIII)で表される遷移
金属化合物
金属化合物
【0125】
【化40】
【0126】式中、M8は、周期表第3〜11族から選
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m8は1〜6の整数である。A1お
よびA2は、互いに同一でも異なっていてもよく、窒素
原子またはリン原子を示す。
ばれる遷移金属原子を示す。具体的には上記M1と同様
のものが挙げられる。m8は1〜6の整数である。A1お
よびA2は、互いに同一でも異なっていてもよく、窒素
原子またはリン原子を示す。
【0127】Q1〜Q6は、互いに同一でも異なっていて
もよく、窒素原子もしくはリン原子、または置換基を有
する炭素原子(−C(R68)−ないし−C(R73)−)を示
す。Q1〜Q6のうちに置換基を有する炭素原子が複数あ
る場合、それらの置換基同士は互いに同一でも異なって
いてもよい。R68〜R74は、互いに同一でも異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうち
の2個以上が互いに結合して環を形成していてもよい。
もよく、窒素原子もしくはリン原子、または置換基を有
する炭素原子(−C(R68)−ないし−C(R73)−)を示
す。Q1〜Q6のうちに置換基を有する炭素原子が複数あ
る場合、それらの置換基同士は互いに同一でも異なって
いてもよい。R68〜R74は、互いに同一でも異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうち
の2個以上が互いに結合して環を形成していてもよい。
【0128】R68〜R74が示すハロゲン原子、炭化水素
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有
基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上
記R1〜R16と同様のハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リ
ン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲル
マニウム含有基およびスズ含有基を例示することができ
る。
【0129】m8が2以上のときは、R68同士、R69同
士、R70同士、R71同士、R72同士、R73同士、R74同
士は互いに同一でも異なっていてもよく、またいずれか
一つの配位子に含まれるR68〜R74のうちの1個の基
と、他の配位子に含まれるR68〜R74のうちの1個の基
とが連結されていてもよい。n8は、M8の価数を満たす
数である。
士、R70同士、R71同士、R72同士、R73同士、R74同
士は互いに同一でも異なっていてもよく、またいずれか
一つの配位子に含まれるR68〜R74のうちの1個の基
と、他の配位子に含まれるR68〜R74のうちの1個の基
とが連結されていてもよい。n8は、M8の価数を満たす
数である。
【0130】X8は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水
素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ
含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニ
ウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニ
ウム含有基またはスズ含有基を示し、n8が2以上の場
合には、X8で示される複数の基は互いに同一でも異な
っていてもよく、またX8で示される複数の基は互いに
結合して環を形成してもよい。
素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ
含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニ
ウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニ
ウム含有基またはスズ含有基を示し、n8が2以上の場
合には、X8で示される複数の基は互いに同一でも異な
っていてもよく、またX8で示される複数の基は互いに
結合して環を形成してもよい。
【0131】X8が示すハロゲン原子、炭化水素基、酸
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有
基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基およびスズ含有基としては、上記X1と同様のハロゲ
ン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物
残基、アルミニウム含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含
有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基を例示する
ことができる。
【0132】(6)下記一般式(IXa)または(IXb)で
表される遷移金属化合物
表される遷移金属化合物
【0133】
【化41】
【0134】式中、M9は、周期表第4〜6族および第
8〜10族から選ばれる遷移金属原子を示す。具体的に
は上記M1として例示した遷移金属原子のうち周期表第
4〜6族および第8〜10族のものが挙げられる。R75
〜R84は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有炭
化水素基、酸素含有炭化水素基、イオウ含有炭化水素
基、窒素含有炭化水素基またはリン含有炭化水素基を示
し、これらのうちの2個以上が互いに結合して環を形成
していてもよい。
8〜10族から選ばれる遷移金属原子を示す。具体的に
は上記M1として例示した遷移金属原子のうち周期表第
4〜6族および第8〜10族のものが挙げられる。R75
〜R84は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有炭
化水素基、酸素含有炭化水素基、イオウ含有炭化水素
基、窒素含有炭化水素基またはリン含有炭化水素基を示
し、これらのうちの2個以上が互いに結合して環を形成
していてもよい。
【0135】R75〜R84が示す炭化水素基、ハロゲン化
炭化水素基としては、上記R1〜R1 6と同様の炭化水素
基(ケイ素含基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有
基またはリン含有基で置換されているものを除く。)、
ハロゲン化炭化水素基を例示することができ、ケイ素含
有炭化水素基、酸素含有炭化水素基、イオウ含有炭化水
素基、窒素含有炭化水素基およびリン含有炭化水素基と
しては、ケイ素含基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素
含有基またはリン含有基で置換されている上記炭化水素
基を例示することができる。
炭化水素基としては、上記R1〜R1 6と同様の炭化水素
基(ケイ素含基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有
基またはリン含有基で置換されているものを除く。)、
ハロゲン化炭化水素基を例示することができ、ケイ素含
有炭化水素基、酸素含有炭化水素基、イオウ含有炭化水
素基、窒素含有炭化水素基およびリン含有炭化水素基と
しては、ケイ素含基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素
含有基またはリン含有基で置換されている上記炭化水素
基を例示することができる。
【0136】n9は、M9の価数を満たす数である。X9
は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基、炭素原
子数1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基また
はイオウ含有基を示す。X9が示すハロゲン原子、炭素
原子数1〜20の炭化水素基、炭素原子数1〜20のハ
ロゲン化炭化水素基、酸素含有基およびイオウ含有基と
しては、上記上記R1〜R16の例示中のハロゲン原子、
炭素原子数1〜20の炭化水素基、炭素原子数1〜20
のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基およびイオウ含有
基を例示することができる。
は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基、炭素原
子数1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基また
はイオウ含有基を示す。X9が示すハロゲン原子、炭素
原子数1〜20の炭化水素基、炭素原子数1〜20のハ
ロゲン化炭化水素基、酸素含有基およびイオウ含有基と
しては、上記上記R1〜R16の例示中のハロゲン原子、
炭素原子数1〜20の炭化水素基、炭素原子数1〜20
のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基およびイオウ含有
基を例示することができる。
【0137】上記のような(A)遷移金属化合物は、1
種単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。(B)有機金属化合物 本発明で用いられる(B)有機金属化合物として、具体
的には下記のような周期表第1、2族および第12、1
3族の有機金属化合物が用いられる。
種単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。(B)有機金属化合物 本発明で用いられる(B)有機金属化合物として、具体
的には下記のような周期表第1、2族および第12、1
3族の有機金属化合物が用いられる。
【0138】(B-1a) 一般式 Ra mAl(ORb)n Hp Xq (式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていて
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m
≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<
3の数であり、かつm+n+p+q=3である。)で表
される有機アルミニウム化合物。
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m
≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<
3の数であり、かつm+n+p+q=3である。)で表
される有機アルミニウム化合物。
【0139】(B-1b) 一般式 M2AlRa 4 (式中、M2はLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原
子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭化水素基を示
す。)で表される周期表第1族金属とアルミニウムとの
錯アルキル化物。 (B-1c) 一般式 RaRbM3 (式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていて
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、M3はMg、ZnまたはCdであ
る。)で表される周期表第2族または第12族金属のジ
アルキル化合物。
子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭化水素基を示
す。)で表される周期表第1族金属とアルミニウムとの
錯アルキル化物。 (B-1c) 一般式 RaRbM3 (式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていて
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、M3はMg、ZnまたはCdであ
る。)で表される周期表第2族または第12族金属のジ
アルキル化合物。
【0140】上記(B-1a)に属する有機アルミニウム化合
物としては、次のような化合物等を例示できる。 一般式 Ra m Al(ORb)3-m (式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていて
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、mは好ましくは1.5≦m≦3の数で
ある。)で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ra m AlX3-m (式中、Ra は炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜
4の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは
好ましくは0<m<3である。)で表される有機アルミ
ニウム化合物、 一般式 Ra m AlH3-m (式中、Ra は炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜
4の炭化水素基を示し、mは好ましくは2≦m<3であ
る。)で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ra m Al(ORb)n Xq (式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていて
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m
≦3、nは0≦n<3、qは0≦q<3の数であり、か
つm+n+q=3である。)で表される有機アルミニウ
ム化合物。
物としては、次のような化合物等を例示できる。 一般式 Ra m Al(ORb)3-m (式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていて
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、mは好ましくは1.5≦m≦3の数で
ある。)で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ra m AlX3-m (式中、Ra は炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜
4の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは
好ましくは0<m<3である。)で表される有機アルミ
ニウム化合物、 一般式 Ra m AlH3-m (式中、Ra は炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜
4の炭化水素基を示し、mは好ましくは2≦m<3であ
る。)で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ra m Al(ORb)n Xq (式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていて
もよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭
化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m
≦3、nは0≦n<3、qは0≦q<3の数であり、か
つm+n+q=3である。)で表される有機アルミニウ
ム化合物。
【0141】(B-1a)に属する有機アルミニウム化合物と
して、より具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエ
チルアルミニウム、トリn-ブチルアルミニウム、トリプ
ロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ト
リデシルアルミニウム等のトリn-アルキルアルミニウ
ム;トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ tert-
ブチルアルミニウム、トリ2-メチルブチルアルミニウ
ム、トリ3-メチルブチルアルミニウム、トリ2-メチルペ
ンチルアルミニウム、トリ3-メチルペンチルアルミニウ
ム、トリ4-メチルペンチルアルミニウム、トリ2-メチル
ヘキシルアルミニウム、トリ3-メチルヘキシルアルミニ
ウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウム等のトリ分岐
鎖アルキルアルミニウム;トリシクロヘキシルアルミニ
ウム、トリシクロオクチルアルミニウム等のトリシクロ
アルキルアルミニウム;トリフェニルアルミニウム、ト
リトリルアルミニウム等のトリアリールアルミニウム;
(i-C4H9)x Aly(C5H10)z (式中、x、y、zは
正の数であり、z≧2xである。)等で表されるトリイ
ソプレニルアルミニウム等のトリアルケニルアルミニウ
ム;イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルア
ルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプ
ロポキシド等のアルキルアルミニウムアルコキシド;ジ
メチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウム
エトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシド等のジア
ルキルアルミニウムアルコキシド;エチルアルミニウム
セスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシ
ド等のアルキルアルミニウムセスキアルコキシド;Ra
2.5Al(ORb)0.5 等で表される平均組成を有する部
分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム;ジエ
チルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム
(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド)、エチルア
ルミニウムビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシ
ド)、ジイソブチルアルミニウム(2,6-ジ-t-ブチル-4-
メチルフェノキシド)、イソブチルアルミニウムビス
(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド)等のジアル
キルアルミニウムアリーロキシド;ジメチルアルミニウ
ムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチル
アルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミ
ド、ジイソブチルアルミニウムクロリド等のジアルキル
アルミニウムハライド;エチルアルミニウムセスキクロ
リド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキブロミド等のアルキルアルミニウムセス
キハライド;エチルアルミニウムジクロリド、プロピル
アルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミ
ド等のアルキルアルミニウムジハライド等の部分的にハ
ロゲン化されたアルキルアルミニウム;ジエチルアルミ
ニウムハイドライド、ジブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等のジアル
キルアルミニウムハイドライド;エチルアルミニウムジ
ヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリド等のアルキ
ルアルミニウムジヒドリド等その他の部分的に水素化さ
れたアルキルアルミニウム;エチルアルミニウムエトキ
シクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エ
チルアルミニウムエトキシブロミド等の部分的にアルコ
キシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウム等
を挙げることができる。
して、より具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエ
チルアルミニウム、トリn-ブチルアルミニウム、トリプ
ロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ト
リデシルアルミニウム等のトリn-アルキルアルミニウ
ム;トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ tert-
ブチルアルミニウム、トリ2-メチルブチルアルミニウ
ム、トリ3-メチルブチルアルミニウム、トリ2-メチルペ
ンチルアルミニウム、トリ3-メチルペンチルアルミニウ
ム、トリ4-メチルペンチルアルミニウム、トリ2-メチル
ヘキシルアルミニウム、トリ3-メチルヘキシルアルミニ
ウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウム等のトリ分岐
鎖アルキルアルミニウム;トリシクロヘキシルアルミニ
ウム、トリシクロオクチルアルミニウム等のトリシクロ
アルキルアルミニウム;トリフェニルアルミニウム、ト
リトリルアルミニウム等のトリアリールアルミニウム;
(i-C4H9)x Aly(C5H10)z (式中、x、y、zは
正の数であり、z≧2xである。)等で表されるトリイ
ソプレニルアルミニウム等のトリアルケニルアルミニウ
ム;イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルア
ルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプ
ロポキシド等のアルキルアルミニウムアルコキシド;ジ
メチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウム
エトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシド等のジア
ルキルアルミニウムアルコキシド;エチルアルミニウム
セスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシ
ド等のアルキルアルミニウムセスキアルコキシド;Ra
2.5Al(ORb)0.5 等で表される平均組成を有する部
分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム;ジエ
チルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム
(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド)、エチルア
ルミニウムビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシ
ド)、ジイソブチルアルミニウム(2,6-ジ-t-ブチル-4-
メチルフェノキシド)、イソブチルアルミニウムビス
(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド)等のジアル
キルアルミニウムアリーロキシド;ジメチルアルミニウ
ムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチル
アルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミ
ド、ジイソブチルアルミニウムクロリド等のジアルキル
アルミニウムハライド;エチルアルミニウムセスキクロ
リド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキブロミド等のアルキルアルミニウムセス
キハライド;エチルアルミニウムジクロリド、プロピル
アルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミ
ド等のアルキルアルミニウムジハライド等の部分的にハ
ロゲン化されたアルキルアルミニウム;ジエチルアルミ
ニウムハイドライド、ジブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等のジアル
キルアルミニウムハイドライド;エチルアルミニウムジ
ヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリド等のアルキ
ルアルミニウムジヒドリド等その他の部分的に水素化さ
れたアルキルアルミニウム;エチルアルミニウムエトキ
シクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エ
チルアルミニウムエトキシブロミド等の部分的にアルコ
キシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウム等
を挙げることができる。
【0142】また(B-1a)に類似する化合物も使用するこ
とができ、例えば窒素原子を介して2以上のアルミニウ
ム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げるこ
とができる。このような化合物として具体的には、(C
2H5)2AlN(C2H5)Al(C2H5)2 等が挙られ
る。
とができ、例えば窒素原子を介して2以上のアルミニウ
ム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げるこ
とができる。このような化合物として具体的には、(C
2H5)2AlN(C2H5)Al(C2H5)2 等が挙られ
る。
【0143】上記(B-1b)に属する化合物としては、Li
Al(C2H5)4、LiAl(C7H 15)4 等が挙げられ
る。またその他にも、(B)有機金属化合物としては、
メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、
ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、メチル
マグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、
エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムブ
ロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネ
シウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリド、ジメチ
ルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグ
ネシウム、ブチルエチルマグネシウム等を使用すること
もできる。
Al(C2H5)4、LiAl(C7H 15)4 等が挙げられ
る。またその他にも、(B)有機金属化合物としては、
メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、
ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、メチル
マグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、
エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムブ
ロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネ
シウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリド、ジメチ
ルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグ
ネシウム、ブチルエチルマグネシウム等を使用すること
もできる。
【0144】また重合系内で上記有機アルミニウム化合
物が形成されるような化合物、例えばハロゲン化アルミ
ニウムとアルキルリチウムとの組合せ、またはハロゲン
化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組合せ等を
使用することもできる。(B)有機金属化合物のなかで
は、有機アルミニウム化合物が好ましい。上記のような
(B)有機金属化合物は、1種単独でまたは2種以上組
み合わせて用いられる。
物が形成されるような化合物、例えばハロゲン化アルミ
ニウムとアルキルリチウムとの組合せ、またはハロゲン
化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組合せ等を
使用することもできる。(B)有機金属化合物のなかで
は、有機アルミニウム化合物が好ましい。上記のような
(B)有機金属化合物は、1種単独でまたは2種以上組
み合わせて用いられる。
【0145】(C)遷移金属化合物(A)と反応してイ
オン対を形成する化合物 本発明で用いられる遷移金属化合物(A)と反応してイ
オン対を形成する化合物(C)(以下、「イオン化イオ
ン性化合物」という。)としては、特開平1−5019
50号公報、特開平1−502036号公報、特開平3
−179005号公報、特開平3−179006号公
報、特開平3−207703号公報、特開平3−207
704号公報、USP−5321106号明細書等に記
載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およ
びカルボラン化合物等を挙げることができる。さらに、
ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることが
できる。
オン対を形成する化合物 本発明で用いられる遷移金属化合物(A)と反応してイ
オン対を形成する化合物(C)(以下、「イオン化イオ
ン性化合物」という。)としては、特開平1−5019
50号公報、特開平1−502036号公報、特開平3
−179005号公報、特開平3−179006号公
報、特開平3−207703号公報、特開平3−207
704号公報、USP−5321106号明細書等に記
載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およ
びカルボラン化合物等を挙げることができる。さらに、
ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることが
できる。
【0146】具体的には、ルイス酸としては、BR3
(Rは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチル基等の
置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素であ
る。)で示される化合物が挙げられ、例えばトリフルオ
ロボロン、トリフェニルボロン、トリス(4-フルオロフ
ェニル)ボロン、トリス(3,5-ジフルオロフェニル)ボ
ロン、トリス(4-フルオロメチルフェニル)ボロン、ト
リス(ペンタフルオロフェニル)ボロン、トリス(p-ト
リル)ボロン、トリス(o-トリル)ボロン、トリス(3,
5-ジメチルフェニル)ボロン等が挙げられる。
(Rは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチル基等の
置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素であ
る。)で示される化合物が挙げられ、例えばトリフルオ
ロボロン、トリフェニルボロン、トリス(4-フルオロフ
ェニル)ボロン、トリス(3,5-ジフルオロフェニル)ボ
ロン、トリス(4-フルオロメチルフェニル)ボロン、ト
リス(ペンタフルオロフェニル)ボロン、トリス(p-ト
リル)ボロン、トリス(o-トリル)ボロン、トリス(3,
5-ジメチルフェニル)ボロン等が挙げられる。
【0147】イオン性化合物としては、例えば下記一般
式(X)で表される化合物が挙げられる。
式(X)で表される化合物が挙げられる。
【0148】
【化42】
【0149】式中、Raとしては、H+、カルボニウムカ
チオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオ
ン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニル
カチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等
が挙げられる。Rb〜Reは、互いに同一でも異なってい
てもよく、有機基、好ましくはアリール基または置換ア
リール基である。上記カルボニウムカチオンとして具体
的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ(メ
チルフェニル)カルボニウムカチオン、トリ(ジメチル
フェニル)カルボニウムカチオン等の三置換カルボニウ
ムカチオン等が挙げられる。
チオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオ
ン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニル
カチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等
が挙げられる。Rb〜Reは、互いに同一でも異なってい
てもよく、有機基、好ましくはアリール基または置換ア
リール基である。上記カルボニウムカチオンとして具体
的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ(メ
チルフェニル)カルボニウムカチオン、トリ(ジメチル
フェニル)カルボニウムカチオン等の三置換カルボニウ
ムカチオン等が挙げられる。
【0150】上記アンモニウムカチオンとして具体的に
は、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアン
モニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオ
ン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウ
ムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-
ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチ
ルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウ
ムカチオン;ジ(イソプロピル)アンモニウムカチオ
ン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアル
キルアンモニウムカチオン等が挙げられる。
は、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアン
モニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオ
ン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウ
ムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-
ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチ
ルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウ
ムカチオン;ジ(イソプロピル)アンモニウムカチオ
ン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアル
キルアンモニウムカチオン等が挙げられる。
【0151】上記ホスホニウムカチオンとして具体的に
は、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ(メチル
フェニル)ホスホニウムカチオン、トリ(ジメチルフェ
ニル)ホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニ
ウムカチオン等が挙げられる。Ra としては、カルボニ
ウムカチオン、アンモニウムカチオン等が好ましく、特
にトリフェニルカルボニウムカチオン、N,N-ジメチルア
ニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオ
ンが好ましい。
は、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ(メチル
フェニル)ホスホニウムカチオン、トリ(ジメチルフェ
ニル)ホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニ
ウムカチオン等が挙げられる。Ra としては、カルボニ
ウムカチオン、アンモニウムカチオン等が好ましく、特
にトリフェニルカルボニウムカチオン、N,N-ジメチルア
ニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオ
ンが好ましい。
【0152】またイオン性化合物として、トリアルキル
置換アンモニウム塩、N,N-ジアルキルアニリニウム塩、
ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウ
ム塩等を挙げることもできる。トリアルキル置換アンモ
ニウム塩として具体的には、例えばトリエチルアンモニ
ウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリプロピルアンモニ
ウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アン
モニウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリメチルアンモ
ニウムテトラ(p-トリル)ホウ素、トリメチルアンモニ
ウムテトラ(o-トリル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アン
モニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ホウ素、ト
リプロピルアンモニウムテトラ(o,p-ジメチルフェニ
ル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラ(m,
m-ジメチルフェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アンモ
ニウムテトラ(p-トリフルオロメチルフェニル)ホウ
素、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラ(3,5-ジトリ
フルオロメチルフェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)ア
ンモニウムテトラ(o-トリル)ホウ素等が挙げられる。
置換アンモニウム塩、N,N-ジアルキルアニリニウム塩、
ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウ
ム塩等を挙げることもできる。トリアルキル置換アンモ
ニウム塩として具体的には、例えばトリエチルアンモニ
ウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリプロピルアンモニ
ウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アン
モニウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリメチルアンモ
ニウムテトラ(p-トリル)ホウ素、トリメチルアンモニ
ウムテトラ(o-トリル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アン
モニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ホウ素、ト
リプロピルアンモニウムテトラ(o,p-ジメチルフェニ
ル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラ(m,
m-ジメチルフェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アンモ
ニウムテトラ(p-トリフルオロメチルフェニル)ホウ
素、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラ(3,5-ジトリ
フルオロメチルフェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)ア
ンモニウムテトラ(o-トリル)ホウ素等が挙げられる。
【0153】N,N-ジアルキルアニリニウム塩として具体
的には、例えばN,N-ジメチルアニリニウムテトラ(フェ
ニル)ホウ素、N,N-ジエチルアニリニウムテトラ(フェ
ニル)ホウ素、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテ
トラ(フェニル)ホウ素等が挙げられる。ジアルキルア
ンモニウム塩として具体的には、例えばジ(1-プロピ
ル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ホ
ウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ(フェニ
ル)ホウ素等が挙げられる。
的には、例えばN,N-ジメチルアニリニウムテトラ(フェ
ニル)ホウ素、N,N-ジエチルアニリニウムテトラ(フェ
ニル)ホウ素、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテ
トラ(フェニル)ホウ素等が挙げられる。ジアルキルア
ンモニウム塩として具体的には、例えばジ(1-プロピ
ル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ホ
ウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ(フェニ
ル)ホウ素等が挙げられる。
【0154】さらにイオン性化合物として、トリフェニ
ルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、フェロセニウムテトラ
(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカ
ルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、
N,N-ジエチルアニリニウムペンタフェニルシクロペンタ
ジエニル錯体、下記式(XI)または(XII)で表される
ホウ素化合物等を挙げることもできる。
ルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、フェロセニウムテトラ
(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカ
ルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、
N,N-ジエチルアニリニウムペンタフェニルシクロペンタ
ジエニル錯体、下記式(XI)または(XII)で表される
ホウ素化合物等を挙げることもできる。
【0155】
【化43】
【0156】(式中、Etはエチル基を示す。)
【0157】
【化44】
【0158】ボラン化合物として具体的には、例えばデ
カボラン(14);ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム〕ノナボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム〕デカボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモ
ニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アン
モニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ(n-ブ
チル)アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレート等の
アニオンの塩;トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ド
デカハイドライドドデカボレート)コバルト酸塩(II
I)、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウム〕ビス(ドデ
カハイドライドドデカボレート)ニッケル酸塩(III)
等の金属ボランアニオンの塩等が挙げられる。
カボラン(14);ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム〕ノナボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム〕デカボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモ
ニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ(n-ブチル)アン
モニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ(n-ブ
チル)アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレート等の
アニオンの塩;トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ド
デカハイドライドドデカボレート)コバルト酸塩(II
I)、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウム〕ビス(ドデ
カハイドライドドデカボレート)ニッケル酸塩(III)
等の金属ボランアニオンの塩等が挙げられる。
【0159】カルボラン化合物として具体的には、例え
ば4-カルバノナボラン(14)、1,3-ジカルバノナボラ
ン(13)、6,9-ジカルバデカボラン(14)、ドデカ
ハイドライド-1-フェニル-1,3-ジカルバノナボラン、ド
デカハイドライド-1-メチル-1,3-ジカルバノナボラン、
ウンデカハイドライド-1,3-ジメチル-1,3-ジカルバノナ
ボラン、7,8-ジカルバウンデカボラン(13)、2,7-ジ
カルバウンデカボラン(13)、ウンデカハイドライド
-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボラン、ドデカハ
イドライド-11-メチル-2,7-ジカルバウンデカボラン、
トリ(n-ブチル)アンモニウム1-カルバデカボレート、
トリ(n-ブチル)アンモニウム1-カルバウンデカボレー
ト、トリ(n-ブチル)アンモニウム1-カルバドデカボレ
ート、トリ(n-ブチル)アンモニウム1-トリメチルシリ
ル-1-カルバデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニ
ウムブロモ-1-カルバドデカボレート、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウム6-カルバデカボレート(14)、トリ
(n-ブチル)アンモニウム6-カルバデカボレート(1
2)、トリ(n-ブチル)アンモニウム7-カルバウンデカ
ボレート(13)、トリ(n-ブチル)アンモニウム7,8-
ジカルバウンデカボレート(12)、トリ(n-ブチル)
アンモニウム2,9-ジカルバウンデカボレート(12)、
トリ(n-ブチル)アンモニウムドデカハイドライド-8-
メチル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウムウンデカハイドライド-8-エチル-7,9-
ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニ
ウムウンデカハイドライド-8-ブチル-7,9-ジカルバウン
デカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカ
ハイドライド-8-アリル-7,9-ジカルバウンデカボレー
ト、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライ
ド-9-トリメチルシリル-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライ
ド-4,6-ジブロモ-7-カルバウンデカボレート等のアニオ
ンの塩;トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ノナハイ
ドライド-1,3-ジカルバノナボレート)コバルト酸塩(I
II)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハ
イドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)鉄酸塩(I
II)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハ
イドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)コバルト
酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウン
デカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)ニ
ッケル酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス
(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト)銅酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス
(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト)金酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス
(ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデ
カボレート)鉄酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニ
ウムビス(ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカル
バウンデカボレート)クロム酸塩(III)、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウムビス(トリブロモオクタハイドライド
-7,8-ジカルバウンデカボレート)コバルト酸塩(II
I)、トリス〔トリ(n-ブチル)アンモニウム〕ビス(ウ
ンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート)クロ
ム酸塩(III)、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウム〕
ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレー
ト)マンガン酸塩(IV)、ビス〔トリ(n-ブチル)アン
モニウム〕ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウン
デカボレート)コバルト酸塩(III)、ビス〔トリ(n-ブ
チル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド-7-
カルバウンデカボレート)ニッケル酸塩(IV)等の金属
カルボランアニオンの塩等が挙げられる。
ば4-カルバノナボラン(14)、1,3-ジカルバノナボラ
ン(13)、6,9-ジカルバデカボラン(14)、ドデカ
ハイドライド-1-フェニル-1,3-ジカルバノナボラン、ド
デカハイドライド-1-メチル-1,3-ジカルバノナボラン、
ウンデカハイドライド-1,3-ジメチル-1,3-ジカルバノナ
ボラン、7,8-ジカルバウンデカボラン(13)、2,7-ジ
カルバウンデカボラン(13)、ウンデカハイドライド
-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボラン、ドデカハ
イドライド-11-メチル-2,7-ジカルバウンデカボラン、
トリ(n-ブチル)アンモニウム1-カルバデカボレート、
トリ(n-ブチル)アンモニウム1-カルバウンデカボレー
ト、トリ(n-ブチル)アンモニウム1-カルバドデカボレ
ート、トリ(n-ブチル)アンモニウム1-トリメチルシリ
ル-1-カルバデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニ
ウムブロモ-1-カルバドデカボレート、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウム6-カルバデカボレート(14)、トリ
(n-ブチル)アンモニウム6-カルバデカボレート(1
2)、トリ(n-ブチル)アンモニウム7-カルバウンデカ
ボレート(13)、トリ(n-ブチル)アンモニウム7,8-
ジカルバウンデカボレート(12)、トリ(n-ブチル)
アンモニウム2,9-ジカルバウンデカボレート(12)、
トリ(n-ブチル)アンモニウムドデカハイドライド-8-
メチル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウムウンデカハイドライド-8-エチル-7,9-
ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニ
ウムウンデカハイドライド-8-ブチル-7,9-ジカルバウン
デカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカ
ハイドライド-8-アリル-7,9-ジカルバウンデカボレー
ト、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライ
ド-9-トリメチルシリル-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライ
ド-4,6-ジブロモ-7-カルバウンデカボレート等のアニオ
ンの塩;トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ノナハイ
ドライド-1,3-ジカルバノナボレート)コバルト酸塩(I
II)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハ
イドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)鉄酸塩(I
II)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハ
イドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)コバルト
酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウン
デカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)ニ
ッケル酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス
(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト)銅酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス
(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト)金酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス
(ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデ
カボレート)鉄酸塩(III)、トリ(n-ブチル)アンモニ
ウムビス(ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカル
バウンデカボレート)クロム酸塩(III)、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウムビス(トリブロモオクタハイドライド
-7,8-ジカルバウンデカボレート)コバルト酸塩(II
I)、トリス〔トリ(n-ブチル)アンモニウム〕ビス(ウ
ンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート)クロ
ム酸塩(III)、ビス〔トリ(n-ブチル)アンモニウム〕
ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレー
ト)マンガン酸塩(IV)、ビス〔トリ(n-ブチル)アン
モニウム〕ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウン
デカボレート)コバルト酸塩(III)、ビス〔トリ(n-ブ
チル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド-7-
カルバウンデカボレート)ニッケル酸塩(IV)等の金属
カルボランアニオンの塩等が挙げられる。
【0160】ヘテロポリ化合物は、ケイ素、リン、チタ
ン、ゲルマニウム、ヒ素および錫から選ばれる原子と、
バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンか
ら選ばれる1種または2種以上の原子からなっている。
具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ
素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリ
コノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデ
ン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、錫モ
リブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステ
ン酸、錫タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リ
ンタングストバナジンン酸、ゲルマノタングストバナジ
ンン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノ
モリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングス
テン酸、リンモリブドニオブ酸、およびこれらの酸の
塩、例えば周期表第1族または2族の金属、具体的に
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セ
シウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
ロンチウム、バリウム等との塩、およびトリフェニルエ
チル塩等との有機塩が使用できる。
ン、ゲルマニウム、ヒ素および錫から選ばれる原子と、
バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンか
ら選ばれる1種または2種以上の原子からなっている。
具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ
素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリ
コノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデ
ン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、錫モ
リブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステ
ン酸、錫タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リ
ンタングストバナジンン酸、ゲルマノタングストバナジ
ンン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノ
モリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングス
テン酸、リンモリブドニオブ酸、およびこれらの酸の
塩、例えば周期表第1族または2族の金属、具体的に
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セ
シウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
ロンチウム、バリウム等との塩、およびトリフェニルエ
チル塩等との有機塩が使用できる。
【0161】上記のような(C)イオン化イオン性化合
物は、1種単独でまたは2種以上組み合せて用いられ
る。また、本発明で用いられるオレフィン重合触媒は、
(A)遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物と、
(C)イオン化イオン性化合物とともに、必要に応じて
後述するような担体(D)を含んでいてもよい。
物は、1種単独でまたは2種以上組み合せて用いられ
る。また、本発明で用いられるオレフィン重合触媒は、
(A)遷移金属化合物と、(B)有機金属化合物と、
(C)イオン化イオン性化合物とともに、必要に応じて
後述するような担体(D)を含んでいてもよい。
【0162】(D)担体 本発明で必要に応じて用いられる(D)担体は、無機ま
たは有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の
固体である。このうち無機化合物としては、多孔質酸化
物、無機塩化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層
状化合物が好ましい。多孔質酸化物として、具体的には
SiO2、Al2O3、MgO、ZrO、TiO2、B
2O3、CaO、ZnO、BaO、ThO2 等、またはこ
れらを含む複合物または混合物を使用することができ、
例えば天然または合成ゼオライト、SiO2-MgO、S
iO2-Al2O3、SiO2-TiO2、SiO2-V2O5、
SiO2-Cr2O3、SiO2-TiO2-MgO 等を使用
することができる。これらのうち、SiO2および/ま
たはAl2O3を主成分とするものが好ましい。
たは有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の
固体である。このうち無機化合物としては、多孔質酸化
物、無機塩化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層
状化合物が好ましい。多孔質酸化物として、具体的には
SiO2、Al2O3、MgO、ZrO、TiO2、B
2O3、CaO、ZnO、BaO、ThO2 等、またはこ
れらを含む複合物または混合物を使用することができ、
例えば天然または合成ゼオライト、SiO2-MgO、S
iO2-Al2O3、SiO2-TiO2、SiO2-V2O5、
SiO2-Cr2O3、SiO2-TiO2-MgO 等を使用
することができる。これらのうち、SiO2および/ま
たはAl2O3を主成分とするものが好ましい。
【0163】なお、上記無機酸化物は、少量のNa2C
O3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、
Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)2、
Al(NO3)3、Na2O、K2O、Li2O 等の炭酸塩、
硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し支え
ない。このような多孔質酸化物は、種類および製法によ
りその性状は異なるが、本発明に好ましく用いられる担
体は、粒径が10〜300μm、好ましくは20〜20
0μmであって、比表面積が50〜1000m2/g、
好ましくは100〜700m2/gの範囲にあり、細孔
容積が0.3〜3.0cm3/gの範囲にあることが望
ましい。このような担体は、必要に応じて100〜10
00℃、好ましくは150〜700℃で焼成して使用さ
れる。
O3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、
Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)2、
Al(NO3)3、Na2O、K2O、Li2O 等の炭酸塩、
硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し支え
ない。このような多孔質酸化物は、種類および製法によ
りその性状は異なるが、本発明に好ましく用いられる担
体は、粒径が10〜300μm、好ましくは20〜20
0μmであって、比表面積が50〜1000m2/g、
好ましくは100〜700m2/gの範囲にあり、細孔
容積が0.3〜3.0cm3/gの範囲にあることが望
ましい。このような担体は、必要に応じて100〜10
00℃、好ましくは150〜700℃で焼成して使用さ
れる。
【0164】無機塩化物としては、MgCl2、MgB
r2、MnCl2、MnBr2 等が用いられる。無機塩化
物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミル
により粉砕した後に用いてもよい。また、アルコール等
の溶媒に無機塩化物を溶解させた後、析出剤によって微
粒子状に析出させたものを用いることもできる。本発明
で用いられる粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成
される。また、本発明で用いられるイオン交換性層状化
合物は、イオン結合等によって構成される面が互いに弱
い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物
であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部
分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、
これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物とし
ては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用するこ
ともできる。
r2、MnCl2、MnBr2 等が用いられる。無機塩化
物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミル
により粉砕した後に用いてもよい。また、アルコール等
の溶媒に無機塩化物を溶解させた後、析出剤によって微
粒子状に析出させたものを用いることもできる。本発明
で用いられる粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成
される。また、本発明で用いられるイオン交換性層状化
合物は、イオン結合等によって構成される面が互いに弱
い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物
であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部
分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、
これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物とし
ては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用するこ
ともできる。
【0165】また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性
層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パ
ッキング型、アンチモン型、CdCl2型、CdI2型等
の層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物等を例示
することができる。このような粘土、粘土鉱物として
は、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘
土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウ
ンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョ
クデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクラ
イト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられ、イオ
ン交換性層状化合物としては、α-Zr(HAsO4)2・
H2O、α-Zr(HPO4)2、α-Zr(KPO4)2・3H2
O、α-Ti(HPO4)2、α-Ti(HAsO4)2・H
2O、α-Sn(HPO4)2・H2O、γ-Zr(HPO4)2、
γ-Ti(HPO4)2、γ-Ti(NH4PO4)2・H2O等の
多価金属の結晶性酸性塩等が挙げられる。
層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パ
ッキング型、アンチモン型、CdCl2型、CdI2型等
の層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物等を例示
することができる。このような粘土、粘土鉱物として
は、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘
土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウ
ンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョ
クデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクラ
イト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられ、イオ
ン交換性層状化合物としては、α-Zr(HAsO4)2・
H2O、α-Zr(HPO4)2、α-Zr(KPO4)2・3H2
O、α-Ti(HPO4)2、α-Ti(HAsO4)2・H
2O、α-Sn(HPO4)2・H2O、γ-Zr(HPO4)2、
γ-Ti(HPO4)2、γ-Ti(NH4PO4)2・H2O等の
多価金属の結晶性酸性塩等が挙げられる。
【0166】このような粘土、粘土鉱物またはイオン交
換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径20Å以
上の細孔容積が0.1cc/g以上のものが好ましく、
0.3〜5cc/gのものが特に好ましい。ここで、細
孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法によ
り、細孔半径20〜3×104Åの範囲について測定さ
れる。
換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径20Å以
上の細孔容積が0.1cc/g以上のものが好ましく、
0.3〜5cc/gのものが特に好ましい。ここで、細
孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法によ
り、細孔半径20〜3×104Åの範囲について測定さ
れる。
【0167】半径20Å以上の細孔容積が0.1cc/
gより小さいものを担体として用いた場合には、高い重
合活性が得られにくい傾向がある。粘土、粘土鉱物に
は、化学処理を施すことも好ましい。化学処理として
は、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘
土の結晶構造に影響を与える処理等、いずれも使用でき
る。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処
理、塩類処理、有機物処理等が挙げられる。酸処理は、
表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のAl、F
e、Mg等の陽イオンを溶出させることによって表面積
を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊
され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理、
有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導
体等を形成し、表面積や層間距離を変えることができ
る。
gより小さいものを担体として用いた場合には、高い重
合活性が得られにくい傾向がある。粘土、粘土鉱物に
は、化学処理を施すことも好ましい。化学処理として
は、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘
土の結晶構造に影響を与える処理等、いずれも使用でき
る。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処
理、塩類処理、有機物処理等が挙げられる。酸処理は、
表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のAl、F
e、Mg等の陽イオンを溶出させることによって表面積
を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊
され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理、
有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導
体等を形成し、表面積や層間距離を変えることができ
る。
【0168】イオン交換性層状化合物は、イオン交換性
を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオ
ンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化
合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状
構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラー
と呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の
物質を導入することをインターカレーションという。イ
ンターカレーションするゲスト化合物としては、TiC
l4、ZrCl4 等の陽イオン性無機化合物、Ti(O
R)4、Zr(OR)4、PO(OR)3、B(OR)3 等の金属
アルコキシド(Rは炭化水素基等)、[Al13O4(OH)
24]7+、[Zr4(OH)14]2+、[Fe3O(OCOCH3)6]+
等の金属水酸化物イオン等が挙げられる。これらの化
合物は単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
また、これらの化合物をインターカレーションする際
に、Si(OR)4、Al(OR)3、Ge(OR)4 等の金属
アルコキシド(Rは炭化水素基等)等を加水分解して得
た重合物、SiO2 等のコロイド状無機化合物等を共存
させることもできる。また、ピラーとしては、上記金属
水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に
加熱脱水することにより生成する酸化物等が挙げられ
る。
を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオ
ンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化
合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状
構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラー
と呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の
物質を導入することをインターカレーションという。イ
ンターカレーションするゲスト化合物としては、TiC
l4、ZrCl4 等の陽イオン性無機化合物、Ti(O
R)4、Zr(OR)4、PO(OR)3、B(OR)3 等の金属
アルコキシド(Rは炭化水素基等)、[Al13O4(OH)
24]7+、[Zr4(OH)14]2+、[Fe3O(OCOCH3)6]+
等の金属水酸化物イオン等が挙げられる。これらの化
合物は単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
また、これらの化合物をインターカレーションする際
に、Si(OR)4、Al(OR)3、Ge(OR)4 等の金属
アルコキシド(Rは炭化水素基等)等を加水分解して得
た重合物、SiO2 等のコロイド状無機化合物等を共存
させることもできる。また、ピラーとしては、上記金属
水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に
加熱脱水することにより生成する酸化物等が挙げられ
る。
【0169】粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物
は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分
け等の処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水
を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いて
もよい。さらに、単独で用いても、2種以上を組み合わ
せて用いてもよい。これらのうち、好ましいものは粘土
または粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロ
ナイト、バーミキュライト、ペクトライト、テニオライ
トおよび合成雲母である。
は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分
け等の処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水
を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いて
もよい。さらに、単独で用いても、2種以上を組み合わ
せて用いてもよい。これらのうち、好ましいものは粘土
または粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロ
ナイト、バーミキュライト、ペクトライト、テニオライ
トおよび合成雲母である。
【0170】有機化合物としては、粒径が10〜300
μmの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げる
ことができる。具体的には、エチレン、プロピレン、1-
ブテン、4-メチル-1-ペンテン等の炭素原子数が2〜1
4のα-オレフィンを主成分として生成される(共)重
合体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分と
して生成される(共)重合体、およびそれらの変成体を
例示することができる。
μmの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げる
ことができる。具体的には、エチレン、プロピレン、1-
ブテン、4-メチル-1-ペンテン等の炭素原子数が2〜1
4のα-オレフィンを主成分として生成される(共)重
合体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分と
して生成される(共)重合体、およびそれらの変成体を
例示することができる。
【0171】(E)有機化合物成分 本発明において(E)有機化合物成分は、重合性能およ
び生成ポリマーの物性を向上させる目的で必要に応じて
使用される。このような有機化合物としては、アルコー
ル類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物お
よびスルホン酸塩等が挙げられる。
び生成ポリマーの物性を向上させる目的で必要に応じて
使用される。このような有機化合物としては、アルコー
ル類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物お
よびスルホン酸塩等が挙げられる。
【0172】アルコール類およびフェノール性化合物と
しては、通常、Rf−OHで表されるものが使用され、
ここで、Rfは炭素原子数1〜50の炭化水素基または
炭素原子数1〜50のハロゲン化炭化水素基を示す。ア
ルコール類としては、Rfがハロゲン化炭化水素のもの
が好ましい。また、フェノール性化合物としては、水酸
基のα,α'-位が炭素原子数1〜20の炭化水素で置換
されたものが好ましい。
しては、通常、Rf−OHで表されるものが使用され、
ここで、Rfは炭素原子数1〜50の炭化水素基または
炭素原子数1〜50のハロゲン化炭化水素基を示す。ア
ルコール類としては、Rfがハロゲン化炭化水素のもの
が好ましい。また、フェノール性化合物としては、水酸
基のα,α'-位が炭素原子数1〜20の炭化水素で置換
されたものが好ましい。
【0173】カルボン酸としては、通常、Rg−COO
Hで表されるものが使用される。Rgは炭素原子数1〜
50の炭化水素基または炭素原子数1〜50のハロゲン
化炭化水素基を示し、特に炭素原子数1〜50のハロゲ
ン化炭化水素基が好ましい。リン化合物としては、P−
O−H結合を有するリン酸類、P−OR、P=O結合を
有するホスフェート、ホスフィンオキシド化合物が好ま
しく挙げられる。スルホン酸塩としては、下記一般式
(XIII)で表されるものが挙げられる。
Hで表されるものが使用される。Rgは炭素原子数1〜
50の炭化水素基または炭素原子数1〜50のハロゲン
化炭化水素基を示し、特に炭素原子数1〜50のハロゲ
ン化炭化水素基が好ましい。リン化合物としては、P−
O−H結合を有するリン酸類、P−OR、P=O結合を
有するホスフェート、ホスフィンオキシド化合物が好ま
しく挙げられる。スルホン酸塩としては、下記一般式
(XIII)で表されるものが挙げられる。
【0174】
【化45】
【0175】式中、Mは周期表第1〜14族の元素であ
る。Rhは水素原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基
または炭素原子数1〜20のハロゲン化炭化水素基であ
る。Xは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20
の炭化水素基、炭素原子数1〜20のハロゲン化炭化水
素基である。mは1〜7の整数であり、nは1≦n≦7
である。
る。Rhは水素原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基
または炭素原子数1〜20のハロゲン化炭化水素基であ
る。Xは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20
の炭化水素基、炭素原子数1〜20のハロゲン化炭化水
素基である。mは1〜7の整数であり、nは1≦n≦7
である。
【0176】オレフィンの重合方法 本発明では上記遷移金属化合物(A)と、有機金属化合
物(B)と、イオン化イオン性化合物(C)とからなる
オレフィン重合触媒の存在下にオレフィンを重合するに
際し、予め上記遷移金属化合物(A)と有機金属化合物
(B)とを、オレフィンが実質的に存在しない状態で接
触させた後、オレフィン重合触媒とオレフィンとを接触
させる。
物(B)と、イオン化イオン性化合物(C)とからなる
オレフィン重合触媒の存在下にオレフィンを重合するに
際し、予め上記遷移金属化合物(A)と有機金属化合物
(B)とを、オレフィンが実質的に存在しない状態で接
触させた後、オレフィン重合触媒とオレフィンとを接触
させる。
【0177】ここでオレフィンが実質的に存在しない状
態とは、オレフィンが上記遷移金属化合物(A)に対
し、等量以上存在しない状態を意味する。図1に、本発
明で用いられるオレフィン重合触媒の調製方法の一例を
示す。遷移金属化合物(A)と有機金属化合物(B)と
の接触は、通常溶液状態で行われる。具体的には、例え
ば成分(A)を飽和炭化水素または芳香族炭化水素に溶
解または懸濁させた溶液または懸濁液と、成分(B)と
接触させる。成分(A)が懸濁状態の場合、均一な溶液
になるまで攪拌等を行う。
態とは、オレフィンが上記遷移金属化合物(A)に対
し、等量以上存在しない状態を意味する。図1に、本発
明で用いられるオレフィン重合触媒の調製方法の一例を
示す。遷移金属化合物(A)と有機金属化合物(B)と
の接触は、通常溶液状態で行われる。具体的には、例え
ば成分(A)を飽和炭化水素または芳香族炭化水素に溶
解または懸濁させた溶液または懸濁液と、成分(B)と
接触させる。成分(A)が懸濁状態の場合、均一な溶液
になるまで攪拌等を行う。
【0178】接触させる順序は、成分(A)を含む溶液
または懸濁液に成分(B)を加えても、成分(B)に成
分(A)を含む溶液または懸濁液を加えてもよい。成分
(A)と成分(B)との接触は、−78℃〜100℃、
好ましくは0℃〜80℃の温度で行う。接触時間は、通
常30秒〜20時間、好ましくは1分〜10時間、特に
好ましくは1分〜5時間である。
または懸濁液に成分(B)を加えても、成分(B)に成
分(A)を含む溶液または懸濁液を加えてもよい。成分
(A)と成分(B)との接触は、−78℃〜100℃、
好ましくは0℃〜80℃の温度で行う。接触時間は、通
常30秒〜20時間、好ましくは1分〜10時間、特に
好ましくは1分〜5時間である。
【0179】成分(A)と成分(B)とを接触させると
きの両成分の量比は、成分(A)中の遷移金属原子
(M)と成分(B)とのモル比〔(B)/M〕で、通常
0.1〜100000、好ましくは1.0〜1000
0、特に好ましくは2.0〜5000の範囲である。本
発明においては、上記のようにオレフィン重合触媒を形
成する触媒成分のうち少なくとも成分(A)と成分
(B)とをオレフィンが実質的に存在しない状態で接触
させるが、このとき成分(C)を共に接触させてもよ
い。また成分(A)および成分(B)のうち一方の成分
を成分(D)に担持した後、他方の成分と接触させても
よい。
きの両成分の量比は、成分(A)中の遷移金属原子
(M)と成分(B)とのモル比〔(B)/M〕で、通常
0.1〜100000、好ましくは1.0〜1000
0、特に好ましくは2.0〜5000の範囲である。本
発明においては、上記のようにオレフィン重合触媒を形
成する触媒成分のうち少なくとも成分(A)と成分
(B)とをオレフィンが実質的に存在しない状態で接触
させるが、このとき成分(C)を共に接触させてもよ
い。また成分(A)および成分(B)のうち一方の成分
を成分(D)に担持した後、他方の成分と接触させても
よい。
【0180】成分(A)、成分(B)および成分(C)
を接触させる場合は、成分(A)と成分(B)とを接触
させた後に、成分(A)と成分(B)との接触物と、成
分(C)とを接触させることが好ましい。成分(C)
は、飽和炭化水素、芳香族炭化水素またはハロゲン化炭
化水素に溶解または懸濁させた状態で、成分(A)と成
分(B)との接触物と接触させることが好ましい。
を接触させる場合は、成分(A)と成分(B)とを接触
させた後に、成分(A)と成分(B)との接触物と、成
分(C)とを接触させることが好ましい。成分(C)
は、飽和炭化水素、芳香族炭化水素またはハロゲン化炭
化水素に溶解または懸濁させた状態で、成分(A)と成
分(B)との接触物と接触させることが好ましい。
【0181】成分(A)と成分(B)の接触物と、成分
(C)との接触温度は、−78℃〜100℃、好ましく
は0℃〜80℃であり、接触時間は通常10秒〜5時
間、好ましくは1分〜2.5時間、特に好ましくは1分
〜1時間である。成分(A)と成分(B)の接触物と、
成分(C)とを接触させる際の成分(C)と該接触物と
の量比は、成分(C)と該接触物中の成分(A)の遷移
金属原子(M)とのモル比((C)/M)で、通常1〜
10、好ましくは1〜5の範囲である。
(C)との接触温度は、−78℃〜100℃、好ましく
は0℃〜80℃であり、接触時間は通常10秒〜5時
間、好ましくは1分〜2.5時間、特に好ましくは1分
〜1時間である。成分(A)と成分(B)の接触物と、
成分(C)とを接触させる際の成分(C)と該接触物と
の量比は、成分(C)と該接触物中の成分(A)の遷移
金属原子(M)とのモル比((C)/M)で、通常1〜
10、好ましくは1〜5の範囲である。
【0182】上記のように接触させた成分(A)と成分
(B)との接触物、または成分(A)と成分(B)と成
分(C)との接触物は、このままオレフィンが存在する
反応器へフィードしてもよく、該接触物をオレフィンと
ともに反応器にフィードしてもよい。また、成分(A)
と成分(B)との接触物、または成分(A)と成分
(B)と成分(C)との接触物は、成分(D)に担持さ
れていてもよい。
(B)との接触物、または成分(A)と成分(B)と成
分(C)との接触物は、このままオレフィンが存在する
反応器へフィードしてもよく、該接触物をオレフィンと
ともに反応器にフィードしてもよい。また、成分(A)
と成分(B)との接触物、または成分(A)と成分
(B)と成分(C)との接触物は、成分(D)に担持さ
れていてもよい。
【0183】なお上記のように成分(A)と接触させた
成分(B)とは別に、重合系の水分、不純物を不活性化
すること等を目的として、上記成分(B)と同一または
異なる有機金属化合物(B)を別途反応器に加えること
ができる。重合の際には、成分(A)、成分(B)、成
分(C)またはこれらの接触物は、以下のような方法で
反応器に添加される。 (1)成分(A)と成分(B)との接触物および成分
(C)を任意の順序で反応器に添加する方法。 (2)成分(A)と成分(B)との接触物、成分(B)
および成分(C)を任意の順序で反応器に添加する方
法。この場合、成分(B)は、同じでも異なっていても
よい。 (3)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触物
を反応器に添加する方法。 (4)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触物
および成分(B)を任意の順序で反応器に添加する方
法。この場合、成分(B)は、同じでも異なっていても
よい。 (5)成分(A)と成分(B)との接触物を担体(D)
に担持した触媒成分および成分(C)を任意の順序で反
応器に添加する方法。 (6)成分(A)を担体(D)に担持した触媒成分と成
分(B)との接触物および成分(C)を任意の順序で反
応器に添加する方法。 (7)成分(A)を担体(D)に担持した触媒成分と成
分(B)との接触物、成分(B)および成分(C)を任
意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分
(B)は、同じでも異なっていてもよい。 (8)成分(A)と成分(B)との接触物、成分(C)
を担体(D)に担持した触媒成分を任意の順序で反応器
に添加する方法。 (9)成分(A)と成分(B)との接触物、成分(C)
を担体(D)に担持した触媒成分、および成分(B)を
任意の順序で反応器に添加する方法。 (10)成分(A)と成分(B)との接触物を担体
(D)に担持した触媒成分、成分(B)および成分
(C)を任意の順序で反応器に添加する方法。この場
合、成分(B)は、同じでも異なっていてもよい。 (11)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触
物を担体(D)に担持した触媒成分を反応器に添加する
方法。 (12)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触
物を担体(D)に担持した触媒成分および成分(C)を
任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分
(B)は、同じでも異なっていてもよい。
成分(B)とは別に、重合系の水分、不純物を不活性化
すること等を目的として、上記成分(B)と同一または
異なる有機金属化合物(B)を別途反応器に加えること
ができる。重合の際には、成分(A)、成分(B)、成
分(C)またはこれらの接触物は、以下のような方法で
反応器に添加される。 (1)成分(A)と成分(B)との接触物および成分
(C)を任意の順序で反応器に添加する方法。 (2)成分(A)と成分(B)との接触物、成分(B)
および成分(C)を任意の順序で反応器に添加する方
法。この場合、成分(B)は、同じでも異なっていても
よい。 (3)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触物
を反応器に添加する方法。 (4)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触物
および成分(B)を任意の順序で反応器に添加する方
法。この場合、成分(B)は、同じでも異なっていても
よい。 (5)成分(A)と成分(B)との接触物を担体(D)
に担持した触媒成分および成分(C)を任意の順序で反
応器に添加する方法。 (6)成分(A)を担体(D)に担持した触媒成分と成
分(B)との接触物および成分(C)を任意の順序で反
応器に添加する方法。 (7)成分(A)を担体(D)に担持した触媒成分と成
分(B)との接触物、成分(B)および成分(C)を任
意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分
(B)は、同じでも異なっていてもよい。 (8)成分(A)と成分(B)との接触物、成分(C)
を担体(D)に担持した触媒成分を任意の順序で反応器
に添加する方法。 (9)成分(A)と成分(B)との接触物、成分(C)
を担体(D)に担持した触媒成分、および成分(B)を
任意の順序で反応器に添加する方法。 (10)成分(A)と成分(B)との接触物を担体
(D)に担持した触媒成分、成分(B)および成分
(C)を任意の順序で反応器に添加する方法。この場
合、成分(B)は、同じでも異なっていてもよい。 (11)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触
物を担体(D)に担持した触媒成分を反応器に添加する
方法。 (12)成分(A)と成分(B)と成分(C)との接触
物を担体(D)に担持した触媒成分および成分(C)を
任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分
(B)は、同じでも異なっていてもよい。
【0184】上記それぞれの重合方法において、上記
(E)有機化合物成分は、任意の時点で添加することが
できる。(5)、(10)〜(12)の添加方法におい
て、成分(A)と成分(B)との接触物等を担体(D)
に担持した触媒成分は、オレフィンで予備重合されてい
てもよい。
(E)有機化合物成分は、任意の時点で添加することが
できる。(5)、(10)〜(12)の添加方法におい
て、成分(A)と成分(B)との接触物等を担体(D)
に担持した触媒成分は、オレフィンで予備重合されてい
てもよい。
【0185】上記オレフィン重合触媒の存在下にオレフ
ィンを重合するに際して、成分(A)は反応容積1リッ
トル当たり、通常10-12〜10-2モル、好ましくは1
0-10〜10-3モルとなるような量で用いられる。本発
明では、成分(A)を、比較的薄い濃度で用いた場合で
あっても、高い重合活性でオレフィンを重合することが
できる。
ィンを重合するに際して、成分(A)は反応容積1リッ
トル当たり、通常10-12〜10-2モル、好ましくは1
0-10〜10-3モルとなるような量で用いられる。本発
明では、成分(A)を、比較的薄い濃度で用いた場合で
あっても、高い重合活性でオレフィンを重合することが
できる。
【0186】成分(B)は、成分(A)中の遷移金属原
子(M)とのモル比((B)/M)が、通常0.1〜1
00000、好ましくは0.5〜50000、特に好ま
しくは1.0〜10000となるような量で用いられ
る。成分(C)は、成分(C)と成分(A)中の遷移金
属原子(M)とのモル比((C)/M)が、通常1〜1
0、好ましくは1〜5となるような量で用いられる。
子(M)とのモル比((B)/M)が、通常0.1〜1
00000、好ましくは0.5〜50000、特に好ま
しくは1.0〜10000となるような量で用いられ
る。成分(C)は、成分(C)と成分(A)中の遷移金
属原子(M)とのモル比((C)/M)が、通常1〜1
0、好ましくは1〜5となるような量で用いられる。
【0187】成分(E)は成分(B)に対して、モル比
((E)/(B))が通常0.01〜10、好ましくは
0.1〜5となるような量で用いられる。本発明では、
重合は溶解重合、懸濁重合等の液相重合法または気相重
合法のいずれにおいても実施できる。液相重合法におい
て用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プ
ロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、デカン、ドデカン、灯油等の脂肪族炭化水素;シ
クロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン
等の脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素;エチレンクロリド、クロルベンゼ
ン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素またはこれ
らの混合物等を挙げることができ、オレフィン自身を重
合溶媒として用いることもできる。
((E)/(B))が通常0.01〜10、好ましくは
0.1〜5となるような量で用いられる。本発明では、
重合は溶解重合、懸濁重合等の液相重合法または気相重
合法のいずれにおいても実施できる。液相重合法におい
て用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プ
ロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、デカン、ドデカン、灯油等の脂肪族炭化水素;シ
クロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン
等の脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素;エチレンクロリド、クロルベンゼ
ン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素またはこれ
らの混合物等を挙げることができ、オレフィン自身を重
合溶媒として用いることもできる。
【0188】また、このようなオレフィン重合触媒を用
いたオレフィンの重合温度は、通常−50〜+200
℃、好ましくは0〜170℃の範囲である。重合圧力
は、通常常圧〜9.8MPa(常圧〜100kg/cm
2)、好ましくは常圧〜4.9MPa(常圧〜50kg
/cm2)の条件下であり、重合反応は、回分式、半連
続式、連続式のいずれの方法においても行うことができ
る。さらに重合を反応条件の異なる2段以上に分けて行
うことも可能である。
いたオレフィンの重合温度は、通常−50〜+200
℃、好ましくは0〜170℃の範囲である。重合圧力
は、通常常圧〜9.8MPa(常圧〜100kg/cm
2)、好ましくは常圧〜4.9MPa(常圧〜50kg
/cm2)の条件下であり、重合反応は、回分式、半連
続式、連続式のいずれの方法においても行うことができ
る。さらに重合を反応条件の異なる2段以上に分けて行
うことも可能である。
【0189】得られるオレフィン重合体の分子量は、重
合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させ
ることによって調節することができる。さらに、使用す
る成分(A)の量により調節することもできる。本発明
の方法により重合することができるオレフィンとして
は、炭素原子数2〜30、好ましくは2〜20の直鎖状
または分岐状のα-オレフィン、例えばエチレン、プロ
ピレン、1-ブテン、2-ブテン、1-ペンテン、3-メチル-1
-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル
-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-
テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エ
イコセン;炭素原子数3〜30、好ましくは3〜20の
環状オレフィン、例えばシクロペンテン、シクロヘプテ
ン、ノルボルネン、5-メチル-2-ノルボルネン、テトラ
シクロドデセン、2-メチル1,4,5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4
a,5,8,8a-オクタヒドロナフタレン;極性モノマー、例
えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、ビシクロ(2,2,
1)-5-ヘプテン-2,3-ジカルボン酸無水物等のα,β-不飽
和カルボン酸、およびこれらのナトリウム塩、カリウム
塩、リチウム塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム
塩等の金属塩;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、アク
リル酸n-ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸 t
ert-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル
酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピ
ル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n-ブチ
ル、メタクリル酸イソブチル等のα,β-不飽和カルボン
酸エステル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロ
ン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ス
テアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニル等のビニル
エステル類;アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリ
シジル、イタコン酸モノグリシジルエステル等の不飽和
グリシジル、塩化ビニル等が挙げられる。また、ビニル
シクロヘキサン、ジエン、ポリエン等を用いることもで
きる。
合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させ
ることによって調節することができる。さらに、使用す
る成分(A)の量により調節することもできる。本発明
の方法により重合することができるオレフィンとして
は、炭素原子数2〜30、好ましくは2〜20の直鎖状
または分岐状のα-オレフィン、例えばエチレン、プロ
ピレン、1-ブテン、2-ブテン、1-ペンテン、3-メチル-1
-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル
-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-
テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エ
イコセン;炭素原子数3〜30、好ましくは3〜20の
環状オレフィン、例えばシクロペンテン、シクロヘプテ
ン、ノルボルネン、5-メチル-2-ノルボルネン、テトラ
シクロドデセン、2-メチル1,4,5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4
a,5,8,8a-オクタヒドロナフタレン;極性モノマー、例
えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、ビシクロ(2,2,
1)-5-ヘプテン-2,3-ジカルボン酸無水物等のα,β-不飽
和カルボン酸、およびこれらのナトリウム塩、カリウム
塩、リチウム塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム
塩等の金属塩;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、アク
リル酸n-ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸 t
ert-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル
酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピ
ル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n-ブチ
ル、メタクリル酸イソブチル等のα,β-不飽和カルボン
酸エステル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロ
ン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ス
テアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニル等のビニル
エステル類;アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリ
シジル、イタコン酸モノグリシジルエステル等の不飽和
グリシジル、塩化ビニル等が挙げられる。また、ビニル
シクロヘキサン、ジエン、ポリエン等を用いることもで
きる。
【0190】ジエンまたはポリエンとしては、炭素原子
数4〜30、好ましくは4〜20であり二個以上の二重
結合を有する環状または鎖状の化合物が用いられる。具
体的には、ブタジエン、イソプレン、4-メチル-1,3-ペ
ンタジエン、1,3-ペンタジエン、1,4-ペンタジエン、1,
5-ヘキサジエン、1,4-ヘキサジエン、1,3-ヘキサジエ
ン、1,3-オクタジエン、1,4-オクタジエン、1,5-オクタ
ジエン、1,6-オクタジエン、1,7-オクタジエン、エチリ
デンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペン
タジエン;7-メチル-1,6-オクタジエン、4-エチリデン-
8- メチル-1,7-ノナジエン、5,9-ジメチル-1,4,8-デカ
トリエン、4,8-ジメチル-1,4,8-デカトリエン;さらに
芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、o-メチルスチレ
ン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o,p-ジメチ
ルスチレン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、p-
エチルスチレン等のモノまたはポリアルキルスチレン;
メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息香
酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテー
ト、ヒドロキシスチレン、o-クロロスチレン、p-クロロ
スチレン、ジビニルベンゼン等の官能基含有スチレン誘
導体;および3-フェニルプロピレン、4-フェニルプロピ
レン、α-メチルスチレン等が挙げられる。これらのオ
レフィンは、単独であるいは2種以上組み合わせて用い
ることができる。
数4〜30、好ましくは4〜20であり二個以上の二重
結合を有する環状または鎖状の化合物が用いられる。具
体的には、ブタジエン、イソプレン、4-メチル-1,3-ペ
ンタジエン、1,3-ペンタジエン、1,4-ペンタジエン、1,
5-ヘキサジエン、1,4-ヘキサジエン、1,3-ヘキサジエ
ン、1,3-オクタジエン、1,4-オクタジエン、1,5-オクタ
ジエン、1,6-オクタジエン、1,7-オクタジエン、エチリ
デンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペン
タジエン;7-メチル-1,6-オクタジエン、4-エチリデン-
8- メチル-1,7-ノナジエン、5,9-ジメチル-1,4,8-デカ
トリエン、4,8-ジメチル-1,4,8-デカトリエン;さらに
芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、o-メチルスチレ
ン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o,p-ジメチ
ルスチレン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、p-
エチルスチレン等のモノまたはポリアルキルスチレン;
メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息香
酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテー
ト、ヒドロキシスチレン、o-クロロスチレン、p-クロロ
スチレン、ジビニルベンゼン等の官能基含有スチレン誘
導体;および3-フェニルプロピレン、4-フェニルプロピ
レン、α-メチルスチレン等が挙げられる。これらのオ
レフィンは、単独であるいは2種以上組み合わせて用い
ることができる。
【0191】本発明に係るオレフィンの重合方法は、高
い重合活性を示し、また分子量分布の狭い重合体を得る
ことができる。さらに、2種以上のオレフィンを共重合
したときに、組成分布が狭いオレフィン共重合体を得る
ことができる。
い重合活性を示し、また分子量分布の狭い重合体を得る
ことができる。さらに、2種以上のオレフィンを共重合
したときに、組成分布が狭いオレフィン共重合体を得る
ことができる。
【0192】
【発明の効果】本発明に係るオレフィンの重合方法によ
れば、良好な重合活性で分子量が非常に高く、分子量分
布、組成分布の狭いオレフィン重合体を製造することが
できる。
れば、良好な重合活性で分子量が非常に高く、分子量分
布、組成分布の狭いオレフィン重合体を製造することが
できる。
【0193】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。なお、本実施例において、極限粘度([η])
は、135℃、デカリン中で測定した。
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。なお、本実施例において、極限粘度([η])
は、135℃、デカリン中で測定した。
【0194】
【実施例1】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入し、エチレ
ン100リットル/hrで液相および気相を飽和させ
た。その後、トリイソブチルアルミニウムを0.05m
molを加えて攪拌して25℃に維持しておいた。
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入し、エチレ
ン100リットル/hrで液相および気相を飽和させ
た。その後、トリイソブチルアルミニウムを0.05m
molを加えて攪拌して25℃に維持しておいた。
【0195】一方25mlガラス製容器に下記化合物1
のトルエン溶液(0.0005mmol/リットル)を
5ml(0.0025mmol)、トリイソブチルアル
ミニウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後、トリ
フェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート0.005mmolを加えてさらに5分
間攪拌し、そのまま全量を重合器に加えて重合を開始し
た。
のトルエン溶液(0.0005mmol/リットル)を
5ml(0.0025mmol)、トリイソブチルアル
ミニウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後、トリ
フェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート0.005mmolを加えてさらに5分
間攪拌し、そのまま全量を重合器に加えて重合を開始し
た。
【0196】常圧のエチレンガス雰囲気下、25℃で1
0分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加す
ることにより重合を停止した。得られたポリマー溶液
を、少量の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に
加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、8
0℃にて10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレン
は、43mgであり、重合活性は103kg/mol-
Zr・hrであり、極限粘度[η]は23.2dl/g
であった。
0分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加す
ることにより重合を停止した。得られたポリマー溶液
を、少量の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に
加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、8
0℃にて10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレン
は、43mgであり、重合活性は103kg/mol-
Zr・hrであり、極限粘度[η]は23.2dl/g
であった。
【0197】
【化46】
【0198】
【比較例1】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入しエチレン
100リットル/hrで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを0.0
5mmol、次いで化合物1を0.0025mmol、
トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート0.005mmolを順次加えて重
合を開始した。
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入しエチレン
100リットル/hrで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを0.0
5mmol、次いで化合物1を0.0025mmol、
トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート0.005mmolを順次加えて重
合を開始した。
【0199】常圧のエチレンガス雰囲気下、25℃で1
0分間反応させた。重合終了後、反応物を大量のメタノ
ールに投入してポリマーを全量析出させた後、塩酸を加
えてグラスフィルターで濾過した。ポリマーを80℃に
て10時間減圧乾燥した後、ポリエチレンを22mg得
た。重合活性は53kg/mol-Zr・hrであり、
極限粘度[η]は4.20dl/gであった。
0分間反応させた。重合終了後、反応物を大量のメタノ
ールに投入してポリマーを全量析出させた後、塩酸を加
えてグラスフィルターで濾過した。ポリマーを80℃に
て10時間減圧乾燥した後、ポリエチレンを22mg得
た。重合活性は53kg/mol-Zr・hrであり、
極限粘度[η]は4.20dl/gであった。
【0200】
【実施例2】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入し、エチレ
ン50リットル/hr、プロピレン150リットル/h
rで液相および気相を飽和させた。その後、トリイソブ
チルアルミニウムを0.05mmolを加えて攪拌して
50℃に維持しておいた。
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入し、エチレ
ン50リットル/hr、プロピレン150リットル/h
rで液相および気相を飽和させた。その後、トリイソブ
チルアルミニウムを0.05mmolを加えて攪拌して
50℃に維持しておいた。
【0201】一方25mlガラス製容器に化合物1のト
ルエン溶液(0.0005mmol/リットル)を5m
l(0.0025mmol)、トリイソブチルアルミニ
ウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後、トリフェ
ニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート0.005mmolを加えてさらに5分間
攪拌し、そのまま全量を重合器に加えて重合を開始し
た。
ルエン溶液(0.0005mmol/リットル)を5m
l(0.0025mmol)、トリイソブチルアルミニ
ウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後、トリフェ
ニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート0.005mmolを加えてさらに5分間
攪拌し、そのまま全量を重合器に加えて重合を開始し
た。
【0202】上記混合ガス雰囲気下、50℃で10分間
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたエチレン・プロピレン
共重合体は、18mgであり、重合活性は43kg/m
ol−Zr・hrであり、極限粘度[η]は13.7d
l/g、ポリマー中のプロピレン含量は19.5mol
%であった。
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたエチレン・プロピレン
共重合体は、18mgであり、重合活性は43kg/m
ol−Zr・hrであり、極限粘度[η]は13.7d
l/g、ポリマー中のプロピレン含量は19.5mol
%であった。
【0203】
【比較例2】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン50リットル/hr、プロピレン150リ
ットル/hrの混合ガスで液相および気相を飽和させ
た。その後、メチルアルミノキサンをアルミニウム原子
換算で1.25mmol、化合物1を0.0025mm
ol加え、共重合を開始した。25℃で10分間共重合
を行った後、少量のイソブタノールを添加することによ
り重合を停止した。
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン50リットル/hr、プロピレン150リ
ットル/hrの混合ガスで液相および気相を飽和させ
た。その後、メチルアルミノキサンをアルミニウム原子
換算で1.25mmol、化合物1を0.0025mm
ol加え、共重合を開始した。25℃で10分間共重合
を行った後、少量のイソブタノールを添加することによ
り重合を停止した。
【0204】得られたポリマー懸濁液を、少量の塩酸を
含む1.5リットルのメタノール中に加えてポリマーを
析出させた。グラスフィルターでろ過して溶媒を除いた
後、メタノールで洗浄し、130℃にて10時間減圧乾
燥した。得られたエチレン・プロピレン共重合体は、1
3mgであり、重合活性は31kg/mmol−Zr・
hrであり、プロピレン含量は14.2mol%であ
り、極限粘度[η]は2.53dl/gであった。
含む1.5リットルのメタノール中に加えてポリマーを
析出させた。グラスフィルターでろ過して溶媒を除いた
後、メタノールで洗浄し、130℃にて10時間減圧乾
燥した。得られたエチレン・プロピレン共重合体は、1
3mgであり、重合活性は31kg/mmol−Zr・
hrであり、プロピレン含量は14.2mol%であ
り、極限粘度[η]は2.53dl/gであった。
【0205】
【実施例3】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン100リットル/hrで液相および気相を
飽和させて、トリイソブチルアルミニウムを0.25m
mol加え、25℃に維持した。
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン100リットル/hrで液相および気相を
飽和させて、トリイソブチルアルミニウムを0.25m
mol加え、25℃に維持した。
【0206】一方25mlガラス製容器に下記化合物2
のトルエン溶液(0.001mmol/リットル)2.
5ml(0.0025mmol)、トリイソブチルアル
ミニウムを0.05mmolを加え10分間攪拌後重合
系に添加した。引き続いてトリフェニルカルベニウムテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.00
5mmolを重合系に加えて重合を開始した。
のトルエン溶液(0.001mmol/リットル)2.
5ml(0.0025mmol)、トリイソブチルアル
ミニウムを0.05mmolを加え10分間攪拌後重合
系に添加した。引き続いてトリフェニルカルベニウムテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.00
5mmolを重合系に加えて重合を開始した。
【0207】エチレンガス雰囲気下、25℃で10分間
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、88
mgであり、重合活性は211kg/mol-Zr・h
rであり、極限粘度[η]は18.5dl/gあった。
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、88
mgであり、重合活性は211kg/mol-Zr・h
rであり、極限粘度[η]は18.5dl/gあった。
【0208】
【化47】
【0209】
【実施例4】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン50リットル/hr、プロピレン150リ
ットル/hrの混合ガスで液相および気相を飽和させて
トリイソブチルアルミニウムを0.25mmol加え、
25℃に維持した。
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン50リットル/hr、プロピレン150リ
ットル/hrの混合ガスで液相および気相を飽和させて
トリイソブチルアルミニウムを0.25mmol加え、
25℃に維持した。
【0210】一方25mlガラス製容器に化合物2のト
ルエン溶液(0.001mmol/リットル)2.5m
l(0.0025mmol)、トリイソブチルアルミニ
ウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後トリフェニ
ルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート0.005mmolを加え10分間攪拌した。
こうして調製した触媒溶液を重合器に添加して重合を開
始した。
ルエン溶液(0.001mmol/リットル)2.5m
l(0.0025mmol)、トリイソブチルアルミニ
ウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後トリフェニ
ルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート0.005mmolを加え10分間攪拌した。
こうして調製した触媒溶液を重合器に添加して重合を開
始した。
【0211】上記混合ガス雰囲気下、25℃で10分間
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、130℃に
て10時間減圧乾燥した。得られたエチレン/プロピレ
ン共重合体は、46mgであり、重合活性は110kg
/mol−Zr・hrであり、極限粘度[η]は20.
4dl/g、ポリマー中のプロピレン含量は20.4m
ol%であった。
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、130℃に
て10時間減圧乾燥した。得られたエチレン/プロピレ
ン共重合体は、46mgであり、重合活性は110kg
/mol−Zr・hrであり、極限粘度[η]は20.
4dl/g、ポリマー中のプロピレン含量は20.4m
ol%であった。
【0212】
【比較例3】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入しエチレン
100リットル/hrで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを0.0
5mmol、次いで化合物2のトルエン溶液(0.00
1mmol/リットル)2.5ml(0.0025mm
ol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレート0.005mmolを順次
反応器に加えて重合を開始した。
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入しエチレン
100リットル/hrで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを0.0
5mmol、次いで化合物2のトルエン溶液(0.00
1mmol/リットル)2.5ml(0.0025mm
ol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレート0.005mmolを順次
反応器に加えて重合を開始した。
【0213】エチレンガス雰囲気下、25℃で10分間
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、63
mgであり、重合活性は151kg/mol-Zr・h
rであり、極限粘度[η]は9.51dl/gであっ
た。
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、63
mgであり、重合活性は151kg/mol-Zr・h
rであり、極限粘度[η]は9.51dl/gであっ
た。
【0214】
【比較例4】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入し、エチレ
ン50リットル/hr、プロピレン150リットル/h
rの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、
メチルアルミノキサンをアルミニウム原子換算で1.2
5mmol、化合物2を0.0025mmol加え、共
重合を開始した。25℃で10分間共重合を行った後、
少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止
した。
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入し、エチレ
ン50リットル/hr、プロピレン150リットル/h
rの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、
メチルアルミノキサンをアルミニウム原子換算で1.2
5mmol、化合物2を0.0025mmol加え、共
重合を開始した。25℃で10分間共重合を行った後、
少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止
した。
【0215】得られたポリマー溶液を、少量の塩酸を含
む1.5リットルの水溶液で洗浄した。溶媒を減圧下で
留去した後、130℃にて10時間減圧乾燥した。得ら
れたエチレン・プロピレン共重合体は46mgであり、
重合活性は110kg/mol−Ti・hrであり、I
Rにより測定したプロピレン含量は18.5モル%であ
り、極限粘度[η]は7.50dl/gであった。
む1.5リットルの水溶液で洗浄した。溶媒を減圧下で
留去した後、130℃にて10時間減圧乾燥した。得ら
れたエチレン・プロピレン共重合体は46mgであり、
重合活性は110kg/mol−Ti・hrであり、I
Rにより測定したプロピレン含量は18.5モル%であ
り、極限粘度[η]は7.50dl/gであった。
【0216】
【実施例5】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン100リットル/hrで液相および気相を
飽和させて、トリイソブチルアルミニウムを0.05m
mol加え、25℃に維持した。
ラス製オートクレーブに、トルエン250mlを装入
し、エチレン100リットル/hrで液相および気相を
飽和させて、トリイソブチルアルミニウムを0.05m
mol加え、25℃に維持した。
【0217】一方25mlガラス製容器に化合物3のト
ルエン溶液(0.001mmol/リットル)2.5m
l(0.0025mmol)、トリイソブチルアルミニ
ウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後重合系に添
加した。引き続いてトリフェニルカルベニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.005mm
olを重合系に加えて重合を開始した。
ルエン溶液(0.001mmol/リットル)2.5m
l(0.0025mmol)、トリイソブチルアルミニ
ウムを0.05mmolを加え5分間攪拌後重合系に添
加した。引き続いてトリフェニルカルベニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.005mm
olを重合系に加えて重合を開始した。
【0218】エチレンガス雰囲気下、25℃で5分間重
合を行った後、少量のイソブタノールを添加することに
より重合を停止した。得られたポリマー懸濁液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、37
1mgであり、重合活性は890kg/mol−Zr・
hrであり、極限粘度[η]は25.5dl/gあっ
た。
合を行った後、少量のイソブタノールを添加することに
より重合を停止した。得られたポリマー懸濁液を、少量
の塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて
10時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、37
1mgであり、重合活性は890kg/mol−Zr・
hrであり、極限粘度[η]は25.5dl/gあっ
た。
【0219】
【化48】
【0220】
【比較例5】充分に窒素置換した内容積500mlのガ
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入しエチレン
100リットル/hrで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを0.2
5mmol、次いで化合物3のトルエン溶液(0.00
1mmol/リットル)2.5ml(0.0025mm
ol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレート0.005mmolを順次
反応器に加えて重合を開始した。
ラス製反応器に、トルエン250mlを装入しエチレン
100リットル/hrで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを0.2
5mmol、次いで化合物3のトルエン溶液(0.00
1mmol/リットル)2.5ml(0.0025mm
ol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレート0.005mmolを順次
反応器に加えて重合を開始した。
【0221】エチレンガス雰囲気下、25℃10分間重
合を行った後、少量のイソブタノールを添加することに
より重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量の
塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポリ
マーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて1
0時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、100
mgであり、重合活性は240kg/mol−Zr・h
rであり、極限粘度[η]は14.4dl/gであっ
た。
合を行った後、少量のイソブタノールを添加することに
より重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量の
塩酸を含む1.5リットルのメタノール中に加えてポリ
マーを析出させた。メタノールで洗浄後、80℃にて1
0時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、100
mgであり、重合活性は240kg/mol−Zr・h
rであり、極限粘度[η]は14.4dl/gであっ
た。
【図1】本発明で用いられるオレフィン重合触媒の調製
工程の一例を示す説明図である。
工程の一例を示す説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石 井 聖 一 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 三 谷 誠 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 藤 田 照 典 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 Fターム(参考) 4J028 AA01A AB00A AB01A AC02A AC22A AC31A AC32A AC41A AC42A AC44A AC45A AC46A AC47A BA00A BA02B BB00A BB00B BB01B BC05B BC06B BC13B BC15B BC16B BC17B BC19B BC24B CA15C CA16C CA25C CA27C CA28C CA29C EB02 EB03 EB04 EB05 EB07 EB08 EB13 EB14 EB15 EB18 EB21 EB22 EB25 4J128 AA01 AB00 AB01 AC02 AC22 AC31 AC32 AC41 AC42 AC44 AC45 AC46 AC47 BA00A BA02B BB00A BB00B BB01B BC05B BC06B BC13B BC15B BC16B BC17B BC19B BC24B CA15C CA16C CA25C CA27C CA28C CA29C EB02 EB03 EB04 EB05 EB07 EB08 EB13 EB14 EB15 EB18 EB21 EB22 EB25
Claims (4)
- 【請求項1】(A)遷移金属化合物と、(B)有機金属
化合物と、(C)遷移金属化合物(A)と反応してイオ
ン対を形成する化合物とからなるオレフィン重合触媒の
存在下にオレフィンを重合または共重合させるに際し
て、予め上記遷移金属化合物(A)と有機金属化合物
(B)とを実質的にオレフィンが存在しない状態で接触
させた後、上記オレフィン重合触媒とオレフィンを接触
させることを特徴とするオレフィンの重合方法。 - 【請求項2】遷移金属化合物(A)が下記一般式(I)
で表される請求項1に記載のオレフィンの重合方法; 【化1】 (式中、M1は、周期表第3〜11族から選ばれる遷移
金属原子を示し、 m1は1〜6の整数を示し、 Aは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、また
は置換基−R5を有する窒素原子を示し、 Dは、−C(R6)(R7)−、−Si(R8)(R9)−、−P
(O)(R10)−、−P(R1 1)−、−SO−または−S−を
示し、 Zは、いずれもNに結合する−R12および−R13、=C
(R14)R15または=NR16を示し、 R1〜R16は、互いに同一でも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素
含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘ
テロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基またはスズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が
互いに結合して環を形成していてもよく、また、m1が
2以上の場合にはいずれか一つの配位子に含まれるR1
〜R16のうちの1個の基と、他の配位子に含まれるR1
〜R16のうちの1個の基とが連結されていてもよく、 n1は、M1の価数を満たす数であり、 X1は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含
有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン
含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、
ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示し、n1が2以上の場合は、X1で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX1で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。)。 - 【請求項3】遷移金属化合物(A)が下記一般式(II
a)または(IIb)で表される請求項1に記載のオレフィ
ンの重合方法; 【化2】 (式中、M2は周期表第3〜11族から選ばれる遷移金
属原子を示し、 m2aは1〜3の整数、m2bは1〜6の整数を示し、 Eは、窒素原子または−C(R21)=を示し、 Gは、酸素原子、イオウ原子もしくはセレン原子、また
は置換基−R22を有する窒素原子を示し、 R17〜R22は、互いに同一でも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素
含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘ
テロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基またはスズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が
互いに結合して環を形成していてもよく、また、m2aが
2以上の場合にはいずれか一つの配位子に含まれるR17
〜R22のうちの1個の基と、他の配位子に含まれるR17
〜R22のうちの1個の基とが連結されていてもよく、m
2bが2以上の場合にはいずれか一つの配位子に含まれる
R17〜R19、R21、R22のうちの1個の基と、他の配位
子に含まれるR17〜R19、R 21、R22のうちの1個の基
とが連結されていてもよく、 n2は、M2の価数を満たす数であり、 X2は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含
有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン
含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、
ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示し、n2が2以上の場合は、X2で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX2で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。)。 - 【請求項4】遷移金属化合物(A)が下記一般式(II
I)で表される請求項1に記載のオレフィンの重合方
法; 【化3】 (上式中、M3は周期表第3〜11族から選ばれる遷移
金属原子を示し、 m3は1〜6の整数を示し、 Uは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−R24
を有する炭素原子を示し、 Tは、窒素原子またはリン原子を示し、 Jは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−R25
を有する炭素原子を示し、 Lは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−R26
を有する炭素原子を示し、 Qは、窒素原子もしくはリン原子、または置換基−R27
を有する炭素原子を示し、 R23〜R27は、互いに同一でも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素
含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ヘ
テロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基またはスズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が
互いに結合して環を形成していてもよく、また、m3が
2以上の場合にはいずれか一つの配位子に含まれるR23
〜R27のうちの1個の基と、他の配位子に含まれるR23
〜R27のうちの1個の基とが連結されていてもよく、 n3は、M3の価数を満たす数であり、 X3は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含
有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン
含有基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基、
ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基ま
たはスズ含有基を示し、n3が2以上の場合は、X3で示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またX3で示される複数の基は互いに結合して環を形成
してもよい。)。
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