JP2000119313A - オレフィンの重合方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】優れた重合活性を示し、分子量分布および組成
分布の狭い（共）重合体が得られるオレフィンの重合方
法を提供すること。 【解決手段】オレフィン重合用触媒は、（Ａ）下記式の
遷移金属化合物、（Ｂ）有機金属化合物および（Ｃ）イ
オン化イオン性化合物からなる触媒の存在下にオレフィ
ンを（共）重合するに際して、予め（Ａ）と（Ｂ）とを
オレフィンが実質的に存在しない状態で接触させる。式
中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属；ｍは１〜６；
Ｒ¹ は炭化水素基など；Ｒ² 〜Ｒ⁵ はＨ、ハロゲン、炭
化水素基など；Ｒ⁶はハロゲン、炭化水素基など；ｎは
Ｍの価数を満たす数；Ｘはハロゲン、炭化水素基などで
ある。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィンの重合
方法に関し、さらに詳しくは、特定の遷移金属化合物
と、有機金属化合物と、前記遷移金属化合物と反応して
イオン対を形成する化合物からなる触媒を用いてオレフ
ィンを重合または共重合させるオレフィンの重合方法に
関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】従来からエチレン重合体、エチレ
ン・α−オレフィン共重合体などのオレフィン重合体を
製造するための触媒として、チタン化合物と有機アルミ
ニウム化合物とからなるチタン系触媒、およびバナジウ
ム化合物と有機アルミニウム化合物とからなるバナジウ
ム系触媒が知られている。

【０００３】また、高い重合活性でオレフィン重合体を
製造することのできる触媒としてジルコノセンなどのメ
タロセン化合物と有機アルミニウムオキシ化合物（アル
ミノキサン）とからなるチーグラー型触媒が知られてい
る。

【０００４】さらに最近新しいオレフィン重合触媒とし
て、本願出願人は特願平１０−１３２７０６号として、
下記一般式で表されるサリチルアルドイミン配位子を有
する遷移金属化合物を提案した。この錯体は、高いオレ
フィン重合活性を示す。

【０００５】

【化２】

【０００６】しかしながら該遷移金属化合物と、有機金
属化合物と、該遷移金属化合物と反応してイオン対を形
成する化合物とからなるオレフィン重合用触媒は、高い
重合活性を示すものの、分子量の高いポリマーを得にく
いという欠点がある。

【０００７】このような状況のもと本発明者らが鋭意検
討した結果、サリチルアルドイミン配位子を有する遷移
金属化合物と、有機金属化合物と、該遷移金属化合物と
反応してイオン対を形成する化合物とからなるオレフィ
ン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合するに際し
て、前記遷移金属化合物と有機金属化合物とを実質的に
オレフィンが存在しない状態で接触させた後、前記オレ
フィン重合用触媒とオレフィンとを接触させると高い重
合活性でオレフィン重合体が得られることを見出して本
発明を完成するに至った。

【０００８】

【発明の目的】本発明は、サリチルアルドイミン配位子
を有する遷移金属化合物を用いて重合するに際し、高い
重合活性で、分子量分布および組成分布が狭く、高分子
量のオレフィン（共）重合体を生成する方法を提供する
ことを目的としている。

【０００９】

【発明の概要】本発明に係るオレフィン重合方法は、
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物と、
（Ｂ）有機金属化合物と、（Ｃ）遷移金属化合物（Ａ）
と反応してイオン対を形成する化合物とからなるオレフ
ィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合または共重
合させるのに際して、予め上記遷移金属化合物（Ａ）と
有機金属化合物（Ｂ）とを実質的にオレフィンが存在し
な状態で接触させた後、前記オレフィン重合用触媒とオ
レフィンとを接触させることを特徴としている；

【００１０】

【化３】

【００１１】（式中、Ｍは周期表第３〜１１族から選ば
れる遷移金属原子を示し、ｍは、１〜６の整数を示し、
Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基
またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互
いに連結して環を形成していてもよく、また、ｍが２以
上の場合にはＲ¹〜Ｒ⁶で示される基のうち２個の基が連
結されていてもよく、ｎは、Ｍの価数を満たす数であ
り、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素
含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、ア
ルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテ
ロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基
またはスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示
される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、
またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成し
てもよい。）

【００１２】

【発明の具体的な説明】以下、本発明におけるオレフィ
ンの重合方法について具体的に説明する。なお、本明細
書において「重合」という語は、単独重合だけでなく、
共重合をも包含した意味で用いられることがあり、「重
合体」という語は、単独重合体だけでなく、共重合体を
も包含した意味で用いられることがある。

【００１３】本発明に係るオレフィンの重合方法は、
（Ａ）一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物と、
（Ｂ）有機金属化合物と、（Ｃ）遷移金属化合物（Ａ）
と反応してイオン対を形成する化合物とからなるオレフ
ィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合または共重
合させる。まず、本発明のオレフィン重合用触媒を形成
する各触媒成分について説明する。

【００１４】（Ａ）遷移金属化合物 本発明で用いられる（Ａ）遷移金属化合物は、下記一般
式（Ｉ）で表される化合物である。

【００１５】

【化４】

【００１６】（なお、Ｎ……Ｍは、一般的には配位して
いることを示すが、本発明においては配位していてもし
ていなくてもよい。） 一般式（Ｉ）中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原
子（３族にはランタノイドも含まれる）を示し、好まし
くは３〜９族（３族にはランタノイドも含まれる）の金
属原子であり、より好ましくは３〜５族および９族の金
属原子であり、特に好ましくは４族または５族の金属原
子である。具体的には、スカンジウム、チタン、ジルコ
ニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
コバルト、ロジウム、イットリウム、クロム、モリブデ
ン、タングステン、マンガン、レニウム、鉄、ルテニウ
ムなどであり、好ましくはスカンジウム、チタン、ジル
コニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、コバルト、ロジウムなどであり、より好ましくは、
チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウ
ム、バナジウム、ニオブ、タンタルなどであり、特に好
ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウムである。

【００１７】ｍは、１〜６、好ましくは１〜４の整数を
示す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式
化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、
イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウ
ム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個
以上が互いに連結して環を形成していてもよい。

【００１８】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基として具体的に
は、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、イソブチル、sec-ブチル、 tert-ブチル、ネオペ
ンチル、n-ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ま
しくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビ
ニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜
３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアル
ケニル基；エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が２
〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のア
ルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子
数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素
基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル
などの炭素数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；フェニ
ル、ベンジル、ナフチル、ビフェニリル、ターフェニ
ル、フェナントリル、アントリルなどの炭素原子数が６
〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；トリル、is
o-プロピルフェニル、t-ブチルフェニル、ジメチルフェ
ニル、ジ-t-ブチルフェニルなどのアルキル置換アリー
ル基などが挙げられる。

【００１９】上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで
置換されていてもよく、たとえば、トリフルオロメチ
ル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭
素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭
化水素基が挙げられる。

【００２０】また、上記炭化水素基は、他の炭化水素基
で置換されていてもよく、たとえば、ベンジル、クミル
などのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。さ
らにまた、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；
アルコシキ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル
基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒド
ロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸
素含有基；アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、
ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、
シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジ
ノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったも
のなどの窒素含有基；ボランジイル基、ボラントリイル
基、ジボラニル基などのホウ素含有基；メルカプト基、
チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオ
シアン酸エステル基、イソチアン酸エステル基、スルホ
ンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル
基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、
スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基；
ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホス
ファト基などのリン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウ
ム含有基またはスズ含有基を有していてもよい。

【００２１】これらのうち、特に、メチル、エチル、n-
プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-
ブチル、t-ブチル、ネオペンチル、n-ヘキシルなどの炭
素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または
分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチル、ビフェニリ
ル、ターフェニル、フェナントリル、アントリルなどの
炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール
基；これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１
〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコ
キシ基、炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のア
リール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個
置換した置換アリール基などが好ましい。

【００２２】酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、
イオウ含有基、リン含有基としては、上記例示したもの
と同様のものが挙げられる。ヘテロ環式化合物残基とし
ては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、ト
リアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含
酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残
基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数
が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコ
キシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられ
る。

【００２３】ケイ素含有基としては、シリル基、シロキ
シ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基
など、具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、ト
リメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリ
エチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニル
シリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチル
シリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルな
どが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメ
チルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチ
ルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリ
ル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジ
メチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキ
シ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げ
られる。

【００２４】ゲルマニウム含有基およびスズ含有基とし
ては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよび
スズに置換したものが挙げられる。次に上記で説明した
Ｒ¹〜Ｒ⁶の例について、より具体的に説明する。

【００２５】酸素含有基のうち、アルコキシ基として
は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキ
シ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシなど
が、アリーロキシ基としては、フェノキシ、2,6-ジメチ
ルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシなどが、ア
シル基としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル
基、ｐ−クロロベンゾイル基、p-メトキシベンソイル基
などが、エステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾ
イルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカッルボ
ニル、p-クロロフェノキシカルボニルなどが好ましく例
示される。

【００２６】窒素含有基のうち、アミド基としては、ア
セトアミド、N-メチルアセトアミド、N-メチルベンズア
ミドなどが、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチ
ルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが、イミド基と
しては、アセトイミド、ベンズイミドなどが、イミノ基
としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミ
ノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが好ましく例示
される。

【００２７】イオウ含有基のうち、アルキルチオ基とし
ては、メチルチオ、エチルチオ等が、アリールチオ基と
しては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナルチル
チオ等が、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベ
ンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカ
ルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホ
ン酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニルな
どが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンア
ミド、N-メチルスルホンアミド、N-メチル-p-トルエン
スルホンアミドなどが好ましく挙げられる。

【００２８】なお、Ｒ⁶ は水素以外の置換基であること
が好ましい。すなわち、Ｒ⁶ はハロゲン原子、炭化水素
基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、ホウ素含有
基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基
またはスズ含有基が好ましい。特にＲ⁶ は、ハロゲン原
子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換
シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシ
ル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、アミノ
基、イミド基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホ
ンアミド基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシ基で
あることが好ましく、さらにハロゲン原子、炭化水素
基、炭化水素置換シリル基であることが好ましい。

【００２９】Ｒ⁶ として好ましい炭化水素基としては、
メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチ
ル、イソブチル、sec-ブチル、 tert-ブチル、ネオペン
チル、n-ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好まし
くは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好
ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベ
ンジル、ナフチル、ビフェニリル、トリフェニリルなど
の炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリー
ル基；および、これらの基に炭素原子数が１〜３０、好
ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭
素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化
アルキル基、炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２
０のアリール基またはアリーロキシ基、ハロゲン、シア
ノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置
換した基などが好ましく挙げられる。

【００３０】Ｒ⁶ として好ましい炭化水素置換シリル基
としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチル
シリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシ
リル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、
ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、
ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げ
られる。特に好ましくは、トリメチルシリル、トリエチ
ルフェニル、ジフェニルメチルシリル、イソフェニルシ
リル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシ
リル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリルなどが
挙げられる。

【００３１】本発明では、Ｒ⁶ としては特に、イソプロ
ピル、イソブチル、sec-ブチル、 tert-ブチル、ネオペ
ンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２
０の分岐状アルキル基、およびこれらの基の水素原子を
炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール
基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２
０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好
ましく、あるいはフェニル、ナフチル、フルオレニル、
アントリル、フェナントリルなどの炭素原子数６〜３
０、好ましくは６〜２０のアリール基、または炭化水素
置換シリル基であることも好ましい。

【００３２】Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ は、これらのうちの２個以上の
基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳
香環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を
形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有し
ていてもよい。

【００３３】また、ｍが２以上の場合には、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶
で示される基のうち２個の基が連結されていてもよい。
さらに、ｍが２以上の場合にはＲ¹ 同士、Ｒ² 同士、Ｒ
³ 同士、Ｒ⁴ 同士、Ｒ⁵ 同士、Ｒ⁶同士は、互いに同一
でも異なっていてもよい。

【００３４】ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、具体的
には０〜５、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３
の整数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水
素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含
有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニ
ウム含有基、またはスズ含有基を示す。なお、ｎが２以
上の場合には、互いに同一であっても、異なっていても
よい。

【００３５】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基としては、前記Ｒ
¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられる。具体
的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシ
ル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのア
ルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボル
ニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシク
ロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル
などのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェ
ニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、ト
リル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチル
フェニル、プロピルフェニル、ビフェニリル、ナフチ
ル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなど
のアリール基などが挙げられるが、これらに限定される
ものではない。また、これらの炭化水素基には、ハロゲ
ン化炭化水素、具体的には炭素原子数１〜２０の炭化水
素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基も
含まれる。

【００３６】これらのうち、炭素原子数が１〜２０のも
のが好ましい。ヘテロ環式化合物残基としては、前記Ｒ
¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられる。

【００３７】酸素含有基としては、前記Ｒ¹〜Ｒ⁶で例示
したものと同様のものが挙げられ、具体的には、ヒドロ
キシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシな
どのアルコシキ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジ
メチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；
フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールア
ルコキシ基；アセトキシ基；カルボニル基などが挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【００３８】イオウ含有基としては、前記Ｒ¹〜Ｒ⁶で例
示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、メチ
ルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネー
ト、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネー
ト、p-トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンス
ルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネー
ト、p-クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロ
ベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチ
ルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジル
スルフィネート、p-トルエンスルフィネート、トリメチ
ルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンス
ルフィネートなどのスルフィネート基；アルキルチオ
基；アリールチオ基などが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。

【００３９】窒素含有基として具体的には、前記Ｒ¹〜
Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的に
は、アミノ基；メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシク
ロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基；フェニルア
ミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチル
アミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基
またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられるが、
これらに限定されるものではない。

【００４０】ホウ素含有基として具体的には、ＢＲ
₄（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリ
ール基、ハロゲン原子等を示す）が挙げられる。リン含
有基として具体的には、トリメチルホスフィン、トリブ
チルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどの
トリアルキルホスフィン基；トリフェニルホスフィン、
トリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン
基；メチルホスファイト、エチルホスファイト、フェニ
ルホスファイトなどのホスファイト基（ホスフィド
基）；ホスホン酸基；ホスフィン酸基などが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。

【００４１】ケイ素含有基として具体的には、前記Ｒ¹
〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的
には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメチル
シリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリ
シクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチルジ
フェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリ
ルなどの炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエー
テルなどの炭化水素置換シリルエーテル基；トリメチル
シリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチル
シリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げ
られる。

【００４２】ゲルマニウム含有基として具体的には、前
記Ｒ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具
体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに
置換した基が挙げられる。

【００４３】スズ含有基として具体的には、前記Ｒ¹〜
Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、より具体
的には、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基
が挙げられる。

【００４４】ハロゲン含有基として具体的には、Ｐ
Ｆ₆、ＢＦ₄などのフッ素含有基、ＣlＯ₄、ＳbＣl₆など
の塩素含有基、ＩＯ₄などのヨウ素含有基が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。

【００４５】アルミニウム含有基として具体的には、Ａ
lＲ₄（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいア
リール基、ハロゲン原子等を示す）が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。

【００４６】なお、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される
複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸ
で示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよ
い。このような一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物
としては、下記一般式（I-a）で表されるようなＲ¹同士
が結合していない化合物がある。

【００４７】

【化５】

【００４８】（式中、Ｍは周期表第３〜１１族から選ば
れる遷移金属原子を示し、ｍは、１〜６の整数を示し、
Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残
基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有
基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上
が互いに連結して環を形成していてもよく、また、ｍが
２以上の場合にはＲ¹〜Ｒ⁶で示される基のうち２個の基
が連結されていてもよく（但し、Ｒ¹同士が結合される
ことはない。）、 ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、
窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン
含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ
素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示
し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互い
に同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数
の基は互いに結合して環を形成してもよい。） 式（I-a）中、Ｍ、ｍ、Ｒ¹〜Ｒ⁶、ｎおよびＸは、前記
式（Ｉ）と同義である。

【００４９】前記一般式（I-a）で表される遷移金属化
合物において、ｍが２であり、Ｒ¹〜Ｒ⁶ で示される基
のうち２個の基（但し、Ｒ¹ 同士を除く）が連結されて
いる化合物は、たとえば下記一般式（I-a'）で表される
化合物である。

【００５０】

【化６】

【００５１】式（I-a'）中、Ｍ、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ 、Ｘは、そ
れぞれ前記一般式（Ｉ）の場合と同じであり、Ｒ¹¹〜Ｒ
¹⁶はＲ¹ 〜Ｒ⁶ と同じである。Ｍ、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ 、Ｒ¹¹〜
Ｒ¹⁶およびＸとして、特に好ましくは以下のような基が
挙げられる。

【００５２】Ｒ¹〜Ｒ⁶ 、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶は、互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化
水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素
含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基などを示
す。Ｒ¹〜Ｒ⁶ 、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶のうちの２個以上の基、好
ましくは隣接する基は互いに連結して脂肪族環、芳香族
環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形
成していてもよい。

【００５３】Ｙ' は、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ から選ばれる少なくと
も１つ以上の基と、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶から選ばれる少なくとも
１つ以上の基とを結合する（ただし、Ｒ¹ とＲ¹¹とが結
合する場合を除く。）結合基または単結合である。

【００５４】Ｙ' で示される結合基としては、酸素、イ
オウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズ、ホウ
素などの中から選ばれる少なくとも１種の元素を含む基
が挙げられ、具体的には−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｅ−など
のカルコゲン原子含有基；−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃)
₂ −、−ＰＨ−、−Ｐ（ＣＨ₃)₂ −などの窒素またはリ
ン原子含有基；−ＣＨ₂ −、−ＣＨ₂ −ＣＨ₂ −、−Ｃ
（ＣＨ₃)₂ −などの炭素原子数が１〜２０の炭化水素
基；ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなどの炭素原
子数が６〜２０の環状不飽和炭化水素残基；ピリジン、
キノリン、チオフェン、フランなどのヘテロ原子を含む
炭素原子数が３〜２０のヘテロ環式化合物残基；−Ｓｉ
Ｈ₂−、−Ｓi(ＣＨ₃)₂ −などのケイ素原子含有基、−
ＳｎＨ₂ −、−Ｓn(ＣＨ₃)₂ −などのスズ原子含有基；
−ＢＨ−、−Ｂ（ＣＨ₃)−、−ＢＦ−などのホウ素原子
含有基など、あるいは単結合が挙げられる。

【００５５】以下に、上記一般式（Ｉ）で表される遷移
金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定される
ものではない。なお、下記具体例においてＭは遷移金属
元素であり、個々には、Ｓｃ(III) 、Ｔｉ(III) 、Ｔｉ
(IV)、Ｚｒ(III) 、Ｚｒ(IV)、Ｈｆ(IV)、Ｖ(IV)、Ｎｂ
(V) 、Ｔａ(V) 、Ｃｏ(II)、Ｃｏ(III) 、Ｒｈ(II)、Ｒ
ｈ(III) 、Ｒｈ(IV)を示すが、これらに限定されるもの
ではない。これらのなかでは特に、Ｔｉ(IV) 、Ｚｒ(I
V) 、Ｈｆ(IV)が好ましい。

【００５６】Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン、もしくは
メチル等のアルキル基を示すが、これらに限定されるも
のではない。また、Ｘが複数ある場合は、これらは同じ
であっても、異なっていても良い。

【００５７】ｎは金属Ｍの価数により決定される。例え
ば、２種のモノアニオン種が金属に結合している場合、
２価金属ではｎ＝０、３価金属ではｎ＝１、４価金属で
はｎ＝２、５価金属ではｎ＝３になる。たとえば金属が
Ｔｉ（IV）の場合はｎ＝２であり、Ｚｒ（IV）の場合は
ｎ＝２であり、Ｈｆ（IV）の場合はｎ＝２である。

【００５８】

【化７】

【００５９】

【化８】

【００６０】

【化９】

【００６１】

【化１０】

【００６２】

【化１１】

【００６３】

【化１２】

【００６４】

【化１３】

【００６５】

【化１４】

【００６６】

【化１５】

【００６７】

【化１６】

【００６８】

【化１７】

【００６９】

【化１８】

【００７０】

【化１９】

【００７１】

【化２０】

【００７２】

【化２１】

【００７３】

【化２２】

【００７４】

【化２３】

【００７５】

【化２４】

【００７６】

【化２５】

【００７７】

【化２６】

【００７８】なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔ
はエチル基、ｉＰｒはi-プロピル基、ｔＢｕはtert- ブ
チル基、Ｐｈはフェニル基を示す。さらにＴｉを中心金
属とする場合についてより具体的に例示すると、以下の
ようなものが挙げられる。また、これらの化合物におい
てチタンをジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたは
ロジウムに置き換えた化合物も挙げられる。

【００７９】

【化２７】

【００８０】

【化２８】

【００８１】

【化２９】

【００８２】

【化３０】

【００８３】

【化３１】

【００８４】

【化３２】

【００８５】

【化３３】

【００８６】

【化３４】

【００８７】

【化３５】

【００８８】

【化３６】

【００８９】

【化３７】

【００９０】また、一般式（Ｉ）で表される遷移金属化
合物としては、下記一般式(Ｉ-b)で表されるような一般
式（Ｉ）においてｍが２であり、２個のＲ¹同士が結合
している化合物がある。

【００９１】

【化３８】

【００９２】（式中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金
属原子を示し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なって
いてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘ
テロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素
含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲ
ルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのう
ちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよ
く、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原
子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含
有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有
基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残
基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含
有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の
基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示さ
れる複数の基は互いに結合して環を形成してもよく、Ｙ
は、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレ
ン、スズおよびホウ素からなる群より選ばれた少なくと
も１種の元素を含む２価の結合基を示し、炭化水素基で
ある場合には炭素原子３個以上からなる基である。

【００９３】一般式（Ｉ-b）において、Ｒ⁶またはＲ¹⁰
の少なくとも一方、特に両方が、ハロゲン原子、炭化水
素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素
含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基である
ことが好ましい。

【００９４】一般式（Ｉ-b）において、Ｍ、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰
およびＸとしては、一般式（Ｉ）の化合物について挙げ
たＭ、Ｒ¹〜Ｒ⁶およびＸと同じ基を用いることができ
る。Ｘとしては、特に、ハロゲン原子、炭素原子数が１
〜２０の炭化水素基またはスルホネート基が好ましい。
ｎが２以上の場合、２個以上のＸが互いに連結して形成
する環は、芳香族環であっても、脂肪族環であってもよ
い。

【００９５】Ｙは、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、
ケイ素、セレン、スズおよびホウ素からなる群より選ば
れた少なくとも１種の元素を含む２価の結合基を示し、
炭化水素基である場合には炭素原子３個以上からなる結
合基である。

【００９６】これらの結合基Ｙは、好ましくは主鎖が原
子３個以上、より好ましくは４個以上２０個以下、特に
好ましくは４個以上１０個以下で構成された構造を有す
る。なお、これらの結合基は置換基を有していてもよ
い。

【００９７】２価の結合基（Ｙ）として具体的には、−
Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｅ−などのカルコゲン原子；−ＮＨ
−、−Ｎ（ＣＨ₃)−、−ＰＨ−、−Ｐ（ＣＨ₃)−などの
窒素またはリン原子含有基；−ＳｉＨ₂−、−Ｓｉ（Ｃ
Ｈ₃)₂−などのケイ素原子含有基；−ＳｎＨ₂−、−Ｓｎ
（ＣＨ₃)₂−などのスズ原子含有基；−ＢＨ−、−Ｂ
（ＣＨ₃)−、−ＢＦ−などのホウ素原子含有基などが挙
げられる。炭化水素基としては−（ＣＨ₂)₄−、−（Ｃ
Ｈ₂)₅−、−（ＣＨ₂)₆−などの炭素原子数が３〜２０の
飽和炭化水素基、シクロヘキシリデン基、シクロヘキシ
レン基などの環状飽和炭化水素基、これらの飽和炭化水
素基の一部が１〜１０個の炭化水素基、フッ素、塩素、
臭素などのハロゲン、酸素、イオウ、窒素、リン、ケイ
素、セレン、スズ、ホウ素などのヘテロ原子で置換され
た基、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなどの炭素
原子数が６〜２０の環状炭化水素の残基、ピリジン、キ
ノリン、チオフェン、フランなどのヘテロ原子を含む炭
素原子数が３〜２０の環状化合物の残基などが挙げられ
る。

【００９８】以下に、上記一般式（Ｉ-b）で表される遷
移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定され
るものではない。

【００９９】

【化３９】

【０１００】

【化４０】

【０１０１】なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示
し、Ｐｈはフェニル基を示し、ｔＢｕはtert-ブチル基
を示す。本発明では、上記のような化合物において、チ
タン金属をジルコニウム、ハフニウムなどのチタン以外
の金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもでき
る。

【０１０２】このような遷移金属化合物（Ａ）の製造方
法は、特に限定されることなく、たとえば以下のように
して製造することができる。

【０１０３】まず、遷移金属化合物（Ａ）を構成する配
位子は、サリチルアルデヒド類化合物を、式Ｒ¹ −ＮＨ
₂ の第１級アミン類化合物（Ｒ¹ は前記一般式（Ｉ）中
のＲ ¹ と同義である。）、例えばアニリン類化合物また
はアルキルアミン類化合物と反応させることにより得ら
れる。具体的には、両方の出発化合物を溶媒に溶解す
る。溶媒としては、このような反応に一般的なものを使
用できるが、なかでもメタノール、エタノール等のアル
コール溶媒、またはトルエン等の炭化水素溶媒が好まし
い。次いで、得られた溶液を室温から還流条件で、約１
〜４８時間撹拌すると、対応する配位子が良好な収率で
得られる。

【０１０４】配位子化合物を合成する際、触媒として、
蟻酸、酢酸、トルエンスルホン酸等の酸触媒を用いても
よい。また、脱水剤として、モレキュラシーブス、硫酸
マグネシウムまたは硫酸ナトリウムを用いたり、ディー
ンシュタークにより脱水を行うと、反応進行に効果的で
ある。

【０１０５】次に、こうして得られた配位子を遷移金属
Ｍ含有化合物と反応させることで、対応する遷移金属化
合物を合成することができる。具体的には、合成した配
位子を溶媒に溶解し、必要に応じて塩基と接触させてフ
ェノキサイド塩を調製した後、金属ハロゲン化物、金属
アルキル化物等の金属化合物と低温下で混合し、−７８
℃から室温、もしくは還流条件下で、約１〜４８時間撹
拌する。溶媒としては、このような反応に普通のものを
使用できるが、なかでもエーテル、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）等の極性溶媒、トルエン等の炭化水素溶媒な
どが好ましく使用される。また、フェノキサイド塩を調
製する際に使用する塩基としては、n-ブチルリチウム等
のリチウム塩、水素化ナトリウム等のナトリウム塩等の
金属塩や、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が
好ましいが、この限りではない。

【０１０６】また、化合物の性質によっては、フェノキ
サイド塩調製を経由せず、配位子と金属化合物とを直接
反応させることで、対応する遷移金属化合物を合成する
こともできる。

【０１０７】さらに、合成した遷移金属化合物中の金属
Ｍを、常法により別の遷移金属と交換することも可能で
ある。また、例えば前記一般式（Ｉ）中のＲ¹ 〜Ｒ⁶ の
何れかがＨである場合には、合成の任意の段階におい
て、Ｈ以外の置換基を導入することができる。

【０１０８】以上のような遷移金属化合物（Ａ）は、１
種単独または２種以上組み合わせて用いられる。また、
上記遷移金属化合物（Ａ）以外の他の遷移金属化合物、
例えば窒素、酸素、イオウ、ホウ素またはリンなどのヘ
テロ原子を含有する配位子からなる公知の遷移金属化合
物と組み合わせて用いることもできる。

【０１０９】他の遷移金属化合物 上記遷移金属化合物（Ａ）以外の他の遷移金属化合物と
して、具体的には、下記のような遷移金属化合物が挙げ
られるが、この限りではない。 (a-1)下記式で表される遷移金属イミド化合物(Ｉ-c)

【０１１０】

【化４１】

【０１１１】式中、Ｍは、周期表第８〜１０族から選ば
れる遷移金属原子を示し、好ましくはニッケル、パラジ
ウムまたは白金である。Ｒ²¹〜Ｒ²⁴は、互いに同一でも
異なっていてもよく、炭素原子数１〜５０の炭化水素
基、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基、炭化
水素置換シリル基または窒素、酸素、リン、イオウおよ
びケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換
基で置換された炭化水素基を示す。

【０１１２】Ｒ²¹〜Ｒ²⁴で表される基は、これらのうち
の２個以上、好ましくは隣接する基が互いに連結して環
を形成していてもよい。ｑは０〜４の整数を示す。

【０１１３】Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲ
ン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含
有基または窒素含有基を示し、ｑが２以上の場合には、
Ｘで示される複数の基は互いに同一であっても、異なっ
ていてもよい。 (a-2)下記式で表される遷移金属アミド化合物(Ｉ-d)

【０１１４】

【化４２】

【０１１５】式中、Ｍは、周期表第３〜６族から選ばれ
る遷移金属原子を示し、好ましくはチタン、ジルコニウ
ムまたはハフニウムである。Ｒ'およびＲ"は、互いに同
一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数１〜
５０の炭化水素基、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭
化水素基、炭化水素置換シリル基、または、窒素、酸
素、リン、イオウおよびケイ素から選ばれる少なくとも
１種の元素を有する置換基を示す。

【０１１６】ｍは、０〜２の整数である。ｎは、１〜５
の整数である。Ａは、周期表第１３〜１６族の原子を示
し、具体的には、ホウ素、炭素、窒素、酸素、ケイ素、
リン、イオウ、ゲルマニウム、セレン、スズなどが挙げ
られ、炭素またはケイ素であることが好ましい。ｎが２
以上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なって
いてもよい。

【０１１７】Ｅは、炭素、水素、酸素、ハロゲン、窒
素、イオウ、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる少
なくとも１種の元素を有する置換基である。ｍが２の場
合、２個のＥは、互いに同一でも異なっていてもよく、
あるいは互いに連結して環を形成していてもよい。

【０１１８】ｐは、０〜４の整数である。Ｘは、水素原
子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素
基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸
素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有
基を示す。なおｐが２以上の場合には、Ｘで示される複
数の基は、互いに同一でも異なっていてもよい。これら
のうち、Ｘはハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭
化水素基またはスルホネート基であることが好ましい。 (a-3)下記式で表される遷移金属ジフェノキシ化合物(Ｉ
-e)

【０１１９】

【化４３】

【０１２０】式中、Ｍは周期表第３〜１１族から選ばれ
る遷移金属原子を示し、ｌおよびｍはそれぞれ０または
１の整数であり、ＡおよびＡ'は炭素原子数１〜５０の
炭化水素基、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水
素、または、酸素、イオウまたはケイ素を含有する置換
基を持つ炭化水素基、または炭素原子数１〜５０のハロ
ゲン化炭化水素基であり、ＡとＡ'は同一でも異なって
いてもよい。

【０１２１】Ｂは、炭素原子数１〜５０の炭化水素基、
炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基、Ｒ¹Ｒ²Ｚ
で表される基、酸素またはイオウであり、ここで、Ｒ¹
およびＲ²は炭素原子数１〜２０の炭化水素基または少
なくとも１個のヘテロ原子を含む炭素原子数１〜２０の
炭化水素基であり、Ｚは炭素、窒素、イオウ、リンまた
はケイ素を示す。

【０１２２】ｎは、Ｍの価数を満たす数である。Ｘは、
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水
素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸
素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有
基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基
は互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに
結合して環を形成してもよい。 (a-4)下記式で表される少なくとも１個のヘテロ原子を
含むシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む遷
移金属化合物(Ｉ-f)

【０１２３】

【化４４】

【０１２４】式中、Ｍは周期表第３〜１１族から選ばれ
る遷移金属原子を示す。Ｘは、周期表第１３、１４また
は１５族の原子を示し、Ｘのうちの少なくとも１つは炭
素以外の元素である。

【０１２５】ａは、０または１を示す。Ｒは、互いに同
一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、
炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素基置換シ
リル基、または窒素、酸素、リン、イオウおよびケイ素
から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換
された炭化水素基を示し、２個以上のＲが互いに連結し
て環を形成していてもよい。

【０１２６】ｂは、１〜４の整数であり、ｂが２以上の
場合、各［（ (Ｒ)_a）₅ −Ｘ₅ ］基は同一でも異なって
いてもよく、さらにＲ同士が架橋していてもよい。ｃ
は、Ｍの価数を満たす数である。

【０１２７】Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲ
ン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含
有基または窒素含有基を示す。

【０１２８】ｃが２以上の場合は、Ｙで示される複数の
基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＹで示さ
れる複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。 (a-5)式ＲＢ(Ｐｚ)₃ＭＸ_n で表される遷移金属化合物 式中、Ｍは、 周期表３〜１１族遷移金属化合物を示し、
Ｒは水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または
炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を示し、Ｐ
ｚは、ピラゾイル基または置換ピラゾイル基を示す。

【０１２９】ｎは、Ｍの価数を満たす数である。Ｘは、
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水
素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸
素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有
基を示す。ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基
は互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに
結合して環を形成してもよい。 (a-6) 下記式で示される遷移金属化合物(Ｉ-g)

【０１３０】

【化４５】

【０１３１】式中、Ｙ₁ およびＹ₃ は、互いに同一であ
っても異なっていてもよく、周期表第１５族の元素であ
り、Ｙ₂ は周期表第１６族の元素である。Ｒ²¹〜Ｒ
²⁸は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素
原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、
イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、これらのうち
２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。 (a-7) 下記式(Ｉ-h)で表される化合物と周期表第８〜１
０族の遷移金属原子との化合物

【０１３２】

【化４６】

【０１３３】式中、Ｒ³¹〜Ｒ³⁴は、互いに同一でも異な
っていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数
１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロ
ゲン化炭化水素基であり、これらのうち２個以上が互い
に連結して環を形成していてもよい。 (a-8) 下記式(Ｉ-i)で示される遷移金属化合物

【０１３４】

【化４７】

【０１３５】式中、Ｍは、周期表第３〜１１族から選ば
れる遷移金属原子を示し、ｍは、０〜３の整数であり、
ｎは、０または１の整数であり、ｐは、１〜３の整数で
あり、ｑは、Ｍの価数を満たす数である。

【０１３６】Ｒ⁴¹〜Ｒ⁴⁸は、互いに同一でも異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２
０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化
水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基また
は窒素含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに
連結して環を形成していてもよい。

【０１３７】Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲ
ン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含
有基または窒素含有基を示し、ｑが２以上の場合は、Ｘ
で示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよ
く、またはＸで示される複数の基は互いに結合して環を
形成してもよい。

【０１３８】Ｙは、ボラータベンゼン環を架橋する基で
あり、炭素、ケイ素またはゲルマニウムを示す。Ａは、
周期表第１４、１５または１６族の元素を示す。

【０１３９】(Ｂ) 有機金属化合物 本発明で用いられる(Ｂ) 有機金属化合物として、具体
的には下記のような周期表第１、２族および第１２、１
３族の有機金属化合物が用いられる。

【０１４０】 (B-1a) 一般式 Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b)_n Ｈ_p Ｘ_q （式中、Ｒ^a およびＲ^b は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の
炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜
ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ
＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。） で表される有機アルミニウム化合物。

【０１４１】(B-1b) 一般式 Ｍ² ＡｌＲ^a ₄ （式中、Ｍ² はＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒ^a は炭素
原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示
す。） で表される周期表第１族金属とアルミニウムとの錯アル
キル化物。

【０１４２】(B-1c) 一般式 Ｒ^a Ｒ^b Ｍ³ （式中、Ｒ^a およびＲ^b は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の
炭化水素基を示し、Ｍ³ はＭｇ、ＺｎまたはＣｄであ
る。） で表される周期表第２族または第１２族金属のジアルキ
ル化合物。

【０１４３】前記(B-1a)に属する有機アルミニウム化合
物としては、次のような化合物などを例示できる。 一般式 Ｒ^a _m Ａｌ（ＯＲ^b)_3-m （式中、Ｒ^a およびＲ^b は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の
炭化水素基を示し、ｍは好ましくは１．５≦ｍ≦３の数
である。） で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ｒ^a _m ＡｌＸ_3-m （式中、Ｒ^a は炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜
４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは
好ましくは０＜ｍ＜３である。）で表される有機アルミ
ニウム化合物、 一般式 Ｒ^a _m ＡｌＨ_3-m （式中、Ｒ^a は炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜
４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは２≦ｍ＜３であ
る。）で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ｒ^a _m Ａｌ（ＯＲ^b )_n Ｘ_q （式中、Ｒ^a およびＲ^b は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の
炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜
ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、
かつｍ＋ｎ＋ｑ＝３である。）で表される有機アルミニ
ウム化合物。

【０１４４】(B-1a)に属する有機アルミニウム化合物と
してより具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリn-ブチルアルミニウム、トリプロ
ピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘ
キシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリ
デシルアルミニウムなどのトリn-アルキルアルミニウ
ム；トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ tert-
ブチルアルミニウム、トリ2-メチルブチルアルミニウ
ム、トリ3-メチルブチルアルミニウム、トリ2-メチルペ
ンチルアルミニウム、トリ3-メチルペンチルアルミニウ
ム、トリ4-メチルペンチルアルミニウム、トリ2-メチル
ヘキシルアルミニウム、トリ3-メチルヘキシルアルミニ
ウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分
岐鎖アルキルアルミニウム；トリシクロヘキシルアルミ
ニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシ
クロアルキルアルミニウム；トリフェニルアルミニウ
ム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミ
ニウム；ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどの
ジアルキルアルミニウムハイドライド；（i-Ｃ₄Ｈ₉)_x
Ａｌ_y（Ｃ₅Ｈ₁₀)_z （式中、ｘ、ｙ、ｚは正の数であ
り、ｚ≧２ｘである。）などで表されるトリイソプレニ
ルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウム；イ
ソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニ
ウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキ
シドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；ジメチ
ルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエト
キシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアル
キルアルミニウムアルコキシド；エチルアルミニウムセ
スキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシド
などのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；Ｒ^a
_2.5Ａｌ（ＯＲ^b)_0.5などで表される平均組成を有する部
分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；ジエ
チルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム
（2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド）、エチルア
ルミニウムビス（2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシ
ド）、ジイソブチルアルミニウム（2,6-ジ-t-ブチル-4-
メチルフェノキシド）、イソブチルアルミニウムビス
（2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド）などのジア
ルキルアルミニウムアリーロキシド；ジメチルアルミニ
ウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチ
ルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミ
ド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキ
ルアルミニウムハライド；エチルアルミニウムセスキク
ロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルア
ルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウム
セスキハライド；エチルアルミニウムジクロリド、プロ
ピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブ
ロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部
分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；ジエチ
ルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリ
ドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；エチルアル
ミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリド
などのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部
分的に水素化されたアルキルアルミニウム；エチルアル
ミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキ
シクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなど
の部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキ
ルアルミニウムなどを挙げることができる。

【０１４５】また(B-1a)に類似する化合物も使用するこ
とができ、たとえば窒素原子を介して２以上のアルミニ
ウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げる
ことができる。このような化合物として具体的には、
（Ｃ₂Ｈ₅)₂ＡｌＮ（Ｃ₂Ｈ₅)Ａｌ（Ｃ₂Ｈ₅)₂ などを挙げ
ることができる。

【０１４６】前記(B-1b)に属する化合物としては、Ｌｉ
Ａｌ（Ｃ₂Ｈ₅)₄、ＬｉＡｌ（Ｃ₇Ｈ₁₅)₄ などを挙げるこ
とができる。またその他にも、（Ｂ）有機金属化合物と
しては、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリ
チウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミ
ド、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウム
ブロミド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグ
ネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブ
チルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリ
ド、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジ
ブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウムなどを
使用することもできる。

【０１４７】また重合系内で上記有機アルミニウム化合
物が形成されるような化合物、たとえばハロゲン化アル
ミニウムとアルキルリチウムとの組合せ、またはハロゲ
ン化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組合せな
どを使用することもできる。

【０１４８】(Ｂ) 有機金属化合物のなかでは、有機ア
ルミニウム化合物が好ましい。上記のような(Ｂ) 有機
金属化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて
用いられる。

【０１４９】(Ｃ) 遷移金属化合物（Ａ）と反応してイ
オン対を形成する化合物 本発明で用いられる遷移金属化合物（Ａ）と反応してイ
オン対を形成する化合物(Ｃ) （以下、「イオン化イオ
ン性化合物」という。）としては、特開平１−５０１９
５０号公報、特開平１−５０２０３６号公報、特開平３
−１７９００５号公報、特開平３−１７９００６号公
報、特開平３−２０７７０３号公報、特開平３−２０７
７０４号公報、ＵＳＰ−５３２１１０６号などに記載さ
れたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカ
ルボラン化合物などを挙げることができる。さらに、ヘ
テロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることがで
きる。

【０１５０】具体的には、ルイス酸としては、ＢＲ
₃ （Ｒは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチル基な
どの置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素
である。）で示される化合物が挙げられ、たとえばトリ
フルオロボロン、トリフェニルボロン、トリス（4-フル
オロフェニル）ボロン、トリス（3,5-ジフルオロフェニ
ル）ボロン、トリス（4-フルオロメチルフェニル）ボロ
ン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス
（p-トリル）ボロン、トリス（o-トリル）ボロン、トリ
ス（3,5-ジメチルフェニル）ボロンなどが挙げられる。

【０１５１】イオン性化合物としては、たとえば下記一
般式（IV）で表される化合物が挙げられる。

【０１５２】

【化４８】

【０１５３】式中、Ｒ¹⁹としては、Ｈ⁺ 、カルボニウム
カチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオ
ン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニル
カチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンな
どが挙げられる。

【０１５４】Ｒ²⁰〜Ｒ²³は、互いに同一でも異なってい
てもよく、有機基、好ましくはアリール基または置換ア
リール基である。前記カルボニウムカチオンとして具体
的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（メ
チルフェニル）カルボニウムカチオン、トリ（ジメチル
フェニル）カルボニウムカチオンなどの三置換カルボニ
ウムカチオンなどが挙げられる。

【０１５５】前記アンモニウムカチオンとして具体的に
は、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアン
モニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオ
ン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニ
ウムカチオン；N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,
N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメ
チルアニリニウムカチオンなどのN,N-ジアルキルアニリ
ニウムカチオン；ジ（イソプロピル）アンモニウムカチ
オン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジ
アルキルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。

【０１５６】前記ホスホニウムカチオンとして具体的に
は、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチル
フェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェ
ニル）ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホ
ニウムカチオンなどが挙げられる。

【０１５７】Ｒ¹⁹としては、カルボニウムカチオン、ア
ンモニウムカチオンなどが好ましく、特にトリフェニル
カルボニウムカチオン、N,N-ジメチルアニリニウムカチ
オン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオンが好ましい。

【０１５８】またイオン性化合物として、トリアルキル
置換アンモニウム塩、N,N-ジアルキルアニリニウム塩、
ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウ
ム塩などを挙げることもできる。

【０１５９】トリアルキル置換アンモニウム塩として具
体的には、たとえばトリエチルアンモニウムテトラ（フ
ェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（フ
ェニル）ホウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテトラ
（フェニル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ
（p-トリル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ
（o-トリル）ホウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテ
トラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、トリプロピル
アンモニウムテトラ（o,p-ジメチルフェニル）ホウ素、
トリ（n-ブチル）アンモニウムテトラ（m,m-ジメチルフ
ェニル）ホウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテトラ
（p-トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリ（n-ブ
チル）アンモニウムテトラ（3,5-ジトリフルオロメチル
フェニル）ホウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテト
ラ（o-トリル）ホウ素などが挙げられる。

【０１６０】N,N-ジアルキルアニリニウム塩として具体
的には、たとえばN,N-ジメチルアニリニウムテトラ（フ
ェニル）ホウ素、N,N-ジエチルアニリニウムテトラ（フ
ェニル）ホウ素、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウム
テトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられる。

【０１６１】ジアルキルアンモニウム塩として具体的に
はは、たとえばジ（1-プロピル）アンモニウムテトラ
（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、ジシクロヘキシル
アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられ
る。

【０１６２】さらにイオン性化合物として、トリフェニ
ルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、フェロセニウムテトラ
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカ
ルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、
N,N-ジエチルアニリニウムペンタフェニルシクロペンタ
ジエニル錯体、下記式（V）または（VI）で表されるホ
ウ素化合物などを挙げることもできる。

【０１６３】

【化４９】

【０１６４】（式中、Ｅｔはエチル基を示す。）

【０１６５】

【化５０】

【０１６６】ボラン化合物として具体的には、たとえば
デカボラン（１４）；ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニ
ウム〕ノナボレート、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニ
ウム〕デカボレート、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニ
ウム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ（n-ブチル）アン
モニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ（n-ブチル）ア
ンモニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ（n-
ブチル）アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレートな
どのアニオンの塩；トリ（n-ブチル）アンモニウムビス
（ドデカハイドライドドデカボレート）コバルト酸塩
（III)、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ビス
（ドデカハイドライドドデカボレート）ニッケル酸塩
（III)などの金属ボランアニオンの塩などが挙げられ
る。

【０１６７】カルボラン化合物として具体的には、たと
えば4-カルバノナボラン（１４）、1,3-ジカルバノナボ
ラン（１３）、6,9-ジカルバデカボラン（１４）、ドデ
カハイドライド-1-フェニル-1,3-ジカルバノナボラン、
ドデカハイドライド-1-メチル-1,3-ジカルバノナボラ
ン、ウンデカハイドライド-1,3-ジメチル-1,3-ジカルバ
ノナボラン、7,8-ジカルバウンデカボラン（１３）、2,
7-ジカルバウンデカボラン（１３）、ウンデカハイドラ
イド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボラン、ドデ
カハイドライド-11-メチル-2,7-ジカルバウンデカボラ
ン、トリ（n-ブチル）アンモニウム1-カルバデカボレー
ト、トリ（n-ブチル）アンモニウム1-カルバウンデカボ
レート、トリ（n-ブチル）アンモニウム1-カルバドデカ
ボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウム1-トリメチル
シリル-1-カルバデカボレート、トリ（n-ブチル）アン
モニウムブロモ-1-カルバドデカボレート、トリ（n-ブ
チル）アンモニウム6-カルバデカボレート（１４）、ト
リ（n-ブチル）アンモニウム6-カルバデカボレート（１
２）、トリ（n-ブチル）アンモニウム7-カルバウンデカ
ボレート（１３）、トリ（n-ブチル）アンモニウム7,8-
ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ（n-ブチル）
アンモニウム2,9-ジカルバウンデカボレート（１２）、
トリ（n-ブチル）アンモニウムドデカハイドライド-8-
メチル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムウンデカハイドライド-8-エチル-7,9-
ジカルバウンデカボレート、トリ（n-ブチル）アンモニ
ウムウンデカハイドライド-8-ブチル-7,9-ジカルバウン
デカボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウムウンデカ
ハイドライド-8-アリル-7,9-ジカルバウンデカボレー
ト、トリ（n-ブチル）アンモニウムウンデカハイドライ
ド-9-トリメチルシリル-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト、トリ（n-ブチル）アンモニウムウンデカハイドライ
ド-4,6-ジブロモ-7-カルバウンデカボレートなどのアニ
オンの塩；トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ノナハ
イドライド-1,3-ジカルバノナボレート）コバルト酸塩
（III)、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウンデカ
ハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート）鉄酸塩
（III)、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウンデカ
ハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート）コバル
ト酸塩（III)、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウ
ンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート）
ニッケル酸塩（III)、トリ（n-ブチル）アンモニウムビ
ス（ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレ
ート）銅酸塩（III)、トリ（n-ブチル）アンモニウムビ
ス（ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレ
ート）金酸塩（III)、トリ（n-ブチル）アンモニウムビ
ス（ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウン
デカボレート）鉄酸塩（III)、トリ（n-ブチル）アンモ
ニウムビス（ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカ
ルバウンデカボレート）クロム酸塩（III)、トリ（n-ブ
チル）アンモニウムビス（トリブロモオクタハイドライ
ド-7,8-ジカルバウンデカボレート）コバルト酸塩（II
I)、トリス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ビス（ウ
ンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート）クロ
ム酸塩（III)、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕
ビス（ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレー
ト）マンガン酸塩（IV）、ビス〔トリ（n-ブチル）アン
モニウム〕ビス（ウンデカハイドライド-7-カルバウン
デカボレート）コバルト酸塩（III)、ビス〔トリ（n-ブ
チル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド-7-
カルバウンデカボレート）ニッケル酸塩（IV）などの金
属カルボランアニオンの塩などが挙げられる。

【０１６８】ヘテロポリ化合物は、ケイ素、リン、チタ
ン、ゲルマニウム、ヒ素および錫から選ばれる原子と、
バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンか
ら選ばれる１種または２種以上の原子からなっている。
具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ
素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリ
コノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデ
ン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、錫モ
リブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステ
ン酸、錫タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リ
ンタングストバナジンン酸、ゲルマノタングストバナジ
ンン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノ
モリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングス
テン酸、リンモリブドニオブ酸、およびこれらの酸の
塩、例えば周期表第１族または２族の金属、具体的に
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セ
シウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
ロンチウム、バリウム等との塩、およびトリフェニルエ
チル塩等との有機塩が使用できるが、この限りではな
い。

【０１６９】上記のような （Ｃ）イオン化イオン性化
合物は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられ
る。また、本発明で用いられるオレフィン重合用触媒
は、（Ａ）遷移金属化合物と、（Ｂ）有機金属化合物
と、（Ｃ）イオン化イオン性化合物とともに、必要に応
じて後述するような担体（Ｄ）を用いることもできる。

【０１７０】（Ｄ）担体 本発明で必要に応じて用いられる（Ｄ）担体は、無機ま
たは有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の
固体である。

【０１７１】このうち無機化合物としては、多孔質酸化
物、無機塩化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層
状化合物が好ましい。多孔質酸化物として、具体的には
ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＺｒＯ、ＴｉＯ₂、Ｂ
₂Ｏ₃、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ₂など、または
これらを含む複合物または混合物を使用、例えば天然ま
たは合成ゼオライト、ＳｉＯ₂-ＭｇＯ、ＳｉＯ₂-Ａｌ₂
Ｏ₃、ＳｉＯ₂-ＴｉＯ₂ 、ＳｉＯ₂-Ｖ₂Ｏ₅ 、ＳｉＯ₂-Ｃ
ｒ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂-ＴｉＯ₂-ＭｇＯなどを使用することが
できる。これらのうち、ＳｉＯ₂および／またはＡｌ₂Ｏ
₃を主成分とするものが好ましい。

【０１７２】なお、上記無機酸化物は、少量のＮａ₂Ｃ
Ｏ₃、Ｋ₂ＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＭｇＣＯ₃、Ｎａ₂ＳＯ₄、
Ａｌ₂(ＳＯ₄)₃、ＢａＳＯ₄、ＫＮＯ₃、Ｍｇ(ＮＯ₃)₂ 、
Ａｌ(ＮＯ₃)₃ 、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏなどの炭酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し
支ない。

【０１７３】このような多孔質酸化物は、種類および製
法によりその性状は異なるが、本発明に好ましく用いら
れる担体は、粒径が１０〜３００μｍ、好ましくは２０
〜２００μｍであって、比表面積が５０〜１０００ｍ²
／ｇ、好ましくは１００〜７００ｍ²／ｇの範囲にあ
り、細孔容積が０．３〜３．０ｃｍ³／ｇの範囲にある
ことが望ましい。このような担体は、必要に応じて１０
０〜１０００℃、好ましくは１５０〜７００℃で焼成し
て使用される。

【０１７４】無機塩化物としては、ＭｇＣｌ₂、ＭｇＢ
ｒ₂、ＭｎＣｌ₂、ＭｎＢｒ₂等が用いられる。無機塩化
物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミル
により粉砕した後に用いてもよい。また、アルコールな
どの溶媒に無機塩化物を溶解させた後、析出剤によって
を微粒子状に析出させたものを用いることもできる。

【０１７５】本発明で用いられる粘土は、通常粘土鉱物
を主成分として構成される。また、本発明で用いられる
イオン交換性層状化合物は、イオン結合などによって構
成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結
晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可
能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状
化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン
交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人
工合成物を使用することもできる。

【０１７６】また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性
層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パ
ッキング型、アンチモン型、ＣｄＣｌ₂型、ＣｄＩ₂型な
どの層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物などを
例示することができる。

【０１７７】このような粘土、粘土鉱物としては、カオ
リン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフ
ェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モ
ンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石
群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、デ
ィッカイト、ハロイサイトなどが挙げられ、イオン交換
性層状化合物としては、α−Ｚｒ(ＨＡｓＯ₄)₂・Ｈ
₂Ｏ、α−Ｚｒ(ＨＰＯ₄)₂、α−Ｚｒ(ＫＰＯ₄)₂・３Ｈ₂
Ｏ、α−Ｔｉ(ＨＰＯ₄)₂、α−Ｔｉ(ＨＡｓＯ₄)₂・Ｈ₂
Ｏ、α−Ｓｎ(ＨＰＯ₄)₂・Ｈ₂Ｏ、γ―Ｚｒ(ＨＰ
Ｏ₄)₂、γ−Ｔｉ(ＨＰＯ₄)₂、γ−Ｔｉ(ＮＨ₄ＰＯ₄)₂・
Ｈ₂Ｏなどの多価金属の結晶性酸性塩などが挙げられ
る。

【０１７８】このような粘土、粘土鉱物またはイオン交
換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径２０Å以
上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上のものが好ましく、
０．３〜５ｃｃ／ｇのものが特に好ましい。ここで、細
孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法によ
り、細孔半径２０〜３×１０⁴Åの範囲について測定さ
れる。

【０１７９】半径２０Å以上の細孔容積が０．１ｃｃ／
ｇより小さいものを担体として用いた場合には、高い重
合活性が得られにくい傾向がある。本発明で用いられる
粘土、粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。
化学処理としては、表面に付着している不純物を除去す
る表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理など、
何れも使用できる。化学処理として具体的には、酸処
理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理などが挙げら
れる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構
造中のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇなどの陽イオンを溶出させるこ
とによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土
の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。
また、塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子
複合体、有機誘導体などを形成し、表面積や層間距離を
変えることができる。

【０１８０】本発明で用いられるイオン交換性層状化合
物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別
の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡
大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩
高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担って
おり、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状
化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレ
ーションという。インターカレーションするゲスト化合
物としては、ＴｉＣｌ₄、ＺｒＣｌ₄などの陽イオン性無
機化合物、Ｔｉ(ＯＲ)₄、Ｚｒ(ＯＲ)₄、ＰＯ(ＯＲ)₃、
Ｂ(ＯＲ)₃などの金属アルコキシド（Ｒは炭化水素基な
ど）、[Ａｌ₁₃Ｏ₄(ＯＨ)₂₄]⁷⁺、[Ｚｒ₄(ＯＨ)₁₄]²⁺、
[Ｆｅ₃Ｏ(ＯＣＯＣＨ₃)₆]⁺などの金属水酸化物イオンな
どが挙げられる。これらの化合物は単独でまたは２種以
上組み合わせて用いられる。また、これらの化合物をイ
ンターカレーションする際に、Ｓｉ(ＯＲ)₄、Ａｌ(Ｏ
Ｒ)₃、Ｇｅ(ＯＲ)₄などの金属アルコキシド（Ｒは炭化
水素基など）などを加水分解して得た重合物、ＳｉＯ₂
などのコロイド状無機化合物などを共存させることもで
きる。また、ピラーとしては、上記金属水酸化物イオン
を層間にインターカレーションした後に加熱脱水するこ
とにより生成する酸化物などが挙げられる。

【０１８１】本発明で用いられる粘土、粘土鉱物、イオ
ン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボ
ールミル、ふるい分けなどの処理を行った後に用いても
よい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱
水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いて
も、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【０１８２】これらのうち、好ましいものは粘土または
粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロナイ
ト、バーミキュライト、ペクトライト、テニオライトお
よび合成雲母である。

【０１８３】有機化合物としては、粒径が１０〜３００
μｍの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げる
ことができる。具体的には、エチレン、プロピレン、1-
ブテン、4-メチル-1-ペンテンなどの炭素原子数が２〜
１４のα−オレフィンを主成分として生成される（共）
重合体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分
として生成される（共）重合体、およびびそれらの変成
体を例示することができる。

【０１８４】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、
（Ａ）遷移金属化合物と、（Ｂ）有機金属化合物と、
（Ｃ）イオン化イオン性化合物と、必要に応じて担体
（Ｄ）と共に、必要に応じてさらに後述するような特定
の有機化合物（Ｅ）を含むこともできる。

【０１８５】（Ｅ）有機化合物成分 本発明において、（Ｅ）有機化合物成分は、重合性能お
よび生成ポリマーの物性を向上させる目的で必要に応じ
て使用される。このような有機化合物としては、アルコ
ール類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物
およびスルホン酸塩等が挙げられるが、この限りではな
い。

【０１８６】アルコール類およびフェノール性化合物と
しては、通常、Ｒ³¹−ＯＨで表されるものが使用され、
ここで、Ｒ³¹は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または
炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示す。

【０１８７】アルコール類としては、Ｒ³¹がハロゲン化
炭化水素のものが好ましい。また、フェノール性化合物
としては、水酸基のα,α'-位が炭素原子数１〜２０の
炭化水素で置換されたものが好ましい。

【０１８８】カルボン酸としては、通常、Ｒ³²−ＣＯＯ
Ｈで表されるものが使用される。Ｒ ³²は炭素原子数１〜
５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン
化炭化水素基を示し、特に、炭素原子数１〜５０のハロ
ゲン化炭化水素基が好ましい。

【０１８９】燐化合物としては、Ｐ−Ｏ−Ｈ結合を有す
る燐酸類、Ｐ−ＯＲ、Ｐ＝Ｏ結合を有するホスフェー
ト、ホスフィンオキシド化合物が好ましく使用される。
スルホン酸塩としては、下記一般式（VII）で表される
ものが使用される。

【０１９０】

【化５１】

【０１９１】式中、Ｍは周期表第１〜１４族の元素であ
る。Ｒ³³は水素、炭素原子数１〜２０の炭化水素基また
は炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。

【０１９２】Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数
が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロ
ゲン化炭化水素基である。ｍは１〜７の整数であり、ｎ
は１≦ｎ≦７である。

【０１９３】本発明においては、前記遷移金属化合物
（Ａ）と、有機金属化合物（Ｂ）と、イオン化イオン性
化合物（Ｃ）とからなるオレフィン重合用触媒の存在下
にオレフィンを重合するに際し、予め前記遷移金属化合
物（Ａ）と有機金属化合物（Ｂ）とを、オレフィンが実
質的に存在しない状態で接触させた後、オレフィン重合
用触媒とオレフィンとを接触させる。ここで本発明にお
いてオレフィンが実質的に存在しない状態とは、オレフ
ィンが前記遷移金属化合物（Ａ）に対し、等量以上存在
しない状態を意味する。図１に、本発明で用いられるオ
レフィン重合用触媒の調製方法の一例を示す。

【０１９４】遷移金属化合物（Ａ）と有機金属化合物
（Ｂ）との接触は、通常溶液状態で行なわれる。具体的
には、例えば成分（Ａ）を飽和炭化水素または芳香族炭
化水素に溶解または懸濁させた溶液または懸濁液と、成
分（Ｂ）と接触させる。成分（Ａ）が懸濁状態の場合、
均一な溶液になるまで攪拌などを行う。

【０１９５】接触させる順序は、成分（Ａ）を含む溶液
または懸濁液に成分（Ｂ）を加えても、成分（Ｂ）に成
分（Ａ）を含む溶液または懸濁液を加えてもよい。成分
（Ａ）と成分（Ｂ）との接触は、−７８℃〜１００℃、
好ましくは０℃〜８０℃の温度で行う。接触時間は、通
常３０秒〜２０時間、好ましくは１分〜１０時間、特に
好ましくは１分〜５時間である。

【０１９６】成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを接触させると
きの両成分の量比は、成分（Ａ）中の遷移金属原子
（Ｍ）と成分（Ｂ）とのモル比〔（Ｂ）／Ｍ〕で、通常
０．１〜１０００００、好ましくは１．０〜１０００
０、特に好ましくは２．０〜５０００の範囲である。

【０１９７】本発明においては、上記のようにオレフィ
ン重合用触媒を形成する触媒成分のうち少なくとも成分
（Ａ）と成分（Ｂ）とをオレフィンが実質的に存在しな
い状態で接触させるが、このとき成分（Ｃ）を共に接触
させてもよい。また成分（Ａ）および成分（Ｂ）のうち
一方の成分を成分（Ｄ）に担持した後、他方の成分と接
触させてもよい。

【０１９８】成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）
を接触させる場合は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを接触
させた後に、成分（Ａ）と成分（Ｂ）との接触物と、成
分（Ｃ）とを接触させることが好ましい。成分（Ｃ）
は、飽和炭化水素、芳香族炭化水素またはハロゲン化炭
化水素に溶解または懸濁させた状態で、成分（Ａ）と成
分（Ｂ）との接触物と接触させることが好ましい。

【０１９９】成分（Ｃ）と、成分（Ａ）と成分（Ｂ）と
の接触物との接触温度は、−７８℃〜１００℃、好まし
くは０℃〜８０℃であり、接触時間は通常１０秒〜５時
間、好ましくは１分〜２．５時間、特に好ましくは１分
〜１時間である。

【０２００】成分（Ｃ）と、成分（Ａ）と成分（Ｂ）と
の接触物とを接触させる際の成分（Ｃ）と該接触物との
量比は、成分（Ｃ）と該接触物中の成分（Ａ）の遷移金
属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｃ）／Ｍ〕で、通常１〜１
０、好ましくは１〜５の範囲である。

【０２０１】上記のように接触させた成分（Ａ）と成分
（Ｂ）との接触物、または成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成
分（Ｃ）との接触物は、このままオレフィンが存在する
反応器へフィードしてもよく、該接触物をオレフィンと
ともに反応器にフィードしてもよい。また、成分（Ａ）
と成分（Ｂ）との接触物、または成分（Ａ）と成分
（Ｂ）と成分（Ｃ）との接触物は、成分（Ｄ）に担持さ
れていてもよい。

【０２０２】なお上記のように成分（Ａ）と接触させた
成分（Ｂ）とは別に、重合系の水分、不純物を不活性化
することなどを目的として、前記成分（Ｂ）と同一また
は異なる成分（Ｂ）を別途反応器に加えることができ
る。

【０２０３】重合の際には、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、
成分（Ｃ）またはこれらの接触物は、以下のような方法
で反応器に添加される。 （１）成分（Ａ）と成分（Ｂ）との接触物および成分
（Ｃ）を任意の順序で反応器に添加する方法。 （２）成分（Ａ）と成分（Ｂ）との接触物、成分（Ｂ）
および成分（Ｃ）を任意の順序で反応器に添加する方
法。この場合、成分（Ｂ）は、同じでも異なっていても
よい。 （３）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｃ）との接触物
を反応器に添加する方法。 （４）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｃ）との接触物
および成分（Ｂ）を任意の順序で反応器に添加する方
法。この場合、成分（Ｂ）は、同じでも異なっていても
よい。 （５）成分（Ａ）と成分（Ｂ）との接触物を成分（Ｄ）
担体に担持した触媒成分および成分（Ｃ）を任意の順序
で反応器に添加する方法。 （６）成分（Ａ）を成分（Ｄ）に担持した触媒成分と成
分（Ｂ）との接触物および成分（Ｃ）を任意の順序で反
応器に添加する方法。 （７）成分（Ａ）を成分（Ｄ）に担持した触媒成分と成
分（Ｂ）との接触物、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を任
意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分
（Ｂ）は、同じでも異なっていてもよい。 （８）成分（Ａ）と成分（Ｂ）との接触物、成分（Ｃ）
を成分（Ｄ）に担持した触媒成分を任意の順序で反応器
に添加する方法。 （９）成分（Ａ）と成分（Ｂ）との接触物、成分（Ｃ）
を成分（Ｄ）に担持した触媒成分、および成分（Ｂ）を
任意の順序で反応器に添加する方法。 （１０）成分（Ａ）と成分（Ｂ）との接触物を成分
（Ｄ）に担持した触媒成分、、成分（Ｂ）および成分
（Ｃ）を任意の順序で反応器に添加する方法。この場
合、成分（Ｂ）は、同じでも異なっていてもよい。 （１１）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｃ）との接触
物を成分（Ｄ）に担持した触媒成分を反応器に添加する
方法。 （１２）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｃ）との接触
物を成分（Ｄ）に担持した触媒成分および成分（Ｃ）を
任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分
（Ｂ）は、同じでも異なっていてもよい。

【０２０４】それぞれの重合方法において、前記（Ｅ）
有機化合物成分は、任意の時点で添加することができる
（５）、（６）、（７）、（１０）〜（１２）の添加方
法において、担体に担持した触媒成分は、オレフィンで
予備重合されていてもよい前記触媒の存在下にオレフィ
ンを重合するに際して、成分（Ａ）は反応容積１リット
ル当り、通常１０^-12〜１０^-2モル、好ましくは１０^-10
〜１０^-3モルとなるような量で用いられる。本発明で
は、成分（Ａ）を、比較的薄い濃度で用いた場合であっ
ても、高い重合活性でオレフィンを重合することができ
る。

【０２０５】成分（Ｂ）は、成分（Ａ）中の遷移金属原
子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ）／Ｍ〕が、通常０．１〜１
０００００、好ましくは０．５〜５００００、特に好ま
しくは１．０〜１００００となるような量で用いられ
る。

【０２０６】成分（Ｃ）は、成分（Ｃ）と成分（Ａ）中
の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｃ）／Ｍ〕が、通
常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で用いら
れる。

【０２０７】成分（Ｅ）は成分（Ｂ）に対して、モル比
〔（Ｅ）／（Ｂ）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは
０．１〜５となるような量で用いられる。本発明は、重
合は溶解重合、懸濁重合などの液相重合法または気相重
合法のいずれにおいても実施できる。

【０２０８】液相重合法において用いられる不活性炭化
水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカ
ン、灯油などの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水
素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタ
ンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物など
を挙げることができ、オレフィン自身を溶媒として用い
ることもできる。

【０２０９】また、このようなオレフィン重合用触媒を
用いたオレフィンの重合温度は、通常−５０〜＋２００
℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。重合圧力
は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ² 、好ましくは常圧〜
５０ｋｇ／ｃｍ² の条件下であり、重合反応は、回分
式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うこ
とができる。さらに重合を反応条件の異なる２段以上に
分けて行うことも可能である。

【０２１０】得られるオレフィン重合体の分子量は、重
合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させ
ることによって調節することができる。さらに、使用す
る成分（Ａ）の量により調節することもできる。

【０２１１】本発明の方法により重合することができる
オレフィンとしては、炭素原子数が２〜３０、好ましく
は２〜２０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン、た
とえばエチレン、プロピレン、1-ブテン、2-ブテン、1-
ペンテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-
1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デ
セン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、
1-オクタデセン、1-エイコセン；炭素原子数が３〜３
０、好ましくは３〜２０の環状オレフィン、たとえばシ
クロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、5-メチ
ル-2-ノルボルネン、テトラシクロドデセン、2-メチル
1,4,5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロナ
フタレン；極性モノマー、たとえば、アクリル酸、メタ
クリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無
水イタコン酸、ビシクロ(2,2,1)-5-ヘプテン-2,3-ジカ
ルボン酸無水物などのα,β-不飽和カルボン酸、および
これらのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、亜鉛
塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などの金属塩；アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n-プロピ
ル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n-ブチル、ア
クリル酸イソブチル、アクリル酸 tert-ブチル、アクリ
ル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メタクリル酸イ
ソプロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸イソ
ブチルなどのα,β-不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビ
ニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリ
ン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、
トリフルオロ酢酸ビニルなどのビニルエステル類；アク
リル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン
酸モノグリシジルエステルなどの不飽和グリシジル、塩
化ビニルなどを挙げることができる。また、ビニルシク
ロヘキサン、ジエンまたはポリエンなどを用いることも
できる。

【０２１２】ジエンまたはポリエンとしては、炭素原子
数が４〜３０、好ましくは４〜２０であり二個以上の二
重結合を有する環状又は鎖状の化合物が用いられる。具
体的には、ブタジエン、イソプレン、4-メチル-1,3-ペ
ンタジエン、1,3-ペンタジエン、1,4-ペンタジエン、1,
5-ヘキサジエン、1,4-ヘキサジエン、1,3-ヘキサジエ
ン、1,3-オクタジエン、1,4-オクタジエン、1,5-オクタ
ジエン、1,6-オクタジエン、1,7-オクタジエン、エチリ
デンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペン
タジエン；7-メチル-1,6-オクタジエン、4-エチリデン-
8- メチル-1,7-ノナジエン、5,9-ジメチル-1,4,8-デカ
トリエン、4,8-ジメチル-1,4,8-デカトリエン；さらに
芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、o-メチルスチレ
ン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o,p-ジメチ
ルスチレン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、p-
エチルスチレンなどのモノもしくはポリアルキルスチレ
ン；メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息
香酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテー
ト、ヒドロキシスチレン、o-クロロスチレン、p-クロロ
スチレン、ジビニルベンゼンなどの官能基含有スチレン
誘導体；および3-フェニルプロピレン、4-フェニルプロ
ピレン、α-メチルスチレンなどが挙げられる。これら
のオレフィンは、単独であるいは２種以上組み合わせて
用いることができる。

【０２１３】本発明に係るオレフィンの重合方法は、高
い重合活性を示し、また分子量分布の狭い重合体を得る
ことができる。さらに、２種以上のオレフィンを共重合
したときに、組成分布が狭いオレフィン共重合体を得る
ことができる

【０２１４】

【発明の効果】本発明の係るオレフィンの重合方法によ
れば、高い重合活性で分子量が非常に高く、分子量分
布、組成分布の狭いのポリマーが生成する。

【０２１５】

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。

【０２１６】なお、本実施例において、極限粘度
（［η］）は、１３５℃、デカリン中で測定した。

【０２１７】

【実施例１】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレ
ン１００リットル／ｈｒで液相および気相を飽和させ
た。その後、トリイソブチルアルミニウムを０．０５ｍ
ｍｏｌを加えて攪拌して２５℃に維持しておいた。

【０２１８】一方、２５ｍｌガラス製容器に下記に示す
化合物１のトルエン溶液（０．０００５ｍｍｏｌ／リッ
トル）を５ｍｌ（０．００２５ｍｍｏｌ）、トリイソブ
チルアルミニウムを０．０５ｍｍｏｌを加え５分間攪拌
後、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート０．００５ｍｍｏｌを加えてさ
らに５分間攪拌し、そのまま全量を重合器に加えて重合
を開始した。

【０２１９】常圧のエチレンガス雰囲気下、２５℃で５
分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加する
ことにより重合を停止した。得られたポリマー溶液を、
少量の塩酸を含む１．５リットルのメタノール中に加え
てポリマーを析出させた。析出したポリマーをメタノー
ルで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られ
たポリエチレンは、１．５５ｇであり、重合活性は７４
４０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、極限粘度［η］
は２６．８ｄｌ／ｇであった。

【０２２０】

【化５２】

【０２２１】

【比較例１】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入しエチレン
１００リットル／ｈｒで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを０．２
５ｍｍｏｌ、次いで上記に示す化合物１を０．００２５
ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート０．００５ｍｍｏｌを順
次加えて重合を開始した。

【０２２２】常圧のエチレンガス雰囲気下、２５℃で５
分間反応させた。重合終了後、反応物を大量のメタノー
ルに投入してポリマーを全量析出させた後、塩酸を加え
てグラスフィルターで濾過した。ポリマーを８０℃にて
１０時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは１．９
５ｇであり、重合活性は９３６０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・
ｈｒであり、極限粘度［η］は０．４９ｄｌ／ｇであっ
た。

【０２２３】

【実施例２】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレ
ン５０リットル／ｈｒ、プロピレン１５０リットル／ｈ
ｒで液相および気相を飽和させた。その後、トリイソブ
チルアルミニウムを０．０５ｍｍｏｌを加えて攪拌して
５０℃に維持しておいた。

【０２２４】一方、２５ｍｌガラス製容器に上記に示す
化合物１のトルエン溶液（０．０００５ｍｍｏｌ／リッ
トル）を１ｍｌ（０．０００５ｍｍｏｌ）、トリイソブ
チルアルミニウムを０．０１ｍｍｏｌを加え５分間攪拌
後、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート０．００１ｍｍｏｌを加えてさ
らに５分間攪拌し、そのまま全量を重合器に加えて重合
を開始した。

【０２２５】常圧のエチレンガス雰囲気下、５０℃で５
分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加する
ことにより重合を停止した。得られたポリマー溶液を、
少量の塩酸を含む１．５リットルのメタノール中に加え
てポリマーを析出させた。析出したポリマーをメタノー
ルで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られ
たエチレン・プロピレン共重合体は、０．９３７ｇであ
り、重合活性は２２５００ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒで
あり、極限粘度［η］は１１．２ｄｌ／ｇであった。

【０２２６】

【比較例２】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレ
ン５０リットル／ｈｒ、プロピレン１５０リットル／ｈ
ｒの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、
メチルアルミノキサンをアルミニウム原子換算で１．２
５ｍｍｏｌ、上記に示す化合物１を０．００５ｍｍｏｌ
加え、共重合を開始した。２５℃で１０分間共重合を行
った後、少量のイソブタノールを添加することにより重
合を停止した。

【０２２７】得られたポリマー懸濁液を、少量の塩酸を
含む１．５リットルのメタノール中に加えてポリマーを
析出させた。グラスフィルターでろ過して溶媒を除いた
後、メタノールで洗浄し、１３０℃にて１０時間減圧乾
燥した。得られたエチレン・プロピレン共重合体は、
２．５４ｇであり、重合活性は３０５０ｇ／ｍｍｏｌ−
Ｚｒ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したプロピレン含量
は１１ｍｏｌ％であり、極限粘度［η］は０．１１ｄｌ
／ｇであった。

【０２２８】

【実施例３】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレ
ン１００リットル／ｈｒで液相及び気相を飽和させて、
トリイソブチルアルミニウムを０．２５ｍｍｏｌ加え、
２５℃に維持した。

【０２２９】一方、２５ｍｌガラス製容器に下記に示す
化合物２のトルエン溶液（０．００１ｍｍｏｌ／リット
ル）を０．５ｍｌ（０．０００５ｍｍｏｌ）、トリイソ
ブチルアルミニウムを０．００５ｍｍｏｌを加え１０分
間攪拌後重合系に添加した。引き続いてトリフェニルカ
ルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート０．０００５ｍｍｏｌを重合系に加えて重合を開始
した。

【０２３０】上記混合ガス雰囲気下、２５℃で１０分間
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む１．５リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。析出したポリマーをメタノールで
洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られたポ
リエチレンは、０．１３ｇであり、重合活性は１５６０
ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、極限粘度［η］は３
５．４ｄｌ／ｇあった。

【０２３１】

【化５３】

【０２３２】

【実施例４】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレ
ン５０リットル／ｈｒ、プロピレン１５０リットル／ｈ
ｒの混合ガスで液相及び気相を飽和させてトリイソブチ
ルアルミニウムを０．２５ｍｍｏｌ加え、２５℃に維持
した。

【０２３３】一方、２５ｍｌガラス製容器に化合物２の
トルエン溶液（０．００１ｍｍｏｌ／リットル）を５ｍ
ｌ（０．００５ｍｍｏｌ）、トリイソブチルアルミニウ
ムを０．０５ｍｍｏｌを加え５分間攪拌後トリフェニル
カルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート０．００６ｍｍｏｌを加え１０分間攪拌した。こ
うして調製した触媒溶液を重合器に添加して重合を開始
した。

【０２３４】上記混合ガス雰囲気下、２５℃で１０分間
重合を行った後、少量のイソブタノールを添加すること
により重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量
の塩酸を含む１．５リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。析出したポリマーをメタノールで
洗浄後、１３０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られた
エチレン・プロピレン共重合体は、１．２８ｇであり、
重合活性は１５４０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、
極限粘度［η］は１２．４ｄｌ／ｇ、共重合体中のプロ
ピレン含量は３１．３ｍｏｌ％であった。

【０２３５】

【比較例３】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入しエチレン
１００リットル／ｈｒで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを０．２
５ｍｍｏｌ、次いで上記に示す化合物２のトルエン溶液
（０．００１ｍｍｏｌ／リットル）を５ｍｌ（０．００
５ｍｍｏｌ）、トリフェニルカルベニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．００６ｍｍｏ
ｌを順次反応器に加えて重合を開始した。

【０２３６】上記エチレンガス雰囲気下、２５℃で７分
間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加するこ
とにより重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少
量の塩酸を含む１．５リットルのメタノール中に加えて
ポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃に
て１０時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、
２．４２ｇであり、重合活性は４１５０ｇ／ｍｍｏｌ−
Ｚｒ・ｈｒであり、極限粘度［η］は０．３０ｄｌ／ｇ
であった。

【０２３７】

【比較例４】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレ
ン５０リットル／ｈｒ、プロピレン１５０リットル／ｈ
ｒの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、
メチルアルミノキサンをアルミニウム原子換算で１．２
５ｍｍｏｌ、上記に示す化合物２を０．００５ｍｍｏｌ
加え、共重合を開始した。

【０２３８】２５℃で１０分間共重合を行った後、少量
のイソブタノールを添加することにより重合を停止し
た。得られたポリマー溶液を、少量の塩酸を含む１．５
リットルの水溶液で洗浄した。溶媒を減圧下で留去した
後、１３０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られたエチ
レン・プロピレン共重合体は８．４２ｇであり、重合活
性は１０１００ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲ
により測定したプロピレン含量は２９．２ｍｏｌ％であ
り、極限粘度［η］は０．０３ｄｌ／ｇであった。

【０２３９】

【実施例５】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレ
ン１００リットル／ｈｒで液相および気相を飽和させ
て、トリイソブチルアルミニウムを０．０５ｍｍｏｌ加
え、２５℃に維持した。

【０２４０】一方、２５ｍｌガラス製容器に下記に示す
化合物３のトルエン溶液（０．００１ｍｍｏｌ／リット
ル）を２．５ｍｌ（０．００２５ｍｍｏｌ）、トリイソ
ブチルアルミニウムを０．０５ｍｍｏｌを加え５分間攪
拌後重合系に添加した。引き続いてトリフェニルカルベ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
０．００５ｍｍｏｌを重合系に加えて重合を開始した。

【０２４１】エチレンガス雰囲気下、２５℃で５分間重
合を行った後、少量のイソブタノールを添加することに
より重合を停止した。得られたポリマー懸濁液を、少量
の塩酸を含む１．５リットルのメタノール中に加えてポ
リマーを析出させた。析出したポリマーをメタノールで
洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られたポ
リエチレンは、０．８９ｇであり、重合活性は４２７０
ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、極限粘度［η］は３
０．２ｄｌ／ｇあった。

【０２４２】

【化５４】

【０２４３】

【比較例５】充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガ
ラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入しエチレン
１００リットル／ｈｒで液相および気相を飽和させた。
その後、反応器にトリイソブチルアルミニウムを０．２
５ｍｍｏｌ、次いで上記に示す化合物３のトルエン溶液
（０．００１ｍｍｏｌ／リットル）を５ｍｌ（０．００
５ｍｍｏｌ）、トリフェニルカルベニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．００６ｍｍｏ
ｌを順次反応器に加えて重合を開始した。

【０２４４】エチレンガス雰囲気下、２５℃５分間重合
を行った後、少量のイソブタノールを添加することによ
り重合を停止した。得られたポリマー溶液を、少量の塩
酸を含む１．５リットルのメタノール中に加えてポリマ
ーを析出させた。析出したポリマーをメタノールで洗浄
後、８０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られたポリエ
チレンは、４．６４ｇであり、重合活性は１１１００ｇ
／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、極限粘度［η］は０．
２４ｄｌ／ｇであった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るオレフィン重合用触媒の調製工程
を示す説明図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤 田 照 典 山口県玖珂郡和木町和木六丁目１番２号 三井化学株式会社内 Ｆターム(参考） 4J028 AA01A AC01A AC02A AC08A AC09A AC10A AC18A AC19A AC20A AC22A AC26A AC27A AC28A AC29A AC31A AC32A AC41A AC45A AC49A AC50A BA01B BA02A BB01A BB01B BC13A BC15A BC15B BC16A BC16B BC17A BC17B BC19A BC19B BC24A BC24B BC27A BC27B BC28A BC28B EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB10 EB11 EB12 EB13 EB14 EB17 EB18 EB21 EB22 EB24 EB25 EB26 FA01 FA02 FA03 FA04 FA07 GA04 GB01 4J100 AA02P AA03P AA04P AA07P AA09P AA15P AA16P AA17P AA18P AA19P AA21P AC03Q AG04Q AJ02Q AJ08Q AJ09Q AK07Q AK12Q AK31Q AK32Q AL03Q AL04Q AL08Q AL46Q AR03P AR04P AR09P AR11P BC54Q CA01 CA04 DA01 FA10

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金
   属化合物と、（Ｂ）有機金属化合物と、（Ｃ）遷移金属
   化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物から
   なるオレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合
   または共重合させるのに際して、 予め上記遷移金属化合物（Ａ）と有機金属化合物（Ｂ）
   とを実質的にオレフィンが存在しない状態で接触させた
   後、前記オレフィン重合用触媒とオレフィンとを接触さ
   せることを特徴とするオレフィンの重合方法； 【化１】 （式中、Ｍは周期表第３〜１１族から選ばれる遷移金属
   原子を示し、 ｍは、１〜６の整数を示し、 Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
   原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残
   基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含
   有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基
   またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互
   いに連結して環を形成していてもよく、 また、ｍが２以上の場合にはＲ¹〜Ｒ⁶で示される基のう
   ち２個の基が連結されていてもよく、 ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、 Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有
   基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミ
   ニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環
   式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基また
   はスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示され
   る複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また
   Ｘで示される複数の基は互いに結合して環を形成しても
   よい。）