JP2002350833A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光工程においてＵＶ光の影響によりスイッ
チング能動素子の電気特性が変化することを防止する。 【解決手段】 画素電極を駆動するためのスイッチング
能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板９上に、カラ
ーフィルタ膜１１を形成するカラーフィルタオンアレイ
型液晶表示装置の製造方法であって、カラーフィルタ膜
１１を形成する前に、スイッチング能動素子５上に保護
膜３を形成する。カラーフィルタ膜１１を形成する際の
露光工程におけるスイッチング能動素子５へのＵＶ光の
影響が保護膜３により改善され、高歩留りの高性能なカ
ラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板１６を得る事ができ
る。また、保護膜３に黒色の感光性樹脂を用いること
で、ＵＶ遮蔽率を高めさらにフォトリソ工法に適してお
り簡易である。
チング能動素子の電気特性が変化することを防止する。 【解決手段】 画素電極を駆動するためのスイッチング
能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板９上に、カラ
ーフィルタ膜１１を形成するカラーフィルタオンアレイ
型液晶表示装置の製造方法であって、カラーフィルタ膜
１１を形成する前に、スイッチング能動素子５上に保護
膜３を形成する。カラーフィルタ膜１１を形成する際の
露光工程におけるスイッチング能動素子５へのＵＶ光の
影響が保護膜３により改善され、高歩留りの高性能なカ
ラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板１６を得る事ができ
る。また、保護膜３に黒色の感光性樹脂を用いること
で、ＵＶ遮蔽率を高めさらにフォトリソ工法に適してお
り簡易である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置お
よびその製造方法に関する。
よびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来のカラーフィルタオンＴＦＴ
アレイ基板の製造方法を示す工程図、図４は従来のカラ
ーフィルタオンＴＦＴアレイ型液晶表示装置の断面図で
ある。図３に示すように、画素電極１を駆動するための
スイッチング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板
上９にカラーフィルタ膜１１を形成し、前記カラーフィ
ルタ膜１１上に画素電極１を形成しコンタクト部位６を
介してスイッチング能動素子５と導通を取るカラーフィ
ルタオンＴＦＴアレイ型液晶表示装置の製造方法におい
て、カラーフィルタ膜赤２（Ｒ）を前記ＴＦＴアレイ基
板上９に成膜工程、露光工程、現像工程、ベーク工程を
経てパターニングし、順に緑２（Ｇ）、青２（Ｂ）、黒
３（ＢＭ）及びオーバーコート４（ＯＣ）を形成しＴＦ
Ｔアレイ基板９上にカラーフィルタ膜１１を形成した。
アレイ基板の製造方法を示す工程図、図４は従来のカラ
ーフィルタオンＴＦＴアレイ型液晶表示装置の断面図で
ある。図３に示すように、画素電極１を駆動するための
スイッチング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板
上９にカラーフィルタ膜１１を形成し、前記カラーフィ
ルタ膜１１上に画素電極１を形成しコンタクト部位６を
介してスイッチング能動素子５と導通を取るカラーフィ
ルタオンＴＦＴアレイ型液晶表示装置の製造方法におい
て、カラーフィルタ膜赤２（Ｒ）を前記ＴＦＴアレイ基
板上９に成膜工程、露光工程、現像工程、ベーク工程を
経てパターニングし、順に緑２（Ｇ）、青２（Ｂ）、黒
３（ＢＭ）及びオーバーコート４（ＯＣ）を形成しＴＦ
Ｔアレイ基板９上にカラーフィルタ膜１１を形成した。
【０００３】次に図４に示すように前記カラーフィルタ
オンＴＦＴアレイ基板１６とあらかじめガラス基板８に
ＩＴＯからなる透明電極を形成してある対向基板１７の
表面に液晶材料を配向させるための配向膜１３を形成し
た後、所定の間隙を保って貼り合せ液晶材料を封入して
液晶層１５を形成した。更に前記カラーフィルタオンＴ
ＦＴアレイ基板１６及び前記対向基板１７のガラス基板
８側に偏光板１８を貼ってカラーフィルタオンＴＦＴア
レイ型液晶表示装置を得る。
オンＴＦＴアレイ基板１６とあらかじめガラス基板８に
ＩＴＯからなる透明電極を形成してある対向基板１７の
表面に液晶材料を配向させるための配向膜１３を形成し
た後、所定の間隙を保って貼り合せ液晶材料を封入して
液晶層１５を形成した。更に前記カラーフィルタオンＴ
ＦＴアレイ基板１６及び前記対向基板１７のガラス基板
８側に偏光板１８を貼ってカラーフィルタオンＴＦＴア
レイ型液晶表示装置を得る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年、大型モニタ、テ
レビ用途等、従来ＣＲＴが使用されていたデバイス分野
への液晶の応用展開に伴い、液晶表示装置には更なる性
能向上が要求されている。特に、レントゲン写真表示等
の医療用途、インターネット商取引への液晶パネルの応
用展開に際し、高輝度、高精細液晶パネルが要求されて
いる。このような背景の元、画素電極を駆動するための
スイッチング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板
９上にカラーフィルタ膜１１を形成するカラーフィルタ
オンＴＦＴアレイ型液晶表示装置の開発が行なわれてい
る。
レビ用途等、従来ＣＲＴが使用されていたデバイス分野
への液晶の応用展開に伴い、液晶表示装置には更なる性
能向上が要求されている。特に、レントゲン写真表示等
の医療用途、インターネット商取引への液晶パネルの応
用展開に際し、高輝度、高精細液晶パネルが要求されて
いる。このような背景の元、画素電極を駆動するための
スイッチング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板
９上にカラーフィルタ膜１１を形成するカラーフィルタ
オンＴＦＴアレイ型液晶表示装置の開発が行なわれてい
る。
【０００５】しかしながら、前記手法でカラーフィルタ
オンＴＦＴアレイ型液晶表示装置を形成する際、露光工
程においてスイッチング能動素子５へのＵＶ光の影響が
大きくスイッチング能動素子５の電気特性を変化させ液
晶表示性能不良を引き起こし歩留りの低下を招くという
課題があった。
オンＴＦＴアレイ型液晶表示装置を形成する際、露光工
程においてスイッチング能動素子５へのＵＶ光の影響が
大きくスイッチング能動素子５の電気特性を変化させ液
晶表示性能不良を引き起こし歩留りの低下を招くという
課題があった。
【０００６】したがって、この発明の目的は、露光工程
においてＵＶ光の影響によりスイッチング能動素子の電
気特性が変化することを防止する液晶表示装置およびそ
の製造方法を提供することである。
においてＵＶ光の影響によりスイッチング能動素子の電
気特性が変化することを防止する液晶表示装置およびそ
の製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明の請求項１記載の液晶表示装置は、画素電極
を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されたＴ
ＦＴアレイ基板上に、カラーフィルタ膜が形成されたカ
ラーフィルタオンアレイ型液晶表示装置であって、前記
スイッチング能動素子上に保護膜が形成され、この保護
膜が形成された面に前記カラーフィルタ膜が形成されて
いる。
にこの発明の請求項１記載の液晶表示装置は、画素電極
を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されたＴ
ＦＴアレイ基板上に、カラーフィルタ膜が形成されたカ
ラーフィルタオンアレイ型液晶表示装置であって、前記
スイッチング能動素子上に保護膜が形成され、この保護
膜が形成された面に前記カラーフィルタ膜が形成されて
いる。
【０００８】このように、スイッチング能動素子上に保
護膜が形成され、この保護膜が形成された面にカラーフ
ィルタ膜が形成されているので、カラーフィルタ膜を形
成する際の露光工程において保護膜によりＵＶ光を遮蔽
することができる。このため、スイッチング能動素子へ
のＵＶ光の影響が改善され、高歩留りの高性能なカラー
フィルタオンＴＦＴアレイ基板を得る事ができる。
護膜が形成され、この保護膜が形成された面にカラーフ
ィルタ膜が形成されているので、カラーフィルタ膜を形
成する際の露光工程において保護膜によりＵＶ光を遮蔽
することができる。このため、スイッチング能動素子へ
のＵＶ光の影響が改善され、高歩留りの高性能なカラー
フィルタオンＴＦＴアレイ基板を得る事ができる。
【０００９】請求項２記載の液晶表示装置は、請求項１
記載の液晶表示装置において、保護膜は黒色の感光性樹
脂である。このように、保護膜は黒色の感光性樹脂であ
るので、ＵＶ遮へい率を高め更にフォトリソ工法に適し
ており簡易である。
記載の液晶表示装置において、保護膜は黒色の感光性樹
脂である。このように、保護膜は黒色の感光性樹脂であ
るので、ＵＶ遮へい率を高め更にフォトリソ工法に適し
ており簡易である。
【００１０】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法
は、画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が
形成されたＴＦＴアレイ基板上に、カラーフィルタ膜を
形成するカラーフィルタオンアレイ型液晶表示装置の製
造方法であって、前記カラーフィルタ膜を形成する前
に、前記スイッチング能動素子上に保護膜を形成する。
は、画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が
形成されたＴＦＴアレイ基板上に、カラーフィルタ膜を
形成するカラーフィルタオンアレイ型液晶表示装置の製
造方法であって、前記カラーフィルタ膜を形成する前
に、前記スイッチング能動素子上に保護膜を形成する。
【００１１】このように、カラーフィルタ膜を形成する
前に、スイッチング能動素子上に保護膜を形成するの
で、カラーフィルタ膜を形成する際の露光工程における
スイッチング能動素子へのＵＶ光の影響が保護膜により
改善され、高歩留りの高性能なカラーフィルタオンＴＦ
Ｔアレイ基板を得る事ができる。
前に、スイッチング能動素子上に保護膜を形成するの
で、カラーフィルタ膜を形成する際の露光工程における
スイッチング能動素子へのＵＶ光の影響が保護膜により
改善され、高歩留りの高性能なカラーフィルタオンＴＦ
Ｔアレイ基板を得る事ができる。
【００１２】請求項４記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項３記載の液晶表示装置の製造方法において、
保護膜は黒色の感光性樹脂を用いて形成する。このよう
に、保護膜は黒色の感光性樹脂を用いて形成するので、
ＵＶ遮へい率を高め更にフォトリソ工法に適しており簡
易である。
は、請求項３記載の液晶表示装置の製造方法において、
保護膜は黒色の感光性樹脂を用いて形成する。このよう
に、保護膜は黒色の感光性樹脂を用いて形成するので、
ＵＶ遮へい率を高め更にフォトリソ工法に適しており簡
易である。
【００１３】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図１およ
び図２に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の形
態の実施の形態に基づくカラーフィルタオンＴＦＴアレ
イ基板の製造方法を示す工程図、図２はこの発明の実施
の形態に基づくカラーフィルタＴＦＴアレイ基板型液晶
表示装置の断面図である。
び図２に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の形
態の実施の形態に基づくカラーフィルタオンＴＦＴアレ
イ基板の製造方法を示す工程図、図２はこの発明の実施
の形態に基づくカラーフィルタＴＦＴアレイ基板型液晶
表示装置の断面図である。
【００１４】図２に示すように、カラーフィルタオンＴ
ＦＴアレイ型液晶表示装置は、画素電極１を駆動するた
めのスイッチング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ
基板９上にカラーフィルタ膜１１を形成し、カラーフィ
ルタ膜１１上に画素電極１を形成してコンタクト部位６
を介してスイッチング能動素子５と導通を取る構成であ
る。また、スイッチング能動素子１１上に保護膜３が形
成され、この保護膜３が形成された面にカラーフィルタ
膜１１が形成されている。この場合、保護膜３に黒色の
感光性樹脂を用いる事で、ＵＶ遮へい率を高め更にフォ
トリソ工法に適しており簡易である。また、光電変換の
高いアモルファスシリコンを用いたスイッチング能動素
子に最適である以下に、この発明の実施の形態による液
晶表示装置の製造工程について説明する。まず、図１
（ａ）に示すように画素電極１を駆動するためのスイッ
チング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板９上
に、カラー樹脂膜をパターニングする前に、黒色の感光
性樹脂である保護膜３を成膜し、露光工程、現像工程、
エッチング工程、剥離工程を経てスイッチング能動素子
上にパターニングした。その後、図１（ｂ），（ｃ）に
示すようにフィルム転写方式によりＴＦＴアレイ基板上
に、順に赤２（Ｒ）、緑２（Ｇ）、青２（Ｂ）、及びオ
ーバーコート４（ＯＣ）をラミネート（熱圧着）工程、
露光工程、現像工程、ベーク工程を経て形成しＴＦＴア
レイ基板９上にカラーフィルタ膜１１を形成した。
ＦＴアレイ型液晶表示装置は、画素電極１を駆動するた
めのスイッチング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ
基板９上にカラーフィルタ膜１１を形成し、カラーフィ
ルタ膜１１上に画素電極１を形成してコンタクト部位６
を介してスイッチング能動素子５と導通を取る構成であ
る。また、スイッチング能動素子１１上に保護膜３が形
成され、この保護膜３が形成された面にカラーフィルタ
膜１１が形成されている。この場合、保護膜３に黒色の
感光性樹脂を用いる事で、ＵＶ遮へい率を高め更にフォ
トリソ工法に適しており簡易である。また、光電変換の
高いアモルファスシリコンを用いたスイッチング能動素
子に最適である以下に、この発明の実施の形態による液
晶表示装置の製造工程について説明する。まず、図１
（ａ）に示すように画素電極１を駆動するためのスイッ
チング能動素子５が形成されたＴＦＴアレイ基板９上
に、カラー樹脂膜をパターニングする前に、黒色の感光
性樹脂である保護膜３を成膜し、露光工程、現像工程、
エッチング工程、剥離工程を経てスイッチング能動素子
上にパターニングした。その後、図１（ｂ），（ｃ）に
示すようにフィルム転写方式によりＴＦＴアレイ基板上
に、順に赤２（Ｒ）、緑２（Ｇ）、青２（Ｂ）、及びオ
ーバーコート４（ＯＣ）をラミネート（熱圧着）工程、
露光工程、現像工程、ベーク工程を経て形成しＴＦＴア
レイ基板９上にカラーフィルタ膜１１を形成した。
【００１５】次に図２に示すように前記カラーフィルタ
オンＴＦＴアレイ基板１６とあらかじめガラス基板８に
ＩＴＯからなる透明電極を形成してある対向基板１７の
表面に液晶材料を配向させるための配向膜１３を形成し
た後、所定のスペーサ１４を用い間隙を保って貼り合せ
液晶材料を封入して液晶層１５を形成した。更に前記カ
ラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板１６及び前記対向基
板１７のガラス基板８側に偏光板１８を貼ってカラーフ
ィルタオンＴＦＴアレイ型液晶表示装置を製造したとこ
ろ高性能な液晶表示性能を示し高い歩留りが得られた。
オンＴＦＴアレイ基板１６とあらかじめガラス基板８に
ＩＴＯからなる透明電極を形成してある対向基板１７の
表面に液晶材料を配向させるための配向膜１３を形成し
た後、所定のスペーサ１４を用い間隙を保って貼り合せ
液晶材料を封入して液晶層１５を形成した。更に前記カ
ラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板１６及び前記対向基
板１７のガラス基板８側に偏光板１８を貼ってカラーフ
ィルタオンＴＦＴアレイ型液晶表示装置を製造したとこ
ろ高性能な液晶表示性能を示し高い歩留りが得られた。
【００１６】また、この実施の形態では保護膜３に黒色
のアクリル樹脂系のネガ型感光性樹脂を用いたが、これ
に限定されない。すなわち、ポジ型、ネガ型あるいはア
クリル樹脂系、ノボラック樹脂系に限らず、すくなくと
も露光プロセスを用いてパターニングできる感光性樹脂
であれば使用可能である。また、ＯＤ値が３以上あれば
他色でも可能であるが黒色がより好ましい。
のアクリル樹脂系のネガ型感光性樹脂を用いたが、これ
に限定されない。すなわち、ポジ型、ネガ型あるいはア
クリル樹脂系、ノボラック樹脂系に限らず、すくなくと
も露光プロセスを用いてパターニングできる感光性樹脂
であれば使用可能である。また、ＯＤ値が３以上あれば
他色でも可能であるが黒色がより好ましい。
【００１７】また、この実施の形態ではカラーフィルタ
膜１１の材料としてアクリル樹脂系のネガ型感光性材料
を用いたが、これに限定されない。すなわち、ポジ型、
ネガ型あるいはアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系に限
らず、すくなくとも露光プロセスを用いてパターニング
できる感光性樹脂であれば使用可能である。
膜１１の材料としてアクリル樹脂系のネガ型感光性材料
を用いたが、これに限定されない。すなわち、ポジ型、
ネガ型あるいはアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系に限
らず、すくなくとも露光プロセスを用いてパターニング
できる感光性樹脂であれば使用可能である。
【００１８】また、この実施の形態ではカラーフィルタ
膜１１の形成にフィルム転写方式を用いたが、これに限
定されない。すなわち、スピン方式、ロールコート方
式、スリット塗布方式、スリットアンドスピン方式、イ
ンクジェット方式、印刷方式に限らず成膜可能な方法で
形成しても可能である。
膜１１の形成にフィルム転写方式を用いたが、これに限
定されない。すなわち、スピン方式、ロールコート方
式、スリット塗布方式、スリットアンドスピン方式、イ
ンクジェット方式、印刷方式に限らず成膜可能な方法で
形成しても可能である。
【００１９】また、この実施の形態ではスイッチング能
動素子にアモルファスシリコンを用いたが、この限りで
はない。すなわち、ポリシリコンまたはコンティニュー
グレインシリコンをスイッチング能動素子として用いて
も良い。
動素子にアモルファスシリコンを用いたが、この限りで
はない。すなわち、ポリシリコンまたはコンティニュー
グレインシリコンをスイッチング能動素子として用いて
も良い。
【００２０】また、この実施の形態ではスペーサ１４を
用いたが、柱スペーサ等の間隙を保てるもので構成して
も可能である。
用いたが、柱スペーサ等の間隙を保てるもので構成して
も可能である。
【００２１】
【発明の効果】この発明の請求項１記載の液晶表示装置
によれば、スイッチング能動素子上に保護膜が形成さ
れ、この保護膜が形成された面にカラーフィルタ膜が形
成されているので、カラーフィルタ膜を形成する際の露
光工程において保護膜によりＵＶ光を遮蔽することがで
きる。このため、スイッチング能動素子へのＵＶ光の影
響が改善され、高歩留りの高性能なカラーフィルタオン
ＴＦＴアレイ基板を得る事ができる。
によれば、スイッチング能動素子上に保護膜が形成さ
れ、この保護膜が形成された面にカラーフィルタ膜が形
成されているので、カラーフィルタ膜を形成する際の露
光工程において保護膜によりＵＶ光を遮蔽することがで
きる。このため、スイッチング能動素子へのＵＶ光の影
響が改善され、高歩留りの高性能なカラーフィルタオン
ＴＦＴアレイ基板を得る事ができる。
【００２２】請求項２では、保護膜は黒色の感光性樹脂
であるので、ＵＶ遮へい率を高め更にフォトリソ工法に
適しており簡易である。
であるので、ＵＶ遮へい率を高め更にフォトリソ工法に
適しており簡易である。
【００２３】この発明の請求項３記載の液晶表示装置の
製造方法によれば、カラーフィルタ膜を形成する前に、
スイッチング能動素子上に保護膜を形成するので、カラ
ーフィルタ膜を形成する際、露光工程におけるＵＶ光の
スイッチング能動素子への影響が保護膜により防止する
ことで、高性能な液晶表示性能を有する高歩留りのカラ
ーフィルタオンＴＦＴアレイ基板を得る事ができる。
製造方法によれば、カラーフィルタ膜を形成する前に、
スイッチング能動素子上に保護膜を形成するので、カラ
ーフィルタ膜を形成する際、露光工程におけるＵＶ光の
スイッチング能動素子への影響が保護膜により防止する
ことで、高性能な液晶表示性能を有する高歩留りのカラ
ーフィルタオンＴＦＴアレイ基板を得る事ができる。
【００２４】請求項４では、保護膜は黒色の感光性樹脂
を用いて形成するので、ＵＶ遮へい率を高め更にフォト
リソ工法に適しており簡易である。
を用いて形成するので、ＵＶ遮へい率を高め更にフォト
リソ工法に適しており簡易である。
【図１】この発明の実施の形態の実施の形態に基づくカ
ラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板の製造方法を示す工
程図
ラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板の製造方法を示す工
程図
【図２】この発明の実施の形態に基づくカラーフィルタ
ＴＦＴアレイ基板型液晶表示装置の断面図
ＴＦＴアレイ基板型液晶表示装置の断面図
【図３】従来のカラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板の
製造方法を示す工程図
製造方法を示す工程図
【図４】従来のカラーフィルタオンＴＦＴアレイ型液晶
表示装置の断面図
表示装置の断面図
１ 画素電極（ＩＴＯ） ２ Ｒ，Ｇ，Ｂ ３ 保護膜（ＢＭ） ４ ＯＣ ５ スイッチング能動素子 ６ コンタクト部位 ７ スイッチング能動素子保護膜 ８ ガラス基板 ９ ＴＦＴアレイ基板 １０ レジスト １１ カラーフィルタ膜 １２ マスク １３ 配向膜 １４ スペーサ １５ 液晶層 １６ カラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板 １７ 対向基板 １８ 偏光板 １９ ＢＰ板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｂ ３４９Ｃ 9/35 9/35 Ｆターム(参考） 2H048 BA45 BA47 BA48 BB02 BB08 BB37 BB43 2H090 HA03 HB07X HC05 HD03 LA01 LA04 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA34Y FB04 GA03 GA07 GA13 GA16 LA12 LA15 2H092 JA24 JB51 JB57 JB58 MA13 NA21 NA29 PA08 PA11 5C094 AA08 AA31 AA42 AA43 AA48 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EB02 ED03 ED15 FA01 FA02 FB01 GB10
Claims (4)
- 【請求項１】 画素電極を駆動するためのスイッチング
能動素子が形成されたＴＦＴアレイ基板上に、カラーフ
ィルタ膜が形成されたカラーフィルタオンアレイ型液晶
表示装置であって、前記スイッチング能動素子上に保護
膜が形成され、この保護膜が形成された面に前記カラー
フィルタ膜が形成されていることを特徴とする液晶表示
装置。 - 【請求項２】 保護膜は黒色の感光性樹脂である請求項
１記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】 画素電極を駆動するためのスイッチング
能動素子が形成されたＴＦＴアレイ基板上に、カラーフ
ィルタ膜を形成するカラーフィルタオンアレイ型液晶表
示装置の製造方法であって、前記カラーフィルタ膜を形
成する前に、前記スイッチング能動素子上に保護膜を形
成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項４】 保護膜は黒色の感光性樹脂を用いて形成
する請求項３記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001161963A JP2002350833A (ja) | 2001-05-30 | 2001-05-30 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001161963A JP2002350833A (ja) | 2001-05-30 | 2001-05-30 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002350833A true JP2002350833A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=19005162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001161963A Pending JP2002350833A (ja) | 2001-05-30 | 2001-05-30 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002350833A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004075607A1 (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-02 | Fujitsu Limited | 有機ｅｌ素子及びその製造方法 |
| DE102004037013A1 (de) * | 2004-04-30 | 2005-11-24 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Flüssigkristallanzeigevorrichtung des Farbfilter-auf-Dünnschichttransistor-Typs und Verfahren zum Herstellen derselben |
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