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JP2002311439A - Liquid crystal display and its manufacture - Google Patents

Liquid crystal display and its manufacture

Info

Publication number
JP2002311439A
JP2002311439A JP2001118115A JP2001118115A JP2002311439A JP 2002311439 A JP2002311439 A JP 2002311439A JP 2001118115 A JP2001118115 A JP 2001118115A JP 2001118115 A JP2001118115 A JP 2001118115A JP 2002311439 A JP2002311439 A JP 2002311439A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
seal layer
liquid crystal
light
crystal display
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001118115A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Watanabe
渡辺  誠
Tsutomu Kadotani
勉 廉谷
Takeshi Sasaki
健 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2001118115A priority Critical patent/JP2002311439A/en
Priority to KR1020020021024A priority patent/KR20020081562A/en
Priority to US10/124,031 priority patent/US6882398B2/en
Priority to TW091107907A priority patent/TWI259308B/en
Publication of JP2002311439A publication Critical patent/JP2002311439A/en
Priority to US11/076,555 priority patent/US20050151920A1/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display and its manufacture capable of sufficiently irradiating a seal layer to which a pair of substrates are stuck with irradiation light and hardening the seal layer by more evenly irradiating the entire seal layer with the irradiation light. SOLUTION: Drawing wiring 103, 105 drawn from a display part 401 formed on a lower substrate 101 and light shielding bodies 106a, 106b, 106c are overlapped with the seal layer 201 and area not to be overlapped with the drawing wiring 103, 105 and the light shielding bodies 106a, 106b, 106c is selected as >=25% of unit area of the seal layer 201.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関し、特に液晶滴下貼合せ法により製造
される液晶表示装置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display manufactured by a liquid crystal drop bonding method and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルを製造する製造方法とし
て、液晶真空注入法や液晶滴下貼合せ法が知られてい
る。液晶真空注入法では、注入孔を有する熱硬化性樹脂
のシール層で一対の基板を貼り合せ焼成していわゆる空
セルを形成した後、真空状態からの気圧差で空セル内に
液晶材を吸い上げさせた後、注入孔を封孔する方法であ
る。また、液晶滴下貼合せ法では、一対の基板を紫外硬
化性樹脂のシール層で貼り合せて、紫外光を照射して、
シール層を硬化させている。
2. Description of the Related Art As a method of manufacturing a liquid crystal display panel, a liquid crystal vacuum injection method and a liquid crystal drop bonding method are known. In the liquid crystal vacuum injection method, a pair of substrates are bonded and baked with a sealing layer of a thermosetting resin having an injection hole to form a so-called empty cell, and a liquid crystal material is sucked into the empty cell by a pressure difference from a vacuum state. After that, the injection hole is sealed. In the liquid crystal drop bonding method, a pair of substrates are bonded with a sealing layer of an ultraviolet curable resin and irradiated with ultraviolet light.
The seal layer is cured.

【0003】先に触れた液晶真空注入法では、液晶材を
気圧差により空セル内に吸い上げさせるため、大型の液
晶表示パネルではパネル内の注入孔から遠い箇所には十
分に液晶材が行き渡り難く吸い上げに時間がかかるこ
と、注入孔付近のパネルに注入による表示ムラが起きや
すいことなど、液晶表示パネルの大型化に伴って様々な
課題が顕著になってきた。
In the liquid crystal vacuum injection method mentioned above, a liquid crystal material is sucked into an empty cell due to a pressure difference. Therefore, in a large liquid crystal display panel, it is difficult for the liquid crystal material to sufficiently spread to a portion far from the injection hole in the panel. Various problems have become remarkable with the increase in the size of the liquid crystal display panel, such as that it takes a long time to suck and that the display unevenness due to the injection is likely to occur in the panel near the injection hole.

【0004】これに対し、液晶滴下貼合せ法によれば、
このような液晶真空注入法による課題を解決することが
でき、大型の液晶表示パネルの製造に適用されて来てい
る。
On the other hand, according to the liquid crystal drop bonding method,
Such a problem caused by the liquid crystal vacuum injection method can be solved, and it has been applied to the manufacture of large liquid crystal display panels.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このような液晶滴下貼
合せ法の細部について検討する。図11、図12及び図
13に示されるように、液晶表示装置の下側基板には、
その中央部分にアレイ状に配列された複数の画素109
などから構成される表示部と、表示部の周囲の周辺部に
は表示部の画素109から引き出されたゲート引出し配
線102やドレイン引出し配線105などの引出し配線
や共通電極に共通電圧を供給すると共に遮光機能を果た
す共通電圧供給配線兼遮光体106が形成されている。
シール層201は、これら引出し配線や共通電圧供給配
線兼遮光体の上方を横断して形成されており、下側基板
は上側基板と貼り合せられる。
The details of such a liquid crystal drop bonding method will be discussed. As shown in FIGS. 11, 12, and 13, the lower substrate of the liquid crystal display device includes:
A plurality of pixels 109 arranged in an array at the center thereof
A common voltage is supplied to a common electrode to a display portion including a display portion and to a peripheral portion around the display portion, to a lead wire such as a gate lead wire 102 and a drain lead wire 105 drawn from a pixel 109 of the display portion and to a common electrode. A common voltage supply wiring and light-shielding body 106 that performs a light-shielding function is formed.
The seal layer 201 is formed so as to cross over the lead-out wiring and the common voltage supply wiring and light-shielding body, and the lower substrate is bonded to the upper substrate.

【0006】このように貼り合せた後、シール層201
に紫外光を照射して硬化させる。下側基板の下側にマス
クパターン502が形成されたUVマスク501を配置
してシール層201に紫外光を照射すると、図13に示
される共通電圧供給配線兼遮光体106の部分では、そ
のC−C’線に沿った断面図である図14に示されるよ
うに、下側基板101に照射された紫外光は共通電圧供
給配線兼遮光体106により遮光されてシール層201
には十分に到達しないという課題が発生することが分か
った。このように、紫外光が十分に紫外硬化型樹脂に照
射されないと、十分に硬化されなかった樹脂中の成分が
液晶層中に溶け出して表示不良の原因となる。シール層
201の中で図11、図12及び図13に示される箇所
のうち、特に、図13に示されるシール層201が延び
る方向に沿って帯状の共通電圧供給配線兼遮光体106
が延びて両者がオーバーラップしている箇所では、この
課題は顕著になる。
After bonding in this manner, the sealing layer 201
Is irradiated with ultraviolet light to be cured. When a UV mask 501 having a mask pattern 502 formed thereon is arranged below the lower substrate and the seal layer 201 is irradiated with ultraviolet light, the portion of the common voltage supply wiring and light shield 106 shown in FIG. As shown in FIG. 14 which is a cross-sectional view taken along line −C ′, the ultraviolet light applied to the lower substrate 101 is shielded by the common voltage supply wiring
It was found that there was a problem that it did not reach the target sufficiently. As described above, if the ultraviolet light is not sufficiently irradiated on the ultraviolet-curable resin, the components of the resin that have not been sufficiently cured may dissolve into the liquid crystal layer and cause display defects. Among the portions shown in FIGS. 11, 12, and 13 in the seal layer 201, in particular, a band-like common voltage supply wiring and light shield 106 along the direction in which the seal layer 201 shown in FIG.
This problem becomes prominent in places where the two parts overlap and overlap each other.

【0007】また、シール層201には、共通電極供給
配線兼遮光体106や引出し配線とオーバーラップする
部分の形状に依存して紫外光が照射されるため、環状の
シール層201の中で紫外光の照射量の多少が大きくな
り、硬化の不均一性が大きくなっていた。液晶表示装置
の大型化や高精細化に伴って、引出し配線同士の間隔は
より一層狭くなり、かかる課題も無視できなくなってく
る。共通電圧供給配線兼遮光体106をなくせば、シー
ル層201の硬化不良という課題は解決できるが、共通
電極に共通電圧を供給できなくなり、また外来光が表示
部の外部から表示部に侵入しやすくなり表示不良が起き
るため、現実的ではない。
Further, since the seal layer 201 is irradiated with ultraviolet light depending on the shape of a portion overlapping with the common electrode supply wiring / light shield 106 and the lead-out wiring, the ultraviolet light is applied to the inside of the annular seal layer 201. The amount of light irradiation increased, and the unevenness of curing increased. With the increase in the size and definition of the liquid crystal display device, the distance between the lead wirings is further reduced, and such a problem cannot be ignored. Eliminating the common voltage supply wiring and light shield 106 can solve the problem of poor curing of the seal layer 201, but makes it impossible to supply a common voltage to the common electrode, and it is easy for external light to enter the display unit from outside the display unit. It is not realistic because display failure occurs.

【0008】したがって、本発明の目的は、照射光を十
分に照射でき、しかもシール層の全体に渡ってより均一
に照射光を照射してシール層を硬化させることができる
液晶表示装置及びその製造方法を提供することを特徴と
する。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of sufficiently irradiating irradiation light and curing the sealing layer by irradiating the irradiation light more uniformly over the entirety of the sealing layer, and manufacturing the same. A method is provided.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明では次の新規の構成を採用する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention employs the following new structure.

【0010】すなわち、本発明の液晶表示装置は、表示
部とその周囲の周辺部とを備える下側基板と、上記下側
基板との間に液晶層を挟持して上記下側基板の周辺部に
形成されたシール層で下側基板と貼り合わせられた上側
基板とを有する液晶表示装置であって、上記下側基板の
上記周辺部に形成された表示部から引き出された引出し
配線と遮光体とが上記シール層とオーバーラップしてお
り、上記引出し配線及び遮光体とオーバーラップしない
面積が上記シール層の単位面積に対して25%以上に選
ばれていることを特徴とする。
That is, the liquid crystal display device of the present invention comprises a lower substrate having a display portion and a peripheral portion therearound, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded to each other with a seal layer formed on the lower substrate, wherein a lead wire and a light-shielding member are drawn from a display portion formed on the peripheral portion of the lower substrate. Are overlapped with the seal layer, and an area which does not overlap with the lead-out wiring and the light shield is selected to be 25% or more with respect to a unit area of the seal layer.

【0011】また、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、表示部とその周囲の周辺部とを備える下側基板の上
記周辺部にシール層を形成する工程と、上記下側基板の
上記シール層で囲まれた領域に液晶材を滴下して上側基
板と上記シール層で貼り合わせる工程と、上記シール層
に光を照射してシール層を硬化させる工程とを有する液
晶表示装置の製造方法であって、上記下側基板の上記周
辺部に形成された表示部から引き出された引出し配線と
遮光体とが上記シール層とオーバーラップしており、上
記引出し配線及び遮光体とオーバーラップしない面積が
上記シール層の単位面積に対して25%以上に選ばれて
いることを特徴とする。
The method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention further comprises a step of forming a seal layer on the peripheral portion of the lower substrate having a display portion and a peripheral portion therearound; A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of dropping a liquid crystal material in a region surrounded by layers and bonding the upper substrate and the seal layer, and a step of irradiating the seal layer with light to cure the seal layer. In addition, the lead-out wiring and the light-shielding body drawn out from the display unit formed in the peripheral portion of the lower substrate overlap with the seal layer, and the area that does not overlap with the lead-out wiring and the light-shielding body is smaller. It is characterized in that it is selected to be at least 25% with respect to the unit area of the sealing layer.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、ツイストネマティック(TN)型液晶表示装置に適
用した場合を例にとって、図面を参照しながら詳細に説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, taking as an example a case where the present invention is applied to a twisted nematic (TN) type liquid crystal display device.

【0013】初めに、第1の実施の形態について説明す
る。図1は、本発明の第1の実施の形態の液晶表示装置
を説明するための液晶表示パネルの平面図である。図2
は、図1のA−A’線に沿った断面図である。図3は、
図1のa部の拡大平面図である。図4は、図1のb部の
拡大平面図である。図5は、図1のc部の拡大平面図で
ある。図6は、図3乃至図5に示される単位画素の拡大
平面図である。図7は、液晶滴下貼合せ法を説明するた
めの工程順の概観図である。図8は、図5のB−B’線
に沿った断面図である。
First, a first embodiment will be described. FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display panel for describing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. FIG.
FIG. 2 is an enlarged plan view of a part a in FIG. 1. FIG. 4 is an enlarged plan view of a portion b in FIG. FIG. 5 is an enlarged plan view of a portion c in FIG. FIG. 6 is an enlarged plan view of the unit pixel shown in FIGS. FIG. 7 is an outline view in the order of steps for explaining the liquid crystal drop bonding method. FIG. 8 is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG.

【0014】本実施の形態による液晶表示装置は、表示
部401とその周囲の周辺部402とを備える下側基板
101と、この下側基板101との間に液晶層203を
挟持して上記下側基板101の周辺部402に形成され
たシール層201で下側基板101と貼り合わせられた
上側基板301とを有する液晶表示装置であって、下側
基板101に形成された表示部401から引き出された
引出し配線103、15と遮光体106a、106b、
106cとがシール層201とオーバーラップしてお
り、引出し配線103、105及び遮光体106a、1
06b、106cとオーバーラップしない面積が前記シ
ール層201の単位面積に対して25%以上に選ばれて
いることを特徴としている。
The liquid crystal display device according to the present embodiment includes a lower substrate 101 having a display portion 401 and a peripheral portion 402 around the display portion 401, and a liquid crystal layer 203 interposed between the lower substrate 101 and the lower substrate 101. A liquid crystal display device including a lower substrate 101 and an upper substrate 301 bonded to each other with a sealing layer 201 formed on a peripheral portion 402 of the side substrate 101, wherein the liquid crystal display device is drawn from a display portion 401 formed on the lower substrate 101. Drawn out wirings 103 and 15 and light shielding bodies 106a and 106b,
106c overlaps with the seal layer 201, and the lead wirings 103 and 105 and the light shielding bodies 106a and
It is characterized in that the area not overlapping with 06b and 106c is selected to be 25% or more with respect to the unit area of the sealing layer 201.

【0015】すなわち、シール層201とオーバーラッ
プする引出し配線103、105や遮光体106a、1
06b、106cの形状や配置について工夫を施し、シ
ール層201の下は、シール層201の設置面積の25
%以上紫外光が透過するように設定されている。また、
各透過部分の間隔は80μm以下となっている。以下に
図15、図16で、「透過孔の設置面積を25%以上と
すること」「透過孔の設置間隔を80μm以下の臨界的
意義を説明する。
That is, the lead wirings 103 and 105 and the light shielding bodies 106 a and 1
06b and 106c are devised with respect to the shape and arrangement.
% Or more is set to transmit ultraviolet light. Also,
The interval between the transmission portions is 80 μm or less. 15 and 16, the critical meaning of “the installation area of the transmission holes should be 25% or more” and “the installation interval of the transmission holes should be 80 μm or less” will be described.

【0016】シール材単体に照射される光量が、150
0mJ/cm2以上で硬化することは実験結果より確認
されている。ただし、マージンを考慮すると最低200
0mJ/cm2必要とする。配線部透過孔の開口率を考
慮すると、シール自体に照射される光量は、次式で与え
られるので、それぞれの関係は、図15のとおりとな
る。(シールに照射される光量)=(全体に照射される照射
量)×(配線部透過孔の開口率)UV硬化をさせるために
は、シール自体にあたる量がマージンを考慮して200
0mJ/cm2あればよく、開口率が低い場合は、それ
に応じてより多くの光量を照射すればよい。しかし、工
程時間短縮、及び、UV照射による基板の温度上昇を極
力抑えるためには、UVランプから照射される光量は、
8000mJ/cm2以下が望ましい。図15に示すグ
ラフより、以上を満たすためには、UV透過孔の開口率
は、25%以上となることが望まれる。
The amount of light applied to the sealing material alone is 150
It is confirmed from experimental results that the composition is cured at 0 mJ / cm 2 or more. However, considering margins, at least 200
0 mJ / cm 2 is required. Considering the aperture ratio of the wiring portion transmission holes, the amount of light applied to the seal itself is given by the following equation, and the respective relationships are as shown in FIG. (Amount of light applied to the seal) = (Amount of irradiation applied to the whole) × (Opening ratio of the wiring portion transmission hole) In order to perform UV curing, an amount corresponding to the seal itself is 200 in consideration of a margin.
0 mJ / cm 2 is sufficient, and when the aperture ratio is low, a larger amount of light may be applied accordingly. However, in order to reduce the process time and minimize the temperature rise of the substrate due to UV irradiation, the amount of light emitted from the UV lamp must be
It is desirably 8000 mJ / cm 2 or less. According to the graph shown in FIG. 15, in order to satisfy the above, it is desired that the aperture ratio of the UV transmission hole is 25% or more.

【0017】次に透過孔の間隔を変化させ、シール部の
硬化度を測定する実験を行った。実験では、透過孔の開
口率は25%で一定としている。図16に結果を示す。
図16より、シール材が完全に硬化するためには透過孔
の間隔が80μm以下であることが必要であることが分
かる。因みに開口率が25%より大きい場合も、原理的
に間隔が80μm以下であれば十分といえる。
Next, an experiment was carried out to measure the degree of cure of the seal portion by changing the distance between the transmission holes. In the experiment, the aperture ratio of the transmission hole is fixed at 25%. FIG. 16 shows the results.
From FIG. 16, it can be seen that in order for the sealing material to be completely cured, the interval between the transmission holes needs to be 80 μm or less. Incidentally, even when the aperture ratio is larger than 25%, it can be said that in principle, if the interval is 80 μm or less, it is sufficient.

【0018】このような液晶表示装置の断面図について
説明すると、図2に示すように、下側基板101にはそ
の周辺部402に共通電圧供給配線兼遮光体106b及
び106cが形成されており、その上に絶縁膜107が
形成されている。上側基板301には、その周辺部に対
向側遮光体302が形成されており、その上に対向電極
303が形成されている。上側基板301には、図示し
ていないが表示部では格子状のブラックストライプが形
成され、その周囲の周辺部では帯状の対向側遮光体30
2が形成されており、対向側遮光体302と下側基板1
01の共通電圧供給配線兼遮光体106b及び106c
とは対向している。下側基板101と上側基板301と
は、表示部401に散布されたスペーサ204と液晶層
203を介在して周辺部402のシール層201で貼り
合せられており、共通電圧供給配線兼遮光体106b及
び106cの上の絶縁膜107に設けた開口部を介し
て、共通電圧供給配線兼遮光体106b及び106cか
ら上側基板301の対向電極303に共通電圧を供給す
る複数のトランスファ202が形成されている。トラン
スファ202は銀ペーストなどからなり、シール層20
1の外側に配置されている。
Referring to the cross-sectional view of such a liquid crystal display device, as shown in FIG. 2, a lower substrate 101 is provided with common voltage supply wiring and light shielding bodies 106b and 106c in a peripheral portion 402 thereof. An insulating film 107 is formed thereon. On the upper substrate 301, an opposing light-shielding body 302 is formed around the periphery thereof, and an opposing electrode 303 is formed thereon. Although not shown, a lattice-shaped black stripe is formed on the upper substrate 301 in the display portion, and a strip-shaped opposing side light shield 30 is formed around the periphery thereof.
2 are formed, and the opposing light shield 302 and the lower substrate 1
01 common voltage supply wiring and light shields 106b and 106c
Are opposed to each other. The lower substrate 101 and the upper substrate 301 are attached to each other with a spacer 204 and a liquid crystal layer 203 scattered on the display unit 401 with a seal layer 201 in a peripheral part 402, and a common voltage supply wiring and light shield 106b And a plurality of transfer units 202 for supplying a common voltage from the common voltage supply wiring / shading bodies 106b and 106c to the counter electrode 303 of the upper substrate 301 through openings provided in the insulating film 107 on the insulating film 107 on the upper substrate 301. . The transfer 202 is made of a silver paste or the like.
1 outside.

【0019】また、表示部401の各画素109は、図
6に示されるように、下側基板101に形成された走査
線111と、走査線111から延びるゲート電極123
と、走査線111と交差する信号線112と、走査線1
11及び信号線112で囲まれた領域に配置された透明
導電膜から構成される画素電極121と、ゲート電極1
23上にゲート絶縁膜を介して配置された半導体層12
2と、信号線112から延びて半導体層122の一端に
接続されたドレイン電極122と、一端が半導体層12
2の他端に接続され他端が画素電極121に接続された
ソース電極124とを有している。
As shown in FIG. 6, each pixel 109 of the display section 401 has a scanning line 111 formed on the lower substrate 101 and a gate electrode 123 extending from the scanning line 111.
, A signal line 112 intersecting with the scanning line 111, and a scanning line 1
A pixel electrode 121 composed of a transparent conductive film disposed in a region surrounded by the gate electrode 1 and the signal line 112;
Semiconductor layer 12 disposed on gate electrode 23 via a gate insulating film
A drain electrode 122 extending from the signal line 112 and connected to one end of the semiconductor layer 122;
And a source electrode 124 connected to the pixel electrode 121 at the other end.

【0020】次に、上述した条件を満足させる実現手段
について、具体的に説明する。
Next, means for realizing the above-described conditions will be specifically described.

【0021】まず、シール層201とオーバーラップす
る引出し配線103、105については、ゲート引出し
配線103とドレイン引出し配線105は表示部401
のそれぞれ異なる走査線111や信号線112から引き
出されており、ゲート端子102やドレイン端子104
までの距離が長い引出し配線はその幅を太くして抵抗値
の上昇を防止する。また、単に幅を太くすると隣接する
引出し配線間の間隔が狭くなり、シール層硬化のための
光が透過し難くなるため、本実施例では長い引出し配線
はその幅を太くするとともに隣接する引出し配線との間
隔を広げることを特徴としている。
First, with respect to the lead wirings 103 and 105 overlapping the seal layer 201, the gate lead wiring 103 and the drain lead wiring 105 are connected to the display unit 401.
Of the gate terminal 102 and the drain terminal 104
The width of the lead wiring having a long distance to the outside is made large to prevent an increase in resistance value. In addition, if the width is simply increased, the distance between the adjacent extraction wirings is reduced, and light for curing the seal layer is hardly transmitted. Therefore, in the present embodiment, the width of the long extraction wiring is increased and the adjacent extraction wiring is increased. It is characterized by widening the interval between them.

【0022】表示部401の角部に位置する遮光体10
6aについては、次の通りである。図3に示すように、
下側基板101のa部では、表示部401の各画素10
9の走査線111からゲート引出し配線102が引き出
され、基板の一辺に複数のゲート端子104が配列され
ている。また、信号線112からドレイン引出し配線1
05が引き出され、基板の他の一辺にドレイン端子10
4が配列されている。これら引出し配線間の角部には、
多角形状の共通電圧供給配線兼遮光体106aが設けら
れており、この遮光体106aからゲート端子102及
びドレイン端子104にそれぞれ隣接して共通端子11
0が配列されている。多角形状の共通電圧供給配線兼遮
光体106aのシール層201とオーバーラップする部
分には、シール層201の延びる方向に沿って複数のU
V透過孔601を形成している。シール層201の外側
にはトランスファ202が形成されている。
Light shield 10 located at a corner of display 401
6a is as follows. As shown in FIG.
In the part a of the lower substrate 101, each pixel 10
The gate lead-out wiring 102 is drawn out from the nine scanning lines 111, and a plurality of gate terminals 104 are arranged on one side of the substrate. Also, the drain lead-out wiring 1 from the signal line 112
05 is drawn out, and the drain terminal 10 is connected to the other side of the substrate.
4 are arranged. At the corner between these lead wires,
A polygonal common voltage supply wiring / light shield 106a is provided, and the common terminal 11 is disposed adjacent to the gate terminal 102 and the drain terminal 104 from the light shield 106a.
0 is arranged. In a portion of the polygonal common voltage supply wiring / light shield 106 a overlapping with the seal layer 201, a plurality of U
A V transmission hole 601 is formed. A transfer 202 is formed outside the seal layer 201.

【0023】遮光体106bについては、次のとおりで
ある。図4に示すように、下側基板101のb部では、
表示部401の各画素109の信号線112からドレイ
ン引出し配線105が引き出され、基板の一辺に複数の
ドレイン端子104が配列されている。さらに、これに
隣接して表示部401の各画素109の信号線112か
らドレイン引出し配線105が引き出され、基板の一辺
に複数のドレイン端子104が配列されている。これら
引出し配線間には三角形状の共通電圧供給配線兼遮光体
106bが設けられており、この遮光体106bからド
レイン端子104にそれぞれ隣接して共通端子110が
配列されている。三角形状の共通電圧供給配線兼遮光体
106bのシール層201とオーバーラップする部分に
は、シール層201の延びる方向に沿って、複数のUV
透過孔601を形成している。シール層201の外側に
はトランスファ202が形成されている。
The light shield 106b is as follows. As shown in FIG. 4, in the part b of the lower substrate 101,
The drain extraction wiring 105 is extracted from the signal line 112 of each pixel 109 of the display unit 401, and a plurality of drain terminals 104 are arranged on one side of the substrate. Further, adjacent to this, the drain extraction wiring 105 is extracted from the signal line 112 of each pixel 109 of the display unit 401, and a plurality of drain terminals 104 are arranged on one side of the substrate. A triangular common voltage supply wiring / light shield 106b is provided between these lead wirings, and common terminals 110 are arranged adjacent to the drain terminal 104 from the light shield 106b. A portion of the triangular common voltage supply wiring / light shield 106b overlapping the seal layer 201 is provided with a plurality of UVs along the direction in which the seal layer 201 extends.
A transmission hole 601 is formed. A transfer 202 is formed outside the seal layer 201.

【0024】さらに、遮光体106cについては、次の
とおりである。図5に示すように、下側基板101のc
部では、帯状の共通電圧供給配線兼遮光体106cが設
けられている。この共通電圧供給配線兼遮光体106c
のシール層201とオーバーラップする部分には、シー
ル層201の延びる方向に沿って、複数のUV透過孔6
01を形成している。シール層201の外側にはトラン
スファ202が形成されている。
Further, the light shield 106c is as follows. As shown in FIG. 5, c of the lower substrate 101
In the section, a band-shaped common voltage supply wiring / light shield 106c is provided. This common voltage supply wiring and light shield 106c
The portion overlapping with the seal layer 201 has a plurality of UV transmission holes 6 along the direction in which the seal layer 201 extends.
01 is formed. A transfer 202 is formed outside the seal layer 201.

【0025】次に、図7を参照して、本実施の形態の液
晶表示装置の製造方法を説明する。本実施の形態では、
上述したような図1に示される形状の下側基板に対し
て、(1)シール描画工程において、ディスペンサと下
側基板101との相対的位置を変化させて紫外硬化型樹
脂を表示部401の周囲の周辺部402に幅0.2〜
0.6mm、高さ10〜50μmで描画して環状のシー
ル層201を形成する。次に、(2)液晶滴下・基板貼
合わせ工程において、下側基板101の環状のシール層
201で囲まれた領域に液晶材を滴下して、さらに、ス
ペーサが固定形成されてある(固着スペーサ、若しく
は、柱付きスペーサ)上側基板301と下側基板101
を、真空中で位置合わせしながら、定盤により加圧し、
その後、大気圧に戻して大気プレスすることで貼合わせ
を行う(定盤荷重 200〜3000N)。この基板同
士を張り合わせた状態で裏返して、(3)UV照射・仮
硬化工程で下側基板101からシール層201にライン
状の紫外光を5000〜8000mJ/cm2で一括照
射して硬化させる。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display of the present embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment,
With respect to the lower substrate having the shape shown in FIG. 1 as described above, in the (1) seal drawing process, the relative position between the dispenser and the lower substrate 101 is changed so that the ultraviolet curable resin is 0.2 to 0.2
An annular seal layer 201 is formed by drawing at a height of 0.6 mm and a height of 10 to 50 μm. Next, in the (2) liquid crystal dropping / substrate bonding step, a liquid crystal material is dropped onto a region surrounded by the annular seal layer 201 of the lower substrate 101, and a spacer is fixedly formed (fixed spacer). Or a spacer with pillars) upper substrate 301 and lower substrate 101
While positioning in a vacuum, pressurized with a platen,
After that, the pressure is returned to the atmospheric pressure and bonding is performed by atmospheric pressing (platen load 200 to 3000N). The substrates are turned upside down in a state of being adhered to each other, and (3) in a UV irradiation / temporary curing step, linear ultraviolet light is collectively irradiated at 5000 to 8000 mJ / cm 2 from the lower substrate 101 to the seal layer 201 to be cured.

【0026】この際、図5のB−B’線に沿った断面図
である図8に示すように、シール層201に対応した箇
所に位置合わせのずれ量を考慮して幅が決定された開口
部を有し、液晶表示パネルの表示領域を遮光するマスク
パターン502を形成したUVマスク501を介して照
射することにより、シール層201の周辺だけに選択的
に紫外光が照射される。マスクパターン502を介して
照射することにより、紫外光による表示領域に位置する
配向膜の変質など悪影響を防止している。下側基板10
1からUVマスク501を介して照射された紫外光は、
共通電圧供給配線兼遮光体106cの箇所では、形成さ
れた複数のUV透過孔601を透過してシール層201
に照射されシール層201を硬化させる。さらに、シー
ル層201を透過した紫外光は、上側基板301に形成
された対向側遮光体302で反射して再度シール層20
1に進入しシール層201の硬化に寄与させている。ま
た、複数の引出し配線103、105とオーバーラップ
するシール層201にも、引出し配線間の隙間を透過し
た紫外光が照射されシール層201を硬化させることが
できる。さらに、図3に示される共通電圧供給配線兼遮
光体106a及び図4に示される共通電圧供給配線兼遮
光体106bとオーバーラップするシール層201に
も、それぞれUV透過孔601を透過した紫外光が照射
されシール層201を硬化させることができる。
At this time, as shown in FIG. 8, which is a cross-sectional view taken along the line BB 'of FIG. 5, the width of the portion corresponding to the seal layer 201 was determined in consideration of the amount of misalignment. By irradiating through a UV mask 501 having an opening and forming a mask pattern 502 for shielding a display region of a liquid crystal display panel from light, only the periphery of the seal layer 201 is selectively irradiated with ultraviolet light. Irradiation via the mask pattern 502 prevents adverse effects such as deterioration of the alignment film located in the display region due to ultraviolet light. Lower substrate 10
UV light irradiated from 1 through the UV mask 501 is
At the location of the common voltage supply wiring and light shield 106c, the seal layer 201 is transmitted through the plurality of UV transmission holes 601 formed.
To cure the seal layer 201. Further, the ultraviolet light transmitted through the seal layer 201 is reflected by the opposing light shielding body 302 formed on the upper substrate 301, and is reflected again by the seal layer 20.
1 to contribute to the hardening of the seal layer 201. Further, the seal layer 201 overlapping with the plurality of lead wirings 103 and 105 is irradiated with ultraviolet light transmitted through the gap between the lead wirings, so that the seal layer 201 can be cured. Further, the ultraviolet light transmitted through the UV transmission hole 601 is also applied to the seal layer 201 overlapping the common voltage supply wiring and light shield 106a shown in FIG. 3 and the common voltage supply wiring and light shield 106b shown in FIG. The irradiation can cure the seal layer 201.

【0027】こうして、シール層201が仮硬化された
後、(4)キュアリング・本硬化工程で基板温度120
℃、1時間の熱処理によりシール層201を本硬化させ
て液晶表示装置が出来上がる。
After the sealing layer 201 is temporarily cured in this way, the substrate temperature is set to 120 in the (4) curing / main curing step.
The liquid crystal display device is completed by fully curing the seal layer 201 by heat treatment at a temperature of 1 ° C. for one hour.

【0028】本実施の形態によれば、ゲート引出し配線
103とドレイン引出し配線105のうち、ゲート端子
102やドレイン端子104までの距離が長い引出し配
線はその幅を太くするとともに隣接する引出し配線との
間隔を広げて設定したので、引出し配線間の隙間を透過
して十分に紫外光が紫外硬化型樹脂に照射され、シール
層201を十分に均一に硬化させることができる。ま
た、引出し配線の抵抗値も均一に保つことができる。
According to the present embodiment, of the gate lead-out wiring 103 and the drain lead-out wiring 105, the lead-out wiring having a long distance to the gate terminal 102 or the drain terminal 104 has a large width and is connected to the adjacent lead-out wiring. Since the interval is set to be wide, the ultraviolet curable resin is sufficiently irradiated to the ultraviolet curable resin through the gap between the lead wires, so that the seal layer 201 can be cured sufficiently and uniformly. Further, the resistance value of the lead wiring can be kept uniform.

【0029】さらに、本実施の形態によれば、共通電圧
供給配線兼遮光体106a、106b、106cのシー
ル層201とオーバーラップする箇所に沿って複数のU
V透過孔601を設けたので、複数のUV透過孔601
を透過して紫外光が紫外硬化型樹脂に照射され、シール
層201を十分に硬化させることができる。しかも、従
来の技術では最も硬化不良が起こりやすかった共通電圧
供給配線兼遮光体106a、106b、106cにそれ
ぞれ透過孔601を設けたので、シール層201の内、
紫外光の照射量が全体的により均一化され、シールの硬
化状況を均一化することができ硬化不良による表示不良
を防止することができる。
Further, according to the present embodiment, a plurality of U's are provided along the portions of the common voltage supply wiring and light shielding bodies 106a, 106b, 106c which overlap the seal layer 201.
Since the V transmission holes 601 are provided, a plurality of UV transmission holes 601 are provided.
, And the ultraviolet light is irradiated to the ultraviolet-curable resin, whereby the seal layer 201 can be sufficiently cured. Moreover, since the transmission holes 601 are provided in the common voltage supply wiring and light shielding bodies 106a, 106b, and 106c, respectively, where curing failure is most likely to occur in the conventional technology, the sealing layer 201 includes:
The irradiation amount of the ultraviolet light is made more uniform as a whole, the curing state of the seal can be made uniform, and display failure due to curing failure can be prevented.

【0030】ここで、単に透過孔を設けたのでは共通電
圧供給配線兼遮光体106の抵抗値が上昇してしまい、
トランスファ202を介して対向電極303に供給する
共通電圧が低下することが想定される。また、単に透過
孔を設けたのでは遮光体としての遮光能力が低下して、
液晶表示装置として利用する際に表示部の外側から表示
部に外光が侵入して表示特性が悪化することが想定され
る。これに対し、本実施の形態では、共通電圧供給配線
兼遮光体106a、106b、106cに選択的にUV
透過孔601を設けたので、共通電圧供給配線兼遮光体
の抵抗値を十分に低く維持し、また遮光性能を十分に維
持しつつ、シールの硬化時の硬化不良を低減して表示不
良を改善させることができる。
Here, if the transmission hole is simply provided, the resistance value of the common voltage supply wiring and light shield 106 increases, and
It is assumed that the common voltage supplied to the counter electrode 303 via the transfer 202 decreases. In addition, simply providing a transmission hole reduces the light-shielding ability as a light-shielding body,
When used as a liquid crystal display device, it is assumed that external light enters the display unit from the outside of the display unit to deteriorate display characteristics. On the other hand, in this embodiment, the common voltage supply wiring and light shielding bodies 106a, 106b, and 106c are selectively provided with UV light.
Since the transmission hole 601 is provided, the resistance value of the common voltage supply wiring and the light-shielding body is maintained sufficiently low, and while the light-shielding performance is sufficiently maintained, poor curing at the time of curing the seal is reduced to improve display failure. Can be done.

【0031】次に、本発明の第2の実施の形態につい
て、説明する。第1の実施の形態と同じ構成要素につい
ては同じ参照番号を付して、その詳細な説明は省略す
る。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0032】図9は、本発明の第2の実施の形態の液晶
表示装置を説明するための断面図である。上側基板30
1には、表示部では格子状のブラックストライプが形成
され、その周囲の周辺部では帯状の対向側遮光体302
が形成されており、対向側遮光体302と下側基板10
1の共通電圧供給配線兼遮光体106とは対向してい
る。本実施の形態では、共通電圧供給配線兼遮光体10
6と対向する上側基板301の周辺部に設けられた対向
側遮光体302に、複数のUV透過孔601を設けたこ
とを特徴としている。
FIG. 9 is a sectional view for explaining a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. Upper substrate 30
1, a lattice-shaped black stripe is formed in the display portion, and a strip-shaped opposing side light blocking member 302 is formed around the periphery thereof.
Are formed, and the opposing light shield 302 and the lower substrate 10
One common voltage supply wiring / light shield 106 is opposed. In the present embodiment, the common voltage supply wiring and light shielding body 10
A plurality of UV transmission holes 601 are provided in the opposing light-shielding body 302 provided in the peripheral portion of the upper substrate 301 facing the substrate 6.

【0033】次に、本実施の形態の液晶表示装置の製造
方法を説明する。第1の実施の形態と同様に、上側基板
301を下側基板101と位置合わせして貼り合せた後
で、上側基板302からシール層201にライン状の紫
外光を一括照射して硬化させる。図9に示すように、シ
ール層201に対応した箇所に位置合わせのずれ量を考
慮して幅が決定された開口部を有し、液晶表示パネルの
表示領域を遮光するマスクパターン502を形成したU
Vマスク501を上側基板301の上側に配置して照射
することにより、シール層201の周辺だけに選択的に
紫外光を照射する。上側基板301からUVマスク50
1を介して照射された紫外光は、対向側遮光体302に
形成した複数のUV透過孔601を透過してシール層2
01に照射されシール層201を硬化させる。さらに、
シール層201を透過した紫外光は、下側基板101の
共通電圧供給配線兼遮光体106や引出し配線で反射し
て再度シール層201に進入しシール層201の硬化に
寄与させる。こうして、シール層201が仮硬化された
後、熱処理によりシール層201を本硬化させて液晶表
示装置が出来上がる。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device of the present embodiment will be described. As in the first embodiment, after the upper substrate 301 is aligned with and bonded to the lower substrate 101, the upper substrate 302 is irradiated with the line-shaped ultraviolet light to the sealing layer 201 at a time to be cured. As shown in FIG. 9, a mask pattern 502 that has an opening whose width is determined in consideration of the amount of misalignment at a position corresponding to the seal layer 201 and that shields the display area of the liquid crystal display panel is formed. U
By irradiating the V mask 501 on the upper side of the upper substrate 301, only the periphery of the seal layer 201 is selectively irradiated with ultraviolet light. UV mask 50 from upper substrate 301
1 is transmitted through a plurality of UV transmission holes 601 formed in the opposing side light shielding body 302 and the sealing layer 2.
Irradiation is performed to cure the seal layer 201. further,
The ultraviolet light transmitted through the seal layer 201 is reflected by the common voltage supply wiring / light shield 106 and the lead-out wiring of the lower substrate 101 and enters the seal layer 201 again to contribute to the curing of the seal layer 201. After the sealing layer 201 is temporarily cured in this way, the sealing layer 201 is fully cured by heat treatment, and a liquid crystal display device is completed.

【0034】本実施の形態によれば、対向側遮光体30
2に設けた複数のUV透過孔601を透過して紫外光が
紫外硬化型樹脂に照射され、シール層201を十分に硬
化させることができシール層201の内、紫外光の照射
量が全体的により均一化され、シールの硬化状況を均一
化することができ硬化不良による表示不良を防止するこ
とができる。
According to the present embodiment, the opposing side light shield 30
The ultraviolet curing resin is irradiated with ultraviolet light through the plurality of UV transmitting holes 601 provided in the second resin layer 2, so that the sealing layer 201 can be sufficiently cured. Thus, the cured state of the seal can be made uniform, and display failure due to poor curing can be prevented.

【0035】次に、第3の実施の形態について、説明す
る。第1又は第2の実施の形態と同じ構成要素について
は同じ参照番号を付して、その詳細な説明は省略する。
Next, a third embodiment will be described. The same components as those in the first or second embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0036】図10は、本発明の第3の実施の形態の液
晶表示装置を説明するための部分平面図である。本実施
の形態では、共通電圧配線兼遮光体106にバーニヤ1
08を設けており、このバーニヤ108は、透過孔から
なる目盛108aや数字108bで構成している。この
バーニヤ108は、下側基板101に滴下され形成され
た環状のシール層201の太さや下側基板101上の相
対的な配置をチェックするためのものであり、シール層
201とオーバーラップするバーニヤ108の目盛10
8aや数字108bを読み取ってチェックされる。この
チェックのために、バーニヤ108は、シール層201
とオーバーラップする四辺の共通電圧配線兼遮光体10
6にそれぞれ設ける。例えば、図1の平面図では、ゲー
ト端子が設けられた紙面の左側の一辺では、三角形状の
共通電圧供給配線兼遮光体106bにバーニヤを設け、
ドレイン端子が設けられた紙面の上側の一辺では、三角
形状の共通電圧供給配線兼遮光体106bにバーニヤを
設け、残りの二辺では帯状の共通電圧供給配線兼遮光体
106cにバーニヤを設ける。
FIG. 10 is a partial plan view for explaining a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention. In the present embodiment, the vernier 1
08 is provided, and the vernier 108 is composed of a scale 108a and a numeral 108b each formed of a transmission hole. The vernier 108 is for checking the thickness of the annular sealing layer 201 formed by dropping on the lower substrate 101 and the relative arrangement on the lower substrate 101. The vernier 108 overlaps the sealing layer 201. 108 scale 10
8a and the number 108b are read and checked. For this check, the vernier 108 is placed on the sealing layer 201.
Voltage wiring / shading body 10 of four sides overlapping with
6 respectively. For example, in the plan view of FIG. 1, a vernier is provided on the triangular common voltage supply wiring / light shield 106b on one side on the left side of the paper where the gate terminal is provided.
A vernier is provided on the triangular common voltage supply wiring / light shield 106b on one upper side of the paper where the drain terminal is provided, and a vernier is provided on the band-like common voltage supply wiring / light shield 106c on the other two sides.

【0037】本実施の形態によれば、紫外光を照射した
ときに、バーニヤ108の透過孔からなる目盛108a
や数字108bを透過してシール層201に紫外光が照
射され、シール層201を十分に硬化させることがで
き、シール層201の中で紫外光の照射量が全体的によ
り均一化され、シールの硬化状態を均一化することがで
き硬化不良による表示不良を防止することができる。
According to the present embodiment, when the ultraviolet light is irradiated, the scale 108a composed of the transmission hole of the vernier 108 is formed.
And the numeral 108b are transmitted to the seal layer 201, and the seal layer 201 is irradiated with ultraviolet light, whereby the seal layer 201 can be sufficiently cured, and the irradiation amount of the ultraviolet light in the seal layer 201 is made more uniform as a whole. The cured state can be made uniform, and display defects due to poor curing can be prevented.

【0038】以上、好ましい実施の形態について説明し
たが、本発明はかかる実施の形態に限定されるものでは
なく、様々な変更や追加が可能であろう。例えば、上述
した実施の形態では、ツイストネマティック(TN)型
液晶表示装置に適用した場合について説明したが、これ
以外の形態の液晶表示装置、例えば横電界型液晶表示装
置や垂直配向型液晶表示装置にも適用が可能である。横
電界型液晶表示装置では、下側基板に形成した共通電極
と画素電極との間の電界で液晶層を制御するので、上述
の実施の形態のように上側基板に共通電圧を供給する構
成が不要である。よって、横電界型液晶表示装置の場合
には、上述した実施の形態のトランスファをなくし、共
通電圧配線兼遮光体から下側基板の共通電極に共通電圧
を供給する構成とすればよい。
Although the preferred embodiment has been described above, the present invention is not limited to this embodiment, and various changes and additions may be made. For example, in the above-described embodiment, a case has been described in which the present invention is applied to a twisted nematic (TN) liquid crystal display device. However, other types of liquid crystal display devices, such as a horizontal electric field liquid crystal display device and a vertical alignment type liquid crystal display device, are used. It is also applicable to: In the horizontal electric field type liquid crystal display device, the liquid crystal layer is controlled by the electric field between the common electrode and the pixel electrode formed on the lower substrate. Therefore, a configuration in which a common voltage is supplied to the upper substrate as in the above-described embodiment. Not required. Therefore, in the case of a horizontal electric field type liquid crystal display device, the transfer in the above-described embodiment may be omitted, and a configuration may be adopted in which a common voltage is supplied from the common voltage wiring and light shield to the common electrode of the lower substrate.

【0039】また、上述した液晶表示装置はいずれも透
過型を想定しているが、上側基板から入射した光を下側
基板に形成した反射電極で反射して表示する反射型液晶
表示装置にも適用が可能である。
Although the above-mentioned liquid crystal display devices are all assumed to be of the transmission type, the reflection type liquid crystal display device in which light incident from the upper substrate is reflected by a reflection electrode formed on the lower substrate for display is also used. Applicable.

【0040】また、プラスチックのように熱耐性が低い
基板を使う場合、UV光のみでシール材を硬化すること
が必要であるため本発明の適用は特に効果的である。
When a substrate having low heat resistance, such as plastic, is used, the application of the present invention is particularly effective because it is necessary to cure the sealing material only with UV light.

【0041】さらにITOに代表される透明導電膜を本
発明の構造に積層すると、抵抗が低減でき効果は高ま
る。
Further, when a transparent conductive film typified by ITO is laminated on the structure of the present invention, the resistance can be reduced and the effect can be enhanced.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置によれば、表示特性が改善され共通電極には十分に
共通電圧を供給でき、また遮光性能を十分に維持でき
る。
As described above, according to the liquid crystal display of the present invention, the display characteristics are improved, the common voltage can be sufficiently supplied to the common electrode, and the light shielding performance can be sufficiently maintained.

【0043】さらに、本発明の液晶表示装置の製造方法
によれば、共通電圧供給配線兼遮光体の抵抗値を十分に
低く維持し、また遮光性能を十分に維持しつつ、下側基
板と上側基板とを貼り合せるシール層の硬化時の硬化不
良を低減して表示不良を改善させることができる。
Further, according to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the lower substrate and the upper substrate can be maintained while sufficiently maintaining the resistance value of the common voltage supply wiring and the light-shielding member and sufficiently maintaining the light-shielding performance. Insufficient curing during curing of the seal layer to be bonded to the substrate can be reduced, and display defects can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の液晶表示装置を示
す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のA−A’線に沿った断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line A-A 'of FIG.

【図3】図1のa部の拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view of a part a in FIG. 1;

【図4】図1のb部の拡大平面図である。FIG. 4 is an enlarged plan view of a portion b in FIG.

【図5】図1のc部の拡大平面図である。FIG. 5 is an enlarged plan view of a portion c in FIG. 1;

【図6】図3乃至図5に示される単位画素の拡大平面図
である。
FIG. 6 is an enlarged plan view of a unit pixel shown in FIGS. 3 to 5;

【図7】液晶滴下貼合せ法を説明するための工程順の概
観図である。
FIG. 7 is a schematic view of a process order for explaining a liquid crystal dropping and bonding method.

【図8】図5のB−B’線に沿った断面図である。FIG. 8 is a sectional view taken along the line B-B 'of FIG.

【図9】本発明の第2の実施の形態を説明するための断
面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第3の実施の形態を説明するための
断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a third embodiment of the present invention.

【図11】従来の液晶表示装置を説明するための部分拡
大平面図である。
FIG. 11 is a partially enlarged plan view illustrating a conventional liquid crystal display device.

【図12】従来の液晶表示装置を説明するための部分拡
大平面図である。
FIG. 12 is a partially enlarged plan view illustrating a conventional liquid crystal display device.

【図13】従来の液晶表示装置を説明するための部分拡
大平面図である。
FIG. 13 is a partially enlarged plan view illustrating a conventional liquid crystal display device.

【図14】図13のC−C’線に沿った断面図である。FIG. 14 is a sectional view taken along the line C-C ′ in FIG.

【図15】透過孔開口率とシール材硬化に必要な紫外線
光量の関係を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing the relationship between the aperture ratio of a transmission hole and the amount of ultraviolet light necessary for curing a sealing material.

【図16】透過孔間隔とシール材の硬化度の関係を示す
図である。
FIG. 16 is a diagram showing a relationship between a transmission hole interval and a degree of curing of a sealing material.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 下側基板 102 ゲート端子 103 ゲート引出し配線 104 ドレイン端子 105 ドレイン引出し配線 106a、106b、106c 共通電圧供給配線兼
遮光体 107 絶縁膜 108 バーニヤ 110 共通端子 201 シール層 202 トランスファ 203 液晶層 204 スペーサ 301 上側基板 302 対向側遮光体 303 対向電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Lower substrate 102 Gate terminal 103 Gate lead wiring 104 Drain terminal 105 Drain lead wiring 106a, 106b, 106c Common voltage supply wiring and light shield 107 Insulating film 108 Vernier 110 Common terminal 201 Seal layer 202 Transfer 203 Liquid crystal layer 204 Spacer 301 Upper Substrate 302 Opposing side light shield 303 Opposing electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 健 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA41 MA07 NA22 QA12 QA14 TA02 TA09 2H091 FA34Y LA12 2H092 GA32 JB22 JB31 JB52 NA27 NA29 PA03 PA04 PA09 QA07 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Ken Sasaki 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo F-term in NEC Corporation (reference) 2H089 LA41 MA07 NA22 QA12 QA14 TA02 TA09 2H091 FA34Y LA12 2H092 GA32 JB22 JB31 JB52 NA27 NA29 PA03 PA04 PA09 QA07

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示部とその周囲の周辺部とを備える下
側基板と、前記下側基板との間に液晶層を挟持して前記
下側基板の周辺部に形成されたシール層で下側基板と貼
り合わせられた上側基板とを有する液晶表示装置であっ
て、前記下側基板の前記周辺部に形成され表示部から引
き出された引出し配線と遮光体とが前記シール層とオー
バーラップしており、前記引出し配線及び前記遮光体と
オーバーラップしない面積が前記シール層の単位面積に
対して25%以上に選ばれていることを特徴とする液晶
表示装置。
1. A lower substrate having a display portion and a peripheral portion surrounding the display portion, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a lower layer formed by a seal layer formed on the peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device having a side substrate and an upper substrate bonded to each other, wherein a lead wire and a light shield formed in the peripheral portion of the lower substrate and drawn from a display portion overlap with the seal layer. A liquid crystal display device characterized in that an area which does not overlap with the lead-out wiring and the light shield is selected to be 25% or more with respect to a unit area of the seal layer.
【請求項2】 前記引出し配線及び前記遮光体とオーバ
ーラップしない領域間の距離が80μm以下であること
を特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a distance between the lead wiring and the region that does not overlap with the light shield is 80 μm or less.
【請求項3】 前記表示部の角部に位置する遮光体のう
ち、前記シール層とオーバーラップする部分には、シー
ル層の延びる方向に沿って、複数の透過孔が形成されて
いることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
3. A light-shielding body located at a corner of the display unit, wherein a plurality of transmission holes are formed in a portion overlapping the seal layer along a direction in which the seal layer extends. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記表示部から引き出された複数の引出
し配線間に位置する遮光体のうち、前記シール層とオー
バーラップする部分には、シール層の延びる方向に沿っ
て、複数の透過孔が形成されていることを特徴とする請
求項1記載の液晶表示装置。
4. A plurality of transmission holes along a direction in which the seal layer extends, in a portion of the light shield located between the plurality of lead wirings drawn from the display unit and overlapping the seal layer. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed.
【請求項5】 前記表示部に隣接して帯状に延びる遮光
体のうち、前記シール層とオーバーラップする部分に
は、シール層の延びる方向に沿って、複数の透過孔が形
成されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示
装置。
5. A light-shielding body extending in a strip shape adjacent to the display section, wherein a plurality of transmission holes are formed in a portion overlapping with the seal layer along a direction in which the seal layer extends. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
【請求項6】 前記表示部から複数の引き出し配線が引
き出されて前記シール層と交差しており、前記複数の引
き出し配線のうち、幅を太くした配線は隣接する引き出
し配線間の間隔を広く設定されていることを特徴とする
請求項1記載の液晶表示装置。
6. A plurality of lead-out lines are drawn out from the display section and intersect with the seal layer, and among the plurality of lead-out lines, a line having a large width sets a large interval between adjacent lead-out lines. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein
【請求項7】 前記下側基板の遮光体と対向する対向側
遮光体が前記上側基板に設けられており、前記シール層
とオーバーラップする部分の前記対向側遮光体には前記
シール層に沿って複数の透過孔を備えていることを特徴
とする請求項1記載の液晶表示装置。
7. An opposing light-shielding member facing the light-shielding member of the lower substrate is provided on the upper substrate, and a portion of the opposing light-shielding member that overlaps with the seal layer is provided along the seal layer. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a plurality of transmission holes.
【請求項8】 前記下側基板の遮光体には、透過孔から
なる目盛や数字で構成されたバーニヤが形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
8. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the light shielding body of the lower substrate is provided with a vernier formed of scales and numerals formed of transmission holes.
【請求項9】 表示部とその周囲の周辺部とを備える下
側基板の前記周辺部にシール層を形成する工程と、前記
下側基板の前記シール層で囲まれた領域に液晶材を滴下
して上側基板と前記シール層で貼り合わせる工程と、前
記シール層に光を照射してシール層を硬化させる工程と
を有する液晶表示装置の製造方法であって、前記下側基
板の前記周辺部に形成され表示部から引き出された引出
し配線と遮光体とが前記シール層とオーバーラップして
おり、前記引出し配線及び前記遮光体とオーバーラップ
しない面積が前記シール層の単位面積に対して25%以
上に選ばれていることを特徴とする液晶表示装置の製造
方法。
9. A step of forming a seal layer on the peripheral portion of the lower substrate having a display portion and a peripheral portion therearound, and dropping a liquid crystal material on a region of the lower substrate surrounded by the seal layer. And bonding the upper substrate and the seal layer together, and irradiating the seal layer with light to cure the seal layer, wherein the peripheral portion of the lower substrate And the light-shielding body and the lead-out wiring drawn out from the display portion overlap with the seal layer, and the area that does not overlap with the lead-out wiring and the light-shielding body is 25% of the unit area of the seal layer. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which is selected as described above.
【請求項10】 前記シール層とオーバーラップする部
分の前記遮光体には前記シール層に沿って複数の透過孔
を備えており、前記下側基板側から前記シール層を硬化
させる光を照射することを特徴とする請求項9記載の液
晶表示装置の製造方法。
10. The light-shielding body in a portion overlapping the seal layer has a plurality of transmission holes along the seal layer, and irradiates light from the lower substrate side to cure the seal layer. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, wherein:
【請求項11】 前記下側基板の遮光体と対向する対向
側遮光体が前記上側基板に設けられており、前記シール
層とオーバーラップする部分の前記対向側遮光体には前
記シール層に沿って複数の透過孔を備えており、前記上
側基板側から前記シール層を硬化させる光を照射するこ
とを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置。
11. An opposing light-shielding member facing the light-shielding member of the lower substrate is provided on the upper substrate, and a part of the opposing light-shielding member overlapping with the seal layer is provided along the seal layer. The liquid crystal display device according to claim 9, further comprising a plurality of transmission holes, and irradiating light from the upper substrate side to cure the seal layer.
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