JP2002305078A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】多層積層構造を有する有機エレクトロルミネッ
センス素子を簡便に製造できる方法を提供する。 【解決手段】陽極層１０と陰極層７０との間で、正孔輸
送層２０を溶液状態で形成し、次に、正孔輸送層２０を
構成する有機物に対して溶解範囲外の溶解度パラメータ
を有する溶媒に発光層４０を構成する有機物を溶解して
成る溶液状態の発光層４０を、溶液状態の正孔輸送層２
０に積層し、さらに、発光層４０を構成する有機物に対
して溶解範囲外の溶解度パラメータを有する溶媒に電子
輸送層６０を構成する有機物を溶解して成る溶液状態の
電子輸送層６０を、溶液状態の発光層４０に積層する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高輝度での発光が
可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、米国特許第６０９７１４７号によ
り、燐光を放射する物質を含有する発光層を備えた多層
積層構造で形成され、発光効率を向上させた有機エレク
トロルミネッセンス素子が知られている。

【０００３】このものにおいて、多層から成る薄膜の積
層形成に際して発光性物質の蒸着工程を用いた、いわゆ
る乾式法を採用しているため、製造工程が複雑になり生
産効率が悪い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明では、上記問題
点に鑑み、多層積層構造を有する有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を簡便に製造できる方法を提供することを
課題としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、陽極層及び陰極層の両電極層と、ホスト
剤と燐光を放射するドープ剤とを有する発光層と、前記
両電極層の間で該発光層を介して積層する第１及び第２
の両有機層とを具備し、前記電極層の一方が基板上に形
成される有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する
方法において、前記両電極層の間で、前記両有機層のう
ち前記基板側に位置すべき第１の有機層を溶液状態で形
成し、次に、前記第１の有機層を構成する有機物に対し
て溶解範囲外の溶解度パラメータを有する溶媒に前記発
光層を構成する有機物を溶解して成る溶液状態の発光層
を、前記溶液状態の第１の有機層に積層し、さらに、前
記発光層を構成する有機物に対して溶解範囲外の溶解度
パラメータを有する溶媒に前記第２の有機層を構成する
有機物を溶解して成る溶液状態の第２の有機層を、前記
溶液状態の発光層に積層する。

【０００６】ここで、モル蒸発熱ΔＨ、モル体積Ｖの液
体の絶対温度Ｔにおける溶解度パラメータＳＰは、 ＳＰ＝｛（ΔＨ−ＲＴ）／Ｖ｝^1/2 で定義される。ただし、上記式中、ＳＰは溶解度パラメ
ータ（単位：（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）であり、ΔＨはモ
ル蒸発熱（単位：ｃａｌ／ｍｏｌ）であり、Ｒは気体定
数（単位：ｃａｌ／（ｍｏｌ・Ｋ））であり、Ｔは絶対
温度（単位：Ｋ）であり、Ｖはモル体積（単位：ｃｍ³
／ｍｏｌ）である。

【０００７】本発明では、発光層を構成する有機物を、
第１の有機層を構成する有機物に対して溶解範囲外の溶
解度パラメータを有する溶媒に溶解し、また、第２の有
機層を構成する有機物を、発光層を構成する有機物に対
して溶解範囲外の溶解度パラメータを有する溶媒に溶解
して、第１の有機層と発光層と第２の有機層とをそれぞ
れ溶液状態で積層し、有機エレクトロルミネッセンス素
子の多層積層構造を形成する。この際、第１の有機層を
構成する有機物は、発光層を構成する有機物の溶解に用
いた溶媒に対して溶解度が僅小であるので、第１の有機
層と発光層とは、溶液状態のまま互いに隣接して積層し
た場合、各薄膜層を構成する有機物が溶解・混合するこ
となく薄膜層を形成できる。また、発光層を構成する有
機物は、第２の有機層を構成する有機物の溶解に用いた
溶媒に対して溶解度が僅小であるので、発光層と第２の
有機層とは、溶液状態のまま互いに隣接して積層した場
合、各薄膜層を構成する有機物が溶解・混合することな
く薄膜層を形成できる。即ち、発光層や第１及び第２の
両有機層の各薄膜層を構成する有機物を溶解した溶液を
用いた湿式法により簡便な薄膜形成が可能である。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１（ａ）は、発光効率の向上を
目的として多層に積層された素子構造を有する有機エレ
クトロルミネッセンス素子の基本構造を示す。有機エレ
クトロルミネッセンス素子の素子構造は、陽極層１０と
陰極層７０との両電極層の間に、基板上に形成された陽
極層１０に、正孔輸送層２０、電子ブロック層３０、発
光層４０、正孔ブロック層５０及び電子輸送層６０の各
薄膜層が順次積層されて成る多層積層構造であり、発光
層４０は、発光層ドープ剤４１と発光層ホスト剤４２と
から構成されている。

【０００９】図１（ａ）〜（ｄ）で示される各素子構造
において、陽極層１０は、例えばガラス基板のような透
明絶縁性支持体に形成された透明な導電性物質が用いら
れ、その材料としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化
錫インジウム（ＩＴＯ）などの導電性酸化物、あるい
は、金、銀、クロムなどの金属、よう化銅、硫化銅など
の無機導電性物質、ポリチオフェン、ポリピロール、ポ
リアニリン等の導電性ポリマーなどを用いることができ
る。

【００１０】また、陰極層７０が透明な材料で形成され
ている場合には、陽極層１０は不透明な材料で形成され
ても良い。

【００１１】また、図１（ａ）〜（ｄ）で示される各素
子構造において、陰極層７０には、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、
カルシウム、ストロンチウム、バリウム、硼素、アルミ
ニウム、銅、銀、金などの単体または合金が使用でき
る。さらに、これらを積層して使用することもできる。
また、テトラヒドロアルミン酸塩により湿式で形成する
こともできる。この場合、陰極層７０に用いられるテト
ラヒドロアルミン酸塩としては、特に、水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化ア
ルミニウムマグネシウム、水素化アルミニウムカルシウ
ムを挙げることができる。この中で、水素化アルミニウ
ムリチウムが、特に電子輸送層への電子注入性に優れて
いる。

【００１２】また、正孔輸送層２０は、陽極から注入さ
れる正孔を輸送するための層であり、正孔輸送性有機物
を含む有機層である。正孔輸送層性有機物の例として、

【００１３】

【化１】

【００１４】［化１］に示すポリ（Ｎ−ビニルカルバゾ
ール）（以下ＰＶＫともいう。）、

【００１５】

【化２】

【００１６】［化２］に示すポリ（パラ−フェニレンビ
ニレン）、

【００１７】

【化３】

【００１８】（化学式[化３]中、ＲはＣ，Ｈ，Ｏ，Ｎで
構成する置換基である）[化３]を繰り返し単位として有
するポリカルバゾール化合物などの高分子からなること
が好ましい。あるいは、

【００１９】

【化４】

【００２０】［化４］に示すＮ，Ｎ’−ジフェニル−
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビ
フェニル−４，４’−ジアミン（以下ＴＰＤともい
う。）、

【００２１】

【化５】

【００２２】［化５］に示すカルバゾールビフェニル
（以下、ＣＢＰとも言う。）、

【００２３】

【化６】

【００２４】［化６］に示すＮ，Ｎ’−ジフェニル−
Ｎ，Ｎ’−ビス（１−ナフチル）―１，１’−ビフェニ
ル−４，４’−ジアミン（以下、ＮＰＤとも言う。）

【００２５】

【化７】

【００２６】［化７］に示す４，４’−ビス（１０−フ
ェノチアジニル）ビフェニル、

【００２７】

【化８】

【００２８】［化８］に示すカッパーフタロシアニン等
が挙げられる。

【００２９】また、電子ブロック層３０は、陰極層７０
から発光層４０へ注入された電子がそのまま陽極層１０
へ通過してしまうことを防ぐため電子をブロックするた
めの層であり、電子ブロック性物質で構成される。電子
ブロック性物質としては、例えば、[化１]、[化２]、
[化４]乃至[化７]で示される化合物や、

【００３０】

【化９】

【００３１】[化９]に示す２，４，６−トリフェニル−
１，３，５−トリアゾール、

【００３２】

【化１０】

【００３３】[化１０]に示すフローレン、などを挙げる
ことができる。

【００３４】また、発光層４０はドープ剤４１とホスト
剤４２とを有し、これらドープ剤４１とホスト剤４２と
を均一に分散させるため、バインダ高分子を添加するこ
とも可能である。ホスト剤４２は、陽極層１０及び陰極
層７０からそれぞれ注入された正孔と電子とが発光層４
０において再結合する際に賦活されて励起子として作用
する物質であり、

【００３５】

【化１１】

【００３６】［化１１］に示す１，３，５−トリ（５−
（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキ
サジアゾール））フェニル（以下ＯＸＤ−１ともい
う。）

【００３７】

【化１２】

【００３８】（化学式[化１２]中、ＲはＣ，Ｈ，Ｏ，Ｎ
で構成する置換基を示す。）[化１２]を繰り返し単位と
して有するポリフルオレン化合物、などが挙げられる。

【００３９】一方、発光層４０のドープ剤４１は、励起
子たるホスト剤の励起エネルギーにより燐光を放射する
物質であり、

【００４０】

【化１３】

【００４１】［化１３］に示すトリ（２フェニルピリジ
ン）イリジウム錯体（以下Ｉｒ（ｐｐｙ）₃とも言
う。）、

【００４２】

【化１４】

【００４３】

【化１５】

【００４４】

【化１６】

【００４５】

【化１７】

【００４６】

【化１８】

【００４７】

【化１９】

【００４８】（化学式[化１９]中、ａｃａｃは、

【００４９】

【化２０】

【００５０】[化２０]で示される官能基を示す。下記
[化２１]乃至[化２５]に示す化学式において同じ。）

【００５１】

【化２１】

【００５２】

【化２２】

【００５３】

【化２３】

【００５４】

【化２４】

【００５５】

【化２５】

【００５６】[化１４]乃至[化１９]、[化２１]乃至[化
２５]で示されるイリジウム錯体化合物、

【００５７】

【化２６】

【００５８】［化２６］に示す２，３，７，８，１２，
１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−白
金（II）ポルフィン（以下ＰｔＯＥＰとも言う。）など
を挙げることができる。

【００５９】また、発光層４０に添加可能なバインダ高
分子の例として、ポリスチレン、ポリビニルビフェニ
ル、ポリビニルフェナントレン、ポリビニルアントラセ
ン、ポリビニルペリレン、ポリ（エチレン−ｃｏ−ビニ
ルアセテート）、ポリブタジエンのｃｉｓとｔｒａｎ
ｓ、ポリ（２−ビニルナフタレン）、ポリビニルピロリ
ドン、ポリスチレン、ポリ（メチルメタクリレート）、
ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（２−ビニルピリジン
−ｃｏ−スチレン）、ポリアセナフチレン、ポリ（アク
リロニトリル−ｃｏ−ブタジエン）、ポリ（ベンジルメ
タクリレート）、ポリ（ビニルトルエン）、ポリ（スチ
レン−ｃｏ−アクリロニトリル）、ポリ（４−ビニルビ
フェニル）、ポリエチレングリコールなどが挙げられ
る。

【００６０】また、正孔ブロック層５０は、陽極層１０
から発光層４０へ注入された正孔がそのまま陰極層７０
へ通過してしまうことを防ぐため正孔をブロックするた
めの層であり、正孔ブロック性物質で構成される。正孔
ブロック性物質としては、例えば、

【００６１】

【化２７】

【００６２】[化２７] に示す２−（４−ビフェニリ
ル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，
３，４−オキサジアゾール、（以下ＰＢＤともい
う。）、

【００６３】

【化２８】

【００６４】[化２８]に示すバソキュプロイン（以下Ｂ
ＣＰともいう。）、[化１１]に示すＯＸＤ−１、［化２
７］に示すＰＢＤ、

【００６５】

【化２９】

【００６６】［化２９］に示すトリス（８−ヒドロキシ
キノリナート）アルミニウム（以下Ａｌｑ３ともい
う。）、

【００６７】

【化３０】

【００６８】［化３０］に示す３−（４−ビフェニリ
ル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フ
ェニル−１，２，４−トリアゾール（以下、ＴＡＺとも
いう。）、

【００６９】

【化３１】

【００７０】［化３１］に示す４，４’−ビス（１，１
−ジフェニルエテニル）ビフェニル（以下にＤＰＶＢｉ
ともいう。）、

【００７１】

【化３２】

【００７２】［化３２］に示す２，５−ビス（１−ナフ
チル）−１．３．４−オキサジアゾール（以下にＢＮＤ
ともいう。）

【００７３】

【化３３】

【００７４】［化３３］に示される４，４’−ビス
（１，１−ビス（４−メチルフェニル）エテニル）ビフ
ェニル（以下ＤＴＶＢｉとも言う。）、

【００７５】

【化３４】

【００７６】［化３４］に示される２，５−ビス（４−
ビフェニリル）−１，３，４−オキサジアゾール（以下
ＢＢＤともいう。）、

【００７７】

【化３５】

【００７８】

【化３６】

【００７９】［化３５］、［化３６］に示すようなオキ
サジアゾール系高分子化合物、

【００８０】

【化３７】

【００８１】

【化３８】

【００８２】［化３７］、［化３８］で示すようなトリ
アゾール系高分子化合物、などを挙げることができる。

【００８３】また、電子輸送層６０は、陰極層７０から
注入される電子を輸送するための層であり、電子輸送剤
を含む。電子輸送剤は、電子輸送性高分子で構成され、
さらに電子輸送性低分子を含む構成が可能である。

【００８４】ここで、電子輸送性低分子の例として、
［化２７］に示すＰＢＤ、［化２９］に示すＡｌｑ３、
［化３０］に示すＴＡＺ、［化３１］に示すＤＰＶＢ
ｉ、［化３２］に示すＢＮＤ、［化３３］に示すＤＴＶ
Ｂｉ、［化３４］に示すＢＢＤなどを挙げることができ
る。

【００８５】また、電子輸送性高分子の例として、［化
３５］、［化３６］で示されるようなオキサジアゾール
系高分子化合物、［化３７］、［化３８］で示されるよ
うなトリアゾール系高分子化合物、

【００８６】

【化３９】

【００８７】（化学式[化３９]中、ＲはＣ，Ｈ，Ｏ，Ｎ
で構成する置換基を示す。）[化３９]を繰り返し単位に
有するポリフルオレン化合物、などが挙げられる。

【００８８】発光効率のさらなる向上や構造の簡素化の
ため、図１（ａ）に示す有機エレクトロルミネッセンス
素子の基本構造に変更を加えたものとして、図１（ｂ）
〜（ｅ）に示す素子構造が可能である。

【００８９】図１（ｂ）で示される有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の素子構造は、本発明の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の第１の実施形態を示す。図１
（ａ）の電子ブロック層３０と正孔ブロック層５０とが
省略されているが、図１（ｂ）において、正孔輸送層２
０に電子ブロック効果を、電子輸送層６０に正孔ブロッ
ク効果をそれぞれ持たせて、発光効率を維持させること
ができる。

【００９０】図１（ｃ）で示される有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の素子構造は、図１（ａ）で示す素子構
造において、電子ブロック層３０と正孔ブロック層５０
とを省略し、陰極層７０と電子輸送層６０との間に電子
注入性物質で構成される電子注入層６１を追加したもの
である。

【００９１】電子注入性物質としては、たとえば、フッ
化リチウム、酸化リチウム、

【００９２】

【化４０】

【００９３】[化４０]で示される８−ヒドロキシキノリ
ナートリチウム（以下Ｌｉｑともいう。）などが挙げら
れる。

【００９４】図１（ｄ）で示される有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の素子構造は、図１（ａ）で示す素子構
造から、電子ブロック層３０と正孔ブロック層５０とを
省略し、陽極層１０と正孔輸送層２０との間に正孔注入
性物質で構成される正孔注入層２１を追加したものであ
る。

【００９５】正孔注入性物質としては、例えば、[化８]
に示すカッパーフタロシアニンなどの金属フタロシアニ
ンや、

【００９６】

【化４１】

【００９７】[化４１]で示される、ポリ（３，４）エチ
レンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネート
（以下ＰＥＤＴ／ＰＳＳともいう。）、などが挙げられ
る。

【００９８】図１（ｅ）で示される有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の素子構造は、図１（ａ）で示す素子構
造から、電子ブロック層３０と電子輸送層６０とを省略
したものである。

【００９９】次に、図１（ｂ）を本発明の第１の実施形
態として、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法を説明する。

【０１００】まず、基板となる透明絶縁性支持体、例え
ばガラス基板上に陽極層１０を蒸着法またはスパッタ法
にて形成する。

【０１０１】次に、正孔輸送性高分子または正孔輸送性
低分子を溶媒に溶解または分散した第１の溶液を作成す
る。ここで、第１の溶液に、さらにバインダ高分子を溶
解または分散することも可能である。そして、第１の溶
液を用いた湿式法によって、陽極層１０上に第１の有機
層たる正孔輸送層２０を形成する。

【０１０２】さらに、発光層４０のドープ剤４１とホス
ト剤４２とを溶媒に溶解または分散した第２の溶液を作
成する。ここで、第２の溶液に、さらにバインダ高分子
を溶解または分散することも可能である。そして、その
第２の溶液を用いた湿式法によって、上記正孔輸送層２
０上に発光層４０を形成する。

【０１０３】その後、電子輸送性高分子または電子輸送
性低分子を溶媒に溶解または分散した第３の溶液を作成
する。ここで、第３の溶液に、さらにバインダ高分子を
溶解または分散することも可能である。その第３の溶液
を用いた湿式法によって、発光層４０上に第２の有機層
たる電子輸送層６０を形成する。

【０１０４】また、第２の溶液に用いた溶媒の溶解度パ
ラメータは、発光層４０の成膜温度において、正孔輸送
層２０に含まれる物質（正孔輸送性高分子または正孔輸
送性低分子など）に対して可溶範囲外を示す値を有す
る。このような溶媒を用いた、湿式法による発光層４０
の形成において、下層の正孔輸送層２０に含まれる有機
物を溶解することがない。

【０１０５】例えば、正孔輸送層２０に含まれる有機物
が正孔輸送性高分子たる、[化１]に示すＰＶＫの時、こ
のＰＶＫの可溶範囲を示す溶解度パラメータは、室温に
おいて、８．９（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上１０．０（ｃ
ａｌ／ｃｍ³）^1/2以下である。従って、第２の溶液に用
いる溶媒として、この溶解度パラメータの範囲外にある
溶媒を用いると、正孔輸送層２０に含まれるＰＶＫを溶
解することなく発光層４０を形成することができる。こ
のような溶媒の例として、キシレン（溶解度パラメータ
が８．８（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）、エチルベンゼン（溶
解度パラメータが８．７（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）、２−
ニトロプロパン（溶解度パラメータが１０．１（ｃａｌ
／ｃｍ³）^1/2）、シクロヘキサン（溶解度パラメータが
８．２（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）などが挙げられる。

【０１０６】また、第３の溶液に用いる溶媒の溶解度パ
ラメータは、電子輸送層６０の成膜温度において、発光
層４０に含まれる物質（ドープ剤４１、ホスト剤４２及
びバインダ高分子など）に対して可溶範囲外を示す値を
有する。このような溶媒を用いた、湿式法による電子輸
送層６０の形成において、下層の発光層４０に含まれる
有機物を溶解することがない。

【０１０７】例えば、発光層４０に含まれるドープ剤４
１が[化１１]に示すＯＸＤ−１であり、ホスト剤４２が
[化１３]に示すＩｒ（ｐｐｙ）₃であり、バインダ高分
子としてポリ（４-ビニルビフェニル）を用いる時、こ
れらの発光層を構成する有機物の可溶範囲を示す溶解度
パラメータは、室温において８．７（ｃａｌ／ｃｍ³）
^1/2以上１１．１（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以下である。し
たがって、第３の溶液に用いる溶媒として、この溶解度
パラメータの範囲外にある溶媒を用いると、発光層４０
に含まれる有機物を溶解することなく電子輸送層６０を
形成する事が出来る。このような、溶媒の例としてｎ−
ノナン（溶解度パラメータ７．６４（ｃａｌ／ｃｍ³）
^1/2）、1-デセン（溶解度パラメータ７．８５（ｃａｌ
／ｃｍ³）^{1 /2}）、メチルシクロヘキサン（溶解度パラメ
ータ８．１３（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）、シクロヘキサン
（溶解度パラメータ８．２０（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）、
１−クロロプロパン（溶解度パラメータ８．３０（ｃａ
ｌ／ｃｍ³）^1/2）、アセトニトリル（溶解度パラメータ
１１．８（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）などが挙げられる。

【０１０８】この時、上記の第１乃至第３の溶液に用い
る溶媒は自然乾燥によって蒸発することにより、正孔輸
送層２０と発光層４０と電子輸送層６０とが形成され
る。この場合、加熱、紫外線の照射による重合、硬化等
の処理を行う必要がなく、従って、製造工程が簡単であ
り、生産効率を向上させることができる。

【０１０９】本発明で使用される湿式法には、たとえば
キャスティング法、ブレードコート法、浸漬塗工法、ス
ピンコート法、スプレイコート法、ロール塗工法、イン
クジェット塗工法などの通常の塗工法が含まれる。

【０１１０】最後に、発光層４０上に、蒸着法などを用
いて陰極を形成し、本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子が得られる。

【０１１１】なお、溶解度パラメータＳＰは、モル蒸発
熱ΔＨ、モル体積Ｖの液体の絶対温度Ｔにおいて、 ＳＰ＝｛（ΔＨ−ＲＴ）／Ｖ｝^1/2 で定義される。ただし、上記式中、ＳＰは溶解度パラメ
ータ（単位：（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）であり、ΔＨはモ
ル蒸発熱（単位：ｃａｌ／ｍｏｌ）であり、Ｒは気体定
数（単位：ｃａｌ／（ｍｏｌ・Ｋ））であり、Ｔは絶対
温度（単位：Ｋ）であり、Ｖはモル体積（単位：ｃｍ³
／ｍｏｌ）である。

【０１１２】また、図１（ｃ）は、本発明の有機エレク
トロルミネッセンス素子の第２の実施形態であり、上記
図１（ｂ）で示される素子構造の製造工程中、正孔輸送
層２０、発光層４０、電子輸送層６０を順次形成した
後、該電子輸送層６０上にフッ化リチウムなどの電子注
入性物質を蒸着法により成膜して電子注入層６１を形成
した後に、該電子注入層６１上に、上記図１（ｂ）と同
様に陰極を形成する製造工程を経て得られる。

【０１１３】また、図１（ｄ）は、本発明の有機エレク
トロルミネッセンス素子の第３の実施形態であり、上記
図１（ｂ）で示される素子構造の製造工程中、正孔輸送
層２０の形成前に、陽極層１０上に、[化８]で示すカッ
パーフタロシアニンなどの正孔注入性物質を蒸着法によ
り成膜して正孔注入層２１を形成した後に、該正孔注入
層２１上に、上記図１（ｂ）と同様に正孔輸送層２０、
発光層４０、電子輸送層６０、陰極層７０を順次形成す
る製造工程を経て得られる。

【０１１４】さらに、図１（ｅ）は、本発明の有機エレ
クトロルミネッセンス素子の第４の実施形態であり、上
記図１（ｂ）で示される素子構造の製造工程中、電子輸
送層６０を形成する替りに、発光層４０上にＰＢＤなど
の正孔ブロック性物質を湿式法により成膜して正孔ブロ
ック層５０を形成した後に、陰極層７０を形成する製造
工程を経て得られる。

【０１１５】

【実施例】[実験１]所定の膜厚を有する薄膜を基板上に
積層したテストピースを作成し、所定の溶解度パラメー
タを有する溶媒に対する溶解範囲を測定した。

【０１１６】有機エレクトロルミネッセンス素子を構成
する、正孔輸送層、電子ブロック層、発光層、正孔ブロ
ック層、電子輸送層、電子注入層などの薄膜層の材料６
ｍｇを、可溶な溶媒１ｍｌに溶解して、溶液を作成す
る。この溶液を用いて、酸素プラズマ処理を施した市販
のＩＴＯ基板（旭硝子社製：２０Ω／□）上に、スピン
コート法により膜厚が５０ｎｍとなるように、回転数及
び時間を調整して、薄膜付の基板を作成し、テストピー
スとする。

【０１１７】

【表１】

【０１１８】[表１]に示す溶解度パラメータを有する溶
媒を、これら溶解度パラメータ値の昇順に用意し、図２
（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、それらの溶媒１で
満たされたビーカー２にテストピース３をそれぞれ１０
秒間浸漬させ、その後、図２（ｃ）に示すように、テス
トピース３を取り出して薄膜が溶解したか否かを目視で
確認する。

【０１１９】薄膜が溶解する溶媒の溶解度パラメータの
うち、最小値と最大値とをテストピースの溶解範囲と定
義する。 ［実施例１］ゲルパーエイションクロマトグラフィーに
より測定したポリスチレン換算重量平均量（以下分子量
という。）１，１００，０００のＰＶＫ６ｍｇを１ｍｌ
の１，２ジクロロエタンで溶解して、溶液１を作成し
た。

【０１２０】ＯＸＤ−１として２．５ｍｇとＩｒ（ｐｐ
ｙ）₃として０．１７ｍｇバインダ高分子として分子量
１００，０００のポリビニルビフェニル２．５ｍｇをキ
シレン（溶解度パラメータ８．８（ｃａｌ／ｃ
ｍ³）^1/2）１ｍｌに溶解して、溶液２を作成した。

【０１２１】ＰＢＤとして２．５ｍｇとバインダ高分子
としてポリスチレン（分子量１０，０００）２．５ｍｇ
をシクロヘキサン（溶解度パラメータ８．２（ｃａｌ／
ｃｍ ³）^1/2）の溶媒１ｍｌに溶解して、溶液３を作成し
た。

【０１２２】酸素プラズマ処理を行ったＩＴＯ基板上
（市販ＩＴＯ、旭硝子社製：２０Ω／□以下）に溶液１
を回転数１５００ｒｐｍ、１秒間スピンコートする事に
より５０ｎｍの正孔輸送層を形成した。[実験１]による
正孔輸送層の溶解範囲は８．９〜１０．０（ｃａｌ／ｃ
ｍ³）^1/2であった。

【０１２３】さらに、正孔輸送層上に溶液２を回転数１
０００ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により２０
ｎｍの発光層を得た。[実験１]による発光層の溶解範囲
は８．７〜１１．１（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2であった。

【０１２４】さらに、発光層上に溶液３を回転数１００
０ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により５０ｎｍ
の電子輸送層を得た。

【０１２５】真空蒸着装置により真空度１０^-3Ｐａでア
ルミニウムとリチウムを、リチウムが１％となるように
蒸着速度１ｎｍ／ｓｅｃの速度で共蒸着して陰極を形成
した。

【０１２６】このようにして得られる図１（ｂ）に示す
素子構造において、９Ｖ、１ｍＡ／ｃｍ²で４８０ｃｄ
／ｍ²の緑色の発光を得た。

【０１２７】[実施例２] ［実施例１］の溶液２の溶媒
を下表の溶媒にした以外は［実施例１］と同様に図１
（ｂ）に示す素子構造を作成したところ、下記に示す
[表２]のような発光効率の発光が得られた。

【０１２８】

【表２】

【０１２９】[実施例３] ［実施例１］の溶液３の溶媒
を下表の溶媒にした以外は［実施例１］と同様に図１
（ｂ）に示す素子構造を作成したところ、下記に示す
[表３]のような発光効率の発光が得られた。

【０１３０】

【表３】

【０１３１】[実施例４] ［実施例１］の溶液２の溶質
のＩｒ（ｐｐｙ）₃に替え、下記に示す［表４］のドー
プ剤を使用した事以外は［実施例１］と同様に図１
（ｂ）に示す素子構造を作成したところ、下記［表４］
に示す発光効率の発光が得られた。

【０１３２】

【表４】

【０１３３】[実施例５] ［実施例１］において、電子
輸送層と陰極の間に電子注入層として、フッ化リチウム
を真空蒸着で真空度１０^-3Ｐａ速度０．１ｎｍ／ｓｅｃ
で５ｎｍ成膜し陰極をアルミニウムに替えた事以外は
［実施例１］と同様の条件で図１（ｃ）の素子構造を作
成した。

【０１３４】この時、８．７Ｖ、１ｍＡ／ｃｍ²で５２
０ｃｄ／ｍ²の緑色の発光を得られた。

【０１３５】［実施例６］［実施例１］において、ＩＴ
Ｏ陽極と正孔輸送層の間に正孔注入層として、カッパー
フタロシアニンを真空蒸着で真空度１０^-3Ｐａ速度０．
１ｎｍ／ｓｅｃで５ｎｍ成膜した事以外は［実施例１］
と同様の条件で図１（ｄ）の素子構造を作成した。

【０１３６】この時、８．４Ｖ、１ｍＡ／ｃｍ²で５２
０ｃｄ／ｍ²の緑色の発光を得られた。

【０１３７】[実施例７] [化３９]で示される繰り返し
単位を有するポリフルオレン化合物の分子構造中のＲを
直鎖のアルキル基（−Ｃ_nＨ_2n+1）とし、分子量を１，
０００，０００とした場合において、溶解範囲を[実験
１]にしたがい測定したところ、下記に示す[表５]に示
される結果が得られた。

【０１３８】

【表５】

【０１３９】このことから、上記Ｒ中の直鎖の長さで溶
解範囲を変動させることができることが判る。

【０１４０】そこで、ＰＶＫ分子量１，１００，０００
の６ｍｇを１ｍｌの１，２ジクロロエタンで溶解して、
溶液１を作成した。

【０１４１】ＯＸＤ−１として２．５ｍｇとＩｒ（ｐｐ
ｙ）₃として０．１７ｍｇとバインダ高分子としてポリ
ビニルビフェニル（分子量１１５，０００）２．５ｍｇ
をキシレン１ｍｌに溶解して、溶液２を作成した。

【０１４２】[化３９]においてＲを直鎖のアルキル基
（−Ｃ_nＨ_2n+1）とした繰り返し単位を持つ分子量１，
０００，０００の重合体５ｍｇをシクロヘキサン１ｍｌ
に溶解して、溶液３を作成した。

【０１４３】酸素プラズマ処理を行なったＩＴＯ基板上
（市販ＩＴＯ、旭硝子社製：２０Ω／□以下）に溶液１
を回転数１０００ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事
により５０ｎｍの正孔輸送層を得た。

【０１４４】正孔輸送層上に溶液２を回転数１０００ｒ
ｐｍ、１秒間でスピンコートする事により２０ｎｍの発
光層を得た。［実験１］による該発光層の溶解範囲は
８．６〜１１．１（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2であった。

【０１４５】さらに、発光層上に溶液３を回転数１００
０ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により５０ｎｍ
の電子輸送層を得た。

【０１４６】最後に真空蒸着装置によりアルミニウムと
リチウムを、真空度１０^-3Ｐａでリチウムが１％となる
ように蒸着速度１ｎｍ／ｓｅｃの速度で共蒸着して陰極
を形成した。

【０１４７】このようにして得られる図１（ｂ）に示す
素子構造において、下記に示す［表６］のような発光効
率の発光が得られた。

【０１４８】

【表６】

【０１４９】[実施例８] ［実施例７］において、溶液
２のバインダ高分子として分子量５０，０００を有する
ＰＶＫ、溶媒としてトリクロロエチレンを使用し、溶液
３の溶媒としてエチルベンゼンにした以外は、［実施例
７］と同様の条件で図１（ｂ）に示す素子構造を作成し
た。

【０１５０】この時、[実験１]による発光層の溶解範囲
は、８．９〜１０．６（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2であった。

【０１５１】このようにして得られる素子構造におい
て、下記[表７]に示す発光効率の発光が得られた。

【０１５２】

【表７】

【０１５３】［表６］と［表７］とを比較すると、溶液
３の溶媒としてエチルベンゼンを用いた［表７］におい
て、発光層のバインダ高分子をエチルベンゼンに不溶な
ＰＶＫ（分子量５０，０００）にした事により、１ｍＡ
／ｃｍ²での輝度が低下したと考えられる。

【０１５４】［実施例９］[化３９]で示される分子構造
中のＲを−Ｃ₁₀Ｈ₂₁とし、該[化３９]の繰り返し単位を
有する重合体の分子量を変動させた場合に、［実験１］
により溶解範囲を測定したところ、下記［表８］に示す
結果が得られた。

【０１５５】

【表８】

【０１５６】このことから、上記重合体の分子量を変動
させると溶解範囲も変動可能であることが判る。

【０１５７】そこで、［実施例７］と同様の条件で、図
１（ｂ）に示す素子構造を作成したところ、下記[表９]
に示す発光効率の発光が得られた。

【０１５８】

【表９】

【０１５９】［実施例１０］ [化３９]のＲを直鎖の−
Ｃ₁₀Ｈ₂₁とし、[化３９]の繰り返し単位を有する重合体
の分子量を１０，０００として、溶媒による性能の差を
調査した。［実施例７］において[化３９]で示される分
子構造中のＲを直鎖のアルキル基（−Ｃ_nＨ_2n+1）を−
Ｃ₁₀Ｈ₂₁とし、溶媒を置き換えた以外は［実施例７］と
同様の条件で図１（ｂ）の素子構造を作成したところ、
下記［表１０］に示される発光効率の発光を得た。

【０１６０】

【表１０】

【０１６１】［表６］と［表１０］とを比較すると、溶
媒が変更されても下層たる発光層の不溶範囲の溶媒を使
用すれば、１ｍＡ／ｃｍ²における輝度のばらつきは１
０％以内であることが判る。

【０１６２】［実施例１１］[化３]で示される繰り返し
単位を有するポリカルバゾール化合物の分子構造中のＲ
を直鎖のアルキル基（−Ｃ_nＨ_2n+1）とし、分子量を
１，０００，０００とした場合において、溶解範囲を
［実験１］にしたがい測定したところ、下記に示す［表
１１］に示される結果が得られた。

【０１６３】

【表１１】

【０１６４】このことにより、上記Ｒ中の直鎖の長さで
溶解範囲を変動させることができることが判る。

【０１６５】そこで、[化３]においてＲを直鎖のアルキ
ル基（−Ｃ_nＨ_2n+1）とした繰り返し単位を有する分子
量１００，０００の重合体６ｍｇをトリクロロメタン１
ｍｌに溶解して、溶液１を作成した。

【０１６６】ＯＸＤ−１として２．５ｍｇとＩｒ（ｐｐ
ｙ）₃として０．１７ｍｇ バインダ高分子として分子
量１００，０００のポリビニルビフェニル ２．５ｍｇ
をキシレン１ｍｌに溶解して、溶液２を作成した。

【０１６７】ＰＢＤ２．５ｍｇとバインダ高分子として
ポリスチレン（分子量１０，０００）２．５ｍｇをシク
ロヘキサン（溶解度パラメータ８．２（ｃａｌ／ｃ
ｍ³）^1/2）の溶媒１ｍｌに溶解して、溶液３を作成し
た。

【０１６８】酸素プラズマ処理を行なったＩＴＯ基板上
（市販ＩＴＯ、旭硝子社製：２０Ω／□以下）に溶液１
を回転数１５００ｒｐｍ、１秒間スピンコートする事に
より５０ｎｍの正孔輸送層を形成した。

【０１６９】さらに、正孔輸送層上に溶液２を回転数１
０００ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により２０
ｎｍの発光層を得た。

【０１７０】さらに、発光層上に溶液３を回転数１００
０ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により５０ｎｍ
の正孔ブロック層を得た。

【０１７１】真空蒸着装置により真空度１０^-3Ｐａでア
ルミニウムとリチウムを、リチウムが１％となるように
蒸着速度１ｎｍ／ｓｅｃの速度で共蒸着して陰極を形成
した。

【０１７２】このようにして得られた、図１（ｅ）に示
す素子構造により、下記［表１２］に示すような発光効
率の発光が得られた。

【０１７３】

【表１２】

【０１７４】[実施例１２]［実施例１１］における溶液
２の溶媒をトリクロロメタンに変更した以外は、［実施
例１１］と同様の条件で図１（ｅ）に示す素子構造を作
成した。

【０１７５】この時、全ての素子で上層成膜時に下層が
溶解してしまう為、発光むらが非常に多く測定不能であ
った。

【０１７６】[実施例１３]［実施例１１］における溶液
２の溶媒をαブロモナフタレンに変更した以外は、［実
施例１１］と同様の条件で図１（ｅ）に示す素子構造を
作成したところ、下記[表１３]に示すような発光効率の
発光が得られた。

【０１７７】

【表１３】

【０１７８】ｎ＝１１〜１２では、上層成膜時に下層が
溶解してしまう為、素子は作成できなかった。

【０１７９】［実施例１４］[化３]で示される分子構造
中のＲを−Ｃ₈Ｈ₁₇とし、該[化３]の繰り返し単位を有
する重合体の分子量を変動させた場合に、［実験１］に
より溶解範囲を測定したところ、下記［表１４］に示す
結果が得られた。

【０１８０】

【表１４】

【０１８１】このことにより、上記重合体の分子量によ
り溶解範囲の変更が可能であることが判る。

【０１８２】[化３]中のＲを直鎖の−Ｃ₈Ｈ₁₇とした場
合の[表１４]に示す各分子量の重合体６ｍｇを１ｍｌの
１，２ジクロロエタンで溶解して溶液１を作成した。

【０１８３】ＯＸＤ−１として２．５ｍｇとＩｒ（ｐｐ
ｙ）₃として０．１７ｍｇ バインダ高分子として分子
量１００，０００のポリビニルビフェニル ２．５ｍｇ
をエチルベンゼン１ｍｌに溶解して溶液２を作成した。

【０１８４】ＰＢＤ２．５ｍｇとバインダ高分子として
ポリスチレン（分子量１０，０００） ２．５ｍｇをシ
クロヘキサン（溶解度パラメータ８．２（ｃａｌ／ｃｍ
³）^{1 /2}）の溶媒１ｍｌに溶解して、溶液３を作成した。

【０１８５】酸素プラズマ処理を行なったＩＴＯ基板上
（市販ＩＴＯ、旭硝子社製：２０Ω／□以下）に溶液１
を回転数１５００ｒｐｍ、１秒間スピンコートする事に
より５０ｎｍの正孔輸送層を形成した。

【０１８６】さらに、正孔輸送層上に溶液２を回転数１
０００ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により２０
ｎｍの発光層を得た。

【０１８７】さらに、発光層上に溶液３を回転数１００
０ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により５０ｎｍ
の正孔ブロック層を得た。

【０１８８】真空蒸着装置により真空度１０^-3Ｐａでア
ルミニウムとリチウムを、リチウムが１％となるように
蒸着速度１ｎｍ／ｓｅｃの速度で共蒸着して陰極を形成
した。

【０１８９】このようにして作成した、図１（ｅ）に示
す素子構造により、下記［表１５］に示すような発光効
率の発光が得られた。

【０１９０】

【表１５】

【０１９１】分子量１０，０００では、上層成膜時に下
層が溶解してしまう為、素子は作成できなかった。

【０１９２】[実施例１１]乃至[実施例１４]の結果よ
り、正孔輸送層の溶解範囲を調整する事により、上層で
ある発光層を成膜する溶媒の選択範囲が広がる事が判
る。

【０１９３】[実施例１５][化１２]で示される分子構造
中のＲを直鎖のアルキル基（−Ｃ_nＨ_2n+1）とし、分子
量を１００，０００とした場合において、溶解範囲を
[実験１]にしたがい測定したところ、下記に示す[表１
６]に示される結果が得られた。

【０１９４】

【表１６】

【０１９５】このことにより、上記Ｒ中の直鎖の長さで
溶解範囲が変動可能であることが判る。

【０１９６】ここで、分子量１，１００，０００のＰＶ
Ｋ６ｍｇを１ｍｌの１，２ジクロロエタンで溶解して、
溶液１を作成した。

【０１９７】[化１２]を繰り返し単位として有するポリ
フルオレン化合物の分子構造中のＲを直鎖のアルキル基
（−Ｃ_nＨ_2n+1）とした分子量１００，０００の重合体
５ｍｇとＩｒ（ｐｐｙ）₃ を０．１７ｍｇをエチルベ
ンゼン１ｍｌに溶解して、溶液２を作成した。

【０１９８】ＰＢＤ２．５ｍｇとバインダ高分子として
分子量５０，０００のポリスチレン２．５ｍｌをシクロ
ヘキサン１ｍｌに溶解して、溶液３を作成した。

【０１９９】酸素プラズマ処理を行なったＩＴＯ基板上
（市販ＩＴＯ、旭硝子社製：２０Ω／□以下）に溶液１
を回転数１５００ｒｐｍ、１秒間スピンコートする事に
より５０ｎｍの正孔輸送層を形成した。［実験１］によ
れば、正孔輸送層の溶解範囲は８．９〜１０．０（ｃａ
ｌ／ｃｍ³）^1/2であった。

【０２００】さらに、正孔輸送層上に溶液２を回転数１
０００ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により２０
ｎｍの発光層を得た。

【０２０１】さらに、発光層上に溶液３を回転数１００
０ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により５０ｎｍ
の電子輸送層を得た。

【０２０２】最後アルミニウムとリチウムを、リチウム
が１％となるように蒸着速度１ｎｍ／ｓｅｃの速度で共
蒸着して陰極を形成した。

【０２０３】このようにして得られた図１（ｂ）に示す
素子構造により、下記［表１７］に示すような発光効率
の発光が得られた。

【０２０４】

【表１７】

【０２０５】Ｎ≦８では、電子輸送層成膜時に発光層が
溶解してしまう為、素子は作成できなかった。

【０２０６】［実施例１６］［実施例１５］における溶
液３の溶媒をαブロモナフタレンに変更した以外は、
［実施例１５］と同様の条件で図１（ｂ）に示す素子構
造を作成したところ、下記［表１８］に示すような発光
効率の発光が得られた。

【０２０７】

【表１８】

【０２０８】Ｎが１２〜１５では、電子輸送層成膜時に
発光層が溶解してしまう為、素子は作成できなかった。

【０２０９】［実施例１７］[化１２]で示される分子構
造中のＲを−Ｃ₈Ｈ₁₇とし、該[化１２]の繰り返し単位
を有する重合体の分子量を変動させた場合に、［実験
１］により溶解範囲を測定したところ、下記［表１９］
に示す結果が得られた。

【０２１０】

【表１９】

【０２１１】このことにより、上記重合体の分子量によ
り溶解範囲の変更が可能であることが判る。

【０２１２】ここで、［実施例１５］における[化１２]
で示される分子構造中のＲを−Ｃ₈Ｈ₁₇とし、[化１２]
の繰り返し単位を有する重合体の分子量を変動させて、
［実施例１５］と同様の条件で図１（ｂ）に示す素子構
造を作成したところ、下記［表２０］で示される発光効
率の発光が得られた。

【０２１３】

【表２０】

【０２１４】[実施例１８][化３]で示される繰り返し単
位を有するポリカルバゾール化合物の分子構造中のＲを
直鎖のアルキル基（−Ｃ_nＨ_2n+1）とした場合におい
て、溶解範囲を[実験１]にしたがい測定したところ、下
記に示す[表２１]に示される結果が得られた。

【０２１５】

【表２１】

【０２１６】このことにより、上記Ｒ中の直鎖の長さで
溶解範囲が変動可能であることが判る。

【０２１７】ここで、分子量１，１００，０００のＰＶ
Ｋ６ｍｇを１ｍｌの１，２ジクロロエタンで溶解して、
溶液１を作成した。

【０２１８】[化３]のＲを直鎖のアルキル基（−Ｃ_nＨ
_2n+1）とした分子量１０，０００の重合体５ｍｇとＩｒ
（ｐｐｙ）₃ を０．１７ｍｇをキシレン１ｍｌに溶解
して、溶液２を作成した。

【０２１９】ＰＢＤ２．５ｍｇとバインダ高分子として
分子量５０，０００のポリスチレン２．５ｍｌをシクロ
ヘキサン１ｍｌに溶解して、溶液３を作成した。

【０２２０】酸素プラズマ処理を行なったＩＴＯ基板上
（市販ＩＴＯ、旭硝子社製：２０Ω／□以下）に溶液１
を回転数１５００ｒｐｍ、１秒間スピンコートする事に
より５０ｎｍの正孔輸送層を形成した。この、正孔輸送
層の溶解範囲は８．９〜１０．０（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2
であった。

【０２２１】さらに、正孔輸送層上に溶液２を回転数１
０００ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により２０
ｎｍの発光層を得た。

【０２２２】さらに、発光層上に溶液３を回転数１００
０ｒｐｍ、１秒間でスピンコートする事により５０ｎｍ
の電子輸送層を得た。

【０２２３】最後に、アルミニウムとリチウムを、リチ
ウムが１％となるように蒸着速度１ｎｍ／ｓｅｃの速度
で共蒸着して陰極を形成した。

【０２２４】このようにして得られた図１（ｂ）に示す
素子構造により、下記［表２２］に示す発光効率の発光
が得られた。

【０２２５】

【表２２】

【０２２６】Ｎ＝１５では、電子輸送層成膜時に発光層
が溶解してしまう為、素子は作成できなかった。 ［実施例１９］［実施例１８］における溶液３の溶媒を
ニトロエタンに変更した以外は、［実施例１８］と同様
の条件で図１（ｂ）に示す素子構造を作成したところ、
下記［表２３］に示すような発光効率の発光を得た。

【０２２７】

【表２３】

【０２２８】Ｎ≧８では、電子輸送層成膜時に発光層が
溶解してしまう為、素子は作成できなかった。

【０２２９】［実施例２０］[化３]中のＲを−Ｃ₈Ｈ₁₇
とし、該[化３]の繰り返し単位を有する重合体の分子量
を変動させた場合に、［実験１］により溶解範囲を測定
したところ、下記［表２４］に示す結果が得られた。

【０２３０】

【表２４】

【０２３１】このことにより、上記重合体の分子量によ
り溶解範囲の変更が可能であることが判る。

【０２３２】ここで、上記重合体の分子量を変更して、
［実施例１８］と同様の条件で、図１（ｂ）に示す素子
構造を作成したところ、下記[表２５]に示すような発光
効率の発光を得ることができた。

【０２３３】

【表２５】

【０２３４】分子量が１００，０００〜１，０００，０
００の範囲では、溶液２が作成できなかった。

【０２３５】［実施例２１］［実施例１８］において、
[化３]のＲを直鎖の−Ｃ₁₂Ｈ₂₅とし、該[化３]を繰り返
し単位とする分子量１０，０００の重合体５ｍｇと、Ｉ
ｒ（ｐｐｙ）₃ ０．１７ｍｇとを下記［表２５］に示
す溶媒１ｍｌに溶解して溶液２を作成した以外は、［実
施例１８］と同様に図１（ｂ）に示す素子構造を作成し
たところ、下記［表２６］に示すような発光効率の発光
が得られた。

【０２３６】

【表２６】

【０２３７】溶媒が変化しても、正孔輸送層の溶解範囲
外では、１ｍＡ／ｃｍ²における輝度のばらつきは１０
％以内である。

【０２３８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
により、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する
薄膜層材料を溶液にした状態で、すなわち湿式法で、多
層に積層形成できるので、有機エレクトロルミネッセン
ス素子の素子構造の形成が簡易になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）〜（ｅ）有機エレクトロルミネッセンス
素子の素子構造

【図２】（ａ）〜（ｃ）サンプルピースの溶解範囲の溶
解度パラメータの測定手順

【符号の説明】

１０ 陽極層 ２０ 正孔輸送層（第１の有機層） ４０ 発光層 ４１ ドープ剤 ４２ ホスト剤 ６０ 電子輸送層（第２の有機層） ７０ 陰極層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3K007 AB02 AB03 AB04 AB06 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】陽極層及び陰極層の両電極層と、ホスト剤
   と燐光を放射するドープ剤とを有する発光層と、前記両
   電極層の間で該発光層を介して積層する第１及び第２の
   両有機層とを具備し、前記電極層の一方が基板上に形成
   される有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方
   法において、前記両電極層の間で、前記両有機層のうち
   前記基板側に位置すべき第１の有機層を溶液状態で形成
   し、次に、前記第１の有機層を構成する有機物に対して
   溶解範囲外の溶解度パラメータを有する溶媒に前記発光
   層を構成する有機物を溶解して成る溶液状態の発光層
   を、前記溶液状態の第１の有機層に積層し、さらに、前
   記発光層を構成する有機物に対して溶解範囲外の溶解度
   パラメータを有する溶媒に前記第２の有機層を構成する
   有機物を溶解して成る溶液状態の第２の有機層を、前記
   溶液状態の発光層に積層することを特徴とする有機エレ
   クトロルミネッセンス素子の製造方法。