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JP2002254548A - Laminated film - Google Patents

Laminated film

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Publication number
JP2002254548A
JP2002254548A JP2002134995A JP2002134995A JP2002254548A JP 2002254548 A JP2002254548 A JP 2002254548A JP 2002134995 A JP2002134995 A JP 2002134995A JP 2002134995 A JP2002134995 A JP 2002134995A JP 2002254548 A JP2002254548 A JP 2002254548A
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JP
Japan
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layer
laminated film
photosensitive
photosensitive layer
support
Prior art date
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Granted
Application number
JP2002134995A
Other languages
Japanese (ja)
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Inventor
Hajime Kakumaru
肇 角丸
Takeshi Ogawa
健 小川
Kazuhiko Onoda
和彦 小野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication of JP2002254548A publication Critical patent/JP2002254548A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated film which enables obtaining of a higher resolution than does a conventional laminated film when exposed to light and shows the easy follow-up behavior of a transfer layer tot irregularities on the surface of a substrate to be laminated. SOLUTION: This laminated film has a photosensitive layer 12 bonded to one side of a flexible support layer and a coat layer 13 bonded to the surface of the photosensitive layer 12. Further, the adhesive force between the support layer and the photosensitive layer 12 is reduced compared to the adhesive force between the coat layer 13 and the photosensitive layer 12 and the transfer layer to be transferred to an object for lamination is composed of the coat layer 13 and the photosensitive layer 12. During laminating, the photosensitive layer 12 is brought into contact with the substrate S.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、積層フィルムに関
し、さらに詳しく言えば、例えばプリント配線板を製造
する際にメッキあるいはエッチング用のレジスト膜とし
て好適に用いられる積層フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminated film, and more particularly, to a laminated film which is suitably used as a resist film for plating or etching, for example, when manufacturing a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線板を製造する際にメッキあ
るいはエッチング用のレジスト膜として用いられる従来
の積層フィルムは、例えば図22に示す構成を持つ。こ
の従来の積層フィルム100は、支持層(ベースフィル
ム)101の上に、感光層102と被覆層(保護フィル
ム)103を順に積層・接着して構成されている。この
積層フィルム100では、支持層101と感光層102
とが転移層104となって、ラミネートすべきプリント
配線板の基板S上にラミネートされる。
2. Description of the Related Art A conventional laminated film used as a resist film for plating or etching when manufacturing a printed wiring board has, for example, a structure shown in FIG. The conventional laminated film 100 is configured by sequentially laminating and bonding a photosensitive layer 102 and a covering layer (protective film) 103 on a support layer (base film) 101. In the laminated film 100, the support layer 101 and the photosensitive layer 102
Becomes a transition layer 104, and is laminated on the substrate S of the printed wiring board to be laminated.

【0003】この従来の積層フィルム100をラミネー
トする際には、被覆層103を剥離してから、感光層1
02を基板S側に向けて転移層104を基板S上に載
せ、その後、支持層101側から加熱ロールにより転移
層104を加圧して圧着させる。したがって、ラミネー
ト後の基板Sの断面は図21のようになる。
When laminating the conventional laminated film 100, the coating layer 103 is peeled off and the photosensitive layer 1 is removed.
The transfer layer 104 is placed on the substrate S with the reference numeral 02 facing the substrate S, and then the transfer layer 104 is pressed from the support layer 101 side by a heating roll and pressed. Therefore, the cross section of the substrate S after lamination is as shown in FIG.

【0004】次に、支持層101上にネガマスクを置
き、そのネガマスクを介して露光用の光線を照射して感
光層102を露光させる。その後、ネガマスクを取外
し、さらに支持層101を剥離してから現像すると、前
記ネガマスクと同じパターンを持つ感光層102が得ら
れる。そこで、この感光層102をレジスト膜として、
次のメッキあるいはエッチング工程を行なう。
Next, a negative mask is placed on the support layer 101, and the photosensitive layer 102 is exposed by irradiating light beams for exposure through the negative mask. Thereafter, when the negative mask is removed, the support layer 101 is peeled off, and then development is performed, so that a photosensitive layer 102 having the same pattern as the negative mask is obtained. Therefore, using this photosensitive layer 102 as a resist film,
The next plating or etching step is performed.

【0005】支持層101には、ポリエチレンテレフタ
レート(PET)などのフィルムが用いられ、その厚さ
は例えば20μmとされる。感光層102は、紫外線な
どを照射すると照射箇所の物性が変化する感光性樹脂組
成物により形成され、使用目的に応じて好適な組成物が
選択される。感光層102の厚さは、目的に応じて例え
ば25μm、33μm、40μmあるいは50μmに設
定される。被覆層103は、ポリエチレンなどのフィル
ムが用いられ、その厚さは例えば30μmとされる。
A film such as polyethylene terephthalate (PET) is used for the support layer 101, and its thickness is, for example, 20 μm. The photosensitive layer 102 is formed of a photosensitive resin composition whose physical properties change when irradiated with ultraviolet rays or the like, and a suitable composition is selected according to the purpose of use. The thickness of the photosensitive layer 102 is set to, for example, 25 μm, 33 μm, 40 μm, or 50 μm according to the purpose. As the coating layer 103, a film such as polyethylene is used, and its thickness is, for example, 30 μm.

【0006】上記構成を持つ従来の積層フィルムおよび
そのラミネート方法・装置は、例えば特開昭47−46
102号公報、特開平2−213849号公報に開示さ
れている。
A conventional laminated film having the above structure and a method and apparatus for laminating the same are disclosed, for example, in JP-A-47-46.
No. 102, JP-A-2-213849.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】近年、プリント配線板
では配線の高密度化が進んでおり、より高解像度のレジ
スト膜が望まれている。しかし、上記従来の積層フィル
ム100では、引張り強度を上げるために支持層101
の厚さをある程度大きく(例えば20μm程度)すると
共にその硬さもある程度大きくする必要がある。このた
め、支持層101内で生じる露光用光線の屈折や散乱な
どが大きくなって、より高い解像度が得られないという
問題がある。また、支持層101が必要とする前述の厚
さ及び硬さにより転移層104全体の柔軟性が十分でな
いため、ラミネートすべき基材の表面の凹凸に転移層1
04が追従し難く、その結果、基板Sと転移層との未接
着部分が多くなり、十分な製造歩留りが得られないとい
う問題がある。
In recent years, the density of wiring has been increased in printed wiring boards, and a resist film with higher resolution has been desired. However, in the conventional laminated film 100, the support layer 101 is required to increase the tensile strength.
It is necessary to increase the thickness to some extent (for example, about 20 μm) and also to increase the hardness to some extent. For this reason, there is a problem that refraction and scattering of the exposure light beam generated in the support layer 101 are increased, and higher resolution cannot be obtained. Further, since the flexibility of the entire transfer layer 104 is not sufficient due to the above-mentioned thickness and hardness required by the support layer 101, the transfer layer 1 may have unevenness on the surface of the substrate to be laminated.
04 is difficult to follow, as a result, the unbonded portion between the substrate S and the transition layer increases, and there is a problem that a sufficient production yield cannot be obtained.

【0008】そこで、この発明の目的は、露光する際に
従来よりも高い解像度が得られると共に、ラミネートす
べき対象の表面の凹凸に転移層が追従しやすい積層フィ
ルムを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a laminated film which can obtain a higher resolution than conventional ones at the time of exposure, and in which a transition layer can easily follow irregularities on the surface of an object to be laminated.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】(1) この発明の第1
の積層フィルムは、可撓性を有する支持層と、前記支持
層の一面に接着された感光層と、前記感光層の前記支持
層とは反対側の面に接着された被覆層とを備えてなる三
層構造の積層フィルムであって、前記被覆層は、前記感
光層に対する露光用光線に対して透明な熱可塑性樹脂を
含有すると共に、ラミネートすべき対象の表面に前記感
光層をラミネートする際に印加される熱と圧力に対する
耐性を有しており、当該積層フィルムに所定の張力を与
えながら前記支持層と前記感光層の間に引張力を印加し
た時に、前記被覆層と前記感光層の双方が前記支持層か
ら転移層として剥離するように構成してあり、前記支持
層から剥離した前記転移層を前記対象の表面に転移する
際には、前記感光層が前記対象の表面に接触せしめら
れ、前記感光層に対する前記露光用光線の照射は前記被
覆層を介して行われ、さらに、前記感光層をラミネート
する際に印加される熱と圧力は、前記被覆層を介して前
記感光層に印加されるようにしたことを特徴とする。
Means for Solving the Problems (1) The first aspect of the present invention
The laminated film of the above, comprising a flexible support layer, a photosensitive layer adhered to one surface of the support layer, and a coating layer adhered to the surface of the photosensitive layer opposite to the support layer A laminated film having a three-layer structure, wherein the coating layer contains a thermoplastic resin transparent to light for exposure to the photosensitive layer, and the photosensitive layer is laminated on a surface to be laminated. Has a resistance to heat and pressure applied to, when a tensile force is applied between the support layer and the photosensitive layer while applying a predetermined tension to the laminated film, the coating layer and the photosensitive layer Both are configured to be separated from the support layer as a transfer layer, and when the transfer layer separated from the support layer is transferred to the surface of the object, the photosensitive layer is brought into contact with the surface of the object. To the photosensitive layer. Irradiation of the exposure light beam is performed through the coating layer, and the heat and pressure applied when laminating the photosensitive layer are applied to the photosensitive layer through the coating layer. It is characterized by having done.

【0010】(2) この発明の第2の積層フィルム
は、可撓性を有する支持層と、前記支持層の一面に塗布
・乾燥された感光性樹脂組成物よりなる感光層と、前記
感光層の前記支持層とは反対側の面に接着された熱可塑
性樹脂を含有する被覆層とを備えてなる三層構造の積層
フィルムであって、ラミネートすべき対象に転移される
転移層が前記被覆層と前記感光層から構成されることを
特徴とする。
(2) The second laminated film of the present invention comprises a flexible support layer, a photosensitive layer composed of a photosensitive resin composition applied and dried on one surface of the support layer, and a photosensitive layer. And a coating layer containing a thermoplastic resin adhered to the surface on the opposite side of the support layer, wherein the transfer layer transferred to an object to be laminated is the coating film. And a photosensitive layer.

【0011】(3) この発明の第3の積層フィルム
は、可撓性を有する支持層と、前記支持層の一面に接着
された感光性樹脂組成物よりなる感光層と、前記感光層
の前記支持層とは反対側の面に接着された熱可塑性樹脂
を含有する被覆層とを備えてなる三層構造の積層フィル
ムであって、ラミネートすべき対象に転移される転移層
が前記被覆層と前記感光層から構成されることを特徴と
する。
(3) The third laminated film of the present invention comprises a flexible support layer, a photosensitive layer composed of a photosensitive resin composition adhered to one surface of the support layer, and A support film and a laminated film having a three-layer structure comprising a coating layer containing a thermoplastic resin adhered to the surface on the opposite side, wherein the transfer layer transferred to the object to be laminated is the coating layer and It is characterized by comprising the photosensitive layer.

【0012】(4) この発明の第4の積層フィルム
は、可撓性を有する支持層と、前記支持層の一面に接着
された感光性樹脂組成物よりなる感光層と、前記感光層
の前記支持層とは反対側の面に接着された熱可塑性樹脂
を含有する被覆層とを備えてなる三層構造の積層フィル
ムであって、ラミネートすべき対象の表面に前記感光層
をラミネートする際には、前記支持層が剥離され、前記
被覆層と前記感光層が前記対象に転移せしめられること
を特徴とする。
(4) A fourth laminated film according to the present invention includes a support layer having flexibility, a photosensitive layer made of a photosensitive resin composition adhered to one surface of the support layer, and the photosensitive layer. A support layer and a laminated film having a three-layer structure comprising a coating layer containing a thermoplastic resin adhered to the surface on the opposite side, when laminating the photosensitive layer on the surface to be laminated. Is characterized in that the support layer is peeled off and the coating layer and the photosensitive layer are transferred to the object.

【0013】(5) この発明の第1〜第4の積層フィ
ルムにおいて、前記支持層は、ラミネートする前に剥離
されるので、可撓性を有していて前記感光層を剥離可能
に接着できるものであれば、特に制限されない。例え
ば、紙、離型紙、あるいは、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレンなど
のフィルムが挙げられる。また、透明であっても非透明
であってもよい。なお、感光層を形成する際に通常、乾
燥炉を通るので、乾燥炉の温度で損傷を受けないことも
必要である。
(5) In the first to fourth laminated films of the present invention, since the support layer is peeled off before laminating, the support layer has flexibility and can peelably bond the photosensitive layer. If it is a thing, it will not be specifically limited. Examples include paper, release paper, and films of polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polystyrene, and the like. Further, it may be transparent or non-transparent. When the photosensitive layer is formed, it usually passes through a drying oven, so that it is necessary that the photosensitive layer is not damaged at the temperature of the drying oven.

【0014】前記支持層の厚さは特に制限されないが、
ロール状に巻いた場合のサイズの点を考慮すると、5〜
200μmとするのが好ましい。
Although the thickness of the support layer is not particularly limited,
Considering the size when wound in a roll,
It is preferably 200 μm.

【0015】前記感光層については、この種の積層フィ
ルムに使用される感光性樹脂組成物であれば任意に使用
できる。したがって、使用目的に応じて任意の感光性樹
脂組成物により前記感光層を形成すればよい。この感光
層は、好ましくは前記支持層上に適当な感光性樹脂組成
物を塗布・乾燥して形成されるので、使用目的に適合し
た感光性樹脂組成物を選定して塗布するようにすればよ
い。この場合、前記感光層は前記支持層に接触する。
The photosensitive layer can be arbitrarily used as long as it is a photosensitive resin composition used for this kind of laminated film. Therefore, the photosensitive layer may be formed of any photosensitive resin composition according to the purpose of use. Since this photosensitive layer is preferably formed by applying and drying a suitable photosensitive resin composition on the support layer, a photosensitive resin composition suitable for the intended use may be selected and applied. Good. In this case, the photosensitive layer contacts the support layer.

【0016】使用可能な感光性樹脂組成物としては、例
えば、特開昭50−147323号公報、特開昭52−
94388号公報、特開昭52−130701号公報、
特開昭53−128688号公報、特開昭53−560
18号公報、特開昭52−11798号公報、特開昭6
0−69646号公報などに示された感光性樹脂組成物
が挙げられる。
Examples of usable photosensitive resin compositions are described in, for example, JP-A-50-147323 and JP-A-52-147323.
94388, JP-A-52-130701,
JP-A-53-128688, JP-A-53-560
No. 18, JP-A-52-11798, JP-A-6-11
0-69646 and the like.

【0017】前記感光層の厚さも特に制限されないが、
5〜250μmとするのが好ましい。
Although the thickness of the photosensitive layer is not particularly limited,
The thickness is preferably 5 to 250 μm.

【0018】この発明の積層フィルムでは、前記支持層
を剥離して前記感光層および被覆層からなる転移層をラ
ミネートすべき対象に載せるので、ラミネートする際の
加熱・加圧作用を考慮して、前記被覆層は熱可塑性樹脂
を含有している。
In the laminated film of the present invention, since the support layer is peeled off and the transfer layer composed of the photosensitive layer and the coating layer is placed on an object to be laminated, taking into account the heating / pressing action at the time of lamination, The coating layer contains a thermoplastic resin.

【0019】前記被覆層として好ましい熱可塑性樹脂と
しては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリレート、ゼラチン、カルボキ
シメチルセルロース、スチロール/マレイン酸の共重合
体、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。
Preferred thermoplastic resins for the coating layer include, for example, polypropylene, polyethylene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyvinyl alcohol, polyacrylate, gelatin, carboxymethyl cellulose, styrene / maleic acid copolymer, and polyvinylpyrrolidone. Can be

【0020】前記被覆層は、ラミネートする際の温度に
おいて、10%以上の伸びを示し、且つ10%伸びた時
の応力が500gf以下とするのが好ましい。ここで言
う「伸び」および「応力」の測定法は、周囲温度をラミ
ネートする際の温度に設定してから、前記被覆層により
作製した幅2cmの試験片の両端部を、市販の引張り試
験機を用いてチャック間隔を2cm、歪速度を2cm/
分として引っ張るというものである。
It is preferable that the coating layer exhibits an elongation of 10% or more at a temperature at the time of lamination, and a stress at the time of 10% elongation is 500 gf or less. The measurement method of "elongation" and "stress" here is that the ambient temperature is set to the temperature at the time of laminating, and then both ends of a test piece having a width of 2 cm produced by the coating layer are put on a commercially available tensile tester. The chuck interval is 2 cm and the strain rate is 2 cm /
It is to pull as a minute.

【0021】伸びを10%以上とするのは、10%未満
とすると、ラミネートすべき対象の表面の凹凸に対する
前記感光層の追従性が低下するからである。また、伸び
が10%に達する前に破断すると、後の露光工程でその
破断部から前記感光層が露出するため、前記感光層に光
硬化不良が生じたり、その感光層が汚染されたりするか
らである。伸びの上限はないが、通常は750%であ
る。
The reason why the elongation is 10% or more is that if the elongation is less than 10%, the ability of the photosensitive layer to follow irregularities on the surface of the object to be laminated decreases. Further, if the film is broken before the elongation reaches 10%, the photosensitive layer is exposed from the broken portion in a subsequent exposure step, so that the photosensitive layer may have poor photocuring or may be contaminated. It is. Although there is no upper limit for elongation, it is usually 750%.

【0022】10%伸びた時の応力を500gf以下と
するのは、500gfを越えると、ラミネートすべき対
象の表面の凹凸に対する前記感光層の追従性が低下する
からである。この時の応力は、100gf以下とするの
が好ましく、20gf以下とするのがより好ましく、1
0gf以下とするのが特に好ましい。この応力の下限は
ないが、通常は1gfである。
The reason why the stress at 10% elongation is set to 500 gf or less is that if it exceeds 500 gf, the ability of the photosensitive layer to follow irregularities on the surface of the object to be laminated decreases. The stress at this time is preferably 100 gf or less, more preferably 20 gf or less, and 1 gf or less.
It is particularly preferred to be 0 gf or less. Although there is no lower limit of this stress, it is usually 1 gf.

【0023】前記被覆層の軟化点または融点は、40゜
C以上であるのが好ましい。40゜C未満の場合は、前
記被覆層側から転移層を加熱しながら加圧してラミネー
トする際に、その被覆層の表面にタックが生じて作業性
を低下させたり、その被覆層自体にシワが生じたりする
恐れがあるからである。軟化点または融点の上限はない
が、通常は200゜Cである。
The softening point or melting point of the coating layer is preferably 40 ° C. or higher. When the temperature is lower than 40 ° C., when the transfer layer is laminated while being heated and pressed from the side of the coating layer, a tack is generated on the surface of the coating layer to reduce workability, or the coating layer itself is wrinkled. This is because there is a risk of occurrence. There is no upper limit for the softening point or melting point, but it is usually 200 ° C.

【0024】前記被覆層の厚さは特に制限されない。露
光用光線の屈折を小さくするには、できるだけ薄い方が
好ましいが、ラミネートする際の引張り強度やラミネー
ト作業の容易性などを考慮すると、極端に薄くすること
も好ましくない。よって、これらの条件を考慮しながら
適宜の値に設定すればよい。しかし、前記被覆層の厚さ
は、0.01〜50μmとするのが好ましく、0.1〜
20μmとするのがより好ましい。
The thickness of the coating layer is not particularly limited. In order to reduce the refraction of the exposure light beam, it is preferable that the thickness is as thin as possible. However, in consideration of the tensile strength at the time of lamination and the ease of lamination, it is not preferable to make the thickness extremely thin. Therefore, an appropriate value may be set in consideration of these conditions. However, the thickness of the coating layer is preferably 0.01 to 50 μm, and 0.1 to 50 μm.
More preferably, it is 20 μm.

【0025】前記支持層と前記感光層の間の接着力(A
1)を、前記被覆層と前記感光層との間の接着力(A
2)よりも小さくする、換言すれば、前記被覆層と前記
感光層との間の接着力(A2)を前記支持層と前記感光
層の間の接着力(A1)よりも大きくするのが好まし
い。これは、こうしないと、ラミネートする際に前記支
持層のみを剥離する作業が好適に行なえないからであ
る。この場合、前記支持層が剥離されて前記被覆層と前
記感光層がラミネートすべき対象に転移せしめられるの
が好ましい。
The adhesive force (A) between the support layer and the photosensitive layer
1) is defined as the adhesive force (A) between the coating layer and the photosensitive layer.
It is preferable that the adhesive force (A2) between the coating layer and the photosensitive layer is larger than the adhesive force (A1) between the support layer and the photosensitive layer. . This is because the work of peeling off only the support layer at the time of lamination cannot be suitably performed unless this is done. In this case, it is preferable that the support layer is peeled off and the coating layer and the photosensitive layer are transferred to an object to be laminated.

【0026】前記支持層と前記感光層の間の接着力(A
1)は、180゜ピール強度として100gf/cm以
下であるのが好ましい。これが大き過ぎると、前記支持
層の剥離がスムーズに行なえなくなる傾向がある。前記
被覆層と前記感光層との間の接着力(A2)は、180
゜ピール強度において接着力(A1)より大きければよ
く、それ以外に特に制限はない。
The adhesive force (A) between the support layer and the photosensitive layer
1) is preferably 100 gf / cm or less as a 180 ° peel strength. If it is too large, there is a tendency that the support layer cannot be peeled off smoothly. The adhesive force (A2) between the coating layer and the photosensitive layer is 180
に お い て It is sufficient that the peel strength is larger than the adhesive strength (A1), and there is no particular limitation.

【0027】[0027]

【作用】この発明の積層フィルムでは、前記転移層をラ
ミネートすべき対象に転移させた時に、前記感光層上に
前記被覆層が存在するので、露光用の光線は前記被覆層
を介して感光層に照射される。この被覆層は、前記支持
層に比べればきわめて薄く形成できるので、前記光線の
前記被覆層による屈折、散乱などが抑制され、その結
果、従来より高い解像度が得られる。
In the laminated film of the present invention, when the transfer layer is transferred to an object to be laminated, the coating layer is present on the photosensitive layer, so that the light beam for exposure passes through the coating layer through the coating layer. Is irradiated. Since this coating layer can be formed to be extremely thin as compared with the support layer, refraction and scattering of the light beam by the coating layer are suppressed, and as a result, a higher resolution than before can be obtained.

【0028】また、ラミネートすべき対象の表面に前記
感光層をその表面に向けて転移した前記転移層を、加熱
しながら前記被覆層の側から加圧することによってラミ
ネートできるので、感光層と共に厚くて柔軟性の低い支
持層をラミネートする従来例に比べると、ラミネートす
べき対象の表面の凹凸に転移層が追従しやすくなる。
Further, since the transfer layer in which the photosensitive layer has been transferred to the surface to be laminated toward the surface can be laminated by applying pressure from the side of the coating layer while heating, the transfer layer can be thickened together with the photosensitive layer. As compared with a conventional example in which a support layer having low flexibility is laminated, the transition layer more easily follows irregularities on the surface to be laminated.

【0029】[0029]

【実施例】以下、この発明の実施例を添付図面に基づい
て詳細に説明する。 積層フィルム] (積層フィルムの構成)図1および図2は、この発明の
積層フィルムの一実施例を示す。図1はその転移層をプ
リント配線板用基板の上にラミネートした状態であり、
図2はその積層フィルムの断面である。この積層フィル
ムは、プリント配線板を製造する際にメッキあるいはエ
ッチング用のレジスト膜として用いられるものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. Laminated Film] (Configuration of Laminated Film) FIGS. 1 and 2 show one embodiment of the laminated film of the present invention. FIG. 1 shows a state in which the transition layer is laminated on a printed wiring board substrate,
FIG. 2 is a cross section of the laminated film. This laminated film is used as a resist film for plating or etching when manufacturing a printed wiring board.

【0030】図2の積層フィルム10は、支持層11の
上に、感光層12と被覆層13を順に積層・接着して構
成されている。この積層フィルム10では、被覆層13
と感光層12とが転移層14となって、プリント配線板
用基板Sの上にラミネートされる。
The laminated film 10 shown in FIG. 2 is constituted by laminating and bonding a photosensitive layer 12 and a coating layer 13 on a support layer 11 in order. In the laminated film 10, the coating layer 13
The photosensitive layer 12 and the photosensitive layer 12 become the transfer layer 14 and are laminated on the printed wiring board substrate S.

【0031】支持層11には、ポリエステル、ポリエチ
レンテレフタレート(PET)などのフィルムが用いら
れ、その厚さは例えば20μmとされる。
As the support layer 11, a film of polyester, polyethylene terephthalate (PET) or the like is used, and its thickness is, for example, 20 μm.

【0032】感光層12は、紫外線などの光線を照射す
ると照射箇所の物性が変化する感光性樹脂組成物により
形成され、使用目的に応じて好適な組成物が選択され
る。感光層12の厚さは、目的に応じて例えば25μ
m、33μm、40μmあるいは50μmに設定され
る。
The photosensitive layer 12 is formed of a photosensitive resin composition whose physical properties change when irradiated with light such as ultraviolet rays, and a suitable composition is selected according to the purpose of use. The thickness of the photosensitive layer 12 is, for example, 25 μm depending on the purpose.
m, 33 μm, 40 μm or 50 μm.

【0033】被覆層13は、例えばポリビニルアルコー
ル(PVA)が用いられる。被覆層13は、感光層12
上にポリビニルアルコールなどの溶液を所定厚さで塗布
した後、乾燥させることにより容易に得ることができ
る。被覆層13の厚さは例えば1μmとされる。
For the coating layer 13, for example, polyvinyl alcohol (PVA) is used. The coating layer 13 includes the photosensitive layer 12
It can be easily obtained by applying a solution such as polyvinyl alcohol to a predetermined thickness on the top and then drying it. The thickness of the coating layer 13 is, for example, 1 μm.

【0034】被覆層13は、感光層12と共に基板S上
に転移され、また被覆層13を介して感光層12に露光
用光線が照射されるので、ラミネート作業に支障が生じ
ない範囲でできるだけ薄く且つ柔軟なものにするのが好
ましい。
The covering layer 13 is transferred onto the substrate S together with the photosensitive layer 12, and the photosensitive layer 12 is irradiated with light for exposure through the covering layer 13, so that the covering layer 13 is as thin as possible without interfering with the laminating operation. And it is preferable to make it flexible.

【0035】このような構成を持つ積層フィルム10
は、図1に示すように、支持層11を剥離して得た転移
層14を、感光層12を基板S側に向けて基板S上にラ
ミネートされる。その後、被覆層13上に置いたネガマ
スクを介して感光層12を露光し、さらに被覆層13を
剥離してから感光層12を現像する。すると、ネガマス
クのパターンが転写された感光層12が得られる。そこ
で、この感光層12をレジスト膜として次のメッキある
いはエッチング工程を行なう。
The laminated film 10 having such a configuration
As shown in FIG. 1, the transfer layer 14 obtained by peeling the support layer 11 is laminated on the substrate S with the photosensitive layer 12 facing the substrate S. Thereafter, the photosensitive layer 12 is exposed through a negative mask placed on the coating layer 13, and the coating layer 13 is peeled off, and then the photosensitive layer 12 is developed. Then, the photosensitive layer 12 to which the pattern of the negative mask is transferred is obtained. Therefore, the next plating or etching step is performed using the photosensitive layer 12 as a resist film.

【0036】このように、この発明の積層フィルム10
では、基板S上にラミネートした時に感光層12上に存
在するのは、薄くて柔軟な被覆層13であるので、感光
層12上に支持層11を残す場合に比べて、露光用光線
の屈折や散乱などに起因して解像度が低下する恐れがき
わめて小さい。また、転移層14の柔軟性が高いので、
転移層14を感光層12と支持層11で構成する場合に
比べて、基板Sの表面の凹凸に対する追従性も良好とな
り、その結果、高い製造歩留りを得ることができる。 (積層フィルムの製造方法)上記構成を持つ積層フィル
ム10を製造する装置の一例を図3に示す。
As described above, the laminated film 10 of the present invention
Since the thin and flexible coating layer 13 is present on the photosensitive layer 12 when laminated on the substrate S, the refraction of the exposure light beam is smaller than when the support layer 11 is left on the photosensitive layer 12. The possibility that the resolution is reduced due to light scattering or the like is extremely small. In addition, since the flexibility of the transition layer 14 is high,
Compared with the case where the transition layer 14 is composed of the photosensitive layer 12 and the support layer 11, the followability to the unevenness of the surface of the substrate S is improved, and as a result, a high production yield can be obtained. (Method of Manufacturing Laminated Film) FIG. 3 shows an example of an apparatus for manufacturing the laminated film 10 having the above configuration.

【0037】図3の積層フィルム製造装置20では、繰
出しローラ21から繰り出された支持層11用フィルム
31が、送りローラ22、23、27によって所定速度
で送られながら巻取りローラ28に巻き取られ、その途
中で表面に感光層12が形成されるようになっている。
感光層12を形成する感光性樹脂組成物の溶液24は、
送りローラ23の近傍に貯留してあり、走行する支持層
11用フィルムの表面に自動的に塗布されるようにして
ある。感光性樹脂組成物の塗布厚は、送りローラ23に
近接して設けられた塗布厚調整ローラ25によって所定
値に調整される。感光性樹脂組成物層32が形成された
支持層用フィルム31は、送りローラ23、27間に設
けられた乾燥機26内を通過し、その際に感光性樹脂組
成物層32は温風乾燥される。こうして、支持層11用
フィルム31の表面に感光性樹脂組成物層32が形成さ
れる。
In the laminated film manufacturing apparatus 20 shown in FIG. 3, the film 31 for the support layer 11 fed from the feed roller 21 is taken up by the take-up roller 28 while being fed at predetermined speeds by feed rollers 22, 23 and 27. The photosensitive layer 12 is formed on the surface during the process.
The solution 24 of the photosensitive resin composition for forming the photosensitive layer 12 is
It is stored near the feed roller 23 and is automatically applied to the surface of the running support layer 11 film. The coating thickness of the photosensitive resin composition is adjusted to a predetermined value by a coating thickness adjusting roller 25 provided near the feed roller 23. The support layer film 31 on which the photosensitive resin composition layer 32 is formed passes through a dryer 26 provided between the feed rollers 23 and 27. At this time, the photosensitive resin composition layer 32 is dried with hot air. Is done. Thus, the photosensitive resin composition layer 32 is formed on the surface of the film 31 for the support layer 11.

【0038】巻取りローラ28による巻取り速度は、例
えば1m/分とされ、乾燥機26の温風の温度は例えば
90゜Cとされる。
The winding speed of the winding roller 28 is, for example, 1 m / min, and the temperature of the hot air of the dryer 26 is, for example, 90 ° C.

【0039】被覆層13を形成する部分は、図示してい
ないが、図3の感光層形成部分と同じ構成を持ってお
り、上記の感光層形成工程と同じ工程を繰り返すことに
より、感光性樹脂組成物層32の上に被覆層13用の樹
脂層が形成される。すなわち、表面に感光性樹脂組成物
層32を形成した支持層11用フィルム31を、繰出し
ローラ21から繰り出し、送りローラ22、23、27
で送りながら巻取りローラ28で巻き取る。感光性樹脂
組成物溶液24の代わりに被覆層13用の樹脂溶液を置
き、塗布厚調整ローラ25によって所定の塗布厚に調整
しながら、感光性樹脂組成物層32の上に塗布する。支
持層用フィルム31は、送りローラ23、27間に設け
られた乾燥機26内を通過し、その際に被覆層13用の
樹脂層が温風乾燥される。
Although the portion for forming the coating layer 13 is not shown, it has the same structure as that of the photosensitive layer forming portion in FIG. 3, and by repeating the same steps as the above-mentioned photosensitive layer forming step, the photosensitive resin is formed. A resin layer for the coating layer 13 is formed on the composition layer 32. That is, the film 31 for the support layer 11 having the photosensitive resin composition layer 32 formed on the surface thereof is fed out from the feed roller 21 and fed to the feed rollers 22, 23, 27.
The film is wound by the winding roller 28 while being fed. A resin solution for the coating layer 13 is placed in place of the photosensitive resin composition solution 24, and is applied onto the photosensitive resin composition layer 32 while being adjusted to a predetermined application thickness by an application thickness adjusting roller 25. The support layer film 31 passes through a dryer 26 provided between the feed rollers 23 and 27, and at that time, the resin layer for the coating layer 13 is dried with hot air.

【0040】こうして、支持層11用フィルム31の表
面に感光性樹脂組成物層32および被覆層13用樹脂層
が順に形成され、図2に示す構成の積層フィルム10が
得られる。
In this way, the photosensitive resin composition layer 32 and the resin layer for the coating layer 13 are sequentially formed on the surface of the film 31 for the support layer 11, and the laminated film 10 having the structure shown in FIG. 2 is obtained.

【0041】なお、積層フィルム10は、この種積層フ
ィルムを製造する装置であれば、図3以外の装置によっ
ても製造することができる。 (積層フィルムの具体例)以上の構成を持つ積層フィル
ム10の具体例を製法と共に次に示す。
The laminated film 10 can be produced by an apparatus other than that shown in FIG. 3 as long as the apparatus produces this kind of laminated film. (Specific Example of Laminated Film) A specific example of the laminated film 10 having the above-described structure is shown below together with the manufacturing method.

【0042】支持層11として、ポリエステルフィルム
(帝人株式会社製)を用い、そのポリエステルフィルム
の片面に、以下の組成を持つ感光性樹脂組成物溶液を乾
燥後の厚みが50μmとなるように塗布した後、温風乾
燥して感光層12を形成する。次に、感光層12の支持
層11とは反対側の面に、ポリビニルアルコール(和光
純薬工業株式会社製、重合度約2000)の1重量%エ
タノール溶液を乾燥後の厚みが1μmとなるように塗布
した後、温風乾燥して被覆層13を形成する。こうして
この発明の積層フィルム10を得る。 感光性樹脂組成物溶液の組成 メタクリル酸25重量%/メタクリル酸メチル75重量% の共重合体(重量平均分子量75000) 60重量部 テトラプロピレングリコールジアクリレート 40重量部 ジエチルアミノベンゾフェノン 0.2重量部 ベンゾフェノン 5重量部 クリスタルバイオレット 0.03重量部 および メチルエチルケトン 100重量部 [積層フィルム・ラミネート装置の第1例]次に、図2
の積層フィルム10をプリント配線板用基板S上にラミ
ネートする装置について説明する。
A polyester film (manufactured by Teijin Limited) was used as the support layer 11, and a photosensitive resin composition solution having the following composition was applied to one surface of the polyester film so that the thickness after drying was 50 μm. Thereafter, the photosensitive layer 12 is formed by drying with hot air. Next, a 1% by weight ethanol solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., degree of polymerization: about 2000) is dried on the surface of the photosensitive layer 12 opposite to the support layer 11 so as to have a thickness of 1 μm. , And dried with warm air to form a coating layer 13. Thus, the laminated film 10 of the present invention is obtained. Composition of photosensitive resin composition solution Copolymer of 25% by weight of methacrylic acid / 75% by weight of methyl methacrylate (weight average molecular weight: 75,000) 60 parts by weight Tetrapropylene glycol diacrylate 40 parts by weight Diethylaminobenzophenone 0.2 parts by weight Benzophenone 5 Parts by weight crystal violet 0.03 parts by weight and methyl ethyl ketone 100 parts by weight [First example of laminated film laminating apparatus] Next, FIG.
An apparatus for laminating the laminated film 10 on the printed wiring board substrate S will be described.

【0043】図4は、積層フィルム・ラミネート装置の
第1例を示す。このラミネート装置40では、基板Sの
走行路の上下に同じ構成の切断・剥離・転移ユニットを
備えている。また、積層フィルム10の転移層14を展
開した状態で保持する手段として、アプリケータ・ロー
ラ41、51を備えている。
FIG. 4 shows a first example of a laminated film laminating apparatus. The laminating apparatus 40 includes cutting, peeling, and transferring units having the same configuration above and below the traveling path of the substrate S. Further, applicator rollers 41 and 51 are provided as means for holding the transfer layer 14 of the laminated film 10 in a developed state.

【0044】巻物とした積層フィルム10は、繰出し軸
42、52に繰り出し可能に支持されている。ここで
は、積層フィルム10は被覆層13を内側に向けて巻か
れている。繰り出された積層フィルム10は、ニップ駆
動の一対の送りローラ44、54により所定速度でアプ
リケータ・ローラ41、51に向けて送られる。繰り出
された積層フィルム10は、被覆層13をアプリケータ
・ローラ41、51側に向けて支持されている。
The laminated film 10 in the form of a roll is supported on pay-out shafts 42 and 52 so as to be payable. Here, the laminated film 10 is wound with the covering layer 13 facing inward. The fed-out laminated film 10 is fed toward the applicator rollers 41 and 51 at a predetermined speed by a pair of feed rollers 44 and 54 driven by the nip. The fed-out laminated film 10 supports the coating layer 13 toward the applicator rollers 41 and 51.

【0045】アプリケータ・ローラ41は、図5に示す
ように、回転しない中心軸41bに対して回転可能に取
り付けられ且つ複数の放射状に延びる透孔41dを持つ
円筒状の外筒41aと、中心軸41bに回転しないよう
に垂直に取り付けられた仕切り板41cとを備えて構成
されている。外筒41aの外周面は、切断器50を押し
付けた時に積層フィルム10に損傷を加えない程度の硬
さを持つ物質で覆われている。外筒41aの外周面に
は、ほぼその全面にわたって透孔41dの開口が露出し
ている。
As shown in FIG. 5, the applicator roller 41 has a cylindrical outer cylinder 41a rotatably mounted on a non-rotating central shaft 41b and having a plurality of radially extending through holes 41d. And a partition plate 41c vertically attached to the shaft 41b so as not to rotate. The outer peripheral surface of the outer cylinder 41a is covered with a material having such a hardness that the laminated film 10 is not damaged when the cutter 50 is pressed. On the outer peripheral surface of the outer cylinder 41a, the opening of the through-hole 41d is exposed almost entirely.

【0046】外筒41aの内部は、仕切り板41cによ
り、積層フィルム10に近い第1室41eと、積層フィ
ルム10から遠い第2室41fに分割されている。第1
室41eは、低い真空になるように、図示しない真空ポ
ンプで常に排気されている。これによって、外筒41a
の外周面に近接配置される転移層14を、透孔41dを
介して真空吸着することができる。
The inside of the outer cylinder 41a is divided by a partition plate 41c into a first chamber 41e near the laminated film 10 and a second chamber 41f far from the laminated film 10. First
The chamber 41e is constantly evacuated by a vacuum pump (not shown) so as to have a low vacuum. Thereby, the outer cylinder 41a
The transfer layer 14 disposed in the vicinity of the outer peripheral surface can be vacuum-sucked through the through hole 41d.

【0047】第2室41fは、図示しない送風機により
常に送気され、大気圧より少し高い圧力に維持されてい
る。これによって、第2室41fに対面する箇所では、
外筒41aの外周面に真空吸着された転移層14に透孔
41dを介して空気が吹き付けられ、その結果、その転
移層14を外筒41aから確実に剥離することが可能と
なる。なお、第2室41fは大気圧に等しくしてもよ
い。
The second chamber 41f is constantly blown by a blower (not shown) and is maintained at a pressure slightly higher than the atmospheric pressure. Thereby, at the location facing the second chamber 41f,
Air is blown through the through-hole 41d to the transfer layer 14 that is vacuum-adsorbed on the outer peripheral surface of the outer cylinder 41a, and as a result, the transfer layer 14 can be reliably separated from the outer cylinder 41a. The second chamber 41f may be equal to the atmospheric pressure.

【0048】繰出し軸42、52から繰り出された積層
フィルム10は、転移層14がアプリケータ・ローラ4
1、51の外周面に部分的に接触せしめられている。積
層フィルム10は、その接触箇所の近傍で切断器50、
60によって転移層14のみが所定長さに切断される。
The laminated film 10 fed from the feed shafts 42 and 52 has a transfer layer 14 on which the applicator roller 4
1, 51 are partially contacted with the outer peripheral surface. The laminated film 10 has a cutting device 50 near the contact point.
60 cuts only the transition layer 14 to a predetermined length.

【0049】切断器50は、図6に示すように、回転軸
50bに回転可能に支持された回転体50aを備えて構
成され、回転体50aの外周縁に刃50cが形成されて
いる。この切断器50により、支持層11を残しながら
転移層14を切断する際には、引っ張り力を作用させな
がら支持層11の上から刃50cを押し付け、その状態
のままで積層フィルム10を横断する方向に回転軸50
bを移動させる。したがって、刃50cの形状は、その
時に支持層11を切断することなく転移層14を変形さ
せることができるように設定する。刃50cの材質とし
ては任意のものを使用できる。
As shown in FIG. 6, the cutting device 50 includes a rotating body 50a rotatably supported on a rotating shaft 50b, and a blade 50c is formed on the outer peripheral edge of the rotating body 50a. When the transition layer 14 is cut by the cutter 50 while leaving the support layer 11, the blade 50 c is pressed from above the support layer 11 while applying a tensile force, and traverses the laminated film 10 in that state. Axis of rotation 50
Move b. Therefore, the shape of the blade 50c is set so that the transition layer 14 can be deformed without cutting the support layer 11 at that time. Any material can be used as the material of the blade 50c.

【0050】所定長さに切断された転移層14は、真空
吸着により、アプリケータ・ローラ41、51の外周面
に沿って剥離されたままの状態(展開された状態)で保
持される。この時、被覆層13がアプリケータ・ローラ
41、51の外周面に接触している。
The transfer layer 14 cut to a predetermined length is held in a state of being separated (developed state) along the outer peripheral surfaces of the applicator rollers 41 and 51 by vacuum suction. At this time, the coating layer 13 is in contact with the outer peripheral surfaces of the applicator rollers 41 and 51.

【0051】他方、転移層14から剥離された支持層1
1は、アプリケータ・ローラ41、51の先に設けられ
た送りローラ45、55、46、56によってそれぞれ
巻取り軸43、53まで送られ、巻取り軸43、53に
よって所定速度で巻き取られる。
On the other hand, the support layer 1 separated from the transition layer 14
1 is fed to the take-up shafts 43 and 53 by feed rollers 45, 55, 46 and 56 provided in front of the applicator rollers 41 and 51, and is taken up by the take-up shafts 43 and 53 at a predetermined speed. .

【0052】アプリケータ・ローラ41、51に展開状
態で保持された転移層14は、アプリケータ・ローラ4
1、51の回転によって、両アプリケータ・ローラ4
1、51の間に送られて来る基板Sに接近せしめられ
る。その後、両アプリケータ・ローラ41、51はその
基板Sに向かって移動し、保持している転移層14を基
板Sの上下面にそれぞれ転移させる。この転移は、感光
層12の表面の粘着力を利用して行なう。
The transfer layer 14 held in the deployed state by the applicator rollers 41 and 51
The rotation of the applicator rollers 4
The substrate S sent between 1 and 51 is approached. Thereafter, the applicator rollers 41 and 51 move toward the substrate S, and transfer the held transfer layer 14 to the upper and lower surfaces of the substrate S, respectively. This transfer is performed using the adhesive force of the surface of the photosensitive layer 12.

【0053】この第1例では、第2室41bの圧力を大
気圧より高くしているので、転移層14はアプリケータ
・ローラ41、51から容易に剥離する。
In the first example, since the pressure in the second chamber 41b is higher than the atmospheric pressure, the transfer layer 14 is easily separated from the applicator rollers 41 and 51.

【0054】アプリケータ・ローラ41、51の回転速
度は、積層フィルム10の送り速度(例えば2m/分)
に同期するように設定されている。
The rotation speed of the applicator rollers 41 and 51 is the same as the feed speed of the laminated film 10 (for example, 2 m / min).
Is set to sync.

【0055】基板Sに転移された転移層14は、送りロ
ーラ48、58によって送られ、所定温度(例えば10
5±5゜C)に加熱された加圧ローラ49、59によっ
て、所定圧力(例えば3kg/cm2)で基板Sに向け
て加圧される。こうして、転移層14は基板Sに接着す
る。この時の状態は図1に示す通りであり、基板Sに感
光層12が接着され、感光層12の上に被覆層13が接
着されている。
The transfer layer 14 transferred to the substrate S is fed by feed rollers 48 and 58, and has a predetermined temperature (for example, 10 ° C.).
The pressure is applied to the substrate S at a predetermined pressure (for example, 3 kg / cm 2) by the pressure rollers 49 and 59 heated to 5 ± 5 ° C. Thus, the transition layer 14 adheres to the substrate S. The state at this time is as shown in FIG. 1, in which the photosensitive layer 12 is adhered to the substrate S, and the coating layer 13 is adhered on the photosensitive layer 12.

【0056】次に、ラミネート装置40を用いて積層フ
ィルム10をラミネートする方法を、図7〜図14を参
照しながらより詳細に説明する。上下の切断・剥離・転
移ユニットは同じ構成を持つので、ここでは上位のユニ
ットについて説明する。
Next, a method of laminating the laminated film 10 using the laminating apparatus 40 will be described in more detail with reference to FIGS. Since the upper and lower cutting / peeling / transfer units have the same configuration, only the upper unit will be described here.

【0057】繰出し軸42から繰り出された積層フィル
ム10は、図7に示すような状態でアプリケータ・ロー
ラ41の外周面に接触している。この状態では、切断器
50は積層フィルム10から離れている。また、積層フ
ィルム10には所定の引っ張り力が作用している。
The laminated film 10 fed from the feed shaft 42 is in contact with the outer peripheral surface of the applicator roller 41 in a state as shown in FIG. In this state, the cutter 50 is separated from the laminated film 10. Further, a predetermined tensile force acts on the laminated film 10.

【0058】まず最初に、積層フィルム10の送りとア
プリケータ・ローラ41の回転を停止させてから、切断
器50により、次のようにして転移層14の前端を切断
する。すなわち、切断器50を積層フィルム10に向か
って移動させ、図8に示すように、支持層11の上から
積層フィルム10を押圧して転移層14を変形させる。
この時の押圧力および転移層14への食込み量は、切断
器50の刃50cによって転移層14に剪断力が作用
し、切断器50を積層フィルム10から離した時に、積
層フィルム10に作用している引っ張り力によって転移
層14が自然に破断するような値に設定する。
First, after the feeding of the laminated film 10 and the rotation of the applicator roller 41 are stopped, the front end of the transfer layer 14 is cut by the cutter 50 as follows. That is, the cutter 50 is moved toward the laminated film 10, and as shown in FIG. 8, the laminated film 10 is pressed from above the support layer 11 to deform the transfer layer 14.
The pressing force and the amount of biting into the transfer layer 14 at this time act on the laminated film 10 when a shear force acts on the transfer layer 14 by the blade 50 c of the cutter 50 and the cutter 50 is separated from the laminated film 10. The value is set so that the transition layer 14 is naturally broken by the applied tensile force.

【0059】その後、切断器50を積層フィルム10か
ら離し、元の位置に戻す。この時、積層フィルム10に
作用している引っ張り力により支持層11が少し伸びる
が、転移層14は支持層11に比べて柔くて伸び易く且
つ破断強度が小さいので、図9に示すように、刃50c
により変形せしめられた箇所(層厚が薄くなった箇所)
で破断する。こうして、積層フィルム14の前端が切断
される。
Thereafter, the cutter 50 is separated from the laminated film 10 and returned to the original position. At this time, the support layer 11 slightly expands due to the tensile force acting on the laminated film 10, but the transition layer 14 is softer and easier to expand than the support layer 11 and has a small breaking strength, as shown in FIG. , Blade 50c
(The part where the layer thickness is reduced)
Breaks at Thus, the front end of the laminated film 14 is cut.

【0060】次に、積層フィルム10を所定速度で移動
させ、それと同時にその送り速度と同期させながらアプ
リケータ・ローラ41を回転させる。すると、切断箇所
より前方の転移層14は、支持層11と共に巻取り軸4
3に巻き取られる。切断箇所より後方の転移層14は、
アプリケータ・ローラ41の外周面に真空吸着されるの
で、アプリケータ・ローラ41の回転に伴って徐々に剥
離される。剥離された転移層14は、アプリケータ・ロ
ーラ41の外周面に真空吸着により保持される。
Next, the laminated film 10 is moved at a predetermined speed, and at the same time, the applicator roller 41 is rotated in synchronization with the feed speed. Then, the transition layer 14 in front of the cut portion is taken up together with the support layer 11 by the winding shaft 4.
It is wound on 3. The transition layer 14 behind the cut point is
Since the outer peripheral surface of the applicator roller 41 is vacuum-sucked, it is gradually peeled off as the applicator roller 41 rotates. The exfoliated transfer layer 14 is held on the outer peripheral surface of the applicator roller 41 by vacuum suction.

【0061】次に、所定長さの転移層14が得られるよ
うに、先に前端を切断した転移層14の後端を切断す
る。すなわち、積層フィルム10の送りとアプリケータ
・ローラ41の回転を再び停止させた後、図10、図1
1に示すように、前端を切断したのと同様にして切断器
50を移動させ、転移層14を変形させる。その後、積
層フィルム10の送りは停止したままで、アプリケータ
・ローラ41を回転させると、転移層14はアプリケー
タ・ローラ41の外周面に真空吸着されているので、そ
の変形箇所で転移層14が破断する。こうして所定長さ
の転移層14が得られる。なお、アプリケータ・ローラ
41の回転開始より少し遅れて、積層フィルム10の送
りを開始する。
Next, the rear end of the transition layer 14 whose front end has been previously cut is cut so that the transition layer 14 having a predetermined length is obtained. That is, after stopping the feeding of the laminated film 10 and the rotation of the applicator roller 41 again, FIG.
As shown in FIG. 1, the cutting device 50 is moved in the same manner as when the front end is cut, and the transition layer 14 is deformed. After that, when the applicator roller 41 is rotated while the feeding of the laminated film 10 is stopped, the transfer layer 14 is vacuum-sucked on the outer peripheral surface of the applicator roller 41, so that the transfer layer 14 Breaks. Thus, the transition layer 14 having a predetermined length is obtained. The feeding of the laminated film 10 is started slightly after the start of the rotation of the applicator roller 41.

【0062】以上のようにして得られた所定長さの転移
層14は、アプリケータ・ローラ41の回転に伴って図
12に示す所定位置まで移動する。そこで、アプリケー
タ・ローラ41は停止される。この位置では、基板Sの
前端から距離Lの位置に、転移層14の前端が一致して
いる。また、転移層14は基板Sから離れている。この
位置は、転移層14の前端が第1室41eに対面する範
囲に設定されるので、転移層14は基板Sに近い位置で
も真空吸着により保持され、したがって転移層14が基
板Sに向かって垂れ下がる恐れはない。
The transfer layer 14 having a predetermined length obtained as described above moves to a predetermined position shown in FIG. 12 as the applicator roller 41 rotates. There, the applicator roller 41 is stopped. In this position, the front end of the transition layer 14 coincides with a position at a distance L from the front end of the substrate S. Further, the transition layer 14 is separated from the substrate S. Since this position is set in a range where the front end of the transfer layer 14 faces the first chamber 41e, the transfer layer 14 is held by vacuum suction even at a position close to the substrate S, so that the transfer layer 14 moves toward the substrate S There is no danger of sagging.

【0063】図12に示すように、下位の剥離・転移ユ
ニットのアプリケータ・ローラ51についても、上記と
まったく同様にして、所定長さの転移層14がアプリケ
ータ・ローラ51の外周面に保持されて、図12に示す
所定位置まで移動する。なお、51aは外筒、51cは
仕切り板、51dは外筒51aに放射状に形成された透
孔、51e、51fはそれぞれ外筒51a内部に形成さ
れた第1室および第2室で、アプリケータ・ローラ41
と同様に、第1室51eは大気圧より低く設定され、第
2室51fは大気圧より高く設定されている。
As shown in FIG. 12, with respect to the applicator roller 51 of the lower peeling / transferring unit, the transfer layer 14 having a predetermined length is held on the outer peripheral surface of the applicator roller 51 in exactly the same manner as described above. Then, it moves to a predetermined position shown in FIG. 51a is an outer cylinder, 51c is a partition plate, 51d is a through hole radially formed in the outer cylinder 51a, 51e and 51f are a first chamber and a second chamber respectively formed inside the outer cylinder 51a, and an applicator.・ Roller 41
Similarly, the first chamber 51e is set lower than the atmospheric pressure, and the second chamber 51f is set higher than the atmospheric pressure.

【0064】次に、アプリケータ・ローラ41、51を
回転させると共に基板Sをそれと同期して送りながら、
アプリケータ・ローラ41、51を基板Sに向かって移
動させ、転移層14を基板Sに接触させる。この時の状
態は図13に示すようになる。アプリケータ・ローラ4
1、51に保持されている転移層14は、第2室41
f、51fに対面する位置に到達すると、透孔41d、
51dを介して吹き出す空気流により外筒41a、51
aから徐々に剥離されるので、アプリケータ・ローラ4
1、51の回転に伴って容易且つ確実に基板Sに転移さ
れる。基板Sに転移された転移層14は、感光層12の
持つ粘着力により基板Sの上下両面にそれぞれ付着す
る。
Next, while rotating the applicator rollers 41 and 51 and feeding the substrate S in synchronization therewith,
The applicator rollers 41, 51 are moved toward the substrate S, causing the transfer layer 14 to contact the substrate S. The state at this time is as shown in FIG. Applicator roller 4
The transfer layer 14 held in the first and the first chamber 51 is in the second chamber 41.
f, 51f, when reaching the position facing the through hole 41d,
The outer cylinders 41a, 51
applicator roller 4
The substrate is easily and reliably transferred to the substrate S with the rotation of the first and the 51st. The transfer layer 14 transferred to the substrate S adheres to both upper and lower surfaces of the substrate S by the adhesive force of the photosensitive layer 12.

【0065】次に、図14に示すように、転移層14を
備えた基板Sは、送りローラ48、58によって加圧ロ
ーラ49、59まで送られ、そこで上下両側から加圧さ
れる。加圧ローラ49、59は、所定温度まで予め加熱
されているので、これによって、転移層14は基板Sの
上下両面に強固に接着され、図1に示すラミネート構造
が得られる。
Next, as shown in FIG. 14, the substrate S provided with the transfer layer 14 is sent to the pressing rollers 49, 59 by the feeding rollers 48, 58, where it is pressed from both upper and lower sides. Since the pressure rollers 49 and 59 are pre-heated to a predetermined temperature, the transfer layer 14 is firmly adhered to both the upper and lower surfaces of the substrate S, thereby obtaining the laminate structure shown in FIG.

【0066】転移層14の転移が完了すると、上記と同
様にして、再び転移層14の切断、剥離、転移および加
熱・加圧が行なわれる。このようにして、以後、上記と
同じ工程が繰り返される。 [積層フィルム・ラミネート装置の第2例]図15は、
積層フィルム・ラミネート装置の第2例を示す。
When the transfer of the transfer layer 14 is completed, the cut, peeling, transfer, heating and pressurization of the transfer layer 14 are performed again in the same manner as described above. Thus, the same steps as above are repeated thereafter. [Second Example of Laminated Film Laminating Apparatus] FIG.
2 shows a second example of a laminated film laminating apparatus.

【0067】図15のラミネート装置70は、上記ラミ
ネート装置40のアプリケータ・ローラ41に代えて、
回転可能なアプリケータ・プレート71を備えたもので
あり、両者の全体構成はほぼ同じである。
The laminating apparatus 70 of FIG. 15 is different from the laminating apparatus 40 in that
It has a rotatable applicator plate 71, and the overall configuration of both is substantially the same.

【0068】図15において、71はアプリケータ・プ
レート、72は巻物とした積層フィルム10の繰出し
軸、73は支持層11の巻取り軸、74、75、76は
支持層11の送りローラ、77、78は基板Sの送りロ
ーラ、79は基板Sに転移した転移層14の加圧ロー
ラ、80は転移層14の切断器、81は切断時に切断器
80を受け止める切断器受けである。
In FIG. 15, reference numeral 71 denotes an applicator plate, 72 denotes a feeding axis of the laminated film 10 as a roll, 73 denotes a winding axis of the support layer 11, 74, 75, and 76 denote feed rollers of the support layer 11, 77 , 78 are feed rollers for the substrate S, 79 is a pressure roller for the transfer layer 14 transferred to the substrate S, 80 is a cutter for the transfer layer 14, and 81 is a cutter receiver for receiving the cutter 80 during cutting.

【0069】なお、すべての要素を図示してはいない
が、この第2例においても、基板Sの走行路の下位にこ
れと同じユニットが対称的に設けてある。図15では、
送りローラ97、98と加圧ローラ99のみが示してあ
る。
Although not shown, all the components are symmetrically provided in the lower part of the traveling path of the substrate S in this second example. In FIG.
Only the feed rollers 97 and 98 and the pressure roller 99 are shown.

【0070】アプリケータ・プレート71は、図16に
示すように中空の平坦なプレートで、内部に室71aが
形成され、前方(積層フィルム10側)の壁には複数の
透孔71bが形成されている。室71aは、図示しない
真空ポンプおよび送風機に接続されており、工程に応じ
て低い真空にされ、あるいは大気圧より高く設定され
る。なお、室71aの圧力は、大気圧より高くする代わ
りに大気圧に等しくしてもよい。このアプリケータ・プ
レート71は、支持体71cによって水平な回転軸82
に回転可能に支持されており、工程に応じて図15に示
すように回転する。
The applicator plate 71 is a hollow flat plate as shown in FIG. 16, and has a chamber 71a formed therein, and a plurality of through holes 71b formed in the front (laminated film 10) wall. ing. The chamber 71a is connected to a vacuum pump and a blower (not shown), and is set at a low vacuum or higher than the atmospheric pressure according to the process. The pressure in the chamber 71a may be equal to the atmospheric pressure instead of being higher than the atmospheric pressure. The applicator plate 71 is supported on a horizontal axis 82 by a support 71c.
And is rotatably supported as shown in FIG.

【0071】切断器80は、第1例で述べた切断器50
と同じ構成であり、その動作も同じである。すなわち、
回転軸80bの周りに回転可能とした回転体80aを備
えており、回転体80aの外周縁が刃80cになってい
る。しかし、この第2例では、第1例のように切断器8
0をアプリケータ・プレート71に押し付けられないの
で、切断器受け81によって切断刃80cを受け止めな
がら転移層14を切断する点が異なっている。切断器受
け81の外周面は、切断器80を押し付けた時に積層フ
ィルム10に損傷を加えない程度の硬さを持つ物質で覆
われている。
The cutting device 80 is the same as the cutting device 50 described in the first example.
And the operation is the same. That is,
A rotating body 80a rotatable around the rotating shaft 80b is provided, and an outer peripheral edge of the rotating body 80a is a blade 80c. However, in the second example, as in the first example, the cutting device 8
0 is not pressed against the applicator plate 71, so that the transfer layer 14 is cut while receiving the cutting blade 80c by the cutter receiver 81. The outer peripheral surface of the cutter holder 81 is covered with a material having a hardness that does not damage the laminated film 10 when the cutter 80 is pressed.

【0072】切断時には、積層フィルム10に向かって
切断器80を移動すると同時に、切断器受け81をも積
層フィルム10に向かって移動させる。そして、切断器
受け81を支持層11に近接して固定してから、被覆層
13側から切断器80を押し当て、その後、積層フィル
ム10を横断する方向に切断器80を移動させて転移層
14を切断する。切断が終わると、切断器80と切断器
受け81を積層フィルム10から引き離し、元の位置に
停止させる。
At the time of cutting, the cutter 80 is moved toward the laminated film 10 at the same time as the cutter 80 is moved toward the laminated film 10. Then, after fixing the cutter receiver 81 close to the support layer 11, the cutter 80 is pressed from the side of the coating layer 13, and then the cutter 80 is moved in a direction crossing the laminated film 10 to change the transfer layer. Cut 14 When the cutting is completed, the cutter 80 and the cutter receiver 81 are separated from the laminated film 10 and stopped at the original position.

【0073】また、転移層14を支持層11から剥離す
る工程も、第1例とは異なっている。すなわち、この第
2例では、転移層14を所定長さに切断した後、転移層
14をアプリケータ・プレート71の表面に真空吸着さ
せ、その状態でアプリケータ・プレート71に沿って送
りローラ75を上昇させることにより、支持層11を剥
離する。
The step of peeling the transfer layer 14 from the support layer 11 is also different from the first example. That is, in the second example, after the transfer layer 14 is cut into a predetermined length, the transfer layer 14 is vacuum-sucked to the surface of the applicator plate 71, and in that state, the feed roller 75 is moved along the applicator plate 71. Is raised, the support layer 11 is peeled off.

【0074】次に、以上の構成を持つラミネート装置7
0を用いて積層フィルム10をラミネートする方法を、
図16〜図20を参照しながらより詳細に説明する。上
下の切断・剥離ユニットは同じ構成を持つので、ここで
は上位のユニットについてのみ説明する。
Next, the laminating apparatus 7 having the above configuration
The method of laminating the laminated film 10 using 0
This will be described in more detail with reference to FIGS. Since the upper and lower cutting / peeling units have the same configuration, only the upper unit will be described here.

【0075】繰出し軸72から繰り出された積層フィル
ム10は、送りローラ74、75の間では、図15に示
すような状態で、アプリケータ・プレート71の外面に
近接して上下方向に延びている。この状態では、積層フ
ィルム10はアプリケータ・プレート71には接触して
いなく、また切断器80および切断器受け81も積層フ
ィルム10から離れている。積層フィルム10には、所
定の引っ張り力が作用している。
The laminated film 10 fed from the feed shaft 72 extends vertically between the feed rollers 74 and 75 in the state shown in FIG. 15 near the outer surface of the applicator plate 71. . In this state, the laminated film 10 is not in contact with the applicator plate 71, and the cutter 80 and the cutter receiver 81 are also separated from the laminated film 10. A predetermined tensile force acts on the laminated film 10.

【0076】まず、積層フィルム10の送りを停止さ
せ、切断器80と切断器受け81により、次のようにし
て転移層14の前端を切断する。すなわち、切断器80
と切断器受け81を積層フィルム10に向かって移動さ
せ、切断器受け81を支持層11に近接させた状態で、
切断器80により被覆層13の上から積層フィルム10
を押圧する。すると、積層フィルム10は、切断器受け
81と切断器80により挟まれるため、転移層14が変
形する。この時の押圧力および転移層14への食込み量
は、切断器80の刃80cによって転移層14に剪断力
が作用し、切断器80を積層フィルム10から離した時
に、積層フィルム10に作用している引っ張り力によっ
て転移層14が自然に破断するような値に設定する。
First, the feeding of the laminated film 10 is stopped, and the front end of the transfer layer 14 is cut by the cutter 80 and the cutter receiver 81 as follows. That is, the cutting device 80
And the cutter receiver 81 are moved toward the laminated film 10, and in a state where the cutter receiver 81 is close to the support layer 11,
The laminated film 10 is cut from above the coating layer 13 by the cutter 80.
Press. Then, since the laminated film 10 is sandwiched between the cutter receiver 81 and the cutter 80, the transfer layer 14 is deformed. The pressing force and the amount of biting into the transition layer 14 at this time act on the laminated film 10 when a shear force acts on the transition layer 14 by the blade 80 c of the cutter 80 and the cutter 80 is separated from the laminated film 10. The value is set so that the transition layer 14 is naturally broken by the applied tensile force.

【0077】その後、切断器受け81と切断器50を積
層フィルム10から離し、元の位置に戻す。この時、積
層フィルム10に作用している引っ張り力により支持層
11が少し伸びるが、転移層14は支持層11に比べて
柔くて伸び易く且つ破断強度が小さいので、図16に示
すように、刃80cにより変形せしめられた箇所(層厚
が薄くなった箇所)で破断する。こうして、積層フィル
ム14の前端が切断される。
Thereafter, the cutter receiver 81 and the cutter 50 are separated from the laminated film 10 and returned to their original positions. At this time, the support layer 11 slightly expands due to the tensile force acting on the laminated film 10, but the transition layer 14 is softer and easier to expand than the support layer 11 and has a small breaking strength, as shown in FIG. At the location deformed by the blade 80c (the location where the layer thickness is reduced). Thus, the front end of the laminated film 14 is cut.

【0078】次に、積層フィルム10を所定速度で移動
させ、転移層14の後端の切断すべき位置が切断器80
の高さに一致するように停止させる。この間、切断箇所
より前方の転移層14は、支持層11と共に巻取り軸7
3に巻き取られる。切断箇所より後方の転移層14は、
支持層11に接着されたままである。
Next, the laminated film 10 is moved at a predetermined speed, and the position of the rear end of the transfer layer 14 to be cut is determined by the cutter 80.
Stop to match the height of In the meantime, the transition layer 14 in front of the cut point is taken up together with the support layer 11 by the winding shaft 7.
It is wound on 3. The transition layer 14 behind the cut point is
It remains adhered to the support layer 11.

【0079】次に、積層フィルム10の送りを再び停止
させた後、前端を切断したのと同様にして切断器80と
切断器受け81を移動させ、転移層14を切断する。そ
して、積層フィルム10を少し移動させ、所定長さに切
断された転移層14がアプリケータ・プレート71の表
面の所定位置に吸着されるようにしてから、アプリケー
タ・プレート71内部の室71aを真空にする。する
と、その転移層14はアプリケータ・プレート71の表
面に真空吸着され、図16のような状態になる。
Next, after the feeding of the laminated film 10 is stopped again, the cutter 80 and the cutter receiver 81 are moved to cut the transition layer 14 in the same manner as when the front end is cut. Then, the laminated film 10 is slightly moved so that the transfer layer 14 cut to a predetermined length is adsorbed to a predetermined position on the surface of the applicator plate 71, and then the chamber 71a inside the applicator plate 71 is removed. Apply vacuum. Then, the transfer layer 14 is vacuum-sucked to the surface of the applicator plate 71, and becomes a state as shown in FIG.

【0080】次に、図17に示すように、図15に破線
で示す位置まで、送りローラ75を上方に移動させる。
転移層14はアプリケータ・プレート71に保持されて
いるので、この移動によって支持層11が転移層14か
ら剥離される。こうして、所定長さに切断された転移層
14が、展開されたままの状態でアプリケータ・プレー
ト71に保持される。
Next, as shown in FIG. 17, the feed roller 75 is moved upward to the position shown by the broken line in FIG.
Since the transfer layer 14 is held by the applicator plate 71, this movement causes the support layer 11 to peel off from the transfer layer 14. In this manner, the transfer layer 14 cut to a predetermined length is held on the applicator plate 71 in a state of being spread.

【0081】次に、アプリケータ・プレート71は、下
方に向かって90゜回転して停止し、図18に示すよう
に、送りローラ77、78によって送られて来た基板S
に転移層14を対向させる。基板Sの送りも図18の位
置で停止されている。この位置では、基板Sの前端から
距離Lの位置に、転移層14の前端が一致している。ま
た、転移層14は基板Sから離れている。なお、この位
置では、転移層14が落下しないように室71aは真空
に保たれる。
Next, the applicator plate 71 rotates downward by 90 ° and stops, and as shown in FIG. 18, the substrate S sent by the feed rollers 77 and 78 is turned off.
The transfer layer 14 is made to face. The feeding of the substrate S is also stopped at the position shown in FIG. In this position, the front end of the transition layer 14 coincides with a position at a distance L from the front end of the substrate S. Further, the transition layer 14 is separated from the substrate S. At this position, the chamber 71a is kept in a vacuum so that the transfer layer 14 does not fall.

【0082】剥離が終わり、アプリケータ・プレート7
1が90゜回転すると、送りローラ75は元の位置(図
15に実線で示す位置)に戻る。また、この例では、送
りローラ75が上下移動する間、図示しない引張力調整
機構により、積層フィルム10の引張力がほぼ一定に保
たれるようになっている。
When the peeling is completed, the applicator plate 7
When 1 rotates by 90 °, the feed roller 75 returns to the original position (the position indicated by the solid line in FIG. 15). In this example, while the feed roller 75 moves up and down, the tensile force of the laminated film 10 is kept substantially constant by a tensile force adjusting mechanism (not shown).

【0083】次に、送りローラ78をアプリケータ・プ
レート71に保持された転移層14を基板Sに転移させ
るのに支障のない位置に予め移動させ基板Sを停止させ
たままで、アプリケータ・プレート71を基板Sに向か
って下降させ、転移層14を基板Sに接触させる。この
時の状態は図19に示すようになる。そこで、アプリケ
ータ・プレート71の室71aの圧力を大気圧あるいは
それより高圧に切り換えると、吸着力がなくなり、アプ
リケータ・プレート71に保持されている転移層14は
剥離する。こうして転移層14は基板Sに転移される。
Next, the feed roller 78 is moved in advance to a position where it does not hinder the transfer of the transfer layer 14 held on the applicator plate 71 to the substrate S. 71 is lowered toward the substrate S, and the transfer layer 14 is brought into contact with the substrate S. The state at this time is as shown in FIG. Therefore, when the pressure in the chamber 71a of the applicator plate 71 is switched to the atmospheric pressure or higher, the attraction force is lost, and the transfer layer 14 held on the applicator plate 71 is peeled off. Thus, the transfer layer 14 is transferred to the substrate S.

【0084】下位の剥離・転移ユニットのアプリケータ
・プレートについても、まったく同様にして、図20に
示すように、所定長さの転移層14が基板Sの下面に転
移される。基板Sの下面に転移された転移層14は、感
光層12の持つ粘着力により付着する。
The transfer layer 14 having a predetermined length is transferred to the lower surface of the substrate S as shown in FIG. The transfer layer 14 transferred to the lower surface of the substrate S adheres by the adhesive force of the photosensitive layer 12.

【0085】次に、上下両面に転移層14を備えた基板
Sは、送りローラ78、98によって加圧ローラ79、
99まで送られ、そこで上下両側から加圧される。加圧
ローラ79、99は、所定温度まで予め加熱されている
ので、これによって、転移層14は基板Sの上下両面に
強固に接着され、図1に示すラミネート構造が得られ
る。
Next, the substrate S having the transfer layer 14 on both the upper and lower surfaces is fed by the feed rollers 78 and 98 to the pressing roller 79,
It is sent to 99, where it is pressurized from both upper and lower sides. Since the pressure rollers 79 and 99 are preheated to a predetermined temperature, the transfer layer 14 is firmly adhered to both the upper and lower surfaces of the substrate S, thereby obtaining the laminate structure shown in FIG.

【0086】転移を完了したアプリケータ・プレート
は、270゜回転して図15に示す位置で停止する。そ
して、上記と同じ工程を繰り返す。
After the transfer is completed, the applicator plate rotates 270 ° and stops at the position shown in FIG. Then, the same steps as above are repeated.

【0087】以上述べたように、上記第1例のラミネー
ト装置40および第2例のラミネート装置70のいずれ
によっても、高い信頼性をもって上記積層フィルム10
の転移層14を基板S上に転移することができる。
As described above, both of the laminating apparatus 40 of the first example and the laminating apparatus 70 of the second example have a high reliability.
Can be transferred onto the substrate S.

【0088】上記説明では、積層フィルム10を、プリ
ント配線板を製造する際にメッキあるいはエッチング用
のレジスト膜として用いるものとして述べ、また、ラミ
ネート装置40、70を、積層フィルム10をプリント
配線板の基板上にラミネートする装置として述べている
が、この発明はこれらに限定されるものではなく、その
他の用途にも適用可能である。
In the above description, the laminated film 10 is described as being used as a resist film for plating or etching when manufacturing a printed wiring board, and the laminating devices 40 and 70 are used to connect the laminated film 10 to the printed wiring board. Although described as an apparatus for laminating on a substrate, the present invention is not limited to these, and can be applied to other uses.

【0089】[0089]

【発明の効果】この発明の積層フィルムによれば、露光
する際に従来よりも高い解像度が得られると共に、ラミ
ネートすべき対象の表面の凹凸に転移層が追従しやすい
という効果が得られる。
According to the laminated film of the present invention, it is possible to obtain not only a higher resolution than before, but also an effect that the transition layer easily follows irregularities on the surface of the object to be laminated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の積層フィルムの一実施例の転移層を
基板上にラミネートした状態の部分断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a state in which a transfer layer according to one embodiment of a laminated film of the present invention is laminated on a substrate.

【図2】この発明の積層フィルムの一実施例の部分断面
図である。
FIG. 2 is a partial sectional view of one embodiment of the laminated film of the present invention.

【図3】図2の積層フィルムの製造に用いる装置の概略
構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an apparatus used for manufacturing the laminated film of FIG.

【図4】ラミネート装置の第1例の概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a first example of a laminating apparatus.

【図5】図4のラミネート装置のアプリケータ・ローラ
の断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of an applicator roller of the laminating apparatus of FIG. 4;

【図6】図4のラミネート装置の切断器の正面図であ
る。
FIG. 6 is a front view of a cutter of the laminating apparatus of FIG. 4;

【図7】図4のラミネート装置においてラミネートする
積層フィルムの前端を切断する工程を示す要部断面図で
ある。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a main part showing a step of cutting a front end of a laminated film to be laminated in the laminating apparatus of FIG. 4;

【図8】図4のラミネート装置においてラミネートする
積層フィルムの前端を切断する工程を示す要部断面図で
ある。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a main part showing a step of cutting a front end of a laminated film to be laminated in the laminating apparatus of FIG.

【図9】図4のラミネート装置においてラミネートする
積層フィルムの前端を切断する工程を示す要部断面図で
ある。
9 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of cutting a front end of a laminated film to be laminated in the laminating apparatus of FIG. 4;

【図10】図4のラミネート装置においてラミネートす
る積層フィルムの後端を切断する工程を示す要部断面図
である。
FIG. 10 is a sectional view of a main part showing a step of cutting the rear end of the laminated film to be laminated in the laminating apparatus of FIG.

【図11】図4のラミネート装置においてラミネートす
る積層フィルムの後端を切断する工程を示す要部断面図
である。
11 is a cross-sectional view of a main part showing a step of cutting the rear end of the laminated film to be laminated in the laminating apparatus of FIG. 4;

【図12】図4のラミネート装置において切断した積層
フィルムを基板上に転移する工程を示す要部断面図であ
る。
12 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of transferring a cut laminated film onto a substrate in the laminating apparatus of FIG. 4;

【図13】図4のラミネート装置において切断した積層
フィルムを基板上に転移する工程を示す要部断面図であ
る。
13 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of transferring a cut laminated film onto a substrate in the laminating apparatus of FIG. 4;

【図14】図4のラミネート装置において基板上に転移
した積層フィルムを加圧接着する工程を示す要部断面図
である。
14 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of pressure-bonding the laminated film transferred onto the substrate in the laminating apparatus of FIG. 4;

【図15】ラミネート装置の第2例の概略構成図であ
る。
FIG. 15 is a schematic configuration diagram of a second example of the laminating apparatus.

【図16】図15のラミネート装置において切断した積
層フィルムから支持層を剥離する工程を示す要部断面図
である。
16 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of peeling a support layer from the cut laminated film in the laminating apparatus of FIG. 15;

【図17】図15のラミネート装置において切断した積
層フィルムから支持層を剥離する工程を示す要部断面図
である。
17 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of peeling a support layer from the laminated film cut in the laminating apparatus of FIG.

【図18】図15のラミネート装置においてアプリケー
タ・プレートに転移した転移層を基板上に転移する工程
を示す要部断面図である。
18 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of transferring a transfer layer transferred to an applicator plate onto a substrate in the laminating apparatus of FIG. 15;

【図19】図15のラミネート装置においてアプリケー
タ・プレートに転移した転移層を基板上に転移する工程
を示す要部断面図である。
19 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of transferring a transfer layer transferred to an applicator plate onto a substrate in the laminating apparatus of FIG. 15;

【図20】図15のラミネート装置において基板上に転
移した転移層を加圧接着する工程を示す要部断面図であ
る。
20 is a fragmentary cross-sectional view showing a step of pressure-bonding a transfer layer transferred onto a substrate in the laminating apparatus of FIG. 15;

【図21】従来の積層フィルムの一例の転移層を基板上
にラミネートした状態の部分断面図である。
FIG. 21 is a partial cross-sectional view showing a state in which a transition layer as an example of a conventional laminated film is laminated on a substrate.

【図22】従来の積層フィルムの一例の部分断面図であ
る。
FIG. 22 is a partial cross-sectional view of an example of a conventional laminated film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 積層フィルム 11 支持層 12 感光層 13 被覆層 14 転移層 20 積層フィルム製造装置 21 繰出しロール 22、23、27 送りロール 24 感光性樹脂組成物 25 塗布厚調整ロール 26 乾燥機 28 巻取りロール 30 巻取りロール 31 支持層用フィルム 32 感光性樹脂組成物層 40 ラミネート装置 41 アプリケータ・ローラ 41a 外筒 41b 中心軸 41c 仕切り板 41d 透孔 41e 第1室 41f 第2室 42 繰出し軸 43 巻取り軸 44、45、46、47、48 送りローラ 49 加圧ローラ 50 切断器 50a 回転体 50b 回転軸 50c 刃 51 アプリケータ・ローラ 51a 外筒 51c 仕切り板 51d 透孔 51e 第1室 51f 第2室 52 繰出し軸 53 巻取り軸 54、55、56、57、58 送りローラ 59 加圧ローラ 60 切断器 70 ラミネート装置 71 アプリケータ・プレート 71a 室 71b 透孔 71c 支持体 72 繰出し軸 73 巻取り軸 74、75、76、77、78 送りローラ 79 加圧ローラ 80 切断器 80a 回転体 80b 回転軸 80c 刃 81 切断器受け 97、98 送りローラ 99 加圧ローラ S 基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Laminated film 11 Support layer 12 Photosensitive layer 13 Coating layer 14 Transition layer 20 Laminated film manufacturing apparatus 21 Feeding roll 22, 23, 27 Feeding roll 24 Photosensitive resin composition 25 Coating thickness adjusting roll 26 Dryer 28 Winding roll 30 Roll Take-up roll 31 Film for support layer 32 Photosensitive resin composition layer 40 Laminating device 41 Applicator roller 41a Outer cylinder 41b Central shaft 41c Partition plate 41d Through-hole 41e First chamber 41f Second chamber 42 Feeding shaft 43 Winding shaft 44 , 45, 46, 47, 48 Feeding roller 49 Pressure roller 50 Cutting device 50a Rotating body 50b Rotating shaft 50c Blade 51 Applicator roller 51a Outer cylinder 51c Partition plate 51d Through hole 51e First chamber 51f Second chamber 52 Feeding axis 53 Take-up shaft 54, 55, 56, 57, 58 Feed Roller 59 Pressure roller 60 Cutting device 70 Laminating device 71 Applicator plate 71a Chamber 71b Through hole 71c Supporting member 72 Feeding shaft 73 Winding shaft 74, 75, 76, 77, 78 Feeding roller 79 Pressing roller 80 Cutting device 80a Rotating body 80b Rotating shaft 80c Blade 81 Cutting device receiver 97, 98 Feed roller 99 Pressure roller S Substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野田 和彦 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 Fターム(参考) 4F100 AK01C AK17A AR00B AT00A AT00C BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C EA02 EC04 EH46B EJ19 EJ30 EJ86B GB43 JA04C JA20A JA20C JB16C JK08C JK13A JL11A JL14B JL14C JN17B YY00A YY00C 5E339 BE13 CC01 CC02 CD01 CE16 CF01 CF16 CF17 CG04 DD04 GG10 5E343 CC63 DD32 ER16 ER18 GG03 GG08  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kazuhiko Onoda 4-3-1, Higashicho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture F-term in Hitachi Chemical Co., Ltd. Yamazaki Factory 4F100 AK01C AK17A AR00B AT00A AT00C BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C EA02 EC04 EH46B EJ19 EJ30 EJ86B GB43 JA04C JA20A JA20C JB16C JK08C JK13A JL11A JL14B JL14C JN17B YY00A YY00C 5E339 BE13 CC01 CC02 CD01 CE16 CF01 CF16 CF17 CG04 DD04 GG10 5E343 CC63 DD08 GG10 5E343 CC63

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性を有する支持層と、前記支持層の
一面に接着された感光層と、前記感光層の前記支持層と
は反対側の面に接着された被覆層とを備えてなる三層構
造の積層フィルムであって、 前記被覆層は、前記感光層に対する露光用光線に対して
透明な熱可塑性樹脂を含有すると共に、ラミネートすべ
き対象の表面に前記感光層をラミネートする際に印加さ
れる熱と圧力に対する耐性を有しており、 当該積層フィルムに所定の張力を与えながら前記支持層
と前記感光層の間に引張力を印加した時に、前記被覆層
と前記感光層の双方が前記支持層から転移層として剥離
するように構成してあり、 前記支持層から剥離した前記転移層を前記対象の表面に
転移する際には、前記感光層が前記対象の表面に接触せ
しめられ、前記感光層に対する前記露光用光線の照射は
前記被覆層を介して行われ、さらに、前記感光層をラミ
ネートする際に印加される熱と圧力は、前記被覆層を介
して前記感光層に印加されるようにしたことを特徴とす
る積層フィルム。
1. A photoconductor comprising: a support layer having flexibility; a photosensitive layer adhered to one surface of the support layer; and a coating layer adhered to a surface of the photosensitive layer opposite to the support layer. A laminated film having a three-layer structure, wherein the coating layer contains a thermoplastic resin transparent to light for exposure to the photosensitive layer, and when laminating the photosensitive layer on the surface to be laminated Has a resistance to heat and pressure applied to the laminate film, when a tensile force is applied between the support layer and the photosensitive layer while applying a predetermined tension to the laminated film, the coating layer and the photosensitive layer Both are configured to be separated from the support layer as a transfer layer, and when the transfer layer separated from the support layer is transferred to the surface of the object, the photosensitive layer is brought into contact with the surface of the object. To the photosensitive layer Irradiation of the exposure light beam is performed through the coating layer, and further, heat and pressure applied when laminating the photosensitive layer are applied to the photosensitive layer through the coating layer. A laminated film characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 可撓性を有する支持層と、前記支持層の
一面に塗布・乾燥された感光性樹脂組成物よりなる感光
層と、前記感光層の前記支持層とは反対側の面に接着さ
れた熱可塑性樹脂を含有する被覆層とを備えてなる三層
構造の積層フィルムであって、 ラミネートすべき対象に転移される転移層が前記被覆層
と前記感光層から構成されることを特徴とする積層フィ
ルム。
2. A flexible support layer, a photosensitive layer made of a photosensitive resin composition applied and dried on one surface of the support layer, and a photosensitive layer on the opposite side of the photosensitive layer from the support layer. A laminated film having a three-layer structure including a bonded coating layer containing a thermoplastic resin, wherein a transfer layer transferred to an object to be laminated includes the coating layer and the photosensitive layer. Characterized laminated film.
【請求項3】 可撓性を有する支持層と、前記支持層の
一面に接着された感光性樹脂組成物よりなる感光層と、
前記感光層の前記支持層とは反対側の面に接着された熱
可塑性樹脂を含有する被覆層とを備えてなる三層構造の
積層フィルムであって、 ラミネートすべき対象に転移される転移層が前記被覆層
と前記感光層から構成されることを特徴とする積層フィ
ルム。
3. A flexible support layer, a photosensitive layer comprising a photosensitive resin composition adhered to one surface of the support layer,
A three-layer laminated film comprising a thermoplastic resin-containing coating layer adhered to a surface of the photosensitive layer opposite to the support layer, the transfer layer being transferred to an object to be laminated. Is composed of the coating layer and the photosensitive layer.
【請求項4】 可撓性を有する支持層と、前記支持層の
一面に接着された感光性樹脂組成物よりなる感光層と、
前記感光層の前記支持層とは反対側の面に接着された熱
可塑性樹脂を含有する被覆層とを備えてなる三層構造の
積層フィルムであって、 ラミネートすべき対象の表面に前記感光層をラミネート
する際には、前記支持層が剥離され、前記被覆層と前記
感光層が前記対象に転移せしめられることを特徴とする
積層フィルム。
4. A flexible support layer, a photosensitive layer comprising a photosensitive resin composition adhered to one surface of the support layer,
A coating layer containing a thermoplastic resin adhered to a surface of the photosensitive layer opposite to the support layer, the laminated film having a three-layer structure, wherein the photosensitive layer is formed on a surface to be laminated. When laminating, the support layer is peeled off, and the coating layer and the photosensitive layer are transferred to the object.
【請求項5】 前記被覆層の厚さが0.01μm〜50
μmの範囲にある請求項1〜4のいずれか1項に記載の
積層フィルム。
5. The coating layer having a thickness of 0.01 μm to 50 μm.
The laminated film according to any one of claims 1 to 4, which is in a range of µm.
【請求項6】 前記被覆層の厚さが、0.1μm〜20
μmの範囲にある請求項1〜4のいずれか1項に記載の
積層フィルム。
6. The coating layer has a thickness of 0.1 μm to 20 μm.
The laminated film according to any one of claims 1 to 4, which is in a range of µm.
【請求項7】 前記支持層の厚さが、5μm〜200μ
mの範囲にある請求項1〜6のいずれか1項に記載の積
層フィルム。
7. The support layer has a thickness of 5 μm to 200 μm.
The laminated film according to any one of claims 1 to 6, which is in a range of m.
【請求項8】 前記感光層の厚さが、5μm〜250μ
mの範囲にある請求項1〜7のいずれか1項に記載の積
層フィルム。
8. The photosensitive layer has a thickness of 5 μm to 250 μm.
The laminated film according to any one of claims 1 to 7, which is in a range of m.
【請求項9】 前記被覆層が前記感光層と接触している
請求項1〜8のいずれか1項に記載の積層フィルム。
9. The laminated film according to claim 1, wherein the coating layer is in contact with the photosensitive layer.
【請求項10】 前記被覆層の軟化点または融点が40
℃以上である請求項1〜9のいずれか1項に記載の積層
フィルム。
10. The softening point or melting point of the coating layer is 40.
The laminated film according to any one of claims 1 to 9, which is at least 0C.
【請求項11】 前記被覆層が、ラミネートする際の温
度において10%以上の伸びを示し、且つ10%伸びた
時の応力が500gf以下である請求項1〜10のいず
れか1項に記載の積層フィルム。
11. The method according to claim 1, wherein the coating layer exhibits an elongation of 10% or more at a temperature at the time of lamination, and a stress at the time of 10% elongation is 500 gf or less. Laminated film.
【請求項12】 前記被覆層と前記感光層との間の接着
力が、前記支持層と前記感光層の間の接着力よりも大き
くしてある請求項1〜11のいずれか1項に記載の積層
フィルム。
12. The method according to claim 1, wherein an adhesive force between the coating layer and the photosensitive layer is larger than an adhesive force between the support layer and the photosensitive layer. Laminated film.
【請求項13】 前記被覆層と前記感光層との間の接着
力が、前記支持層と前記感光層の間の接着力よりも大き
くしてあり、ラミネートすべき前記対象の表面に前記感
光層をラミネートする際には、前記支持層が剥離され
て、前記被覆層と前記感光層が前記対象に転移せしめら
れる請求項1〜11のいずれか1項に記載の積層フィル
ム。
13. An adhesive force between the covering layer and the photosensitive layer is larger than an adhesive force between the support layer and the photosensitive layer, and the photosensitive layer is provided on the surface of the object to be laminated. The laminated film according to any one of claims 1 to 11, wherein, when laminating, the support layer is peeled off, and the coating layer and the photosensitive layer are transferred to the target.
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