[go: up one dir, main page]

JP2002228220A - Clean room - Google Patents

Clean room

Info

Publication number
JP2002228220A
JP2002228220A JP2001018367A JP2001018367A JP2002228220A JP 2002228220 A JP2002228220 A JP 2002228220A JP 2001018367 A JP2001018367 A JP 2001018367A JP 2001018367 A JP2001018367 A JP 2001018367A JP 2002228220 A JP2002228220 A JP 2002228220A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
management space
filter
partition plate
clean room
clean
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001018367A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kengo Matsuo
研吾 松尾
Masafumi Kawai
理文 河合
Hiroshi Suzuoka
浩 鈴岡
Hiroki Murakami
弘記 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd filed Critical Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd
Priority to JP2001018367A priority Critical patent/JP2002228220A/en
Publication of JP2002228220A publication Critical patent/JP2002228220A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ventilation (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 清浄度の管理の容易な構造を有するクリーン
ルームを提供しようとする。 【解決手段】従来の気流を上部から管理空間に流しうる
クリーンルームにかわって、上部に配置されたフィルタ
と、その管理空間の周囲を囲う壁と、複数の開口を有す
る仕切板と、を備え、その仕切板が気流を上流側と下流
側とに分ける様に前記管理空間を間仕切っているものと
した。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a clean room having a structure that can easily control cleanliness. In place of a conventional clean room capable of flowing an airflow from above into a management space, a filter disposed at the top, a wall surrounding the periphery of the management space, and a partition plate having a plurality of openings are provided. The partition space partitions the management space so that the airflow is divided into an upstream side and a downstream side.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルームに
係る。更に詳しくは、気体を流す構造に特徴のあるクリ
ーンルームに関する。
[0001] The present invention relates to a clean room. More specifically, the present invention relates to a clean room characterized by a structure for flowing gas.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子工業、精密機械工業、医薬品工業、
食品工業または医療施設においては、クリーンルームが
用いられる。クリーンルームとは、清浄度管理を行な
い、限られた空間(管理空間と呼ぶ。以下同じ。)を管
理する装置である。クリーンルームには、狭義のクリー
ンルーム、クリーンブース、クリーンベンチ等がある。
ここで、狭義のクリーンルームとは、部屋全体を管理空
間とするクリーンルームをいう。クリーンルームは、た
とえば管理空間内の空気中における浮遊微小粒子、浮遊
微生物が限定された清浄度レベル以下になるように管理
し、必要に応じて温度、湿度、圧力などの環境条件につ
いての管理をおこなう。クリーンルームには、「一方向
流」タイプと「非一方向流」タイプとがある。「一方向
流」とは、平行な流線をもち、一定の流速で一方向に流
れる気体の流れをいう。一方、「非一方向流」とは、方
向の定まっていない乱れた流れをいう。
[Prior Art] Electronics industry, precision machinery industry, pharmaceutical industry,
In the food industry or medical facilities, clean rooms are used. A clean room is a device that manages cleanliness and manages a limited space (hereinafter, referred to as a management space). The clean room includes a clean room, a clean booth, and a clean bench in a narrow sense.
Here, the clean room in a narrow sense refers to a clean room in which the entire room is a management space. The clean room manages, for example, airborne microparticles and airborne microorganisms in the air in the controlled space to be below a specified cleanliness level, and manages environmental conditions such as temperature, humidity, and pressure as necessary. . Clean rooms include a "one-way flow" type and a "non-one-way flow" type. “One-way flow” refers to a gas flow having parallel streamlines and flowing in one direction at a constant flow rate. On the other hand, “non-unidirectional flow” refers to a turbulent flow whose direction is not determined.

【0003】一方向流式のクリーンルームは、高清浄な
管理空間を得るために採用され、一方向気体流れによる
乱れのない押し出し流れにより、汚染の拡散を抑えて、
管理空間を清浄な気体で置換する装置である。全面フィ
ルタ天井から清浄空気を0.2m/sから0.4m/s
の風速で吹き出し、穴あきの床全面から吸い込む方法が
とられ、短時間で清浄化でき、高い清浄度が得られる。
垂直流(ダウンフロー)タイプと水平流(ホリゾンタル
フロー)タイプがある。
[0003] The one-way flow type clean room is adopted to obtain a high-purity management space, and the diffusion of contamination is suppressed by a turbulent pushing flow due to a one-way gas flow.
This device replaces the management space with clean gas. 0.2m / s to 0.4m / s of clean air from the entire filter ceiling
The air is blown out at the wind speed and the air is sucked from the entire surface of the perforated floor.
There are a vertical flow (down flow) type and a horizontal flow (horizontal flow) type.

【0004】クリーンブースは、垂直吹き出し型の簡易
な一方向流式クリーンルームである。一個または複数の
送風機とHEPAフィルタまたはULPAフィルタを備
えた簡易構造のクリーンルームで、周囲はプラスチック
カーテンまたは簡易パネルなどで囲われる。清浄空気を
一方向流とし、カーテンまたはパネルと床との隙間から
吹き流して清浄空間を作り出す。クリーンブースは、必
要な管理空間のみを所定の清浄度に保つために使用さ
れ、一般の部屋の一部に清浄な管理空間を作り出す場合
やクリーンルーム内の一部により高い清浄度の管理空間
を作り出す場合に使用される。
[0004] The clean booth is a simple one-way flow type clean room of a vertical blowing type. This is a clean room with one or more blowers and a HEPA filter or a ULPA filter, and is surrounded by a plastic curtain or a simple panel. The clean air is made to flow in one direction, and is blown from the gap between the curtain or panel and the floor to create a clean space. Clean booths are used to maintain only the required management space at a predetermined cleanliness level, and when creating a clean management space in a part of a general room or a higher cleanness management space in a part of a clean room Used in case.

【0005】クリーンベンチは、規定された清浄度レベ
ルに管理された気体が作業対象物に対して直接に流れる
ようにつくられた作業台である。送風機とHEPAフィ
ルタまたはULPAフィルタを内蔵し、作業台上に局所
的な清浄な空間を作り出す装置で、垂直流型と水平流型
がある。
[0005] A clean bench is a work bench formed so that gas controlled to a specified cleanliness level flows directly to a work object. A device that has a built-in blower and HEPA filter or ULPA filter to create a local clean space on a workbench. There are a vertical flow type and a horizontal flow type.

【0006】以下に、従来のクリーンルームの構造を説
明する。最初に、一方向流式クリーンルームの構造を説
明する。図6は従来の狭義の一方向流式クリーンルーム
の正面断面図である。一方向流式クリーンルーム20
は、天井25と壁22と床26とに囲まれた室内を管理
空間とする。一方向流式クリーンルーム20は、フィル
タ21と壁22と床板23と送風機24とを備える。フ
ィルタ21は、複数のフィルタからなり、天井25に設
けられる。壁22は、管理空間の周囲を囲い、部屋の壁
を兼ねている。床板23は、グレーチング床であり、床
26に敷き詰められる。送風機24は床下から空気を吸
い込み、フィルタ21から空気を管理空間内に吹き出す
ように設置されている。
Hereinafter, the structure of a conventional clean room will be described. First, the structure of the one-way flow clean room will be described. FIG. 6 is a front sectional view of a conventional one-way flow type clean room in a narrow sense. One-way flow clean room 20
Defines a room surrounded by a ceiling 25, a wall 22, and a floor 26 as a management space. The one-way flow clean room 20 includes a filter 21, a wall 22, a floor plate 23, and a blower 24. The filter 21 includes a plurality of filters and is provided on the ceiling 25. The wall 22 surrounds the periphery of the management space and doubles as a wall of the room. The floorboard 23 is a grating floor and is laid on the floor 26. The blower 24 is installed so as to suck air from under the floor and blow air from the filter 21 into the management space.

【0007】従来のクリーンルームの作用を説明する。
クリーンルーム20内の管理空間の空気が、送風機24
により床26のグレーチング板23を介して吸い込まれ
る。その空気は、送風機24を通り、天井25のフィル
タ21を通り、天井25から管理空間に吹き降りる。空
気は、一方向流となり、管理空間を下降し、床26のグ
レーチング板23に到達する。
The operation of the conventional clean room will be described.
The air in the management space in the clean room 20 is blown by the blower 24.
Is sucked in through the grating plate 23 of the floor 26. The air passes through the blower 24, the filter 21 of the ceiling 25, and flows down from the ceiling 25 to the management space. The air flows in one direction, descends in the management space, and reaches the grating plate 23 of the floor 26.

【0008】次に、クリーンブース30の構造を説明す
る。図7は、従来のクリーンブースの正面図と側面図で
ある。クリーンブース30は、床36に乗っており、天
井35と壁32と床36とで囲まれた空間を管理空間と
する。クリーンブース30は、フィルタ31と壁32と
送風機34とプレフィルタ37と枠体33とを備える。
フィルタ31は、複数のフィルタからなり、クリーンブ
ース30の天井35に設けられる。壁32は、一般に、
カーテンまたは簡易なパネルであり、管理空間の周囲を
囲うように、枠体33に取り付けられる。送風機34
は、プレフィルタ37を介して外部から空気を吸い込
み、フルター31から管理空間内に空気を吹き出すよう
に設置されている。
Next, the structure of the clean booth 30 will be described. FIG. 7 is a front view and a side view of a conventional clean booth. The clean booth 30 is on a floor 36, and a space surrounded by the ceiling 35, the wall 32, and the floor 36 is a management space. The clean booth 30 includes a filter 31, a wall 32, a blower 34, a pre-filter 37, and a frame 33.
The filter 31 includes a plurality of filters, and is provided on the ceiling 35 of the clean booth 30. Wall 32 is generally
It is a curtain or a simple panel, and is attached to the frame 33 so as to surround the periphery of the management space. Blower 34
Is installed so that air is sucked in from the outside via the pre-filter 37 and air is blown out from the filter 31 into the management space.

【0009】クリーンブース30の作用を説明する。外
部の空気がプレフィルタ37を経由して、送風機34に
吸い込まれ、フィルタ31を経由して、天井35から管
理空間に吹き降りる。空気は、一方向流となり、管理空
間を下降し、壁32同士の隙間または床36と壁32と
の隙間から外部へ吹き出る。
The operation of the clean booth 30 will be described. External air is sucked into the blower 34 via the pre-filter 37, and flows down from the ceiling 35 to the management space via the filter 31. The air flows in one direction, descends in the management space, and blows out from the gap between the walls 32 or the gap between the floor 36 and the wall 32 to the outside.

【0010】さらに、次に従来のクリーンベンチ40、
50の構造を説明する。図8は、従来のクリーンベンチ
40,50の側面断面図である。クリーンベンチ40,
50は、クリーンベンチの内部の作業域を管理空間と
し、床46,56に乗っている。クリーンベンチ40,
50は、フィルタ41,51と壁42,52とプレフィ
ルタ47,57と送風機44,54と床板43,53と
を備える。フィルタ41,51は、クリーンベンチ4
0,50の上部または側部に設けられる。壁42,52
は、簡易なパネルであり、管理空間の周囲を囲い、一面
が作業のために開放可能になっている。プレフィルタ4
7,57は、クリーンベンチ40,50の下方側部に設
けられている。送風機44,54はプレフィルタ47,
57から管理空間の空気を吸い込み、フィルタ41,5
1から管理空間内に空気を吹き出すように設置されてい
る。なお、48,58は作業台である。
Next, the conventional clean bench 40,
The structure of 50 will be described. FIG. 8 is a side sectional view of the conventional clean benches 40 and 50. Clean bench 40,
Reference numeral 50 designates a work area inside the clean bench as a management space, and is mounted on floors 46 and 56. Clean bench 40,
50 includes filters 41 and 51, walls 42 and 52, pre-filters 47 and 57, blowers 44 and 54, and floor plates 43 and 53. The filters 41 and 51 are the clean bench 4
It is provided at the top or side of 0,50. Walls 42, 52
Is a simple panel that surrounds the management space and one side can be opened for work. Prefilter 4
Reference numerals 7 and 57 are provided on lower sides of the clean benches 40 and 50. Blowers 44 and 54 are pre-filters 47 and
The air in the management space is sucked in from the filter 57 and the filters 41 and 5 are sucked.
1 is installed so as to blow air into the management space. Reference numerals 48 and 58 denote work tables.

【0011】クリーンベンチ40、50の作用を説明す
る。管理空間の空気が、プレフィルタ47,57を経由
して、送風機44,54により吸い込まれる。その空気
は、送風機44,54を通り、天井45または側部59
のフィルタ41,51を通り、管理空間に吹き出る。空
気は、一方向流となり、管理空間を下降し、プレフィル
タ47,57に到達する。
The operation of the clean benches 40 and 50 will be described. The air in the management space is sucked by the blowers 44 and 54 via the pre-filters 47 and 57. The air passes through the blowers 44 and 54 and passes through the ceiling 45 or the side 59.
, And blows out to the management space. The air becomes a one-way flow, descends in the management space, and reaches the pre-filters 47 and 57.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上述の様に、従来のク
リーンルームでは、上部のフィルタを通った気体(たと
えば、空気)が気流(たとえば、一方向流)となって下
降する。管理空間に流れる気体の状態を所望の状態(例
えば、一方向流の状態)に維持するため、クリーンルー
ムは複数のフィルタユニットを上部に敷き詰められ、さ
らに管理空間の高さを所定の高さ以上にする必要があ
る。したがって、クリーンルームの全体高さ寸法が大き
くなり、高価なフィルタユニットを多く使用しなければ
ならなかった。すなわち、フィルタユニットの数を少な
くしたり、管理空間の高さ寸法を小さくしたクリーンル
ームを制作して使用すると、管理空間を流れる気体の一
方向流に大きな乱れが生じることとなる。特に、天井の
隅部に渦や澱みが生じ、下流に漂う浮遊微小粒子を巻き
上げたり滞留させてしまうこととなる。従って、従来の
クリーンルームでは、所定の清浄度を維持するために
は、複数のフィルタユニットを天井部に設け、クリーン
ルームの高さ寸法を所定長さ以上にしなければならない
という問題があった。また、既存のクリーンルーム内に
配置されるクリーンブースやクリーンルームでは、高さ
がすでに制限されるために、所定の清浄度を管理するの
に詳細な検討が必要となる問題があった。
As described above, in a conventional clean room, gas (for example, air) passing through an upper filter descends as an air flow (for example, one-way flow). In order to maintain the state of gas flowing into the management space in a desired state (for example, a one-way flow state), the clean room has a plurality of filter units spread over the top, and the height of the management space is set to a predetermined height or more. There is a need to. Therefore, the overall height of the clean room is increased, and many expensive filter units have to be used. That is, when a clean room in which the number of filter units is reduced or the height of the management space is reduced is manufactured and used, a large turbulence occurs in the one-way flow of the gas flowing through the management space. In particular, vortices and stagnation occur at the corners of the ceiling, causing the suspended fine particles floating downstream to be rolled up or retained. Therefore, in the conventional clean room, in order to maintain the predetermined cleanliness, there is a problem that a plurality of filter units must be provided on the ceiling and the height of the clean room must be equal to or longer than a predetermined length. Further, in a clean booth or a clean room arranged in an existing clean room, there is a problem that a detailed study is required to manage a predetermined cleanliness because the height is already limited.

【0013】本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出さ
れたもので、従来のクリーンルームにかわって、清浄度
の管理の容易な構造を有するクリーンルームを提供しよ
うとする。
The present invention has been devised in view of the above-described problems, and aims to provide a clean room having a structure in which cleanness can be easily managed, instead of a conventional clean room.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明に係る気流を上部から管理空間に流すクリーンル
ームは、上部に配置されたフィルタと、その管理空間の
周囲を囲う壁と、複数の開口を有する仕切板と、を備
え、その仕切板が気流を上流側と下流側とに分ける様に
前記管理空間を間仕切っているものとした。
In order to achieve the above object, a clean room according to the present invention for flowing an air flow from above into a management space comprises a filter arranged above, a wall surrounding the management space, and a plurality of walls. And a partition plate having an opening, and the partition plate partitions the management space so that the airflow is divided into an upstream side and a downstream side.

【0015】上記本発明の構成により、フィルタが上部
に配置されるので、フィルタにより清浄化された気流を
上部から管理空間に流すことができる。壁がその管理空
間の周囲を囲うので、管理空間に流れる気流に外部から
気体が混じることを防ぐことができる。複数の開口を有
する仕切板が気流を上流側と下流側とに分ける様に前記
管理空間を間仕切っているので、気流の上流側と気流の
下流側で差圧力を発生させることができる。
According to the configuration of the present invention, since the filter is disposed at the upper portion, the air stream cleaned by the filter can flow from the upper portion to the management space. Since the wall surrounds the periphery of the management space, it is possible to prevent the gas flowing from the outside into the management space from being mixed with the gas. Since the management space is partitioned by the partition plate having a plurality of openings so as to divide the airflow into the upstream side and the downstream side, a differential pressure can be generated between the upstream side of the airflow and the downstream side of the airflow.

【0016】さらに、本発明に係るクリーンルームは、
その開口がその仕切板の全面に一様に配置されているも
のとした。上記本発明の構成により、仕切板の設けられ
た開口がその仕切板の全面に一様に配置されているの
で、仕切板の任意の場所で発生した差圧力を仕切板の全
面で一様にすることができる。
Further, the clean room according to the present invention comprises:
The openings were uniformly arranged on the entire surface of the partition plate. According to the configuration of the present invention, since the openings provided in the partition plate are uniformly arranged on the entire surface of the partition plate, the differential pressure generated at an arbitrary position of the partition plate is uniformly applied on the entire surface of the partition plate. can do.

【0017】さらに、本発明に係るクリーンルームは、
その仕切板の開口率が60%以下であるものとした。こ
こで、開口率とは仕切板の単位面積あたりの複数の開口
の面積の総和の百分率である。上記本発明の構成によ
り、その仕切板の開口率が60%以下であるので、差圧
力を十分に発生させることができる。
Further, the clean room according to the present invention comprises:
The aperture ratio of the partition plate was 60% or less. Here, the opening ratio is a percentage of the sum of the areas of the plurality of openings per unit area of the partition plate. According to the configuration of the present invention, since the aperture ratio of the partition plate is 60% or less, a sufficient differential pressure can be generated.

【0018】またさらに、本発明に係るクリーンルーム
は、その仕切板が導電性材料でできているものとした。
上記本発明の構成により、その仕切板が導電性材料でで
きているので、仕切板での任意の電位を仕切板の全面で
一様にすることができる。
Still further, in the clean room according to the present invention, the partition plate is made of a conductive material.
According to the configuration of the present invention, since the partition plate is made of a conductive material, an arbitrary potential at the partition plate can be made uniform over the entire surface of the partition plate.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を、図面を参照して説明する。なお、各図において、共
通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each of the drawings, common portions are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0020】第一の実施形態の概要を図を基に説明す
る。第一の実施形態は本発明を狭義のクリーンルームに
適用したものである。図1は、本発明の第一の実施形態
の正面断面図である。狭義のクリーンルーム60は、天
井65と壁62と床66とで囲われた部屋の室内を管理
空間とする。狭義のクリーンルーム60は、フィルタ6
1と壁62と床板63と送風機64と仕切板1とを備え
る。フィルタ61が、天井25に設けられる。壁62
が、管理空間の周囲を囲い、部屋の壁を兼ねている。床
板63は、たとえばグレーチング床であり、床66に敷
き詰められる。送風機64は床板63の下から空気を吸
い込み、フィルタ61から下方に空気を吹き出すように
設置されている。仕切板1は、複数の開口を有する板で
あり、フィルタの下方で管理空間を水平に仕切ってい
る。説明の便宜上、上方の管理空間を第一の管理空間
と、下方の管理空間を第二の管理空間と呼ぶ。
An outline of the first embodiment will be described with reference to the drawings. In the first embodiment, the present invention is applied to a clean room in a narrow sense. FIG. 1 is a front sectional view of the first embodiment of the present invention. The clean room 60 in a narrow sense defines a room surrounded by a ceiling 65, a wall 62, and a floor 66 as a management space. The clean room 60 in the narrow sense includes the filter 6
1, a wall 62, a floor plate 63, a blower 64, and a partition plate 1. A filter 61 is provided on the ceiling 25. Wall 62
However, it surrounds the management space and doubles as the wall of the room. The floor plate 63 is, for example, a grating floor, and is laid on the floor 66. The blower 64 is installed so as to suck air from under the floor plate 63 and blow air downward from the filter 61. The partition plate 1 is a plate having a plurality of openings, and horizontally partitions the management space below the filter. For convenience of explanation, the upper management space is referred to as a first management space, and the lower management space is referred to as a second management space.

【0021】仕切板1は、複数の開口を有する板であ
り、例えばパンチングメタルが選ばれる。また、仕切板
1の厚み寸法は、開口寸法に比較して十分に小さいこと
が好ましい。また、仕切板1の開口は、その仕切板1の
全面に一様に配置して設けられているのが好ましい。ま
た、その仕切板1の開口の開口率は、仕切板を通過する
気流に微小な差圧力が生ずる程度であればよく、60%
以下であればよく、好ましくは60%〜30%程度がよ
い。また、仕切板は、導電性材料でできた板が好まし
く、例えばステンレス製板、アルミ製板、導電製プラス
チック製板または導電製プラスチックに被覆された板等
が選ばれる。さらに、仕切板1は、取付ボルトやボンデ
ィングワイヤによりクリーンルーム全体にアースされて
いるのが好ましい。以下、仕切板の説明は同様であるの
で、省略する。
The partition plate 1 is a plate having a plurality of openings, and for example, a punching metal is selected. Further, it is preferable that the thickness of the partition plate 1 is sufficiently smaller than the size of the opening. Further, it is preferable that the openings of the partition plate 1 are arranged uniformly over the entire surface of the partition plate 1. The opening ratio of the openings of the partition plate 1 may be such that a slight differential pressure is generated in the airflow passing through the partition plate, and is 60%.
It is sufficient if it is below, and preferably about 60% to 30%. The partition plate is preferably a plate made of a conductive material, for example, a stainless steel plate, an aluminum plate, a conductive plastic plate, a plate coated with a conductive plastic, or the like. Further, the partition plate 1 is preferably grounded to the entire clean room by mounting bolts or bonding wires. Hereinafter, the description of the partition plate is the same, and thus will be omitted.

【0022】狭義のクリーンルーム60の作用を説明す
る。クリーンルーム内の管理空間の空気が、送風機64
により床板63を介して吸い取られる。その空気は、送
風機64を通り、天井のフィルタ61を通り、天井65
から第一の管理空間に吹き降りる。気流は、仕切り板を
通過し、管理空間の下方に降りる。空気は、一方向流と
なり、第二の管理空間を下降し、床66のグレーチング
板63に到達する。第一の管理空間と第二の管理空間の
間には微小な差圧力が生じる。したがって、仕切板1を
通って第二の管理空間に入った空気は、一方向流となっ
て下降する。
The operation of the clean room 60 in a narrow sense will be described. The air in the management space in the clean room is
Is sucked through the floor plate 63. The air passes through the blower 64, the filter 61 on the ceiling, and the ceiling 65.
From the first management space. The airflow passes through the partition plate and descends below the management space. The air flows in one direction, descends in the second management space, and reaches the grating plate 63 on the floor 66. A small pressure difference occurs between the first management space and the second management space. Therefore, the air that has entered the second management space through the partition plate 1 flows downward in one direction.

【0023】次に、第二の実施形態の概要を図を基に説
明する。第二の実施形態は、本発明をクリーンブースに
適用したものである。 図2は、本発明の第二の実施形
態の正面断面図である。クリーンブース70は、床76
に乗せられており、天井75と壁72と床76とで囲わ
れた空間を管理空間とする。クリーンベンチ70は、フ
ィルタ71と壁72と枠体73と送風機74とプレフィ
ルタ77と仕切板1とを備える。枠体73は、例えば立
方体の辺部に配置されたステンレス製またはアルミ製の
柱でできた構造体である。天井75が、その構造体の上
部にある。フィルタ71が、天井75に設けられる。壁
72は、例えばカーテンまたは簡易なパネルであり、管
理空間の周囲を囲う様に、枠体73に取り付けられてい
る。床板76は、例えば狭義のクリーンルームの床であ
る。送風機74は、プレフィルタ77を経由して、外部
の空気を吸い込み、フィルタ71から下方に空気を吹き
出すように設置されている。仕切板1は、複数の開口を
有する板であり、フィルタの下方で管理空間を水平に仕
切っている。説明の便宜上、上方の管理空間を第一の管
理空間と、下方の管理空間を第二の管理空間と呼ぶ。な
お、壁72は、第一の管理空間の周囲を隙間なく囲うの
が好ましい。
Next, an outline of the second embodiment will be described with reference to the drawings. In the second embodiment, the present invention is applied to a clean booth. FIG. 2 is a front sectional view of the second embodiment of the present invention. The clean booth 70 has a floor 76
And a space surrounded by the ceiling 75, the wall 72, and the floor 76 is defined as a management space. The clean bench 70 includes a filter 71, a wall 72, a frame 73, a blower 74, a pre-filter 77, and the partition plate 1. The frame 73 is, for example, a structure made of stainless steel or aluminum pillars arranged on the sides of the cube. A ceiling 75 is at the top of the structure. A filter 71 is provided on the ceiling 75. The wall 72 is, for example, a curtain or a simple panel, and is attached to the frame 73 so as to surround the management space. The floor board 76 is, for example, a floor of a clean room in a narrow sense. The blower 74 is installed so as to suck in external air via the pre-filter 77 and blow air downward from the filter 71. The partition plate 1 is a plate having a plurality of openings, and horizontally partitions the management space below the filter. For convenience of explanation, the upper management space is referred to as a first management space, and the lower management space is referred to as a second management space. Note that the wall 72 preferably surrounds the periphery of the first management space without any gap.

【0024】クリーンブース70の作用を説明する。ク
リーンブース70の外部の空気が、送風機74によりプ
レフィルタ77を経由して吸い込まれる。その空気は、
天井のフィルタ71を通り、天井75から第一の管理空
間に吹き降りる。気流は、仕切り板1を通過し、管理空
間の下方に吹き降りる。空気は、一方向流となり、第二
の管理空間を下降し、床76に到達する。空気は、壁7
2同士の継ぎ目や壁72と床76の継ぎ目から外部へ吹
きだす。第一の管理空間と第二の管理空間の間には微小
な差圧力が生じる。したがって、仕切板1を通って第二
の管理空間に入った空気は、一方向流となって下降す
る。
The operation of the clean booth 70 will be described. Air outside the clean booth 70 is sucked in by the blower 74 via the pre-filter 77. The air is
After passing through the filter 71 on the ceiling, the air flows down from the ceiling 75 to the first management space. The airflow passes through the partition plate 1 and flows down below the management space. The air flows in one direction, descends through the second management space, and reaches the floor 76. The air is on the wall 7
It blows out from the seam of two or the seam of the wall 72 and the floor 76 to the outside. A small pressure difference occurs between the first management space and the second management space. Therefore, the air that has entered the second management space through the partition plate 1 flows downward in one direction.

【0025】次に、第三の実施形態の概要を図を基に説
明する。第三の実施形態は、本発明をクリーンベンチに
適用したものである。 図3は、本発明の第三の実施形
態の側面断面図である。クリーンベンチ80は、天井8
5と壁82と底板83とで囲われた空間を管理空間とす
る。そのクリーンベンチ80は、フィルタ81と壁82
と送風機84とプレフィルタ87と仕切板1と作業台8
8とを備える。天井85が、そのクリーンベンチ80の
上部にある。フィルタ81が、天井85に設けられる。
壁82は、簡易なパネルであり、管理空間の周囲を囲
い、その一面は開放可能になっている。底板83は、ク
リーンベンチ80の底部である。送風機84は、プレフ
ィルタ87を経由して、管理空間の空気を吸い込み、フ
ィルタ81から下方に空気を吹き出すように設置されて
いる。送風機84とプレフィルタ87を納める部屋は、
密閉されず、外気と空気を交換可能になっている。仕切
板1は、複数の開口を有する板であり、フィルタの下方
で管理空間を水平に仕切っている。説明の便宜上、上方
の管理空間を第一の管理空間と、下方の管理空間を第二
の管理空間と呼ぶ。作業台88が第二の管理空間内に置
かれている。
Next, an outline of a third embodiment will be described with reference to the drawings. In the third embodiment, the present invention is applied to a clean bench. FIG. 3 is a side sectional view of a third embodiment of the present invention. The clean bench 80 has a ceiling 8
The space surrounded by 5, the wall 82, and the bottom plate 83 is a management space. The clean bench 80 includes a filter 81 and a wall 82.
, Blower 84, pre-filter 87, partition plate 1 and workbench 8
8 is provided. A ceiling 85 is above the clean bench 80. A filter 81 is provided on the ceiling 85.
The wall 82 is a simple panel, surrounds the periphery of the management space, and one surface thereof can be opened. The bottom plate 83 is the bottom of the clean bench 80. The blower 84 is installed so as to suck air in the management space via the pre-filter 87 and blow air downward from the filter 81. The room that houses the blower 84 and the pre-filter 87
It is not sealed and can exchange air with outside air. The partition plate 1 is a plate having a plurality of openings, and horizontally partitions the management space below the filter. For convenience of explanation, the upper management space is called a first management space, and the lower management space is called a second management space. A workbench 88 is located in the second management space.

【0026】クリーンベンチ80の作用を説明する。ク
リーンベンチ80の第二の管理空間の空気が、送風機8
4によりプレフィルタ87を経由して吸い込まれる。そ
の空気は、送風機84より、天井のフィルタ81を通
り、天井85から第一の管理空間に吹き降りる。気流
は、仕切り板1を通過し、管理空間の下方におりる。空
気は、一方向流となり、第二の管理空間を下降し、底板
83に到達する。第一の管理空間と第二の管理空間の間
には微小な差圧力が生じる。したがって、仕切板1を通
って第二の管理空間に入った空気は、少なくとも作業台
48を通過するまでは一方向流となって下降する。
The operation of the clean bench 80 will be described. The air in the second management space of the clean bench 80 is
4 is sucked through the pre-filter 87. The air passes through a ceiling filter 81 from a blower 84 and flows down from the ceiling 85 to the first management space. The air flow passes through the partition plate 1 and is below the management space. The air flows in one direction, descends in the second management space, and reaches the bottom plate 83. A small pressure difference occurs between the first management space and the second management space. Therefore, the air that has entered the second management space through the partition plate 1 flows in one direction and descends at least until the air passes through the worktable 48.

【0027】次に、第四の実施形態の概要を図を基に説
明する。第四の実施形態は、本発明を基板(例えば液晶
基板)搬送装置用クリーンブースに適用したものであ
る。図4は、本発明の第四の実施形態の側面断面図であ
る。図5は、本発明の第四の実施形態の正面断面図であ
る。基板搬送装置108は、基板受台109と基板処理
装置110の間に置かれる。基板搬送装置109は、基
板受台109に置かれた基板を搬送し、基板処理装置1
10に挿入する。基板搬送装置用クリーンブース100
が基板搬送装置108の上部に設けられる。この基板搬
送装置用クリーンブース100は、クリーンルーム(図
示せず)の中に設置される。
Next, the outline of the fourth embodiment will be described with reference to the drawings. In the fourth embodiment, the present invention is applied to a clean booth for a substrate (eg, liquid crystal substrate) transfer device. FIG. 4 is a side sectional view of the fourth embodiment of the present invention. FIG. 5 is a front sectional view of the fourth embodiment of the present invention. The substrate transfer device 108 is placed between the substrate receiving table 109 and the substrate processing device 110. The substrate transport device 109 transports the substrate placed on the substrate receiving table 109, and the substrate processing device 1
Insert into 10. Clean booth 100 for substrate transfer device
Is provided above the substrate transfer device 108. The clean booth 100 for a substrate transfer device is installed in a clean room (not shown).

【0028】基板搬送装置用クリーンブース(以下クリ
ーンブースと呼ぶ。)100は、天井105と壁102
と基板搬送装置108の上面とで囲まれた空間を管理空
間とする。クリーンブース100は、フィルタユニット
120と壁102と枠体103と仕切板1とを備える。
枠体103は、例えば立方体の辺部に配置されたステン
レス製またはアルミ製の柱でできた構造体であり、搬送
装置108に乗っている。天井105が、その枠体10
3の上部にある。フィルタユニット120は、フィルタ
101と送風機104とプレフィルタ107とが一体と
なったものである。フィルタユニット120が、天井1
05に設けられる。壁102は、例えば簡易なパネルで
あり、管理空間の周囲を囲い、枠体103に取り付けら
れている。壁102の基板受台109に対抗する一面と
基板処理装置110に対抗する他面には、搬送される基
板の通過する穴111があいている。フィルタユニット
120は、プレフィルタ107を経由して、外部の空気
を吸い込み、フィルタ101から下方に空気を吹き出す
ように設置されている。仕切板1は、複数の開口を有す
る板であり、フィルタ101の下方で管理空間を水平に
間仕切っている。説明の便宜上、上方の管理空間を第一
の管理空間と、下方の管理空間を第二の管理空間と呼
ぶ。仕切板1は、厚みが1mm〜3mmのうちの一つで
あり、開口率が60%〜30%のうちの一つである、数
mm直径の円形穴が一様に配置された、ステンレス板が
選択される。
A clean booth (hereinafter referred to as a clean booth) 100 for a substrate transfer apparatus includes a ceiling 105 and a wall 102.
A space surrounded by the upper surface of the substrate transfer device 108 is defined as a management space. The clean booth 100 includes a filter unit 120, a wall 102, a frame 103, and the partition plate 1.
The frame 103 is, for example, a structure made of stainless steel or aluminum pillars arranged on the sides of the cube, and is mounted on the transport device 108. The ceiling 105 is the frame 10
3 at the top. The filter unit 120 is formed by integrating the filter 101, the blower 104, and the pre-filter 107. The filter unit 120 is mounted on the ceiling 1
05. The wall 102 is, for example, a simple panel, surrounds the periphery of the management space, and is attached to the frame 103. On one surface of the wall 102 that faces the substrate receiving table 109 and on the other surface that faces the substrate processing apparatus 110, there is a hole 111 through which the transferred substrate passes. The filter unit 120 is installed so as to draw in external air via the pre-filter 107 and blow air downward from the filter 101. The partition plate 1 is a plate having a plurality of openings, and horizontally partitions the management space below the filter 101. For convenience of explanation, the upper management space is referred to as a first management space, and the lower management space is referred to as a second management space. The partition plate 1 is a stainless plate having a thickness of 1 mm to 3 mm, an aperture ratio of 60% to 30%, and circular holes of several mm in diameter uniformly arranged. Is selected.

【0029】基板(例えば液晶基板)搬送装置用クリー
ンブース100の作用を説明する。クリーンブース10
0の外部の空気が、送風機104によりプレフィルタ1
07を経由して吸い込まれる。その空気は、送風機10
4を通り、フィルタ101を通り、天井105から第一
の管理空間に吹き降りる。気流は、仕切り板1を通過
し、第二の管理空間におりる。空気は、一方向流とな
り、第二の管理空間を下降し、基板搬送装置108の上
面に到達する。空気は、壁102同士の隙間や壁102
と基板搬送装置108の上面の隙間から外部へ吹きだ
す。第一の管理空間と第二の管理空間の間には微小な差
圧力が生じる。したがって、仕切板1を通って第二の管
理空間に入った空気は、一方向流となって下降する。
The operation of the clean booth 100 for a substrate (eg, liquid crystal substrate) transfer device will be described. Clean booth 10
0 is blown out of the pre-filter 1 by the blower 104.
It is sucked in through 07. The air is blower 10
4, passes through the filter 101, and descends from the ceiling 105 to the first management space. The airflow passes through the partition plate 1 and enters the second management space. The air flows in one direction, descends through the second management space, and reaches the upper surface of the substrate transfer device 108. Air flows into the gaps between the walls 102 and the walls 102.
And blows out from the gap on the upper surface of the substrate transfer device 108. A small pressure difference occurs between the first management space and the second management space. Therefore, the air that has entered the second management space through the partition plate 1 flows downward in one direction.

【0030】上述の実施形態のクリーンルームを用いれ
ば、仕切板を境として微小な差圧力が生ずるので、気流
が仕切板を逆流することがなく、第一の管理空間に渦や
滞留が生じても、第二の管理空間の気流が乱されること
がなく、第二の管理空間の清浄度の維持や管理が容易に
なる。また、仕切板1の厚み寸法が開口寸法に比較して
十分に小さいので、仕切板に生ずる差圧力が小さくてす
み、さらに浮遊微小粒子が付着しにくい。また、開口が
その仕切板1の全面に一様に配置して設けられているの
で、仕切板の任意の場所での差圧力がその全面において
一様であり、仕切板を通過する気流の任意の場所での速
度が一様であり、気流の後流での流れが乱されない。ま
た、その仕切板1の開口の開口率が60%以下であれ
ば、仕切板での差圧力が十分に発生する。また開口率が
60%〜30%であれば、仕切板での差圧力が大きくな
りすぎず、送風機の動力が不必要に大きくなることがな
い。また、仕切板が導電性材料でできた板であって、ク
リーンルーム全体のアースされているので、仕切板に電
荷がたまることがなく、静電気による浮遊微小粒子の付
着が生じないので、クリーンルームの清浄度の維持管理
が容易になる。従って、クリーンルームの清浄度の維持
管理が従来構造のクリーンルームに比べ格段に容易にな
り、さらに十分な検討をすればフィルタユニットの数を
減らしたり、クリーンルームの高さ寸法を減らすことが
できる。
When the clean room according to the above-described embodiment is used, a small pressure difference is generated at the partition plate, so that the air flow does not flow backward through the partition plate, and even if vortices or stagnation occurs in the first management space. In addition, the airflow in the second management space is not disturbed, and the maintenance and management of the cleanliness of the second management space are facilitated. Further, since the thickness of the partition plate 1 is sufficiently smaller than the opening size, the pressure difference generated in the partition plate can be small, and the floating fine particles are hardly adhered. Further, since the openings are uniformly arranged on the entire surface of the partition plate 1, the differential pressure at any place of the partition plate is uniform over the entire surface, and any air flow passing through the partition plate is The velocity at the location is uniform, and the flow downstream of the airflow is not disturbed. If the opening ratio of the opening of the partition plate 1 is 60% or less, a sufficient differential pressure is generated at the partition plate. When the opening ratio is 60% to 30%, the differential pressure at the partition plate does not become too large, and the power of the blower does not increase unnecessarily. In addition, since the partition plate is a plate made of a conductive material and is grounded in the entire clean room, there is no accumulation of electric charge on the partition plate and no adhesion of floating fine particles due to static electricity. Maintenance of the degree becomes easy. Therefore, maintenance and management of the cleanliness of the clean room is much easier than that of the clean room having the conventional structure, and the number of filter units can be reduced, and the height of the clean room can be reduced with sufficient consideration.

【0031】本発明は以上に述べた実施形態に限られる
ものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変
更が可能である。本発明の実施例として、一方向流式ク
リーンルームでの適用例で説明したがこれに限定され
ず、非一方向流式クリーンルームに適用してもよい。
The present invention is not limited to the embodiment described above, and various changes can be made without departing from the gist of the invention. As an embodiment of the present invention, an example in which the present invention is applied to a one-way flow clean room has been described. However, the present invention is not limited to this, and may be applied to a non-one-way flow clean room.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように本発明の気流を上部
から管理空間に流すクリーンルームは、その構成によ
り、以下の効果を有する。フィルタにより清浄化された
気流を上部から管理空間に流すことができ、管理空間に
流れる気流に外部から気体が混じることを防ぐことがで
き、気流の上流側と気流の下流側で差圧力を発生させる
ことができるので、気流の上流側に気流の渦や澱みが発
生しても、気流の下流に影響を与えず、下流に清浄度の
悪化を防ぐことができる。また、仕切板の任意の場所で
発生した差圧力を仕切板の全面で一様にすることができ
るので、下流の気流に与える影響を仕切板の全面で一様
にできる。さらに、差圧力を十分に発生させることがで
きるので、気流の上流側が気流の下流側に影響を与えな
いことができる。さらに、仕切板での任意の電位を仕切
板の全面で一様にすることができ、仕切板での静電気に
よる浮遊微小粒子への影響を一様にできる。従って、清
浄度の維持管理の容易な構造のクリーンルームを提供で
きる。
As described above, the clean room according to the present invention in which the airflow flows from the upper part to the management space has the following effects depending on its configuration. The air stream cleaned by the filter can flow from the top to the management space, preventing gas from mixing with the air flow flowing into the management space from the outside, generating a differential pressure between the upstream side of the air flow and the downstream side of the air flow Therefore, even if a vortex or stagnation of the airflow occurs on the upstream side of the airflow, it does not affect the downstream of the airflow, and the deterioration of cleanliness on the downstream side can be prevented. Further, since the differential pressure generated at an arbitrary position of the partition plate can be made uniform over the entire surface of the partition plate, the influence on the downstream airflow can be made uniform over the entire surface of the partition plate. Further, since the differential pressure can be sufficiently generated, the upstream side of the airflow does not affect the downstream side of the airflow. Further, an arbitrary potential at the partition plate can be made uniform over the entire surface of the partition plate, and the influence of static electricity on the floating microparticles at the partition plate can be made uniform. Therefore, it is possible to provide a clean room having a structure that facilitates maintenance and management of cleanliness.

【0033】[0033]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施形態の正面断面図である。FIG. 1 is a front sectional view of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第二の実施形態の正面断面図である。FIG. 2 is a front sectional view of a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第三の実施形態の側面断面図である。FIG. 3 is a side sectional view of a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第四の実施形態の側面断面図である。FIG. 4 is a side sectional view of a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第四の実施形態の正面断面図である。FIG. 5 is a front sectional view of a fourth embodiment of the present invention.

【図6】従来の狭義のクリーンルームの正面断面図であ
る。
FIG. 6 is a front sectional view of a conventional clean room in a narrow sense.

【図7】従来のクリーンブースの正面図と側面図であ
る。
FIG. 7 is a front view and a side view of a conventional clean booth.

【図8】従来のクリーンベンチの側面断面図である。FIG. 8 is a side sectional view of a conventional clean bench.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 仕切板 10 気流 11 作業員(発塵体) 12 作業対象物(例えば液晶基板) 20 狭義のクリーンルーム 21 フィルタ 22 壁 23 グレーチング床 24 送風機 25 天井 26 床 30 クリーンブース 31 フィルタ 32 壁(カーテン、または簡易パネル) 33 枠体 34 送風機 35 天井 36 床 37 プレフィルタ 40 クリーンベンチ 41 フィルタ 42 壁 43 底板 44 送風機 45 天井 46 床 47 プレフィルタ 48 作業台 50 クリーンベンチ 51 フィルタ 52 壁 53 底板 54 送風機 55 天井 56 床 57 プレフィルタ 58 作業台 59 側部 60 狭義のクリーンルーム 61 フィルタ 62 壁 63 グレーチング床 64 送風機 65 天井 66 床 70 クリーンブース 71 フィルタ 72 壁(カーテン、または簡易パネル) 73 枠体 74 送風機 75 天井 76 床 77 プレフィルタ 80 クリーンベンチ 81 フィルタ 82 壁 83 底板 84 送風機 85 天井 86 床 87 プレフィルタ 88 作業台 100 基板搬送装置用クリーンブース 101 フィルタ 102 壁 103 底板 104 送風機 105 天井 106 床 107 プレフィルタ 108 基盤搬送装置 109 基板受台 110 基板処理装置 111 穴 120 フィルタユニット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Partition plate 10 Air flow 11 Worker (dusting object) 12 Work object (for example, liquid crystal substrate) 20 Clean room in a narrow sense 21 Filter 22 Wall 23 Grating floor 24 Blower 25 Ceiling 26 Floor 30 Clean booth 31 Filter 32 Wall (curtain or) 33 simple frame) 33 frame 34 blower 35 ceiling 36 floor 37 pre-filter 40 clean bench 41 filter 42 wall 43 bottom plate 44 blower 45 ceiling 46 floor 47 pre-filter 48 work bench 50 clean bench 51 filter 52 wall 53 bottom plate 54 blower 55 ceiling 56 Floor 57 Pre-filter 58 Work table 59 Side 60 Clean room in a narrow sense 61 Filter 62 Wall 63 Grating floor 64 Blower 65 Ceiling 66 Floor 70 Clean booth 71 Filter 72 Wall (curtain or simple) Panel) 73 Frame 74 Blower 75 Ceiling 76 Floor 77 Pre-filter 80 Clean bench 81 Filter 82 Wall 83 Bottom plate 84 Blower 85 Ceiling 86 Floor 87 Pre-filter 88 Work table 100 Clean booth for substrate transfer device 101 Filter 102 Wall 103 Bottom plate 104 Blower 105 ceiling 106 floor 107 pre-filter 108 base transfer device 109 substrate receiving table 110 substrate processing device 111 hole 120 filter unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴岡 浩 東京都江東区毛利一丁目19番10号 石川島 播磨重工業株式会社江東事務所内 (72)発明者 村上 弘記 東京都江東区豊州三丁目2番16号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 Fターム(参考) 3L058 BD02 BE02 BF01 BF03 BF06 BG01 BG03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Suzuoka 1-19-10 Mori, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries, Ltd. Koto Office (72) Inventor Hiroki Murakami 3-chome Toyoshu, Koto-ku, Tokyo No. 16 Ishikawajima Harima Heavy Industries, Ltd. Tokyo Engineering Center F term (reference) 3L058 BD02 BE02 BF01 BF03 BF06 BG01 BG03

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 気流を上部から管理空間に流しうるクリ
ーンルームであって、上部に配置されたフィルタと、そ
の管理空間の周囲を囲う壁と、複数の開口を有する仕切
板と、を備え、その仕切板が気流を上流側と下流側とに
分ける様に前記管理空間を間仕切っていることを特徴と
するクリーンルーム。
1. A clean room capable of flowing an airflow from above into a management space, comprising: a filter disposed at an upper portion; a wall surrounding the periphery of the management space; and a partition plate having a plurality of openings. A clean room, wherein a partition plate partitions the management space so that an airflow is divided into an upstream side and a downstream side.
【請求項2】その開口がその仕切板の全面に一様に配置
されていることを特徴とする請求項1に記載のクリーン
ルーム。
2. The clean room according to claim 1, wherein the openings are uniformly arranged on the entire surface of the partition plate.
【請求項3】その仕切板の開口率が60%以下であるこ
とを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記
載のクリーンルーム。
3. The clean room according to claim 1, wherein an aperture ratio of the partition plate is 60% or less.
【請求項4】その仕切板が導電性材料でできていること
を特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
クリーンルーム。
4. The clean room according to claim 1, wherein said partition plate is made of a conductive material.
JP2001018367A 2001-01-26 2001-01-26 Clean room Pending JP2002228220A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001018367A JP2002228220A (en) 2001-01-26 2001-01-26 Clean room

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001018367A JP2002228220A (en) 2001-01-26 2001-01-26 Clean room

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002228220A true JP2002228220A (en) 2002-08-14

Family

ID=18884405

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001018367A Pending JP2002228220A (en) 2001-01-26 2001-01-26 Clean room

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002228220A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021116944A (en) * 2020-01-23 2021-08-10 ファナック株式会社 Clean bench device
JP2021195900A (en) * 2020-06-15 2021-12-27 昭弘 畠山 Ventilator, and electric fan and ventilation system using the same
JP2022056167A (en) * 2020-09-29 2022-04-08 芝浦メカトロニクス株式会社 Air blower and mounting device of electronic component

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4843676Y1 (en) * 1969-02-10 1973-12-17
JPS62179541U (en) * 1986-05-01 1987-11-14
JPH05277400A (en) * 1992-03-30 1993-10-26 Mitsubishi Electric Corp Air cleaner
JPH09159239A (en) * 1995-12-07 1997-06-20 Hitachi Ltd Clean room
JPH09243123A (en) * 1996-03-13 1997-09-16 Jieneshisu Technol Kk Air supply unit for turbulent flow type clean room

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4843676Y1 (en) * 1969-02-10 1973-12-17
JPS62179541U (en) * 1986-05-01 1987-11-14
JPH05277400A (en) * 1992-03-30 1993-10-26 Mitsubishi Electric Corp Air cleaner
JPH09159239A (en) * 1995-12-07 1997-06-20 Hitachi Ltd Clean room
JPH09243123A (en) * 1996-03-13 1997-09-16 Jieneshisu Technol Kk Air supply unit for turbulent flow type clean room

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021116944A (en) * 2020-01-23 2021-08-10 ファナック株式会社 Clean bench device
JP7513399B2 (en) 2020-01-23 2024-07-09 ファナック株式会社 Clean bench equipment
JP2021195900A (en) * 2020-06-15 2021-12-27 昭弘 畠山 Ventilator, and electric fan and ventilation system using the same
JP7437721B2 (en) 2020-06-15 2024-02-26 昭弘 畠山 Air blower, electric fan and air blowing system using the same
JP2022056167A (en) * 2020-09-29 2022-04-08 芝浦メカトロニクス株式会社 Air blower and mounting device of electronic component
JP7555774B2 (en) 2020-09-29 2024-09-25 芝浦メカトロニクス株式会社 Blower and electronic component mounting device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9791161B2 (en) Local clean zone forming apparatus
US5827118A (en) Clean storage unit air flow system
JPS6071830A (en) Recombinant local environmental control room
CA2538227A1 (en) A method and a device for ventilation and airborne decontamination by mixing using blow and suction flows attached by the coanda effect
US6471582B1 (en) Adapter for coupling air duct to fan-driven vent
KR100605106B1 (en) Grating panel and clean room system using it
JP2002228220A (en) Clean room
US3686836A (en) Dust-free work station with two crossed laminar flows
JPS6127435A (en) Preventing device for inducting and mixing contaminated air in air cleaning system
JPH0666439A (en) Clean room and air supply unit
TW202027838A (en) Clean room purification system comprising an air-conditioning device, a porous diffusion membrane, an air supply duct, and an air returning duct
JP2536188B2 (en) Air purifier
JPS62299641A (en) Air circulation method for clean room
JPH024145A (en) Clean booth
JPH09159239A (en) Clean room
JP2003214668A (en) Clean room
JPH07310941A (en) Clean room
JP2817605B2 (en) Automatic warehouse for clean room
JP3400145B2 (en) Clean transfer path
JPS62182541A (en) clean room
JPS61168736A (en) clean room
JPS61168735A (en) Clean room
JPH022605B2 (en)
JP2000039205A (en) Air outlet
JPH01281351A (en) Clean room

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100629

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100630

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100819

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110202