JP2002164413A - Pitch converter - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】複数の支持プレート間のピッチを一括して変換
でき、さらに、制御が容易で、円滑に動作するピッチ変
換装置を提供する。
【解決手段】基体2と、この基体2に進退自在に設けら
れ、傾斜する複数のカム溝3が穿設されたカムプレート
4、4と、カム溝3を摺動する従動子5を介してカムプ
レート4、4に連動し、平行に配置された複数の支持プ
レート6と、この複数の支持プレート6の配置方向に沿
って基体2に延設され、支持プレート6に形成されたガ
イド部7と摺動自在に係合されたガイド体8とを有し、
カムプレート4、4を進退させて、複数の支持プレート
6をガイド体8に沿って移動させることにより、複数の
支持プレート6間のピッチを一括して変換するようにし
たピッチ変換装置。
(57) [Problem] To provide a pitch conversion device which can change the pitch between a plurality of support plates at a time, is easy to control, and operates smoothly. Kind Code: A1 Abstract: A base 2, a cam plate 4, which is provided in the base 2 so as to be able to advance and retreat and has a plurality of inclined cam grooves 3, and a follower 5 which slides in the cam grooves 3. A plurality of support plates 6 arranged in parallel with the cam plates 4, 4, and a guide portion 7 formed on the support plate 6 and extending from the base 2 along the direction in which the plurality of support plates 6 are arranged. And a guide body 8 slidably engaged,
A pitch conversion device in which the pitch between the plurality of support plates 6 is changed at a time by moving the plurality of support plates 6 along the guide body 8 by moving the cam plates 4 and 4 forward and backward.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はピッチ変換装置に係
わり、特に、複数の傾斜ガイド溝が穿設されたガイドプ
レートを進退させることにより、複数の支持プレート間
のピッチを一括して変換するピッチ変換装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pitch converter, and more particularly, to a pitch converter for converting a pitch between a plurality of support plates at once by moving a guide plate having a plurality of inclined guide grooves formed therein. The present invention relates to a conversion device.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体ウェーハの表面酸化、不純物拡散
などのプロセスでは、処理前の半導体ウェーハを並べた
ウェーハキャリアから半導体ウェーハをウェーハボート
に移載し、処理完了後、ウェーハボートからウェーハキ
ャリアに移載する。2. Description of the Related Art In processes such as surface oxidation of semiconductor wafers and diffusion of impurities, semiconductor wafers are transferred from a wafer carrier on which semiconductor wafers before processing are arranged to a wafer boat, and after processing is completed, the semiconductor wafers are transferred from the wafer boat to a wafer carrier. Put on.
【0003】これらのプロセスでは、ウェーハキャリア
からウェーハボートへの移載、ウェーハボートからウェ
ーハキャリアへの移載は、ウェーハ移載装置を用いて行
われる。移載に際して、ウェーハキャリアとウェーハボ
ートのウェーハ搭載溝ピッチ(ウェーハの並置ピッチ)
が同一の場合には、ウェーハ移載装置に設けられた固定
間隔の複数のフォークによって、一度に複数枚の半導体
ウェーハを移載している。しかし、ウェーハキャリアと
ウェーハボートの溝ピッチが異なる場合には、ウェーハ
移載装置に設けられた一個のフォークによって、一枚づ
つ移載していたため、生産性が低かった。In these processes, transfer from a wafer carrier to a wafer boat and transfer from a wafer boat to a wafer carrier are performed using a wafer transfer apparatus. At the time of transfer, wafer carrier groove pitch of wafer carrier and wafer boat (wafer juxtaposed pitch)
Are the same, a plurality of semiconductor wafers are transferred at once by a plurality of fixed forks provided in the wafer transfer device. However, when the groove pitch between the wafer carrier and the wafer boat is different, the productivity is low because the wafers are transferred one by one by one fork provided in the wafer transfer device.
【0004】この問題を解決するための装置として、ウ
ェーハキャリアとウェーハボートの溝ピッチが異なる場
合にも、一度に全てのウェーハを移載できるウェーハ移
載装置が、特開平6−183512号公報に開示されて
いる。この開示のウェーハ移載装置は、保持部材を備え
たリンク機構からなり、保持部材に保持された複数の平
板状試料の配列間隔を一括して変換する装置であって、
直線状に形成されたガイドに沿って直線移動可能に設け
られた複数の移動子の各々に取り付けられた保持部材、
ガイドの軸線上に設けられた支点に枢着されたレバー、
このレバーに一端が枢着され移動子に他端が枢着され、
しかも、所定間隔にて平行に配置された複数のアームで
構成されている。As an apparatus for solving this problem, Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-183512 discloses a wafer transfer apparatus capable of transferring all wafers at once even when the groove pitch between the wafer carrier and the wafer boat is different. It has been disclosed. The wafer transfer device according to the present disclosure is a device that includes a link mechanism having a holding member, and collectively converts an arrangement interval of a plurality of flat samples held by the holding member,
A holding member attached to each of a plurality of movers provided to be linearly movable along a guide formed in a straight line,
A lever pivotally attached to a fulcrum provided on the axis of the guide,
One end is pivotally attached to this lever and the other end is pivotally attached to the mover,
Moreover, it is composed of a plurality of arms arranged in parallel at a predetermined interval.
【0005】この装置の問題点として、リンク機構を有
するため、レバーが回転するための大きなスペースを必
要とし大型になり、また、レバーの回転量とフォークピ
ッチが比例関係にないため、制御が複雑になり、移動子
の移動が円滑に欠け、さらに、部品点数が多く動作部分
が多いため構造が複雑で高価となり、また、動作部が比
較的多いためパーティクル汚染が生じるおそれがあるな
どの点が挙げられる。The problem with this device is that it has a link mechanism, requires a large space for the rotation of the lever, and is large. In addition, since the amount of rotation of the lever is not proportional to the fork pitch, control is complicated. In addition, the movement of the mover is lacking smoothly, and the number of parts is large and the number of operating parts is large, so the structure is complicated and expensive, and the relatively large number of operating parts may cause particle contamination. No.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】そこで、複数の支持プ
レート間のピッチを一括して変換でき、さらに、制御が
容易で、円滑に動作するピッチ変換装置が要望されてい
る。Therefore, there is a need for a pitch converter that can change the pitch between a plurality of support plates at a time, is easy to control, and operates smoothly.
【0007】本発明は上述した事情を考慮してなされた
もので、複数の支持プレート間のピッチを一括して変換
でき、さらに、制御が容易で、円滑に動作するピッチ変
換装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a pitch conversion device that can change the pitch between a plurality of support plates at a time, is easy to control, and operates smoothly. With the goal.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上述目的を達成するため
になされた本願請求項1の発明は、基体と、この基体に
進退自在に設けられ、傾斜する複数のカム溝が穿設され
たカムプレートと、前記カム溝を摺動する従動子を介し
てカムプレートに連動し、平行に配置された複数の支持
プレートと、この複数の支持プレートの配置方向に沿っ
て基体に延設され、前記支持プレートに形成されたガイ
ド部と摺動自在に係合されたガイド体とを有し、前記カ
ムプレートを進退させて、前記複数の支持プレートを前
記ガイド体に沿って移動させることにより、複数の支持
プレート間のピッチを一括して変換するようにしたこと
を特徴とするピッチ変換装置であることを要旨としてい
る。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is directed to a cam having a base and a plurality of inclined cam grooves provided in the base so as to be able to advance and retreat. A plate, a plurality of support plates arranged in parallel with the cam plate via a follower sliding in the cam groove, and a plurality of support plates arranged in parallel, and extended to the base along the arrangement direction of the plurality of support plates, A guide portion formed on the support plate and a guide body slidably engaged with the guide plate, and by moving the cam plate forward and backward to move the plurality of support plates along the guide body, The pitch conversion device is characterized in that the pitch between the support plates is converted at once.
【0009】本願請求項2の発明では、上記複数のカム
溝の傾斜勾配は異なり、上記複数の支持プレートのうち
中央に配置された支持プレートは基体に固定されてお
り、前記複数のカム溝の傾斜勾配は、前記支持プレート
に対して対称に形成されたことを特徴とする請求項1に
記載のピッチ変換装置であることを要旨としている。In the invention of claim 2 of the present application, the plurality of cam grooves have different inclination gradients, and the support plate disposed at the center among the plurality of support plates is fixed to a base, and the plurality of cam grooves have the same inclination. The gist of the invention is that the inclination gradient is formed symmetrically with respect to the support plate.
【0010】本願請求項3の発明では、上記複数のカム
溝の傾斜勾配は、外側に形成されるカム溝ほど傾斜勾配
が大きくなることを特徴とする請求項1または2に記載
のピッチ変換装置であることを要旨としている。According to a third aspect of the present invention, in the pitch conversion device according to claim 1 or 2, the inclination gradient of the plurality of cam grooves increases as the cam grooves are formed outside. The gist is that
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係わるピッチ変換
装置の実施形態を添付図面に基づき説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a pitch converter according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0012】図1は、本発明に係わるピッチ変換装置を
半導体ウェーハ移載装置に適用した実施形態のカバーを
除去した状態の側面図である。FIG. 1 is a side view of an embodiment in which a pitch conversion device according to the present invention is applied to a semiconductor wafer transfer device with a cover removed.
【0013】半導体ウェーハ移載装置1は、基体2と、
この基体2に進退自在に設けられ、傾斜する複数のカム
溝3が穿設された一対のカムプレート4、4と、カム溝
3を摺動する従動子5を介してカムプレート4、4に連
動し、平行に配置された複数の支持プレート6と、この
複数の支持プレート6の配置(垂直)方向に沿って基体
2に延設され、支持プレート6に形成されたガイド部7
と摺動自在に係合されたガイド体8と、カムプレート
4、4を水平方向に進退させる駆動手段9とを有してい
る。The semiconductor wafer transfer device 1 includes a base 2,
A pair of cam plates 4, 4, which are provided on the base 2 so as to be able to move forward and backward and are provided with a plurality of inclined cam grooves 3, and a cam plate 4, 4 via a follower 5 sliding in the cam grooves 3. A plurality of supporting plates 6 arranged in parallel with each other, and a guide portion 7 formed on the supporting plate 6 and extending on the base 2 along the arrangement (vertical) direction of the plurality of supporting plates 6.
And a driving means 9 for moving the cam plates 4 and 4 in the horizontal direction.
【0014】基体2は、底板10とこの底板10に立設
された4本の支柱11と、この支柱11に取り付けられ
た天板12で構成されている。基体2の両側面には、一
対のカムレート4、4が設けられており、このカムプレ
ート4、4には、4個のカム溝3(3a、3b、3d、
3e)が穿設されている。外側に位置するカム溝3a、
3eは方向が異なるが同一傾斜勾配を有している。内側
に位置するカム溝3b、3dは方向が異なるが同一傾斜
勾配を有し、カム溝3a、3eの傾斜勾配よりも小さな
傾斜勾配を有し、さらに、カム溝3a、3b、3d、3
eはカムプレート4、4に、後述のような中央に位置し
固定の支持プレート6cに対して、対称の関係に設けら
れている。The base 2 includes a bottom plate 10, four pillars 11 erected on the bottom plate 10, and a top plate 12 attached to the pillar 11. A pair of cam rates 4, 4 are provided on both side surfaces of the base 2, and four cam grooves 3 (3a, 3b, 3d,
3e) is perforated. An outer cam groove 3a,
3e has the same inclination but different directions. The cam grooves 3b and 3d located inside have different inclinations but different directions, have a smaller inclination than the cam grooves 3a and 3e, and further have the cam grooves 3a, 3b, 3d and 3d.
"e" is provided on the cam plates 4 and 4 in a symmetrical relationship with a fixed support plate 6c located at the center as described later.
【0015】また、基体2内には、5枚の支持プレート
6(6a、6b、6c、6d、6e)が垂直方向(ガイ
ド体8の延設方向)に各々離間して配置されている。こ
の5枚の支持プレート6のうち、4枚の支持プレート6
a、6b、6d、6eは、従動子5(5a、5b、5
d、5e)およびカム溝3a、3b、3d、3eを介し
てカムプレート4、4に支持され、かつ、カムプレート
4、4に連動し、垂直方向に移動するようになってい
る。残りの中央に位置する支持プレート6cは基体2に
固着されており、常に一定の位置にある。Further, in the base 2, five support plates 6 (6a, 6b, 6c, 6d, 6e) are arranged separately from each other in the vertical direction (the direction in which the guide body 8 extends). Of the five support plates 6, four support plates 6
a, 6b, 6d, and 6e are the followers 5 (5a, 5b, 5
d, 5e) and via the cam grooves 3a, 3b, 3d, 3e, are supported by the cam plates 4, 4, and move in the vertical direction in conjunction with the cam plates 4, 4. The remaining center support plate 6c is fixed to the base 2 and is always at a fixed position.
【0016】さらに、図1および図2に示すように、支
持プレート6には各々その重量軽減のために切欠部13
が形成されてほぼU字形状をなし、このU字の両脚部に
は、ガイド体8が貫通する貫通孔14、15が穿設され
ており、また、支持プレート6a、6b、6d、6eに
は、各々ガイド部7(7a、7b、7d、7e)が設け
られており、このガイド部7はガイド体8に摺動自在に
係合し、支持プレート6a、6b、6d、6eの進退を
抑制し、ガイド体8に沿って支持プレート6a、6b、
6d、6eを垂直方向に移動する働きをする。なお、ガ
イド部は本実施形態のように別個に形成して固着して
も、支持プレートに直接形成してもよい。Further, as shown in FIGS. 1 and 2, each of the support plates 6 has a notch 13 for reducing its weight.
Are formed in a substantially U-shape, and through-holes 14 and 15 through which the guide body 8 penetrates are formed in both legs of the U-shape, and the support plates 6a, 6b, 6d and 6e are formed in the legs. Are provided with guide portions 7 (7a, 7b, 7d, 7e). The guide portions 7 are slidably engaged with the guide members 8 to move the support plates 6a, 6b, 6d, 6e forward and backward. The support plates 6a, 6b along the guide body 8,
It functions to move 6d and 6e in the vertical direction. The guide portion may be formed separately and fixed as in the present embodiment, or may be formed directly on the support plate.
【0017】さらに、支持プレート6a、6b、6c、
6d、6eには、半導体ウェーハと接触しても半導体ウ
ェーハを汚染することがない材質で形成されたフォーク
16が取り付けられている。Further, support plates 6a, 6b, 6c,
A fork 16 made of a material that does not contaminate the semiconductor wafer even when it comes into contact with the semiconductor wafer is attached to 6d and 6e.
【0018】また、基体2の天板12には、駆動手段9
が設けられており、この駆動手段9はステッピングモー
タ17と、このステッピングモータ17に回動されボー
ルネジで形成されたスクリューシャフト18と、このス
クリューシャフト18とネジ結合して進退する移動部材
19とよりなり、ステッピングモータ17の回動によ
り、スクリューシャフト18、移動部材19を介してカ
ムプレート4、4をこのカムプレート4、4の下部に設
けられた摺動子20と、この摺動子20と摺動自在に係
合し、基体2に設けられた摺動ガイド体21に沿って水
平方向に進退するようになっている。The driving means 9 is provided on the top plate 12 of the base 2.
The driving means 9 includes a stepping motor 17, a screw shaft 18 rotated by the stepping motor 17 and formed by a ball screw, and a moving member 19 which is screw-coupled to the screw shaft 18 to advance and retreat. The rotation of the stepping motor 17 causes the cam plates 4, 4 to be moved via the screw shaft 18 and the moving member 19 to the slider 20 provided below the cam plates 4, 4. It is slidably engaged and reciprocates in a horizontal direction along a slide guide 21 provided on the base 2.
【0019】なお、22a、22b、22d、22e
は、従動子5a、5b、5d、5eを支持プレート6
a、6b、6d、6eに取り付けるための取付部材であ
り、また、半導体ウェーハ移載装置1は図3に示すよう
に、カバー23で覆われている。Incidentally, 22a, 22b, 22d, 22e
The follower 5a, 5b, 5d, 5e
a, 6b, 6d, and 6e. The semiconductor wafer transfer device 1 is covered with a cover 23 as shown in FIG.
【0020】次に、本発明の実施形態である半導体ウェ
ーハ移載装置を用いた半導体ウェーハの移載方法につい
て説明する。Next, a method for transferring a semiconductor wafer using the semiconductor wafer transfer apparatus according to the embodiment of the present invention will be described.
【0021】図3に示すように、運搬用のカセットCに
搭載された半導体ウェーハWを、半導体ウェーハ移載装
置1を用いてウェーハボートBに移載する。As shown in FIG. 3, the semiconductor wafer W mounted on the transport cassette C is transferred to the wafer boat B using the semiconductor wafer transfer device 1.
【0022】例えば、ピッチp1で半導体ウェーハWが
搭載されているカセットCに、半導体ウェーハ移載装置
1のフォーク16を対面させる。しかる後、ロータリテ
ーブルRTを前進させて半導体ウェーハWをフォーク1
6間に挿入した後、昇降台UDを上昇させてカセットC
に設けられたウェーハ支持部に半導体ウェーハWを支持
させ、半導体ウェーハWをカセットCに搭載する。For example, the fork 16 of the semiconductor wafer transfer apparatus 1 faces the cassette C on which the semiconductor wafers W are mounted at the pitch p1. Thereafter, the rotary table RT is moved forward to place the semiconductor wafer W on the fork 1.
After inserting the space between the cassette C and the cassette C
The semiconductor wafer W is supported on the wafer supporting portion provided in the above, and the semiconductor wafer W is mounted on the cassette C.
【0023】このとき、図4に示すように、フォーク1
6間のピッチp1は、図3および図5に示すウェーハボ
ートBに搭載された半導体ウェーハWのピッチp2より
も小さく設定されており、この状態では、カムプレート
4、4は基体2の後退した位置にあり、従って、支持プ
レート6a、6b、6d、6eに各々設けられた従動子
5a、5b、5d、5eは、カム溝3a、3b、3d、
3eの前方域(内側域)に位置している。At this time, as shown in FIG.
The pitch p1 between 6 is set smaller than the pitch p2 of the semiconductor wafer W mounted on the wafer boat B shown in FIGS. 3 and 5, and in this state, the cam plates 4, 4 have receded. , The followers 5a, 5b, 5d, 5e respectively provided on the support plates 6a, 6b, 6d, 6e are provided with cam grooves 3a, 3b, 3d,
3e is located in the front area (inner area).
【0024】次にロータリテーブルRTを後退させ、さ
らに、回動させて、図3に点線で示すように、半導体ウ
ェーハ移載装置1をウェーハボートBに対面させる。ウ
ェーハボートBは、ウェーハボートBに搭載された半導
体ウェーハWが、均一に熱処理されるように、カセット
Cに搭載された状態の半導体ウェーハW間のピッチP1
に比べて大きく設定されている。従って、半導体ウェー
ハWをウェーハボートBに搭載するには、ウェーハピッ
チ(フォークピッチ)をp1からp2に変更する必要が
ある。Next, the rotary table RT is moved backward and further rotated, so that the semiconductor wafer transfer device 1 faces the wafer boat B as shown by a dotted line in FIG. The wafer boat B has a pitch P1 between the semiconductor wafers W mounted on the cassette C so that the semiconductor wafers W mounted on the wafer boat B are uniformly heat-treated.
It is set larger than. Therefore, in order to mount the semiconductor wafer W on the wafer boat B, it is necessary to change the wafer pitch (fork pitch) from p1 to p2.
【0025】そこで、図5に示すように、駆動手段9の
ステッピングモータ17を所定回数回動させて、スクリ
ューシャフト18を回動させ、移動部材19を所定距離
前進させる。この移動部材19の前進に伴なって、カム
プレート4、4も前進し、これにより、支持プレート6
a、6b、6d、6eはガイド体8に沿って所定距離だ
け垂直方向に移動し、ウェーハピッチ(フォークピッ
チ)はp1からp2に一括して変更できる。すなわち、
カムプレート4、4は前進するが、ガイド部7およびガ
イド体8により支持プレート6a、6b、6d、6eの
前進(前方への力)は抑制され、従動子5a、5b、5
d、5eはカム溝3a、3b、3d、3eに沿ってカム
溝3a、3b、3d、3eの後方域に位置し、かつ、各
従動子5a、5b、5d、5eは離間し、ガイド部7を
ガイド体8に沿って上昇または降下させて支持プレート
6a、6b、6d、6e間の距離を拡大し、この支持プ
レート6a、6b、6d、6eおよびフォーク16間の
ピッチを一括してp1からp2にする。これにより、ウ
ェーハピッチも一括してp2になる。この状態でロータ
リテーブルRTを前進させて、半導体ウェーハWをウェ
ーハボートB内に挿入し、ウェーハボートBを若干上昇
させてウェーハボートBの支持溝に半導体ウェーハWを
支持させて、搭載する。しかる後、ロータリテーブルR
Tを後退させて、フォーク16を後退させる。半導体ウ
ェーハWが搭載されたウェーハボートBを熱処理炉Fに
収納し、熱処理を行う。Then, as shown in FIG. 5, the stepping motor 17 of the driving means 9 is rotated a predetermined number of times, the screw shaft 18 is rotated, and the moving member 19 is advanced by a predetermined distance. With the advance of the moving member 19, the cam plates 4, 4 also advance.
a, 6b, 6d, and 6e move vertically along the guide body 8 by a predetermined distance, and the wafer pitch (fork pitch) can be changed from p1 to p2 in a lump. That is,
The cam plates 4, 4 move forward, but the guide plates 7 and the guide body 8 suppress the advancement (forward force) of the support plates 6a, 6b, 6d, 6e, and followers 5a, 5b, 5
d and 5e are located behind the cam grooves 3a, 3b, 3d and 3e along the cam grooves 3a, 3b, 3d and 3e, and the followers 5a, 5b, 5d and 5e are separated from each other, 7 is raised or lowered along the guide body 8 to increase the distance between the support plates 6a, 6b, 6d, 6e, and collectively set the pitch between the support plates 6a, 6b, 6d, 6e and the fork 16 to p1. To p2. Thereby, the wafer pitch also becomes p2 in a lump. In this state, the rotary table RT is advanced, the semiconductor wafer W is inserted into the wafer boat B, the wafer boat B is slightly raised, and the semiconductor wafer W is supported and mounted in the support groove of the wafer boat B. After a while, the rotary table R
T is retracted, and the fork 16 is retracted. The wafer boat B on which the semiconductor wafer W is mounted is housed in the heat treatment furnace F, and heat treatment is performed.
【0026】熱処理終了後、半導体ウェーハWが搭載さ
れたウェーハボートBを炉外に出し、上記と逆の方法
で、ピッチp2の状態にあるフォーク16に半導体ウェ
ーハWに移載し、この半導体ウェーハWをカセットCに
対面させ、半導体ウェーハWをカセットCに移載する。
このとき、ウェーハピッチ(フォークピッチ)をp2か
らp1に変更する必要がある。図5に示すような状態に
あるカムプレート4、4を駆動手段9のステッピングモ
ータ17を逆方向に所定回数回動させて、スクリューシ
ャフト18を回動させ、移動部材19を所定距離後退さ
せる。この移動部材19の後退に伴なって、カムプレー
ト4、4も後退し、これにより、支持プレート6a、6
b、6d、6eはガイド体8に沿って所定距離だけ垂直
方向に移動し、ウェーハピッチ(フォークピッチ)は一
括してp2からp1になる。すなわち、カムプレート
4、4が後退するが、ガイド部7およびガイド体8によ
り支持プレート6a、6b、6d、6eの後退(後方へ
の力)は抑制され、従動子5a、5b、5d、5eはカ
ム溝3a、3b、3d、3eに沿ってカム溝3a、3
b、3d、3eの前方域に位置し、かつ、各従動子5
a、5b、5d、5eは近接し、ガイド部7をガイド体
8に沿って上昇または降下させて支持プレート6a、6
b、6d、6e間の距離を縮小し、図4に示すように、
この支持プレート6a、6b、6c、6d、6eおよび
フォーク16間のピッチを一括してp2からp1にす
る。これにより、ウェーハピッチも一括してp1にな
る。この状態でロータリテーブルRTを前進させて、半
導体ウェーハWをカセットCに挿入し、半導体ウェーハ
WをカセットCに設けられた支持溝に支持させ、ロータ
リテーブルRTを後退させて、半導体ウェーハWをカセ
ットCに移載する。After the heat treatment, the wafer boat B on which the semiconductor wafer W is mounted is taken out of the furnace, and transferred to the semiconductor wafer W on the fork 16 at the pitch p2 by the reverse method. The wafer W faces the cassette C, and the semiconductor wafer W is transferred to the cassette C.
At this time, it is necessary to change the wafer pitch (fork pitch) from p2 to p1. By rotating the stepping motor 17 of the driving means 9 a predetermined number of times in the cam plates 4 and 4 in the state shown in FIG. 5, the screw shaft 18 is rotated and the moving member 19 is retracted by a predetermined distance. With the retreat of the moving member 19, the cam plates 4, 4 also retreat, whereby the support plates 6a, 6
b, 6d, and 6e move vertically by a predetermined distance along the guide body 8, and the wafer pitch (fork pitch) collectively changes from p2 to p1. In other words, the cam plates 4 and 4 are retracted, but the guide plates 7 and the guide body 8 restrain the support plates 6a, 6b, 6d and 6e from retreating (rearward force), and followers 5a, 5b, 5d and 5e. Are cam grooves 3a, 3b, 3d, 3e along the cam grooves 3a, 3d, 3e.
b, 3d, 3e, and each follower 5
a, 5b, 5d and 5e are close to each other, and the guide portion 7 is moved up or down along the guide body 8 to support the support plates 6a and 6e.
The distance between b, 6d, 6e is reduced, and as shown in FIG.
The pitch between the support plates 6a, 6b, 6c, 6d, 6e and the fork 16 is collectively changed from p2 to p1. Thereby, the wafer pitch also becomes p1 in a lump. In this state, the rotary table RT is advanced, the semiconductor wafer W is inserted into the cassette C, the semiconductor wafer W is supported in the support groove provided in the cassette C, and the rotary table RT is retracted, and the semiconductor wafer W is set in the cassette. Transfer to C.
【0027】上記のように半導体ウェーハ移載装置1
は、傾斜する複数のカム溝3が穿設されたカムプレート
4、4を進退させることにより、従動子5を介してカム
プレート4、4に連動し、平行に配置された複数の支持
プレート6のピッチを一括して変更することができる。
また、カムプレート4、4の進退によりピッチ変更を行
うので、大きなスペースを必要とせず小型になり、ピッ
チ変更量はカムプレート4、4の移動量で行うので、比
例関係にあり制御が容易になり、さらに、従動子5の移
動が円滑であるので、支持プレート6a、6b、6d、
6eの昇降も円滑になり、また、部品点数を削減できる
ので構造が簡単になり、安価となり、また、動作部が比
較的少ないためパーティクルに汚染されるおそれがな
い。As described above, the semiconductor wafer transfer device 1
A plurality of support plates 6 arranged in parallel with the cam plates 4, 4 via the follower 5 by moving the cam plates 4, 4 in which the plurality of inclined cam grooves 3 are formed. Can be changed at once.
Further, since the pitch is changed by moving the cam plates 4 and 4, the size is reduced without requiring a large space, and the pitch change is performed by the moving amount of the cam plates 4 and 4, which is proportional and easy to control. In addition, since the movement of the follower 5 is smooth, the support plates 6a, 6b, 6d,
6e can be moved up and down smoothly, and the number of parts can be reduced, so that the structure becomes simple and inexpensive. Further, since there are relatively few operation parts, there is no possibility of particle contamination.
【0028】なお、上述した発明の実施形態において
は、各々均等間隔のピッチを有する運搬用のカセットお
よびウェーハボート間のウェーハ移載用のピッチ変換装
置について説明したが、本発明は、本実施形態のみなら
ず、カムプレートに形成され傾斜する複数のカム溝を、
中央に配置された支持プレートに対して上下方向で非対
称の傾斜勾配とすることで、ピッチ間隔を任意に可変す
ることができる。In the above-described embodiments of the present invention, a description has been given of the transport cassette and the pitch converter for transferring the wafers between the wafer boats, each having a uniform pitch. However, the present invention is not limited to this embodiment. In addition, a plurality of inclined cam grooves formed in the cam plate,
The pitch interval can be arbitrarily varied by forming an asymmetric gradient in the vertical direction with respect to the support plate disposed at the center.
【0029】[0029]
【発明の効果】本発明に係わるピッチ変換装置によれ
ば、複数の支持プレート間のピッチを一括して変換で
き、さらに、制御が容易で、円滑に動作するピッチ変換
装置を提供することができる。According to the pitch converter according to the present invention, the pitch between a plurality of support plates can be changed collectively, and further, a pitch converter which is easy to control and can operate smoothly can be provided. .
【0030】すなわち、傾斜する複数のカム溝が穿設さ
れたカムプレートと、カム溝を摺動する従動子を介して
カムプレートに連動し、平行に配置された複数の支持プ
レートと、この複数の支持プレートの配置方向に沿って
基体に延設され、支持プレートに形成されたガイド部と
摺動自在に係合されたガイド体とを有し、カムプレート
を進退させて、複数の支持プレートをガイド体に沿って
移動させることにより、複数の支持プレート間のピッチ
を一括して変換するので、大きなスペースを必要とせず
小型になり、ピッチ変更量はカムプレートの移動量で行
うので、比例関係にあり制御が容易になり、さらに、従
動子の移動が円滑であるので、支持プレートの昇降も円
滑になり、また、部品点数を削減できるので構造が簡単
になり、安価となり、また、動作部が比較的すくないた
め、パーティクル汚染が生じるおそれが少ない。That is, a cam plate provided with a plurality of inclined cam grooves, a plurality of support plates interlocked with the cam plate via a follower sliding in the cam grooves, and A guide portion slidably engaged with a guide portion formed on the support plate along a direction in which the support plate is disposed, and a guide plate slidably engaged with the base plate. By moving the pitch along the guide, the pitch between multiple support plates is changed at once, making it compact without the need for a large space. Because of the relationship, the control is easy, and the movement of the follower is smooth, so that the support plate can be moved up and down smoothly, and the number of parts can be reduced, so that the structure is simplified and the cost is reduced. In addition, since the operation portion is relatively small, there is little possibility particle contamination occurs.
【0031】また、複数のカム溝の傾斜勾配は異なり、
複数の支持プレートのうち中央に配置された支持プレー
トは基体に固定されており、複数のカム溝の傾斜勾配
は、支持プレートに対して対称に形成されているので、
この固定支持プレートの両側(上下)に形成されるカム
溝および複数の支持プレートを、固定支持プレートに対
して対称に設けることができ、構造が簡単になる。The inclination of the plurality of cam grooves is different.
The support plate disposed at the center of the plurality of support plates is fixed to the base, and the inclination gradients of the plurality of cam grooves are formed symmetrically with respect to the support plate.
The cam grooves and the plurality of support plates formed on both sides (up and down) of the fixed support plate can be provided symmetrically with respect to the fixed support plate, and the structure is simplified.
【0032】また、複数のカム溝の傾斜勾配は、外側に
形成されるカム溝ほど傾斜勾配が大きくなるので、常に
各支持プレート間のピッチを同一にすることができる。Further, since the inclination of the plurality of cam grooves becomes greater as the cam grooves are formed on the outer side, the pitch between the support plates can always be the same.
【図1】本発明に係わるピッチ変換装置のカバーを除去
した状態の斜視図。FIG. 1 is a perspective view of a pitch converter according to the present invention with a cover removed.
【図2】図1のA−A線に沿う断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 1;
【図3】本発明に係わるピッチ変換装置を用いた半導体
ウェーハの移載方法を示す概念図。FIG. 3 is a conceptual diagram showing a method for transferring a semiconductor wafer using the pitch converter according to the present invention.
【図4】本発明に係わるピッチ変換装置の動作を説明す
るピッチ変換装置の側面図。FIG. 4 is a side view of the pitch conversion device for explaining the operation of the pitch conversion device according to the present invention.
【図5】本発明に係わるピッチ変換装置の動作を説明す
るピッチ変換装置の側面図。FIG. 5 is a side view of the pitch converter explaining the operation of the pitch converter according to the present invention.
1 半導体ウェーハ移載装置 2 基体 3(3a、3b、3d、3e) カム溝 4 カムプレート 5(5a、5b、5d、5e) 従動子 6(6a、6b、6c、6d、6e) 支持プレート 7(7a、7b、7c、7d、7e) ガイド部 8 ガイド体 9 駆動手段 10 底板 11 支柱 12 天板 13 切欠部 14、15 貫通孔 16 フォーク 17 ステッピングモータ 18 スクリューシャフト 19 移動部材 20 摺動子 21 摺動ガイド体 22(22a、22b、22d、22e) 取付部材 23 カバー Reference Signs List 1 semiconductor wafer transfer device 2 base 3 (3a, 3b, 3d, 3e) cam groove 4 cam plate 5 (5a, 5b, 5d, 5e) follower 6 (6a, 6b, 6c, 6d, 6e) support plate 7 (7a, 7b, 7c, 7d, 7e) Guide portion 8 Guide body 9 Driving means 10 Bottom plate 11 Support 12 Top plate 13 Notch portion 14, 15 Through hole 16 Fork 17 Stepping motor 18 Screw shaft 19 Moving member 20 Slider 21 Sliding guide body 22 (22a, 22b, 22d, 22e) Mounting member 23 Cover
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 道雄 愛知県刈谷市小垣江町南藤1番地 東芝セ ラミックス株式会社刈谷製造所内 Fターム(参考) 3F022 AA08 CC02 EE05 KK01 MM02 MM11 5F031 CA02 FA12 FA25 HA61 PA26 5F045 BB10 BB14 EN04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Michio Sasaki 1 Minamifuji, Ogakie-cho, Kariya-shi, Aichi F-term (reference) 3F022 AA08 CC02 EE05 KK01 MM02 MM11 5F031 CA02 FA12 FA25 HA61 PA26 5F045 BB10 BB14 EN04
Claims (3)
れ、傾斜する複数のカム溝が穿設されたカムプレート
と、前記カム溝を摺動する従動子を介してカムプレート
に連動し、平行に配置された複数の支持プレートと、こ
の複数の支持プレートの配置方向に沿って基体に延設さ
れ、前記支持プレートに形成されたガイド部と摺動自在
に係合されたガイド体とを有し、前記カムプレートを進
退させて、前記複数の支持プレートを前記ガイド体に沿
って移動させることにより、複数の支持プレート間のピ
ッチを一括して変換するようにすることを特徴とするピ
ッチ変換装置。1. A base, a cam plate provided on the base so as to be able to advance and retreat, and having a plurality of inclined cam grooves, interlocked with the cam plate via a follower sliding in the cam grooves, A plurality of support plates arranged in parallel, and a guide body extending on the base along the direction of arrangement of the plurality of support plates and slidably engaged with a guide portion formed on the support plate. Pitch, wherein the pitch between the plurality of support plates is changed at a time by moving the plurality of support plates along the guide body by moving the cam plate forward and backward. Conversion device.
上記複数の支持プレートのうち中央に配置された支持プ
レートは基体に固定されており、前記複数のカム溝の傾
斜勾配は、前記支持プレートに対して対称に形成された
ことを特徴とする請求項1に記載のピッチ変換装置。2. The plurality of cam grooves have different inclination gradients.
The support plate disposed at the center among the plurality of support plates is fixed to a base, and the inclination gradients of the plurality of cam grooves are formed symmetrically with respect to the support plate. 2. The pitch converter according to 1.
形成されるカム溝ほど傾斜勾配が大きくなることを特徴
とする請求項1または2に記載のピッチ変換装置。3. The pitch conversion device according to claim 1, wherein the inclination of the plurality of cam grooves is such that the inclination of the cam grooves formed on the outer side increases.
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