JP2002145970A - 液状放射線硬化型樹脂組成物 - Google Patents
液状放射線硬化型樹脂組成物Info
- Publication number
- JP2002145970A JP2002145970A JP2000344568A JP2000344568A JP2002145970A JP 2002145970 A JP2002145970 A JP 2002145970A JP 2000344568 A JP2000344568 A JP 2000344568A JP 2000344568 A JP2000344568 A JP 2000344568A JP 2002145970 A JP2002145970 A JP 2002145970A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- acrylate
- weight
- parts
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 （Ａ）一分子中に少なくとも２個の（メ
タ）アクリル基を有する数平均分子量８００〜１０，０
００のポリエーテルポリウレタンを１００重量部、
（Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物を１〜
１００重量部含有することを特徴とする液状放射線硬化
型樹脂組成物。 【効果】 本発明によれば、小さい放射線照射量によっ
て硬化性がよく、吸水率の小さい液状放射線硬化型樹脂
組成物を得ることができる。
タ）アクリル基を有する数平均分子量８００〜１０，０
００のポリエーテルポリウレタンを１００重量部、
（Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物を１〜
１００重量部含有することを特徴とする液状放射線硬化
型樹脂組成物。 【効果】 本発明によれば、小さい放射線照射量によっ
て硬化性がよく、吸水率の小さい液状放射線硬化型樹脂
組成物を得ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高速塗布性に優れ
る液状放射線硬化型樹脂組成物に関し、特に光ファイバ
用被覆材として用いられる光ファイバ心線の一次被覆
材、二次被覆材及び光ファイバテープ化材等の被覆材料
として好適な液状放射線硬化型樹脂組成物に関する。
る液状放射線硬化型樹脂組成物に関し、特に光ファイバ
用被覆材として用いられる光ファイバ心線の一次被覆
材、二次被覆材及び光ファイバテープ化材等の被覆材料
として好適な液状放射線硬化型樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光通信
ファイバとしては、石英ガラス系、多成分ガラス系、プ
ラスチック系等の種々のものがあるが、現実にはその軽
量性、低損失性、高耐久性、更には伝送容量が大きいこ
とから石英ガラス系のものが広範囲の分野で大量に使用
されている。しかし、この石英ガラス系のものは、極め
て細く、外的要因で変化も起こることから、石英ガラス
系の光通信ファイバは、溶融紡糸された石英ガラスファ
イバ上に予め硬化物の軟らかい液状の硬化性樹脂でコー
ティング、硬化し、一次被覆した後、この一次被覆層を
保護するために、更に硬化物の硬い液状の硬化性樹脂で
二次被覆が施されている。このものは光ファイバ心線と
呼ばれているが、更に、この心線を数本（通常は４本又
は８本）束ね、テープ化材を塗布硬化することにより、
テープ心線が製造されている。
ファイバとしては、石英ガラス系、多成分ガラス系、プ
ラスチック系等の種々のものがあるが、現実にはその軽
量性、低損失性、高耐久性、更には伝送容量が大きいこ
とから石英ガラス系のものが広範囲の分野で大量に使用
されている。しかし、この石英ガラス系のものは、極め
て細く、外的要因で変化も起こることから、石英ガラス
系の光通信ファイバは、溶融紡糸された石英ガラスファ
イバ上に予め硬化物の軟らかい液状の硬化性樹脂でコー
ティング、硬化し、一次被覆した後、この一次被覆層を
保護するために、更に硬化物の硬い液状の硬化性樹脂で
二次被覆が施されている。このものは光ファイバ心線と
呼ばれているが、更に、この心線を数本（通常は４本又
は８本）束ね、テープ化材を塗布硬化することにより、
テープ心線が製造されている。
【０００３】これらのコーティング材としては、ウレタ
ンアクリレート系の紫外線硬化性樹脂組成物が提案され
ており、特公平１−１９６９４号公報、特許第２５２２
６６３号公報、特許第２５４７０２１号公報に記載され
ているように、ウレタンアクリレートオリゴマーと、反
応性希釈剤、光重合開始剤からなる紫外線液状硬化組成
物が知られている。しかし、近年、生産性向上のため光
ファイバ線引き速度が高速化しており、少ない紫外線照
射量で硬化性のよい樹脂が求められる。硬化速度を高く
する観点から、特開平１０−２０４２５０号公報では
（メタ）アクリロイル基を含む化合物とＮ−ビニル基を
含む化合物を含有する樹脂組成物について記載されてい
るが、Ｎ−ビニル基を含む化合物を含有すると吸水率が
大きくなり、ファイバを敷設した後の経時信頼性に劣る
問題点があった。別の解決手段としては、光ファイバ線
引き時に照射する紫外線ランプの数を増やし、紫外線照
射光量を大きくする方法があるが、限られたスペースで
の硬化には限界があるという問題点があった。
ンアクリレート系の紫外線硬化性樹脂組成物が提案され
ており、特公平１−１９６９４号公報、特許第２５２２
６６３号公報、特許第２５４７０２１号公報に記載され
ているように、ウレタンアクリレートオリゴマーと、反
応性希釈剤、光重合開始剤からなる紫外線液状硬化組成
物が知られている。しかし、近年、生産性向上のため光
ファイバ線引き速度が高速化しており、少ない紫外線照
射量で硬化性のよい樹脂が求められる。硬化速度を高く
する観点から、特開平１０−２０４２５０号公報では
（メタ）アクリロイル基を含む化合物とＮ−ビニル基を
含む化合物を含有する樹脂組成物について記載されてい
るが、Ｎ−ビニル基を含む化合物を含有すると吸水率が
大きくなり、ファイバを敷設した後の経時信頼性に劣る
問題点があった。別の解決手段としては、光ファイバ線
引き時に照射する紫外線ランプの数を増やし、紫外線照
射光量を大きくする方法があるが、限られたスペースで
の硬化には限界があるという問題点があった。
【０００４】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、硬化性に優れ、得られる硬化皮膜の特性が良好な、
特に硬化皮膜の吸水率が小さい液状放射線硬化型樹脂組
成物を提供することを目的とする。
で、硬化性に優れ、得られる硬化皮膜の特性が良好な、
特に硬化皮膜の吸水率が小さい液状放射線硬化型樹脂組
成物を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記問題点を解決するために鋭意検討を重
ねた結果、液状放射線硬化型樹脂組成物において、（メ
タ）アクリル基を含有するポリエーテルポリウレタン
に、分子内にビニルエーテル基を含有する化合物（以
下、ビニルエーテル化合物と呼ぶ）を加えることによっ
て、少ない放射線照射量での硬化性が良好であり、かつ
吸水率の小さい硬化皮膜が得られることがわかった。一
般にビニルエーテル化合物はオニウム塩等の放射線照射
によって酸を発生し、光カチオン重合をすることが知ら
れており、複数のビニルエーテル化合物やエポキシ化合
物と混合されて使用されることが多い。しかし（メタ）
アクリル化合物とのラジカル重合として用いられること
は報告例が少なく、特に電子線等の電離放射線照射時の
挙動に関してはほとんど知られていない。
発明者らは、上記問題点を解決するために鋭意検討を重
ねた結果、液状放射線硬化型樹脂組成物において、（メ
タ）アクリル基を含有するポリエーテルポリウレタン
に、分子内にビニルエーテル基を含有する化合物（以
下、ビニルエーテル化合物と呼ぶ）を加えることによっ
て、少ない放射線照射量での硬化性が良好であり、かつ
吸水率の小さい硬化皮膜が得られることがわかった。一
般にビニルエーテル化合物はオニウム塩等の放射線照射
によって酸を発生し、光カチオン重合をすることが知ら
れており、複数のビニルエーテル化合物やエポキシ化合
物と混合されて使用されることが多い。しかし（メタ）
アクリル化合物とのラジカル重合として用いられること
は報告例が少なく、特に電子線等の電離放射線照射時の
挙動に関してはほとんど知られていない。
【０００６】本発明者らは、重合開始剤が存在しなくて
もビニルエーテル化合物と（メタ）アクリル基を含有す
るポリエーテルポリウレタンの混合系が電子線の照射に
よって硬化し、また光ラジカル重合開始剤の存在下では
紫外線の照射によって硬化することを知見し、本発明を
なすに至った。
もビニルエーテル化合物と（メタ）アクリル基を含有す
るポリエーテルポリウレタンの混合系が電子線の照射に
よって硬化し、また光ラジカル重合開始剤の存在下では
紫外線の照射によって硬化することを知見し、本発明を
なすに至った。
【０００７】従って、本発明は、 （Ａ）一分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリル基
を有する数平均分子量８００〜１０，０００のポリエー
テルポリウレタンを１００重量部 （Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物を１〜
１００重量部 含有することを特徴とする液状放射線硬化型樹脂組成物
を提供する。
を有する数平均分子量８００〜１０，０００のポリエー
テルポリウレタンを１００重量部 （Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物を１〜
１００重量部 含有することを特徴とする液状放射線硬化型樹脂組成物
を提供する。
【０００８】更に本発明では、上記（Ａ）、（Ｂ）成分
に加え、 （Ｃ）（メタ）アクリル基及び／又はＮ−ビニル基を有
する分子量５００以下の反応性希釈剤を１〜２００重量
部 含有することを特徴とする液状放射線硬化型樹脂組成物
を提供する。
に加え、 （Ｃ）（メタ）アクリル基及び／又はＮ−ビニル基を有
する分子量５００以下の反応性希釈剤を１〜２００重量
部 含有することを特徴とする液状放射線硬化型樹脂組成物
を提供する。
【０００９】更に本発明では、上記（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）成分に加え、光ラジカル重合開始剤及び／又は光
カチオン重合開始剤を（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）＝１００
重量部に対して０．０１〜２０重量部含むことを特徴と
する液状放射線硬化型樹脂組成物を提供する。
（Ｃ）成分に加え、光ラジカル重合開始剤及び／又は光
カチオン重合開始剤を（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）＝１００
重量部に対して０．０１〜２０重量部含むことを特徴と
する液状放射線硬化型樹脂組成物を提供する。
【００１０】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の液状放射線硬化型樹脂組成物は、（Ａ）一分子
中に少なくとも２個の（メタ）アクリル基を有する数平
均分子量８００〜１０，０００のポリエーテルポリウレ
タン、（Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物
を含む。
本発明の液状放射線硬化型樹脂組成物は、（Ａ）一分子
中に少なくとも２個の（メタ）アクリル基を有する数平
均分子量８００〜１０，０００のポリエーテルポリウレ
タン、（Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物
を含む。
【００１１】本発明の（Ａ）成分である一分子中に少な
くとも２個の（メタ）アクリル基を有するポリエーテル
ポリウレタンは、数平均分子量８００〜１０，０００、
好ましくは１，０００〜８，０００のものである。数平
均分子量が８００未満であると、得られた硬化皮膜の伸
びが小さく、コーティング時に剥離し易くなり、１０，
０００より大きいと硬化皮膜の硬さ、ヤング率が小さく
なり、傷つき易く、保護膜としての機能を果たさなくな
る。
くとも２個の（メタ）アクリル基を有するポリエーテル
ポリウレタンは、数平均分子量８００〜１０，０００、
好ましくは１，０００〜８，０００のものである。数平
均分子量が８００未満であると、得られた硬化皮膜の伸
びが小さく、コーティング時に剥離し易くなり、１０，
０００より大きいと硬化皮膜の硬さ、ヤング率が小さく
なり、傷つき易く、保護膜としての機能を果たさなくな
る。
【００１２】本発明の一分子中に少なくとも２個の（メ
タ）アクリル基を有するポリエーテルポリウレタンは、
例えば、炭素数２〜１０のオキシアルキレン基を含むジ
オールとジイソシアネート及び（メタ）アクリル基を有
する化合物とを反応させることにより得られる。
タ）アクリル基を有するポリエーテルポリウレタンは、
例えば、炭素数２〜１０のオキシアルキレン基を含むジ
オールとジイソシアネート及び（メタ）アクリル基を有
する化合物とを反応させることにより得られる。
【００１３】ここで、炭素数２〜１０のオキシアルキレ
ン基を含むジオールの具体例としては、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール、２−メチルテトラヒドロフラングリコ
ール、３−メチルテトラヒドロフラングリコール、ポリ
ヘプタメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコ
ール、ポリデカメチレングリコール、ビスフェノールＡ
のポリアルキレンオキサイド付加体ジオールなどが挙げ
られるが、吸水率や粘度の観点からポリプロピレングリ
コール、ポリテトラメチレングリコール、２−メチルテ
トラヒドロフラングリコール、３−メチルテトラヒドロ
フラングリコールが好ましい。ポリアルキレンオキサイ
ドはその単独重合体のみならず、それらのランダムもし
くはブロック共重合体も使用することができる。
ン基を含むジオールの具体例としては、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール、２−メチルテトラヒドロフラングリコ
ール、３−メチルテトラヒドロフラングリコール、ポリ
ヘプタメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコ
ール、ポリデカメチレングリコール、ビスフェノールＡ
のポリアルキレンオキサイド付加体ジオールなどが挙げ
られるが、吸水率や粘度の観点からポリプロピレングリ
コール、ポリテトラメチレングリコール、２−メチルテ
トラヒドロフラングリコール、３−メチルテトラヒドロ
フラングリコールが好ましい。ポリアルキレンオキサイ
ドはその単独重合体のみならず、それらのランダムもし
くはブロック共重合体も使用することができる。
【００１４】ジイソシアネートとしては、２，４−トリ
レンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネ
ート、１，３−キシレンジイソシアネート、１，４−キ
シレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシ
アネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェ
ニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、２，２，４−トリ
メチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げ
られ、中でも２，４−トリレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネートなどが好ましい。これらのジイ
ソシアネートは単独で用いても、２種類以上併用しても
よい。
レンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネ
ート、１，３−キシレンジイソシアネート、１，４−キ
シレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシ
アネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェ
ニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、２，２，４−トリ
メチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げ
られ、中でも２，４−トリレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネートなどが好ましい。これらのジイ
ソシアネートは単独で用いても、２種類以上併用しても
よい。
【００１５】更に、（メタ）アクリル基を有する化合物
としては、例えば、水酸基、酸ハライド基、エポキシ基
を有する（メタ）アクリル系化合物を挙げることができ
る。
としては、例えば、水酸基、酸ハライド基、エポキシ基
を有する（メタ）アクリル系化合物を挙げることができ
る。
【００１６】水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物
は、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセ
リンジ（メタ）アクリレートなどやアルキルグリシジル
エーテル、グリシジル（メタ）アクリレートなどのグリ
シジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸の付加物など
が挙げられる。
は、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセ
リンジ（メタ）アクリレートなどやアルキルグリシジル
エーテル、グリシジル（メタ）アクリレートなどのグリ
シジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸の付加物など
が挙げられる。
【００１７】酸ハライドを有する（メタ）アクリル系化
合物としては、（メタ）アクリル酸クロライド、（メ
タ）アクリル酸ブロマイドなどを挙げることができる。
合物としては、（メタ）アクリル酸クロライド、（メ
タ）アクリル酸ブロマイドなどを挙げることができる。
【００１８】エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化
合物としては、（メタ）アクリル酸のグリシジルエステ
ルなどが挙げられる。
合物としては、（メタ）アクリル酸のグリシジルエステ
ルなどが挙げられる。
【００１９】一分子中に少なくとも２個の（メタ）アク
リル基を有するポリエーテルポリウレタンは、例えば、
上記ジオールとジイソシアネートを常法によりＯＨ／Ｎ
ＣＯ＝０．５〜２．０（モル比）で反応させた後、更
に、（メタ）アクリル基を有する化合物を反応させるこ
とにより製造することができる。
リル基を有するポリエーテルポリウレタンは、例えば、
上記ジオールとジイソシアネートを常法によりＯＨ／Ｎ
ＣＯ＝０．５〜２．０（モル比）で反応させた後、更
に、（メタ）アクリル基を有する化合物を反応させるこ
とにより製造することができる。
【００２０】本発明の（Ｂ）成分であるビニルエーテル
化合物は、（Ａ）成分である一分子中に少なくとも２個
の（メタ）アクリル基を有するポリエーテルポリウレタ
ンの粘度を低下させる効果を持つ。更に、硬化速度を高
める効果を持ち、硬化皮膜の吸水率が小さくなることが
本発明者らの検討によりわかった。ビニルエーテル化合
物の具体的な例としては、分子中にビニルエーテル基を
１個持つ化合物、例えば、エチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、イソ
ブチルビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、ド
デシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、
エチレングリコールブチルビニルエーテル、トリエチレ
ングリコールエチルビニルエーテル、２−エチルヘキシ
ルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ア
ミノプロピルビニルエーテル、２−ジエチルアミノエチ
ルビニルエーテル、プロペニルエーテルプロピレンカー
ボネート等が挙げられる。分子内にヒドロキシ基を含む
ビニルエーテル化合物としては、エチレングリコールモ
ノビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、
ヘキサンジオールモノビニルエーテル、シクロヘキサン
ジメタノールモノビニルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノビニルエーテル等が挙げられる。ビニルエーテル
基を分子中に２個以上含む化合物としては、ブタンジオ
ールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエー
テル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエ
ーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、下記一
般式（１） ＣＨ2＝ＣＨ−（ＯＣＨ2ＣＨ2）m−ＯＣＨ＝ＣＨ2 （１） （式中、ｍは２〜２０の整数を示す。）で表されるポリ
エチレングリコールジビニルエーテル、上記式（１）に
おいて、エチレンオキシド基をプロピレンオキシド基に
置換したポリプロピレングリコールジビニルエーテル、
下記一般式（２） ＣＨ2＝ＣＨ−（ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2）n−ＯＣＨ＝ＣＨ2 （２） （式中、ｎは２〜２０の整数を示す。）で表されるポリ
テトラヒドロフランジビニルエーテル等のジビニルエー
テル類、トリメチロールプロパントリビニルエーテルで
代表されるトリビニルエーテル類、ペンタエリスリトー
ルテトラビニルエーテルで代表されるテトラビニルエー
テル類等が挙げられる。以上のビニルエーテル基を有す
る化合物は単独で使用することも２種類以上混合して使
用することもできる。
化合物は、（Ａ）成分である一分子中に少なくとも２個
の（メタ）アクリル基を有するポリエーテルポリウレタ
ンの粘度を低下させる効果を持つ。更に、硬化速度を高
める効果を持ち、硬化皮膜の吸水率が小さくなることが
本発明者らの検討によりわかった。ビニルエーテル化合
物の具体的な例としては、分子中にビニルエーテル基を
１個持つ化合物、例えば、エチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、イソ
ブチルビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、ド
デシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、
エチレングリコールブチルビニルエーテル、トリエチレ
ングリコールエチルビニルエーテル、２−エチルヘキシ
ルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ア
ミノプロピルビニルエーテル、２−ジエチルアミノエチ
ルビニルエーテル、プロペニルエーテルプロピレンカー
ボネート等が挙げられる。分子内にヒドロキシ基を含む
ビニルエーテル化合物としては、エチレングリコールモ
ノビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、
ヘキサンジオールモノビニルエーテル、シクロヘキサン
ジメタノールモノビニルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノビニルエーテル等が挙げられる。ビニルエーテル
基を分子中に２個以上含む化合物としては、ブタンジオ
ールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエー
テル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエ
ーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、下記一
般式（１） ＣＨ2＝ＣＨ−（ＯＣＨ2ＣＨ2）m−ＯＣＨ＝ＣＨ2 （１） （式中、ｍは２〜２０の整数を示す。）で表されるポリ
エチレングリコールジビニルエーテル、上記式（１）に
おいて、エチレンオキシド基をプロピレンオキシド基に
置換したポリプロピレングリコールジビニルエーテル、
下記一般式（２） ＣＨ2＝ＣＨ−（ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2）n−ＯＣＨ＝ＣＨ2 （２） （式中、ｎは２〜２０の整数を示す。）で表されるポリ
テトラヒドロフランジビニルエーテル等のジビニルエー
テル類、トリメチロールプロパントリビニルエーテルで
代表されるトリビニルエーテル類、ペンタエリスリトー
ルテトラビニルエーテルで代表されるテトラビニルエー
テル類等が挙げられる。以上のビニルエーテル基を有す
る化合物は単独で使用することも２種類以上混合して使
用することもできる。
【００２１】ビニルエーテル化合物の配合量は、一分子
中に２個の（メタ）アクリル基を有するポリエーテルポ
リウレタン１００重量部に対して１〜１００重量部、望
ましくは５〜５０重量部の割合で使用される。ビニルエ
ーテル化合物が１重量部より少ないと、粘度低下や放射
線を照射した場合の反応促進効果が小さく、１００重量
部より多くなると、希釈効果はあるが放射線を照射した
場合の反応促進効果が小さくなる。
中に２個の（メタ）アクリル基を有するポリエーテルポ
リウレタン１００重量部に対して１〜１００重量部、望
ましくは５〜５０重量部の割合で使用される。ビニルエ
ーテル化合物が１重量部より少ないと、粘度低下や放射
線を照射した場合の反応促進効果が小さく、１００重量
部より多くなると、希釈効果はあるが放射線を照射した
場合の反応促進効果が小さくなる。
【００２２】また、本発明では、（Ｃ）成分として（メ
タ）アクリル基及び／又はＮ−ビニル基を持つ反応性希
釈剤を、粘度調整や使用用途に応じた物性の調整を目的
として配合することができる。
タ）アクリル基及び／又はＮ−ビニル基を持つ反応性希
釈剤を、粘度調整や使用用途に応じた物性の調整を目的
として配合することができる。
【００２３】（メタ）アクリレート化合物［（メタ）ア
クリル基を持つ反応性希釈剤］の具体的な例としては、
例えば、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル
（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）ア
クリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレー
ト、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロ
ヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキ
シル（メタ）アクリレート等の脂環式構造含有（メタ）
アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチ
ル（メタ）アクリレート等のエポキシ基や水酸基を持つ
（メタ）アクリレート；メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリ
レート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチ
ル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレー
ト、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メ
タ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イ
ソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アク
リレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル
（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニ
ル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレー
ト、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メ
タ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アク
リレート、イソステアリル（メタ）アクリレートの如き
アルキル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリ
ル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アク
リレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アク
リレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシ
エチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アク
リレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）ア
クリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）ア
クリレート、下記一般式（３）又は（４）で表される化
合物を挙げることができる。
クリル基を持つ反応性希釈剤］の具体的な例としては、
例えば、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル
（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）ア
クリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレー
ト、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロ
ヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキ
シル（メタ）アクリレート等の脂環式構造含有（メタ）
アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチ
ル（メタ）アクリレート等のエポキシ基や水酸基を持つ
（メタ）アクリレート；メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリ
レート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチ
ル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレー
ト、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メ
タ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イ
ソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アク
リレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル
（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニ
ル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレー
ト、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メ
タ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アク
リレート、イソステアリル（メタ）アクリレートの如き
アルキル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリ
ル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アク
リレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アク
リレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシ
エチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アク
リレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）ア
クリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）ア
クリレート、下記一般式（３）又は（４）で表される化
合物を挙げることができる。
【００２４】 ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）−ＣＯＯ（Ｒ2Ｏ）p−Ｒ3 （３） （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は炭素
数２〜６、好ましくは２〜４のアルキレン基を示し、Ｒ
3は水素原子又は炭素数１〜１２、好ましくは１〜９の
アルキル基又はアリール基を示し、ｐは０〜１２、好ま
しくは１〜８の数を示す。） ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）−ＣＯ（ＯＲ5ＣＯ）q−ＯＣＨ2−ＴＨＦ （４） （式中、Ｒ4はＲ1と同じ意味を示し、Ｒ5は炭素数２〜
８、好ましくは２〜５のアルキレン基を示し、ＴＨＦは
テトラヒドロフリル基を示し、ｑは１〜８、好ましくは
１〜４の数を示す。）
数２〜６、好ましくは２〜４のアルキレン基を示し、Ｒ
3は水素原子又は炭素数１〜１２、好ましくは１〜９の
アルキル基又はアリール基を示し、ｐは０〜１２、好ま
しくは１〜８の数を示す。） ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）−ＣＯ（ＯＲ5ＣＯ）q−ＯＣＨ2−ＴＨＦ （４） （式中、Ｒ4はＲ1と同じ意味を示し、Ｒ5は炭素数２〜
８、好ましくは２〜５のアルキレン基を示し、ＴＨＦは
テトラヒドロフリル基を示し、ｑは１〜８、好ましくは
１〜４の数を示す。）
【００２５】かかる（メタ）アクリレート化合物は、例
えば、アロニックスＭ−１１１、Ｍ−１１３、Ｍ−１１
４、Ｍ−１１７（以上、東亜合成化学製）；ＫＡＹＡＲ
ＡＤＴＣ１１０Ｓ、Ｒ６２９、Ｒ６４４（以上、日本化
薬製）；ビスコート３７００（大阪有機化学製）等の市
販品として入手することができる。更には、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メ
タ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２
−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アク
リレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）ア
クリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又
はプロピレンオキサイドの付加体のジオールのジ（メ
タ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオ
キサイド又はプロピレンオキサイドの付加体のジオール
のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリ
シジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエ
ポキシ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコール
ジビニルエーテル等が挙げられる。また、市販品として
は、例えば、ユピマーＵＶ ＳＡ１００２、ＳＡ２００
７（以上、三菱化学製）；ビスコート７００（大阪有機
化学製）；ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、
ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、Ｄ
ＰＣＡ−１２０、ＨＸ−６２０、Ｄ−３１０、Ｄ−３３
０（以上、日本化薬製）；アロニックスＭ−２１０、Ｍ
−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−３１５、Ｍ−３２５（以
上、東亜合成化学製）；ニューポールＢＰＥ、ＢＰ、Ｈ
Ａ６０Ｓ（以上、三洋化成製）等が挙げられる。
えば、アロニックスＭ−１１１、Ｍ−１１３、Ｍ−１１
４、Ｍ−１１７（以上、東亜合成化学製）；ＫＡＹＡＲ
ＡＤＴＣ１１０Ｓ、Ｒ６２９、Ｒ６４４（以上、日本化
薬製）；ビスコート３７００（大阪有機化学製）等の市
販品として入手することができる。更には、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メ
タ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２
−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アク
リレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）ア
クリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又
はプロピレンオキサイドの付加体のジオールのジ（メ
タ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオ
キサイド又はプロピレンオキサイドの付加体のジオール
のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリ
シジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエ
ポキシ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコール
ジビニルエーテル等が挙げられる。また、市販品として
は、例えば、ユピマーＵＶ ＳＡ１００２、ＳＡ２００
７（以上、三菱化学製）；ビスコート７００（大阪有機
化学製）；ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、
ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、Ｄ
ＰＣＡ−１２０、ＨＸ−６２０、Ｄ−３１０、Ｄ−３３
０（以上、日本化薬製）；アロニックスＭ−２１０、Ｍ
−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−３１５、Ｍ−３２５（以
上、東亜合成化学製）；ニューポールＢＰＥ、ＢＰ、Ｈ
Ａ６０Ｓ（以上、三洋化成製）等が挙げられる。
【００２６】Ｎ−ビニル化合物［Ｎ−ビニル基を持つ反
応性希釈剤］の具体的な例としては、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルアセトア
ミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジビニルエ
チレンウレアなどが挙げられる。
応性希釈剤］の具体的な例としては、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルアセトア
ミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジビニルエ
チレンウレアなどが挙げられる。
【００２７】これら（メタ）アクリル基及び／又はＮ−
ビニル基を持つ反応性希釈剤は、単独で使用することも
２種類以上混合して使用することもできる。
ビニル基を持つ反応性希釈剤は、単独で使用することも
２種類以上混合して使用することもできる。
【００２８】これら（メタ）アクリル基及び／又はＮ−
ビニル基を持つ反応性希釈剤の配合量は、一分子中に２
個の（メタ）アクリル基を有するポリエーテルポリウレ
タン１００重量部に対して１〜２００重量部、特に５〜
１５０重量部使用することが好ましい。１重量部より少
ないと、粘度低下効果が得られ難い場合があり、２００
重量部より多いと硬化性が損なわれたり、硬化物の伸び
が低下したりするおそれがある。
ビニル基を持つ反応性希釈剤の配合量は、一分子中に２
個の（メタ）アクリル基を有するポリエーテルポリウレ
タン１００重量部に対して１〜２００重量部、特に５〜
１５０重量部使用することが好ましい。１重量部より少
ないと、粘度低下効果が得られ難い場合があり、２００
重量部より多いと硬化性が損なわれたり、硬化物の伸び
が低下したりするおそれがある。
【００２９】これまでに述べた（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）
成分を配合したものは、電子線を照射することによって
硬化されるが、更に光ラジカル重合開始剤や光カチオン
重合開始剤を加えることによって、紫外線を照射するこ
とにより硬化させることも可能である。
成分を配合したものは、電子線を照射することによって
硬化されるが、更に光ラジカル重合開始剤や光カチオン
重合開始剤を加えることによって、紫外線を照射するこ
とにより硬化させることも可能である。
【００３０】光ラジカル重合開始剤は、例えば、キサン
トン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、
アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、３−メチ
ルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，
４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノ
ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチ
ルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イ
ソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイ
ド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド；Ｉ
ｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、９０
７、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５
０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｅ４６２５、１１
７３（以上、チバスペシャリティーケミカルズ製）；Ｌ
ｕｃｉｒｉｎＴＰＯ、ＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ製）；ユ
ベクリルＰ３６（ＵＣＢ製）等が挙げられる。
トン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、
アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、３−メチ
ルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，
４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノ
ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチ
ルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イ
ソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイ
ド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド；Ｉ
ｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、９０
７、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５
０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｅ４６２５、１１
７３（以上、チバスペシャリティーケミカルズ製）；Ｌ
ｕｃｉｒｉｎＴＰＯ、ＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ製）；ユ
ベクリルＰ３６（ＵＣＢ製）等が挙げられる。
【００３１】光カチオン重合開始剤としては、ジアリー
ルヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリ
アリールセレノニウム塩、ジアルキルフェナシルスルホ
ニウム塩、トリアリールスルフォノキソニウム塩、アリ
ールオキシジアリールスルフォノオキソニウム塩、ジア
ルキルフェナシルスルフォノキソニウム塩等のオニウム
塩が有効であり、具体的な例としては、ＵＶＩ−６９５
０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６
９９０（以上、ユニオンカーバイド製）、アデカオプト
マーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ
−１７１（以上、旭電化工業製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２
６１（以上、チバスペシャリティーケミカルズ製）、Ｃ
Ｉ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ
−２０６４（以上、日本曹達製）、ＣＤ−１０１０、Ｃ
Ｄ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー
製）、ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０
３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０
３、ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（以上、みどり化
学製）などが挙げられる。これらの光ラジカル重合開始
剤や光カチオン重合開始剤は単独でも２種類以上組み合
わせても使用でき、その使用量は（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）成分の合計１００重量部に対して０．０１〜２０
重量部、好ましくは０．１〜１０重量部である。
ルヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリ
アリールセレノニウム塩、ジアルキルフェナシルスルホ
ニウム塩、トリアリールスルフォノキソニウム塩、アリ
ールオキシジアリールスルフォノオキソニウム塩、ジア
ルキルフェナシルスルフォノキソニウム塩等のオニウム
塩が有効であり、具体的な例としては、ＵＶＩ−６９５
０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６
９９０（以上、ユニオンカーバイド製）、アデカオプト
マーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ
−１７１（以上、旭電化工業製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２
６１（以上、チバスペシャリティーケミカルズ製）、Ｃ
Ｉ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ
−２０６４（以上、日本曹達製）、ＣＤ−１０１０、Ｃ
Ｄ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー
製）、ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０
３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０
３、ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（以上、みどり化
学製）などが挙げられる。これらの光ラジカル重合開始
剤や光カチオン重合開始剤は単独でも２種類以上組み合
わせても使用でき、その使用量は（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）成分の合計１００重量部に対して０．０１〜２０
重量部、好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００３２】本発明の液状放射線硬化型樹脂組成物に
は、更に必要に応じて、増感剤、酸化防止剤、紫外線吸
収剤、有機溶剤、可塑剤、界面活性剤、シランカップリ
ング剤、着色顔料、有機又は無機粒子等の添加剤を、本
発明の目的を損なわない範囲で添加することができる。
は、更に必要に応じて、増感剤、酸化防止剤、紫外線吸
収剤、有機溶剤、可塑剤、界面活性剤、シランカップリ
ング剤、着色顔料、有機又は無機粒子等の添加剤を、本
発明の目的を損なわない範囲で添加することができる。
【００３３】本発明の液状放射線硬化型樹脂組成物を硬
化する放射線としては、赤外線、可視光線、紫外線、及
びＸ線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線があ
る。
化する放射線としては、赤外線、可視光線、紫外線、及
びＸ線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線があ
る。
【００３４】なお、放射線を照射して硬化させる方法、
条件としては、常法を採用できるが、電子線照射を行う
場合、電圧３０〜２００ｋＶ、特に５０〜１７０ｋＶで
電子を加速し、吸収線量１０〜１００ｋＧｙ、特に２０
〜８０ｋＧｙで照射することが好ましい。また、紫外線
照射の場合は、照射量が１０〜２，０００ｍＪ／ｃ
ｍ 2、特に５０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2とすることが好
ましい。
条件としては、常法を採用できるが、電子線照射を行う
場合、電圧３０〜２００ｋＶ、特に５０〜１７０ｋＶで
電子を加速し、吸収線量１０〜１００ｋＧｙ、特に２０
〜８０ｋＧｙで照射することが好ましい。また、紫外線
照射の場合は、照射量が１０〜２，０００ｍＪ／ｃ
ｍ 2、特に５０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2とすることが好
ましい。
【００３５】本発明の組成物を光ファイバ用被覆材とす
る場合、光ファイバ心線の一次被覆材でもよく、二次被
覆材でもよく、テープ化材でもよい。
る場合、光ファイバ心線の一次被覆材でもよく、二次被
覆材でもよく、テープ化材でもよい。
【００３６】本発明の液状放射線硬化型樹脂組成物を光
ファイバ用被覆材に用いる場合、上記した所要の成分を
配合した後、撹拌混合することにより調製することがで
き、その粘度は、作業性の点で光ファイバ心線の通常の
製造条件との適合性から５００〜１０，０００ｍＰａ・
ｓ（２５℃）、特に高速の製造条件では１，０００〜
６，０００ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲が望ましい。
ファイバ用被覆材に用いる場合、上記した所要の成分を
配合した後、撹拌混合することにより調製することがで
き、その粘度は、作業性の点で光ファイバ心線の通常の
製造条件との適合性から５００〜１０，０００ｍＰａ・
ｓ（２５℃）、特に高速の製造条件では１，０００〜
６，０００ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲が望ましい。
【００３７】以上光ファイバ用被覆材に用いる場合につ
いて述べたが、本発明の樹脂組成物はその用途に限定さ
れるものではなく、例えば、携帯電話やパソコンのキー
ボード等のコーティング材などについても応用すること
が可能である。用途によって上記の値より更に低粘度で
あることが望ましい場合もあるが、（Ａ）成分に対し、
（Ｂ）及び／又は（Ｃ）成分の割合を増加させることに
よって、例えば１００ｍＰａ・ｓ以下の値に調整するこ
とが可能である。
いて述べたが、本発明の樹脂組成物はその用途に限定さ
れるものではなく、例えば、携帯電話やパソコンのキー
ボード等のコーティング材などについても応用すること
が可能である。用途によって上記の値より更に低粘度で
あることが望ましい場合もあるが、（Ａ）成分に対し、
（Ｂ）及び／又は（Ｃ）成分の割合を増加させることに
よって、例えば１００ｍＰａ・ｓ以下の値に調整するこ
とが可能である。
【００３８】
【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、下記の例において部は重量部を示
す。
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、下記の例において部は重量部を示
す。
【００３９】［実施例１］イソボルニルアクリレート８
８．１４ｇ、２，４−トリレンジイソシアネート９３．
５２ｇ、ジブチルチンジラウレート０．４ｇ、２，６−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシトルエン０．１１ｇを
反応容器に仕込み、乾燥空気下で、１５℃以下に保つ速
度で２−ヒドロキシエチルアクリレート９３．２１ｇを
滴下した。次いで、３０℃で２時間反応させた後、数平
均分子量１，０１８のポリプロピレングリコール１１
８．８９ｇを添加し、５０〜６０℃で３時間反応させ、
イソボルニルアクリレートを２２．２重量％含有するア
クリル基末端のポリエーテルウレタンオリゴマー（オリ
ゴマーＡとする）を得た。オリゴマーＡ９０重量部、シ
クロヘキサンジメタノールジビニルエーテル１０重量部
を混合し、試料−１を調製した。このものの２５℃にお
ける粘度は４，９００ｍＰａ・ｓであった。
８．１４ｇ、２，４−トリレンジイソシアネート９３．
５２ｇ、ジブチルチンジラウレート０．４ｇ、２，６−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシトルエン０．１１ｇを
反応容器に仕込み、乾燥空気下で、１５℃以下に保つ速
度で２−ヒドロキシエチルアクリレート９３．２１ｇを
滴下した。次いで、３０℃で２時間反応させた後、数平
均分子量１，０１８のポリプロピレングリコール１１
８．８９ｇを添加し、５０〜６０℃で３時間反応させ、
イソボルニルアクリレートを２２．２重量％含有するア
クリル基末端のポリエーテルウレタンオリゴマー（オリ
ゴマーＡとする）を得た。オリゴマーＡ９０重量部、シ
クロヘキサンジメタノールジビニルエーテル１０重量部
を混合し、試料−１を調製した。このものの２５℃にお
ける粘度は４，９００ｍＰａ・ｓであった。
【００４０】この試料−１をアプリケータを用い、ガラ
ス板上に約６０μｍの膜厚に塗布し、電圧１００ｋＶで
電子を加速することにより得られた電子線を吸収線量１
０，２０，３０及び１００ｋＧｙで照射し、その硬化性
をゲル分率により調べた。また吸水率を吸収線量３０ｋ
Ｇｙで硬化した場合について調べた。硬化皮膜特性を下
記のようにして測定した結果を表１に示す。
ス板上に約６０μｍの膜厚に塗布し、電圧１００ｋＶで
電子を加速することにより得られた電子線を吸収線量１
０，２０，３０及び１００ｋＧｙで照射し、その硬化性
をゲル分率により調べた。また吸水率を吸収線量３０ｋ
Ｇｙで硬化した場合について調べた。硬化皮膜特性を下
記のようにして測定した結果を表１に示す。
【００４１】皮膜特性の測定方法 （１）ゲル分率 硬化フィルムをアセトンに１６時間浸漬後、フィルムを
取り出し、７０℃で４時間乾燥し、重量変化の比率を下
記式より求めた。 ゲル分率（％）＝（乾燥後のフィルム重量／初期のフィ
ルム重量）×１００ （２）吸水率 縦５ｃｍ、横５ｃｍの形状の硬化フィルムを５０℃で２
４時間乾燥し、未硬化成分を揮発させた後、２５℃の純
水中に２４時間浸漬し、重量を測定（測定値を（Ａ）と
する）し、フィルムを取り出し、５０℃で２４時間乾燥
後、重量を測定（測定値を（Ｂ）とする）し、下記式よ
り求めた。 吸水率（％）＝［（（Ａ）−（Ｂ））／（Ｂ）］×１０
０
取り出し、７０℃で４時間乾燥し、重量変化の比率を下
記式より求めた。 ゲル分率（％）＝（乾燥後のフィルム重量／初期のフィ
ルム重量）×１００ （２）吸水率 縦５ｃｍ、横５ｃｍの形状の硬化フィルムを５０℃で２
４時間乾燥し、未硬化成分を揮発させた後、２５℃の純
水中に２４時間浸漬し、重量を測定（測定値を（Ａ）と
する）し、フィルムを取り出し、５０℃で２４時間乾燥
後、重量を測定（測定値を（Ｂ）とする）し、下記式よ
り求めた。 吸水率（％）＝［（（Ａ）−（Ｂ））／（Ｂ）］×１０
０
【００４２】［実施例２］実施例１で得られたオリゴマ
ーＡを９０重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム５重量
部、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル５重
量部を混合し、試料−２を調製した。このものの２５℃
における粘度は５，２００ｍＰａ・ｓであった。この試
料−２を実施例１と同様にして電子線で硬化し、硬化皮
膜特性を測定した結果を表１に示す。試料−１に比べゲ
ル分率はほとんど同じであり、吸水率はやや高い値であ
った。
ーＡを９０重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム５重量
部、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル５重
量部を混合し、試料−２を調製した。このものの２５℃
における粘度は５，２００ｍＰａ・ｓであった。この試
料−２を実施例１と同様にして電子線で硬化し、硬化皮
膜特性を測定した結果を表１に示す。試料−１に比べゲ
ル分率はほとんど同じであり、吸水率はやや高い値であ
った。
【００４３】［比較例１］実施例１で得られたオリゴマ
ーＡを９０重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム１０重量
部を混合し、試料−３を調製した。この試料については
ビニルエーテル化合物を配合しなかった。このものの２
５℃の粘度は５，５００ｍＰａ・ｓであった。この試料
−３を実施例１と同様にして電子線で硬化し、硬化皮膜
特性を測定した結果を表１に示す。
ーＡを９０重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム１０重量
部を混合し、試料−３を調製した。この試料については
ビニルエーテル化合物を配合しなかった。このものの２
５℃の粘度は５，５００ｍＰａ・ｓであった。この試料
−３を実施例１と同様にして電子線で硬化し、硬化皮膜
特性を測定した結果を表１に示す。
【００４４】試料−１及び２に比べ吸収線量１０ｋＧｙ
におけるゲル分率は約３％低く、吸水率は試料−１に比
べ１．６％高い値であった。上記の結果から、ビニルエ
ーテル化合物の含有量を増加させるに従い、１０ｋＧｙ
における硬化性が高く、かつ吸水率が小さくなることが
わかった。
におけるゲル分率は約３％低く、吸水率は試料−１に比
べ１．６％高い値であった。上記の結果から、ビニルエ
ーテル化合物の含有量を増加させるに従い、１０ｋＧｙ
における硬化性が高く、かつ吸水率が小さくなることが
わかった。
【００４５】以上の例は電子線により硬化を行ったが、
次に紫外線により硬化を行った例を示す。
次に紫外線により硬化を行った例を示す。
【００４６】［実施例３］実施例１のオリゴマーＡを９
０重量部、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテ
ル１０重量部、更に光ラジカル重合開始剤としてＩｒｇ
ａｃｕｒｅ１７０００（チバスペシャリティーケミカル
ズ製）４部を混合し、試料−４を調製した。このものの
２５℃における粘度は４，７００ｍＰａ・ｓであった。
０重量部、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテ
ル１０重量部、更に光ラジカル重合開始剤としてＩｒｇ
ａｃｕｒｅ１７０００（チバスペシャリティーケミカル
ズ製）４部を混合し、試料−４を調製した。このものの
２５℃における粘度は４，７００ｍＰａ・ｓであった。
【００４７】この試料−４をアプリケータを用い、ガラ
ス板上に約２００μｍの膜厚に塗布し、窒素雰囲気下で
波長３５０ｎｍの紫外線を２５，５０，１００及び５０
０ｍＪ／ｃｍ2の照射光量で露光し、硬化フィルムを得
た。硬化皮膜特性を測定した結果を表１に示す。
ス板上に約２００μｍの膜厚に塗布し、窒素雰囲気下で
波長３５０ｎｍの紫外線を２５，５０，１００及び５０
０ｍＪ／ｃｍ2の照射光量で露光し、硬化フィルムを得
た。硬化皮膜特性を測定した結果を表１に示す。
【００４８】［比較例２］実施例１で得られたオリゴマ
ーＡを９０重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム１０重量
部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１７００を４部混合し、試料−５
を調製した。この試料についてはビニルエーテル化合物
は含まれていない。このものの２５℃の粘度は５，３０
０ｍＰａ・ｓであった。この試料−５を実施例３と同様
に紫外線で硬化し、硬化皮膜特性を測定した結果を表１
に示す。
ーＡを９０重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム１０重量
部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１７００を４部混合し、試料−５
を調製した。この試料についてはビニルエーテル化合物
は含まれていない。このものの２５℃の粘度は５，３０
０ｍＰａ・ｓであった。この試料−５を実施例３と同様
に紫外線で硬化し、硬化皮膜特性を測定した結果を表１
に示す。
【００４９】試料−４に比べゲル分率は全ての照射光量
について１．２〜１．４％低く、吸水率も電子線で硬化
したときと同様ビニルエーテル化合物の含有量が高くな
るに従い小さくなることが確かめられた。
について１．２〜１．４％低く、吸水率も電子線で硬化
したときと同様ビニルエーテル化合物の含有量が高くな
るに従い小さくなることが確かめられた。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【発明の効果】本発明によれば、小さい放射線照射量に
よって硬化性がよく、吸水率の小さい液状放射線硬化型
樹脂組成物を得ることができる。
よって硬化性がよく、吸水率の小さい液状放射線硬化型
樹脂組成物を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 6/44 ３０１ Ｇ０２Ｂ 6/44 ３０１Ａ ３８１ ３８１ Ｆターム(参考） 2H001 KK02 KK17 KK22 2H050 AB02Z BA18 BA20 BA32 BB13W BB14W BB33W BD05 4J011 QA08 QA39 QB24 QC03 SA06 SA25 SA26 SA27 SA36 SA54 SA63 SA64 SA84 SA87 UA01 UA04 VA01 WA03 4J027 AG04 AG09 AG14 AG23 AG24 AG27 BA04 BA08 BA09 BA13 BA26 CB10 CC05 CD03 4J038 FA011 FA061 FA062 FA121 FA131 FA141 FA151 FA161 FA271 FA281 GA01 GA03 GA07 GA08 JA07 JA32 JA34 JB06 JB27 JB39 JC17 JC18 JC22 KA03 MA14 NA07 NA24 PA17 PB08 PC03 PC08
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）一分子中に少なくとも２個の（メ
タ）アクリル基を有する数平均分子量８００〜１０，０
００のポリエーテルポリウレタンを１００重量部、
（Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物を１〜
１００重量部含有することを特徴とする液状放射線硬化
型樹脂組成物。 - 【請求項２】 （Ａ）一分子中に少なくとも２個の（メ
タ）アクリル基を有する数平均分子量８００〜１０，０
００のポリエーテルポリウレタンを１００重量部、
（Ｂ）分子内にビニルエーテル基を有する化合物を１〜
１００重量部、（Ｃ）（メタ）アクリル基及び／又はＮ
−ビニル基を有する分子量５００以下の反応性希釈剤を
１〜２００重量部含有することを特徴とする液状放射線
硬化型樹脂組成物。 - 【請求項３】 更に、光ラジカル重合開始剤及び／又は
光カチオン重合開始剤を（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）＝１０
０重量部に対して０．０１〜２０重量部含むことを特徴
とする請求項１又は２記載の液状放射線硬化型樹脂組成
物。 - 【請求項４】 光ファイバ用被覆材である請求項１、２
又は３記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344568A JP2002145970A (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 液状放射線硬化型樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344568A JP2002145970A (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 液状放射線硬化型樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002145970A true JP2002145970A (ja) | 2002-05-22 |
Family
ID=18818740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000344568A Pending JP2002145970A (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 液状放射線硬化型樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002145970A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1656430A2 (en) | 2003-08-20 | 2006-05-17 | DSM IP Assets B.V. | Radiation-curable liquid resin composition |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05306147A (ja) * | 1992-04-16 | 1993-11-19 | Borden Inc | 光ファイバー用紫外線硬化可能なコーティングおよび該コーティングを被覆した光ファイバー |
| JPH0769686A (ja) * | 1993-08-31 | 1995-03-14 | Dainippon Ink & Chem Inc | 光ファイバ被覆用紫外線硬化型樹脂組成物 |
| JPH08253707A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Chugoku Marine Paints Ltd | 木質床材用光硬化性塗料組成物 |
| JP2002504959A (ja) * | 1997-06-18 | 2002-02-12 | デー エス エム エヌ．ヴェー． | 黄変化が少なく硬化速度の速い放射線硬化性光学繊維被覆 |
-
2000
- 2000-11-13 JP JP2000344568A patent/JP2002145970A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05306147A (ja) * | 1992-04-16 | 1993-11-19 | Borden Inc | 光ファイバー用紫外線硬化可能なコーティングおよび該コーティングを被覆した光ファイバー |
| JPH0769686A (ja) * | 1993-08-31 | 1995-03-14 | Dainippon Ink & Chem Inc | 光ファイバ被覆用紫外線硬化型樹脂組成物 |
| JPH08253707A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Chugoku Marine Paints Ltd | 木質床材用光硬化性塗料組成物 |
| JP2002504959A (ja) * | 1997-06-18 | 2002-02-12 | デー エス エム エヌ．ヴェー． | 黄変化が少なく硬化速度の速い放射線硬化性光学繊維被覆 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1656430A2 (en) | 2003-08-20 | 2006-05-17 | DSM IP Assets B.V. | Radiation-curable liquid resin composition |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4143508B2 (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| EP0927209B1 (en) | Liquid curable resin composition | |
| JP4564834B2 (ja) | 光ファイバアップジャケット用液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP2012111924A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物 | |
| JP5053145B2 (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP2009227988A (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| CN101027369A (zh) | 可固化液态树脂光纤紧包组合物 | |
| KR100829636B1 (ko) | 액체 경화성 수지 조성물 및 경화된 제품 | |
| JP4568552B2 (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP2007297467A (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP2013049744A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物 | |
| JP2008249788A (ja) | 光ファイバ素線の最外層被覆用液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP3991472B2 (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP2002145970A (ja) | 液状放射線硬化型樹脂組成物 | |
| JP3796655B2 (ja) | 光ファイバ用被覆材 | |
| JP2007297466A (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP3198285B2 (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP5420272B2 (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP2009205947A (ja) | ケーブル被覆材用液状硬化性組成物 | |
| WO2008120983A2 (en) | Ribbon matrix material for optical fiber with excellent bending resistance | |
| JP2007077329A (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP5307317B2 (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP2009203360A (ja) | ケーブル被覆材用液状硬化性組成物 | |
| JP2005290065A (ja) | 液状硬化性樹脂組成物 | |
| JP4766215B2 (ja) | 光ファイバテープ材用硬化性樹脂組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051026 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051109 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060301 |