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JP2002139621A - 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

光学補償シート、偏光板および液晶表示装置

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Publication number
JP2002139621A
JP2002139621A JP2000323189A JP2000323189A JP2002139621A JP 2002139621 A JP2002139621 A JP 2002139621A JP 2000323189 A JP2000323189 A JP 2000323189A JP 2000323189 A JP2000323189 A JP 2000323189A JP 2002139621 A JP2002139621 A JP 2002139621A
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JP
Japan
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film
cellulose acetate
liquid crystal
mass
parts
Prior art date
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Application number
JP2000323189A
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JP2002139621A5 (ja
Inventor
Yoji Ito
洋士 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000323189A priority Critical patent/JP2002139621A/ja
Publication of JP2002139621A publication Critical patent/JP2002139621A/ja
Publication of JP2002139621A5 publication Critical patent/JP2002139621A5/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示品位の高い液晶表示装置を提供するこ
と。 【解決手段】 酢化度が59.0乃至61.5%の範囲
にあるセルロースアセテート、およびセルロースアセテ
ート100質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環
を有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、
そして厚みが10乃至70μmの範囲にある一枚のセル
ロースアセテートフイルムからなり、Reレターデーシ
ョン値が20乃至70nmの範囲にあり、そしてRthレ
ターデーション値が70乃至400nmの範囲にある光
学補償シートを液晶表示装置に利用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学補償シートお
よびそれを用いた偏光板と液晶表示装置とに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから
構成されている。現在主流であるTN(Twisted Nemati
c)モードTFT(Thin Film Transistor)液晶表示装置
においては、特開平8−50206号公報に記載のよう
に光学補償フイルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、
表示品位の高い液晶表示装置が実現されている。しか
し、この方法によると液晶表示装置自体が厚くなるなど
の問題点があった。特開平1−68940号公報には、
偏光膜の片面に光学補償シート(位相差板)、他方の面
に保護フイルムを有する楕円偏光板を用いることで、液
晶表示装置を厚くすることなく、正面コントラストを高
くすることができるとの記載がある。ところが、この発
明の光学補償シートは、熱等の歪みにより位相差が発生
しやすく、そしてこの位相差により液晶表示装置の黒表
示の際に額縁状の透過率アップ(光漏れ)が生じ、耐久
性に問題のあることがわかった。歪みによる位相差発生
の問題に対し、特開平7−191217号公報および欧
州特許0911656A2号明細書において、透明支持
体上にディスコティック化合物からなる光学異方性層を
塗設した光学補償シートを直接偏光板の保護フイルムと
して用いることで液晶表示装置を厚くすることなく、上
述の耐久性に関する問題を解決している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、17インチ以
上の大型パネルに、上記の光学補償フイルムを保護フイ
ルムに用いた偏光板を装着したところ、熱歪みによる額
縁状の透過率アップは、完全には無くならないことが判
明した。本発明の目的は、光学補償シートを偏光膜の片
側に配置し、何の問題も生じることなく、表示品位の高
い液晶表示装置を提供することである。別の本発明の目
的は、熱歪みに対する光学補償特性が安定である光学補
償シートを提供することである。さらに別の本発明の目
的は、連続プロセスで偏光膜の片側に配置できる光学補
償シートを提供することである。さらにまた別の本発明
の目的は、偏光板の構成要素の数を増加することなく、
偏光板に光学補償機能を追加することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者の鋭意研究によ
り、前記の額縁状の透過率アップの問題は、下記の二つ
の原因により発生することが判明した。第一の原因は、
液晶表示装置が置かれる環境における湿熱条件の変化で
ある。液晶表示装置に配置される光学補償シートは、接
着剤などで偏光膜あるいは液晶セルに固定される。湿熱
条件の変化によるポリマーフイルムの膨張あるいは収縮
が、(液晶セルなどに固定された)光学補償シート全体
として抑制されるために、光学補償シートの光学特性が
変化してしまい、光漏れを生じさせることが分かった。
第二の原因は、液晶表示装置に用いられるバックライト
の点灯などにより光学補償シート面内に温度分布が発生
することである。この温度分布により光学補償シートに
熱歪みが生じ、その熱歪みが前記と同様の光学特性の変
化を引き起こして光漏れを生じさせることが分かった。
特にセルロースエステルのような水酸基を有するポリマ
ーでは、環境条件の変化の影響が大きいことが判明し
た。
【0005】この光漏れを無くすためには、光学補償シ
ートの光学特性の変化を小さくし、さらに光学補償シー
トに生じる温度分布を小さくすれば良い。この光学特性
の変化は、光学補償シートの光弾性係数、厚み、環境条
件の変化による仮想歪み、および弾性率の積で決定され
ることがわかった。従って、光学補償シートの光弾性係
数を下げ、厚みを薄くし、環境条件の変化による歪みを
小さくし、そして弾性率を小さくすることで、光漏れは
著しく低減されるのである。また、光学補償シートに生
じる温度分布は、光学補償シートの熱伝導率を上げるこ
とで低減され、光漏れは低減される。
【0006】従って、本発明の目的は、下記(1)〜
(11)の光学補償シート、下記(12)〜(13)の
偏光板、および下記(14)〜(16)の液晶表示装置
により達成された。 (1)酢化度が59.0乃至61.5%の範囲にあるセ
ルロースアセテート、およびセルロースアセテート10
0質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する
芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、そして厚
みが10乃至70μmの範囲にある一枚のセルロースア
セテートフイルムからなり、下記式(I)により定義さ
れるReレターデーション値が20乃至70nmの範囲
にあり、そして下記式(II)により定義されるRthレタ
ーデーション値が70乃至400nmの範囲にあること
を特徴とする光学補償シート。 (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d 式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
て、dは、フイルムの厚さである。 (2)前記のセルロースアセテートフイルムが、セルロ
ースアセテート100質量部に対して、さらにポリエス
テルウレタンを0.1乃至30質量部含み、ポリエステ
ルウレタンが、下記一般式で表されるポリエステルとジ
イソシアナートとの反応物であることを特徴とする
(1)に記載の光学補償シート。 H-(-O-(CH2)q-OOC-(CH2)m-CO)n-O-(CH2)q-OH 式中、qは、2乃至4の整数を表し;mは、2乃至4の
整数を表し;nは、1乃至100の整数を表す。
【0007】(3)酢化度が59.0乃至61.5%の
範囲にあるセルロースアセテート、およびセルロースア
セテート100質量部に対して、少なくとも二つの芳香
族環を有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含
み、そして厚みが10乃至70μmの範囲にあるセルロ
ースアセテートフイルム上に、液晶性化合物から形成さ
れた光学異方性層が設けられてなり、セルロースアセテ
ートフイルムの、下記式(I)により定義されるReレ
ターデーション値が20乃至70nmの範囲にあり、そ
して下記式(II)により定義されるRthレターデーショ
ン値が70乃至400nmの範囲にあることを特徴とす
る光学補償シート。 (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d 式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
て、dは、フイルムの厚さである。 (4)前記のセルロースアセテートフイルムが、セルロ
ースアセテート100質量部に対して、さらにポリエス
テルウレタンを0.1乃至30質量部含み、ポリエステ
ルウレタンが、下記一般式で表されるポリエステルとジ
イソシアナートとの反応物であることを特徴とする
(2)に記載の光学補償シート: H-(-O-(CH2)q-OOC-(CH2)m-CO)n-O-(CH2)q-OH 式中、qは、2乃至4の整数を表し;mは、2乃至4の
整数を表し;nは、1乃至100の整数を表す。
【0008】(5)前記の液晶性化合物が円盤状液晶性
化合物であることを特徴とする(3)もしくは(4)に
記載の光学補償シート。 (6)前記のセルロースアセテートフイルムが、3乃至
100%の範囲の延伸倍率で延伸された延伸物であるこ
とを特徴とする(1)に記載の光学補償シート。 (7)前記のセルロースアセテートフイルムが高熱伝導
性粒子を含み、その熱伝導率が1W/(m・K)以上で
あることを特徴とする(1)乃至(4)のうちのいずれ
かの項に記載の光学補償シート。 (8)前記のセルロースアセテートフイルムの少なくと
も一方の面に高熱伝導性粒子を含む熱伝導層が設けら
れ、そして、熱伝導層を有するセルロースアセテートフ
イルムの熱伝導率が1W/(m・K)以上であることを
特徴とする(1)乃至(4)のうちのいずれかの項に記
載の光学補償シート。
【0009】(9)前記の芳香族化合物が、少なくとも
一つの1,3,5−トリアジン環を有することを特徴と
する(1)乃至(4)のうちのいずれかの項に記載の光
学補償シート。 (10)前記のセルロースアセテートフイルムが、共流
延法により製膜されていることを特徴とする(1)乃至
(4)のうちのいずれかの項に記載の光学補償シート。 (11)前記のセルロースアセテートフイルムが、二軸
延伸されたフイルムであることを特徴とする(1)乃至
(4)のうちのいずれかの項に記載の光学補償シート。
【0010】(12)偏光膜およびその両側に配置され
た二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護
膜の一方が、酢化度が59.0乃至61.5%の範囲に
あるセルロースアセテート、およびセルロースアセテー
ト100質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を
有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、そ
して厚みが10乃至70μmの範囲にある一枚のセルロ
ースアセテートフイルムからなり、セルロースアセテー
トフイルムの、下記式(I)により定義されるReレタ
ーデーション値が20乃至70nmの範囲にあり、そし
て下記式(II)により定義されるRthレターデーション
値が70乃至400nmの範囲にあり、さらにセルロー
スアセテートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とが実
質的に平行になるように配置されていることを特徴とす
る偏光板。 (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d 式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
て、dは、フイルムの厚さである。
【0011】(13)偏光膜およびその両側に配置され
た二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護
膜の一方が、酢化度が59.0乃至61.5%の範囲に
あるセルロースアセテート、およびセルロースアセテー
ト100質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を
有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、そ
して厚みが10乃至70μmの範囲にあるセルロースア
セテートフイルム上に、液晶性化合物から形成された光
学異方性層が設けられてなり、セルロースアセテートフ
イルムの、下記式(I)により定義されるReレターデ
ーション値が20乃至70nmの範囲にあり、そして下
記式(II)により定義されるRthレターデーション値が
70乃至400nmの範囲にあり、さらにセルロースア
セテートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とが実質的
に平行になるように配置されていることを特徴とする偏
光板。 (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d 式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
て、dは、フイルムの厚さである。
【0012】(14)液晶セルおよびその両側に配置さ
れた二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその
両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装
置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置された二枚
の透明保護膜のうちの少なくとも一方が、酢化度が5
9.0乃至61.5%の範囲にあるセルロースアセテー
ト、およびセルロースアセテート100質量部に対し
て、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を
0.01乃至20質量部含み、そして厚みが10乃至7
0μmの範囲にある一枚のセルロースアセテートフイル
ムからなり、セルロースアセテートフイルムの、下記式
(I)により定義されるReレターデーション値が20
乃至70nmの範囲にあり、そして下記式(II)により
定義されるRthレターデーション値が70乃至400n
mの範囲にあり、さらにセルロースアセテートフイルム
の遅相軸とセルロースアセテートフイルムに隣接する偏
光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されて
いることを特徴とする液晶表示装置。 (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d 式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
て、dは、フイルムの厚さである。
【0013】(15)液晶セルおよびその両側に配置さ
れた二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその
両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装
置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置された二枚
の透明保護膜のうちの少なくとも一方が、酢化度が5
9.0乃至61.5%の範囲にあるセルロースアセテー
ト、およびセルロースアセテート100質量部に対し
て、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を
0.01乃至20質量部含み、そして厚みが10乃至7
0μmの範囲にあるセルロースアセテートフイルム上
に、液晶性化合物から形成された光学異方性層が設けら
れてなり、セルロースアセテートフイルムの、下記式
(I)により定義されるReレターデーション値が20
乃至70nmの範囲にあり、そして下記式(II)により
定義されるRthレターデーション値が70乃至400n
mの範囲にあり、さらにセルロースアセテートフイルム
の遅相軸とセルロースアセテートフイルムに近い偏光膜
の透過軸とが実質的に平行になるように配置されている
ことを特徴とする偏光板。 (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d 式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
て、dは、フイルムの厚さである。 (16)液晶セルが、TNモード、VAモード、MVA
モード、またはOCBモードの液晶セルである請求項1
4もしくは15に記載の液晶表示装置。
【0014】なお、本明細書において、「実質的に平
行」とは、厳密な角度よりも±5゜未満の範囲内である
ことを意味する。この範囲は、±4゜未満であることが
好ましく、±3゜未満であることがさらに好ましく、±
2゜未満であることが最も好ましい。また、本明細書に
おいて、「遅相軸(slow axis )」は屈折率が最大とな
る方向を、そして「透過軸(transmission axis )」は
透過率が最大となる方向をそれぞれ意味する。
【0015】
【発明の効果】本発明者は、光学補償シートの厚さを薄
くするなど製造条件を調節することで、熱歪みによる液
晶表示装置の額縁状の透過率アップ(光漏れ)の問題を
解消することに成功した。そして、本発明の光学補償シ
ートを用いることで、従来の厚み以下で、副作用なしに
液晶セルを光学的に補償することに成功した。本発明の
光学補償シートは、その厚さが薄いために、液晶表示装
置の製造コストも抑えることができ、液晶表示装置の厚
さも薄くすることができる。また、本発明の光学補償シ
ートを、偏光膜の両側に透明保護膜が設けられている従
来の偏光板の一方の保護膜として用いることで、偏光板
に光学補償機能を付与することができる。上記の光学補
償シートおよび上記の光学補償シートを保護膜として用
いた偏光板は、VA(Vertically Aligned)型、OCB
(Optically Compensated Bend)、TN(Twisted Nema
tic)型の液晶表示装置、および反射型液晶表示装置
に、特に有利に用いることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】[光漏れの防止]本発明者の鋭意
研究により、液晶表示装置における額縁状の透過率アッ
プは、偏光膜と液晶セルの間に介在する光学補償シート
(偏光膜の保護フイルムも含む)の湿熱による寸度変化
が粘着剤により抑制され、これにより発生した応力によ
って複屈折が発生する(光弾性)ことが原因であること
がわかった。透過率は、この発現した複屈折とシートの
厚みの積(位相差)と相関があり、位相差が大きくなる
ほど、透過率は大きくなる。従って、厚みを薄くするこ
とで、同じ複屈折が発現しても位相差が小さくなるた
め、透過率アップは小さくなる。しかし、あまり薄くな
ると、偏光膜の耐久性が落ちる、もしくは液晶パネルに
貼り合わせる際のハンドリングが悪くなる等の問題が生
じる。従って、液晶表示装置における額縁状の透過率ア
ップを防止するのに必要な光学補償シートの厚みは、1
0乃至70μmの範囲にあることが好ましく、20乃至
60μmの範囲にあることが更に好ましく、30乃至5
0μmの範囲にあることが最も好ましい。
【0017】前述の様に、液晶表示装置の額縁状の透過
率アップ(光漏れ)を防止するには、光学補償シートの
光学特性の変化を小さくし、さらに光学補償シートに生
じる温度分布を小さくすれば良い。この光学特性の変化
は、光学補償シートの光弾性係数、厚み、環境条件の変
化による仮想歪み、および弾性率の積で決定されること
がわかった。従ってさらに、光学補償シートの、光弾性
係数を下げ、環境条件の変化による歪みを小さくし、そ
して弾性率を小さくすることで、光漏れは著しく低減さ
れる。また、光学補償シートに生じる温度分布は、光学
補償シートの熱伝導率を上げることで低減され、光漏れ
は低減される。
【0018】[フイルムのレターデーション]フイルム
のReレターデーション値およびRthレターデーション
値は、それぞれ、下記式(I)および(II)で定義され
る。 (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d 式(I)および(II)において、nxは、フイルム面内
の遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)の屈折率であ
る。式(I)および(II)において、nyは、フイルム
面内の進相軸方向(屈折率が最小となる方向)の屈折率
である。式(II)において、nzは、フイルムの厚み方
向の屈折率である。式(I)および(II)において、d
は、単位をnmとするフイルムの厚さである。
【0019】本発明では、セルロースアセテートフイル
ムのReレターデーション値を20乃至70nmに、そ
して、Rthレターデーション値が70乃至400nmに
調節する。液晶表示装置に二枚の光学的異方性セルロー
スアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのRth
レターデーション値は70乃至250nmであることが
好ましい。液晶表示装置に一枚の光学的異方性セルロー
スアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのRth
レターデーション値は150乃至400nmであること
が好ましい。なお、セルロースアセテートフイルムの複
屈折率(Δn:nx−ny)は、0.00028乃至
0.020であることが好ましい。また、セルロースア
セテートフイルムの厚み方向の複屈折率{(nx+n
y)/2−nz}は、0.001乃至0.04であるこ
とが好ましい。
【0020】[セルロースアセテート]本発明では、酢
化度が59.0乃至61.5%であるセルロースアセテ
ートを使用する。酢化度とは、セルロース単位質量当た
りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−
817−91(セルロースアセテート等の試験法)にお
けるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロース
エステルの粘度平均重合度(DP)は、250以上であ
ることが好ましく、290以上であることがさらに好ま
しい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/
Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)の
分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mn
の値としては、1.0乃至1.7であることが好まし
く、1.3乃至1.65であることがさらに好ましく、
1.4乃至1.6であることが最も好ましい。
【0021】[レターデーション上昇剤]セルロースア
セテートフイルムのレターデーションを調整するため、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレタ
ーデーション上昇剤として使用する。芳香族化合物は、
セルロースアセテート100質量部に対して、0.01
乃至20質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セ
ルロースアセテート100質量部に対して、0.05乃
至15質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1
乃至10質量部の範囲で使用することがさらに好まし
い。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香
族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、
芳香族性ヘテロ環を含む。
【0022】芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、
ベンゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ
環は、5員環、6員環または7員環であることが好まし
く、5員環または6員環であることがさらに好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原
子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、
オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、
イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フ
ラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピ
リダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,
5−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベン
ゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサ
ゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾー
ル環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および
1,3,5−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環およ
び1,3,5−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族
化合物は、少なくとも一つの1,3,5−トリアジン環
を有することが特に好ましい。
【0023】芳香族化合物が有する芳香族環の数は、2
乃至20であることが好ましく、2乃至12であること
がより好ましく、2乃至8であることがさらに好まし
く、2乃至6であることが最も好ましい。二つの芳香族
環の結合関係は、(a)縮合環を形成する場合、(b)
単結合で直結する場合および(c)連結基を介して結合
する場合に分類できる(芳香族環のため、スピロ結合は
形成できない)。結合関係は、(a)〜(c)のいずれ
でもよい。
【0024】(a)の縮合環(二つ以上の芳香族環の縮
合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、イン
ドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾ
チオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール
環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベン
ゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメ
ン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キ
ナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジ
ン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、
フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フ
ェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン
環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、ア
ズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベン
ゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリア
ゾール環およびキノリン環が好ましい。(b)の単結合
は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好
ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、
二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環
を形成してもよい。
【0025】(c)の連結基も、二つの芳香族環の炭素
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O
−、−NH−、−S−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。 c1:−CO−O− c2:−CO−NH− c3:−アルキレン−O− c4:−NH−CO−NH− c5:−NH−CO−O− c6:−O−CO−O− c7:−O−アルキレン−O− c8:−CO−アルケニレン− c9:−CO−アルケニレン−NH− c10:−CO−アルケニレン−O− c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO
−アルキレン− c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−
CO−アルキレン−O− c13:−O−CO−アルキレン−CO−O− c14:−NH−CO−アルケニレン− c15:−O−CO−アルケニレン−
【0026】芳香族環および連結基は、置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子(F、C
l、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、シア
ノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファ
モイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族
置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換
スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香
族性複素環基が含まれる。
【0027】アルキル基の炭素原子数は、1乃至8であ
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基(例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有して
いてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例
には、メチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、2
−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチル、2−メト
キシエチルおよび2−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、2乃至8であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび1−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、2乃至
8であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、1−ブ
チニルおよび1−ヘキシニルが含まれる。
【0028】脂肪族アシル基の炭素原子数は、1乃至1
0であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1乃至10である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、1乃
至8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基(例、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコ
キシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2乃至
10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、2乃至10であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。
【0029】アルキルチオ基の炭素原子数は、1乃至1
2であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1乃至8である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。脂肪
族アミド基の炭素原子数は、1乃至10であることが好
ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含ま
れる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1乃至
8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例
には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドお
よびn−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置
換アミノ基の炭素原子数は、1乃至10であることが好
ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび2−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、2乃至10であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、2乃至10であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。レターデーション
上昇剤の分子量は、300乃至800であることが好ま
しい
【0030】[セルロースアセテートフイルムの製造]
セルロースアセテートフイルムは溶液流延法により製造
することが好ましい。流延の溶媒として有機溶媒を用い
るソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフ
イルムを製造することがさらに好ましい。ソルベントキ
ャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解
した溶液(ドープ)を用いてフイルムを製造する。有機
溶媒は、炭素原子数が3乃至12のエーテル、炭素原子
数が3乃至12のケトン、炭素原子数が3乃至12のエ
ステルおよび炭素原子数が1乃至6のハロゲン化炭化水
素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、
ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよ
い。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基(すなわ
ち、−O−、−CO−および−COO−)のいずれかを
二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることが
できる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の
官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有す
る有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能
基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【0031】炭素原子数が3乃至12のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が3乃至12のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が3乃至
12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノー
ルおよび2−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、1または2であることが好
ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、25乃至75モル%であることが好ましく、3
0乃至70モル%であることがより好ましく、35乃至
65モル%であることがさらに好ましく、40乃至60
モル%であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。
【0032】一般的な方法でセルロースアセテート溶液
を調製できる。一般的な方法とは、0℃以上の温度(常
温または高温)で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素(特にメチレンクロリド)を用いることが好ま
しい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に
10乃至40質量%含まれるように調整する。セルロー
スアセテートの量は、10乃至30質量%であることが
さらに好ましい。有機溶媒(主溶媒)中には、後述する
任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
(0乃至40℃)でセルロースアセテートと有機溶媒と
を攪拌することにより調製することができる。高濃度の
溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体
的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器
に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以
上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪
拌する。加熱温度は、通常は40℃以上であり、好まし
くは60乃至200℃であり、さらに好ましくは80乃
至110℃である。
【0033】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【0034】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に10乃至40質
量%含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、10乃至30質量%であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。
【0035】次に、混合物を−100乃至−10℃(好
ましくは−80乃至−10℃、さらに好ましくは−50
乃至−20℃、最も好ましくは−50乃至−30℃)に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液
(−30乃至−20℃)中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、4℃/分以上であることが好ま
しく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12
℃/分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限で
あり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして1
00℃/秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷
却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間
で割った値である。
【0036】さらに、これを0乃至200℃(好ましく
は0乃至150℃、さらに好ましくは0乃至120℃、
最も好ましくは0乃至50℃)に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加
温速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/
分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上で
あることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好まし
いが、10000℃/秒が理論的な上限であり、100
0℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が
実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始す
る時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始して
から最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値で
ある。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【0037】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
(酢化度:60.9%、粘度平均重合度:299)を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した20質量
%の溶液は、示差走査熱量測定(DSC)によると、3
3℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス10℃程度の温度で保する必要がある。ただ
し、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢
化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒に
より異なる。
【0038】調製したセルロースアセテート溶液(ドー
プ)から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバ
ンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成す
る。流延前のドープは、固形分量が18乃至35%とな
るように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは
バンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好まし
い。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法
については、米国特許2336310号、同23676
03号、同2492078号、同2492977号、同
2492978号、同2607704号、同27390
69号、同2739070号、英国特許640731
号、同736892号の各明細書、特公昭45−455
4号、同49−5614号、特開昭60−176834
号、同60−203430号、同62−115035号
の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が10℃以
下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
流延してから2秒以上風に当てて乾燥することが好まし
い。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取
り、さらに100から160℃まで逐次温度を変えた高
温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以
上の方法は、特公平5−17844号公報に記載があ
る。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を
短縮することが可能である。この方法を実施するために
は、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてド
ープがゲル化することが必要である。
【0039】調整したセルロースアセテート溶液(ドー
プ)を用いて二層以上の流延を行う共流延法によりフイ
ルム化することもできる。この場合、ソルベントキャス
ト法によりセルロースアセテートフイルムを作製するこ
とが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延
し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のド
ープは、固形分量が10乃至40%となるように濃度を
調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面
は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【0040】二層以上の複数のセルロースアセテート液
を流延する場合、複数のセルロースアセテート溶液を流
延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて
設けられた複数の流延口からセルロースアセテートを含
む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフイルムを
作製してもよい。例えば、特開昭61−158414
号、特開平1−122419号、および、特開平11−
198285号の各明細書に記載の方法を用いることが
できる。また、2つの流延口からセルロースアセテート
溶液を流延することによってもフイルム化することもで
きる。例えば、特公昭60−27562号、特開昭61
−94724号、特開昭61−947245号、特開昭
61−104813号、特開昭61−158413号、
および、特開平6−134933号の各明細書に記載の
方法を用いることができる。また、特開昭56−162
617号明細書に記載の高粘度セルロースアセテート溶
液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込
み、その高、低粘度のセルロースアセテート溶液を同時
に押し出すセルロースアセテートフイルムの流延方法を
用いることもできる。
【0041】また、二個の流延口を用いて、第一の流延
口により支持体に成形したフイルムを剥ぎ取り、支持体
面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フイ
ルムを作製することもできる。例えば、特公昭44−2
0235号明細書に記載の方法を挙げることができる。
流延するセルロースアセテート溶液は同一の溶液を用い
てもよいし、異なるセルロースアセテート溶液を用いて
もよい。複数のセルロースアセテート層に機能をもたせ
るためには、その機能に応じたセルロースアセテート溶
液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本
発明のセルロースアセテート溶液は、他の機能層(例え
ば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション
層、紫外線吸収層、偏光層など)と同時に流延すること
もできる。
【0042】従来の単層液では、必要なフイルム厚さに
するためには高濃度で高粘度のセルロースアセテート溶
液を押し出すことが必要であり、その場合セルロースア
セテート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故
障となったり、平面性が不良となったりして問題となる
ことが多かった。複数のセルロースアセテート溶液を流
延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支
持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面
状のフイルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロ
ースアセテート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が
達成でき、フイルムの生産スピードを高めることができ
る。
【0043】セルロースアセテートフイルムには、機械
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート(TPP)およびトリクレジルホスフェート(TC
P)が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DM
P)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレ
ート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジ
フェニルフタレート(DPP)およびジエチルヘキシル
フタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸エステル
の例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACT
E)およびO−アセチルクエン酸トリブチル(OACT
B)が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤(DMP、DE
P、DBP、DOP、DPP、DEHP)が好ましく用
いられる。DEPおよびDPPが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の0.1乃至25
質量%であることが好ましく、1乃至20質量%である
ことがさらに好ましく、3乃至15質量%であることが
最も好ましい。
【0044】セルロースアセテートフイルムには、劣化
防止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平3−19920
1号、同5−1907073号、同5−194789
号、同5−271471号、同6−107854号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液(ドープ)の0.01乃至1質量%であることが好ま
しく、0.01乃至0.2質量%であることがさらに好
ましい。添加量が0.01質量%未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が1質量%
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト(滲み出し)が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン(BHT)、トリベンジルアミン(TBA)を挙げる
ことができる。
【0045】[ポリエステルウレタン]次に、本発明で
用いられるポリエステルウレタンについて説明する。セ
ルロースアセテートフイルムには、機械的物性を改良す
るためにポリエステルウレタンを添加することが好まし
い。またポリエステルウレタンは、下記一般式(1)で
表されるポリエステルとジイソシアナートとの反応物で
あることが好ましく、さらに、ジクロロメタンに可溶で
あることが好ましい。 (1) H-(-O-(CH2)q-OOC-(CH2)m-CO)n-O-(CH2)q-OH 式中、qは、2乃至4の整数を表し;mは、2乃至4の
整数を表し;nは、1乃至100の整数を表す。さらに
詳細に述べると、その構成ポリエステルは、グリコール
成分が、エチレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、または1,4−ブタンジオールであり、二塩基性酸
成分は、コハク酸、グルタル酸、またはアジピン酸から
なる両未満ヒドロオキシル基を有するポリエステルであ
り、その重合度nは1〜100の範囲にある。重合度n
は、1〜100の範囲にあればよいが、その最適な重合
度は、用いるグリコールおよび二塩基性酸の種類により
若干異なり、ポリエステルの分子量として1000乃至
4500の範囲となることが特に好ましい。ジクロロメ
タン可溶のポリエステルウレタン樹脂は、(1)式のポ
リエステルとジイソシアナートとの反応により得られ、
一般式としては(2)式で表されるような繰返し単位の
化合物である。
【0046】(2) CONH-R-NHCO-(O-(CH2)q-OOC-(C
H2)m-CO)n-O-(CH2)q-O)- 式中、qは、2乃至4の整数を表し;mは、2乃至4の
整数を表し;nは、1乃至100の整数を表し;Rは、
2価の原子団残基を表わす。2価の原子団残基の例とし
ては、例えば下式のようなものが挙げられる。
【0047】
【化1】
【0048】ポリウレタン化合物に用いられるジイソシ
アナート成分の例としては、エチレンジイソシアナー
ト、トリメチレンジイソシアナート、テトラメチレンジ
イソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート等で
代表されるポリメチレンジイソシアナート(一般式:O
CN(CH2 p NCO(pは、2乃至8の整数を表
す))、p−フェニレンジイソシアナート、トリレンジ
イソシアナート、p・p’−ジフェニルメタンジイソシ
アナート、1,5−ナフチレンジイソシアナート等の芳
香族ジイソシアナート、およびm−キシリレンジイソシ
アナートなどが挙げられるが、これらに制限されるもの
ではない。これらの中でも、トリーレンジイソシアナー
ト、m−キシリレンジイソシアナート、およびテトラメ
チレンジイソシアナートは、入手も容易であり、比較的
安定で取扱いも容易であり、そしてポリウレタン化した
場合にセルロースアセテートとの相溶性が優れているの
で好ましい。
【0049】ポリエステルウレタン樹脂の分子量は、2
000乃至50000の範囲にあることが好ましく、成
分ポリエステル類またはこれらの連結グループであるジ
イソシアナート成分の種類、分子量などにより適宜選定
する。ポリエステルウレタン樹脂の分子量は、セルロー
スアセテートフイルムの機械的物性の向上とセルロース
アセテートに対する相溶性の点で、5000乃至150
00の範囲にあることがさらに好ましい。ジクロロメタ
ン可溶性ポリエステルウレタンの合成は、(1)式で表
わされるポリエステルジオール類とジイソシアナートと
を混合し、攪拌下加熱することにより容易に得ることが
できる。(1)式で表わされるポリエステル類は、相当
する二塩基性酸もしくはそのアルキルエステル類と、グ
リコール類とのポリエステル化反応もしくはエステル交
換反応による熱溶融縮合法、あるいは、これらの酸の酸
クロリドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方
法により、末端基がヒドロキシル基となるよう適宜調整
すれば容易に合成できる。本発明に用いるジクロロメタ
ン可溶性ポリエステルウレタン樹脂は、酢化度58%以
上のセルロースアセテートと極めて相溶性がよい。樹脂
の構造により若干の相異は認められるが、ポリエステル
ウレタンの分子量が10000以下の場合、酢酸繊維素
100質量部に対してポリエステルウレタン200質量
部でも相溶する。
【0050】従って、ポリエステルウレタン樹脂をセル
ロースアセテートに混合し、その皮膜の機械的物性を改
善しようとする場合、ポリエステルウレタン樹脂の含有
量は、ウレタン樹脂の種類、分子量、所望の機械的物性
により適当に定めればよい。セルロースアセテートの特
性を保持したまま機械的物性を改善しようとする場合に
は、セルロースアセテート100質量部に対して、ポリ
エステルウレタン樹脂を0.1乃至30質量部の範囲で
含有させることが好ましい。また、このポリエステルウ
レタン樹脂は、少くとも180℃までは安定で熱分解し
ない。このジクロロメタン可溶性のポリエステルウレタ
ン類は、酢化度が58%以上のセルロースアセテートに
対して極めて相溶性がよい。従って、両者を混合して製
膜すると、極めて透明度の高いフイルムが得られる。し
かも、これらのポリエステルウレタン類は、その平均分
子量が高いため、従来の低分子の可塑剤とは異なり、高
温においても揮発性は殆んどない。従って、これらの混
合物より製膜して得られた皮膜は、その後の加工におい
て、従来の可塑剤においてみられた可塑剤の揮発や、移
行による不都合が少ない。
【0051】ポリエステルウレタンをセルロースアセテ
ートフイルムに添加することにより、高温および低温に
おける耐折強度および引裂き強度が大きくなり、そし
て、フイルムが裂けるような不都合がなくなる。従来、
皮膜の耐折強度や引裂き強度を向上するのに、低分子可
塑剤が用いられていた。この方法では、常温、高湿状態
においてはある程度の効果はあるが、低温、高湿状態に
おいては皮膜の柔軟性がなくなり、必ずしも満足すべき
結果は得られなかった。さらに、低分子可塑剤により機
械的性質の改善を試みると、可塑剤の添加量と共に引張
り強度の様な機械的性質が著しく低下するのが一般的で
あった。ジクロロメタン可溶性ポリエステルウレタン樹
脂をセルロースアセテートに添加した場合は、樹脂の添
加量と共に若干の引張り強度の低下は認められるが、低
分子可塑剤添加の場合と比較して、明らかに強度の低下
が少く、無添加の場合とほぼ同等の耐折強度の大きい強
靱なフイルムが得られる。さらに、このポリエステルウ
レタンを混合することにより、低温、高湿における可塑
剤の移行を防止できる。そのため、フイルム相互が接着
せず、かつ非常に柔軟性があり、しわもきしむことのな
い透明で光沢のあるフイルムが得られる。
【0052】[高熱伝導性粒子]セルロースアセテートフ
イルムの熱伝導率は、1W/(m・K)以上であること
が好ましい。熱伝導率の値は、高ければ高いほど好まし
いが、下記の方法で調節する場合には、10W/(m・
K)以下であるのが一般的である。セルロースアセテー
トフィルムの熱伝導率を制御するために、セルロースア
セテートフィルムの作製に用いる(ドープ)に高熱伝導
性粒子を添加することが好ましい。また、熱伝導率を制
御するために、セルロースアセテートフィルムの一方の
面に、高熱伝導性粒子を含む熱伝導層を別に設けても良
い。熱伝導層は高熱伝導性粒子を含むポリマーを、セル
ロースアセテートと共流延することにより設けても良い
し、セルロースアセテートフィルムに塗布することによ
り設けても良い。高熱伝導性粒子の材質の例としては、
窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化マグ
ネシウム、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ケイ
素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、炭素、ダイヤモン
ド、および金属などを挙げることができる。フイルムの
透明性を損なわないために、透明な粒子を用いることが
好ましい。
【0053】高熱伝導性粒子のセルロースアセテートフ
イルムへの配合量は、セルロースアセテート100質量
部に対して5乃至100質量部の範囲にあることが好ま
しい。配合量が5質量部未満であると熱伝導の向上が乏
しく、また配合量が50質量部を超えると、生産性の面
で困難かつセルロースアセテートフイルムが脆いものに
なってしまう。高熱伝導性粒子の平均粒径は0.05乃
至80μmの範囲にあることが好ましく、0.1乃至1
0μmの範囲にあることがさらに好ましい。球状の粒子
を用いても良いし、針状の粒子を用いても良い。
【0054】本発明において、セルロースアセテートフ
イルムの熱伝導率は、以下のようにして測定した。セル
ロースアセテートフイルムをTO−3型ヒーターケース
と銅板との間に挟み、フイルム厚みの10%を圧縮す
る。次いで銅製ヒーターケースに電力5Wをかけて4分
間保持し、銅製ヒーターケースと銅板との温度差を測定
する。熱伝導率は、下式により計算した。 熱伝導率{W/(m・K)}={電力(W)×厚み
(m)}/{温度差(K)×測定面積(m2)}
【0055】[セルロースアセテートフイルムの延伸処
理]仮想歪みを低減させるために、セルロースアセテー
トフイルムに延伸処理をすることが好ましい。フイルム
を延伸することにより、延伸方向の仮想歪みが低減でき
る。従って、面内すべての方向で歪みを低減するため
に、フイルムを二軸延伸することがさらに好ましい。セ
ルロースアセテートフイルムを、3乃至100%の範囲
の延伸倍率で延伸することが好ましい。二軸延伸には、
同時二軸延伸法と逐次二軸延伸法がある。連続製造の観
点から逐次二軸延伸方法が好ましい。二軸延伸方法にお
いては、ドープを流延した後、バンドもしくはドラムよ
りフイルムを剥ぎ取り、幅方向に延伸した後、長手方向
に延伸がされる。この延伸は、長手方向、次いで幅方向
の順序で行っても良い。幅方向に延伸する方法は、例え
ば、特開昭62−115035号、特開平4−1521
25号、同4−284211号、同4−298310
号、および同11−48271号などに記載されてい
る。フイルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施す
る。加熱温度は、フイルムのガラス転移温度以下である
ことが好ましい。フイルムは、乾燥中の処理で延伸する
ことができ、特に溶媒が残存する場合には有効である。
長手方向の延伸の場合、例えば、フイルムの搬送ローラ
ーの速度を調節して、フイルムの剥ぎ取り速度よりもフ
イルムの巻き取り速度の方を速くするとフイルムは延伸
される。幅方向の延伸の場合、フイルムの巾をテンター
で保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げる
ことによってもフイルムを延伸できる。フイルムの乾燥
後に、延伸機を用いて延伸すること(好ましくはロング
延伸機を用いる一軸延伸)もできる。フイルムの延伸倍
率(元の長さに対する延伸による増加分の比率)は、5
乃至50%の範囲にあることが好ましく、10乃至40
%の範囲にあることがさらに好ましく、15乃至35%
の範囲にあることが最も好ましい。
【0056】これら流延から後乾燥までの工程は、空気
雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下
でもよい。本発明に用いるセルロースアセテートフイル
ムの製造に用いる巻き取り機は一般的に使用されている
ものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテ
ンション法、内部応力一定のプログラムテンションコン
トロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができ
る。
【0057】[吸湿膨張係数]吸湿膨張係数は、一定温度
下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化
量を示す。額縁状の透過率上昇を防止するために、セル
ロースアセテートフィルムの吸湿膨張係数は、30×1
-5/%RH以下とすることが好ましく、15×10-5
/%RH以下とすることが更に好ましく、10×10-5
/%RH以下とすることが最も好ましい。また、吸湿膨
張係数は小さい方が好ましいが、通常は、1.0×10
-5/%RH以上の値である。吸湿膨張係数の測定方法に
ついて以下に示す。作製したポリマーフイルム(位相差
板)から幅5mm。長さ20mmの試料を切り出し、片
方の端を固定して25℃、20%RH(R0 )の雰囲気
下にぶら下げた。他方の端に0.5gの重りをぶら下げ
て、10分間放置し長さ(L0 )を測定した。次に、温
度は25℃のまま、湿度を80%RH(R1 )にして、
長さ(L1 )を測定した。吸湿膨張係数は下式により算
出した。測定は同一試料につき10サンプル行い、平均
値を採用した。 吸湿膨張係数[/%RH]={(L1 −L0 )/L0
/(R1 −R0
【0058】上記吸湿による寸度変化は、ポリマーフイ
ルム中の自由体積を小さくすればよいことを見出した。
自由体積を大きく左右するのは、製膜時の残留溶剤量で
あり、少ない方が寸度変化は少ない。残留溶剤を減らす
ための一般的手法は、高温かつ長時間で乾燥することで
あるが、あまり長時間であると、当然のことながら生産
性が落ちる。従ってセルロースアセテートフイルムに対
する残留溶剤の量は、0.01乃至1質量%の範囲にあ
ることが好ましく、0.02乃至0.07質量%の範囲
にあることがさらに好ましく、0.03乃至0.05質
量%の範囲にあることが最も好ましい。上記残留溶剤量
を制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安
価に高い生産性で製造することができる。
【0059】また、上記吸湿による寸度変化を小さくす
る別な方法として、疎水基を有する化合物を添加するこ
とが好ましい。疎水基を有する素材としては、分子中に
アルキル基やフェニル基のような疎水基を有する素材で
あれば特に制限はないが、前記のセルロースアセテート
フイルムに添加する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する
素材が特に好ましく用いられる。これら好ましい素材の
例としては、トリフェニルフォスフェート(TPP)、
トリベンジルアミン(TBA)などを挙げることができ
る。これらの疎水基を有する化合物の添加量は、調整す
る溶液(ドープ)に対して0.01乃至10質量%の範
囲にあることが好ましく、0.1乃至5質量%の範囲に
あることがさらに好ましく、1乃至3質量%の範囲にあ
ることが最も好ましい。
【0060】[セルロースアセテートフイルムの表面処
理]セルロースアセテートフイルムは、表面処理を施す
ことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処
理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理
または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平7−
333433号明細書に記載のように、下塗り層を設け
ることも好ましく利用される。表面処理後のフイルムの
表面エネルギーは、55mN/m以上であることが好ま
しく、60mN/m以上75mN/m以下であることが
更に好ましい。フイルムの平面性を保持する観点から、
これら処理においてセルロースアセテートフイルムの温
度をTg(ガラス転移温度)以下、具体的には150℃
以下とすることが好ましい。偏光板の透明保護膜として
使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理ま
たはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対
する鹸化処理を実施することが特に好ましい。
【0061】以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に
説明する。アルカリ鹸化処理は、フイルム表面をアルカ
リ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥
するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液
としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液
が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は、0.1乃至
3.0Nの範囲にあることが好ましく、0.5乃至2.
0Nの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液
温度は、室温乃至90℃の範囲にあることが好ましく、
40乃至70℃の範囲にあることがさらに好ましい。固
体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」(リアラ
イズ社 1989.12.10発行)に記載のように接
触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることがで
きる。本発明のセルロースアセテートフイルムの場合、
接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エ
ネルギーが既知である2種の溶液をセルロースアセテー
トフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交
点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角
で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフ
イルムの表面エネルギーを算出できる。
【0062】[光学異方性層]本発明において、液晶性化
合物から形成される光学異方性層は、セルロースアセテ
ートフイルム上に設けられた配向膜の上に形成される。
光学異方性層に用いる液晶性化合物には、棒状液晶性化
合物および円盤状液晶性化合物が含まれる。棒状液晶性
化合物および円盤状液晶性化合物は、高分子液晶でも低
分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶
性を示さなくなったものも含まれる。光学異方性層は、
液晶性化合物および必要に応じて重合性開始剤や任意の
成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成
できる。
【0063】塗布液の調整に使用する溶媒としては、有
機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミ
ド(例、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシ
ド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物
(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサ
ン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロ
メタン、テトラクロロエタン)、エステル(例、酢酸メ
チル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエ
チルケトン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、
1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハラ
イドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を
併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法(例、ワ
イヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、
ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビア
コーティング法、ダイコーティング法)により実施でき
る。光学異方性層の厚さは、0.1乃至20μmである
ことが好ましく、0.5乃至15μmであることがさら
に好ましく、1乃至10μmであることが最も好まし
い。本発明に用いる液晶性化合物としては、円盤状液晶
性化合物を用いることが好ましい。
【0064】[棒状液晶性化合物]棒状液晶性化合物と
しては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル
類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、
シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノ
フェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミ
ジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニ
ルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキ
シルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒
状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状
液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、
棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換え
ると、棒状液晶性化合物は、(液晶)ポリマーと結合し
ていてもよい。棒状液晶性化合物については、季刊化学
総説第22巻液晶の化学(1994)日本化学会編の第
4章、第7章および第11章、および液晶デバイスハン
ドブック日本学術振興会第142委員会編の第3章に記
載がある。棒状液晶性化合物の複屈折率は、0.001
乃至0.7の範囲にあることが好ましい。棒状液晶性化
合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有
することが好ましい。重合性基(Q)の例を、以下に示
す。
【0065】
【化2】
【0066】重合性基(Q)は、不飽和重合性基(Q1
〜Q7)、エポキシ基(Q8)またはアジリジニル基
(Q9)であることが好ましく、不飽和重合性基である
ことがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基(Q
1〜Q6)であることが最も好ましい。棒状液晶性化合
物は、短軸方向に対してほぼ対称となる分子構造を有す
ることが好ましい。そのためには、棒状分子構造の両端
に重合性基を有することが好ましい。以下に、棒状液晶
性化合物の例を示す。
【0067】
【化3】
【0068】
【化4】
【0069】
【化5】
【0070】
【化6】
【0071】
【化7】
【0072】
【化8】
【0073】
【化9】
【0074】
【化10】
【0075】
【化11】
【0076】
【化12】
【0077】
【化13】
【0078】
【化14】
【0079】
【化15】
【0080】光学異方性層は、棒状液晶性化合物あるい
は後述の重合性開始剤や任意の添加剤(例、可塑剤、モ
ノマー、界面活性剤、セルロースエステル、1,3,5
−トリアジン化合物、カイラル剤)を含む液晶組成物
(塗布液)を、配向膜の上に塗布することで形成する。
【0081】[円盤状液晶性化合物]円盤状(ディスコ
ティック)液晶性化合物の例としては、C.Destr
adeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、1
11頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導
体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cr
yst.122巻、141頁(1985年)、Phys
ics lett,A,78巻、82頁(1990)に
記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの
研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1
984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.
M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commu
n.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの
研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2
655頁(1994年)に記載されているアザクラウン
系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げる
ことができる。さらに、円盤状液晶性化合物としては、
一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル
基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直
鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、液
晶性を示す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一
定の配向を付与できるものであればこれらに限定される
ものではない。また、本発明において、円盤状液晶性化
合物から形成する光学異方性層は、最終的にできた物が
前記化合物である必要はなく、例えば、低分子の円盤状
液晶性化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結
果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子
量化し液晶性を失ったものも含まれる。円盤状液晶性化
合物の好ましい例は、特開平8−50206号公報に記
載されている。また、円盤状液晶性化合物の重合につい
ては、特開平8−27284公報に記載がある。
【0082】円盤状液晶性化合物を重合により固定する
ためには、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基
として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤
状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配
向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと
重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性
基を有する円盤状液晶性化合物は、下記式(III)で表わ
される化合物であることが好ましい。
【0083】(III) D(−L−P)n 式中、Dは円盤状コアであり;Lは二価の連結基であ
り、Pは重合性基であり、そして、nは4乃至12の整
数である。円盤状コア(D)の例を以下に示す。以下の
各例において、LP(またはPL)は、二価の連結基
(L)と重合性基(P)との組み合わせを意味する。
【0084】
【化16】
【0085】
【化17】
【0086】
【化18】
【0087】
【化19】
【0088】
【化20】
【0089】
【化21】
【0090】
【化22】
【0091】
【化23】
【0092】
【化24】
【0093】式(III)において、二価の連結基(L)
は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
CO−、−NH−、−O−、−S−およびそれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であること
が好ましい。二価の連結基(L)は、アルキレン基、ア
リーレン基、−CO−、−NH−、−O−および−S−
からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み
合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二
価の連結基(L)は、アルキレン基、アリーレン基、−
CO−および−O−からなる群より選ばれる二価の基を
少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが
最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、1乃至1
2であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数
は、2乃至12であることが好まし。アリーレン基の炭
素原子数は、6乃至10であることが好ましい。
【0094】二価の連結基(L)の例を以下に示す。左
側が円盤状コア(D)に結合し、右側が重合性基(P)
に結合する。ALはアルキレン基またはアルケニレン
基、ARはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン
基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基
(例、アルキル基)を有していてもよい。 L1:−AL−CO−O−AL− L2:−AL−CO−O−AL−O− L3:−AL−CO−O−AL−O−AL− L4:−AL−CO−O−AL−O−CO− L5:−CO−AR−O−AL− L6:−CO−AR−O−AL−O− L7:−CO−AR−O−AL−O−CO− L8:−CO−NH−AL− L9:−NH−AL−O− L10:−NH−AL−O−CO−
【0095】L11:−O−AL− L12:−O−AL−O− L13:−O−AL−O−CO− L14:−O−AL−O−CO−NH−AL− L15:−O−AL−S−AL− L16:−O−CO−AR−O−AL−CO− L17:−O−CO−AR−O−AL−O−CO− L18:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−C
O− L19:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−A
L−O−CO− L20:−S−AL− L21:−S−AL−O− L22:−S−AL−O−CO− L23:−S−AL−S−AL− L24:−S−AR−AL−
【0096】式(III)の重合性基(P)は、重合反応の
種類に応じて決定する。重合性基(P)の例を以下に示
す。
【0097】
【化25】
【0098】
【化26】
【0099】
【化27】
【0100】
【化28】
【0101】
【化29】
【0102】
【化30】
【0103】重合性基(P)は、不飽和重合性基(P
1、P2、P3、P7、P8、P15、P16、P1
7)またはエポキシ基(P6、P18)であることが好
ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、
エチレン性不飽和重合性基(P1、P7、P8、P1
5、P16、P17)であることが最も好ましい。式
(III)において、nは4乃至12の整数である。具体的
な数字は、円盤状コア(D)の種類に応じて決定され
る。なお、複数のLとPの組み合わせは、異なっていて
もよいが、同一であることが好ましい。
【0104】円盤状液晶性化合物を用いる場合、光学異
方性層は負の複屈折を有する層であって、そして円盤状
構造単位の面が、セルロースアセテートフイルム表面に
対して傾き、且つ円盤状構造単位の面とセルロースアセ
テートフイルム表面とのなす角度が、光学異方性層の深
さ方向に変化していることが好ましい。
【0105】円盤状構造単位の面の角度(傾斜角)は、
一般に、光学異方性層の深さ方向でかつ光学異方性層の
底面からの距離の増加と共に増加または減少している。
傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。
さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減
少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少
を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化などを
挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で
傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、傾斜
角が変化しない領域を含んでいても、全体として増加ま
たは減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全
体として増加していることが好ましく、特に連続的に変
化することが好ましい。
【0106】支持体側の円盤状単位の傾斜角は、一般に
円盤状液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択するこ
とにより、またはラビング処理方法の選択することによ
り、調整することができる。また、表面側(空気側)の
円盤状単位の傾斜角は、一般に円盤状液晶性化合物ある
いは円盤状液晶性化合物とともに使用する他の化合物を
選択することにより調整することができる。円盤状液晶
性化合物とともに使用する化合物の例としては、可塑
剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙
げることができる。更に、傾斜角の変化の程度も、上記
と同様の選択により調整できる。
【0107】円盤状液晶性化合物とともに使用する可塑
剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、円盤状液
晶性化合物と相溶性を有し、円盤状液晶性化合物の傾斜
角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限
り、どのような化合物も使用することができる。これら
の中で、重合性モノマー(例、ビニル基、ビニルオキシ
基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合
物)が好ましい。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性
化合物に対して一般に1〜50質量%の範囲にあり、5
〜30質量%の範囲にあることが好ましい。
【0108】円盤状液晶性化合物とともに使用するポリ
マーとしては、円盤状液晶性化合物と相溶性を有し、円
盤状液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、ど
のようなポリマーでも使用することができる。ポリマー
の例としては、セルロースエステルを挙げることができ
る。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセ
テートブチレートを挙げることができる。円盤状液晶性
化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加
量は、円盤状液晶性化合物に対して一般に0.1〜10
質量%の範囲にあり、0.1〜8質量%の範囲にあるこ
とがより好ましく、0.1〜5質量%の範囲にあること
がさらに好ましい。
【0109】光学異方性層は、一般に円盤状液晶性化合
物および他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に
塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相
形成温度まで加熱し、その後配向状態(ディスコティッ
クネマチック相)を維持して冷却することにより得られ
る。あるいは、上記光学異方性層は、円盤状液晶性化合
物及び他の化合物(更に、例えば重合性モノマー、光重
合開始剤)を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、
乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度
まで加熱したのち重合させ(UV光の照射等により)、
さらに冷却することにより得られる。本発明に用いる円
盤状液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶
相−固相転移温度としては、70〜300℃が好まし
く、特に70〜170℃が好ましい。
【0110】[液晶性化合物の配向状態の固定]配向さ
せた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定すること
ができる。固定化は、重合反応により実施することが好
ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反
応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光
重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カル
ボニル化合物(米国特許2367661号、同2367
670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国
特許2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換
芳香族アシロイン化合物(米国特許2722512号明
細書記載)、多核キノン化合物(米国特許304612
7号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリ
ールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトン
との組み合わせ(米国特許3549367号明細書記
載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60
−105667号公報、米国特許4239850号明細
書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許42
12970号明細書記載)が含まれる。光重合開始剤の
使用量は、塗布液の固形分の0.01乃至20質量%の
範囲にあることが好ましく、0.5乃至5質量%の範囲
にあることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のた
めの光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エ
ネルギーは、20mJ/cm2 乃至50J/cm2 の範
囲にあることが好ましく、20乃至5000mJ/cm
2 の範囲にあることがより好ましく、100乃至800
mJ/cm2 の範囲にあることがさらに好ましい。ま
た、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を
実施してもよい。保護層を、光学異方性層の上に設けて
もよい。
【0111】[配向膜]配向膜は、液晶性化合物の配向方
向を規定する機能を有する。配向膜は、有機化合物(好
ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方
蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラ
ングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合
物(例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアン
モニウムクロライド、ステアリル酸メチル)の累積のよ
うな手段で、設けることができる。さらに、電場の付
与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じ
る配向膜も知られている。配向膜は、ポリマーのラビン
グ処理により形成することが好ましい。
【0112】配向膜は、ポリマーのラビング処理により
形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好
ましいポリマーである。疎水性基が結合している変性ポ
リビニルアルコールが特に好ましい。配向膜は、一種類
のポリマーから形成することもできるが、架橋された二
種類のポリマーからなる層をラビング処理することによ
り形成することがさらに好ましい。少なくとも一種類の
ポリマーとして、それ自体架橋可能なポリマーか、架橋
剤により架橋されるポリマーのいずれかを用いることが
好ましい。配向膜は、官能基を有するポリマーあるいは
ポリマーに官能基を導入したものを、光、熱、PH変化
等により、ポリマー間で反応させて形成するか;あるい
は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマ
ー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間
を架橋することにより形成することができる。
【0113】このような架橋は、上記ポリマーまたはポ
リマーと架橋剤の混合物を含む配向膜塗布液を、セルロ
ースアセテートフイルム上に塗布したのち、加熱等を行
なうことにより実施される。最終商品(光学補償シー
ト)で耐久性が確保できれば良いので、配向膜をセルロ
ースアセテートフイルム上に塗設した後から、光学補償
シートを得るまでのいずれの段階で架橋させる処理を行
なっても良い。配向膜上に形成される液晶性化合物から
なる層(光学異方性層)の配向性を考えると、液晶性化
合物を配向させたのちに、充分架橋を行なうことも好ま
しい。配向膜の架橋は、セルロースアセテートフイルム
上に配向膜塗布液を塗布し、加熱乾燥することで行われ
ることが一般的である。この塗布液の加熱温度を低く設
定して、光学異方性層を形成する際の加熱処理の段階で
配向膜の充分な架橋を行うことが好ましい。
【0114】配向膜に用いるポリマーとしては、それ自
体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋される
ポリマーのいずれも使用することができる。勿論両方可
能なポリマーもある。ポリマーの例としては、ポリメチ
ルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合
体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルア
ルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ(N−メ
チロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン
共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセル
ロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合
体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチル
セルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびポ
リカーボネート等のポリマー、およびシランカップリン
グ剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマ
ーの例としては、ポリ(N−メチロールアクリルアミ
ド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビ
ルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール等の水溶
性ポリマーが挙げられる。ゼラチン、ポリビルアルコー
ルおよび変性ポリビニルアルコールを用いることが好ま
しく、ポリビルアルコールおよび変性ポリビニルアルコ
ールを用いることがさらに好ましい。また、重合度の異
なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコ
ールを二種類併用することが最も好ましい。
【0115】ポリビニルアルコールの例としては、鹸化
度が70乃至100%の範囲にあるポリビニルアルコー
ルが挙げられる。一般に鹸化度は80乃至100%の範
囲にあり、85乃至95%の範囲にあることがさらに好
ましい。また、ポリビニルアルコールの重合度は、10
0乃至3000の範囲にあることが好ましい。変性ポリ
ビニルアルコールの例としては、共重合変性、連鎖移動
による変性、またはブロック重合による変性をしたポリ
ビニルアルコールなどを挙げることができる。共重合変
性する場合の変性基の例としては、COONa、Si
(OX) 3 、N(CH3 3 ・Cl、C9 、H19CO
O、SO3 、Na、C1225などが挙げられる。連鎖移
動による変性をする場合の変性基の例としては、COO
Na、SH、C1225などが挙げられる。また、ブロッ
ク重合による変性をする場合の変性基の例としては、C
OOH、CONH2 、COOR、C6 5 などが挙げら
れる。これらの中でも、鹸化度が80乃至100%の範
囲にある未変性もしくは変性ポリビニルアルコールが好
ましい。また、鹸化度が85乃至95%の範囲にある未
変性ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコ
ールがさらに好ましい。
【0116】変性ポリビニルアルコールとしては、特
に、下記一般式で表わされる化合物によるポリビニルア
ルコールの変性物を用いることが好ましい。この変性ポ
リビニルアルコールを、以下、特定の変性ポリビニルア
ルコールと記載する。
【0117】
【化31】 式中、R1 は、アルキル基、アクリロイルアルキル基、
メタクリロイルアルキル基、またはエポキシアルキル基
を表わし;Wは、ハロゲン原子、アルキル基、またはア
ルコキシ基を表わし;Xは、活性エステル、酸無水物、
または酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を
表わし;pは、0または1を表わし;そしてnは、0乃
至4の整数を表わす。上記の特定の変性ポリビニルアル
コールは、さらに下記一般式で表わされる化合物による
ポリビニルアルコールの変性物であることが好ましい。
【0118】
【化32】 式中、X1 は、活性エステル、酸無水物、または酸ハロ
ゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、そし
てmは2乃至24の整数を表わす。
【0119】これらの一般式により表される化合物と反
応させるために用いるポリビニルアルコールとしては、
前述の、未変性のポリビニルアルコール、および、共重
合変性したもの、即ち連鎖移動により変性したもの、ブ
ロック重合による変性をしたものなどのポリビニルアル
コールの変性物を挙げることができる。特定の変性ポリ
ビニルアルコールの好ましい例は、特開平9−1525
09号明細書に詳しく記載されている。これらポリマー
の合成方法、可視吸収スペクトル測定、および変性基導
入率の決定方法等は、特開平8−338913号公報に
詳しく記載がある。
【0120】架橋剤の例としては、アルデヒド類、N−
メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基
を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化
合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール類、およ
びジアルデヒド澱粉などを挙げることができる。アルデ
ヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、グリオキザー
ル、およびグルタルアルデヒドが挙げられる。N−メチ
ロール化合物の例としては、ジメチロール尿素およびメ
チロールジメチルヒダントインが挙げられる。ジオキサ
ン誘導体の例としては、2,3−ジヒドロキシジオキサ
ンが挙げられる。カルボキシル基を活性化することによ
り作用する化合物の例としては、カルベニウム、2−ナ
フタレンスルホナート、1,1−ビスピロリジノ−1−
クロロピリジニウム、および1−モルホリノカルボニル
−3−(スルホナトアミノメチル)が挙げられる。活性
ビニル化合物の例としては、1,3,5−トリアクロイ
ル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスル
ホン)メタン、およびN,N’−メチレンビス−[βー
(ビニルスルホニル)プロピオンアミド]が挙げられ
る。そして、活性ハロゲン化合物の例としては、2,4
−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンが挙げら
れる。これらは、単独または組合せて用いることができ
る。これらは上記水溶性ポリマー、特にポリビニルアル
コール及び変性ポリビニルアルコール(上記特定の変性
物も含む)と併用する場合に好ましい。生産性を考慮し
た場合、反応活性の高いアルデヒド類、とりわけグルタ
ルアルデヒドの使用が好ましい。
【0121】ポリマーに対する架橋剤の添加量に特に限
定はない。耐湿性は、架橋剤を多く添加した方が良化傾
向にある。しかし、架橋剤をポリマーに対して50質量
%以上添加した場合には、配向膜としての配向能が低下
する。従って、ポリマーに対する架橋剤の添加量は、
0.1乃至20質量%の範囲にあることが好ましく、
0.5乃至15質量%の範囲にあることがさらに好まし
い。配向膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなか
った架橋剤をある程度含んでいるが、その架橋剤の量
は、配向膜中に1.0質量%以下であることが好まし
く、0.5質量%以下であることがさらに好ましい。配
向膜中に1.0質量%を超える量で未反応の架橋剤が含
まれていると、充分な耐久性が得られない。即ち、液晶
表示装置に使用した場合、長期使用、あるいは高温高湿
の雰囲気下に長期間放置した場合に、レチキュレーショ
ンが発生することがある。
【0122】配向膜は、上記ポリマーを含む溶液、ある
いは上記ポリマーと架橋剤を含む溶液を、セルロースア
セテートフイルム上に塗布した後、加熱乾燥し(架橋さ
せ)、ラビング処理することにより形成することができ
る。架橋反応は、塗布液をセルロースアセテートフイル
ム上に塗布した後、任意の時期に行なっても良い。そし
て、ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーを配向膜
形成材料として用いる場合、その塗布液を作製するため
の溶媒は、消泡作用のあるメタノール等の有機溶媒とす
るか、あるいは有機溶媒と水の混合溶媒とすることが好
ましい。有機溶媒としてメタノールを用いる場合、その
比率は質量比で水:メタノールが、0:100〜99:
1が一般的であり、0:100〜91:9であることが
さらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配
向膜、更には光学異方性層の表面の欠陥が著しく減少す
る。塗布方法としては、スピンコーティング法、ディッ
プコーティング法、カーテンコーティング法、エクスト
ルージョンコーティング法、バーコーティング法及びE
型塗布法を挙げることができる。この中でも、特にE型
塗布法が好ましい。
【0123】配向膜の膜厚は、0.1乃至10μmの範
囲にあることが好ましい。加熱乾燥は、加熱温度が20
乃至110℃の範囲で行なうことができる。充分な架橋
を形成させるためには、加熱温度は60乃至100℃の
範囲にあることが好ましく、80乃至100℃の範囲に
あることが好ましい。乾燥時間は1分〜36時間で行な
うことができる。好ましくは5乃至30分間である。p
Hも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ま
しく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、pH4.
5乃至5.5の範囲にあることが好ましく、特にpH5
であることが好ましい。
【0124】配向膜は、セルロースアセテートフイルム
上または下塗り層上に設けられる。配向膜は、前記のよ
うにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理す
ることにより得ることができる。ラビング処理は、LC
Dの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方
法を利用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙
やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエス
テル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を
得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び
太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数
回程度ラビングを行うことにより実施される。配向膜
は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定
するように機能する。
【0125】[偏光板]偏光板は、偏光膜およびその両
側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護
膜として、上記のセルロースアセテートフイルムあるい
は光学異方性層が設けられたセルロースアセテートフイ
ルムを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセ
ルロースアセテートフイルムを用いてもよい。偏光膜に
は、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜
やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料
系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを
用いて製造する。セルロースアセテートフイルムの遅相
軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配
置する。
【0126】また、偏光板の生産性には保護フイルムの
透湿性が重要であることがわかった。偏光膜と保護フイ
ルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤
溶剤は保護フイルム中を拡散することで、乾燥される。
保護フイルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早く
なり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表
示装置の使用環境(高湿下)により、水分が偏光膜中に
入ることで偏光能が低下する。光学補償シートの透湿性
は、ポリマーフイルム(および重合性液晶化合物)の厚
み、自由体積、もしくは、親疎水性などにより決定され
る。光学補償シートを偏光板の保護フイルムとして用い
る場合、光学補償シートの透湿性は100乃至1000
(g/m2 )/24hrsの範囲にあることが好まし
く、300乃至700(g/m2 )/24hrsの範囲
にあることが更に好ましい。
【0127】光学補償シートの厚みは、セルロースアセ
テートフイルムを製膜する場合の、リップ流量とライン
スピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することが
できる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚
み調整により好ましい範囲にすることが可能である。光
学補償シートの自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時
間により調整することができる。この場合もまた、使用
する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整に
より好ましい範囲にすることが可能である。光学補償フ
イルムの親疎水性は、添加剤により調整することができ
る。自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性
は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性
を低くすることができる。光学補償シートの透湿性を調
整することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に
高い生産性で製造することが可能となる。
【0128】[液晶表示装置]上記の光学補償シート、
または上記の光学補償シートを用いた偏光板は、液晶表
示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。
透過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置
された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極
基板の間に液晶を担持している。本発明の光学補償シー
トを液晶表示装置に用いる場合は、液晶セルと一方の偏
光板との間に、光学補償シートを一枚配置するか、ある
いは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。本
発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合は、二枚の偏
光板の一方の代わりとして本発明の偏光板を用いればよ
い。双方の偏光板の代わりに本発明の偏光板を用いても
良い。本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合、偏
光板を、その保護膜として用いられている光学補償シー
トが液晶セル側となるように配置する。
【0129】液晶セルは、TNモード、VAモード、ま
たはOCBモードであることが好ましい。VAモードに
は、MVAモードが含まれる。
【0130】TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時
に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに60乃
至120゜にねじれ配向している。TNモードの液晶セ
ルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用さ
れており、多数の文献に記載がある。
【0131】VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時
に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。VA
モードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無
印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的
に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開
平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野
角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(M
VAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tec
h. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、
(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配
向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させる
モード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論
会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)
SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインター
ナショナル98で発表)が含まれる。
【0132】OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分
子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対
称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルであ
る。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置
は、米国特許4583825号、同5410422号の
各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セル
の上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配
向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そ
のため、この液晶モードは、OCB(Optically Compens
atory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モー
ドの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【0133】
【実施例】[実施例1]下記の組成物をミキシングタン
クに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、
セルロースアセテート溶液を調製した。
【0134】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度60.9%のセルロースアセテート 100質量部 トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部 ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部 メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部 メタノール(第2溶媒) 54質量部 1−ブタノール(第3溶媒) 11質量部 ────────────────────────────────────
【0135】別のミキシングタンクに、下記のレターデ
ーション上昇剤16質量部、メチレンクロライド80質
量部およびメタノール20質量部を投入し、加熱しなが
ら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液474質量部にレターデーシ
ョン上昇剤溶液25質量部を混合し、充分に攪拌してド
ープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、
セルロースアセテート100質量部に対して、5.5質
量部であった。
【0136】
【化33】
【0137】得られたドープを、バンド流延機を用いて
流延した。残留溶剤量が15質量%のフイルムを、13
0℃の条件で、テンターを用いて25%の延伸倍率で横
延伸して、セルロースアセテートフイルムを製造した。
作製したセルロースアセテートフイルム(光学補償シー
ト:KH−01)について、エリプソメーター(M−1
50、日本分光(株)製)を用いて、波長550nmに
おけるReレターデーション値およびRthレターデーシ
ョン値を測定した。結果は第1表に示す。さらに、作製
したセルロースアセテートフイルムを、デジタル膜厚計
(K−402B、アンリツ(株)製)を用いて、面積1
平方メートル(1m×1m)中を100点測定した。膜
厚の平均値は52.0μmであり、標準偏差は1.5μ
mであった。
【0138】[実施例2]セルロースアセテート溶液4
74質量部にレターデーション上昇剤溶液56質量部を
混合してドープを調製し(セルロースアセテート100
質量部に対して、レターデーション上昇剤7.8質量部
を使用し)、延伸倍率を12%に変更した以外は、実施
例1と同様にセルロースアセテートフイルム(光学補償
シート:KH−02)を作製して評価した。結果は第1
表に示す。さらに、作製したセルロースアセテートフイ
ルムを、1.5Nの水酸化カリウム溶液(40℃)に5
分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥し
た。このセルロースアセテートフイルムの表面エネルギ
ーを接触角法により求めたところ、68mN/mであっ
た。さらに、作製したセルロースアセテートフイルム
を、デジタル膜厚計(K−402B、アンリツ(株)
製)を用いて、面積1平方メートル(1m×1m)中を
100点測定した。平均値は40.0μmであり、標準
偏差は1.8μmであった。このセルロースアセテート
フイルム上に、下記の組成の塗布液を#16のワイヤー
バーコーターで28ml/m2 塗布した。60℃の温風
で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥した。次
に、セルロースアセテートフイルムの遅相軸(波長63
2.8nmで測定)と45゜の方向に、形成した膜にラ
ビング処理を実施した。
【0139】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記の変性ポリビニルアルコール 10質量部 水 371質量部 メタノール 119質量部 グルタルアルデヒド(架橋剤) 0.5質量部 ────────────────────────────────────
【0140】
【化34】
【0141】(光学異方性層の形成)配向膜上に、下記
の円盤状(液晶性)化合物41.01g、エチレンオキ
サイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学(株)製)4.06g、セ
ルロースアセテートブチレート(CAB551−0.
2、イーストマンケミカル社製)0.90g、セルロー
スアセテートブチレート(CAB531−1、イースト
マンケミカル社製)0.23g、光重合開始剤(イルガ
キュアー907、チバガイギー社製)1.35g、増感
剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.4
5gを、102gのメチルエチルケトンに溶解した塗布
液を、#3のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠
に貼り付けて、130℃の恒温槽中で2分間加熱し、円
盤状化合物を配向させた。次に、130℃で120W/
cm高圧水銀灯を用いて、1分間UV照射し円盤状化合
物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このよう
にして、光学異方性層付き光学補償シート(KH−1
2)を作製した。波長546nmで測定した光学異方性
層のReレターデーション値は38nmであった。ま
た、円盤面とセルロースアセテートフイルム表面との間
の角度(傾斜角)は平均で40゜であった。
【0142】
【化35】
【0143】[実施例3]セルロースアセテート100
質量部に対して、レターデーション上昇剤6.0質量部
を使用し、延伸倍率を30%に変更した以外は、実施例
1と同様にセルロースアセテートフイルム(光学補償シ
ート:KH−03)を作製して評価した。結果は第1表
に示す。さらに、作製したセルロースアセテートフイル
ムを、2.0Nの水酸化カリウム溶液(25℃)に2分
間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。
このセルロースアセテートフイルムの表面エネルギーを
接触角法により求めたところ、63mN/mであった。
そして、作製したセルロースアセテートフイルムを、デ
ジタル膜厚計(K−402B、アンリツ(株)製)を用
いて、面積1平方メートル(1m×1m)中を100点
測定した。膜厚の平均値は38.5μmであり、標準偏
差は1.4μmであった。
【0144】[比較例1]セルロースアセテート溶液
を、そのままドープとして使用し、延伸処理を実施しな
かった以外は、実施例1と同様にセルロースアセテート
フイルム(光学補償シート:KH−H1)を作製して評
価した。結果は第1表に示す。さらに、作製したセルロ
ースアセテートフイルムを、デジタル膜厚計(K−40
2B、アンリツ(株)製)を用いて、面積1平方メート
ル(1m×1m)中を100点測定した。膜厚の平均値
は80.5μmであり、標準偏差は1.7μmであっ
た。
【0145】
【表1】 第1表 ──────────────────────────────────── レターデーション フイルム 上昇剤 延伸倍率 Re Rth ──────────────────────────────────── 実施例1 KH−01 5.5質量部 25% 40nm 130nm 実施例2 KH−02 7.8質量部 12% 20nm 110nm 実施例3 KH−03 6.0質量部 30% 50nm 130nm 比較例1 KH−H1 なし 延伸せず 4nm 48nm ────────────────────────────────────
【0146】[実施例4]延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリ
ビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例1で作成し
たKH−01(光学補償シート)を偏光膜の片側に貼り
付けた。市販のセルローストリアセテートフイルム(フ
ジタックTD80UF、富士写真フイルム(株)製)に
ケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用
いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と
実施例1で作製したKH−01(光学補償シート)の遅
相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と
市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸と
は、直交するように配置した。このようにして偏光板を
作製した。
【0147】[実施例5]延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例2で作成
したKH−02(光学補償シート)をその遅相軸が偏光
膜の透過軸と平行になるように偏光膜の片側に貼り付け
た。市販のセルローストリアセテートフイルム(フジタ
ックTD80UF、富士写真フイルム(株)製)にケン
化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用い
て、偏光膜の反対側に貼り付けた。更に、実施例2で作
製したKH−12(光学補償シート)を、KH−02
(光学補償シート)側に、それらの遅相軸が互いに平行
となるように粘着剤を介して貼り合わせた。このように
して偏光板を作製した。
【0148】[実施例6]実施例3で作製したKH−0
3(光学補償シート)を用いた以外は、実施例4と同様
にして偏光板を作製した。
【0149】[実施例7]垂直配向型液晶セルを使用し
た液晶表示装置(VL−1530S、富士通(株)製)
に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シ
ートを剥がし、代わりに実施例4で作製した偏光板を、
実施例1で作製したKH−01(光学補償シート)が液
晶セル側となるように粘着剤を介して一枚、観察者側に
貼り付けた。また、バックライト側には、市販の偏光板
(HLC2−5618HCS、(株)サンリッツ製)を
一枚貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向
に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方
向になるように、クロスニコル配置とした。作製した液
晶表示装置について、測定機(EZ−Contrast160
D、ELDIM社製)を用いて、黒表示(L1)から白
表示(L8)までの8段階で視野角を測定した。結果を
第2表に示す。
【0150】[比較例2]垂直配向型液晶セルを使用し
た液晶表示装置(VL−1530S、富士通(株)製)
について、測定機(EZ−Contrast160D、ELDI
M社製)を用いて、黒表示(L1)から白表示(L8)
までの8段階で視野角を測定した。結果を第2表に示
す。
【0151】
【表2】 第2表 ──────────────────────────────────── 液晶 視野角(コントラスト比が10以上で黒側の階調反転のない範囲) 表示装置 透過軸方向 透過軸から45゜の方向 ──────────────────────────────────── 実施例7 >80゜ >80゜ 比較例2 >80゜ 44゜ ──────────────────────────────────── (註)黒側の階調反転:L1とL2との間の反転
【0152】(額縁状の透過率アップの評価)垂直配向
型液晶セルを使用した15インチの液晶表示装置(VL
−1530SW、富士通(株)製)に設けられている一
対の偏光板を剥がし、代わりに実施例4で作製した偏光
板を、光学補償シートが液晶セル側となるように粘着剤
を介して、観察者側およびバックライト側に貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とが直交するように配置した。温度25
℃、相対湿度60%の環境条件において、作製した液晶
表示装置のバックライトを5時間連続点灯した後、全面
黒表示状態を暗室にて目視で観察して光漏れを評価し
た。その結果、実施例4で作製した偏光板を用いた15
インチの液晶表示装置において額縁状の透過率アップ
(光漏れ)は生じなかった。
【0153】[実施例8] (ベンド配向液晶セルの作製)ITO電極付きのガラス
基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラ
ビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビ
ング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャッ
プを6μmに設定した。セルギャップにΔnが0.13
96の液晶性化合物(ZLI1132、メルク社製)を
注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。作製したベン
ド配向セルを挟むように、実施例5で作製した楕円偏光
板を二枚貼り付けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル
基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面す
る光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように
配置した。液晶セルに55Hzの矩形波電圧を印加し
た。白表示2V、黒表示5Vのノーマリーホワイトモー
ドとした。透過率の比(白表示/黒表示)をコントラス
ト比として、測定機(EZ−Contrast160D、ELD
IM社製)を用いて、黒表示(L1)から白表示(L
8)までの8段階で視野角を測定した。結果を第3表に
示す。
【0154】
【表3】 第3表 ──────────────────────────────────── 液晶 視野角(コントラスト比が10以上で黒側の階調反転のない範囲) 表示装置 上 下 左右 ──────────────────────────────────── 実施例8 80゜ 80゜ 80゜ ──────────────────────────────────── (註)黒側の階調反転:L1とL2との間の反転
【0155】(額縁状の透過率アップの評価)上記のベ
ンド配向液晶セルと同様にして、実施例5で作製した楕
円偏光板を二枚用いて、パネルサイズが17インチのベ
ンド配向液晶セルを作製した。温度25℃、相対湿度6
0%の環境条件において、作製した液晶パネルにバック
ライトを配置して5時間連続点灯した後、全面黒表示状
態を暗室にて目視で観察して光漏れを評価した。その結
果、作製した17インチの液晶パネルにおいて額縁状の
透過率アップ(光漏れ)は生じなかった。
【0156】[実施例9]TN型液晶セルを使用した液
晶表示装置(6E−A3、シャープ(株)製)に設けら
れている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例6で作
製した偏光板を、実施例3で作製したKH−03(光学
補償シート)が液晶セル側となるように粘着剤を介し
て、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とは、Oモード(直交)となるように配置
した。作製した液晶表示装置について、測定機(EZ−
Contrast160D、ELDIM社製)を用いて、黒表示
(L1)から白表示(L8)までの8段階で視野角を測
定した。結果を第4表に示す。
【0157】[比較例3]TN型液晶セルを使用した液
晶表示装置(6E−A3、シャープ(株)製)につい
て、測定機(EZ−Contrast160D、ELDIM社
製)を用いて、黒表示(L1)から白表示(L8)まで
の8段階で視野角を測定した。結果を第4表に示す。
【0158】
【表4】 第4表 ──────────────────────────────────── 液晶 視野角(コントラスト比が10以上で黒側の階調反転のない範囲) 表示装置 上 下 左右 ──────────────────────────────────── 実施例9 18゜ 23゜ 77゜ 比較例3 15゜ 25゜ 37゜ ──────────────────────────────────── (註)黒側の階調反転:L1とL2との間の反転
【0159】(額縁状の透過率アップの評価)TN型液
晶セルを使用した20インチの液晶表示装置(LC−2
0V1、シャープ(株)製)に設けられている一対の偏
光板を剥がし、代わりに実施例6で作製した偏光板を、
光学補償シートが液晶セル側となるように粘着剤を介し
て、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とが直交するように配置した。温度25
℃、相対湿度60%の環境条件において、作製した液晶
表示装置のバックライトを5時間連続点灯した後、全面
黒表示状態を暗室にて目視で観察して光漏れを評価し
た。その結果、実施例6で作製した偏光板を用いた20
インチの液晶表示装置において額縁状の透過率アップ
(光漏れ)は生じなかった。
【0160】[実施例10]下記の組成物をミキシング
タンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解
し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【0161】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度60.9%のセルロースアセテート 100質量部 トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部 ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部 メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部 メタノール(第2溶媒) 54質量部 1−ブタノール(第3溶媒) 11質量部 ────────────────────────────────────
【0162】別のミキシングタンクに、実施例1で用い
たレターデーション上昇剤16質量部、メチレンクロラ
イド80質量部およびメタノール20質量部を投入し、
加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を
調製した。セルロースアセテート溶液468質量部にレ
ターデーション上昇剤溶液32質量部を混合し、充分に
攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の
添加量は、セルロースアセテート100質量部に対し
て、4.5質量部であった。
【0163】得られたドープを、バンド流延機を用いて
流延した。バンド上での膜面温度が40℃となってか
ら、1分乾燥し、剥ぎ取った後、130℃の乾燥風下
で、35%のテンター横一軸延伸を行った。その後、1
40℃の乾燥風下で搬送方向に10%縦一軸延伸を行
い、130℃の乾燥風で約15分間乾燥し、残留溶剤量
が0.3重量%のセルロースアセテートフイルム(厚
さ:50μm)を製造した。作製したセルロースアセテ
ートフイルム(KH−04)について、エリプソメータ
ー(M−150、日本分光(株)製)を用いて、波長5
50nmにおけるReレターデーション値およびRthレ
ターデーション値を測定した。結果は第5表に示す。
【0164】[実施例11]実施例10で得られたドー
プを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜
面温度が40℃となってから、1分乾燥し、剥ぎ取った
後、130℃の乾燥風下で、20%のテンター横一軸延
伸を行った。その後、140℃の乾燥風下で搬送方向に
8%縦一軸延伸を行い、130℃の乾燥風で約15分間
乾燥し、残留溶剤量が0.3重量%のセルロースアセテ
ートフイルム(厚さ:58μm)を製造した。作製した
セルロースアセテートフイルム(KH−05)につい
て、エリプソメーター(M−150、日本分光(株)
製)を用いて、波長550nmにおけるReレターデー
ション値およびRthレターデーション値を測定した。結
果は第5表に示す。
【0165】作製したセルロースアセテートフイルムを
2.0Nの水酸化カリウム溶液(25℃)に2分間浸漬
した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このよ
うにしてセルロースアセテートフイルムに鹸化処理を行
った。このセルロースアセテートフイルムの表面エネル
ギーを接触角法により求めたところ、63mN/mであ
った。このセルロースアセテートフイルム上に、実施例
2で用いた配向膜塗布液を#16のワイヤーバーコータ
ーで28ml/m2 塗布した。60℃の温風で60秒、
さらに90℃の温風で150秒乾燥した。次に、形成し
た膜に、セルロースアセテートフイルムの長手方向と4
5°の方向にラビング処理を実施した。
【0166】(光学異方性層の形成)配向膜上に、実施
例2で用いた円盤状(液晶性)化合物41.01g、エ
チレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアク
リレート(V#360、大阪有機化学(株)製)4.0
6g、セルロースアセテートブチレート(CAB551
−0.2、イーストマンケミカル社製)0.90g、セ
ルロースアセテートブチレート(CAB531−1、イ
ーストマンケミカル社製)0.23g、光重合開始剤
(イルガキュアー907、チバガイギー社製)1.35
g、増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)
製)0.45gを、102gのメチルエチルケトンに溶
解した塗布液を、#3.6のワイヤーバーで塗布した。
これを130℃の恒温ゾーンで2分間加熱し、円盤状化
合物を配向させた。次に、60℃の雰囲気下で120W
/cm高圧水銀灯を用いて、1分間UV照射し円盤状化
合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このよ
うにして、光学異方性層を形成し、光学補償シート(K
H−15)を作製した。波長546nmで測定した光学
異方性層のReレターデーション値は43nmであっ
た。また、セルロースアセテートフイルム表面との間の
角度(傾斜角)は平均で42゜であった。
【0167】[実施例12]下記の組成物をミキシング
タンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解
し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【0168】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度60.7%のセルロースアセテート 100質量部 ポリエステルウレタン (B-326、住友バイエルウレタン(株)、デスモコール176) 16重量部 メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部 メタノール(第2溶媒) 54質量部 1−ブタノール(第3溶媒) 11質量部 ────────────────────────────────────
【0169】別のミキシングタンクに、実施例1で用い
たレターデーション上昇剤16質量部、メチレンクロラ
イド80質量部およびメタノール20質量部を投入し、
加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を
調製した。セルロースアセテート溶液474質量部にレ
ターデーション上昇剤溶液26質量部を混合し、充分に
攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の
添加量は、セルロースアセテート100質量部に対し
て、3.5質量部であった。
【0170】得られたドープを、バンド流延機を用いて
流延した。バンド上での膜面温度が40℃となってか
ら、1分乾燥し、剥ぎ取った後、残留錠剤が15%の状
態でテンターで40%幅方向に延伸し、130℃の乾燥
風で、残留溶剤量が5重量%の状態で長手方向に28%
延伸し、さらに140℃で乾燥し、残留溶剤が0.3重
量%のセルロースアセテートフイルム(厚さ:40μ
m)を製造した。作製したセルロースアセテートフイル
ム(KH−06)について、エリプソメーター(M−1
50、日本分光(株)製)を用いて、波長550nmに
おけるReレターデーション値およびRthレターデーシ
ョン値を測定した。結果は第5表に示す。実施例11と
同様にして、作製したセルロースアセテートフイルム
に、鹸化処理、配向膜の形成、そして光学異方性層を形
成し、光学補償シート(KH−16)を作製した。
【0171】[実施例13]下記の組成物をミキシング
タンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解
し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【0172】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度60.7%のセルロースアセテート 100質量部 メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部 メタノール(第2溶媒) 54質量部 1−ブタノール(第3溶媒) 11質量部 窒化ホウ素粉末(高熱伝導性粒子) 30質量部 ────────────────────────────────────
【0173】別のミキシングタンクに、実施例1で用い
たレターデーション上昇剤16質量部、メチレンクロラ
イド80質量部およびメタノール20質量部を投入し、
加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を
調製した。セルロースアセテート溶液474質量部にレ
ターデーション上昇剤溶液25質量部を混合し、充分に
攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の
添加量は、セルロースアセテート100質量部に対し
て、3.5質量部であった。
【0174】得られたドープを、バンド流延機を用いて
流延した。バンド上での膜面温度が40℃となってか
ら、1分乾燥し、剥ぎ取った後、140℃の乾燥風下で
テンターを用いて38%横一軸延伸を行った。その後、
135℃の乾燥風で約20分間乾燥し、残留溶剤量が
0.3重量%のセルロースアセテートフイルム(厚さ:
65μm)を製造した。得られたセルロースアセテート
フィルムの熱伝導率を測定したところ、1.2W/(m
・K)であった。熱伝導率は、シートをTO−3型ヒー
ターケースと銅板との間に挟み、シート厚みの10%を
圧縮した後、銅製ヒーターケースに電力5Wをかけて4
分間保持し、銅製ヒーターケースと銅板との温度差を測
定して下式により算出した。 熱伝導率{W/(m・K)}={電力(W)×厚み
(m)}/{温度差(K)×測定面積(m2 )} 作製したセルロースアセテートフイルム(KH−07)
について、エリプソメーター(M−150、日本分光
(株)製)を用いて、波長550nmにおけるReレタ
ーデーション値およびRthレターデーション値を測定し
た。結果は第5表に示す。さらに、作製したセルロース
アセテートフイルム(KH−07)を、1.5Nの水酸
化カリウム溶液(40℃)に5分間浸漬した後、硫酸で
中和し、純水で水洗、乾燥した。このセルロースアセテ
ートフイルム(KH−07)の表面エネルギーを接触角
法により求めたところ、68mN/mであった。
【0175】(配向膜の作製)このセルロースアセテー
トフイルム上に、実施例2で用いた配向膜塗布液を#1
6のワイヤーバーコーターで28ml/m2 塗布した。
60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒
乾燥した。次に、セルロースアセテートフイルムの遅相
軸(波長632.8nmで測定)と45゜の方向に、形
成した膜にラビング処理を実施した。
【0176】(液晶性化合物の作製)まず、液晶性高分
子の合成と無配向処理基板上でのホメオトロピック配向
の確認を行う。4−n−ヘプチル安息香酸10mmo
l、テレフタル酸95mmol、メチルヒドロキノンジ
アセテート50mmol、カテコールジアセテート50
mmol、および酢酸ナトリウム100mgを用いて窒
素雰囲気下、270℃で12時間重合を行った。次に得
られた反応生成物をテトラクロロエタンに溶解したの
ち、メタノールで再沈澱を行って精製し、液晶性ポリエ
ステル22.0gを得た。この液晶性ポリエステルの対
数粘度は0.15、液晶相としてネマチック相をもち、
等方相−液晶相転移温度は240℃、ガラス転移点は7
5℃であった。
【0177】この液晶性ポリエステルを用いて、10w
t%のフェノール/テトラクロロエタン混合溶媒(6/
4重量比)溶液を調製した。この溶液を、ソーダガラス
板上に、バーコート法により塗布し、溶媒を除去した。
次いで、190℃で30分間熱処理した後、室温下で冷
却・固定化した。その結果、膜厚15μmの均一に配向
した液晶性フィルムを得た。コノスコープ観察したとこ
ろ高分子液晶は正の一軸性構造を持つことがわかり、こ
のポリマーがホメオトロピック配向性を持つことがわか
った。
【0178】(光学異方性層の形成)上記で得られた液
晶性ポリエステルの8wt%テトラクロロエタン溶液を
調製した。次いで、上記の配向膜上に、スピンコート法
により塗布した。次いで溶媒を除去した後、190℃で
20分間熱処理した。熱処理後、空冷し、固定化した。
得られた光学補償シート(KH−17)は、透明で配向
欠陥はなく、均一な膜厚(1.55μm)を有してい
た。
【0179】[比較例4]セルロースアセテート溶液
を、そのままドープとして使用し、延伸処理を実施しな
かった以外は、実施例10と同様にして、残留溶剤が、
3.0重量%のセルロースアセテートフイルム(KH−
H2)を作製した。作製したセルロースアセテートフイ
ルムの厚さは80μmであった。得られたフイルムの光
学特性を測定した。結果を第5表に示す。
【0180】
【表5】 第5表 ──────────────────────────────────── フイルム レターデーション上昇剤 Re Rth ──────────────────────────────────── 実施例10 KH−04 4.5質量部 45nm 135nm 実施例11 KH−05 4.5質量部 35nm 125nm 実施例12 KH−06 3.5質量部 25nm 120nm 実施例13 KH−07 3.5質量部 50nm 90nm 比較例4 KH−H2 なし 4nm 48nm ────────────────────────────────────
【0181】[実施例14]延伸したポリビニルアルコ
ールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例10で作
成した光学補償シート(KH−04)を偏光膜の片側に
貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフイルム
(フジタックTD80UF、富士写真フイルム(株)
製)にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着
剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。偏光膜の透
過軸と光学補償シート(KH−04)の遅相軸とは平行
になるように配置した。このようにして偏光板を作製し
た。
【0182】[実施例15]延伸したポリビニルアルコ
ールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例11で作
成した光学補償シート(KH−15)を、その支持体で
あるセルロースアセテートフイルム(KH―05)が偏
光膜側となり、さらにその遅相軸が偏光膜の透過軸と平
行になるように片側に貼り付けた。市販のセルロースト
リアセテートフイルム(フジタックTD80UF、富士
写真フイルム(株)製)にケン化処理を行い、ポリビニ
ルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り
付けた。このようにして偏光板を作製した。
【0183】[実施例16]延伸したポリビニルアルコ
ールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例12で作
成した光学補償シート(KH−16)を、その支持体で
あるセルロースアセテートフイルム(KH―06)が偏
光膜側となり、さらにその遅相軸が偏光膜の透過軸と平
行になるように片側に貼り付けた。市販のセルロースト
リアセテートフイルム(フジタックTD80UF、富士
写真フイルム(株)製)にケン化処理を行い、ポリビニ
ルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り
付けた。このようにして偏光板を作製した。
【0184】[実施例17]延伸したポリビニルアルコ
ールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例13で作
成した光学補償シート(KH−17)を、その支持体で
あるセルロースアセテートフイルム(KH―07)が偏
光膜側となり、さらにその遅相軸が偏光膜の透過軸と平
行になるように片側に貼り付けた。市販のセルロースト
リアセテートフイルム(フジタックTD80UF、富士
写真フイルム(株)製)にケン化処理を行い、ポリビニ
ルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り
付けた。このようにして偏光板を作製した。
【0185】[比較例5]延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリ
ビニルアルコール系接着剤を用いて、比較例4で作成し
た光学補償シート(KH−H2)を偏光膜の片側に貼り
付けた。市販のセルローストリアセテートフイルム(フ
ジタックTD80UF、富士写真フイルム(株)製)に
ケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用
いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏
光板を作製した。
【0186】[実施例18]垂直配向型液晶セルを使用
した液晶表示装置(VL−1530S、富士通(株)
製)に設けられている一対の偏光板および一対の光学補
償シートを剥がし、代わりに実施例14で作製した偏光
板を、光学補償シート(KH−04)が液晶セル側とな
るように粘着剤を介して一枚、観察者側に貼り付けた。
また、バックライト側には、市販の偏光板(HLC2−
5618HCS、(株)サンリッツ製)を一枚貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、
バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるよう
に、クロスニコル配置とした。作製した液晶表示装置に
ついて、測定機(EZ−Contrast160D、ELDIM
社製)を用いて、黒表示(L1)から白表示(L8)ま
での8段階で視野角を測定した。結果を第6表に示す。
【0187】[比較例6]垂直配向型液晶セルを使用し
た液晶表示装置(VL−1530S、富士通(株)製)
に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シ
ートを剥がし、代わりに比較例5で作製した偏光板を、
光学補償シート(KH−H2)が液晶セル側となるよう
に粘着剤を介して一枚、観察者側に貼り付けた。また、
バックライト側には、市販の偏光板(HLC2−561
8HCS、(株)サンリッツ製)を一枚貼り付けた。観
察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バック
ライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、ク
ロスニコル配置とした。作製した液晶表示装置につい
て、測定機(EZ−Contrast160D、ELDIM社
製)を用いて、黒表示(L1)から白表示(L8)まで
の8段階で視野角を測定した。結果を第6表に示す。
【0188】
【表6】 第6表 ──────────────────────────────────── 液晶 視野角(コントラスト比が10以上で黒側の階調反転のない範囲) 表示装置 透過軸方向 透過軸から45゜の方向 ──────────────────────────────────── 実施例18 >80゜ >80゜ 比較例6 >80゜ 44゜ ──────────────────────────────────── (註)黒側の階調反転:L1とL2との間の反転
【0189】(額縁状の透過率アップの評価)垂直配向
型液晶セルを使用した15インチの液晶表示装置(VL
−1530SW、富士通(株)製)に設けられている一
対の偏光板を剥がし、代わりに実施例14で作製した偏
光板を、光学補償シートが液晶セル側となるように粘着
剤を介して、観察者側およびバックライト側に貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とが直交するように配置した。同様に比較
例5で作製した偏光板を液晶表示装置に実装した。温度
25℃、相対湿度60%の環境条件において、作製した
液晶表示装置のバックライトを5時間連続点灯した後、
全面黒表示状態を暗室にて目視で観察して光漏れを評価
した。その結果、比較例5の偏光板を用いた液晶表示装
置において、パネルの周辺部分に額縁状の光漏れ(透過
率アップ)が生じたのに対し、実施例14で作製した偏
光板を用いた15インチの液晶表示装置において額縁状
の透過率アップ(光漏れ)は生じなかった。
【0190】[実施例19] (ベンド配向液晶セルの作製)ITO電極付きのガラス
基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラ
ビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビ
ング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャッ
プを6μmに設定した。セルギャップにΔnが0.13
96の液晶性化合物(ZLI1132、メルク社製)を
注入し、17インチのベンド配向液晶セルを作製した。 (液晶表示装置の作製)作製したベンド配向セルを挟む
ように、実施例15で作製した楕円偏光板を二枚貼り付
けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、
液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層
のラビング方向とが反平行となるように配置した。液晶
セルに55Hzの矩形波電圧を印加した。白表示2V、
黒表示5Vのノーマリーホワイトモードとした。透過率
の比(白表示/黒表示)をコントラスト比として、測定
機(EZ−Contrast160D、ELDIM社製)を用い
て、黒表示(L1)から白表示(L8)までの8段階で
視野角を測定した。結果を第7表に示す。
【0191】[実施例20] (ベンド配向液晶セルの作製)ITO電極付きのガラス
基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラ
ビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビ
ング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャッ
プを6μmに設定した。セルギャップにΔnが0.13
96の液晶性化合物(ZLI1132、メルク社製)を
注入し、17インチのベンド配向液晶セルを作製した。 (液晶表示装置の作製)作製したベンド配向セルを挟む
ように、実施例16で作製した楕円偏光板を二枚貼り付
けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、
液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層
のラビング方向とが反平行となるように配置した。液晶
セルに55Hzの矩形波電圧を印加した。白表示2V、
黒表示5Vのノーマリーホワイトモードとした。透過率
の比(白表示/黒表示)をコントラスト比として、測定
機(EZ−Contrast160D、ELDIM社製)を用い
て、黒表示(L1)から白表示(L8)までの8段階で
視野角を測定した。結果を第7表に示す。
【0192】
【表7】 第7表 ──────────────────────────────────── 液晶 視野角(コントラスト比が10以上で黒側の階調反転のない範囲) 表示装置 上 下 左右 ──────────────────────────────────── 実施例19 80゜ 80゜ 80゜ 実施例20 80゜ 80゜ 80゜ ──────────────────────────────────── (註)黒側の階調反転:L1とL2との間の反転
【0193】(額縁状の透過率アップの評価)温度25
℃、相対湿度60%の環境条件において、実施例19お
よび20で作製した液晶パネルにバックライトを配置し
て5時間連続点灯した後、全面黒表示状態を暗室にて目
視で観察して光漏れを評価した。その結果、比較例5の
偏光板を用いた液晶表示装置において、実施例19およ
び20で作製した17インチの液晶パネルにおいて額縁
状の透過率アップ(光漏れ)は生じなかった
【0194】[実施例21]TN型液晶セルを使用した
液晶表示装置(6E−A3、シャープ(株)製)に設け
られている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例17
で作製した偏光板を、KH−07が液晶セル側となるよ
うに粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に
一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バ
ックライト側の偏光板の透過軸とは、直交となるように
配置した。作製した液晶表示装置について、測定機(E
Z−Contrast160D、ELDIM社製)を用いて、黒
表示(L1)から白表示(L8)までの8段階で視野角
を測定した。結果を第8表に示す。
【表8】 第8表 ──────────────────────────────────── 液晶 視野角(コントラスト比が10以上で黒側の階調反転のない範囲) 表示装置 上 下 左右 ──────────────────────────────────── 実施例21 35゜ 60゜ 80゜ ──────────────────────────────────── (註)黒側の階調反転:L1とL2との間の反転
【0195】(額縁状の透過率アップの評価)TN型液
晶セルを使用した20インチの液晶表示装置(LC−2
0V1、シャープ(株)製)に設けられている一対の偏
光板を剥がし、代わりに実施例17で作製した偏光板
を、光学補償シートが液晶セル側となるように粘着剤を
介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り
付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側
の偏光板の透過軸とが直交するように配置した。温度2
5℃、相対湿度60%の環境条件において、作製した液
晶表示装置のバックライトを5時間連続点灯した後、全
面黒表示状態を暗室にて目視で観察して光漏れを評価し
た。その結果、実施例17で作製した偏光板を用いた2
0インチの液晶表示装置において額縁状の透過率アップ
(光漏れ)は生じなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/13363 G02F 1/13363 //(C08L 1/12 (C08L 1/12 75:06) 75:06) Fターム(参考) 2H049 BA02 BA06 BA25 BA42 BB44 BB49 BC03 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 HA05 HA07 HA09 KA02 LA04 LA12 4F071 AA09 AA29 AA53 AC15 AC19 AF53 AH19 BA02 BB02 BC01 4J002 AB021 CK032 EL066 EL086 EU026 EU046 EU096 EU116 EU126 EU166 EU186 EU216 EV306 EV326 GP00

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酢化度が59.0乃至61.5%の範囲
    にあるセルロースアセテート、およびセルロースアセテ
    ート100質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環
    を有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、
    そして厚みが10乃至70μmの範囲にある一枚のセル
    ロースアセテートフイルムからなり、下記式(I)によ
    り定義されるReレターデーション値が20乃至70n
    mの範囲にあり、そして下記式(II)により定義される
    Rthレターデーション値が70乃至400nmの範囲に
    あることを特徴とする光学補償シート: (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
    あり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
    り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
    て、dは、フイルムの厚さである]。
  2. 【請求項2】 前記のセルロースアセテートフイルム
    が、セルロースアセテート100質量部に対して、さら
    にポリエステルウレタンを0.1乃至30質量部含み、
    ポリエステルウレタンが、下記一般式で表されるポリエ
    ステルとジイソシアナートとの反応物であることを特徴
    とする請求項1に記載の光学補償シート: H-(-O-(CH2)q-OOC-(CH2)m-CO)n-O-(CH2)q-OH [式中、qは、2乃至4の整数を表し;mは、2乃至4
    の整数を表し;nは、1乃至100の整数を表す]。
  3. 【請求項3】 酢化度が59.0乃至61.5%の範囲
    にあるセルロースアセテート、およびセルロースアセテ
    ート100質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環
    を有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、
    そして厚みが10乃至70μmの範囲にあるセルロース
    アセテートフイルム上に、液晶性化合物から形成された
    光学異方性層が設けられてなり、セルロースアセテート
    フイルムの、下記式(I)により定義されるReレター
    デーション値が20乃至70nmの範囲にあり、そして
    下記式(II)により定義されるRthレターデーション値
    が70乃至400nmの範囲にあることを特徴とする光
    学補償シート: (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
    あり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
    り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
    て、dは、フイルムの厚さである]。
  4. 【請求項4】 前記のセルロースアセテートフイルム
    が、セルロースアセテート100質量部に対して、さら
    にポリエステルウレタンを0.1乃至30質量部含み、
    ポリエステルウレタンが、下記一般式で表されるポリエ
    ステルとジイソシアナートとの反応物であることを特徴
    とする請求項2に記載の光学補償シート: H-(-O-(CH2)q-OOC-(CH2)m-CO)n-O-(CH2)q-OH [式中、qは、2乃至4の整数を表し;mは、2乃至4
    の整数を表し;nは、1乃至100の整数を表す]。
  5. 【請求項5】 前記の液晶性化合物が円盤状液晶性化合
    物であることを特徴とする請求項3もしくは4に記載の
    光学補償シート。
  6. 【請求項6】 前記のセルロースアセテートフイルム
    が、3乃至100%の範囲の延伸倍率で延伸された延伸
    物であることを特徴とする請求項1乃至4のうちのいず
    れかの項に記載の光学補償シート。
  7. 【請求項7】 前記のセルロースアセテートフイルムが
    高熱伝導性粒子を含み、その熱伝導率が1W/(m・
    K)以上であることを特徴とする請求項1乃至4のうち
    のいずれかの項に記載の光学補償シート。
  8. 【請求項8】 前記のセルロースアセテートフイルムの
    少なくとも一方の面に高熱伝導性粒子を含む熱伝導層が
    設けられ、そして、熱伝導層を有するセルロースアセテ
    ートフイルムの熱伝導率が1W/(m・K)以上である
    ことを特徴とする請求項1乃至4のうちのいずれかの項
    に記載の光学補償シート。
  9. 【請求項9】 前記の芳香族化合物が、少なくとも一つ
    の1,3,5−トリアジン環を有することを特徴とする
    請求項1乃至4のうちのいずれかの項に記載の光学補償
    シート。
  10. 【請求項10】 前記のセルロースアセテートフイルム
    が、共流延法により製膜されていることを特徴とする請
    求項1乃至4のうちのいずれかの項に記載の光学補償シ
    ート。
  11. 【請求項11】 前記のセルロースアセテートフイルム
    が、二軸延伸されたフィルムであることを特徴とする請
    求項1乃至4のうちのいずれかの項に記載の光学補償シ
    ート。
  12. 【請求項12】 偏光膜およびその両側に配置された二
    枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の
    一方が、酢化度が59.0乃至61.5%の範囲にある
    セルロースアセテート、およびセルロースアセテート1
    00質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有す
    る芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、そして
    厚みが10乃至70μmの範囲にある一枚のセルロース
    アセテートフイルムからなり、セルロースアセテートフ
    イルムの、下記式(I)により定義されるReレターデ
    ーション値が20乃至70nmの範囲にあり、そして下
    記式(II)により定義されるRthレターデーション値が
    70乃至400nmの範囲にあり、さらにセルロースア
    セテートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とが実質的
    に平行になるように配置されていることを特徴とする偏
    光板: (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
    あり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
    り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
    て、dは、フイルムの厚さである]。
  13. 【請求項13】 偏光膜およびその両側に配置された二
    枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の
    一方が、酢化度が59.0乃至61.5%の範囲にある
    セルロースアセテート、およびセルロースアセテート1
    00質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有す
    る芳香族化合物を0.01乃至20質量部含み、そして
    厚みが10乃至70μmの範囲にあるセルロースアセテ
    ートフイルム上に、液晶性化合物から形成された光学異
    方性層が設けられてなり、セルロースアセテートフイル
    ムの、下記式(I)により定義されるReレターデーシ
    ョン値が20乃至70nmの範囲にあり、そして下記式
    (II)により定義されるRthレターデーション値が70
    乃至400nmの範囲にあり、さらにセルロースアセテ
    ートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とが実質的に平
    行になるように配置されていることを特徴とする偏光
    板: (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
    あり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
    り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
    て、dは、フイルムの厚さである]。
  14. 【請求項14】 液晶セルおよびその両側に配置された
    二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側
    に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置で
    あって、液晶セルと偏光膜との間に配置された二枚の透
    明保護膜のうちの少なくとも一方が、酢化度が59.0
    乃至61.5%の範囲にあるセルロースアセテート、お
    よびセルロースアセテート100質量部に対して、少な
    くとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を0.01
    乃至20質量部含み、そして厚みが10乃至70μmの
    範囲にある一枚のセルロースアセテートフイルムからな
    り、セルロースアセテートフイルムの、下記式(I)に
    より定義されるReレターデーション値が20乃至70
    nmの範囲にあり、そして下記式(II)により定義され
    るRthレターデーション値が70乃至400nmの範囲
    にあり、さらにセルロースアセテートフイルムの遅相軸
    とセルロースアセテートフイルムに隣接する偏光膜の透
    過軸とが実質的に平行になるように配置されていること
    を特徴とする液晶表示装置: (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
    あり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
    り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
    て、dは、フイルムの厚さである]。
  15. 【請求項15】 液晶セルおよびその両側に配置された
    二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側
    に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置で
    あって、液晶セルと偏光膜との間に配置された二枚の透
    明保護膜のうちの少なくとも一方が、酢化度が59.0
    乃至61.5%の範囲にあるセルロースアセテート、お
    よびセルロースアセテート100質量部に対して、少な
    くとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を0.01
    乃至20質量部含み、そして厚みが10乃至70μmの
    範囲にあるセルロースアセテートフイルム上に、液晶性
    化合物から形成された光学異方性層が設けられてなり、
    セルロースアセテートフイルムの、下記式(I)により
    定義されるReレターデーション値が20乃至70nm
    の範囲にあり、そして下記式(II)により定義されるR
    thレターデーション値が70乃至400nmの範囲にあ
    り、さらにセルロースアセテートフイルムの遅相軸とセ
    ルロースアセテートフイルムに近い偏光膜の透過軸とが
    実質的に平行になるように配置されていることを特徴と
    する液晶表示装置: (I) Re=(nx−ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
    あり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
    り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
    て、dは、フイルムの厚さである]。
  16. 【請求項16】 液晶セルが、TNモード、VAモー
    ド、MVAモード、またはOCBモードの液晶セルであ
    る請求項14もしくは15に記載の液晶表示装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005196119A (ja) * 2003-09-01 2005-07-21 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償フィルム、液晶表示装置および偏光板
JP2005281645A (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Daicel Chem Ind Ltd セルロースエステル及びそのフィルム
JP2005298791A (ja) * 2004-03-15 2005-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置
US7630031B2 (en) 2005-08-16 2009-12-08 Fujifilm Corporation Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display
JP2012067272A (ja) * 2010-06-21 2012-04-05 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムの製造方法、セルロースアシレートフィルム、偏光板、液晶表示装置及び光学補償フィルム
JP2014238602A (ja) * 2008-11-28 2014-12-18 エルジー・ケム・リミテッド 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、液晶表示装置及び一体型偏光板

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005196119A (ja) * 2003-09-01 2005-07-21 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償フィルム、液晶表示装置および偏光板
JP2005298791A (ja) * 2004-03-15 2005-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置
JP2005281645A (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Daicel Chem Ind Ltd セルロースエステル及びそのフィルム
US7630031B2 (en) 2005-08-16 2009-12-08 Fujifilm Corporation Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display
JP2014238602A (ja) * 2008-11-28 2014-12-18 エルジー・ケム・リミテッド 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、液晶表示装置及び一体型偏光板
JP2012067272A (ja) * 2010-06-21 2012-04-05 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムの製造方法、セルロースアシレートフィルム、偏光板、液晶表示装置及び光学補償フィルム

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