JP2002129260A - 薄膜形成用スパッタリングターゲット材、それを用いて形成されて成る薄膜及び光学記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高反射率の維持、耐候性の改善、合金作製に
あたっての製造容易さ、スパッタリングターゲットとし
て使用する場合のスパッタリング工程における安定性、
簡易性を図った合金材及び薄膜、光学記録媒体を提供す
る。 【解決手段】 Ａｇに、Ａｕを０．１ｗｔ％以上５．０
ｗｔ％以下含有し、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、
Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇからなる群から
選ばれた少なくとも１種類以上の元素を０．１ｗｔ％以
上５．０ｗｔ％以下含有する合金を薄膜形成用スパッタ
リングターゲット材とし、これにより、光学記録媒体１
０を構成する薄膜すなわち反射膜１６を形成し、この反
射膜１６を構成要素とする光学記録媒体１０を作製す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜形成用スパッ
タリングターゲット材、それを用いて形成されて成る薄
膜及び光学記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digita
l Versatile Disc）等の光ディスク、または、ＭＤ（Mi
ni Disc）やＭＯ（Magnet Optical Disc）等の光磁気デ
ィスク、あるいは相変化型光ディスク等の書換え可能な
光学記録媒体、これら光学記録媒体に適用する反射膜の
材料としては、ＡｌやＡｌ合金が一般的に知られてい
る。

【０００３】このＡｌやＡｌ合金は、上記の種々の光学
記録媒体において、記録情報の再生を行う際に、特定光
学波長領域中で、一定以上の反射率が得られ、かつ、熱
伝導特性に優れている。また、光学記録媒体に形成され
ている微細凹凸の溝に対して、安定した被覆性を得ら
れ、さらに、光学記録媒体製品となった場合に、空気中
に含有されている非金属元素に対する耐候性にも優れて
いて、長期間に渡って計時変化が極めて少ないという利
点を有する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ａｌあ
るいはＡｌ合金により形成した薄膜の反射率は、例えば
波長が８００ｎｍである光に対しては、８０％程度であ
り、光学記録媒体の用途によっては、いまだ充分な反射
率が得られているとはいえない。

【０００５】一方、ＣＤ−Ｒ（Compact Disc−Recordab
le）においては、Ａｌ系の材料を用いて反射膜を形成す
ると、充分に高い反射率が得られないということから、
Ａｕを反射膜の材料として適用することは検討されてい
る。しかしながら、Ａｕは、材料としてコストが高いと
いう問題があるため、Ａｕの代替材料として、Ａｇもし
くはＣｕが検討されている。

【０００６】しかしながら、Ａｇは、塩素、酸素、硫黄
等の非金属元素、これらのイオンに対して化学的に活性
であるため、海水中等の特殊環境においては、耐候性の
点で問題を有している。

【０００７】一方、特開昭５７−１８６２２４号公報、
特開平７−３３６３号公報、特開平９−１５６２２４号
公報には、Ａｇに、所定の不純物を添加することによ
り、耐候性を向上させるという技術が開示されている。
すなわち、特開昭５７−１８６２２４号公報にはＡｇＣ
ｕ合金（Ａｇの含有量が４０原子％以上）について、特
開平７−３３６３号公報にはＡｇＭｇ合金（Ｍｇの含有
量が１〜１０原子％以上）、特開平９−１５６２２４号
公報にはＡｇＯＭ（ＭはＳｂ，Ｐｄ，Ｐｔ）合金（Ｏの
含有量が１０〜４０原子％、Ｍの含有量が０．１〜１０
原子％）についての技術が開示されている。

【０００８】しかし、これらの合金材料においては、そ
の合金を形成する元素の組成範囲が広く、合金を構成す
る元素の含有量と、耐候性や、薄膜を形成した場合の反
射率の関係が必ずしも明確に記載されていない。特に、
Ａｇに微量な不純物を添加したことによる耐候性の改善
が充分に達成されておらず、光学記録媒体に採用される
上での反射膜としての信頼性については不明確である点
が多い。

【０００９】また、Ｍｇについては、アルカリ土類金属
であり、この種の元素あるいはイオンは、化学的に不安
定であるため、これを用いた合金については、塩素等に
対しての耐候性の改善を図る必要があった。

【００１０】そこで、本発明者らは、上記課題を解決す
べく、Ａｇと比較した場合の高反射率の維持、耐候性の
改善、合金作製にあたっての製造容易さ、スパッタリン
グターゲットとして使用する場合のスパッタリング工程
における安定性、簡易性の種々の問題について鋭意研究
を重ねた結果、これらの諸問題の解決を図ることのでき
る薄膜形成用スパッタリングターゲット材、それを用い
て形成されて成る薄膜及び光学記録媒体を得ることがで
きた。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明に係る薄膜形成用
スパッタリングターゲット材は、Ａｇを主成分とし、Ａ
ｕを０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有し、Ｃｕ、
Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、
Ｒｕ、Ｍｇからなる群から少なくとも１種類以上の元素
を０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有するもので、
これらの元素を少なくとも含有する金属材料からなるこ
とを特徴とする。

【００１２】また、本発明に係る薄膜は、Ａｇを主成分
とし、Ａｕを０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有
し、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍ
ｏ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇからなる群から選ばれた少なくと
も１種類以上の元素を０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以
下含有するもので、これらの元素を少なくとも含有する
金属材料を用いて形成されて成ることを特徴とする。

【００１３】また、本発明に係る光学記録媒体は、Ａｇ
を主成分とし、Ａｕを０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以
下含有し、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、
Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇからなる群から選ばれた少
なくとも１種類以上の元素をで０．１ｗｔ％以上５．０
ｗｔ％以下含有するもので、これらの元素を少なくとも
含有する金属材料を用いて形成された薄膜を有すること
を特徴とする。

【００１４】本発明によれば、薄膜形成用スパッタリン
グターゲット材、光学記録媒体用の薄膜として適用した
場合に、Ａｇの耐水素性、耐酸素性やＡｕの耐塩素性、
耐硫黄性の相互作用により、塩素、水素、酸素、硫黄と
いう大気中あるいは特殊環境中で検討される非金属元素
による汚染や光学記録媒体に採用される際に要求される
環境や雰囲気下での高い耐候性の向上を図ることができ
る。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。本発明の実施の形態による
薄膜形成用スパッタリングターゲット材は、Ａｇを主成
分とし、Ａｕを０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有
し、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍ
ｏ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇからなる群から選ばれた少なくと
も１種類以上の元素を０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以
下含有するもので、これらの元素を少なくとも含有する
金属材料からなるものである。

【００１６】以下に示す例においては、本発明の薄膜形
成用スパッタリングターゲット材、それを用いて形成さ
れて成る薄膜及びこの薄膜を有する光学記録媒体につい
て、２層の情報記録層を有する構造のディスク状、いわ
ゆる円板状の光ディスクに適用する場合について説明す
る。ただし、本発明は、このような光ディスクや、その
形状に限定されるものではなく、光磁気ディスク、相変
化ディスク、その他のカード状、シート状等の情報層に
金属薄膜を有する各種の光学記録媒体に適用することが
できる。

【００１７】以下の例において作製する光学記録媒体
は、図１に示すように、第１の基板１と第２の基板２と
が、例えば光透過性の光硬化性樹脂２０を介して積層さ
れた２層構造の光学記録媒体とする。

【００１８】第１の基板１は、例えばポリカーボネート
等の光透過性樹脂の射出成形により、一主面にデータ記
録ピット、またはプリグルーブ等の第１の微細凹凸２１
を有し、これの上に半透明膜１５を有し、第１の情報記
録層１１が形成されてなるものである。

【００１９】また、上述した第１の基板１と積層される
第２の基板２は、第１の基板１と同様に、例えばポリカ
ーボネート等の光透過性樹脂の射出成形によって、一主
面にデータ記録ピット、またはプリグルーブ等の第２の
微細凹凸２２を有し、これの上に、本発明に係る銀合金
を用いて形成した反射膜１６を有し、第２の情報記録層
１２が形成されてなるものである。この銀合金による反
射膜１６は、例えばＲＦ（交流）マグネトロンスパッタ
リング法により成膜することができ、膜厚は、例えば５
０〜１５０ｎｍ程度に形成する。

【００２０】さらに、第２の情報記録層１２上には、例
えばアクリル系の紫外線硬化性樹脂よりなる保護膜３０
が形成されている。

【００２１】図１に示す２層構造の光学記録媒体におい
て、第２の情報記録層１２に記録された情報の再生を行
うときには、波長８００ｎｍの光ビームを照射して第２
の情報記録層１２に焦点が結ばれるようにし、情報の再
生を行うようにする。一方、第１の情報記録層１１に記
録された情報の再生を行うときには、波長６５０ｎｍの
光ビームを照射して第１の情報記録層１１に焦点が結ば
れるようにし、情報の再生を行うようにする。

【００２２】以下、本発明に係る銀合金及びこれを用い
て作製した薄膜、すなわち図１に示した反射膜１６につ
いて説明する。

【００２３】本発明は、上述したように、高反射率の維
持、耐候性の改善、合金作製にあたっての製造容易さ、
スパッタリングターゲットとして使用する場合のスパッ
タリング工程における安定性、簡易性の種々の問題につ
いて解決を図るべく、Ａｇを主成分とし、Ａｕを０．１
ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有し、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔ
ｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍ
ｇからなる群から選ばれた少なくとも１種類以上の元素
を０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有するもので、
これらの元素を少なくとも含有する金属材料からなる薄
膜形成用スパッタリングターゲット材、及び、これを用
いて形成された薄膜と、この薄膜を有する光学記録媒体
を得るものである。

【００２４】本発明に係る銀合金のスパッタリングター
ゲット材料として、Ａｕを選択したのは、合金を作製す
る際の溶融プロセス中、及び冷却して固化したときの添
加元素であるＡｕの合金全体に対しての偏析が抑制でき
る。あるいは合金を作製する工程中で、金属間化合物が
形成されないという利点も有する。

【００２５】また、Ａｇは、硫黄と結合しやすく、大気
中に長時間放置すると、大気と接触する界面が硫黄と反
応して、硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）となり、黒色化して反射特
性が劣化してしまう。また、塩素とも激しく反応して塩
化銀（ＡｇＣｌ）となってしまい、白濁化して反射特性
が劣化する。また、塩素との反応部が成長、拡大してし
まい、白濁化した部分が広がり、さらに反射特性が劣化
し、Ａｇの物理的特性を損なってしまう。しかし、一方
においてＡｇは、酸素や水素に対しては比較的安定な物
質であり、特に水素に対しては非常に安定であり、酸素
雰囲気下での長時間放置後の酸素との結合状態や、水中
に浸水させて放置した後に水素との結合状態を確認して
も、これらとの反応性が安定であることがわかる。この
ため、対酸素や水素へのバリア性を目的とした感光材用
の添加材料や、高融点ロウ材等に適用されている。

【００２６】上記薄膜形成用スパッタリングターゲット
材によれば、Ａｇの耐水素性、耐酸素性やＡｕの耐塩素
性、耐硫黄性の相互作用により、塩素、水素、酸素、硫
黄という大気中あるいは特殊環境中で検討される非金属
元素による汚染や光学記録媒体に採用される際に要求さ
れる環境や雰囲気下でのＡｇと比較した場合の高い耐候
性の向上の実現が可能になるのである。

【００２７】また、上記薄膜形成用スパッタリングター
ゲット材を用いて光学記録媒体の薄膜を形成した場合に
おいては、実用上望ましい高い反射率が得られること、
即ち光学記録媒体の反射膜として優れた特性を有するこ
とが確認されている。

【００２８】また、光学記録媒体の反射膜の形成材とし
て、薄膜形成用スパッタリングターゲット材を用いた場
合に、光学記録媒体の反射膜として重要な耐候性に関し
ては、Ａｇを単独で用いた場合に比較してさらに向上す
ることが確認されている。

【００２９】次に、Ａｇに所定量のＡｕを添加したＡｇ
−Ａｕ合金により、光学記録媒体用の薄膜、すなわち、
反射膜を形成して光学記録媒体を作製した場合の、所定
の波長レーザー光に対する反射率を測定した。この場
合、Ａｇに、Ａｕが０．１〜５．０原子％それぞれの量
含有されてなるＡｇＡｕ合金の薄膜形成用スパッタリン
グターゲット材を用いて、光学記録媒体の薄膜、すなわ
ち反射膜を形成し、光学記録媒体を作製し、波長８０
０、６００、４００ｎｍのレーザー光を照射したとき
の、それぞれの反射率を測定するものとし、この測定結
果を表１に示す。

【００３０】

【表１】

【００３１】この表１に示した測定結果より、ＡｇにＡ
ｕが０．５〜４．９原子％含有されているＡｇＡｕ合金
の薄膜形成用スパッタリングターゲット材を用いて、光
学記録媒体の薄膜を形成した場合においては、実用上望
ましい高い反射率が得られることがわかる。すなわち、
表１に示すように、ＡｇにＡｕが０．５〜５．０原子％
含有されているＡｇＡｕ合金の薄膜形成用スパッタリン
グターゲット材を用いて、光学記録媒体の薄膜を形成し
た場合において、特に、波長８００ｎｍのレーザー光を
照射した場合においては、８８％以上の高い反射率が得
られ、光学記録媒体の反射膜として優れた特性を有する
ものであることがわかる。

【００３２】すなわち、光学記録媒体の反射膜の形成材
として、ＡｇにＡｕが０．５〜４．９原子％含有されて
いるＡｇＡｕ合金の薄膜形成用スパッタリングターゲッ
ト材を用いた場合には、Ａｇを単独で用いた場合に比較
して、反射率が同波長領域中の測定で、最大で４〜５％
程度の低下に抑制できる。さらに光学記録媒体の反射膜
として重要な耐候性に関しては、Ａｕを含有させること
により、Ａｇ単独で用いた場合に比較してさらに向上さ
せることができる。

【００３３】次に、Ａｇに、Ａｕが、１．２重量％含有
されてなるＡｇＡｕ合金に、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、
Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇの内のい
ずれかの元素が、それぞれ０．５〜０．９重量％添加し
てＡｇＡｕＸ（ＸはＣｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、
Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇ）合金とし、こ
の合金により、光学記録媒体の反射膜を形成し、光学記
録媒体を作製した場合の、所定の波長のレーザー光に対
する反射率を測定した。

【００３４】この場合、波長８００、６００、４００ｎ
ｍのレーザー光を、それぞれ照射したときの、反射率を
測定するものとし、この測定結果を表２に示す。

【００３５】

【表２】

【００３６】この表２に示すように、ＡｇにＡｕが１．
２原子％含有されているＡｇＡｕ合金に、Ｃｕ、Ａｌ等
の内の何れかの元素が、それぞれ０．５〜０．９重量％
添加してなるＡｇＡｕＸ合金あるいはＡｇにＡｕが１．
２重量％含有され、さらにＣｕが０．５〜０．９重量％
含有してなるＡｇ合金の薄膜形成用スパッタリングター
ゲット材を用いて、光学記録媒体の薄膜を形成した場合
においては、実用上望ましい高い反射率が得られる。

【００３７】すなわち、表２に示すように、特に、波長
８００ｎｍのレーザー光を照射した場合に、ＡｇＡｕ合
金に、Ｃｕ、Ａｌ等の内の何れかの元素が、それぞれ
０．５〜０．９添加されてなるＡｇＡｕＸ合金、あるい
はＡｇにＡｕが１．２重量％含有され、更にチタンが
０．１〜２．９重量％含有されてなるＡｇ合金の薄膜形
成用スパッタリングターゲット材を用いて、光学記録媒
体の薄膜を形成した場合においては、８８％以上の高い
反射率が得られ、光学記録媒体の反射膜として優れた特
性を有することがＤきる。

【００３８】なお、上記においては、ＡｇＡｕ合金に、
Ｃｕ、Ａｌなどの内いずれかの元素を含有させた場合に
ついて説明したが、本発明はこの例に限定されるもので
はない。

【００３９】また、表２においては、ＡｇＡｕ合金に、
Ｃｕ、Ａｌなどの内のいずれかの元素を含有させた場合
について説明したが、本発明はこの例に限定されるもの
ではなく、それ以外のいずれか一種類あるいは二種類以
上の元素を含有させたＡｇＡｕ合金についても適用する
ことができ、これらを用いた場合についても、高い反射
率が得られ、光学記録媒体の反射膜として優れた特性を
得ることができた。

【００４０】次に、本発明のＡｇ合金を用いて、光学記
録媒体用の薄膜、すなわち、反射膜を形成する場合のス
パッタレートについて、Ａｇを単独で用いて反射膜を形
成する場合のスパッタリングターゲットと比較して説明
する。

【００４１】スパッタリング条件としては、到達圧力を
４×１０^-3Ｐａ、スパッタ圧力は０．７６Ｐａ、スパッ
タガス及び雰囲気については、、Ａｒ雰囲気とし、ガス
流量は２０ｓｃｃｍとした。

【００４２】以下、薄膜の作製用材料と、成膜電力、成
膜時間の関係についての測定結果を表３に示す。

【００４３】

【表３】

【００４４】表３に示すように、本発明のＡｇ合金を用
いて薄膜を形成した場合、Ａｇを単独で用いた場合に比
較して１０〜５０％程度、成膜時間が増加してしまう
が、代替の材料として考えられるＡｌやＡｕを用いた場
合のエッチングレートと比較すると、成膜時間を著しく
短縮できる。

【００４５】次に、本発明のスパッタリングターゲット
材の作製方法について検討した。本発明のスパッタリン
グターゲット材の作製方法としては、大気雰囲気中での
溶解法あるいは真空中での溶解法が挙げられる。Ａｇ合
金を溶解法で作製する場合には、先ず、基となる母合金
を作製し、これにＡｇを追加で混入して、Ａｇが規定量
になるように合金に含有される金属の含有量を整えるも
のとする。

【００４６】大気中で行う場合について説明する。先
ず、Ａｒ雰囲気（４００〜６００Ｔｏｒｒ）中で、Ａｇ
−Ａｕ−Ｘ（Ｘは、Ｃｕ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｐｄ，Ｎｉ，
Ｖ，Ｔａ，Ｗ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｒｕ，Ｍｇ）合金を、アー
ク溶解にて溶融混合し、母合金を作製する。

【００４７】次に、高周波溶融炉において、Ａｇの溶解
を行う。このときのＡｇの量は、全体溶解量から母合金
中のＡｇの量を差し引いた量とする。この際の溶融温度
は、例えば１０００〜１３００℃として、例えば、０．
１〜０．２リットルの並型黒鉛坩堝を用いる。

【００４８】完全に溶融した後、酸化防止材を投入し、
溶融中の酸素との固溶を抑制、防止する。酸化防止材と
しては、ホウ砂、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸リチウム、
カーボン等を用いることができる。

【００４９】完全に溶融した状態で、約１時間放置し、
上記の母合金を添加してさらに０．５〜１時間溶融させ
る。この際の溶融温度は、例えば１０５０〜１４００℃
とする。

【００５０】以上、大気中での溶解法について説明した
が、その他の溶解法を用いることも可能であり、以下、
Ａｒ雰囲気中で行う溶解の場合について説明する。先
ず、Ａｒ雰囲気（４００〜６００Ｔｏｒｒ）中で、Ａｇ
−Ａｕ−Ｘ（Ｘは、Ｃｕ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｐｄ，Ｎｉ，
Ｖ，Ｔａ，Ｗ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｒｕ，Ｍｇ）合金を、アー
ク溶解にて溶融混合し、母合金を作製する。

【００５１】次に、高周波溶融炉において、上記の母合
金とＡｇの溶解を行う。このときのＡｇの量は、全体溶
解量から母合金中のＡｇの量を差し引いた量とする。母
合金とＡｇを入れた坩堝を高周波溶融炉に入れ、真空引
きを行う。酸素を巻き込まない程度に真空に引いた後、
溶融炉をＡｒ雰囲気(１００〜６００Ｔｏｒｒ)にしてか
ら溶融を開始する。この際の溶融温度は、例えば、１０
５０〜１４００℃とし、坩堝は、例えば、０．１〜０．
２リットルの並型黒鉛坩堝を用いる。

【００５２】次に、例えばアルミナ、あるいはマグネシ
ウム系タルクを内面に塗布してあるＦｅの鋳型に溶融物
を注湯する。Ｆｅの鋳型は、引け巣を防止するため、予
め電気炉等で３００〜５００℃程度に熱しておく。

【００５３】鋳型内の溶融物を、冷却、凝固し、インゴ
ットを鋳型から取り出して、常温まで冷却する。次に、
インゴットの最上部の押湯部を切断除去し、インゴット
を圧延機により圧延し、９０ｍｍ×９０ｍｍ×８．１ｍ
ｍの板状の合金を作製する。

【００５４】その後、例えば電気炉で４００〜５００℃
によりＡｒガスを封入した状態で、１〜１．５時間程
度、熱処理し、その後さらにプレス機によりそり修正を
行う。

【００５５】その後、製品形状にワイヤーカットし、耐
水研磨紙を用いて製品全面を研磨し、表面粗度を調整
し、最終的に本発明のＡｇ合金のスパッタリングターゲ
ット材を作製することができる。

【００５６】上述のように、本発明のＡｇ合金のスパッ
タリングターゲット材を作製する場合において、Ａｇに
対してＡｕ及びその他の元素Ｘを添加して溶融する場合
においても、従来行われている容易な方法を適用するこ
とができ、価格的にも製法的にもメリットが大きい。

【００５７】尚、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々変更して実施することが可能である。

【００５８】

【発明の効果】本発明のスパッタリングターゲット材
は、Ａｇと比較して、酸素や硫黄、塩素等に対して、高
い耐久性を確保することができる。従って、このスパッ
タリングターゲット材を用いて薄膜の形成を行うことに
より、長期にわたり、再生信号の劣化を回避することの
できる高品質な光学記録媒体を得ることができた。

【００５９】また、本発明のスパッタリングターゲット
材を用いて形成した薄膜及びこれを有する光学記録媒体
は、高反射率を確保することが可能であり、良好な再生
信号を得ることができ、高品質な光学記録媒体を得るこ
とができた。

【００６０】本発明のスパッタリングターゲット材は、
これを用いてスパッタリング法により薄膜形成を行う場
合においては、Ａｇ単独でスパッタリング法により薄膜
形成を行った場合と比較し、スパッタリングレートがさ
ほど低下せず、また、代替材料としてのＡｕ、Ａｌと比
較するとスパッタリングレートにおいて、より優れてい
ることがわかった。

【００６１】本発明のスパッタリングターゲット材は、
従来用いられている簡易な溶融法により、製品の作製を
行うことができ、また、スパッタリング法を適用して容
易に光学記録媒体用の薄膜形成を行うことができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態によるスパッタリングター
ゲット材を用いて形成した薄膜を有する光学記録媒体の
一例であって２層構造の光学記録媒体を示す概略断面図
である。

【符号の説明】

１…第１の基板 ２…第２の基板 １０…光学記録媒体 １１…第１の情報記録層 １２…第２の情報記録層 １５…半透明膜 １６…銀合金反射膜 ２０…光硬化性樹脂 ２１…第１の微細凹凸 ２２…第２の微細凹凸 ３０…保護膜

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ａｇを主成分とし、 Ａｕを０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有し、 Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、
   Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇからなる群から選ばれた少なくとも１
   種類以上の元素を０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含
   有するもので、これらの元素を少なくとも含有する金属
   材料からなることを特徴とする薄膜形成用スパッタリン
   グターゲット材。
2. 【請求項２】 Ａｇを主成分とし、 Ａｕを０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有し、 Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、
   Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇからなる群から選ばれた少なくとも１
   種類以上の元素を０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含
   有するもので、これらの元素を少なくとも含有する金属
   材料を用いて形成されて成ることを特徴とする薄膜。
3. 【請求項３】 Ａｇを主成分とし、 Ａｕを０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含有し、 Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、
   Ｃｒ、Ｒｕ、Ｍｇからなる群から選ばれた少なくとも１
   種類以上の元素を０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下含
   有するもので、これらの元素を少なくとも含有する金属
   材料を用いて形成された薄膜を有することを特徴とする
   光学記録媒体。