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JP2002103076A - Device and method of laser marking - Google Patents

Device and method of laser marking

Info

Publication number
JP2002103076A
JP2002103076A JP2000297979A JP2000297979A JP2002103076A JP 2002103076 A JP2002103076 A JP 2002103076A JP 2000297979 A JP2000297979 A JP 2000297979A JP 2000297979 A JP2000297979 A JP 2000297979A JP 2002103076 A JP2002103076 A JP 2002103076A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser light
workpiece
light source
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2000297979A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Yoshida
吉田  康
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yaskawa Electric Corp
Original Assignee
Yaskawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yaskawa Electric Corp filed Critical Yaskawa Electric Corp
Priority to JP2000297979A priority Critical patent/JP2002103076A/en
Publication of JP2002103076A publication Critical patent/JP2002103076A/en
Abandoned legal-status Critical Current

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  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a low-cost laser marking device that has a simple structure and ensures high productivity and also to obtain its method. SOLUTION: The laser marking device consists of a laser light source 1 which emits a laser beam to the surface of a workpiece 5, and a scanning means for the laser beam. The diameter of the laser projection spot 6 is larger than the machining line width or machining spot diameter 7 on the surface of the workpiece. As a heating means for heating the workpiece, a preheating laser light source can be used which is separate from the machining laser light source. The laser marking method is such that the laser beam is scanned by the scanning means to form a character, graphic or symbols, and that the machining line width or spot diameter produced on the workpiece by the laser beam exposure is controlled by adjusting the irradiating output or time with the laser beam.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばIC等の電
子部品、液晶またはPDPパネルのガラス基板等の工業
製品へ日付や製造番号等の情報を持つ文字、数字、バー
コードまたは2次元コードをマーキングするマーキング
装置およびマーキング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the production of characters, numbers, barcodes or two-dimensional codes having information such as date and serial number on industrial parts such as electronic parts such as ICs, glass substrates of liquid crystal or PDP panels. The present invention relates to a marking device for marking and a marking method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、マーキング装置は、図10のよう
に構成されていた。図10において、1はレーザ光源、
2および3はスキャナミラー、4は集光レンズ、5は被
加工物である。つぎに、図10のマーキング装置を用い
て被加工物5上に2次元コードをマーキングするための
動作を説明する。まず、スキャナミラー2および3が回
転する。スキャナミラー2および3の位置決め終了後、
スキャナミラー2および3が停止する。レーザ光源1か
らレーザ光8を照射すると、被加工物5上のレーザ光の
照射スポット6が物理変化(例えば、表面あるいは表面
層の剥離、気化、焼失、発泡、隆起、変色・脱色等)を
おこすことにより、加工スポット7が形成され第1のセ
グメントとなる。以降、最終セグメントが形成さえるま
で上記の操作を繰り返すことにより、2次元コードを形
成していた。上記のような装置および方法で、例えばI
C等の電子部品、液晶またはPDPパネルのガラス基板
等の工業製品へ日付や製造番号等の情報を持つバーコー
ドまたは2次元コードをマーキングしていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a marking device has been configured as shown in FIG. In FIG. 10, 1 is a laser light source,
Reference numerals 2 and 3 denote scanner mirrors, 4 denotes a condenser lens, and 5 denotes a workpiece. Next, an operation for marking a two-dimensional code on the workpiece 5 using the marking device of FIG. 10 will be described. First, the scanner mirrors 2 and 3 rotate. After the positioning of the scanner mirrors 2 and 3,
Scanner mirrors 2 and 3 stop. When a laser beam 8 is irradiated from the laser light source 1, the laser beam irradiation spot 6 on the workpiece 5 undergoes a physical change (for example, peeling, vaporization, burning, foaming, bulging, discoloration / discoloration, etc. of the surface or surface layer). By raising, the processing spot 7 is formed and becomes the first segment. Thereafter, the above operation is repeated until the final segment is formed, thereby forming a two-dimensional code. In the apparatus and method as described above, for example, I
A bar code or a two-dimensional code having information such as a date and a serial number is marked on an electronic component such as C, a liquid crystal or an industrial product such as a glass substrate of a PDP panel.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のマー
キング装置では、加工線幅もしくは加工スポットの大き
さをかえるために、集光レンズから被加工物までの距離
を機械的に調整するか、マーキング装置内に絞りを入れ
て絞り径の大きさを変え、被加工物上に照射されるレー
ザ照射面積を変える必要があった。したがって、集光レ
ンズから被加工物までの距離を調整する調整機構もしく
は絞りが必要であり、装置構成が複雑になり装置コスト
が高くなるといった問題点があった。また、従来のマー
キング装置では、被加工物が物理変化(例えば、表面あ
るいは表面層の剥離、気化、焼失、発泡、隆起、変色・
脱色等)を起こすまでレーザ光を照射しつづける必要が
あるので、照射時間が長くかかる。つまり、マーキング
時間が長く、生産性が悪いと行った問題点があった。そ
こで、本発明は装置の構成が簡単で、装置コストが安
く、生産性の高いレーザマーキング装置およびその方法
を提供することを目的とする。
However, in the conventional marking apparatus, in order to change the width of the processing line or the size of the processing spot, the distance from the condensing lens to the workpiece is mechanically adjusted or the marking is performed. It was necessary to change the size of the stop diameter by placing a stop in the apparatus, and to change the laser irradiation area irradiated on the workpiece. Therefore, an adjusting mechanism or a diaphragm for adjusting the distance from the condensing lens to the workpiece is required, and there has been a problem that the apparatus configuration is complicated and the apparatus cost is increased. Further, in the conventional marking device, the workpiece is physically changed (for example, peeling of a surface or a surface layer, vaporization, burning, foaming, bulging, discoloration,
It is necessary to continuously irradiate the laser beam until the occurrence of bleaching or the like, so that the irradiation time is long. That is, there is a problem that the marking time is long and the productivity is low. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a laser marking device having a simple configuration, a low device cost, and high productivity, and a method therefor.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明のマーキング装置は、少なくともレーザ光を射
出するレーザ光源1と、前記レーザ光を走査するスキャ
ニング手段2、3からなるマーキング装置において、照
射スポット6が被加工物5上の加工線幅もしくは加工ス
ポット7以上になるようにレーザ光を被加工物5に照射
するものである。上記のマーキング装置において、本発
明のマーキング方法は、レーザ光源1から射出したレー
ザ光をスキャニング手段2、3で走査し、被加工物5に
文字、図形若しくは記号を形成するマーキング方法にお
いて、レーザ照射出力を調整することにより被加工物5
に生じる加工線幅もしくは加工スポット7をコントロー
ルする方法である。通常レーザビームはビーム中心部は
強度が強く周辺部は強度が弱くなる。したがって、予め
照射スポット6が必要とされる加工スポット7以上にな
るようにレーザ光が照射される状態で、レーザ照射出力
を調整することによりビーム中心部が照射された部分は
十分に加熱され被加工物表面に物理変化が生じて加工さ
れビーム周辺部が照射された部分は温度が十分に上がら
ず加工されないようにすることができる。また、上記の
マーキング装置において、本発明の別のマーキング方法
は、レーザ光源1から射出したレーザ光をスキャニング
手段2、3で走査し、被加工物5に文字、図形若しくは
記号を形成するマーキング方法において、レーザ照射時
間を調整することにより被加工物5に生じる加工線幅も
しくは加工スポット7をコントロールする方法である。
通常レーザビームはビーム中心部は強度が強く周辺部は
強度が弱くなる。したがって、予め照射スポット6が必
要とされる加工スポット7以上になるようにレーザ光が
照射される状態で、レーザ照射時間を調整することによ
りビーム中心部が照射された部分は十分に加熱され被加
工物表面に物理変化が生じて加工されビーム周辺部が照
射された部分は温度が十分に上がらず加工されないよう
にすることができる。本発明のマーキング装置は、前記
レーザ光源1が半導体レーザであることを特徴とするも
のである。半導体レーザは、レーザ光の出力コントロー
ルをしやすい光源であり、半導体レーザをレーザ光源1
として使用することにより後述の方法による加工スポッ
トの大きさの調整が簡単に行える。
In order to solve the above-mentioned problems, a marking apparatus according to the present invention is a marking apparatus comprising at least a laser light source 1 for emitting laser light and scanning means 2 and 3 for scanning the laser light. The laser beam is applied to the workpiece 5 so that the irradiation spot 6 is equal to or larger than the processing line width on the workpiece 5 or the processing spot 7. In the above marking apparatus, the marking method according to the present invention is a marking method in which a laser beam emitted from a laser light source 1 is scanned by scanning means 2 and 3 to form a character, a figure or a symbol on a workpiece 5. Workpiece 5 by adjusting output
This is a method of controlling the processing line width or the processing spot 7 generated in the above. Normally, the intensity of the laser beam is high at the center of the beam and low at the periphery. Therefore, by adjusting the laser irradiation output in a state where the laser beam is irradiated so that the irradiation spot 6 becomes the required processing spot 7 or more in advance, the irradiated portion of the beam center is sufficiently heated and covered. A portion where the surface of the workpiece undergoes a physical change and is processed and the periphery of the beam is irradiated can be prevented from sufficiently raising the temperature to be processed. In the above marking apparatus, another marking method of the present invention is a marking method in which a laser beam emitted from a laser light source 1 is scanned by scanning means 2 and 3 to form a character, figure or symbol on a workpiece 5. In the method, the processing line width or the processing spot 7 generated on the workpiece 5 is controlled by adjusting the laser irradiation time.
Normally, the intensity of the laser beam is high at the center of the beam and low at the periphery. Therefore, by adjusting the laser irradiation time in a state where the laser beam is irradiated so that the irradiation spot 6 becomes the required processing spot 7 or more in advance, the irradiated portion of the beam center is sufficiently heated and covered. A portion where the surface of the workpiece undergoes a physical change and is processed and the periphery of the beam is irradiated can be prevented from sufficiently raising the temperature to be processed. The marking device of the present invention is characterized in that the laser light source 1 is a semiconductor laser. A semiconductor laser is a light source that is easy to control the output of laser light.
The size of the processing spot can be easily adjusted by the method described later.

【0005】本発明のマーキング装置は、前記レーザ光
源1から射出したレーザ光をファイバ10により導光す
るものである。特にレーザ光源1が半導体レーザの場
合、fast−axisとslow−axisで拡がり角の違う独特のビ
ーム形状が、ファイバにより円形の均一拡がり角を持つ
ビームに整形されるので、加工スポット7の形状が円形
になり形成される文字、図形若しくは記号の視認性が良
くなるといった著しい効果が生じる。上記問題を解決す
るために本発明のマーキング装置は、少なくともレーザ
光を射出するレーザ光源1と、前記レーザ光を走査する
スキャニング手段2、3からなるマーキング装置におい
て、被加工物5を加熱する加熱手段を備えたものであ
る。加熱手段により被加工物に予熱を加えることができ
るので、少ないレーザ光のエネルギーで被加工物に物理
変化を起こし加工することができる。本発明のマーキン
グ装置は、前記加熱手段が、前記レーザ光源1とは別の
予熱レーザ光源からのレーザ光であるものである。レー
ザ光を加熱手段として用いることにより、被加工物の必
要な加工部分に集中して効率よく加熱することが可能で
ある。本発明のマーキング装置は、前記レーザ光源1か
ら射出したレーザ光を導光するファイバ10の近傍に、
前記予熱用レーザ光源12から射出したレーザ光を導光
する予熱用ファイバ13を設けたものである。レーザ光
源1からのレーザ光と前記予熱用レーザ光源12からの
レーザ光をそれぞれファイバで導光することにより、そ
れぞれのファイバの端面をそろえて配置するだけで同一
の光学系を使用することができる。本発明のマーキング
装置は、前記レーザ光源1から射出したレーザ光を導光
する前記ファイバ10を中心に取り囲むように複数の前
記予熱用ファイバ13を配置したものである。レーザ光
源1から照射されるレーザ光を中心に対称的に被加工物
5を加熱できるため、加工スポット7の形状を円形にす
ることができ、形成される文字、図形若しくは記号の視
認性が良くなる。本発明のマーキング装置は、前記被加
工物5が、物体表面に形成された薄膜または塗料である
ものである。物体表面に形成された薄膜または塗料は、
比較的弱いレーザ照射で加工できるものが多く、加熱エ
ネルギーに対して感度が高い。したがって、加熱手段に
より予熱を加えることによる効果を特に得ることができ
る。
The marking device of the present invention guides the laser light emitted from the laser light source 1 through a fiber 10. In particular, when the laser light source 1 is a semiconductor laser, a unique beam shape having a different divergence angle between the fast-axis and the slow-axis is shaped into a beam having a circular uniform divergence angle by a fiber. A remarkable effect of improving the visibility of characters, figures or symbols formed in a circular shape is produced. In order to solve the above-mentioned problem, a marking apparatus according to the present invention comprises a heating apparatus for heating a workpiece 5 in a marking apparatus including at least a laser light source 1 for emitting laser light and scanning means 2 and 3 for scanning the laser light. Means. Since the preheating can be applied to the workpiece by the heating means, the workpiece can be processed by causing a physical change with a small amount of laser light energy. In the marking device of the present invention, the heating means is a laser beam from a preheating laser light source different from the laser light source 1. By using the laser beam as the heating means, it is possible to concentrate and heat the required portion of the workpiece efficiently. The marking device according to the present invention is provided near the fiber 10 for guiding the laser light emitted from the laser light source 1,
A preheating fiber 13 for guiding laser light emitted from the preheating laser light source 12 is provided. By guiding the laser light from the laser light source 1 and the laser light from the preheating laser light source 12 with the respective fibers, the same optical system can be used simply by aligning the end faces of the respective fibers. . In the marking device of the present invention, a plurality of the preheating fibers 13 are arranged so as to surround the fiber 10 that guides the laser light emitted from the laser light source 1 at the center. Since the workpiece 5 can be heated symmetrically with respect to the laser light emitted from the laser light source 1, the shape of the processing spot 7 can be made circular, and the formed characters, figures, or symbols have good visibility. Become. In the marking device of the present invention, the workpiece 5 is a thin film or a paint formed on the surface of the object. The thin film or paint formed on the object surface
Many can be processed by relatively weak laser irradiation, and have high sensitivity to heating energy. Therefore, the effect of preheating by the heating means can be particularly obtained.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の第1の実施形態のマーキ
ング装置について図1に基づいて説明する。図1におい
て、1はレーザ光源、2および3はレーザ光のスキャニ
ング手段として用いたスキャナミラー、4は集光レン
ズ、5は被加工物である。図10の従来のマーキング装
置と異なる点は、必要とされる被加工物5上の加工線幅
もしくは加工スポット7よりもレーザ光8の照射スポッ
ト6が大きくなるように構成している点である。具体的
には、図2のようにレーザ光のビームウェスト9の位置
からずらして被加工物5を配置することにより照射スポ
ット6を大きくすればよい。あるいは図3のようにビー
ムウェスト9を照射スポット6と一致するように被加工
物5を配置して、必要とされる加工線幅あるいは加工ス
ポット7よりビームウェスト9が大きくなるように用い
る光源の大きさあるいはレンズ系の横倍率を設計しても
よい。レーザ光源1として各種レーザ光源が利用できる
が、特に半導体レーザを光源に用いると拡がり角が大き
いので図3のように必要とされる加工線幅あるいは加工
スポット7よりビームウェストが大きくなるような光学
系が構成しやすく好ましい。レーザ光源1からのレーザ
光は、ファイバで導光させてもよい。特に、レーザ光源
1が半導体レーザの場合、fast−axisとslow−axisで拡
がり角の違う独特のビーム形状が、ファイバにより円形
の均一拡がり角を持つビームに整形されるので、加工ス
ポット7の形状が円形になり形成される文字、図形若し
くは記号の視認性が良くなるといった著しい効果が生じ
る。通常レーザビームはガウス分布に近い強度分布をも
ちビーム中心部は強度が強く周辺部は強度が弱くなる。
したがって、図2または図3の状態でレーザ照射出力あ
るいはレーザ照射時間を調整すると、ビーム中心部が照
射された部分は十分に加熱され加工され、ビーム周辺部
が照射された部分は温度が十分に上がらず加工されない
ようにすることができる。つまり、レーザ光8の照射ス
ポット6よりも小さな加工線幅もしくは加工スポット7
が被加工物上に形成できる。そのため、ビームウエスト
9より小さな加工スポット7が、レーザ光源1のビーム
品質と集光レンズ4の性能を変更せずに得られる。この
加工線幅もしくは加工スポット7は、レーザ照射出力あ
るいはレーザ照射時間を調整することによりコントロー
ルすることができる。ただし、レーザ照射出力をレーザ
光源1の最大定格一定として、レーザ照射時間を調整す
ることで加工線幅もしくは加工スポット7をコントロー
ルした方が、マーキング時間を短くすることができる。
上述のように、被加工物5へのマーキングは、レーザ光
によりに熱が加わることによりおこなわれるので、あら
かじめ被加工物5に予熱を加えることにより、物理変化
の起こりやすい状態にすることができる。つまり、より
少ないエネルギーのレーザ光8でマーキングが行える。
したがって、レーザ照射時間を短くすることができ、マ
ーキング時間を短くし生産性を向上できる。被加工物5
に熱を加える加熱手段としては、ドライヤー等の温風を
吹き付ける対流式の加熱手段、ヒータ等の被加工物周辺
に配置した高温度の物体からの放射熱を利用した放射式
の加熱手段あるいはオーブン等の被加工物5に接触して
加熱する伝導式の加熱手段、もしくはそれらの組み合わ
せを用いることができる。特に、効率的に被加工物5に
予熱を加えるには、レーザ光源1とは別に予熱用のレー
ザ光源を設け、レーザ光源1のレーザ照射前あるいは照
射中にこの予熱レーザ光源から被加工物にレーザ光を照
射すればよい。レーザ光源1と予熱用レーザ光源は、同
種のレーザでもよいし、異なるレーザでもよい。例え
ば、レーザ光源1も予熱用レーザ光源もYAGレーザに
してもよいし、レーザ光源1はYAGレーザで予熱用レ
ーザ光源は半導体レーザにしてもよい。レーザ光源1か
らのレーザ光をファイバで導光した場合、予熱用レーザ
光源からのレーザ光も予熱用のファイバで導光すること
が好ましい。レーザ光源1を導光する加工用ファイバと
予熱用ファイバの端面をそろえるだけで、同一の光学系
を利用することができるからである。さらに、予熱用フ
ァイバは複数にし加工用ファイバを取り囲むように配置
すれば、レーザ光源1から照射されるレーザ光を中心に
対称的に加熱できるため、加工スポット7の形状を円形
にすることができ、形成される文字、図形若しくは記号
の視認性が良くなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A marking device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1, 1 is a laser light source, 2 and 3 are scanner mirrors used as scanning means of laser light, 4 is a condenser lens, and 5 is a workpiece. The difference from the conventional marking device in FIG. 10 is that the irradiation spot 6 of the laser beam 8 is configured to be larger than the required processing line width or the processing spot 7 on the workpiece 5. . Specifically, the irradiation spot 6 may be enlarged by disposing the workpiece 5 at a position shifted from the position of the beam waist 9 of the laser beam as shown in FIG. Alternatively, as shown in FIG. 3, the workpiece 5 is arranged so that the beam waist 9 coincides with the irradiation spot 6, and the light source used to make the beam waist 9 larger than the required processing line width or the processing spot 7. The size or the lateral magnification of the lens system may be designed. Various laser light sources can be used as the laser light source 1. In particular, when a semiconductor laser is used as the light source, the divergence angle is large, so that the beam waist is larger than the required processing line width or processing spot 7 as shown in FIG. The system is easy to configure and is preferred. The laser light from the laser light source 1 may be guided by a fiber. In particular, when the laser light source 1 is a semiconductor laser, a unique beam shape having a different divergence angle between a fast-axis and a slow-axis is shaped into a beam having a circular uniform divergence angle by a fiber. Has a remarkable effect such that the visibility of characters, figures, or symbols formed by improving the shape of a circle is improved. Usually, a laser beam has an intensity distribution close to a Gaussian distribution, and the intensity is high at the center of the beam and low at the periphery.
Therefore, when the laser irradiation output or the laser irradiation time is adjusted in the state shown in FIG. 2 or FIG. 3, the portion irradiated with the beam central portion is sufficiently heated and processed, and the portion irradiated with the beam peripheral portion is sufficiently heated. It can be prevented from being raised and processed. That is, the processing line width or the processing spot 7 smaller than the irradiation spot 6 of the laser beam 8
Can be formed on the workpiece. Therefore, a processing spot 7 smaller than the beam waist 9 can be obtained without changing the beam quality of the laser light source 1 and the performance of the condenser lens 4. The processing line width or the processing spot 7 can be controlled by adjusting the laser irradiation output or the laser irradiation time. However, the marking time can be shortened by controlling the processing line width or the processing spot 7 by adjusting the laser irradiation time while keeping the laser irradiation output at the maximum rating of the laser light source 1.
As described above, the marking on the workpiece 5 is performed by applying heat to the laser beam. Therefore, by preheating the workpiece 5 in advance, a state in which a physical change is likely to occur can be achieved. . That is, the marking can be performed with the laser beam 8 having less energy.
Therefore, the laser irradiation time can be shortened, the marking time can be shortened, and the productivity can be improved. Workpiece 5
Convection heating means such as a dryer that blows warm air, radiant heating means or oven using radiant heat from a high-temperature object placed around the workpiece, such as a heater. For example, a conductive heating means for heating the workpiece 5 in contact with the workpiece 5 or a combination thereof can be used. In particular, in order to efficiently preheat the workpiece 5, a laser light source for preheating is provided separately from the laser light source 1, and before or during the laser irradiation of the laser light source 1, the preheating laser light source is applied to the workpiece. What is necessary is just to irradiate a laser beam. The laser light source 1 and the preheating laser light source may be the same type of laser or different lasers. For example, both the laser light source 1 and the preheating laser light source may be a YAG laser, or the laser light source 1 may be a YAG laser and the preheating laser light source may be a semiconductor laser. When the laser light from the laser light source 1 is guided by the fiber, it is preferable that the laser light from the laser light source for preheating is also guided by the fiber for preheating. This is because the same optical system can be used only by aligning the end faces of the processing fiber for guiding the laser light source 1 and the preheating fiber. Furthermore, if a plurality of preheating fibers are arranged so as to surround the processing fiber, the laser beam emitted from the laser light source 1 can be symmetrically heated around the center, so that the shape of the processing spot 7 can be made circular. Thus, the visibility of the formed character, figure or symbol is improved.

【0007】(実施例1)第1の実施例のマーキング装
置を図4に示す。図4において、1はレーザ光源、10
はファイバ、2および3はスキャナミラー、4は集光レ
ンズ、5は被加工物、11はコリメータレンズである。
レーザ光源1として半導体レーザを用いたが、炭酸ガス
レーザ、He−Cdレーザ、Arレーザ、若しくはエキ
シマレーザ等の気体レーザ、YAGレーザ、YLFレー
ザ、ガラスレーザ、ファイバレーザ等の固体レーザ、色
素レザーの液体レーザ、非線形光学結晶と組み合わせる
ことによって高調波成分の波長のレーザビームを発する
高調波レーザ光源を用いることもできる。スキャニング
手段として用いたスキャナミラー2および3は、それぞ
れ図示しないスキャナモータにより回転制御可能であ
る。スキャニング手段としては、マーキング装置から照
射されるレーザ光と被加工物5の相対位置が変化するよ
うにX−Yステージを用いることもできる。レーザ光源
1とスキャナミラー2間に、コリメータレンズおよびビ
ームエキスパンダ等の任意の光学部品を配置することが
可能である。集光レンズ4としてはfθレンズを用い
た。被加工物5は、ガラス基板51上に蒸着したクロム
膜52を用いた。被加工物5としては、その他にレーザ
光によりその表面に物理的変化(例えば、表面あるいは
表面層の剥離、気化、焼失、発泡、隆起、変色・脱色
等)を起こすものであれば用いることができる。例え
ば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、P
VC樹脂、オレフィン樹脂、ABS、PET等の樹脂系
材料、シリコンウェハ、金属系材料、ガラスなどを利用
できる。また、被加工物5は、これら樹脂系材料、金属
系材料などのバルクの表面に形成された薄膜または塗料
であってもかまわない。さらに、被加工物5は、ガラ
ス、アクリルなどの透過物表面あるいは裏面に形成され
たカラーフィルタなどの薄膜または塗料にも利用でき
る。上記構成のマーキング装置において、セグメント径
100μmで20×20マトリックスの2次元コードを
形成するために、レーザ光8のビームウェスト9が20
0μmになるようにfθレンズを選定した。図5のよう
に、ビームウェスト9の位置にクロム膜52が位置する
ように配置した。図5ではクロム膜52をガラス基板5
1の下に来るように配置しガラス基板を通してレーザ光
8を照射するようにしたが、クロム膜52を上にして直
接レーザ光8を照射するようにしてもよい。上記のマー
キング装置において、レーザ光源1の出力を最大にし
て、照射時間100msでレーザ光をクロム膜52に照
射した。その結果、被加工物5上に形成された加工スポ
ット7の径は200μmになった。次に、レーザ光源1
の出力を小さくしていくことにより、最小50μmまで
の加工スポット7を得ることができた。また、レーザ光
源1の出力は一定にしたままで、照射時間を短していこ
とにより最小50μmまでの加工スポットを得ることが
できた。照射時間を15msに設定し2次元コードをマ
ーキングした結果が図6である。所望のセグメント径1
00μmで20×20マトリックスが形成できた。上記
のように、本発明の第1の実施例に示すマーキング装置
を用いることにより、レーザ光の出力あるいは照射時間
を調整することにより、加工スポットの大きさを可変す
ることができ、従来必要であった集光レンズから被加工
物までの距離を調整する調整機構もしくは絞りが不要に
なった。
(Embodiment 1) FIG. 4 shows a marking apparatus according to a first embodiment. In FIG. 4, 1 is a laser light source, 10
Is a fiber, 2 and 3 are scanner mirrors, 4 is a condenser lens, 5 is a workpiece, and 11 is a collimator lens.
A semiconductor laser was used as the laser light source 1, but a gas laser such as a carbon dioxide laser, a He—Cd laser, an Ar laser, or an excimer laser, a solid laser such as a YAG laser, a YLF laser, a glass laser, and a fiber laser, and a liquid of dye laser. A harmonic laser light source that emits a laser beam having a wavelength of a harmonic component by combining with a laser or a nonlinear optical crystal can also be used. The rotation of each of the scanner mirrors 2 and 3 used as scanning means can be controlled by a scanner motor (not shown). As the scanning means, an XY stage may be used so that the relative position between the laser beam emitted from the marking device and the workpiece 5 changes. Arbitrary optical components such as a collimator lens and a beam expander can be arranged between the laser light source 1 and the scanner mirror 2. As the condenser lens 4, an fθ lens was used. As the workpiece 5, a chromium film 52 deposited on a glass substrate 51 was used. As the workpiece 5, any other material that causes a physical change (for example, peeling, vaporization, burning, foaming, bulging, discoloration / discoloration, or the like of the surface or a surface layer) on the surface by a laser beam may be used. it can. For example, acrylic resin, epoxy resin, polyimide resin, P
VC resin, olefin resin, resin materials such as ABS and PET, silicon wafers, metal materials, glass and the like can be used. Further, the workpiece 5 may be a thin film or a paint formed on a bulk surface of such a resin-based material or a metal-based material. Further, the workpiece 5 can be used as a thin film or a paint such as a color filter formed on the front surface or the back surface of a transparent material such as glass and acrylic. In the marking device having the above configuration, the beam waist 9 of the laser beam 8 is set to 20 to form a 20 × 20 matrix two-dimensional code with a segment diameter of 100 μm.
The fθ lens was selected to be 0 μm. As shown in FIG. 5, the chromium film 52 was arranged at the position of the beam waist 9. In FIG. 5, the chromium film 52 is
1, the laser beam 8 is irradiated through the glass substrate, but the laser beam 8 may be directly irradiated with the chromium film 52 facing upward. In the above marking apparatus, the output of the laser light source 1 was maximized, and the chromium film 52 was irradiated with laser light for an irradiation time of 100 ms. As a result, the diameter of the processing spot 7 formed on the workpiece 5 became 200 μm. Next, the laser light source 1
By reducing the output of, a processing spot 7 having a minimum of 50 μm could be obtained. In addition, by shortening the irradiation time while keeping the output of the laser light source 1 constant, a processing spot up to a minimum of 50 μm could be obtained. FIG. 6 shows the result of marking the two-dimensional code with the irradiation time set to 15 ms. Desired segment diameter 1
A 20 × 20 matrix could be formed at 00 μm. As described above, by using the marking device shown in the first embodiment of the present invention, the size of the processing spot can be varied by adjusting the output or irradiation time of the laser beam, which is conventionally required. The need for an adjusting mechanism or a diaphragm for adjusting the distance from the condensing lens to the workpiece is eliminated.

【0008】(実施例2)第2の実施例のマーキング装
置を図7に示す。第1の実施例と異なるのは、予熱用レ
ーザ光源12、予熱用ファイバ13を付加した点であ
る。予熱用ファイバ13は複数からなり、図8のように
レーザ光源1からのレーザ光を導光するファイバ10を
取り囲んでバンドルされている。ファイバ部の構成を簡
略にして、図13のように予熱用ファイバ13をファイ
バ10に隣接して配置するだけの構成を取ることもでき
る。図7の構成で、マーキング前あるいはマーキング中
に予熱用レーザ光源12から予熱用のレーザ光を照射す
ると、レーザ光源1から照射されるレーザ光8を中心に
対称的に被加工物5を加熱できる。したがって、予熱用
レーザ光がないときに比べ同一の加工スポット7を得る
のに必要なレーザ光源1のレーザ照射時間が大幅に短縮
できる。対称的に加熱されているので加工スポット7の
形状も円形になる。実験では、予熱用レーザ光源12の
出力をレーザ光源1の出力の50% に設定したとこと、同
一の加工スポット7の大きさが得られる時間は予熱がな
い場合の2/3に短縮できた。上記のように、被加工物
に予熱を加えることにより、レーザ照射時間が短くて済
むのでマーキング時間が短縮され生産性が上がるといっ
た効果がある。なお、第2の実施例では予熱用レーザ光
源12を別に設けたが、図9のようにレーザ光源1のレ
ーザ光の一部を予熱用ファイバ13で導光し予熱用レー
ザ光源12を省略することも可能である。この構成は、
第1の実施例で光源の大きさを大きくし照射スポット6
をより大きくした場合と等価になる。具体的には、第1
の実施において100μmの加工スポット7を得るため
にレーザ光を15ms照射すればよかったが、照射スポ
ット6が100μmになるように絞りを入れて100μ
mの加工スポットを得るには25msの照射時間を要し
た。つまり、加工スポットに該当する径100μmの範
囲外に照射されたレーザ光によって加工スポット部が加
熱されることにより加工時間が短縮できた。
(Embodiment 2) FIG. 7 shows a marking apparatus according to a second embodiment. The difference from the first embodiment is that a laser light source 12 for preheating and a fiber 13 for preheating are added. The preheating fiber 13 includes a plurality of fibers, and is bundled around the fiber 10 for guiding the laser light from the laser light source 1 as shown in FIG. It is also possible to simplify the configuration of the fiber portion and adopt a configuration in which the preheating fiber 13 is simply arranged adjacent to the fiber 10 as shown in FIG. In the configuration of FIG. 7, when the preheating laser light source 12 irradiates a preheating laser light before or during marking, the workpiece 5 can be heated symmetrically around the laser light 8 emitted from the laser light source 1. . Therefore, the laser irradiation time of the laser light source 1 required to obtain the same processing spot 7 can be greatly reduced as compared with the case where there is no laser beam for preheating. Since it is heated symmetrically, the shape of the processing spot 7 is also circular. In the experiment, the output of the laser light source 12 for preheating was set to 50% of the output of the laser light source 1, and the time for obtaining the same size of the processing spot 7 could be reduced to 2/3 of that without preheating. . As described above, by applying preheating to the workpiece, the laser irradiation time can be shortened, so that the marking time is shortened and the productivity is increased. Although the preheating laser light source 12 is separately provided in the second embodiment, a part of the laser light of the laser light source 1 is guided by the preheating fiber 13 as shown in FIG. 9 and the preheating laser light source 12 is omitted. It is also possible. This configuration,
In the first embodiment, the size of the light source is increased and the irradiation spot 6 is increased.
Is larger than when. Specifically, the first
In practice, it was sufficient to irradiate the laser beam for 15 ms in order to obtain a processing spot 7 of 100 μm.
An irradiation time of 25 ms was required to obtain m processing spots. That is, the processing time could be shortened by heating the processing spot portion with the laser beam irradiated outside the range of 100 μm in diameter corresponding to the processing spot.

【0009】[0009]

【発明の効果】以上の述べたように、本発明のマーキン
グ装置を用いれば、レーザ光の出力あるいは照射時間を
調整することにより、加工線幅もしくは加工スポットの
大きさをかえることができるので、集光レンズから被加
工物までの距離を調整する調整機構もしくは絞りが不要
になり、装置構成が簡単になるとともに装置コストが安
くなるといった効果がある。また、本発明のマーキング
装置を用いれば、被加工物に予熱を加えることができる
ので、少ないレーザ光のエネルギーで被加工物が物理変
化(例えば、表面あるいは表面層の剥離、気化、焼失、
発泡、隆起、変色・脱色等)を起こし加工できるので、
レーザ照射時間が短くて済み、マーキング時間が短縮さ
れ生産性が上がるといった効果がある。
As described above, by using the marking device of the present invention, the processing line width or the size of the processing spot can be changed by adjusting the output or irradiation time of the laser beam. There is no need for an adjusting mechanism or a diaphragm for adjusting the distance from the condenser lens to the workpiece, which has the effect of simplifying the device configuration and reducing the device cost. Further, by using the marking device of the present invention, the workpiece can be preheated, so that the workpiece undergoes a physical change (for example, peeling of a surface or a surface layer, vaporization, burning,
Foaming, bulging, discoloration, bleaching, etc.)
The laser irradiation time can be shortened, and there is an effect that the marking time is shortened and the productivity is increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態のレーザマーキング装
置を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a laser marking device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態における第1のレーザ
照射方法を示す被加工物の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a workpiece showing a first laser irradiation method according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態における第2のレーザ
照射方法を示す被加工物断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a workpiece illustrating a second laser irradiation method according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例のレーザマーキング装置
を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a laser marking device according to a first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施例におけるレーザ照射方法
を示す被加工物の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a workpiece illustrating a laser irradiation method according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1の実施例においてマーキングした
2次元コードの写真である。
FIG. 6 is a photograph of a two-dimensional code marked in the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施例のレーザマーキング装置
を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic view showing a laser marking device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施例のファイバの配置を示す
断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing an arrangement of fibers according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第2の実施例の別の形態を示す模式図
である。
FIG. 9 is a schematic view showing another embodiment of the second embodiment of the present invention.

【図10】従来のレーザマーキング装置を示す模式図で
ある。
FIG. 10 is a schematic diagram showing a conventional laser marking device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光源 10 ファイバ 2 スキャナミラー 11 コリメー
タレンズ 3 スキャナミラー 12 予熱用レ
ーザ光源 4 集光レンズ 13 予熱用フ
ァイバ 5 被加工物 51 ガラス 52 クロム膜 6 照射スポット 7 加工スポット 8 レーザ光 9 ビームウェスト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser light source 10 Fiber 2 Scanner mirror 11 Collimator lens 3 Scanner mirror 12 Preheating laser light source 4 Condensing lens 13 Preheating fiber 5 Workpiece 51 Glass 52 Chrome film 6 Irradiation spot 7 Processing spot 8 Laser light 9 Beam waist

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被加工物の表面部に向けてレーザ光を射出
するレーザ光源と、前記レーザ光を走査するスキャニン
グ手段とからなるレーザマーキング装置において、前記
レーザ光の照射スポットの径を、前記被加工物の表面部
に加工される加工線幅もしくは加工スポットの径より大
きくしたことを特徴とするレーザマーキング装置。
1. A laser marking apparatus comprising: a laser light source that emits a laser beam toward a surface portion of a workpiece; and a scanning unit that scans the laser beam. A laser marking device characterized in that it is larger than the width of a processing line or the diameter of a processing spot to be processed on a surface portion of a workpiece.
【請求項2】前記レーザ光源が、半導体レーザであるこ
とを特徴とする請求項1記載のレーザマーキング装置。
2. The laser marking device according to claim 1, wherein said laser light source is a semiconductor laser.
【請求項3】前記レーザ光源から射出したレーザ光をフ
ァイバにより導光することを特徴とする請求項1または
2記載のレーザマーキング装置。
3. The laser marking device according to claim 1, wherein the laser light emitted from the laser light source is guided by a fiber.
【請求項4】被加工物の表面部に向けてレーザ光を射出
するレーザ光源と、前記レーザ光を走査するスキャニン
グ手段とからなるレーザマーキング装置において、前記
被加工物を加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする
レーザマーキング装置。
4. A laser marking apparatus comprising: a laser light source for emitting a laser beam toward a surface portion of a workpiece; and a scanning unit for scanning the laser beam. The laser marking apparatus further comprises a heating unit for heating the workpiece. A laser marking device.
【請求項5】 前記加熱手段が、前記レーザ光源とは別
の予熱用レーザ光源からのレーザ光であることを特徴と
する請求項4記載のレーザマーキング装置。
5. The laser marking apparatus according to claim 4, wherein said heating means is a laser beam from a laser light source for preheating different from said laser light source.
【請求項6】 前記レーザ光源から射出したレーザ光を
導光する加工用の光ファイバを設け、その近傍に、前記
予熱用レーザ光源から射出したレーザ光を導光する予熱
用ファイバを設けたことを特徴とする請求項5記載のレ
ーザマーキング装置。
6. A processing optical fiber for guiding laser light emitted from the laser light source, and a preheating fiber for guiding laser light emitted from the preheating laser light source is provided in the vicinity thereof. The laser marking device according to claim 5, wherein:
【請求項7】 前記予熱用ファイバは、前記加工用の光
ファイバを取り囲むように複数配置したことを特徴とす
る請求項6記載のレーザマーキング装置。
7. The laser marking apparatus according to claim 6, wherein a plurality of said preheating fibers are arranged so as to surround said optical fiber for processing.
【請求項8】 前記被加工物が、物体の表面部に形成さ
れた薄膜または塗料であることを特徴とする請求項1か
ら7のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置。
8. The laser marking apparatus according to claim 1, wherein the workpiece is a thin film or a paint formed on a surface portion of the object.
【請求項9】 前記被加工物が、透過物の表面部に形成
された薄膜または塗料であることを特徴とする請求項1
から7のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置。
9. The method according to claim 1, wherein the workpiece is a thin film or a paint formed on the surface of the permeate.
8. The laser marking device according to any one of items 1 to 7.
【請求項10】 前記被加工物が、ガラス板上に形成さ
れたクロム膜あるいはカラーフィルタ膜であることを特
徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載のレーザ
マーキング装置。
10. The laser marking apparatus according to claim 1, wherein the workpiece is a chromium film or a color filter film formed on a glass plate.
【請求項11】 レーザ光源から射出したレーザ光をス
キャニング手段で走査し、被加工物の表面部に文字、図
形若しくは記号を形成するマーキング方法において、前
記レーザ光の照射出力を調整することにより前記被加工
物に生じる加工線幅もしくはレーザ光照射によって加工
される加工スポットの径をコントロールすることを特徴
とするレーザマーキング方法。
11. A marking method in which a laser beam emitted from a laser light source is scanned by scanning means to form a character, a figure or a symbol on a surface portion of a workpiece, by adjusting an irradiation output of the laser beam. A laser marking method characterized by controlling a processing line width generated on a workpiece or a diameter of a processing spot processed by laser light irradiation.
【請求項12】 レーザ光源から射出したレーザ光をス
キャニング手段で走査し、被加工物の表面部に文字、図
形若しくは記号を形成するマーキング方法において、前
記レーザ光の照射時間を調整することにより前記被加工
物に生じる加工線幅もしくはレーザ光照射によって加工
される加工スポットをコントロールすることを特徴とす
るレーザマーキング方法。
12. A marking method in which a laser beam emitted from a laser light source is scanned by a scanning unit to form a character, a figure or a symbol on a surface portion of a workpiece, by adjusting an irradiation time of the laser beam. A laser marking method characterized by controlling a processing line width generated on a workpiece or a processing spot processed by laser light irradiation.
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