JP2002094122A - 光源装置及びその製造方法 - Google Patents
光源装置及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2002094122A JP2002094122A JP2001114502A JP2001114502A JP2002094122A JP 2002094122 A JP2002094122 A JP 2002094122A JP 2001114502 A JP2001114502 A JP 2001114502A JP 2001114502 A JP2001114502 A JP 2001114502A JP 2002094122 A JP2002094122 A JP 2002094122A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- led chip
- insulating member
- light source
- source device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 456
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 123
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 110
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 72
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 72
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 67
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 67
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 53
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 41
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 19
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 17
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 15
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 143
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 143
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 150
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 description 45
- 230000008859 change Effects 0.000 description 44
- 239000010408 film Substances 0.000 description 39
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 34
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 33
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 33
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 32
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 27
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 27
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 25
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 25
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 21
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 18
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 16
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 12
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 10
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 10
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 10
- -1 polyphthalsulfone Substances 0.000 description 10
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 239000004954 Polyphthalamide Substances 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 229920006375 polyphtalamide Polymers 0.000 description 7
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 6
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- NAYYNDKKHOIIOD-UHFFFAOYSA-N phthalamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1C(N)=O NAYYNDKKHOIIOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32153—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
- H01L2224/32175—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being metallic
- H01L2224/32188—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being metallic the layer connector connecting to a bonding area protruding from the surface of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/32257—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic the layer connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/4501—Shape
- H01L2224/45012—Cross-sectional shape
- H01L2224/45015—Cross-sectional shape being circular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48257—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
命化を図ると共に、機械的強度を高めた光源装置及びそ
の製造方法を提供する。 【解決手段】この光源装置1は、熱伝導性を有する基板
3と、基板3の一方の面に接合された絶縁部材4と、基
板3と対向する絶縁部材4の部位に絶縁部材4を貫通し
て設けられた貫通孔6と、この貫通孔6から露出する基
板3の部位に実装されたLEDチップ2と、貫通孔6に
おける基板3側の開口縁から内側に突出する張出部4a
と、絶縁部材4に設けられ絶縁部材4によって基板3と
電気的に絶縁された配線パターン8と、張出部4aに延
設された配線パターン8の部位とLEDチップ2の電極
との間を電気的に接続するボンディングワイヤ9と、貫
通孔6内に充填されLEDチップ2及びボンディングワ
イヤ9の全体を封止する透光性を有する封止樹脂10と
を備えている。
Description
用いた光源装置及びその製造方法に関するものである。
すような砲弾型の発光ダイオードを用いたものが従来よ
り提供されており、発光ダイオードを単数で使用した
り、複数個の発光ダイオードを基板30上にアレイ状に
配置して使用するものがあった。
ドフレーム31に設けた凹所31a上にLEDチップ2
を銀ぺーストやエポキシ系樹脂などのダイボンディング
ペースト7を用いてダイボンドし、LEDチップ2の上
面に設けた電極部分(図示せず)とリードフレーム3
1,32との間を金などの金属細線からなるボンディン
グワイヤ9でワイヤボンドした後、透光性を有する封止
樹脂33でリードフレーム31,32とLEDチップ2
とボンディングワイヤ9とを封止して形成されている。
シ樹脂が用いられており、この封止樹脂33には以下に
挙げる3つの機能がある。先ず第1に、封止樹脂33に
は機械的衝撃から部品を保護したり、水分からLEDチ
ップ2を保護する保護機能がある。また、LEDチップ
2の発光部の屈折率は約2.8程度と高いため、LED
チップ2表面と空気との界面では屈折率の差による全反
射が発生し、LEDチップ2の光取り出し効率が低いと
いう問題があるが、LEDチップ2の表面を屈折率が約
1.8程度のエポキシ樹脂で覆うことによって、LED
チップ2からの光取り出し効率を向上させる機能が封止
樹脂33にはある。さらに、封止樹脂33には、LED
チップ2から放射された光を封止樹脂33表面のレンズ
効果によって集光又は拡散させるといった光制御機能が
ある。
しては、LEDチップ2をダイボンドする際の土台とな
ってLEDチップ2を支持する機能と、LEDチップ2
がダイボンドされる凹所31aの周りを鏡面としてLE
Dチップ2からの発光を効率良く前方へ配光させる機能
と、LEDチップ2の発熱を熱伝導によって基板30な
どを通じて外部へ逃がす機能とがある。
プ2では、照明器具としての通常の使用温度領域におい
て、低温になるほど発光効率が高く、高温になるほど発
光効率が低下する。これは、温度上昇による格子振動の
増加に伴って電子とホールとの無輻射結合が増加するか
らである。発光ダイオードを用いる光源装置では、発熱
する部分は主としてLEDチップ2であるから、LED
チップ2で発生した熱を速やかに外部に放熱し、LED
チップ2の温度を低下させることは、LEDチップ2の
発光効率を向上させる上で非常に重要な課題となる。
性を高めることによってLEDチップ2自身の温度上昇
を抑制できるから、LEDチップ2に大きな順方向電流
を通電して使用することができ、LEDチップ2の光出
力を増大させることができる。さらに、放熱特性を高め
ることによって、LEDチップ2の寿命を延ばす効果も
得られる。
由としては、以下に挙げる2つの理由が考えられる。一
般的な照明器具と同様に、LEDチップ2の寿命を、光
束が点灯初期の約70%に低下した時点と定義すると、
赤色発光の発光ダイオードは約6万時間の寿命があると
考えられるが、例えばLEDチップ2に定格電流以上の
順方向電流を印加して過負荷状態で使用すると、LED
チップ2自身の発熱によってLEDチップ2の劣化が著
しく加速されてしまう。したがって、放熱特性を向上さ
せることにより、LEDチップ2の温度上昇が抑制さ
れ、LEDチップ2の寿命が短くなるのを防止すること
ができる。
イオードを用い青色発光ダイオードの青色光を白色光に
変換して出力する白色発光ダイオードでは、従来の赤色
発光ダイオードに比べて放射光のエネルギーが高く、そ
のためLEDチップ2を封止する封止樹脂33が、LE
Dチップ2の放射光によって劣化し、褐色に呈色してし
まう。封止樹脂33の呈色が始まると、青色系の光をよ
り吸収しやすくなり、封止樹脂33の呈色がさらに加速
されるため、結果的にLEDチップ2近傍の封止樹脂3
3が褐色に呈色してしまい、LEDチップ2自身は点灯
初期の光束を維持しているにも関わらず、封止樹脂33
から外部に放射される光が著しく低下してしまう。この
ように封止樹脂33が褐色に呈色することによって、青
色発光ダイオードや白色発光ダイオードの場合は、その
寿命が約6000時間程度となり、赤色発光ダイオード
に比べて著しく短くなる。ところで、封止樹脂33の呈
色反応は光化学反応ではあるが、封止樹脂33の温度が
高くなると、呈色反応の反応速度が速くなることが一般
的に知られており、LEDチップ2から外部への放熱特
性を向上させることによって、LEDチップ2及び封止
樹脂33の温度を低減し、LEDチップ2の発光による
封止樹脂33の呈色反応を抑制することができる。
装置では、その発光効率の向上、光出力の増加、長寿命
化といった観点から、LEDチップ2より外部への放熱
特性を向上させることが非常に重要になる。しかしなが
ら、砲弾型の発光ダイオードでは、LEDチップ2の発
熱を逃がすための放熱経路が、リードフレーム31を通
じて基板30に逃がす経路と、封止樹脂33を通じて空
気中に逃がす経路の2つであり、封止樹脂33を通じて
放熱する経路ではエポキシ樹脂の熱伝導率が低いために
十分な放熱効果が得られない。したがって、リードフレ
ーム31を通じて放熱する放熱経路が主になるが、リー
ドフレーム31自体が細く、また放熱経路が7〜10m
m程度と長いため、封止樹脂33を通じて放熱する経路
よりは大きな放熱効果が得られるものの、十分な放熱効
果は期待できず、放熱特性を改善した光源装置を実現す
るのは困難であった。
図26に示すようにLEDチップ2を基板34に直接ダ
イボンドした光源装置も提案されている。基板34は例
えばアルミニウムの薄板からなり、基板34にプレス加
工を施すことによって凹所34aを形成し、基板34の
表面に絶縁体薄膜35を形成した後、凹所34aの底面
に形成された絶縁体薄膜35上にLEDチップ2をダイ
ボンドしている。そして、基板34の表面に絶縁体膜層
35を介して形成された配線パターン36とLEDチッ
プ2表面の電極との間をボンディングワイヤ9を介して
電気的に接続し、凹所34a内に透光性を有する封止樹
脂37を充填して形成される。
は、LEDチップ2からダイボンディングペースト7→
絶縁体膜層35→基板34の経路で放熱され、基板34
に伝わった熱は基板34全体に拡散していくため、砲弾
型の発光ダイオードに比べて放熱経路が短く、放熱性が
非常に高くなっている。しかしながら、この放熱経路に
おいても、放熱性を阻害する構成要素としてダイボンデ
ィングペースト7と絶縁体膜層35とが存在する。ダイ
ボンディングペースト7は樹脂製であり、ペースト自体
の熱伝導係数は小さいものの、ペーストの厚みは5μm
以下と薄いため、ダイボンディングペースト7が放熱性
に与える影響は小さいものと考えられる。一方、絶縁体
膜層35は樹脂やセラッミックスフィラーを分散させた
樹脂などから形成されており、金属に比較して絶縁体膜
層35自体の熱伝導係数が小さく、また絶縁体膜層35
の厚みも300μm程度と厚くなっているため、放熱性
に与える影響が大きくなっている。而して、図26に示
す構造の光源装置では、砲弾型LEDを用いた光源装置
に比べて、LEDチップ2からの放熱性は高くなってい
るものの、放熱経路に絶縁体膜層35が存在しているた
めに、十分な放熱性が得られなかった。
て、絶縁体膜層35の影響を低減する目的で、基板34
の表面から部分的に絶縁体膜層35を除去し、露出した
基板34にLEDチップ2を直接ダイボンドした光源装
置も提案されている。しかしながら、絶縁体膜層35を
部分的に除去する方法としては、エンドミルなどによる
切削加工によるものであり、露出した基板34の表面は
切削傷が著しく、実測した結果、プラスマイナス20μ
m程度の平滑度であった。ところで、LEDチップ2を
ダイボンドする場合、ダイボンド剤の種類にもよるが、
LEDチップ2を実装する面にはプラスマイナス5μm
程度の平滑度が必要になるため、切削加工した面にLE
Dチップ2を実装するのは難しく、露出した基板34の
表面にLEDチップ2を実装するのは難しかった。
膜層35の上面に配線パターン36が形成されており、
ボンディングワイヤ9の一端は配線パターン36に接続
されているから、LEDチップ2を封止樹脂37で封止
したとしても、ボンディングワイヤ9の一部が封止樹脂
37から外側に露出することになり、機械的衝撃に対し
てボンディングワイヤ9の強度が著しく低下するという
問題がある。そこで、封止樹脂37から外側に露出して
いるボンディングワイヤ9の部位を保護するために、封
止樹脂37から露出しているボンディングワイヤ9の部
位を別途樹脂封止することも考えられるが、同じ樹脂を
用いて樹脂封止したとしても、2回に分けて樹脂封止を
行った場合は2つの樹脂の界面部分に応力が残存するた
め、点灯時に発生するLEDチップ2の発熱によって応
力が増大し、界面部分でボンディングワイヤ9が断線す
る虞もある。特に青色発光のLEDチップ2を用いて白
色発光を得るために、封止樹脂37に蛍光体などの粉体
を分散させている場合は、封止樹脂37の上から樹脂封
止された封止樹脂との間に熱膨張率の差が生じ、界面部
分でボンディングワイヤ9が断線する可能性が増大する
という問題もあった。
であり、その目的とするところは、発光効率を向上させ
て光出力を増大させ、長寿命化を図ると共に、機械的強
度を高めた光源装置及びその製造方法を提供することに
ある。
に、請求項1の発明では、熱伝導性を有する基板と、基
板の少なくとも一方の面に配設された絶縁部材と、基板
と対向する絶縁部材の部位に絶縁部材を貫通して設けら
れた孔と、この孔から露出する基板の部位に対向させ且
つ熱結合させて配置されたLEDチップと、絶縁部材に
設けられ絶縁部材によって基板と電気的に絶縁された配
線部を含む給電部と、給電部とLEDチップの電極との
間を電気的に接続する接続部材と、孔内に充填されLE
Dチップ及び接続部材の全体を封止する透光性を有する
封止材料とを備えて成ることを特徴とし、LEDチップ
は絶縁部材に設けた孔から露出する基板の部位に対向さ
せ且つ熱結合させて配置されているので、熱伝導性を有
する基板を介してLEDチップの発熱を放出することが
でき、放熱性を向上させた光源装置を実現できる。した
がって、LEDチップの温度上昇が抑制され、温度上昇
による発光効率の低下を防止することができる。しかも
LEDチップの温度上昇が低減されるから、より大きな
順方向電流をLEDチップに印加して、LEDチップの
光出力を増大させることもでき、またLEDチップや封
止材料の熱的な劣化が低減され、長寿命化が図れる。さ
らに、孔内に充填された封止材料によってLEDチップ
及び接続部材の全体を封止しており、LEDチップと給
電部とを電気的に接続する接続部材として金属線を用い
た場合にも、樹脂の界面で発生する応力によって金属線
が断線する虞はなく、機械的強度を向上させることがで
きる。
いて、LEDチップに接続部材を介して電気的に接続さ
れる配線部の部位は孔内に配置されており、絶縁部材に
おける基板と反対側の面よりも基板側に位置することを
特徴とし、請求項1の発明と同様、封止材料によってL
EDチップ及び接続部材の全体を封止することができ、
LEDチップと給電部とを電気的に接続する接続部材と
して金属線を用いた場合にも、樹脂の界面で発生する応
力によって金属線が断線する虞はなく、機械的強度を向
上させることができる。
いて、LEDチップに接続部材を介して電気的に接続さ
れる配線部の部位は孔内に配置されており、封止材料は
孔の開口付近まで充填されたことを特徴とし、封止材料
の表面が孔の開口付近にくるまで封止材料を充填するこ
とによって、封止材料の充填量を略一定とすることがで
き、品質のばらつきを抑制できる。
いて、絶縁部材に設けた孔の基板側の開口縁に内側に突
出する張出部を設け、この張出部に配線部の少なくとも
一部を配置し、張出部に配置された配線部の部位にLE
Dチップの電極を電気的に接続しており、絶縁部材側に
突出し絶縁部材に設けた孔内に挿入される突台部を基板
に設け、この突台部にLEDチップを対向させ且つ熱結
合させて配置したことを特徴とし、基板に突台部を設け
ることによって、突台部の高さ分だけ張出部の厚み寸法
を厚くすることができるから、張出部の加工を容易に行
え、且つ、張出部の厚み寸法を厚くすることによって、
張出部の剛性を高くし、基板と絶縁部材とを接合する際
に張出部と基板との間に隙間ができるのを防止できる。
いて、上記接続部材は金属線からなり、基板及び絶縁部
材の接合方向において、金属線の一端が接続されるLE
Dチップの部位と、金属線の他端が接続される配線部の
部位の高さを略同じ高さとしたことを特徴とし、LED
チップと配線部との間を電気的に接続する金属線の長さ
を短くできるから、金属線の機械的強度を高くでき、ま
たLEDチップと配線部の高さを略同じ高さとすること
により、ボンディング作業を容易に行うことができる。
いて、基板及び絶縁部材の接合方向において、LEDチ
ップが実装される突台部と、LEDチップに電気的に接
続される配線部の部位の高さを略同じ高さとしたことを
特徴とし、LEDチップから放射される光が配線部に遮
光されることはなく、光のけられを少なくして、光の取
り出し効率を高めることができる。
いて、突台部は、基板における絶縁部材と反対側の面か
ら打ち出し加工を行って凹所を形成することにより、基
板における絶縁部材側の面に打ち出されたことを特徴と
し、打ち出し加工を行うことによって突台部を形成して
いるので、切削加工により突台部を形成する場合に比べ
て加工費用を低減できる。また、基板と絶縁部材とを接
着剤で貼り合わせた場合、接着剤の熱収縮によって基板
全体が絶縁部材側に反ってしまうが、打ち出し加工を行
って凹所を形成することにより、基板全体が絶縁部材と
反対側に反るので、接着材の熱収縮によって発生する基
板の反りを相殺し、全体として基板が反るのを防止でき
る。
いて、基板を、孔に連通する連通孔が形成されたベース
板と、連通孔内に取り付けられ先端が絶縁部材側に突出
する突起部とで構成し、突起部の先端により突台部を構
成したことを特徴とし、ベース板の孔に突起部を挿入
し、突起部の先端を絶縁部材側に突出させることによっ
て突台部を形成しているので、突台部を切削加工により
形成する場合に比べて、突台部の加工を容易に行うこと
ができる。
いて、孔と突台部との間に隙間を設けたことを特徴と
し、基板と絶縁部材とを接着剤で貼り合わせた場合、基
板と絶縁部材との接合面から余分な接着剤がはみ出し、
はみ出した接着剤によってLEDチップの光が遮光され
たり、LEDチップを実装できなくなる虞があるが、は
み出した接着剤は孔と突台部との間に設けた隙間に溜ま
るので、接着剤が突台部の上面まで這い上がってくるこ
とはなく、はみ出した接着剤によってLEDチップの光
が遮光されたり、LEDチップを実装できなくなるのを
防止できる。
発明において、基板と絶縁部材との位置決めを行うため
の位置決め手段を基板と絶縁部材との接合面に設けたこ
とを特徴とし、位置決め手段により基板と絶縁部材との
位置決めを行うことができ、基板と絶縁部材との接合作
業を容易に行える。
発明において、基板と絶縁部材との接合面に接合に用い
る接着剤の溜まり部を絶縁部材の孔の周りに設けたこと
を特徴とし、基板と絶縁部材とを接着剤で貼り合わせた
場合、基板と絶縁部材との接合面から余分な接着剤がは
み出し、はみ出した接着剤によってLEDチップの光が
遮光されたり、LEDチップを実装できなくなる虞があ
るが、接合時に余分な接着剤は溜まり部に溜まるため、
接着剤のはみ出しを防止できる。また、基板と絶縁部材
との接合面に接着剤が不足している部分があると、この
部分にできる隙間から封止材料が漏れ出す虞があるが、
余分な接着剤を溜める溜まり部が絶縁部材に設けた孔の
周りに設けられ、溜まり部に溜まった余分な接着剤は孔
から露出する基板の部位を囲むようにして配置されるの
で、溜まり部に溜まった接着剤が封止材料をせき止める
堰の役割を果たして、封止材料が漏れ出すのを防止でき
る。
おいて、上記給電部は導電性材料により形成された基板
を含み、基板とLEDチップの電極とを電気的に接続し
たことを特徴とし、基板そのものを給電部としており、
LEDチップの一方の電極を基板に接続するとともに、
LEDチップの他方の電極を配線部に接続することによ
って、LEDチップに給電することができるから、絶縁
部材の表面に形成する配線部が1回路分で済むという利
点がある。また、LEDチップに給電するための回路の
一部を基板が担っているので、回路を基板側に容易に引
き出すことができる。
において、上記基板に、互いに電気的に絶縁された複数
の領域を設けたことを特徴としている。ところで、一枚
の基板に複数のLEDチップが実装される場合、一枚の
基板が互いに電気的に絶縁された複数の領域に分割され
ていないと、全てのLEDチップが並列に接続されるこ
とになる。ここで、LEDチップは個体ごとに駆動電圧
が若干異なるため、複数のLEDチップが並列に接続さ
れると、駆動電圧が最も低いLEDチップに多大な電流
が流れて、LEDチップが破損する虞がある。そこで、
複数のLEDチップに流れる電流を均等にするために、
個々のLEDチップ毎に電流制限用の抵抗を直列接続す
る方法が考えられるが、LEDチップの数だけ電流制限
用の抵抗が必要になり、各抵抗で消費される電力ロスが
増大する。それに対して本発明では、基板に、互いに電
気的に絶縁された複数の領域を設けており、各領域にそ
れぞれLEDチップを実装し、各領域に実装されたLE
Dチップを直列に接続すれば、個々のLEDチップに流
れる電流値を略一定にすることができ、且つ、直列接続
された複数のLEDチップに対して電流制限用の抵抗を
1個接続すれば、各LEDチップに流れる電流を制限で
きるから、電流制限用の抵抗で消費される電力ロスを小
さくできる。
おいて、封止材料の表面を、LEDチップの発光を所望
の方向に配光するレンズ形状としたことを特徴とし、封
止材料の表面をレンズ形状としたことにより、別途レン
ズを設けることなく、LEDチップの発光を所望の方向
に配光することができる。
おいて、孔の側壁にLEDチップの発光を反射して所望
の方向に配光する反射部を設けたことを特徴とし、反射
部によってLEDチップの光を反射して所望の方向へ配
光することにより、光の取り出し効率を高めることがで
きる。
において、上記反射部を配線部で兼用したことを特徴と
し、配線部が反射部を兼用することにより、絶縁部材の
表面に形成される配線部及び反射部のパターンを簡素化
できる。
において、上記接続部材は金属線からなり、金属線の延
びる方向に配線部を配設したことを特徴とし、LEDチ
ップからの光は金属線によって遮光されるが、金属線の
影となる部分に配線部を配置しているので、配線部以外
の部位に形成された反射部によって、LEDチップから
の光を所望の方向に配光することができる。
おいて、封止材料は、LEDチップから放射された光の
少なくとも一部を所定の光色に変換する光色変換機能を
有することを特徴とし、封止材料によって光色が変換さ
れた光と、LEDチップからの光とを混色することによ
って、所望の光色の光を得ることができる。
において、封止材料の表面は、絶縁部材における基板と
反対側の面よりも基板側に位置し、孔の周壁にLEDチ
ップの発光を反射して所望の方向に配光する反射部を設
けたことを特徴とし、LEDチップからの光は封止材料
を通過することによって分散され、完全拡散配光となっ
ているので、配光制御しやすくなっており、反射部によ
って所望の方向に配光することができる。
おいて、配線部の一部を基板側に向かって延伸し、この
延伸された部分で外部接続端子を構成することを特徴と
し、配線部の一部を基板側に向かって延伸し、この延伸
された部位を外部接続端子としているので、基板側から
配線部への給電を容易に行うことができる。なお、配線
部の一部を基板側に向かって延伸させる形態としては種
々考えられるが、例えば絶縁部材の端部に沿って配線部
を基板側に延伸したり、絶縁部材にスルーホールを形成
し、このスルーホール内に導電性材料を充填することに
よって配線部を基板側に延伸することが考えられる。ま
た基板側に向かって延伸する配線部の長さも必要に応じ
て決定され、絶縁部材の途中まで又は基板側の面まで延
伸しても良いし、基板側の面に一部を回り込ませるよう
にしても良いし、また基板の向こう側まで突出するよう
にしても良い。
において、上記配線部の一部が、絶縁部材における基板
との対向面まで延伸されたことを特徴とし、配線部の一
部を基板との対向面まで延伸させているので、この延伸
された部分に対して容易に給電することができる。例え
ば、基板と嵌合する穴の形成された器具本体にこの光源
装置を実装する場合、配線部の一部を絶縁部材における
基板との対向面まで延伸しているので、器具本体の穴に
基板部分を嵌合すれば、器具本体に形成された配線部と
光源装置の配線部との電気的接続を容易に行うことがで
き、さらに基板部分を穴内に嵌め込んで器具本体と接触
させるようにすれば、放熱性が向上する。
1の発明において、絶縁部材の一部を基板側に向かって
延伸し、この延伸された部分の先端を、基板における絶
縁部材と反対側の面と略面一にしたことを特徴とし、絶
縁部材の基板側に延伸された部位に器具本体の表面に載
置して光源装置を器具本体に実装する際に、絶縁部材の
延伸された部位が基板における絶縁部材と反対側の面と
略面一になっているので、絶縁部材を器具本体の表面に
載置するだけで、基板が器具本体の表面に接触するか
ら、LEDチップの発熱が基板を介して器具本体に放出
され、冷却効果が向上する。しかも、配線部の一部を基
板側に延伸させて外部接続端子としているので、外部接
続端子と器具本体の表面に形成された配線部との電気的
接続を容易に行える。さらに、絶縁部材の基板側に延伸
された部位の先端面に外部接続端子を形成すれば放熱性
を向上させた表面実装型の光源装置を実現できる。
おいて、絶縁部材とLEDチップと配線部と封止部材と
が基板の両面に設けられたことを特徴とし、基板の両面
からLEDチップの光を放射させることができ、且つ、
基板の両面に同じ部品が配設されているので、基板の反
りを抑制することができる。
絶縁部材を貫通する孔を形成すると共に、絶縁部材の一
面に配線部を形成した後、絶縁部材の他面に基板を接合
し、孔から露出する基板の部位に対向させ且つ熱結合さ
せてLEDチップを配置し、配線部とLEDチップの電
極とを電気的に接続した後、孔内に透光性を有する封止
材料を充填して、LEDチップ及びLEDチップと配線
部との電気的接続部の全体を封止することを特徴とし、
絶縁部材と基板とを接合し、絶縁部材に設けた孔から露
出する基板の部位に対向させ且つ熱結合させてLEDチ
ップを配置しているので、従来の光源装置のように絶縁
部材に切削加工を施してLEDチップの実装部位を形成
する場合に比べて、加工費用を低減でき、且つLEDチ
ップの実装部位に切削きずが発生してLEDチップを実
装しにくくなるのを防止でき、さらにLEDチップを基
板に熱結合させているので、LEDチップの発熱を基板
を介して放出することができ、またLEDチップと基板
の配線部とを金属線により電気的に接続した場合は、封
止材料によってLEDチップ及び金属線の全体を封止し
ているので、樹脂の界面で発生する応力によって金属線
が断線する虞はなく、機械的強度を向上させることがで
きる。
向する面に孔が貫通して形成された絶縁部材とをインサ
ート成形し、絶縁部材における基板と反対側の面に配線
部を形成した後、孔から露出する基板の部位に対向させ
且つ熱結合させてLEDチップを配置し、配線部とLE
Dチップの電極とを電気的に接続した後、孔内に透光性
を有する封止材料を充填して、LEDチップ及びLED
チップと配線部との電気的接続部の全体を封止すること
を特徴とし、絶縁部材と基板とをインサート成形し、絶
縁部材に設けた孔から露出する基板の部位に対向させ且
つ熱結合させてLEDチップを配置しているので、従来
の光源装置のように絶縁部材に切削加工を施してLED
チップの実装部位を形成する場合に比べて、加工費用を
低減でき、且つLEDチップの実装部位に切削きずが発
生してLEDチップを実装しにくくなるのを防止でき、
さらにLEDチップを基板に熱結合しているので、LE
Dチップの発熱を基板を介して放出することができ、ま
たLEDチップと基板の配線部とを金属線により電気的
に接続した場合は、封止材料によってLEDチップ及び
金属線の全体を封止しているので、樹脂の界面で発生す
る応力によって金属線が断線する虞はなく、機械的強度
を向上させることができる。
成する導電板とを所定の間隔をおいてインサート成形す
ることにより絶縁部材を形成し、絶縁部材を貫通して設
けられた孔から露出する基板の部位に対向させ且つ熱結
合させてLEDチップを配置した後、配線部とLEDチ
ップの電極とを電気的に接続し、孔内に透光性を有する
封止材料を充填して、LEDチップ及びLEDチップと
配線部との電気的接続部の全体を封止することを特徴と
し、絶縁部材と導電板とをインサート成形することによ
り絶縁部材を形成し、絶縁部材に設けた孔から露出する
基板の部位に対向させ且つ熱結合させてLEDチップを
配置しているので、従来の光源装置のように絶縁部材に
切削加工を施してLEDチップの実装部位を形成する場
合に比べて、加工費用を低減でき、且つLEDチップの
実装部位に切削きずが発生してLEDチップを実装しに
くくなるのを防止でき、さらにLEDチップを基板に熱
結合させているので、LEDチップの発熱を基板を介し
て放出することができ、またLEDチップと配線部とを
金属線により電気的に接続した場合は、封止材料によっ
てLEDチップ及び金属線の全体を封止しているので、
樹脂の界面で発生する応力によって金属線が断線する虞
はなく、機械的強度を向上させることができる。
を接合し、基板を貫通して設けられ、絶縁部材を貫通す
る孔に連通する連通孔に、LEDチップが実装された突
起部を挿入して、LEDチップを絶縁部材の孔内に配置
した後、配線部とLEDチップの電極とを金属線を介し
て電気的に接続し、孔内に透光性を有する封止材料を充
填して、LEDチップ及び金属線の全体を封止すること
を特徴とし、基板と絶縁部材とを接合し、絶縁部材に設
けた孔から露出する基板の部位にLEDチップを実装し
ているので、従来の光源装置のように絶縁部材に切削加
工を施してLEDチップの実装部位を形成する場合に比
べて、加工費用を低減でき、且つLEDチップの実装部
位に切削きずが発生してLEDチップを実装しにくくな
るのを防止でき、さらにLEDチップを直接基板に実装
しているので、LEDチップの発熱を基板を介して放出
することができ、また封止材料によってLEDチップ及
び金属線の全体を封止しているので、樹脂の界面で発生
する応力によって金属線が断線する虞はなく、機械的強
度を向上させることができる。しかも、基板に設けた孔
内に突起部を挿入することにより突台部を形成している
ので、基板に切削加工を施して突台部を形成する場合に
比べて、突台部の加工費用を低減できる。
を参照して説明する。
(a)(b)を参照して説明する。この光源装置1は、
例えばアルミニウムのような熱伝導性の高い材料から形
成された厚さが約2mmの基板3と、例えば液晶ポリマ
ーのような絶縁材料からなる厚さが約2mmの絶縁部材
4とを貼り合わせて構成される。
は、直径が約3mmで深さが約1.5mmの丸穴5が2
箇所形成され、各丸穴5の略中央には絶縁部材4を貫通
して基板3に達する断面略円形で直径が約1mmの貫通
孔6がそれぞれ穿設されている。ここに、丸穴5と貫通
孔6とで、基板3と対向する絶縁部材4の部位に絶縁部
材4を貫通して設けられた孔が構成され、丸穴5の底部
には内側に突出する張出部4aが基板3と一体に形成さ
れている。そして、貫通孔6から露出する基板3の部位
にそれぞれLEDチップ2が、銀ペーストのようなダイ
ボンディングペースト7を用いてダイボンドされてい
る。また、絶縁部材4における基板3と反対側の面に
は、2個のLEDチップ2の実装部位を通る同一直線上
に銅などの導電材料からなる配線パターン(配線部)8
が形成されている。配線パターン8は丸穴5の側壁及び
底面(張出部4a)まで延設され、ワイヤーボンディン
グ用の接続部を構成しており、LEDチップ2の電極
(図示せず)と配線パターン8との間は、例えば金のよ
うな金属細線よりなるボンディングワイヤ(金属線)9
を介して電気的に接続されている。ここで、少なくとも
ボンディングワイヤ9の接続される配線パターン8の部
位には金めっきが施されており、ボンディングワイヤ9
をボンディングしやすいようになっている。また、LE
Dチップ2の上面と、丸穴5の底面に形成された配線パ
ターン8の部位とは略同じ高さになっているので、ボン
ディングワイヤ9の長さを短くして、ボンディングワイ
ヤ9の機械的強度を高めることができ、且つ、ボンディ
ング作業を容易に行えるようにしている。
液硬化型注型用エポキシ樹脂のような封止樹脂(封止材
料)10を注入することによって、LEDチップ2とボ
ンディングワイヤ9の全体が樹脂封止され、ボンディン
グワイヤ9の接続部が封止樹脂10によって保護され
る。ここで、封止樹脂10を注入する際には、絶縁部材
4の上面まで注入すれば良く、封止樹脂10の注入量を
容易に制御することができる。また、ボンディングワイ
ヤ9は、張出部4a上に延設された配線パターン8の部
位に接続されており、丸穴5内に納められているので、
丸穴5内に充填された封止樹脂10によってボンディン
グワイヤ9とその接続部位とを樹脂封止することがで
き、ボンディングワイヤ9が封止樹脂10から外側に露
出することによって機械的強度が低下したり、封止樹脂
10の表面で発生する応力によってボンディングワイヤ
9が断線する虞はない。
に2つの電極が形成されたGaN系LEDチップを例と
して説明しているが、AlInGaP系LEDチップの
ようにチップ下面が一方の電極となり、チップ上面にも
う一方の電極が形成されたようなLEDチップを用いて
も良く、この場合は基板3を配線として用いるか、又
は、基板3に電極を設け、LEDチップと基板3の電極
及び配線パターン8との間をそれぞれボンディングワイ
ヤで接続すれば良い。
は、LEDチップ2が熱伝導性の良好な基板3上に直接
ダイボンドされているから、LEDチップ2の発熱はダ
イボンディングペースト7を介して基板3へ伝わり、基
板3に到達したLEDチップ2の発熱は速やかに基板3
全体に広がる。ここで、LEDチップ2の発熱の放熱経
路には、熱伝導係数の低いダイボンディングペースト7
が存在するが、ダイボンディングペースト7の厚さは数
μm程度と薄いため、放熱性に与える影響は小さく、十
分な放熱性能が得られる。例えば熱抵抗で比較すると、
従来例で説明した砲弾型LEDの場合は、LEDチップ
からリードフレームの先端までの熱抵抗が約350℃/
Wであったのに対して、本実施形態の光源装置1では、
LEDチップ2から基板3の裏面までの熱抵抗が約90
℃/Wであり、熱抵抗を約4分の1に低減することがで
きる。
EDチップ2から外部への放熱特性が高くなり、LED
チップ2の温度上昇が抑制されるから、LEDチップ2
の発光効率が向上すると共に、光出力が増加し、且つ、
長寿命化を図ることができる。
ワイヤ9は封止樹脂10によって封止されており、ボン
ディングワイヤ9の接続部位も封止樹脂10によって保
護されているから、ボンディングワイヤ9に応力が加わ
ることはなく、ボンディングワイヤ9の断線を防止する
ことができ、機械的な強度を向上させることができる。
を用いているが、基板3の材料をアルミニウムに限定す
る趣旨のものではなく、銅などの金属や、窒化アルミニ
ウムなどの熱伝導性の高いセラミックスから形成しても
良く、上述と同様の効果が得られる。また、本実施形態
では絶縁部材4上にプリント配線技術を用いて配線パタ
ーン8を形成しているが、配線パターン8の代わりに、
絶縁部材4内を通り、ボンディングワイヤ9の接続部位
のみをLEDチップ2の近傍に露出させたリードフレー
ム(図示せず)を用いて、LEDチップ2の配線を行っ
ても良い。
を参照して説明する。この光源装置1は、例えばアルミ
ニウムのような熱伝導性の高い材料から形成された基板
3と、例えば液晶ポリマーのような絶縁材料からなる厚
みが約2mmの絶縁部材4とを貼り合わせて形成され
る。
加工を施すことによって形成され、基板3における絶縁
部材4側の面には、直径が約1mmで高さが約0.9m
mの略円柱状の突台部11が突設されている。
は、基板3の突台部11に対応する部位に凹所5’が形
成されており、凹所5’の底には絶縁部材4を貫通する
貫通孔6が形成されている。ここで、貫通孔6の孔径は
約1mmであり、突台部11の外径と略同じになってい
る。また、凹所5’の底面の内径は約2mmであり、凹
所5’の側壁は基板3側から遠ざかるにしたがって内径
が大きくなり、約45度の角度で傾斜するような断面形
状に形成されている。ここに、凹所5’と貫通孔6と
で、基板3と対向する絶縁部材4の部位に絶縁部材4を
貫通して設けられた孔が構成され、凹所5’の底部には
内側に突出する張出部4aが基板3と一体に形成されて
いる。
と突台部11とを嵌合させた状態で接合されており、貫
通孔6から露出する突台部11の部位には厚さが約0.
2mmのLEDチップ2が、銀ペーストのようなダイボ
ンディングペースト7を用いてダイボンドされている。
また絶縁部材4における基板3と反対側の面には、銅な
どの導電材料からなる配線パターン8が形成され、その
表面には金めっきを施してある。配線パターン8は凹所
5’の側壁及び底面まで延設されており、凹所5’の底
面(張出部4a)に延設された配線パターン8の部位と
LEDチップ2の上面に形成された電極との間は、例え
ば金のような金属細線からなるボンディングワイヤ9を
介して電気的に接続されている。
2液硬化型注型用エポキシ樹脂のような封止樹脂10を
注入することによって、LEDチップ2とボンディング
ワイヤ9とが樹脂封止され、ボンディングワイヤ9の接
続部が封止樹脂10によって保護される。ここで、封止
樹脂10を注入する際には、絶縁部材4の上面まで注入
すれば良く、封止樹脂10の注入量を容易に制御するこ
とができる。しかも、ボンディングワイヤ9は、張出部
4a上に延設された配線パターン8の部位に接続されて
おり、凹所5’内に納められているので、凹所5’内に
充填された封止樹脂10によってボンディングワイヤ9
とその接続部位とを樹脂封止することができ、ボンディ
ングワイヤ9が封止樹脂10から外側に露出することに
よって機械的強度が低下したり、封止樹脂10の表面で
発生する応力によってボンディングワイヤ9が断線する
虞はない。
チップ2が熱伝導性の良好な基板3上に直接ダイボンド
されているから、実施形態1の光源装置1と同様、十分
な放熱性能を得ることができ、LEDチップ2の温度上
昇が抑制されるから、LEDチップ2の発光効率が向上
すると共に、光出力が増加し、且つ、長寿命化を図るこ
とができる。
に突台部11を形成しているので、基板3及び絶縁部材
4の接合方向において、LEDチップ2の上面と張出部
4aに形成された配線パターン8の高さとを略同じ高さ
にしたとしても、突台部11の高さ分だけ張出部4aの
厚みを厚くすることができる。ここで、絶縁部材4を樹
脂から形成する場合、張出部4aの厚みを薄くすると歩
留まりが増加するなどして、張出部4aの加工が難しく
なる。また、基板3と絶縁部材4とを貼り合わせて形成
する場合、張出部4aの厚みが薄いと、基板3との間に
隙間が生じる虞がある。それに対して、本実施形態の光
源装置1では張出部4aの幅寸法が約0.5mmである
のに対して、厚みが約1mmとなっているので、張出部
4aを容易に加工することができ、また基板3との間に
隙間を生じることなく、基板3及び絶縁部材4を貼り合
わせることができる。
EDチップ2の上面と、凹所5’の底面(張出部4a)
に形成された配線パターン8の部位とは略同じ高さにな
っているので、ボンディングワイヤ9の長さを短くし
て、ボンディングワイヤ9の機械的強度を高めることが
でき、且つ、ボンディング作業を容易に行えるという利
点もある。また、凹所5’の側壁をテーパ面としている
ので、LEDチップ2から放射された光が凹所5’の側
壁によって吸収されたり、乱反射されることはなく、効
率良く前方へ反射させることができる。
(a)を参照して説明する。本実施形態の光源装置1で
は、実施形態2の光源装置1において、基板3に設けた
突台部11の高さ寸法を約1.1mmとしており、突台
部11の上面と張出部4aに形成された配線パターン8
の上面との高さを略同じにしている。尚、突台部11以
外の構成は実施形態2と同様であるので、同一の構成要
素には同一の符号を付して、その説明を省略する。
プ2から放射された光の内、LEDチップ2の上面と略
平行な方向(水平方向)に放射された光の一部は、張出
部4aの端面によって吸収されたり、乱反射されるなど
して、前方へ放射されなくなり発光効率が低下する虞が
ある。それに対して、本実施形態の光源装置1では、突
台部11の上面と、張出部4aに形成された配線パター
ン8の上面との高さを略同じ高さにしており、LEDチ
ップ2は略平坦な面にダイボンディングされているの
で、LEDチップ2から放射された光が張出部4aの端
面に吸収されたり、乱反射される虞はなく、発光効率を
向上させることができる。
の上面を、張出部4aに形成された配線パターン8より
も上方へ突出させても良く、上述と同様に、LEDチッ
プ2の光が張出部4aの端面に吸収されたり、乱反射さ
れる虞はなく、発光効率を向上させることができる。
尚、突台部11の突出量が大きくなりすぎると、ボンデ
ィングワイヤ9のワイヤ長が長くなって、ボンディング
ワイヤ9が突台部11の角に接触する虞があるため、突
台部11の高さは、突台部11の上面と張出部4aに形
成された配線パターン8の上面とが略面一になるような
高さか、又は、突台部11の上面が張出部4aに形成さ
れた配線パターン8の上面よりも若干高くなるような高
さに形成するのが望ましい。
(a)を参照して説明する。本実施形態では、実施形態
3の光源装置1において、基板3に設けた突台部11の
直径を約0.5mm、高さ寸法を約1.1mmとしてお
り、突台部11の上面と張出部4aに形成された配線パ
ターン8の上面との高さを略同じにしている。尚、基板
3及びLEDチップ2の配置以外は実施形態3と同様で
あるので、同一の構成要素には同一の符号を付して、そ
の説明を省略する。
らなり、電極間距離が約1mmのものを用いており、L
EDチップ2を突台部11と対向させ、突台部11が電
極間に位置するようにして、LEDチップ2の電極面を
配線パターン8にフェースダウン実装した。ここで、L
EDチップ2と配線パターン8とは以下のような方法で
接合した。すなわち、LEDチップ2の電極上に半田バ
ンプ21を形成し、リフロー炉で加熱して半田バンプ2
1を溶融させることにより接合した。なお半田バンプ2
1の高さは2〜3μmであり、基板3とLEDチップ2
の電極面もこの間隔で離れているため電気的絶縁は保た
れる。また封止樹脂10が基板3とLEDチップ2との
隙間に充填されるが、基板3とLEDチップ2との間の
距離は十分短いため、LEDチップ2は基板3に熱結合
されており、LEDチップ2から基板3への熱伝導に対
しては大きな障害とはならない。
は、LEDチップ2の電極が凹所5’の開口部側を向い
ているので、LEDチップ2から外部へと向かう光の一
部はLEDチップ2の電極によって遮られる。遮られた
光の一部は反射を繰り返して外部へと取り出されるが、
残りは内部で吸収されてロスとなる。それに対して、本
実施形態では、LEDチップ2の電極が基板3側に配置
されており、LEDチップ2の発光部からの発光は透明
なサファイア基板を通じて取り出されるため、LEDチ
ップ2の電極やボンディングワイヤ9によって発光の一
部が遮蔽されることがなく、全体として光量が低下する
のを防止できる。また、実施形態3の光源装置1にレン
ズなどの光学部品を組み合わせて使用する場合、焦点距
離によってはLEDチップ2の電極の形状が影として照
射面に投影される問題があるが、本実施形態では電極が
基板3側に配置されているので、前面が均一な照射面と
することができる。さらに、実施形態3で説明したよう
に、LEDチップ2から放射された光が張出部4aの端
面に吸収されたり、乱反射される虞はなく、発光効率を
向上させることができる。
1の上面を、張出部4aに形成された配線パターン8よ
りも約3μm上方へ突出させ、LEDチップ2を突台部
11上面に接触させた状態でフェースダウン実装しても
良く、LEDチップ2を突台部11と直接接触させるこ
とによって放熱性を向上させることができる。但し、こ
の場合には突台部11の上面、又は、突台部11の上面
と接触するLEDチップ2の部位を酸化珪素などの絶縁
性材料でコーティングするなどしてLEDチップ2と基
板3とを絶縁するか、或いは、基板3の材料として電気
導電性の無い材料を用いる必要がある。また、突台部1
1と配線パターン8との段差を吸収するために、半田バ
ンプ21の高さを高くするのが望ましく、LEDチップ
2の電極と配線パターン8との電気的接続を確実にでき
る。
示す構造とした場合にも、上述と同様、LEDチップ2
から放射された光が張出部4aの端面に吸収されたり、
乱反射される虞はなく、発光効率を向上させることがで
きる。
を参照して説明する。本実施形態の光源装置1では、実
施形態3の光源装置1において、基板3の下面における
突台部11に対応する部位に凹所12を設けている。
尚、凹所12以外の構成は実施形態3の光源装置1と同
様であるので、実施形態3と同一の構成要素には同一の
符号を付して、その説明を省略する。
削加工を施すことによって突台部11を形成している
が、本実施形態の光源装置1では、基板3を一面から打
ち出してプレス加工を施し、凹所12を形成することに
よって、基板3の反対側の面に突台部11を形成してお
り、切削加工を施す場合に比べて加工費用を低減でき
る。
いて貼り合わせる場合、接着剤の硬化収縮によって基板
3及び絶縁部材4全体が反ってしまう虞がある。一方、
プレス加工により突台部11を形成すると、接着剤の硬
化収縮によって反る方向とは逆方向の反りが基板3に発
生するので、両者の反りを相殺することによって基板3
及び絶縁部材4全体の反りを抑えることができる。
熱はダイボンディングペースト7を介して基板3の突台
部11に伝わる。突台部11の裏面には凹所12が形成
されているが、基板3は一体に形成されているので、突
台部11に伝わったLEDチップ2の発熱は、速やかに
基板3全体に伝わり、外部へ放熱される。また、基板3
は、光源装置1が取り付けられる筐体や放熱フィンなど
の放熱部品に接触させた状態で使用されるため、LED
チップ2の発熱は基板3を介して速やかに放熱部品へ放
出されることになり、その放熱性能は凹所12が形成さ
れていない場合と略同様である。
を参照して説明する。実施形態3の光源装置1では、基
板3に切削加工を施すことにより突台部11を形成して
いるが、本実施形態の光源装置1では、突台部11を形
成する代わりに、熱伝導性を有する材料から形成された
ベース板3’における絶縁部材4の貫通孔6に対応する
部位に、貫通孔6に連通する断面略円形の連通孔13を
形成し、この連通孔13内に例えばアルミニウムのよう
な熱伝導性を有する材料から形成された円柱状の熱伝導
体(突起部)14を圧入している。ここに、ベース板
3’と熱伝導体14とで基板が構成され、ベース板3’
の表面から絶縁部材4側に突出する熱伝導体14の先端
部から突台部が構成され、熱伝導体14の先端部は貫通
孔6内に挿入され、熱伝導体14の先端部にLEDチッ
プ2がダイボンディングペースト7を用いてダイボンド
される。尚、ベース板3’及び熱伝導体14以外の構成
は実施形態3と同様であるので、同一の構成要素には同
一の符号を付して、その説明を省略する。
加工を施すことによって基板3に突台部11を形成して
いるので、加工費用が高くなるが本実施形態では、ベー
ス板3’に孔開け加工を施し、孔内に熱伝導体14を圧
入することによって、突台部を形成しているので、切削
加工によって突台部11を形成する場合に比べて、加工
費用を低減することができる。
り付けられる筐体や放熱フィンなどの放熱部品を接触さ
せて使用する場合を考えると、LEDチップ2の発熱は
ダイボンディングペースト7を介して熱伝導体14に伝
わる。ここで、熱伝導体14は、ベース板3’を貫通す
る連通孔13内に圧入され、ベース板3’の裏面まで達
しているので、LEDチップ2の発熱は熱伝導体14を
通じて速やかに裏面側に伝わり、放熱部品へと放出され
る。また、熱伝導体14はベース板3’の連通孔13内
に圧入されており、熱伝導体14とベース板3’とは密
着しているので、両者の間では十分な熱伝導が行われ、
熱伝導体14に伝わった熱はベース板3’全体に速やか
に放出されるから、基板3に突台部11を一体に形成し
た実施形態3の光源装置と同様の放熱特性を得ることが
できる。
を参照して説明する。本実施形態の光源装置1では、実
施形態3の光源装置1において、基板3に設けた突台部
11の周面と、絶縁部材4に設けた貫通孔6の端面との
間に隙間15を設けている。また、絶縁部材4における
基板3側の面(接合面)に位置決め用の凹所16を形成
するとともに、凹所16と凹凸係止する凸部17を基板
3の上面(接合面)に設けている。尚、隙間15、凹所
16、凸部17以外は実施形態3の光源装置1と同様で
あるので、同一の構成要素には同一の符号を付して、そ
の説明を省略する。
貼り合わせて形成する場合、余分な接着剤が接着面から
はみ出す虞があり、実施形態3の光源装置ではLEDチ
ップ2がダイボンドされる部位のすぐ近傍に接着剤がは
み出すため、LEDチップ2から放射される光の一部が
接着剤によって遮光される虞がある。また、はみ出した
接着剤が突台部11の先端面に付着して、LEDチップ
2をダイボンドできなくなる虞もあるが、本実施形態の
光源装置では、突台部11と張出部4aとの間に隙間1
5を設けており、接着面からはみ出した接着剤は隙間1
5に溜まるため、LEDチップ2がダイボンドされる部
位の近傍に余分な接着剤がはみ出して、LEDチップ2
から放射される光が遮光されたり、LEDチップ2をダ
イボンドできなくなるのを防止できる。
材4に設けた凹所16とを凹凸係止することによって、
基板3と絶縁部材4との位置合わせを行うことができ、
基板3及び絶縁部材4を貼り合わせる際の位置決めが容
易に行える。尚、本実施形態では基板3に設けた凸部1
7と、絶縁部材4に設けた凹所16とで、基板3と絶縁
部材4との位置決めを行うための位置決め手段を構成し
ているが、位置決め手段を凸部17と凹所16とに限定
する趣旨のものではなく、適宜の手段を用いて基板3と
絶縁部材4との位置決めを行うようにすれば良い。
を参照して説明する。本実施形態では、実施形態3の光
源装置1において、絶縁部材4の基板3側の面に貫通孔
6を中心として半径約1mmの位置に幅約0.5mm、
深さ約0.3mmのリング状の溝4dを設けている。
尚、溝4d以外の構成は実施形態3と同様であるので、
同一の構成要素には同一の符号を付して、その説明は省
略する。
貼り合わせて接合する場合、余分な接着剤が接着面から
はみ出す虞があり、実施形態3の光源装置1ではLED
チップ2がダイボンドされる部位のすぐ近傍に接着剤が
はみ出すため、LEDチップ2から放射される光の一部
が接着剤によって遮光される虞がある。また、はみ出し
た接着剤が突台部11の先端面に付着して、LEDチッ
プ2をダイボンドできなくなる虞もある。それに対し
て、本実施形態の光源装置1では、突台部11が嵌合さ
れる貫通孔6の周囲に溝4dが形成されているため、余
分な接着剤22はこの溝4d内に溜まり、貫通孔6を通
って突台部11近傍にはみ出すのを防止できる。
合、基板3と絶縁部材4との接合面に接着剤22が不足
する部位が発生して隙間ができ、封止樹脂10を充填す
る際にこの隙間を通って封止樹脂10が漏れ出す虞があ
るが、本実施形態では、貫通孔6の周りに溝4dを形成
しており、溝4d内に溜まった接着剤22が封止樹脂1
0の流出を防止する堰の役割を果たすため、封止樹脂1
0の流出を防止できる。
を参照して説明する。本実施形態では、実施形態3の光
源装置1において、基板3の材料として例えば銅のよう
な導電性材料を用い、突台部11の上面に金のめっき層
を形成している。また、配線パターン8は凹所5’内に
1電極分のみを形成しており、LEDチップ2を、突台
部11と張出部4aに形成された配線パターン8とに跨
る位置に、一方の電極を突台部11の上面と接触させる
とともに、他方の電極を張出部4aに形成された配線パ
ターン8と接触させるようにしてフェースダウン実装し
ている。尚、LEDチップ2の実装方法以外は実施形態
3と同様であるので、同一の構成要素には同一の符号を
付して、その説明は省略する。
と同様、LEDチップ2の電極が基板3側に配置されて
おり、LEDチップ2の発光部からの発光は透明なサフ
ァイア基板を通じて取り出されるため、LEDチップ2
の電極によって発光の一部が遮蔽されることがなく、全
体として光量が低下するのを防止できる。また、実施形
態3で説明したように、LEDチップ2から放射された
光が張出部4aの端面に吸収されたり、乱反射される虞
はなく、発光効率を向上させることができる。さらに、
本実施形態では配線パターン8と基板3との間に電源E
と電流制限用の抵抗Rとを接続することによって、LE
Dチップ2に給電することができ、基板3を給電部の一
部として利用しているため、凹所5’内へ延伸する配線
パターン8を簡略化することができる。また、基板3を
通じて裏面側に配線が引き出されるのと同じ効果がある
ため、光源装置1の電力を基板3の裏面側から供給する
ことができる。
Dチップ2をフェースダウン実装しているが、LEDチ
ップ2をフェースアップでダイボンディング実装し、ボ
ンディングワイヤを介してLEDチップ2の電極と配線
パターン8及び基板3とを電気的に接続するようにして
も良い。
図10を参照して説明する。実施形態9の光源装置1で
は基板3にLEDチップ2を1個実装しているが、本実
施形態では複数(例えば2個)のLEDチップ2を基板
3に実装している。また、基板3に互いに電気的に絶縁
された複数の基板部(領域)3a,3bを設けており、
各基板部3a,3bにそれぞれLEDチップ2を1個づ
つ実装している。尚、基本的な構造は実施形態9と同様
であるので、同一の構成要素には同一の符号を付して、
その説明は省略する。
基板3の材料として導電性材料を用いており、基板3は
全体が同電位となっているので、基板3に複数のLED
チップ2を実装した場合、これらのLEDチップ2は全
て並列に接続されることになる。LEDチップ2は個体
ごとに若干駆動電圧が異なるため、複数のLEDチップ
2を並列接続した場合は、駆動電圧が最も低いLEDチ
ップ2に多大な電流が流れて、このLEDチップ2が破
損する虞がある。複数のLEDチップ2に流れる電流を
均一にするためには、個々のLEDチップ2毎に電流制
限用の抵抗を直列接続すれば良いが、LEDチップ2の
数だけ電流制限用の抵抗が必要になり、電流制限用の抵
抗で消費される電力損失が増大するという問題がある。
いに電気的に絶縁された複数の基板部3a,3bに分割
し、各基板部3a,3bにLEDチップ2,2を1個づ
つ実装しているので、各基板部3a,3bに実装された
LEDチップ2,2を直列接続し、LEDチップ2,2
の直列回路と並列に電流制限用の抵抗Rを介して直流電
源Eを接続することにより、個々のLEDチップ2に流
れる電流を均一にできる。したがって、特定のLEDチ
ップ2に集中して電流が流れることがないから、電流集
中によるLEDチップ2の破損を防止でき、また電流制
限用抵抗Rが複数のLEDチップ2に対して1個で済む
から、電流制限用の抵抗Rによって発生する電力損失を
低減できる。
態4と同様、LEDチップ2の電極が基板3側に配置さ
れており、LEDチップ2の発光部からの発光は透明な
サファイア基板を通じて取り出されるため、LEDチッ
プ2の電極によって発光の一部が遮蔽されることがな
く、全体として光量が低下するのを防止できる。また、
実施形態3で説明したように、LEDチップ2から放射
された光が張出部4aの端面に吸収されたり、乱反射さ
れる虞はなく、発光効率を向上させることができる。さ
らに、本実施形態では配線パターン8と基板3との間に
電源Eと電流制限用の抵抗Rとを接続することによっ
て、LEDチップ2に給電することができ、基板3を給
電部の一部として利用しているため、凹所5’内へ延伸
する配線パターンを簡略化することができる。また、基
板3を通じて裏面側に配線が引き出されるのと同じ効果
があるため、光源装置1の電力を基板3の裏面側から供
給することができる。
図11を参照して説明する。実施形態3の光源装置1で
は、絶縁部材4に設けた凹所5’内に封止樹脂10を注
入し(注型)、LEDチップ2やボンディングワイヤ9
を封止しているが、本実施形態の光源装置1では、実施
形態3の光源装置において、金型を用いたトランスファ
ー成形によって樹脂封止を行っており、封止樹脂10の
表面に凸レンズ10aを形成している。尚、封止樹脂1
0以外の構成は実施形態3と同様であるので、同一の構
成要素には同一の符号を付して、その説明を省略する。
り樹脂封止を行う場合は、封止樹脂10の表面を所望の
形状に形成することはできないが、本実施形態の光源装
置1では、基板3及び絶縁部材4ごと金型(図示せず)
内に組み込み、圧入によって封止樹脂10を押し込むト
ランスファー成形により樹脂封止を行っているので、封
止樹脂10の表面を凸レンズの形状に容易に形成するこ
とができ、封止樹脂10から構成される凸レンズによっ
てLEDチップ2から放射された光を、LEDチップ2
の前方の所望の方向に配光することができる。
凸レンズの形状に形成しているが、封止樹脂10の表面
を凹レンズの形状に形成しても良く、凹レンズにより拡
散光放射を行うようにしても良い。また、注型により樹
脂封止を行う場合でも、凹所5’の内側面の面粗さや、
形状や、表面処理などの条件を用いて、凹所5’の内側
面と封止樹脂10との濡れ性を制御することによって、
封止樹脂10の表面形状を制御することも可能であり、
一般に濡れ性が良い場合は封止樹脂10の表面形状は凹
面となり、濡れ性が悪い場合は封止樹脂10の表面形状
は凸面となる。
図12(a)(b)を参照して説明する。図12(a)
は光源装置1の断面図、図12(b)は光源装置1の平
面図をそれぞれ示す。本実施形態では、実施形態3の光
源装置1において、絶縁部材4に形成した凹所5’の内
面全体に、例えば銀のような導電性の高い材料により形
成された高反射率の反射膜(反射部)18を形成してい
る。反射膜18は配線パターン8,8に連続して形成さ
れており、配線パターン8の延びる方向と直交する方向
に延びる幅狭(例えば幅約0.2mm)のスリット24
によって2つの部位に分割され、それぞれの部位は電気
的に絶縁されている。そして、突台部11の上面に実装
されたLEDチップ2の電極と各反射膜18,18とを
ボンディングワイヤ9によって電気的に接続している。
尚、反射膜18以外の構成は実施形態3と同様であるの
で、同一の構成要素には同一の符号を付して、その説明
は省略する。
プ2から放射された光は、一部が封止樹脂10を透過し
て直接外部へ放射されると共に、一部が反射膜18によ
って反射され外部へ放射される。絶縁部材4の表面より
も、反射膜18の方が反射率が高いため、実施形態3の
光源装置1に比べて外部へと取り出される発光の割合が
高くなる。さらに、本実施形態の光源装置1では、配線
パターン8の一部で反射膜18を兼用しているため、凹
所5’内に配線パターン8と反射膜18とを別々に形成
する場合に比べて、配線パターン又は反射膜の形状を簡
略化できる。尚、ボンディングワイヤ9をワイヤボンデ
ィングするためには、反射膜18を材料を金とするのが
望ましいが、反射膜18を金により形成した場合は、青
色発光のLEDチップ2から放射される青色光を吸収し
てしまうため、本実施形態では反射膜18の材料として
銀を用いている。
図13(a)(b)を参照して説明する。実施形態3の
光源装置1では、絶縁部材4における基板3と反対側の
面に、突台部11の直径と略同じ幅の配線パターン8,
8を、突台部11を通る同一直線上に形成しており、L
EDチップ2の上面に設けた電極と各配線パターン8と
の間をボンディングワイヤ9を介して電気的に接続して
いる。それに対して、本実施形態の光源装置1では、実
施形態3の光源装置において、各配線パターン8の幅寸
法を突台部11の直径に比べて十分小さい幅寸法(例え
ば約0.5mm)とし、LEDチップ2の電極と各配線
パターン8との間を接続するボンディングワイヤ9の延
びる方向に、各配線パターン8を延長して形成してい
る。そして、凹所5’の内側面および底面における配線
パターン8以外の部位に、例えば銀から形成された高反
射率の反射膜(反射部)18を形成している。尚、配線
パターン8及び反射膜18以外の構成は実施形態3と同
様であるので、同一の構成要素には同一の符号を付し
て、その説明を省略する。
放射された光は、一部が封止樹脂10を透過して直接外
部へ放射されると共に、一部が反射膜18によって反射
され外部へ放射される。
LEDチップ2から放射された光の一部はボンディング
ワイヤ9によって遮光される。また凹所5’の内側面お
よび底面に形成された配線パターン8には、ワイヤーボ
ンディングを容易に行えるようにするため、表面に金め
っきを施しているが、青色発光や緑色発光のLEDチッ
プ2を用いる場合、金のめっき層はこれらの光に対して
反射率が低いため、光源装置1の光出力が低下するとい
う問題があった。
低い配線パターン8の幅寸法を狭くすると共に、ボンデ
ィングワイヤ9の延びる方向に配線パターン8を形成し
ているので、ボンディングワイヤ9の影となる部分と配
線パターン8とを一致させることによって、LEDチッ
プ2からの光が遮光される部位の面積を小さくできる。
また、凹所5’の内側面および底面における配線パター
ン8以外の部位に反射膜18を形成しているので、LE
Dチップ2からの光を効率良く反射させることができ、
光取り出し効率を向上させることができる。
図14を参照して説明する。本実施形態の光源装置1で
は、実施形態3の光源装置において、LEDチップ2と
して青色発光のLEDチップを用いると共に、封止樹脂
10’の中にLEDチップ2の青色発光により励起され
補色である黄色発光を行う蛍光体粒子を分散させてお
り、封止樹脂10’に光色変換機能を持たせている。
尚、封止樹脂10’以外の構成は実施形態3と同様であ
るので、同一の構成要素には同一の符号を付して、その
説明は省略する。
の青色発光と、蛍光体粒子によって一部変換された黄色
光との混色によって、白色光を得ることができる。砲弾
型発光ダイオードの場合は、初期光束の70%にまで低
下する寿命が約6000時間程度と短いが、本実施形態
の光源装置1では、LEDチップ2の放熱性を高めるこ
とにより、砲弾型発光ダイオードに比べて著しく寿命を
延ばすことができ、長寿命の白色発光ダイオードを実現
することができる。
図15を参照して説明する。本実施形態では、実施形態
5の光源装置1において、張出部4aの突出量を大きく
し、張出部4aの内周面に上側ほど開口が広がるように
傾斜するテーパ面25を形成している。尚、テーパ面2
5以外は実施形態5の光源装置1と略同様であるので、
同一の構成要素には同一の符号を付して、その説明を省
略する。
り、このアルミ板を一面から打ち出してプレス加工を施
し、凹所12を形成することによって、反対側の面に突
台部11を形成している。
の面には、基板3の突台部11に対応する部位に凹所
5’が形成されている。凹所5’の底面は基板3に対し
て略平行であり、底面の形状は直径が約2.7mmの円
形となっており、凹所5’の底面略中央には絶縁部材4
を貫通する貫通孔6が形成されている。ここで、貫通孔
6における基板3側の部位の孔径は突台部11の外径と
略同じ径に形成されているが、上下方向における途中の
部位から凹所5’の底面にかけて、上側にいくほど開口
が広がるように傾斜するテーパ面25が形成されてい
る。また、凹所5’の側周面にも、上側ほど開口が広が
るように傾斜するテーパ面26を形成してあり、テーパ
面26は凹所5’の底面から絶縁部材4の上面にかけて
形成されている。
ける基板3と反対側の面に形成されており、テーパ面2
6を通って凹所5’の底面まで延設されている。そし
て、突台部11の上面には青色発光のLEDチップ2が
ダイボンディングされており、LEDチップ2の電極と
配線パターン8とをボンディングワイヤ9によって電気
的に接続している。なお、LEDチップ2の上面はテー
パ面25の上端よりも基板3側に位置するように各部の
寸法が設定されている。
の略上端まで封止樹脂10’を充填しており、封止樹脂
10’によりLEDチップ2及びボンディングワイヤ9
を保護している。この封止樹脂10’の中には、LED
チップ2の青色発光により励起され補色である黄色発光
を行う蛍光体粒子を分散させており、封止樹脂10’に
光色変換機能を持たせている。而して、この光源装置1
では、実施形態14と同様に、LEDチップ2からの青
色発光と、封止樹脂10’中の蛍光体粒子によって一部
変換された黄色光とを混色することによって、白色光を
得ることができる。
光は、封止樹脂10’中の蛍光体粒子によって一部が黄
色に変換されると同時に散乱されながら封止樹脂10’
内を進行する。上述した実施形態14の光源装置1の場
合、LEDチップ2から放出された青色発光の内、基板
3に対して垂直方向に進む光が封止樹脂10’内を通過
する距離と、基板3に対して斜め方向に進む光が封止樹
脂10’内を通過する距離とでは、斜め方向に進む光が
封止樹脂10’内を通過する距離の方が長いため、斜め
方向では青色発光の大部分が黄色光に変換されてしま
う。このため基板3に対して垂直方向では白色光が得ら
れても、斜め方向では黄色みをおびた光が得られるとい
う発光色の角度依存性が生じる問題点がある。
は、LEDチップ2から放射された青色光を、封止樹脂
10’内を進行する初期の段階で、テーパ面25によっ
て基板3に対して垂直な方向へと反射させており、これ
によって封止樹脂10’内を通過する距離を角度に関わ
らず略一定とすることができ、発光色の角度依存性を低
減することができる。
源装置1に比べて広くしており、凹所5’の底面(平坦
面)に形成される配線パターン8の面積を広くしている
ので、配線パターン8にボンディングワイヤ9をボンデ
ィングしやすくなり、さらに封止樹脂10’が充填され
る凹所5’の容積を大きくすることができるから、充填
量の制御が容易になる。
図16を参照して説明する。本実施形態の光源装置1で
は、実施形態14の光源装置において凹所5’の側面形
状を2段構造としている。すな わち、凹所5’の内側
面には、凹所5’の底面側から開口側に行くにしたがっ
て内径が徐々に大きくなり、約45度の角度で傾斜する
ようなテーパ面4bが形成され、テーパ面4bの先端部
から開口部にかけて、LEDチップ2からの光を所望の
方向に反射して集光できるような断面形状を有する反射
面4cが形成されている。また、絶縁部材4における基
板3と反対側の面には、一対の配線パターン8が突台部
11を通る同一直線上に形成されており、反射面4cに
おける配線パターン8以外の部位には、例えば銀などの
高反射率の材料から形成された反射膜18が形成されて
いる。そして、凹所5’内にはテーパ面4bの先端部に
達するまで封止樹脂10’が注入されている。尚、凹所
5’の側面形状以外の構成は実施形態14と同様である
ので、同一の構成要素には同一の符号を付して、その説
明は省略する。
ら外部へと取り出される光は、封止樹脂10’中に蛍光
体粒子が分散されているため、完全拡散配光となってお
り、1段目から放射された光は非常に配光制御しやすく
なっているので、2段目の反射面4cの形状を変更する
ことによって、LEDチップ2からの光を所望の方向に
配光することができる。
図17を参照して説明する。本実施形態の光源装置1
は、実施形態3で説明した光源装置1と同様の構造を有
しており、実施形態3では基板3にLEDチップ2を1
個実装しているが、本実施形態では基板3にLEDチッ
プ2を2個実装し、2個のLEDチップ2を配線パター
ン8を介して直列に接続している。尚、光源装置1の基
本的な構成は実施形態3と同様であるので、同一の構成
要素には同一の符号を付して、その説明は省略する。
部分以外の部位の面積を小さくするのが望ましいが、実
施形態3で説明した光源装置1の場合、配線パターン8
における絶縁部材4の上面に形成された部位を外部電源
に接続するための通電部としており、通電部が発光の取
り出し面側に位置しているため、通電部に通電するため
のコネクタなどの部品を光源装置1の前面(発光面)側
に配置する必要があり、これらの部品を配置するために
発光部分以外の部位の面積が増加するという問題があっ
た。
縁部材4に設けた3個の配線パターン8の内、一方のL
EDチップ2のみに電気的に接続された両側の配線パタ
ーン8における絶縁部材4の上面(前面)に形成された
平坦部8cに対応する基板3の部位に基板3を貫通する
開口孔3cを設けており、この開口孔3cから露出する
絶縁部材4の部位に絶縁部材4と配線パターン8とを貫
通する貫通孔4eを設けている。そして、この貫通孔4
e内に、導電材料から略棒状に形成された電極ピン23
を絶縁部材4の上側から挿入して、電極ピン23の先端
部を基板3の下面から突出させており、電極ピン23の
先端を被固定部に固定すると、電極ピン23と配線パタ
ーン8とが電気的に接続された状態で光源装置1が被固
定部に固定される。尚、貫通孔4eの孔径は開口孔3c
の孔径よりも小さい寸法に形成されている。
ン8に電気的に接続された電極ピン23によって配線部
の一部を基板側に向かって延伸させており、基板側に延
伸された部分(すなわち電極ピン23の先端部)を外部
接続端子として、外部から給電することによって、基板
3側からLEDチップ2に給電することができる。した
がって、コネクタなどの給電部品を基板3側(発光面と
反対側)に配置することができ、発光の取り出し側から
見た時に発光部分以外の部位の面積が全体に占める割合
を低減でき、光源装置1の小型化を図るとともに、同じ
面積であれば発光出力を大きくすることができる。
図18を参照して説明する。本実施形態では、実施形態
3で説明した光源装置1において、基板3の突台部11
を除いた部分を直径が約5mm、高さが約10mmの円
柱形状として、上面略中央に突台部11を突設してい
る。一方、絶縁部材4の平面形状を一辺が約10mmの
正方形としており、絶縁部材4の前面側に形成した配線
パターン8を側面を通って裏面側まで延伸し、裏面側に
回り込むように延伸された部位を外部接続端子8dとし
ている。尚、基板3及び配線パターン8以外の構成は実
施形態3と同様であるので、同一の構成要素には同一の
符号を付して、その説明は省略する。
体40に取り付けた状態を示している。器具本体40
は、直径が約6mmの丸孔41が開口したガラスエポキ
シ製の配線基板42を備え、丸孔41内に光源装置1の
基板3を挿入して、絶縁部材4の裏面側に延伸された外
部接続端子8dを配線基板42の上面に形成された配線
パターン43に半田付けすることによって、光源装置1
が器具本体40に電気的且つ機械的に結合される。この
時、丸孔41から下方に突出する基板3の下面が器具本
体40の放熱部品44に熱結合されるので、光源装置1
の放熱性が向上する。このように、基板3の下面を配線
基板42とは別に用意した放熱部品44と接触させ、放
熱部品44を介してLEDチップ2の発熱を放熱してい
るので、配線基板42には熱伝導性は低いものの安価な
ガラスエポキシ基板を用いることができ、コストダウン
を図ることができる。
プ2を1個だけ実装しているが、基板3に複数のLED
チップ2を実装しても良いことは言うまでもない。
図19を参照して説明する。本実施形態では、実施形態
3の光源装置1において、基板3の突台部11を除いた
部分を直径が約5mm、高さが約0.5mmの円柱形状
として、上面略中央に突台部11を突設している。一
方、絶縁部材4の平面形状を一辺が約20mmの正方形
としており、基板3側の面に貫通孔6を中心とする直径
が約5mm、深さが約0.5mmの凹部27を設けてい
る。そして、絶縁部材4における凹部27の外側の部位
であって、絶縁部材4の前面側に設けた配線パターン8
に対応する部位に絶縁部材4を貫通するスルーホール2
8を設け、スルーホール28内に導電材料を充填して形
成された導電部8eを介して絶縁部材4の前面側に形成
された配線パターン8と裏面側に形成された接続端子8
fとを電気的に接続している。尚、基板3、絶縁部材4
及び配線パターン8以外の構成は実施形態3と同様であ
るので、同一の構成要素には同一の符号を付して、その
説明は省略する。
体の配線基板42に実装した状態を示している。ここ
で、基板3の下面と絶縁部材4の下面とが略面一になる
よう各部の寸法関係が設定されており、基板3を配線基
板42上に載置すると、絶縁部材4に設けた接続端子8
fが配線基板42に設けた配線パターン43に電気的に
接続されるので、配線基板42からLEDチップ2に給
電することができる。したがって、この光源装置1を配
線基板42に取り付けるにあたり、光源装置1を配線基
板42のパターン面にそのまま実装することができ、し
かも基板3の下面が配線基板42と接触するので、光源
装置1の放熱を配線基板42を通じて放出することがで
き、放熱性の良好な表面実装形の光源装置1を実現でき
る。
プ2を1個だけ実装しているが、基板3に複数のLED
チップ2を実装しても良いことは言うまでもない。
図20を参照して説明する。実施形態3の光源装置1で
は基板3の一面のみにLEDチップ2を実装している
が、本実施形態の光源装置1では基板3の両面にLED
チップ2を実装している。尚、基板3の両面にLEDチ
ップ2を実装している点以外は実施形態3と同様である
ので、同一の構成要素には同一の符号を付して、その説
明は省略する。
個の突台部11を突設している。絶縁部材4における基
板3の突台部11に対応する部位には、基板3と反対側
の面に開放された凹所5’が形成されており、凹所5’
の底には絶縁部材4を貫通する貫通孔6が形成されてい
る。ここで、貫通孔6の孔径は約1mmであり、突台部
11の外径と略同じになっている。また凹所5’の底面
の内径は約2mmであり、凹所5’の側壁は基板3側か
ら遠ざかるにしたがって内径が大きくなり、約45度の
角度で傾斜するような断面形状に形成されている。
孔6と突台部11とを嵌合させた状態で接合されてお
り、貫通孔6から露出する突台部11の部位には厚さが
約0.2mmのLEDチップ2が、銀ペーストのような
ダイボンディングペースト7を用いてダイボンドされて
いる。また絶縁部材4における基板3と反対側の面に
は、銅などの導電材料からなる配線パターン8が形成さ
れ、その表面には金めっきを施してある。配線パターン
8は凹所5’の側壁及び底面まで延設されており、凹所
5’の底面を構成する張出部4aに形成された配線パタ
ーン8とLEDチップ2の上面に形成された電極との間
は、例えば金のような金属細線からなるボンディングワ
イヤ9を介して電気的に接続されている。
は、絶縁部材4とLEDチップ2と配線パターン8と封
止樹脂10とが基板3の両面に設けられているので、L
EDチップ2の発光を基板3の両面に放射させることが
できる。また、基板3の両面に同じ部品が配置されてい
るので、基板3の反りを抑制することもできる。
源装置1の製造方法を図21(a)〜(e)を参照して
説明する。尚、本実施形態の光源装置1の構造は実施形
態3と同様であるので、同一の構成要素には同一の符号
を付して、その説明を省略する。
リフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、シ
ンジオタクチックポリスチレン(以下SPSと記す)、
ポリブチレンテレフタレート(以下PBTと記す)など
の絶縁材料から形成されたMID(Molded Interconnec
t Device)を用いており、射出成形或いはトランスファ
ー成形によって凹所5’及び貫通孔6を形成している
(図21(a)参照)。そして、絶縁部材4の表面全体
に、真空蒸着、DCスパッタリング法、或いは、RFス
パッタリング法を用いて膜厚が例えば0.3μmの銅薄
膜を形成する。次に、銅薄膜を形成した基板3の表面に
レーザ等の電磁波を照射して、電磁波を照射した部分の
めっき下地層を除去する。尚、この時照射するレーザと
しては、第2或いは第3高調波YAGレーザ、YAGレ
ーザなどめっき下地材の吸収が良いものが好ましく、例
えばガルバノミラーで走査することによって、回路部
(配線パターン8)以外の絶縁スペースとなる部位(以
下、非回路部と言う)に照射されるものであり、少なく
とも非回路部における回路部との境界部分に非回路部の
パターンに沿って照射することにより、非回路部におけ
る回路部との境界領域のめっき下地層を除去するもので
ある。その後、回路部に給電して、電気銅めっき、電気
ニッケルめっき、電気銀めっきなどを行い、所定の膜厚
の金属膜を形成した配線パターン8を形成した後、非回
路部をソフトエッチングなどで除去する(図21(b)
参照)。尚、電気銀めっきの代わりに電気金めっきを施
しても良く、光の反射効率や配線作業性を考慮してめっ
きの材料や厚みを適宜決定すれば良い。
の良好な材料から形成された基板3を、エポキシ樹脂や
アクリル樹脂などの接着剤を用いて、絶縁部材4の下面
に貼り付ける(図21(c)参照)。この時、絶縁部材
4の貫通孔6に対応する基板3の部位に予め突台部11
を形成しておくのが望ましい。また、接着剤を用い基板
3及び絶縁部材4を貼り合わせる代わりに、突台部11
を貫通孔6に圧入することによって、基板3及び絶縁部
材4を結合するようにしても良い。
露出する基板3の部位に、青色LEDチップ2を透光性
を有する接着剤を用いてダイボンドし、直径が例えば2
5μmの金のボンディングワイヤ9を用いてワイヤボン
ディングを行う(図21(d)参照)。
励起され補色である黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中
に分散させた封止樹脂10’を凹所5’に注入して、L
EDチップ2やボンディングワイヤ9を封止する(図2
1(e)参照)。
施してLEDチップ2の実装部位を形成しているため、
加工費用が高く、しかもLEDチップ2の実装部位に切
削傷ができるなどして面粗度が粗くなるため、LEDチ
ップ2のボンディング作業がやりにくいという問題があ
るが、本実施形態では、上述のように基板3と絶縁部材
4とを接合し、絶縁部材4の貫通孔6から露出する基板
3の部位にLEDチップ2を実装しているので、加工費
用を低減でき、またLEDチップ2の実装部位が平坦で
あり、且つ、絶縁部材4がMIDにより構成されている
から、ボンディングワイヤ9が接続されるパッド面が平
坦で平面度が良く、LEDチップ2を容易に実装でき
る。また、ボンディングワイヤ9は凹所5’内に納めら
れるので、凹所5’内に充填した封止樹脂10’からボ
ンディングワイヤ9がはみ出ることはなく、ボンディン
グワイヤ9が断線する確率が少なくなり、信頼性が向上
する。
源装置の製造方法を図22(a)〜(d)を参照して説
明する。尚、本実施形態の光源装置1の構造は実施形態
3の光源装置と同様であるので、同一の構成要素には同
一の符号を付して、その説明を省略する。
リフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、S
PS、PBTなどの絶縁材料から形成されたMIDを用
いている。また、基板3の材料として銀、アルミ、銅な
どの熱伝導性の良好な材料を用い、基板3と絶縁部材4
とをインサート成形により同時に形成する(図22
(a)参照)。
着、DCスパッタリング法、或いは、RFスパッタリン
グ法を用いて膜厚が例えば0.3μmの銅薄膜を形成す
る。次に、銅薄膜を形成した基板3の表面にレーザ等の
電磁波を照射して、電磁波を照射した部分のめっき下地
層を除去する。尚、この時照射するレーザとしては、第
2或いは第3高調波YAGレーザ、YAGレーザなどめ
っき下地材の吸収が良いものが好ましく、例えばガルバ
ノミラーで走査することによって、回路部(配線パター
ン8)以外の絶縁スペースとなる部位(以下、非回路部
と言う)に照射されるものであり、少なくとも非回路部
における回路部との境界部分に非回路部のパターンに沿
って照射することにより、非回路部における回路部との
境界領域のめっき下地層を除去するものである。その
後、回路部に給電して、電気銅めっき、電気ニッケルめ
っき、電気銀めっきなどを行い、所定の膜厚の金属膜を
形成した配線パターン8を形成した後、非回路部をソフ
トエッチングなどで除去する(図22(b)参照)。
尚、電気銀めっきの代わりに電気金めっきを施しても良
く、光の反射効率や配線作業性を考慮してめっきの材料
や厚みを適宜決定すれば良い。
露出する基板3の部位に、青色LEDチップ2を透光性
を有する接着剤を用いてダイボンドし、直径が例えば2
5μmの金のボンディングワイヤ9を用いてワイヤボン
ディングを行う(図22(c)参照)。
励起され補色である黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中
に分散させた封止樹脂10’を凹所5’に注入して、L
EDチップ2やボンディングワイヤ9を封止する(図2
2(d)参照)。
切削加工を施してLEDチップ2の実装部位を形成して
いるため、加工費用が高く、しかもLEDチップ2の実
装部位に切削傷ができるなどして面粗度が粗くなるた
め、LEDチップ2のボンディング作業がやりにくいと
いう問題があるが、本実施形態では、上述のように基板
3と絶縁部材4とをインサート成形し、絶縁部材4の貫
通孔6から露出する基板3の部位にLEDチップ2を実
装しているので、LEDチップ2が実装される基板3の
部位が平坦であり、且つ、絶縁部材4をMIDにより構
成しているので、ボンディングワイヤ9が接続されるパ
ッド面が平坦で平面度が良く、LEDチップ2を容易に
実装できる。また、ボンディングワイヤ9は凹所5’内
に納められるので、凹所5’内に充填した封止樹脂1
0’からボンディングワイヤ9がはみ出ることはなく、
ボンディングワイヤ9が断線する確率が少なくなり、信
頼性が向上する。また、基板3と絶縁部材4とをインサ
ート成形により形成しているので、基板3及び絶縁部材
4を接合する工程を無くすことができ、製造コストを低
減できる。
源装置の製造方法を図23(a)〜(d)を参照して説
明する。尚、本実施形態の光源装置1の構造は実施形態
3の光源装置と略同様であるので、同一の構成要素には
同一の符号を付して、その説明を省略する。
aを打ち抜いて、曲げ等の形状を形成することにより、
突台部11の突設された基板3を形成すると共に、厚み
が約0.2mmのリードフレーム20bを打ち抜いて、
曲げ等の形状を形成することにより、突台部11を挿通
させる挿通孔8aが形成された配線部8’を形成してい
る(図23(a)参照)。尚、リードフレーム20a,
20bの材料としては、例えば銅、42アロイなど導電
性、熱伝導性の優れた材料を用いている。
る突台部11と、ボンディングワイヤ9の接続される配
線部8’の部位に部分的に電気ニッケルめっき、電気銀
めっきを行う。尚、ボンディングワイヤ9が接続される
ワイヤパッド部8bは、電気銀めっきの代わりに電気金
めっきを施しても良く、ボンディングワイヤ9の接続作
業を容易に行える(図23(b)参照)。
ポリフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、
SPS、PBTなどの絶縁性を有する材料を用い、部分
めっきの施された配線部8’と基板3とをインサート成
形により同時成形する(図23(c)参照)。この時、
MIDからなる絶縁部材4に形成された凹所5’の底面
に、基板3の突台部11と配線部8’のワイヤパッド部
8bとが露出する。
チップ2を透光性を有する接着剤を用いてダイボンド
し、直径が例えば25μmの金のボンディングワイヤ9
を用いてワイヤボンディングを行う(図23(d)参
照)。
励起され補色である黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中
に分散させた封止樹脂10’を凹所5’に注入して、L
EDチップ2やボンディングワイヤ9を封止する(図2
3(e)参照)。
切削加工を施してLEDチップ2の実装部位を形成して
いるため、加工費用が高く、しかもLEDチップ2の実
装部位に切削傷ができるなどして面粗度が粗くなるた
め、LEDチップ2のボンディング作業がやりにくいと
いう問題があるが、本実施形態では、上述のように基板
3と絶縁部材4とをインサート成形し、絶縁部材4に設
けた凹所5’内に露出する基板3の部位にLEDチップ
2を実装しているので、LEDチップ2の実装部位が平
坦であり、且つ、絶縁部材4がMIDにより構成されて
いるから、ボンディングワイヤ9が接続されるパッド面
が平坦で平面度が良く、LEDチップ2を容易に実装で
きる。また、ボンディングワイヤ9は凹所5’内に納め
られるので、凹所5’内に充填した封止樹脂10’から
ボンディングワイヤ9がはみ出ることはなく、ボンディ
ングワイヤ9が断線する確率が少なくなり、信頼性が向
上する。また、基板3と絶縁部材4とをインサート成形
により形成しているので、基板3及び絶縁部材4を接合
する工程を無くすことができ、製造コストを低減でき
る。
源装置の製造方法を図24(a)〜(f)を参照して説
明する。尚、本実施形態の光源装置の構造は実施形態6
の光源装置と同様であるので、同一の構成要素には同一
の符号を付してその説明を省略する。
リフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、S
PS、PBTなどの絶縁材料から形成されたMIDを用
いている。また、ベース板3’の材料として銀、アル
ミ、銅などの熱伝導性の良好な材料を用い、ベース板
3’と絶縁部材4とをインサート成形により同時に形成
する(図24(a)参照)。
着、DCスパッタリング法、或いは、RFスパッタリン
グ法を用いて膜厚が例えば0.3μmの銅薄膜を形成す
る。次に、銅薄膜を形成したベース板3’の表面にレー
ザ等の電磁波を照射して、電磁波を照射した部分のめっ
き下地層を除去する。尚、この時照射するレーザとして
は、第2或いは第3高調波YAGレーザ、YAGレーザ
などめっき下地材の吸収が良いものが好ましく、例えば
ガルバノミラーで走査することによって、回路部(配線
パターン8)以外の絶縁スペースとなる部位(以下、非
回路部と言う)に照射されるものであり、少なくとも非
回路部における回路部との境界部分に非回路部のパター
ンに沿って照射することにより、非回路部における回路
部との境界領域のめっき下地層を除去するものである。
その後、回路部に給電して、電気銅めっき、電気ニッケ
ルめっき、電気銀めっきなどを行い、所定の膜厚の金属
膜を形成した配線パターン8を形成した後、非回路部を
ソフトエッチングなどで除去する(図24(b)参
照)。尚、電気銀めっきの代わりに電気金めっきを施し
ても良く、光の反射効率や配線作業性を考慮してめっき
の材料や厚みを適宜決定すれば良い。
良好な金属から柱状(角柱又は円柱)の熱伝導体14を
形成し、熱伝導体14の上面にLEDチップ2を透光性
を有するボンディングペーストを用いてダイボンドした
後(図24(c)参照)、ベース板3’及び絶縁部材4
にそれぞれ形成された連通孔13及び貫通孔6内にベー
ス板3’側からLEDチップ2の実装された熱伝導体1
4を圧入する(図24(d)参照)。この時、熱伝導体
14はベース板3’に設けた連通孔13内に圧入されて
いるので、熱伝導体14とベース板3’とが密着し、熱
伝導体14とベース板3’との間の熱伝導が大きくな
る。
パターン8との間を、直径が例えば25μmの金のボン
ディングワイヤ9を介して接続し(図24(e)参
照)、LEDチップ2の青色発光により励起され補色で
ある黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中に分散させた封
止樹脂10’を凹所5’に注入して、LEDチップ2や
ボンディングワイヤ9を封止する(図24(f)参
照)。
源装置1を製造しており、熱伝導体14にLEDチップ
2を予め実装しているので、LEDチップ2のダイボン
ドされる熱伝導体14の部位を平坦にし、且つ平面度を
良くできるので、LEDチップ2を容易に実装すること
ができる。また、LEDチップ2が実装される突台部1
1を、熱伝導体14をベース板3’に設けた連通孔13
内に圧入することにより形成しているので、突台部11
を切削加工により形成する場合に比べて、加工費用を低
減できる。
法を説明しているが、各部の寸法を上記の寸法に限定す
る趣旨のものではなく、各部の寸法は適宜設定すれば良
い。
導性を有する基板と、基板の少なくとも一方の面に配設
された絶縁部材と、基板と対向する絶縁部材の部位に絶
縁部材を貫通して設けられた孔と、この孔から露出する
基板の部位に対向させ且つ熱結合させて配置されたLE
Dチップと、絶縁部材に設けられ絶縁部材によって基板
と電気的に絶縁された配線部を含む給電部と、給電部と
LEDチップの電極との間を電気的に接続する接続部材
と、孔内に充填されLEDチップ及び接続部材の全体を
封止する透光性を有する封止材料とを備えて成ることを
特徴とし、LEDチップは絶縁部材に設けた孔から露出
する基板の部位に対向させ且つ熱結合させて配置されて
いるので、熱伝導性を有する基板を介してLEDチップ
の発熱を放出することができ、放熱性を向上させた光源
装置を実現できる。したがって、LEDチップの温度上
昇が抑制され、温度上昇による発光効率の低下を防止す
ることができるという効果がある。しかもLEDチップ
の温度上昇が低減されるから、より大きな順方向電流を
LEDチップに印加して、LEDチップの光出力を増大
させることもでき、またLEDチップや封止材料の熱的
な劣化が低減され、長寿命化が図れるという効果もあ
る。さらに、孔内に充填された封止材料によってLED
チップ及び接続部材の全体を封止しており、LEDチッ
プと給電部とを電気的に接続する接続部材として金属線
を用いた場合にも、樹脂の界面で発生する応力によって
金属線が断線する虞はなく、機械的強度が向上するとい
う効果もある。
て、LEDチップに接続部材を介して電気的に接続され
る配線部の部位は孔内に配置されており、絶縁部材にお
ける基板と反対側の面よりも基板側に位置することを特
徴とし、請求項1の発明と同様、封止材料によってLE
Dチップ及び接続部材の全体を封止することができ、L
EDチップと給電部とを電気的に接続する接続部材とし
て金属線を用いた場合にも、樹脂の界面で発生する応力
によって金属線が断線する虞はなく、機械的強度が向上
するという効果がある。
て、LEDチップに接続部材を介して電気的に接続され
る配線部の部位は孔内に配置されており、封止材料は孔
の開口付近まで充填されたことを特徴とし、封止材料の
表面が孔の開口付近にくるまで封止材料を充填すること
によって、封止材料の充填量を略一定とすることがで
き、品質のばらつきを抑制できるという効果がある。
て、絶縁部材に設けた孔の基板側の開口縁に内側に突出
する張出部を設け、この張出部に配線部の少なくとも一
部を配置し、張出部に配置された配線部の部位にLED
チップの電極を電気的に接続しており、絶縁部材側に突
出し絶縁部材に設けた孔内に挿入される突台部を基板に
設け、この突台部にLEDチップを対向させ且つ熱結合
させて配置したことを特徴とし、基板に突台部を設ける
ことによって、突台部の高さ分だけ張出部の厚み寸法を
厚くすることができるから、張出部の加工を容易に行
え、且つ、張出部の厚み寸法を厚くすることによって、
張出部の剛性を高くし、基板と絶縁部材とを接合する際
に張出部と基板との間に隙間ができるのを防止できると
いう効果がある。
て、上記接続部材は金属線からなり、基板及び絶縁部材
の接合方向において、金属線の一端が接続されるLED
チップの部位と、金属線の他端が接続される配線部の部
位の高さを略同じ高さとしたことを特徴とし、LEDチ
ップと配線部との間を電気的に接続する金属線の長さを
短くできるから、金属線の機械的強度を高くでき、また
LEDチップと配線部の高さを略同じ高さとすることに
より、ボンディング作業を容易に行えるという効果があ
る。
て、基板及び絶縁部材の接合方向において、LEDチッ
プが実装される突台部と、LEDチップに電気的に接続
される配線部の部位の高さを略同じ高さとしたことを特
徴とし、LEDチップから放射される光が配線部に遮光
されることはなく、光のけられを少なくして、光の取り
出し効率が向上するという効果がある。
て、突台部は、基板における絶縁部材と反対側の面から
打ち出し加工を行って凹所を形成することにより、基板
における絶縁部材側の面に打ち出されたことを特徴と
し、打ち出し加工を行うことによって突台部を形成して
いるので、切削加工により突台部を形成する場合に比べ
て加工費用を低減できるという効果がある。また、基板
と絶縁部材とを接着剤で貼り合わせた場合、接着剤の熱
収縮によって基板全体が絶縁部材側に反ってしまうが、
打ち出し加工を行って凹所を形成することにより、基板
全体が絶縁部材と反対側に反るので、接着材の熱収縮に
よって発生する基板の反りを相殺し、全体として基板が
反るのを防止できるという効果がある。
て、基板を、孔に連通する連通孔が形成されたベース板
と、連通孔内に取り付けられ先端が絶縁部材側に突出す
る突起部とで構成し、突起部の先端により突台部を構成
したことを特徴とし、ベース板の孔に突起部を挿入し、
突起部の先端を絶縁部材側に突出させることによって突
台部を形成しているので、突台部を切削加工により形成
する場合に比べて、突台部の加工を容易に行えるという
効果がある。
て、孔と突台部との間に隙間を設けたことを特徴とし、
基板と絶縁部材とを接着剤で貼り合わせた場合、基板と
絶縁部材との接合面から余分な接着剤がはみ出し、はみ
出した接着剤によってLEDチップの光が遮光された
り、LEDチップを実装できなくなる虞があるが、はみ
出した接着剤は孔と突台部との間に設けた隙間に溜まる
ので、接着剤が突台部の上面まで這い上がってくること
はなく、はみ出した接着剤によってLEDチップの光が
遮光されたり、LEDチップを実装できなくなるのを防
止できるという効果がある。
明において、基板と絶縁部材との位置決めを行うための
位置決め手段を基板と絶縁部材との接合面に設けたこと
を特徴とし、位置決め手段により基板と絶縁部材との位
置決めを行うことができ、基板と絶縁部材との接合作業
を容易に行えるという効果がある。
明において、基板と絶縁部材との接合面に接合に用いる
接着剤の溜まり部を絶縁部材の孔の周りに設けたことを
特徴とし、基板と絶縁部材とを接着剤で貼り合わせた場
合、基板と絶縁部材との接合面から余分な接着剤がはみ
出し、はみ出した接着剤によってLEDチップの光が遮
光されたり、LEDチップを実装できなくなる虞がある
が、接合時に余分な接着剤は溜まり部に溜まるため、接
着剤のはみ出しを防止できるという効果がある。また、
基板と絶縁部材との接合面に接着剤が不足している部分
があると、この部分にできる隙間から封止材料が漏れ出
す虞があるが、余分な接着剤を溜める溜まり部が絶縁部
材に設けた孔の周りに設けられ、溜まり部に溜まった余
分な接着剤は孔から露出する基板の部位を囲むようにし
て配置されるので、溜まり部に溜まった接着剤が封止材
料をせき止める堰の役割を果たして、封止材料が漏れ出
すのを防止できるという効果がある。
いて、上記給電部は導電性材料により形成された基板を
含み、基板とLEDチップの電極とを電気的に接続した
ことを特徴とし、基板そのものを給電部としており、L
EDチップの一方の電極を基板に接続するとともに、L
EDチップの他方の電極を配線部に接続することによっ
て、LEDチップに給電することができるから、絶縁部
材の表面に形成する配線部が1回路分で済むという利点
がある。また、LEDチップに給電するための回路の一
部を基板が担っているので、回路を基板側に容易に引き
出すことができるという効果がある。
おいて、上記基板に、互いに電気的に絶縁された複数の
領域を設けたことを特徴としている。ところで、一枚の
基板に複数のLEDチップが実装される場合、一枚の基
板が互いに電気的に絶縁された複数の領域に分割されて
いないと、全てのLEDチップが並列に接続されること
になる。ここで、LEDチップは個体ごとに駆動電圧が
若干異なるため、複数のLEDチップが並列に接続され
ると、駆動電圧が最も低いLEDチップに多大な電流が
流れて、LEDチップが破損する虞がある。そこで、複
数のLEDチップに流れる電流を均等にするために、個
々のLEDチップ毎に電流制限用の抵抗を直列接続する
方法が考えられるが、LEDチップの数だけ電流制限用
の抵抗が必要になり、各抵抗で消費される電力ロスが増
大する。それに対して本発明では、基板に、互いに電気
的に絶縁された複数の領域を設けており、各領域にそれ
ぞれLEDチップを実装し、各領域に実装されたLED
チップを直列に接続すれば、個々のLEDチップに流れ
る電流値を略一定にすることができ、且つ、直列接続さ
れた複数のLEDチップに対して電流制限用の抵抗を1
個接続すれば、各LEDチップに流れる電流を制限でき
るから、電流制限用の抵抗で消費される電力ロスを小さ
くできるという効果がある。
いて、封止材料の表面を、LEDチップの発光を所望の
方向に配光するレンズ形状としたことを特徴とし、封止
材料の表面をレンズ形状としたことにより、別途レンズ
を設けることなく、LEDチップの発光を所望の方向に
配光することができるという効果がある。
いて、孔の側壁にLEDチップの発光を反射して所望の
方向に配光する反射部を設けたことを特徴とし、反射部
によってLEDチップの光を反射して所望の方向へ配光
することにより、光の取り出し効率が向上するという効
果がある。
おいて、上記反射部を配線部で兼用したことを特徴と
し、配線部が反射部を兼用することにより、絶縁部材の
表面に形成される配線部及び反射部のパターンを簡素化
できるという効果がある。
おいて、上記接続部材は金属線からなり、金属線の延び
る方向に配線部を配設したことを特徴とし、LEDチッ
プからの光は金属線によって遮光されるが、金属線の影
となる部分に配線部を配置しているので、配線部以外の
部位に形成された反射部によって、LEDチップからの
光を所望の方向に配光することができるという効果があ
る。
いて、封止材料は、LEDチップから放射された光の少
なくとも一部を所定の光色に変換する光色変換機能を有
することを特徴とし、封止材料によって光色が変換され
た光と、LEDチップからの光とを混色することによっ
て、所望の光色の光を得ることができるという効果があ
る。
おいて、封止材料の表面は、絶縁部材における基板と反
対側の面よりも基板側に位置し、孔の周壁にLEDチッ
プの発光を反射して所望の方向に配光する反射部を設け
たことを特徴とし、LEDチップからの光は封止材料を
通過することによって分散され、完全拡散配光となって
いるので、配光制御しやすくなっており、反射部によっ
て所望の方向に配光することができるという効果があ
る。
いて、配線部の一部を基板側に向かって延伸し、この延
伸された部分で外部接続端子を構成することを特徴と
し、配線部の一部を基板側に向かって延伸し、この延伸
された部位を外部接続端子としているので、基板側から
配線部への給電を容易に行えるという効果がある。な
お、配線部の一部を基板側に向かって延伸させる形態と
しては種々考えられるが、例えば絶縁部材の端部に沿っ
て配線部を基板側に延伸したり、絶縁部材にスルーホー
ルを形成し、このスルーホール内に導電性材料を充填す
ることによって配線部を基板側に延伸することが考えら
れる。また基板側に向かって延伸する配線部の長さも必
要に応じて決定され、絶縁部材の途中まで又は基板側の
面まで延伸しても良いし、基板側の面に一部を回り込ま
せるようにしても良いし、また基板の向こう側まで突出
するようにしても良い。
おいて、上記配線部の一部が、絶縁部材における基板と
の対向面まで延伸されたことを特徴とし、配線部の一部
を基板との対向面まで延伸させているので、この延伸さ
れた部分に対して容易に給電することができるという効
果がある。例えば、基板と嵌合する穴の形成された器具
本体にこの光源装置を実装する場合、配線部の一部を絶
縁部材における基板との対向面まで延伸しているので、
器具本体の穴に基板部分を嵌合すれば、器具本体に形成
された配線部と光源装置の配線部との電気的接続を容易
に行うことができ、さらに基板部分を穴内に嵌め込んで
器具本体と接触させるようにすれば、放熱性が向上す
る。
の発明において、絶縁部材の一部を基板側に向かって延
伸し、この延伸された部分の先端を、基板における絶縁
部材と反対側の面と略面一にしたことを特徴とし、絶縁
部材の基板側に延伸された部位に器具本体の表面に載置
して光源装置を器具本体に実装する際に、絶縁部材の延
伸された部位が基板における絶縁部材と反対側の面と略
面一になっているので、絶縁部材を器具本体の表面に載
置するだけで、基板が器具本体の表面に接触するから、
LEDチップの発熱が基板を介して器具本体に放出さ
れ、冷却効果が向上するという効果がある。しかも、配
線部の一部を基板側に延伸させて外部接続端子としてい
るので、外部接続端子と器具本体の表面に形成された配
線部との電気的接続を容易に行えるという効果がある。
さらに、絶縁部材の基板側に延伸された部位の先端面に
外部接続端子を形成すれば放熱性を向上させた表面実装
型の光源装置を実現できる。
いて、絶縁部材とLEDチップと配線部と封止部材とが
基板の両面に設けられたことを特徴とし、基板の両面か
らLEDチップの光を放射させることができ、且つ、基
板の両面に同じ部品が配設されているので、基板の反り
を抑制することができるという効果がある。
縁部材を貫通する孔を形成すると共に、絶縁部材の一面
に配線部を形成した後、絶縁部材の他面に基板を接合
し、孔から露出する基板の部位に対向させ且つ熱結合さ
せてLEDチップを配置し、配線部とLEDチップの電
極とを電気的に接続した後、孔内に透光性を有する封止
材料を充填して、LEDチップ及びLEDチップと配線
部との電気的接続部の全体を封止することを特徴とし、
絶縁部材と基板とを接合し、絶縁部材に設けた孔から露
出する基板の部位に対向させ且つ熱結合させてLEDチ
ップを配置しているので、従来の光源装置のように絶縁
部材に切削加工を施してLEDチップの実装部位を形成
する場合に比べて、加工費用を低減でき、且つLEDチ
ップの実装部位に切削きずが発生してLEDチップを実
装しにくくなるのを防止でき、さらにLEDチップを基
板に熱結合させているので、LEDチップの発熱を基板
を介して放出することができ、またLEDチップと基板
の配線部とを金属線により電気的に接続した場合は、封
止材料によってLEDチップ及び金属線の全体を封止し
ているので、樹脂の界面で発生する応力によって金属線
が断線する虞はなく、機械的強度が向上するという効果
がある。
する面に孔が貫通して形成された絶縁部材とをインサー
ト成形し、絶縁部材における基板と反対側の面に配線部
を形成した後、孔から露出する基板の部位に対向させ且
つ熱結合させてLEDチップを配置し、配線部とLED
チップの電極とを電気的に接続した後、孔内に透光性を
有する封止材料を充填して、LEDチップ及びLEDチ
ップと配線部との電気的接続部の全体を封止することを
特徴とし、絶縁部材と基板とをインサート成形し、絶縁
部材に設けた孔から露出する基板の部位に対向させ且つ
熱結合させてLEDチップを配置しているので、従来の
光源装置のように絶縁部材に切削加工を施してLEDチ
ップの実装部位を形成する場合に比べて、加工費用を低
減でき、且つLEDチップの実装部位に切削きずが発生
してLEDチップを実装しにくくなるのを防止でき、さ
らにLEDチップを基板に熱結合しているので、LED
チップの発熱を基板を介して放出することができ、また
LEDチップと基板の配線部とを金属線により電気的に
接続した場合は、封止材料によってLEDチップ及び金
属線の全体を封止しているので、樹脂の界面で発生する
応力によって金属線が断線する虞はなく、機械的強度が
向上するという効果がある。
する導電板とを所定の間隔をおいてインサート成形する
ことにより絶縁部材を形成し、絶縁部材を貫通して設け
られた孔から露出する基板の部位に対向させ且つ熱結合
させてLEDチップを配置した後、配線部とLEDチッ
プの電極とを電気的に接続し、孔内に透光性を有する封
止材料を充填して、LEDチップ及びLEDチップと配
線部との電気的接続部の全体を封止することを特徴と
し、絶縁部材と導電板とをインサート成形することによ
り絶縁部材を形成し、絶縁部材に設けた孔から露出する
基板の部位に対向させ且つ熱結合させてLEDチップを
配置しているので、従来の光源装置のように絶縁部材に
切削加工を施してLEDチップの実装部位を形成する場
合に比べて、加工費用を低減でき、且つLEDチップの
実装部位に切削きずが発生してLEDチップを実装しに
くくなるのを防止でき、さらにLEDチップを基板に熱
結合させているので、LEDチップの発熱を基板を介し
て放出することができ、またLEDチップと配線部とを
金属線により電気的に接続した場合は、封止材料によっ
てLEDチップ及び金属線の全体を封止しているので、
樹脂の界面で発生する応力によって金属線が断線する虞
はなく、機械的強度が向上するという効果がある。
接合し、基板を貫通して設けられ、絶縁部材を貫通する
孔に連通する連通孔に、LEDチップが実装された突起
部を挿入して、LEDチップを絶縁部材の孔内に配置し
た後、配線部とLEDチップの電極とを金属線を介して
電気的に接続し、孔内に透光性を有する封止材料を充填
して、LEDチップ及び金属線の全体を封止することを
特徴とし、基板と絶縁部材とを接合し、絶縁部材に設け
た孔から露出する基板の部位にLEDチップを実装して
いるので、従来の光源装置のように絶縁部材に切削加工
を施してLEDチップの実装部位を形成する場合に比べ
て、加工費用を低減でき、且つLEDチップの実装部位
に切削きずが発生してLEDチップを実装しにくくなる
のを防止でき、さらにLEDチップを直接基板に実装し
ているので、LEDチップの発熱を基板を介して放出す
ることができ、また封止材料によってLEDチップ及び
金属線の全体を封止しているので、樹脂の界面で発生す
る応力によって金属線が断線する虞はなく、機械的強度
が向上するという効果がある。しかも、基板に設けた孔
内に突起部を挿入することにより突台部を形成している
ので、基板に切削加工を施して突台部を形成する場合に
比べて、突台部の加工費用を低減できるという効果があ
る。
図、(b)は平面図である。
面図である。
面図である。
る。
る。
面図、(b)は平面図である。
面図、(b)は平面図である。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
各製造工程を示す断面図である。
各製造工程を示す断面図である。
各製造工程を示す断面図である。
各製造工程を示す断面図である。
7)
すような砲弾型の発光ダイオードを用いたものが従来よ
り提供されており、発光ダイオードを単数で使用した
り、複数個の発光ダイオードを基板30上にアレイ状に
配置して使用するものがあった。
図25に示すようにLEDチップ2を基板34に直接ダ
イボンドした光源装置も提案されている。基板34は例
えばアルミニウムの薄板からなり、基板34にプレス加
工を施すことによって凹所34aを形成し、基板34の
表面に絶縁体薄膜35を形成した後、凹所34aの底面
に形成された絶縁体薄膜35上にLEDチップ2をダイ
ボンドしている。そして、基板34の表面に絶縁体膜層
35を介して形成された配線パターン36とLEDチッ
プ2表面の電極との間をボンディングワイヤ9を介して
電気的に接続し、凹所34a内に透光性を有する封止樹
脂37を充填して形成される。
は、LEDチップ2からダイボンディングペースト7→
絶縁体膜層35→基板34の経路で放熱され、基板34
に伝わった熱は基板34全体に拡散していくため、砲弾
型の発光ダイオードに比べて放熱経路が短く、放熱性が
非常に高くなっている。しかしながら、この放熱経路に
おいても、放熱性を阻害する構成要素としてダイボンデ
ィングペースト7と絶縁体膜層35とが存在する。ダイ
ボンディングペースト7は樹脂製であり、ペースト自体
の熱伝導係数は小さいものの、ペーストの厚みは5μm
以下と薄いため、ダイボンディングペースト7が放熱性
に与える影響は小さいものと考えられる。一方、絶縁体
膜層35は樹脂やセラッミックスフィラーを分散させた
樹脂などから形成されており、金属に比較して絶縁体膜
層35自体の熱伝導係数が小さく、また絶縁体膜層35
の厚みも300μm程度と厚くなっているため、放熱性
に与える影響が大きくなっている。而して、図25に示
す構造の光源装置では、砲弾型LEDを用いた光源装置
に比べて、LEDチップ2からの放熱性は高くなってい
るものの、放熱経路に絶縁体膜層35が存在しているた
めに、十分な放熱性が得られなかった。
膜層35の上面に配線パターン36が形成されており、
ボンディングワイヤ9の一端は配線パターン36に接続
されているから、LEDチップ2を封止樹脂37で封止
したとしても、ボンディングワイヤ9の一部が封止樹脂
37から外側に露出することになり、機械的衝撃に対し
てボンディングワイヤ9の強度が著しく低下するという
問題がある。そこで、封止樹脂37から外側に露出して
いるボンディングワイヤ9の部位を保護するために、封
止樹脂37から露出しているボンディングワイヤ9の部
位を別途樹脂封止することも考えられるが、同じ樹脂を
用いて樹脂封止したとしても、2回に分けて樹脂封止を
行った場合は2つの樹脂の界面部分に応力が残存するた
め、点灯時に発生するLEDチップ2の発熱によって応
力が増大し、界面部分でボンディングワイヤ9が断線す
る虞もある。特に青色発光のLEDチップ2を用いて白
色発光を得るために、封止樹脂37に蛍光体などの粉体
を分散させている場合は、封止樹脂37の上から樹脂封
止された封止樹脂との間に熱膨張率の差が生じ、界面部
分でボンディングワイヤ9が断線する可能性が増大する
という問題もあった。
図15を参照して説明する。本実施形態の光源装置1で
は、実施形態14の光源装置において凹所5’の側面形
状を2段構造としている。すな わち、凹所5’の内側
面には、凹所5’の底面側から開口側に行くにしたがっ
て内径が徐々に大きくなり、約45度の角度で傾斜する
ようなテーパ面4bが形成され、テーパ面4bの先端部
から開口部にかけて、LEDチップ2からの光を所望の
方向に反射して集光できるような断面形状を有する反射
面4cが形成されている。また、絶縁部材4における基
板3と反対側の面には、一対の配線パターン8が突台部
11を通る同一直線上に形成されており、反射面4cに
おける配線パターン8以外の部位には、例えば銀などの
高反射率の材料から形成された反射膜18が形成されて
いる。そして、凹所5’内にはテーパ面4bの先端部に
達するまで封止樹脂10’が注入されている。尚、凹所
5’の側面形状以外の構成は実施形態14と同様である
ので、同一の構成要素には同一の符号を付して、その説
明は省略する。
図16を参照して説明する。本実施形態の光源装置1
は、実施形態3で説明した光源装置1と同様の構造を有
しており、実施形態3では基板3にLEDチップ2を1
個実装しているが、本実施形態では基板3にLEDチッ
プ2を2個実装し、2個のLEDチップ2を配線パター
ン8を介して直列に接続している。尚、光源装置1の基
本的な構成は実施形態3と同様であるので、同一の構成
要素には同一の符号を付して、その説明は省略する。
図17を参照して説明する。本実施形態では、実施形態
3で説明した光源装置1において、基板3の突台部11
を除いた部分を直径が約5mm、高さが約10mmの円
柱形状として、上面略中央に突台部11を突設してい
る。一方、絶縁部材4の平面形状を一辺が約10mmの
正方形としており、絶縁部材4の前面側に形成した配線
パターン8を側面を通って裏面側まで延伸し、裏面側に
回り込むように延伸された部位を外部接続端子8dとし
ている。尚、基板3及び配線パターン8以外の構成は実
施形態3と同様であるので、同一の構成要素には同一の
符号を付して、その説明は省略する。
体40に取り付けた状態を示している。器具本体40
は、直径が約6mmの丸孔41が開口したガラスエポキ
シ製の配線基板42を備え、丸孔41内に光源装置1の
基板3を挿入して、絶縁部材4の裏面側に延伸された外
部接続端子8dを配線基板42の上面に形成された配線
パターン43に半田付けすることによって、光源装置1
が器具本体40に電気的且つ機械的に結合される。この
時、丸孔41から下方に突出する基板3の下面が器具本
体40の放熱部品44に熱結合されるので、光源装置1
の放熱性が向上する。このように、基板3の下面を配線
基板42とは別に用意した放熱部品44と接触させ、放
熱部品44を介してLEDチップ2の発熱を放熱してい
るので、配線基板42には熱伝導性は低いものの安価な
ガラスエポキシ基板を用いることができ、コストダウン
を図ることができる。
図18を参照して説明する。本実施形態では、実施形態
3の光源装置1において、基板3の突台部11を除いた
部分を直径が約5mm、高さが約0.5mmの円柱形状
として、上面略中央に突台部11を突設している。一
方、絶縁部材4の平面形状を一辺が約20mmの正方形
としており、基板3側の面に貫通孔6を中心とする直径
が約5mm、深さが約0.5mmの凹部27を設けてい
る。そして、絶縁部材4における凹部27の外側の部位
であって、絶縁部材4の前面側に設けた配線パターン8
に対応する部位に絶縁部材4を貫通するスルーホール2
8を設け、スルーホール28内に導電材料を充填して形
成された導電部8eを介して絶縁部材4の前面側に形成
された配線パターン8と裏面側に形成された接続端子8
fとを電気的に接続している。尚、基板3、絶縁部材4
及び配線パターン8以外の構成は実施形態3と同様であ
るので、同一の構成要素には同一の符号を付して、その
説明は省略する。
体の配線基板42に実装した状態を示している。ここ
で、基板3の下面と絶縁部材4の下面とが略面一になる
よう各部の寸法関係が設定されており、基板3を配線基
板42上に載置すると、絶縁部材4に設けた接続端子8
fが配線基板42に設けた配線パターン43に電気的に
接続されるので、配線基板42からLEDチップ2に給
電することができる。したがって、この光源装置1を配
線基板42に取り付けるにあたり、光源装置1を配線基
板42のパターン面にそのまま実装することができ、し
かも基板3の下面が配線基板42と接触するので、光源
装置1の放熱を配線基板42を通じて放出することがで
き、放熱性の良好な表面実装形の光源装置1を実現でき
る。
図19を参照して説明する。実施形態3の光源装置1で
は基板3の一面のみにLEDチップ2を実装している
が、本実施形態の光源装置1では基板3の両面にLED
チップ2を実装している。尚、基板3の両面にLEDチ
ップ2を実装している点以外は実施形態3と同様である
ので、同一の構成要素には同一の符号を付して、その説
明は省略する。
源装置1の製造方法を図20(a)〜(e)を参照して
説明する。尚、本実施形態の光源装置1の構造は実施形
態3と同様であるので、同一の構成要素には同一の符号
を付して、その説明を省略する。
リフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、シ
ンジオタクチックポリスチレン(以下SPSと記す)、
ポリブチレンテレフタレート(以下PBTと記す)など
の絶縁材料から形成されたMID(Molded Interconnec
t Device)を用いており、射出成形或いはトランスファ
ー成形によって凹所5’及び貫通孔6を形成している
(図20(a)参照)。そして、絶縁部材4の表面全体
に、真空蒸着、DCスパッタリング法、或いは、RFス
パッタリング法を用いて膜厚が例えば0.3μmの銅薄
膜を形成する。次に、銅薄膜を形成した基板3の表面に
レーザ等の電磁波を照射して、電磁波を照射した部分の
めっき下地層を除去する。尚、この時照射するレーザと
しては、第2或いは第3高調波YAGレーザ、YAGレ
ーザなどめっき下地材の吸収が良いものが好ましく、例
えばガルバノミラーで走査することによって、回路部
(配線パターン8)以外の絶縁スペースとなる部位(以
下、非回路部と言う)に照射されるものであり、少なく
とも非回路部における回路部との境界部分に非回路部の
パターンに沿って照射することにより、非回路部におけ
る回路部との境界領域のめっき下地層を除去するもので
ある。その後、回路部に給電して、電気銅めっき、電気
ニッケルめっき、電気銀めっきなどを行い、所定の膜厚
の金属膜を形成した配線パターン8を形成した後、非回
路部をソフトエッチングなどで除去する(図20(b)
参照)。尚、電気銀めっきの代わりに電気金めっきを施
しても良く、光の反射効率や配線作業性を考慮してめっ
きの材料や厚みを適宜決定すれば良い。
の良好な材料から形成された基板3を、エポキシ樹脂や
アクリル樹脂などの接着剤を用いて、絶縁部材4の下面
に貼り付ける(図20(c)参照)。この時、絶縁部材
4の貫通孔6に対応する基板3の部位に予め突台部11
を形成しておくのが望ましい。また、接着剤を用い基板
3及び絶縁部材4を貼り合わせる代わりに、突台部11
を貫通孔6に圧入することによって、基板3及び絶縁部
材4を結合するようにしても良い。
露出する基板3の部位に、青色LEDチップ2を透光性
を有する接着剤を用いてダイボンドし、直径が例えば2
5μmの金のボンディングワイヤ9を用いてワイヤボン
ディングを行う(図20(d)参照)。
励起され補色である黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中
に分散させた封止樹脂10’を凹所5’に注入して、L
EDチップ2やボンディングワイヤ9を封止する(図2
0(e)参照)。
源装置の製造方法を図21(a)〜(d)を参照して説
明する。尚、本実施形態の光源装置1の構造は実施形態
3の光源装置と同様であるので、同一の構成要素には同
一の符号を付して、その説明を省略する。
リフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、S
PS、PBTなどの絶縁材料から形成されたMIDを用
いている。また、基板3の材料として銀、アルミ、銅な
どの熱伝導性の良好な材料を用い、基板3と絶縁部材4
とをインサート成形により同時に形成する(図21
(a)参照)。
着、DCスパッタリング法、或いは、RFスパッタリン
グ法を用いて膜厚が例えば0.3μmの銅薄膜を形成す
る。次に、銅薄膜を形成した基板3の表面にレーザ等の
電磁波を照射して、電磁波を照射した部分のめっき下地
層を除去する。尚、この時照射するレーザとしては、第
2或いは第3高調波YAGレーザ、YAGレーザなどめ
っき下地材の吸収が良いものが好ましく、例えばガルバ
ノミラーで走査することによって、回路部(配線パター
ン8)以外の絶縁スペースとなる部位(以下、非回路部
と言う)に照射されるものであり、少なくとも非回路部
における回路部との境界部分に非回路部のパターンに沿
って照射することにより、非回路部における回路部との
境界領域のめっき下地層を除去するものである。その
後、回路部に給電して、電気銅めっき、電気ニッケルめ
っき、電気銀めっきなどを行い、所定の膜厚の金属膜を
形成した配線パターン8を形成した後、非回路部をソフ
トエッチングなどで除去する(図21(b)参照)。
尚、電気銀めっきの代わりに電気金めっきを施しても良
く、光の反射効率や配線作業性を考慮してめっきの材料
や厚みを適宜決定すれば良い。
露出する基板3の部位に、青色LEDチップ2を透光性
を有する接着剤を用いてダイボンドし、直径が例えば2
5μmの金のボンディングワイヤ9を用いてワイヤボン
ディングを行う(図21(c)参照)。
励起され補色である黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中
に分散させた封止樹脂10’を凹所5’に注入して、L
EDチップ2やボンディングワイヤ9を封止する(図2
1(d)参照)。
源装置の製造方法を図22(a)〜(e)を参照して説
明する。尚、本実施形態の光源装置1の構造は実施形態
3の光源装置と略同様であるので、同一の構成要素には
同一の符号を付して、その説明を省略する。
aを打ち抜いて、曲げ等の形状を形成することにより、
突台部11の突設された基板3を形成すると共に、厚み
が約0.2mmのリードフレーム20bを打ち抜いて、
曲げ等の形状を形成することにより、突台部11を挿通
させる挿通孔8aが形成された配線部8’を形成してい
る(図22(a)参照)。尚、リードフレーム20a,
20bの材料としては、例えば銅、42アロイなど導電
性、熱伝導性の優れた材料を用いている。
る突台部11と、ボンディングワイヤ9の接続される配
線部8’の部位に部分的に電気ニッケルめっき、電気銀
めっきを行う。尚、ボンディングワイヤ9が接続される
ワイヤパッド部8bは、電気銀めっきの代わりに電気金
めっきを施しても良く、ボンディングワイヤ9の接続作
業を容易に行える(図22(b)参照)。
ポリフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、
SPS、PBTなどの絶縁性を有する材料を用い、部分
めっきの施された配線部8’と基板3とをインサート成
形により同時成形する(図22(c)参照)。この時、
MIDからなる絶縁部材4に形成された凹所5’の底面
に、基板3の突台部11と配線部8’のワイヤパッド部
8bとが露出する。
チップ2を透光性を有する接着剤を用いてダイボンド
し、直径が例えば25μmの金のボンディングワイヤ9
を用いてワイヤボンディングを行う(図22(d)参
照)。
励起され補色である黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中
に分散させた封止樹脂10’を凹所5’に注入して、L
EDチップ2やボンディングワイヤ9を封止する(図2
2(e)参照)。
源装置の製造方法を図23(a)〜(f)を参照して説
明する。尚、本実施形態の光源装置の構造は実施形態6
の光源装置と同様であるので、同一の構成要素には同一
の符号を付してその説明を省略する。
リフタルアミド、ポリフタルサルフォン、エポキシ、S
PS、PBTなどの絶縁材料から形成されたMIDを用
いている。また、ベース板3’の材料として銀、アル
ミ、銅などの熱伝導性の良好な材料を用い、ベース板
3’と絶縁部材4とをインサート成形により同時に形成
する(図23(a)参照)。
着、DCスパッタリング法、或いは、RFスパッタリン
グ法を用いて膜厚が例えば0.3μmの銅薄膜を形成す
る。次に、銅薄膜を形成したベース板3’の表面にレー
ザ等の電磁波を照射して、電磁波を照射した部分のめっ
き下地層を除去する。尚、この時照射するレーザとして
は、第2或いは第3高調波YAGレーザ、YAGレーザ
などめっき下地材の吸収が良いものが好ましく、例えば
ガルバノミラーで走査することによって、回路部(配線
パターン8)以外の絶縁スペースとなる部位(以下、非
回路部と言う)に照射されるものであり、少なくとも非
回路部における回路部との境界部分に非回路部のパター
ンに沿って照射することにより、非回路部における回路
部との境界領域のめっき下地層を除去するものである。
その後、回路部に給電して、電気銅めっき、電気ニッケ
ルめっき、電気銀めっきなどを行い、所定の膜厚の金属
膜を形成した配線パターン8を形成した後、非回路部を
ソフトエッチングなどで除去する(図23(b)参
照)。尚、電気銀めっきの代わりに電気金めっきを施し
ても良く、光の反射効率や配線作業性を考慮してめっき
の材料や厚みを適宜決定すれば良い。
良好な金属から柱状(角柱又は円柱)の熱伝導体14を
形成し、熱伝導体14の上面にLEDチップ2を透光性
を有するボンディングペーストを用いてダイボンドした
後(図23(c)参照)、ベース板3’及び絶縁部材4
にそれぞれ形成された連通孔13及び貫通孔6内にベー
ス板3’側からLEDチップ2の実装された熱伝導体1
4を圧入する(図23(d)参照)。この時、熱伝導体
14はベース板3’に設けた連通孔13内に圧入されて
いるので、熱伝導体14とベース板3’とが密着し、熱
伝導体14とベース板3’との間の熱伝導が大きくな
る。
パターン8との間を、直径が例えば25μmの金のボン
ディングワイヤ9を介して接続し(図23(e)参
照)、LEDチップ2の青色発光により励起され補色で
ある黄色発光を行う蛍光体粒子を樹脂中に分散させた封
止樹脂10’を凹所5’に注入して、LEDチップ2や
ボンディングワイヤ9を封止する(図23(f)参
照)。
図、(b)は平面図である。
面図である。
面図である。
る。
る。
面図、(b)は平面図である。
面図、(b)は平面図である。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
各製造工程を示す断面図である。
各製造工程を示す断面図である。
各製造工程を示す断面図である。
各製造工程を示す断面図である。
Claims (27)
- 【請求項1】熱伝導性を有する基板と、基板の少なくと
も一方の面に配設された絶縁部材と、基板と対向する絶
縁部材の部位に絶縁部材を貫通して設けられた孔と、こ
の孔から露出する基板の部位に対向させ且つ熱結合させ
て配置されたLEDチップと、絶縁部材に設けられ絶縁
部材によって基板と電気的に絶縁された配線部を含む給
電部と、給電部とLEDチップの電極との間を電気的に
接続する接続部材と、孔内に充填されLEDチップ及び
接続部材の全体を封止する透光性を有する封止材料とを
備えて成ることを特徴とする光源装置。 - 【請求項2】LEDチップに接続部材を介して電気的に
接続される配線部の部位は孔内に配置されており、絶縁
部材における基板と反対側の面よりも基板側に位置する
ことを特徴とする請求項1記載の光源装置。 - 【請求項3】LEDチップに接続部材を介して電気的に
接続される配線部の部位は孔内に配置されており、封止
材料は孔の開口付近まで充填されたことを特徴とする請
求項1記載の光源装置。 - 【請求項4】絶縁部材に設けた孔の基板側の開口縁に内
側に突出する張出部を設け、この張出部に配線部の少な
くとも一部を配置し、張出部に配置された配線部の部位
にLEDチップの電極を電気的に接続しており、絶縁部
材側に突出し絶縁部材に設けた孔内に挿入される突台部
を基板に設け、この突台部にLEDチップを対向させ且
つ熱結合させて配置したことを特徴とする請求項1記載
の光源装置。 - 【請求項5】上記接続部材は金属線からなり、基板及び
絶縁部材の接合方向において、金属線の一端が接続され
るLEDチップの部位と、金属線の他端が接続される配
線部の部位の高さを略同じ高さとしたことを特徴とする
請求項4記載の光源装置。 - 【請求項6】基板及び絶縁部材の接合方向において、L
EDチップが実装される突台部と、LEDチップに電気
的に接続される配線部の部位の高さを略同じ高さとした
ことを特徴とする請求項4記載の光源装置。 - 【請求項7】突台部は、基板における絶縁部材と反対側
の面から打ち出し加工を行って凹所を形成することによ
り、基板における絶縁部材側の面に打ち出されたことを
特徴とする請求項4記載の光源装置。 - 【請求項8】基板を、孔に連通する連通孔が形成された
ベース板と、連通孔内に取り付けられ先端が絶縁部材側
に突出する突起部とで構成し、突起部の先端により突台
部を構成したことを特徴とする請求項4記載の光源装
置。 - 【請求項9】孔と突台部との間に隙間を設けたことを特
徴とする請求項4記載の光源装置。 - 【請求項10】基板と絶縁部材との位置決めを行うため
の位置決め手段を基板と絶縁部材との接合面に設けたこ
とを特徴とする請求項1乃至9記載の光源装置。 - 【請求項11】基板と絶縁部材との接合面に接合に用い
る接着剤の溜まり部を絶縁部材の孔の周りに設けたこと
を特徴とする請求項1乃至9記載の光源装置。 - 【請求項12】上記給電部は導電性材料により形成され
た基板を含み、基板とLEDチップの電極とを電気的に
接続したことを特徴とする請求項1記載の光源装置。 - 【請求項13】上記基板に、互いに電気的に絶縁された
複数の領域を設けたことを特徴とする請求項12記載の
光源装置。 - 【請求項14】封止材料の表面を、LEDチップの発光
を所望の方向に配光するレンズ形状としたことを特徴と
する請求項1記載の光源装置。 - 【請求項15】孔の側壁にLEDチップの発光を反射し
て所望の方向に配光する反射部を設けたことを特徴とす
る請求項1記載の光源装置。 - 【請求項16】上記反射部を配線部で兼用したことを特
徴とする請求項15記載の光源装置。 - 【請求項17】上記接続部材は金属線からなり、金属線
の延びる方向に配線部を配設したことを特徴とする請求
項15記載の光源装置。 - 【請求項18】封止材料は、LEDチップから放射され
た光の少なくとも一部を所定の光色に変換する光色変換
機能を有することを特徴とする請求項1記載の光源装
置。 - 【請求項19】封止材料の表面は、絶縁部材における基
板と反対側の面よりも基板側に位置し、孔の周壁にLE
Dチップの発光を反射して所望の方向に配光する反射部
を設けたことを特徴とする請求項18記載の光源装置。 - 【請求項20】配線部の一部を基板側に向かって延伸
し、この延伸した部分で外部接続端子を構成することを
特徴とする請求項1記載の光源装置。 - 【請求項21】上記配線部の一部を、絶縁部材における
基板との対向面まで延伸させたことを特徴とする請求項
20記載の光源装置。 - 【請求項22】絶縁部材の一部を基板側に向かって延伸
させ、この延伸した部分の先端を、基板における絶縁部
材と反対側の面と略面一にしたことを特徴とする請求項
20又は21記載の光源装置。 - 【請求項23】絶縁部材とLEDチップと配線部と封止
部材とが基板の両面に設けられたことを特徴とする請求
項1記載の光源装置。 - 【請求項24】絶縁部材の一面に絶縁部材を貫通する孔
を形成すると共に、絶縁部材の一面に配線部を形成した
後、絶縁部材の他面に基板を接合し、孔から露出する基
板の部位に対向させ且つ熱結合させてLEDチップを配
置し、配線部とLEDチップの電極とを電気的に接続し
た後、孔内に透光性を有する封止材料を充填して、LE
Dチップ及びLEDチップと配線部との電気的接続部の
全体を封止することを特徴とする光源装置の製造方法。 - 【請求項25】基板と、基板に対向する面に孔が貫通し
て形成された絶縁部材とをインサート成形し、絶縁部材
における基板と反対側の面に配線部を形成した後、孔か
ら露出する基板の部位に対向させ且つ熱結合させてLE
Dチップを配置し、配線部とLEDチップの電極とを電
気的に接続した後、孔内に透光性を有する封止材料を充
填して、LEDチップ及びLEDチップと配線部との電
気的接続部の全体を封止することを特徴とする光源装置
の製造方法。 - 【請求項26】基板と配線部を構成する導電板とを所定
の間隔をおいてインサート成形することにより絶縁部材
を形成し、絶縁部材を貫通して設けられた孔から露出す
る基板の部位に対向させ且つ熱結合させてLEDチップ
を配置した後、配線部とLEDチップの電極とを電気的
に接続し、孔内に透光性を有する封止材料を充填して、
LEDチップ及びLEDチップと配線部との電気的接続
部の全体を封止することを特徴とする光源装置の製造方
法。 - 【請求項27】基板と絶縁部材とを接合し、基板を貫通
して設けられ、絶縁部材を貫通する孔に連通する連通孔
に、LEDチップが実装された突起部を挿入して、LE
Dチップを絶縁部材の孔内に配置した後、配線部とLE
Dチップの電極とを金属線を介して電気的に接続し、孔
内に透光性を有する封止材料を充填して、LEDチップ
及び金属線の全体を封止することを特徴とする光源装置
の製造方法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001114502A JP4432275B2 (ja) | 2000-07-13 | 2001-04-12 | 光源装置 |
US10/398,660 US6874910B2 (en) | 2001-04-12 | 2001-12-03 | Light source device using LED, and method of producing same |
DE60137972T DE60137972D1 (de) | 2001-04-12 | 2001-12-03 | Lichtquellenbauelement mit led und verfahren zu seiner herstellung |
CNB018108806A CN1212676C (zh) | 2001-04-12 | 2001-12-03 | 使用led的光源装置及其制造方法 |
EP01274117A EP1387412B1 (en) | 2001-04-12 | 2001-12-03 | Light source device using led, and method of producing same |
AT01274117T ATE425556T1 (de) | 2001-04-12 | 2001-12-03 | Lichtquellenbauelement mit led und verfahren zu seiner herstellung |
PCT/JP2001/010561 WO2002084750A1 (fr) | 2001-04-12 | 2001-12-03 | Dispositif luminescent faisant intervenir des del et procede de fabrication |
TW090130969A TW517402B (en) | 2001-04-12 | 2001-12-13 | Light source using light emitting diode and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-213218 | 2000-07-13 | ||
JP2000213218 | 2000-07-13 | ||
JP2001114502A JP4432275B2 (ja) | 2000-07-13 | 2001-04-12 | 光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002094122A true JP2002094122A (ja) | 2002-03-29 |
JP4432275B2 JP4432275B2 (ja) | 2010-03-17 |
Family
ID=26595994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001114502A Expired - Lifetime JP4432275B2 (ja) | 2000-07-13 | 2001-04-12 | 光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4432275B2 (ja) |
Cited By (125)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004001862A1 (ja) * | 2002-06-19 | 2003-12-31 | Sanken Electric Co., Ltd. | 半導体発光装置及びその製法並びに半導体発光装置用リフレクタ |
JP2004296882A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体発光装置 |
JP2004311791A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Sharp Corp | 照明装置、バックライト装置および表示装置 |
JP2005039100A (ja) * | 2003-07-16 | 2005-02-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 高熱伝導性発光素子用回路部品及び高放熱モジュール |
JP2005117041A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Agilent Technol Inc | 高出力発光ダイオードデバイス |
WO2005053040A1 (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-09 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 半導体発光素子搭載部材とそれを用いた発光ダイオード |
WO2005091382A1 (de) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Lichtquelle für bilderzeugungseinheit |
JP2005317592A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Kyocera Corp | 発光素子収納用パッケージおよび発光装置ならびに照明装置 |
JP2005340473A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Kyocera Corp | 発光素子収納用パッケージおよび発光装置ならびに照明装置 |
WO2006028073A1 (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-16 | Hitachi Aic Inc. | チップ部品型発光装置及びそのための配線基板 |
JP2006134992A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Hitachi Displays Ltd | 光源ユニット、それを用いた照明装置及びそれを用いた表示装置 |
JP2006517738A (ja) * | 2003-02-07 | 2006-07-27 | 松下電器産業株式会社 | 発光体用金属ベース基板、発光光源、照明装置及び表示装置 |
JP2006203262A (ja) * | 2006-04-27 | 2006-08-03 | Kyocera Corp | 発光装置 |
JP2006229162A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Daisho Denshi:Kk | 基板及びその製造方法 |
JP2006237557A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-09-07 | Kyocera Corp | 発光装置 |
JP2006270120A (ja) * | 2003-12-19 | 2006-10-05 | Kyocera Corp | 発光ダイオード装置 |
JP2006313943A (ja) * | 2003-02-18 | 2006-11-16 | Sharp Corp | 半導体発光装置、その製造方法および電子撮像装置 |
JP2006351666A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Fujikura Ltd | 発光素子実装用基板とその製造方法、発光素子モジュール、照明装置、表示装置及び交通信号機 |
JP2006351351A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Nichicon Corp | 光源装置 |
US7164159B2 (en) | 2003-11-20 | 2007-01-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | LED package |
JP2007059905A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte Ltd | 光電子パッケージ、並びに、それを作成し、使用する方法及びシステム |
JP2007067449A (ja) * | 2002-06-19 | 2007-03-15 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体発光装置 |
JP2007080990A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Showa Denko Kk | 発光装置 |
JP2007081430A (ja) * | 2002-06-19 | 2007-03-29 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体発光装置及びその製法並びに半導体発光装置用リフレクタ |
JP2007088081A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
JP2007116108A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-05-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
JP2007116075A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-05-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
JP2007142281A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP2007142279A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP2007149814A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Matsushita Electric Works Ltd | 回路基板及び回路基板の製造方法 |
JP2007165815A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-06-28 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
JP2007214524A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-08-23 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP2007220942A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 発光装置 |
JP2007266357A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Kyocera Corp | 発光装置および照明装置 |
CN100344003C (zh) * | 2003-02-28 | 2007-10-17 | 诺日士钢机株式会社 | 光源组件 |
JP2007274010A (ja) * | 2007-07-17 | 2007-10-18 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP2007300010A (ja) * | 2006-05-02 | 2007-11-15 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置及び照明装置 |
JP2007317956A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
JP2008010591A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置およびその製造方法、パッケージ、発光素子実装用の基板 |
CN100382345C (zh) * | 2004-01-05 | 2008-04-16 | 株式会社东芝 | 光半导体装置 |
JP2008147453A (ja) * | 2006-12-11 | 2008-06-26 | Hitachi Displays Ltd | 照明装置及びこの照明装置を用いた表示装置 |
WO2008078587A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Showa Denko K.K. | 発光装置、表示装置、および固体発光素子基板 |
JP2008182186A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-08-07 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 照明装置 |
JP2008205501A (ja) * | 2002-06-14 | 2008-09-04 | Lednium Technology Pty Ltd | Ledのパッケージ方法およびパッケージングされたled |
JP2008218678A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
JP2008218296A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Sony Corp | 発光装置、表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2008218484A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Nichia Chem Ind Ltd | 照明装置 |
JP2008235720A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 照明装置 |
JP2008277438A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 電子部品、基板、並びに、電子部品及び基板の製造方法 |
JP2008277817A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Advance Connectek Inc | 放熱モジュール及びその製造方法 |
WO2008143201A1 (ja) * | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Showa Denko K.K. | 半導体発光装置 |
JP2008544537A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-04 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | 発光素子パッケージ及び発光素子パッケージの製造方法 |
JP2009010360A (ja) * | 2007-05-31 | 2009-01-15 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 照明装置 |
JP2009037995A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-02-19 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 電球形ledランプおよび照明装置 |
WO2009038072A1 (ja) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Showa Denko K.K. | 発光装置、表示装置、および発光装置の製造方法 |
JP2009094213A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 発光装置 |
JP2009105153A (ja) * | 2007-10-22 | 2009-05-14 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 発光素子パッケージ用基板の製造方法および発光素子パッケージ |
JP2009123829A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 発光装置 |
JP2009123828A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 発光装置 |
JP2009135535A (ja) * | 2003-02-25 | 2009-06-18 | Kyocera Corp | 多数個取り基板、パッケージおよび発光装置 |
US7554129B2 (en) | 2004-06-10 | 2009-06-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
WO2010035788A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | デンカAgsp株式会社 | 発光素子搭載用基板及びその製造方法 |
US7690817B2 (en) | 2006-11-30 | 2010-04-06 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Illumination device with semiconductor light-emitting elements |
JP2010511289A (ja) * | 2006-03-10 | 2010-04-08 | グラフテック、インターナショナル、ホールディングス、インコーポレーテッド | 一体型熱バイアを有する発光ダイオード |
WO2010050067A1 (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-06 | 電気化学工業株式会社 | 発光素子パッケージ用基板及び発光素子パッケージ |
WO2010062079A3 (en) * | 2008-11-25 | 2010-08-12 | Lg Innotek Co., Ltd | Light emitting device package |
KR100979971B1 (ko) | 2009-02-09 | 2010-09-03 | 주식회사 두성에이텍 | 발광 다이오드 유닛의 제조 방법과, 이 방법에 의하여 제조된 발광 다이오드 유닛 |
JP2010531539A (ja) * | 2007-06-25 | 2010-09-24 | ネオバルブ テクノロジーズ,インコーポレイテッド | 発光ダイオード照明設備 |
JP2010532925A (ja) * | 2007-10-15 | 2010-10-14 | フォーシャン・ネーションスター・オプトエレクトロニクス・カンパニー・リミテッド | パワーledの放熱基板の構造及び該構造によって製造される装置 |
JP2010535415A (ja) * | 2007-07-31 | 2010-11-18 | リニューアブル・エナジー・コーポレーション・エーエスエー | 太陽電池の裏面上にコンタクトを設ける方法、及び該方法によって設けられた接点を有する太陽電池 |
JP2010537400A (ja) * | 2007-08-16 | 2010-12-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 薄型の側面発光ledに連結される光学要素 |
JP2010274256A (ja) * | 2009-01-29 | 2010-12-09 | Kyocera Corp | 光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法 |
JP2010283358A (ja) * | 2005-12-16 | 2010-12-16 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | バックライトユニット |
JP2011054736A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Sharp Corp | 発光装置、平面光源および液晶表示装置 |
JP2011066462A (ja) * | 2005-03-11 | 2011-03-31 | Seoul Semiconductor Co Ltd | 複数の発光セルを有する発光素子 |
JP2011091399A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-05-06 | Neobulb Technologies Inc | チップリードフレームおよび光電エネルギー変換モジュール |
CN102064265A (zh) * | 2009-11-11 | 2011-05-18 | 钰桥半导体股份有限公司 | 具有凸柱/基座的散热座及基板的半导体晶片组体 |
US7956372B2 (en) | 2005-09-20 | 2011-06-07 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Light emitting device |
US7989840B2 (en) | 2006-08-29 | 2011-08-02 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Illumination apparatus having a plurality of semiconductor light-emitting devices |
JP2011151339A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-08-04 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置 |
CN102214777A (zh) * | 2011-05-09 | 2011-10-12 | 厦门市英诺尔电子科技有限公司 | 一种大功率led封装基板及其制成方法 |
US8071988B2 (en) | 2004-05-06 | 2011-12-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | White light emitting device comprising a plurality of light emitting diodes with different peak emission wavelengths and a wavelength converter |
US8070984B2 (en) | 2004-06-10 | 2011-12-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8098003B2 (en) | 2009-06-01 | 2012-01-17 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Light emitting module and illumination device |
JP2012028648A (ja) * | 2010-07-26 | 2012-02-09 | Koito Mfg Co Ltd | 発光モジュール |
JP2012505543A (ja) * | 2008-10-21 | 2012-03-01 | ケーエムダブリュ・インコーポレーテッド | マルチチップledパッケージ |
KR101116723B1 (ko) | 2003-11-07 | 2012-03-08 | 트리도닉 예너스도르프 게엠베하 | 열소산 플레이트를 포함하는 발광 다이오드 장치 |
US8134165B2 (en) | 2007-08-28 | 2012-03-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device employing non-stoichiometric tetragonal alkaline earth silicate phosphors |
US8137589B2 (en) | 2007-08-22 | 2012-03-20 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Non stoichiometric tetragonal copper alkaline earth silicate phosphors and method of preparing the same |
EP1605523A4 (en) * | 2003-03-14 | 2012-04-04 | Sumitomo Electric Industries | SEMICONDUCTOR COMPONENT |
JP2012074753A (ja) * | 2006-01-26 | 2012-04-12 | Lg Innotek Co Ltd | 発光ダイオードパッケージ |
US8188492B2 (en) | 2006-08-29 | 2012-05-29 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device having plural light emitting diodes and at least one phosphor for emitting different wavelengths of light |
DE112008004155T5 (de) | 2008-11-25 | 2012-07-12 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Herstellen eines Substrats für eine Baugruppe mit lichtemittierendem Elementsowie Baugruppe mit lichtemittierendem Element unter Verwendung eines derartigen Substrats |
JP2012134564A (ja) * | 2004-09-10 | 2012-07-12 | Seoul Semiconductor Co Ltd | 発光素子及びその製造方法 |
DE112008004171T5 (de) | 2008-11-25 | 2012-08-23 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Herstellen von Substraten für eine Baugruppe mit lichtemittierendem Element sowie Baugruppe mit lichtemittierendem Element unter Verwendung eines derartigen Substrats |
KR101181173B1 (ko) * | 2010-10-11 | 2012-09-18 | 엘지이노텍 주식회사 | 방열회로기판, 그의 제조 방법 및 그를 포함하는 발열소자 패키지 |
US8273266B2 (en) | 2005-11-11 | 2012-09-25 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Copper-alkaline-earth-silicate mixed crystal phosphors |
US8308980B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-11-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
JP2012238633A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-06 | Rohm Co Ltd | Ledモジュール |
JP2013045842A (ja) * | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Sharp Corp | 発光装置 |
JP2013065891A (ja) * | 2007-09-06 | 2013-04-11 | Nichia Chem Ind Ltd | 半導体装置 |
US8535564B2 (en) | 2009-06-24 | 2013-09-17 | Seoul Semiconductor, Co., Ltd. | Light emitting device employing luminescent substances with oxyorthosilicate luminophores |
US8545082B2 (en) | 2009-10-19 | 2013-10-01 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting apparatus and lighting system |
JP2013258399A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-12-26 | Rohm Co Ltd | Led光源モジュールおよびled光源モジュールの製造方法 |
US8703014B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-04-22 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent substances having Eu2+-doped silicate luminophores |
US8847254B2 (en) | 2005-12-15 | 2014-09-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
JP2015009764A (ja) * | 2013-07-02 | 2015-01-19 | トヨタ自動車九州株式会社 | 自動車外装樹脂部品、及びその製造方法 |
JP5675944B1 (ja) * | 2013-09-02 | 2015-02-25 | 隆達電子股▲ふん▼有限公司 | 発光ダイオードのパッケージ構造及びその製造方法 |
JP2015513226A (ja) * | 2012-04-02 | 2015-04-30 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | 発光半導体部品および発光半導体部品の製造方法 |
CN105099168A (zh) * | 2009-12-25 | 2015-11-25 | 罗姆股份有限公司 | 直流电压转换模块、半导体模块和半导体模块的制造方法 |
US9209162B2 (en) | 2004-05-13 | 2015-12-08 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device including RGB light emitting diodes and phosphor |
JP2016001756A (ja) * | 2009-09-17 | 2016-01-07 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 高屈折率レンズを有するledモジュール |
US9312246B2 (en) | 2006-03-31 | 2016-04-12 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
US9379298B2 (en) | 2014-10-03 | 2016-06-28 | Henkel IP & Holding GmbH | Laminate sub-mounts for LED surface mount package |
WO2016129873A3 (ko) * | 2015-02-13 | 2016-10-06 | 서울바이오시스 주식회사 | 발광소자 및 발광 다이오드 |
JP2016195177A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | 光照射モジュール |
JP2018016009A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | 株式会社沖データ | 露光装置および受光装置 |
CN109314169A (zh) * | 2016-06-10 | 2019-02-05 | 宜诺泰克公司 | 包括热能管理的照明组件 |
JP2019087695A (ja) * | 2017-11-09 | 2019-06-06 | シチズン電子株式会社 | 発光装置 |
DE112004000155B4 (de) * | 2003-01-16 | 2019-06-19 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Anschlussrahmen für ein Halbleiterbauelement |
CN110085556A (zh) * | 2018-01-26 | 2019-08-02 | 南京沃天科技有限公司 | 一种采用凸台结构烧结底座的压力芯体 |
CN111584696A (zh) * | 2019-02-19 | 2020-08-25 | 江苏罗化新材料有限公司 | 一种双面出光的led芯片csp封装结构及其封装方法 |
JPWO2019160062A1 (ja) * | 2018-02-16 | 2021-02-12 | 京セラ株式会社 | 多数個取り素子収納用パッケージおよび多数個取り光半導体装置 |
CN113056830A (zh) * | 2018-11-07 | 2021-06-29 | 首尔伟傲世有限公司 | 发光元件 |
JP2022025833A (ja) * | 2020-07-30 | 2022-02-10 | 日本特殊陶業株式会社 | 半導体パッケージ、および、半導体パッケージアレイ |
-
2001
- 2001-04-12 JP JP2001114502A patent/JP4432275B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (196)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008205501A (ja) * | 2002-06-14 | 2008-09-04 | Lednium Technology Pty Ltd | Ledのパッケージ方法およびパッケージングされたled |
US7429757B2 (en) | 2002-06-19 | 2008-09-30 | Sanken Electric Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device capable of increasing its brightness |
WO2004001862A1 (ja) * | 2002-06-19 | 2003-12-31 | Sanken Electric Co., Ltd. | 半導体発光装置及びその製法並びに半導体発光装置用リフレクタ |
JP2007081430A (ja) * | 2002-06-19 | 2007-03-29 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体発光装置及びその製法並びに半導体発光装置用リフレクタ |
JP2007067449A (ja) * | 2002-06-19 | 2007-03-15 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体発光装置 |
DE112004000155B4 (de) * | 2003-01-16 | 2019-06-19 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Anschlussrahmen für ein Halbleiterbauelement |
JP2006517738A (ja) * | 2003-02-07 | 2006-07-27 | 松下電器産業株式会社 | 発光体用金属ベース基板、発光光源、照明装置及び表示装置 |
JP2006313943A (ja) * | 2003-02-18 | 2006-11-16 | Sharp Corp | 半導体発光装置、その製造方法および電子撮像装置 |
JP2007067443A (ja) * | 2003-02-18 | 2007-03-15 | Sharp Corp | 半導体発光装置および電子撮像装置 |
JP2009135536A (ja) * | 2003-02-25 | 2009-06-18 | Kyocera Corp | 発光素子収納用パッケージおよび発光装置 |
JP2009135535A (ja) * | 2003-02-25 | 2009-06-18 | Kyocera Corp | 多数個取り基板、パッケージおよび発光装置 |
CN100344003C (zh) * | 2003-02-28 | 2007-10-17 | 诺日士钢机株式会社 | 光源组件 |
EP1605523A4 (en) * | 2003-03-14 | 2012-04-04 | Sumitomo Electric Industries | SEMICONDUCTOR COMPONENT |
JP2004296882A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体発光装置 |
JP2004311791A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Sharp Corp | 照明装置、バックライト装置および表示装置 |
JP2005039100A (ja) * | 2003-07-16 | 2005-02-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 高熱伝導性発光素子用回路部品及び高放熱モジュール |
JP2005117041A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Agilent Technol Inc | 高出力発光ダイオードデバイス |
KR101116723B1 (ko) | 2003-11-07 | 2012-03-08 | 트리도닉 예너스도르프 게엠베하 | 열소산 플레이트를 포함하는 발광 다이오드 장치 |
US7164159B2 (en) | 2003-11-20 | 2007-01-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | LED package |
WO2005053040A1 (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-09 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 半導体発光素子搭載部材とそれを用いた発光ダイオード |
JP2006270120A (ja) * | 2003-12-19 | 2006-10-05 | Kyocera Corp | 発光ダイオード装置 |
CN100382345C (zh) * | 2004-01-05 | 2008-04-16 | 株式会社东芝 | 光半导体装置 |
WO2005091382A1 (de) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Lichtquelle für bilderzeugungseinheit |
US7465064B2 (en) | 2004-03-18 | 2008-12-16 | Siemens Aktiengesellschaft | Light source for an image-generating unit |
KR101140923B1 (ko) | 2004-03-18 | 2012-06-28 | 콘티넨탈 오토모티브 게엠베하 | 영상 생성 유닛을 위한 광원 |
JP2005317592A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Kyocera Corp | 発光素子収納用パッケージおよび発光装置ならびに照明装置 |
US8071988B2 (en) | 2004-05-06 | 2011-12-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | White light emitting device comprising a plurality of light emitting diodes with different peak emission wavelengths and a wavelength converter |
US11605762B2 (en) | 2004-05-13 | 2023-03-14 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device including RGB light emitting diodes and phosphor |
US10916684B2 (en) | 2004-05-13 | 2021-02-09 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device including RGB light emitting diodes and phosphor |
US10672956B2 (en) | 2004-05-13 | 2020-06-02 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device including RGB light emitting diodes and phosphor |
US10186642B2 (en) | 2004-05-13 | 2019-01-22 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device including RGB light emitting diodes and phosphor |
US9209162B2 (en) | 2004-05-13 | 2015-12-08 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device including RGB light emitting diodes and phosphor |
JP2005340473A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Kyocera Corp | 発光素子収納用パッケージおよび発光装置ならびに照明装置 |
US8089084B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-01-03 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8883040B2 (en) | 2004-06-10 | 2014-11-11 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8070983B2 (en) | 2004-06-10 | 2011-12-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8075802B2 (en) | 2004-06-10 | 2011-12-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8066909B2 (en) | 2004-06-10 | 2011-11-29 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8308980B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-11-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8318044B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-11-27 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8252203B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-08-28 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8070984B2 (en) | 2004-06-10 | 2011-12-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US8158028B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-04-17 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent material |
US7554129B2 (en) | 2004-06-10 | 2009-06-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
US8900482B2 (en) | 2004-06-10 | 2014-12-02 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
WO2006028073A1 (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-16 | Hitachi Aic Inc. | チップ部品型発光装置及びそのための配線基板 |
US7777238B2 (en) | 2004-09-07 | 2010-08-17 | Hitachi Aic Inc. | Chip-type light emitting device and wiring substrate for the same |
JP2012134564A (ja) * | 2004-09-10 | 2012-07-12 | Seoul Semiconductor Co Ltd | 発光素子及びその製造方法 |
JP2006134992A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Hitachi Displays Ltd | 光源ユニット、それを用いた照明装置及びそれを用いた表示装置 |
JP2006237557A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-09-07 | Kyocera Corp | 発光装置 |
JP2006229162A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Daisho Denshi:Kk | 基板及びその製造方法 |
JP2011066462A (ja) * | 2005-03-11 | 2011-03-31 | Seoul Semiconductor Co Ltd | 複数の発光セルを有する発光素子 |
US8937326B2 (en) | 2005-03-11 | 2015-01-20 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | LED package having an array of light emitting cells coupled in series |
JP2014199960A (ja) * | 2005-03-11 | 2014-10-23 | ソウル セミコンダクター カンパニー リミテッド | 複数の発光セルを有する発光素子 |
JP2006351666A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Fujikura Ltd | 発光素子実装用基板とその製造方法、発光素子モジュール、照明装置、表示装置及び交通信号機 |
JP2006351351A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Nichicon Corp | 光源装置 |
JP2008544537A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-04 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | 発光素子パッケージ及び発光素子パッケージの製造方法 |
US8178894B2 (en) | 2005-06-24 | 2012-05-15 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package and method of fabricating the same |
US9564567B2 (en) | 2005-06-24 | 2017-02-07 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package and method of fabricating the same |
US8395178B2 (en) | 2005-06-24 | 2013-03-12 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package and method of fabricating the same |
JP2007059905A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte Ltd | 光電子パッケージ、並びに、それを作成し、使用する方法及びシステム |
JP2007080990A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Showa Denko Kk | 発光装置 |
JP2007116108A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-05-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
JP2007165815A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-06-28 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
JP2007088081A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
JP2007116075A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-05-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置 |
US7956372B2 (en) | 2005-09-20 | 2011-06-07 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Light emitting device |
US8273266B2 (en) | 2005-11-11 | 2012-09-25 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Copper-alkaline-earth-silicate mixed crystal phosphors |
US7767475B2 (en) | 2005-11-21 | 2010-08-03 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Light emitting device |
JP2007142279A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
US8278678B2 (en) | 2005-11-21 | 2012-10-02 | Panasonic Corporation | Light emitting device |
JP2007142281A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP2007149814A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Matsushita Electric Works Ltd | 回路基板及び回路基板の製造方法 |
US8847254B2 (en) | 2005-12-15 | 2014-09-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device |
JP2010283358A (ja) * | 2005-12-16 | 2010-12-16 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | バックライトユニット |
US8500306B2 (en) | 2005-12-16 | 2013-08-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Slim type backlight unit with through-hole adhesive heat dissipating means |
US8721126B2 (en) | 2005-12-16 | 2014-05-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Slim type backlight unit with through-hole adhesive heat dissipating means |
JP2007214524A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-08-23 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
US8552449B2 (en) | 2006-01-26 | 2013-10-08 | Lg Innotek Co., Ltd. | Package of light emitting diode and method for manufacturing the same |
JP2012074753A (ja) * | 2006-01-26 | 2012-04-12 | Lg Innotek Co Ltd | 発光ダイオードパッケージ |
US9450156B2 (en) | 2006-01-26 | 2016-09-20 | Lg Innotek Co., Ltd. | Package of light emitting diode and method for manufacturing the same |
JP2007220942A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 発光装置 |
JP2010511289A (ja) * | 2006-03-10 | 2010-04-08 | グラフテック、インターナショナル、ホールディングス、インコーポレーテッド | 一体型熱バイアを有する発光ダイオード |
JP2007266357A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Kyocera Corp | 発光装置および照明装置 |
US9576939B2 (en) | 2006-03-31 | 2017-02-21 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
US11322484B2 (en) | 2006-03-31 | 2022-05-03 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
US9312246B2 (en) | 2006-03-31 | 2016-04-12 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
US12009348B2 (en) | 2006-03-31 | 2024-06-11 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device and lighting system having the same |
JP2006203262A (ja) * | 2006-04-27 | 2006-08-03 | Kyocera Corp | 発光装置 |
JP2007300010A (ja) * | 2006-05-02 | 2007-11-15 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置及び照明装置 |
JP2007317956A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
JP2008010591A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置およびその製造方法、パッケージ、発光素子実装用の基板 |
US8674380B2 (en) | 2006-08-29 | 2014-03-18 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device having plural light emitting diodes and plural phosphors for emitting different wavelengths of light |
US7989840B2 (en) | 2006-08-29 | 2011-08-02 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Illumination apparatus having a plurality of semiconductor light-emitting devices |
US8188492B2 (en) | 2006-08-29 | 2012-05-29 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device having plural light emitting diodes and at least one phosphor for emitting different wavelengths of light |
US7934856B2 (en) | 2006-11-30 | 2011-05-03 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Illumination device with semiconductor light-emitting elements |
US7690817B2 (en) | 2006-11-30 | 2010-04-06 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Illumination device with semiconductor light-emitting elements |
JP2008182186A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-08-07 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 照明装置 |
US8398267B2 (en) | 2006-11-30 | 2013-03-19 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Illumination device with semiconductor light-emitting elements |
US8167456B2 (en) | 2006-11-30 | 2012-05-01 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Illumination device with semiconductor light-emitting elements |
JP2010251805A (ja) * | 2006-11-30 | 2010-11-04 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 照明装置 |
JP2008147453A (ja) * | 2006-12-11 | 2008-06-26 | Hitachi Displays Ltd | 照明装置及びこの照明装置を用いた表示装置 |
JP5097127B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2012-12-12 | 昭和電工株式会社 | 発光装置、表示装置、および固体発光素子基板 |
WO2008078587A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Showa Denko K.K. | 発光装置、表示装置、および固体発光素子基板 |
JP2008218484A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Nichia Chem Ind Ltd | 照明装置 |
JP2008218678A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
JP2008218296A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Sony Corp | 発光装置、表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2008235720A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 照明装置 |
JP2008277438A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 電子部品、基板、並びに、電子部品及び基板の製造方法 |
JP2008277817A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Advance Connectek Inc | 放熱モジュール及びその製造方法 |
US8058668B2 (en) | 2007-05-17 | 2011-11-15 | Showa Denko K.K. | Semiconductor light-emitting apparatus |
WO2008143201A1 (ja) * | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Showa Denko K.K. | 半導体発光装置 |
JP2009010360A (ja) * | 2007-05-31 | 2009-01-15 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 照明装置 |
JP2010531539A (ja) * | 2007-06-25 | 2010-09-24 | ネオバルブ テクノロジーズ,インコーポレイテッド | 発光ダイオード照明設備 |
JP2009037995A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-02-19 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 電球形ledランプおよび照明装置 |
JP2007274010A (ja) * | 2007-07-17 | 2007-10-18 | Matsushita Electric Works Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP2010535415A (ja) * | 2007-07-31 | 2010-11-18 | リニューアブル・エナジー・コーポレーション・エーエスエー | 太陽電池の裏面上にコンタクトを設ける方法、及び該方法によって設けられた接点を有する太陽電池 |
KR101548388B1 (ko) * | 2007-08-16 | 2015-08-28 | 코닌클리케 필립스 엔.브이. | 낮은 프로파일의 측면 방출 led에 연결된 광학 요소 |
JP2010537400A (ja) * | 2007-08-16 | 2010-12-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 薄型の側面発光ledに連結される光学要素 |
US8137589B2 (en) | 2007-08-22 | 2012-03-20 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Non stoichiometric tetragonal copper alkaline earth silicate phosphors and method of preparing the same |
US8501040B2 (en) | 2007-08-22 | 2013-08-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Non-stoichiometric tetragonal copper alkaline earth silicate phosphors and method of preparing the same |
US8134165B2 (en) | 2007-08-28 | 2012-03-13 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device employing non-stoichiometric tetragonal alkaline earth silicate phosphors |
US8431954B2 (en) | 2007-08-28 | 2013-04-30 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting device employing non-stoichiometric tetragonal alkaline earth silicate phosphors |
JP2015026852A (ja) * | 2007-09-06 | 2015-02-05 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体装置 |
JP2013065891A (ja) * | 2007-09-06 | 2013-04-11 | Nichia Chem Ind Ltd | 半導体装置 |
WO2009038072A1 (ja) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Showa Denko K.K. | 発光装置、表示装置、および発光装置の製造方法 |
JP2009094213A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 発光装置 |
JP2010532925A (ja) * | 2007-10-15 | 2010-10-14 | フォーシャン・ネーションスター・オプトエレクトロニクス・カンパニー・リミテッド | パワーledの放熱基板の構造及び該構造によって製造される装置 |
JP2009105153A (ja) * | 2007-10-22 | 2009-05-14 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 発光素子パッケージ用基板の製造方法および発光素子パッケージ |
JP2009123828A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 発光装置 |
JP2009123829A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 発光装置 |
JPWO2010035788A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2012-02-23 | 電気化学工業株式会社 | 発光素子搭載用基板及びその製造方法 |
WO2010035788A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | デンカAgsp株式会社 | 発光素子搭載用基板及びその製造方法 |
JP2012505543A (ja) * | 2008-10-21 | 2012-03-01 | ケーエムダブリュ・インコーポレーテッド | マルチチップledパッケージ |
DE112008004058T5 (de) | 2008-10-31 | 2013-02-28 | Denki Kagaku Kogyo K.K. | Substrat für Baugruppe mit lichtemittierendem Element und Baugruppe mit lichtemittierendem Element |
WO2010050067A1 (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-06 | 電気化学工業株式会社 | 発光素子パッケージ用基板及び発光素子パッケージ |
DE112008004171T5 (de) | 2008-11-25 | 2012-08-23 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Herstellen von Substraten für eine Baugruppe mit lichtemittierendem Element sowie Baugruppe mit lichtemittierendem Element unter Verwendung eines derartigen Substrats |
US9425360B2 (en) | 2008-11-25 | 2016-08-23 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package |
US8324638B2 (en) | 2008-11-25 | 2012-12-04 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package |
US10847680B2 (en) | 2008-11-25 | 2020-11-24 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package |
US8188498B2 (en) | 2008-11-25 | 2012-05-29 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package |
US10134953B2 (en) | 2008-11-25 | 2018-11-20 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light-emitting device package including lead frame and using lead terminal as a reflective cavity |
CN101981716A (zh) * | 2008-11-25 | 2011-02-23 | Lg伊诺特有限公司 | 发光器件封装 |
US8436385B2 (en) | 2008-11-25 | 2013-05-07 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package |
KR101007131B1 (ko) | 2008-11-25 | 2011-01-10 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 패키지 |
DE112008004155T5 (de) | 2008-11-25 | 2012-07-12 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Herstellen eines Substrats für eine Baugruppe mit lichtemittierendem Elementsowie Baugruppe mit lichtemittierendem Element unter Verwendung eines derartigen Substrats |
US8928008B2 (en) | 2008-11-25 | 2015-01-06 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package comprising a lead electrode exposed to a recessed bottom portion of the package body |
WO2010062079A3 (en) * | 2008-11-25 | 2010-08-12 | Lg Innotek Co., Ltd | Light emitting device package |
JP2010274256A (ja) * | 2009-01-29 | 2010-12-09 | Kyocera Corp | 光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法 |
KR100979971B1 (ko) | 2009-02-09 | 2010-09-03 | 주식회사 두성에이텍 | 발광 다이오드 유닛의 제조 방법과, 이 방법에 의하여 제조된 발광 다이오드 유닛 |
US8098003B2 (en) | 2009-06-01 | 2012-01-17 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Light emitting module and illumination device |
US8703014B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-04-22 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Luminescent substances having Eu2+-doped silicate luminophores |
US8535564B2 (en) | 2009-06-24 | 2013-09-17 | Seoul Semiconductor, Co., Ltd. | Light emitting device employing luminescent substances with oxyorthosilicate luminophores |
JP2011054736A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Sharp Corp | 発光装置、平面光源および液晶表示装置 |
US8410502B2 (en) | 2009-09-01 | 2013-04-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Light-emitting device, planar light source including the light-emitting device, and liquid crystal display device including the planar light source |
JP2016001756A (ja) * | 2009-09-17 | 2016-01-07 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 高屈折率レンズを有するledモジュール |
JP2011091399A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-05-06 | Neobulb Technologies Inc | チップリードフレームおよび光電エネルギー変換モジュール |
US8545082B2 (en) | 2009-10-19 | 2013-10-01 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting apparatus and lighting system |
EP2312656B1 (en) * | 2009-10-19 | 2014-10-08 | LG Innotek Co., Ltd. | Light emitting apparatus and lighting system |
CN102064265A (zh) * | 2009-11-11 | 2011-05-18 | 钰桥半导体股份有限公司 | 具有凸柱/基座的散热座及基板的半导体晶片组体 |
JP2011151339A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-08-04 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置 |
CN105099168A (zh) * | 2009-12-25 | 2015-11-25 | 罗姆股份有限公司 | 直流电压转换模块、半导体模块和半导体模块的制造方法 |
US8803168B2 (en) | 2010-07-26 | 2014-08-12 | Koito Manufacturing Co., Ltd. | Light emitting module |
JP2012028648A (ja) * | 2010-07-26 | 2012-02-09 | Koito Mfg Co Ltd | 発光モジュール |
US9307675B2 (en) | 2010-10-11 | 2016-04-05 | Lg Innotek Co., Ltd. | Radiant heat circuit board, method of manufacturing the same, heat generating device package having the same, and backlight |
KR101181173B1 (ko) * | 2010-10-11 | 2012-09-18 | 엘지이노텍 주식회사 | 방열회로기판, 그의 제조 방법 및 그를 포함하는 발열소자 패키지 |
CN102214777A (zh) * | 2011-05-09 | 2011-10-12 | 厦门市英诺尔电子科技有限公司 | 一种大功率led封装基板及其制成方法 |
JP2012238633A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-06 | Rohm Co Ltd | Ledモジュール |
JP2013045842A (ja) * | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Sharp Corp | 発光装置 |
JP2015513226A (ja) * | 2012-04-02 | 2015-04-30 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | 発光半導体部品および発光半導体部品の製造方法 |
US9954150B2 (en) | 2012-04-02 | 2018-04-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Light-emitting semiconductor component and method for producing a light-emitting semiconductor component |
JP2013258399A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-12-26 | Rohm Co Ltd | Led光源モジュールおよびled光源モジュールの製造方法 |
JP2015009764A (ja) * | 2013-07-02 | 2015-01-19 | トヨタ自動車九州株式会社 | 自動車外装樹脂部品、及びその製造方法 |
JP5675944B1 (ja) * | 2013-09-02 | 2015-02-25 | 隆達電子股▲ふん▼有限公司 | 発光ダイオードのパッケージ構造及びその製造方法 |
US9853199B1 (en) | 2014-10-03 | 2017-12-26 | Henkel IP & Holding GmbH | Laminate sub-mounts for LED surface mount package |
US9379298B2 (en) | 2014-10-03 | 2016-06-28 | Henkel IP & Holding GmbH | Laminate sub-mounts for LED surface mount package |
US10438992B2 (en) | 2015-02-13 | 2019-10-08 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light-emitting element and light-emitting diode |
US11282892B2 (en) | 2015-02-13 | 2022-03-22 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light-emitting element including intermediate connection and branches |
WO2016129873A3 (ko) * | 2015-02-13 | 2016-10-06 | 서울바이오시스 주식회사 | 발광소자 및 발광 다이오드 |
JP2016195177A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | 光照射モジュール |
US11619376B2 (en) | 2016-06-10 | 2023-04-04 | Innotec, Corp. | Illumination assembly including thermal energy management |
CN109314169A (zh) * | 2016-06-10 | 2019-02-05 | 宜诺泰克公司 | 包括热能管理的照明组件 |
JP2018016009A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | 株式会社沖データ | 露光装置および受光装置 |
US10491776B2 (en) | 2016-07-29 | 2019-11-26 | Oki Data Corporation | Exposure device and light receiving device |
JP2019087695A (ja) * | 2017-11-09 | 2019-06-06 | シチズン電子株式会社 | 発光装置 |
JP7027129B2 (ja) | 2017-11-09 | 2022-03-01 | シチズン電子株式会社 | 発光装置 |
CN110085556A (zh) * | 2018-01-26 | 2019-08-02 | 南京沃天科技有限公司 | 一种采用凸台结构烧结底座的压力芯体 |
JP7072045B2 (ja) | 2018-02-16 | 2022-05-19 | 京セラ株式会社 | 多数個取り素子収納用パッケージおよび多数個取り光半導体装置 |
JPWO2019160062A1 (ja) * | 2018-02-16 | 2021-02-12 | 京セラ株式会社 | 多数個取り素子収納用パッケージおよび多数個取り光半導体装置 |
JP2022506047A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-01-17 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッド | 発光ダイオード |
CN113056830A (zh) * | 2018-11-07 | 2021-06-29 | 首尔伟傲世有限公司 | 发光元件 |
US11916168B2 (en) | 2018-11-07 | 2024-02-27 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device |
JP7500556B2 (ja) | 2018-11-07 | 2024-06-17 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッド | 発光ダイオード |
CN111584696A (zh) * | 2019-02-19 | 2020-08-25 | 江苏罗化新材料有限公司 | 一种双面出光的led芯片csp封装结构及其封装方法 |
JP2022025833A (ja) * | 2020-07-30 | 2022-02-10 | 日本特殊陶業株式会社 | 半導体パッケージ、および、半導体パッケージアレイ |
JP7291675B2 (ja) | 2020-07-30 | 2023-06-15 | 日本特殊陶業株式会社 | 半導体パッケージアレイ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4432275B2 (ja) | 2010-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4432275B2 (ja) | 光源装置 | |
TWI481070B (zh) | 薄型發光二極體封裝 | |
US6874910B2 (en) | Light source device using LED, and method of producing same | |
KR101360732B1 (ko) | 발광 다이오드 패키지 | |
JP4451859B2 (ja) | 高出力ledパッケージ | |
CN100539225C (zh) | 辐射元件的外壳、辐射元件及其制造方法 | |
US7161187B2 (en) | Light emitting diode and manufacturing method thereof | |
JP4122784B2 (ja) | 発光装置 | |
CN100463238C (zh) | 半导体发光器件及其制造方法、以及半导体发光组件 | |
TWI445200B (zh) | 半導體光學裝置 | |
JP3948488B2 (ja) | 発光装置 | |
US7491981B2 (en) | Light-emitting device and glass seal member therefor | |
JP2003152225A (ja) | 発光装置 | |
CN102779933A (zh) | 引线框架、发光二极管封装件及其制造方法 | |
JP2005109282A (ja) | 発光装置 | |
JP2006339653A (ja) | 高出力ledパッケージおよび高出力ledパッケージ製造方法 | |
JP2004207367A (ja) | 発光ダイオード及び発光ダイオード配列板 | |
JP2009283653A (ja) | 発光装置およびその製造方法 | |
JPWO2017209149A1 (ja) | 発光装置 | |
JP4976982B2 (ja) | Ledユニット | |
WO2004102685A1 (en) | Light emitting device, package structure thereof and manufacturing method thereof | |
JP4122743B2 (ja) | 発光装置 | |
JP2009094213A (ja) | 発光装置 | |
JP5155638B2 (ja) | 発光装置 | |
KR100764461B1 (ko) | 버퍼층을 갖는 반도체 패키지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091214 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4432275 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |