JP2002086399A - Micro-device having lamination structure and manufacturing method for it - Google Patents
Micro-device having lamination structure and manufacturing method for itInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、内部に微小な流体
流路を有するマイクロ流体デバイス、化学、生化学、又
は物理化学等の広い分野で用いられる、微小反応デバイ
ス(マイクロ・リアクター)や、集積型DNA分析デバ
イス、微小電気泳動デバイス、微小クロマトグラフィー
デバイスとして有用な、内部に微小な空洞を有し、例え
ば部材中に流路、反応槽、電気泳動カラム、膜分離機
構、及びセンサーなどの構造が形成された微小分析デバ
イスなどのマイクロデバイスの製造方法、及びそれによ
り得られるマイクロデバイスに関する。The present invention relates to a microfluidic device having a microfluidic channel therein, a microreaction device (microreactor) used in a wide range of fields such as chemistry, biochemistry or physical chemistry, Useful as an integrated DNA analysis device, microelectrophoresis device, microchromatography device, has a microcavity inside, such as a channel, a reaction tank, an electrophoresis column, a membrane separation mechanism, and a sensor in a member The present invention relates to a method for manufacturing a microdevice such as a microanalytical device having a structure, and a microdevice obtained by the method.
【0002】更に詳しくは、本発明は活性エネルギー線
硬化性樹脂層を有する積層構造を有し、該活性エネルギ
ー線硬化性樹脂層が層内に樹脂の欠損部を有し、複数の
樹脂層が積層され、該欠損部が各層を貫通して互いに連
絡した、細い毛細管状の流路を有し、更に反応層となる
べき空間、ダイヤフラム式バルブ及び弁構造などを有す
るマイクロデバイスである。More specifically, the present invention has a laminated structure having an active energy ray-curable resin layer, wherein the active energy ray-curable resin layer has a resin defect in the layer, and a plurality of resin layers are formed. A micro device which is laminated, has a thin capillary channel which penetrates through each layer and communicates with each other, and further has a space to be a reaction layer, a diaphragm valve and a valve structure.
【0003】また本発明のマイクロデバイスは疎水性の
活性エネルギー線重合性化合物(a)と、これと共重合し
うる両親媒性の重合性化合物(b)とを含有する活性エネ
ルギー線硬化性樹脂層からなり、生体成分が吸着しにく
いマイクロデバイスである。Further, the microdevice of the present invention is an active energy ray-curable resin containing a hydrophobic active energy ray-polymerizable compound (a) and an amphiphilic polymerizable compound (b) copolymerizable therewith. It is a micro device consisting of layers and hardly adsorbing biological components.
【0004】更に本発明は、塗工支持体上に活性エネル
ギー線硬化性樹脂層を作製し、次いでパターニング露光
と現像により形成した樹脂欠損部を有する該活性エネル
ギー線硬化性樹脂層を半硬化状態で他の部材と積層し、
再度活性エネルギー線照射により他の部材と接着、硬化
させ、再度の活性エネルギー線照射の前又は後、もしく
は途中に塗工支持体を除去する、マイクロデバイスの製
造方法に関する。Further, according to the present invention, an active energy ray-curable resin layer having a resin defective portion formed by patterning exposure and development is prepared by forming an active energy ray-curable resin layer on a coated support. And laminated with other members,
The present invention relates to a method for manufacturing a micro device, in which an active energy ray is again applied to adhere and cure with another member, and the coated support is removed before, after, or during another active energy ray irradiation.
【0005】[0005]
【従来の技術】シリコン、石英、ガラス、重合体などの
基材に、エッチング法により細い溝を形成して、液体流
路や分離用ゲルチャンネルとすることが知られており
(例えば、アール・エム・マコーミック等、「アナリテ
ィカル・ケミストリー」、第2626頁、第69巻、1
997年)、操作中の液体の蒸発防止などを目的とし
て、ガラス板などのカバーをネジ止め、融着、接着等に
より固定して用いることが知られている。2. Description of the Related Art It is known that a thin groove is formed in a base material such as silicon, quartz, glass, or a polymer by an etching method to form a liquid channel or a gel channel for separation (for example, M. McCormick et al., "Analytical Chemistry", p. 2626, vol. 69, 1
997), it is known that a cover such as a glass plate is fixed by screwing, fusing, bonding or the like for the purpose of preventing evaporation of liquid during operation.
【0006】しかしながら、ネジ止めなどによる密着で
は、積層された基材間や基材とカバーとの間への液体の
漏洩が生じがちであったし、融着や接着は長時間を要
し、極めて生産性の悪いものであった。更にこのような
素材や製法では、連続した3層以上の層に流路その他の
空隙部が形成された多層構造のマイクロデバイスを形成
することは困難であり、特に、破損しやすい薄い層が多
層積層されたマイクロデバイスを製造することは相当に
困難であった。However, in the case of close contact by screwing or the like, the liquid tends to leak between the laminated base materials or between the base material and the cover, and fusion and bonding require a long time. It was extremely poor productivity. Further, it is difficult to form a micro device having a multilayer structure in which a flow path and other voids are formed in three or more continuous layers with such a material and a manufacturing method. Fabricating stacked microdevices has been quite difficult.
【0007】また、「サイエンス(SCIENCE)」
誌(第288巻、113頁、2000年)には、注型法
にて表面に溝を有するシリコンゴム製の部材を形成し、
2つの該部材でシリコンゴムシートを挟んで接着するこ
とによって、立体交差する毛細管状の流路を形成する方
法が記載されている。[0007] "Science"
In a magazine (Vol. 288, p. 113, 2000), a member made of silicon rubber having a groove on the surface is formed by a casting method.
A method of forming a three-dimensionally intersecting capillary flow path by sandwiching and bonding a silicone rubber sheet between two members is described.
【0008】しかしながら、この2つの流路は独立した
流路であり、各層を貫通して互いに連絡した、細い毛細
管状の流路を形成することは出来なかった。特に、自立
出来ないほどに薄い層で構成された多層構造のマイクロ
デバイスを柔軟な素材で工業的に製造することは不可能
であり、複雑な反応・分析工程を実施可能なマイクロデ
バイスを作製することは出来なかった。更に、シリコン
ゴムは生化学物質の吸着が多いため用途が限定されるこ
とや、シリコンゴムを硬化させるのに長時間を要し、生
産性が著しく低いという欠点もあった。However, these two flow paths are independent flow paths, and it has not been possible to form a thin capillary flow path penetrating through each layer and communicating with each other. In particular, it is impossible to industrially manufacture a multi-layered micro device composed of thin layers that cannot be self-sustained with a flexible material, and to produce a micro device capable of performing complicated reaction and analysis processes. I couldn't do that. Further, silicon rubber has drawbacks in that its application is limited due to the large amount of adsorption of biochemical substances, and that it takes a long time to cure the silicone rubber, resulting in extremely low productivity.
【0009】一方、活性エネルギー線線硬化性樹脂で形
成されたマイクロデバイスは、活性エネルギー線硬化性
樹脂を半硬化させた状態で他の部材と接触させ、その状
態で活性エネルギー線を再照射して完全に硬化させる方
法によって、接着剤を使用することなく接着可能であ
り、極めて高い生産性で製造可能である。On the other hand, a microdevice formed of an active energy ray-curable resin is brought into contact with another member in a state where the active energy ray-curable resin is semi-cured, and is irradiated again with active energy rays in that state. By using a method of completely curing the adhesive, it is possible to adhere without using an adhesive, and it is possible to produce the product with extremely high productivity.
【0010】しかし、この方法によっても、それぞれ欠
損部を有する自立出来ないほどに薄い多数のフィルム
を、微小な欠損部の位置を合わせて積層することは、工
業的に実施困難であった。特に、樹脂層の欠損部が長い
線状、曲線状、多数の線状などである場合には、該フィ
ルムの取扱が更に困難となり、このような層を貫通して
互いに連絡した毛細管状の流路を形成する方法は知られ
ていなかった。また、それぞれ欠損部を有する自立出来
ないほどに薄い活性エネルギー線硬化性樹脂から成るフ
ィルムを、微小な欠損部の位置を合わせて3層以上積層
されたマイクロデバイスは知られていなかった。However, even with this method, it is industrially difficult to laminate a large number of films each having a defective portion so as not to be self-supporting, while aligning the positions of the minute defective portions. In particular, when the defective portion of the resin layer has a long linear shape, a curved shape, a large number of linear shapes, and the like, it becomes more difficult to handle the film, and the capillary flows penetrating through such a layer and communicating with each other. There was no known way to form a road. Further, there has been no known microdevice in which three or more layers of a film made of an active energy ray-curable resin having a defective portion and each of which is too thin to be self-supporting are laminated with the positions of the minute defective portions aligned.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、破損しやすい非常に薄い層の欠損部として
形成された微細な毛細管状の空洞を有するマイクロデバ
イスの製造方法、特に立体的に形成された複雑な流路を
有するマイクロデバイスの生産性の高い製造方法を提供
すること、並びに、複数の樹脂層が積層され、微細な毛
細管状の空洞が各層を貫通して互いに連絡し、立体交差
している微細な毛細管状の流路、反応槽となるべき空
間、ダイヤフラム式バルブ、及び弁構造などを有する多
機能なマイクロデバイスを提供することにある。An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a micro device having a fine capillary cavity formed as a defect in a very thin layer which is easily broken, and particularly to a three-dimensional method. Providing a highly productive manufacturing method of a micro device having a complicated flow path formed in, and a plurality of resin layers are laminated, and fine capillary cavities penetrate each layer and communicate with each other, An object of the present invention is to provide a multifunctional microdevice having a three-dimensionally crossing fine capillary channel, a space to be a reaction tank, a diaphragm valve, a valve structure, and the like.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決する方法について鋭意検討した結果、塗工支持体
上に活性エネルギー線硬化性組成物から成る、欠損部を
有する半硬化塗膜を形成し、該半硬化塗膜を他の部材に
積層して支持体を除去し、支持体を除去する前、又は
後、もしくは支持体を除去の前後に活性エネルギー線を
再照射して該塗膜を硬化させると共に当該他の部材に接
着することにより、内部に空洞が形成されたマイクロデ
バイス、特に複数の層が連続して積層されたマイクロデ
バイスを容易に製造できることを見出し、本発明を完成
するに至った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies on the method for solving the above-mentioned problems, the present inventors have found that a semi-cured coating having a defective portion, comprising an active energy ray-curable composition, is formed on a coated support. Forming a film, removing the support by laminating the semi-cured coating film to another member, before or after removing the support, or re-irradiating active energy rays before and after removing the support The present inventors have found that a microdevice having a cavity formed therein, particularly a microdevice in which a plurality of layers are continuously laminated can be easily manufactured by curing the coating film and bonding the coating film to the other member. Was completed.
【0013】即ち、本発明は、下記の工程を含む、欠損
部を有する樹脂層(X)を1層以上有し、該樹脂層が他の
部材又は他の樹脂層(X)と積層されて、欠損部が空洞を
形成している、積層構造を有するマイクロデバイスの製
造方法を提供する。That is, the present invention comprises at least one resin layer (X) having a defective portion, comprising the following steps, wherein the resin layer is laminated with another member or another resin layer (X). And a method for manufacturing a micro device having a laminated structure, in which a defective portion forms a cavity.
【0014】(i)塗工支持体に、活性エネルギー線重
合性化合物(a)を含有する活性エネルギー線硬化性組成
物(x)を塗工する、未硬化塗膜を形成する工程(i)、(i
i)欠損部と成すべき部分以外の未硬化塗膜に活性エネ
ルギー線を照射し照射部の未硬化塗膜を非流動性又は難
流動性となし、且つ未反応の活性エネルギー線重合性官
能基が残存する程度に半硬化させる、半硬化塗膜を形成
する工程(ii)、(I) A step of forming an uncured coating film by applying an active energy ray-curable composition (x) containing an active energy ray-polymerizable compound (a) to a coated support. , (I
i) Irradiation of active energy rays to the uncured coating film other than the portion to be formed as a defective portion to make the uncured coating film of the irradiated portion non-flowable or hardly flowable and an unreacted active energy ray-polymerizable functional group Is semi-cured to the extent that it remains, a step (ii) of forming a semi-cured coating film,
【0015】(iii)半硬化塗膜から非照射部分の未硬
化の組成物(x)を除去し、塗膜の欠損部を有する半硬化
塗膜を得る工程(iii)、(iv)欠損部を有する半硬化塗
膜を他の部材(J)に積層させ樹脂層(X)と成す工程(iv)、(Iii) removing the uncured composition (x) in the non-irradiated portion from the semi-cured coating film to obtain a semi-cured coating film having a defective portion of the coating film (iii), (iv) a defective portion Step (iv) of forming a resin layer (X) by laminating a semi-cured coating film having another on the other member (J),
【0016】(v)塗工支持体を樹脂層(X)から除去する
ことにより、樹脂層(X)を部材(J)に転写する工程
(v)、及び、(vi)工程(iv)の後であって工程(v)の前、又
は工程(v)の後、又は工程(v)の前後に、半硬化状態の樹
脂層(X)に活性エネルギー線を照射して樹脂層(X)を更に
硬化させ、樹脂層(X)を部材(J)に接着させる工程(vi)。(V) Step of transferring the resin layer (X) to the member (J) by removing the coated support from the resin layer (X)
(v), and (vi) after the step (iv) and before the step (v), or after the step (v), or before and after the step (v), the semi-cured resin layer (X ) Is irradiated with an active energy ray to further cure the resin layer (X), and the resin layer (X) is bonded to the member (J) (vi).
【0017】本発明は、工程(v)における塗工支持体の
除去が、塗工支持体の溶解である、又は工程(vi)が工程
(v)の前であり、工程(v)における塗工支持体の除去が剥
離であるマイクロデバイスの製造方法や、工程(i)、(i
i)、(iii)、(iv)、及び(v)を行った後、又は工程(i)、
(ii)、(iii)、(iv)、(v)、及び(vi)を行った後、又は工
程(i)、(ii)、(iii)、(iv)、(vi)、及び(v)を、この順
で行った後に、樹脂層(x)が積層された部材(J)を工程(i
v)における部材(J)の代わりに用いて、工程(i)〜(v)又
は工程(i)〜(vi)を繰り返すことにより、樹脂層(X)を複
数積層する、マイクロデバイスの製造方法を提供する。According to the present invention, the removal of the coated support in the step (v) is the dissolution of the coated support, or the step (vi) is a step
Before (v), the method of manufacturing a microdevice in which the removal of the coated support in step (v) is peeling, and steps (i) and (i)
i), (iii), (iv), and (v), or after performing step (i),
After performing (ii), (iii), (iv), (v), and (vi), or after performing steps (i), (ii), (iii), (iv), (vi), and (v) ) In this order, and then the member (J) on which the resin layer (x) is laminated is subjected to the step (i).
Using the member (J) in (v), by repeating the steps (i) to (v) or the steps (i) to (vi), a plurality of resin layers (X) are laminated, a method for manufacturing a micro device. I will provide a.
【0018】本発明は、複数の樹脂層(X)を、その欠損
部の少なくとも一部が重なり合うように積層することに
より、積層体中に複数の樹脂層(X)の欠損部が連結した
空洞を形成するマイクロデバイスの製造方法を提供す
る。本発明は、部材(J)が該部材を貫通する欠損部を有
する部材、又は、表面に凹状の欠損部を有する部材、又
は該部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有す
る部材であり、部材(J)の欠損部と樹脂層(X)の欠損部の
少なくと一部が重なり合うように、部材(J)と樹脂層(X)
とを積層することにより、積層体中に、部材(J)の欠損
部と樹脂層(X)の欠損部が連結した空洞を形成する、マ
イクロデバイスの製造方法を提供する。According to the present invention, a plurality of resin layers (X) are laminated so that at least a part of their defective portions are overlapped with each other to form a cavity in which the defective portions of the plurality of resin layers (X) are connected in a laminate. To provide a method for manufacturing a micro device for forming the same. The present invention provides a member (J) having a defective portion penetrating the member, or a member having a concave defect portion on the surface, or a member having a defective portion penetrating the member and a concave defect portion on the surface. The member (J) and the resin layer (X) such that at least a part of the defective portion of the member (J) and the defective portion of the resin layer (X) partially overlap.
And a method for manufacturing a microdevice, wherein a cavity in which a defective portion of the member (J) and a defective portion of the resin layer (X) are connected to each other is formed in the laminate by laminating them.
【0019】本発明は、上述の{工程(i)と工程(ii)の
間、工程(ii)と工程(iii)の間、及び工程(iii)と工程(i
v)の間}から選ばれる1つ以上の工程間において、樹脂
層(X)の一部に活性エネルギー線を照射して、行程(iv)
で該被照射部分が他の部材と接着しない程度にまで硬化
させる部分硬化を施すことにより、樹脂層(X)に、他の
部材または樹脂層と接触していても接着していない部分
を形成する、マイクロデバイスの製造方法を提供する。The present invention relates to the above-mentioned (1) between step (i) and step (ii), between step (ii) and step (iii), and between step (iii) and step (i).
During one or more steps selected from v) and (iv), a part of the resin layer (X) is irradiated with an active energy ray to perform a step (iv).
In the resin layer (X), a portion that is not adhered even if it is in contact with another member or the resin layer is formed by performing partial curing to cure the irradiated portion to such an extent that the irradiated portion does not adhere to another member. A method for manufacturing a microdevice.
【0020】本発明は、上述の工程(ii)における活性エ
ネルギー線の照射を弁を形成する形状に行い、樹脂層
(X)の一部に弁となる構造を設けること、及び部分硬化
を施す部分が樹脂層(X)の弁となる部分である、マイク
ロデバイスの製造方法を提供する。In the present invention, the irradiation of the active energy ray in the above step (ii) is performed in a shape for forming a valve, and the resin layer is formed.
Provided is a method for manufacturing a microdevice, in which a structure serving as a valve is provided in a part of (X), and a part to be partially cured is a part serving as a valve in the resin layer (X).
【0021】本発明は、上述の活性エネルギー線硬化性
組成物(x)が、単独重合体が60度以上の水との接触角
を示す疎水性の活性エネルギー線重合性化合物(a)と、
これと共重合しうる両親媒性の重合性化合物(b)を含有
するものである、マイクロデバイスの製造方法を提供す
る。According to the present invention, the above-mentioned active energy ray-curable composition (x) comprises a hydrophobic active energy ray-polymerizable compound (a) wherein the homopolymer exhibits a contact angle with water of 60 ° or more,
Provided is a method for producing a microdevice, which contains an amphiphilic polymerizable compound (b) copolymerizable therewith.
【0022】更に、本発明は、{部材を貫通する欠損部
を有する部材、又は表面に凹状の欠損部を有する部材、
又は部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有す
る部材から選ばれる部材(J')}と、層の一部に欠損部を
有し、該欠損部の最小幅が、1〜1000μmである、
活性エネルギー線硬化性樹脂層(X')の1つ以上の層と、
{部材を貫通する欠損部を有する部材、又は表面に凹状
の欠損部を有する部材、又は部材を貫通する欠損部と表
面に凹状の欠損部を有する部材から選ばれる部材(K')}
とが積層され、部材中の少なくとも2つ以上の欠損部が
連結して空洞を形成している、積層構造を有するマイク
ロデバイスを提供する。The present invention further provides a member having a defective portion penetrating the member or a member having a concave defective portion on the surface.
Or a member (J ′)} selected from a member having a defect portion penetrating the member and a concave defect portion on the surface, and a defect portion in a part of the layer, and the minimum width of the defect portion is 1 to 1000 μm. Is,
One or more layers of an active energy ray-curable resin layer (X ′);
部 材 A member having a defective portion penetrating the member, a member having a concave defect portion on the surface, or a member selected from a member having a defective portion penetrating the member and a concave defect portion on the surface (K ′)}
Are provided, and at least two or more defective portions in the member are connected to form a cavity.
【0023】本発明は、上述の部材(J')、樹脂層(X')、
及び部材(K')から選ばれる1つ以上の部材が、部材の積
層面に平行方向に設けられた、1つ以上の線状の空洞を
有するマイクロデバイスや、空洞の一部が流体の流路で
あり、異なる樹脂層(X')内に形成された複数の流路、又
は枝分かれした流路が樹脂層(X')を隔てて立体交差して
いるマイクロデバイスを提供する。The present invention provides the above-mentioned member (J '), resin layer (X'),
And one or more members selected from the member (K ′) and a microdevice having one or more linear cavities provided in a direction parallel to the stacking surface of the members, or a part of the cavities is a fluid flow. Provided is a microdevice in which a plurality of flow paths or branched flow paths formed in different resin layers (X ′) are three-dimensionally crossing each other across the resin layer (X ′).
【0024】本発明は、上述の部材(J')、樹脂層(X')、
及び部材(K')から選ばれる1つ以上の部材の一部に隣接
して積層された他の部材と接触しているが接着していな
い部分を有する、マイクロデバイスを提供する。The present invention provides the above-mentioned member (J '), resin layer (X'),
And a microdevice having a portion which is in contact with, but not adhered to, another member laminated adjacent to a part of one or more members selected from the member (K ′).
【0025】本発明は、少なくとも樹脂層(X')の1層の
一部に、周囲部分の一部を欠損部とすることにより、弁
となる構造が設けられており、隣接して積層された他の
部材と接触しているが接着していない部分が弁であるマ
イクロデバイスを提供する。According to the present invention, at least a part of one layer of the resin layer (X ') is provided with a structure serving as a valve by making a part of a peripheral part a defective part, and is laminated adjacently. And a part in contact with, but not adhered to, another member is a valve.
【0026】本発明は、部材(J')、樹脂層(X')、及び部
材(K')から選ばれる1つ以上の部材が、一方の側がダイ
ヤフラムとなる部材、他の側が欠損部を有する他の部材
と直接積層されており、該欠損部が積層されることで空
洞となり、ダイヤフラムとなる部材の裏面に積層された
他の部材が該空洞への流入口又は流出口、又はその両者
となる各孔状の欠損部を有し、流入口、流出口の少なく
とも一方が、該部材を隔ててダイヤフラムの対向面に形
成されており、その周がダイヤフラムに接しておらず、
ダイヤフラムを変形させて、該流入口、又は流出口の少
なくとも一方の周に接することによって流路を閉鎖しう
るマイクロデバイスを提供する。According to the present invention, at least one member selected from a member (J ′), a resin layer (X ′), and a member (K ′) includes a member whose one side is a diaphragm and a member whose other side is a defect. It is directly laminated with other members having, the cavity is formed by laminating the defective portion, and the other member laminated on the back surface of the member that becomes the diaphragm has an inflow port or an outflow port into the cavity, or both. Each hole-shaped defective portion, at least one of the inflow port and the outflow port is formed on the facing surface of the diaphragm with the member interposed therebetween, and the periphery thereof is not in contact with the diaphragm,
A micro device capable of closing a channel by deforming a diaphragm to contact at least one of the inlet and the outlet.
【0027】本発明は、活性エネルギー線重合性化合物
と共重合可能な両親媒性の活性エネルギー線重合性化合
物を含有するマイクロデバイスや、{部材を貫通する欠
損部を有する部材、又は表面に凹状の欠損部を有する部
材、又は部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を
有する部材から選ばれる部材(J')}と、層の一部に欠損
部を有し、該欠損部の最小幅が1〜1000μmであ
る、活性エネルギー線硬化性樹脂層(X')の1つ以上の層
と、欠損部がなくダイヤフラムとなす部材(K'')とが積
層され、部材(K'')が隣接して積層された他の部材と接
触しているが接着していない部分を有し、該部分がダイ
ヤフラム部分である、部材(J')と樹脂層(X')中の少なく
とも2つ以上の欠損部が連結して空洞を形成している、
積層構造を有するマイクロデバイス、及び上記の本発明
の製造方法により製造されたマイクロデバイスを提供す
る。The present invention relates to a microdevice containing an amphiphilic active energy ray-polymerizable compound copolymerizable with an active energy ray-polymerizable compound, a member having a defective portion penetrating a member, or a concave surface on the surface. A member having a defective part, or a member selected from a defective part penetrating the member and a member having a concave defective part on the surface (J ′)}, and having a defective part in a part of the layer; One or more layers of the active energy ray-curable resin layer (X ′) having a minimum width of 1 to 1000 μm, and a member (K ″) that forms a diaphragm without a defective portion are laminated, and the member (K ′ ') Has a portion that is in contact with but not adhered to another member that is adjacently laminated, and that portion is a diaphragm portion, at least in the member (J') and the resin layer (X '). Two or more missing parts are connected to form a cavity,
Provided are a micro device having a laminated structure, and a micro device manufactured by the above-described manufacturing method of the present invention.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】本発明の製造方法は、樹脂の欠損
部を有する樹脂層[以下、このような樹脂層を「樹脂層
(X)」と称する]の単独、あるいは、同一又は異なる形
状の流路を有する2つ以上の樹脂層(X)が他の部材に積
層・接着され、樹脂層(X)が他の部材又は他の樹脂層(X)
と積層されることにより該欠損部が空洞を形成している
マイクロデバイスの製造方法に関する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The manufacturing method of the present invention relates to a method for forming a resin layer having a resin defect [hereinafter referred to as a “resin layer”
(X) ") alone, or two or more resin layers (X) having flow paths of the same or different shapes are laminated and bonded to another member, and the resin layer (X) is formed of another member or Other resin layer (X)
And a method for manufacturing a microdevice in which the defective portion forms a cavity by being laminated.
【0029】本発明の製造方法で用いられる塗工支持体
は、活性エネルギー線硬化性組成物(x)(以下、単に
「組成物(x)」と略記することもある)をその上に塗工
することが可能であり、且つ、組成物(x)を硬化させた
後に除去できるものである。なお、本発明においては、
塗工には注型を含めるものとし、塗膜は注型物を含むも
のとする。The coated support used in the production method of the present invention is coated with an active energy ray-curable composition (x) (hereinafter sometimes simply referred to as “composition (x)”). It can be processed and can be removed after the composition (x) is cured. In the present invention,
The coating shall include casting, and the coating shall include casting.
【0030】塗工支持体の形状は特に限定する必要はな
く、用途目的に応じた形状を採りうる。例えば、シート
状(フィルム状、リボン状、ベルト状を含む)、板状、
ロール状(大きなロールを塗工支持体とし、塗工、半硬
化、積層、及び剥離等の工程を、ロールが1周する間に
行うもの)、その他複雑な形状の成型物や鋳型等であり
得るが、活性エネルギー線硬化性組成物(x)をその上に
塗工し易く、また、活性エネルギー線を照射し易いと言
う観点から、接着すべき面が平面状または2次曲面状の
形状であること、特に可撓性のあるシート状であること
が好ましい。また、生産性の面から、ロール状であるこ
とも好ましい。The shape of the coating support does not need to be particularly limited, and may take a shape according to the purpose of use. For example, sheet (including film, ribbon, and belt), plate,
Roll-shaped (coating, semi-curing, laminating, peeling, etc. are performed during one round of the roll, using a large roll as a coating support), and moldings and molds of other complicated shapes However, from the viewpoint that the active energy ray-curable composition (x) is easily applied thereon, and the active energy ray is easily irradiated, the surface to be adhered has a flat shape or a quadratic curved shape. It is particularly preferable that the sheet is a flexible sheet. Further, from the viewpoint of productivity, it is also preferable to be in the form of a roll.
【0031】塗工支持体は、升目、図面、位置合わせ記
号などが印刷されていても良い。塗工支持体の素材は、
上記の条件が満たされれば特に制約はなく、例えば、重
合体(ポリマー);ガラス;石英の如き結晶;セラミッ
ク;シリコンの如き半導体;金属;紙、不織布、織布な
どが挙げられるが、これらの中でも、重合体及び金属が
特に好ましい。The coated support may be printed with squares, drawings, alignment symbols and the like. The material of the coating support is
There is no particular limitation as long as the above conditions are satisfied. Examples thereof include polymer; glass; crystal such as quartz; ceramic; semiconductor such as silicon; metal; paper, nonwoven fabric, and woven fabric. Among them, polymers and metals are particularly preferred.
【0032】塗工支持体に使用する重合体は、単独重合
体であっても、共重合体であっても良く、また、熱可塑
性重合体であっても、熱硬化性重合体であっても良い。
生産性の面から、塗工支持体に使用する重合体は、熱可
塑性重合体又は活性エネルギー線硬化性重合体であるこ
とが好ましい。The polymer used for the coating support may be a homopolymer or a copolymer, and may be a thermoplastic polymer or a thermosetting polymer. Is also good.
From the viewpoint of productivity, the polymer used for the coating support is preferably a thermoplastic polymer or an active energy ray-curable polymer.
【0033】塗工支持体の除去が機械的な力による剥離
によるものである場合には、多くの種類の活性エネルギ
ー線硬化性組成物(x)に対して溶解しにくく、その硬化
物からの剥離が容易であるものとして、ポリオレフィン
系重合体、塩素含有重合体、フッ素含有重合体、ポリチ
オエーテル系重合体、ポリエーテルケトン系重合体、ポ
リエステル系重合体が好ましく用いられる。When the removal of the coating support is due to peeling by mechanical force, it is difficult to dissolve in many types of active energy ray-curable compositions (x), and Polyolefin polymers, chlorine-containing polymers, fluorine-containing polymers, polythioether-based polymers, polyetherketone-based polymers, and polyester-based polymers are preferably used as those easily peelable.
【0034】塗工支持体の除去が溶解によるものである
場合には、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリエチレ
ングリコール、ポリビニルアルコール、アクリル酸共重
合体などの水溶性樹脂;ポリエチレングリコール基など
のポリエーテル基や水酸基等を含有する低級アルコール
可溶性樹脂;カルボキシル基、燐酸基、スルホン基含有
樹脂などの、アルカリに可溶性の樹脂;アミノ基や4級
アンモニウム塩含有樹脂などの酸に可溶性の樹脂が好ま
しく用いられる。When the removal of the coating support is due to dissolution, for example, a water-soluble resin such as polyvinylpyrrolidone, polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, acrylic acid copolymer; a polyether group such as polyethylene glycol group; A lower alcohol-soluble resin containing a hydroxyl group or the like; an alkali-soluble resin such as a carboxyl group, a phosphoric acid group or a sulfone group-containing resin; and an acid-soluble resin such as an amino group or a quaternary ammonium salt-containing resin are preferably used.
【0035】塗工支持体は、ポリマーブレンドやポリマ
ーアロイで構成されていても良いし積層体その他の複合
体であっても良い。更に、塗工支持体は、改質剤、着色
剤、充填材、強化材などの添加物を含有しても良い。The coating support may be composed of a polymer blend or a polymer alloy, or may be a laminate or other composite. Further, the coated support may contain additives such as a modifier, a colorant, a filler, and a reinforcing material.
【0036】塗工支持体はまた、重合体の場合もそれ以
外の素材の場合も、表面処理されていて良い。表面処理
は、組成物(x)による溶解防止を目的としたもの、組成
物(x)の硬化物からの剥離の容易化を目的としたもの、
組成物(x)の濡れ性向上を目的としたもの、組成物(x)の
浸入を防止ものなどであり得る。The coated support, whether a polymer or other material, may be surface-treated. The surface treatment is intended to prevent dissolution by the composition (x), the purpose of facilitating the release of the composition (x) from the cured product,
A composition for improving the wettability of the composition (x), a composition for preventing the penetration of the composition (x), and the like can be used.
【0037】塗工支持体の表面処理方法は任意であり、
例えば、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、酸又は
アルカリ処理、スルホン化処理、フッ素化処理、シラン
カップリング剤等によるプライマー処理、表面グラフト
重合、界面活性剤や離型剤等の塗布、ラビングやサンド
ブラストなどの物理的処理等が挙げられる。The surface treatment method of the coated support is optional.
For example, corona treatment, plasma treatment, flame treatment, acid or alkali treatment, sulfonation treatment, fluorination treatment, primer treatment with silane coupling agent, etc., surface graft polymerization, application of surfactant or release agent, rubbing and Physical treatments such as sandblasting may be used.
【0038】塗工支持体は、活性エネルギー線硬化性組
成物(x)をその上に薄く塗工する場合には、組成物(x)に
より濡れるものであるか、又は、はじく力が弱いもので
あることが好ましい。即ち、使用する組成物(x)との接
触角が90度以下であることが好ましく、45度以下で
あることが更に好ましく、25度以下であることが更に
好ましく、0度であることが最も好ましい。When the active energy ray-curable composition (x) is thinly coated thereon, the coated support is wettable by the composition (x) or has a low repelling force. It is preferred that That is, the contact angle with the composition (x) to be used is preferably 90 ° or less, more preferably 45 ° or less, further preferably 25 ° or less, and most preferably 0 °. preferable.
【0039】塗工支持体が表面エネルギーの低い素材、
例えば、ポリオレフィン、フッ素系重合体、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン等の場
合には、塗工支持体の接着面の表面処理により、使用す
る組成物(x)との接触角を小さくすることが好ましい。The coating support is made of a material having a low surface energy,
For example, in the case of polyolefin, fluoropolymer, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, etc., the contact angle with the composition (x) to be used can be reduced by surface treatment of the adhesive surface of the coating support. preferable.
【0040】しかしながら、表面処理によって、硬化さ
せた活性エネルギー線硬化性組成物(x)が剥離不可能な
ほど強固に接着することのないよう処理の程度を調節す
る必要がある。濡れ性を向上させるための表面処理方法
としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、酸
又はアルカリ処理、スルホン化処理、プライマー処理、
界面活性剤の塗布、が好ましい。However, it is necessary to adjust the degree of the treatment so that the cured active energy ray-curable composition (x) does not adhere so strongly that the cured active energy ray-curable composition (x) cannot be peeled off. As a surface treatment method for improving wettability, for example, corona discharge treatment, plasma treatment, acid or alkali treatment, sulfonation treatment, primer treatment,
The application of a surfactant is preferred.
【0041】一方、塗工支持体が、接着性が良く、活性
エネルギー線硬化性組成物(x)硬化物の剥離が困難な素
材で形成されている場合には、フッ素処理、フッ素系や
シリコン系の剥離剤の塗布、表面グラフト法による親水
基や疎水基の導入、などの表面処理が好ましい。また、
塗工支持体が、紙、不織布、編織布などの多孔質体であ
る場合には、組成物(x)の侵入を防止するためにフッ素
系化合物処理やコーティングによる表面非多孔質化を行
うことが好ましい。また濡れ性の制御は、表面処理の他
に、塗工支持体にブレンドする改質剤の選択によっても
行うことができる。On the other hand, when the coated support is formed of a material having good adhesion and from which the cured product of the active energy ray-curable composition (x) is difficult to peel, a fluorine treatment, a fluorine-based or silicon Surface treatment such as application of a system release agent, introduction of a hydrophilic group or a hydrophobic group by a surface grafting method, and the like are preferable. Also,
When the coating support is a porous body such as paper, nonwoven fabric, or woven fabric, the surface of the coating should be made non-porous by treatment with a fluorine compound or coating to prevent intrusion of the composition (x). Is preferred. Control of wettability can also be performed by selecting a modifier to be blended with the coated support, in addition to the surface treatment.
【0042】塗工支持体に含有させることができる改質
剤としては、例えば、シリコンオイルやフッ素置換炭化
水素などの疎水化剤(撥水剤);水溶性重合体、界面活
性剤、シリカゲルなどの無機粉末、などの親水化剤;ジ
オクチルフタレートなどの可塑剤、が挙げられる。塗工
支持体に含有させることができる着色剤としては、任意
の染料や顔料、蛍光性の染料や顔料、紫外線吸収剤が挙
げられる。塗工支持体に含有させることができる強化材
としては、例えば、クレイなどの無機粉末、有機や無機
の繊維や織物が挙げられる。Examples of the modifying agent that can be contained in the coating support include a hydrophobizing agent (water repellent) such as silicone oil and fluorine-substituted hydrocarbon; a water-soluble polymer, a surfactant, and silica gel. And a plasticizer such as dioctyl phthalate. Examples of the colorant that can be contained in the coating support include arbitrary dyes and pigments, fluorescent dyes and pigments, and ultraviolet absorbers. Examples of the reinforcing material that can be contained in the coated support include inorganic powders such as clay, and organic and inorganic fibers and woven fabrics.
【0043】本発明で使用する活性エネルギー線重合性
化合物(a)[以下、単に「化合物(a)」と略称する場合も
ある]は、活性エネルギー線によって重合し硬化するも
のであれば、ラジカル重合性、アニオン重合性、カチオ
ン重合性等の任意のものであってよい。化合物(a)は、
重合開始剤の非存在下で重合するものに限らず、重合開
始剤の存在下でのみ活性エネルギー線により重合するも
のも使用することができる。The active energy ray-polymerizable compound (a) (hereinafter may be simply referred to as “compound (a)”) used in the present invention is a radical compound as long as it is polymerized and cured by an active energy ray. Any polymerizable, anionic or cationic polymerizable polymer may be used. Compound (a) is
Not only those that polymerize in the absence of a polymerization initiator but also those that polymerize by active energy rays only in the presence of a polymerization initiator can be used.
【0044】化合物(a)は、付加重合性の化合物である
ことが、重合速度が高いため好ましく、活性エネルギー
線重合性官能基として重合性の炭素−炭素二重結合を有
するものが好ましく、中でも、反応性の高い(メタ)ア
クリル系化合物やビニルエーテル類、また光重合開始剤
の不存在下でも硬化するマレイミド系化合物が好まし
い。The compound (a) is preferably an addition polymerizable compound because of its high polymerization rate, and is preferably a compound having a polymerizable carbon-carbon double bond as an active energy ray polymerizable functional group. Preferred are highly reactive (meth) acrylic compounds and vinyl ethers, and maleimide compounds which cure even in the absence of a photopolymerization initiator.
【0045】更に、化合物(a)は、半硬化の状態で形状
保持性が高く、硬化後の強度も高い点で、重合して架橋
重合体を形成する化合物であることが好ましい。そのた
めに、1分子中に2つ以上の重合性の炭素−炭素二重結
合を有する化合物(以下「1分子中に2つ以上の重合性
の炭素−炭素二重結合を有する」ことを「多官能」と称
することがある)であることが更に好ましい。Further, the compound (a) is preferably a compound which polymerizes to form a crosslinked polymer in view of high shape retention in a semi-cured state and high strength after curing. Therefore, a compound having two or more polymerizable carbon-carbon double bonds in one molecule (hereinafter, “a compound having two or more polymerizable carbon-carbon double bonds in one molecule” is referred to as “multiple”. Is sometimes referred to as “functional”).
【0046】化合物(a)として、好ましく使用できる多
官能(メタ)アクリル系モノマーとしては、例えば、ジ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペン
チルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2′−ビス
(4−(メタ)アクリロイルオキシポリエチレンオキシ
フェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−(メタ)ア
クリロイルオキシポリプロピレンオキシフェニル)プロ
パン、ヒドロキシジピバリン酸ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジアクリ
レート、The polyfunctional (meth) acrylic monomer which can be preferably used as the compound (a) includes, for example, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate. ) Acrylate, 2,2'-bis (4- (meth) acryloyloxypolyethyleneoxyphenyl) propane, 2,2'-bis (4- (meth) acryloyloxypolypropyleneoxyphenyl) propane, neopentyl glycol hydroxydipivalate Di (meth) acrylate, dicyclopentanyl diacrylate,
【0047】ビス(アクロキシエチル)ヒドロキシエチ
ルイソシアヌレート、N−メチレンビスアクリルアミド
の如き2官能モノマー;トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、トリス(アクロキシエチル)イソシ
アヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクロキシエ
チル)イソシアヌレートの如き3官能モノマー;ペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレートの如き4官
能モノマー;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレートの如き6官能モノマー等が挙げられる。Bifunctional monomers such as bis (acryloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate and N-methylenebisacrylamide; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanate Examples include trifunctional monomers such as nurate and caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate; tetrafunctional monomers such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate; and hexafunctional monomers such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
【0048】また、化合物(a)として、重合性オリゴマ
ー(プレポリマーを含む。以下同じ)を用いることもで
き、例えば、重量平均分子量が500〜50000のも
のが挙げられる。そのような重合性オリゴマーしては、
例えば、エポキシ樹脂の(メタ)アクリル酸エステル、
ポリエーテル樹脂の(メタ)アクリル酸エステル、ポリ
ブタジエン樹脂の(メタ)アクリル酸エステル、分子末
端に(メタ)アクリロイル基を有するポリウレタン樹脂
等が挙げられる。As the compound (a), a polymerizable oligomer (including a prepolymer; the same applies hereinafter) can be used, and examples thereof include those having a weight average molecular weight of 500 to 50,000. As such a polymerizable oligomer,
For example, (meth) acrylate of epoxy resin,
Examples thereof include (meth) acrylic acid esters of polyether resins, (meth) acrylic acid esters of polybutadiene resins, and polyurethane resins having a (meth) acryloyl group at a molecular terminal.
【0049】マレイミド系の化合物(a)としては、例え
ば、4,4′−メチレンビス(N−フェニルマレイミ
ド)、2,3−ビス(2,4,5−トリメチル−3−チ
エニル)マレイミド、1,2−ビスマレイミドエタン、
1,6−ビスマレイミドヘキサン、トリエチレングリコ
ールビスマレイミド、N,N′−m−フェニレンジマレ
イミド、m−トリレンジマレイミド、N,N′−1,4
−フェニレンジマレイミド、N,N′−ジフェニルメタ
ンジマレイミド、N,N′−ジフェニルエーテルジマレ
イミド、N,N′−ジフェニルスルホンジマレイミド、Examples of the maleimide type compound (a) include 4,4'-methylenebis (N-phenylmaleimide), 2,3-bis (2,4,5-trimethyl-3-thienyl) maleimide, 2-bismaleimide ethane,
1,6-bismaleimidehexane, triethyleneglycolbismaleimide, N, N'-m-phenylenedimaleimide, m-tolylenedimaleimide, N, N'-1,4
Phenylenedimaleimide, N, N'-diphenylmethane dimaleimide, N, N'-diphenylether dimaleimide, N, N'-diphenylsulfone dimaleimide,
【0050】1,4−ビス(マレイミドエチル)−1,
4−ジアゾニアビシクロ−[2,2,2]オクタンジク
ロリド、4,4′−イソプロピリデンジフェニル=ジシ
アナート・N,N′−(メチレンジ−p−フェニレン)
ジマレイミド等の2官能マレイミド;N−(9−アクリ
ジニル)マレイミドの如きマレイミド基とマレイミド基
以外の重合性官能基とを有するマレイミド等が挙げられ
る。マレイミド系のモノマーは、ビニルモノマー、ビニ
ルエーテル類、アクリル系モノマー等の重合性炭素・炭
素二重結合を有する化合物と共重合させることもでき
る。1,4-bis (maleimidoethyl) -1,
4-diazoniabicyclo- [2,2,2] octane dichloride, 4,4'-isopropylidenediphenyl dicyanate.N, N '-(methylenedi-p-phenylene)
Bifunctional maleimides such as dimaleimide; and maleimides having a maleimide group such as N- (9-acridinyl) maleimide and a polymerizable functional group other than the maleimide group. The maleimide-based monomer can also be copolymerized with a compound having a polymerizable carbon-carbon double bond, such as a vinyl monomer, a vinyl ether, or an acrylic monomer.
【0051】これらの化合物(a)は、単独で用いること
も、2種類以上を混合して用いることもできる。また、
活性エネルギー線重合性化合物(a)は、粘度の調節、接
着性や半硬化状態での粘着性を増すなどの目的で、多官
能モノマーと単官能モノマーの混合物とすることもでき
る。These compounds (a) can be used alone or as a mixture of two or more. Also,
The active energy ray polymerizable compound (a) may be a mixture of a polyfunctional monomer and a monofunctional monomer for the purpose of adjusting the viscosity, increasing the adhesiveness or the tackiness in a semi-cured state, and the like.
【0052】単官能(メタ)アクリル系モノマーとして
は、例えば、メチルメタクリレート、アルキル(メタ)
アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、フェノキシジアルキル(メタ)アクリレート、フェ
ノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、
アルキルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコー
ル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、グリセロールアクリレートメタクリレー
ト、The monofunctional (meth) acrylic monomer includes, for example, methyl methacrylate, alkyl (meth)
Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, alkoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxydialkyl (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate,
Alkylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth)
Acrylate, glycerol acrylate methacrylate,
【0053】ブタンジオールモノ(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレ
ート、2−アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、エチレノキサイド変性フタル酸
アクリレート、w−カルゴキシアプロラクトンモノアク
リレート、2−アクリロイルオキシプロピルハイドロジ
ェンフタレート、2−アクリロイルオキシエチルコハク
酸、アクリル酸ダイマー、2−アクリロイルオキシプロ
ピリヘキサヒドロハイドロジェンフタレート、フッ素置
換アルキル(メタ)アクリレート、Butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl acrylate, ethylenoxide-modified phthalic acid acrylate, w-carboxyaprolactone monoacrylate, 2-acryloyloxypropyl hydrogen phthalate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, acrylic acid dimer, 2-acryloyloxypropyl hexahexahydrohydrogen phthalate, fluorine-substituted alkyl (meth) acrylate,
【0054】塩素置換アルキル(メタ)アクリレート、
スルホン酸ソーダエトキシ(メタ)アクリレート、スル
ホン酸−2−メチルプロパン−2−アクリルアミド、燐
酸エステル基含有(メタ)アクリレート、スルホン酸エ
ステル基含有(メタ)アクリレート、シラノ基含有(メ
タ)アクリレート、((ジ)アルキル)アミノ基含有
(メタ)アクリレート、4級((ジ)アルキル)アンモ
ニウム基含有(メタ)アクリレート、(N−アルキル)
アクリルアミド、(N、N−ジアルキル)アクリルアミ
ド、アクロロイルモリホリン等が挙げられる。Chlorine-substituted alkyl (meth) acrylate,
Sodium sulfonic acid (meth) acrylate, sulfonic acid-2-methylpropane-2-acrylamide, phosphoric ester group-containing (meth) acrylate, sulfonic ester group-containing (meth) acrylate, silano group-containing (meth) acrylate, (( (Di) alkyl) amino group-containing (meth) acrylate, quaternary ((di) alkyl) ammonium group-containing (meth) acrylate, (N-alkyl)
Acrylamide, (N, N-dialkyl) acrylamide, achloroyl morpholine and the like can be mentioned.
【0055】単官能マレイミド系モノマーとしては、例
えば、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、
N−ブチルマレイミド、N−ドデシルマレイミドの如き
N−アルキルマレイミド;N−シクロヘキシルマレイミ
ドの如きN−脂環族マレイミド;N−ベンジルマレイミ
ド;N−フェニルマレイミド、N−(アルキルフェニ
ル)マレイミド、N−ジアルコキシフェニルマレイミ
ド、N−(2−クロロフェニル)マレイミド、Examples of the monofunctional maleimide monomer include N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide,
N-alkylmaleimides such as N-butylmaleimide and N-dodecylmaleimide; N-alicyclic maleimides such as N-cyclohexylmaleimide; N-benzylmaleimide; N-phenylmaleimide, N- (alkylphenyl) maleimide, N-di Alkoxyphenylmaleimide, N- (2-chlorophenyl) maleimide,
【0056】2,3−ジクロロ−N−(2,6−ジエチ
ルフェニル)マレイミド、2,3−ジクロロ−N−(2
−エチル−6−メチルフェニル)マレイミドの如きN−
(置換又は非置換フェニル)マレイミド;N−ベンジル
−2,3−ジクロロマレイミド、N−(4′−フルオロ
フェニル)−2,3−ジクロロマレイミドの如きハロゲ
ンを有するマレイミド;ヒドロキシフェニルマレイミド
の如き水酸基を有するマレイミド;N−(4−カルボキ
シ−3−ヒドロキシフェニル)マレイミドの如きカルボ
キシ基を有するマレイミド;2,3-dichloro-N- (2,6-diethylphenyl) maleimide, 2,3-dichloro-N- (2
N- such as -ethyl-6-methylphenyl) maleimide
(Substituted or unsubstituted phenyl) maleimide; maleimide having a halogen such as N-benzyl-2,3-dichloromaleimide, N- (4'-fluorophenyl) -2,3-dichloromaleimide; and hydroxyl group such as hydroxyphenylmaleimide. Maleimide having a carboxy group such as N- (4-carboxy-3-hydroxyphenyl) maleimide;
【0057】N−メトキシフェニルマレイミドの如きア
ルコキシル基を有するマレイミド;N−[3−(ジエチ
ルアミノ)プロピル]マレイミドの如きアミノ基を有す
るマレイミド;N−(1−ピレニル)マレイミドの如き
多環芳香族マレイミド;N−(ジメチルアミノ−4−メ
チル−3−クマリニル)マレイミド、N−(4−アニリ
ノ−1−ナフチル)マレイミドの如き複素環を有するマ
レイミドなどが挙げられる。Maleimide having an alkoxyl group such as N-methoxyphenylmaleimide; maleimide having an amino group such as N- [3- (diethylamino) propyl] maleimide; polycyclic aromatic maleimide such as N- (1-pyrenyl) maleimide A maleimide having a heterocyclic ring such as N- (dimethylamino-4-methyl-3-coumarinyl) maleimide and N- (4-anilino-1-naphthyl) maleimide;
【0058】組成物(x)に後述の両親媒性の化合物(b)を
添加する場合には、化合物(a)は疎水性の化合物(a)を使
用することが好ましい。疎水性の化合物(a)とは、その
単独重合体が、60度以上の水との接触角を示すものを
言う。疎水性の化合物(a)としては、化合物(a)として上
に例示した化合物の中から選択使用できるが、例示した
化合物の殆どは疎水性の化合物(a)である。When the amphiphilic compound (b) described below is added to the composition (x), it is preferable to use the hydrophobic compound (a) as the compound (a). The hydrophobic compound (a) refers to a compound whose homopolymer exhibits a contact angle with water of 60 ° or more. As the hydrophobic compound (a), any of the compounds exemplified above as the compound (a) can be selected and used, but most of the exemplified compounds are the hydrophobic compounds (a).
【0059】組成物(x)は、活性エネルギー線の照射に
より硬化樹脂となるものであり、必須成分として化合物
(a)を含有する。組成物(x)は化合物(a)単独を含むもの
であってもよく、複数種の化合物(a)の混合物でもよ
い。組成物(x)には、必要に応じて他の成分を添加する
ことが出来る。組成物(x)に添加しうる他の成分として
は、化合物(a)と共重合性の化合物、活性エネルギー線
重合開始剤、重合遅延剤、重合禁止剤、増粘剤、改質
剤、着色剤、溶剤を挙げることができる。The composition (x) is a resin which becomes a cured resin upon irradiation with active energy rays.
(a) is contained. The composition (x) may contain the compound (a) alone, or may be a mixture of plural kinds of the compounds (a). Other components can be added to the composition (x) as needed. Other components that can be added to the composition (x) include a compound copolymerizable with the compound (a), an active energy ray polymerization initiator, a polymerization retarder, a polymerization inhibitor, a thickener, a modifier, and coloring. Agents and solvents.
【0060】組成物(x)に添加しうる、化合物(a)と共重
合性の化合物は、両親媒性化合物、親水性化合物、疎水
性化合物などであり得る。組成物(x)に添加しうる、化
合物(a)と共重合性の親水性化合物は、分子内に親水基
を有し、親水性の重合体を与えるものである。The compound that can be added to the composition (x) and is copolymerizable with the compound (a) may be an amphiphilic compound, a hydrophilic compound, a hydrophobic compound, or the like. The hydrophilic compound copolymerizable with the compound (a), which can be added to the composition (x), has a hydrophilic group in the molecule and gives a hydrophilic polymer.
【0061】このような化合物としては、例えば、ビニ
ルピロリドン;N置換または非置換」アクリルアミド;
アクリル酸;ポリエチレングリコール基含有(メタ)ア
クリレート;水酸基含有(メタ)アクリレート;アミノ
基含有(メタ)アクリレート;カルボキシル基含有(メ
タ)アクリレート;燐酸基含有(メタ)アクリレート;
スルホン基含有(メタ)アクリレートなどを挙げること
ができる。Such compounds include, for example, vinylpyrrolidone; N-substituted or unsubstituted "acrylamide;
Acrylic acid; polyethylene glycol group-containing (meth) acrylate; hydroxyl group-containing (meth) acrylate; amino group-containing (meth) acrylate; carboxyl group-containing (meth) acrylate; phosphoric acid group-containing (meth) acrylate;
Sulfone group-containing (meth) acrylates and the like can be mentioned.
【0062】組成物(x)に添加しうる、化合物(a)と共重
合性の疎水性化合物は、分子内に疎水基を有し、疎水性
の重合体を与えるものである。このような化合物として
は、例えば、アルキル(メタ)アクリレート;フッ素含
有(メタ)アクリレート;(アルキル置換)シロキサン
基含有(メタ)アクリレート等を例示できる。The hydrophobic compound copolymerizable with the compound (a), which can be added to the composition (x), has a hydrophobic group in the molecule and gives a hydrophobic polymer. Examples of such a compound include an alkyl (meth) acrylate; a fluorine-containing (meth) acrylate; a (alkyl-substituted) siloxane group-containing (meth) acrylate, and the like.
【0063】組成物(x)に添加しうる、化合物(a)と共重
合性の両親媒性の化合物[以下、このような化合物を
「両親媒性化合物(b)」又は、単に「化合物(b)」と称す
る]は、1分子中に1個以上の重合性炭素−炭素不飽和
結合を有する化合物であることが好ましい。両親媒性の
化合物(b)はその単独重合体が架橋重合体となるもので
ある必要はないが、架橋重合体となる化合物であっても
よい。An amphiphilic compound copolymerizable with the compound (a) [hereinafter referred to as “amphiphilic compound (b)” or simply “compound ( b)]] is preferably a compound having one or more polymerizable carbon-carbon unsaturated bonds in one molecule. The amphiphilic compound (b) does not need to be a homopolymer of a crosslinked polymer, but may be a compound of a crosslinked polymer.
【0064】また、両親媒性の化合物(b)は、疎水性の
化合物(a)と均一に相溶するものである。この場合の
「相溶する」とは、巨視的に相分離しないことを言い、
ミセルを形成して安定的に分散している状態も含まれ
る。The amphiphilic compound (b) is uniformly compatible with the hydrophobic compound (a). "Compatible" in this case means that there is no macroscopic phase separation,
A state where micelles are formed and dispersed stably is also included.
【0065】本発明で言う、両親媒性の化合物とは、分
子中に親水基と疎水基を有し、水、疎水性溶媒の両者と
それぞれ相溶する化合物を言う。この場合においても、
相溶とは巨視的に相分離しないことを言い、ミセルを形
成して安定的に分散している状態も含まれる。両親媒性
の化合物(b)は、0℃において、水に対する溶解度が
0.5重量%以上で、且つ25℃のシクロヘキサン:ト
ルエン=5:1(重量比)混合溶媒に対する溶解度が2
5重量%以上であることが好ましい。The amphiphilic compound referred to in the present invention refers to a compound having a hydrophilic group and a hydrophobic group in a molecule and being compatible with both water and a hydrophobic solvent. Even in this case,
Compatibility means that no macroscopic phase separation occurs, and also includes a state where micelles are formed and dispersed stably. The amphiphilic compound (b) has a solubility in water of 0.5% by weight or more at 0 ° C. and a solubility in cyclohexane / toluene = 5: 1 (weight ratio) mixed solvent at 25 ° C. of 2%.
It is preferably at least 5% by weight.
【0066】ここで言う溶解度、例えば、溶解度が0.
5重量%以上であるとは、少なくとも0.5重量%の化
合物が溶解可能であることを言うのであって、0.5重
量%の化合物は溶媒に溶解しないものの、該化合物中に
ごくわずかの溶媒が溶解可能であるものは含まない。水
に対する溶解度、あるいはシクロヘキサン:トルエン=
5:1(重量比)混合溶媒に対する溶解度の少なくとも
一方がこれらの値より低い化合物を使用すると、高い表
面親水性と耐水性の両者を満足することが困難となる。The solubility mentioned here, for example, the solubility is 0.
The content of 5% by weight or more means that at least 0.5% by weight of the compound is soluble, and although 0.5% by weight of the compound is not soluble in the solvent, only a small amount of the compound is contained in the compound. Does not include those in which the solvent is soluble. Solubility in water, or cyclohexane: toluene =
When a compound having at least one of solubility in a 5: 1 (weight ratio) mixed solvent lower than these values is used, it is difficult to satisfy both high surface hydrophilicity and high water resistance.
【0067】両親媒性の化合物(b)は特にノニオン性親
水基、特にポリエーテル系の親水基を有する場合には、
親水性と疎水性のバランスが、グリフィンのHLB(エ
イチ・エル・ビー) 値にして10〜16の範囲にある
ものが好ましく、11〜15の範囲にあるものが更に好
ましい。この範囲外では、高い親水性と耐水性に優れた
成形物を得ることが困難であるか、それを得るための化
合物の組み合わせや混合比が極めて限定されたものとな
り、成形物の性能が不安定となりがちである。When the amphiphilic compound (b) has a nonionic hydrophilic group, particularly a polyether-based hydrophilic group,
The balance between hydrophilicity and hydrophobicity is preferably in the range of 10 to 16 as HLB (HLB) value of griffin, more preferably in the range of 11 to 15. Outside this range, it is difficult to obtain a molded article having high hydrophilicity and excellent water resistance, or the combination and mixing ratio of the compounds for obtaining the molded article are extremely limited, and the performance of the molded article is poor. It tends to be stable.
【0068】両親媒性の化合物(b)が有する親水基は任
意であり、例えば、アミノ基、四級アンモニウム基、フ
ォスフォニウム基の如きカチオン基;スルホン基、燐酸
基、カルボニル基の如きアニオン基;水酸基、ポリエチ
レングリコール基などのポリエーテル基、アミド基の如
きノニオン基;アミノ酸基の如き両性イオン基であって
よい。親水基として、好ましいのは、ポリエーテル基、
特に好ましくは繰り返し数6〜20のポリエチレングリ
コール鎖を有する化合物である。The hydrophilic group possessed by the amphiphilic compound (b) is optional, for example, a cationic group such as an amino group, a quaternary ammonium group or a phosphonium group; an anion such as a sulfone group, a phosphate group or a carbonyl group. Groups; polyether groups such as hydroxyl groups and polyethylene glycol groups; nonionic groups such as amide groups; and zwitterionic groups such as amino acid groups. As the hydrophilic group, preferred are polyether groups,
Particularly preferred are compounds having a polyethylene glycol chain having 6 to 20 repetitions.
【0069】両親媒性の化合物(b)の疎水基としては、
例えば、アルキル基、アルキレン基、アルキルフェニル
基、長鎖アルコキシ基、フッ素置換アルキル基、シロキ
サン基などが挙げられる。両親媒性の化合物(b)は、疎
水基として、炭素数6〜20のアルキル基又はアルキレ
ン基を含むことが好ましい。炭素数6〜20のアルキル
基又はアルキレン基は、例えば、アルキルフェニル基、
アルキルフェノキシ基、アルコキシ基、フェニルアルキ
ル基などの形で含有されていてもよい。As the hydrophobic group of the amphiphilic compound (b),
Examples include an alkyl group, an alkylene group, an alkylphenyl group, a long-chain alkoxy group, a fluorine-substituted alkyl group, and a siloxane group. The amphiphilic compound (b) preferably contains an alkyl group or an alkylene group having 6 to 20 carbon atoms as a hydrophobic group. An alkyl group or alkylene group having 6 to 20 carbon atoms is, for example, an alkylphenyl group,
It may be contained in the form of an alkylphenoxy group, an alkoxy group, a phenylalkyl group or the like.
【0070】両親媒性の化合物(b)は、親水基として繰
り返し数6〜20のポリエチレングリコール鎖を有し、
且つ、疎水基として炭素原子数6〜20のアルキル基又
はアルキレン基を有する化合物であることが好ましい。
更に好ましく使用できる両親媒性の化合物(b)として、
一般式(1)で表わされる化合物を挙げることができ
る。The amphiphilic compound (b) has a polyethylene glycol chain having a repeating number of 6 to 20 as a hydrophilic group,
Further, it is preferable that the compound has an alkyl group or an alkylene group having 6 to 20 carbon atoms as a hydrophobic group.
More preferably used amphiphilic compound (b),
The compound represented by the general formula (1) can be mentioned.
【0071】一般式(1) CH2=CR1COO(R2O)n−φ−R3 (式中、R1は水素、ハロゲン原子又は低級アルキル基
を表わし、R2は炭素数1〜3のアルキレン基を表わ
し、nは6〜20の整数、φはフェニレン基、R 3は炭
素数6〜20のアルキル基を表わす)Formula (1) CH2= CR1COO (R2O)n-Φ-R3 (Where R1Is hydrogen, halogen atom or lower alkyl group
And R2Represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
N is an integer of 6 to 20, φ is a phenylene group, R 3Is charcoal
Represents an alkyl group having a prime number of 6 to 20)
【0072】ここで、R3はより具体的には、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ド
デシル基、又はペンタデシル基であり、好ましくはノニ
ル基又はドデシル基である。一般式(1)において、n
の数が大きいほど、R3の炭素原子数も大きいことが好
ましい。Here, R 3 is more specifically a hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl or pentadecyl group, preferably a nonyl or dodecyl group. In the general formula (1), n
It is preferable that the number of carbon atoms of R 3 be larger as the number of is larger.
【0073】n数とR3の炭素数の関係はグリフィンの
エイチ・エル・ビー(HLB)値にして10〜16の範
囲にあることが好ましく、11〜15の範囲にあること
が特に好ましい。これらの両親媒性の化合物(b)の中で
も、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(n=8
〜17)(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリ
プロピレングリコール(n=8〜17)(メタ)アクリ
レートが特に好ましい。The relationship between the number n and the number of carbon atoms in R 3 is preferably in the range of 10 to 16 as HLB value of griffin, and particularly preferably in the range of 11 to 15. Among these amphiphilic compounds (b), nonylphenoxypolyethylene glycol (n = 8)
To 17) (meth) acrylate and nonylphenoxypolypropylene glycol (n = 8 to 17) (meth) acrylate are particularly preferred.
【0074】組成物(x)に添加することができる活性エ
ネルギー線重合開始剤は、本発明で使用する活性エネル
ギー線に対して活性であり、化合物(a)を重合させるこ
とが可能なものであれば、特に制限はなく、例えば、ラ
ジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合
開始剤であって良い。活性エネルギー線重合開始剤は、
使用する活性エネルギー線が光線である場合に特に有効
である。The active energy ray polymerization initiator that can be added to the composition (x) is active with respect to the active energy ray used in the present invention and is capable of polymerizing the compound (a). There is no particular limitation as long as it is present, and for example, a radical polymerization initiator, an anionic polymerization initiator, or a cationic polymerization initiator may be used. The active energy ray polymerization initiator is
This is particularly effective when the active energy rays used are light rays.
【0075】そのような光重合開始剤としては、例え
ば、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、2,
2′−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンの如きアセ
トフェノン類;ベンゾフェノン、4、4′−ビスジメチ
ルアミノベンゾフェノン、2−クロロチオキサントン、
2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサント
ン、2−イソプロピルチオキサントンの如きケトン類;As such a photopolymerization initiator, for example, p-tert-butyltrichloroacetophenone, 2,2
2'-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2
Acetophenones such as -methyl-1-phenylpropan-1-one; benzophenone, 4,4'-bisdimethylaminobenzophenone, 2-chlorothioxanthone,
Ketones such as 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone and 2-isopropylthioxanthone;
【0076】ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテルの如きベンゾインエーテル類;ベンジルジメ
チルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ンの如きベンジルケタール類;N−アジドスルフォニル
フェニルマレイミド等のアジドなどが挙げられる。ま
た、マレイミド系化合物などの重合性光重合開始剤を挙
げることができる。Benzoin, benzoin methyl ether,
Benzoin ethers such as benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; benzyl ketals such as benzyl dimethyl ketal and hydroxycyclohexyl phenyl ketone; azides such as N-azidosulfonyl phenyl maleimide; Further, a polymerizable photopolymerization initiator such as a maleimide-based compound can be used.
【0077】組成物(x)に光重合開始剤を混合使用する
場合の使用量は、非重合性光重合開始剤の場合、0.0
05〜20重量%の範囲が好ましく、0.1〜5重量%
の範囲が特に好ましい。光重合開始剤は重合性のもの、
例えば、活性エネルギー線重合性化合物(a)として例示
した多官能や単官能のマレイミド系モノマーであっても
良い。この場合の使用量は、上記に限られない。When the photopolymerization initiator is mixed and used in the composition (x), the amount of the nonpolymerizable photopolymerization initiator is 0.0
The range is preferably from 0.5 to 20% by weight, and from 0.1 to 5% by weight.
Is particularly preferred. Photopolymerization initiator is polymerizable,
For example, a polyfunctional or monofunctional maleimide monomer exemplified as the active energy ray polymerizable compound (a) may be used. The amount used in this case is not limited to the above.
【0078】組成物(x)に添加することができる重合遅
延剤としては、例えば活性エネルギー線重合性化合物
(a)がアクリロイル基含有化合物の場合には、スチレ
ン、α−メチルスチレン、α−フェニルスチレン、p−
オクチルスチレン、p−(4−ペンチルシクロヘキシ
ル)スチレン、p−フェニルスチレン、 p−(p−エ
トキシフェニル)フェニルスチレン、2,4−ジフェニ
ル−4−メチル−1−ペンテン、4,4′−ジビニルビ
フェニル、2−ビニルナフタレン等の、使用する活性エ
ネルギー線重合性化合物(a)より重合速度の低いビニル
系モノマーを挙げることができる。The polymerization retarder that can be added to the composition (x) includes, for example, an active energy ray polymerizable compound.
When (a) is an acryloyl group-containing compound, styrene, α-methylstyrene, α-phenylstyrene, p-
Octylstyrene, p- (4-pentylcyclohexyl) styrene, p-phenylstyrene, p- (p-ethoxyphenyl) phenylstyrene, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene, 4,4'-divinylbiphenyl And vinyl monomers having a lower polymerization rate than the active energy ray-polymerizable compound (a) used, such as 2-vinylnaphthalene.
【0079】組成物(x)に添加することができる重合禁
止剤としては、例えば活性エネルギー線重合性化合物
(a)が重合性の炭素−炭素二重結合含有化合物の場合に
は、ハイドロキノン、メトキシハイドロキノン等のハイ
ドロキノン誘導体;ブチルヒドロキシトルエン、ter
t−ブチルフェノール、ジオクチルフェノールなどのヒ
ンダントフェノール類等が挙げられる。Examples of the polymerization inhibitor that can be added to the composition (x) include, for example, an active energy ray polymerizable compound.
When (a) is a polymerizable carbon-carbon double bond-containing compound, hydroquinone derivatives such as hydroquinone and methoxyhydroquinone; butylhydroxytoluene, ter
Hindant phenols such as t-butylphenol and dioctylphenol are exemplified.
【0080】活性エネルギー線として光線を使用する場
合には、パターニング精度を向上させるために、重合遅
延剤及び/又は重合禁止剤と光重合開始剤を併用するこ
とが好ましい。また、組成物(x)に添加することができ
る増粘剤としては、例えば、ポリスチレンなどの鎖状重
合体が挙げられる。When a light beam is used as the active energy ray, it is preferable to use a polymerization retarder and / or a polymerization inhibitor together with a photopolymerization initiator in order to improve the patterning accuracy. Examples of the thickener that can be added to the composition (x) include a chain polymer such as polystyrene.
【0081】組成物(x)に添加することができる改質剤
としては、例えば、撥水剤や剥離剤として機能するシリ
コンオイルやフッ素置換炭化水素などの疎水性化合物;
親水化剤や吸着抑制剤として機能するポリビニルピロリ
ドン、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール
などの水溶性重合体;濡れ性向上剤、離型剤、吸着抑制
剤として機能する、ノニオン系、アニオン系、カチオン
系などの界面活性剤が挙げられる。組成物(x)に必要に
応じて混合使用することができる着色剤としては、任意
の染料や顔料、蛍光色素、紫外線吸収剤が挙げられる。The modifier which can be added to the composition (x) includes, for example, hydrophobic compounds such as silicone oil and fluorine-substituted hydrocarbon which function as a water repellent and a release agent;
Water-soluble polymers such as polyvinylpyrrolidone, polyethylene glycol, and polyvinyl alcohol that function as hydrophilizing agents and adsorption inhibitors; nonionic, anionic, cationic, and the like that function as wetting improvers, release agents, and adsorption inhibitors Surfactants. Examples of the colorant that can be mixed and used in the composition (x) as needed include arbitrary dyes and pigments, fluorescent dyes, and ultraviolet absorbers.
【0082】組成物(x)に添加することの出来る溶剤と
しては、組成物(x)の各成分を溶解して均一な溶液とす
るものであれば任意であり、揮発性の溶剤であることが
好ましい。組成物(x)の粘度が高い場合、特に薄く塗工
する場合などには、組成物(x)に溶剤を添加することが
好ましい。該溶剤は、塗工後、或いはその後の任意の工
程で揮発除去される。The solvent that can be added to the composition (x) is arbitrary as long as it dissolves each component of the composition (x) to form a uniform solution. Is preferred. When the viscosity of the composition (x) is high, particularly when the composition (x) is applied thinly, it is preferable to add a solvent to the composition (x). The solvent is volatilized and removed after coating or in any subsequent step.
【0083】本発明の製造方法は、塗工支持体上に組成
物(x)を塗工して未硬化の塗膜を形成する。この工程を
「工程(i)」と称する。塗膜の厚さは任意であるが、1
μm以上であることが好ましく、5μm以上が更に好ま
しく、10μm以上であることが更に好ましい。これよ
り薄いと製造が困難となる。In the production method of the present invention, the composition (x) is applied on a coating support to form an uncured coating film. This step is referred to as “step (i)”. The thickness of the coating is arbitrary,
It is preferably at least 5 μm, more preferably at least 5 μm, even more preferably at least 10 μm. If it is thinner than this, manufacturing becomes difficult.
【0084】塗膜の厚みはまた、1000μm以下であ
ることが好ましく、400μm以下がより好ましく、2
00μm以下であることが更に好ましい。これより厚い
と本発明の効果が減じる。塗膜の厚みは、硬化時の収縮
などにより若干変化するが、樹脂層(X)となる層の厚み
と概ね一致する。塗工部位は任意であり、塗工支持体の
全面であっても、部分的であってもよい。又逆に、後述
の部材(J)と積層する部分以外の部分にも塗工されてい
てもよい。The thickness of the coating film is preferably 1000 μm or less, more preferably 400 μm or less, and 2 μm or less.
More preferably, it is not more than 00 μm. If the thickness is larger than this, the effect of the present invention is reduced. Although the thickness of the coating film slightly changes due to shrinkage at the time of curing, etc., it generally matches the thickness of the layer to be the resin layer (X). The coating site is arbitrary, and may be the entire surface or the partial surface of the coating support. Conversely, the coating may be applied to portions other than the portion to be laminated with the member (J) described later.
【0085】塗工支持体に組成物(x)を塗工する方法と
しては、塗工支持体の上に塗工できる任意の塗工方法を
用いることができ、例えば、スピンコート法、ローラー
コート法、流延法、ディッピング法、スプレー法、バー
コーター法、X−Yアプリケータ法、スクリーン印刷
法、凸版印刷法、グラビア印刷法、ノズルからの押し出
しや注型などが挙げられる。また、組成物(x)を特に薄
く塗工する場合には、組成物(x)に溶剤を含有させて塗
工した後、該溶剤を揮発させる方法を採用することもで
きる。As a method for applying the composition (x) to the coated support, any coating method that can be applied on the coated support can be used. For example, a spin coating method, a roller coating method, and the like can be used. Method, casting method, dipping method, spray method, bar coater method, XY applicator method, screen printing method, letterpress printing method, gravure printing method, extrusion from a nozzle and casting. When the composition (x) is applied particularly thinly, a method in which a solvent is added to the composition (x) and then the solvent is volatilized may be adopted.
【0086】組成物(x)の未硬化の塗工物に、欠損部と
すべき部分を除いて活性エネルギー線を照射して、照射
部分の組成物(x)を半硬化させる一方、組成物(x)の活性
エネルギー線非照射部を未硬化部分として残す(以後、
この操作を「パターニング露光」若しくは単に「露光」
と称する場合もある)。この工程を半硬化塗膜を形成す
る工程(ii)と称する。照射の角度は任意であり、必ずし
も塗膜面に直角でなくても良い。The uncured coating material of the composition (x) is irradiated with active energy rays except for a portion to be a defective portion, so that the irradiated portion of the composition (x) is semi-cured. The active energy ray non-irradiated part of (x) is left as an uncured part (hereinafter,
This operation is called “patterning exposure” or simply “exposure”
In some cases). This step is referred to as a step (ii) of forming a semi-cured coating film. The irradiation angle is arbitrary and does not necessarily have to be perpendicular to the coating film surface.
【0087】ここで言う半硬化とは、組成物(x)が非流
動性または難流動性となる程度であり、且つ、活性エネ
ルギー線のさらなる照射によって重合できる未反応の活
性エネルギー線重合性官能基が残存する程度に硬化させ
ることを言う。組成物(x)を半硬化させる方法は、組成
物(x)を完全硬化させるには不十分な線量の活性エネル
ギー線の照射、又は、後述の再照射温度より低温での照
射、もしくはその両法を組み合わせた方法であることが
好ましい。The term “semi-cured” as used herein means that the composition (x) becomes non-flowable or hardly flowable and is an unreacted active energy ray-polymerizable functional group which can be polymerized by further irradiation with active energy rays. It refers to curing to the extent that the groups remain. The method of semi-curing the composition (x) includes irradiating an active energy ray at a dose insufficient for completely curing the composition (x), or irradiating at a temperature lower than the re-irradiation temperature described below, or both. Preferably, the method is a combination of methods.
【0088】活性エネルギー線の照射線量が過小で、硬
化の程度が不十分であると、未硬化部分の除去の際、選
択性が不十分となって目的の形状の欠損部が形成されな
くなる他、部材(J)と接着する工程において、部材(J)が
表面に凹部を有する場合には、組成物(x)が該凹部に入
り込み、該凹部を閉塞させたり、該凹部断面積の変動を
もたらすために好ましくない。If the irradiation dose of the active energy ray is too small and the degree of curing is insufficient, the selectivity becomes insufficient when removing the uncured part, so that a defective portion of a desired shape is not formed. In the step of adhering to the member (J), when the member (J) has a concave portion on the surface, the composition (x) enters the concave portion, closes the concave portion, or changes the cross-sectional area of the concave portion. Not preferred to bring.
【0089】一方、照射量が過大で硬化の程度が過剰で
あると、半硬化塗膜が柔軟性を失うと共に接着性が低下
し部材(J)との接着が不完全となりがちである。好適な
半硬化の程度は、使用する系での簡単な実験により、適
宜求めることができる。On the other hand, when the irradiation amount is excessive and the degree of curing is excessive, the semi-cured coating film loses flexibility and the adhesiveness is reduced, so that the adhesion to the member (J) tends to be incomplete. A suitable degree of semi-curing can be suitably determined by a simple experiment in the system used.
【0090】パターニング露光におけるパターンの形
状、即ち欠損部とする部分の形状は、用途目的に応じて
任意に設定できる。例えば、連絡路、流入出口、貯液
槽、反応槽、液−液接触部、クロマトグラフィーや電気
泳動の展開路、検出部、バルブ構造の一部;弁の周囲部
分、加圧タンク、減圧タンク、圧力検出部等として用い
られる空間;センサー埋め込み部として使用する空間な
どとして使用する空洞状の欠損部の全部又は一部とする
ことが出来る。The shape of the pattern in the patterning exposure, that is, the shape of the portion to be a defect can be arbitrarily set according to the purpose of use. For example, a communication path, an inflow / outflow port, a storage tank, a reaction tank, a liquid-liquid contact section, a development path for chromatography and electrophoresis, a detection section, and a part of a valve structure; a portion around a valve; , A space used as a pressure detecting portion, etc .; all or a part of a hollow defective portion used as a space used as a sensor embedded portion, etc.
【0091】欠損部とする形状が、塗膜の面内において
線状である場合には、直線、ジグザグ、渦巻き、馬蹄形
その他の形状であってよい。また、貯液槽や反応槽等と
して使用する場合には、円形や矩形であって良い。更
に、欠損部とする形状は、該塗膜層の表裏を連絡する微
小な貫通孔であっても良い。該欠損部は、塗膜の外周
部、即ちマイクロデバイスの外周部に連絡していてもし
ていなくても良い。When the shape to be the defective portion is linear in the plane of the coating film, it may be a straight line, zigzag, spiral, horseshoe or other shapes. When used as a liquid storage tank or a reaction tank, the shape may be circular or rectangular. Further, the shape to be the defective portion may be a minute through hole connecting the front and back of the coating layer. The defective portion may or may not communicate with the outer peripheral portion of the coating film, that is, the outer peripheral portion of the micro device.
【0092】欠損部を、塗膜表面から見て線状とする場
合には、欠損部即ち未硬化部は幅1〜1000μmであ
ることが好ましい。幅は1μm以上が好ましく、5μm
以上がより好ましく、10μm以上であることが更に好
ましい。これより狭い幅の未硬化部を有するマイクロデ
バイスは製造が困難となる。未硬化部の幅は1000μ
m以下であることが好ましく、500μm以下がより好
ましく、200μm以下であることが更に好ましい。When the deficient portion is linear when viewed from the coating film surface, the deficient portion, that is, the uncured portion preferably has a width of 1 to 1000 μm. The width is preferably 1 μm or more, and 5 μm
More preferably, it is 10 μm or more. A microdevice having an uncured portion with a smaller width becomes difficult to manufacture. Uncured part width is 1000μ
m, preferably 500 μm or less, more preferably 200 μm or less.
【0093】これより未硬化部の幅が広いと、本発明の
効果が減じる。溝の幅/深さ比は任意であるが、0.2
〜10の範囲が好ましく、0.5〜5の範囲が更に好ま
しい。露光によって形成される未硬化部の寸法は、活性
エネルギー線非照射部の寸法と必ずしも同じではなく、
活性エネルギー線非照射部の寸法より大きくなる場合も
あるし小さくなる場合もある。When the width of the uncured portion is wider than the above, the effect of the present invention is reduced. The width / depth ratio of the groove is arbitrary,
The range is preferably from 10 to 10, more preferably from 0.5 to 5. The size of the uncured portion formed by exposure is not necessarily the same as the size of the active energy ray non-irradiated portion,
It may be larger or smaller than the dimension of the non-irradiated portion of the active energy ray.
【0094】活性エネルギー線の種類や照射量、化合物
(a)の反応性、活性エネルギー線重合開始剤の種類や添
加量、重合禁止剤や遅延剤の添加量等により変化しう
る。しかし、変化の度合いはそれほど大きなものでな
く、せいぜい1/2〜2倍程度である。未硬化部の断面
形状は、矩形(角の丸まった矩形を含む)、台形(角の
丸まった台形を含む)、半円形等の任意の形状であって
よい。Types and irradiation doses of active energy rays, compounds
It may vary depending on the reactivity of (a), the type and amount of the active energy ray polymerization initiator, and the amounts of the polymerization inhibitor and the retarder added. However, the degree of change is not so large, and is at most about 1/2 to 2 times. The cross-sectional shape of the uncured portion may be any shape such as a rectangle (including a rounded rectangle), a trapezoid (including a rounded trapezoid), and a semicircle.
【0095】本発明に用いることのできる活性エネルギ
ー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、レーザー光
線、放射光の如き光線;エックス線、ガンマ線、放射光
の如き電離放射線;電子線、イオンビーム、ベータ線、
重粒子線の如き粒子線が挙げられる。これらの中でも、
取り扱い性や硬化速度の面から紫外線及び可視光が好ま
しく、紫外線が特に好ましい。硬化速度を速め、硬化を
完全に行なう目的で、活性エネルギー線の照射を低酸素
濃度雰囲気で行なうことが好ましい。低酸素濃度雰囲気
としては、窒素気流中、二酸化炭素気流中、アルゴン気
流中、真空又は減圧雰囲気が好ましい。The active energy rays that can be used in the present invention include: rays such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, laser rays, and radiation; ionizing radiation such as X-rays, gamma rays, and radiation; electron rays, ion beams, and beta rays. ,
A particle beam such as a heavy particle beam is exemplified. Among these,
Ultraviolet light and visible light are preferred in terms of handleability and curing speed, and ultraviolet light is particularly preferred. For the purpose of accelerating the curing speed and performing the curing completely, it is preferable to carry out the irradiation of the active energy ray in a low oxygen concentration atmosphere. The low oxygen concentration atmosphere is preferably a nitrogen stream, a carbon dioxide stream, an argon stream, a vacuum or a reduced pressure atmosphere.
【0096】欠損部とする部分以外の部分に活性エネル
ギー線を照射する方法は任意であり、例えば、照射不要
部分をマスキングして照射する、あるいはレーザーなど
の活性エネルギー線のビームを走査する等のフォトリソ
グラフィーの手法が利用できる。The method of irradiating the active energy ray to a part other than the part to be a defect part is arbitrary. For example, masking and irradiating an unnecessary part or scanning with a beam of an active energy ray such as a laser. Photolithography techniques can be used.
【0097】本発明の製法においては、露光後、非照射
部分の未硬化の組成物(x)を除去し樹脂の欠損部とする
(以後、この操作を「現像」と称する場合がある)。こ
の工程を「工程(iii)」と称する。未硬化の組成物(x)の
除去方法は任意であり、例えば、圧縮空気などによる吹
き飛ばし、ろ紙などによる吸収、水などの非溶剤の液体
流による洗い流し、溶剤洗浄、揮発、分解等の方法が利
用できる。In the production method of the present invention, after exposure, the uncured portion of the uncured composition (x) is removed to form a defective portion of the resin (hereinafter, this operation is sometimes referred to as "development"). This step is referred to as “step (iii)”. The method of removing the uncured composition (x) is optional.For example, methods such as blowing off with compressed air, absorbing with filter paper, rinsing with a non-solvent liquid stream such as water, solvent washing, volatilization, decomposition, etc. Available.
【0098】これらの中で、非溶剤の液体流による洗い
流し又は溶剤洗浄が好ましい。現像によって組成物(x)
の未硬化部が欠損部になる。形成される欠損部の形状・
寸法は、組成物(x)の未硬化部の形状・寸法と概ね同じ
であるが、完全に一致するわけではない。例えば、圧縮
空気などによる吹き飛ばしや非溶剤の液体流による洗い
流しでは、溶剤洗浄に比べて欠損部の幅が狭くなりがち
であるし、非照射部分の未硬化組成物(x)が完全に除去
されず、欠損部の底が丸くなったり、欠損部の底が塗工
支持体表面に届いていない場合もあり得る。Among them, washing with a non-solvent liquid stream or solvent washing is preferred. Composition (x) by development
The uncured part becomes a defective part. The shape of the formed defect
The dimensions are almost the same as the shape and dimensions of the uncured portion of the composition (x), but do not completely match. For example, in the case of blowing off with compressed air or the like and rinsing with a non-solvent liquid stream, the width of the defective portion tends to be narrower than in solvent cleaning, and the uncured composition (x) in the non-irradiated portion is completely removed. In some cases, the bottom of the defective portion may be rounded, or the bottom of the defective portion may not reach the surface of the coated support.
【0099】本発明で製造されるマイクロデバイスの樹
脂層(X)の一部に、部材(J)と接触していながら接着して
いない部分を形成する場合には、{工程(i)と工程(ii)
の間、工程(ii)と工程(iii)の間、及び工程(iii)と工程
(iv)の間}から選ばれる、1つ以上の工程間において、
樹脂層(X)となる塗膜の一部に選択的に活性エネルギー
線を照射して、行程(iv)で他の部材と積層する際に、該
被照射部分が他の部材と接着しない程度にまで硬化させ
る部分硬化を施す。この工程を「工程(ii')」と称す
る。In the case where a part of the resin layer (X) of the micro device manufactured by the present invention which is in contact with the member (J) but is not adhered is formed, the step (i) and the step (i) (ii)
, Between steps (ii) and (iii), and between steps (iii) and
(iv) during one or more steps selected from
When selectively irradiating a part of the coating film to be the resin layer (X) with an active energy ray and stacking it with another member in the step (iv), the irradiated portion does not adhere to other members. Partial curing is performed to cure to. This step is referred to as "step (ii ')".
【0100】即ち、工程(ii')を工程(i)と工程(ii)の間
に実施する場合には、樹脂層(X)となる未硬化塗膜を部
分硬化させ、その後、欠損部となる部分を除いて半硬化
させる。工程(ii)と工程(iii)の間に実施する場合に
は、樹脂層(X)となる塗膜には、未硬化部と半硬化部分
が存在する状態で部分硬化させ、その後、欠損部を形成
する。That is, when the step (ii ′) is performed between the step (i) and the step (ii), the uncured coating film to be the resin layer (X) is partially cured, and then the defective portion is removed. It is semi-cured except for the part where it becomes. When carried out between the step (ii) and the step (iii), the coating film to be the resin layer (X) is partially cured in a state where the uncured portion and the semi-cured portion are present, and thereafter, the defective portion To form
【0101】工程(iii)と工程(iv)の間に実施する場合
には、欠損部が形成された半硬化塗膜の一部を部分硬化
させる。工程(ii')は、実質的に工程(i)、(ii)、及び(i
ii)と実質的に同時であっても良いし、複数の段階で実
施しても良い。工程(ii')に用いる活性エネルギー線は
塗膜を半硬化させる工程(ii)と同様である。When the step is carried out between the step (iii) and the step (iv), a part of the semi-cured coating film having the defective portion is partially cured. Step (ii ′) is substantially the same as steps (i), (ii), and (i).
It may be substantially simultaneous with ii), or may be performed in a plurality of stages. The active energy rays used in the step (ii ′) are the same as those in the step (ii) of semi-curing the coating film.
【0102】樹脂層(X)の一部が部材(K)と接触していな
がら接着していない構造を形成する場合も同様である。
即ち、樹脂層(X)の一部が部材(J)、部材(K)の両者に接
着していない部分を設ける場合には、上記と同じ方法を
用いることが出来る。The same applies to the case where a structure in which a part of the resin layer (X) is in contact with the member (K) but is not bonded is formed.
That is, when a part of the resin layer (X) is provided with a part that is not bonded to both the member (J) and the member (K), the same method as described above can be used.
【0103】但し、樹脂層(X)の一部に、部材(J)に接着
しており、部材(K)には接着していない部分を設ける場
合には、部分硬化を施す工程が、工程(iv)と工程(vIの
間、工程(iv)と工程(vi)の間、工程(v)と工程(viIの
間、工程(vi)と部材(K)を積層する工程の間、工程(v)と
部材(K)を積層する工程の間、のいずれかの任意の工程
間であること以外は上記と同じ方法で形成することがで
きる。However, if a part of the resin layer (X) is bonded to the member (J) and not bonded to the member (K), the step of performing partial curing is a (iv) and step (between vI, step (iv) and step (vi), step (v) and step (between step (vi) and step of laminating the member (K), step It can be formed by the same method as described above, except between any arbitrary steps between the step of laminating (v) and the member (K).
【0104】工程(iii)の後に、組成物(x)の半硬化塗膜
を部材(J)と積層し、該半硬化塗膜を樹脂層(X)と成す。
この工程を「工程(iv)」と称する。組成物(x)の半硬化
塗膜と部材(J)との積層は、用途、目的に応じた形態で
あってよく、必ずしも全面である必要はない。After the step (iii), a semi-cured coating film of the composition (x) is laminated on the member (J), and the semi-cured coating film is formed as a resin layer (X).
This step is referred to as “step (iv)”. The lamination of the semi-cured coating film of the composition (x) and the member (J) may be in a form according to the use and purpose, and does not necessarily have to be the entire surface.
【0105】部材(J)の形状は特に限定する必要はな
く、用途目的に応じた形状を採りうる。例えば、シート
状(フィルム、リボンを含む)、板状、塗膜状、棒状、
チューブ状、その他複雑な形状の成型物などであり得る
が、成形し易く、組成物(x)半硬化塗膜を積層・接着し
易いといった面から、接着すべき面が平面状又は2次曲
面状であることが好ましく、シート状又は板状であるこ
とが特に好ましい。なお、後述の部材(J')は、部材(J)
の中の特定の形状を有するものである。The shape of the member (J) does not need to be particularly limited, but may be any shape according to the purpose of use. For example, sheet (including film and ribbon), plate, coating, rod,
The surface to be bonded can be a flat surface or a quadratic surface, because it can be formed into a tube or other complicated shape, but it is easy to mold and easy to laminate and bond the composition (x) semi-cured coating film. It is preferably in the form of a sheet, and particularly preferably in the form of a sheet or a plate. In addition, a member (J ′) described later is a member (J).
Which have a specific shape.
【0106】部材(J)の素材は、本発明の製造方法で組
成物(x)が接着可能なものであれば特に制約はない。部
材(J)の素材として使用可能なものとしては、例えば、
重合体、ガラス、石英の如き結晶、セラミック、シリコ
ンの如き半導体、金属などが挙げられるが、これらの中
でも、易成形性、高生産性、低価格などの点から重合体
(ポリマー)が特に好ましい。The material of the member (J) is not particularly limited as long as the composition (x) can be adhered by the production method of the present invention. As a material that can be used as a material of the member (J), for example,
Examples thereof include polymers, crystals such as glass and quartz, semiconductors such as ceramic and silicon, and metals. Of these, polymers (polymers) are particularly preferable in terms of easy moldability, high productivity, low cost, and the like. .
【0107】部材(J)は支持体上に形成されたものであ
ってもよい。この場合の支持体の素材は任意であり、例
えば、重合体、ガラス、セラミック、金属、半導体など
であって良い。支持体の形状も任意であり、例えば、板
状物、シート状物、塗膜、棒状物、紙、布、不織布、多
孔質体、射出成型品等であって良い。該支持体は、本マ
イクロデバイスと一体化されるものであっても、形成後
に除去されるものであっても良い。複数のマイクロデバ
イスを1つの部材(J)上に形成することも可能である
し、製造後、これらを切断して複数のマイクロデバイス
とすることも可能である。The member (J) may be formed on a support. In this case, the material of the support is arbitrary, and may be, for example, a polymer, glass, ceramic, metal, semiconductor, or the like. The shape of the support is also arbitrary, and may be, for example, a plate-like material, a sheet-like material, a coating film, a rod-like material, paper, cloth, nonwoven fabric, a porous body, an injection-molded product, and the like. The support may be integrated with the present microdevice or may be removed after formation. A plurality of microdevices can be formed on one member (J), or after manufacturing, these can be cut into a plurality of microdevices.
【0108】部材(J)に使用する重合体は、単独重合体
であっても、共重合体であっても良く、また、熱可塑性
重合体であっても、熱硬化性重合体であっても良い。生
産性の面から、部材(J)に使用する重合体は、熱可塑性
重合体又は活性エネルギー線硬化性の架橋重合体である
ことが好ましい。The polymer used for the member (J) may be a homopolymer or a copolymer, and may be a thermoplastic polymer or a thermosetting polymer. Is also good. From the viewpoint of productivity, the polymer used for the member (J) is preferably a thermoplastic polymer or an active energy ray-curable crosslinked polymer.
【0109】部材(J)に使用できる重合体としては、例
えば、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリ
スチレン/マレイン酸共重合体、ポリスチレン/アクリ
ロニトリル共重合体の如きスチレン系重合体;ポルスル
ホン、ポリエーテルスルホンの如きポリスルホン系重合
体;ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル
の如き(メタ)アクリル系重合体;ポリマレイミド系重
合体;ビスフェノールA系ポリカーボネート、ビスフェ
ノールF系ポリカーボネート、ビスフェノールZ系ポリ
カーボネートなどのポリカーボネート系重合体;Examples of the polymer usable for the member (J) include styrene-based polymers such as polystyrene, poly-α-methylstyrene, polystyrene / maleic acid copolymer and polystyrene / acrylonitrile copolymer; Polysulfone-based polymers such as ethersulfone; (meth) acrylic polymers such as polymethyl methacrylate and polyacrylonitrile; Polymaleimide-based polymers; Coalescence;
【0110】ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−4
−メチルペンテン−1の如きポリオレフィン系重合体;
塩化ビニル、塩化ビニリデンの如き塩素含有重合体;酢
酸セルロース、メチルセルロースの如きセルロース系重
合体;ポリウレタン系重合体;ポリアミド系重合体;ポ
リイミド系重合体;ポリ−2,6−ジメチルフェニレン
オキサイド、ポリフェニレンサルファイドの如きポリエ
ーテル系又はポリチオエーテル系重合体;ポリエーテル
エーテルケトンの如きポリエーテルケトン系重合体;ポ
リエチレンテレフタレート、ポリアリレートの如きポリ
エステル系重合体;エポキシ樹脂;ウレア樹脂;フェノ
ール樹脂;ポリ四フッ化エチレン、PFA(四フッ化エ
チレンとパーフロロアルコキシエチレンの共重合体)な
どのフッ素系重合体、ポリジメチルシロキサン等のシリ
コーン系重合体;本発明で使用する活性エネルギー線硬
化性組成物(X)の硬化物等が挙げられる。Polyethylene, polypropylene, poly-4
A polyolefin polymer such as -methylpentene-1;
Chlorine-containing polymers such as vinyl chloride and vinylidene chloride; cellulosic polymers such as cellulose acetate and methylcellulose; polyurethane polymers; polyamide polymers; polyimide polymers; poly-2,6-dimethylphenylene oxide, polyphenylene sulfide Polyether or polythioether polymers such as polyether ketone; Polyether ketone polymers such as polyether ether ketone; Polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyarylate; Epoxy resins; Urea resins; Fluorine polymers such as ethylene and PFA (copolymer of tetrafluoroethylene and perfluoroalkoxyethylene), silicone polymers such as polydimethylsiloxane; active energy ray-curable composition (X) used in the present invention Hard Thing, and the like.
【0111】これらの中でも、接着性が良好な点などか
ら、スチレン系重合体、(メタ)アクリル系重合体、ポ
リカーボネート系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリ
エステル系重合体が好ましい。また部材(J)は、活性エ
ネルギー線硬化性樹脂の硬化物であることも好ましい。
部材(J)は、ポリマーブレンドやポリマーアロイで構成
されていても良いし、積層体その他の複合体であっても
良い。更に、部材(J)は、改質剤、着色剤、充填材、強
化材などの添加物を含有しても良い。Of these, styrene-based polymers, (meth) acrylic-based polymers, polycarbonate-based polymers, polysulfone-based polymers, and polyester-based polymers are preferred from the viewpoint of good adhesiveness. The member (J) is also preferably a cured product of an active energy ray-curable resin.
The member (J) may be composed of a polymer blend or a polymer alloy, or may be a laminate or other composite. Further, the member (J) may contain additives such as a modifier, a colorant, a filler, and a reinforcing material.
【0112】部材(J)に含有させることができる改質剤
としては、例えば、シリコンオイルやフッ素置換炭化水
素などの疎水化剤(撥水剤);水溶性重合体、界面活性
剤、シリカゲルなどの無機粉末、などの親水化剤が挙げ
られる。部材(J)に含有させることができる着色剤とし
ては、任意の染料や顔料、蛍光性の染料や顔料、紫外線
吸収剤が挙げられる。部材(J)に含有させることができ
る強化材としては、例えば、クレイなどの無機粉末、有
機や無機の繊維が挙げられる。Examples of the modifying agent that can be contained in the member (J) include hydrophobizing agents (water repellents) such as silicone oil and fluorine-substituted hydrocarbons; water-soluble polymers, surfactants, silica gels and the like. And a hydrophilizing agent such as an inorganic powder. Examples of the coloring agent that can be contained in the member (J) include an arbitrary dye or pigment, a fluorescent dye or pigment, and an ultraviolet absorber. Examples of the reinforcing material that can be contained in the member (J) include inorganic powders such as clay and organic and inorganic fibers.
【0113】部材(J)が接着性の低い素材、例えば、ポ
リオレフィン、フッ素系重合体、ポリフェニレンサルフ
ァイド、ポリエーテルエーテルケトン等の場合には、部
材(J)の接着面の表面処理やプライマーの使用により、
接着性を賦与或いは向上させることが好ましい。また、
部材(J)の表面に活性エネルギー線硬化性組成物を塗布
し、活性エネルギー線照射により半硬化させた層を形成
し、これを部材(J)とすることも樹脂層(X)との接着性向
上の為に好ましく、接着性の観点からは、接着する樹脂
層(X)と同様の活性エネルギー線硬化性組成物を用いる
ことが更に好ましい。When the member (J) is made of a material having low adhesiveness, for example, polyolefin, fluoropolymer, polyphenylene sulfide, polyetheretherketone, etc., the surface treatment of the bonding surface of the member (J) and the use of a primer By
It is preferable to impart or improve the adhesiveness. Also,
Apply the active energy ray-curable composition to the surface of the member (J), form a layer that has been semi-cured by irradiating with active energy ray, and use this as the member (J). From the viewpoint of adhesiveness, it is more preferable to use the same active energy ray curable composition as the resin layer (X) to be adhered.
【0114】また、本発明のマイクロデバイスの使用に
当たって、接着性を向上させる目的の他に、タンパク質
などの溶質のデバイス表面への吸着を抑制する目的で、
部材(J)の表面を親水化することも好ましい。Further, in using the microdevice of the present invention, in addition to the purpose of improving the adhesiveness, the purpose of suppressing adsorption of solutes such as proteins to the device surface is as follows.
It is also preferable to make the surface of the member (J) hydrophilic.
【0115】部材(J)は、表面に溝などの凹部を有する
部材、表面に凹部を有しない部材、層内に欠損部を有し
ない組成物(x)(半)硬化樹脂層、又は分離膜であって
よいし、これらの複合体でも良い。又、部材(J)は、そ
の上に樹脂層(X)を積層して形成した後に除去可能なも
のであっても良い。さらに、部材(J)は、単独の樹脂層
(X)、積層された複数の樹脂層(X)、又は樹脂層(X)が他
の部材に積層された部材であり得る。単独の樹脂層(X)
は、本発明の工程(v)における塗工支持体の除去と同じ
方法で形成できる。The member (J) is a member having a concave portion such as a groove on the surface, a member having no concave portion on the surface, a composition (x) (half) cured resin layer having no defective portion in the layer, or a separation membrane. Or a composite of these. The member (J) may be removable after forming the resin layer (X) by laminating it thereon. Further, the member (J) is a single resin layer.
(X), a plurality of laminated resin layers (X), or a member in which the resin layer (X) is laminated on another member. Single resin layer (X)
Can be formed by the same method as the removal of the coated support in the step (v) of the present invention.
【0116】部材(J)と接着された樹脂層(X)から塗工支
持体を除去することにより、樹脂層(X)を部材(J)に転写
する。この工程を「工程(v)」と称する。除去方法は任
意であり、剥離、溶解、分解、溶融、揮発などであり得
るが、生産性が高い点で剥離が好ましく、また、柔軟で
薄い樹脂層(X)を破損することなく形成出来る点では溶
解が好ましい。The resin layer (X) is transferred to the member (J) by removing the coating support from the resin layer (X) adhered to the member (J). This step is referred to as “step (v)”. The removal method is optional, and may be peeling, dissolving, decomposing, melting, or volatilizing.However, peeling is preferred in terms of high productivity, and the flexible thin resin layer (X) can be formed without damaging it. Is preferably dissolved.
【0117】塗工支持体の除去が剥離である場合は、後
述の工程(vi)を本工程(v)の前に施すことが好ましい。
或いは、本工程の前後に施すことも好ましい。剥離によ
る除去は、引張りによる剥離、刃による剥離、水流など
の液体流による剥離、圧空などによる気体流による剥
離、水への浸漬などによる自然剥離など任意であり、剥
離を容易にするため、温度条件を変えたり、水中で実施
することも好ましい。In the case where the removal of the coated support is peeling, it is preferable to perform the below-mentioned step (vi) before this step (v).
Alternatively, it is also preferable to carry out before and after this step. The removal by peeling is optional such as peeling by pulling, peeling by a blade, peeling by a liquid flow such as a water flow, peeling by a gas flow by compressed air, or natural peeling by immersion in water. It is also preferable to change the conditions or to carry out in water.
【0118】また、塗工支持体の素材と組成物(x)の組
み合わせを選択し、未硬化塗膜及び半硬化塗膜の状態で
は付着性であり、硬化後は接着力が低くなる組み合わせ
を選択することで容易となる。剥離による除去は、樹脂
層(X)が引張り弾性率が0.1〜10GPaであるよう
に比較的剛性が高い場合に好ましい方法である。Further, a combination of the material of the coating support and the composition (x) is selected, and a combination which is adhesive in the state of the uncured coating film and the semi-cured coating film and has a low adhesion after curing is selected. It becomes easy by choosing. The removal by peeling is a preferable method when the resin layer (X) has relatively high rigidity such that the tensile elastic modulus is 0.1 to 10 GPa.
【0119】塗工支持体の除去が溶解である場合は、後
述の工程(vi)は本工程(v)の前であっても後であっても
良い。勿論、本工程の前後に施しても良い。溶解による
除去は、塗工支持体の素材と組成物(x)の組み合わせを
選択し、塗工支持体を選択的に溶解する溶剤により実施
することが出来る。このような溶剤としては、例えば
水、酸、アルカリ、低級アルコール、ケトン系溶剤、エ
ステル系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素等を挙げるこ
とができる。溶解方法も任意であり、例えば、液体中へ
の浸漬、シャワー、蒸気洗浄などの方法を採ることが出
来る。In the case where the removal of the coated support is dissolution, the step (vi) described later may be before or after the step (v). Of course, it may be performed before or after this step. The removal by dissolution can be carried out by selecting a combination of the material of the coated support and the composition (x), and using a solvent that selectively dissolves the coated support. Examples of such solvents include water, acids, alkalis, lower alcohols, ketone solvents, ester solvents, ether solvents, and hydrocarbons. The dissolution method is also arbitrary, and for example, a method such as immersion in a liquid, a shower, or steam cleaning can be employed.
【0120】これらは塗工支持体が完全に溶解すること
を要さない。即ち、塗工支持体の一部が膨潤、溶解し樹
脂層(X)から剥離すれば十分に本発明の目的が達せら
れる。従って、水などの塗工支持体を溶解する溶剤を強
く吹き付けることにより、塗工支持体の一部が膨潤、溶
解し、塗工支持体が樹脂層(X)から剥離する方法も含
まれる。These do not require that the coated support be completely dissolved. That is, if a part of the coated support swells and dissolves and is separated from the resin layer (X), the object of the present invention is sufficiently achieved. Therefore, a method is also included in which a solvent such as water, which dissolves the coated support, is strongly sprayed to partially swell and dissolve the coated support, and the coated support is separated from the resin layer (X).
【0121】これらの中で、水、酸、アルカリによるも
のが好ましい。溶解による除去は、後述の工程(vi)が本
工程(v)の前である場合で、樹脂層(X)の欠損部が長い線
状、曲線状、多数の線状である場合のように、剥離によ
る除去が困難である場合に好適である。また、溶解によ
る除去は、硬化した樹脂層(X)が引張り弾性率が1〜7
00MPaであるような比較的剛性の低い場合に好まし
い方法である。また分解による除去は、酸化分解、加水
分解など任意であり、上記の溶解による除去と同様に扱
える。Among them, those based on water, acid and alkali are preferred. Removal by dissolution is performed when the step (vi) described below is before this step (v), and the defective portion of the resin layer (X) has a long linear shape, a curved shape, and a large number of linear shapes. It is suitable when it is difficult to remove by peeling. In addition, the removal by dissolution is performed when the cured resin layer (X) has a tensile elastic modulus of 1 to 7;
This is a preferable method when the rigidity is relatively low such as 00 MPa. Removal by decomposition is optional such as oxidative decomposition and hydrolysis, and can be handled in the same manner as the above-described removal by dissolution.
【0122】工程(v)の前及び/又は後に、即ち、塗工
支持体が積層されている状態及び/又は除去された状態
で、半硬化の樹脂層(X)に活性エネルギー線を再照射
し、組成物(x)を更に硬化させて部材(J)に接着する。こ
の工程を工程(vi)と称する。本工程における活性エネル
ギー線の照射は、作製されるマイクロデバイスに十分な
強度を持たせる程度に組成物(x)層を硬化させると共
に、組成物(x)硬化物層と部材(J)とを十分な強度で接着
することを意味する。Before and / or after step (v), that is, with the coated support laminated and / or removed, the semi-cured resin layer (X) is re-irradiated with active energy rays. Then, the composition (x) is further cured and adhered to the member (J). This step is referred to as step (vi). Irradiation with active energy rays in this step cures the composition (x) layer to such an extent that the microdevice to be manufactured has sufficient strength, and simultaneously cures the composition (x) cured material layer and the member (J). It means bonding with sufficient strength.
【0123】また、工程(v)の塗工支持体の除去が剥離
によるものである場合には、剥離可能な程度に硬化させ
ることを意味する。従って、必ずしも重合性基が完全に
消失するまで硬化させる必要はない。特に、樹脂層(X)
に更に他の部材を積層・接着する場合には、硬化の程度
は、塗工支持体を剥離可能な程度に硬化していながら、
活性エネルギー線の3度目の照射で他の部材と接着可能
な程度に重合性基が残存する程度であることが好まし
い。When the removal of the coated support in the step (v) is due to peeling, it means that the support is cured to the extent that it can be peeled. Therefore, it is not always necessary to cure until the polymerizable group has completely disappeared. In particular, the resin layer (X)
When further laminating and bonding other members, the degree of curing is, while the coating support is cured to the extent that it can be peeled off,
It is preferable that the polymerizable group remains to such an extent that it can be adhered to another member by the third irradiation with the active energy ray.
【0124】工程(vi)で硬化に用いることのできる活性
エネルギー線としては、組成物(x)の半硬化に用いるこ
との出来る活性エネルギー線として例示したものを使用
することが出来る。本工程で使用する活性エネルギー線
は、工程(ii)で使用したものと同じであっても異なるも
のであっても良い。また、強度、照射温度、雰囲気酸素
濃度などの照射条件が異なっていても良い。As the active energy rays that can be used for curing in step (vi), those exemplified as the active energy rays that can be used for semi-curing the composition (x) can be used. The active energy rays used in this step may be the same as or different from those used in step (ii). Further, irradiation conditions such as intensity, irradiation temperature, and atmospheric oxygen concentration may be different.
【0125】樹脂層(X)は、層内にパターニング露光と
現像によって形成された樹脂の欠損部を有し、該欠損部
は、該層を部材(J)と積層することにより、また必要に
応じて、樹脂層(X)の上にさらに他の部材(K)を積層して
部材(J)と他の部材(K)とで樹脂層(X)を挟持することに
より、流路その他として使用される空洞を構成すること
ができる。空洞は、マイクロデバイスの外部に連絡して
いるものであっても連絡していないものであっても良
い。なお、後述の樹脂層(X')は、樹脂層(X)の中の特定
の形状を有するものである。The resin layer (X) has a defective portion of the resin formed by patterning exposure and development in the layer, and the defective portion is formed by laminating the layer with the member (J). Accordingly, by further laminating another member (K) on the resin layer (X) and sandwiching the resin layer (X) between the member (J) and the other member (K), as a flow path or the like. The cavities used can be configured. The cavity may or may not communicate with the outside of the microdevice. The resin layer (X ′) described later has a specific shape in the resin layer (X).
【0126】部材(J)上に樹脂層(X)を積層した後、樹脂
層(X)が積層された部材(J)を工程(iv)における部材
(J)の代わりに用いて、樹脂層(X)の形成工程、即ち、
工程(i)、(ii)、(iii)、(iv)、及び(v)なる一連の工
程、又は工程(i)、(ii)、(iii)、(iv)、(v)、及び(vi)
なる一連の工程、又は工程(i)、(ii)、(iii)、(iv)、(v
i)、及び(v)なる一連の工程を繰り返すことによって、
樹脂層(X)を複数層積層することができる。After laminating the resin layer (X) on the member (J), the member (J) on which the resin layer (X) is laminated is used instead of the member (J) in the step (iv), Step of forming (X), that is,
A series of steps (i), (ii), (iii), (iv), and (v), or steps (i), (ii), (iii), (iv), (v), and ( vi)
A series of steps, or steps (i), (ii), (iii), (iv), (v
By repeating a series of steps i) and (v),
A plurality of resin layers (X) can be laminated.
【0127】このとき工程(vi)は必ずしも実施する必要
はないが、支持体の剥離方法によっては実施が必要であ
る場合がある。連続する2つの樹脂層(X)の樹脂層(X)の
形状は同じであっても異なっていても良く、また、厚み
や、樹脂層(X)を構成する組成物(x)の種類が異なってい
ても良い。また、2回以上繰り返す場合には、その度ご
とに上記のいずれから選ばれる一連の工程を選択して実
施できる。At this time, the step (vi) is not always required to be performed, but may be required depending on the method of peeling the support. The shape of the resin layer (X) of two consecutive resin layers (X) may be the same or different, and the thickness and the type of the composition (x) constituting the resin layer (X) It may be different. In the case where the process is repeated twice or more, a series of steps selected from any of the above processes can be selected and performed each time.
【0128】本発明の製造方法は、工程(v)における塗
工支持体の除去方法によって、好ましい手順が異なる。
例えば、塗工支持体の除去が溶解によるものである場合
は、半硬化の樹脂層(X)に他の部材(K)を積層して、部材
(J)と他の部材(K)とで樹脂層(X)を挟持し、この状態で
工程(vi)の活性エネルギー線照射を行い、これらを接着
することが好ましい。The preferred procedure of the production method of the present invention differs depending on the method of removing the coated support in step (v).
For example, if the removal of the coated support is due to dissolution, another member (K) is laminated on the semi-cured resin layer (X), and the member is removed.
It is preferable that the resin layer (X) is sandwiched between (J) and another member (K), and in this state, the active energy ray irradiation in the step (vi) is performed, and these are bonded.
【0129】また、塗工支持体の除去が溶解によるもの
である場合は、部材(J)上に形成され、塗工支持体が除
去された半硬化状態の樹脂層(X) を部材(J)の代わりに
使用して、上記のいずれかの一連の工程を繰り返すこと
によって、樹脂層(X)を複数層を積層し、この状態で工
程(vi)の活性エネルギー線照射を行い、これらを接着す
ることが出来る。If the removal of the coating support is due to dissolution, the semi-cured resin layer (X) formed on the member (J) and having the coating support removed is replaced with the member (J). ), And by repeating any one of the above-described steps, a plurality of resin layers (X) are laminated, and in this state, the active energy ray irradiation of the step (vi) is performed, and these are irradiated. Can be glued.
【0130】塗工支持体の除去が剥離によるものである
場合、工程(vi)を工程(v)の前に行い、部材(J)上に形成
された、塗工支持体が除去された硬化した樹脂層(X)を
部材(J)の代わりに使用して、工程(i)、(ii)、(iii)、
(iv)、(vi)、及び(v)の工程を繰り返すことによって、
樹脂層(X)に複数層を積層したマイクロデバイスを製造
することが出来る。When the removal of the coated support is due to peeling, the step (vi) is performed before the step (v), and the hardening formed on the member (J) after the removal of the coated support is performed. Using the resin layer (X) in place of the member (J), the steps (i), (ii), (iii),
By repeating steps (iv), (vi), and (v),
A micro device in which a plurality of layers are laminated on the resin layer (X) can be manufactured.
【0131】また、上記と同様にして、樹脂層(X)の上
に他の部材を介して他の樹脂層(X)を積層しても良い
し、部材(J)上に樹脂層(X)が形成された部材を形成し、
それを複数枚張り合わせることにより、複数の樹脂層
(X)を有するマイクロデバイスとすることも可能であ
る。In the same manner as described above, another resin layer (X) may be laminated on the resin layer (X) via another member, or the resin layer (X) may be formed on the member (J). ) To form a formed member,
By laminating a plurality of them, multiple resin layers
It is also possible to provide a micro device having (X).
【0132】連続した3層以上の部材の欠損部を連結さ
せることによって、空洞状の流路の立体交差が可能にな
り、マイクロデバイスに複雑な機能を持たせることが可
能になる。このような形態は、部材を貫通する欠損部を
有する部材、又は表面に凹状の欠損部を有する部材、又
は部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有する
部材から選ばれる部材(J)、及び部材(J)と同様の構造を
有する部材(K)を使用した、部材(J)−樹脂層(X)−部材
(K)積層体であり得る。この時、部材(K)は樹脂層(X)と
同じ素材・構造であって良いし、樹脂層(X)は複数層で
あって良いし、部材(J)も樹脂層(X) と同じ素材・構造
であって良い。By connecting the defective portions of three or more layers of continuous members, three-dimensional crossing of the hollow channel becomes possible, and the microdevice can have a complicated function. Such a form is a member having a defect portion penetrating the member, a member having a concave defect portion on the surface, or a member selected from a member having a defect portion penetrating the member and a member having a concave defect portion on the surface (J ), And a member (K) having the same structure as the member (J), a member (J) -resin layer (X) -member
(K) It may be a laminate. At this time, the member (K) may have the same material and structure as the resin layer (X), the resin layer (X) may have a plurality of layers, and the member (J) may have the same material as the resin layer (X). Materials and structures may be used.
【0133】形成された樹脂層(X)の上に他の部材(K)を
密着させることも好ましい。密着は、接着、粘着、非接
着の密着などであり得るが、接着であることが好まし
い。接着方法は任意であるが、部材(K)素材に活性エネ
ルギー線硬化性組成物を用い、半硬化させた状態で樹脂
層(X)に接触させ、活性エネルギー線を再照射して、接
着する方法が好ましい。例えば、欠損部を形成しないこ
と以外は樹脂層(X)と同様の方法で形成することも好ま
しい。なお、後述の部材(K')は、部材(K)の特定形状の
ものである。It is also preferable that another member (K) is brought into close contact with the formed resin layer (X). The adhesion may be adhesion, adhesion, non-adhesion adhesion, or the like, but is preferably adhesion. The bonding method is optional, but using an active energy ray-curable composition for the material of the member (K), contacting the resin layer (X) in a semi-cured state, re-irradiating the active energy ray, and bonding The method is preferred. For example, it is also preferable to form the resin layer (X) by the same method except that no defective portion is formed. Note that a member (K ′) described later has a specific shape of the member (K).
【0134】部材(K)の形状や寸法は、部材(J)と同様で
あり、部材を貫通する欠損部を有する部材、表面に溝状
などの凹状の欠損部を有する部材、部材を貫通する欠損
部や表面に凹状の欠損部を有しない部材、本発明で言う
樹脂層(X)と同様の方法で形成され、同様の素材・構造
を有する樹脂層、層内に欠損部を有しない組成物(x)の
(半)硬化樹脂層、分離膜など、及びこれらの複合体で
あり得る。部材(K)の代わりに、任意の部材上に樹脂層
(X)が積層された部材を用いることも出来る。The shape and dimensions of the member (K) are the same as those of the member (J). The member has a defective portion penetrating the member, the member has a concave defect portion such as a groove on the surface, and the member penetrates the member. A member having no defective portion or concave concave portion on the surface, a resin layer formed by the same method as the resin layer (X) of the present invention and having the same material and structure, a composition having no defective portion in the layer It may be a (semi) cured resin layer of the product (x), a separation membrane, and the like, and a composite thereof. Resin layer on any member instead of member (K)
A member in which (X) is laminated can also be used.
【0135】樹脂層(X)は、活性エネルギー線重合性化
合物(a)の選択や組成物(x)の各成分の配合により、目的
の硬度に形成することが出来る。樹脂層(X)の引張弾性
率は、例えば0.01GPa〜10GPa、好ましくは
0.05GPa〜3GPaとすることが出来る。The resin layer (X) can be formed to a desired hardness by selecting the active energy ray-polymerizable compound (a) and blending each component of the composition (x). The tensile modulus of the resin layer (X) can be, for example, 0.01 GPa to 10 GPa, preferably 0.05 GPa to 3 GPa.
【0136】本発明のマイクロデバイスは、樹脂層(X)
に弁となる構造を設けることにより、バルブを有するマ
イクロデバイスとすることもできる。弁となる構造は、
その一部が固定されたシート状であることが、製造が容
易であり好ましい。その一部が固定されたシート状と
は、例えば舌状、1以上の部分で固定された円や矩形な
どであり得る。The micro device of the present invention comprises a resin layer (X)
By providing a structure that functions as a valve, a microdevice having a valve can be obtained. The valve structure is
It is preferable that it is in the form of a sheet in which a part of the sheet is fixed because manufacturing is easy. The partially fixed sheet shape may be, for example, a tongue shape, a circle or a rectangle fixed by one or more portions.
【0137】本発明の製造方法においては、本発明の工
程(ii)において、弁と成る部分を残してその周囲を欠損
部とする形状に露光することにより、その一部が固定さ
れたシート状の弁を形成することが出来る。例えば、舌
状の弁となる構造を形成するには、馬蹄形の欠損部を形
成すべく露光すればよい。In the production method of the present invention, in the step (ii) of the present invention, a portion of the sheet is fixed by exposing a portion having a valve to the periphery and exposing the portion to a defect. Can be formed. For example, to form a tongue-shaped valve structure, exposure may be performed to form a horseshoe-shaped defect.
【0138】そして、弁の形成された樹脂層(X)の一方
の側には弁より小さな面積の孔状の欠損部を有する部材
(J)、部材(K)又は樹脂層(X)を、孔状の欠損部を弁に合
わせて積層し、樹脂層(X)の他方の側には弁が可動出来
るように、弁より大きな空洞となる欠損部を有する、部
材(J)、部材(K)又は樹脂層(X)を積層することによって
バルブを形成することが出来る。A member having a hole-shaped defective portion having an area smaller than that of the valve on one side of the resin layer (X) on which the valve is formed.
(J), the member (K) or the resin layer (X), the hole-shaped defective portion is laminated according to the valve, and the other side of the resin layer (X) is larger than the valve so that the valve can move. The valve can be formed by laminating the member (J), the member (K), or the resin layer (X) having a cavity that becomes a cavity.
【0139】樹脂層(X)を、他の部材や樹脂層、例えば
上記の、弁より小さな面積の孔状の欠損部を有する部材
(J)、部材(K)又は樹脂層(X)と接着する際に、弁の部分
も接着されてしまうことを避けるために、工程(iv)の前
に、樹脂層(X)の弁となる部分に活性エネルギー線を照
射して、該部分が接着しない程度に硬化を進めることが
好ましい。該活性エネルギー線照射は、工程(ii)と同時
及び/又は又は工程(iii)と工程(iv)の間に実施するこ
とが好ましい。The resin layer (X) is made of another member or a resin layer, for example, a member having a hole-shaped defect having an area smaller than that of the valve.
(J), the member (K) or the resin layer (X), in order to avoid that the valve part is also bonded, before the step (iv), the resin layer (X) of the valve It is preferable to irradiate the active portion with an active energy ray to advance the curing to such an extent that the portion does not adhere. The active energy ray irradiation is preferably carried out simultaneously with step (ii) and / or between step (iii) and step (iv).
【0140】弁が形成される樹脂層(X)は、柔軟な素材
で形成することが好ましく、該層を挟持する層や部材よ
り低い引張弾性率の素材で形成することが好ましい。弁
が形成される樹脂層(X)に使用する素材の好ましい引張
弾性率は1MPa〜1GPa、更に好ましくは10〜5
00MPa、更に好ましくは50〜300MPaであ
る。この範囲より低いと強度や繰り返し耐久性に劣るも
のとなりがちであり、これより高いと閉時に漏洩が生じ
がちとなる。The resin layer (X) on which the valve is formed is preferably formed of a flexible material, and is preferably formed of a material having a lower tensile modulus than the layers and members sandwiching the layer. The preferred tensile modulus of the material used for the resin layer (X) on which the valve is formed is 1 MPa to 1 GPa, and more preferably 10 to 5 GPa.
00 MPa, more preferably 50 to 300 MPa. If it is lower than this range, the strength and the repetition durability tend to be inferior, and if it is higher than this range, leakage tends to occur at the time of closing.
【0141】本発明の製造方法においては、弁を有する
マイクロデバイスを作製する場合と同様に、可動なダイ
ヤフラムを有するマイクロデバイスを製造する場合にお
いても、ダイヤフラムが隣接する部材、即ち、樹脂層
(X)、部材(J)又は部材(K)と接着されてしまうことを避
けるために、ダイヤフラムに樹脂層(X)が隣接する場合
には、工程(i)と工程(iv)の間に、樹脂層(X)の非接着と
すべき部分に活性エネルギー線を照射して、該部分が接
着しない程度に硬化を進める工程を設けることが好まし
い。According to the manufacturing method of the present invention, similarly to the case of manufacturing a micro device having a valve, in the case of manufacturing a micro device having a movable diaphragm, the member adjacent to the diaphragm, that is, the resin layer
(X), in order to avoid being bonded to the member (J) or the member (K), when the resin layer (X) is adjacent to the diaphragm, between the step (i) and the step (iv). It is preferable to provide a step of irradiating an active energy ray to a portion of the resin layer (X) to be non-adhered and proceeding the curing to such an extent that the portion does not adhere.
【0142】このような方法で製造することのできるマ
イクロデバイスの例としては、ダイヤフラム式バルブ機
構、チェックバルブ機構、ダイヤフラム式開閉バルブ機
構、ダイヤフラム式流量調節バルブ機構などを有するマ
イクロデバイスを挙げることができる。Examples of microdevices that can be manufactured by such a method include microdevices having a diaphragm valve mechanism, a check valve mechanism, a diaphragm opening / closing valve mechanism, a diaphragm type flow control valve mechanism, and the like. it can.
【0143】形成したマイクロデバイスは、穿孔、切断
などの後加工することも可能である。また、本発明のマ
イクロデバイスは全体が微小な大きさである為、一枚の
樹脂層に多数の部材を同時に作成することが生産効率、
並びに各部材の細部の精度の良い位置決めに有用であ
る。即ち、複数の微小なマイクロデバイスを一枚の露光
現像版上に作成することにより、再現性良く、且つ高い
精度の寸法安定性を有して多数のマイクロデバイスを一
度に生産することができる。The formed micro device can be subjected to post-processing such as punching and cutting. Further, since the microdevice of the present invention has a very small size as a whole, it is possible to simultaneously produce a large number of members on one resin layer, thereby improving the production efficiency.
It is also useful for precise positioning of details of each member. That is, by forming a plurality of minute microdevices on one exposure development plate, a large number of microdevices can be produced at once with good reproducibility and high dimensional stability with high accuracy.
【0144】本発明のマイクロデバイスは、{部材を貫
通する欠損部を有する部材、又は表面に凹状の欠損部を
有する部材、又は部材を貫通する欠損部と表面に凹状の
欠損部を有する部材から選ばれる部材(J')}と、層の一
部に欠損部を有し、該欠損部の最小幅が、1〜1000
μmである、活性エネルギー線硬化性樹脂層(X')の1つ
以上の層と、{部材を貫通する欠損部を有する部材、又
は表面に凹状の欠損部を有する部材、又は部材を貫通す
る欠損部と表面に凹状の欠損部を有する部材から選ばれ
る部材(K')}とが積層され、部材中の少なくとも2つ以
上の欠損部が連結して空洞を形成している、積層構造を
有するマイクロデバイスである。The microdevice of the present invention can be obtained from a member having a defective portion penetrating the member, a member having a concave defect portion on the surface, or a member having a defective portion penetrating the member and a concave portion on the surface. The member (J ′)} to be selected, and a part of the layer has a defect, and the minimum width of the defect is 1 to 1000.
μm, one or more layers of the active energy ray-curable resin layer (X ′), a member having a defective portion penetrating the member, or a member having a concave defect portion on the surface, or penetrating the member. A laminated structure in which a defective portion and a member (K ′)} selected from a member having a concave defective portion on the surface are laminated, and at least two or more defective portions in the member are connected to form a cavity. It is a micro device having.
【0145】部材(J')は、{部材を貫通する欠損部を有
する部材、又は表面に凹状の欠損部を有する部材、もし
くは部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有す
る部材}であること以外は、本発明の製造方法で使用し
た部材(J)と同様であり、部材(J)の特定形状のものであ
る。部材(K')もまた、{該部材を貫通する欠損部を有す
る部材、又は表面に凹状の欠損部を有する部材、もしく
は部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有する
部材}であること以外は、本発明の製造方法で使用した
部材(K)と同様であり、部材(K)の特定形状のものであ
る。The member (J ') is a member having a defective portion penetrating the member, a member having a concave defect portion on the surface, or a member having a defective portion penetrating the member and a concave defect portion on the surface. Other than that, the member (J) used in the production method of the present invention is the same as the member (J) and has a specific shape. The member (K ′) is also a {member having a defective portion penetrating the member, or a member having a concave defect portion on the surface, or a member having a defective portion penetrating the member and a concave defect portion on the surface}. Except for this, it is the same as the member (K) used in the production method of the present invention, and has a specific shape of the member (K).
【0146】部材を貫通する欠損の位置、形状、寸法
は、該欠損部が樹脂層(X')に連結できる面に開口してい
ること以外は任意である。部材を貫通する欠損部の形状
は、例えば丸孔、角孔、スリット状、円錐状、角錐状、
樽状、ネジ孔、その他複雑な形状の欠損部であり得る。
部材(J')の欠損部は樹脂層(X')の欠損部に比べて大きな
孔であり得る、部材(J')表面に形成された凹状の欠損部
の寸法形状は、後述のような、本発明マイクロデバイス
内に形成される空洞の形状・寸法と同様である。The position, shape, and size of the defect penetrating the member are arbitrary, except that the defect is open on a surface that can be connected to the resin layer (X ′). The shape of the defective portion penetrating the member is, for example, a round hole, a square hole, a slit shape, a conical shape, a pyramid shape,
It may be a barrel, screw hole, or other complicated shaped defect.
The defective portion of the member (J ') may be a large hole compared to the defective portion of the resin layer (X'). The dimensions and shape of the concave defective portion formed on the surface of the member (J ') are as described below. This is the same as the shape and size of the cavity formed in the micro device of the present invention.
【0147】欠損部を有する部材(j')、部材(K')の製造
方法は任意であり、例えば、射出成形、溶融レプリカ
法、溶液キャスト法、活性エネルギー線硬化性組成物を
用いたフォトリソグラフ法、又は活性エネルギー線硬化
性組成物を用いたキャスト成型法などにより製造でき
る。また、部材(J')は、本発明で言う樹脂層(X')と同じ
素材・形状の樹脂層であり得るし、本発明で言う樹脂層
(X')が複数層積層された構造物であり得るし、本発明で
言う樹脂層(X')が他の部材に積層された積層物であり得
る。The method for producing the member (j ′) and the member (K ′) having a deficient portion is arbitrary. For example, injection molding, a melt replica method, a solution casting method, and a photopolymer using an active energy ray-curable composition. It can be produced by a lithographic method or a cast molding method using an active energy ray-curable composition. The member (J ′) may be a resin layer having the same material and shape as the resin layer (X ′) according to the present invention, or may be a resin layer according to the present invention.
(X ′) may be a structure in which a plurality of layers are laminated, or the resin layer (X ′) referred to in the present invention may be a laminate in which another member is laminated.
【0148】本発明のマイクロデバイスは、部材(J')、
1つ以上の樹脂層(X')、部材(K')の積層体であり、その
合計の層数は3以上であり、用途、目的にもよるが3〜
10であることが好ましく、3〜6であることが更に好
ましい。The micro device of the present invention comprises a member (J ′),
It is a laminate of one or more resin layers (X ′) and members (K ′), and the total number of layers is 3 or more.
It is preferably 10 and more preferably 3 to 6.
【0149】本発明のマイクロデバイスにおいては、樹
脂層(X')に形成された欠損部は、本発明の製造方法にお
ける樹脂層(X)と異なり、該樹脂層の表裏を貫通してい
て、該樹脂層が他の樹脂層(X')又は貫通孔や凹部を有す
る部材と積層されることでこれらの層や部材を連絡した
空洞を形成している。樹脂層(X')については、該樹脂層
に形成された欠損部が該樹脂層の表裏を貫通しているこ
と以外は、本発明の製造方法における樹脂層(X)と同様
である。In the micro device of the present invention, unlike the resin layer (X) in the manufacturing method of the present invention, the defective portion formed in the resin layer (X ′) penetrates the front and back of the resin layer. The resin layer is laminated with another resin layer (X ′) or a member having a through hole or a concave portion to form a cavity connecting these layers and members. The resin layer (X ′) is the same as the resin layer (X) in the production method of the present invention, except that the defective portion formed in the resin layer penetrates the front and back of the resin layer.
【0150】本発明のマイクロデバイスにおいては、部
材(J')、1層以上の樹脂層(X')、及び部材(K')に形成さ
れた各欠損部は、少なくとも隣り合った2層の欠損部同
士が連絡して空洞を形成している。好ましくは連続した
3層以上の欠損部が互いに連絡して空洞を形成してい
る。In the microdevice of the present invention, each of the defects formed in the member (J ′), the one or more resin layers (X ′), and the member (K ′) has at least two adjacent layers. The missing portions communicate with each other to form a cavity. Preferably, three or more continuous defective portions are connected to each other to form a cavity.
【0151】本発明のマイクロデバイスに更に他の部
材、例えば欠損部を有する部材を積層することも可能で
ある。また、2つ以上の本発明のマイクロデバイスを、
表面に開口した空洞同士が連絡するようにして接着し
て、新たなマイクロデバイスとすることも可能である
し、貫通孔や凹部を有しない部材を挟んで積層接着し
て、空洞部が互いに連絡していない複数の部分から成る
マイクロデバイスとすることも可能である。It is also possible to laminate another member, for example, a member having a defective portion, on the microdevice of the present invention. In addition, two or more microdevices of the present invention
It is possible to make a new micro device by bonding so that the cavities opened on the surface are connected to each other, or by laminating and bonding members that do not have through holes or recesses, and the cavities are connected to each other It is also possible to provide a microdevice composed of a plurality of parts not shown.
【0152】このような例としては、マイクロデバイス
がダイヤフラム式ポンプ機構やダイヤフラム式バルブ機
構を有するような、ダイヤフラム構造を有するデバイス
であり、貫通孔や凹部を有しない部材がダイヤフラムを
形成しているマイクロデバイスを例示することが出来
る。貫通孔や凹部を有しない部材は活性エネルギー線硬
化性樹脂で形成されていることが、層間接着性が高くま
た生産性も高いため、好ましい。また、このような部材
は、多孔質膜、透析膜、気体分離膜などであり得る。An example of such a device is a device having a diaphragm structure in which the microdevice has a diaphragm pump mechanism or a diaphragm valve mechanism, and a member having no through-hole or concave portion forms a diaphragm. A micro device can be exemplified. A member having no through-hole or concave portion is preferably formed of an active energy ray-curable resin because of high interlayer adhesion and high productivity. Further, such a member may be a porous membrane, a dialysis membrane, a gas separation membrane, or the like.
【0153】本発明のマイクロデバイスにおける空洞の
形状は、用途目的に応じて任意に設定できる。例えば、
連絡路、流入出口、貯液槽、反応槽、液−液接触部、ク
ロマトグラフィーや電気泳動の展開路、検出部、バルブ
などの流体の流路;加圧タンク、減圧タンク、圧力検出
部などの空間;センサー埋め込み部として使用する空間
などとして使用する空洞状の欠損部の全部又は一部とす
ることが出来る。The shape of the cavity in the micro device of the present invention can be arbitrarily set according to the purpose of use. For example,
Connection channels, inflow / outflow ports, storage tanks, reaction tanks, liquid-liquid contact sections, development paths for chromatography and electrophoresis, detection sections, flow paths for fluids such as valves; pressurized tanks, depressurized tanks, pressure detection sections This space can be the whole or a part of a cavity-shaped defective portion used as a space used as a sensor embedded portion or the like.
【0154】異なる樹脂層(x')内に形成された複数の流
路或いは枝分かれした流路が、樹脂層(X')を隔てて立体
交差していることが、流路を平面内に形成しなければな
らない制約から解放され、複雑なデバイスを構成出来る
ため好ましい。The fact that a plurality of flow paths or branched flow paths formed in different resin layers (x ′) intersect three-dimensionally with the resin layer (X ′) interposed therebetween indicates that the flow paths are formed in a plane. This is preferable because it is free from restrictions to be performed and a complicated device can be configured.
【0155】また、本発明においては、空洞がバルブの
一部であり得る。バルブの種類は任意であり、例えばチ
ェックバルブ(常時閉であり、一定以上の圧力が掛かる
と開となるバルブ)、逆止弁(一方向には常時開であ
り、逆方向には常時閉であるバルブ)、開閉バルブ、流
量調節バルブなどであり得る。In the present invention, the cavity may be a part of the valve. The type of valve is arbitrary, for example, a check valve (a valve that is normally closed and opens when a certain pressure is applied), a check valve (a normally open valve in one direction, and a normally closed valve in the opposite direction). A certain valve), an on-off valve, a flow control valve, and the like.
【0156】バルブが弁を有する場合には、弁の形状は
任意であり、例えば、舌状などの、その一部が固定され
たシート状(フィルム状、膜状、リボン状、板状などを
含む);空洞に閉じこめられた球状、円錐状、板状など
の独立した塊状物などであり得る。弁となる構造は、そ
の一部が固定されたシート状であることが、製造が容易
であり好ましい。When the valve has a valve, the shape of the valve is arbitrary. For example, a sheet (film, film, ribbon, plate, etc.) having a part fixed, such as a tongue shape, may be used. Included), and may be an independent mass such as a sphere, a cone, or a plate trapped in a cavity. It is preferable that the structure serving as the valve is in the form of a sheet in which a part thereof is fixed, because manufacture is easy.
【0157】その一部が固定されたシート状とは、例え
ば舌状、2以上の部分で固定された円や矩形などであり
得る。本発明のマイクロデバイスにおいては、樹脂層
(X')の一部に、弁と成る部分の周囲を欠損部として、そ
の一部が固定されたシート状の弁を形成することが出来
る。The sheet shape partially fixed may be, for example, a tongue shape, a circle or a rectangle fixed by two or more portions. In the micro device of the present invention, the resin layer
A part of (X ′) can be formed as a sheet-shaped valve in which a part around the part serving as a valve is a defect and a part thereof is fixed.
【0158】例えば、欠損部が馬蹄形であることによ
り、舌状の弁となる構造が得られる。そして、弁が形成
された樹脂層(X')の一方の側には弁より小さな面積の孔
状の欠損部が弁に合わせて積層されており、他方の側に
は弁が可動出来るように、弁より大きな空洞が形成され
ていることによってバルブとして機能し得る。[0158] For example, when the defective portion is horseshoe-shaped, a structure serving as a tongue-shaped valve is obtained. Then, on one side of the resin layer (X ') on which the valve is formed, a hole-shaped defective portion having an area smaller than that of the valve is laminated according to the valve, and on the other side, the valve is movable. Can function as a valve by forming a cavity larger than the valve.
【0159】弁を有する樹脂層(X')は、柔軟な素材で形
成されていることが好ましく、該樹脂層を挟持する層や
部材より低い引張弾性率の素材で形成されていることが
好ましい。弁を有する樹脂層(X')として使用される素材
の好ましい引張弾性率は1MPa〜1GPa、更に好ま
しくは10〜500MPa、更に好ましくは50〜30
0MPaである。この範囲より低いと強度や繰り返し耐
久性に劣るものとなりがちであり、これより高いと閉時
に漏洩が生じがちとなる。The resin layer (X ′) having a valve is preferably formed of a flexible material, and is preferably formed of a material having a lower tensile modulus than the layers or members sandwiching the resin layer. . The preferred tensile modulus of the material used as the resin layer (X ') having a valve is 1 MPa to 1 GPa, more preferably 10 to 500 MPa, and still more preferably 50 to 30 MPa.
0 MPa. If it is lower than this range, the strength and the repetition durability tend to be inferior, and if it is higher than this range, leakage tends to occur at the time of closing.
【0160】また、発明はダイヤフラム式のバルブ機構
を有するマイクロデバイスを提供する。ダイヤフラム式
バルブ機構の好ましい第1の例は、樹脂層(X’)が、一
方の側がダイヤフラムとなる樹脂層、他の側が欠損部を
有する他の部材と直接積層されており、樹脂層(X’)の
欠損部が積層されることで空洞となり、樹脂層(X’)の
裏面に積層された他の部材が、該空洞への流入口又は流
出口、またはその両者となる孔状の欠損部を有し、流入
口、流出口の少なくとも一方が、樹脂層(X’)を隔てて
ダイヤフラムの対向面に形成されていて、その周がダイ
ヤフラムに接しておらず、ダイヤフラムを変形させて、
該流入口、流出口の少なくとも一方の周に接することに
よって流路を閉鎖しうる構造を有するものである。The present invention also provides a micro device having a diaphragm type valve mechanism. A first preferred example of the diaphragm type valve mechanism is such that a resin layer (X ′) is directly laminated on one side with a resin layer serving as a diaphragm and on the other side with another member having a defective portion. ') Becomes a cavity by laminating the defective part, and another member laminated on the back surface of the resin layer (X') has a hole-shaped defect that serves as an inlet or an outlet to the cavity, or both. Having a portion, at least one of the inflow port and the outflow port is formed on the facing surface of the diaphragm across the resin layer (X '), the periphery of which is not in contact with the diaphragm, deforming the diaphragm,
It has a structure capable of closing the flow channel by contacting at least one of the inflow port and the outflow port.
【0161】他の部材の所定の位置に形成された孔状の
欠損部が、流入口又は流出口のいずれかである場合に
は、他方は、樹脂層(X’)に形成された線状の欠損部と
ダイヤフラムとなる樹脂層とで形成された毛細管状の流
路、あるいは、他の部材)に形成された溝状の欠損部と
樹脂層(X’)とで形成された毛細管状の流路などであり
得る。When the hole-shaped defective portion formed at a predetermined position of another member is either the inlet or the outlet, the other is formed by the linear member formed on the resin layer (X ′). The capillary channel formed by the defective portion and the resin layer serving as the diaphragm, or the capillary-shaped channel formed by the groove-shaped defective portion formed in the other member) and the resin layer (X ′) It may be a channel or the like.
【0162】このような構造のバルブとして、常時開の
ダイヤフラム式バルブを挙げることができる。ダイヤフ
ラムととなる樹脂層、樹脂層(X')及び他の部材が接着さ
れて積層された構造は、本発明の製造方法によって製造
することができる。As a valve having such a structure, a normally open diaphragm type valve can be mentioned. The structure in which the resin layer serving as the diaphragm, the resin layer (X ′), and other members are bonded and laminated can be manufactured by the manufacturing method of the present invention.
【0163】本発明は、また、{部材を貫通する欠損部
を有する部材、又は表面に凹状の欠損部を有する部材、
又は部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有す
る部材から選ばれる部材(J')}と、層の一部に欠損部を
有し、該欠損部の最小幅が1〜1000μmである、活
性エネルギー線硬化性樹脂層(X')の1つ以上の層と、欠
損部がなくダイヤフラムとなす部材(K'')とが積層さ
れ、部材(K'')が隣接して積層された他の部材と接触し
ているが接着していない部分を有し、該部分がダイヤフ
ラム部分である、部材(J')と樹脂層(X')中の少なくとも
2つ以上の欠損部が連結して空洞を形成している、積層
構造を有するマイクロデバイスを提供する。The present invention also relates to a member having a defective portion penetrating the member, a member having a concave defective portion on the surface,
Or a member (J ′)} selected from a member having a concave portion and a concave portion on the surface penetrating the member, and having a defective portion in a part of the layer, and the minimum width of the defective portion is 1 to 1000 μm. One or more layers of the active energy ray-curable resin layer (X ') and a member (K'') forming a diaphragm without a defect are laminated, and the member (K'') is laminated adjacently. Has a portion that is in contact with, but not adhered to, another member, and that portion is a diaphragm portion. At least two or more defective portions in the member (J ′) and the resin layer (X ′) Provided is a micro device having a laminated structure, which is connected to form a cavity.
【0164】即ち、部材(J')、1層以上の樹脂層(X')、
及び欠損部を有しない部材(K'')の積層体から成り、部
材(K'')が隣接して積層された他の部材と接触している
が接着していない部分を有し、該部分がダイヤフラム部
分である、マイクロデバイスを提供する。That is, the member (J ′), one or more resin layers (X ′),
And a laminated body of a member (K '') having no deficient portion, wherein the member (K '') has a portion which is in contact with, but not adhered to, another member laminated adjacently, A microdevice is provided wherein the portion is a diaphragm portion.
【0165】部材(J')と樹脂層(X')については、上述
の、部材(J')、樹脂層(X')と同様であり、部材(K')の代
わりに、ダイヤフラムとなる、欠損部を有しない部材
(K'')を用いること以外は、前記の部材(J')、樹脂層
(X')、部材(K')から成るマイクロデバイスと同様であ
る。The member (J ') and the resin layer (X') are the same as the member (J ') and the resin layer (X') described above. Instead of the member (K '), a diaphragm is used. , A member without a missing part
Except for using (K ''), the above-mentioned member (J '), resin layer
This is the same as the micro device composed of (X ′) and the member (K ′).
【0166】部材(K'')は、該部材に積層された他の部
材と接触しているが、接着していない部分を有し、該部
分がダイヤフラム部分となる。即ち、ダイヤフラムを変
形させると該非接着部分が空洞と成りうる。The member (K ″) has a portion that is in contact with, but not bonded to, another member laminated on the member, and that portion becomes a diaphragm portion. That is, when the diaphragm is deformed, the non-adhered portion may become a cavity.
【0167】本発明のダイヤフラム式バルブ機構の好ま
しい第2の例は、上記の構造を採っている上に、樹脂層
(X’)が、該空洞となりうる部部への流入口又は流出
口、またはその両者となる孔状の欠損部を有し、該流入
口又は流出口の少なくとも一方がダイヤフラムの対向面
に形成されていて、その周がダイヤフラムに接している
が接着しておらず、ダイヤフラムの変形により、流路が
開となることを特徴とするものである。A second preferred example of the diaphragm type valve mechanism of the present invention has the above structure and a resin layer.
(X ′) has an inflow port or an outflow port to the portion that can be the cavity, or a hole-shaped defective portion that becomes both, and at least one of the inflow port and the outflow port is formed on the facing surface of the diaphragm. The periphery is in contact with the diaphragm but is not adhered, and the flow path is opened by deformation of the diaphragm.
【0168】樹脂層(X’)の所定の位置に形成された穴
状の欠損部が、流入口又は流出口のいずれかである場合
には、他方は、樹脂層(X’)の線状の欠損部とダイヤフ
ラムでもって形成された流路の、該空洞となる部分への
接続口して形成できる。When the hole-shaped defective portion formed at a predetermined position of the resin layer (X ′) is either the inlet or the outlet, the other is a linear portion of the resin layer (X ′). Of the flow path formed by the deficient portion and the diaphragm, and a connection port to the hollow portion.
【0169】部材(J')には、流入口、又は、流出口、又
はその両者に接続された流路となる欠損部を形成でき
る。重罪(J')、樹脂層(X')及び部材(K'')が接着されて
積層された構造は、本発明の製造方法によって製造する
ことができる。このような構造のバルブとして、常時閉
のダイヤフラム式バルブやチェックバルブを挙げること
ができる。In the member (J '), a cut-off portion serving as a flow path connected to the inflow port, the outflow port, or both can be formed. The structure in which the felony (J ′), the resin layer (X ′) and the member (K ″) are bonded and laminated can be manufactured by the manufacturing method of the present invention. Examples of the valve having such a structure include a normally-closed diaphragm valve and a check valve.
【0170】上記第1の例、第2の例のいずれにおいて
も、ダイヤフラムの厚みは、好ましくは1〜500μ
m、更に好ましくは5〜200μmである。ダイヤフラ
ムの厚みは空洞部の寸法により最適値が異なり、空洞の
面積が小さいほど薄くすることが好ましい。しかしなが
ら、この範囲未満では製造が困難となり、この範囲を越
えると、マイクロでデバイスとしてのメリットが低下す
る。In each of the first and second examples, the thickness of the diaphragm is preferably 1 to 500 μm.
m, more preferably 5 to 200 μm. The optimum value of the thickness of the diaphragm varies depending on the size of the cavity, and it is preferable that the diaphragm be thinner as the area of the cavity is smaller. However, if it is less than this range, it becomes difficult to manufacture, and if it exceeds this range, the merit as a micro device decreases.
【0171】また、ダイヤフラムは、引張弾性率が好ま
しくは1〜700MPa、更に好ましくは10MPa〜
300MPaの範囲にある素材で形成されている。ダイ
ヤフラムの直径や素材の硬度にもよるが、これより小さ
いと、製造が困難となったり、開状態を維持することが
困難と成り、また、この範囲を超えると、開閉が困難と
なる。The diaphragm preferably has a tensile modulus of 1 to 700 MPa, more preferably 10 MPa to 10 MPa.
It is formed of a material in the range of 300 MPa. Although it depends on the diameter of the diaphragm and the hardness of the material, if it is smaller than this, it becomes difficult to manufacture or maintain an open state, and if it exceeds this range, opening and closing becomes difficult.
【0172】ダイヤフラムを構成する素材は、JIS
K−7127により測定された破断伸び率が、好ましく
は2%以上、更に好ましくは5%以上のものである。破
断伸びの上限は、自ずと限界はあろうが、高いことそれ
自身による不都合は無い為、上限を設けることは要せ
ず、例えば、400%でありうる。本発明においては、
JIS K−7127による引張試験で2〜5%という
低い破断伸び率を示す素材であっても、本発明の使用方
法においては破壊しにくく、上記試験による破断伸び率
以上の歪みを与えても破壊することなく使用可能であ
る。The material forming the diaphragm is JIS
The elongation at break measured by K-7127 is preferably 2% or more, more preferably 5% or more. The upper limit of the elongation at break may naturally be limited, but since it is high, there is no inconvenience due to itself, so it is not necessary to set an upper limit, and it may be, for example, 400%. In the present invention,
Even a material showing a low elongation at break of 2 to 5% in a tensile test according to JIS K-7127 is hardly broken in the method of use of the present invention, and breaks even when a strain higher than the elongation at break in the above test is given. It can be used without doing.
【0173】ダイヤフラムを変形させる方法は任意であ
り、例えばダイヤフラムの反対側に形成した空洞への、
流体の圧入や減圧などの圧力変化、機械的な圧迫又は吸
引などでありうる。The method of deforming the diaphragm is arbitrary, and for example, the method of deforming the diaphragm into a cavity formed on the opposite side of the diaphragm may be used.
The change may be pressure change such as press-in or depressurization of a fluid, mechanical compression or suction, or the like.
【0174】本発明は、複数の層、特に3層以上の層に
一部が流路として使用される空洞が形成された多層構造
のマイクロデバイスを提供することができる。また、微
細な弁や、薄く柔軟なダイヤフラムの形成や、これらの
目的位置への接着が容易であり、バルブ機構を有するマ
イクロデバイスを提供できる。更に、接着剤による流路
の閉塞が無く、各層の間や層と他の部材との間からの液
体の漏洩がないデバイスが得られる。更に、両親媒性の
重合性化合物を用いることにより、生体成分の吸着や損
失がなく再現性に優れるケミカルデバイスが得られる。
これらにより、複雑な工程の反応・分析が可能なマイク
ロデバイスを提供できる。The present invention can provide a micro device having a multilayer structure in which a cavity partly used as a flow path is formed in a plurality of layers, particularly three or more layers. Further, it is easy to form a fine valve, a thin and flexible diaphragm, and to adhere to these target positions, thereby providing a microdevice having a valve mechanism. Further, a device is obtained in which the flow path is not blocked by the adhesive and the liquid does not leak between the layers or between the layers and other members. Further, by using an amphiphilic polymerizable compound, a chemical device having excellent reproducibility without adsorption or loss of biological components can be obtained.
Thus, a micro device capable of performing a reaction and analysis of a complicated process can be provided.
【0175】[0175]
【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて、本発明を
更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例の範囲に
限定されるものではない。なお、以下の実施例におい
て、「部」及び「%」は、特に断りがない限り、各々
「重量部」及び「重量%」を表わす。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the scope of these Examples. In the following examples, “parts” and “%” represent “parts by weight” and “% by weight”, respectively, unless otherwise specified.
【0176】[活性エネルギー線照射]200Wメタルハ
ライドランプを光源とするウシオ電機株式会社製のマル
チライト200型露光装置用光源ユニットを用い、36
5nmにおける紫外線強度が100mW/cm2の紫外
線を、室温、窒素雰囲気中で照射した。[Activation Energy Beam Irradiation] Using a light source unit for a multi-light 200 type exposure apparatus manufactured by Ushio Inc. using a 200 W metal halide lamp as a light source, 36
Ultraviolet light having an intensity of 100 mW / cm 2 at 5 nm was irradiated at room temperature in a nitrogen atmosphere.
【0177】[組成物(x)の調製] 〔組成物(x-1)の調製〕活性エネルギー線重合性化合物
(a)として、平均分子量約2000の3官能ウレタンア
クリレートオリゴマー(大日本インキ化学工業株式会社
製の「ユニディックV−4263」)30部、1,6−
ヘキサンジオールジアクリレート(日本化薬株式会社製
の「カヤラッドHDDA」)45部、[Preparation of composition (x)] [Preparation of composition (x-1)] Active energy ray-polymerizable compound
As (a), 30 parts of a trifunctional urethane acrylate oligomer having an average molecular weight of about 2000 (“Unidick V-4263” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), 1,6-
45 parts of hexanediol diacrylate (“Kayarad HDDA” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.),
【0178】両親媒性化合物(b)として、ノニルフェ
ノキシポリエチレングリコール(n=17)アクリレー
ト(第一工業製薬株式会社製の「N−177E」)25
部、光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン(チバガイギー社製の「イルガキュアー
184」)5部、及び重合遅延剤として2,4−ジフェ
ニル−4−メチル−1−ペンテン(関東化学株式会社
製)0.1部を混合して、活性エネルギー線硬化性組成
物(x-1)を調製した。なお、活性エネルギー線硬化性組
成物(x-1)の紫外線硬化物は、引張弾性率が560MP
a、水との接触角が12度であった。As the amphiphilic compound (b), nonylphenoxypolyethylene glycol (n = 17) acrylate (“N-177E” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 25
Part, 1 part of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone ("Irgacure 184" manufactured by Ciba Geigy) as a photopolymerization initiator, and 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (Kanto Chemical Co., Ltd.) as a polymerization retarder (1) was mixed to prepare an active energy ray-curable composition (x-1). The ultraviolet-cured product of the active energy ray-curable composition (x-1) has a tensile modulus of 560 MPa.
a, The contact angle with water was 12 degrees.
【0179】〔組成物(x-1')の調製〕光重合開始剤の量
が2部であること、及び重合遅延剤を含有しないこと以
外は組成物(x-1)と同様の組成の組成物(x-1')を調製し
た。なお、活性エネルギー線硬化性組成物(x-1')の紫外
線硬化物は、引張弾性率が580MPa、水との接触角
が12度であった。[Preparation of composition (x-1 ')] The composition was the same as that of composition (x-1) except that the amount of the photopolymerization initiator was 2 parts and that no polymerization retarder was contained. Composition (x-1 ′) was prepared. The ultraviolet-cured product of the active energy ray-curable composition (x-1 ′) had a tensile modulus of 580 MPa and a contact angle with water of 12 degrees.
【0180】〔組成物(x-2)の調製〕活性エネルギー線
硬化性化合物(a)として、ポリテトラメチレングリコー
ル(平均分子量250)マレイミドカプリエート(特開
平11−124403号公報の合成例13に記載の方法
によって合成した)75部、両親媒性化合物(b)とし
て、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(n=1
7)アクリレート(第一工業製薬株式会社製の「N−1
77E」)25部、重合遅延剤として2,4−ジフェニ
ル−4−メチル−1−ペンテン(関東化学株式会社製)
0.01部を混合して、活性エネルギー線硬化性組成物
(x-2)を調製した。なお、活性エネルギー線硬化性組成
物(x-2)の紫外線硬化物は、引張弾性率が610MP
a、水との接触角が19度であった。[Preparation of Composition (x-2)] As an active energy ray-curable compound (a), polytetramethylene glycol (average molecular weight: 250) maleimide capriate (see Synthesis Example 13 of JP-A-11-124403) 75 parts of nonylphenoxy polyethylene glycol (n = 1) were synthesized as the amphiphilic compound (b).
7) Acrylate (“N-1 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
77E ") 25 parts, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a polymerization retarder
Active energy ray-curable composition by mixing 0.01 part
(x-2) was prepared. The ultraviolet-cured product of the active energy ray-curable composition (x-2) has a tensile modulus of 610 MPa.
a, The contact angle with water was 19 degrees.
【0181】〔組成物(x-2')の調製〕重合遅延剤を含有
しないこと以外は組成物(x-2)と同様の組成の組成物(x-
2')を調製した。なお、活性エネルギー線硬化性組成物
(x-2')の紫外線硬化物は、引張弾性率が630MPa、
水との接触角が19度であった。[Preparation of composition (x-2 ')] A composition (x-') having the same composition as the composition (x-2) except that it did not contain a polymerization retarder.
2 ′) was prepared. The active energy ray-curable composition
(x-2 ') UV cured product has a tensile modulus of 630 MPa,
The contact angle with water was 19 degrees.
【0182】〔組成物(x-3)の調製〕活性エネルギー線
重合性化合物(a)として、平均分子量約2000の3官
能ウレタンアクリレートオリゴマー(大日本インキ化学
工業株式会社製の「ユニディックV−4263」)30
部、ω−テトラデカンジオールジアクリレートとω−ペ
ンタデカンジオールジアクリレートを主成分とするアル
キルジアクリレート(ソマール株式会社製の「サートマ
ーC2000」)45部、[Preparation of Composition (x-3)] As an active energy ray polymerizable compound (a), a trifunctional urethane acrylate oligomer having an average molecular weight of about 2000 (“Unidick V- 4263 ") 30
Parts, 45 parts of an alkyl diacrylate (“Sartomer C2000” manufactured by Somar Corporation) containing ω-tetradecanediol diacrylate and ω-pentadecanediol diacrylate as main components,
【0183】及びノニルフェノキシポリエチレングリコ
ール(n=17)アクリレート(第一工業製薬株式会社
製の「N−177E」)25部、光重合開始剤として1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイ
ギー社製の「イルガキュアー184」)5部、及び重合
遅延剤として2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペ
ンテン(関東化学株式会社製)0.1部を混合して、活
性エネルギー線硬化性組成物(x-3)を調製した。なお、
活性エネルギー線硬化性組成物(x-3)の紫外線硬化物
は、引張弾性率が160MPa、水との接触角が14度
であった。And 25 parts of nonylphenoxypolyethylene glycol (n = 17) acrylate (“N-177E” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), 1 as a photopolymerization initiator
5 parts of hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy) and 0.1 part of 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a polymerization retarder were mixed. Thus, an active energy ray-curable composition (x-3) was prepared. In addition,
The ultraviolet cured product of the active energy ray-curable composition (x-3) had a tensile modulus of 160 MPa and a contact angle with water of 14 degrees.
【0184】[実施例1]本実施例では、組成物(x)に
アクリル系樹脂を使用した本発明のマイクロデバイス
を、塗工支持体の剥離により除去する製法で製造する方
法について述べる。[Example 1] In this example, a method for producing a microdevice of the present invention using an acrylic resin for the composition (x) by a method of removing by peeling off a coated support will be described.
【0185】〔工程(i)〕塗工支持体(1)として、片
面がコロナ放電処理された厚さ30μmの2軸延伸ポリ
プロピレンフィルム(二村化学株式会社製、OPPフィ
ルム)を5cm×5cmに切断して使用し、このコロナ
処理面側に、127μmのバーコーターを用いて組成物
(x-1)を塗工し、塗膜(2)を形成した。[Step (i)] As a coating support (1), a 30 μm thick biaxially oriented polypropylene film (OPP film, manufactured by Nimura Chemical Co., Ltd.) having a corona discharge treatment on one side was cut into 5 cm × 5 cm. On the corona-treated side using a 127 μm bar coater
(x-1) was applied to form a coating film (2).
【0186】〔工程(ii)〕次いで、窒素雰囲気中で、非
露光部幅100μm、非露光部長30mmのフォトマス
クを通して、図1に示した非露光部(3)以外の部分に
紫外線を1秒間照射する露光を行って半硬化させた。[Step (ii)] Next, in a nitrogen atmosphere, ultraviolet light was applied to portions other than the non-exposed portion (3) shown in FIG. 1 for 1 second through a photomask having a non-exposed portion width of 100 μm and a non-exposed portion length of 30 mm. Exposure to irradiation was performed and semi-cured.
【0187】〔工程(iii)〕半硬化塗膜に水道蛇口から
出た流水に当てて、非露光部(3)の未硬化の組成物(x
-1)を洗浄除去することにより、塗工支持体(1)の上
に、欠損部(3)を有する半硬化塗膜(2)を形成し
た。[Step (iii)] The semi-cured coating film is exposed to running water from a tap to expose the uncured composition (x
By removing the -1) by washing, a semi-cured coating film (2) having a defective portion (3) was formed on the coating support (1).
【0188】〔部材(J-1)の作製〕塗工支持体(1)の
代わりにポリスチレン(大日本インキ化学工業株式会社
製の「ディックスチレンxC−520」)からなる5c
m×5cm×厚さ3mmの板状の基材(4)を使用した
こと、組成物(x-1)の代わりに、組成物(x-1')を使用し
たこと、及び、露光に当たりフォトマスクを使用しなか
ったこと以外は、上記の半硬化塗膜(2)の作製と同様
にして、基材(4)の表面に組成物(x-1')の半硬化塗膜
(5)が形成された部材(J-1)を作製した。[Preparation of member (J-1)] 5c made of polystyrene ("Dick Styrene x C-520" manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) instead of coating support (1)
The use of a plate-shaped substrate (4) having a size of mx 5 cm x a thickness of 3 mm, the use of the composition (x-1 ') instead of the composition (x-1), and the photo exposure Except that no mask was used, a semi-cured coating film (5) of the composition (x-1 ′) was formed on the surface of the substrate (4) in the same manner as in the preparation of the semi-cured coating film (2) described above. A member (J-1) on which was formed was produced.
【0189】〔工程(iv)〕部材(J-1)の半硬化塗膜
(5)形成面に、塗工支持体(1)上に形成された半硬
化塗膜(2)を密着させて積層し、半硬化状態の樹脂層
(X-1)前駆体(2’)とした。[Step (iv)] The semi-cured coating film (2) formed on the coating support (1) is brought into close contact with the surface of the member (J-1) on which the semi-cured coating film (5) is formed. Laminated, semi-cured resin layer
(X-1) Precursor (2 ′).
【0190】〔工程(vi)〕その積層体に、露光に用いた
と同じ紫外線をフォトマスク無しで5秒間照射して、樹
脂層(X-1)前駆体(2’)をさらに硬化させて樹脂層(X-
1)(2’)とすると同時に、部材(J-1)の樹脂層(5)
と接着した。[Step (vi)] The laminated body was irradiated with the same ultraviolet ray used for exposure for 5 seconds without a photomask, to further cure the resin layer (X-1) precursor (2 ′). Layer (X-
1) At the same time as (2 '), resin layer (5) of member (J-1)
And glued.
【0191】〔工程(v)〕次いで、この4層積層物から
塗工支持体(1)を剥離し、部材(J-1)の樹脂層(5)
の上に樹脂層(X-1)(2’)、即ち、欠損部(3)を有
する、組成物(x-1)の硬化物の層が接着されたマイクロ
デバイス(D-1)を作製した。[Step (v)] Next, the coating support (1) was peeled off from the four-layer laminate, and the resin layer (5) of the member (J-1) was removed.
To form a microdevice (D-1) having a resin layer (X-1) (2 '), that is, a layer of a cured product of the composition (x-1), having a defect (3) thereon did.
【0192】〔部材(K-1)の接着〕ポリスチレン(大日
本インキ化学工業株式会社製の「ディックスチレンXC
−520」)からなる5cm×5cm×厚さ3mmの板
を部材(K-1)(6)として基材の代わりに使用したこと
以外は部材(J-1)と同様にして、部材(K-1)(6)上に接
着用樹脂層として組成物(x-1')の半硬化塗膜(7)を形
成し、これを樹脂層(X-1)(2’)の表面に密着させ
た。[Adhesion of member (K-1)] Polystyrene (Dick Styrene XC manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
-520 ") in the same manner as the member (J-1) except that a plate having a size of 5 cm x 5 cm x 3 mm thick was used instead of the substrate as the member (K-1) (6). -1) Form a semi-cured coating film (7) of the composition (x-1 ') as an adhesive resin layer on (6), and adhere it to the surface of the resin layer (X-1) (2'). I let it.
【0193】〔工程(vi)〕その状態で露光に用いたと同
じ紫外線をフォトマスク無しで30秒間照射して、半硬
化塗膜(7)を硬化した樹脂層(7)と成すと同時に、
部材(K-1)(6)及び樹脂層(7)を樹脂層(X-1)(2)
表面に接着し、樹脂層(X-1)(2)の欠損部(3)を空
洞(3’)と成すと共に、全ての活性エネルギー線硬化
性組成物(x)を十分に硬化させた。[Step (vi)] In this state, the same ultraviolet ray as used for the exposure was irradiated for 30 seconds without a photomask to form the semi-cured coating film (7) into the cured resin layer (7).
The member (K-1) (6) and the resin layer (7) are converted into a resin layer (X-1) (2)
The resin layer (X-1) was adhered to the surface to form a void (3 ′) in the defective portion (3) of the resin layer (X-1) (2), and all the active energy ray-curable compositions (x) were sufficiently cured.
【0194】〔その他の構造の形成〕その後、毛細管状
の空洞(3′)の両端部において、部材(K-1)(6)及
び接着樹脂層(7)に、ドリルにて直径1.6mmの孔
を穿ち、直径1.6mmのステンレスパイプをエポキシ
樹脂にて接着して流入口(8)及び流出口(9)を形成
することにより、図2及び図3に示したような、内部に
毛細管状の空洞(3′)を有するマイクロデバイス(D-
1)を作製した。[Formation of Other Structure] Thereafter, at both ends of the capillary cavity (3 '), the member (K-1) (6) and the adhesive resin layer (7) were drilled to a diameter of 1.6 mm. And a stainless steel pipe having a diameter of 1.6 mm is bonded with an epoxy resin to form an inflow port (8) and an outflow port (9). Microdevices with capillary cavities (3 ') (D-
1) was prepared.
【0195】〔漏洩試験〕マイクロデバイス(D-1)の流
入口(8)から水を注入し、流出口(9)を閉じて、空
洞内に0.1MPaの圧力を掛けた状態で1時間放置し
たが、水の漏洩は認められなかった。[Leak Test] Water was injected from the inlet (8) of the microdevice (D-1), the outlet (9) was closed, and a pressure of 0.1 MPa was applied to the cavity for one hour. Upon leaving, no water leakage was observed.
【0196】〔空洞部の観察〕マイクロデバイス(D-1)
を切断し、走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したと
ころ、毛細管状の空洞(3′)の断面は矩形であり、幅
95μm、高さ60μmであった。[Observation of Cavity] Micro Device (D-1)
Was cut and observed with a scanning electron microscope (SEM). As a result, the cross section of the capillary cavity (3 ′) was rectangular, having a width of 95 μm and a height of 60 μm.
【0197】[実施例2]本実施例では、表面に凹状の
欠損部を有する部材(J)を使用した本発明の製造方法に
ついて述べる。[Embodiment 2] In this embodiment, a manufacturing method of the present invention using a member (J) having a concave defect on the surface will be described.
【0198】〔部材(J)の作製〕5cm×5cm×厚さ
3mmのポリスチレン(大日本インキ化学工業株式会社
製の「ディックスチレンxC−520」)製の板とシリ
コンウェハー製の鋳型をガラス板に挟み、バネ式のクラ
ンプで止めて120℃の熱風炉中で約2時間加熱し、室
温で冷却後、剥離することにより、溝の寸法が幅50μ
m、深さ25μmであること以外は実施例1と同様の形
状と長さの溝状の凹部をポリスチレン板の表面に形成
し、部材(J-2)とした。[Preparation of member (J)] A plate made of polystyrene ("Dick Styrene x C-520" manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and a mold made of silicon wafer having a size of 5 cm × 5 cm × thickness were 3 mm And heated in a hot air oven at 120 ° C. for about 2 hours, cooled at room temperature, and peeled off to obtain a groove with a width of 50 μm.
A member (J-2) was formed by forming a groove-shaped concave portion having the same shape and length as in Example 1 on the surface of the polystyrene plate except that the m and the depth were 25 μm.
【0199】〔半硬化塗膜の形成〕露光のパターンが、
部材(J-2)に形成された溝の両端部に相当する位置にそ
れぞれ直径300μmの孔が形成される形状であること
以外は、実施例1と同様にして、塗工支持体の上に、2
つの穴状の欠損部を有する半硬化塗膜を形成した〔工程
(i)、(ii)、(iii)〕。[Formation of semi-cured coating film]
On the coated support, in the same manner as in Example 1, except that holes each having a diameter of 300 μm are formed at positions corresponding to both ends of the groove formed in the member (J-2). , 2
A semi-cured coating film having two hole-shaped defects was formed [Process
(i), (ii), (iii)].
【0200】〔樹脂層(X-2)の作製〕部材(J'-2)の溝形
成面に、相互の位置を合わせて、塗工支持体上に形成さ
れた半硬化塗膜密着させ〔工程(iv)〕、その状態で、露
光に用いたと同じ紫外線をフォトマスク無しで30秒間
照射して、半硬化塗膜を硬化させて樹脂層(X-2)とした
〔工程(vi)〕。 次いで、この3層積層物から塗工支持
体を剥離し〔工程(v)〕、部材(J-2)表面に樹脂層(X-
2)、即ち、流入口及び流出口となる欠損部を有する、組
成物(x-1)の硬化物の層が接着された、図2及び図3の
空洞と同様の形状の空洞を有するマイクロデバイス(D-
2)を作製した。[Preparation of Resin Layer (X-2)] The semi-cured coating film formed on the coating support was brought into close contact with the groove forming surface of the member (J'-2) by aligning each other with each other. Step (iv)], in that state, the same ultraviolet light used for exposure is irradiated for 30 seconds without a photomask, and the semi-cured coating film is cured to form a resin layer (X-2) [Step (vi)]. . Next, the coating support was peeled off from the three-layer laminate [Step (v)], and a resin layer (X-
2) That is, a micro-cavity having a cavity having the same shape as the cavity in FIGS. 2 and 3 to which a layer of a cured product of the composition (x-1) having a defect portion serving as an inlet and an outlet is bonded. Device (D-
2) was prepared.
【0201】[実施例3]本実施例では、組成物(x)に
マレイミド樹脂を使用した本発明のマイクロデバイス
を、塗工支持体の剥離により除去する製法で製造する方
法について述べる。組成物(x)として組成物(x-1)の代わ
りに組成物(x-2)を用いたこと、組成物(x-1')の代わり
に組成物(x-2')を用いたこと、及び露光時間が2秒であ
ること以外は実施例1と同様にして、実施例1と同様の
構造のマイクロデバイス(D-3)を作製した。[Example 3] In this example, a method for producing a microdevice of the present invention using a maleimide resin for the composition (x) by a method of removing by removing a coated support will be described. The composition (x-2) was used instead of the composition (x-1) as the composition (x), and the composition (x-2 ') was used instead of the composition (x-1') A microdevice (D-3) having the same structure as in Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the exposure time was 2 seconds.
【0202】[実施例4]本実施例では、樹脂層(X')が
3相積層され、内部に立体交差する流路を有するマイク
ロデバイス及びその製法について述べる。[Embodiment 4] In this embodiment, a microdevice in which a resin layer (X ') is laminated in three phases and which has a three-dimensionally intersecting flow path therein and a method of manufacturing the same will be described.
【0203】〔部材(J-4-1)の形成〕実施例1と全く同
様にして、基材(35)の表面に、欠損部のない組成物
(x-1')半硬化樹脂層(36)が形成された部材(J-4-1)
を作製した。[Formation of Member (J-4-1)] A composition having no defect on the surface of the base material (35) in the same manner as in Example 1.
(x-1 ') Member on which semi-cured resin layer (36) is formed (J-4-1)
Was prepared.
【0204】〔樹脂層(X'-4-1)の形成〕非露光部が、図
4に示されたように、幅100μm、長さ30mmの非
露光部(33)と、幅100μm、長さ14mmの2本
の直線が2mmの間をあけて、非露光部(33)に直角
な方向に直線状に配列された非露光部(34)であるこ
とこと以外は実施例1と同様にして、塗工支持体(3
1)の上に、塗膜の欠損部(33)、(34)を有する
半硬化塗膜(32)を形成し、部材(J-4-1)(35)の
表面に積層し、10秒間紫外線照射して、欠損部(3
3′)、(34′)を有する樹脂層(X'-4-1)(32’)
を形成し、これを部材(J'-4-2)とした。[Formation of Resin Layer (X'-4-1)] As shown in FIG. 4, a non-exposed part (33) having a width of 100 μm and a length of 30 mm and a non-exposed part (33) having a width of 100 μm and a length of Same as Example 1 except that two straight lines each having a length of 14 mm are separated from each other by 2 mm and are non-exposed portions (34) linearly arranged in a direction perpendicular to the non-exposed portions (33). And the coating support (3
1) A semi-cured coating film (32) having defective portions (33) and (34) of the coating film is formed thereon, and is laminated on the surface of the member (J-4-1) (35), and is formed for 10 seconds. Irradiation with ultraviolet light, the defect (3
3 ′), resin layer having (34 ′) (X′-4-1) (32 ′)
Was formed as a member (J'-4-2).
【0205】〔樹脂層(X'-4-2)の形成〕部材(J-4-1)の
代わり部材(J'-4-2)を使用したこと、及び、非露光部
(38)が、図8に示された層間連絡路として機能する
欠損部(38′)となる直径300μm、間隔2mmの
2つの円形部分であること以外は樹脂層(X'-4-1)の形成
と同様にして、塗膜の欠損部(38)を有する半硬化塗
膜(37)を樹脂層(X'-4-1)の上に転写し、欠損部(3
8′)を有する樹脂層(X'-4-2)(37’)を形成し、部
材(J'-4-3)とした。[Formation of Resin Layer (X'-4-2)] The member (J'-4-2) was used instead of the member (J-4-1), and the non-exposed portion (38) was 8 is the same as the formation of the resin layer (X'-4-1) except that it is a two-circle portion having a diameter of 300 μm and a gap of 2 mm serving as a defective portion (38 ') functioning as an interlayer communication path shown in FIG. Then, the semi-cured coating film (37) having the defective portion (38) of the coating film was transferred onto the resin layer (X'-4-1), and the defective portion (3
A resin layer (X′-4-2) (37 ′) having 8 ′) was formed to obtain a member (J′-4-3).
【0206】〔樹脂層(X'-4-3)の形成〕部材(J-4-1)の
代わりに部材(J'-4-3)を使用したこと、非露光部(4
0)の形状が、図8における2つの欠損部(34′)を
層間連絡路(38′)を経て連絡する欠損部(40′)
となる、幅100μm、長さ2mmの線状であること以
外は樹脂層(X'-4-1)の形成と同様にして、塗膜の欠損部
(40)を有する半硬化塗膜(39)を樹脂層(X'-4-2)
の上に転写し、欠損部(40′)を有する樹脂層(X'-4-
3)を形成した。[Formation of Resin Layer (X'-4-3)] The member (J'-4-3) was used instead of the member (J-4-1).
The shape (0) connects the two defective portions (34 ') in FIG. 8 via the interlayer communication path (38').
In the same manner as the formation of the resin layer (X′-4-1) except that it is a linear shape having a width of 100 μm and a length of 2 mm, a semi-cured coating film (39) having a defective portion (40) of the coating film is obtained. ) For the resin layer (X'-4-2)
Resin layer (X′-4-
3) was formed.
【0207】〔部材(K-4)の接着〕樹脂層(X-1)の代わり
に樹脂層(X'-4-3)に接着したこと以外は、実施例1にお
ける部材(K-1)と同様の部材(K-4)(41)を実施例1と
同様にして、接着用の樹脂層(42)によって接着し
た。[Adhesion of member (K-4)] The member (K-1) of Example 1 was used, except that it was adhered to the resin layer (X'-4-3) instead of the resin layer (X-1). The same members (K-4) and (41) as in Example 1 were adhered by an adhesive resin layer (42) in the same manner as in Example 1.
【0208】〔流入出部の形成〕樹脂層(X'-4-1)の欠損
部(33′)の両端部において、基材(35)及び樹脂
層(36)にドリルにて直径1.6mmの孔を穿ち、直
径1.6mmのステンレスパイプを接着して、樹脂層
(X'-4-1)の欠損部(33′)に連絡する流入部(43)
及び流出部(44)を形成した。また、樹脂層(X'-4-1)
の欠損部(34′)の両端部において、基材(35)及
び樹脂層(36)に、ドリルにて直径1.6mmの孔を
穿ち、直径1.6mmのステンレスパイプを接着して、
樹脂層(X'-4-1)の欠損部(34′)に連絡する流入部
(45)及び流出部(46)を形成して、マイクロデバ
イス(D-4)を作製した。[Formation of Inflow / Outflow Portion] At both ends of the defective portion (33 ') of the resin layer (X'-4-1), the base material (35) and the resin layer (36) were drilled with a diameter of 1. Drill a 6mm hole and attach a 1.6mm diameter stainless steel pipe to the resin layer.
Inflow part (43) communicating with the defect part (33 ') of (X'-4-1)
And an outflow portion (44). In addition, resin layer (X'-4-1)
At both ends of the defective portion (34 '), a hole having a diameter of 1.6 mm was drilled in the base material (35) and the resin layer (36), and a stainless steel pipe having a diameter of 1.6 mm was bonded.
The inflow portion (45) and the outflow portion (46) communicating with the deficient portion (34 ') of the resin layer (X'-4-1) were formed to produce a micro device (D-4).
【0209】〔通水試験〕流入部(45)から導入した
染料着色水は、欠損部(34′)、(38′)、(4
0′)、(38′)、及び(34′)を経て液体流出部
(46)から流出し、これとは別に流入部(43)から
導入した蒸留水は、欠損部(33′)を通って、染料着
色水と混じることなく流出部(44)から流出した。即
ち、独立した2本の流路が立体交差していることが確認
された。[Water flow test] The dye-colored water introduced from the inflow section (45) was found to be defective (34 '), (38'), (4
0 '), (38'), and (34 '), the distilled water flowing out of the liquid outlet (46) and separately introduced from the inlet (43) passes through the defective portion (33'). Then, it flowed out of the outlet (44) without being mixed with the dye-colored water. That is, it was confirmed that two independent flow paths crossed three-dimensionally.
【0210】[実施例5]本実施例では、ダイヤフラム
式バルブ機能を有するマイクロデバイスの製法について
述べる。[Embodiment 5] In this embodiment, a method for manufacturing a micro device having a diaphragm valve function will be described.
【0211】〔部材(J-5-1)の形成〕実施例1で作製し
た部材(J-1)と全く同様にして、ポリスチレン製の基材
(54)上に欠損部を有しない樹脂層(55)が形成さ
れた部材(J-5-1)を作製した。[Formation of Member (J-5-1)] A resin layer having no defect on a polystyrene base material (54) in exactly the same manner as the member (J-1) prepared in Example 1. A member (J-5-1) on which (55) was formed was produced.
【0212】〔樹脂層(X-5-1)の形成〕非露光部の幅が
異なること以外は実施例1における樹脂層(X-1)の形成
と同様にして、部材(J-5-1)の表面に、欠損部(5
3’)の幅が約200μmである樹脂層(X-5-1)(5
2)を形成し、部材(J-5-2)とした。[Formation of Resin Layer (X-5-1)] A member (J-5-) was formed in the same manner as the formation of the resin layer (X-1) in Example 1 except that the width of the non-exposed portion was different. On the surface of 1), the missing part (5
3 ′) having a width of about 200 μm (X-5-1) (5
2) was formed to obtain a member (J-5-2).
【0213】〔中間層の形成〕部材(J-1)の代わりに部
材(J-5-2)を使用したこと、組成物(x-1)の代わりに組成
物(x-3)を使用したこと、及び露光がフォトマスクを使
用しない全面照射であること、以外は実施例1における
樹脂層(X-1)の形成と同様にして、欠損部を有しない中
間層(56)を樹脂層(X-5-1)の上に形成した。[Formation of Intermediate Layer] The member (J-5-2) was used instead of the member (J-1), and the composition (x-3) was used instead of the composition (x-1). In the same manner as in the formation of the resin layer (X-1) in Example 1 except that the irradiation was performed on the entire surface without using a photomask, Formed on (X-5-1).
【0214】〔樹脂層(X-5-2)の形成〕部材(J-1)の代わ
り部材(J-5-3)を使用したこと、非露光部の形状が、図
9に示された欠損部(58’)を形成するような、中心
部に直径1mmの円形部分と、これに接続された長さ1
5mm、幅200μmの直線状部分から成るパターンで
あること、以外は実施例1における樹脂層(X-1)の形成
と同様にして、中間層(56)の上に樹脂層(X-5-2)
(57)を形成し、部材(J-5-4)とした。[Formation of Resin Layer (X-5-2)] FIG. 9 shows that the member (J-5-3) was used instead of the member (J-1), and the shape of the non-exposed portion was shown in FIG. A circular portion having a diameter of 1 mm at the center and a length 1 connected to the circular portion forming a defect (58 ').
A resin layer (X-5-) was formed on the intermediate layer (56) in the same manner as in the formation of the resin layer (X-1) in Example 1 except that the pattern was a linear portion having a width of 5 mm and a width of 200 μm. 2)
(57) was formed to obtain a member (J-5-4).
【0215】〔部材(K-5)の接着〕樹脂層(X-1)の代わり
に樹脂層(X-5-2)に接着したこと以外は、実施例1にお
ける部材(K-1)の接着と同様にして、部材(K-1)と同じ部
材(K-5)(59)を接着用樹脂層(60)を介して部材
(J-5-4)に接着した。[Adhesion of member (K-5)] Except for bonding to the resin layer (X-5-2) instead of the resin layer (X-1), the member (K-1) in Example 1 was adhered. In the same manner as the bonding, the same member (K-5) (59) as the member (K-1) is bonded via the bonding resin layer (60).
(J-5-4).
【0216】〔流入出口の形成〕樹脂層(X-5-1)の欠損
部(53’)の両端部において、部材(J-5-1)に、ドリ
ルにて直径5.1mmの孔を穿ち、外径5mmの塩化ビ
ニル管をエポキシ系接着剤にて接着して、樹脂層(X-5-
1)の欠損部(53’)に連絡する液体流入部(61)及
び液体流出部(62)を形成した。[Formation of Inflow / Outlet] At both ends of the defective portion (53 ') of the resin layer (X-5-1), holes of 5.1 mm in diameter were drilled in the member (J-5-1). Pierce and adhere a 5mm outer diameter vinyl chloride tube with an epoxy adhesive to form a resin layer (X-5-
A liquid inflow portion (61) and a liquid outflow portion (62) connected to the defective portion (53 ') of 1) were formed.
【0217】また、樹脂層(X-5-2)(57)の欠損部
(58’)の外側端部において、部材(K-5)の基材(5
9)及び樹脂層(60)に、ドリルにて直径1.6mm
の孔を穿ち、外径1.6mmのステンレス管をエポキシ
系接着剤にて接着して、樹脂層(X-5-2)(57)の欠損
部(58’)に連絡する気体導入部(63)を形成し
て、マイクロデバイス(D-5)を作製した。作製されたマ
イクロデバイスの平面図の模式図を図9に、図9中のA
部における断面図を図10に示す。At the outer end of the defective portion (58 ′) of the resin layer (X-5-2) (57), the base material (5
9) and 1.6 mm in diameter by drilling on the resin layer (60)
And a stainless steel tube having an outer diameter of 1.6 mm is bonded with an epoxy-based adhesive, and a gas introduction portion (58 ′) communicating with the defective portion (58 ′) of the resin layer (X-5-2) (57) is formed. 63) to form a microdevice (D-5). FIG. 9 is a schematic view of a plan view of the manufactured microdevice, and FIG.
FIG. 10 is a cross-sectional view of the portion.
【0218】〔流量調節試験〕液体流入部(61)から
圧力約10kPaで水を導入し、大気に解放した液体流
出部(62)から流出させた状態で、気体導入部(6
3)から0.5MPaの圧力の窒素を導入したところ、
水の流量は殆どゼロになった。また、窒素圧を変化させ
ることによって水の流量を調節することができた。即
ち、開閉バルブ及び流量調節バルブとして作動すること
を確認した。[Flow control test] Water was introduced from the liquid inflow section (61) at a pressure of about 10 kPa, and was discharged from the liquid outflow section (62) released to the atmosphere.
When nitrogen at a pressure of 0.5 MPa was introduced from 3),
The water flow was almost zero. Further, the flow rate of water could be adjusted by changing the nitrogen pressure. That is, it was confirmed that the valve operated as an opening / closing valve and a flow control valve.
【0219】[実施例6]本実施例では、樹脂層(X')が
それぞれ表面に溝を有する部材(J')及び部材(K')に挟持
された形状の本発明のマイクロデバイスを、塗工支持体
の除去が溶解による除去である本発明の製造方法によっ
て製造する方法について述べる、[Embodiment 6] In this embodiment, the micro device of the present invention in which the resin layer (X ') is sandwiched between the member (J') and the member (K ') each having a groove on the surface, The method for producing by the production method of the present invention in which the removal of the coated support is removal by dissolution is described.
【0220】〔塗工支持体の作製〕片面がコロナ放電処
理された厚さ30μmの2軸延伸ポリプロピレンフィル
ム(二村化学株式会社製、OPPフィルム)のコロナ処
理面側に、ポリビニルアルコール(和光純薬部式会社
製、重合度2000)の20%水溶液を塗布し、40℃
の温風乾燥及び40℃の真空乾燥を行った後、OPPフ
ィルムから剥離して、ポリビニルアルコールフィルムを
形成し、これを塗工支持体とした。[Preparation of Coated Support] Polyvinyl alcohol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was placed on the corona-treated side of a 30 μm-thick biaxially stretched polypropylene film (OPP film, manufactured by Nimura Chemical Co., Ltd.) having one surface subjected to corona discharge treatment. Apply a 20% aqueous solution (made by Kobekisha Co., Ltd., polymerization degree 2000),
After performing hot air drying and vacuum drying at 40 ° C., the film was peeled from the OPP film to form a polyvinyl alcohol film, which was used as a coating support.
【0221】〔部材(J'-6)の作製〕実施例2と同様の溶
融レプリカ法で、実施例1におけるポリスチレン板
(4)、欠損部のない樹脂層(5)、及び、図4に示さ
れた3本の直線状の欠損部を有する樹脂層(X-1)が積層
された形状と同様の形状である、凹部を有する部材を作
製し、部材(J'-6)を作製した。[Preparation of Member (J'-6)] The polystyrene plate (4) in Example 1, the resin layer (5) having no defect, and FIG. A member having a concave portion having a shape similar to the shape in which the resin layer (X-1) having the three linear defects shown was laminated was prepared, and a member (J'-6) was prepared. .
【0222】〔樹脂層(X')前駆体の作製〕塗工支持体が
ポリビニルアルコールフィルムであること、及び、欠損
部とする形状が、図5に示された2つの孔状の欠損部
(38)と同形状であること、以外は実施例2の工程
(i)、(ii)及び(iii)と同様にして半硬化塗膜を形成し
た。[Preparation of Resin Layer (X ') Precursor] The coating support is a polyvinyl alcohol film, and the shape of the defect portion is the two hole-like defect portions shown in FIG. 38) The process of Example 2 except that the shape is the same as
A semi-cured coating film was formed in the same manner as in (i), (ii) and (iii).
【0223】塗工支持体上に作製された半硬化塗膜を部
材(J'-6)に積層した後、40℃の流水で洗浄して塗工支
持体を溶解除去し、部材(J'-6)に積層された半硬化状態
の樹脂層(X'-6)前駆体を形成した(工程(iv)、(v))。After laminating the semi-cured coating film produced on the coated support on the member (J'-6), the coated support was dissolved and removed by washing with running water at 40 ° C. The precursor of the resin layer (X′-6) in the semi-cured state laminated on -6) was formed (steps (iv) and (v)).
【0224】〔部材(K')の作製〕表面の凹状の欠損部の
形状が、図6に示された欠損部と同じ形状であること以
外は、部材(J'-6)と同様にして部材(K'-6)を作製した。[Preparation of member (K ')] Except that the shape of the concave portion on the surface is the same as that of the defective portion shown in FIG. A member (K'-6) was produced.
【0225】〔部材(K')の積層と接着〕樹脂層(X'-6)前
駆体の上に、部材(K'-6)を積層し、紫外線を40秒間照
射して(工程(vi))、樹脂層(X'-6)前駆体を硬化せせると
同時に、部材(J'-6)及び部材(K'-6)を樹脂層(X'-6)に接
着した。[Lamination and Adhesion of Member (K ')] The member (K'-6) is laminated on the precursor of the resin layer (X'-6), and irradiated with ultraviolet rays for 40 seconds (step (vi) )), The precursor of the resin layer (X'-6) was cured, and at the same time, the member (J'-6) and the member (K'-6) were bonded to the resin layer (X'-6).
【0226】〔その他の構造の形成〕その後、実施例1
と同様にして、各流路の端部にステンレスパイプを接着
して流入部及び流出部を形成することにより、図7及び
図8に示したマイクロデバイス(D-4)と同様の流路構造
を有するマイクロデバイス(D-6)とした。[Formation of Other Structures] Then, the embodiment 1
In the same manner as described above, a stainless steel pipe is bonded to the end of each flow passage to form an inflow portion and an outflow portion, thereby forming a flow channel structure similar to that of the microdevice (D-4) shown in FIGS. 7 and 8. (D-6).
【0227】[実施例7]本実施例では、表面に溝を有
する部材(J')に、樹脂層(X')が2層積層された形状の本
発明のマイクロデバイスを、塗工支持体の除去が溶解に
よる除去である本発明の製造方法により製造する例につ
いて述べる、[Embodiment 7] In this embodiment, a micro device of the present invention in which two layers of a resin layer (X ') are laminated on a member (J') having a groove on the surface is coated on a coating support. Described below is an example of production by the production method of the present invention, in which removal is removal by dissolution.
【0228】〔塗工支持体、部材(J'-7)〕実施例6と同
様にして、ポリビニルアルコールフィルムの塗工支持体
を作製した。また、部材(J')として、実施例6の部材
(J'-6)と同じものを用い、部材(J'-7-1)、とした。[Coating support, member (J'-7)] In the same manner as in Example 6, a coating support of a polyvinyl alcohol film was prepared. Further, as the member (J '), the member of Example 6
The same material as (J'-6) was used, and a member (J'-7-1) was used.
【0229】〔部材(J'-7-1)−樹脂層(X'-7-1)積層体の
作製〕実施例6と全く同様にして、実施例6における部
材(J'-6)、樹脂層(X'-6)積層体と全く同じ部材を作製
し、部材(J'-7-1)と樹脂層(X'-7-1)前駆体の積層体とし
た。[Production of member (J'-7-1) -resin layer (X'-7-1) laminate] The member (J'-6) of Example 6 A member exactly the same as the resin layer (X'-6) laminate was prepared, and a laminate of the member (J'-7-1) and the resin layer (X'-7-1) precursor was obtained.
【0230】〔樹脂層(X'-7-2)の形成〕部材(J'-7-1)と
樹脂層(X'-7-1)前駆体の積層体を新たに部材(J'-7-2)と
し、欠損部の形状が実施例6の部材(K'-6)の凹状の欠損
部と同形状であること以外は同様の操作によって樹脂層
(X'-7-1)前駆体の上に樹脂層(X'-7-2)前駆体を積層し、
部材(J'-7-2)とした。[Formation of Resin Layer (X'-7-2)] A laminate of the member (J'-7-1) and the resin layer (X'-7-1) precursor was newly added to the member (J'-7-1). 7-2), and the resin layer was formed by the same operation except that the shape of the defective portion was the same as that of the concave defective portion of the member (K'-6) of Example 6.
(X'-7-1) resin layer on the precursor (X'-7-2) laminated precursor,
The member (J'-7-2) was used.
【0231】〔部材(K'-7)の積層と接着〕部材(K'-7)と
して実施例6で用いたポリスチレン板をそのまま用い、
これを樹脂層(X'-7-2)前駆体に積層し、その状態で紫外
線を40秒間照射して、樹脂層(X'-7-1)前駆体及び樹脂
層(X'-7-2)前駆体を硬化せせると同時に、部材(J'-7)、
樹脂層(X'-7-1)、樹脂層(X'-7-2)、及び部材(K'-7)を接
着した。[Lamination and Adhesion of Member (K'-7)] The polystyrene plate used in Example 6 was directly used as the member (K'-7).
This is laminated on the precursor of the resin layer (X'-7-2), and irradiated with ultraviolet rays for 40 seconds in this state, and the precursor of the resin layer (X'-7-1) and the resin layer (X'-7- 2) At the same time as curing the precursor, the member (J'-7),
The resin layer (X'-7-1), the resin layer (X'-7-2), and the member (K'-7) were bonded.
【0232】〔その他の構造の形成〕その後、実施例1
と同様にして、各流路の端部にステンレスパイプを接着
して流入部及び流出部を形成することにより、図7及び
図8に示したマイクロデバイス(D-4)と同様の流路構造
を有するマイクロデバイス(D-7)とした。[Formation of Other Structures] Then, Embodiment 1
In the same manner as described above, a stainless steel pipe is bonded to the end of each flow passage to form an inflow portion and an outflow portion, thereby forming a flow channel structure similar to that of the microdevice (D-4) shown in FIGS. 7 and 8. (D-7).
【0233】[実施例8]本実施例では、弁を有し、ポ
ンプとして機能する本発明のマイクロデバイスを、本発
明の製造方法により作製する例について述べる。[Embodiment 8] In this embodiment, an example of manufacturing a microdevice of the present invention having a valve and functioning as a pump by the manufacturing method of the present invention will be described.
【0234】〔部材(J'-8-1)の作製〕ポリスチレン(大
日本インキ化学工業株式会社製の「ディックスチレンX
C−520」)からなる5cm×5cm×厚さ3mmの
板を基材(71)としてこれに組成物(x-1')を塗布し、
フォトマスク無しで紫外線を1秒間照射して欠損部の無
い半硬化塗膜(72)を形成した。[Preparation of member (J'-8-1)] Polystyrene (Dick Styrene X manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
C-520 ") and a composition (x-1 ') was applied thereto using a 5 cm x 5 cm x 3 mm thick plate as a substrate (71),
Ultraviolet rays were irradiated for 1 second without a photomask to form a semi-cured coating film (72) having no defect.
【0235】更にその上に組成物(x-1)を塗布し、フォ
トマスクを用いて図11に示された、欠損部(74)と
成す部分以外の部分に紫外線を3秒間照射し、未照射部
分の未硬化の組成物(x-1)をメタノールにて除去して該
塗膜の欠損部として表面に幅100μm、間隔0.6m
mを置いて直列に並んだ長さ10mmの2本の凹状の欠
損部(74)、(74’)が形成された樹脂層(73)
を形成した。この積層体の凹状の欠損部(74)、(7
4’)の両端部において直径3mmの貫通孔(75)、
(75’)を穿ち、部材(J'-8-1)とした。Further, the composition (x-1) was applied thereon, and a portion other than the portion formed as the defective portion (74) shown in FIG. 11 was irradiated with ultraviolet rays for 3 seconds using a photomask. The uncured composition (x-1) in the irradiated area was removed with methanol to form a coating having a width of 100 μm and a gap of 0.6 m on the surface as a defective part of the coating film.
a resin layer (73) in which two concave cutouts (74) and (74 ') having a length of 10 mm and arranged in series with an interval of m
Was formed. The concave defects (74), (7)
4 ′) 3 mm diameter through holes (75) at both ends,
(75 ') was punched to form a member (J'-8-1).
【0236】〔樹脂層(X'-8-1)の形成〕欠損部と成す形
状が、図12に示されたように、中心間距離が1mmで
設けられた直径100μmと600μmの2つの孔状
(77)、(77’)であること以外は、実施例1と同
様にして、塗工支持体の剥離法によって部材(J'-8-1)の
上に上記形状の欠損部を有する樹脂層(X'-8-1)(76)
を積層して、これを部材(J'-8-2)とした。[Formation of Resin Layer (X'-8-1)] As shown in FIG. 12, two holes 100 mm and 600 μm in diameter with a center-to-center distance of 1 mm were formed. Except for the shape (77) and (77 ′), a defect of the above shape is formed on the member (J′-8-1) by the coating support peeling method in the same manner as in Example 1. Resin layer (X'-8-1) (76)
To form a member (J'-8-2).
【0237】〔樹脂層(X'-8-2)の形成〕組成物(x)とし
て組成物(x-3)を使用したこと、及び欠損部と成す形状
が、図13に示されたように、芯間距離1mmで設けら
れた、直径400μmの舌状の弁(80)、(80’)
と成す部分の周囲の幅100μmの馬蹄形(79)、
(79’)であること以外は、実施例6と同様にして、
塗工支持体(図示せず)上に半硬化塗膜を形成した。[Formation of Resin Layer (X'-8-2)] The use of the composition (x-3) as the composition (x) and the shape formed with the deficient portion were as shown in FIG. And a tongue-shaped valve (80), (80 ') having a diameter of 400 μm and provided with a center distance of 1 mm.
A horseshoe (79) with a width of 100 μm around the part
(79 ') except that (79')
A semi-cured coating was formed on a coating support (not shown).
【0238】次いで、フォトマスクを用いて、馬蹄形の
欠損部(79)、(79’)で囲まれた舌状の弁(8
0)、(80’)と成す部分のみにさらに紫外線を20
秒間照射し、照射部分の組成物(x-3)を硬化させ、他の
部分は半硬化状態にとどめた[工程(iii')]。これを実
施例6と同様にして、塗工支持体の溶解除去法によって
部材(J'-8-2)の上に樹脂層(X'-8-2)(78)を積層した
構造体を得、これを部材(J'-8-3)とした。Next, using a photomask, the tongue-shaped valve (8) surrounded by the horseshoe-shaped defects (79) and (79 ') is used.
0) and (80 ') were further irradiated with ultraviolet rays for 20 minutes.
Irradiation was performed for 2 seconds to cure the irradiated portion of the composition (x-3), and the other portions were kept in a semi-cured state [step (iii ′)]. In the same manner as in Example 6, a structure in which the resin layer (X'-8-2) (78) was laminated on the member (J'-8-2) by the dissolution and removal method of the coated support was used. This was used as a member (J'-8-3).
【0239】〔樹脂層(X'-8-3)の形成〕部材(J'-8-3)の
樹脂層(X'-8-2)の上に、大小の2つの孔(82)、(8
2’)の位置を樹脂層(X'-8-1)(76)の孔(77)、
(77’)とは逆にして積層したこと以外は樹脂層(X'-
8-1)(76)と同様の方法で、図12に示された樹脂層
(X'-8-3)(81)を作製して積層し、これを部材(J'-8-
4)とした。[Formation of Resin Layer (X'-8-3)] Two large and small holes (82) were formed on the resin layer (X'-8-2) of the member (J'-8-3). (8
2 ′) is positioned at the hole (77) of the resin layer (X′-8-1) (76),
(77 '), except that the resin layer (X'-
8-1) In the same manner as in (76), the resin layer shown in FIG.
(X'-8-3) (81) was prepared and laminated, and this was used as a member (J'-8-).
4).
【0240】〔樹脂層(X'-8-4)の形成〕欠損部(84)
の形状が、図14に示された様な、長さ1.5mm、幅
700μmの直線状であること以外は、樹脂層(X'-8-1)
(76)と同様にして、樹脂層(X'-8-4)(83)を部材
(J'-8-4)の樹脂層(X'-8-3)(81)の上に積層し、これ
を部材(J'-8-5)とした。[Formation of Resin Layer (X'-8-4)] Deletion (84)
Is a resin layer (X'-8-1) except that it is a linear shape having a length of 1.5 mm and a width of 700 μm as shown in FIG.
In the same manner as (76), the resin layer (X'-8-4) (83)
This was laminated on the resin layer (X'-8-3) (81) of (J'-8-4) to obtain a member (J'-8-5).
【0241】〔中間層の形成〕部材(J'-5-2)の代わりに
部材(J'-8-5)を使用したこと以外は実施例5における中
間層(56)の形成と同様にして、樹脂層(X'-8-4)の上
に、柔軟な素材で形成された欠損部を有しない中間層
(85)(ダイヤフラム層)を積層、接着した。[Formation of Intermediate Layer] Except that the member (J'-8-5) was used instead of the member (J'-5-2), the same procedure as in the formation of the intermediate layer (56) in Example 5 was carried out. Then, on the resin layer (X'-8-4), an intermediate layer (85) (diaphragm layer) formed of a flexible material and having no defect was laminated and bonded.
【0242】〔部材(K'-8)の作製と接着〕凹状の欠損部
(88)の形状が図16に示したように、長さ1.5m
m、幅700μmの直線と、長さ10mm、幅300μ
mの直線から成るT字型であること、及び部材を貫通す
る孔状の欠損部(89)が、幅300μmの凹状の欠損
部の端に1カ所設けられていること以外は部材(J'-8-1)
と同様の部材(K'-8)を部材(J'-8-1)と同様の方法で作製
した。即ち、部材(K'-8)は、ポリスチレン製の基材(8
6)と欠損部(88)を有する樹脂層(87)の積層体
として形成されている。[Preparation and Adhesion of Member (K'-8)] The shape of the concave defect portion (88) was 1.5 m long as shown in FIG.
m, a straight line with a width of 700 μm, a length of 10 mm, and a width of 300 μm
The member (J ′) except that it has a T-shape consisting of a straight line of m and a hole-shaped defect (89) penetrating the member is provided at one end of the concave defect having a width of 300 μm. -8-1)
A member (K'-8) similar to that of was prepared in the same manner as the member (J'-8-1). That is, the member (K'-8) is made of a polystyrene base material (8
6) and a resin layer (87) having a defective portion (88).
【0243】次いで部材(K'-8)を、該部材の欠損部(8
8)を中間層(85)を隔てて樹脂層(X'-8-4)の欠損部
(84)に相対する位置に合わせて、中間層(85)の
上に積層し、紫外線を30秒間照射することによって中
間層(85)に接着し、中間層(85)をダイヤフラム
と成した。また、この紫外線照射によって、その他の樹
脂層も十分に硬化させた。Next, the member (K'-8) was replaced with a defective portion (8
8) is layered on the intermediate layer (85) by aligning the intermediate layer (85) with the position facing the defect (84) of the resin layer (X'-8-4) with the intermediate layer (85) therebetween, and irradiating ultraviolet rays for 30 seconds. By irradiation, it adhered to the intermediate layer (85) to form the intermediate layer (85) as a diaphragm. In addition, the other resin layers were sufficiently cured by the ultraviolet irradiation.
【0244】〔流入出部の形成〕部材(J'-8)及び部材
(K'-8)に設けられた孔(75)、(75’)、(89)
に、外径3mmの塩化ビニル管をエポキシ系接着剤にて
接着して、液体流入部(90)、液体流出部(91)、
及び気体導入部(92)を形成して、マイクロデバイス
(D-8)を作製した。作製されたマイクロデバイスの平面
図の模式図を図17に、立面図の模式図を図18に示
す。[Formation of Inflow / Outflow Portion] Member (J'-8) and Member
Holes (75), (75 '), (89) provided in (K'-8)
, A vinyl chloride tube having an outer diameter of 3 mm is bonded with an epoxy-based adhesive to form a liquid inflow portion (90), a liquid outflow portion (91),
And a gas introduction part (92) to form a microdevice
(D-8) was prepared. FIG. 17 is a schematic diagram of a plan view of the manufactured microdevice, and FIG. 18 is a schematic diagram of an elevation view.
【0245】〔送液試験〕液体流入部(90)から水を
導入したところ、水は大気に解放した液体流出部(9
1)から流出した。逆に、液体流出部(91)に水を導
入しても液体流入部(90)からは流出しなかった。次
いで、気体導入部(92)に0.5MPaの圧力の窒素
を間欠的に導入したところ、水は液体流入部(90)か
ら吸い込まれ、液体流出部(91)から流出した。即
ち、本マイクロデバイスはポンプとして作動した。[Liquid feeding test] When water was introduced from the liquid inflow section (90), the water was released to the atmosphere.
Spilled from 1). Conversely, even if water was introduced into the liquid outlet (91), it did not flow out of the liquid inlet (90). Next, when nitrogen at a pressure of 0.5 MPa was intermittently introduced into the gas introduction section (92), water was sucked in from the liquid inflow section (90) and flowed out from the liquid outflow section (91). That is, the microdevice operated as a pump.
【0246】[実施例9]本実施例では、ダイヤフラム
が隣接する部材と接しているが接着していない構造を有
する、ダイヤフラム式バルブ機能を有するマイクロデバ
イス及びその製造方法の例について述べる。[Embodiment 9] In this embodiment, an example of a microdevice having a diaphragm valve function and having a structure in which a diaphragm is in contact with an adjacent member but not bonded thereto, and a method of manufacturing the same will be described.
【0247】〔マイクロデバイスの作製〕樹脂層(X-5-
1)の非照射部分の形状が、液体流入部(61)液体流出
部(62)に相当する2つの孔状であること、樹脂層(X
-5-1)の非照射部分の未硬化樹脂の除去の後で中間層
(56)を積層する前に、実施例5における樹脂層(X-5
-1)の非照射部分に相当する部分に紫外線を照射して、
該部分を硬化させたこと、中間層(56)のダイヤフラ
ムとなる部分即ち、実施例5の空洞(53)の形状に紫
外線を照射し、照射部分を硬化させたこと、及び、中間
層(56)が本発明のマイクロデバイスに於ける部材
(K'')に相当すること以外は実施例5と同様の方法で、
実施例5の空洞(53)の厚みがゼロであること以外
は、実施例5で作製したと同様のマイクロデバイスを作
製した。[Preparation of Micro Device] Resin layer (X-5-
The shape of the non-irradiated portion of 1) is two holes corresponding to the liquid inflow portion (61) and the liquid outflow portion (62), and the resin layer (X
After removing the uncured resin in the non-irradiated portion of -5-1) and before laminating the intermediate layer (56), the resin layer (X-5
-1) irradiate ultraviolet rays to the part corresponding to the non-irradiated part,
The portion was cured, and the portion serving as the diaphragm of the intermediate layer (56), that is, the shape of the cavity (53) of Example 5 was irradiated with ultraviolet rays to cure the irradiated portion. ) Is a member in the micro device of the present invention.
(K ''), except that it corresponds to (K '').
A micro device similar to that produced in Example 5 was produced except that the thickness of the cavity (53) in Example 5 was zero.
【0248】〔通水試験〕液体流入部(61)から圧力
約5kPaで水を導入したが、水は大気に解放した液体
流出部(62)から流出しなかった。圧力を15kPa
まで上昇させたところ、水は液体流出部(62)から流
出した。この状態で、気体導入部(63)から0.5M
Paの圧力の窒素を導入したところ、水の流量はゼロに
なった。また窒素圧を変化させることにより水の流量を
調節することができた。即ち、チェックバル具、開閉バ
ルブ及び流量調節バルブとして作動することを確認し
た。[Water flow test] Water was introduced from the liquid inflow section (61) at a pressure of about 5 kPa, but water did not flow out of the liquid outflow section (62) released to the atmosphere. 15 kPa pressure
When it was raised, the water flowed out of the liquid outlet (62). In this state, 0.5M from the gas introduction part (63)
When nitrogen at a pressure of Pa was introduced, the flow rate of water became zero. Also, the flow rate of water could be adjusted by changing the nitrogen pressure. That is, it was confirmed that the valve operated as a check valve, an opening / closing valve, and a flow control valve.
【0249】[0249]
【発明の効果】本発明は、破損しやすい非常に薄い層の
欠損部として形成された微細な毛細管状の空洞を有する
マイクロデバイスの製造方法、特に立体的に形成された
複雑な流路を有するマイクロデバイスの生産性の高い製
造方法を提供すること、並びに、複数の樹脂層が積層さ
れ、微細な毛細管状の空洞が各層を貫通して互いに連絡
し、立体交差している微細な毛細管状の流路、反応槽と
なるべき空間、ダイヤフラム式バルブ、及び弁構造など
を有する多機能なマイクロデバイスを提供することがで
きる。The present invention relates to a method for manufacturing a micro device having a fine capillary cavity formed as a defect in a very thin layer that is easily broken, and particularly to a method for manufacturing a three-dimensionally formed complicated flow path. Providing a highly productive manufacturing method of a micro device, and a plurality of resin layers are laminated, fine capillary cavities penetrate through each layer and communicate with each other, and three-dimensionally intersect fine capillary tubes A multifunctional microdevice having a flow path, a space to be a reaction tank, a diaphragm valve, a valve structure, and the like can be provided.
【図1】実施例1及び実施例3で使用した塗工支持体と
樹脂層(X-1)を、表面に垂直な方向から見た平面図の模
式図である。FIG. 1 is a schematic plan view of a coating support and a resin layer (X-1) used in Examples 1 and 3 as viewed from a direction perpendicular to the surface.
【図2】実施例1及び実施例3で作製した本発明のマイ
クロデバイスの平面図の模式図である。FIG. 2 is a schematic plan view of the microdevice of the present invention manufactured in Example 1 and Example 3. FIG.
【図3】実施例1及び実施例3で作製したマイクロデバ
イスの部分拡大立面図の模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a partially enlarged elevation view of the microdevice manufactured in Example 1 and Example 3.
【図4】実施例4で使用した塗工支持体と樹脂層(X'-4-
1)の平面図の模式図である。FIG. 4 shows a coating support and a resin layer (X′-4-
It is a schematic diagram of the top view of 1).
【図5】実施例4で使用した塗工支持体と樹脂層(X'-4-
2)の平面図の模式図である。FIG. 5 shows a coating support and a resin layer (X'-4-) used in Example 4.
It is a schematic diagram of the plan view of 2).
【図6】実施例4で使用した塗工支持体と樹脂層(X'-4-
3)の平面図の模式図である。FIG. 6 shows a coating support and a resin layer (X'-4-) used in Example 4.
It is a schematic diagram of the plan view of 3).
【図7】実施例4で作製したマイクロデバイスの平面図
の模式図である。FIG. 7 is a schematic plan view of a micro device manufactured in Example 4.
【図8】実施例4で作製したマイクロデバイスの、図7
のA部における断面の模式図である。FIG. 8 shows the micro device produced in Example 4;
It is a schematic diagram of the cross section in A part of.
【図9】実施例5で作製したマイクロデバイスの平面図
の模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram of a plan view of a micro device manufactured in Example 5.
【図10】実施例5で作製したマイクロデバイスの、図
9のA部での断面図の模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram of a cross-sectional view of the micro device manufactured in Example 5 taken along a section A in FIG. 9;
【図11】実施例8で作製した部材(J'-8-1)を、欠損部
が形成された表面に垂直な方向から見た平面図の模式図
である。FIG. 11 is a schematic plan view of the member (J′-8-1) manufactured in Example 8 as viewed from a direction perpendicular to the surface on which the defect is formed.
【図12】実施例8で作製した樹脂層(X'-8-1)及び樹脂
層(X'-8-3)の平面図の模式図である。FIG. 12 is a schematic plan view of a resin layer (X'-8-1) and a resin layer (X'-8-3) manufactured in Example 8.
【図13】実施例8で作製した樹脂層(X'-8-2)の平面図
の模式図である。FIG. 13 is a schematic plan view of a resin layer (X′-8-2) manufactured in Example 8.
【図14】実施例8で作製した樹脂層(X'-8-4)の平面図
の模式図である。FIG. 14 is a schematic plan view of a resin layer (X′-8-4) manufactured in Example 8.
【図15】実施例8で作製した中間層(ダイヤフラム
層)の平面図である。FIG. 15 is a plan view of an intermediate layer (diaphragm layer) manufactured in Example 8.
【図16】実施例8で作製した部材(K'-8)を、欠損部が
形成された表面に垂直な方向から見た平面図の模式図で
ある。FIG. 16 is a schematic plan view of a member (K′-8) manufactured in Example 8 as viewed from a direction perpendicular to a surface on which a defect is formed.
【図17】実施例8で作製したマイクロデバイスの平面
図の模式図である。FIG. 17 is a schematic plan view of the microdevice manufactured in Example 8.
【図18】実施例8で作製したマイクロデバイスの、図
17のA部での断面図の模式図である。FIG. 18 is a schematic view of a cross-sectional view of the micro device manufactured in Example 8 taken along a section A in FIG. 17;
1 :塗工支持体 2 :塗膜、半硬化塗膜 2 :樹脂層(X-1)前駆体、樹脂層(X-1) 3 :非露光部、半硬化塗膜の欠損部 3′ :空洞 4 :部材(J-1)の基材 5 :部材(J-1)の樹脂層 6 :部材(K-1)の基材 7 :部材(K-1)の塗膜、樹脂層 8 :流入部 9 :流出部 31 :塗工支持体 32 :樹脂層(X'-4-1) 33 :非露光部、半硬化塗膜の欠損部 33′ :欠損部 34 :非露光部、半硬化塗膜の欠損部 34′ :欠損部 35 :部材(J-4)の基材 36 :部材(J-4)の塗膜、樹脂層 37 :樹脂層(X'-4-2) 38 :非露光部、塗膜の欠損部 38′ :欠損部、層間連絡路 39 :樹脂層(X'-4-3) 40 :非露光部、塗膜の欠損部 40′ :欠損部 41 :部材(K-4)の基材 42 :部材(K-4)の樹脂層 43 :流入部 44 :流出部 45 :流入部 46 :流出部 52 :樹脂層(X'-5-1) 53 :欠損部 54 :部材(J-5)の基材 55 :部材(J-5)の樹脂層 56 :中間層 57 :樹脂層(X'-5-2) 58 :欠損部 59 :部材(K-5)の基材 60 :部材(K-5)の樹脂層 61 :液体流入部 62 :液体流出部 63 :気体導入部 71 :部材(J'-7-1)の基材 72 :部材(J'-7-1)中の欠損部のない樹脂層 73 :部材(J'-7-1)中の欠損部を有する樹脂
層 74 :部材(J'-7-1)の凹状の欠損部 75、75’ :部材(J'-7-1)の貫通孔 76 :樹脂層(X'-8-1) 77、77’ :孔状の欠損部 78 :樹脂層(X'-8-2) 79、79’ :馬蹄形の欠損部 80、80’ :弁 81 :樹脂層(X'-8-3) 82、82’ :孔状の欠損部 83 :樹脂層(X'-8-4) 84 :欠損部 85 :中間層 86 :部材(K'-7)の基材 87 :部材(K'-7)の樹脂層 88 :部材(K'-7)の凹状の欠損部 89 :部材(K'-7)の孔状の欠損部 90 :液体流入部 91 :液体流出部 92 :気体導入部1: coated support 2: coated film, semi-cured coating film 2: resin layer (X-1) precursor, resin layer (X-1) 3: non-exposed area, semi-cured coating film defective area 3 ': Cavity 4: Base material of member (J-1) 5: Resin layer of member (J-1) 6: Base material of member (K-1) 7: Coating film of member (K-1), resin layer 8: Inflow portion 9: Outflow portion 31: Coating support 32: Resin layer (X'-4-1) 33: Non-exposed portion, defective portion of semi-cured coating film 33 ′: Defected portion 34: Non-exposed portion, semi-cured portion Defective portion of coating film 34 ': Defective portion 35: Base material of member (J-4) 36: Coating film of member (J-4), resin layer 37: Resin layer (X'-4-2) 38: Non Exposed portion, defective portion of coating 38 ': defective portion, interlayer connection 39: resin layer (X'-4-3) 40: non-exposed portion, defective portion of coating 40': defective portion 41: member (K -4) Base material 42: Resin layer of member (K-4) 43: Inflow portion 44: Outflow portion 45: Inflow portion 46: Outflow portion 52: Resin layer (X′-5-1) 53 Defective part 54: Base material of member (J-5) 55: Resin layer of member (J-5) 56: Intermediate layer 57: Resin layer (X'-5-2) 58: Defective part 59: Member (K- 5) Base material 60: Resin layer of member (K-5) 61: Liquid inflow portion 62: Liquid outflow portion 63: Gas introduction portion 71: Base material of member (J'-7-1) 72: Member (J) Resin layer without defect in '-7-1) 73: Resin layer with defect in member (J'-7-1) 74: Depressed defect in member (J'-7-1) 75 , 75 ': Through hole of member (J'-7-1) 76: Resin layer (X'-8-1) 77, 77': Hole-shaped defect 78: Resin layer (X'-8-2) 79, 79 ': Horseshoe-shaped defect 80, 80': Valve 81: Resin layer (X'-8-3) 82, 82 ': Porous defect 83: Resin layer (X'-8-4) 84 : Defective portion 85: Intermediate layer 86: Base material of member (K'-7) 87: Resin layer of member (K'-7) 88: Depressed defective portion of member (K'-7) 89: Member (K) '-7) Porous defect 90: liquid Inlet 91: Liquid outflow section 92: gas introduction portion
フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AK01B AK01C AK01D AK02B AK02C AK02D AK12A AK12E AK25A AK25B AK25C AK25D AK25E AK41A AK41E AK45A AK45E AK54B AK54C AK54D AK55A AK55E AL01B AL01C AL01D AL05B AL05C AL05D AT00A AT00E BA05 BA07 BA10A BA10E BA32A BA32B BA32C BA32D BA44B BA44C BA44D DC12B DC12C DC12D DD01A DD01E DD21 DD27 DD28 EC042 EG001 EH032 EH461 EJ081 EJ082 EJ301 EJ303 EJ33A EJ33E EJ333 EJ541 EJ542 EJ581 GB51 GB90 JB06B JB06C JB06D JB14B JB14C JB14D JK02 JK07 JM02B JM02C JM02DFront page of the continued F-term (reference) 4F100 AK01B AK01C AK01D AK02B AK02C AK02D AK12A AK12E AK25A AK25B AK25C AK25D AK25E AK41A AK41E AK45A AK45E AK54B AK54C AK54D AK55A AK55E AL01B AL01C AL01D AL05B AL05C AL05D AT00A AT00E BA05 BA07 BA10A BA10E BA32A BA32B BA32C BA32D BA44B BA44C BA44D DC12B DC12C DC12D DD01A DD01E DD21 DD27 DD28 EC042 EG001 EH032 EH461 EJ081 EJ082 EJ301 EJ303 EJ33A EJ33E EJ333 EJ541 EJ542 EJ581 GB51 GB90 JB06B JB06C JB06D JB14JB02JB02JB02JB02
Claims (34)
層(X)を1層以上有し、該樹脂層が他の部材又は他の樹
脂層(X)と積層されて、欠損部が空洞を形成している、
積層構造を有するマイクロデバイスの製造方法。 (i)塗工支持体に、活性エネルギー線重合性化合物(a)
を含有する活性エネルギー線硬化性組成物(x)を塗工す
る、未硬化塗膜を形成する工程(i)、(ii)欠損部と成
すべき部分以外の未硬化塗膜に活性エネルギー線を照射
し照射部の未硬化塗膜を非流動性又は難流動性となし、
且つ未反応の活性エネルギー線重合性官能基が残存する
程度に半硬化させる、半硬化塗膜を形成する工程(ii)、
(iii)半硬化塗膜から非照射部分の未硬化の組成物(x)
を除去し、塗膜の欠損部を有する半硬化塗膜を得る工程
(iii)、(iv)欠損部を有する半硬化塗膜を他の部材(J)
に積層させ樹脂層(X)と成す工程(iv)、(v)塗工支持体
を樹脂層(X)から除去することにより、樹脂層(X)を部
材(J)に転写する工程(v)、及び、(vi)工程(iv)の後で
あって工程(v)の前、又は工程(v)の後、又は工程(v)の
前後に、半硬化状態の樹脂層(X)に活性エネルギー線を
照射して樹脂層(X)を更に硬化させ、樹脂層(X)を部材
(J)に接着させる工程(vi)。The method includes the following steps, comprising one or more resin layers (X) having a defective portion, wherein the resin layer is laminated with another member or another resin layer (X), Forming a cavity,
A method for manufacturing a micro device having a laminated structure. (I) An active energy ray polymerizable compound (a)
Applying an active energy ray-curable composition (x) containing: (i) forming an uncured coating film (i), (ii) applying an active energy ray to the uncured coating film other than the portion to be formed as a defective portion Irradiate and make the uncured coating of the irradiated part non-flowable or hard-flowing,
And semi-cured to the extent that unreacted active energy ray polymerizable functional groups remain, a step (ii) of forming a semi-cured coating film,
(Iii) the uncured composition of the non-irradiated portion from the semi-cured coating film (x)
To obtain a semi-cured coating film having a defective portion of the coating film
(iii), (iv) the semi-cured coating film having the defective portion is replaced with another member (J)
(Iv), (v) forming the resin layer (X) and transferring the resin layer (X) to the member (J) by removing the coated support from the resin layer (X). ), And (vi) after the step (iv) and before the step (v), or after the step (v), or before and after the step (v), the semi-cured resin layer (X) The resin layer (X) is further cured by irradiation with active energy rays, and the resin layer (X) is
Step (vi) of bonding to (J).
塗工支持体の溶解による除去である請求項1に記載のマ
イクロデバイスの製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the removal of the coating support in the step (v) comprises:
The method for producing a microdevice according to claim 1, wherein the removal is performed by dissolving the coated support.
における塗工支持体の除去が剥離である請求項1に記載
のマイクロデバイスの製造方法。3. Step (vi) is before step (v), and step (v)
The method for producing a microdevice according to claim 1, wherein the removal of the coating support in step (c) is peeling.
を行った後、又は工程(i)、(ii)、(iii)、(iv)、(v)、
及び(vi)を行った後、又は工程(i)、(ii)、(iii)、(i
v)、(vi)、及び(v)を、この順で行った後に、樹脂層(x)
が積層された部材(J)を工程(iv)における部材(J)の代わ
りに用いて、工程(i)〜(v)又は工程(i)〜(vi)を繰り返
すことにより、樹脂層(X)を複数積層する、請求項1に
記載のマイクロデバイスの製造方法。4. Steps (i), (ii), (iii), (iv) and (v)
Or after performing steps (i), (ii), (iii), (iv), (v),
And (vi) or after performing steps (i), (ii), (iii), (i
v), (vi), and (v), after performing in this order, the resin layer (x)
By using the laminated member (J) instead of the member (J) in the step (iv), by repeating the steps (i) to (v) or the steps (i) to (vi), the resin layer (X The method for manufacturing a micro device according to claim 1, wherein a plurality of are stacked.
くとも一部が重なり合うように積層することにより、積
層体中に複数の樹脂層(X)の欠損部が連結した空洞を形
成する請求項1に記載のマイクロデバイスの製造方法。5. A plurality of resin layers (X) are laminated so that at least a part of their defective portions are overlapped to form a cavity in which the defective portions of the plurality of resin layers (X) are connected in a laminate. The method for manufacturing a micro device according to claim 1.
する部材、又は、表面に凹状の欠損部を有する部材、又
は該部材を貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有す
る部材であり、部材(J)の欠損部と樹脂層(X)の欠損部の
少なくと一部が重なり合うように、部材(J)と樹脂層(X)
とを積層することにより、積層体中に、部材(J)の欠損
部と樹脂層(X)の欠損部が連結した空洞を形成する請求
項1に記載のマイクロデバイスの製造方法。6. The member (J) has a defective portion penetrating the member, or a member having a concave defect portion on the surface, or has a defective portion penetrating the member and a concave defect portion on the surface. The member (J) and the resin layer (X) so that at least a part of the defect portion of the member (J) and the defect portion of the resin layer (X) overlap with each other.
The method for manufacturing a microdevice according to claim 1, wherein a void is formed in the laminate by connecting the defective portion of the member (J) and the defective portion of the resin layer (X) by laminating the components.
i)において、半硬化状態の樹脂層(X)に他の部材(K)を接
触させ、その状態で活性エネルギー線を照射して、樹脂
層(X)を部材(J)に接着すると同時に他の部材(K)に接着
する請求項1に記載のマイクロデバイスの製造方法。7. The method according to claim 7, wherein the step (vi) is after the step (v) and the step (v)
In (i), another member (K) is brought into contact with the resin layer (X) in a semi-cured state, and in that state, an active energy ray is irradiated to bond the resin layer (X) to the member (J) and at the same time, 2. The method for manufacturing a micro device according to claim 1, wherein the micro device is adhered to the member (K).
び/又は表面に凹状の欠損部を有し、部材(K)の欠損部
と樹脂層(X)の欠損部が少なくともその一部において重
なるように部材(K)と樹脂層(X)とを積層することによ
り、積層体中に、部材(K)の欠損部と樹脂層(X)の欠損部
が連結した空洞を形成する請求項7に記載のマイクロデ
バイスの製造方法。8. The member (K) has a defective portion penetrating the member and / or a concave defective portion on the surface, and at least the defective portion of the member (K) and the defective portion of the resin layer (X) By laminating the member (K) and the resin layer (X) so as to partially overlap each other, a cavity is formed in the laminate in which the defective portion of the member (K) and the defective portion of the resin layer (X) are connected. The method for manufacturing a micro device according to claim 7.
工程(iii)の間、及び工程(iii)と工程(iv)の間}から選
ばれる1つ以上の工程間において、樹脂層(X)の一部に
活性エネルギー線を照射して、行程(iv)で該被照射部分
が他の部材と接着しない程度にまで硬化させる部分硬化
を施すことにより、樹脂層(X)に、他の部材または樹脂
層と接触していても接着していない部分を形成する、請
求項1に記載のマイクロデバイスの製造方法。9. One or more selected from {between step (i) and step (ii), between step (ii) and step (iii), and between step (iii) and step (iv)}. During the process, by irradiating a part of the resin layer (X) with an active energy ray and performing a partial curing in which the irradiated portion is cured to the extent that it does not adhere to other members in the step (iv), The method for manufacturing a microdevice according to claim 1, wherein a portion which is in contact with another member or a resin layer but is not adhered is formed in the layer (X).
照射を弁を形成する形状に行い、樹脂層(X)の一部に弁
となる構造を設けること、及び部分硬化を施す部分が樹
脂層(X)の弁となる部分である、請求項9に記載のマイ
クロデバイスの製造方法。10. Irradiation of active energy rays in the step (ii) into a shape for forming a valve, a structure serving as a valve is provided in a part of the resin layer (X), and a part to be partially cured is a resin layer. The method for manufacturing a microdevice according to claim 9, which is a portion serving as a valve of (X).
の範囲にある請求項1に記載のマイクロデバイスの製造
方法。11. The resin layer (X) has a thickness of 1 to 1000 μm.
The method for manufacturing a micro device according to claim 1, wherein
000μmの範囲にある請求項1に記載のマイクロデバ
イスの製造方法。12. The minimum width of the defective portion of the resin layer (X) is from 1 to 1.
The method for manufacturing a micro device according to claim 1, wherein the thickness is in a range of 000 µm.
が、一分子中に2つ以上の活性エネルギー線重合性官能
基を有する化合物である請求項1に記載のマイクロデバ
イスの製造方法。13. An active energy ray polymerizable compound (a)
Is a compound having two or more active energy ray-polymerizable functional groups in one molecule.
が、アクリロイル基又はマレイミド基を有する化合物で
ある請求項13に記載のマイクロデバイスの製造方法。14. An active energy ray polymerizable compound (a)
Is a compound having an acryloyl group or a maleimide group.
が、単独重合体が60度以上の水との接触角を示す疎水
性の活性エネルギー線重合性化合物(a)と、これと共重
合しうる両親媒性の重合性化合物(b)を含有するもので
ある請求項1に記載のマイクロデバイスの製造方法。15. An active energy ray-curable composition (x)
However, the homopolymer contains a hydrophobic active energy ray polymerizable compound (a) showing a contact angle with water of 60 degrees or more, and an amphiphilic polymerizable compound (b) copolymerizable therewith. 2. The method for manufacturing a micro device according to claim 1, wherein:
内に繰り返し数6〜20のポリエチレングリコール鎖
と、炭素数6〜20個のアルキル基を含有する化合物で
ある請求項15に記載のマイクロデバイスの製造方法。16. The method according to claim 15, wherein the amphiphilic polymerizable compound (b) is a compound containing a polyethylene glycol chain having 6 to 20 repetitions and an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms in the molecule. A manufacturing method of the microdevice according to the above.
タ)アクリル系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポ
リスルホン系重合体、及びポリエステル系重合体からな
る群から選ばれた重合体で形成されている請求項1に記
載のマイクロデバイスの製造方法。17. The member (J) is formed of a polymer selected from the group consisting of a styrene polymer, a (meth) acrylic polymer, a polycarbonate polymer, a polysulfone polymer, and a polyester polymer. The method for manufacturing a microdevice according to claim 1, wherein
材、又は表面に凹状の欠損部を有する部材、又は部材を
貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有する部材から
選ばれる部材(J')}と、層の一部に欠損部を有し、該欠
損部の最小幅が、1〜1000μmである、活性エネル
ギー線硬化性樹脂層(X')の1つ以上の層と、{部材を貫
通する欠損部を有する部材、又は表面に凹状の欠損部を
有する部材、又は部材を貫通する欠損部と表面に凹状の
欠損部を有する部材から選ばれる部材(K')}とが積層さ
れ、部材中の少なくとも2つ以上の欠損部が連結して空
洞を形成している、積層構造を有するマイクロデバイ
ス。18. A member selected from a member having a defect portion penetrating the member, a member having a concave defect portion on the surface, or a member having a defect portion penetrating the member and a member having a concave defect portion on the surface. ')}, One or more layers of the active energy ray-curable resin layer (X') having a defect in a part of the layer, and the minimum width of the defect is 1 to 1000 µm; A member having a defect portion penetrating the member, a member having a concave defect portion on the surface, or a member selected from a member having a concave defect portion on the surface and a member having a concave defect on the surface (K ′)} is laminated. A micro device having a laminated structure, wherein at least two or more defective portions in a member are connected to form a cavity.
から選ばれる1つ以上の部材が、部材の積層面に平行方
向に設けられた、1つ以上の線状の空洞を有する、請求
項18に記載のマイクロデバイス。19. A member (J ′), a resin layer (X ′), and a member (K ′)
20. The microdevice according to claim 18, wherein one or more members selected from the group consisting of one or more linear cavities provided in a direction parallel to a stacking surface of the members.
5〜1000μmである請求項18に記載のマイクロデ
バイス。20. The thickness of the resin layer (X ′) having a deficient portion,
The micro device according to claim 18, which has a thickness of 5 to 1000 m.
る樹脂層(X')内に形成された複数の流路、又は枝分かれ
した流路が樹脂層(X')を隔てて立体交差している請求項
18に記載のマイクロデバイス。21. A part of the cavity is a fluid flow path, and a plurality of flow paths formed in different resin layers (X ′) or branched flow paths are three-dimensionally separated by the resin layer (X ′). 19. The micro device according to claim 18, which intersects.
から選ばれる1つ以上の部材の一部に隣接して積層され
た他の部材と接触しているが接着していない部分を有す
る、請求項18に記載のマイクロデバイス。22. A member (J ′), a resin layer (X ′), and a member (K ′)
The microdevice according to claim 18, further comprising a portion that is in contact with, but not adhered to, another member stacked adjacent to a part of one or more members selected from the group consisting of:
に、周囲部分の一部を欠損部とすることにより、弁とな
る構造が設けられており、隣接して積層された他の部材
と接触しているが接着していない部分が弁である、請求
項22に記載のマイクロデバイス。23. A structure that serves as a valve by providing at least a part of one layer of the resin layer (X ′) with a part of a peripheral part being a defective part, 23. The microdevice according to claim 22, wherein a portion that is in contact with but not adhered to the member is a valve.
が2つ以上設けられている請求項23に記載のマイクロ
デバイス。24. The micro device according to claim 23, wherein two or more structures serving as valves are provided in one resin layer (X ′).
が、それを挟持する部材又は樹脂層より低い引張弾性率
の素材により形成されている請求項22に記載のマイク
ロデバイス。25. A resin layer (X ′) provided with a valve structure
23. The micro device according to claim 22, wherein the micro device is made of a material having a lower tensile modulus than a member or a resin layer sandwiching the material.
が、(メタ)アクリロイル基含有化合物を含む活性エネ
ルギー線硬化性組成物の硬化物である請求項18に記載
のマイクロデバイス。26. An active energy ray-curable resin layer (X ′)
Is a cured product of an active energy ray-curable composition containing a (meth) acryloyl group-containing compound.
から選ばれる、1つ以上の部材が、一方の側がダイヤフ
ラムとなる部材、他の側が欠損部を有する他の部材と直
接積層されており、該欠損部が積層されることで空洞と
なり、ダイヤフラムとなる部材の裏面に積層された他の
部材が該空洞への流入口又は流出口、又はその両者とな
る各孔状の欠損部を有し、流入口、流出口の少なくとも
一方が、該部材を隔ててダイヤフラムの対向面に形成さ
れており、その周がダイヤフラムに接しておらず、ダイ
ヤフラムを変形させて、該流入口、又は流出口の少なく
とも一方の周に接することによって流路を閉鎖しうる、
請求項18に記載のマイクロデバイス。27. A member (J ′), a resin layer (X ′), and a member (K ′)
One or more members selected from the above are members in which one side is a diaphragm, the other side is directly laminated with another member having a defective portion, and the defective portion is laminated to form a cavity, and the diaphragm and The other member laminated on the back surface of the member has an inlet or an outlet to the cavity, or has a hole-shaped defective portion serving as both, and at least one of the inlet and the outlet is provided with the member. The diaphragm is formed on the opposing surface of the diaphragm, and its periphery is not in contact with the diaphragm. ,
The micro device according to claim 18.
性エネルギー線重合性化合物と共重合可能な両親媒性の
活性エネルギー線重合性化合物を含有する請求項18に
記載のマイクロデバイス。28. The microdevice according to claim 18, wherein the active energy ray-curable composition contains an amphiphilic active energy ray-polymerizable compound copolymerizable with the active energy ray-polymerizable compound.
合物が、分子内に繰り返し数6〜20のポリエチレング
リコール鎖と、炭素数6〜20個のアルキル基を含有す
る化合物である請求項28に記載のマイクロデバイス。29. The compound according to claim 28, wherein the amphiphilic active energy ray-polymerizable compound is a compound containing a polyethylene glycol chain having 6 to 20 repetitions and an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms in the molecule. A microdevice as described.
ある請求項18に記載のマイクロデバイス。30. The micro device according to claim 18, wherein a part or all of the cavity is a fluid flow path.
材、又は表面に凹状の欠損部を有する部材、又は部材を
貫通する欠損部と表面に凹状の欠損部を有する部材から
選ばれる部材(J')}と、層の一部に欠損部を有し、該欠
損部の最小幅が1〜1000μmである、活性エネルギ
ー線硬化性樹脂層(X')の1つ以上の層と、欠損部がなく
ダイヤフラムとなす部材(K'')とが積層され、部材(K'')
が隣接して積層された他の部材と接触しているが接着し
ていない部分を有し、該部分がダイヤフラム部分であ
る、部材(J')と樹脂層(X')中の少なくとも2つ以上の欠
損部が連結して空洞を形成している、積層構造を有する
マイクロデバイス。31. A member selected from a member having a defect portion penetrating the member, a member having a concave defect portion on the surface, or a member having a defect portion penetrating the member and a member having a concave defect portion on the surface. ')}, One or more layers of the active energy ray-curable resin layer (X') having a defect in a part of the layer, and the minimum width of the defect is 1 to 1000 µm; The member (K '') that forms the diaphragm without the
At least two of the member (J ′) and the resin layer (X ′) having a portion that is in contact with, but not adhered to, another member laminated adjacent thereto, and that portion is a diaphragm portion. A micro device having a laminated structure, in which the above-mentioned defective portions are connected to form a cavity.
材の欠損部が、流入口又は流出口、又はその両者となる
各穴状の欠損部であり、該流入口又は流出口の少なくと
も一方がダイヤフラムの対向面に形成されていて、その
周がダイヤフラムに接しているが接着しておらず、ダイ
ヤフラムの変形により、流路が開となる、請求項31に
記載のマイクロデバイス。32. The defective portion of one or more members of the member (J ′) and the resin layer (X ′) is a hole-shaped defective portion serving as an inlet or an outlet or both of them, 32. The flow channel according to claim 31, wherein at least one of the inlet and the outlet is formed on the opposite surface of the diaphragm, and its periphery is in contact with the diaphragm but is not adhered, and the flow path is opened by deformation of the diaphragm. Micro device.
0μmで、引張弾性率1〜700MPaの範囲の素材で
形成されている、請求項27、31又は32に記載のマ
イクロデバイス。33. The diaphragm according to claim 1, wherein the thickness of the diaphragm is 1-50.
33. The microdevice according to claim 27, 31 or 32, wherein the microdevice is formed of a material having a tensile elasticity of 1 μm and a tensile modulus of 1 to 700 MPa.
の製造方法により製造されたマイクロデバイス。34. A micro device manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
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