JP2002082338A - Liquid crystal display element - Google Patents
Liquid crystal display elementInfo
- Publication number
- JP2002082338A JP2002082338A JP2000271906A JP2000271906A JP2002082338A JP 2002082338 A JP2002082338 A JP 2002082338A JP 2000271906 A JP2000271906 A JP 2000271906A JP 2000271906 A JP2000271906 A JP 2000271906A JP 2002082338 A JP2002082338 A JP 2002082338A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- electrode
- substrate
- crystal display
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 90
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 73
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 17
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 17
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 abstract description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 29
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 12
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 12
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 11
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 11
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 2
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 2
- UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 2,6-dimethyl-n-[[(2s)-pyrrolidin-2-yl]methyl]aniline Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1NC[C@H]1NCCC1 UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000879758 Homo sapiens Sjoegren syndrome nuclear autoantigen 1 Proteins 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100037330 Sjoegren syndrome nuclear autoantigen 1 Human genes 0.000 description 1
- 101001094026 Synechocystis sp. (strain PCC 6803 / Kazusa) Phasin PhaP Proteins 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶注入空間が複
数の柱状スペーサによって確保される液晶表示素子に関
する。The present invention relates to a liquid crystal display device in which a liquid crystal injection space is secured by a plurality of columnar spacers.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、液晶表示素子は一対の電極基板
間に挟持される液晶セルを有する。液晶セルはこれら電
極基板を結合する周辺シール材およびこれら電極基板間
において周辺シール材により取り囲まれた液晶組成物に
より構成される。製造において、1対の電極基板は液晶
注入口を残して一方の電極基板上に周辺シール材を塗布
し、周辺シール材で囲まれた基板領域上に粒状スペーサ
を散布し、さらにこの電極基板に他方の電極基板を重ね
た状態で周辺シール材を硬化させることにより貼り合わ
される。液晶組成物は液晶注入口から液晶セルに注入さ
れ、液晶注入口は液晶組成物の注入後に充填され硬化さ
れる注入口シール材によって封止される。2. Description of the Related Art Generally, a liquid crystal display device has a liquid crystal cell sandwiched between a pair of electrode substrates. The liquid crystal cell is constituted by a peripheral sealing material for connecting the electrode substrates and a liquid crystal composition surrounded by the peripheral sealing material between the electrode substrates. In manufacturing, a pair of electrode substrates is coated with a peripheral sealing material on one of the electrode substrates, leaving a liquid crystal injection port, and a granular spacer is scattered on a substrate region surrounded by the peripheral sealing material, and furthermore, on this electrode substrate. The peripheral electrode is cured by curing the peripheral sealing material in a state where the other electrode substrate is superimposed. The liquid crystal composition is injected into the liquid crystal cell from the liquid crystal injection port, and the liquid crystal injection port is sealed with an injection port sealing material that is filled and cured after the injection of the liquid crystal composition.
【0003】粒状スペーサは例えば均一な粒径のプラス
チックビーズで構成され、ビーズの粒径によりこれら電
極基板の間隙を規定して液晶注入空間を確保する。しか
しながら、この粒状スペーサはその周辺の液晶配向を乱
し、これが光漏れの原因となる。粒状スペーサが不均一
に散布された場合には、コントラストが漏洩光によって
著しく低下するような表示不良が発生し、液晶表示素子
の歩留りが低下するという問題があった。The granular spacer is made of, for example, plastic beads having a uniform particle size, and the gap between these electrode substrates is defined by the particle size of the beads to secure a liquid crystal injection space. However, the granular spacer disturbs the liquid crystal alignment around the spacer, which causes light leakage. When the granular spacers are scattered non-uniformly, there is a problem that a display failure occurs in which the contrast is remarkably reduced due to leaked light, and the yield of the liquid crystal display element is reduced.
【0004】近年では、複数の柱状スペーサを用いて液
晶注入空間を確保する技術が上述の問題を解決するため
に提案されている。これら柱状スペーサは一方の電極基
板から突出して他方の電極基板を支持し、これにより電
極基板の間隙を均一に維持する。この場合、数μm程度
の配向ムラが柱状スペーサ周辺に発生するが、遮光領域
に柱状スペーサを配置することにより、光漏れによるコ
ントラストの低下を防止できる。このような柱状スペー
サは、一方の電極基板を覆ってスペーサ材料層を堆積
し、このスペーサ材料層を柱状にパターニングすること
により形成される。In recent years, a technique for securing a liquid crystal injection space using a plurality of columnar spacers has been proposed to solve the above-mentioned problem. These columnar spacers protrude from one electrode substrate and support the other electrode substrate, thereby maintaining a uniform gap between the electrode substrates. In this case, alignment unevenness of about several μm occurs around the columnar spacer, but by arranging the columnar spacer in the light-shielding region, a decrease in contrast due to light leakage can be prevented. Such a columnar spacer is formed by depositing a spacer material layer over one electrode substrate and patterning the spacer material layer into a columnar shape.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、画素電極ピッ
チが液晶表示素子の高精細化に伴って狭くなると、各柱
状スペーサを形成するために十分広く平坦な下地を確保
できなくなり、柱状スペーサの高さおよび先端側基板接
触面積が形成位置のバラツキによって低下するようにな
る。さらに、パターニングの際に電極基板上のスペーサ
エッジにあたる現像液の勢いで、柱状スペーサが先端よ
りも細い基端を持つ逆テーパ状になる。すなわち、柱状
スペーサは上述のような理由から強度不足となって欠落
し易く、他方の電極基板を確実に支持することが困難に
なる。However, if the pixel electrode pitch becomes narrower with higher definition of the liquid crystal display element, it becomes impossible to secure a sufficiently wide and flat base for forming each columnar spacer, and the height of the columnar spacer is reduced. In addition, the contact area of the tip side substrate decreases with the variation of the formation position. Further, at the time of patterning, the columnar spacer has an inversely tapered shape having a base end narrower than the tip end due to the force of the developing solution hitting the spacer edge on the electrode substrate. That is, the strength of the columnar spacer is insufficient for the reasons described above, and the columnar spacer is likely to be dropped, and it is difficult to reliably support the other electrode substrate.
【0006】本発明の目的は、高精細化に伴う制約の下
で液晶注入空間を確保することが容易な液晶表示素子を
提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal display element which can easily secure a liquid crystal injection space under the restrictions associated with high definition.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一対の
第1および第2基板と、第1および第2基板間に挟持さ
れた液晶組成物と、第1基板から突出して第2基板を支
持する複数の柱状スペーサとを備え、柱状スペーサが第
1基板を下地としこの下地の平坦部から凹部に広がって
形成される液晶表示素子が提供される。According to the present invention, a pair of first and second substrates, a liquid crystal composition sandwiched between the first and second substrates, and a second substrate protruding from the first substrate are provided. And a plurality of columnar spacers supporting the first substrate, and the columnar spacers are formed by using the first substrate as a base and extending from a flat portion of the base to a concave portion.
【0008】この液晶表示素子では、柱状スペーサが第
1基板を下地としこの下地の平坦部から凹部に広がって
形成される。この構造であれば、液晶表示素子の高精細
化に伴って柱状スペーサの形成場所が制約されても、設
計どおりの高さおよび先端側基板接触面積を得ることが
できる平坦な下地を選んで柱状スペーサを形成する場合
よりも広い柱状スペーサの下地を確保することができ
る。柱状スペーサの先端は下地の平坦部に対応する領域
で第2基板に接触し、下地の凹部に対応する領域で第2
基板に接触しないことになるが、この柱状スペーサの形
成位置がばらついても、柱状スペーサの先端側基板接触
面の最外郭を下地の平坦部および凹部の境界にほぼ一致
させることができる。すなわち、柱状スペーサの形成位
置のバラツキに対するマージンを必要としないため、柱
状スペーサの高さおよび先端側基板接触面積の低下を防
止できる。さらに、柱状スペーサが下地の凹部にも広が
るため、パターニングの際にスペーサエッジにあたる現
像液の勢いで浸食されても、この浸食が平坦部および凹
部の境界位置を越えて進むことが避けられる。従って、
十分な強度の柱状スペーサにより液晶注入空間を確保す
ることができる。In this liquid crystal display element, the columnar spacer is formed with the first substrate as a base and extending from a flat portion of the base to a recess. With this structure, even if the place where the columnar spacer is formed is restricted due to the high definition of the liquid crystal display element, select a flat base that can obtain the designed height and the contact area on the tip side substrate, and select the columnar spacer. It is possible to secure the base of the columnar spacer wider than when the spacer is formed. The tip of the columnar spacer contacts the second substrate in a region corresponding to the flat portion of the base, and the second end in a region corresponding to the concave portion of the base.
Although it does not come into contact with the substrate, even if the formation positions of the columnar spacers vary, the outermost contour of the columnar spacer on the tip side substrate contact surface can be made substantially coincident with the boundary between the flat portion and the concave portion of the base. That is, since no margin is required for the variation in the formation position of the columnar spacers, it is possible to prevent the height of the columnar spacers and the contact area of the front end substrate from being reduced. Further, since the columnar spacer also extends to the concave portion of the base, even if the columnar spacer is eroded by the force of the developing solution hitting the spacer edge during patterning, this erosion is prevented from proceeding beyond the boundary between the flat portion and the concave portion. Therefore,
A liquid crystal injection space can be secured by the columnar spacer having sufficient strength.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1実施形態に係
るアクティブマトリクス型液晶表示素子について添付図
面を参照して説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an active matrix type liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
【0010】図1は液晶表示素子の平面構成を概略的に
示し、図2は図1に示すI−I線に沿った液晶表示素子
の断面構造を示す。液晶表示素子は一対の電極基板G1
およびG2と、これら電極基板G1およびG2間に挟持
される液晶セル10とを備える。液晶セル10はこれら
電極基板G1およびG2を結合する周辺シール材10A
およびこれら電極基板G1およびG2間において周辺シ
ール材10Aにより取り囲まれた液晶組成物LQにより
構成される。液晶セル10は基板G1およびG2間にお
いて液晶組成物LQを取り囲む周辺シール材10Aでこ
れら基板G1およびG2を貼り合わせて構成される。液
晶セル10の表示方式は、例えばTN形、ST形、GH
形、ECB形、あるいは強誘電性液晶形等である。FIG. 1 schematically shows a plan structure of the liquid crystal display device, and FIG. 2 shows a sectional structure of the liquid crystal display device along the line II shown in FIG. The liquid crystal display element is a pair of electrode substrates G1
And G2, and a liquid crystal cell 10 sandwiched between these electrode substrates G1 and G2. The liquid crystal cell 10 is provided with a peripheral sealing material 10A connecting these electrode substrates G1 and G2.
And a liquid crystal composition LQ surrounded by a peripheral sealing material 10A between the electrode substrates G1 and G2. The liquid crystal cell 10 is formed by bonding the substrates G1 and G2 together with a peripheral sealing material 10A surrounding the liquid crystal composition LQ between the substrates G1 and G2. The display method of the liquid crystal cell 10 is, for example, TN type, ST type, GH type.
Shape, ECB type, or ferroelectric liquid crystal type.
【0011】電極基板G1はガラス板等の光透過性絶縁
基板11、絶縁基板11上でマトリクス状に配置される
複数の画素電極12、画素電極12の行に沿って絶縁基
板11上に配置される複数の走査線13、これら画素電
極12の列に沿って絶縁基板11上に配置される複数の
信号線14、各々対応走査線13および対応信号線14
の交差位置近傍においてスイッチング素子として絶縁基
板11上に配置される複数の画素用薄膜トランジスタ1
5、および各々補助容量Csを構成するよう対応行の画
素電極12に容量結合し走査線13と略平行になるよう
に絶縁基板11上に配置される複数の補助容量線16を
含む。各補助容量線16は液晶表示素子の端部に配置さ
れる銀ペースト等の電極転移材を介して電極基板G2の
対向電極12に電気的に接続される。画素電極12のマ
トリクスアレイは例えば480行×1920列=921
600画素で構成される。ここで、1920は640画
素×3色(赤、緑、青)の合計である。The electrode substrate G1 is a light-transmitting insulating substrate 11, such as a glass plate, a plurality of pixel electrodes 12, which are arranged in a matrix on the insulating substrate 11, and is arranged on the insulating substrate 11 along rows of the pixel electrodes 12. Scanning lines 13, a plurality of signal lines 14 arranged on the insulating substrate 11 along the columns of the pixel electrodes 12, corresponding scanning lines 13 and corresponding signal lines 14, respectively.
A plurality of pixel thin film transistors 1 arranged on an insulating substrate 11 as switching elements in the vicinity of the intersection of
5 and a plurality of auxiliary capacitance lines 16 which are capacitively coupled to the pixel electrodes 12 of the corresponding row so as to form the auxiliary capacitances Cs and are arranged on the insulating substrate 11 so as to be substantially parallel to the scanning lines 13. Each auxiliary capacitance line 16 is electrically connected to the counter electrode 12 of the electrode substrate G2 via an electrode transfer material such as silver paste disposed at an end of the liquid crystal display element. The matrix array of the pixel electrodes 12 is, for example, 480 rows × 1920 columns = 921
It is composed of 600 pixels. Here, 1920 is the sum of 640 pixels × 3 colors (red, green, blue).
【0012】電極基板G1において、各画素用薄膜トラ
ンジスタ15は絶縁基板11上に形成されるポリシリコ
ン半導体層と、この半導体層を覆うゲート絶縁膜上に形
成されるゲート電極、アモルファスシリコンあるいはポ
リシリコンの半導体層に形成されるソース領域にコンタ
クトしたソース電極、およびこの半導体層に形成される
ドレイン領域にコンタクトしたドレイン電極を有する。
ゲート電極は1本の走査線13に接続され、ソース電極
は上部ソース電極19を介して1個の画素電極12に接
続され、ドレイン電極は1本の信号線14に接続され
る。走査線13および補助容量線16はこのゲート絶縁
膜上に形成され、薄膜トランジスタ15と共に層間絶縁
膜18により覆われる。上部ソース電極19は信号線1
4と共に層間絶縁膜18上に配置され、保護絶縁膜20
により覆われる。この保護絶縁膜20はさらに画素電極
12の透過光をフィルタする絶縁性カラーフィルタ21
で覆われる。このカラーフィルタ21は画素電極12の
列をそれぞれ覆うストライプとして形成される設定され
る赤、緑および青の着色層R,G,Bで構成される。画
素電極12は補助容量線16の上方においてカラーフィ
ルタ21に形成されるコンタクトホール22を介して上
部ソース電極19にコンタクトする。電極基板G1はさ
らにカラーフィルタ21および画素電極12を覆う配向
膜AL1、およびこの配向膜AL1とは反対側において
絶縁基板11を覆う偏光板PL1を含む。In the electrode substrate G1, each pixel thin film transistor 15 includes a polysilicon semiconductor layer formed on the insulating substrate 11, a gate electrode formed on a gate insulating film covering the semiconductor layer, amorphous silicon or polysilicon. A source electrode in contact with a source region formed in the semiconductor layer; and a drain electrode in contact with a drain region formed in the semiconductor layer.
The gate electrode is connected to one scanning line 13, the source electrode is connected to one pixel electrode 12 via the upper source electrode 19, and the drain electrode is connected to one signal line 14. The scanning lines 13 and the auxiliary capacitance lines 16 are formed on the gate insulating film, and are covered with the thin film transistor 15 by the interlayer insulating film 18. The upper source electrode 19 is connected to the signal line 1
4 together with the protective insulating film 20
Covered by The protective insulating film 20 further includes an insulating color filter 21 for filtering light transmitted through the pixel electrode 12.
Covered with. The color filter 21 is composed of red, green, and blue coloring layers R, G, and B that are formed as stripes that cover the columns of the pixel electrodes 12 respectively. The pixel electrode 12 contacts the upper source electrode 19 via the contact hole 22 formed in the color filter 21 above the auxiliary capacitance line 16. The electrode substrate G1 further includes an alignment film AL1 that covers the color filter 21 and the pixel electrode 12, and a polarizing plate PL1 that covers the insulating substrate 11 on the side opposite to the alignment film AL1.
【0013】電極基板G2は、ガラス板等の光透過性絶
縁基板23、複数の画素電極12に対向するように絶縁
基板23上に配置される対向電極24、対向電極24を
覆う配向膜AL2、この配向膜AL2とは反対側におい
て絶縁基板23を覆う偏光板PL2を含む。The electrode substrate G2 includes a light-transmitting insulating substrate 23 such as a glass plate, a counter electrode 24 disposed on the insulating substrate 23 so as to face the plurality of pixel electrodes 12, an alignment film AL2 covering the counter electrode 24, On the side opposite to the alignment film AL2, a polarizing plate PL2 that covers the insulating substrate 23 is included.
【0014】液晶表示素子は、さらに電極基板G1およ
びG2間に液晶注入空間を確保するために電極基板G1
から突出して電極基板G2を支持する複数の柱状スペー
サ25を備える。各柱状スペーサ25は電極基板G1を
下地としこの下地の平坦部から凹部に広がって形成され
る。具体的には、カラーフィルタ21が平坦部として用
いられ、このカラーフィルタ21に形成されたコンタク
トホール22が凹部として用いられる。尚、画素電極1
2および対向電極24は光透過性であり、走査線13、
信号線14、および補助容量線16は遮光性である。The liquid crystal display element further includes an electrode substrate G1 for securing a liquid crystal injection space between the electrode substrates G1 and G2.
And a plurality of columnar spacers 25 projecting therefrom and supporting the electrode substrate G2. Each columnar spacer 25 is formed with the electrode substrate G1 as a base and extending from a flat portion of the base to a concave portion. Specifically, the color filter 21 is used as a flat portion, and the contact hole 22 formed in the color filter 21 is used as a concave portion. The pixel electrode 1
2 and the counter electrode 24 are light-transmitting,
The signal line 14 and the auxiliary capacitance line 16 are light-shielding.
【0015】ここで、上述の液晶表示素子の製造方法に
ついて説明する。Here, a method of manufacturing the above-described liquid crystal display device will be described.
【0016】電極基板G1の製造工程では、公知の製造
プロセスに従って成膜およびパターニングが絶縁基板1
1上で繰り返され、上述の走査線13、信号線14、薄
膜トランジスタ15、補助容量線16、層間絶縁膜1
8、上部ソース電極19、および保護絶縁膜20が形成
される。保護絶縁膜20の形成後、赤用顔料を分散させ
た紫外線硬化型アクリル樹脂レジストがスピンナーで保
護絶縁膜20の全面に塗布され、フォトマスクを介して
波長365nmおよびエネルギー密度100mJ/cm
2の光を照射することにより選択的に露光される。この
露光後、樹脂レジストの現像処理がKOHの1%水溶液
で10秒間行われ、これにより現像される露光領域に対
応して厚さ3μmとなる赤色の着色層Rを形成する。コ
ンタクトホール22は着色層Rにおいて15×15μm
というサイズで上部ソース電極19を露出するよう形成
される。ここで、コンタクトホール22は少なくとも深
さ3μmの凹部となる。緑色の着色層Gおよび青色の着
色層Bは上述の着色層Rと同様にして形成される。着色
層R,G,Bは画素電極12の列にそれぞれ対向する幅
40μmのストライプである。尚、着色層Gは緑用顔料
を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト、着色
層Bは青用顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂
レジストを用いてそれぞれ形成される。カラーフィルタ
21がこれら着色層R,G,Bにより得られた後、厚さ
1500オングストロームのITO膜をスパッタ法によ
り堆積し、このITO膜をフォトリソグラフィ法により
パターニングすることにより複数の画素電極12が形成
される。In the manufacturing process of the electrode substrate G1, film formation and patterning are performed on the insulating substrate 1 according to a known manufacturing process.
1, the scanning line 13, the signal line 14, the thin film transistor 15, the auxiliary capacitance line 16, the interlayer insulating film 1
8, an upper source electrode 19, and a protective insulating film 20 are formed. After the formation of the protective insulating film 20, an ultraviolet curable acrylic resin resist in which a red pigment is dispersed is applied to the entire surface of the protective insulating film 20 by a spinner, and the wavelength is 365 nm and the energy density is 100 mJ / cm through a photomask.
The light is selectively exposed by irradiating the second light. After this exposure, the resin resist is developed with a 1% aqueous solution of KOH for 10 seconds, thereby forming a red colored layer R having a thickness of 3 μm corresponding to the exposed area to be developed. The contact hole 22 is 15 × 15 μm in the colored layer R.
Is formed so as to expose the upper source electrode 19. Here, the contact hole 22 is a recess having a depth of at least 3 μm. The green coloring layer G and the blue coloring layer B are formed in the same manner as the coloring layer R described above. The coloring layers R, G, and B are stripes each having a width of 40 μm and opposed to the columns of the pixel electrodes 12. The colored layer G is formed using an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a green pigment is dispersed, and the colored layer B is formed using an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a blue pigment is dispersed. After the color filter 21 is obtained by the coloring layers R, G, and B, an ITO film having a thickness of 1500 Å is deposited by a sputtering method, and the ITO film is patterned by a photolithography method to form a plurality of pixel electrodes 12. It is formed.
【0017】画素電極12の形成後、感光性透明アクリ
ル樹脂がスピンナーでカラーフィルタ21および画素電
極12の全面に塗布され、90℃で10分乾燥させてか
らフォトマスクを介して波長365nmおよびエネルギ
ー密度300mJ/cm2の光を照射することにより選
択的に露光される。この露光後、アクリル樹脂はpH1
1.5のアルカリ水溶液で現像処理され、さらに200
℃で60分焼成され、これにより現像される露光領域に
対応して複数の柱状スペーサ25を形成する。ここで、
各柱状スペーサ25は行方向において7画素毎に1個の
割合で設けられ、補助容量線16により遮光され画素電
極12の開口部を避けた場所に配置される。この場合、
柱状スペーサ25は幅15μm、長さ40μm、高さ
5.5μmであり、カラーフィルタ21を平坦部としコ
ンタクトホール22を凹部として平坦部から凹部に広が
って形成される。さらに、柱状スペーサ25の形状は先
端よりも太い基端を持つ順テーパ状となる。この柱状ス
ペーサ25の形成後、配向膜材料がカラーフィルタ2
1、画素電極12、および柱状スペーサの全面を覆って
500オングストロームの厚さで塗布され、さらにラビ
ング処理され、これにより配向膜AL1を形成する。
尚、柱状スペーサ25の欠落はラビング処理において発
生しなかった。After the formation of the pixel electrode 12, a photosensitive transparent acrylic resin is applied to the entire surface of the color filter 21 and the pixel electrode 12 with a spinner, dried at 90 ° C. for 10 minutes, and then passed through a photomask at a wavelength of 365 nm and an energy density of It is selectively exposed by irradiating light of 300 mJ / cm 2 . After this exposure, the acrylic resin has a pH of 1
Developed with 1.5 aqueous alkaline solution
It is baked at 60 ° C. for 60 minutes, thereby forming a plurality of columnar spacers 25 corresponding to the exposed regions to be developed. here,
Each columnar spacer 25 is provided at a rate of one for every seven pixels in the row direction, and is arranged at a location that is shielded from light by the auxiliary capacitance line 16 and avoids the opening of the pixel electrode 12. in this case,
The columnar spacer 25 has a width of 15 μm, a length of 40 μm, and a height of 5.5 μm, and is formed to extend from the flat portion to the recess with the color filter 21 as a flat portion and the contact hole 22 as a recess. Further, the shape of the columnar spacer 25 is a forward tapered shape having a base end wider than the front end. After the formation of the columnar spacer 25, the alignment film material is
1. The pixel electrode 12 and the columnar spacers are coated to a thickness of 500 Å to cover the entire surface, and further rubbed to form an alignment film AL1.
Incidentally, the lack of the columnar spacer 25 did not occur in the rubbing treatment.
【0018】電極基板G2の製造工程では、対向電極2
4が厚さ1500オングストロームのITO膜をスパッ
タ法により絶縁基板23上に堆積することにより形成さ
れる。In the manufacturing process of the electrode substrate G2, the counter electrode 2
4 is formed by depositing an ITO film having a thickness of 1500 angstroms on the insulating substrate 23 by a sputtering method.
【0019】この後、配向膜材料が対向電極24の全面
を覆って500オングストロームの厚さで塗布され、さ
らにラビング処理され、これにより配向膜AL2を形成
する。配向膜AL2のラビング方向は配向膜AL1のラ
ビング方向に対して90度ずれるように設定される。Thereafter, an alignment film material is applied to a thickness of 500 angstroms so as to cover the entire surface of the counter electrode 24, and is further subjected to a rubbing process, thereby forming an alignment film AL2. The rubbing direction of the alignment film AL2 is set so as to be shifted by 90 degrees from the rubbing direction of the alignment film AL1.
【0020】電極基板G1およびG2の貼り合せ工程で
は、例えば熱(または紫外線)硬化型のアクリルまたは
エポキシ系接着剤が液晶注入口を残すように電極基板G
1の外縁に沿って配向膜AL1上に印刷され、さらに電
極転移材が接着剤外側で補助容量線16に接続される転
移電極上に形成される。この後、電極基板G1およびG
2が配向膜AL1およびAL2を内側にして重ねられ、
加熱処理される。これにより、接着剤が周辺シール材1
0Aとして硬化される。続いて、液晶組成物が電極基板
G1およびG2間において周辺シール材10Aにより取
り囲まれ柱状スペーサ25により確保された液晶注入空
間に液晶注入口から通常の方法で注入され、この後、液
晶注入口は紫外線硬化樹脂で封止される。液晶組成物は
例えばネマティック液晶にカイラル剤を0.1wt%添加
して構成される。こうして得られた液晶表示素子は、電
極基板G1およびG2間のギャップが4.9±0.2μ
mという範囲に維持される非常に高い均一性を持ち、高
コントラスト比の優れた表示品位を得ることができる。
また、低温衝撃試験でも真空泡の発生は皆無である。In the step of bonding the electrode substrates G1 and G2, for example, a heat (or ultraviolet) curable acrylic or epoxy-based adhesive is used to leave the liquid crystal injection port.
1 is printed on the alignment film AL1 along the outer edge of the first electrode 1 and an electrode transfer material is formed on the transfer electrode connected to the auxiliary capacitance line 16 outside the adhesive. Thereafter, the electrode substrates G1 and G
2 are stacked with the alignment films AL1 and AL2 inside,
Heat treated. As a result, the adhesive becomes the peripheral sealing material 1
It is cured as OA. Subsequently, the liquid crystal composition is injected into the liquid crystal injection space surrounded by the peripheral sealing material 10A between the electrode substrates G1 and G2 and secured by the columnar spacer 25 from the liquid crystal injection port in a usual manner. It is sealed with an ultraviolet curing resin. The liquid crystal composition is constituted, for example, by adding 0.1 wt% of a chiral agent to a nematic liquid crystal. In the liquid crystal display device thus obtained, the gap between the electrode substrates G1 and G2 was 4.9 ± 0.2 μm.
m, having very high uniformity maintained in the range of m, and excellent display quality with a high contrast ratio can be obtained.
Also, no vacuum bubbles are generated in the low-temperature impact test.
【0021】本実施形態の液晶表示素子では、柱状スペ
ーサ25が電極基板G1を下地としこの下地の平坦部か
ら凹部に広がるように形成される。この構造であれば、
液晶表示素子の高精細化に伴って柱状スペーサ25の形
成場所が制約されても、図4に示すように設計どおりの
高さおよび先端側基板接触面積を得ることができる平坦
な下地を選んで柱状スペーサ25を形成する場合よりも
広い柱状スペーサ25の下地を確保することができる。
柱状スペーサ25の先端は下地の平坦部に対応する領域
で電極基板G2に接触し、下地の凹部に対応する領域で
電極基板G2に接触しないことになるが、この柱状スペ
ーサ25の形成位置がばらついても、柱状スペーサ25
の先端側基板接触面の最外郭を下地の平坦部および凹部
の境界にほぼ一致させることができる。すなわち、柱状
スペーサ25の形成位置のバラツキに対するマージンを
必要としないため、柱状スペーサ25の高さおよび先端
側基板接触面積の低下を防止できる。さらに、柱状スペ
ーサ25が下地の凹部にも広がるため、パターニングの
際にスペーサエッジにあたる現像液の勢いで浸食されて
も、この浸食が平坦部および凹部の境界位置を越えて進
むことが避けられる。従って、十分な強度の柱状スペー
サ25により液晶注入空間を確保することができる。In the liquid crystal display element of the present embodiment, the columnar spacer 25 is formed so as to extend from the flat portion of the base to the recess with the base of the electrode substrate G1. With this structure,
Even if the place where the columnar spacer 25 is formed is restricted due to the high definition of the liquid crystal display element, as shown in FIG. 4, a flat base that can obtain the designed height and the contact area on the front end side substrate is selected. The base of the columnar spacer 25 that is wider than when the columnar spacer 25 is formed can be secured.
Although the tip of the columnar spacer 25 contacts the electrode substrate G2 in a region corresponding to the flat portion of the base and does not contact the electrode substrate G2 in a region corresponding to the concave portion of the base, the position where the columnar spacer 25 is formed varies. Even, the columnar spacer 25
The outermost contour of the front-end-side substrate contact surface can substantially match the boundary between the flat portion and the concave portion of the base. That is, since a margin for the variation in the formation position of the columnar spacer 25 is not required, it is possible to prevent the height of the columnar spacer 25 and the contact area of the tip-side substrate from being reduced. Further, since the columnar spacers 25 also extend to the concave portions on the base, even if the columnar spacers 25 are eroded by the force of the developing solution that strikes the spacer edges during patterning, the erosion is prevented from proceeding beyond the boundary between the flat portions and the concave portions. Therefore, a liquid crystal injection space can be secured by the columnar spacer 25 having sufficient strength.
【0022】以下、本発明の第2実施形態に係るアクテ
ィブマトリクス型液晶表示素子について添付図面を参照
して説明する。この液晶表示素子は絶縁層30が図1に
示すカラーフィルタ21の代わりに柱状スペーサ25の
下地となり、カラーフィルタ21が電極基板G2の絶縁
基板23および対向電極24間に形成されることを除い
て第1実施形態の液晶表示素子と同様に構成される。こ
のため、第2実施形態の液晶表示素子は図1と同様な平
面構造を有する。Hereinafter, an active matrix type liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. This liquid crystal display element is the same as the liquid crystal display device except that the insulating layer 30 serves as a base of the columnar spacer 25 instead of the color filter 21 shown in FIG. 1, and the color filter 21 is formed between the insulating substrate 23 of the electrode substrate G2 and the counter electrode 24. The configuration is the same as that of the liquid crystal display device of the first embodiment. For this reason, the liquid crystal display device of the second embodiment has a planar structure similar to that of FIG.
【0023】図3は図1に示すI−I線に沿った第2実
施形態の液晶表示素子の断面構造を示す。図3におい
て、第1実施形態と同様の部分を同一参照符号で表し、
その説明を簡略化あるいは省略する。FIG. 3 shows a cross-sectional structure of the liquid crystal display device of the second embodiment along the line II shown in FIG. In FIG. 3, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals,
The description is simplified or omitted.
【0024】そこで、上述の液晶表示素子の製造方法に
ついて説明する。Therefore, a method of manufacturing the above-described liquid crystal display device will be described.
【0025】電極基板G1の製造工程では、公知の製造
プロセスに従って成膜およびパターニングが絶縁基板1
1上で繰り返され、上述の走査線13、信号線14、薄
膜トランジスタ15、補助容量線16、層間絶縁膜1
8、上部ソース電極19、および保護絶縁膜20が形成
される。保護絶縁膜20の形成後、感光性アクリル透明
樹脂がスピンナーで保護絶縁膜20の全面に塗布され、
90℃で10分乾燥させてからフォトマスクを介して波
長365nmおよびエネルギー密度300mJ/cm2
の光を照射することにより選択的に露光される。この露
光後、アクリル樹脂はpH11.5のアルカリ水溶液で
現像処理され、さらに200℃で60分焼成され、これ
により現像される露光領域に対応して厚さ3μmの絶縁
層30を形成する。コンタクトホール22は絶縁層30
において15×15μmというサイズで上部ソース電極
19を露出するよう形成される。ここで、コンタクトホ
ール22は少なくとも深さ3μmの凹部となる。この
後、厚さ1500オングストロームのITO膜をスパッ
タ法により堆積し、このITO膜をフォトリソグラフィ
法によりパターニングすることにより複数の画素電極1
2が形成される。In the manufacturing process of the electrode substrate G1, film formation and patterning are performed according to a known manufacturing process.
1, the scanning line 13, the signal line 14, the thin film transistor 15, the auxiliary capacitance line 16, the interlayer insulating film 1
8, an upper source electrode 19, and a protective insulating film 20 are formed. After the formation of the protective insulating film 20, a photosensitive acrylic transparent resin is applied to the entire surface of the protective insulating film 20 with a spinner,
After drying at 90 ° C. for 10 minutes, a wavelength of 365 nm and an energy density of 300 mJ / cm 2 are passed through a photomask.
The light is selectively exposed by irradiating the light. After this exposure, the acrylic resin is developed with an alkaline aqueous solution having a pH of 11.5, and further baked at 200 ° C. for 60 minutes, thereby forming an insulating layer 30 having a thickness of 3 μm corresponding to the exposed region to be developed. The contact hole 22 is an insulating layer 30
Is formed to expose the upper source electrode 19 in a size of 15 × 15 μm. Here, the contact hole 22 is a concave portion having a depth of at least 3 μm. Thereafter, an ITO film having a thickness of 1500 angstroms is deposited by a sputtering method, and the ITO film is patterned by a photolithography method to form a plurality of pixel electrodes 1.
2 are formed.
【0026】画素電極12の形成後、感光性透明アクリ
ル樹脂がスピンナーでカラーフィルタ21および画素電
極12の全面に塗布され、90℃で10分乾燥させてか
らフォトマスクを介して波長365nmおよびエネルギ
ー密度300mJ/cm2の光を照射することにより選
択的に露光される。この露光後、アクリル樹脂はpH1
1.5のアルカリ水溶液で現像処理され、さらに200
℃で60分焼成され、これにより現像される露光領域に
対応して複数の柱状スペーサ25を形成する。ここで、
各柱状スペーサ25は行方向において7画素毎に1個の
割合で設けられ、補助容量線16により遮光され画素電
極12の開口部を避けた場所に配置される。この場合、
柱状スペーサ25は幅15μm、長さ40μm、高さ
5.5μmであり、絶縁層30を平坦部としコンタクト
ホール22を凹部として平坦部から凹部に広がって形成
される。さらに、柱状スペーサ25の形状は先端よりも
太い基端を持つ順テーパ状となる。この柱状スペーサ2
5の形成後、配向膜材料がカラーフィルタ21、画素電
極12、および柱状スペーサの全面を覆って500オン
グストロームの厚さで塗布され、さらにラビング処理さ
れ、これにより配向膜AL1を形成する。尚、柱状スペ
ーサ25の欠落はラビング処理において発生しなかっ
た。After the formation of the pixel electrode 12, a photosensitive transparent acrylic resin is applied to the entire surface of the color filter 21 and the pixel electrode 12 with a spinner, dried at 90 ° C. for 10 minutes, and then passed through a photomask at a wavelength of 365 nm and energy density. It is selectively exposed by irradiating light of 300 mJ / cm 2 . After this exposure, the acrylic resin has a pH of 1
Developed with 1.5 aqueous alkaline solution
It is baked at 60 ° C. for 60 minutes, thereby forming a plurality of columnar spacers 25 corresponding to the exposed regions to be developed. here,
Each columnar spacer 25 is provided at a rate of one for every seven pixels in the row direction, and is arranged at a location that is shielded from light by the auxiliary capacitance line 16 and avoids the opening of the pixel electrode 12. in this case,
The columnar spacer 25 has a width of 15 μm, a length of 40 μm, and a height of 5.5 μm, and is formed to extend from the flat portion to the recess with the insulating layer 30 as a flat portion and the contact hole 22 as a recess. Further, the shape of the columnar spacer 25 is a forward tapered shape having a base end wider than the front end. This columnar spacer 2
After the formation of 5, an alignment film material is applied to a thickness of 500 angstroms so as to cover the entire surface of the color filter 21, the pixel electrode 12, and the columnar spacer, and is further subjected to a rubbing process, thereby forming an alignment film AL1. Incidentally, the lack of the columnar spacer 25 did not occur in the rubbing treatment.
【0027】電極基板G2の製造工程では、クロムのブ
ラックマトリクスが画素電極12のマトリクスに対応し
て絶縁基板23に形成され、さらに赤用顔料を分散させ
た紫外線硬化型アクリル樹脂レジストがスピンナーで絶
縁基板23に塗布され、フォトマスクを介して波長36
5nmおよびエネルギー密度100mJ/cm2の光を
照射することにより選択的に露光される。この露光後、
樹脂レジストの現像処理がKOHの1%水溶液で10秒
間行われ、これにより現像される露光領域に対応して厚
さ3μmとなる赤色の着色層Rを形成する。続いて、緑
色の着色層Gおよび青色の着色層Bは上述の着色層Rと
同様にして形成される。着色層R,G,Bは画素電極1
2の列にそれぞれ対向するストライプである。尚、着色
層Gは緑用顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂
レジスト、着色層Bは青用顔料を分散させた紫外線硬化
型アクリル樹脂レジストをそれぞれ用いて形成される。
カラーフィルタ21がこれら着色層R,G,Bにより得
られた後、対向電極24が厚さ1500オングストロー
ムのITO膜をスパッタ法によりカラーフィルタ21上
に堆積することにより形成される。この後、配向膜材料
が対向電極24の全面を覆って500オングストローム
の厚さで塗布され、さらにラビング処理され、これによ
り配向膜AL2を形成する。配向膜AL2のラビング方
向は配向膜AL1のラビング方向に対して90度ずれる
ように設定される。In the manufacturing process of the electrode substrate G2, a black matrix of chromium is formed on the insulating substrate 23 corresponding to the matrix of the pixel electrodes 12, and an ultraviolet curable acrylic resin resist in which a red pigment is dispersed is insulated by a spinner. The wavelength 36 applied to the substrate 23 through a photomask
It is selectively exposed by irradiating light of 5 nm and energy density of 100 mJ / cm 2 . After this exposure,
The resin resist is developed with a 1% aqueous solution of KOH for 10 seconds to form a red colored layer R having a thickness of 3 μm corresponding to the exposed area to be developed. Subsequently, the green coloring layer G and the blue coloring layer B are formed in the same manner as the above-described coloring layer R. The colored layers R, G, and B are the pixel electrodes 1
The stripes oppose each other in two rows. The colored layer G is formed using an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a green pigment is dispersed, and the colored layer B is formed using an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a blue pigment is dispersed.
After the color filter 21 is obtained from the colored layers R, G, and B, the counter electrode 24 is formed by depositing an 1500-Å-thick ITO film on the color filter 21 by a sputtering method. Thereafter, an alignment film material is applied to a thickness of 500 angstroms so as to cover the entire surface of the counter electrode 24, and is further rubbed, thereby forming an alignment film AL2. The rubbing direction of the alignment film AL2 is set so as to be shifted by 90 degrees from the rubbing direction of the alignment film AL1.
【0028】電極基板G1およびG2の貼り合せ工程
は、第1実施形態と同様に行われる。こうして得られた
液晶表示素子は、電極基板G1およびG2間のギャップ
が4.9±0.2μmという範囲に維持される非常に高
い均一性を持ち、高コントラスト比の優れた表示品位を
得ることができる。また、低温衝撃試験でも真空泡の発
生は皆無である。The step of bonding the electrode substrates G1 and G2 is performed in the same manner as in the first embodiment. The liquid crystal display device thus obtained has a very high uniformity in which the gap between the electrode substrates G1 and G2 is maintained in the range of 4.9 ± 0.2 μm, and obtains an excellent display quality with a high contrast ratio. Can be. Also, no vacuum bubbles are generated in the low-temperature impact test.
【0029】本実施形態の液晶表示素子では、柱状スペ
ーサ25が電極基板G1を下地としこの下地の平坦部か
ら凹部に広がるように形成される。このため、第1実施
形態と同様の効果を得ることができる。In the liquid crystal display device of the present embodiment, the columnar spacer 25 is formed so as to extend from the flat portion of the base to the recess with the base of the electrode substrate G1. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、高精細化
に伴う制約の下で液晶注入空間を確保することが容易な
液晶表示素子を提供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display element in which a liquid crystal injection space can be easily secured under the restrictions associated with high definition.
【図1】本発明の第1実施形態に係るアクティブマトリ
クス型液晶表示素子の平面構造を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a planar structure of an active matrix type liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1に示すI−I線に沿った液晶表示素子の断
面構造を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a cross-sectional structure of the liquid crystal display element taken along line II shown in FIG.
【図3】本発明の第2実施形態に係るアクティブマトリ
クス型液晶表示素子の断面構造を図1に示すI−I線に
沿って示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional structure of an active matrix type liquid crystal display element according to a second embodiment of the present invention along the line II shown in FIG.
【図4】柱状スペーサが平坦な下地を選んで形成される
従来の構成を本発明の構成と比較するために示す図であ
る。FIG. 4 is a diagram showing a conventional configuration in which a columnar spacer is formed by selecting a flat base, for comparison with the configuration of the present invention.
G1,G2…電極基板 LQ…液晶組成物 10…液晶セル 10A…周辺シール材 16…補助容量線 21…カラーフィルタ 22…コンタクトホール 25…柱状スペーサ 30…絶縁層 G1, G2: electrode substrate LQ: liquid crystal composition 10: liquid crystal cell 10A: peripheral sealing material 16: auxiliary capacitance line 21: color filter 22: contact hole 25: columnar spacer 30: insulating layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 LA09 LA16 LA19 LA20 NA14 NA17 NA24 NA25 NA33 NA39 NA45 NA55 NA60 PA08 QA12 QA14 QA15 TA04 TA09 TA12 TA13 2H090 JA03 JA05 JB02 JC12 JC17 LA02 LA04 LA05 LA15 MB02 MB03 2H091 FA02Y FA34Y FB04 FB13 FC10 FC26 FD04 FD12 FD22 FD24 GA13 LA03 LA11 LA15 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H089 LA09 LA16 LA19 LA20 NA14 NA17 NA24 NA25 NA33 NA39 NA45 NA55 NA60 PA08 QA12 QA14 QA15 TA04 TA09 TA12 TA13 2H090 JA03 JA05 JB02 JC12 JC17 LA02 LA04 LA05 LA15 MB02 MB03 2H091 FA02 FA02 FB13 FC10 FC26 FD04 FD12 FD22 FD24 GA13 LA03 LA11 LA15
Claims (3)
および第2基板間に挟持された液晶組成物と、前記第1
基板から突出して前記第2基板を支持する複数の柱状ス
ペーサとを備え、前記柱状スペーサが前記第1基板を下
地としこの下地の平坦部から凹部に広がって形成される
ことを特徴とする液晶表示素子。A pair of first and second substrates;
A liquid crystal composition sandwiched between a first substrate and a second substrate;
A plurality of columnar spacers protruding from the substrate and supporting the second substrate, wherein the columnar spacers are formed by using the first substrate as a base and extending from a flat portion of the base to a recess. element.
記凹部として形成された絶縁層を含むことを特徴とする
請求項1に記載の液晶表示素子。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first substrate includes an insulating layer having a contact hole formed as the recess.
を特徴とする請求項2に記載の液晶表示素子。3. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the insulating layer is a color filter.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000271906A JP2002082338A (en) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | Liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000271906A JP2002082338A (en) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | Liquid crystal display element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002082338A true JP2002082338A (en) | 2002-03-22 |
Family
ID=18758125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000271906A Pending JP2002082338A (en) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | Liquid crystal display element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002082338A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005107494A (en) * | 2003-09-08 | 2005-04-21 | Sharp Corp | Liquid crystal display device |
-
2000
- 2000-09-07 JP JP2000271906A patent/JP2002082338A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005107494A (en) * | 2003-09-08 | 2005-04-21 | Sharp Corp | Liquid crystal display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6570639B1 (en) | Liquid crystal display device including shield pattern and color filter coexist together in the vicinity of the inlet | |
JP3949759B2 (en) | Color filter substrate and liquid crystal display element | |
JP4455840B2 (en) | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof | |
US7542123B2 (en) | Board device and liquid crystal display device | |
JP4220030B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display element | |
KR101146532B1 (en) | Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same | |
KR100790352B1 (en) | Reflective and transflective liquid crystal display devices and manufacturing methods thereof | |
US7248312B2 (en) | Liquid crystal display panel and fabricating method thereof | |
KR100625027B1 (en) | LCD and its manufacturing method | |
US20070206135A1 (en) | Liquid crystal display element | |
JPH1068956A (en) | Liquid crystal display element and its production | |
JP4057816B2 (en) | Liquid crystal display | |
JP3987522B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
KR20050023967A (en) | Liquid Crystal Display Panel | |
JP2000258784A (en) | Liquid crystal display element | |
JP2002082338A (en) | Liquid crystal display element | |
KR101071135B1 (en) | LCD and its manufacturing method | |
JP2000187223A (en) | Liquid crystal display device | |
JPH09325342A (en) | Liquid crystal display element and its production | |
KR100790354B1 (en) | Manufacturing method of color filter substrate and array substrate for liquid crystal display | |
JP3949945B2 (en) | Liquid crystal display | |
US20080149933A1 (en) | Display panel | |
JP4021675B2 (en) | Liquid crystal display | |
KR20040061950A (en) | TFT LCD Panel and manufacturing method thereof | |
KR20020094314A (en) | Liquid Crystal Display Device and Fabricating Method Thereof |