JP2002072438A - 露光パターン検図装置及び露光パターン検図方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光パターンの検図を容易にかつ迅速に行う
ことが可能な検図装置及び検図方法を提供する。 【解決手段】 半導体装置のレイアウト設計データをデ
ータ変換してなる露光パターンデータから得られる露光
パターンの検図装置であり、階層構造情報抽出部１０
２、露光パターンデータ階層化部１０６及び露光パター
ンデータ表示部１０９を備えている。階層構造情報抽出
部１０２は、レイアウト設計データから各機能ブロック
の階層構造に関するデータを抽出する。露光パターンデ
ータ階層化部１０６は、抽出された階層構造に関するデ
ータとデータ変換を行う際のデータ変換情報とに基づい
て、露光パターンデータを機能ブロック毎に階層化して
階層化データベース１０７を作成する。露光パターンデ
ータ表示部１０９は、指定された機能ブロックに対応す
る露光パターンデータを階層化データベース１０７から
取り出して図形表示する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光パターン検図
装置及び露光パターン検図方法に関し、特には半導体装
置の製造工程における露光パターン検図装置及び露光パ
ターン検図方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造におけるＬＳＩ設計に
おいては、図４のフローに示すように、先ず製品の企画
に基づいてシステムの仕様を決定しＳ１、その仕様に基
づいてシステム設計Ｓ２、論理設計Ｓ３及び回路設計Ｓ
４を行い、さらにはレイアウト設計Ｓ５を経てレイアウ
ト設計データＳ６を作成する。このようなレイアウト設
計データＳ６の作成に際しては、図５に示すようにＬＳ
Ｉを構成する機能ブロックＡ，Ｚ毎、さらにはこれらを
分割したサブブロックＢや回路素子毎にレイアウト設計
を行い、これらを階層的に組み合わせることで、最終的
なレイアウト設計がなされる。このため、図４に示すレ
イアウト設計データＳ６は、機能ブロック毎や回路素子
毎に設計されたデータを階層的に組み合わせた構造を持
つものが一般的である。

【０００３】また、レイアウト設計データＳ６を作成し
た後には、このレイアウト設計データＳ６をデータ変換
Ｓ７し、ウエハ工程で用いる露光マスクの製造現場で使
用するＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）データ
からなる露光パターンデータＳ８を作成する。ＣＡＭデ
ータは、描画装置や検査装置等の露光マスク製造装置の
ハードウェアと密接な関係があり、それぞれの装置に最
適化されたフォーマットとなっている。このため、この
データ変換Ｓ７の際には、変換の対象となる機能ブロッ
ク名、変換データ番号、変換領域、変換倍率などの情報
を指定してフォーマット変換を行う。またフォーマット
変換と共に、図形処理（サイジング、回転等）、論理演
算（ＡＮＤ／ＯＲ／ＳＵＢ等）及び比較処理などを行
う。

【０００４】このようにして作成された露光パターンデ
ータＳ８は、半導体装置の製造におけるウエハプロセス
の工程別に構成されることになる。このため、この露光
パターンデータＳ８に基づいて、図６に示すような、各
工程別の露光マスク１１〜１３が得られるのである。

【０００５】また、このような構成の露光パターンデー
タＳ８を作成した後には、データ変換Ｓ７時に指定した
図形処理や論理演算が機能ブロック毎に正しく実行され
ていることを検証する必要がある。露光パターンデータ
Ｓ８の検証は、例えば図７に示すように、露光パターン
データを表示させる機能を持つ表示装置１５に、各工程
の露光マスク（図面においては露光マスク１１）を図形
表示させ、この表示図形を目視によって検図することに
よって行われている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、検図を行う
際に表示装置に表示される表示図形は、ウエハプロセス
の工程別に構成された露光パターンデータに基づく露光
マスクイメージであり、各機能ブロックにおける機能構
造が露光工程毎に分解され、さらには他の機能構造を分
解した一部分と組み合わされている場合もある。

【０００７】近年、ＬＳＩの集積度の大規模化に伴い露
光パターンも複雑化しており、データ変換における処理
も複雑かつ多段階化しているため、露光パターンデータ
の検証は必須である。しかし、上述したように機能構造
が分割された図形表示では、どの機能のどの部分がどの
領域に表示されているかを見分けることが困難になって
きている。

【０００８】つまり、このような露光マスクの目視によ
る検図では、露光パターンデータを得るためのデータ変
換が、図形処理や論理演算処理が機能ブロック毎に正し
く実行されていることを検証することは非常に困難で手
間のかかる作業となっているのである。

【０００９】そこで本発明は、露光パターンの検図を容
易にかつ迅速に行うことが可能な検図装置及び検図方法
を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るための本発明の検図装置は、半導体装置のレイアウト
設計データをデータ変換してなる露光パターンデータか
ら得られる露光パターンの検図装置であり、抽出部、階
層化部及び表示部を備えている。抽出部は、レイアウト
設計データから当該レイアウト設計データを構成する各
機能ブロックの階層構造及び各機能ブロック間の階層構
造に関するデータを抽出する。階層化部は、抽出部で抽
出された階層構造に関するデータとデータ変換を行う際
のデータ変換情報とに基づいて、露光パターンデータを
機能ブロック毎に階層化したデータベースを作成する。
表示部は、各機能ブロックのうち指定された機能ブロッ
クに対応する露光パターンデータをデータベースから取
り出して図形表示する

【００１１】そして、本発明の検図方法は、この検図装
置を用いて、指定された機能ブロックに関して階層化さ
れた露光パターンデータを図形表示させることを特徴と
している。

【００１２】このような検図装置及び検図方法では、レ
イアウト設計データの階層構造に基づいて、露光パター
ンデータを機能ブロック毎に階層化してデータベース化
している。このため、各機能ブロックに対応する露光パ
ターンデータをこのデータベースから取り出して表示さ
せた表示図形は、レイアウト設計データのように機能ブ
ロック毎に階層化され、各機能ブロックを構成する露光
パターンを組み合わせた表示図形となる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図１には、本発明の露光パ
ターン検図装置の一構成例を示す。以下にこの図を用い
て露光パターン検図装置および露光パターン検図方法の
実施形態を説明する。

【００１４】図に示す露光パターン検図装置は、レイア
ウト設計データ入力部１０１、このレイアウトデータ入
力部１０１からの情報を処理する階層構造情報抽出部１
０２、この階層構造情報抽出部１０２で抽出されたデー
タを格納する階層構造情報データベース１０３を備えて
いる。また、露光パターンデータ入力部１０４及びデー
タ変換情報入力部１０５を備え、さらにはこれらの入力
部１０４，１０５からの情報及び階層構造情報データベ
ース１０３に格納されたデータを処理する露光パターン
データ階層化部１０６、この露光パターンデータ階層化
部１０６で階層化されたデータを格納する階層化データ
ベース１０７を備えている。またこの他にも、機能ブロ
ック名入力部１０８、この機能ブロック名入力部１０８
で入力された情報に基づいて階層化データベース１０７
から情報を取り出して表示する露光パターンデータ表示
部１０９を備えている。

【００１５】次に、露光パターン検図装置を構成するこ
れらの各構成部を詳細に説明する。

【００１６】レイアウト設計データ入力部１０１から
は、レイアウト設計データが入力される。図２に示すよ
うに、このレイアウト設計データＳ６は、露光パターン
データＳ８を作成する前の変換元のデータとなるもの
で、機能ブロック毎に設計されたデータを階層的に組み
合わせた構造を持っている。そして、このレイアウト設
計データ入力部１０１から入力されたレイアウト設計デ
ータは、階層構造抽出部１０２に送られる。

【００１７】階層構造抽出部１０２は、レイアウト設計
データを構成する各機能ブロック間の親子関係や配置座
標などの階層構造、さらには各機能ブロックの階層構造
に関する情報を抽出し、階層構造情報データベース１０
３に記憶させる。例えば、ある機能ブロックは、基本セ
ルをどの座標にどのように配置してなるものであるの
か、さらにはある機能ブロックは基本セルを組み合わせ
たサブブロックをどの座標にどのように配置してなるも
のであるのかをと言ったような階層構造に関する情報を
機能ブロック、さらにサブブロック毎に抽出するのであ
る。

【００１８】また、露光パターンデータ入力部１０４か
らは、露光パターンデータが入力される。図２に示すよ
うに、この露光パターンデータＳ８は、レイアウト設計
データＳ６をデータ変換Ｓ７することによって作成さ
れ、半導体装置の製造におけるウエハプロセスの工程別
に構成されており、この露光パターンデータＳ８に基づ
いて、各露光工程の露光マスク（直接描画露光工程にお
ける露光パターンを含む）が作製されるのである。この
ような露光パターンデータは、露光パターンデータ入力
部１０４から入力されると露光パターンデータ階層化部
１０６に送られる。

【００１９】また、データ変換情報入力部１０５から
は、レイアウト設計データを露光パターンデータに変換
する際のデータ変換情報が入力される。図２に示すよう
に、レイアウト設計データＳ６に基づいて露光パターン
データＳ８を作成するためのデータ変換Ｓ７において
は、変換の対象となる機能ブロック名、変換データ番
号、変換領域、変換倍率などの情報を指定してフォーマ
ット変換が行われると共に、図形処理（サイジング、回
転等）、論理演算（ＡＮＤ／ＯＲ／ＳＵＢ等）及び比較
処理などが行われている。そこで、このデータ変換情報
入力部１０５からは、変換単位となった機能ブロック名
と各機能ブロックに対応する露光パターンデータファイ
ル名等の、機能ブロックとその階層構造に関するデータ
変換情報が入力される。そして、このデータ変換情報入
力部１０５から入力されたデータ変換情報は、露光パタ
ーンデータ階層化部１０６に送られる。

【００２０】そして、露光パターンデータ階層化部１０
６では、階層構造情報データベース１０３に記憶された
各機能ブロックの階層構造に関する情報、及びデータ変
換情報入力部１０５から入力されたデータ変換情報に基
づいて、露光パターンデータ入力部１０４から入力され
た露光パターンデータを機能ブロック毎に階層化する。
つまり、この露光パターンデータ階層化部１０６では、
半導体装置の製造におけるウエハプロセスの工程別に構
成されている露光パターンデータを、レイアウト設計デ
ータと同様の機能ブロック毎に階層化するのである。こ
のため、機能ブロック毎に階層化された露光パターンデ
ータは、レイアウト設計データの機能ブロックに対して
１：１で対応することになる。そして、機能ブロック毎
に階層化した露光パターンデータを、階層化データベー
ス１０７に記憶させる。

【００２１】そして、機能ブロック名入力部１０８から
は、露光パターンデータの検証のために検図を行いたい
機能ブロック名が入力される。ここでは、データ変換情
報入力部１０５から入力されたデータ変換情報に基づい
て、検図を行いたい任意の機能ブロック名が入力され
る。

【００２２】また、露光パターンデータ表示部１０９で
は、機能ブロック名入力部１０８から機能ブロック名が
入力された場合、入力された機能ブロックに対応する露
光パターンデータを階層化データベース１０７から取り
出し、取り出した露光パターンデータを図形表示する。
そして、この表示部１０９に表示された図形を目視によ
って検査し、露光パターンの検図を行うのである。

【００２３】このような構成の露光パターン検図装置及
びこの検図装置を用いた検図方法では、レイアウト設計
データの階層構造に基づいて、露光パターンデータが機
能ブロック毎に階層化してデータベース化される。つま
り、半導体装置の製造におけるウエハプロセスの工程別
に構成されている露光パターンデータは、機能ブロック
毎に階層化され、レイアウト設計データの機能ブロック
に対して１：１に対応する状態でデータベース化される
のである。このため、各機能ブロックに対応する露光パ
ターンデータを階層化データベース１０７から取り出し
て表示させた表示図形は、レイアウト設計データのよう
に機能ブロック毎に階層化され、各機能ブロックを構成
する露光パターンを組み合わせた表示図形となる。

【００２４】例えば、機能ブロックＡ、機能ブロックＺ
からなる半導体装置における露光パターンの検図におい
て、機能ブロック名入力部１０８から機能ブロックＡを
入力した場合、図３（１）に示すように、階層化された
機能ブロックＡの露光パターンデータがデータベースか
ら取り出されて露光パターンデータ表示部１０９に表示
される。この表示図形は、機能ブロックＡを構成する露
光パターンが階層的に組み合わされた表示図面になる。
同様に、機能ブロック名入力部１０８から機能ブロック
Ｚを入力した場合、図３（２）に示すように、階層化さ
れた機能ブロックＺの露光パターンデータがデータベー
スから取り出されて露光パターンデータ表示部１０９に
表示される。

【００２５】また、機能ブロック名入力部１０８から機
能ブロックＡ及び機能ブロックＺを入力した場合、図３
（３）に示すように、階層化された機能ブロックＡと機
能ブロックＺとの露光パターンデータがデータベースか
ら取り出されて表示部１０９に表示される。この表示図
形は、機能ブロックＡ及び機能ブロックＺを構成する露
光パターンが組み合わされた表示図面になる。

【００２６】以上のように、露光パターンデータ表示部
１０９には、露光パターンデータとして、各機能ブロッ
クを構成する露光パターンを組み合わせた表示図形が表
示されるため、レイアウト設計データを取り扱うと同様
に露光パターンデータを取り扱い、機能ブロック毎のデ
ータ変換内容（露光パターンデータ）を確認することが
できる。したがって、従来のように、各機能ブロックに
おける機能構造が露光工程別に分解された露光マスクイ
メージの状態で検図を行う場合と比較して、どの機能の
どの部分がどの領域に表示されているかを見分けるなど
の作業を行う必要はなく、検図の作業性が向上し異常パ
ターンの早期発見が可能になる。

【００２７】尚、上述の実施形態においては、レイアウ
ト設計データ入力部１０１、露光パターンデータ入力部
１０４、データ変換情報入力部１０５及び機能ブロック
名入力部１０８をそれぞれ個別に設けたが、入力の際に
指定された行き先にデータが送付されるようにすること
で、これらの入力部を共通にしても良い。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の露光パタ
ーン検図装置及び露光パターン検図方法によれば、レイ
アウト設計データの階層構造に基づいて、露光パターン
データを機能ブロック毎に階層化してデータベース化す
ることで、露光パターンデータを機能ブロック毎に階層
化して表示図形することが可能になる。したがって、露
光パターンデータの検証を行う際に、機能ブロック毎に
階層化された表示図形を検図することができるため、検
図の作業性の向上を図ることが可能になり、これによっ
て異常パターンの早期発見が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態の露光パターン検図装置の構成図であ
る。

【図２】露光パターンデータ作成のフローを示す図であ
る。

【図３】表示部に図形表示される各機能ブロックの露光
パターンデータである。

【図４】ＬＳＩ製造における設計フローを示す図であ
る。

【図５】レイアウト設計データの構成を示す図である。

【図６】露光パターンデータの構成を示す図である。

【図７】従来の表示部に図形表示される露光パターンデ
ータである。

【符号の説明】

１０２…階層構造情報抽出部、１０６…露光パターンデ
ータ階層化部、１０７…階層化データベース、１０９…
露光パターンデータ表示部

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体装置のレイアウト設計データをデ
   ータ変換してなる露光パターンデータから得られる露光
   パターンの検図装置であって、 前記レイアウト設計データから、当該レイアウト設計デ
   ータを構成する各機能ブロック間の階層構造及び各機能
   ブロックの階層構造に関するデータを抽出する抽出部
   と、 前記抽出部で抽出された階層構造に関するデータと前記
   データ変換を行う際のデータ変換情報とに基づいて、前
   記露光パターンデータを前記機能ブロック毎に階層化し
   たデータベースを作成する階層化部と、 前記各機能ブロックのうち指定された機能ブロックに対
   応する露光パターンデータを前記データベースから取り
   出して図形表示する表示部とを備えたことを特徴とする
   露光パターン検図装置。
2. 【請求項２】 半導体装置のレイアウト設計データをデ
   ータ変換してなる露光パターンデータから得られる露光
   パターンを検図する方法であって、 前記レイアウト設計データから、当該レイアウト設計デ
   ータを構成する各機能ブロック間の階層構造及び各機能
   ブロックの階層構造に関するデータを抽出し、 前記抽出された階層構造に関するデータと前記データ変
   換を行う際のデータ変換情報とに基づいて、前記露光パ
   ターンデータを前記機能ブロック毎に階層化したデータ
   ベースを作成し、 前記各機能ブロックのうち指定された機能ブロックに対
   応する露光パターンデータを前記データベースから取り
   出して図形表示することを特徴とする露光パターン検図
   方法。