JP2002071993A - 光導波路基板とその製造方法、及び光導波路部品とその製造方法 - Google Patents
光導波路基板とその製造方法、及び光導波路部品とその製造方法Info
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- JP2002071993A JP2002071993A JP2000268334A JP2000268334A JP2002071993A JP 2002071993 A JP2002071993 A JP 2002071993A JP 2000268334 A JP2000268334 A JP 2000268334A JP 2000268334 A JP2000268334 A JP 2000268334A JP 2002071993 A JP2002071993 A JP 2002071993A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コア成形時に熱膨張に起因する転写精度の低
下を生じることのない、微細パターンのコアを有する光
導波路基板の構成及び製造方法を提供する。 【解決手段】 平面ガラス基板からなる下部クラッド層
11上に、紫外線硬化樹脂12を塗布する。コア形状の
線状凸部を有する紫外線を透過する型の裏面より紫外線
を照射し、紫外線硬化樹脂12を硬化させ、溝部14を
有する中間クラッド層13を形成する。次に屈折率の異
なる透明樹脂を溝部14に充填し、コア15を形成す
る。そして、その上に平面ガラス基板からなる上部クラ
ッド層17を固定し、光導波路基板を製作する。
下を生じることのない、微細パターンのコアを有する光
導波路基板の構成及び製造方法を提供する。 【解決手段】 平面ガラス基板からなる下部クラッド層
11上に、紫外線硬化樹脂12を塗布する。コア形状の
線状凸部を有する紫外線を透過する型の裏面より紫外線
を照射し、紫外線硬化樹脂12を硬化させ、溝部14を
有する中間クラッド層13を形成する。次に屈折率の異
なる透明樹脂を溝部14に充填し、コア15を形成す
る。そして、その上に平面ガラス基板からなる上部クラ
ッド層17を固定し、光導波路基板を製作する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、安価な方法で製造
できる高精度で信頼性の高い光導波路基板とその製造方
法、及び光ファイバを接続するための光導波路部品とそ
の製造方法に関する。
できる高精度で信頼性の高い光導波路基板とその製造方
法、及び光ファイバを接続するための光導波路部品とそ
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図13は、一般的な石英系シングルモー
ドの光導波路基板の構造を示す断面図である。この光導
波路基板は、下部クラッド層121及び上部クラッド層
123よりも屈折率の高いコア122aの部分に光ビー
ムが案内されて、光ビームが光導波路の軸方向に伝搬す
る構成となっている。
ドの光導波路基板の構造を示す断面図である。この光導
波路基板は、下部クラッド層121及び上部クラッド層
123よりも屈折率の高いコア122aの部分に光ビー
ムが案内されて、光ビームが光導波路の軸方向に伝搬す
る構成となっている。
【0003】このような従来の光導波路基板の製造方法
を、図14を用いて説明する。図14(a)に示すよう
に、下部クラッド層121を兼ねた石英基板上に、火炎
堆積法などを用いて、下部クラッド層121よりも屈折
率の高い光学材料122を成膜し、図14(b)のよう
な状態にする。次にフォトリソグラフ法並びにドライエ
ッチング法により、光学材料122を所定のコアのパタ
ーンに加工し、図14(c)のようにコア122aを形
成する。最後に図14(d)に示すように、コア122
aを覆うよう上部クラッド層123を形成して、光導波
路基板に仕上げる。このような製造方法を記載した参考
文献としては、河内著、オプトロニクス、No.8、8
5、1988等がある。
を、図14を用いて説明する。図14(a)に示すよう
に、下部クラッド層121を兼ねた石英基板上に、火炎
堆積法などを用いて、下部クラッド層121よりも屈折
率の高い光学材料122を成膜し、図14(b)のよう
な状態にする。次にフォトリソグラフ法並びにドライエ
ッチング法により、光学材料122を所定のコアのパタ
ーンに加工し、図14(c)のようにコア122aを形
成する。最後に図14(d)に示すように、コア122
aを覆うよう上部クラッド層123を形成して、光導波
路基板に仕上げる。このような製造方法を記載した参考
文献としては、河内著、オプトロニクス、No.8、8
5、1988等がある。
【0004】一方、樹脂材料は、石英に比べて光の透過
性能や信頼性が劣るが、成形が容易である。このため光
導波路基板の低コスト化を図るべく、樹脂を用いた光導
波路基板も検討されている。樹脂製の光導波路基板の製
造方法は、クラッド層及びコア層を順次形成し、石英製
の光導波路基板の製造と同様に、コアをドライエッチン
グ法によりパターニングして製造する。
性能や信頼性が劣るが、成形が容易である。このため光
導波路基板の低コスト化を図るべく、樹脂を用いた光導
波路基板も検討されている。樹脂製の光導波路基板の製
造方法は、クラッド層及びコア層を順次形成し、石英製
の光導波路基板の製造と同様に、コアをドライエッチン
グ法によりパターニングして製造する。
【0005】しかしながら、コアのパターニングにフォ
トリソグラフ法及びドライエッチング法を用いた場合、
複雑で高精度な設備が多数必要となる。従って、このよ
うな方法で光導波路基板を製造していたのでは、材料は
安価であるが、実質的に光導波路基板を安価に製造する
ことが困難である。
トリソグラフ法及びドライエッチング法を用いた場合、
複雑で高精度な設備が多数必要となる。従って、このよ
うな方法で光導波路基板を製造していたのでは、材料は
安価であるが、実質的に光導波路基板を安価に製造する
ことが困難である。
【0006】最近では、特開平8−320420号公報
に開示されているように、図15に示したような光導波
路基板の製造方法が用いられている。この製造方法で
は、図15(a)に示すように、ガラスのような熱可塑
性材料からなる被成形物131を用い、これを加熱軟化
させて平板状にする。次に図15(b)に示すように、
コアパターンの反転形状(凸部)を有するプレス型でプ
レス成形し、冷却後に成形物を取り出す。こうするとコ
アパターンの転写が行われ、凹部131aが形成され
る。この平板状部材を光導波路基板にするには、図15
(c)に示すように、屈折率の異なる樹脂132を凹部
131aに埋め込む。次に図15(d)に示すように、
上部クラッド層133となる基板を下部クラッド層13
4の上面に形成して光導波路基板を作製する。
に開示されているように、図15に示したような光導波
路基板の製造方法が用いられている。この製造方法で
は、図15(a)に示すように、ガラスのような熱可塑
性材料からなる被成形物131を用い、これを加熱軟化
させて平板状にする。次に図15(b)に示すように、
コアパターンの反転形状(凸部)を有するプレス型でプ
レス成形し、冷却後に成形物を取り出す。こうするとコ
アパターンの転写が行われ、凹部131aが形成され
る。この平板状部材を光導波路基板にするには、図15
(c)に示すように、屈折率の異なる樹脂132を凹部
131aに埋め込む。次に図15(d)に示すように、
上部クラッド層133となる基板を下部クラッド層13
4の上面に形成して光導波路基板を作製する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな転写方法では、加熱軟化した被成形物をプレス型と
接触させて冷却するので、被成形物とプレス型との熱膨
張係数の差に起因して熱応力が発生する。その結果、被
成形物に転写されるパターンの精度が低下する。特に、
プレス型の中心から外周に向けて距離が長くなるほど、
パターンずれが大きくなる。特に、被成形物に樹脂材料
を用いた場合は、型の材料として用いられる石英などの
材料と比べると、1〜2桁程度も熱膨張係数が大きいの
で、ひどい場合には、プレス型で樹脂材料がえぐられる
ようになる。
うな転写方法では、加熱軟化した被成形物をプレス型と
接触させて冷却するので、被成形物とプレス型との熱膨
張係数の差に起因して熱応力が発生する。その結果、被
成形物に転写されるパターンの精度が低下する。特に、
プレス型の中心から外周に向けて距離が長くなるほど、
パターンずれが大きくなる。特に、被成形物に樹脂材料
を用いた場合は、型の材料として用いられる石英などの
材料と比べると、1〜2桁程度も熱膨張係数が大きいの
で、ひどい場合には、プレス型で樹脂材料がえぐられる
ようになる。
【0008】実際、本発明者が具体的に検討したところ
によると、プレス型を用いて樹脂基板に転写すると、ミ
クロンオーダのレベルで溝の幅が広がり、溝形状が乱れ
てしまった。この現象は、冷却時に樹脂基板がプレス型
よりも大きく収縮し、樹脂基板がその転写中央部に向か
って収縮した結果であると考えられる。このように、樹
脂材料は低温で成形できる長所があり、製造コスト上も
有利であるにもかかわらず、プレス成形によりパターン
を転写しようとすると、微細なパターンを正確に転写で
きなくなるという問題があった。
によると、プレス型を用いて樹脂基板に転写すると、ミ
クロンオーダのレベルで溝の幅が広がり、溝形状が乱れ
てしまった。この現象は、冷却時に樹脂基板がプレス型
よりも大きく収縮し、樹脂基板がその転写中央部に向か
って収縮した結果であると考えられる。このように、樹
脂材料は低温で成形できる長所があり、製造コスト上も
有利であるにもかかわらず、プレス成形によりパターン
を転写しようとすると、微細なパターンを正確に転写で
きなくなるという問題があった。
【0009】また、光導波路基板全体を樹脂で構成した
場合、熱膨張係数が大きいために、周囲の温度変化によ
り光導波路パターンが変形し、信頼性が十分確保されな
くなるという課題があった。
場合、熱膨張係数が大きいために、周囲の温度変化によ
り光導波路パターンが変形し、信頼性が十分確保されな
くなるという課題があった。
【0010】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたものであって、従来の熱間による成形法を用
いることなく、紫外線硬化樹脂を中間クラッド層あるい
はコアに用いて、熱膨張に起因する転写精度の低下を防
止し、微細パターンのコアを有する光導波路基板、光フ
ァイバを接続するための光導波路部品、及びそれらの製
造方法を実現することを目的とする。
てなされたものであって、従来の熱間による成形法を用
いることなく、紫外線硬化樹脂を中間クラッド層あるい
はコアに用いて、熱膨張に起因する転写精度の低下を防
止し、微細パターンのコアを有する光導波路基板、光フ
ァイバを接続するための光導波路部品、及びそれらの製
造方法を実現することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の光導波路基板
は、光ビームをコア内で拘束して前記コアの軸に沿って
伝搬させる光導波路基板である。また本発明の光導波路
部品は、光ビームをコア内で拘束して前記コアの軸に沿
って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結合させ
る光導波路部品である。本発明の製造方法は、それらの
光導波路基板あるいは光導波路部品を製造する方法であ
る。
は、光ビームをコア内で拘束して前記コアの軸に沿って
伝搬させる光導波路基板である。また本発明の光導波路
部品は、光ビームをコア内で拘束して前記コアの軸に沿
って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結合させ
る光導波路部品である。本発明の製造方法は、それらの
光導波路基板あるいは光導波路部品を製造する方法であ
る。
【0012】本発明の第1の光導波路基板の製造方法
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工
程と、前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n
2を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、前記コア
と同一形状を有する線状凸部が形成された紫外線を透過
する型を用いて前記紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型の
線状凸部を前記下部クラッド層の光学的接合面に当接さ
せる工程と、前記型の裏面より紫外線を照射することに
より、前記紫外線硬化樹脂を硬化させた後、前記型を離
型し、前記コアの空間となる溝部が形成された中間クラ
ッド層を得る工程と、前記中間クラッド層の前記溝部
に、屈折率n3(n3>n2,n1)を有する透明樹脂
を充填して、硬化させることにより前記コアを得る工程
と、前記コアが形成された後の前記中間クラッド層の上
面に、屈折率n4(n4<n3)を有する平面ガラス基
板を接合することにより上部クラッド層を形成する工程
とを有する。
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工
程と、前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n
2を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、前記コア
と同一形状を有する線状凸部が形成された紫外線を透過
する型を用いて前記紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型の
線状凸部を前記下部クラッド層の光学的接合面に当接さ
せる工程と、前記型の裏面より紫外線を照射することに
より、前記紫外線硬化樹脂を硬化させた後、前記型を離
型し、前記コアの空間となる溝部が形成された中間クラ
ッド層を得る工程と、前記中間クラッド層の前記溝部
に、屈折率n3(n3>n2,n1)を有する透明樹脂
を充填して、硬化させることにより前記コアを得る工程
と、前記コアが形成された後の前記中間クラッド層の上
面に、屈折率n4(n4<n3)を有する平面ガラス基
板を接合することにより上部クラッド層を形成する工程
とを有する。
【0013】本発明の第1の光導波路基板は、屈折率n
1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層と、屈折率
n4の平面ガラス基板からなる上部クラッド層と、前記
下部クラッド層と前記上部クラッド層とに挟持され、屈
折率n2を有する紫外線硬化樹脂からなり、前記コアの
空間となる溝部が設けられた中間クラッド層と、前記中
間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n4,n
2,n1)を有する透明樹脂を充填し硬化させて得た前
記コアとを有する。
1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層と、屈折率
n4の平面ガラス基板からなる上部クラッド層と、前記
下部クラッド層と前記上部クラッド層とに挟持され、屈
折率n2を有する紫外線硬化樹脂からなり、前記コアの
空間となる溝部が設けられた中間クラッド層と、前記中
間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n4,n
2,n1)を有する透明樹脂を充填し硬化させて得た前
記コアとを有する。
【0014】本発明の第1の光導波路部品の製造方法
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得
る工程と、前記光ファイバの固定溝を形成するための線
状山型突起が形成されたプレス型を用いて前記被成形用
ガラス基板を押圧するとともに、前記被成形用ガラス基
板を加熱することにより軟化させ、前記被成形用ガラス
基板の一部に前記固定溝を形成するとともに、前記被成
形用ガラス基板の他の部分に下部クラッド層を形成する
工程と、前記被成形用ガラス基板の下部クラッド層の上
面に、屈折率n2を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工
程と、前記コアと同一形状を有する線状凸部が形成され
た紫外線を透過する型を用いて、前記線状凸部と前記光
ファイバの固定溝の中心線が一致するように前記紫外線
硬化樹脂を押圧し、前記型の線状凸部を前記被成形用ガ
ラス基板の下部クラッド層の平面部分に当接させる工程
と、前記型の裏面より紫外線を照射することにより前記
紫外線硬化樹脂を硬化させた後、前記型を開放し、前記
コアの空間となる溝部が形成された中間クラッド層を得
る工程と、前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3
(n3>n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化
させることにより前記コアを得る工程と、前記コアが形
成された後の中間クラッド層の上面に、屈折率n4(n
4<n3)を有する平面ガラス基板を接合することによ
り上部クラッド層を形成する工程とを有する。
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得
る工程と、前記光ファイバの固定溝を形成するための線
状山型突起が形成されたプレス型を用いて前記被成形用
ガラス基板を押圧するとともに、前記被成形用ガラス基
板を加熱することにより軟化させ、前記被成形用ガラス
基板の一部に前記固定溝を形成するとともに、前記被成
形用ガラス基板の他の部分に下部クラッド層を形成する
工程と、前記被成形用ガラス基板の下部クラッド層の上
面に、屈折率n2を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工
程と、前記コアと同一形状を有する線状凸部が形成され
た紫外線を透過する型を用いて、前記線状凸部と前記光
ファイバの固定溝の中心線が一致するように前記紫外線
硬化樹脂を押圧し、前記型の線状凸部を前記被成形用ガ
ラス基板の下部クラッド層の平面部分に当接させる工程
と、前記型の裏面より紫外線を照射することにより前記
紫外線硬化樹脂を硬化させた後、前記型を開放し、前記
コアの空間となる溝部が形成された中間クラッド層を得
る工程と、前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3
(n3>n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化
させることにより前記コアを得る工程と、前記コアが形
成された後の中間クラッド層の上面に、屈折率n4(n
4<n3)を有する平面ガラス基板を接合することによ
り上部クラッド層を形成する工程とを有する。
【0015】本発明の第1の光導波路部品は、屈折率n
1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部に光学
的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記ガラス
基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成された
光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベース基
板の下部クラッド層の光学的接合面に設けられ、屈折率
n2を有する紫外線硬化樹脂からなり、前記コアの空間
となる溝部が前記光ファイバの固定溝の延長線上に設け
られた中間クラッド層と、前記中間クラッド層の溝部
に、屈折率n3(n3>n2,n1)を有する透明樹脂
を充填し硬化させて得た前記コアと、前記コアと中間ク
ラッド層の上面に、屈折率n4(n4<n3)を有する
平面ガラス基板を接合して形成された上部クラッド層と
を有する。
1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部に光学
的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記ガラス
基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成された
光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベース基
板の下部クラッド層の光学的接合面に設けられ、屈折率
n2を有する紫外線硬化樹脂からなり、前記コアの空間
となる溝部が前記光ファイバの固定溝の延長線上に設け
られた中間クラッド層と、前記中間クラッド層の溝部
に、屈折率n3(n3>n2,n1)を有する透明樹脂
を充填し硬化させて得た前記コアと、前記コアと中間ク
ラッド層の上面に、屈折率n4(n4<n3)を有する
平面ガラス基板を接合して形成された上部クラッド層と
を有する。
【0016】本発明の第2の光導波路基板の製造方法
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工
程と、前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n
2(n2>n1)を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工
程と、前記コアと同一形状を有する線状凹部を形成した
紫外線を透過する型を用いて前記紫外線硬化樹脂を押圧
し、前記型の線状凹部を除く平面部を前記下部クラッド
層の光学的接合面に当接させる工程と、前記型の裏面よ
り紫外線を照射することにより前記紫外線硬化樹脂を硬
化させ、押圧状態から前記型を開放することにより、前
記下部クラッド層の上面に前記コアを形成する工程と、
前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する透明樹脂を塗布し硬化させることにより、平板状
の上部クラッド層を形成する工程と、前記上部クラッド
層の上面に保護用平面ガラス基板を形成する工程とを有
する。
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工
程と、前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n
2(n2>n1)を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工
程と、前記コアと同一形状を有する線状凹部を形成した
紫外線を透過する型を用いて前記紫外線硬化樹脂を押圧
し、前記型の線状凹部を除く平面部を前記下部クラッド
層の光学的接合面に当接させる工程と、前記型の裏面よ
り紫外線を照射することにより前記紫外線硬化樹脂を硬
化させ、押圧状態から前記型を開放することにより、前
記下部クラッド層の上面に前記コアを形成する工程と、
前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する透明樹脂を塗布し硬化させることにより、平板状
の上部クラッド層を形成する工程と、前記上部クラッド
層の上面に保護用平面ガラス基板を形成する工程とを有
する。
【0017】本発明の第2の光導波路基板は、屈折率n
1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層と、前記下
部クラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n1)を有
する紫外線硬化樹脂を用いて凸状に形成された前記コア
と、前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n
2)を有する透明樹脂を塗布し硬化させることにより平
板状に形成された上部クラッド層と、前記上部クラッド
層の上面に形成された保護用平面ガラス基板とを有す
る。
1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層と、前記下
部クラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n1)を有
する紫外線硬化樹脂を用いて凸状に形成された前記コア
と、前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n
2)を有する透明樹脂を塗布し硬化させることにより平
板状に形成された上部クラッド層と、前記上部クラッド
層の上面に形成された保護用平面ガラス基板とを有す
る。
【0018】本発明の第2の光導波路部品の製造方法
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得
る工程と、前記光ファイバの固定溝を形成するための線
状山型突起が形成されたプレス型を用いて前記被成形用
ガラス基板を押圧するとともに、前記被成形用ガラス基
板を加熱することにより軟化させ、前記被成形用ガラス
基板の一部に前記光ファイバの固定溝を形成すると共
に、前記被成形用ガラス基板の他の部分に下部クラッド
層を形成する工程と、前記被成形用ガラス基板の下部ク
ラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n1)を有する
紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、前記コアと同一形状
を有する線状凹部を形成した紫外線を透過する型を用い
て、前記線状凹部と前記光ファイバの固定溝の中心線が
一致するように前記紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型の
凹部を除く平面部を前記下部クラッド層の上面に当接さ
せる工程と、前記型の裏面より紫外線を照射することに
より前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、押圧状態から前記
型を開放することにより、前記下部クラッド層の上面に
前記コアを形成する工程と、前記コアを包み込むように
屈折率n3(n3<n2)を有する透明樹脂を塗布する
ことにより、平板状の上部クラッド層を形成する工程
と、前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板
を形成する工程とを有する。
は、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一
方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得
る工程と、前記光ファイバの固定溝を形成するための線
状山型突起が形成されたプレス型を用いて前記被成形用
ガラス基板を押圧するとともに、前記被成形用ガラス基
板を加熱することにより軟化させ、前記被成形用ガラス
基板の一部に前記光ファイバの固定溝を形成すると共
に、前記被成形用ガラス基板の他の部分に下部クラッド
層を形成する工程と、前記被成形用ガラス基板の下部ク
ラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n1)を有する
紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、前記コアと同一形状
を有する線状凹部を形成した紫外線を透過する型を用い
て、前記線状凹部と前記光ファイバの固定溝の中心線が
一致するように前記紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型の
凹部を除く平面部を前記下部クラッド層の上面に当接さ
せる工程と、前記型の裏面より紫外線を照射することに
より前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、押圧状態から前記
型を開放することにより、前記下部クラッド層の上面に
前記コアを形成する工程と、前記コアを包み込むように
屈折率n3(n3<n2)を有する透明樹脂を塗布する
ことにより、平板状の上部クラッド層を形成する工程
と、前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板
を形成する工程とを有する。
【0019】本発明の第2の光導波路部品は、屈折率n
1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部に光学
的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記ガラス
基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成された
光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベース基
板の下部クラッド層の上面に設けられ、屈折率n2(n
2>n1)を有する紫外線硬化樹脂からなり、前記光フ
ァイバの固定溝の延長線と一致するよう凸状に形成され
た前記コアと、前記コアを包み込むように屈折率n3
(n3<n2)を有する樹脂を塗布し硬化させることに
より、平板状に形成された上部クラッド層と、前記上部
クラッド層の上面にガラス基板を接合することにより形
成された保護用平面ガラス基板とを有する。
1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部に光学
的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記ガラス
基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成された
光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベース基
板の下部クラッド層の上面に設けられ、屈折率n2(n
2>n1)を有する紫外線硬化樹脂からなり、前記光フ
ァイバの固定溝の延長線と一致するよう凸状に形成され
た前記コアと、前記コアを包み込むように屈折率n3
(n3<n2)を有する樹脂を塗布し硬化させることに
より、平板状に形成された上部クラッド層と、前記上部
クラッド層の上面にガラス基板を接合することにより形
成された保護用平面ガラス基板とを有する。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。
いて図面を参照しながら説明する。
【0021】(実施の形態1)本発明の実施の形態1に
おける光導波路基板の構造とその製造方法について、図
1〜図4を用いて説明する。光導波路基板とは、光ビー
ムをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させるもの
である。図1は、本実施の形態における光導波路基板の
製造方法の概略工程図である。図1(a)に示すよう
に、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッド
層11を水平に固定し、図1(b)に示すように紫外線
硬化樹脂12を、下部クラッド層11の光学的接合面で
ある上面に塗布する。この紫外線硬化樹脂12は、屈折
率n2を有するものである。
おける光導波路基板の構造とその製造方法について、図
1〜図4を用いて説明する。光導波路基板とは、光ビー
ムをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させるもの
である。図1は、本実施の形態における光導波路基板の
製造方法の概略工程図である。図1(a)に示すよう
に、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッド
層11を水平に固定し、図1(b)に示すように紫外線
硬化樹脂12を、下部クラッド層11の光学的接合面で
ある上面に塗布する。この紫外線硬化樹脂12は、屈折
率n2を有するものである。
【0022】次に、コアに相当する位置に、線状凸部を
有する紫外線を透過する型(図示せず)を予め作成して
おき、その型で紫外線硬化樹脂12を押圧し、型の裏面
より紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂12
を硬化させ、型を離型する。そうすると、図1(c)に
示すように、コアと同一厚みで、コアに相当する溝部1
4を有する中間クラッド層13が形成される。そして図
1(d)に示すように、溝部14に屈折率n3(n3>
n2,n1)の透明樹脂を充填し、コア15を形成す
る。その上に、図1(e)に示すように、屈折率n4
(n4<n3)を有する平面ガラス基板からなる上部ク
ラッド層16を設け、光導波路基板が完成する。
有する紫外線を透過する型(図示せず)を予め作成して
おき、その型で紫外線硬化樹脂12を押圧し、型の裏面
より紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂12
を硬化させ、型を離型する。そうすると、図1(c)に
示すように、コアと同一厚みで、コアに相当する溝部1
4を有する中間クラッド層13が形成される。そして図
1(d)に示すように、溝部14に屈折率n3(n3>
n2,n1)の透明樹脂を充填し、コア15を形成す
る。その上に、図1(e)に示すように、屈折率n4
(n4<n3)を有する平面ガラス基板からなる上部ク
ラッド層16を設け、光導波路基板が完成する。
【0023】図2は、本実施の形態の製造方法に於い
て、紫外線硬化樹脂12の硬化工程に用いる紫外線照射
装置20を示す断面図である。図2は、硬化前の状態を
示す。紫外線を透過する型21は、コアを形成するため
の線状凸部21aを有する石英製の型である。この線状
凸部21aは、本実施の形態に基く実施例では、厚さ5
mm、縦5mm×横5mmの石英ガラス基板を平面に研
磨した後、通常のフォトレジストを用いたパターニング
法により形成した。実施例では、石英ガラス基板に対し
て帯状のパターンを形成した後、ドライエッチング法を
用いて石英ガラス基板表面に、線状凸部21a(断面形
状;高さ8μm×幅8μmの突起)を250μm間隔で
4本設けた。
て、紫外線硬化樹脂12の硬化工程に用いる紫外線照射
装置20を示す断面図である。図2は、硬化前の状態を
示す。紫外線を透過する型21は、コアを形成するため
の線状凸部21aを有する石英製の型である。この線状
凸部21aは、本実施の形態に基く実施例では、厚さ5
mm、縦5mm×横5mmの石英ガラス基板を平面に研
磨した後、通常のフォトレジストを用いたパターニング
法により形成した。実施例では、石英ガラス基板に対し
て帯状のパターンを形成した後、ドライエッチング法を
用いて石英ガラス基板表面に、線状凸部21a(断面形
状;高さ8μm×幅8μmの突起)を250μm間隔で
4本設けた。
【0024】一方、下部クラッド層11として用いた平
面ガラス基板は、厚さ2mm、縦5mm×横5mmの平
面に研磨したもので、屈折率n1=1.5、熱膨張係数
70×10-7/Kの特性を有している。この下部クラッ
ド層11にn1と同じ屈折率n2を有する紫外線硬化樹
脂12を、スピンコーティングにより均一の厚みで塗布
した。続いて、前述した石英製の型21に離型剤を塗布
した後、紫外線硬化樹脂12上に型21を載せて、下ブ
ロック22上に置いた。
面ガラス基板は、厚さ2mm、縦5mm×横5mmの平
面に研磨したもので、屈折率n1=1.5、熱膨張係数
70×10-7/Kの特性を有している。この下部クラッ
ド層11にn1と同じ屈折率n2を有する紫外線硬化樹
脂12を、スピンコーティングにより均一の厚みで塗布
した。続いて、前述した石英製の型21に離型剤を塗布
した後、紫外線硬化樹脂12上に型21を載せて、下ブ
ロック22上に置いた。
【0025】この状態で、紫外線を発生する光源24を
内蔵した上ブロック23を徐々に下降させ、圧力を加え
て押圧した。図3に示すように、石英製の型21の線状
凸部21aの先端が、下部クラッド層11の表面に接す
るまで押圧を続け、型21の裏面より紫外線を照射し、
紫外線硬化樹脂12を硬化させた後、型21を離型させ
た。このときの基板は図3に示すように、下部クラッド
層11上に、コアと同一厚みで、コアに相当する溝部を
有する中間クラッド層13が形成された。この基板で
は、中間クラッド層13がコアで互いに分離されて帯状
になっている。さらに帯状の中間クラッド層13は、下
部クラッド層11に強固に接着されているので、型21
と中間クラッド層13とのパターンずれが非常に小さく
なり、型21の形状がそのまま良好に転写されたものと
なる。
内蔵した上ブロック23を徐々に下降させ、圧力を加え
て押圧した。図3に示すように、石英製の型21の線状
凸部21aの先端が、下部クラッド層11の表面に接す
るまで押圧を続け、型21の裏面より紫外線を照射し、
紫外線硬化樹脂12を硬化させた後、型21を離型させ
た。このときの基板は図3に示すように、下部クラッド
層11上に、コアと同一厚みで、コアに相当する溝部を
有する中間クラッド層13が形成された。この基板で
は、中間クラッド層13がコアで互いに分離されて帯状
になっている。さらに帯状の中間クラッド層13は、下
部クラッド層11に強固に接着されているので、型21
と中間クラッド層13とのパターンずれが非常に小さく
なり、型21の形状がそのまま良好に転写されたものと
なる。
【0026】引き続いて、図1(c)、(d)に示すよ
うに、形成された溝部14に、中間クラッド層13より
も0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシ製の透
明樹脂を埋め込み、図1(d)のようにコア15を形成
した。そして更にその上部から下部クラッド層11と同
一の平面ガラス基板からなる上部クラッド層16を貼り
合わせた。このようにして、図4に示す光導波路基板を
作製した。
うに、形成された溝部14に、中間クラッド層13より
も0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシ製の透
明樹脂を埋め込み、図1(d)のようにコア15を形成
した。そして更にその上部から下部クラッド層11と同
一の平面ガラス基板からなる上部クラッド層16を貼り
合わせた。このようにして、図4に示す光導波路基板を
作製した。
【0027】この光導波路基板は、エポキシ樹脂をコア
15とし、平面ガラス基板を上部クラッド層16及び下
部クラッド層11とし、紫外線硬化樹脂を中間クラッド
層13として備えている。このように上下のクラッド層
の平面ガラス基板により、透明樹脂からなるコア15と
中間クラッド層13を強固に挟み込む構造となってい
る。このため、周囲環境の温度変化によって形状変化が
ほとんど生じないことが判った。従って、この光導波路
基板は十分な実用性を備えているといえる。
15とし、平面ガラス基板を上部クラッド層16及び下
部クラッド層11とし、紫外線硬化樹脂を中間クラッド
層13として備えている。このように上下のクラッド層
の平面ガラス基板により、透明樹脂からなるコア15と
中間クラッド層13を強固に挟み込む構造となってい
る。このため、周囲環境の温度変化によって形状変化が
ほとんど生じないことが判った。従って、この光導波路
基板は十分な実用性を備えているといえる。
【0028】(実施の形態2)次に本発明の実施の形態
2における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図5及び図6を用いて説明する。光導波路部品と
は、光ビームをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬
させる光導波路基板と、光ファイバとを結合させる部品
である。まず超硬合金素材を用いてプレス型(図示せ
ず)を製作する。プレス型には、光ファイバを固定する
V字状の固定溝と、光導波路基板を形成するための平面
部(光学的接合面)とを一体化するようなプレス面が必
要である。このため、固定溝を形成するための複数の線
状山型突起と、線状山型突起に隣接した平面部とが同時
に形成されるよう、硬合金素材に加工を施す。本実施の
形態に基く実施例では、外形寸法が厚さ10mm、縦1
0mm×横5mmとし、線状山型突起の間隔は250μ
mで4本形成した。このプレス型のプレス面に離型用保
護膜として貴金属合金膜を成膜した。
2における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図5及び図6を用いて説明する。光導波路部品と
は、光ビームをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬
させる光導波路基板と、光ファイバとを結合させる部品
である。まず超硬合金素材を用いてプレス型(図示せ
ず)を製作する。プレス型には、光ファイバを固定する
V字状の固定溝と、光導波路基板を形成するための平面
部(光学的接合面)とを一体化するようなプレス面が必
要である。このため、固定溝を形成するための複数の線
状山型突起と、線状山型突起に隣接した平面部とが同時
に形成されるよう、硬合金素材に加工を施す。本実施の
形態に基く実施例では、外形寸法が厚さ10mm、縦1
0mm×横5mmとし、線状山型突起の間隔は250μ
mで4本形成した。このプレス型のプレス面に離型用保
護膜として貴金属合金膜を成膜した。
【0029】次に図5(a)に示すように、ベース基板
用の被成形用ガラス基板50(例えば屈折率n1=1.
5、熱膨張係数70×10-7/K、厚さ2mm、縦10
mm×横5mm)を用意し、前述したプレス型(図示せ
ず)の下に被成形用ガラス基板50が位置するよう固定
する。次に被成形用ガラス基板50とプレス型とを加熱
し、被成形用ガラス基板50を例えば700℃で加熱軟
化させてプレス成形を行う。この結果、図5(b)に示
すように、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝
51が光ファイバ接合部として形成され、下部クラッド
層の光学的接合面となる平面部52と一体化されたベー
ス基板53が形成される。
用の被成形用ガラス基板50(例えば屈折率n1=1.
5、熱膨張係数70×10-7/K、厚さ2mm、縦10
mm×横5mm)を用意し、前述したプレス型(図示せ
ず)の下に被成形用ガラス基板50が位置するよう固定
する。次に被成形用ガラス基板50とプレス型とを加熱
し、被成形用ガラス基板50を例えば700℃で加熱軟
化させてプレス成形を行う。この結果、図5(b)に示
すように、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝
51が光ファイバ接合部として形成され、下部クラッド
層の光学的接合面となる平面部52と一体化されたベー
ス基板53が形成される。
【0030】次に、予めコア部分に相当する線状凸部を
有する紫外線を透過する型(図示せず)を、以下の方法
で作製する。例えば、厚さ5mm、縦5mm×横5mm
の石英ガラス基板を平面に研磨した後、通常のフォトレ
ジストを用いたパターニング法により、コア部分のパタ
ーンを形成する。そして、ドライエッチング法を用いて
石英ガラス基板の表面であってコアに相当する位置に、
線状凸部(断面形状;高さ8μm×幅8μmの突起)を
250μm間隔で4本形成する。
有する紫外線を透過する型(図示せず)を、以下の方法
で作製する。例えば、厚さ5mm、縦5mm×横5mm
の石英ガラス基板を平面に研磨した後、通常のフォトレ
ジストを用いたパターニング法により、コア部分のパタ
ーンを形成する。そして、ドライエッチング法を用いて
石英ガラス基板の表面であってコアに相当する位置に、
線状凸部(断面形状;高さ8μm×幅8μmの突起)を
250μm間隔で4本形成する。
【0031】次に図5(b)、(c)に示すように、ベ
ース基板53の平面部52に、屈折率n2(n2=n
1)の紫外線硬化樹脂54をスピンコーティングにより
塗布する。そして紫外線を透過する型の表面に離型剤を
塗布し、図2に示す紫外線硬化樹脂の硬化工程に用いた
紫外線照射装置20に設置する。このとき、固定溝51
の中心線と線状凸部の中心線が一致するように、紫外線
を透過する型21をガイドを用いて固定する。この状態
で、上ブロック23、下ブロック22の間に設置し、上
ブロック23を徐々に下降させ、圧力を加えて押圧す
る。図2に示したような型21の線状凸部21aの先端
が、図5(d)に示すように、ベース基板53における
下部クラッド層59となる部分の表面に接するまでプレ
スを続ける。
ース基板53の平面部52に、屈折率n2(n2=n
1)の紫外線硬化樹脂54をスピンコーティングにより
塗布する。そして紫外線を透過する型の表面に離型剤を
塗布し、図2に示す紫外線硬化樹脂の硬化工程に用いた
紫外線照射装置20に設置する。このとき、固定溝51
の中心線と線状凸部の中心線が一致するように、紫外線
を透過する型21をガイドを用いて固定する。この状態
で、上ブロック23、下ブロック22の間に設置し、上
ブロック23を徐々に下降させ、圧力を加えて押圧す
る。図2に示したような型21の線状凸部21aの先端
が、図5(d)に示すように、ベース基板53における
下部クラッド層59となる部分の表面に接するまでプレ
スを続ける。
【0032】そしてそのままの状態で型の裏面から、上
ブロック23に内蔵した紫外線の光源24を点灯し、紫
外線を照射して紫外線硬化樹脂54を硬化させ、型21
を離型させる。その結果図5(d)に示すように、下部
クラッド層59の上面に、コアと同一厚みで、コア部分
に相当する溝部55aを有する中間クラッド層55が形
成される。
ブロック23に内蔵した紫外線の光源24を点灯し、紫
外線を照射して紫外線硬化樹脂54を硬化させ、型21
を離型させる。その結果図5(d)に示すように、下部
クラッド層59の上面に、コアと同一厚みで、コア部分
に相当する溝部55aを有する中間クラッド層55が形
成される。
【0033】引き続いて、形成された溝部55aに対し
て、図6(e)に示すように紫外線硬化樹脂54よりも
屈折率が0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシ
の透明樹脂を埋め込んでコア56を形成する。更にその
上部から、図6(f)に示すように、屈折率n4(n4
=n1)の平面ガラス基板を上部クラッド層57として
貼り合わせ、ベース基板53に光ファイバ接合部と光導
波路基板とを合体した状態とする。このようにして光フ
ァイバ接合部と、下部クラッド層59、中間クラッド層
55、コア56、上部クラッド層57からなる光導波路
基板とを有する光導波路部品を作製した。
て、図6(e)に示すように紫外線硬化樹脂54よりも
屈折率が0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシ
の透明樹脂を埋め込んでコア56を形成する。更にその
上部から、図6(f)に示すように、屈折率n4(n4
=n1)の平面ガラス基板を上部クラッド層57として
貼り合わせ、ベース基板53に光ファイバ接合部と光導
波路基板とを合体した状態とする。このようにして光フ
ァイバ接合部と、下部クラッド層59、中間クラッド層
55、コア56、上部クラッド層57からなる光導波路
基板とを有する光導波路部品を作製した。
【0034】本実施の形態の製造方法により作製した光
導波路部品では、帯状の中間クラッド層55がコア56
を介して互いに分離され、更に下部クラッド層59に強
固に接着されている。このため、紫外線を透過する型と
中間クラッド層55と、コア56の材料との収縮差によ
るパターンずれが非常に小さくなり、紫外線を透過する
型の形状をそのまま良好に転写することができる。しか
も、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝51
が、光導波路基板のコアと高精度に位置合わせされてい
るので、光ファイバを固定溝に並べるだけで、容易に光
導波路部品を分波器等に組み込むことができる。
導波路部品では、帯状の中間クラッド層55がコア56
を介して互いに分離され、更に下部クラッド層59に強
固に接着されている。このため、紫外線を透過する型と
中間クラッド層55と、コア56の材料との収縮差によ
るパターンずれが非常に小さくなり、紫外線を透過する
型の形状をそのまま良好に転写することができる。しか
も、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝51
が、光導波路基板のコアと高精度に位置合わせされてい
るので、光ファイバを固定溝に並べるだけで、容易に光
導波路部品を分波器等に組み込むことができる。
【0035】(実施の形態3)次に本発明の実施の形態
3における光導波路基板の構造とその製造方法につい
て、図7〜図10を用いて説明する。図7は光導波路基
板の製造方法を示す工程図である。図7(a)に示すよ
うに、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッ
ド層71を用意する。次に図7(b)に示すように、下
部クラッド層71の光学的接合面に屈折率n2(n2>
n1)の紫外線硬化樹脂72をスピンコーティングによ
り塗布する。
3における光導波路基板の構造とその製造方法につい
て、図7〜図10を用いて説明する。図7は光導波路基
板の製造方法を示す工程図である。図7(a)に示すよ
うに、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッ
ド層71を用意する。次に図7(b)に示すように、下
部クラッド層71の光学的接合面に屈折率n2(n2>
n1)の紫外線硬化樹脂72をスピンコーティングによ
り塗布する。
【0036】一方、コア部分に相当する位置に線状凹部
が形成された紫外線を透過する型(図示せず)を用意
し、紫外線硬化樹脂72を型で押圧し、型の裏面より紫
外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させて、図7
(c)のように互いに独立した帯状のコア73を複数本
形成する。次に図7(d)に示すように、コア73の部
分を包み込むように屈折率n3(n3<n2)を有する
樹脂を塗布することにより、上部クラッド層74を形成
する。そして図7(e)に示すように、上部クラッド層
74上に保護用平面ガラス基板75を接合することによ
り、構造の光導波路基板が得られる。
が形成された紫外線を透過する型(図示せず)を用意
し、紫外線硬化樹脂72を型で押圧し、型の裏面より紫
外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させて、図7
(c)のように互いに独立した帯状のコア73を複数本
形成する。次に図7(d)に示すように、コア73の部
分を包み込むように屈折率n3(n3<n2)を有する
樹脂を塗布することにより、上部クラッド層74を形成
する。そして図7(e)に示すように、上部クラッド層
74上に保護用平面ガラス基板75を接合することによ
り、構造の光導波路基板が得られる。
【0037】図8は、本実施の形態の製造方法に於い
て、紫外線硬化樹脂の硬化工程に用いる紫外線照射装置
80の構造を示す断面図であり、硬化前の状態を示す。
この紫外線照射装置80は、実施の形態1の紫外線照射
装置と同様に、上下動可能な上ブロック81と、固定の
下ブロック82を有し、上ブロック81には、紫外線を
発生する光源84が内蔵されている。
て、紫外線硬化樹脂の硬化工程に用いる紫外線照射装置
80の構造を示す断面図であり、硬化前の状態を示す。
この紫外線照射装置80は、実施の形態1の紫外線照射
装置と同様に、上下動可能な上ブロック81と、固定の
下ブロック82を有し、上ブロック81には、紫外線を
発生する光源84が内蔵されている。
【0038】紫外線を透過する型83は、コア部分に相
当する位置に線状凹部83aを有するものである。この
線状凹部83aは、実施例では、厚さ5mm、縦5mm
×横5mmの石英ガラス基板を平面に研磨した後、通常
のフォトレジストを用いたパターニング法により形成さ
れた。また、石英ガラス基板に対して帯状のパターンを
形成した後、ドライエッチング法を用いて石英ガラス基
板表面に線状凹部83a(断面形状;深さ8μm×幅8
μmの突起)を250μm間隔で4本設けた。
当する位置に線状凹部83aを有するものである。この
線状凹部83aは、実施例では、厚さ5mm、縦5mm
×横5mmの石英ガラス基板を平面に研磨した後、通常
のフォトレジストを用いたパターニング法により形成さ
れた。また、石英ガラス基板に対して帯状のパターンを
形成した後、ドライエッチング法を用いて石英ガラス基
板表面に線状凹部83a(断面形状;深さ8μm×幅8
μmの突起)を250μm間隔で4本設けた。
【0039】次に厚さ2mm、縦5mm×横5mmの平
面に研磨した平面ガラス基板(屈折率n1=1.5、熱
膨張係数70×10-7/K、耐熱温度700℃)を下部
クラッド層71として用意し、下ブロック82に載置し
た。そして屈折率がn1より0.3%程度高い屈折率n
2を有する紫外線硬化樹脂72を平面ガラス基板の上面
に、スピンコーティングにより塗布した。続いて、前述
した石英ガラス製の型83を紫外線硬化樹脂72の上面
に載せた。図8はこの状態を示す。
面に研磨した平面ガラス基板(屈折率n1=1.5、熱
膨張係数70×10-7/K、耐熱温度700℃)を下部
クラッド層71として用意し、下ブロック82に載置し
た。そして屈折率がn1より0.3%程度高い屈折率n
2を有する紫外線硬化樹脂72を平面ガラス基板の上面
に、スピンコーティングにより塗布した。続いて、前述
した石英ガラス製の型83を紫外線硬化樹脂72の上面
に載せた。図8はこの状態を示す。
【0040】次に、上ブロック81を徐々に下降させて
圧力を加えて押圧した。図9に示すように、石英ガラス
製の型83の先端が、下部クラッド層71を形成する平
面ガラス基板の表面に接するまで押圧を続け、紫外線の
光源を点灯させ、型83の裏面より、紫外線を照射し
た。紫外線硬化樹脂72が硬化したところで、型83を
離型した。この状態で図7(c)に示したように下部ク
ラッド層71上に4本のコア73が形成された。実施例
では、各コア73が250μm間隔で分離され、更に下
部クラッド層71に強固に接着された。このため、紫外
線を透過する型83とコア材料とのパターンずれが非常
に小さくなり、型83の形状をそのまま良好に転写する
ことができた。
圧力を加えて押圧した。図9に示すように、石英ガラス
製の型83の先端が、下部クラッド層71を形成する平
面ガラス基板の表面に接するまで押圧を続け、紫外線の
光源を点灯させ、型83の裏面より、紫外線を照射し
た。紫外線硬化樹脂72が硬化したところで、型83を
離型した。この状態で図7(c)に示したように下部ク
ラッド層71上に4本のコア73が形成された。実施例
では、各コア73が250μm間隔で分離され、更に下
部クラッド層71に強固に接着された。このため、紫外
線を透過する型83とコア材料とのパターンずれが非常
に小さくなり、型83の形状をそのまま良好に転写する
ことができた。
【0041】引き続いて、下部クラッド層71と同一屈
折率を有するエポキシ樹脂をコア73を包み込むように
塗布して上部クラッド層74とし、更にその上部から保
護用平面ガラス基板75を貼り合わせ、図10に示すよ
うな光導波路基板を作製した。
折率を有するエポキシ樹脂をコア73を包み込むように
塗布して上部クラッド層74とし、更にその上部から保
護用平面ガラス基板75を貼り合わせ、図10に示すよ
うな光導波路基板を作製した。
【0042】この光導波路基板は、樹脂を上部クラッド
層74とし、平面ガラス基板を下部クラッド層71と
し、紫外線硬化樹脂をコア73とし、更に、上部クラッ
ド層74の上に保護用平面ガラス基板75を備えた構造
となっている。このように上下の平面ガラス基板によ
り、エポキシ樹脂からなる上部クラッド層74を強固に
挟み込んでいるので、周囲環境の温度変化による形状変
化はほとんど生じないことが判った。従って、この光導
波路基板は十分な実用性を備えていると言える。
層74とし、平面ガラス基板を下部クラッド層71と
し、紫外線硬化樹脂をコア73とし、更に、上部クラッ
ド層74の上に保護用平面ガラス基板75を備えた構造
となっている。このように上下の平面ガラス基板によ
り、エポキシ樹脂からなる上部クラッド層74を強固に
挟み込んでいるので、周囲環境の温度変化による形状変
化はほとんど生じないことが判った。従って、この光導
波路基板は十分な実用性を備えていると言える。
【0043】(実施の形態4)次に本発明の実施の形態
4における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図11及び図12を用いて説明する。まず、超硬合
金素材を用いてプレス型(図示せず)を製作する。プレ
ス型には、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝
と、光導波路基板を形成するための平面部とを一体化す
るようプレス面を形成しなければならない。実施例で用
意したプレス型は、超硬合金素材に加工を施し、V字状
の固定溝に対する型として線状山型突起を複数本形成
し、更に、その横に平面部を形成したものであった。プ
レス型の外形は厚さ10mm、縦10mm×横5mmの
寸法を有するものとし、線状山型突起の間隔は250μ
mで4本形成した。このプレス型のプレス面に離型用保
護膜として貴金属合金膜を成膜した。
4における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図11及び図12を用いて説明する。まず、超硬合
金素材を用いてプレス型(図示せず)を製作する。プレ
ス型には、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝
と、光導波路基板を形成するための平面部とを一体化す
るようプレス面を形成しなければならない。実施例で用
意したプレス型は、超硬合金素材に加工を施し、V字状
の固定溝に対する型として線状山型突起を複数本形成
し、更に、その横に平面部を形成したものであった。プ
レス型の外形は厚さ10mm、縦10mm×横5mmの
寸法を有するものとし、線状山型突起の間隔は250μ
mで4本形成した。このプレス型のプレス面に離型用保
護膜として貴金属合金膜を成膜した。
【0044】次に図11(a)に示すように、被成形用
ガラス基板110(屈折率n1=1.5、熱膨張係数7
0×10-7/K、厚さ2mm、縦10mm×横5mm)
を用意し、前述したプレス型の下方に固定した。そして
プレス型を加熱し、被成形用ガラス基板110を750
℃で加熱軟化させてプレス成形を行った。この結果、図
11(b)に示すように、光ファイバを固定するための
V字状の固定溝111と、光導波路基板を形成するため
の平面部112とが一体化されたベース基板113が形
成された。
ガラス基板110(屈折率n1=1.5、熱膨張係数7
0×10-7/K、厚さ2mm、縦10mm×横5mm)
を用意し、前述したプレス型の下方に固定した。そして
プレス型を加熱し、被成形用ガラス基板110を750
℃で加熱軟化させてプレス成形を行った。この結果、図
11(b)に示すように、光ファイバを固定するための
V字状の固定溝111と、光導波路基板を形成するため
の平面部112とが一体化されたベース基板113が形
成された。
【0045】次に、予めコア部分に相当する位置に線状
凹部を有する紫外線を透過する型(図示せず)を以下の
方法で作製した。厚さ5mm、縦5mm×横5mmの石
英ガラスの基板を平面に研磨した後、通常のフォトレジ
ストを用いたパターニング法により、コア部分が溝とな
るパターンを形成した。そして、ドライエッチング法を
用いて石英ガラス基板の表面であって、コアに相当する
位置に線状凹部(断面形状;深さ8μm×幅8μmの突
起)を250μm間隔で4本形成した。
凹部を有する紫外線を透過する型(図示せず)を以下の
方法で作製した。厚さ5mm、縦5mm×横5mmの石
英ガラスの基板を平面に研磨した後、通常のフォトレジ
ストを用いたパターニング法により、コア部分が溝とな
るパターンを形成した。そして、ドライエッチング法を
用いて石英ガラス基板の表面であって、コアに相当する
位置に線状凹部(断面形状;深さ8μm×幅8μmの突
起)を250μm間隔で4本形成した。
【0046】次に図11(b)、(c)に示すように、
ベース基板113の平面部112(光学的接合面)上
に、n1より0.3%程度高い屈折率n2の紫外線硬化
樹脂114をスピンコーティングにより塗布した。そし
て線状凹部を有する紫外線を透過する型の表面に離型剤
を塗布し、図8に示した紫外線照射装置80にセットし
た。このとき、固定溝111の中心線と溝部の中心線が
一致するように紫外線を透過する型をガイドを用いて固
定した。この状態で、下ブロック82の上面に載置し、
上ブロック81を徐々に下降させ、圧力を加えて押圧し
た。図8に示す石英ガラス製の型83の先端面が、図1
1(d)に示すベース基板113の下部クラッド層11
6の部分の表面に接するまで押圧を続けた。
ベース基板113の平面部112(光学的接合面)上
に、n1より0.3%程度高い屈折率n2の紫外線硬化
樹脂114をスピンコーティングにより塗布した。そし
て線状凹部を有する紫外線を透過する型の表面に離型剤
を塗布し、図8に示した紫外線照射装置80にセットし
た。このとき、固定溝111の中心線と溝部の中心線が
一致するように紫外線を透過する型をガイドを用いて固
定した。この状態で、下ブロック82の上面に載置し、
上ブロック81を徐々に下降させ、圧力を加えて押圧し
た。図8に示す石英ガラス製の型83の先端面が、図1
1(d)に示すベース基板113の下部クラッド層11
6の部分の表面に接するまで押圧を続けた。
【0047】そしてそのままの状態で、紫外線の光源8
4を点灯させ、石英ガラス製の型83の裏面より、紫外
線を照射し、紫外線硬化樹脂114を硬化させ、コア1
15を形成し、型83を離型した。この結果、図11
(d)に示すように、下部クラッド層116の光学的接
合面に4本のコア115が形成された。
4を点灯させ、石英ガラス製の型83の裏面より、紫外
線を照射し、紫外線硬化樹脂114を硬化させ、コア1
15を形成し、型83を離型した。この結果、図11
(d)に示すように、下部クラッド層116の光学的接
合面に4本のコア115が形成された。
【0048】引き続いて取り出した基板全体に対して、
図12(e)に示すように、下部クラッド層116と同
一屈折率n3のエポキシの樹脂をコア115を包み込む
ように塗布して上部クラッド層117を形成した。更に
その上部から保護用平面ガラス基板118を貼り合わ
せ、図12(f)に示すように、光ファイバ接合部と、
下部クラッド層116、コア115、上部クラッド層1
17からなる光導波路基板とを有する光導波路部品を作
製した。
図12(e)に示すように、下部クラッド層116と同
一屈折率n3のエポキシの樹脂をコア115を包み込む
ように塗布して上部クラッド層117を形成した。更に
その上部から保護用平面ガラス基板118を貼り合わ
せ、図12(f)に示すように、光ファイバ接合部と、
下部クラッド層116、コア115、上部クラッド層1
17からなる光導波路基板とを有する光導波路部品を作
製した。
【0049】本実施の形態の製造方法により作製した光
導波路部品は、図12(f)に示すように、4本のコア
115が互いに分離され、更に下部クラッド層116に
強固に接着されている。このため、紫外線を透過する型
とコア材料とのパターンずれが非常に小さくなり、紫外
線を透過する型の形状をそのまま良好に転写することが
できる。しかも、光ファイバを固定するためのV字状の
固定溝111が高精度に光導波路基板のコアと位置合わ
せされる。このため、光ファイバを固定溝111に並べ
るだけで、容易に光導波路部品を分波器等に組み込むこ
とができる。
導波路部品は、図12(f)に示すように、4本のコア
115が互いに分離され、更に下部クラッド層116に
強固に接着されている。このため、紫外線を透過する型
とコア材料とのパターンずれが非常に小さくなり、紫外
線を透過する型の形状をそのまま良好に転写することが
できる。しかも、光ファイバを固定するためのV字状の
固定溝111が高精度に光導波路基板のコアと位置合わ
せされる。このため、光ファイバを固定溝111に並べ
るだけで、容易に光導波路部品を分波器等に組み込むこ
とができる。
【0050】
【発明の効果】本発明によれば、紫外線を透過する型と
紫外線硬化樹脂の間では、紫外線照射による紫外線硬化
樹脂の硬化工程で発生する収縮によるパターンずれを著
しく小さくできるため、効率良く精度の高いコアパター
ンの形成が可能となる。従って、安価な光導波路基板及
び光導波路部品を効率よく製造することができる。ま
た、本発明の光導波路基板及び光導波路部品は、周囲温
度の変化に対する形状変化が小さくなり、非常に信頼性
の高いものが得られる。
紫外線硬化樹脂の間では、紫外線照射による紫外線硬化
樹脂の硬化工程で発生する収縮によるパターンずれを著
しく小さくできるため、効率良く精度の高いコアパター
ンの形成が可能となる。従って、安価な光導波路基板及
び光導波路部品を効率よく製造することができる。ま
た、本発明の光導波路基板及び光導波路部品は、周囲温
度の変化に対する形状変化が小さくなり、非常に信頼性
の高いものが得られる。
【図1】本発明の実施の形態1における光導波路基板の
製造方法の概略工程を示す断面図
製造方法の概略工程を示す断面図
【図2】実施の形態1の光導波路基板の製造に用いられ
る紫外線照射装置において、紫外線を透過する型をセッ
トした状態を示す概略断面図
る紫外線照射装置において、紫外線を透過する型をセッ
トした状態を示す概略断面図
【図3】実施の形態1の光導波路基板の製造に用いられ
紫外線照射装置において、紫外線硬化樹脂の硬化工程が
完了した状態を示す概略断面図
紫外線照射装置において、紫外線硬化樹脂の硬化工程が
完了した状態を示す概略断面図
【図4】実施の形態1の製造方法で製造された光導波路
基板の断面構成図
基板の断面構成図
【図5】本発明の実施の形態2における光導波路部品の
製造方法の概略工程(その1)を示す斜視図
製造方法の概略工程(その1)を示す斜視図
【図6】実施の形態2における光導波路部品の製造方法
の概略工程(その2)を示す斜視図
の概略工程(その2)を示す斜視図
【図7】本発明の実施の形態3における光導波路基板の
製造方法の概略工程を示す断面図
製造方法の概略工程を示す断面図
【図8】実施の形態3の光導波路基板の製造に用いられ
る紫外線照射装置において、紫外線を透過する型をセッ
トした状態を示す概略断面図
る紫外線照射装置において、紫外線を透過する型をセッ
トした状態を示す概略断面図
【図9】実施の形態3の光導波路基板の製造に用いられ
る紫外線照射装置において、紫外線硬化樹脂の硬化工程
が完了した状態を示す概略断面図
る紫外線照射装置において、紫外線硬化樹脂の硬化工程
が完了した状態を示す概略断面図
【図10】実施の形態3における光導波路基板の断面構
成図
成図
【図11】本発明の実施の形態4における光導波路部品
の製造方法の概略工程(その1)を示す斜視図
の製造方法の概略工程(その1)を示す斜視図
【図12】実施の形態4における光導波路部品の製造方
法の概略工程(その2)を示す斜視図
法の概略工程(その2)を示す斜視図
【図13】従来の一般的な光導波路基板の断面構成図
【図14】従来の一般的な光導波路基板の製造方法の概
略工程を示す断面図
略工程を示す断面図
【図15】従来のプレス成形による光導波路基板の製造
方法の概略工程を示す断面図
方法の概略工程を示す断面図
11,59,71,116 下部クラッド層 12,54,72,114 紫外線硬化樹脂 13,55 中間クラッド層 14,55a 溝部 15,56,73,115 コア 16,57,74,117 上部クラッド層 20,80 紫外線照射装置 21,83 紫外線を透過する型 21a 線状凸部 22,82 下ブロック 23,81 上ブロック 50,110 被成形用ガラス基板 51,111 固定溝 52,112 平面部 53,113 ベース基板 75,118 保護用平面ガラス基板 83a 線状凹部
Claims (8)
- 【請求項1】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板の製造方法であっ
て、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工程
と、 前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n2を有
する紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、 前記コアと同一形状を有する線状凸部が形成された紫外
線を透過する型を用いて前記紫外線硬化樹脂を押圧し、
前記型の線状凸部を前記下部クラッド層の光学的接合面
に当接させる工程と、 前記型の裏面より紫外線を照射することにより、前記紫
外線硬化樹脂を硬化させた後、前記型を離型し、前記コ
アの空間となる溝部が形成された中間クラッド層を得る
工程と、 前記中間クラッド層の前記溝部に、屈折率n3(n3>
n2,n1)を有する透明樹脂を充填して、硬化させる
ことにより前記コアを得る工程と、 前記コアが形成された後の前記中間クラッド層の上面
に、屈折率n4(n4<n3)を有する平面ガラス基板
を接合することにより上部クラッド層を形成する工程と
を有することを特徴とする光導波路基板の製造方法。 - 【請求項2】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板であって、 屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層
と、 屈折率n4の平面ガラス基板からなる上部クラッド層
と、 前記下部クラッド層と前記上部クラッド層とに挟持さ
れ、屈折率n2を有する紫外線硬化樹脂からなり、前記
コアの空間となる溝部が設けられた中間クラッド層と、 前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n
4,n2,n1)を有する透明樹脂を充填し硬化させて
得た前記コアとを有することを特徴とする光導波路基
板。 - 【請求項3】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結
合させる光導波路部品の製造方法であって、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得る工
程と、 前記光ファイバの固定溝を形成するための線状山型突起
が形成されたプレス型を用いて前記被成形用ガラス基板
を押圧するとともに、前記被成形用ガラス基板を加熱す
ることにより軟化させ、前記被成形用ガラス基板の一部
に前記固定溝を形成するとともに、前記被成形用ガラス
基板の他の部分に下部クラッド層を形成する工程と、 前記被成形用ガラス基板の下部クラッド層の上面に、屈
折率n2を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、 前記コアと同一形状を有する線状凸部が形成された紫外
線を透過する型を用いて、前記線状凸部と前記光ファイ
バの固定溝の中心線が一致するように前記紫外線硬化樹
脂を押圧し、前記型の線状凸部を前記被成形用ガラス基
板の下部クラッド層の平面部分に当接させる工程と、 前記型の裏面より紫外線を照射することにより前記紫外
線硬化樹脂を硬化させた後、前記型を開放し、前記コア
の空間となる溝部が形成された中間クラッド層を得る工
程と、 前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n
2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化させること
により前記コアを得る工程と、 前記コアが形成された後の中間クラッド層の上面に、屈
折率n4(n4<n3)を有する平面ガラス基板を接合
することにより上部クラッド層を形成する工程とを有す
ることを特徴とする光導波路部品の製造方法。 - 【請求項4】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結
合させる光導波路部品であって、 屈折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一
部に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前
記ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形
成された光ファイバ接合部を有するベース基板と、 前記ベース基板の下部クラッド層の光学的接合面に設け
られ、屈折率n2を有する紫外線硬化樹脂からなり、前
記コアの空間となる溝部が前記光ファイバの固定溝の延
長線上に設けられた中間クラッド層と、 前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n
2,n1)を有する透明樹脂を充填し硬化させて得た前
記コアと、 前記コアと中間クラッド層の上面に、屈折率n4(n4
<n3)を有する平面ガラス基板を接合して形成された
上部クラッド層とを有することを特徴とする光導波路部
品。 - 【請求項5】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板の製造方法であっ
て、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工程
と、 前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n2(n
2>n1)を有する紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、 前記コアと同一形状を有する線状凹部を形成した紫外線
を透過する型を用いて前記紫外線硬化樹脂を押圧し、前
記型の線状凹部を除く平面部を前記下部クラッド層の光
学的接合面に当接させる工程と、 前記型の裏面より紫外線を照射することにより前記紫外
線硬化樹脂を硬化させ、押圧状態から前記型を開放する
ことにより、前記下部クラッド層の上面に前記コアを形
成する工程と、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する透明樹脂を塗布し、硬化させることにより、平板
状の上部クラッド層を形成する工程と、 前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板を形
成する工程とを有することを特徴とする光導波路基板の
製造方法。 - 【請求項6】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板であって、 屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層
と、 前記下部クラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n
1)を有する紫外線硬化樹脂を用いて凸状に形成された
前記コアと、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する透明樹脂を塗布し硬化させることにより平板状に
形成された上部クラッド層と、 前記上部クラッド層の上面に形成された保護用平面ガラ
ス基板とを有することを特徴とする光導波路基板。 - 【請求項7】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結
合させる光導波路部品の製造方法であって、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得る工
程と、 前記光ファイバの固定溝を形成するための線状山型突起
が形成されたプレス型を用いて前記被成形用ガラス基板
を押圧するとともに、前記被成形用ガラス基板を加熱す
ることにより軟化させ、前記被成形用ガラス基板の一部
に前記光ファイバの固定溝を形成すると共に、前記被成
形用ガラス基板の他の部分に下部クラッド層を形成する
工程と、 前記被成形用ガラス基板の下部クラッド層の上面に、屈
折率n2(n2>n1)を有する紫外線硬化樹脂を塗布
する工程と、 前記コアと同一形状を有する線状凹部を形成した紫外線
を透過する型を用いて、前記線状凹部と前記光ファイバ
の固定溝の中心線が一致するように前記紫外線硬化樹脂
を押圧し、前記型の凹部を除く平面部を前記下部クラッ
ド層の上面に当接させる工程と、 前記型の裏面より紫外線を照射することにより前記紫外
線硬化樹脂を硬化させ、押圧状態から前記型を開放する
ことにより、前記下部クラッド層の上面に前記コアを形
成する工程と、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する透明樹脂を塗布することにより、平板状の上部ク
ラッド層を形成する工程と、 前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板を形
成する工程とを有することを特徴とする光導波路部品の
製造方法。 - 【請求項8】 光ビームをコア内で拘束して前記コアの
軸に沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結
合させる光導波路部品であって、 屈折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一
部に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前
記ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形
成された光ファイバ接合部を有するベース基板と、 前記ベース基板の下部クラッド層の上面に設けられ、屈
折率n2(n2>n1)を有する紫外線硬化樹脂からな
り、前記光ファイバの固定溝の延長線と一致するよう凸
状に形成された前記コアと、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する樹脂を塗布し硬化させることにより、平板状に形
成された上部クラッド層と、 前記上部クラッド層の上面にガラス基板を接合すること
により形成された保護用平面ガラス基板とを有すること
を特徴とする光導波路部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000268334A JP2002071993A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 光導波路基板とその製造方法、及び光導波路部品とその製造方法 |
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JP2000268334A Pending JP2002071993A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 光導波路基板とその製造方法、及び光導波路部品とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002071993A (ja) |
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- 2000-09-05 JP JP2000268334A patent/JP2002071993A/ja active Pending
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