JP2002053805A - 被膜形成用組成物 - Google Patents
被膜形成用組成物Info
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- JP2002053805A JP2002053805A JP2000237490A JP2000237490A JP2002053805A JP 2002053805 A JP2002053805 A JP 2002053805A JP 2000237490 A JP2000237490 A JP 2000237490A JP 2000237490 A JP2000237490 A JP 2000237490A JP 2002053805 A JP2002053805 A JP 2002053805A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 フッ化アルキル基含有アルコキシシラン
化合物又はこのフッ化アルキル基含有アルコキシシラン
化合物とシラン化合物との混合物１００重量部に対し、
水２００〜２，０００重量部の比率で加水分解・縮合反
応して得られるフロロオルガノポリシロキサン樹脂を含
有することを特徴とする被膜形成用組成物。 【効果】 本発明の組成物によれば、ガラス、セラミッ
クス、金属及びプラスチックなど各種基材に対する密着
性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射防止
性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を効率的に
形成することができる。本発明の組成物は、耐候性を必
要とする外装用塗料、ハードコート材、防湿コート材、
反射防止コート材として好適に用いることができ、ガラ
ス、プラスチックなどの透明な基材を被覆して光学部品
を構成するコート材として特に有用である。
化合物又はこのフッ化アルキル基含有アルコキシシラン
化合物とシラン化合物との混合物１００重量部に対し、
水２００〜２，０００重量部の比率で加水分解・縮合反
応して得られるフロロオルガノポリシロキサン樹脂を含
有することを特徴とする被膜形成用組成物。 【効果】 本発明の組成物によれば、ガラス、セラミッ
クス、金属及びプラスチックなど各種基材に対する密着
性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射防止
性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を効率的に
形成することができる。本発明の組成物は、耐候性を必
要とする外装用塗料、ハードコート材、防湿コート材、
反射防止コート材として好適に用いることができ、ガラ
ス、プラスチックなどの透明な基材を被覆して光学部品
を構成するコート材として特に有用である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は被膜形成用組成物に
関し、更に詳しくは、各種基材に対する密着性、耐擦過
傷性、耐候性、撥水性、防汚染性及び指紋付着防止性に
優れ、屈折率の低い透明な硬化被膜を効率よく形成する
ことができる被膜形成用組成物及びこの組成物の硬化被
膜が形成された物品に関する。
関し、更に詳しくは、各種基材に対する密着性、耐擦過
傷性、耐候性、撥水性、防汚染性及び指紋付着防止性に
優れ、屈折率の低い透明な硬化被膜を効率よく形成する
ことができる被膜形成用組成物及びこの組成物の硬化被
膜が形成された物品に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
例えば外装用塗料による塗膜、ハードコート膜、防湿コ
ート膜、反射防止コート膜などのポリマー被膜には、基
材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚
染性、低屈折率性など、諸特性が要求される。
例えば外装用塗料による塗膜、ハードコート膜、防湿コ
ート膜、反射防止コート膜などのポリマー被膜には、基
材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚
染性、低屈折率性など、諸特性が要求される。
【０００３】最近では、建築外装用塗料などを始めとす
る各種の分野において、良好な耐候性などが発現される
ことから、フッ素原子を含有するポリマー材料が注目さ
れている。また、このようなポリマー材料において、フ
ッ素原子の含有割合を増加させることにより、材料の低
屈折率化を図ることが検討されている。
る各種の分野において、良好な耐候性などが発現される
ことから、フッ素原子を含有するポリマー材料が注目さ
れている。また、このようなポリマー材料において、フ
ッ素原子の含有割合を増加させることにより、材料の低
屈折率化を図ることが検討されている。
【０００４】しかしながら、フッ素原子を含有するポリ
マーは、その溶解度パラメータが他の有機材料と著しく
異なり、また、分子間凝集力が小さいという特性を有す
る。このため、ポリマー材料を調製する際に使用できる
溶剤の種類が限定され、また、基材表面に被膜を形成す
る場合において、基材に対する密着力や被膜の硬度が低
く、しかも、十分な透明性を確保することができないな
どの問題を有している。これらの問題を解決するため
に、下記のような技術が提案されている。 （１）特開昭６１−２５８８５２号公報 フルオロオレフィンと、ビニルエーテルと、ビニルアル
コキシシランとを共重合させることにより、接着性の良
好なフッ素系重合体を得る方法。 （２）特開昭６２−１８５７４０号公報 アミノ基及びカルボキシル基を有するフルオロオレフィ
ン系共重合体と、エポキシ官能性アルコキシシランと、
シラノール基含有化合物とにより、耐候性及び硬化性の
良好な組成物を得る方法。 （３）特開平４−２７５３７９号公報 ヒドロキシ基及びカルボキシ基を有するフッ素含有重合
体と、金属アルコキシドの加水分解縮合物とにより、耐
候性、耐擦過傷性及び耐酸性の良好な自動車用の上塗り
塗料を得る方法。 （４）特開昭６１−４０８４５号公報、特開昭６４−１
５２７号公報 フッ素化アルコキシシランの加水分解物を利用して反射
防止製品を作製する方法。 （５）特開平２−１９８０１号公報、特開平４−２２６
１７７号公報 含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーが溶剤に溶解さ
れてなる組成物を低反射加工剤として使用する方法。 （６）特開平１０−１４７７４０号公報 官能基含有フッ素重合体とシラン化合物及び金属触媒に
より低屈折率被膜を作製する方法。 （７）特開２０００−１１９６３４号公報 フッ素シラン化合物と多官能有機珪素化合物或いはその
加水分解物とをブレンドして防汚染性組成物として使用
する方法。
マーは、その溶解度パラメータが他の有機材料と著しく
異なり、また、分子間凝集力が小さいという特性を有す
る。このため、ポリマー材料を調製する際に使用できる
溶剤の種類が限定され、また、基材表面に被膜を形成す
る場合において、基材に対する密着力や被膜の硬度が低
く、しかも、十分な透明性を確保することができないな
どの問題を有している。これらの問題を解決するため
に、下記のような技術が提案されている。 （１）特開昭６１−２５８８５２号公報 フルオロオレフィンと、ビニルエーテルと、ビニルアル
コキシシランとを共重合させることにより、接着性の良
好なフッ素系重合体を得る方法。 （２）特開昭６２−１８５７４０号公報 アミノ基及びカルボキシル基を有するフルオロオレフィ
ン系共重合体と、エポキシ官能性アルコキシシランと、
シラノール基含有化合物とにより、耐候性及び硬化性の
良好な組成物を得る方法。 （３）特開平４−２７５３７９号公報 ヒドロキシ基及びカルボキシ基を有するフッ素含有重合
体と、金属アルコキシドの加水分解縮合物とにより、耐
候性、耐擦過傷性及び耐酸性の良好な自動車用の上塗り
塗料を得る方法。 （４）特開昭６１−４０８４５号公報、特開昭６４−１
５２７号公報 フッ素化アルコキシシランの加水分解物を利用して反射
防止製品を作製する方法。 （５）特開平２−１９８０１号公報、特開平４−２２６
１７７号公報 含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーが溶剤に溶解さ
れてなる組成物を低反射加工剤として使用する方法。 （６）特開平１０−１４７７４０号公報 官能基含有フッ素重合体とシラン化合物及び金属触媒に
より低屈折率被膜を作製する方法。 （７）特開２０００−１１９６３４号公報 フッ素シラン化合物と多官能有機珪素化合物或いはその
加水分解物とをブレンドして防汚染性組成物として使用
する方法。
【０００５】上記のような各種の方法が提案されている
が、特開昭６１−２５８８５２号公報、特開昭６２−１
８５７４０号公報及び特開昭６４−１５２７号公報に開
示の方法では、形成された塗膜を長時間にわたって乾燥
処理する必要があり、生産効率の観点から問題がある。
また、特開昭６１−４０８４５号公報及び特開平４−２
７５３７９号公報に開示の技術では、高温条件下で乾燥
処理を行うために、適用可能な基材の種類が制限される
という問題がある。特開平２−１９８０１号公報に開示
の技術では、組成物を構成する溶剤の種類が限定され、
また、形成される被膜が十分な耐擦過傷性を有するもの
とならないという問題がある。特開平１０−１４７７４
０号公報の方法では製造工程が煩雑であり、高コストで
ある。また屈折率も今一つ下がらないという問題点があ
った。特開２０００−１１９６３４号公報では、単にフ
ッ素シラン化合物と多官能有機珪素化合物或いはその加
水分解物とをブレンドしているだけなので、硬さや耐擦
過傷性、耐候性、撥水性が得られにくく、屈折率の低下
も今一つであり、また厚膜化できないなどの問題点があ
った。
が、特開昭６１−２５８８５２号公報、特開昭６２−１
８５７４０号公報及び特開昭６４−１５２７号公報に開
示の方法では、形成された塗膜を長時間にわたって乾燥
処理する必要があり、生産効率の観点から問題がある。
また、特開昭６１−４０８４５号公報及び特開平４−２
７５３７９号公報に開示の技術では、高温条件下で乾燥
処理を行うために、適用可能な基材の種類が制限される
という問題がある。特開平２−１９８０１号公報に開示
の技術では、組成物を構成する溶剤の種類が限定され、
また、形成される被膜が十分な耐擦過傷性を有するもの
とならないという問題がある。特開平１０−１４７７４
０号公報の方法では製造工程が煩雑であり、高コストで
ある。また屈折率も今一つ下がらないという問題点があ
った。特開２０００−１１９６３４号公報では、単にフ
ッ素シラン化合物と多官能有機珪素化合物或いはその加
水分解物とをブレンドしているだけなので、硬さや耐擦
過傷性、耐候性、撥水性が得られにくく、屈折率の低下
も今一つであり、また厚膜化できないなどの問題点があ
った。
【０００６】以上のように、従来においては、基材に対
する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染性、
低屈折率性及び透明性の全てについて良好な硬化被膜を
効率的に形成することができる被膜形成用組成物は知ら
れていない。
する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染性、
低屈折率性及び透明性の全てについて良好な硬化被膜を
効率的に形成することができる被膜形成用組成物は知ら
れていない。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水
性、防汚染性、低屈折率性及び透明性に優れた保護被膜
を形成することができる被膜形成用組成物及びこの組成
物の硬化被膜を有する物品を提供することを目的とす
る。
で、基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水
性、防汚染性、低屈折率性及び透明性に優れた保護被膜
を形成することができる被膜形成用組成物及びこの組成
物の硬化被膜を有する物品を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、被膜形成用組成物として（１）フッ化アルキル基含
有アルコキシシラン化合物又はこれと（２）シラン化合
物とを過剰の水中又は含フッ素系溶媒中で加水分解・縮
合反応させることにより得られた反応生成物を使用する
ことが有効であることを知見した。
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、被膜形成用組成物として（１）フッ化アルキル基含
有アルコキシシラン化合物又はこれと（２）シラン化合
物とを過剰の水中又は含フッ素系溶媒中で加水分解・縮
合反応させることにより得られた反応生成物を使用する
ことが有効であることを知見した。
【０００９】即ち、本発明者は基材に対する密着性、耐
擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染性、低屈折率性及び
透明性の全てについて良好な硬化被膜を効率的に形成す
ることができる被膜形成用組成物について種々検討した
結果、（１）フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化
合物又はこれと（２）シラン化合物とを過剰の水中で加
水分解・縮合反応させることにより得られた反応生成物
を使用したところ、基材に対する密着性、耐擦過傷性、
耐候性、撥水性、防汚染性、低屈折率性及び透明性の全
てについて良好な硬化被膜を得ることが可能となること
を見出した。
擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染性、低屈折率性及び
透明性の全てについて良好な硬化被膜を効率的に形成す
ることができる被膜形成用組成物について種々検討した
結果、（１）フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化
合物又はこれと（２）シラン化合物とを過剰の水中で加
水分解・縮合反応させることにより得られた反応生成物
を使用したところ、基材に対する密着性、耐擦過傷性、
耐候性、撥水性、防汚染性、低屈折率性及び透明性の全
てについて良好な硬化被膜を得ることが可能となること
を見出した。
【００１０】通常異なる２種類のシラン化合物による反
応物は共にアルコキシド体を用いて、少量の水により、
場合によってはこれに非含フッ素系有機溶媒を加えて、
加水分解・縮合反応により作製するのが常である。しか
し、フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物は加
水分解速度が他のアルコキシシラン化合物よりも遅く、
単に、両者を少量の水で加水分解しても、うまく共加水
分解物を得ることができず、フッ化アルキル基をシロキ
サン中にうまく組み込むことができなかった。それ故、
反応液が層分離を起こしたり、溶剤に溶解しなかった
り、また膜性も悪く、屈折率も１．４２以下にすること
はできず、更にはうまく加水分解ができたとしても、剛
直で大きなフッ化アルキル基を持つために、その疎水性
を維持しながらより安定な状態を維持するためか、生成
するシロキサン化合物が環状或いはかご状構造を生成し
易く、これを膜にしても、ヨリやユズ肌状となり、うま
くいかないという欠点があった。
応物は共にアルコキシド体を用いて、少量の水により、
場合によってはこれに非含フッ素系有機溶媒を加えて、
加水分解・縮合反応により作製するのが常である。しか
し、フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物は加
水分解速度が他のアルコキシシラン化合物よりも遅く、
単に、両者を少量の水で加水分解しても、うまく共加水
分解物を得ることができず、フッ化アルキル基をシロキ
サン中にうまく組み込むことができなかった。それ故、
反応液が層分離を起こしたり、溶剤に溶解しなかった
り、また膜性も悪く、屈折率も１．４２以下にすること
はできず、更にはうまく加水分解ができたとしても、剛
直で大きなフッ化アルキル基を持つために、その疎水性
を維持しながらより安定な状態を維持するためか、生成
するシロキサン化合物が環状或いはかご状構造を生成し
易く、これを膜にしても、ヨリやユズ肌状となり、うま
くいかないという欠点があった。
【００１１】そこで、本発明者は、発想を転換し、過剰
の水中又は含フッ素系溶媒中でフッ化アルキル基含有ア
ルコキシシラン化合物とシラン化合物との加水分解・縮
合反応を試みたところ、フッ化アルキル基含有アルコキ
シシラン化合物をうまく組み込むことが可能となり、そ
れにより作製した膜は良好な造膜性や低屈折率であるこ
とを見出し、更に詳細に検討して本発明を完成させた。
の水中又は含フッ素系溶媒中でフッ化アルキル基含有ア
ルコキシシラン化合物とシラン化合物との加水分解・縮
合反応を試みたところ、フッ化アルキル基含有アルコキ
シシラン化合物をうまく組み込むことが可能となり、そ
れにより作製した膜は良好な造膜性や低屈折率であるこ
とを見出し、更に詳細に検討して本発明を完成させた。
【００１２】従って、本発明は、下記一般式（１）で示
されるフッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又
はこの式（１）のフッ化アルキル基含有アルコキシシラ
ン化合物と下記一般式（２）で示されるシラン化合物と
の混合物１００重量部に対し、水２００〜２，０００重
量部の比率で加水分解・縮合反応して得られるフロロオ
ルガノポリシロキサン樹脂を含有することを特徴とする
被膜形成用組成物、及び、下記一般式（１）で示される
フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又はこの
式（１）のフッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合
物と下記一般式（２）で示されるシラン化合物との混合
物を含フッ素系溶媒中で加水分解・縮合反応して得られ
るフロロオルガノポリシロキサン樹脂を含有することを
特徴とする被膜形成用組成物を提供する。また、本発明
は、上記組成物の硬化被膜を有する物品を提供する。
されるフッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又
はこの式（１）のフッ化アルキル基含有アルコキシシラ
ン化合物と下記一般式（２）で示されるシラン化合物と
の混合物１００重量部に対し、水２００〜２，０００重
量部の比率で加水分解・縮合反応して得られるフロロオ
ルガノポリシロキサン樹脂を含有することを特徴とする
被膜形成用組成物、及び、下記一般式（１）で示される
フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又はこの
式（１）のフッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合
物と下記一般式（２）で示されるシラン化合物との混合
物を含フッ素系溶媒中で加水分解・縮合反応して得られ
るフロロオルガノポリシロキサン樹脂を含有することを
特徴とする被膜形成用組成物を提供する。また、本発明
は、上記組成物の硬化被膜を有する物品を提供する。
【００１３】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の被膜形成用組成物は、（１）下記式（１）のフ
ッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又はこのシ
ラン化合物と（２）下記式（２）のシラン化合物或いは
その部分加水分解物との混合物を、過剰の水中、又は含
フッ素系溶媒中で加水分解・縮合反応して得られるフロ
ロオルガノポリシロキサン樹脂を含有するもので、基材
に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染
性、低屈折率性及び透明性に優れた硬化被膜を形成する
ことができるものである。
本発明の被膜形成用組成物は、（１）下記式（１）のフ
ッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又はこのシ
ラン化合物と（２）下記式（２）のシラン化合物或いは
その部分加水分解物との混合物を、過剰の水中、又は含
フッ素系溶媒中で加水分解・縮合反応して得られるフロ
ロオルガノポリシロキサン樹脂を含有するもので、基材
に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染
性、低屈折率性及び透明性に優れた硬化被膜を形成する
ことができるものである。
【００１４】本発明の組成物を構成する成分（１）のフ
ッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物及び成分
（２）のシラン化合物について以下に説明する。フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物 フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物は、下記
一般式（１）で示されるものである。
ッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物及び成分
（２）のシラン化合物について以下に説明する。フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物 フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物は、下記
一般式（１）で示されるものである。
【化３】 （式中、Ｒｆは、
【化４】 （ｎは１〜２０の整数、ｍは１以上、好ましくは１〜２
０、特に１〜１０の整数）で表されるエーテル結合を１
個以上含んでいてもよいポリフルオロアルキル基を示
し、Ｘは−ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＮＲ3−、−ＣＯ
Ｏ−、−ＣＯＮＲ3−、−Ｓ−、−ＳＯ3−又はＳＯ2Ｎ
Ｒ3−（Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基）
の１種又は２種以上の結合基を示し、Ｒ1は炭素数１〜
４のアルキル基、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を示
す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整数、ｃは０又は
１である。）
０、特に１〜１０の整数）で表されるエーテル結合を１
個以上含んでいてもよいポリフルオロアルキル基を示
し、Ｘは−ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＮＲ3−、−ＣＯ
Ｏ−、−ＣＯＮＲ3−、−Ｓ−、−ＳＯ3−又はＳＯ2Ｎ
Ｒ3−（Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基）
の１種又は２種以上の結合基を示し、Ｒ1は炭素数１〜
４のアルキル基、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を示
す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整数、ｃは０又は
１である。）
【００１５】Ｒｆは、ＣnＦ2n+1又はＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2Ｏ
（ＣＦＣＦ3ＣＦ2Ｏ）mＣＦＣＦ3−（ｎ，ｍは上記の通
り）であり、ＣnＦ2n+1としては、ＣＦ3−、Ｃ2Ｆ5−、
Ｃ3Ｆ7−、Ｃ4Ｆ9−、Ｃ6Ｆ13−、Ｃ8Ｆ17−、Ｃ10Ｆ21
−、Ｃ12Ｆ25−、Ｃ14Ｆ29−、Ｃ16Ｆ33−、Ｃ18Ｆ
37−、Ｃ20Ｆ41−などが挙げられる。
（ＣＦＣＦ3ＣＦ2Ｏ）mＣＦＣＦ3−（ｎ，ｍは上記の通
り）であり、ＣnＦ2n+1としては、ＣＦ3−、Ｃ2Ｆ5−、
Ｃ3Ｆ7−、Ｃ4Ｆ9−、Ｃ6Ｆ13−、Ｃ8Ｆ17−、Ｃ10Ｆ21
−、Ｃ12Ｆ25−、Ｃ14Ｆ29−、Ｃ16Ｆ33−、Ｃ18Ｆ
37−、Ｃ20Ｆ41−などが挙げられる。
【００１６】このような一般式（１）のアルコキシシラ
ン化合物としては、下記のものを例示することができ
る。 Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ
Ｈ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｏ
ＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2Ｃ
Ｈ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2
ＣＨ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｏ
ＣＨ2ＣＨ3） ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2Ｃ
Ｈ3） ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ
3）
ン化合物としては、下記のものを例示することができ
る。 Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 Ｒｆ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 Ｒｆ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ
Ｈ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｏ
ＣＨ3） ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2Ｃ
Ｈ3）3 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2
ＣＨ3）2 ＲｆＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｏ
ＣＨ2ＣＨ3） ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＲｆＣＯＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2Ｃ
Ｈ3） ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＲｆＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ
3）
【００１７】好ましいものとして下記のものが挙げられ
る。 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＣＦ3（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＣＦ3（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） Ｃ3Ｆ7（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）3ＣＦ（ＣＦ3）ＣＨ2
Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 これらのアルコキシシラン化合物は１種を単独で又は２
種以上の混合物として使用することができる。
る。 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ＣＦ3（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 ＣＦ3（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3） Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ2ＣＨ3） Ｃ3Ｆ7（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）3ＣＦ（ＣＦ3）ＣＨ2
Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 これらのアルコキシシラン化合物は１種を単独で又は２
種以上の混合物として使用することができる。
【００１８】シラン化合物 シラン化合物は下記一般式（２）で示されるものであ
る。 Ｒ4 dＳｉ（ＯＲ5）4-d （２） （式中、Ｒ4は炭素数１〜１０の有機基、Ｒ5は炭素数１
〜１０のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アル
コキシアルキル基又はアシル基を示す。ｄは０〜３、好
ましくは０〜２の整数である。）
る。 Ｒ4 dＳｉ（ＯＲ5）4-d （２） （式中、Ｒ4は炭素数１〜１０の有機基、Ｒ5は炭素数１
〜１０のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アル
コキシアルキル基又はアシル基を示す。ｄは０〜３、好
ましくは０〜２の整数である。）
【００１９】ここで、Ｒ4は炭素原子数１〜１０のアル
キル基、アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、
（メタ）アクリロオキシ基、メルカプト基、アミノ基、
シアノ基置換アルキル基、アリール基、アルケニル基等
のエポキシ基、（メタ）アクリロオキシ基、メルカプト
基、アミノ基、シアノ基等を有する有機基を表す。具体
的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、シクロヘキシ
ル基などのアルキル基、フェニル基、フェネチル基など
のアリール基、ビニル基、アリル基、９−デセニル基、
ｐ−ビニルベンジル基などのアルケニル基、３−グリシ
ドキシプロピル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチル基、９，１０−エポキシデシル基などのエ
ポキシ基含有有機基、γ−メタクリルオキシプロピル
基、γ−アクリルオキシプロピル基などの（メタ）アク
リルオキシ基含有有機基、γ−メルカプトプロピル基、
ｐ−メルカプトメチルフェニルエチル基などのメルカプ
ト基含有有機基、γ−アミノプロピル基、（β−アミノ
エチル）−γ−アミノプロピル基などのアミノ基含有有
機基、β−シアノエチル基などのシアノ基含有有機基な
どを例示することができる。
キル基、アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、
（メタ）アクリロオキシ基、メルカプト基、アミノ基、
シアノ基置換アルキル基、アリール基、アルケニル基等
のエポキシ基、（メタ）アクリロオキシ基、メルカプト
基、アミノ基、シアノ基等を有する有機基を表す。具体
的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、シクロヘキシ
ル基などのアルキル基、フェニル基、フェネチル基など
のアリール基、ビニル基、アリル基、９−デセニル基、
ｐ−ビニルベンジル基などのアルケニル基、３−グリシ
ドキシプロピル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチル基、９，１０−エポキシデシル基などのエ
ポキシ基含有有機基、γ−メタクリルオキシプロピル
基、γ−アクリルオキシプロピル基などの（メタ）アク
リルオキシ基含有有機基、γ−メルカプトプロピル基、
ｐ−メルカプトメチルフェニルエチル基などのメルカプ
ト基含有有機基、γ−アミノプロピル基、（β−アミノ
エチル）−γ−アミノプロピル基などのアミノ基含有有
機基、β−シアノエチル基などのシアノ基含有有機基な
どを例示することができる。
【００２０】Ｒ5は炭素原子数１〜１０のアルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシアルキル基又は
アシル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、フ
ェニル基、イソプロペニル基、メトキシエチル基、アセ
チル基などが例示される。
アルケニル基、アリール基、アルコキシアルキル基又は
アシル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、フ
ェニル基、イソプロペニル基、メトキシエチル基、アセ
チル基などが例示される。
【００２１】これらのシラン化合物の具体例としては、
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メチルトリブ
トキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニ
ルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリ
イソプロペノキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノ
エチルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−アクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−アクリルオキシプロピルトリエ
トキシシラン等のトリアルコキシ又はトリアシルオキシ
シラン類；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン、ジメチルジ（２−メトキシエトキシ）シラ
ン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルジプロポキ
シシラン、ジメチルジイソプロペノキシシラン、ジメチ
ルジブトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセト
キシシラン、ビニルメチルジ（２−メトキシエトキシ）
シラン、ビニルメチルジイソプロペノキシシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキ
シシラン、フェニルメチルジアセトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−メタク
リルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アク
リルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−シアノエチ
ルメチルジメトキシシラン等のジアルコキシシラン又は
ジアシルオキシシラン類；メチルシリケート、エチルシ
リケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケ
ート、ｓｅｃ−ブチルシリケート及びｔ−ブチルシリケ
ート等のテトラアルコキシシラン類などを挙げることが
できる。
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メチルトリブ
トキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニ
ルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリ
イソプロペノキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノ
エチルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−アクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−アクリルオキシプロピルトリエ
トキシシラン等のトリアルコキシ又はトリアシルオキシ
シラン類；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン、ジメチルジ（２−メトキシエトキシ）シラ
ン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルジプロポキ
シシラン、ジメチルジイソプロペノキシシラン、ジメチ
ルジブトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセト
キシシラン、ビニルメチルジ（２−メトキシエトキシ）
シラン、ビニルメチルジイソプロペノキシシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキ
シシラン、フェニルメチルジアセトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−メタク
リルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アク
リルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−シアノエチ
ルメチルジメトキシシラン等のジアルコキシシラン又は
ジアシルオキシシラン類；メチルシリケート、エチルシ
リケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケ
ート、ｓｅｃ−ブチルシリケート及びｔ−ブチルシリケ
ート等のテトラアルコキシシラン類などを挙げることが
できる。
【００２２】特に紫外線、電子線などで硬化させて被膜
を形成させようとする場合は、アクリロイル基又はメタ
クリロイル基を有する有機基を持つシラン化合物が好ま
しく、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、スチ
リルトリメトキシシラン、スチリルメチルジメトキシシ
ランなどが挙げられる。なお、これらのシラン化合物を
部分加水分解したものを使用してもよい。
を形成させようとする場合は、アクリロイル基又はメタ
クリロイル基を有する有機基を持つシラン化合物が好ま
しく、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、スチ
リルトリメトキシシラン、スチリルメチルジメトキシシ
ランなどが挙げられる。なお、これらのシラン化合物を
部分加水分解したものを使用してもよい。
【００２３】更にこれらのシラン化合物或いは部分加水
分解物は１種を単独で又は２種以上の混合物として使用
することができる。
分解物は１種を単独で又は２種以上の混合物として使用
することができる。
【００２４】上記フッ化アルキル基含有アルコキシシラ
ン化合物（１）とシラン化合物（２）の配合比率は、成
分（１）１００重量部に対し、成分（２）０〜１，００
０重量部であることが好ましい。より好ましくは、成分
（２）が０〜３００重量部である。この成分（２）の比
率が１，０００重量部を超えると、硬化被膜の低屈折率
性が悪化する場合がある。なお、成分（２）を配合する
場合、その効果を有効に発揮させるためには、５重量部
以上配合することが好ましい。
ン化合物（１）とシラン化合物（２）の配合比率は、成
分（１）１００重量部に対し、成分（２）０〜１，００
０重量部であることが好ましい。より好ましくは、成分
（２）が０〜３００重量部である。この成分（２）の比
率が１，０００重量部を超えると、硬化被膜の低屈折率
性が悪化する場合がある。なお、成分（２）を配合する
場合、その効果を有効に発揮させるためには、５重量部
以上配合することが好ましい。
【００２５】本発明におけるフッ化アルキル基含有アル
コキシシラン化合物とシラン化合物との加水分解・縮合
反応の条件について以下に説明する。
コキシシラン化合物とシラン化合物との加水分解・縮合
反応の条件について以下に説明する。
【００２６】まず、過剰の水で加水分解・縮合反応を行
う場合、フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物
（１）又はこれとシラン化合物（２）との混合物１００
重量部に対して、水が２００〜２，０００重量部の範囲
とする。特に好ましくは３００〜１，０００重量部であ
る。２，０００重量部よりも多いと、得られるポットイ
ールドが小さくなり、経済的に不利である。２００重量
部よりも少ないと、（共）加水分解がうまくいかず、フ
ッ化アルキル基含有シリル部位の組み込み量が低下する
ため、基材に対する密着性や低屈折率性が悪くなる。
う場合、フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物
（１）又はこれとシラン化合物（２）との混合物１００
重量部に対して、水が２００〜２，０００重量部の範囲
とする。特に好ましくは３００〜１，０００重量部であ
る。２，０００重量部よりも多いと、得られるポットイ
ールドが小さくなり、経済的に不利である。２００重量
部よりも少ないと、（共）加水分解がうまくいかず、フ
ッ化アルキル基含有シリル部位の組み込み量が低下する
ため、基材に対する密着性や低屈折率性が悪くなる。
【００２７】この反応を行う際は、非フッ素系有機溶剤
を添加して反応を行ってもよい。用いる有機溶剤の具体
例としては、ジアセトンアルコール、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルア
ルコール、ｎ−プロピルアルコール、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセ
トン、酢酸エチル、酢酸ブチル、キシレン、トルエン等
が挙げられる。
を添加して反応を行ってもよい。用いる有機溶剤の具体
例としては、ジアセトンアルコール、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルア
ルコール、ｎ−プロピルアルコール、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセ
トン、酢酸エチル、酢酸ブチル、キシレン、トルエン等
が挙げられる。
【００２８】上記フッ化アルキル基含有アルコキシシラ
ン化合物（１）又はこれとシラン化合物（２）との加水
分解・縮合反応を行う際、系内を酸性下或いはアルカリ
性下で加水分解・縮合を行わせるとよい。特に好ましく
はｐＨ１〜７の酸性〜弱酸性下で行うのがよい。
ン化合物（１）又はこれとシラン化合物（２）との加水
分解・縮合反応を行う際、系内を酸性下或いはアルカリ
性下で加水分解・縮合を行わせるとよい。特に好ましく
はｐＨ１〜７の酸性〜弱酸性下で行うのがよい。
【００２９】そのために従来公知の酸性触媒或いは塩基
性触媒の使用が可能である。酸性触媒としては酸性のハ
ロゲン化水素、カルボン酸、スルフォン酸、固体酸触媒
などが好ましい。具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、酢
酸、マレイン酸、酸性系イオン交換樹脂触媒などが挙げ
られる。また、塩基性触媒としてはアミン系のものが好
ましい。具体例としてはアンモニア、ジメチルアミン、
ジエチルアミンなどが挙げられる。
性触媒の使用が可能である。酸性触媒としては酸性のハ
ロゲン化水素、カルボン酸、スルフォン酸、固体酸触媒
などが好ましい。具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、酢
酸、マレイン酸、酸性系イオン交換樹脂触媒などが挙げ
られる。また、塩基性触媒としてはアミン系のものが好
ましい。具体例としてはアンモニア、ジメチルアミン、
ジエチルアミンなどが挙げられる。
【００３０】この加水分解・縮合反応は２０〜１２０℃
の温度範囲で１〜３０時間反応させるのが好ましい。よ
り好ましくは２０〜６０℃で５〜２０時間反応を行う。
の温度範囲で１〜３０時間反応させるのが好ましい。よ
り好ましくは２０〜６０℃で５〜２０時間反応を行う。
【００３１】本発明のフロロオルガノポリシロキサン樹
脂が固体で生成する場合は、濾過等の常法により取り出
し、乾燥することにより得ることができる。また、本発
明のフロロオルガノポリシロキサン樹脂が液状の場合、
そのまま分液により取り出してもよいし、この樹脂が溶
解し、水に非溶解性の溶剤を用いて抽出し、溶液化して
から取り出してもよい。
脂が固体で生成する場合は、濾過等の常法により取り出
し、乾燥することにより得ることができる。また、本発
明のフロロオルガノポリシロキサン樹脂が液状の場合、
そのまま分液により取り出してもよいし、この樹脂が溶
解し、水に非溶解性の溶剤を用いて抽出し、溶液化して
から取り出してもよい。
【００３２】また、加水分解・縮合反応を含フッ素系溶
媒中で行う場合、本発明において使用される含フッ素系
溶媒は、非プロトン性含フッ素系溶媒とプロトン性含フ
ッ素系溶媒がある。なお、ここでいう非プロトン性含フ
ッ素系溶媒とは、通常の反応条件下には解離せずプロト
ンを生じない含フッ素溶媒である。プロトン性含フッ素
系溶媒とは含フッ素アルコールなどの解離してプロトン
を生じ易い含フッ素溶媒である。
媒中で行う場合、本発明において使用される含フッ素系
溶媒は、非プロトン性含フッ素系溶媒とプロトン性含フ
ッ素系溶媒がある。なお、ここでいう非プロトン性含フ
ッ素系溶媒とは、通常の反応条件下には解離せずプロト
ンを生じない含フッ素溶媒である。プロトン性含フッ素
系溶媒とは含フッ素アルコールなどの解離してプロトン
を生じ易い含フッ素溶媒である。
【００３３】本発明で用いる非プロトン性含フッ素溶媒
とは、通常の反応条件下には解離せずプロトンを生じな
い溶媒であり、非プロトン性含フッ素溶媒は、シラン化
合物を溶解できるものが好ましい。更に、成形時に溶媒
が大気中に放出される場合を考慮すると、環境への配慮
から非プロトン性含フッ素溶媒は塩素原子を含有しない
含フッ素溶媒が好ましい。特に、水素原子、フッ素原
子、炭素原子、酸素原子からなる含フッ素溶媒、水素原
子、フッ素原子、炭素原子、窒素原子からなる含フッ素
溶媒、又は水素原子、フッ素原子、炭素原子からなる含
フッ素溶媒であることが好ましい。また、取り扱い上の
便利さから、通常は沸点が３０〜２００℃の非プロトン
性含フッ素溶媒又はその混合物が用いられる。
とは、通常の反応条件下には解離せずプロトンを生じな
い溶媒であり、非プロトン性含フッ素溶媒は、シラン化
合物を溶解できるものが好ましい。更に、成形時に溶媒
が大気中に放出される場合を考慮すると、環境への配慮
から非プロトン性含フッ素溶媒は塩素原子を含有しない
含フッ素溶媒が好ましい。特に、水素原子、フッ素原
子、炭素原子、酸素原子からなる含フッ素溶媒、水素原
子、フッ素原子、炭素原子、窒素原子からなる含フッ素
溶媒、又は水素原子、フッ素原子、炭素原子からなる含
フッ素溶媒であることが好ましい。また、取り扱い上の
便利さから、通常は沸点が３０〜２００℃の非プロトン
性含フッ素溶媒又はその混合物が用いられる。
【００３４】非プロトン性含フッ素溶媒の具体例を以下
に挙げるが、これらに限定されない。これらの非プロト
ン性含フッ素溶媒は単独で又は２種以上の混合物として
使用できる。
に挙げるが、これらに限定されない。これらの非プロト
ン性含フッ素溶媒は単独で又は２種以上の混合物として
使用できる。
【００３５】ペルフルオロベンゼン、ペンタフルオロベ
ンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼ
ン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンなど
の含フッ素芳香族炭化水素類、ペルフルオロデカリン、
ペルフルオロシクロヘキサン、ペルフルオロ（１，３，
５−トリメチルシクロヘキサン）などの含フッ素脂環族
炭化水素類、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフル
オロトリプロピルアミンなどの含フッ素アルキルアミン
類、ペルフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）な
どの含フッ素環状エーテル類、フッ素含有低分子量ポリ
エーテルなどの含フッ素ポリエーテル類、ビス（ヘプタ
フルオロイソプロピル）ケトンなどの含フッ素ケトン
類、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、ペ
ルフルオロデカン、ペルフルオロドデカン、ペルフルオ
ロ（２，７−ジメチルオクタン）、３，３−ジクロロ−
１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン、１，３
−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロ
パン、ペルフルオロ（１，２−ジメチルヘキサン）、ペ
ルフルオロ（１，３−ジメチルヘキサン）、２Ｈ，３Ｈ
−ペルフルオロペンタン、１Ｈ−ペルフルオロヘキサ
ン、１Ｈ−ペルフルオロオクタン、１Ｈ−ペルフルオロ
デカン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロ
ヘキサン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオ
ロオクタン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフル
オロデカン、３Ｈ，４Ｈ−ペルフルオロ−２−メチルペ
ンタン、２Ｈ，３Ｈ−ペルフルオロ−２−メチルペンタ
ンなどの含フッ素脂肪族炭化水素類などが例示される。
ンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼ
ン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンなど
の含フッ素芳香族炭化水素類、ペルフルオロデカリン、
ペルフルオロシクロヘキサン、ペルフルオロ（１，３，
５−トリメチルシクロヘキサン）などの含フッ素脂環族
炭化水素類、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフル
オロトリプロピルアミンなどの含フッ素アルキルアミン
類、ペルフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）な
どの含フッ素環状エーテル類、フッ素含有低分子量ポリ
エーテルなどの含フッ素ポリエーテル類、ビス（ヘプタ
フルオロイソプロピル）ケトンなどの含フッ素ケトン
類、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、ペ
ルフルオロデカン、ペルフルオロドデカン、ペルフルオ
ロ（２，７−ジメチルオクタン）、３，３−ジクロロ−
１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン、１，３
−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロ
パン、ペルフルオロ（１，２−ジメチルヘキサン）、ペ
ルフルオロ（１，３−ジメチルヘキサン）、２Ｈ，３Ｈ
−ペルフルオロペンタン、１Ｈ−ペルフルオロヘキサ
ン、１Ｈ−ペルフルオロオクタン、１Ｈ−ペルフルオロ
デカン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロ
ヘキサン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオ
ロオクタン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフル
オロデカン、３Ｈ，４Ｈ−ペルフルオロ−２−メチルペ
ンタン、２Ｈ，３Ｈ−ペルフルオロ−２−メチルペンタ
ンなどの含フッ素脂肪族炭化水素類などが例示される。
【００３６】プロトン性含フッ素溶媒は、含フッ素アル
コールなどの解離してプロトンを生じ易い含フッ素溶媒
である。シラン化合物の溶解性を上げるためなどの理由
で、非プロトン性含フッ素溶媒中にプロトン性含フッ素
溶媒を併用してもよいし、或いはプロトン性含フッ素溶
媒を単独使用してもよい。この場合、プロトン性含フッ
素溶媒はシラン化合物のアルコキシ基とアルコキシ交換
を起こす可能性があり、一旦交換してしまうと加水分解
されにくくなるため、プロトン性含フッ素溶媒の種類に
よっては共加水分解がうまくいかないこともあるので、
プロトン性含フッ素溶媒を非プロトン性含フッ素溶媒と
併用する場合は、目的に応じてその種類や量を調整する
ことが好ましい。
コールなどの解離してプロトンを生じ易い含フッ素溶媒
である。シラン化合物の溶解性を上げるためなどの理由
で、非プロトン性含フッ素溶媒中にプロトン性含フッ素
溶媒を併用してもよいし、或いはプロトン性含フッ素溶
媒を単独使用してもよい。この場合、プロトン性含フッ
素溶媒はシラン化合物のアルコキシ基とアルコキシ交換
を起こす可能性があり、一旦交換してしまうと加水分解
されにくくなるため、プロトン性含フッ素溶媒の種類に
よっては共加水分解がうまくいかないこともあるので、
プロトン性含フッ素溶媒を非プロトン性含フッ素溶媒と
併用する場合は、目的に応じてその種類や量を調整する
ことが好ましい。
【００３７】プロトン性含フッ素溶媒を使用する場合、
非プロトン性含フッ素溶媒とプロトン性含フッ素溶媒の
混合比率は両者の合計に対してプロトン性含フッ素溶媒
０．０１〜５０重量％が好ましく、特に０．１〜３０重
量％が好ましい。
非プロトン性含フッ素溶媒とプロトン性含フッ素溶媒の
混合比率は両者の合計に対してプロトン性含フッ素溶媒
０．０１〜５０重量％が好ましく、特に０．１〜３０重
量％が好ましい。
【００３８】プロトン性含フッ素溶媒としては含フッ素
アルコールが最も好ましく、含フッ素アルコールとして
は例えば以下のような化合物が使用できる。
アルコールが最も好ましく、含フッ素アルコールとして
は例えば以下のような化合物が使用できる。
【００３９】（ＣＦ3）2ＣＨＯＨ、Ｆ（ＣＦ2）f（ＣＨ
2）gＯＨ［ｆ＝１〜１２、ｇ＝１〜５］、（ＣＦ3）2Ｃ
Ｆ（ＣＦ2）h（ＣＨ2）iＯＨ［ｈ＝１〜１０、ｉ＝１〜
５］、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）jＣＦ（ＣＦ3）ＣＨ
2ＯＨ［ｊ＝１〜４］。
2）gＯＨ［ｆ＝１〜１２、ｇ＝１〜５］、（ＣＦ3）2Ｃ
Ｆ（ＣＦ2）h（ＣＨ2）iＯＨ［ｈ＝１〜１０、ｉ＝１〜
５］、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）jＣＦ（ＣＦ3）ＣＨ
2ＯＨ［ｊ＝１〜４］。
【００４０】含フッ素アルコール類以外のプロトン性含
フッ素溶媒としては、例えば含フッ素カルボン酸類、含
フッ素カルボン酸アミド類、含フッ素スルホン酸類など
を使用できる。具体的な化合物としては、例えば以下の
ような化合物が挙げられる。
フッ素溶媒としては、例えば含フッ素カルボン酸類、含
フッ素カルボン酸アミド類、含フッ素スルホン酸類など
を使用できる。具体的な化合物としては、例えば以下の
ような化合物が挙げられる。
【００４１】トリフルオロ酢酸、ペルフルオロプロパン
酸、ペルフルオロブタン酸、ペルフルオロペンタン酸、
ペルフルオロヘキサン酸、ペルフルオロヘプタン酸、ペ
ルフルオロオクタン酸、ペルフルオロノナン酸、ペルフ
ルオロデカン酸、３Ｈ−テトラフルオロプロパン酸、５
Ｈ−オクタフルオロペンタン酸、７Ｈ−ドデカフルオロ
ヘプタン酸、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナン酸、これ
ら含フッ素カルボン酸類のアミド、トリフルオロメタン
スルホン酸、ヘプタデカフルオロオクタンスルホン酸等
である。
酸、ペルフルオロブタン酸、ペルフルオロペンタン酸、
ペルフルオロヘキサン酸、ペルフルオロヘプタン酸、ペ
ルフルオロオクタン酸、ペルフルオロノナン酸、ペルフ
ルオロデカン酸、３Ｈ−テトラフルオロプロパン酸、５
Ｈ−オクタフルオロペンタン酸、７Ｈ−ドデカフルオロ
ヘプタン酸、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナン酸、これ
ら含フッ素カルボン酸類のアミド、トリフルオロメタン
スルホン酸、ヘプタデカフルオロオクタンスルホン酸等
である。
【００４２】本発明におけるフッ化アルキル基含有アル
コキシシラン化合物又はこれとシラン化合物との加水分
解・縮合反応の条件について以下に説明する。
コキシシラン化合物又はこれとシラン化合物との加水分
解・縮合反応の条件について以下に説明する。
【００４３】フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化
合物（１）又はこれとシラン化合物（２）との混合物１
００重量部に対して、含フッ素系溶媒５０〜２，０００
重量部の範囲が好ましい。特に好ましくは１００〜１，
０００重量部である。２，０００重量部よりも多いと得
られるポットイールドが小さくなり、経済的に不利であ
る。５０重量部よりも少ないと、シラン化合物を含フッ
素系溶媒で溶かし込むのに不十分な場合が発生し、加水
分解がうまくいかなくなることがある。
合物（１）又はこれとシラン化合物（２）との混合物１
００重量部に対して、含フッ素系溶媒５０〜２，０００
重量部の範囲が好ましい。特に好ましくは１００〜１，
０００重量部である。２，０００重量部よりも多いと得
られるポットイールドが小さくなり、経済的に不利であ
る。５０重量部よりも少ないと、シラン化合物を含フッ
素系溶媒で溶かし込むのに不十分な場合が発生し、加水
分解がうまくいかなくなることがある。
【００４４】この反応を行う際は、反応を阻害しない範
囲で非フッ素系有機溶剤を添加して反応を行ってもよ
い。用いる非フッ素系有機溶剤の具体例としては、ジア
セトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、イソブチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−プロ
ピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、アセチルアセトン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、キシレン、トルエン等が挙げられる。
囲で非フッ素系有機溶剤を添加して反応を行ってもよ
い。用いる非フッ素系有機溶剤の具体例としては、ジア
セトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、イソブチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−プロ
ピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、アセチルアセトン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、キシレン、トルエン等が挙げられる。
【００４５】上記フッ化アルキル基含有アルコキシシラ
ン化合物（１）又はこれとシラン化合物（２）との混合
物の加水分解・縮合反応を行う際、系内を酸性下、或い
はアルカリ性下で加水分解・縮合を行わせるとよい。そ
のために従来公知の酸性触媒或いは塩基性触媒の使用が
可能である。酸性触媒としては酸性のハロゲン化水素、
カルボン酸、スルフォン酸、固体酸触媒などが好まし
い。具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン
酸、酸性系イオン交換樹脂触媒などが挙げられる。ま
た、塩基性触媒としてはアミン系のものが好ましい。具
体例としてはアンモニア、ジメチルアミン、ジエチルア
ミンなどが挙げられる。
ン化合物（１）又はこれとシラン化合物（２）との混合
物の加水分解・縮合反応を行う際、系内を酸性下、或い
はアルカリ性下で加水分解・縮合を行わせるとよい。そ
のために従来公知の酸性触媒或いは塩基性触媒の使用が
可能である。酸性触媒としては酸性のハロゲン化水素、
カルボン酸、スルフォン酸、固体酸触媒などが好まし
い。具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン
酸、酸性系イオン交換樹脂触媒などが挙げられる。ま
た、塩基性触媒としてはアミン系のものが好ましい。具
体例としてはアンモニア、ジメチルアミン、ジエチルア
ミンなどが挙げられる。
【００４６】なお、含フッ素系溶媒中で加水分解を行う
場合の水の量は、成分（１）又は成分（１）と成分
（２）との合計のアルコキシ基のモル数以上であればよ
い。
場合の水の量は、成分（１）又は成分（１）と成分
（２）との合計のアルコキシ基のモル数以上であればよ
い。
【００４７】この加水分解・縮合反応は２０〜１２０℃
の温度範囲で１〜３０時間反応させるのが好ましい。よ
り好ましくは２０〜８０℃で５〜２０時間反応を行う。
の温度範囲で１〜３０時間反応させるのが好ましい。よ
り好ましくは２０〜８０℃で５〜２０時間反応を行う。
【００４８】生成して得られる本発明のフロロオルガノ
ポリシロキサン樹脂が含フッ素系溶媒に溶解している場
合は、残存水分を乾燥した後、そのまま溶液で使用して
もよいし、含フッ素系溶媒を揮発させ単離して使用して
もよいし、更にこれを他の非フッ素系有機溶剤に溶解し
たものを使用してもよい。また、本発明のフロロオルガ
ノポリシロキサン樹脂が含フッ素系溶媒と層分離を起こ
した場合は、フロロオルガノポリシロキサン樹脂層をそ
のまま分液により取り出して使用してもよいし、更にこ
こから含フッ素系溶媒を揮発除去し、単離して使用して
もよいし、更にこれを他の非フッ素系有機溶剤に溶解し
たものを使用してもよい。
ポリシロキサン樹脂が含フッ素系溶媒に溶解している場
合は、残存水分を乾燥した後、そのまま溶液で使用して
もよいし、含フッ素系溶媒を揮発させ単離して使用して
もよいし、更にこれを他の非フッ素系有機溶剤に溶解し
たものを使用してもよい。また、本発明のフロロオルガ
ノポリシロキサン樹脂が含フッ素系溶媒と層分離を起こ
した場合は、フロロオルガノポリシロキサン樹脂層をそ
のまま分液により取り出して使用してもよいし、更にこ
こから含フッ素系溶媒を揮発除去し、単離して使用して
もよいし、更にこれを他の非フッ素系有機溶剤に溶解し
たものを使用してもよい。
【００４９】本発明の被膜形成用組成物には、上記必須
構成成分（フロロオルガノポリシロキサン樹脂）以外
に、有機系或いはシリコーン系のバインダー樹脂、無機
微粒子、有機溶剤、紫外線吸収剤、レベリング剤などの
任意成分が含まれていてもよい。以下、これらの成分に
つき説明する。
構成成分（フロロオルガノポリシロキサン樹脂）以外
に、有機系或いはシリコーン系のバインダー樹脂、無機
微粒子、有機溶剤、紫外線吸収剤、レベリング剤などの
任意成分が含まれていてもよい。以下、これらの成分に
つき説明する。
【００５０】（ａ）無機微粒子：本発明の組成物に添加
される無機微粒子としては、シリカ微粒子、アルミナ微
粒子などの金属酸化物微粒子が好ましく、コロイダルシ
リカが特に好ましい。本発明の組成物に無機微粒子を含
有させることにより、形成される硬化被膜の耐擦過傷性
を更に向上させることができる。
される無機微粒子としては、シリカ微粒子、アルミナ微
粒子などの金属酸化物微粒子が好ましく、コロイダルシ
リカが特に好ましい。本発明の組成物に無機微粒子を含
有させることにより、形成される硬化被膜の耐擦過傷性
を更に向上させることができる。
【００５１】無機微粒子として好適なコロイダルシリカ
は、その平均粒子径が０．００１〜０．１μｍであるこ
とが好ましく、更に好ましくは０．００１〜０．０５μ
ｍとされる。コロイダルシリカの平均粒子径が０．１μ
ｍを超える場合には、調製される組成物によって形成さ
れる硬化被膜の透明性が低下する傾向がある。
は、その平均粒子径が０．００１〜０．１μｍであるこ
とが好ましく、更に好ましくは０．００１〜０．０５μ
ｍとされる。コロイダルシリカの平均粒子径が０．１μ
ｍを超える場合には、調製される組成物によって形成さ
れる硬化被膜の透明性が低下する傾向がある。
【００５２】コロイダルシリカの添加量は、上記フロロ
オルガノポリシロキサン樹脂１００重量部あたり、固形
分換算で５〜８０重量部であり、好ましくは１０〜５０
重量部である。コロイダルシリカの添加量が８０重量部
を超える場合には、調製される組成物によって形成され
る硬化被膜の透明性が低下する傾向がある。コロイダル
シリカは、通常、分散媒中に分散された状態で使用され
る。ここで、分散媒としては、水及び有機溶剤を挙げる
ことができる。コロイダルシリカの分散媒として水を使
用する場合には、当該分散媒のｐＨが２〜１０、好まし
くは３〜７に調整されていることが好ましい。
オルガノポリシロキサン樹脂１００重量部あたり、固形
分換算で５〜８０重量部であり、好ましくは１０〜５０
重量部である。コロイダルシリカの添加量が８０重量部
を超える場合には、調製される組成物によって形成され
る硬化被膜の透明性が低下する傾向がある。コロイダル
シリカは、通常、分散媒中に分散された状態で使用され
る。ここで、分散媒としては、水及び有機溶剤を挙げる
ことができる。コロイダルシリカの分散媒として水を使
用する場合には、当該分散媒のｐＨが２〜１０、好まし
くは３〜７に調整されていることが好ましい。
【００５３】コロイダルシリカの分散媒として好適な有
機溶剤としては、メタノール、イソプロピルアルコー
ル、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコ
ールモノプロピルエーテルなどのアルコール類、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
ピロリドンなどのアミド類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
γ−ブチロラクトンなどのエステル類、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類を挙げるこ
とができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が
好ましい。これら有機溶剤は、単独で又は２種以上を混
合して分散媒として使用することができる。
機溶剤としては、メタノール、イソプロピルアルコー
ル、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコ
ールモノプロピルエーテルなどのアルコール類、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
ピロリドンなどのアミド類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
γ−ブチロラクトンなどのエステル類、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類を挙げるこ
とができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が
好ましい。これら有機溶剤は、単独で又は２種以上を混
合して分散媒として使用することができる。
【００５４】このコロイダルシリカを含有させた被膜形
成用組成物には、最適の耐磨耗性が得られるように、緩
衝液及び硬化触媒を添加することが好ましい。
成用組成物には、最適の耐磨耗性が得られるように、緩
衝液及び硬化触媒を添加することが好ましい。
【００５５】硬化触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、メ
タンスルホン酸のような酸触媒、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、ナトリウムメチラート、カリウムメチラ
ート、アンモニア、ジメチルアミン、エチルアミン、ト
リエチルアミン、ＤＢＵ、３−アミノプロピルトリメト
キシシラン、酢酸エタノールアミン、蟻酸ジメチルアニ
リン、安息香酸、テトラエチルアンモニウム塩、酢酸ナ
トリウム、プロピオン酸ナトリウム、蟻酸ナトリウム、
酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩などのアルカ
リ触媒、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−
ブトキシチタン、テトラブトキシジルコニウム、ジブト
キシ−（ビス−２，４−ペンタンジオネート）チタン、
ジ−ｉ−プロポキシ（ビス−２，４−ペンタンジオネー
ト）チタンテトラ−ｉ−プロポキシジルコニウム、ジブ
トキシ−（ビス−２，４−ペンタンジオネート）ジルコ
ニウム、ジ−ｉ−プロポキシ（ビス−２，４−ペンタン
ジオネート）ジルコニウム、アルミニウムトリイソブト
キシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニ
ウムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩
化アルミニウム、コバルトオクチレート、コバルトアセ
チルアセトナート、亜鉛オクチレート、亜鉛アセチルア
セトナート、鉄アセチルアセトナート、スズアセチルア
セトナート、ジブチルスズオクチレート、ジブチルスズ
ラウレート等が挙げられる。この硬化触媒の添加量はコ
ロイダルシリカを含有させた被膜形成用組成物の固形分
１００重量部に対して０．０２〜０．４重量部の使用が
好ましい。
タンスルホン酸のような酸触媒、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、ナトリウムメチラート、カリウムメチラ
ート、アンモニア、ジメチルアミン、エチルアミン、ト
リエチルアミン、ＤＢＵ、３−アミノプロピルトリメト
キシシラン、酢酸エタノールアミン、蟻酸ジメチルアニ
リン、安息香酸、テトラエチルアンモニウム塩、酢酸ナ
トリウム、プロピオン酸ナトリウム、蟻酸ナトリウム、
酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩などのアルカ
リ触媒、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−
ブトキシチタン、テトラブトキシジルコニウム、ジブト
キシ−（ビス−２，４−ペンタンジオネート）チタン、
ジ−ｉ−プロポキシ（ビス−２，４−ペンタンジオネー
ト）チタンテトラ−ｉ−プロポキシジルコニウム、ジブ
トキシ−（ビス−２，４−ペンタンジオネート）ジルコ
ニウム、ジ−ｉ−プロポキシ（ビス−２，４−ペンタン
ジオネート）ジルコニウム、アルミニウムトリイソブト
キシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニ
ウムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩
化アルミニウム、コバルトオクチレート、コバルトアセ
チルアセトナート、亜鉛オクチレート、亜鉛アセチルア
セトナート、鉄アセチルアセトナート、スズアセチルア
セトナート、ジブチルスズオクチレート、ジブチルスズ
ラウレート等が挙げられる。この硬化触媒の添加量はコ
ロイダルシリカを含有させた被膜形成用組成物の固形分
１００重量部に対して０．０２〜０．４重量部の使用が
好ましい。
【００５６】また、系内のｐＨをシラノール基が安定に
存在し易いｐＨ２〜７、特に好ましくはｐＨ３〜６に制
御することが、安定性を確保する観点から好ましい。ｐ
Ｈを調整するための緩衝剤となる酸・塩基性化合物の組
み合わせ、例えば、酢酸−酢酸ナトリウム、リン酸水素
二ナトリウム−クエン酸などを添加してもよい。
存在し易いｐＨ２〜７、特に好ましくはｐＨ３〜６に制
御することが、安定性を確保する観点から好ましい。ｐ
Ｈを調整するための緩衝剤となる酸・塩基性化合物の組
み合わせ、例えば、酢酸−酢酸ナトリウム、リン酸水素
二ナトリウム−クエン酸などを添加してもよい。
【００５７】（ｂ）有機溶剤：本発明の組成物を構成す
る有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル類、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノール、ジアセトン
アルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレンな
どの炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン、カルビトールなどのエーテル類、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテートなどのグリコール類を挙げ
ることができる。
る有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル類、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノール、ジアセトン
アルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレンな
どの炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン、カルビトールなどのエーテル類、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテートなどのグリコール類を挙げ
ることができる。
【００５８】（ｃ）紫外線吸収剤：本発明の被膜形成用
組成物には弊害を及ぼさない範囲で通常の紫外線吸収剤
を加えてもよい。無機酸化物ゾル、或いは主骨格がヒド
ロキシベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シア
ノアクリレート系、トリアジン系である化合物誘導体な
どの有機化合物が好ましい。更に側鎖にこれら紫外線吸
収剤を含有するビニルポリマーなどの重合体でもよい。
具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどの
無機酸化物ゾルからなる無機系紫外線吸収剤、或いは、
２，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−
ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−ｎ−ベンジロキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジエト
キシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，
４’−ジプロポキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジブトキシベンゾフェノン、２，
２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−４’−プロポキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキ
シ−４’−ブトキシベンゾフェノン、２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５
−ｔ−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シア
ノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキ
シル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）
−４，６−ジフェニルトリアジン、４−（２−アクリロ
キシエトキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの重合
体、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエ
チルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの重合体等
の有機系紫外線吸収剤が例示される。なお、これらの紫
外線吸収剤は２種以上併用してもよい。
組成物には弊害を及ぼさない範囲で通常の紫外線吸収剤
を加えてもよい。無機酸化物ゾル、或いは主骨格がヒド
ロキシベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シア
ノアクリレート系、トリアジン系である化合物誘導体な
どの有機化合物が好ましい。更に側鎖にこれら紫外線吸
収剤を含有するビニルポリマーなどの重合体でもよい。
具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどの
無機酸化物ゾルからなる無機系紫外線吸収剤、或いは、
２，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−
ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−ｎ−ベンジロキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジエト
キシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，
４’−ジプロポキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジブトキシベンゾフェノン、２，
２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−４’−プロポキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキ
シ−４’−ブトキシベンゾフェノン、２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５
−ｔ−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シア
ノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキ
シル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）
−４，６−ジフェニルトリアジン、４−（２−アクリロ
キシエトキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの重合
体、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエ
チルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの重合体等
の有機系紫外線吸収剤が例示される。なお、これらの紫
外線吸収剤は２種以上併用してもよい。
【００５９】本発明の組成物を基材表面にコーティング
する方法としては、ディッピング法、スピンコート法、
フローコート法、ロールコート法、スプレーコート法、
スクリーン印刷法など特に限定されるものではないが、
膜厚の制御を容易に行うことができることから、スプレ
ー法及びロールコート法が好ましい。
する方法としては、ディッピング法、スピンコート法、
フローコート法、ロールコート法、スプレーコート法、
スクリーン印刷法など特に限定されるものではないが、
膜厚の制御を容易に行うことができることから、スプレ
ー法及びロールコート法が好ましい。
【００６０】基材表面にコーティングされた本発明の組
成物による塗膜は、 （１）基材の変形温度以下の温度でキュアーし被膜を形
成する方法 （２）紫外線により硬化させ被膜を形成する方法 により形成される。
成物による塗膜は、 （１）基材の変形温度以下の温度でキュアーし被膜を形
成する方法 （２）紫外線により硬化させ被膜を形成する方法 により形成される。
【００６１】（１）法：乾燥温度としては、通常０〜３
００℃、好ましくは５０〜１５０℃とされ、乾燥時間と
しては、通常１０秒〜２４時間、好ましくは３０秒〜１
時間とされる。なお、本発明の組成物に硬化促進剤を添
加含有させることにより、乾燥時間（硬化時間）の短縮
を図ることができる。ここで、硬化促進剤の具体例とし
ては、ジメチルアミン、酢酸エタノールアミン、蟻酸ジ
メチルアニリン、安息香酸、テトラエチルアンモニウム
塩、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、蟻酸ナ
トリウム、酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩、
テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシ
チタン、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウ
ムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセト
ナート、過塩素酸アルミニウム、塩化アルミニウム、コ
バルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、
亜鉛オクチレート、亜鉛アセチルアセトナート、鉄アセ
チルアセトナート、スズアセチルアセトナート、ジブチ
ルスズオクチレート、ジブチルスズラウレート、アミノ
プロピルトリエトキシシラン、２−アミノエチルアミノ
プロピルトリメトキシシランなどのアミノシラン類等が
挙げられる。
００℃、好ましくは５０〜１５０℃とされ、乾燥時間と
しては、通常１０秒〜２４時間、好ましくは３０秒〜１
時間とされる。なお、本発明の組成物に硬化促進剤を添
加含有させることにより、乾燥時間（硬化時間）の短縮
を図ることができる。ここで、硬化促進剤の具体例とし
ては、ジメチルアミン、酢酸エタノールアミン、蟻酸ジ
メチルアニリン、安息香酸、テトラエチルアンモニウム
塩、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、蟻酸ナ
トリウム、酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩、
テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシ
チタン、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウ
ムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセト
ナート、過塩素酸アルミニウム、塩化アルミニウム、コ
バルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、
亜鉛オクチレート、亜鉛アセチルアセトナート、鉄アセ
チルアセトナート、スズアセチルアセトナート、ジブチ
ルスズオクチレート、ジブチルスズラウレート、アミノ
プロピルトリエトキシシラン、２−アミノエチルアミノ
プロピルトリメトキシシランなどのアミノシラン類等が
挙げられる。
【００６２】（２）法：この方法を用いるには、本発明
のフロロオルガノポリシロキサン樹脂中に（メタ）アク
リロイル基或いはエポキシ基を含有していることが必須
となる。このもの単独或いは硬度、基材に対する密着
性、耐擦過傷性等の物性を調整すること、又は組成物の
粘度、硬化性等を調整することを目的としてアクリロイ
ル基又はメタクリロイル基を有する化合物（以下、（メ
タ）アクリレート化合物という）を更に添加してもよ
い。（メタ）アクリレート化合物の具体例はエチレンオ
キサイド変性フェノールの（メタ）アクリレート、プロ
ピレンオキサイド変性フェノールの（メタ）アクリレー
ト、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールの（メ
タ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフ
ェノールの（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
カルビトール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）ア
クリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
ブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アク
リレート等の単官能（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグ
リコールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイ
ド変性ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、プ
ロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジ（メタ）
アクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノ
ールＡのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
アリルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサ
イド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、アロニ
ックスＭ−６４００（東亞合成株式会社製ポリエステル
アクリレート）等のポリエステルアクリレート、アロニ
ックスＭ−１２００（東亞合成株式会社製ウレタンアク
リレート）等のウレタンアクリレート、環状ヒンダード
アミン構造を有する２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジニルメタクリレート、１，２，２，６，６−
ペンタメチル−４−ピペリジニルメタクリレート等が挙
げられる。
のフロロオルガノポリシロキサン樹脂中に（メタ）アク
リロイル基或いはエポキシ基を含有していることが必須
となる。このもの単独或いは硬度、基材に対する密着
性、耐擦過傷性等の物性を調整すること、又は組成物の
粘度、硬化性等を調整することを目的としてアクリロイ
ル基又はメタクリロイル基を有する化合物（以下、（メ
タ）アクリレート化合物という）を更に添加してもよ
い。（メタ）アクリレート化合物の具体例はエチレンオ
キサイド変性フェノールの（メタ）アクリレート、プロ
ピレンオキサイド変性フェノールの（メタ）アクリレー
ト、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールの（メ
タ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフ
ェノールの（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
カルビトール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）ア
クリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
ブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アク
リレート等の単官能（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグ
リコールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイ
ド変性ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、プ
ロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジ（メタ）
アクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノ
ールＡのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
アリルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサ
イド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、アロニ
ックスＭ−６４００（東亞合成株式会社製ポリエステル
アクリレート）等のポリエステルアクリレート、アロニ
ックスＭ−１２００（東亞合成株式会社製ウレタンアク
リレート）等のウレタンアクリレート、環状ヒンダード
アミン構造を有する２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジニルメタクリレート、１，２，２，６，６−
ペンタメチル−４−ピペリジニルメタクリレート等が挙
げられる。
【００６３】また、エポキシ化合物としては、下記のも
のが挙げられる。
のが挙げられる。
【００６４】
【化５】
【００６５】
【化６】
【００６６】
【化７】
【００６７】また、屈折率を更に下げる目的でフルオロ
アルキル基含有単官能或いは多官能性（メタ）アクリレ
ート化合物及びフルオロアルキル基含有単官能或いは多
官能性エポキシ化合物を用いてもよい。
アルキル基含有単官能或いは多官能性（メタ）アクリレ
ート化合物及びフルオロアルキル基含有単官能或いは多
官能性エポキシ化合物を用いてもよい。
【００６８】（メタ）アクリレート化合物としては、 ＣＦ3（ＣＨ2）2ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ2 Ｃ3Ｆ7（ＣＨ2）2ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ2 Ｃ6Ｆ13（ＣＨ2）2ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ2 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ2 ＣＦ3（ＣＨ2）2ＣＯＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2 Ｃ3Ｆ7（ＣＨ2）2ＣＯＯ（ＣＨ3）＝ＣＨ2 Ｃ6Ｆ13（ＣＨ2）2ＣＯＯ（ＣＨ3）＝ＣＨ2 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＣＯＯ（ＣＨ3）＝ＣＨ2 ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｃ6Ｆ12（ＣＨ2）2ＣＯＯ
ＣＨ＝ＣＨ2 ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｃ8Ｆ16（ＣＨ2）2ＣＯＯ
ＣＨ＝ＣＨ2などが挙げられる。
ＣＨ＝ＣＨ2 ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｃ8Ｆ16（ＣＨ2）2ＣＯＯ
ＣＨ＝ＣＨ2などが挙げられる。
【００６９】エポキシ化合物としては、例えば、ヘキサ
フルオロエポキシプロパン、３−パーフルオロブチル−
１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロヘキシル
−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクチ
ル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロデシ
ル−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−
３−メチルブチル）−１，２−エポキシプロパン、３−
（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−１，２−エポ
キシプロパン、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチ
ル）−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ
−９−メチルデシル）−１，２−エポキシプロパン、３
−（２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ）−
１，２−エポキシプロパン、３−（１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−
オクタフルオロペンチルオキシ）−１，２−エポキシプ
ロパン、３−（１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプ
チルオキシ）−１，２−エポキシプロパン、３−（１
Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルオキシ）−
１，２−エポキシプロパン等の単官能性エポキシ化合物
及び下記構造式で示される多官能性エポキシ化合物類が
挙げられる。 Ｅｐ−ＣＨ2−（Ｏ）f−（ＣＨ2）g−（ＣＦ2）h−（Ｃ
Ｈ2）k−（Ｏ）j−ＣＨ2−Ｅｐ （但し、Ｅｐはエポキシ基、ｆ＝０〜１、ｇ＝０〜２、
ｈ＝２〜１２、ｋ＝０〜２、ｊ＝０〜１の整数を表
す。）
フルオロエポキシプロパン、３−パーフルオロブチル−
１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロヘキシル
−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクチ
ル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロデシ
ル−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−
３−メチルブチル）−１，２−エポキシプロパン、３−
（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−１，２−エポ
キシプロパン、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチ
ル）−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ
−９−メチルデシル）−１，２−エポキシプロパン、３
−（２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ）−
１，２−エポキシプロパン、３−（１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−
オクタフルオロペンチルオキシ）−１，２−エポキシプ
ロパン、３−（１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプ
チルオキシ）−１，２−エポキシプロパン、３−（１
Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルオキシ）−
１，２−エポキシプロパン等の単官能性エポキシ化合物
及び下記構造式で示される多官能性エポキシ化合物類が
挙げられる。 Ｅｐ−ＣＨ2−（Ｏ）f−（ＣＨ2）g−（ＣＦ2）h−（Ｃ
Ｈ2）k−（Ｏ）j−ＣＨ2−Ｅｐ （但し、Ｅｐはエポキシ基、ｆ＝０〜１、ｇ＝０〜２、
ｈ＝２〜１２、ｋ＝０〜２、ｊ＝０〜１の整数を表
す。）
【００７０】なお、上記式において、ｈは屈折率を低減
させ、硬さと低屈折率性を保持するために、４以上１０
以下とすることが好ましい。
させ、硬さと低屈折率性を保持するために、４以上１０
以下とすることが好ましい。
【００７１】その配合割合は、使用目的により異なり、
特に制限されるものではないが、本発明のフロロオルガ
ノポリシロキサン樹脂１００重量部に対する（メタ）ア
クリレート化合物の配合割合は好ましくは５〜１，００
０重量部であり、更に好ましくは１０〜３００重量部で
ある。
特に制限されるものではないが、本発明のフロロオルガ
ノポリシロキサン樹脂１００重量部に対する（メタ）ア
クリレート化合物の配合割合は好ましくは５〜１，００
０重量部であり、更に好ましくは１０〜３００重量部で
ある。
【００７２】また、この系に光重合開始剤を添加し、光
重合を行わせるのが好ましく、光重合開始剤としては、
アリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノ
ン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル
類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエ
ート類、α−アシロキシムエステル類など）、含硫黄系
光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン
類など）、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、
その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤はア
ミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。
重合を行わせるのが好ましく、光重合開始剤としては、
アリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノ
ン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル
類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエ
ート類、α−アシロキシムエステル類など）、含硫黄系
光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン
類など）、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、
その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤はア
ミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。
【００７３】具体的な光重合開始剤としては、例えば以
下のような化合物が挙げられる。４−フェノキシジクロ
ロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフ
ェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、
ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−
メチルプロパン−１−オン、１−｛４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチル
プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）
フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン、ベン
ジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベン
ゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノ
ン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノ
ン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、９，１０−フェナント
レンキノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、２
−エチルアントラキノン、４’，４”−ジエチルイソフ
タロフェノン、α−アシロキシムエステル、フェニルグ
リオキシル酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジ
フェニルスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオ
キサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメ
チルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、
２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチ
オキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサント
ン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−
２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシドな
どである。
下のような化合物が挙げられる。４−フェノキシジクロ
ロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフ
ェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、
ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−
メチルプロパン−１−オン、１−｛４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチル
プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）
フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン、ベン
ジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベン
ゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノ
ン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノ
ン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、９，１０−フェナント
レンキノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、２
−エチルアントラキノン、４’，４”−ジエチルイソフ
タロフェノン、α−アシロキシムエステル、フェニルグ
リオキシル酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジ
フェニルスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオ
キサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメ
チルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、
２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチ
オキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサント
ン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−
２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシドな
どである。
【００７４】また、エポキシ化合物の場合、重合開始剤
としては、酸無水物類、アミン類、アミド類、フェノー
ル類、（ポリ）メルカプト化合物、イミダゾール類、芳
香族ジアゾニウム塩、カチオン付与系等が挙げられる。
としては、酸無水物類、アミン類、アミド類、フェノー
ル類、（ポリ）メルカプト化合物、イミダゾール類、芳
香族ジアゾニウム塩、カチオン付与系等が挙げられる。
【００７５】光分解カチオン付与系としては、プロトン
酸、酸性ハロゲン化金属、有機金属化合物、安定なカル
ボニウムイオン塩などが挙げられる。中でも光分解カチ
オン付与系の化合物がポットライフの長さ、硬化速度の
速さから硬化に適しており、ジアリルヨードニウム塩、
トリアリルスルホニウム塩、トリアリルセレノニウム
塩、トリアリルピリジニウム塩、ベンジルピリジニウム
チオシアネート、ジアルキルフェナシルスルホニウム
塩、ジアルキルヒドロキシフェニルスルホニウム塩、ジ
アルキルヒドロキシフェニルホスホニウム塩、鉄アレン
錯体等が、単独でもしくは混合して用いられる。
酸、酸性ハロゲン化金属、有機金属化合物、安定なカル
ボニウムイオン塩などが挙げられる。中でも光分解カチ
オン付与系の化合物がポットライフの長さ、硬化速度の
速さから硬化に適しており、ジアリルヨードニウム塩、
トリアリルスルホニウム塩、トリアリルセレノニウム
塩、トリアリルピリジニウム塩、ベンジルピリジニウム
チオシアネート、ジアルキルフェナシルスルホニウム
塩、ジアルキルヒドロキシフェニルスルホニウム塩、ジ
アルキルヒドロキシフェニルホスホニウム塩、鉄アレン
錯体等が、単独でもしくは混合して用いられる。
【００７６】光重合開始剤の添加量は本発明のフロロオ
ルガノポリシロキサン樹脂と（メタ）アクリレート化合
物の合計１００重量部に対して０．０１〜２０重量部、
特に０．１〜１０重量部が好ましい。
ルガノポリシロキサン樹脂と（メタ）アクリレート化合
物の合計１００重量部に対して０．０１〜２０重量部、
特に０．１〜１０重量部が好ましい。
【００７７】本発明の組成物によって基材表面に形成さ
れる硬化被膜の膜厚は、通常０．０１〜５μｍとされ、
好ましくは０．０５〜３μｍとされる。防汚、撥水目的
で使用する場合は、より厚膜に形成するのが好ましい。
れる硬化被膜の膜厚は、通常０．０１〜５μｍとされ、
好ましくは０．０５〜３μｍとされる。防汚、撥水目的
で使用する場合は、より厚膜に形成するのが好ましい。
【００７８】本発明の組成物による硬化被膜の屈折率
は、透明樹脂からなる基材表面に形成されたときに良好
な反射防止効果を発揮させるなどの観点から１．４２以
下であることが好ましく、更に好ましくは１．４０以
下、特には１．３５〜１．４０とされる。
は、透明樹脂からなる基材表面に形成されたときに良好
な反射防止効果を発揮させるなどの観点から１．４２以
下であることが好ましく、更に好ましくは１．４０以
下、特には１．３５〜１．４０とされる。
【００７９】この硬化被膜を用いて、より反射防止性を
高めるため、本発明の硬化被膜の下層にその屈折率が
１．６５以上となる高屈折率層を積層させるのがより好
ましい。この層の屈折率を高めるため、より大きい屈折
率を有する物質からなる添加剤を含有させることが好ま
しい。そのような添加剤としては屈折率１．５以上の金
属酸化物ゾルからなる高屈折率超微粒子がある。この高
屈折率金属酸化物ゾルとしては、平均粒径が１〜１００
ｎｍ、特に１〜５０ｎｍの高屈折率金属酸化物ゾルが好
ましい。高屈折率金属酸化物ゾルを配合する場合、その
配合量は特に限定されないが、配合する目的を十分達成
するためには、高屈折率層を形成する組成物の硬化性成
分１００重量部に対して５〜５００重量部が好ましい。
特に好ましくは１００〜２５０重量部である。配合量が
５００重量部より多いと硬化被膜にヘーズが発生するな
どの問題が生じ易くなる。一方、５重量部より少ないと
屈折率が高くならない場合がある。
高めるため、本発明の硬化被膜の下層にその屈折率が
１．６５以上となる高屈折率層を積層させるのがより好
ましい。この層の屈折率を高めるため、より大きい屈折
率を有する物質からなる添加剤を含有させることが好ま
しい。そのような添加剤としては屈折率１．５以上の金
属酸化物ゾルからなる高屈折率超微粒子がある。この高
屈折率金属酸化物ゾルとしては、平均粒径が１〜１００
ｎｍ、特に１〜５０ｎｍの高屈折率金属酸化物ゾルが好
ましい。高屈折率金属酸化物ゾルを配合する場合、その
配合量は特に限定されないが、配合する目的を十分達成
するためには、高屈折率層を形成する組成物の硬化性成
分１００重量部に対して５〜５００重量部が好ましい。
特に好ましくは１００〜２５０重量部である。配合量が
５００重量部より多いと硬化被膜にヘーズが発生するな
どの問題が生じ易くなる。一方、５重量部より少ないと
屈折率が高くならない場合がある。
【００８０】高屈折率金属酸化物ゾルは、硬化層の硬化
物屈折率よりも高く、かつ屈折率１．５以上であること
が、高屈折率の硬化物層の屈折率を上げる点から好まし
い。具体的なものとしては、ＺｎＯ（ｎ＝１．９０）、
ＴｉＯ2（ｎ＝２．３〜２．７）、Ｓｂ2Ｏ5（ｎ＝１．
７１）、Ｙ2Ｏ3（ｎ＝１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（ｎ＝１．
９５）、ＺｒＯ2（ｎ＝２．０５）、Ａｌ2Ｏ3（ｎ＝
１．６３）、ＩｎとＳｎの混合酸化物であるＩＴＯ（ｎ
＝１．９５）、或いはＴｉＯ2−ＳｉＯ2、ＺｒＯ−Ｔｉ
Ｏ2、ＺｒＯ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−ＺｒＯ−ＴｉＯ2等の
複合酸化物などの金属酸化物からなる高屈折率金属酸化
物ゾルが好ましい。その他Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2
などの金属酸化物ゾルなども使用できる。これら高屈折
率金属酸化物ゾルは分散安定性を向上させる点から表面
がシランカップリング剤等で修飾されたものでもよい。
物屈折率よりも高く、かつ屈折率１．５以上であること
が、高屈折率の硬化物層の屈折率を上げる点から好まし
い。具体的なものとしては、ＺｎＯ（ｎ＝１．９０）、
ＴｉＯ2（ｎ＝２．３〜２．７）、Ｓｂ2Ｏ5（ｎ＝１．
７１）、Ｙ2Ｏ3（ｎ＝１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（ｎ＝１．
９５）、ＺｒＯ2（ｎ＝２．０５）、Ａｌ2Ｏ3（ｎ＝
１．６３）、ＩｎとＳｎの混合酸化物であるＩＴＯ（ｎ
＝１．９５）、或いはＴｉＯ2−ＳｉＯ2、ＺｒＯ−Ｔｉ
Ｏ2、ＺｒＯ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−ＺｒＯ−ＴｉＯ2等の
複合酸化物などの金属酸化物からなる高屈折率金属酸化
物ゾルが好ましい。その他Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2
などの金属酸化物ゾルなども使用できる。これら高屈折
率金属酸化物ゾルは分散安定性を向上させる点から表面
がシランカップリング剤等で修飾されたものでもよい。
【００８１】この高屈折率硬化層を形成する硬化性樹脂
としては、従来公知の有機樹脂やシリコーン樹脂、例え
ば熱硬化性アクリル樹脂、湿気硬化性アクリル樹脂、熱
可塑性アクリル樹脂、シランやシロキサンで変性したア
クリル樹脂、ウレタン樹脂などを使用できるが、特に好
ましくは、アルコキシシリル基を含有するアクリル系及
び／又はビニル系単量体とこれら単量体との共重合可能
な他の単量体との有機共重合体を含有する組成物であ
る。このものはアルコキシシリル基の導入により基材と
の接着性、低屈折率層（上記被膜形成用組成物による硬
化被膜層）との密着性も向上されるし、アルコキシシリ
ル基同士が架橋することにより、耐熱性が向上し、耐久
性を付与できる。
としては、従来公知の有機樹脂やシリコーン樹脂、例え
ば熱硬化性アクリル樹脂、湿気硬化性アクリル樹脂、熱
可塑性アクリル樹脂、シランやシロキサンで変性したア
クリル樹脂、ウレタン樹脂などを使用できるが、特に好
ましくは、アルコキシシリル基を含有するアクリル系及
び／又はビニル系単量体とこれら単量体との共重合可能
な他の単量体との有機共重合体を含有する組成物であ
る。このものはアルコキシシリル基の導入により基材と
の接着性、低屈折率層（上記被膜形成用組成物による硬
化被膜層）との密着性も向上されるし、アルコキシシリ
ル基同士が架橋することにより、耐熱性が向上し、耐久
性を付与できる。
【００８２】この場合、このアルコキシシリル基を含有
する単量体の含有量は０．１重量％より少ないと、耐熱
性、耐久性が改良されない場合があり、また５０重量％
より多いと硬くなりすぎて接着性が低下する場合がある
ので、０．１〜５０重量％の範囲で含有するのが好まし
い。
する単量体の含有量は０．１重量％より少ないと、耐熱
性、耐久性が改良されない場合があり、また５０重量％
より多いと硬くなりすぎて接着性が低下する場合がある
ので、０．１〜５０重量％の範囲で含有するのが好まし
い。
【００８３】このアルコキシシリル基を含有するアクリ
ル系単量体としては、３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３
−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−
メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、３−メタク
リロキシメチルトリエトキシシラン、３−メタクリロキ
シメチルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシ
メチルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシメチ
ルトリメトキシシラン、３−アクリロキシメチルトリエ
トキシシラン、３−アクリロキシメチルメチルジメトキ
シシラン、３−アクリロキシメチルメチルジエトキシシ
ランなどが例示されるが、これらの中で取り扱い性、架
橋密度、反応性などから３−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキ
シシランが好ましい。
ル系単量体としては、３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３
−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−
メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、３−メタク
リロキシメチルトリエトキシシラン、３−メタクリロキ
シメチルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシ
メチルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシメチ
ルトリメトキシシラン、３−アクリロキシメチルトリエ
トキシシラン、３−アクリロキシメチルメチルジメトキ
シシラン、３−アクリロキシメチルメチルジエトキシシ
ランなどが例示されるが、これらの中で取り扱い性、架
橋密度、反応性などから３−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキ
シシランが好ましい。
【００８４】また、このアルコキシシリル基を含有する
ビニル系単量体としては、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルビス（２
−メトキシエトキシ）シラン、３−ビニロキシプロピル
トリメトキシシラン、３−ビニロキシプロピルトリエト
キシシラン、３−ビニロキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、３−ビニロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキ
シシラン、スチリルメチルジメトキシシラン、スチリル
メチルジエトキシシランなどが例示されるが、これらの
中で取り扱い性、反応性などからビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、３−ビニロキシプロ
ピルトリメトキシシランが好ましい。
ビニル系単量体としては、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルビス（２
−メトキシエトキシ）シラン、３−ビニロキシプロピル
トリメトキシシラン、３−ビニロキシプロピルトリエト
キシシラン、３−ビニロキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、３−ビニロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキ
シシラン、スチリルメチルジメトキシシラン、スチリル
メチルジエトキシシランなどが例示されるが、これらの
中で取り扱い性、反応性などからビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、３−ビニロキシプロ
ピルトリメトキシシランが好ましい。
【００８５】次に、これらのアルコキシシラン（アルコ
キシシリル基を含有する単量体）と共重合可能な他の単
量体としては、メチルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキ
ルメタクリレート類、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレー
ト類、グリシジルメタクリレート、アクリルアミド、ア
クリルニトリル、酢酸ビニル、エチルビニルエーテル、
ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類、スチレン、エチレングリコールジメタ
クリレート、また紫外線吸収剤であるベンゾトリアゾー
ル類にメタクリル基を含有するもの、例えば２−（２’
−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエチルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなど、また光安定剤である
ヒンダードアミン類にメタクリル基を含有するもの、例
えば２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル
−メタクリレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジニル−メタクリレートなどが例示され
る。なお、アルコキシシリル基と反応し得る、例えば、
２−ヒドロキシエチルメタクリレートなどは高屈折率硬
化被膜用組成物が増粘、ゲル化などの経時変化を起こす
ので好ましくない。
キシシリル基を含有する単量体）と共重合可能な他の単
量体としては、メチルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキ
ルメタクリレート類、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレー
ト類、グリシジルメタクリレート、アクリルアミド、ア
クリルニトリル、酢酸ビニル、エチルビニルエーテル、
ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類、スチレン、エチレングリコールジメタ
クリレート、また紫外線吸収剤であるベンゾトリアゾー
ル類にメタクリル基を含有するもの、例えば２−（２’
−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエチルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなど、また光安定剤である
ヒンダードアミン類にメタクリル基を含有するもの、例
えば２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル
−メタクリレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジニル−メタクリレートなどが例示され
る。なお、アルコキシシリル基と反応し得る、例えば、
２−ヒドロキシエチルメタクリレートなどは高屈折率硬
化被膜用組成物が増粘、ゲル化などの経時変化を起こす
ので好ましくない。
【００８６】この有機共重合体は、上記したアルコキシ
シリル基を含有する単量体とこれと共重合し得る他の単
量体との共重合体であり、この共重合はこれら単量体を
含有する溶液にジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイド等のパーオキサイド類又はアゾビスイソブ
チロニトリル等のアゾ化合物から選択されるラジカル重
合用開始剤を加え、加熱下に反応させることにより容易
に得られる。
シリル基を含有する単量体とこれと共重合し得る他の単
量体との共重合体であり、この共重合はこれら単量体を
含有する溶液にジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイド等のパーオキサイド類又はアゾビスイソブ
チロニトリル等のアゾ化合物から選択されるラジカル重
合用開始剤を加え、加熱下に反応させることにより容易
に得られる。
【００８７】この有機共重合体のコーティング剤組成物
（高屈折率硬化被膜用組成物）における構成比は、１０
重量％未満では熱可塑性となり耐熱性が低下する場合が
あり、また８０重量％より多いと接着性が不良となる場
合があるので、好適には１０〜８０重量％の範囲が好ま
しい。
（高屈折率硬化被膜用組成物）における構成比は、１０
重量％未満では熱可塑性となり耐熱性が低下する場合が
あり、また８０重量％より多いと接着性が不良となる場
合があるので、好適には１０〜８０重量％の範囲が好ま
しい。
【００８８】また、この高屈折率硬化被膜用組成物の粘
度が低すぎて塗工しずらく塗膜が薄くなってしまうよう
な場合、接着性を低下させずに、可撓性を付与する成分
としてアクリル系共重合体を添加してもよい。アクリル
系共重合体としては、ポリ（メチルメタクリレート）、
ポリ（ブチルメタクリレート）、ポリ（ブチルアクリレ
ート）などのポリ（アルキルメタクリレート）、ポリ
（アルキルアクリレート）或いはこれらの共重合体が例
示される。これらのものは、接着性を低下させることな
く高屈折率硬化被膜用組成物に可撓性を付与させるもの
である。これを添加する場合、高屈折率硬化被膜用組成
物に対して３０重量％より多く添加すると、この組成物
の熱硬化性が悪化する場合があるので、この添加量は３
０重量％以下が望ましい。
度が低すぎて塗工しずらく塗膜が薄くなってしまうよう
な場合、接着性を低下させずに、可撓性を付与する成分
としてアクリル系共重合体を添加してもよい。アクリル
系共重合体としては、ポリ（メチルメタクリレート）、
ポリ（ブチルメタクリレート）、ポリ（ブチルアクリレ
ート）などのポリ（アルキルメタクリレート）、ポリ
（アルキルアクリレート）或いはこれらの共重合体が例
示される。これらのものは、接着性を低下させることな
く高屈折率硬化被膜用組成物に可撓性を付与させるもの
である。これを添加する場合、高屈折率硬化被膜用組成
物に対して３０重量％より多く添加すると、この組成物
の熱硬化性が悪化する場合があるので、この添加量は３
０重量％以下が望ましい。
【００８９】更に、高屈折率硬化被膜用組成物に耐水性
の良好な接着性を付与したり、有機共重合体中のアルコ
キシシリル基と架橋させる目的で、一分子内に窒素原子
及びアルコキシシリル基を含有する化合物を添加しても
よい。更に詳しくは、このものは一分子内に窒素原子１
個以上及びアルコキシシリル基を２個以上含有するもの
がより好ましい。
の良好な接着性を付与したり、有機共重合体中のアルコ
キシシリル基と架橋させる目的で、一分子内に窒素原子
及びアルコキシシリル基を含有する化合物を添加しても
よい。更に詳しくは、このものは一分子内に窒素原子１
個以上及びアルコキシシリル基を２個以上含有するもの
がより好ましい。
【００９０】この成分としては、アミノ基含有アルコキ
シシラン、アミノ基含有ジ（アルコキシシラン）、アミ
ド基含有アルコキシシラン、アミノ基含有アルコキシシ
ランとエポキシ基含有アルコキシシラン及びシリル化剤
との反応生成物をアミド化したもの、アミノ基含有アル
コキシシランと多官能（メタ）アクリル化合物との反応
生成物、アミノ基含有アルコキシシランと（メタ）アク
リル化合物との反応生成物、アミノ基含有アルコキシシ
ランと（メタ）アクリル基含有アルコキシシランとの反
応生成物、ポリアミン化合物と（メタ）アクリル基含有
アルコキシシランとの反応生成物、アミノ基含有アルコ
キシシランと多官能イソシアネート化合物との反応生成
物をアミド化したもの、アミノ基含有アルコキシシラン
とイソシアネート基含有アルコキシシランとの反応生成
物をアミド化したもの、チオール基含有アルコキシシラ
ンとイソシアネート基含有アルコキシシランとの反応生
成物などが好適に使用されるが、より好ましくはアミノ
基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシシ
ラン及びシリル化剤との反応生成物をアミド化したもの
が望ましい。
シシラン、アミノ基含有ジ（アルコキシシラン）、アミ
ド基含有アルコキシシラン、アミノ基含有アルコキシシ
ランとエポキシ基含有アルコキシシラン及びシリル化剤
との反応生成物をアミド化したもの、アミノ基含有アル
コキシシランと多官能（メタ）アクリル化合物との反応
生成物、アミノ基含有アルコキシシランと（メタ）アク
リル化合物との反応生成物、アミノ基含有アルコキシシ
ランと（メタ）アクリル基含有アルコキシシランとの反
応生成物、ポリアミン化合物と（メタ）アクリル基含有
アルコキシシランとの反応生成物、アミノ基含有アルコ
キシシランと多官能イソシアネート化合物との反応生成
物をアミド化したもの、アミノ基含有アルコキシシラン
とイソシアネート基含有アルコキシシランとの反応生成
物をアミド化したもの、チオール基含有アルコキシシラ
ンとイソシアネート基含有アルコキシシランとの反応生
成物などが好適に使用されるが、より好ましくはアミノ
基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシシ
ラン及びシリル化剤との反応生成物をアミド化したもの
が望ましい。
【００９１】これらの成分として使用されるものの具体
例を下記に例示する。アミノ基含有アルコキシシランと
しては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエ
チル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、３−（トリメトキシ
シリルプロピル）アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−（トリエトキシシリルプロピル）アミノプロピルト
リエトキシシラン、２−（トリメトキシシリルプロピ
ル）アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、２−（トリエトキシシリルプロピル）アミノエチ
ル−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどが例示
される。
例を下記に例示する。アミノ基含有アルコキシシランと
しては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエ
チル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、３−（トリメトキシ
シリルプロピル）アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−（トリエトキシシリルプロピル）アミノプロピルト
リエトキシシラン、２−（トリメトキシシリルプロピ
ル）アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、２−（トリエトキシシリルプロピル）アミノエチ
ル−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどが例示
される。
【００９２】アミド基含有アルコキシシランとしては、
ウレイドプロピルトリメトキシシラン、ウレイドプロピ
ルトリエトキシシラン、ウレイドプロピルメチルジメト
キシシラン、ウレイドプロピルメチルジエトキシシラン
などが例示される。
ウレイドプロピルトリメトキシシラン、ウレイドプロピ
ルトリエトキシシラン、ウレイドプロピルメチルジメト
キシシラン、ウレイドプロピルメチルジエトキシシラン
などが例示される。
【００９３】アミノ基含有アルコキシシランとエポキシ
基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応生成物
をアミド化したものは、下記の方法により製造されるも
のである。アミノ基含有アルコキシシランとしては上記
に示したものが挙げられるが、接着性、操作性の点から
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノ
プロピルメチルジメトキシシランなどが好ましい。ま
た、ここで使用されるエポキシ基含有アルコキシシラン
としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン及びβ−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエ
トキシシランなどが例示される。これらの中で反応性、
操作性の点からγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
メチルジメトキシシランとすることが好ましい。
基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応生成物
をアミド化したものは、下記の方法により製造されるも
のである。アミノ基含有アルコキシシランとしては上記
に示したものが挙げられるが、接着性、操作性の点から
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノ
プロピルメチルジメトキシシランなどが好ましい。ま
た、ここで使用されるエポキシ基含有アルコキシシラン
としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン及びβ−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエ
トキシシランなどが例示される。これらの中で反応性、
操作性の点からγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
メチルジメトキシシランとすることが好ましい。
【００９４】なお、ここで使用されるシリル化剤として
は、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメ
チルシリル）ホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチ
ルシリル）ウレアなどが例示されるが、このものはアミ
ノ基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシ
シランとの反応により、生成するＯＨ基を保護してＯＨ
基とアルコキシシリル基との反応を防止し、この反応生
成物の経時変化を防止するためのものである。
は、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメ
チルシリル）ホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチ
ルシリル）ウレアなどが例示されるが、このものはアミ
ノ基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシ
シランとの反応により、生成するＯＨ基を保護してＯＨ
基とアルコキシシリル基との反応を防止し、この反応生
成物の経時変化を防止するためのものである。
【００９５】このアミノ基含有アルコキシシランとエポ
キシ基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応
は、アミノ基含有アルコキシシランとシリル化剤との混
合物にエポキシ基含有アルコキシシランを滴下し、加熱
反応させればよく、アミノ基含有アルコキシシランとエ
ポキシ基含有アルコキシシランとを反応させ、この反応
生成物にシリル化剤を添加して反応させるようにしても
よい。
キシ基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応
は、アミノ基含有アルコキシシランとシリル化剤との混
合物にエポキシ基含有アルコキシシランを滴下し、加熱
反応させればよく、アミノ基含有アルコキシシランとエ
ポキシ基含有アルコキシシランとを反応させ、この反応
生成物にシリル化剤を添加して反応させるようにしても
よい。
【００９６】なお、この反応におけるアミノ基含有アル
コキシシランとエポキシ基含有アルコキシシランの配合
比は、エポキシ基／アミノ基（＝Ｎ−Ｈ）のモル比が
０．３未満では１分子中の架橋に関与するアルコキシ基
の数が少なすぎて硬化性が弱くなるし、分子全体の広が
りがなくなり、面接着性が弱くなって接着性が劣るおそ
れがあり、これが１．２を超えるようになると、後述す
るアミド化においてアミド化し得る＝Ｎ−Ｈ基が殆どな
くなって耐水接着性が悪くなるおそれがあるので、０．
３〜１．２の範囲とすることが好ましい。
コキシシランとエポキシ基含有アルコキシシランの配合
比は、エポキシ基／アミノ基（＝Ｎ−Ｈ）のモル比が
０．３未満では１分子中の架橋に関与するアルコキシ基
の数が少なすぎて硬化性が弱くなるし、分子全体の広が
りがなくなり、面接着性が弱くなって接着性が劣るおそ
れがあり、これが１．２を超えるようになると、後述す
るアミド化においてアミド化し得る＝Ｎ−Ｈ基が殆どな
くなって耐水接着性が悪くなるおそれがあるので、０．
３〜１．２の範囲とすることが好ましい。
【００９７】更に、この成分はこの反応生成物をアミド
化したものとされるが、このアミド化は酢酸クロリド、
酢酸ブロミド、プロピオン酸クロリド、無水酢酸、酢酸
イソプロペニル、ベンゾイルクロリドなどで例示される
カルボン酸の酸ハロゲン化物、酸無水物、酸イソプロペ
ニルエステル化合物と反応させればよい。
化したものとされるが、このアミド化は酢酸クロリド、
酢酸ブロミド、プロピオン酸クロリド、無水酢酸、酢酸
イソプロペニル、ベンゾイルクロリドなどで例示される
カルボン酸の酸ハロゲン化物、酸無水物、酸イソプロペ
ニルエステル化合物と反応させればよい。
【００９８】なお、高屈折率硬化被膜用組成物における
この成分の添加量は、上記に示した有機基共重合体１０
０重量部に対して０．５〜２０重量部含有することが好
ましい。２０重量部超えて添加すると、架橋密度が高く
なりすぎて、得られる被膜の硬度が高くなって逆に接着
性が不良となる場合がある。
この成分の添加量は、上記に示した有機基共重合体１０
０重量部に対して０．５〜２０重量部含有することが好
ましい。２０重量部超えて添加すると、架橋密度が高く
なりすぎて、得られる被膜の硬度が高くなって逆に接着
性が不良となる場合がある。
【００９９】上記高屈折率硬化被膜用組成物には、弊害
を及ぼさない範囲で通常の紫外線吸収剤を加えてもよ
い。この場合、上記の有機共重合体と相溶性が良好な有
機系紫外線吸収剤が好ましい。特に、主骨格がヒドロキ
シベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノア
クリレート系、トリアジン系である化合物誘導体が好ま
しい。更に側鎖にこれら紫外線吸収剤を含有するビニル
ポリマーなどの重合体でもよい。具体的には、２，４’
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−ｎ−ベンジロキシベンゾフェノン、２，２’−
ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジエトキシベンゾ
フェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジプロ
ポキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，
４’−ジブトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロ
キシ−４−メトキシ−４’−プロポキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−４’−ブ
トキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−メチル
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ
−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３
−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル−２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−
ジフェニルトリアジン、４−（２−アクリロキシエトキ
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの重合体、２−
（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエチルフェ
ニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの重合体等が例示さ
れる。なお、これらの有機系紫外線吸収剤は２種以上併
用してもよい。
を及ぼさない範囲で通常の紫外線吸収剤を加えてもよ
い。この場合、上記の有機共重合体と相溶性が良好な有
機系紫外線吸収剤が好ましい。特に、主骨格がヒドロキ
シベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノア
クリレート系、トリアジン系である化合物誘導体が好ま
しい。更に側鎖にこれら紫外線吸収剤を含有するビニル
ポリマーなどの重合体でもよい。具体的には、２，４’
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−ｎ−ベンジロキシベンゾフェノン、２，２’−
ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジエトキシベンゾ
フェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジプロ
ポキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，
４’−ジブトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロ
キシ−４−メトキシ−４’−プロポキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−４’−ブ
トキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−メチル
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ
−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３
−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル−２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−
ジフェニルトリアジン、４−（２−アクリロキシエトキ
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの重合体、２−
（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエチルフェ
ニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの重合体等が例示さ
れる。なお、これらの有機系紫外線吸収剤は２種以上併
用してもよい。
【０１００】上記高屈折率硬化被膜用組成物は、溶剤に
より希釈されて使用してもよい。この溶剤としては、ジ
アセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、イソブチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−プ
ロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、アセチルアセトン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、キシレン、トルエン等が挙げられる。
特に、高屈折率硬化被膜用組成物は、通常、上記溶剤で
希釈され、上記有機共重合体の５〜１０重量％の溶液と
して使用される。
より希釈されて使用してもよい。この溶剤としては、ジ
アセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、イソブチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−プ
ロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、アセチルアセトン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、キシレン、トルエン等が挙げられる。
特に、高屈折率硬化被膜用組成物は、通常、上記溶剤で
希釈され、上記有機共重合体の５〜１０重量％の溶液と
して使用される。
【０１０１】必要に応じ、従来のコーティング剤に用い
られる公知の添加剤、例えばレベリング剤などを配合し
ても差し支えない。更に、塗膜の平滑化を図るため、フ
ッ素系或いはシリコーン系の界面活性剤を添加してもよ
い。また、この塗膜の硬化を促進させるために架橋硬化
触媒を添加してもよい。
られる公知の添加剤、例えばレベリング剤などを配合し
ても差し支えない。更に、塗膜の平滑化を図るため、フ
ッ素系或いはシリコーン系の界面活性剤を添加してもよ
い。また、この塗膜の硬化を促進させるために架橋硬化
触媒を添加してもよい。
【０１０２】この高屈折率硬化被膜用組成物に金属酸化
物ゾルを添加した溶液を予め清浄化したプラスチックフ
ィルム等の基材の表面に塗布し、上記希釈溶剤を室温或
いは加熱下で蒸発させて厚さ０．０１〜１μｍ、好まし
くは０．０５〜０．５μｍの塗膜を形成させるようにす
ればよい。
物ゾルを添加した溶液を予め清浄化したプラスチックフ
ィルム等の基材の表面に塗布し、上記希釈溶剤を室温或
いは加熱下で蒸発させて厚さ０．０１〜１μｍ、好まし
くは０．０５〜０．５μｍの塗膜を形成させるようにす
ればよい。
【０１０３】この高屈折率硬化被膜層を形成するために
この組成物を塗工する手段も特に制限されず、公知又は
周知の方法を採用できる。例えば、ディップ法、フロー
コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート
法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフ
コート法等の方法を採用できる。
この組成物を塗工する手段も特に制限されず、公知又は
周知の方法を採用できる。例えば、ディップ法、フロー
コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート
法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフ
コート法等の方法を採用できる。
【０１０４】本発明の被膜形成用組成物或いはこれと上
記高屈折率硬化被膜用組成物とにより被覆される基材と
しては、プラスチック、ガラス、セラミックスなどから
なる透明基材を挙げることができ、特に、ポリカーボネ
ート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルサルホ
ン、ポリアリレート、ポリウレタン、ポリスルホン、ポ
リエーテル、ポリエーテルケトン、トリメチルペンテ
ン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、
（メタ）アクリロニトリル、トリアセチルセルロース、
ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロー
スなどの透明樹脂からなる基材が好ましい。透明基材の
屈折率は１．４０以上であることが好ましい。なお、こ
の明細書において、「屈折率」の値は、ナトリウムＤ線
を光源とし、アッベ屈折率計によって測定される値（測
定温度２０℃）をいうものとする。
記高屈折率硬化被膜用組成物とにより被覆される基材と
しては、プラスチック、ガラス、セラミックスなどから
なる透明基材を挙げることができ、特に、ポリカーボネ
ート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルサルホ
ン、ポリアリレート、ポリウレタン、ポリスルホン、ポ
リエーテル、ポリエーテルケトン、トリメチルペンテ
ン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、
（メタ）アクリロニトリル、トリアセチルセルロース、
ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロー
スなどの透明樹脂からなる基材が好ましい。透明基材の
屈折率は１．４０以上であることが好ましい。なお、こ
の明細書において、「屈折率」の値は、ナトリウムＤ線
を光源とし、アッベ屈折率計によって測定される値（測
定温度２０℃）をいうものとする。
【０１０５】
【実施例】以下、合成例、及び実施例と比較例を示し、
本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に
制限されるものではない。なお、下記の例において％は
重量％、部は重量部、本明細書中における平均分子量
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、Ｇ
ＰＣという）によるポリスチレン換算の数平均分子量を
示す。また、使用した含フッ素系溶媒は以下の略号とす
る。 ＭＸＨＦ：ｍ−キシレンヘキサフロライド ＰＢＴＦ：ペルフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラ
ン ＨＦＮ：１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノ
ール
本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に
制限されるものではない。なお、下記の例において％は
重量％、部は重量部、本明細書中における平均分子量
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、Ｇ
ＰＣという）によるポリスチレン換算の数平均分子量を
示す。また、使用した含フッ素系溶媒は以下の略号とす
る。 ＭＸＨＦ：ｍ−キシレンヘキサフロライド ＰＢＴＦ：ペルフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラ
ン ＨＦＮ：１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノ
ール
【０１０６】＜反応縮合物の合成＞ ［合成例１］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
０．５リットルフラスコに、イオン交換水２３０ｇ、３
５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌しているところに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）を仕込んだ滴下ロ
ートにより１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下
に反応させたところ、白色固体状物が析出していた。こ
れを濾過し、イオン交換水によりｐＨが６〜７になるま
で洗浄し、減圧下６０℃で３時間乾燥させ、白色粉末状
樹脂１０１ｇを得た。このものの融点は１０２〜１０５
℃であった。また、このもののＧＰＣによる分子量は約
２，０００であった。
０．５リットルフラスコに、イオン交換水２３０ｇ、３
５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌しているところに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）を仕込んだ滴下ロ
ートにより１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下
に反応させたところ、白色固体状物が析出していた。こ
れを濾過し、イオン交換水によりｐＨが６〜７になるま
で洗浄し、減圧下６０℃で３時間乾燥させ、白色粉末状
樹脂１０１ｇを得た。このものの融点は１０２〜１０５
℃であった。また、このもののＧＰＣによる分子量は約
２，０００であった。
【０１０７】［合成例２］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、２８％アンモニア水１６．４ｇを仕込み、撹
拌しているところに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）を仕込んだ滴下ロ
ートにより１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下
に反応させたところ、白色グリース状物が析出してい
た。これを濾過し、イオン交換水によりｐＨが６〜７に
なるまで洗浄し、減圧下６０℃で３時間乾燥させ、やや
粘性のある白色固体状樹脂９７ｇを得た。このものの融
点は３８℃であった。また、このもののＧＰＣによる分
子量は約２，２００であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、２８％アンモニア水１６．４ｇを仕込み、撹
拌しているところに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）を仕込んだ滴下ロ
ートにより１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下
に反応させたところ、白色グリース状物が析出してい
た。これを濾過し、イオン交換水によりｐＨが６〜７に
なるまで洗浄し、減圧下６０℃で３時間乾燥させ、やや
粘性のある白色固体状樹脂９７ｇを得た。このものの融
点は３８℃であった。また、このもののＧＰＣによる分
子量は約２，２００であった。
【０１０８】［合成例３］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン１０
０ｇ（０．４５９モル）を仕込んだ滴下ロートにより１
時間で滴下した。そのまま１８時間室温下に反応させた
ところ、２層分離していた。これを分液し、下層をボウ
硝により乾燥させたところ、やや粘性のある液状樹脂６
１ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量は約１，５
００であった。また、このものの屈折率は１．３７６４
であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン１０
０ｇ（０．４５９モル）を仕込んだ滴下ロートにより１
時間で滴下した。そのまま１８時間室温下に反応させた
ところ、２層分離していた。これを分液し、下層をボウ
硝により乾燥させたところ、やや粘性のある液状樹脂６
１ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量は約１，５
００であった。また、このものの屈折率は１．３７６４
であった。
【０１０９】［合成例４］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン５０ｇ（０．０８８モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン４１．２ｇ（０．１７６
モル）を仕込んだ滴下ロートにより１時間で滴下した。
そのまま１８時間室温下に反応させたところ、白色グリ
ース状物が析出していた。これを濾過し、イオン交換水
によりｐＨが６〜７になるまで洗浄し、減圧下６０℃で
３時間乾燥させ、やや粘性のある白色固体状樹脂６５ｇ
を得た。このもののＧＰＣによる分子量は約２，２００
であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン５０ｇ（０．０８８モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン４１．２ｇ（０．１７６
モル）を仕込んだ滴下ロートにより１時間で滴下した。
そのまま１８時間室温下に反応させたところ、白色グリ
ース状物が析出していた。これを濾過し、イオン交換水
によりｐＨが６〜７になるまで洗浄し、減圧下６０℃で
３時間乾燥させ、やや粘性のある白色固体状樹脂６５ｇ
を得た。このもののＧＰＣによる分子量は約２，２００
であった。
【０１１０】［合成例５］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２７６ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン４０
ｇ（０．１８モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン２０ｇ（０．０３５モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン１５ｇ（０．０６４モ
ル）、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン５ｇ（０．０２３モル）及びテトラエトキシシラン
４０ｇ（０．１９２モル）を仕込んだ滴下ロートにより
１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下に反応させ
たところ、２層分離していた。これにメチルイソブチル
ケトン１６５ｇを添加し、混合したものを分液し、上層
をボウ硝により乾燥させた。固形分が２９％のメチルイ
ソブチルケトン溶液２３１ｇを得た。このもののＧＰＣ
による分子量は約２，３００であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２７６ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン４０
ｇ（０．１８モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン２０ｇ（０．０３５モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン１５ｇ（０．０６４モ
ル）、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン５ｇ（０．０２３モル）及びテトラエトキシシラン
４０ｇ（０．１９２モル）を仕込んだ滴下ロートにより
１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下に反応させ
たところ、２層分離していた。これにメチルイソブチル
ケトン１６５ｇを添加し、混合したものを分液し、上層
をボウ硝により乾燥させた。固形分が２９％のメチルイ
ソブチルケトン溶液２３１ｇを得た。このもののＧＰＣ
による分子量は約２，３００であった。
【０１１１】［合成例６］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキシ
シラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びテトラエトキシ
シラン２０ｇ（０．０９６モル）を仕込んだ滴下ロート
により１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下に反
応させたところ、２層分離していた。これにメチルイソ
ブチルケトン１４８ｇを添加し、混合したものを分液
し、上層をボウ硝により乾燥させた。固形分が２７％の
メチルイソブチルケトン溶液２０７ｇを得た。このもの
のＧＰＣによる分子量は約２，５００であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキシ
シラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びテトラエトキシ
シラン２０ｇ（０．０９６モル）を仕込んだ滴下ロート
により１時間で滴下した。そのまま１８時間室温下に反
応させたところ、２層分離していた。これにメチルイソ
ブチルケトン１４８ｇを添加し、混合したものを分液
し、上層をボウ硝により乾燥させた。固形分が２７％の
メチルイソブチルケトン溶液２０７ｇを得た。このもの
のＧＰＣによる分子量は約２，５００であった。
【０１１２】［合成例７］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びメチルトリメ
トキシシラン１１．８ｇ（０．０８６モル）を仕込んだ
滴下ロートにより１時間で滴下した。そのまま１８時間
室温下に反応させたところ、２層分離していた。これに
メチルイソブチルケトン１４７ｇを添加し、混合したも
のを分液し、上層をボウ硝により乾燥させた。固形分が
２７％のメチルイソブチルケトン溶液２３２ｇ得た。こ
のもののＧＰＣによる分子量は約１，８００であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、イオン交換水
２３０ｇ、３５％塩酸０．２ｇを仕込み、撹拌している
ところに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びメチルトリメ
トキシシラン１１．８ｇ（０．０８６モル）を仕込んだ
滴下ロートにより１時間で滴下した。そのまま１８時間
室温下に反応させたところ、２層分離していた。これに
メチルイソブチルケトン１４７ｇを添加し、混合したも
のを分液し、上層をボウ硝により乾燥させた。固形分が
２７％のメチルイソブチルケトン溶液２３２ｇ得た。こ
のもののＧＰＣによる分子量は約１，８００であった。
【０１１３】［合成例８］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）、ＭＸＨＦ１００
ｇを仕込み、撹拌しているところに、０．２５規定の酢
酸水溶液４．８ｇを仕込んだ滴下ロートにより５分間で
滴下した。そのまま３時間室温下に反応させ、引き続き
８０℃で２時間反応させた。反応液にボウ硝を加え、乾
燥し、これを濾過し、減圧下ＭＸＨＦを揮発させ、透明
液状樹脂９９ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量
は約１，９００であった。また、屈折率は１．３６４５
であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）、ＭＸＨＦ１００
ｇを仕込み、撹拌しているところに、０．２５規定の酢
酸水溶液４．８ｇを仕込んだ滴下ロートにより５分間で
滴下した。そのまま３時間室温下に反応させ、引き続き
８０℃で２時間反応させた。反応液にボウ硝を加え、乾
燥し、これを濾過し、減圧下ＭＸＨＦを揮発させ、透明
液状樹脂９９ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量
は約１，９００であった。また、屈折率は１．３６４５
であった。
【０１１４】［合成例９］撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた０．５リットルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）、ＭＸＨＦ３０ｇ
及びＰＢＴＦ７０ｇを仕込み、撹拌しているところに、
０．２５規定の酢酸水溶液４．８ｇを仕込んだ滴下ロー
トにより５分間で滴下した。そのまま３時間室温下に反
応させ、引き続き８０℃で２時間反応させた。反応液に
ボウ硝を加え、乾燥し、これを濾過し、減圧下ＭＸＨ
Ｆ、ＰＢＴＦを揮発させ、透明液状樹脂９９ｇを得た。
このもののＧＰＣによる分子量は約２，０００であっ
た。また、屈折率は１．３６４２であった。
度計を備えた０．５リットルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１００ｇ（０．１７６モル）、ＭＸＨＦ３０ｇ
及びＰＢＴＦ７０ｇを仕込み、撹拌しているところに、
０．２５規定の酢酸水溶液４．８ｇを仕込んだ滴下ロー
トにより５分間で滴下した。そのまま３時間室温下に反
応させ、引き続き８０℃で２時間反応させた。反応液に
ボウ硝を加え、乾燥し、これを濾過し、減圧下ＭＸＨ
Ｆ、ＰＢＴＦを揮発させ、透明液状樹脂９９ｇを得た。
このもののＧＰＣによる分子量は約２，０００であっ
た。また、屈折率は１．３６４２であった。
【０１１５】［合成例１０］撹拌機、コンデンサー及び
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン１０
０ｇ（０．４５９モル）、ＭＸＨＦ９０ｇ及びＨＦＮ１
０ｇを仕込み、撹拌しているところに、０．２５規定の
酢酸水溶液１２．４ｇを仕込んだ滴下ロートにより５分
間で滴下した。そのまま３時間室温下に反応させ、引き
続き８０℃で２時間反応させた。反応液にボウ硝を加
え、乾燥し、これを濾過し、減圧下ＭＸＨＦ、ＨＦＮを
揮発させ、やや粘性のある透明液状樹脂６０ｇを得た。
このもののＧＰＣによる分子量は約１，８００であっ
た。また、屈折率は１．３７６０であった。
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン１０
０ｇ（０．４５９モル）、ＭＸＨＦ９０ｇ及びＨＦＮ１
０ｇを仕込み、撹拌しているところに、０．２５規定の
酢酸水溶液１２．４ｇを仕込んだ滴下ロートにより５分
間で滴下した。そのまま３時間室温下に反応させ、引き
続き８０℃で２時間反応させた。反応液にボウ硝を加
え、乾燥し、これを濾過し、減圧下ＭＸＨＦ、ＨＦＮを
揮発させ、やや粘性のある透明液状樹脂６０ｇを得た。
このもののＧＰＣによる分子量は約１，８００であっ
た。また、屈折率は１．３７６０であった。
【０１１６】［合成例１１］撹拌機、コンデンサー及び
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン５０ｇ（０．０８８モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン４１．２ｇ（０．１７６
モル）、ＭＸＨＦ３０ｇ及びＰＢＴＦ７０ｇを仕込み、
撹拌しているところに、０．２５規定の酢酸水溶液７．
１ｇを仕込んだ滴下ロートにより５分間で滴下した。そ
のまま３時間室温下に反応させ、引き続き８０℃で２時
間反応させた。反応後、反応液は２層分離していた。こ
れを分液し、上層をボウ硝により乾燥させた。これを濾
過し、減圧下ＭＸＨＦ、ＰＢＴＦを揮発させ、透明液状
樹脂６７ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量は約
２，２００であった。また、屈折率は１．３７３３であ
った。
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン５０ｇ（０．０８８モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン４１．２ｇ（０．１７６
モル）、ＭＸＨＦ３０ｇ及びＰＢＴＦ７０ｇを仕込み、
撹拌しているところに、０．２５規定の酢酸水溶液７．
１ｇを仕込んだ滴下ロートにより５分間で滴下した。そ
のまま３時間室温下に反応させ、引き続き８０℃で２時
間反応させた。反応後、反応液は２層分離していた。こ
れを分液し、上層をボウ硝により乾燥させた。これを濾
過し、減圧下ＭＸＨＦ、ＰＢＴＦを揮発させ、透明液状
樹脂６７ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量は約
２，２００であった。また、屈折率は１．３７３３であ
った。
【０１１７】［合成例１２］撹拌機、コンデンサー及び
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン４０
ｇ（０．１８モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン２０ｇ（０．０３５モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン１５ｇ（０．０６４モ
ル）、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン５ｇ（０．０２３モル）、テトラエトキシシラン４
０ｇ（０．１９２モル）、ＨＦＮ１００ｇを仕込み、撹
拌しているところに、０．２５規定の酢酸水溶液２５．
２ｇを仕込んだ滴下ロートにより１０分間で滴下した。
そのまま３時間室温下に反応させ、引き続き８０℃で２
時間反応させた。反応後、反応液は均一透明液であっ
た。ＨＦＮを揮発させ、透明液状樹脂５１ｇを得た。こ
のもののＧＰＣによる分子量は約２，４００であった。
また、屈折率は１．３７１１であった。
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン４０
ｇ（０．１８モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン２０ｇ（０．０３５モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン１５ｇ（０．０６４モ
ル）、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン５ｇ（０．０２３モル）、テトラエトキシシラン４
０ｇ（０．１９２モル）、ＨＦＮ１００ｇを仕込み、撹
拌しているところに、０．２５規定の酢酸水溶液２５．
２ｇを仕込んだ滴下ロートにより１０分間で滴下した。
そのまま３時間室温下に反応させ、引き続き８０℃で２
時間反応させた。反応後、反応液は均一透明液であっ
た。ＨＦＮを揮発させ、透明液状樹脂５１ｇを得た。こ
のもののＧＰＣによる分子量は約２，４００であった。
また、屈折率は１．３７１１であった。
【０１１８】［合成例１３］撹拌機、コンデンサー及び
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、テトラエトキシシ
ラン２０ｇ（０．０９６モル）、及びＭＸＨＦ１００ｇ
を仕込み、撹拌しているところに、０．１規定の塩酸水
溶液１１．３ｇを仕込んだ滴下ロートにより７分間で滴
下した。そのまま３時間室温下に反応させ、引き続き８
０℃で２時間反応させた。反応後、反応液は２層分離し
ていた。これを分液し、上層をボウ硝により乾燥させ
た。これを濾過し、減圧下ＭＸＨＦを揮発させ、透明液
状樹脂５５ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量は
約２，６００であった。また、屈折率は１．３６７０で
あった。
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、テトラエトキシシ
ラン２０ｇ（０．０９６モル）、及びＭＸＨＦ１００ｇ
を仕込み、撹拌しているところに、０．１規定の塩酸水
溶液１１．３ｇを仕込んだ滴下ロートにより７分間で滴
下した。そのまま３時間室温下に反応させ、引き続き８
０℃で２時間反応させた。反応後、反応液は２層分離し
ていた。これを分液し、上層をボウ硝により乾燥させ
た。これを濾過し、減圧下ＭＸＨＦを揮発させ、透明液
状樹脂５５ｇを得た。このもののＧＰＣによる分子量は
約２，６００であった。また、屈折率は１．３６７０で
あった。
【０１１９】［合成例１４］撹拌機、コンデンサー及び
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びメチルトリメ
トキシシラン１１．８ｇ（０．０８６モル）、ＭＸＨＦ
３０ｇ及びＰＢＴＦ７０ｇを仕込み、撹拌しているとこ
ろに、０．２５規定の酢酸水溶液１１．０ｇを仕込んだ
滴下ロートにより７分間で滴下した。そのまま３時間室
温下に反応させ、引き続き８０℃で２時間反応させた。
反応後、反応液は２層分離していた。これを分液し、上
層をボウ硝により乾燥させた。これを濾過し、減圧下Ｍ
ＸＨＦを揮発させ、透明液状樹脂５５ｇを得た。このも
ののＧＰＣによる分子量は約２，０００であった。ま
た、屈折率は１．３６５０であった。
温度計を備えた０．５リットルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びメチルトリメ
トキシシラン１１．８ｇ（０．０８６モル）、ＭＸＨＦ
３０ｇ及びＰＢＴＦ７０ｇを仕込み、撹拌しているとこ
ろに、０．２５規定の酢酸水溶液１１．０ｇを仕込んだ
滴下ロートにより７分間で滴下した。そのまま３時間室
温下に反応させ、引き続き８０℃で２時間反応させた。
反応後、反応液は２層分離していた。これを分液し、上
層をボウ硝により乾燥させた。これを濾過し、減圧下Ｍ
ＸＨＦを揮発させ、透明液状樹脂５５ｇを得た。このも
ののＧＰＣによる分子量は約２，０００であった。ま
た、屈折率は１．３６５０であった。
【０１２０】［合成例１５］（比較例） 撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた０．５リット
ルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン３２ｇ（０．０５６モル）、メチルイソブチル
ケトン１１２ｇ及び０．２５Ｎの酢酸水溶液３．０ｇを
仕込み、８０℃まで加熱により内温を上昇させ、そのま
ま５時間反応させたところ、微濁溶液を得た。このもの
の固形分濃度は１９．５％であった。ＧＰＣをみると未
反応の原料が観測された。
ルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン３２ｇ（０．０５６モル）、メチルイソブチル
ケトン１１２ｇ及び０．２５Ｎの酢酸水溶液３．０ｇを
仕込み、８０℃まで加熱により内温を上昇させ、そのま
ま５時間反応させたところ、微濁溶液を得た。このもの
の固形分濃度は１９．５％であった。ＧＰＣをみると未
反応の原料が観測された。
【０１２１】［合成例１６］（比較例） 撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた０．５リット
ルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン３２ｇ（０．０５６モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン２６．２ｇ（０．１１２
モル）、メチルイソブチルケトン１８６ｇ及び０．２５
Ｎの酢酸水溶液９．０ｇを仕込み、８０℃まで加熱によ
り内温を上昇させ、そのまま５時間反応させたところ、
微濁溶液を得た。このものの固形分濃度は１９．０％で
あった。ＧＰＣをみると未反応の原料が観測された。
ルフラスコに、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン３２ｇ（０．０５６モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン２６．２ｇ（０．１１２
モル）、メチルイソブチルケトン１８６ｇ及び０．２５
Ｎの酢酸水溶液９．０ｇを仕込み、８０℃まで加熱によ
り内温を上昇させ、そのまま５時間反応させたところ、
微濁溶液を得た。このものの固形分濃度は１９．０％で
あった。ＧＰＣをみると未反応の原料が観測された。
【０１２２】［合成例１７］（比較例） 撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた０．５リット
ルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン４０
ｇ（０．１８モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン２０ｇ（０．０３５モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン１５ｇ（０．０６４モ
ル）、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン５ｇ（０．０２３モル）及びテトラエトキシシラン
４０ｇ（０．１９２モル）、メチルイソブチルケトン２
８３ｇ及び０．２５Ｎの酢酸水溶液２６ｇを仕込み、８
０℃まで加熱により内温を上昇させ、そのまま５時間反
応させたところ、微濁溶液を得た。このものの固形分濃
度は１８．０％であった。ＧＰＣをみると未反応の原料
が観測された。
ルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン４０
ｇ（０．１８モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン２０ｇ（０．０３５モル）、γ−アクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン１５ｇ（０．０６４モ
ル）、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン５ｇ（０．０２３モル）及びテトラエトキシシラン
４０ｇ（０．１９２モル）、メチルイソブチルケトン２
８３ｇ及び０．２５Ｎの酢酸水溶液２６ｇを仕込み、８
０℃まで加熱により内温を上昇させ、そのまま５時間反
応させたところ、微濁溶液を得た。このものの固形分濃
度は１８．０％であった。ＧＰＣをみると未反応の原料
が観測された。
【０１２３】［合成例１８］（比較例） 撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた０．５リット
ルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びメチルトリメ
トキシシラン１１．８ｇ（０．０８６モル）、メチルイ
ソブチルケトン２５３ｇ及び０．２５Ｎの酢酸水溶液２
２ｇを仕込み、８０℃まで加熱により内温を上昇させ、
そのまま５時間反応させたところ、微濁溶液を得た。こ
のものの固形分濃度は１９．０％であった。ＧＰＣをみ
ると未反応の原料が観測された。
ルフラスコに、 ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるトリフロロプロピルトリメトキシシラン６４
ｇ（０．２９３モル）、 Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキ
シシラン１６ｇ（０．０２８モル）、及びメチルトリメ
トキシシラン１１．８ｇ（０．０８６モル）、メチルイ
ソブチルケトン２５３ｇ及び０．２５Ｎの酢酸水溶液２
２ｇを仕込み、８０℃まで加熱により内温を上昇させ、
そのまま５時間反応させたところ、微濁溶液を得た。こ
のものの固形分濃度は１９．０％であった。ＧＰＣをみ
ると未反応の原料が観測された。
【０１２４】＜アルコキシシリル基含有の有機共重合体
の合成＞ ［合成例１９］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備え
た０．５リットルフラスコにγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン２０ｇ、メチルメタクリレート６
０ｇ、エチルアクリレート５ｇ、酢酸ビニル５ｇ、グリ
シジルメタクリレート１０ｇ、エチレングリコールジメ
タクリレート０．２ｇ及び重合開始剤としてアゾビスイ
ソブチロニトリル０．５ｇ並びに溶剤としてジアセトン
アルコール２０ｇ、エチレングリコールモノメチルエー
テル８０ｇを仕込み、窒素気流下にて８０〜９０℃で５
時間撹拌した。得られたアルコキシシリル基を含有する
有機共重合体溶液の粘度は４３，６００ｃｓｔ、またそ
の共重合体中のアルコキシル基含有量は２０％であっ
た。
の合成＞ ［合成例１９］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備え
た０．５リットルフラスコにγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン２０ｇ、メチルメタクリレート６
０ｇ、エチルアクリレート５ｇ、酢酸ビニル５ｇ、グリ
シジルメタクリレート１０ｇ、エチレングリコールジメ
タクリレート０．２ｇ及び重合開始剤としてアゾビスイ
ソブチロニトリル０．５ｇ並びに溶剤としてジアセトン
アルコール２０ｇ、エチレングリコールモノメチルエー
テル８０ｇを仕込み、窒素気流下にて８０〜９０℃で５
時間撹拌した。得られたアルコキシシリル基を含有する
有機共重合体溶液の粘度は４３，６００ｃｓｔ、またそ
の共重合体中のアルコキシル基含有量は２０％であっ
た。
【０１２５】［合成例２０］合成例１９のγ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン２０ｇを１０ｇに、
メチルメタクリレート６０ｇを７０ｇに代えた以外は合
成例１９と同様に合成してアルコキシシリル基を含有す
る有機共重合体溶液を作製した。得られたアルコキシシ
リル基を含有する有機共重合体溶液の粘度は４０，６０
０ｃｓｔ、またその共重合体中のアルコキシル基含有量
は１０％であった。
ロキシプロピルトリメトキシシラン２０ｇを１０ｇに、
メチルメタクリレート６０ｇを７０ｇに代えた以外は合
成例１９と同様に合成してアルコキシシリル基を含有す
る有機共重合体溶液を作製した。得られたアルコキシシ
リル基を含有する有機共重合体溶液の粘度は４０，６０
０ｃｓｔ、またその共重合体中のアルコキシル基含有量
は１０％であった。
【０１２６】［合成例２１］合成例１９のγ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン２０ｇをビニルトリ
メトキシシラン２０ｇに代えた以外は合成例１９と同様
に合成してアルコキシシリル基を含有する有機共重合体
溶液を作製した。得られたアルコキシシリル基を含有す
る有機共重合体溶液の粘度は３９，７００ｃｓｔ、また
その共重合体中のアルコキシル基含有量は２０％であっ
た。
ロキシプロピルトリメトキシシラン２０ｇをビニルトリ
メトキシシラン２０ｇに代えた以外は合成例１９と同様
に合成してアルコキシシリル基を含有する有機共重合体
溶液を作製した。得られたアルコキシシリル基を含有す
る有機共重合体溶液の粘度は３９，７００ｃｓｔ、また
その共重合体中のアルコキシル基含有量は２０％であっ
た。
【０１２７】＜分子内に窒素原子とアルコキシシリル基
を含有する化合物の合成＞ ［合成例２２］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備え
た２．０リットルフラスコにＮ−２−（アミノエチル）
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン２２２ｇとシ
リル化剤としてのヘキサメチルジシラザン２４２ｇを仕
込んで窒素気流下に１２０℃に加熱し、ここにγ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン４９６ｇを滴
下して反応させ、１２０℃で５時間加熱撹拌したのち、
低沸点分を減圧下１００℃で除去したところ、粘度１，
３８７ｃｓｔ、屈折率１．４６１８、比重１．０４８の
粘稠な化合物８６２ｇが得られた。
を含有する化合物の合成＞ ［合成例２２］撹拌機、コンデンサー及び温度計を備え
た２．０リットルフラスコにＮ−２−（アミノエチル）
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン２２２ｇとシ
リル化剤としてのヘキサメチルジシラザン２４２ｇを仕
込んで窒素気流下に１２０℃に加熱し、ここにγ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン４９６ｇを滴
下して反応させ、１２０℃で５時間加熱撹拌したのち、
低沸点分を減圧下１００℃で除去したところ、粘度１，
３８７ｃｓｔ、屈折率１．４６１８、比重１．０４８の
粘稠な化合物８６２ｇが得られた。
【０１２８】次いでこの反応生成物８６２ｇとトルエン
８６２ｇを撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
２．０リットルフラスコに仕込み、窒素気流下に室温で
ここに無水酢酸１４１ｇを滴下して反応させ、１１０℃
で２時間加熱撹拌したのち、５０℃でメタノール１４１
ｇを滴下し、５０℃で１時間加熱撹拌し、次いで減圧下
に１００℃で低沸分を除去し、高粘稠な化合物を得た。
この化合物の赤外吸収スペクトル測定を行ったところ、
３，０００ｃｍ-1以上の領域にＯＨ基或いはＮＨ基に起
因する吸収は認められず、１，６５０ｃｍ-1にアミド基
に起因する強い吸収が認められた。
８６２ｇを撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
２．０リットルフラスコに仕込み、窒素気流下に室温で
ここに無水酢酸１４１ｇを滴下して反応させ、１１０℃
で２時間加熱撹拌したのち、５０℃でメタノール１４１
ｇを滴下し、５０℃で１時間加熱撹拌し、次いで減圧下
に１００℃で低沸分を除去し、高粘稠な化合物を得た。
この化合物の赤外吸収スペクトル測定を行ったところ、
３，０００ｃｍ-1以上の領域にＯＨ基或いはＮＨ基に起
因する吸収は認められず、１，６５０ｃｍ-1にアミド基
に起因する強い吸収が認められた。
【０１２９】以下、実施例と比較例を示す。なお、実施
例及び比較例に用いた本発明の縮合物及びその加水分解
物、有機共重合体等の略号は以下の通りである。 ＜縮合物及びその加水分解物＞ ＦＳ−１：合成例１の反応生成物 ＦＳ−２：合成例２の反応生成物 ＦＳ−３：合成例３の反応生成物 ＦＳ−４：合成例４の反応生成物 ＦＳ−５：合成例５の反応生成物 ＦＳ−６：合成例６の反応生成物 ＦＳ−７：合成例７の反応生成物 ＦＳ−８：合成例８の反応生成物 ＦＳ−９：合成例９の反応生成物 ＦＳ−１０：合成例１０の反応生成物 ＦＳ−１１：合成例１１の反応生成物 ＦＳ−１２：合成例１２の反応生成物 ＦＳ−１３：合成例１３の反応生成物 ＦＳ−１４：合成例１４の反応生成物 ＦＳ−１５：合成例１５の反応生成物 ＦＳ−１６：合成例１６の反応生成物 ＦＳ−１７：合成例１７の反応生成物 ＦＳ−１８：合成例１８の反応生成物 ＜アルコキシシリル基含有の有機共重合体＞ Ｐｏｌ−１：合成例１９の反応生成物 Ｐｏｌ−２：合成例２０の反応生成物 Ｐｏｌ−３：合成例２１の反応生成物 ＜分子内に窒素原子とアルコキシシリル基を含有する化
合物＞ ＮＳｉ−１：ウレイドプロピルトリエトキシラン ＮＳｉ−２：合成例２２の反応生成物
例及び比較例に用いた本発明の縮合物及びその加水分解
物、有機共重合体等の略号は以下の通りである。 ＜縮合物及びその加水分解物＞ ＦＳ−１：合成例１の反応生成物 ＦＳ−２：合成例２の反応生成物 ＦＳ−３：合成例３の反応生成物 ＦＳ−４：合成例４の反応生成物 ＦＳ−５：合成例５の反応生成物 ＦＳ−６：合成例６の反応生成物 ＦＳ−７：合成例７の反応生成物 ＦＳ−８：合成例８の反応生成物 ＦＳ−９：合成例９の反応生成物 ＦＳ−１０：合成例１０の反応生成物 ＦＳ−１１：合成例１１の反応生成物 ＦＳ−１２：合成例１２の反応生成物 ＦＳ−１３：合成例１３の反応生成物 ＦＳ−１４：合成例１４の反応生成物 ＦＳ−１５：合成例１５の反応生成物 ＦＳ−１６：合成例１６の反応生成物 ＦＳ−１７：合成例１７の反応生成物 ＦＳ−１８：合成例１８の反応生成物 ＜アルコキシシリル基含有の有機共重合体＞ Ｐｏｌ−１：合成例１９の反応生成物 Ｐｏｌ−２：合成例２０の反応生成物 Ｐｏｌ−３：合成例２１の反応生成物 ＜分子内に窒素原子とアルコキシシリル基を含有する化
合物＞ ＮＳｉ−１：ウレイドプロピルトリエトキシラン ＮＳｉ−２：合成例２２の反応生成物
【０１３０】また、実施例中の各種物性の測定及び評価
は以下の方法で行った。 （１）鉛筆硬度 ＪＩＳ Ｋ５４００に準じて測定した。 （２）耐候性試験 被膜が形成された基材の各々について、フェードメータ
［スガ試験機（株）製］による耐候性促進試験を行い、
１，０００時間後における光沢の保持率（％）を測定し
た。評価は、光沢保持率が９０％以上である場合を
「○」、８９〜６０％である場合を「△」、５９％以下
である場合を「×」とした。 （３）耐擦過傷性試験 ＡＳＴＭ １０４４に準拠し、テーパー磨耗試験機にて
磨耗輪ＣＳ−１０Ｆを装着し、荷重５００ｇ下で１，０
００回転後の曇価を測定した。テーパー磨耗性（％）は
（試験後の曇価）−（試験前の曇価）で示した。 （４）硬化被膜の密着性 ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠し、サンプルをカミソリの刃
で１ｍｍ間隔の縦横１１本ずつ切り目を入れて１００個
の碁盤目をつくり、市販セロテープ（登録商標）をよく
密着させた後、９０度手前方向に急激に剥がした時、被
膜が剥離せずに残存したます目数（Ｘ）をＸ／１００で
表示した。 （５）透明性 被膜の全面が均一な透明性を有している場合を「○」、
透明性が損なわれた部分が認められる場合を「×」とし
た。 （６）屈折率 膜厚３０〜５０μｍのフィルムを作製し、このフィルム
についてアッベ屈折率計により測定した（測定温度２０
℃）。 （７）反射率 分光光度計にて測定された硬化被膜基材表面の視感平均
反射率。 （８）撥水性 接触角測定装置を用いて、被膜上に水滴を落とし、水の
接触角を測定した。 （９）耐汚染性 被膜上に赤マジックインキ（登録商標）で直線を引き、
乾いた布で拭き取り、その状況により耐汚染性を評価し
た。 ◎：線を引き、拭き取りを１０回以上繰り返しても軽く
擦っただけで拭き取れる。 ○：線を引き、拭き取りを繰り返しても拭き取れるが、
かすかに跡が残る。 △：強く擦らないと拭き取れず、繰り返すと拭き取れな
くなる。 ×：全く拭き取れない。
は以下の方法で行った。 （１）鉛筆硬度 ＪＩＳ Ｋ５４００に準じて測定した。 （２）耐候性試験 被膜が形成された基材の各々について、フェードメータ
［スガ試験機（株）製］による耐候性促進試験を行い、
１，０００時間後における光沢の保持率（％）を測定し
た。評価は、光沢保持率が９０％以上である場合を
「○」、８９〜６０％である場合を「△」、５９％以下
である場合を「×」とした。 （３）耐擦過傷性試験 ＡＳＴＭ １０４４に準拠し、テーパー磨耗試験機にて
磨耗輪ＣＳ−１０Ｆを装着し、荷重５００ｇ下で１，０
００回転後の曇価を測定した。テーパー磨耗性（％）は
（試験後の曇価）−（試験前の曇価）で示した。 （４）硬化被膜の密着性 ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠し、サンプルをカミソリの刃
で１ｍｍ間隔の縦横１１本ずつ切り目を入れて１００個
の碁盤目をつくり、市販セロテープ（登録商標）をよく
密着させた後、９０度手前方向に急激に剥がした時、被
膜が剥離せずに残存したます目数（Ｘ）をＸ／１００で
表示した。 （５）透明性 被膜の全面が均一な透明性を有している場合を「○」、
透明性が損なわれた部分が認められる場合を「×」とし
た。 （６）屈折率 膜厚３０〜５０μｍのフィルムを作製し、このフィルム
についてアッベ屈折率計により測定した（測定温度２０
℃）。 （７）反射率 分光光度計にて測定された硬化被膜基材表面の視感平均
反射率。 （８）撥水性 接触角測定装置を用いて、被膜上に水滴を落とし、水の
接触角を測定した。 （９）耐汚染性 被膜上に赤マジックインキ（登録商標）で直線を引き、
乾いた布で拭き取り、その状況により耐汚染性を評価し
た。 ◎：線を引き、拭き取りを１０回以上繰り返しても軽く
擦っただけで拭き取れる。 ○：線を引き、拭き取りを繰り返しても拭き取れるが、
かすかに跡が残る。 △：強く擦らないと拭き取れず、繰り返すと拭き取れな
くなる。 ×：全く拭き取れない。
【０１３１】［実施例、比較例］ （１）被膜形成用組成物の調製 合成例１〜１８で作製した縮合物、メチルエチルケトン
分散コロイダルシリカ（固形分３０％）、多官能アクリ
レート：トリメチロールプロパントリアクリレート、フ
ッ化アルキル基含有アクリレート：Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2
ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ2、光重合開始剤：２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、硬化触
媒：蟻酸ナトリウムなどを混合し、固形分が１５％にな
るようにジアセトンアルコールにて調整して、組成物ａ
〜ｔを表１，２に示したように調製した。 （２）高屈折率硬化被膜用組成物の調製 合成例１９〜２２で作製した組成物、平均分子量１５万
のポリメチルメタクリレート、高屈折率金属酸化物ゾ
ル：屈折率２．７０のＴｉＯ2のメチルエチルケトンゾ
ル（平均粒径５０ｎｍ）などを混合し、有機共重合体の
固形分が１０％になるようにジアセトンアルコールにて
調整して、組成物Ａ〜Ｅを表３に示したように調製し
た。
分散コロイダルシリカ（固形分３０％）、多官能アクリ
レート：トリメチロールプロパントリアクリレート、フ
ッ化アルキル基含有アクリレート：Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2
ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ2、光重合開始剤：２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、硬化触
媒：蟻酸ナトリウムなどを混合し、固形分が１５％にな
るようにジアセトンアルコールにて調整して、組成物ａ
〜ｔを表１，２に示したように調製した。 （２）高屈折率硬化被膜用組成物の調製 合成例１９〜２２で作製した組成物、平均分子量１５万
のポリメチルメタクリレート、高屈折率金属酸化物ゾ
ル：屈折率２．７０のＴｉＯ2のメチルエチルケトンゾ
ル（平均粒径５０ｎｍ）などを混合し、有機共重合体の
固形分が１０％になるようにジアセトンアルコールにて
調整して、組成物Ａ〜Ｅを表３に示したように調製し
た。
【０１３２】（３）表面被覆形成物の作製 （２）の高屈折率硬化被膜用組成物を塗布する場合は、
表面を清浄化した透明樹脂板（或いはフィルム）に硬化
塗膜として１〜３μｍになるようにフローコーティング
法にて塗布し、約１２０℃にて約３０分間硬化させる。
その上に（１）の被膜形成用組成物を塗布する場合は、
硬化塗膜として０．１〜０．５μｍになるようにバーコ
ータコーティング法にて塗布する。
表面を清浄化した透明樹脂板（或いはフィルム）に硬化
塗膜として１〜３μｍになるようにフローコーティング
法にて塗布し、約１２０℃にて約３０分間硬化させる。
その上に（１）の被膜形成用組成物を塗布する場合は、
硬化塗膜として０．１〜０．５μｍになるようにバーコ
ータコーティング法にて塗布する。
【０１３３】その後、紫外線で硬化させる場合は高圧水
銀灯を用いて２００ｍＪ／ｃｍ2を３回繰り返して硬化
させる。熱硬化をさせる場合は、８０℃の熱風循環オー
ブン中で５分間保持し硬化させる。或いは（２）の高屈
折率硬化被膜用組成物を塗布しない場合は、表面を清浄
化した透明樹脂板（或いはフィルム）に硬化塗膜として
０．１〜０．５μｍになるようにバーコータコーティン
グ法にて塗布する。その後、紫外線で硬化させる場合は
高圧水銀灯を用いて２００ｍＪ／ｃｍ2を３回繰り返し
て硬化させる。熱硬化をさせる場合は、８０℃の熱風循
環オーブン中で５分間保持し硬化させる。
銀灯を用いて２００ｍＪ／ｃｍ2を３回繰り返して硬化
させる。熱硬化をさせる場合は、８０℃の熱風循環オー
ブン中で５分間保持し硬化させる。或いは（２）の高屈
折率硬化被膜用組成物を塗布しない場合は、表面を清浄
化した透明樹脂板（或いはフィルム）に硬化塗膜として
０．１〜０．５μｍになるようにバーコータコーティン
グ法にて塗布する。その後、紫外線で硬化させる場合は
高圧水銀灯を用いて２００ｍＪ／ｃｍ2を３回繰り返し
て硬化させる。熱硬化をさせる場合は、８０℃の熱風循
環オーブン中で５分間保持し硬化させる。
【０１３４】使用した透明樹脂板は０．５ｍｍのＰＣ樹
脂、フィルムは５０μｍのＰＥＴフィルムを用いて行っ
た。このようにして得られた塗膜の物性評価結果を表４
及び表５に示した。
脂、フィルムは５０μｍのＰＥＴフィルムを用いて行っ
た。このようにして得られた塗膜の物性評価結果を表４
及び表５に示した。
【０１３５】
【表１】
【０１３６】
【表２】
【０１３７】
【表３】
【０１３８】
【表４】
【０１３９】
【表５】
【０１４０】
【発明の効果】本発明の組成物によれば、ガラス、セラ
ミックス、金属及びプラスチックなど各種基材に対する
密着性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射
防止性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を効率
的に形成することができる。本発明の組成物は、耐候性
を必要とする外装用塗料、ハードコート材、防湿コート
材、反射防止コート材として好適に用いることができ、
ガラス、プラスチックなどの透明な基材を被覆して光学
部品を構成するコート材として特に有用である。
ミックス、金属及びプラスチックなど各種基材に対する
密着性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射
防止性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を効率
的に形成することができる。本発明の組成物は、耐候性
を必要とする外装用塗料、ハードコート材、防湿コート
材、反射防止コート材として好適に用いることができ、
ガラス、プラスチックなどの透明な基材を被覆して光学
部品を構成するコート材として特に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｚ 5/16 5/16 (72)発明者 浅井 光雄 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 佐藤 和治 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 Ｆターム(参考） 4J035 BA01 BA03 BA11 BA13 CA072 CA102 CA112 CA132 CA142 CA16N CA161 CA182 CA192 CA202 CA262 EA01 EB02 GA08 GB02 LA03 LB01 4J038 DL071 DL081 DL111 GA01 GA02 GA06 GA09 GA13 LA02 NA03 NA05 NA07 NA11 NA12 NA19
Claims (14)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で示されるフッ化アル
キル基含有アルコキシシラン化合物又はこの式（１）の
フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物と下記一
般式（２）で示されるシラン化合物との混合物１００重
量部に対し、水２００〜２，０００重量部の比率で加水
分解・縮合反応して得られるフロロオルガノポリシロキ
サン樹脂を含有することを特徴とする被膜形成用組成
物。 【化１】 （式中、Ｒｆは、 【化２】 （ｎは１〜２０の整数、ｍは１以上の整数）で表される
エーテル結合を１個以上含んでいてもよいポリフルオロ
アルキル基を示し、Ｘは−ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−Ｎ
Ｒ3−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ3−、−Ｓ−、−ＳＯ3
−又はＳＯ2ＮＲ3−（Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜８
のアルキル基）の１種又は２種以上の結合基を示し、Ｒ
1は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ2は炭素数１〜４のア
ルキル基を示す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整
数、ｃは０又は１である。） Ｒ4 dＳｉ（ＯＲ5）4-d （２） （式中、Ｒ4は炭素数１〜１０の有機基、Ｒ5は炭素数１
〜１０のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アル
コキシアルキル基又はアシル基を示す。ｄは０〜３の整
数である。） - 【請求項２】 水がｐＨ１〜７であることを特徴とする
請求項１記載の被膜形成用組成物。 - 【請求項３】 上記一般式（１）で示されるフッ化アル
キル基含有アルコキシシラン化合物又はこの式（１）の
フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物と上記一
般式（２）で示されるシラン化合物との混合物を含フッ
素系溶媒中で加水分解・縮合反応して得られるフロロオ
ルガノポリシロキサン樹脂を含有することを特徴とする
被膜形成用組成物。 - 【請求項４】 含フッ素系溶媒が非プロトン性含フッ素
溶媒又はプロトン性含フッ素溶媒であることを特徴とす
る請求項３記載の被膜形成用組成物。 - 【請求項５】 含フッ素系溶媒が非プロトン性含フッ素
溶媒とプロトン性含フッ素溶媒の混合溶媒であることを
特徴とする請求項３記載の被膜形成用組成物。 - 【請求項６】 一般式（２）に示されるＲ4の少なくと
も１つがアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する
有機基であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれ
か１項記載の被膜形成用組成物。 - 【請求項７】 一般式（２）の化合物がメチルトリアル
コキシシラン又はテトラアルコキシシランであることを
特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の被膜形
成用組成物。 - 【請求項８】 硬化被膜の屈折率が１．４２以下である
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項記載の
被膜形成用組成物。 - 【請求項９】 請求項１乃至８のいずれか１項記載の被
膜形成用組成物の硬化被膜を有することを特徴とする防
汚染性及び撥水性に優れた保護被膜を有する物品。 - 【請求項１０】 請求項１乃至８のいずれか１項記載の
被膜形成用組成物の硬化被膜を有することを特徴とする
反射防止性に優れた反射防止用物品。 - 【請求項１１】 屈折率が１．６５以上となる高屈折率
層と、請求項１乃至８のいずれか１項記載の被膜形成用
組成物の硬化被膜とが表面に積層されたことを特徴とす
る請求項１０記載の反射防止性に優れた反射防止用物
品。 - 【請求項１２】 高屈折率層中に金属酸化物ゾルを含有
することを特徴とする請求項１１記載の反射防止性に優
れた反射防止用物品。 - 【請求項１３】 高屈折率層が、アルコキシシリル基を
含有するアクリル系及び／又はビニル系単量体と共重合
可能な他の単量体との有機共重合体を含有し、この共重
合体中のアルコキシシリル基を含有するアクリル系及び
／又はビニル系単量体の比率が０．１〜５０重量％であ
ることを特徴とする請求項１１又は１２記載の反射防止
性に優れた反射防止用物品。 - 【請求項１４】 更に、高屈折率層が一分子内に窒素原
子及びアルコキシシリル基を有する化合物を含有するこ
とを特徴とする請求項１３記載の反射防止用物品。
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|---|---|---|---|
| JP2000237490A JP4126521B2 (ja) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | 被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2000237490A JP4126521B2 (ja) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | 被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2006201827A Division JP4711080B2 (ja) | 2006-07-25 | 2006-07-25 | 被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法 |
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|---|---|
| JP2002053805A true JP2002053805A (ja) | 2002-02-19 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2004250582A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | コーティング組成物及び樹脂積層体 |
| JP2004250583A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | コーティング組成物及び樹脂積層体 |
| JP2004250581A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | コーティング組成物及び樹脂積層体 |
| JP2004256632A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | コーティング組成物及び樹脂積層体 |
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