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JP2002053561A - ジフルオロメチルトリアゾロン化合物、その用途およびその製造中間体 - Google Patents

ジフルオロメチルトリアゾロン化合物、その用途およびその製造中間体

Info

Publication number
JP2002053561A
JP2002053561A JP2000240866A JP2000240866A JP2002053561A JP 2002053561 A JP2002053561 A JP 2002053561A JP 2000240866 A JP2000240866 A JP 2000240866A JP 2000240866 A JP2000240866 A JP 2000240866A JP 2002053561 A JP2002053561 A JP 2002053561A
Authority
JP
Japan
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group
optionally substituted
methyl
general formula
mmol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000240866A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomohiro Araki
知洋 荒木
Yoshiharu Kinoshita
義晴 木下
Yasushi Sakaguchi
裕史 阪口
Akio Manabe
明夫 真鍋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2000240866A priority Critical patent/JP2002053561A/ja
Priority to PCT/JP2000/008558 priority patent/WO2001042227A1/ja
Priority to AU16510/01A priority patent/AU1651001A/en
Priority to EP00979060A priority patent/EP1238975A1/en
Priority to US10/149,034 priority patent/US6762197B2/en
Publication of JP2002053561A publication Critical patent/JP2002053561A/ja
Priority to US10/781,988 priority patent/US20040167193A1/en
Pending legal-status Critical Current

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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/64—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/647—Triazoles; Hydrogenated triazoles
    • A01N43/653—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C211/01—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C211/26—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
    • C07C211/27—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring having amino groups linked to the six-membered aromatic ring by saturated carbon chains
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C281/00—Derivatives of carbonic acid containing functional groups covered by groups C07C269/00 - C07C279/00 in which at least one nitrogen atom of these functional groups is further bound to another nitrogen atom not being part of a nitro or nitroso group
    • C07C281/06—Compounds containing any of the groups, e.g. semicarbazides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/63—Esters of sulfonic acids
    • C07C309/64—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C309/65—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
    • C07C309/66—Methanesulfonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
    • C07D249/10—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D249/12—Oxygen or sulfur atoms

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Abstract

(57)【要約】 【課題】優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供
すること。 【解決手段】一般式［I］ 〔式中、Ｒ1はＡ1−Ｌ1−基、Ａ1−ＯＮ＝ＣＡ2−基等
｛ここで、Ｌ1は単結合、酸素原子等を表わし、Ａ1及び
Ａ2は同一または相異なり、置換されていてもよいＣ６
〜Ｃ１０アリール基等を表わす。｝を表わし、Ｔ、Ｕ及
びＶの内、一つはＣＲ2基を表わし、他の一つはＣＨ基
または窒素原子を表わし、また、残りの一つはＣＲ3基
または窒素原子を表わし、ＷはＣＲ4基または窒素原子
を表わす。｛ここで、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は同一または相
異なり、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル
基等を表す。｝〕で示されるトリアゾロン誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はトリアゾロン化合
物、その用途及びその製造中間体に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた植物
病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とす
る。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、後記一般式［I］で示されるトリアゾロン化
合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、
本発明に至った。即ち、本発明は、一般式［I］ 〔式中、Ｒ1はＡ1−Ｌ1−基、Ａ1−ＯＮ＝ＣＡ2−基、
Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝ＣＡ2−基、Ａ1Ｃ
（Ａ2）＝ＮＯＣＨ2−基、Ａ1ＳＣ（Ａ2）＝Ｎ−基、Ａ
1Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−基、Ａ1ＳＣ（＝Ｓ）ＮＨ−基、Ａ1
ＳＣ（ＳＡ2）＝Ｎ−基、Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（ＣＮ）−基、
Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝Ｃ（ＣＮ）−基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはＡ1Ｃ（ＣＮ）
＝ＮＯＣＨ2−基｛ここで、Ｌ1は単結合、酸素原子、硫
黄原子、カルボニル基、−ＯＣＨ2−基、−ＳＣＨ2−
基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、−ＯＣ（＝Ｏ）−基、−Ｃ
（＝Ｏ）ＯＣＨ2−基、−ＮＨ−基またはＣ１〜Ｃ６ア
ルキルイミノ基を表わし、Ａ1及びＡ2は同一または相異
なり、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１０アリール基、
置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１０アルキル基、置換さ
れていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、置換されて
いてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、置換されていて
もよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、置換されていて
もよいＣ４〜Ｃ２０シクロアルキルアルキル基、置換さ
れていてもよいＣ５〜Ｃ１０シクロアルケニル基、置換
されていてもよいＣ６〜Ｃ２０シクロアルケニルアルキ
ル基、置換されていてもよいＣ７〜Ｃ２０アリールアル
キル基、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリー
ル基、水素原子または置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１
９ヘテロアリールアルキル基を表わす。但し、Ｌ1が単
結合の場合、Ａ1は水素原子ではない。｝を表わし、
Ｔ、Ｕ及びＶの内、一つはＣＲ2基を表わし、他の一つ
はＣＨ基または窒素原子を表わし、また、残りの一つは
ＣＲ3基または窒素原子を表わし、ＷはＣＲ4基または窒
素原子を表わす。｛ここで、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は同一ま
たは相異なり、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ア
ルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロア
ルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、シアノ基、ニ
トロ基、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ
６アルキルチオ基またはＣ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ基
を表す。｝〕で示されるトリアゾロン化合物（以下、本
発明化合物と記す。）及びそれを有効成分として含有す
る農園芸用殺菌剤を提供する。
【０００４】本発明はさらに、本発明化合物の製造中間
体として有用な式［L］ で示される５−ジフルオロメチル−２−メチル−２，４
−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オ
ン、一般式［XXVI］ ［式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、ＶおよびＷは上記と同じ意味を
表わす。］で示されるジフルオロアセチルセミカルバジ
ド化合物、一般式［VII］ ［式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、ＶおよびＷは上記と同じ意味を
表わす。］で示されるセミカルバジド化合物、式[XVI-
1] で示される２−メチル−５−フェニルベンジルアミン、
２−メチル−５−フェニルベンジルアミンの塩（該塩と
しては、例えば塩酸塩、臭素酸塩、硫酸塩等の無機酸
塩、メタンスルホン酸塩等があげられる。）、式[XIII-
1] で示される２−メチル−５−フェニルベンジルクロリ
ド、一般式[XIII-2] 〔式中Ｒ9はメチル基またはｐ−トリル基を表わす。〕
で示されるスルホン酸エステル化合物、式[LI] で示されるＮ，Ｎ−ジメチル−（２−メチル−５−フェ
ニルベンジル）アミンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−（２−
メチル−５−フェニルベンジル）アミンの塩（該塩とし
ては、例えば塩酸塩、臭素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、
メタンスルホン酸塩等があげられる。）をも提供する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明において、Ａ1及びＡ2で示
される置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１０アリ−ル基に
おけるＣ６〜Ｃ１０アリ−ル基としては、フェニル基、
α−ナフチル基、β−ナフチル基等があげられ、Ａ1及
びＡ2で示される置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１０ア
ルキル基におけるＣ１〜Ｃ１０アルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、１−メチルプロピル基、
ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチルブチル
基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２
−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、
１，１−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、１−メチル
ペンチル基、１−エチルペンチル基、３，３−ジメチル
ブチル基、ヘプチル基、３，７−ジメチルオクチル基等
があげられ、Ａ1及びＡ2で示される置換されていてもよ
いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基におけるＣ２〜Ｃ１０アル
ケニル基としては、例えばビニル基、アリル基、１−メ
チル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル
基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メチル−
２−ブテニル基等があげられ、Ａ1及びＡ2で示される置
換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニル基における
Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル基としては、例えばエチニル
基、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基、
２−ブチニル基等があげられ、Ａ1及びＡ2で示される置
換されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル基にお
けるＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル基としては、例えばシ
クロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等があげられ、Ａ1及びＡ2で示される置換されていても
よいＣ４〜Ｃ２０シクロアルキルアルキル基におけるＣ
４〜Ｃ２０シクロアルキルアルキル基としては、例えば
シクロプロピルメチル基、シクロペンチルメチル基、２
−シクロペンチルエチル基、シクロヘキシルメチル基等
があげられ、Ａ1及びＡ2で示される置換されていてもよ
いＣ５〜Ｃ１０シクロアルケニル基におけるＣ５〜Ｃ１
０シクロアルケニル基としては、例えばシクロペンテニ
ル基、シクロヘキセニル基等があげられ、Ａ1及びＡ2で
示される置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０シクロアル
ケニルアルキル基におけるＣ６〜Ｃ２０シクロアルケニ
ルアルキル基としては、例えばシクロペンテン−１−イ
ルメチル基、シクロヘキセン−１−イルメチル基等があ
げられ、Ａ1及びＡ2で示される置換されていてもよいＣ
７〜Ｃ２０アリ−ルアルキル基におけるＣ７〜Ｃ２０ア
リ−ルアルキル基としては、例えばフェニルメチル基、
２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、４−
フェニルブチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチ
ルメチル基等があげられ、Ａ1及びＡ2で示される置換さ
れていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリール基におけるＣ
１〜Ｃ９ヘテロアリール基としては、例えば２−ピリジ
ル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジ
ニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、２
−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニ
ル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル
基、３−フリル基、ピロール−１−イル基、ピロール−
2−イル基、ピロール−3−イル基、１−ピラゾリル基、
３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル
基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチ
アゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリ
ル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−
オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオ
キサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、1−イミダゾ
リル基、２−イミダゾリル基、4−イミダゾリル基、5−
イミダゾリル基、１−（１，２，４−トリアゾリル）
基、３−（１，２，４−トリアゾリル）基、４−（１，
２，４−トリアゾリル）基、２−ベンゾチエニル基、３
−ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、
２−キノリニル基等があげられ、Ａ1及びＡ2で示される
置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアル
キル基におけるＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアルキル基
としては、例えば２−ピリジルメチル基、４−ピリジル
メチル基、２−ピリミジニルメチル基、４−ピリミジニ
ルメチル基、３−ピラゾリルメチル基、２−チアゾリル
メチル基、２−イミダゾリルメチル基、３−（１，２，
４−トリアゾリル）メチル基、２−キノリニルメチル基
等があげられる。
【０００６】Ａ1及びＡ2で示される、置換されていても
よいＣ６〜Ｃ１０アリール基、置換されていてもよいＣ
１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ
１０アルケニル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０
アルキニル基、置換されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シク
ロアルキル基、置換されていてもよいＣ４〜Ｃ２０シク
ロアルキルアルキル基、置換されていてもよいＣ５〜Ｃ
１０シクロアルケニル基、置換されていてもよいＣ６〜
Ｃ２０シクロアルケニルアルキル基、置換されていても
よいＣ７〜Ｃ２０アリールアルキル基、置換されていて
もよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリール基および置換されてい
てもよいＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアルキル基におけ
る置換基としては、例えば、ハロゲン原子〔フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子〕；Ｃ１〜Ｃ１０ア
ルキル基〔例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、１−メチルプ
ロピル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチ
ルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、２，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプ
ロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、
１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、３，３
−ジメチルブチル基、ヘプチル基、３，７−ジメチルオ
クチル基等〕；Ｃ３〜Ｃ2０トリアルキルシリル基〔例
えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等〕；
Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル基〔例えばトリフルオロメチ
ル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，
２，２−テトラフルオロエチル基等〕；Ｃ３〜Ｃ１０シ
クロアルキル基〔例えばシクロプロピル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基等〕；Ｃ１〜Ｃ１０アルコキ
シ基〔例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブト
キシ基、イソブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基等〕；
Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルコキシ基〔例えばトリフルオロメ
トキシ基、ジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメ
トキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、フルオロメト
キシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，
１，２，２−テトラフルオロエトキシ基等〕；Ｃ１〜Ｃ
１０アルキルチオ基〔例えばメチルチオ基、エチルチオ
基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチ
ルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ
基、ｎ−ヘキシルチオ基等〕；Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキ
ルチオ基〔例えばトリフルオロメチルチオ基、ジフルオ
ロメチルチオ基、ブロモジフルオロメチルチオ基、クロ
ロジフルオロメチルチオ基、フルオロメチルチオ基、
２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、１，１，２，
２−テトラフルオロエチルチオ基等〕；Ｃ２〜Ｃ１０ア
ルキルカルボニル基〔アセチル基、プロパノイル基、ブ
タノイル基、３-メチルブタノイル基等〕；Ｃ２〜Ｃ１
０アルコキシカルボニル基〔メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イ
ソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル
基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカル
ボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキ
シルオキシカルボニル基等〕；Ｃ２〜Ｃ１１アルキルカ
ルボニルアミノ基〔アセチルアミノ基、プロパノイルア
ミノ基、ブタノイルアミノ基、３−メチルブタノイルア
ミノ基等〕；ハロゲン原子（例えば塩素原子等）、Ｃ１
〜Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキ
シ基等）、トリフルオロメチル基及びシアノ基からなる
群より選ばれる１種以上の基で置換されていてもよいフ
ェニル基；ハロゲン原子（例えば塩素原子等）、Ｃ１〜
Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ
１〜Ｃ６アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ
基等）、トリフルオロメチル基及びシアノ基からなる群
より選ばれる１種以上の基で置換されていてもよいフェ
ノキシ基；ハロゲン原子（例えば塩素原子等）、Ｃ１〜
Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ
１〜Ｃ６アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ
基等）、トリフルオロメチル基及びシアノ基からなる群
より選ばれる１種以上の基で置換されていてもよいベン
ジルオキシ基；ハロゲン原子（例えば塩素原子等）、Ｃ
１〜Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エチル基
等）、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基（例えば、メトキシ基、
エトキシ基等）、トリフルオロメチル基及びシアノ基か
らなる群より選ばれる１種以上の基で置換されていても
よいフェノキシメチル基；ハロゲン原子（例えば塩素原
子等）、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基等）、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基（例えば、メトキ
シ基、エトキシ基等）、トリフルオロメチル基及びシア
ノ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換されて
いてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリール基（例えば２−ピ
リジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリ
ミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル
基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリ
ダジニル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フ
リル基、３−フリル基、ピロール−１−イル基、ピロー
ル−2−イル基、ピロール−3−イル基、１−ピラゾリル
基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾ
リル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イ
ソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチア
ゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、
５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イ
ソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、1−イミ
ダゾリル基、２−イミダゾリル基、4−イミダゾリル
基、5−イミダゾリル基、１−（１，２，４−トリアゾ
リル）基、３−（１，２，４−トリアゾリル）基、４−
（１，２，４−トリアゾリル）基、２−ベンゾチエニル
基、３−ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾール−２−イ
ル基、２−キノリニル等）；ハロゲン原子（例えば塩素
原子等）、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、
エチル基等）、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基（例えば、メト
キシ基、エトキシ基等）、トリフルオロメチル基及びシ
アノ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換され
ていてもよい（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）メチルオキ
シ基（例えば、２−ピリジルメチルオキシ基、３−ピリ
ジルメチルオキシ基、４−ピリジルメチルオキシ基、２
−ピリミジニルメチルオキシ基、４−ピリミジニルメチ
ルオキシ基、５−ピリミジニルメチルオキシ基、２−ピ
ラジニルメチルオキシ基、３−ピリダジニルメチルオキ
シ基、４−ピリダジニルメチルオキシ基、２−チエニル
メチルオキシ基、３−チエニルメチルオキシ基、２−フ
リルメチルオキシ基、３−フリルメチルオキシ基、ピロ
ール−１−イルメチルオキシ基、ピロール−2−イルメ
チルオキシ基、ピロール−3−イルメチルオキシ基、１
−ピラゾリルメチルオキシ基、３−ピラゾリルメチルオ
キシ基、４−ピラゾリルメチルオキシ基、２−チアゾリ
ルメチルオキシ基、４−チアゾリルメチルオキシ基、５
−チアゾリルメチルオキシ基、３−イソチアゾリルメチ
ルオキシ基、４−イソチアゾリルメチルオキシ基、５−
イソチアゾリルメチルオキシ基、２−オキサゾリルメチ
ルオキシ基、４−オキサゾリルメチルオキシ基、５−オ
キサゾリルメチルオキシ基、３−イソオキサゾリルメチ
ルオキシ基、４−イソオキサゾリルメチルオキシ基、５
−イソオキサゾリルメチルオキシ基、1−イミダゾリル
メチルオキシ基、２−イミダゾリルメチルオキシ基、4
−イミダゾリルメチルオキシ基、5−イミダゾリルメチ
ルオキシ基、１−（１，２，４−トリアゾリル）メチル
オキシ基、３−（１，２，４−トリアゾリル）メチルオ
キシ基、４−（１，２，４−トリアゾリル）メチルオキ
シ基、２−ベンゾチエニルメチルオキシ基、３−ベンゾ
チエニルメチルオキシ基、ベンゾチアゾール−２−イル
メチルオキシ基、２−キノリニルメチルオキシ基等）；
ハロゲン原子（例えば塩素原子等）、Ｃ１〜Ｃ６アルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ１〜Ｃ６ア
ルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、ト
リフルオロメチル基及びシアノ基からなる群より選ばれ
る１種以上の基で置換されていてもよい（Ｃ１〜Ｃ９ヘ
テロアリール）オキシメチル基（例えば、２−ピリジル
オキシメチル基、３−ピリジルオキシメチル基、４−ピ
リジルオキシメチル基、２−ピリミジニルオキシメチル
基、４−ピリミジニルオキシメチル基、５−ピリミジニ
ルオキシメチル基、２−ピラジニルオキシメチル基、３
−ピリダジニルオキシメチル基、４−ピリダジニルオキ
シメチル基、２−チエニルオキシメチル基、３−チエニ
ルオキシメチル基、２−フリルオキシメチル基、３−フ
リルオキシメチル基、ピロール−１−イルオキシメチル
基、ピロール−2−イルオキシメチル基、ピロール−3−
イルオキシメチル基、１−ピラゾリルオキシメチル基、
３−ピラゾリルオキシメチル基、４−ピラゾリルオキシ
メチル基、２−チアゾリルオキシメチル基、４−チアゾ
リルオキシメチル基、５−チアゾリルオキシメチル基、
３−イソチアゾリルオキシメチル基、４−イソチアゾリ
ルオキシメチル基、５−イソチアゾリルオキシメチル
基、２−オキサゾリルオキシメチル基、４−オキサゾリ
ルオキシメチル基、５−オキサゾリルオキシメチル基、
３−イソオキサゾリルオキシメチル基、４−イソオキサ
ゾリルオキシメチル基、５−イソオキサゾリルオキシメ
チル基、1−イミダゾリルオキシメチル基、２−イミダ
ゾリルオキシメチル基、4−イミダゾリルオキシメチル
基、5−イミダゾリルオキシメチル基、１−（１，２，
４−トリアゾリル）オキシメチル基、３−（１，２，４
−トリアゾリル）オキシメチル基、４−（１，２，４−
トリアゾリル）オキシメチル基、２−ベンゾチエニルオ
キシメチル基、３−ベンゾチエニルオキシメチル基、ベ
ンゾチアゾール−２−イルオキシメチル基、２−キノリ
ニルオキシメチル基等）；ハロゲン原子（例えば塩素原
子等）、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基等）、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基（例えば、メトキ
シ基、エトキシ基等）、トリフルオロメチル基及びシア
ノ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換されて
いてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリールオキシ基（例えば
２−ピリジルオキシ基、３−ピリジルオキシ基、４−ピ
リジルオキシ基、２−ピリミジニルオキシ基、４−ピリ
ミジニルオキシ基、５−ピリミジニルオキシ基、２−ピ
ラジニルオキシ基、３−ピリダジニルオキシ基、４−ピ
リダジニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、３−チエ
ニルオキシ基、２−フリルオキシ基、３−フリルオキシ
基、ピロール−１−イルオキシ基、ピロール−2−イル
オキシ基、ピロール−3−イルオキシ基、１−ピラゾリ
ルオキシ基、３−ピラゾリルオキシ基、４−ピラゾリル
オキシ基、２−チアゾリルオキシ基、４−チアゾリルオ
キシ基、５−チアゾリルオキシ基、３−イソチアゾリル
オキシ基、４−イソチアゾリルオキシ基、５−イソチア
ゾリルオキシ基、２−オキサゾリルオキシ基、４−オキ
サゾリルオキシ基、５−オキサゾリルオキシ基、３−イ
ソオキサゾリルオキシ基、４−イソオキサゾリルオキシ
基、５−イソオキサゾリルオキシ基、1−イミダゾリル
オキシ基、２−イミダゾリルオキシ基、4−イミダゾリ
ルオキシ基、5−イミダゾリルオキシ基、１−（１，
２，４−トリアゾリル）オキシ基、３−（１，２，４−
トリアゾリル）オキシ基、４−（１，２，４−トリアゾ
リル）オキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基、３−ベ
ンゾチエニルオキシ基、ベンゾチアゾール−２−イルオ
キシ基、２−キノリニルオキシ基等）；水酸基；シアノ
基；ニトロ基；メチレンジオキシ基およびジフルオロメ
チレンジオキシ基（ここで該メチレンジオキシ基および
ジフルオロメチレンジオキシ基の各々は、アリール基上
の隣接する二つの炭素原子に置換する。）等があげられ
る。
【０００７】Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示されるハロゲン原子
としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が
あげられ、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示される、Ｃ１〜Ｃ６ア
ルキル基としては、例えばメチル基、エチル基等があげ
られ、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示されるＣ１〜Ｃ６アルコキ
シ基としては例えばメトキシ基、エトキシ基等があげら
れ、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示されるＣ１〜Ｃ６ハロアルキ
ル基としては例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基等があげ
られ、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示されるＣ１〜Ｃ６ハロアル
コキシ基としては例えばトリフルオロメトキシ基、ジフ
ルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、クロ
ロジフルオロメトキシ基、フルオロメトキシ基、２，
２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２−テ
トラフルオロエトキシ基等があげられ、Ｒ2、Ｒ3及びＲ
4で示されるＣ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル基として
は例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基
等があげられ、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示されるＣ１〜Ｃ６
アルキルチオ基としては例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基等があげられ、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示されるＣ１〜
Ｃ６ハロアルキルチオ基としては例えばトリフルオロメ
チルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、ブロモジフルオ
ロメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、フル
オロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチ
オ基、１，１，２，２−テトラフルオロエチルチオ基等
があげられる。Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷを含む６員芳香族環の
具体例としてはベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環
等があげられる。
【０００８】本発明化合物には二重結合または不斉炭素
原子に基づく異性体が存在する場合があるが、その各々
及びその混合物が本発明に含まれる。
【０００９】本発明化合物のうち、植物病害防除効力の
点で好ましい置換基として、Ｒ1としては、置換されて
いてもよいフェニル基（即ち、Ｒ1がＡ1−Ｌ1−基であ
り、Ｌ1が単結合であり、Ａ1が置換されていてもよいＣ
６アリール基である。）があげられる。本発明化合物の
うち、植物病害防除効力の点で好ましいＴ、Ｕ、Ｖ及び
Ｗを含む６員芳香族環部位としては、ＴがＣＣＨ３基、
ＵがＣＨ基、ＶがＣＨ基、且つＷがＣＨ基である環があ
げられる。本発明化合物のうち、植物病害防除効力の点
でより好ましい化合物の例として、式 で示される５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−
（２−メチル−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン［本
発明化合物１］があげられる。
【００１０】本発明化合物は例えば、下記製造法Ａ〜製
造法Ｇにしたがって製造することが出来る。また、Ｒ1
の内容によっては、所望のＲ1を最後に導入または構築
することもできる（例えば、製造法Ｈ）。これらの製造
法においては必要に応じ官能基を反応から保護するため
に保護基を用いることができる。
【００１１】製造法Ａ 一般式［I］で示される本発明化合物は、一般式［II］
で示されるホルミル化合物から、例えばスキーム化１に
示す方法により製造することが出来る。
【化１】 〔式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味を表
わし、Ｅｔはエチル基を表す。〕 一般式［II］で示されるホルミル化合物から、一般式
［I］で示される本発明化合物を得る反応の反応温度は
通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１
〜１００時間の範囲である。該反応に供されるＥｔ2Ｎ
−ＳＦ3（ジエチルアミノ硫黄トリフルオリド）の量
は、一般式［II］で示されるホルミル化合物１モルに対
して通常１〜２０モルの割合である。該反応は通常溶媒
を用いて行い、かかる溶媒としては、例えばクロロホル
ム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、１，４
−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
等のエ−テル類、ｎ−ヘキサン、石油エ−テル等の脂肪
族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了後の
反応液は例えば、重曹水で洗浄した後、有機層を濃縮等
の後処理操作を行い、目的化合物を単離することができ
る。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等により精
製することもできる。
【００１２】一般式［II］で示されるホルミル化合物
は、例えば、下記スキーム化２にしたがって製造するこ
とができる。
【化２】 〔式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、Ｖ、およびＷは前記と同じ意味
を表わし、Ｌ2は塩素原子、臭素原子、沃素原子、ｐ−
トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基
を表わし、Ｒ5はＣ１〜Ｃ５アルキル基（例えばメチル
基、エチル基等）、フェニル基またはトリハロエチル基
（例えばトリクロロエチル基等）を表す。〕 一般式［VII］で示されるセミカルバジド化合物は、一
般式［III］で示されるイソシアネート化合物とメチル
ヒドラジンを反応させることにより製造することができ
る。該反応の反応温度は、通常−２０〜５０℃の範囲で
あり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。該
反応に供されるメチルヒドラジンの量は、一般式［II
I］で示されるイソシアネート化合物１モルに対して、
通常１〜１０モルの割合である。該反応は必要に応じて
溶媒を用いて行い、かかる溶媒としては、例えば１，４
−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
等のエ−テル類、クロロホルム、クロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類、ｎ−ヘキサン、石油エ−テル等の
脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類あるいはそれ
らの混合物があげられる。該反応終了後の反応液は、濃
縮等をすることにより目的化合物を単離することができ
る。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等により精
製することもできる。一般式［IV］で示される化合物か
ら一般式［V］で示される化合物を得る際に用いられる
塩基としては、例えば水酸化カリウム水溶液があげられ
る。一般式［VIII］で示される化合物から一般式［VI］
で示される化合物を得る際に用いられる塩基としては、
例えば水酸化カリウム水溶液があげられる。一般式
［V］で示される化合物から一般式［VI］で示される化
合物を得る際に用いられる塩基としては、例えば炭酸カ
リウムがあげられる。一般式［VI］で示される化合物か
ら一般式［II］で示される化合物を得る際に用いられる
酸化剤としては、例えば二酸化マンガンがあげられる。
【００１３】一般式［III］で示されるイソシアネート
化合物は、例えば、下記スキーム化３にしたがって製造
することができる。
【化３】 〔式中、Ｒ1、Ｌ2、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味
を表し、Ｒ6はＣ１〜Ｃ４アルキル基（例えば、メチル
基、エチル基等）を表し、Ｍ1は銀またはナトリウムを
表し、ＤＩＢＡＬは水素化ジイソブチルアルミニウムを
表し、ＢｕＬｉはブチルリチウムを表し、ＤＭＦはＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミドを表す。〕 一般式［XVI］で示されるアミン化合物にトリホスゲ
ン、ジホスゲンまたはホスゲンを反応させて一般式［II
I］で示されるイソシアネート化合物を得る反応は、例
えば、J. Org. Chem. 61, 3883-3884 (1996).に記載の
方法または後記中間体製造例３に記載の方法に準じて行
うことができる。一般式［XV］で示されるニトリル化合
物から一般式［XVI］で示されるアミン化合物を得る反
応は、例えば水素化アルミニウムリチウム（ＬｉＡｌＨ
4）を反応させる方法、触媒存在下に水素添加する方法
等により行うことができる。触媒存在下に水素添加する
際に用いられる触媒としては、例えばラネーニッケル
（具体的には、特開平８−２９１１１６に記載の方
法）、パラジウム（具体的には、J. Am. Chem. Soc., 5
0, 3370 (1928)に記載の方法）等があげられる。一般式
［XII］で示されるアルコール化合物から一般式［XII
I］で示される化合物のうちＬ2がｐ−トルエンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロ
メタンスルホニルオキシ基である化合物を得る反応は、
例えば、後記中間体製造例１２に記載の方法に準じて行
うことができる。一般式［XII］で示されるアルコール
化合物から一般式［XIII］で示される化合物のうちＬ2
が塩素原子である化合物を得る反応は、例えば一般式
［XII］で示されるアルコール化合物にＣＣｌ4−ＰＰｈ
3を作用させる方法（具体的には、後記中間体製造例９
に記載の方法）、一般式［XII］で示されるアルコール
化合物に濃塩酸を作用させる方法（より具体的には、Or
g. Synth., IV, 576 (1967).に記載の方法に準じて行
う）等により行うことができる。一般式[XIII]で示され
る化合物から一般式[XVI]で示されるアミン化合物を得
る反応は、例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５８．２７
０（１９９３）．に記載の方法に準じて行うことが出来
る。
【００１４】また、一般式［XII］で示されるアルコー
ル化合物のうち、ＴがＣＣＨ3であり、Ｕ、Ｖ、Ｗがそ
れぞれＣＨである一般式［XII-1］で示される化合物
は、下記スキーム化４に示す方法により、一般式［XVI
I］で示されるベンジルクロリド化合物より製造するこ
とも出来る。
【化４】 〔式中、Ｒ10はＲ1で定義される置換基のうち、グリニ
ャール反応において不活性な置換基を表わす。〕 該反応にかかる溶媒としては、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジグリム、トリグリム等のエーテル
類、該エーテル類とトルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類との混合溶媒があげられる。該反応は、具体的に
は、例えばJ. Am.Chem. Soc., 73, 3237 (1951).に記載
の方法に準じて行うことが出来る。また、一般式[XIII]
で示される化合物のうち、ＴがＣＣＨ３であり、Ｕ、
Ｖ、ＷがそれぞれＣＨであり、Ｒ1がフェニル基である
式[XIII-1]で示される２−メチル−５−フェニルベンジ
ルクロリドは、下記スキーム化５に示す方法により製造
することも出来る。
【化５】 〔式中、Ｌ2は前記と同じ意味を表わし、Ｒ11はＣ１〜
Ｃ４アルキル基（例えばメチル基、エチル基等）または
ビニル基を表わす。〕 一般式[LII]で示される化合物から一般式[LIII]で示さ
れる化合物を得る反応は、例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ，５０，１３６９７（１９９４）．に記載の方法に準
じて行うことが出来る。一般式[LIII]で示される化合物
から式[LI]で示されるＮ，Ｎ−ジメチル−（２−メチル
−５−フェニルベンジル）アミンを得る反応は、例えば
ＯｒｇａｎｉｃＲｅａｃｔｉｏｎｓ，Ｖｏｌ．１８，４
０３〜４６４（１９７０）．に記載の方法（Ｔｈｅ Ｓ
ｏｍｍｅｌｅｔ−Ｈａｕｓｅｒ ｒｅａｒｒａｎｇｅｍ
ｅｎｔ）に準じて行うことが出来る。該反応にて用いら
れる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、ナトリウムアミド、カリウムアミド、フェニルリチ
ウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブトキシカリウム、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラートなどがあげられる。Ｎ，Ｎ−
ジメチル−（２−メチル−５−フェニル）ベンジルアミ
ンから式[XIII-1]で示される２−メチル−５−フェニル
ベンジルクロリドを得る反応は、例えばＴｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２４，３２３３（１９８３）．
に記載の方法に準じて行うことが出来る。
【００１５】製造法Ｂ 一般式［I］で示される本発明化合物は、一般式［XIX］
で示されるトリアゾロン化合物から、スキーム化６に示
す方法により製造することが出来る。
【化６】 〔式中、Ｒ1、Ｌ2、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味
を表わす。〕 該反応は通常塩基の存在下に行い、用いられる塩基とし
ては例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩
基類等があげられる。一般式［XIX］で示されるトリア
ゾロン化合物から、一般式［I］で示される本発明化合
物を得る反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲
であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
該反応に供される試剤の量は、一般式［XIX］で示され
るトリアゾロン化合物１モルに対して、一般式［IX］で
示されるメチル化剤は通常１〜５モルの割合、塩基は通
常１〜１０モルの割合である。該反応は必要に応じて溶
媒を用いて行い、かかる溶媒としては、例えば１，４−
ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ル
ジメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−
テル、ｔ−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル類、ｎ−
ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ−テル等の脂
肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン等の有機塩基類、アセトニトリル、イソブチロニト
リル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、水等あるいはそれらの混合物が
あげられる。これらの溶媒は、使用する塩基の種類に応
じて使い分けるのは言うまでもない。反応終了後の反応
液は有機溶媒抽出、濃縮等の後処理操作を行い、目的化
合物を単離することができる。該化合物は再結晶、クロ
マトグラフィ−等により精製することもできる。
【００１６】一般式［XIX］で示されるトリアゾロン化
合物は、例えば、下記スキーム化７にしたがって製造す
ることができる。
【化７】 〔式中、Ｒ1、Ｌ2、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味
を表わし、Ｍ2はナトリウムまたはカリウムを表わ
す。〕 一般式［XXI］で示されるイソチオシアネート化合物
は、一般式［XIII］で示される化合物と一般式［XX］で
示される化合物とを反応させることにより製造すること
ができる。一般式［XXII］で示されるチオセミカルバジ
ド化合物は、一般式［XXI］で示されるイソチオシアネ
ート化合物とヒドラジン（無水ヒドラジンまたは抱水ヒ
ドラジン）とを反応することにより製造することができ
る。一般式［XXIII］で示されるトリアゾリンチオン化
合物は、一般式［XXII］で示されるチオセミカルバジド
化合物と例えばジフルオロ酢酸とを反応させることによ
り製造することができる。一般式［XXIV］で示されるス
ルホン酸化合物は、一般式［XXIII］で示されるトリア
ゾリンチオン化合物を酸化剤（例えば過酸化水素）を用
いて酸化することにより製造することができる。一般式
［XIX］で示されるトリアゾロン化合物は一般式［XXI
V］で示されるスルホン酸化合物を酸（例えば塩酸）を
用いて加水分解することにより製造することができる。
一般式［XXII］で示されるチオセミカルバジド化合物か
ら一般式［XIX］で示されるトリアゾロン化合物に至る
各工程は、より具体的には例えば特開平７―１９６６３
０号公報に記載の方法に準じて行うことができる。反応
終了後は例えば、有機溶媒抽出、濃縮等の後処理操作を
行い、目的化合物を単離することができる。該化合物は
再結晶、クロマトグラフィ−等により精製することもで
きる。
【００１７】製造法Ｃ 一般式［I］で示される本発明化合物は、一般式［VII］
で示されるセミカルバジド化合物から、例えば、スキー
ム化８に示す方法により製造することが出来る。
【化８】 〔式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味を表
わす。〕 一般式［VII］で示されるセミカルバジド化合物から、
一般式［I］で示される本発明化合物を得る該反応の反
応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時
間は通常１〜１００時間の範囲である。該反応に供され
る試剤の量は、一般式［VII］で示されるセミカルバジ
ド化合物１モルに対して（Ｆ2ＨＣＣＯ）2Ｏ（ジフルオ
ロ酢酸無水物）は通常１〜５モルの割合である。該反応
は通常溶媒を用いて行い、かかる溶媒としては、例えば
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、１，４−ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等の
エ−テル類、ｎ−ヘキサン、石油エ−テル等の脂肪族炭
化水素類あるいはそれらの混合物があげられる。また該
反応において、副生物として後記一般式［XXVI］で示さ
れるジフルオロアセチルセミカルバジド化合物を生じる
場合があるが、クロマトグラフィ−等により精製するこ
とにより分離することができる。該反応終了後の反応液
は、例えば過剰の無水ジフルオロ酢酸を水酸化ナトリウ
ム水溶液等の塩基により分解した後に、有機溶媒抽出、
濃縮等の後処理操作を行い、目的化合物を単離すること
ができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等に
より精製することもできる。
【００１８】製造法Ｄ 一般式［I］で示される本発明化合物は、一般式［VII］
で示されるセミカルバジド化合物から、例えば、スキー
ム化９に示す方法により製造することが出来る。
【化９】 〔式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味を表
わし、Ｒ7はＣ１〜Ｃ４アルキル基（例えばメチル基、
エチル基など）を表わす。〕 一般式［VII］で示されるセミカルバジド化合物から、
一般式［I］で示される本発明化合物を得る反応の反応
温度は通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通
常１〜１００時間の範囲である。該反応に供される試剤
の量は、一般式［VII］で示されるセミカルバジド化合
物１モルに対して、一般式［XXV］で示される化合物は
通常１〜１００モルの割合である。該反応は、通常塩基
の存在下に行い、用いられる塩基としては例えばナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−
ブトキシド等の金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カル
シウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸
化物、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類等が
あげられ、塩基の量は、［VII］で示されるセミカルバ
ジド化合物１モルに対して通常０．１〜３モルの割合で
ある。該反応は必要に応じて溶媒を用いて行い、かかる
溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアル
コール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル等のエ−テル類、ｎ−ヘキサン、石油
エ−テル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類
あるいはそれらの混合物があげられる。また該反応にお
いて、副生物として後記一般式［XXVI］で示されるジフ
ルオロアセチルセミカルバジド化合物を生じる場合があ
るが、クロマトグラフィ−等により精製することにより
分離することができる。該反応終了後の反応液は、必要
ならば中和または濃縮した後、有機溶媒抽出、濃縮等の
後処理操作を行い、目的化合物を単離することができ
る。また該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等によ
り精製することもできる。
【００１９】製造法Ｅ 一般式［I］で示される本発明化合物は、一般式［VII］
で示されるセミカルバジド化合物から、例えば、スキー
ム化１０に示す方法により製造することが出来る。
【化１０】 〔式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味を表
わす。〕 一般式［VII］で示されるセミカルバジド化合物から、
一般式［I］で示される本発明化合物を得る反応の反応
温度は通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通
常１〜１００時間の範囲である。該反応に供される試剤
の量は、一般式［VII］で示されるセミカルバジド化合
物１モルに対して、Ｆ2ＨＣＣＯＯＨ（ジフルオロ酢
酸）は通常１〜１００モルの割合である。該反応は必要
に応じて溶媒を用いて行い、かかる溶媒としては、例え
ばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキ
サン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素類、１，４−ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル類、あるい
はそれらの混合物があげられる。また該反応において、
副生物として後記一般式［XXVI］で示されるジフルオロ
アセチルセミカルバジド化合物を生じる場合があるが、
クロマトグラフィ−等により精製することにより分離す
ることができる。該反応終了後の反応液は、必要ならば
中和または濃縮した後、有機溶媒抽出、濃縮等の後処理
操作を行い、目的化合物を単離することができる。また
該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等により精製す
ることもできる。
【００２０】製造法Ｆ 一般式［I］で示される本発明化合物は、一般式［XXV
I］で示されるジフルオロアセチルセミカルバジド化合
物から、例えばスキーム化１１に示す方法により製造す
ることが出来る。
【化１１】 〔式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味を表
わす。〕 一般式［XXVI］で示されるジフルオロアセチルセミカル
バジド化合物から、一般式［I］で示される本発明化合
物を得る反応の反応温度は通常５０〜１５０℃の範囲で
あり、反応時間は通常０．５〜１００時間の範囲であ
る。該反応は、通常塩基または酸の存在下に行い、用い
られる塩基としては例えばナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属ア
ルコキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネ
シウム等のアルカリ土類金属水酸化物、トリエチルアミ
ン、ピリジン等の有機塩基類等があげられ、塩基の量
は、一般式［XXVI］で示されるジフルオロアセチルセミ
カルバジド化合物１モルに対して通常０．１〜１０モル
の割合である。用いられる酸としては例えばジフルオロ
酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸があげられ、酸の量
は、一般式［XXVI］で示されるジフルオロアセチルセミ
カルバジド化合物１モルに対して通常１〜１００モルの
割合である。該反応は必要に応じて溶媒を用いて行い、
かかる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等
のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル等のエ−テル類、ｎ−ヘキサ
ン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホ
キシド類、水あるいはそれらの混合物があげられる。こ
れらの溶媒は、使用する酸や塩基の種類に応じて使い分
けるのは言うまでもない。該反応終了後の反応液は、必
要ならば中和または濃縮した後、有機溶媒抽出、濃縮等
の後処理操作を行い、目的化合物を単離することができ
る。また該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等によ
り精製することもできる。
【００２１】一般式［XXVI］で示されるジフルオロアセ
チルセミカルバジド化合物は、製造法Ｃ、Ｄ及びＥにお
ける副生物として製造することもできるが、例えば、下
記スキーム化１２にしたがって製造することができる。
【化１２】 〔式中、Ｒ1、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味を表
わす。〕 一般式［III］で示されるイソシアネート化合物から、
一般式［XXVI］で示されるジフルオロアセチルセミカル
バジド化合物を得る反応の反応温度は通常０〜１００℃
の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲で
ある。該反応に供されるＮ’−メチル−ジフルオロアセ
トヒドラジドの量は、一般式［III］で示されるイソシ
アネート化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割
合である。該反応は必要に応じて溶媒を用いて行い、か
かる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエ−テル類、クロ
ロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
類、ｎ−ヘキサン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素
類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホ
キシド等のスルホキシド類あるいはそれらの混合物があ
げられる。該反応終了後の反応液は、濃縮した後、有機
溶媒抽出、濃縮等の後処理操作を行い、目的化合物を単
離することができる。また該化合物は再結晶、クロマト
グラフィ−等により精製することもできる。
【００２２】製造法Ｇ 一般式［I］で示される本発明化合物は、一般式［XII
I］で示される化合物と、式［L］で示されるトリアゾロ
ン化合物から、例えばスキーム化１３に示す方法により
製造することが出来る。
【化１３】 〔式中、Ｒ1、Ｌ2、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味
を表わす。〕 該反応は、通常塩基の存在下に行い、用いられる塩基と
しては水酸化リチウム、水素化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基類
等があげられる。該反応の反応温度は通常０〜１００℃
の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲で
ある。該反応に供される試剤の量は、一般式［XIII］で
示される化合物１モルに対して、一般式［L］で示され
るトリアゾロン化合物は、通常１〜５モルの割合、塩基
は通常１〜１０モルの割合である。該反応は必要に応じ
て溶媒を用いて行い、かかる溶媒としては、例えば１，
４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テ
ル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル等のエ−テ
ル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ピリ
ジン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有
機塩基類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニ
トリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、水等あるいはそれらの混合物があげられ
る。これらの溶媒は、使用する塩基の種類に応じて使い
分けるのは言うまでもない。反応終了後の反応液は有機
溶媒抽出、濃縮等の後処理操作を行い、目的化合物を単
離することができる。該化合物は再結晶、クロマトグラ
フィ−等により精製することもできる。
【００２３】式［L］で示されるトリアゾロン化合物
は、例えば、スキーム化１４に示す方法により製造する
ことが出来る。
【化１４】 ２−メチルセミカルバジドから、式［L］で示されるト
リアゾロン化合物を得る反応の反応温度は通常５０〜１
５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の
範囲である。該反応に供される試剤の量は、２−メチル
セミカルバジド１モルに対して、Ｆ2ＨＣＣＯＯＨ（ジ
フルオロ酢酸）は通常１〜１００モルの割合である。該
反応は必要に応じて溶媒を用いて行い、かかる溶媒とし
ては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ｎ−ヘキサン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素
類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−
テル類、あるいはそれらの混合物があげられる。また、
該反応において、副生成物として１−ジフルオロアセチ
ル−２−メチルセミカルバジドが得られる場合がある
が、クロマトグラフィー等により精製することにより分
離することが出来る。該反応終了後の反応液は、必要な
らば中和または濃縮した後、有機溶媒抽出、濃縮等の後
処理操作を行い、目的化合物を単離することができる。
また該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等により精
製することもできる。尚、式[L]で示されるトリアゾロ
ン化合物は、下記に示される互変異性体としても記載す
ることができる。
【００２４】２−メチルセミカルバジドは、例えば、下
記スキーム化１５にしたがって製造することが出来る。
【化１５】 〔式中、Ｍ3はトリメチルシリル基、ナトリウム、カリ
ウムを表わす。〕 メチルヒドラジンとトリメチルシリルイソシアネートと
から製造する場合は、メチルヒドラジンとトリメチルイ
ソシアネートとを反応させた後に、メタノールを反応さ
せることにより製造することが出来る。メチルヒドラジ
ンとイソシアン酸塩とから製造する場合は、酸性水溶液
（例えば塩酸）中にてメチルヒドラジンとイソシアン酸
塩とを反応させることにより製造することが出来る。
【００２５】製造法Ｈ 例えば、下記（Ｈ−１）から（Ｈ−６）に示す方法によ
り、製造することができる。 （Ｈ−１）：スキーム化１６に示される方法｛一般式
［I］におけるＲ1が、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１
０アリール基または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘ
テロアリール基である一般式［I-2］で示される本発明
化合物の製造法｝
【化１６】 〔式中、Ｒ8は置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１０アリ
ール基または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロア
リール基を表わし、Ｘ及びＺは同一または相異なりハロ
ゲン原子（塩素、臭素、沃素）またはトリフルオロメタ
ンスルホニルオキシ基を表わし、Ｔ、Ｕ、ＶおよびＷは
前記と同じ意味を表わす。〕 （１）一般式［XXVIII］で示されるホウ酸エステル化合
物の製造法 一般式［XXVIII］で示されるホウ酸エステル化合物は、
一般式［I-1］で示されるハロゲン化物とビス（ピナコ
レート）ジボロンとを、有機溶媒中（ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド等）、塩基（酢酸カリウ
ム、炭酸カリウム等）およびパラジウム触媒（［ビス
（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジ
ウム（ＩＩ）のジクロロメタン錯体、テトラキストリフ
ェニルホスフィンパラジウム等）の存在下にて反応する
（より具体的には、例えば、J. Org.Chem., 60, 7508-7
510 (1995). に記載の方法に準じて行なう）ことによ
り、製造することが出来る。反応終了後の反応液は、水
に注加した後、有機溶媒抽出、濃縮等の後処理を行い、
目的化合物を得ることができる。該化合物はクロマトグ
ラフィー等により精製することができる。 （２）一般式［I-2］で示される本発明化合物の製造法 一般式［I-2］で示される本発明化合物は、一般式［XXV
III］で示されるホウ酸エステル化合物と一般式Ｒ8Ｚで
示されるハロゲン化物とを、有機溶媒中（ジメトキシエ
タン等）、塩基（リン酸カリウム、炭酸カリウム等）お
よびパラジウム触媒（［ビス（ジフェニルホスフィノ）
フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）のジクロロメ
タン錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキストリフ
ェニルホスフィンパラジウム等を単一、もしくは混合し
て用いてもよい）の存在下にて反応することにより、製
造することができる。より具体的にはＴｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３８，７６４５−７６４８（１９
９７）．に記載の方法に準じて行うことが出来る。反応
終了後の反応液は、例えば溶媒を留去した後、残さをク
ロマトグラフィーに付すか、あるいは有機溶媒抽出、濃
縮等の後処理を行い、目的化合物を得ることができる。
該化合物は再結晶、クロマトグラフィー等により精製す
ることができる。
【００２６】（Ｈ−２）スキーム化１７に示される方法
｛一般式［I］におけるＲ1が、結合する末端に三重結合
を有する置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニル
基である一般式［I-3］で示される本発明化合物の製造
法｝
【化１７】 〔式中、Ａ3−Ｃ≡Ｃは、末端に三重結合を有する置換
されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニル基を表わし、
Ｘ、Ｔ、Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味を表わす。〕 一般式［I-1］で示される化合物から、一般式［I-3］で
示される本発明化合物を得る反応は例えば、非プロトン
性極性溶媒（アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等）中、塩基（ジイソプロピルアミン等の２級ア
ミン、トリエチルアミン等の３級アミン等）および触媒
（ビス（トリフェニルホスフィン）ジクロロパラジウム
｛以下、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2と略す｝等のパラジウ
ム触媒、沃化銅（Ｉ）およびトリフェニルホスフィンの
組合せ等）の存在下にて行なう（より具体的には、国際
特許出願ＷＯ９８／０３４６４号公開明細書のＥｘａｍ
ｐｌｅ１、Tetrahedron Lett., 16, 4467-4470 (197
5)、Synthesis, 1980, 627-630、あるいはJ. Org. Che
m., 64, 2070-2079 (1999). に記載の方法に準じて行な
う。）ことができる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽
出、濃縮等の後処理を行い、目的化合物を得ることがで
きる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィー等により
精製することができる。
【００２７】（Ｈ−３）スキーム化１８に示される方法
｛一般式［I］におけるＲ1が、置換されていてもよいＣ
６〜Ｃ１３アリール基または置換されていてもよいＣ１
〜Ｃ９ヘテロアリール基である一般式［I-2］で示され
る本発明化合物の製造法｝
【化１８】 〔式中、Ｒ8、Ｘ、Ｔ，Ｕ、Ｖ及びＷは前記と同じ意味
を表わす。〕 一般式［I-1］で示される化合物から、一般式［I-2］で
示される本発明化合物を得る反応は例えば、水とジメト
キシエタンとの混合溶媒中、塩基（重曹等の無機塩基
等）および触媒（テトラキス（トリフェニル）ホスフィ
ンパラジウム｛以下、Ｐｄ（ＰＰｈ3）4と略す｝等）の
存在下に行なう（より具体的には、例えば、国際特許出
願ＷＯ９６／３５６６９号公開明細書のＢｅｉｓｐｉｅ
ｌ２に記載の方法に準じて行なう。）か、または、水溶
媒中、臭化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、塩基（炭
酸カリウム等の無機塩基等）および触媒（酢酸パラジウ
ム等）の存在下に行なう（より具体的には、例えば、J.
Org. Chem., 62, 7170-7173(1997). に記載の方法に準
じて行なう。）ことができる。反応終了後の反応液は有
機溶媒抽出、濃縮等の後処理を行い、目的化合物を得る
ことができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィー
等により精製することができる。
【００２８】（Ｈ−４）スキーム化１９に示される方法
｛一般式［I］におけるＲ1が、置換されていてもよいＣ
６〜Ｃ１０アリールオキシ基または置換されていてもよ
いＣ１〜Ｃ９ヘテロアリールオキシ基である一般式［I-
5］で示される本発明化合物の製造法｝
【化１９】 〔式中、Ｘ、Ｔ、Ｕ、ＶおよびＷは前記と同じ意味を表
わし、Ａ4は置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１０アリー
ル基または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリ
ール基を表わす。〕 （１）一般式［I-4］で示される化合物より製造する方
法 一般式［I-4］で示される化合物から、一般式［I-5］で
示される本発明化合物を得る反応は例えば、有機溶媒
（塩化メチレン等）中、塩基（トリエチルアミン等の有
機塩基、重曹等の無機塩基等）および触媒（酢酸銅（Ｉ
Ｉ）等）の存在下に行なう（より具体的には、Tetrahed
ron Lett., 39, 2937-2940 (1998). に記載の方法に準
じて行なう。）ことができる。 （２）一般式［I-1］で示される化合物より製造する方
法 一般式［I-1］で示される化合物から、一般式［I-5］で
示される本発明化合物を得る反応は例えば、有機溶媒
（トルエン、酢酸エチル等）中、塩基（トリエチルアミ
ン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機
塩基等）および触媒（例えば、よう化銅（Ｉ）等）の存
在下に行なう（より具体的には、J. Amer.Chem. Soc.,
119, 10539-10540 (1997)、J. Amer. Chem. Soc., 121,
3224-3225 (1999)もしくはJ. Amer. Chem. Soc., 121,
4369-4378 (1999). に記載の方法に準じて行なう。）
ことができる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃
縮等の後処理を行い、目的物を得ることができる。該化
合物は再結晶、クロマトグラフィー等により精製するこ
とができる。 （３）一般式［XXVIII］で示される化合物より製造する
方法 一般式［XXVIII］で示される化合物から、一般式［I-
5］で示される本発明化合物を得る反応は例えば、有機
溶媒（塩化メチレン等）中、塩基（トリエチルアミン等
の有機塩基、重曹等の無機塩基等）および触媒（酢酸銅
（ＩＩ）等）の存在下に行なう（より具体的には、Tetr
ahedron Lett., 39, 2937-2940 (1998).に記載の方法に
準じて行なう。）ことができる。
【００２９】（Ｈ−５）スキーム化２０に示される方法
｛一般式［I］におけるＲ1が、Ａ1−ＯＮ＝ＣＡ2−基で
ある一般式［I-7］および一般式［I-8］で示される本発
明化合物の製造法｝
【化２０】 〔式中、Ａ5はＡ1で示される基のうち水素原子を除いた
基を表わし、Ｌ2、Ａ2、Ｔ、Ｕ、Ｖ、及びＷは前記と同
じ意味を表わす。〕 ここで一般式［I-7］で示される化合物のうち、Ａ2がメ
チル基である化合物は、一般式［I-6］で示される化合
物より、例えばJ. Org. Chem., 57, 1481-1486(1992).
に記載される方法に準じて製造することが出来る。
【００３０】（Ｈ−６）スキーム化２１に示される方法
【化２１】 ［式中、Ａ1、Ａ2、Ｌ2、Ｔ、Ｕ、Ｖ、及びＷは前記と
同じ意味を表わす。］
【００３１】本発明化合物を農園芸用殺菌剤の有効成分
として用いる場合、他の何らの成分も加えずそのまま用
いてもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性
剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、
顆粒水和剤、エマルション製剤、フロアブル製剤、粉
剤、粒剤等に製剤して用いる。これらの製剤には有効成
分として本発明化合物を、重量比で通常、０．１〜９０
％含有する。かかる製剤化の際に用いられる、固体担体
としては、例えばカオリンクレ−、アッタパルジャイト
クレ−、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、
パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物
質、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、
尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウ
ム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からな
る微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体として
は、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレ
ングリコ−ル、プロピレングリコール、セロソルブ等の
アルコ−ル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系
脂肪族炭化水素、エステル類、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル、水等があげられる。界面活性剤として
は、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキル（アリ−
ル）スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステ
ル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸ホ
ルマリン縮合物等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソ
ルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があ
げられる。製剤用補助剤としては、例えばポリビニルア
ルコ−ル、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、ア
ラビアガム、アルギン酸およびその塩、ＣＭＣ（カルボ
キシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム、等の多糖類、
アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等
の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプ
ロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤等があげられる。本発明
化合物の施用方法としては、具体的には茎葉散布、土壌
処理、種子消毒等があげられ、さらに、通常、当業者が
利用するどのような施用方法にても用いることができ
る。
【００３２】本発明化合物を農園芸用殺菌剤の有効成分
として用いる場合、その有効成分の施用量は、対象植物
（作物等）の種類、対象病害の種類、病害の発生程度、
製剤形態、施用方法、施用時期、気象条件等によって変
化し得るが、１ア−ルあたり通常０．０１〜５０ｇ、好
ましくは０．０５〜１０ｇである。乳剤、水和剤、懸濁
剤等を水で希釈して施用する場合、その施用濃度は、
０．０００１〜３％、好ましくは０．０００５〜１％で
あり、粉剤、粒剤等はなんら希釈することなくそのまま
施用する。
【００３３】本発明化合物は、畑地、水田、果樹園、茶
園、牧草地、芝生地等の農園芸用殺菌剤として用いるこ
とができ、他の農園芸用殺菌剤と混合して用いることに
より、殺菌効力の増強をも期待できる。混合し得る他の
農園芸用殺菌剤としては、たとえば、プロピコナゾ−
ル、トリアジメノ−ル、プロクロラズ、ペンコナゾ−
ル、テブコナゾ−ル、フルシラゾ−ル、ジニコナゾ−
ル、ブロムコナゾ−ル、エポキシコナゾ−ル、ジフェノ
コナゾ−ル、シプロコナゾ−ル、メトコナゾ−ル、トリ
フルミゾ−ル、テトラコナゾ−ル、マイクロブタニル、
フェンブコナゾ−ル、ヘキサコナゾ−ル、フルキンコナ
ゾ−ル、トリティコナゾ−ル、ビテルタノ−ル、イマザ
リル及びフルトリアホ−ル等のアゾ−ル系殺菌化合物、
フェンプロピモルフ、トリデモルフ及びフェンプロピジ
ン等の環状アミン系殺菌化合物、カルベンダジム、ベノ
ミル、チアベンダゾ−ル、チオファネ−トメチル等のベ
ンズイミダゾ−ル系殺菌化合物、プロシミドン、シプロ
ディニル、ピリメタニル、ジエトフェンカルブ、チウラ
ム、フルアジナム、マンコゼブ、イプロジオン、ビンク
ロゾリン、クロロタロニル、キャプタン、メパニピリ
ム、フェンピクロニル、フルジオキソニル、ジクロフル
アニド、フォルペット、クレソキシムメチル、アゾキシ
ストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロ
ビン、Ｎ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，
５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミ
ド、スピロキサミン、キノキシフェン、フェンヘキサミ
ド、ファモキサドン、フェナミドン（ＲＰ−４０７２１
３）、イプロヴァリカルブ等があげられる。
【００３４】本発明化合物は、他の農園芸用殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料と混
用または併用することもできる。かかる殺虫剤及び／ま
たは殺ダニ剤及び／または殺線虫剤としては、例えばフ
ェニトロチオン〔Ｏ，Ｏ−ジメチル Ｏ−（３−メチル
−４−ニトロフェニル）ホスホロチオエ−ト〕、フェニ
チオン〔Ｏ，Ｏ−ジメチル Ｏ−（３−メチル−４−
（メチルチオ）フェニル）ホスホロチオエ−ト〕、ダイ
アジノン〔Ｏ，Ｏ−ジエチル Ｏ−２−イソプロピル−
６−メチルピリミジン−４−イルホスホロチオエ−
ト〕、クロルピリホス〔Ｏ，Ｏ−ジエチル Ｏ−３，
５，６−トリクロロ−２−ピリジルホスホロチオエ−
ト〕、アセフェ−ト〔Ｏ，Ｓ−ジメチルアセチルホスホ
ラミドチオエ−ト〕、メチダチオン〔Ｓ−２，３−ジヒ
ドロ−５−メトキシ−２−オキソ−１，３，４−チアジ
アゾ−ル−３−イルメチル Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロ
ジチオエ−ト〕、ジスルホトン〔Ｏ，Ｏ−ジエチル Ｓ
−２−エチルチオエチルホスホロチオエ−ト〕、ＤＤＶ
Ｐ〔２，２−ジクロロビニルジメチルホスフェ−ト〕、
スルプロホス〔Ｏ−エチル Ｏ−４−（メチルチオ）フ
ェニル Ｓ−プロピルホスホロジチオエ−ト〕、シアノ
ホス〔Ｏ−４−シアノフェニル Ｏ，Ｏ−ジメチルホス
ホロチオエ−ト〕、ジオキサベンゾホス〔２−メトキシ
−４Ｈ−１，３，２−ベンゾジオキサホスフィニン−２
−スルフィド〕、ジメトエ−ト〔Ｏ，Ｏ−ジメチル Ｓ
−（Ｎ−メチルカルバモイルメチル）ジチオホスフェ−
ト〕、フェントエ−ト〔エチル ２−ジメトキシホスフ
ィノチオイルチオ（フェニル）アセテ−ト〕、マラチオ
ン〔ジエチル（ジメトキシホスフィノチオイルチオ）サ
クシネ−ト〕、トリクロルホン〔ジメチル ２，２，２
−トリクロロ−１−ヒドロキシエチルホスホネ−ト〕、
アジンホスメチル〔Ｓ−３，４−ジヒドロ−４−オキソ
−１，２，３−ベンゾトリアジン−３−イルメチル
Ｏ，Ｏ−ジメチルホスホロジチオエ−ト〕、モノクロト
ホス〔ジメチル（Ｅ）−１−メチル−２−（メチルカル
バモイル）ビニルホスフェ−ト〕、エチオン〔Ｏ，Ｏ，
Ｏ’，Ｏ’−テトラエチル Ｓ，Ｓ’−メチレンビス
（ホスホロジチオエ−ト）〕、ホスチアゼ−ト〔Ｎ−
（Ｏ−メチル−Ｓ−sec−ブチル）ホスホリルチアゾリ
ジン−２−オン〕等の有機リン系化合物、ＢＰＭＣ〔２
−sec−ブチルフェニルメチルカルバメ−ト〕、ベンフ
ラカルブ〔エチル Ｎ−（２，３−ジヒドロ−２，２−
ジメチルベンゾフラン−７−イルオキシカルボニル（メ
チル）アミノチオ〕−Ｎ−イソプロピル−β−アラニネ
−ト〕、プロポキスル〔２−イソプロポキシフェニル
Ｎ−メチルカルバメ−ト〕、カルボスルファン〔２，３
−ジヒドロ−２，２−ジメチル−７−ベンゾ〔ｂ〕フラ
ニル Ｎ−ジブチルアミノチオ−Ｎ−メチルカ−バメ−
ト〕、カルバリル〔１−ナフチル Ｎ−メチルカ−バメ
−ト〕、メソミル〔Ｓ−メチル−Ｎ−〔（メチルカルバ
モイル）オキシ〕チオアセトイミデ−ト〕、エチオフェ
ンカルブ〔２−（エチルチオメチル）フェニルメチルカ
−バメ−ト〕、アルジカルブ〔２−メチル−２−（メチ
ルチオ）プロピオンアルデヒド Ｏ−メチルカルバモイ
ルオキシム〕、オキサミル〔Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−メ
チルカルバモイルオキシイミノ−２−（メチルチオ）ア
セタミド〕、フェノチオカルブ〔Ｓ−４−フェノキシブ
チル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカ−バメ−ト等のカ−バメ
−ト系化合物、エトフェンプロックス〔２−（４−エト
キシフェニル）−２−メチルプロピル−３−フェノキシ
ベンジルエ−テル〕、フェンバレレ−ト〔（ＲＳ）−α
−シアノ−３−フェノキシベンジル （ＲＳ）−２−
（４−クロロフェニル）−３−メチルブチレ−ト〕、エ
スフェンバレレ−ト〔（Ｓ）−α−シアノ−３−フェノ
キシベンジル （Ｓ）−２−（４−クロロフェニル）−
３−メチルブチレ−ト〕、フェンプロパトリン〔（Ｒ
Ｓ）−α−シアノ−３−フェノキシベンジル ２，２，
３，３−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、シペルメトリン〔（ＲＳ）−α−シアノ−３−フ
ェノキシベンジル （１ＲＳ，３ＲＳ）−３−（２，２
−ジクロロビニル）−２，２−ジメチルシクロプロパン
カルボキシレ−ト〕、ペルメトリン〔３−フェノキシベ
ンジル（１ＲＳ，３ＲＳ）−３−（２，２−ジクロロビ
ニル）−２，２−メチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、シハロトリン〔（ＲＳ）−α−シアノ−３−フェ
ノキシベンジル （Ｚ）−（１ＲＳ，３ＲＳ）−３−
（２−クロロ−３，３，３−トリフロオロプロペニル）
−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、デルタメトリン〔（Ｓ）−α−シアノ−ｍ−フェ
ノキシベンジル （１Ｒ，３Ｒ）−３−（２，２−ジブ
ロモビニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボ
キシレ−ト〕、シクロプロスリン〔（ＲＳ）−α−シア
ノ−３−フェノキシベンジル （ＲＳ）−２，２−ジク
ロロ−１−（４−エトキシフェニル）シクロプロパンカ
ルボキシレ−ト〕、フルバリネ−ト〔α−シアノ−３−
フェノキシベンジル Ｎ−（２−クロロ−α，α，α−
トリフルオロ−ｐ−トリル）−Ｄ−バリネ−ト〕、ビフ
ェンスリン〔２−メチルビフェニル−３−イルメチル
（Ｚ）−（１ＲＳ）−cis−３−（２−クロロ−３，
３，３−トリフルオロプロプ−１−エニル）−２，２−
ジメチルシクロプロパンカルボキシラ−ト〕、アクリナ
スリン〔（１Ｒ−｛１α（Ｓ*），３α（Ｚ）｝〕−
２，２−ジメチル−３−〔３−オキソ−３−（２，２，
２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エトキ
シ−１−プロペニル〕シクロプロパンカルボン酸シアノ
（３−フェノキシフェノル）メチルエステル）〕、２−
メチル−２−（４−ブロモジフルオロメトキシフェニ
ル）プロピル（３−フェノキシベンジル）エ−テル、ト
ラロメスリン〔（Ｓ）−α−シアノ−３−フェノキシベ
ンジル （１Ｒ）−シス−３−（１，２，２，２−テト
ラブロモエチル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボキシレート〕、シラフルオフェン〔〔４−エトキシ
フェニル（３−（４−フルオロ−３−フェノキシフェニ
ル）プロピル）ジメチルシラン〕等のピレスロイド化合
物、ブプロフェジン（２−ｔ−ブチルイミノ−３−イソ
プロピル−５−フェニル−１，３，５−トリアジアジナ
ン−４−オン）等のチアジアジン誘導体、ニトロイミダ
ゾリジン誘導体、カルタップ（Ｓ，Ｓ’−（２−ジメチ
ルアミノトリメチレン）ビス（チオカ−バメ−ト）〕、
チオシクラム〔Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，２，３−トリチ
アン−５−イルアミン〕、ベンスルタップ〔Ｓ，Ｓ’−
２−ジメチルアミノトリメチレン ジ（ベンゼンチオサ
ルフォネ−ト）〕等のネライストキシン誘導体、Ｎ−シ
アノ−Ｎ’−メチル−Ｎ’−（６−クロロ−３−ピリジ
ルメチル）アセトアミジン等のＮ−シアノアミジン誘導
体、エンドスルファン〔６，７，８，９，１０，１０−
ヘキサクロロ−１，５，５ａ，６，９，９ａ−ヘキサヒ
ドロ−６，９−メタノ−２，４，３−ベンゾジオキサチ
エピンオキサイド〕、ｇａｍｍａ−ＢＨＣ（１，２，
３，４，５，６−ヘキサクロロシクロｎ−ヘキサン〕、
１，１−ビス（クロロフェニル）−２，２，２−トリク
ロロエタノ−ル等の塩素化炭化水素化合物、クロルフル
アズロン〔１−（３，５−ジクロロ−４−（３−クロロ
−５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキシ）
フェニル）−３−（２，６−ジフルオロベンゾイル）ウ
レア〕、テフルベンズロン〔１−（３，５−ジクロロ−
２，４−ジフルオロフェニル）−３−（２，６−ジフル
オロベンゾイル）ウレア〕、フルフェノクスロン〔１−
（４−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２−フルオロフェニル）−３−（２，６−ジフル
オロベンゾイル）ウレア〕等のベンゾイルフェニルウレ
ア系化合物、アミトラズ〔Ｎ，Ｎ’〔（メチルイミノ）
ジメチリジン〕ジ−２，４−キシリジン〕、クロルジメ
ホルム〔Ｎ’−（４−クロロ−２−メチルフェニル）−
Ｎ，Ｎ−ジメチルメタニミダミド〕等のホルムアミジン
誘導体、ジアフェンチウロン〔Ｎ−（２，６−ジイソプ
ロピル−４−フェノキシフェニル）−Ｎ’−ｔ−ブチル
カルボジイミド〕等のチオ尿素誘導体、フェニルピラゾ
−ル系化合物、テブフェノジド〔Ｎ−ｔ−ブチル−Ｎ’
−（４−エチルベンゾイル）−３，５−ジメチルベンゾ
ヒドラジド〕、４−ブロモ−２−（４−クロロフェニ
ル）−１−エトキシメチル−５−トリフルオロメチルピ
ロ−ル−３−カルボニトリル、ブロモプロピレ−ト〔イ
ソプロピル ４，４’−ジブロモベンジレ−ト〕、テト
ラジホン〔４−クロロフェニル ２，４，５−トリクロ
ロフェニルスルホン〕、キノメチオネ−ト〔Ｓ，Ｓ−６
−メチルキノキサリン−２，３−ジイルジチオカルボネ
−ト〕、プロパルゲイト〔２−（４−ｔ−ブチルフェノ
キシ）シクロヘキシル プロプ−２−イル スルファイ
ト〕、フェンブタティン オキシド〔ビス〔トリス（２
−メチル−２−フェニルプロピル）ティン〕オキシ
ド〕、ヘキシチアゾクス〔（４ＲＳ，５ＲＳ）−５−
（４−クロロフェニル）−Ｎ−クロロヘキシル−４−メ
チル−２−オキソ−１，３−チアゾリジン−３−カルボ
キサミド〕、クロフェンテジン〔３，６−ビス（２−ク
ロロフェニル）−１，２，４，５−テトラジン、ピリダ
チオベン〔２−ｔ−ブチル−５−（４−ｔ−ブチルベン
ジルチオ）−４−クロロピリダジン−３（２Ｈ）−オ
ン〕，フェンピロキシメ−ト〔ｔ−ブチル（Ｅ）−４−
〔（１，３−ジメチル−５−フェノキシピラゾ−ル−４
−イル）メチレンアミノオキシメチル〕ベンゾエ−
ト〕、テブフェンピラド〔Ｎ−４−ｔ−ブチルベンジ
ル）−４−クロロ−３−エチル−１−メチル−５−ピラ
ゾ−ルカルボキサミド〕、ポリナクチンコンプレックス
〔テトラナクチン、ジナクチン、トリナクチン〕、ミル
ベメクチン、アベルメクチン、イバ−メクチン、アザジ
ラクチン〔ＡＺＡＤ〕、ピリミジフェン〔５−クロロ−
Ｎ−〔２−｛４−（２−エトキシエチル）−２，３−ジ
メチルフェノキシ｝エチル〕−６−エチルピリミジン−
４−アミン、ピメトロジン〔２，３，４，５−テトラヒ
ドロ−３−オキソ−４−〔（ピリジン−３−イル）−メ
チレンアミノ〕−６−メチル−１，２，４−トリアジン
等があげられる。
【００３５】本発明化合物により防除することができる
植物病害としては例えば以下のような病害をあげること
ができる。イネのいもち病（Pyricularia oryzae）、ご
ま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病（Rhizoc
tonia solani）、ムギ類のうどんこ病（Erysiphe grami
nis)、赤かび病（Gibberella zeae)、さび病（Puccinia
striiformis， P. graminis, P. recondita, P. horde
i)、雪腐病（Typhula sp.,Micronectriella nivalis)、
裸黒穂病 (Ustilago tritici, U. nuda)、なまぐさ黒穂
病 (Tilletia caries)、眼紋病（Pseudocercosporella
herpotrichoides)、雲形病（Rhynchosporium secalis)
、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaer
ia nodorum)、カンキツ類の黒点病（Diaporthe citr
i)、そうか病（Elsinoe fawcetti) 、果実腐敗病 (Peni
cillium digitatum, P. italicum) 、リンゴのモニリア
病 (Sclerotinia mali) 、腐らん病 (Valsa mali) 、う
どんこ病（Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病（Al
ternaria mali)、黒星病（Venturia inaequalis)、ナシ
の黒星病（Venturia nashicola, V. pirina)、黒斑病
（Alternaria kikuchiana)、赤星病（Gymnosporangium
haraeanum)、モモの灰星病（Sclerotinia cinerea)、黒
星病（Cladosporium carpophilum) 、フォモプシス腐敗
病（Phomopsis sp.)、ブドウの黒とう病（Elsinoe ampe
lina) 、晩腐病（Glomerella cingulata) 、うどんこ病
（Uncinula necator) 、さび病 (Phakopsora ampelopsi
dis)、ブラックロット病（Guignardia bidwellii) 、べ
と病（Plasmopara viticola)、カキの炭そ病（Gloeospo
rium kaki)、落葉病 (Cercospora kaki, Mycosphaerell
a nawae)、ウリ類の炭そ病（Colletotrichum lagenariu
m)、うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea) 、つる枯病
(Mycosphaerella melonis) 、つる割病 (Fusarium oxy
sporum) 、べと病 (Pseudoperonospora cubensis) 、疫
病（Phytophthora sp.) 、苗立枯病 (Pythium sp.)、ト
マトの輪紋病（Alternaria solani)、葉かび病 (Clados
porium fulvum)、疫病（Phytophthora infestans) 、ナ
スの褐紋病（Phomopsis vexans) 、うどんこ病（Erysip
he cichoracearum) 、アブラナ科野菜の黒斑病（Altern
aria japonica)、白斑病（Cercosporella brassicae)、
ネギのさび病（Puccinia allii) 、ダイズの紫斑病（Ce
rcospora kikuchii)、黒とう病（Elsinoe glycines) 、
黒点病 (Diaporthe phaseolorum var. sojae) 、インゲ
ンの炭そ病（Colletotrichum lindemthianum) 、ラッカ
セイの黒渋病（Cercospora personata)、褐斑病（Cerco
spora arachidicola)、エンドウのうどんこ病（Erysiph
e pisi)、ジャガイモの夏疫病（Alternaria solani)、
疫病（Phytophthora infestans) 、イチゴのうどんこ病
（Sphaerotheca humuli)、チャの網もち病（Exobasidiu
m reticulatum)、白星病（Elsinoe leucospila) 、タバ
コの赤星病（Alternaria longipes)、うどんこ病（Erys
iphe cichoracearum) 、炭そ病（Colletotrichum tabac
um) 、べと病（Peronospora tabacina) 、疫病（Phytop
hthora nicotianae)、テンサイの褐斑病（Cercospora b
eticola)、バラの黒星病（Diplocarpon rosae)、うどん
こ病（Sphaerotheca pannosa) 、キクの褐班病(Septori
a chrysanthemi−indici) 、白さび病（Puccinia horia
na) 、種々の作物の灰色かび病（Botrytis cinerea) 、
菌核病（Sclerotinia sclerotiorum)等
【００３６】
【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等
によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例
のみに限定されるものではない。まず、本発明化合物の
製造例および本発明化合物の製造中間体の製造例を、製
造例、参考製造例および中間体製造例にて示す。尚、本
発明化合物の番号は後記表１〜表１７に記載の化合物番
号である。
【００３７】製造例１ ５−ホルミル−２−メチル−４−（２−メチル−５−フ
ェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，
４−トリアゾール−３−オン（参考製造例１または同様
の方法にて製造）０．５０g（１．６３mmol）をクロロ
ホルム４mlに加え、これにジエチルアミノ硫黄トリフル
オリド０．７９g（４．９１mmol）を氷冷下に加えた。
その後、室温で一晩攪拌を続けた。該反応液を５％の重
曹水で洗浄した後、有機層を乾燥（無水硫酸マグネシウ
ム）、濃縮し、融点７２．７℃の５−ジフルオロメチル
−２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベンジ
ル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ール−３−オン（本発明化合物１）０．５４g（１．６
３mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.15-7.55 (8H, m), 6.33 (1H, t), 5.04 (2
H, s), 3.54 (3H, s), 2.40 (3H, s).
【００３８】参考製造例１ （１） Ｎａ−Ｘ型ゼオライト乾燥粉末（東ソー株式会
社製のゼオラムtypeF-9;１００メッシュ以下）１０００
gを攪拌しながら、ここに空冷しながら２−メチルベン
ゾニトリル１１７g（９９８mmol）を滴下した。内温が
５０℃以下になった後、ここに臭素２１３g（１．３３m
ol）を滴下し、８０〜８５℃で１．５時間攪拌したの
ち、１５℃以下に冷却した。これを炭酸カリウム１００
g、水５００mlおよびメタノール２Lの混合物中に、１０
℃以下で注加した。０．５時間攪拌した後、これを濾過
した。ろ残のゼオライト粉末を９０％メタノール水
（２．２L×２回）で洗浄し、ろ液および洗浄液を合一
し、これを全液量が７００〜８００mlになるまで濃縮し
た。生じた白色結晶をろ過し、該結晶を水洗して、５−
ブロモ−２−メチルベンゾニトリル１６２g（８２６mmo
l）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.68 (1H, d), 7.59 (1H, dd), 7.20 (1H,
d), 2.50 (3H, s).
【００３９】（２） ５−ブロモ−２−メチルベンゾニ
トリル２７．４g（１４０mmol）、ジヒドロキシフェニ
ルボラン１９．５g（１６０mmol）、酢酸パラジウム
（ＩＩ）６２９mg（２．８mmol）、テトラブチルアンモ
ニウムブロミド４５．１g（１４０mmol）、炭酸カリウ
ム４８．４g（３５０mmol）および水２８０mlの混合物
を、窒素気流下に７５℃で１１時間攪拌した。この反応
液にクロロホルムを加え、水で洗浄し、乾燥（無水硫酸
マグネシウム）後、濃縮した。残さをメタノールから再
結晶化させ、２−メチル−５−フェニルベンゾニトリル
１９．９g（９９．９mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.35-7.78 (8H, m), 2.59 (3H, s).
【００４０】（３） 窒素雰囲気下、２−メチル−５−
フェニルベンゾニトリル１２６g（６５０mmol）を無水
トルエン７００mlに溶かした溶液に、−１０〜０℃にて
水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液７８０
ml（１．０Ｍ溶液；７８０mmol）を滴下し、室温で一晩
攪拌した。反応液に酢酸エチル２５mlを滴下し、これを
氷水２．５Lと濃塩酸２７０mlの混合物中に注加した。
７０〜７５℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却し、分
液した。有機層を水、飽和重曹水、次いで水で洗浄し、
２−メチル−５−フェニルベンズアルデヒド１２３gを
得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：10.36 (1H, s), 7.30-8.08 (8H, m), 2.72 (3
H, s).
【００４１】（４） ２−メチル−５−フェニルベンズ
アルデヒド１２３g（６２５mmol）をテトラヒドロフラ
ン１．１Lと水１１０mlとの混合液に溶かした溶液に、
水素化ホウ素ナトリウム７．７g（２０３mmol）を０．
１％水酸化ナトリウム水溶液７０mlに溶かした溶液を、
１５〜２０℃で滴下した。滴下終了後、１５〜２０℃で
４時間攪拌した。該反応液に氷酢酸１０gを２０℃以下
で滴下し、これを氷水に注加した。ｔ−ブチルメチルエ
ーテルで抽出し、該有機層を水、飽和重曹水、次いで飽
和食塩水で洗浄し、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、
濃縮し、２−メチル−５−フェニルベンジルアルコール
１２１gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.20-7.65 (8H, m), 4.74 (2H, s), 2.38 (3
H, s), 1.71 (1H, br).
【００４２】（５） ２−メチル−５−フェニルベンジ
ルアルコール１４．９g（７５．０mmol）を無水ジエチ
ルエーテル１００mlに溶かした溶液に、氷冷下、三臭化
リン８．１２g（３０．０mmol）を滴下した。氷冷下、
さらに３時間攪拌した後、反応液に氷水およびｔ-ブチ
ルメチルエーテルを加え、３０分間攪拌した後、分液し
た。有機層を約５％の重曹水および水で順次洗浄し、乾
燥（無水硫酸マグネシウム）後、濃縮し、２−メチル−
５−フェニルベンジルブロミド１９．２g（７３．７mmo
l）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.20-7.65 (8H, m), 4.57 (2H, s), 2.45 (3
H, s).
【００４３】（６） ２−メチル−５−フェニルベンジ
ルブロミド７．８３g（３０mmol）を無水テトラヒドロ
フラン９０mlに溶かし、これにシアン酸銀５．８４g
（３９mmol）を加え、２時間加熱還流した。反応液を濾
過し、ろ液を濃縮し、粗２−メチル−５−フェニルベン
ジルイソシアネート７．１１gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.25-7.65 (8H, m), 4.53 (2H, s), 2.37 (3
H, s).
【００４４】（７） 粗２−メチル−５−フェニルベン
ジルイソシアネート１４．９gをトルエン５０mlに加え
た懸濁液に、２−ヒドロキシアセトヒドラジド６．０１
g（６６．７mmol）を加え、６０℃で１時間攪拌した。
室温まで放冷した後、反応液を濃縮し、残さをエタノー
ルから再結晶化させ、１−ヒドロキシアセチル−４−
（２−メチル−５−フェニルベンジル）セミカルバジド
１３．８g（４４．０mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ(ppm)：9.47 (1H, br), 7.10-7.90 (8H, m ), 6.83
(1H, br), 5.32 (1H, br), 4.26 (2H, d), 3.91 (2H,
d), 2.29 (3H, s).
【００４５】（８） １−ヒドロキシアセチル−４−
（２−メチル−５−フェニルベンジル）セミカルバジド
１３．８g（４４．０mmol）を２％水酸化カリウム水溶
液１００mlに加え、９０℃で２時間攪拌した。室温まで
放冷した後、反応液を酢酸エチルで抽出し、有機層を水
洗し、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、濃縮した。残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル
で溶出）に付し、５−ヒドロキシメチル−４−（２−メ
チル−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン１２．０g
（４０．６mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.15-7.60 (8H, m), 5.17 (1H, t), 5.02 (2
H, s), 4.28 (2H, d), 2.40 (3H, s).
【００４６】（９） ５−ヒドロキシメチル−４−（２
−メチル−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ
−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン６．２９
g（２１．３mmol）、炭酸カリウム３．５３g（２５．６
mmol）および沃化メチル３．６３g（２５．６mmol）を
無水N,N-ジメチルホルムアミド３８ml中で、６０℃にて
４時間攪拌した。反応液に５％塩酸水溶液２００mlを加
え、これを酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、５％
の重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水硫酸
マグネシウム）後、濃縮した。残さをシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：
１次いで酢酸エチルで溶出）に付し、５−ヒドロキシメ
チル−２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベ
ンジル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−３−オン６．５２g（２１．２mmol）を得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.20-7.65 (8H, m), 5.00 (2H, s), 4.29 (2
H, d), 3.48 (3H, s), 2.37 (3H, s).
【００４７】（１０） ５−ヒドロキシメチル−２−メ
チル−４−（２−メチル−５−フェニルベンジル）−
２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−オン６．５２g（２１．２mmol）および活性二酸化
マンガン１４gをクロロホルム６３ml中で、窒素雰囲気
下、加熱還流条件にて６時間攪拌した。反応液をセライ
トろ過し、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１
で溶出）に付し、５−ホルミル−２−メチル−４−（２
−メチル−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ
−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン４．３２
g（１４．１mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：9.49 (1H, s), 7.10-7.52 (8H, m), 5.25 (2
H, s), 3.63 (3H, s), 2.47 (3H, s).
【００４８】製造例２ ４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−ホルミ
ル−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４
−トリアゾール−３−オン（参考製造例２または同様の
方法にて製造）５．０４g（１６．２mmol）をクロロホ
ルム４０mlに溶かし、これにジエチルアミノ硫黄トリフ
ルオリド７．８g（４８．４mmol）を氷冷下に加えた。
その後、室温で一晩攪拌を続行した。該反応液を５％の
重曹水で洗浄した後、有機層を乾燥（無水硫酸マグネシ
ウム）、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２で溶出）
に付し、融点１０７．６℃の４−（５−ブロモ−２−メ
チルベンジル）−５−ジフルオロメチル−２−メチル−
２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−オン（本発明化合物４０）５．０４g（１５．２mmo
l）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.32 (1H, dd), 7.06 (1H, brs), 7.05 (1H,
d), 6.36 (1H, t), 4.94(2H, s), 3.55 (3H, s), 2.32
(3H, s).
【００４９】参考製造例２ （１） 窒素雰囲気下、５−ブロモ−２−メチルベンゾ
ニトリル（参考製造例１の（１）または同様の方法にて
製造）８１．７g（４１７mmol）を無水トルエン５００m
lに溶かした溶液に、−１０〜０℃において水素化ジイ
ソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１．０Ｍ溶液）
５００ml（５００mmol）を滴下したのち、室温で一晩攪
拌した。反応液に酢酸エチル１５mlを滴下し、これを氷
水２Ｌと濃塩酸１７０mlの混合物に注加した。７０〜７
５℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却し、分液した。
有機層を水、飽和重曹水次いで水で洗浄し、５−ブロモ
−２−メチルベンズアルデヒド８０．４gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：10.2 (1H, s), 7.91 (1H, d), 7.58 (1H, d
d), 7.15 (1H, d), 2.62 (3H, s).
【００５０】（２） ５−ブロモ−２−メチルベンズア
ルデヒド１６１．２g（８１０mmol）をテトラヒドロフ
ラン１．５Lと水１５０mlに溶かした溶液に、水素化ホ
ウ素ナトリウム１０．０g（２６４mmol）を０．１％水
酸化ナトリウム水溶液１００mlに溶かした溶液を、１５
〜２０℃で滴下した。滴下終了後、１５〜２０℃で４時
間攪拌した。該反応液に氷酢酸１２．０gを２０℃以下
で滴下し、次いでこれを氷水に注加した。ｔ−ブチルメ
チルエーテルで抽出し、該有機層を水、飽和重曹水（２
回）、次いで飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水硫酸マグ
ネシウム）後、濃縮し、５−ブロモ−２−メチルベンジ
ルアルコール１６８gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.50 (1H, d), 7.30 (1H, dd), 7.00 (1H,
d), 4.62 (2H, d), 2.25 (3H, s), 2.08 (1H, t).
【００５１】（３） ５−ブロモ−２−メチルベンジル
アルコール２４．４g（１２１mmol）を無水ジエチルエ
ーテル２００mlに溶かした溶液に、氷冷下、三臭化リン
１６．４g（６０．７mmol）を滴下した。氷冷下、さら
に３時間攪拌した後、反応液を氷水に注加し、分液し
た。有機層を水、飽和重曹水および食塩水で順次洗浄
し、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、濃縮し、茶色固
体の５−ブロモ−２−メチルベンジルブロミド２９．１
g（１１０mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.44 (1H, d), 7.33 (1H, dd), 7.05 (1H,
d), 4.43 (2H, s), 2.35 (3H, s).
【００５２】（４） ５−ブロモ−２−メチルベンジル
ブロミド２３．４g（８８．８mmol）を無水テトラヒド
ロフラン１００mlに溶かし、これにシアン酸銀１６．０
g（１０６mmol）を加え、２時間加熱還流した。反応液
を濾過し、ろ液を濃縮し、粗５−ブロモ−２−メチルベ
ンジルイソシアネートを得た。これにトルエン１００ml
と２−ヒドロキシアセトヒドラジド８．０ｇ（８８．８
mmol）を加え、６０℃で２時間攪拌した。室温まで放冷
の後、反応液を濃縮し、残さをエタノールから再結晶化
させ、４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−１−
ヒドロキシアセチルセミカルバジド１８．１ｇ（５７．
２mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ(ppm)：9.46 (1H, br), 7.85 (1H, br), 7.02-7.65
(3H, m), 6.85 (1H, br),5.30 (1H, br), 4.16 (2H,
d), 3.90 (2H, d), 2.20 (3H, s).
【００５３】（５） ４−（５−ブロモ−２−メチルベ
ンジル）−１−ヒドロキシアセチルセミカルバジド１
８．０g（５６．９mmol）を２％水酸化カリウム水溶液
１７０mlに加え、９０℃で２時間攪拌した。室温まで放
冷の後、塩酸を用いて溶液を酸性とすると白色の固体が
得られた。固体をろ過した後ろ液を酢酸エチルで抽出
し、有機層を水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後濃
縮し、白色固体を得た。ろ過した固体と合わせて減圧乾
燥し、４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−
ヒドロキシメチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，
４−トリアゾール−３−オン１２．３g（４１．２mmo
l）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ(ppm)：7.34 (1H, dd), 7.16 (1H, d), 6.95 (1H,
d), 5.53 (1H, br), 4.81(2H, s), 4.20 (2H, br), 2.2
7 (3H, s).
【００５４】（６） ４−（５−ブロモ−２−メチルベ
ンジル）−５−ヒドロキシメチル−２，４−ジヒドロ−
３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン７．１６g
（２４．０mmol）、炭酸カリウム３．９８g（２８．８m
mol）および沃化メチル４．０９g（２８．８mmol）を無
水N,N-ジメチルホルムアミド４５ml中で６０℃にて４時
間攪拌した。反応液に５％塩酸水溶液３００mlを加え、
これを酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、５％の重
曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水硫酸マグ
ネシウム）後、濃縮し、白色固体の４−（５−ブロモ−
２−メチルベンジル）−５−ヒドロキシメチル−２−メ
チル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ール−３−オン７．４６g（２３．９mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.33 (1H, dd), 7.11 (1H, d), 7.05 (1H,
d), 4.91 (2H, s), 4.32 (2H, s), 3.49 (3H, s), 2.62
(1H, br), 2.29 (3H, s).
【００５５】（７） ４−（５−ブロモ−２−メチルベ
ンジル）−５−ヒドロキシメチル−２−メチル−２，４
−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オ
ン７．４６g（２３．９mmol）および活性二酸化マンガ
ン１５．８gをクロロホルム７１ml中、窒素雰囲気下に
て加熱還流下３時間攪拌した。反応液をセライトろ過
し、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２で溶
出）に付し、融点１０７．５℃の４−（５−ブロモ−２
−メチルベンジル）−５−ホルミル−２−メチル−２，
４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−
オン５．０４g（１６．３mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：9.49 (1H, s), 7.28 (1H, dd), 7.04 (1H,
d), 6.97 (1H, d), 5.15 (2H, s), 3.66 (3H, s), 2.38
(3H, s).
【００５６】製造例３ ４−メチルフェニルボロン酸０．１６g(１．１８mmo
l)、４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−ジ
フルオロメチル−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ
−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物
４０；製造例２または同様の方法にて製造）３５５mg
(１．０７mmol)、パラジウムアセテート２mg(０．００
８mmol)、炭酸カリウム０．３７ｇ(２．６８mmol)およ
びテトラブチルアンモニウムブロミド０．３４g（１．
０７mmol）を水５mlに懸濁させ、窒素気流下、激しく攪
拌させた後、窒素雰囲気下、７５℃（バス温）で１時間
反応させた。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出
し、有機層を乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、濃縮し
た。残さ（０．３９g）をシリカゲル薄層クロマトグラ
フィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１で展開）に付
し、オイル状の４−｛２−メチル−５−（４−メチルフ
ェニル）ベンジル｝−５−ジフルオロメチル−２−メチ
ル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−オン(本発明化合物４)０．３３gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.1-7.5 (7H, m), 6.32 (1H, t) 5.03 (2H,
s), 3.53 (3H, s), 2.39(3H, s), 2.38 (3H, s).
【００５７】製造例４ ２−フルオロフェニルボロン酸１７５mg（１．２９mmo
l）、４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−
ジフルオロメチル−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合
物４０；製造例２または同様の方法にて製造）２８５mg
（０．８５９mmol）、燐酸三カリウムｎ水和物１．０６
gおよび［１,１'―ビス（ジフェニルフォスフォノ）フ
ェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン錯
体３５mg（０．０４３mmol）を１,２−ジメトキシエタ
ン１０mlに懸濁させ、窒素雰囲気下、２時間加熱還流下
に攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えてセライト
濾過した後、濃縮した。残さ（０．４３g）をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝
４：１で展開）に付し、オイル状の５−ジフルオロメチ
ル−４−｛５−（２−フルオロフェニル）−２−メチル
ベンジル｝−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン(本発明化合物１
８)０．２９gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.05-7.45 (7H, m), 6.34 (1H, t), 5.03 (2
H, s), 3.54 (3H, s), 2.40 (3H, s).
【００５８】製造例５ ３−フルオロフェニルボロン酸１７５mg（１．２９mmo
l）、４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−
ジフルオロメチル−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合
物４０；製造例２または同様の方法にて製造）２８５mg
（０．８５９mmol）、燐酸三カリウムn水和物１．０６g
および［１,１'―ビス（ジフェニルフォスフォノ）フェ
ロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン錯体
３５mg（０．０４３mmol）を１,２−ジメトキシエタン
１０mlに懸濁させ、窒素雰囲気下、２時間加熱還流下に
攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えてセライト濾
過した後、濃縮した。残さ（０．４３g）をシリカゲル
薄層クロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝４：
１で展開）に付し、オイル状の５−ジフルオロメチル−
４−｛５−（３−フルオロフェニル）−２−メチルベン
ジル｝−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，
２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物１９）
０．２８gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.15-7.45 (6H, m), 7.00 (1H, dt), 6.36 (1
H, t), 5.04 (2H, s), 3.55 (3H, s), 2.41 (3H, s).
【００５９】製造例６ ４−フルオロフェニルボロン酸１７５mg（１．２９mmo
l）、４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−
ジフルオロメチル−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合
物４０；製造例２または同様の方法にて製造）２８５mg
（０．８５９mmol）、燐酸三カリウムn水和物１．０６g
および［１,１'−ビス（ジフェニルフォスフォノ）フェ
ロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン錯体
３５mg（０．０４３mmol）を１,２−ジメトキシエタン
１０mlに懸濁させ、窒素雰囲気下、２時間加熱還流下に
攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えてセライト濾
過した後、濃縮した。残さ（０．４３g）をシリカゲル
薄層クロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝４：
１で展開）に付し、オイル状の５−ジフルオロメチル−
４−｛５−（４−フルオロフェニル）−２−メチルベン
ジル｝−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，
２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物２０)
０．２９gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.05-7.5 (7H, m), 6.36 (1H, t), 5.03 (2H,
s), 3.54 (3H, s), 2.40 (3H, s).
【００６０】製造例７ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）２００mg（０．
５２７mmol）、２−クロロ−６−トリフルオロメチルピ
リジン１２４mg（０．６８３mmol）、燐酸三カリウム水
和物５６０mg（２．６４mmol）、｛１，１’−ビス（ジ
フェニルフォスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウ
ム（ＩＩ）塩化メチレン錯体２２mg（０．０２７mmo
l）、およびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル３．
０mlを混合後、８０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷
却後、酢酸エチルを加え、セライトをプレコートしたグ
ラスフィルターで濾過した。該ろ液を減圧下において溶
媒を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィー{ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１（メタノール
１％添加）で展開}に付し、淡黄色粉状固体の５−ジフ
ルオロメチル−２−メチル−４−｛２−メチル−５−
（６−トリフルオロメチル−２−ピリジル）ベンジル｝
−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール
−３−オン（本発明化合物３２９）１８３mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.8-7.9 (3H, m), 7.72 (1H, s), 7.56 (1H,
d), 7.42 (1H, d), 6.36 (1H, t), 5.06 (2H, s), 3.5
5 (3H, s), 2.44 (3H, s).
【００６１】参考製造例３ ４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−ジフル
オロメチル−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物４
０；製造例２または同様の方法にて製造）１．００g
（３．０１mmol）、ビス（ピナコレート）ジボロン０．
９９g（３．９０mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニ
ルフォスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（Ｉ
Ｉ）塩化メチレン錯体０．１２g（０．１５mmol）、酢
酸カリウム０．８９g（９．０７mmol）およびジメチル
スルホキサイド２０mlを混合後、８０℃にて８時間攪拌
した。混合物を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチル
で抽出した。該有機層を水洗、飽和食塩水洗浄、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）した後、少量のｎ−ヘキサン
を添加し０℃で３日間放置した。析出した結晶を粉砕
後、濾別しｎ−ヘキサンで洗浄して、褐色粉状固体の５
−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル−
５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジ
オキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒド
ロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン１．１
２gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.66 (1H, d), 7.45 (1H, s), 7.19 (1H, d),
6.21 (1H, t), 4.98 (2H, s), 3.55 (3H, s), 2.34 (3
H, s), 1.31 (12H, s).
【００６２】製造例８ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）２００mg（０．
５２７mmol）、２−クロロ−６−メトキシピリジン９８
mg（０．６８３mmol）、燐酸三カリウム水和物５６０mg
（２．６４mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォ
スフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩
化メチレン錯体２２mg（０．０２７mmol）、およびエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル３．０mlを混合後、８
０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチル
を加え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで
濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣
をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展
開}に付し、淡黄色液体の５−ジフルオロメチル−２−
メチル−４−｛２−メチル−５−（６−メトキシ−２−
ピリジル）ベンジル｝−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，
２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物１２
０）１７０mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.90 (1H, dd), 7.77 (1H, s), 7.58 (1H,
t), 7.2-7.3 (2H, m), 6.65 (1H, d), 6.35 (1H, t),
5.05 (2H, s), 3.98 (3H, s), 3.54 (3H, s), 2.42 (3
H, s).
【００６３】製造例９ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）２００mg（０．
５２７mmol）、３−ブロモ−チオフェン１１２mg（０．
６８７mmol）、燐酸三カリウム水和物５６０mg（２．６
４mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィ
ノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチ
レン錯体２２mg（０．０２７mmol）、およびエチレング
リコ−ルジメチルエ−テル３．０mlを混合後、８０℃に
て２時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチルを加
え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで濾過
した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展開}に
付し、白色粉状固体の５−ジフルオロメチル−２−メチ
ル−４−｛２−メチル−５−（３−チエニル）ベンジ
ル｝−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ール−３−オン（本発明化合物１０５）１４６mgを得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.42 (1H, dd), 7.2-7.4 (5H, m), 6.33 (1
H, t), 5.02 (2H, s), 3.55 (3H, s), 2.38 (3H, s).
【００６４】製造例１０ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）２００mg（０．
５２７mmol）、２−ブロモ−ｃｉｓ−２−ブテン１０７
mg（０．７９３mmol）、燐酸三カリウム水和物５６０mg
（２．６４mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォ
スフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩
化メチレン錯体２２mg（０．０２７mmol）、およびエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル３．０mlを混合後、７
０℃にて２時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチル
を加え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで
濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣
をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展
開}に付し、淡黄色粉状固体の５−ジフルオロメチル−
２−メチル−４−｛２−メチル−５−（（Ｅ）−１−メ
チル−１−プロペニル）ベンジル｝−２,４−ジヒドロ
−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明
化合物４７）１２３mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.19-7.21 (1H, m), 7.10 (1H, d), 7.00 (1
H, s), 6.27 (1H, t), 5.72-7.78 (1H, m), 4.97 (2H,
s), 3.54 (3H, s), 2.33 (3H, s), 1.95 (3H, s),1.76
(3H, d).
【００６５】製造例１１ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）２００mg（０．
５２７mmol）、２−ブロモ−４−メチルピリミジン１１
７mg（０．６７６mmol）、燐酸三カリウム水和物５６０
mg（２．６４mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフ
ォスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）
塩化メチレン錯体２２mg（０．０２７mmol）、およびエ
チレングリコ−ルジメチルエ−テル３．０mlを混合後、
８０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチ
ルを加え、セライトをプレコートしたグラスフィルター
で濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残
渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展
開}に付し、淡黄色固体の５−ジフルオロメチル−２−
メチル−４−｛２−メチル−５−（４−メチル−２−ピ
リミジニル）ベンジル｝−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物３
４３）１４４mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：8.59 (1H, d), 8.30 (1H, dd), 8.16 (1H,
s), 7.30 (1H, d), 7.01(1H, d), 6.29 (1H, t), 5.06
(2H, s), 3.56 (3H, s), 2.55 (3H, s), 2.41 (3H, s).
【００６６】製造例１２ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）２００mg（０．
５２７mmol）、２−ヨウド−チオフェン１５６mg（０．
７４３mmol）、燐酸三カリウム水和物５６０mg（２．６
４mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィ
ノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチ
レン錯体２２mg（０．０２７mmol）、およびエチレング
リコ−ルジメチルエ−テル３．０mlを混合後、８０℃に
て２時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチルを加
え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで濾過
した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展開}に
付し、白色粉状固体の５−ジフルオロメチル−２−メチ
ル−４−｛２−メチル−５−（２−チエニル）ベンジ
ル｝−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ール−３−オン（本発明化合物１０４）１４９mgを得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.44 (1H, dd), 7.2-7.3 (4H, m), 7.03-7.06
(1H, m), 6.34 (1H, t), 5.01 (2H, s), 3.55 (3H,
s), 2.38 (3H, s).
【００６７】製造例１３ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）２００mg（０．
５２７mmol）、２−ブロモ−チアゾール１１２mg（０．
６８３mmol）、燐酸三カリウム水和物５６０mg（２．６
４mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィ
ノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチ
レン錯体２２mg（０．０２７mmol）、およびエチレング
リコ−ルジメチルエ−テル３．０mlを混合後、８０℃に
て２時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチルを加
え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで濾過
した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展開}に
付し、淡黄色の５−ジフルオロメチル−２−メチル−４
−｛２−メチル−５−（２−チアゾリル）ベンジル｝−
２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−オン（本発明化合物１１３）１２０mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.78-7.83 (2H, m), 7.63 (1H, s), 7.25-7.2
9 (2H, m), 6.35 (1H, t), 5.03 (2H, s), 3.56 (3H,
s), 2.41 (3H, s).
【００６８】製造例１４ ４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−ジフル
オロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物４
０）３３２mg（１．００mmol）、３−エチル−３−メト
キシ−１−ペンチン３７８mg（３．００mmol）、ＰｄＣ
ｌ2（ＰＰｈ3）2１４mg（０．０２０mmol）、よう化銅
（Ｉ）９．５mg（０．０５０mmol）、トリフェニルホス
フィン１５．７mg（０．０６０mmol）およびトリエチル
アミン０．５mlをアセトニトリル４．０mlに加えた後、
窒素雰囲気下、５時間加熱還流した。室温まで冷却後、
ｔ−ブチルメチルエーテルで希釈、水洗、乾燥（無水硫
酸マグネシウム）した後、減圧下において濃縮した。残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１で溶出）に付し、５−ジフルオ
ロメチル−４−{５−（３−エチル−３−メトキシ−１
−ペンチニル）−２−メチルベンジル}−２−メチル−
２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−オン（本発明化合物２７７）３１９mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.28(1H, d), 7.12 (1H, d), 7.02 (1H, s),
6.34 (1H, t), 4.95 (2H, s), 3.56 (3H, s), 3.36 (3
H, s), 2.36 (3H, s), 1.75 (4H, q), 0.97 (6H,t).
【００６９】製造例１５ ４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−ジフル
オロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物４
０）３３２mg（１．０mmol）、３，３−ジメチル−１−
ブチン３３２mg（１．０mmol）、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）
2１４mg（０．０２０mmol）、よう化銅（Ｉ）９．５mg
（０．０５０mmol）、トリフェニルホスフィン１５．７
mg（０．０６０mmol）およびトリエチルアミン０．５ml
をアセトニトリル４．０mlに加えた後、窒素雰囲気下、
４０℃において８時間加熱した。室温まで冷却後、ｔ−
ブチルメチルエーテルで希釈、水洗、乾燥（無水硫酸マ
グネシウム）した後、減圧下において濃縮した。残さを
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝２：１で溶出）、続いてシリカゲル分取薄
層クロマトグラフィー（ ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１で４回展開）に付し、５−ジフルオロメチル−４
−{５−（３，３−ジメチル−１−ブチニル）−２−メ
チルベンジル}−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ
−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物
２９４）４０mg（０．１３mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.22 (1H, d), 7.08 (1H, d), 6.97 (1H, s),
6.31 (1H, t), 4.93 (2H, s), 3.56 (3H, s), 2.33 (3
H, s), 1.29 (9H, s).
【００７０】製造例１６ ４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−ジフル
オロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物４
０）６６４mg（２．０mmol）、２−メチル−３−ブチン
−２−オール１．００g（１１．９mmol）、ＰｄＣｌ
2（ＰＰｈ3）2７０．２mg（０．１０mmol）、よう化銅
５７．１mg（０．３０mmol）、トリフェニルホスフィン
７８．７mg(０．３０mmol)およびトリエチルアミン１．
０mlおよびアセトニトリル１０mlを混合後、窒素雰囲気
下、５時間加熱還流した。室温まで冷却後、ｔ−ブチル
メチルエーテルで希釈、セライトろ過した後、減圧下に
おいて濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１で溶出）に
付し、５−ジフルオロメチル−４−{５−（３−ヒドロ
キシル−３−メチル−１−ブチニル）−２−メチルベン
ジル}−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，
２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物２９
０）４００mgを得た。
【００７１】製造例１７ ５−ジフルオロメチル−４−{５−（３−ヒドロキシル
−３−メチル−１−ブチニル）−２−メチルベンジル}
−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−オン（本発明化合物２９０） ４０
０mg （１．１９mmol）にピリジン３．０mlを加えた
後、さらに無水酢酸２８６mg（２．８mmol）およびＮ，
Ｎ−ジメチルアニリン１２．２mg（０．１０mmol）を加
えた。この溶液を８０℃（油浴温度）において７時間加
熱した。室温まで冷却後、希塩酸−氷に注加した。酢酸
エチルで抽出（２回）し、該有機層を水次いで飽和食塩
水で洗浄し、乾燥（硫酸マグネシウム）した後、減圧下
において濃縮した。残さにｎ−ヘキサンを加えて攪拌し
た後、ろ過し、４−{５−（３−アセトキシ−３−メチ
ル−１−ブチニル）−２−メチルベンジル}−５−ジフ
ルオロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物３
０６）２９５mg（０．７８mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.27 (1H, d), 7.12 (1H, d), 7.03 (1H, s),
6.32 (1H, t), 4.94 (2H, s), 3.57 (3H, s), 2.36 (3
H, s), 2.07 (3H, s), 1.53).
【００７２】製造例１８ ４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−ジフル
オロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物４
０）４９８mg（１．５mmol）、３−メチル−３−メトキ
シ−１−ブチン３７８mg（１．２mmol）、ＰｄＣｌ
2（ＰＰｈ3）2２１．１mg（０．０３０mmol）、よう化
銅１９．０mg（０．０５０mmol）、トリフェニルホスフ
ィン３９．３mg（０．１５mmol）およびトリエチルアミ
ン６０７mgおよびアセトニトリル６．０mlを混合後、窒
素雰囲気下、４．５時間加熱還流した。室温まで冷却
後、ｔ−ブチルメチルエーテルで希釈、セライトろ過し
た後、減圧下において濃縮した。残さをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１で溶出）に付し、５−ジフルオロメチル−２−メ
チル−４−{２−メチル−５−（３−メチル−３−メト
キシ−１−ブチニル）ベンジル}−２，４−ジヒドロ−
３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化
合物３２６）３６０ｍｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.27 (1H, d), 7.12 (1H, d), 7.01 (1H, s),
6.33 (1H, t), 4.95 (2H, s),3.40 (3H, s), 2.36 (3
H, s), 1.52 (6H, s).
【００７３】製造例１９ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）１５０mg（０．
３９６mmol）、２−ブロモ−６−メチルピリジン８９mg
（０．５１７mmol）、燐酸三カリウム水和物４２０mg
（１．９８mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォ
スフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩
化メチレン錯体１６mg（０．０２０mmol）、およびエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル２．０mlを混合後、８
０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチル
を加え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで
濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣
をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展
開}に付し、５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−
｛２−メチル−５−（６−メチル−２−ピリジル）ベン
ジル｝−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−オン（本発明化合物１１７）１１５mgを得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.84 (1H, d), 7.57-7.34 (2H, m), 7.41 (1
H, d), 7.26-7.29 (1H,m), 7.06 (1H, d), 6.30 (1H,
t), 5.05 (2H, s), 3.55 (3H, s), 2.59 (3H, s), 2.50
(3H, s).
【００７４】製造例２０ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）１５０mg（０．
３９６mmol）、２，６−ジクロロピリジン８８mg（０．
５９５mmol）、燐酸三カリウム水和物４２０mg（１．９
８mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィ
ノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチ
レン錯体１６mg（０．０２０mmol）、およびエチレング
リコ−ルジメチルエ−テル２．０mlを混合後、８０℃に
て３時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチルを加
え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで濾過
した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展開}に
付し、４−｛５−（６−クロロ−２−ピリジル）−２−
メチルベンジル｝−５−ジフルオロメチル−２−メチル
−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール
−３−オン（本発明化合物１１８）１０３mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.89 (1H, dd), 7.64-7.70(2H, m), 7.54 (1
H, dd), 7.21-7.31 (2H,m), 6.33 (1H, t), 5.05 (2H,
s), 3.56 (3H, t), 2.42 (3H, s).
【００７５】製造例２１ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）１５０mg（０．
３９６mmol）、２−クロロ−４−トリフルオロメチルピ
リミジン９４mg（０．５１５mmol）、燐酸三カリウム水
和物４２０mg（１．９８mmol）、｛１，１’−ビス（ジ
フェニルフォスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウ
ム（ＩＩ）塩化メチレン錯体１６mg（０．０２０mmo
l）、およびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル２．
０mlを混合後、８０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷
却後、酢酸エチルを加え、セライトをプレコートしたグ
ラスフィルターで濾過した。該ろ液を減圧下において溶
媒を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィー{ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１（メタノール
１％添加）で展開}に付し、５−ジフルオロメチル−２
−メチル−４−｛２−メチル−５−（４−トリフルオロ
メチル−２−ピリミジニル）ベンジル｝−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本
発明化合物３４５）１３２mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 8.99 (1H, d), 8.36 (1H, dd), 8.14 (1H,
s), 7.46 (1H, d), 7.34(1H, d), 6.35 (1H, t), 5.07
(2H, s), 3.57 (3H, s), 2.25 (3H, s).
【００７６】製造例２２ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）１５０mg（０．
３９６mmol）、３−ブロモ−ベンゾトリフルオリド１１
６mg（０．５１６mmol）、燐酸三カリウム水和物４２０
mg（１．９８mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフ
ォスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）
塩化メチレン錯体１６mg（０．０２０mmol）、およびエ
チレングリコ−ルジメチルエ−テル２．０mlを混合後、
８０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチ
ルを加え、セライトをプレコートしたグラスフィルター
で濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残
渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展
開}に付し、５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−
｛２−メチル−５−（３−トリフルオロメチル−フェニ
ル）ベンジル｝−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４
−トリアゾール−３−オン（本発明化合物２４）１２６
mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.73 (1H, s), 7.65-7.67 (1H, m), 7.49-7.
59 (2H, m), 7.43 (1H,dd), 7.27-7.30 (1H, m), 7.19
(1H, s), 6.36 (1H, t), 5.05 (2H, s), 3.55 (3H, s),
2.42 (3H, s).
【００７７】製造例２３ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）１５０mg（０．
３９６mmol）、３−ブロモ−クロロベンゼン１１４mg
（０．５９５mmol）、燐酸三カリウム水和物４２０mg
（１．９８mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォ
スフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩
化メチレン錯体１６mg（０．０２０mmol）、およびエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル２．０mlを混合後、８
０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチル
を加え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで
濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣
をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展
開}に付し、４−｛５−（３−クロロフェニル）−２−
メチルベンジル｝−５−ジフルオロメチル−２−メチル
−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール
−３−オン（本発明化合物６）１１８mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.47 (1H, s), 7.25-7.41 (5H, m), 7.15 (1
H, s), 6.35 (1H, t), 5.04 (2H, s), 3.55 (3H, s),
2.41 (3H, s).
【００７８】製造例２４ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）１５０mg（０．
３９６mmol）、３−ブロモ−トルエン１０１mg（０．５
９１mmol）、燐酸三カリウム水和物４２０mg（１．９８
mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィノ）
フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン
錯体１６mg（０．０２０mmol）、およびエチレングリコ
−ルジメチルエ−テル２．０mlを混合後、８０℃にて３
時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチルを加え、セ
ライトをプレコートしたグラスフィルターで濾過した。
該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝１：１（メタノール１％添加）で展開}に付し、
５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−｛２−メチル
−５−（３−メチルフェニル）ベンジル｝−２,４−ジ
ヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン
（本発明化合物３）１０６mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.41 (1H, dd), 7.23-7.33 (4H, m), 7.13-
7.18 (2H, m), 6.32 (1H,t), 5.04 (2H, s), 3.54 (3H,
s), 2.40 (2H, s).
【００７９】製造例２５ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−{２−メチル
−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−
ジオキソボロラン−２−イル）ベンジル}−２,４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（参
考製造例３または同様の方法にて製造）１５０mg（０．
３９６mmol）、４−ブロモ−クロロベンゼン１１４mg
（０．５９６mmol）、燐酸三カリウム水和物４２０mg
（１．９８mmol）、｛１，１’−ビス（ジフェニルフォ
スフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩
化メチレン錯体１６mg（０．０２０mmol）、およびエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル２．０mlを混合後、８
０℃にて３時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸エチル
を加え、セライトをプレコートしたグラスフィルターで
濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、残渣
をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１（メタノール１％添加）で展
開}に付し、淡黄色液体の４−｛５−（４−クロロフェ
ニル）−２−メチルベンジル｝−５−ジフルオロメチル
−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−オン（本発明化合物７）１２０mgを
得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 7.35-7.43 (5H, m), 7.24-7.27 (1H, m), 7.
15 (1H, s), 6.35 (1H,t), 5.04 (2H, s), 3.54 (3H,
s), 2.40 (1H, s).
【００８０】製造例２６ ２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベンジ
ル）セミカルバジド（中間体製造例４または同様の方法
にて製造）３００mg（１．１１mmol）をメタノール２ml
に溶かした溶液に、窒素雰囲気下にてジフルオロ酢酸エ
チル１８０ml（１．４５mmol）と２８％ナトリウムメト
キシドメタノール溶液０．２３ml（１．１１mmol）を加
えた。該混合溶液を加熱還流下９時間攪拌し、室温まで
冷却した後、該反応溶液に水２０mlを加え、次いで２Ｎ
塩酸を用いてｐＨ１にし、酢酸エチルで抽出した。該有
機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）後、濃縮した。残さをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝４：１次いで２：１次いで１：２で溶出）に付
し、５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−（２−メ
チル−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合
物１）２７９mgと１−ジフルオロアセチル−２−メチル
−４−（２−メチル−５−フェニルベンジル）セミカル
バジド８８mgを得た。 １−ジフルオロアセチル−２−メチル−４−（２−メチ
ル−５−フェニルベンジル）セミカルバジド：1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)： 8.96 (1H, s), 7.60-7.12 (8H, m), 5.82 (1
H, t), 5.45 (1H, t), 4.34 (2H, d), 3.04 (3H, s),
2.26 (3H, s).
【００８１】製造例２７ ２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベンジ
ル）セミカルバジド（中間体製造例４または同様の方法
にて製造）２６５mg（０．９８４mmol）とジフルオロ酢
酸０．５ml（７．９５mmol）を混合し、７０℃で６．５
時間攪拌した。該反応液を室温まで冷却した後、該反応
溶液に水５mlを加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層
を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水
硫酸マグネシウム）後、濃縮した。残さをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１次いで酢酸エチルで溶出）に付し、５−ジフルオ
ロメチル−２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニ
ルベンジル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−オン（本発明化合物１）１９mgと１
−ジフルオロアセチル−２−メチル−４−（２−メチル
−５−フェニルベンジル）セミカルバジド２９７mgを得
た。
【００８２】製造例２８ １−ジフルオロアセチル−２−メチル−４−（２−メチ
ル−５−フェニルベンジル）セミカルバジド（製造例２
７または同様の方法にて製造）１４６mg（０．４２０mm
ol）を２％水酸化カリウム水溶液２mlに加え、３時間加
熱還流下攪拌した。該反応溶液を室温まで冷却した後、
２Ｎ塩酸を加えてｐＨ３にし、酢酸エチルで抽出した。
該有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗い、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）後、濃縮し、５−ジフルオロ
メチル−２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニル
ベンジル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−ト
リアゾール−３−オン（本発明化合物１）１３３mgを得
た。
【００８３】製造例２９ ２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベンジ
ル）セミカルバジド（中間体製造例４または同様の方法
にて製造）１００mg（０．３７１mmol）とジフルオロ酢
酸５３mg（０．５５７mmol）をトルエン３．７mlに加
え、１００℃で３時間攪拌した後加熱還流下で５時間攪
拌した。該反応液を室温まで冷却した後、該反応溶液を
飽和重曹水で、次いで飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水
硫酸マグネシウム）後、濃縮した。残さをシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー{ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
＝２：１で展開}に付し、５−ジフルオロメチル−２−
メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベンジル）−
２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−オン（本発明化合物１）９８mgとＮ−（２−メチル
−５−フェニルベンジル）−ジフルオロアセトアミド１
４mgを得た。 Ｎ−（２−メチル−５−フェニルベンジル）−ジフルオ
ロアセトアミド：1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：７．１９−７．６０（８Ｈ，ｍ），６．５７
（１Ｈ，ｂｒ），５．９１（１Ｈ，ｔ），４．５５（２
Ｈ，ｄ），２．３５（３Ｈ，ｓ）．
【００８４】製造例３０ ３−メトキシフェニルボロン酸９１mg（０．６０mmo
l）、４−（５−ブロモ−２−メチルベンジル）−５−
ジフルオロメチル−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合
物４０；製造例２または同様の方法にて製造）１４３mg
（０．４３mmol）、燐酸三カリウムn水和物０．５４gお
よび［１,１'−ビス（ジフェニルフォスフォノ）フェロ
セン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン錯体１
８mg（０．０２２mmol）を１,−ジメトキシエタン８ml
に懸濁させ、窒素雰囲気下、２時間加熱還流下に攪拌し
た。反応混合物に酢酸エチルを加えてセライト濾過した
後、濃縮した。残さ（０．１９g）をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１で展
開）に付し、オイル状の５−ジフルオロメチル−４−
｛５−（３−メトキシフェニル）−２−メチルベンジ
ル｝−２−メチル−２,４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，
４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物９）０．１
１gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：6.85-7.45 (7H, m), 6.33 (1H, t), 5.03 (2
H, s), 3.84 (3H, s), 3.53 (3H, s), 2.40 (3H, s).
【００８５】製造例３１ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ
−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（中間体
製造例１または同様の方法にて製造）１００mg（０．６
７１mmol）と２−メチル−５−フェニルベンジルブロミ
ド（参考製造例１の（５）または同様の方法にて製造）
１７５mg（０．６７１mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド２mlに溶かした溶液を０℃に冷却し、水素化ナト
リウム４０mg（１．００mmol,６０％ｉｎ ｏｉｌ）を
ゆっくり加えた。この懸濁液を室温に戻し、２時間攪拌
した。該反応液を０℃に冷却し、水をゆっくり加え、酢
酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和重曹水、飽和
食塩水で順次洗浄し、乾燥（硫酸マグネシウム）した後
濃縮した。残さをシリカゲル薄層クロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１で展開）に付し、
５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−（２−メチル
−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合物
１）９８mgと、副生成物として３−ジフルオロメチル−
５−（２−メチル−５−フェニルベンジルオキシ）−１
−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール７７mgを得
た。 ３−ジフルオロメチル−５−（２−メチル−５−フェニ
ルベンジルオキシ）−１−メチル−１Ｈ−１，２，４−
トリアゾール：1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.28-7.70 (8H, m), 6.54 (1H, t), 5.55 (2
H, s), 3.65 (3H, s), 2.45 (3H, s).
【００８６】製造例３２ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ
−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（中間体
製造例１または同様の方法にて製造）と２-メチル−５
−フェニルベンジルクロリド（中間体製造例９または同
様の方法にて製造）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに
溶かした溶液を０℃に冷却し、水素化ナトリウムをゆっ
くり加える。この懸濁液を室温に戻し、攪拌する。該反
応液を０℃に冷却した後に、水をゆっくり加え、酢酸エ
チルで抽出する。該有機層を水、飽和重曹水、飽和食塩
水で順次洗浄し、乾燥（硫酸マグネシウム）した後に濃
縮する。残さをシリカゲル薄層クロマトグラフィーに付
し、５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−（２−メ
チル−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本発明化合
物１）を得る。
【００８７】製造例３３ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ
−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（中間体
製造例１または同様の方法にて製造）２０３ｍｇ（１．
３６ｍｍｏｌ）、水酸化リチウム３５ｍｇ（１．４６ｍ
ｍｏｌ）およびトルエン５ｍｌの懸濁液を加熱還流下２
時間攪拌した。次に該トルエンを減圧下留去し、残さに
無水１，４−ジオキサン３ｍｌを窒素雰囲気下加え、２
−メチル−５−フェニルベンジル メタンスルホネート
（中間体製造法１１または同様の方法にて製造）３６８
ｍｇ（１．３３ｍｍｏｌ）を加えた。該反応液を加熱還
流下２時間攪拌したのち、濃縮した。残さに酢酸エチル
を加えて水洗した後、飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水
硫酸マグネシウム）後、濃縮した。残さをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
４：１次いで２：１で溶出）に付し、５−ジフルオロメ
チル−２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベ
ンジル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−３−オン（本発明化合物１）３８５ｍｇと、
副生成物として３−ジフルオロメチル−１−メチル−５
−（２−メチル−５−フェニルベンジルオキシ）−１Ｈ
−１，２，４−トリアゾール３１ｍｇを得た。
【００８８】製造例３４ ５−ジフルオロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ
−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（中間体
製造例１または同様の方法にて製造）６９ｍｇ（０．４
６１ｍｍｏｌ）、水酸化リチウム１２ｍｇ（０．５０８
ｍｍｏｌ）、沃化ナトリウム１４ｍｇ（０．０９２ｍｍ
ｏｌ）およびトルエン３ｍｌの懸濁液を加熱還流下２時
間攪拌した。次に該トルエンを減圧下留去し、残さに無
水１，４−ジオキサン３ｍｌを窒素雰囲気下加え、２−
メチル−５−フェニルベンジルクロリド１００ｍｇ
（０．４６１ｍｍｏｌ）を加えた。該反応液を加熱還流
下１８時間攪拌したのち、濃縮した。残さに酢酸エチル
を加えて水洗した後、飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水
硫酸マグネシウム）後、濃縮した。残さをシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
＝３：１で展開）に付し、５−ジフルオロメチル−２−
メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベンジル）−
２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−オン（本発明化合物１）６１ｍｇと、副生成物とし
て３−ジフルオロメチル−１−メチル−５−（２−メチ
ル−５−フェニルベンジルオキシ）−１Ｈ−１，２，４
−トリアゾール１１ｍｇを得た。
【００８９】製造例３５ ２−クロロ−５−フェニルベンジルブロミド（参考製造
例５または同様の方法にて製造）９４４ｍｇ（３．３５
ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン１０ｍｌに溶かし、０
℃に冷却した。該溶液に、５−ジフルオロメチル−２−
メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−オン（中間体製造例１または同様の方法に
て製造）５００ｍｇ（３．３５ｍｍｏｌ）、水素化リチ
ウム４０ｍｇ（５．０３ｍｍｏｌ）を加えた。該混合物
を加熱還流下３０時間攪拌した後、室温まで放冷した。
次に該混合物に無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｍ
ｌを加え、５−ジフルオロメチル−２−メチル−２，４
−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オ
ン１８０ｍｇ（１．２１ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム
２００ｍｇ（５．００ｍｍｏｌ、６０％ ｉｎ ｏｉ
ｌ）を加えた。該混合物を室温で１時間攪拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し
た。該有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄し、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、
濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１次いで２：１で溶
出）に付し、５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−
（２−クロロ−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒ
ドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン（本
発明化合物３７７）８２４ｍｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．１７−７．５１（８Ｈ，ｍ），６．
４２（１Ｈ，ｔ），５．１８（２Ｈ，ｓ），３．５４
（３Ｈ，ｓ）．
【００９０】参考製造例５ （１） ５−ブロモ−２−クロロトルエン５．００ｇ
（２４．３ｍｍｏｌ）、ジヒドロキシフェニルボラン
３．５６ｇ（２９．２ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（Ｉ
Ｉ）５４６ｍｇ（２．４３ｍｍｏｌ）、テトラブチルア
ンモニウムブロミド９．４１ｇ（２９．２ｍｍｏｌ）、
炭酸カリウム８．４０g（６０．８ｍｍｏｌ）および水
５０mlの混合物を、窒素気流下に８０℃で５時間攪拌し
た。該反応液をセライトろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽
出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥（無水硫
酸マグネシウム）後、濃縮した。残さをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサンで溶出）に付し、
４−クロロ−３−メチルビフェニル３．９２gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．３０−７．６０（８Ｈ，ｍ），２．
４４（３Ｈ，ｓ）．
【００９１】（２） ４−クロロ−３−メチルビフェニ
ル３．９０ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）を四塩化炭素１００
ｍｌに溶かした溶液に２，２’−アゾビスイソブチロニ
トリル６３２ｍｇ（３．８５ｍｍｏｌ）を加え、室温で
１５分攪拌した。該溶液にＮ−ブロモスクシンイミド
３．４３ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下
３．５時間攪拌した。該反応溶液にさらに２，２’−ア
ゾビスイソブチロニトリル６３２ｍｇ（３．８５ｍｍｏ
ｌ）およびＮ−ブロモスクシンイミド３００ｍｇ（１．
６９ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下２時間攪拌した。該
反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサンで溶出）に
付し、無色透明油状の２−クロロ−５−フェニルベンジ
ルブロミド４．６９ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．３１−７．６９（８Ｈ，ｍ），４．
６４（２Ｈ，ｓ）．
【００９２】次に、本発明の製造中間体の製造例を示
す。まず、式［L］で示される５−ジフルオロメチル−
２−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−ト
リアゾール−３−オンの製造例を示す。 中間体製造例１ ２−メチルセミカルバジド（参考製造例６または同様の
方法にて製造）５００mg（５．６１mmol）にトルエン２
０mlを加えた混合物に、ジフルオロ酢酸８０８mg（８．
４１mmol）を加え、１０時間加熱還流下攪拌を行った。
該反応溶液を室温まで冷却した後、濃縮し、残さをシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー（クロロホルム：メタノ
ール＝９：１で展開）に付し、融点１４１．２℃の５−
ジフルオロメチル−２−メチル−２，４−ジヒドロ−３
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン３０５mgを無
色固体として得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：12.2 (1H, br), 6.46 (1H, t), 3.52 (3H,
s).
【００９３】次に、一般式［XXVI］で示されるジフルオ
ロアセチルセミカルバジド化合物の製造例を示す。 中間体製造例２ 粗２−メチル−５−フェニルベンジルイソシアネート
１．００gをトルエン５mlに加えてできる懸濁液に、
Ｎ’−メチル−ジフルオロアセトヒドラジド（５５６mg
を加え、６０℃で攪拌する。該反応溶液を濃縮し、残さ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−ジ
フルオロアセチル−２−メチル−４−（２−メチル−５
−フェニルベンジル）セミカルバジドを得る。
【００９４】次に、一般式［VII］で示されるセミカル
バジド化合物の製造例を示す。 中間体製造例３ （１） ジホスゲン２．５ｇ（１２．６ｍｍｏｌ）、活
性炭０．４０ｇおよびトルエン３０ｍｌを混合し、一晩
放置した溶液に、２−メチル−５−フェニルベンジルア
ミン（中間体製造法６または同様の方法にて製造）１．
００ｇ（５．０７ｍｍｏｌ）をトルエン５ｍｌに溶かし
た溶液を、室温でゆっくり滴下した。該溶液は滴下後す
ぐに白濁した。該懸濁液を室温で１時間攪拌し、さらに
加熱還流下５時間攪拌した後、減圧下濃縮し、２−メチ
ル−５−フェニルベンジルイソシアネート１．１３ｇを
得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．２２−７．６５（８Ｈ，ｍ），４．
５４（２Ｈ，ｓ），２．３８（３Ｈ，ｓ）．
【００９５】（２） メチルヒドラジン２５４ｍｇ
（５．５２ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下にて無水トルエン
１０ｍｌに溶かし、０℃に冷却した。攪拌しながらこの
溶液に、２−メチル−５−フェニルベンジルイソシアネ
ート１．１２ｇ（５．０２ｍｍｏｌ）を無水トルエン２
０ｍｌに溶かした溶液を、ゆっくり滴下した。この時、
反応溶液の温度が０〜５℃の範囲になるようにした。滴
下終了後、０℃で１時間攪拌し、さらに室温で２時間攪
拌を続けた。この反応溶液を濃縮し、残さをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
＝１：１次いで１：２次いで酢酸エチルのみ）に付し、
融点９１．６℃の２−メチル−４−（２−メチル−５−
フェニルベンジル）セミカルバジド１．２８ｇ（４．７
５ｍｍｏｌ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．１８−７．６４（８Ｈ，ｍ），６．
６８（１Ｈ，ｂｒ），４．４５（２Ｈ，ｄ），３．５６
（２Ｈ，ｓ），３．１６（３Ｈ，ｓ）２．３８（３Ｈ，
ｓ）．
【００９６】中間体製造例４ ２−メチル−５−フェニルベンジルブロミド（参考製造
例１の（５）または同様の方法にて製造）３．０g（１
１．６mmol）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ml
に溶かした溶液に、シアン酸ナトリウム１．１３g（１
７．３mmol）を加え、１００℃で３時間攪拌し、系中に
て２−メチル−５−フェニルベンジルイソシアネートを
得た。該反応溶液にトルエン５mlを加えた後、０℃に冷
却し、メチルヒドラジン５５０mg（１１．９mmol）をゆ
っくり滴下した。さらに室温で３時間攪拌をした後、こ
れに水を加え、クロロホルムで抽出した。該クロロホル
ム層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥（無水硫酸マグネシウ
ム）し、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル：メタノール＝９：１で溶出）に
付し、２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニルベ
ンジル）セミカルバジド１．２４gを得た。
【００９７】中間体製造例５ ２−メチル−５−フェニルベンジルクロリド（中間体製
造例１０または同様の方法にて製造）１．０g（４．６
１mmol）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２mlに溶
かした溶液に、シアン酸ナトリウム４５０mg（６．９２
mmol）を加え、１００℃で攪拌する。次に、該反応溶液
にトルエン２mlを加えた後、０℃に冷却し、メチルヒド
ラジン２１３mg（４．６１mmol）を加える。該反応溶液
を室温で攪拌後、これに水を加え、クロロホルムで抽出
する。該クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）し、濃縮して２−メチル−４
−（２−メチル−５−フェニルベンジル）セミカルバジ
ドを得る。
【００９８】次に、式［XVI-1］で示される２−メチル
−５−フェニルベンジルアミンの製造例を示す。 中間体製造例６ ２−メチル−５−フェニルベンゾニトリル（前記参考製
造例１の（２）または同様の方法にて製造）１．０g
（５．１７mmol）を１，４−ジオキサン８mlおよびエタ
ノール８mlの混合溶媒に溶かした溶液に、２８％アンモ
ニア水２mlとラネーニッケルＷ２の懸濁液（アルドリッ
チ社製；５０％ ｉｎ ｗａｔｅｒ）１．０gを加えた。
この混合物を水素雰囲気下にて室温で８時間攪拌した
後、セライトにてろ過し、セライトをエタノールと水で
洗浄した。該ろ液を減圧下で濃縮し、残さをクーゲルロ
ール蒸留装置を用いて蒸留し（０．５mmHg、設定温度２
１６℃）、２−メチル−５−フェニルベンジルアミン８
４２mg（４．２７mmol）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.20-7.66 (8H, m), 3.92 (2H, s), 2.38 (3
H, s), 1.47 (2H, brs).
【００９９】中間体製造例７ ２−メチル−５−フェニルベンゾニトリル４．４６ｇ
（２３．１ｍｍｏｌ）を１、４−ジオキサン２６ｍｌに
溶かし、エタノール５ｍｌを加えた。この溶液に２８％
アンモニア水９ｍｌを加え、ラネーニッケルＷ２の懸濁
液（アルドリッチ社製；５０％ ｉｎ ｗａｔｅｒ）３
ｇを加えた。該混合物を水素雰囲気下室温で８時間攪拌
した。さらに該混合物にラネーニッケルＷ２の懸濁液
（アルドリッチ社製；５０％ ｉｎ ｗａｔｅｒ）２
ｇ、２８％アンモニア水８ｍｌおよびエタノール２０ｍ
ｌを加え、水素雰囲気下室温で４．５時間攪拌した。該
反応混合物をセライトろ過し、ろ液を濃縮した。残さを
クーゲルロール蒸留装置を用いて蒸留（０．５ｍｍＨ
ｇ、設定温度２１６℃）し、２−メチル−５−フェニル
ベンジルアミン４．２５ｇを得た。
【０１００】中間体製造例８ ２-メチル−５−フェニルベンジルクロリド（中間体製
造例９または同様の方法にて製造）１００ｍｇ（０．４
６１ｍｍｏｌ）をクロロホルム１００ｍｌに溶かした溶
液にヘキサメチルテトラミン６５ｍｇ（０．４６１ｍｍ
ｏｌ）を加え、加熱還流下１５時間攪拌した後、さらに
ヘキサメチルテトラミン３２ｍｇ（０．２２８ｍｍｏ
ｌ）を加え、１０時間加熱還流下攪拌を続けた。得られ
た結晶をろ過し、結晶をｔ−ブチルメチルエーテルで洗
浄した。該結晶をエタノール２ｍｌと水０．５ｍｌの混
合物に溶かし、該溶液に濃塩酸０．２ｍｌを加えた。該
溶液を室温で一晩攪拌し、その後濃縮した。残さに２Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液を加え、ｔ−ブチルメチルエー
テルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）した後、濃縮し、粗２-メチ
ル−５−フェニルベンジルアミン９７ｍｇを得た。
【０１０１】次に、式［XIII-1］で示される２−メチル
−５−フェニルベンジルクロリドの製造例を示す。 中間体製造例９ ２-メチル−５−フェニルベンジルアルコール５００mg
（２．５２mmol）（参考製造例１の（４）または同様の
方法にて製造）を四塩化炭素２mlに溶かした溶液に、窒
素雰囲気下トリフェニルホスフィン１．０g（３．２８m
mol）を加えた。該溶液を加熱還流下１．５時間攪拌
し、室温まで冷却した後濃縮した。残さをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
１０：１で溶出）に付し、２-メチル−５−フェニルベ
ンジルクロリド５０８mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.19-7.63 (8H, m), 4.67 (2H, s), 2.46 (3
H, s).
【０１０２】中間体製造例１０ Ｎ，Ｎ−ジメチル−（２−メチル−５−フェニルベンジ
ル）アミン（中間体製造例１２または同様の方法にて製
造）３１５ｍｇ（１．４０ｍｍｏｌ）をトルエン３ｍｌ
に溶かした溶液に、室温でクロロ炭酸メチル３７０ｍｇ
（３．９２ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下後すぐ
に該反応溶液は白濁した。この懸濁液を室温で７時間攪
拌した後、１Ｎ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗
浄し、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、濃縮した。残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン次いでｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１で溶出）
に付し、２−メチル−５−フェニルベンジルクロリド２
８２ｍｇを得た。
【０１０３】次に一般式[XIII-2]で示される化合物のう
ちＲ9がメチル基である化合物の製造例を示す。 中間体製造例１１ ２−メチル−５−フェニルベンジルアルコール２．００
ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）を酢酸エチル１００ｍｌに溶か
した溶液にトリエチルアミン４．２ｍｌ（３０．３ｍｍ
ｏｌ）を加え０℃に冷却した。該溶液にメタンスルホニ
ルクロリド１．７３ｇ（１５．１ｍｍｏｌ）をゆっくり
滴下し、滴下終了後該反応溶液を室温にした。室温で１
時間攪拌した後、１Ｎ塩酸を加えて該反応液を酸性に
し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和重曹水、飽
和食塩水で順次洗浄し、乾燥（無水硫酸マグネシウム）
後、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１で溶出）に付
し、２−メチル−５−フェニルベンジル メタンスルホ
ネート２．７９ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．２５−７．６８（８Ｈ，ｍ），５．
３４（２Ｈ，ｓ），２．９３（３Ｈ，ｓ），２．４５
（３Ｈ，ｓ）．
【０１０４】次にＮ，Ｎ−ジメチル−（２−メチル−５
−フェニルベンジル）アミンの製造例を示す。 中間体製造例１２ （１） ４−フェニルベンジルクロリド３．０ｇ（１
４．８ｍｍｏｌ）、トルエン１０ｍｌ、そして３０％ト
リメチルアミン水溶液５．６ｍｌ（２６．６ｍｍｏｌ）
の混合物を６０℃にて３．７時間攪拌した。該反応溶液
を分液後、水層にｔ−ブチルメチルエーテルを加え洗浄
した。該水層をセライトろ過し、ろ液を濃縮して融点２
０４．８℃の（４−フェニルベンジル）トリメチルアン
モニウムクロリド４．０７ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．３５−７．８７（９Ｈ，ｍ），４．
７２（２Ｈ，ｓ），３．１１（９Ｈ，ｓ）．
【０１０５】（２） （４−フェニルベンジル）トリメ
チルアンモニウムクロリド５００ｍｇ（１．９１ｍｍｏ
ｌ）を無水ジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶かした溶
液に、窒素雰囲気下に室温で水素化ナトリウム１５３ｍ
ｇ（３．８２ｍｍｏｌ、６０％ｉｎ ｏｉｌ）を加え、
８時間攪拌した。該反応溶液に飽和食塩水１８０ｍｌを
加え、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出（７０ｍｌを２
回）した。該有機層を飽和食塩水で洗浄した後、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）、濃縮し、Ｎ，Ｎ−ジメチル
−（２−メチル−５−フェニルベンジル）アミン４５２
ｍｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：７．２０−７．６６（８Ｈ，ｍ），３．
４３（２Ｈ，ｓ），２．４０（３Ｈ，ｓ），２．２７
（６Ｈ，ｓ）．
【０１０６】次に、スキーム化４で示される一般式［XV
II］で示されるベンジルクロリド化合物から一般式［XI
II-2］で示されるベンジルアルコール化合物を製造する
製造例を示す。 参考製造例４ 窒素で満たされた４つ口丸底フラスコにマグネシウム２
６４mgと無水ジエチルエーテル０．５mlを入れ、次いで
沃素をひとかけら入れた。しばらく放置後、沃素の色が
消えてから、これに４−フェニルベンジルクロリド２．
０g（９．８７mmol）を無水ジエチルエーテル１５mlに
溶かした溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、マグネ
シウムがほとんど溶けるまで攪拌した。得られた茶色の
該溶液に、十分乾燥したパラホルムアルデヒド１．４８
g（４９．４mmol）を２００℃で熱分解して得られたホ
ルムアルデヒドを、窒素気流とともに反応容器の気層部
分に１時間かけて室温で吹き込んだ。吹き込み終了後、
さらに２時間室温で攪拌を続け、塩化アンモニウム飽和
水溶液を加えた。該溶液をｔ−ブチルメチルエーテルで
抽出し、飽和食塩水で洗浄後、濃縮した。残さをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝１０：１次いで４：１で溶出）に付し、２-メチ
ル−５−フェニルベンジルアルコール７８７mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：7.21-7.63 (8H, m), 4.77 (2H, d), 2.40 (3
H, s), 1.56 (1H, dd).
【０１０７】次に、スキーム化１５で示されるメチルヒ
ドラジンから２−メチルセミカルバジドを製造する製造
例を示す。 参考製造例６ メチルヒドラジン６．０g（１３０mmol）をテトラヒド
ロフラン２５mlに溶かし０℃に冷却した溶液に、トリメ
チルシリルイソシアネート１１．５g（１００mmol）を
ゆっくり滴下した。滴下終了後、さらに１時間攪拌を続
行した。次に、該反応溶液にメタノール２０mlを加え、
４０℃で５時間攪拌した。該溶液を濃縮し、淡黄色固体
の２−メチルセミカルバジド７．７７gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ） δ(ppm)：5.61 (2H, br), 3.80 (2H, brs), 3.15 (3H,
s).
【０１０８】参考製造例７ シアン酸ナトリウム１．３ｇ（２００ｍｍｏｌ）、メチ
ルヒドラジン９．６７ｇ（２１０ｍｍｏｌ）、および水
１００ｍｌを混合し、該混合物を０℃に冷却した。該懸
濁液に濃塩酸１８．３ｍｌ（２１０ｍｍｏｌ）を２０分
かけて滴下した。該懸濁液を室温にした後、３時間攪拌
した。つぎに該反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮し、粗
２−メチルセミカルバジド１０．８ｇを得た。
【０１０９】次に、本発明化合物の例を、化合物番号と
共に示す。 一般式[I-ａ]で示される本発明化合物（表１〜表１５）
【化２２】 で示される化合物。
【０１１０】
【表１】
【０１１１】
【表２】
【０１１２】
【表３】
【０１１３】
【表４】
【０１１４】
【表５】
【０１１５】
【表６】
【０１１６】
【表７】
【０１１７】
【表８】
【０１１８】
【表９】
【０１１９】
【表１０】
【０１２０】
【表１１】
【０１２１】
【表１２】
【０１２２】
【表１３】
【０１２３】
【表１４】
【０１２４】
【表１５】
【０１２５】一般式化[I-b]で示される本発明化合物
（表１６〜１７）
【化２３】 で示される化合物。
【０１２６】
【表１６】
【０１２７】
【表１７】
【０１２８】尚、上記の表１〜表１７において、Ｍｅは
メチル基を、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｐｒはプロピル基
を、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基を、ｃ−Ｐｒはシクロプ
ロピル基を、ｎ−Ｂｕはブチル基を、ｉ−Ｂｕはイソブ
チル基を、ｔｅｒｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基を、ｓ
ｅｃ−Ｂｕはｓｅｃ−ブチル基を、ｃ−Ｂｕはシクロブ
チル基を、ｎ−Ｐｅｎｔはペンチル基を、ｃ−Ｐｅｎｔ
はシクロペンチル基を、ｎ−Ｈｅｘはヘキシル基を、ｃ
−Ｈｅｘはシクロヘキシル基を、Ｐｈはフェニル基を、
Ｐｙはピリジル基を、Ｂｎはベンジル基を、Ａｃはアセ
チル基を、ＣＮはシアノ基を意味する。
【０１２９】次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表
わし、本発明化合物は前記表１から表１７に記載の化合
物番号で示す。 製剤例１ 本発明化合物１〜４２５の各々５０部、リグニンスルホ
ン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部及び
合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することによ
り、各々の水和剤を得る。 製剤例２ 本発明化合物１〜４２５の各々２０部とソルビタントリ
オレエ−ト 1.5部とを、ポリビニルアルコ−ル２部を含
む水溶液28.5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、
この中に、キサンタンガム0.05部及びアルミニウムマグ
ネシウムシリケ−ト 0.1部を含む水溶液４０部を加え、
さらにプロピレングリコ−ル１０部を加えて攪拌混合し
各々のフロアブル製剤を得る。 製剤例３ 本発明化合物１〜４２５の各々２部、カオリンクレ−８
８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、
各々の粉剤を得る。 製剤例４ 本発明化合物１〜４２５の各々５部、ポリオキシエチレ
ンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼン
スルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混
合することにより、各々の乳剤を得る。 製剤例５ 本発明化合物１〜４２５の各々２部、合成含水酸化珪素
１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイ
ト３０部及びカオリンクレ−６５部をよく粉砕混合し、
水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥することによ
り、各々の粒剤を得る。 製剤例６ 本発明化合物１〜４２５の各々１０部、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０
部を含むホワイトカーボン３５部、及び水５５部を混合
し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々のフロア
ブル製剤を得る。 製剤例７ 本発明化合物１〜４２５の各々１０部、Sorpol 1200(東
邦化学工業製 ノニオンおよびアニオン系界面活性剤）
５部を、ジメチルスルホキシド４７部、キシレン３８部
に混合して溶解させることにより、各々の乳剤を得る。
【０１３０】次に、本発明化合物が農園芸用殺菌剤とし
て有用であることを試験例にて示す。試験例１〜６は、
植物に対して多量の散布液（２０００Ｌ／ｈａ程度）を
使用した試験であり、植物体表面が完全に濡れて薬液が
したたり落ちる程度の散布液量である。試験例７、８
は、植物に対して少量の散布液（２００Ｌ／ｈａ相当）
を使用した試験であり、植物体表面上に散布液が細かい
液滴で均一に付着した状態であり、植物体表面を完全に
濡らすには不十分な散布液量である。欧米の一般圃場で
の麦病害に対する防除は、通常２００Ｌ／ｈａ程度の散
布液量で行われる。その場合、散布された薬液は、植物
体全体を濡らすには不十分な液量であり、植物上に細か
い液滴として付着した状態となる。このような散布状態
では、対象病害に対する高い防除効力に加え、有効成分
の浸透移行性や揮散性等の好適な物理化学的性質を有し
ている必要がある。なお、本発明化合物は表１〜表１７
に記載の化合物番号で示す。本発明化合物の防除効果
は、調査時の供試植物上の病斑の面積を肉眼観察し、無
処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積
を比較することにより評価した。
【０１３１】試験例１：イネいもち病防除試験（予防効
果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、イネ（日本晴）を
播種し、温室内で２０日間生育させた。その後、本発明
化合物１、３、４、６、７、９、１８、１９、２０、２
４、４７、１０４、１０５、１１３、１１７、１１８、
１２０、２９４、３２６、３２９、３４３、３４５の各
々を製剤例６に準じてフロアブル剤とした後、水で希釈
して所定濃度にし、これを、そのイネ葉面に充分付着す
るように茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、いもち
病菌の懸濁液を噴霧接種した。接種後２８℃、多湿下に
６日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発
明化合物１の５００ppmおよび２００ppm処理区の植物上
の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であっ
た。本発明化合物３、４、６、７、９、１８、１９、２
０、２４、４７、１０４、１０５、１１３、１１７、１
１８、１２０、２９４、３２６、３２９、３４３、３４
５の２００ppm処理区の植物上の病斑面積は、無処理区
の病斑面積の１０％以下であった。
【０１３２】試験例２：コムギうどんこ病防除試験（予
防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（農林７３
号）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本発明化
合物１、３、４、６、７、９、１８、１９、２０、２
４、４７、１０４、１０５、１１３、１１７、１１８、
１２０、２７７、２９４、３２６、３２９、３４３、３
４５の各々を製剤例６に準じてフロアブル剤とした後、
水で所定濃度に希釈し、これを、第２葉が展開したその
コムギの幼苗のコムギ葉面に充分付着するように茎葉散
布した。散布後植物を風乾し、１日後にコムギうどんこ
病菌胞子をふりかけ接種した。接種後、２３℃照明下に
７日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発
明化合物１の５００ppmおよび２００ppm処理区の植物上
の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であっ
た。本発明化合物３、４、６、７、９、１８、１９、２
０、２４、４７、１０４、１０５、１１３、１１７、１
１８、１２０、２７７、２９４、３２６、３２９、３４
３、３４５の２００ppm処理区の植物上の病斑面積は、
無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１３３】試験例３：コムギさび病防除試験（予防効
果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（農林７３
号）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本発明化
合物１、３、４、６、７、９、１８、１９、２０、２
４、４７、１０４、１０５、１１３、１１７、１１８、
１２０、２７７、２９４、３２６、３２９、３４３、３
４５の各々を製剤例６に準じてフロアブル剤とした後、
水で所定濃度に希釈し、これを、そのコムギ葉面に充分
付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、コ
ムギ赤さび病菌の胞子を接種した。接種後はじめは２３
℃、暗黒多湿下に１日置き、さらに照明下に６日間置い
た後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物１
の５００ppmおよび２００ppm処理区の植物上の病斑面積
は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。本発明
化合物３、４、６、７、９、１８、１９、２０、２４、
４７、１０４、１０５、１１３、１１７、１１８、１２
０、２７７、２９４、３２６、３２９、３４３、３４５
の各々の２００ppm処理区の植物上の病斑面積は、無処
理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１３４】試験例４：コムギふ枯れ病防除試験（予防
効果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（農林７３
号）を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化合
物１、３、４、６、７、９、１８、１９、２０、２４、
４７、１０４、１０５、１１３、１１８、１２０、２７
７、３２９、３４３、３４５の各々を製剤例６に準じて
フロアブル剤とした後、水で所定濃度に希釈し、これ
を、そのコムギ葉面に充分付着するように茎葉散布し
た。散布後植物を風乾し、コムギふ枯れ病菌の胞子懸濁
液を噴霧接種した。接種後はじめは15℃、暗黒多湿下に
４日置き、さらに照明下に７日間置いた後、防除効果を
調査した。その結果、本発明化合物１の５００ppmおよ
び２００ppm処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の
病斑面積の１０％以下であった。本発明化合物３、４、
６、７、９、１８、１９、２０、２４、４７、１０４、
１０５、１１３、１１８、１２０、２７７、３２９、３
４３、３４５の２００ppm処理区の植物上の病斑面積
は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１３５】試験例５：ブドウべと病防除効果試験（予
防効果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（ベリ−
Ａ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化
合物１、３、４、６、７、９、１８、１９、２０、２
４、４７、１０４、１０５、１１３、１１７、１１８、
１２０、２７７、２９４、３２６、３２９、３４３、３
４５の各々を製剤例６に準じてフロアブル剤とした後、
水で所定濃度（２００ppm）に希釈し、これを、そのブ
ドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植
物を風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種
した。接種後はじめは２３℃、多湿下に１日置き、さら
に温室内で６日間置いた後、防除効果を調査した。その
結果、本発明化合物１、３、４、６、７、９、１８、１
９、２０、２４、４７、１０４、１０５、１１３、１１
７、１１８、１２０、２７７、２９４、３２６、３２
９、３４３、３４５処理区の植物上の病斑面積は、無処
理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１３６】試験例６：キュウリうどんこ病防除効果試
験（予防効果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（相模半
白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。本発明化
合物１を製剤例６に準じてフロアブル剤とした後、水で
所定濃度(２００ppm)に希釈し、これを、そのキュウリ
葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を
風乾し、キュウリうどんこ病菌の胞子を接種した。接種
後２３℃下に１２日間置いた後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物１処理区の植物上の病斑面積
は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１３７】試験例７：コムギうどんこ病防除効果試験
（予防効果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（農林７３
号）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本発明化
合物１を製剤例７に準じて乳剤とした後、水で所定濃度
（１０００ｐｐｍ）に希釈し、これを、第２葉が展開し
たそのコムギの幼苗の上から２００Ｌ／ｈａ相当の散布
液量で茎葉散布した。散布後植物を風乾し、１日後にコ
ムギうどんこ病菌胞子をふりかけ接種した。接種後、２
３℃照明下に７日間置いた後、防除効果を調査した。そ
の結果、本発明化合物１処理区では全く病斑が認められ
なかった。
【０１３８】試験例８：コムギさび病防除試験（予防効
果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（農林７３
号）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本発明化
合物１を製剤例７に準じて乳剤とした後、水で所定濃度
（１０００ｐｐｍ）希釈し、これを、第２葉が展開した
そのコムギ幼苗の上から２００Ｌ／ｈａ相当の散布液量
で茎葉散布した。散布後植物を風乾しコムギ赤さび病菌
の胞子を接種した。接種後はじめは２３℃、暗黒多湿下
に１日置き、さらに照明下に６日間置いた後、防除効果
を調査した。その結果、本発明化合物１処理区では全く
病斑が認められなかった。
【０１３９】
【発明の効果】本発明化合物は、優れた植物病害防除効
力を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 309/73 Ｃ０７Ｃ 309/73 Ｃ０７Ｄ 401/10 Ｃ０７Ｄ 401/10 401/12 401/12 403/10 403/10 405/10 405/10 409/10 409/10 413/10 413/10 417/10 417/10 417/12 417/12 (72)発明者 阪口 裕史 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 真鍋 明夫 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4C063 AA01 BB06 BB08 CC29 CC41 CC52 CC62 CC75 CC76 CC92 CC94 DD12 DD14 DD22 DD34 EE03 4H006 AA01 AB84 4H011 AA01 AA03 BA01 BB09 BC06 BC07 BC18 BC19 BC20 DA15 DA16 DD03 DE15 DG08 DH03 DH14

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式［I］ 〔式中、Ｒ1はＡ1−Ｌ1−基、Ａ1−ＯＮ＝ＣＡ2−基、
    Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝ＣＡ2−基、Ａ1−Ｃ
    （Ａ2）＝Ｎ−ＯＣＨ2−基、Ａ1Ｓ−Ｃ（Ａ2）＝Ｎ−
    基、Ａ1−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−基、Ａ1Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ
    −基、Ａ1Ｓ−Ｃ（ＳＡ2）＝Ｎ−基、Ａ1−ＯＮ＝Ｃ
    （ＣＮ）−基、Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝Ｃ
    （ＣＮ）−基、Ａ1−Ｃ（ＣＮ）＝Ｎ−ＯＣＨ2−基、ハ
    ロゲン原子、ニトロ基またはシアノ基｛ここで、Ｌ1は
    単結合、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、−ＯＣＨ
    2−基、−ＳＣＨ2−基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、−ＯＣ
    （＝Ｏ）−基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ2−基、−ＮＨ−基
    またはＣ１〜Ｃ６アルキルイミノ基を表わし、Ａ1及び
    Ａ2は同一または相異なり、置換されていてもよいＣ６
    〜Ｃ１０アリール基、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１
    ０アルキル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アル
    ケニル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニ
    ル基、置換されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキ
    ル基、置換されていてもよいＣ４〜Ｃ２０シクロアルキ
    ルアルキル基、置換されていてもよいＣ５〜Ｃ１０シク
    ロアルケニル基、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０シ
    クロアルケニルアルキル基、置換されていてもよいＣ７
    〜Ｃ２０アリールアルキル基、置換されていてもよいＣ
    １〜Ｃ９ヘテロアリール基、水素原子または置換されて
    いてもよいＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアルキル基を表
    わす。但し、Ｌ1が単結合の場合、Ａ1は水素原子ではな
    い。｝を表わし、Ｔ、Ｕ及びＶの内、一つはＣＲ2基を
    表わし、他の一つはＣＨ基または窒素原子を表わし、ま
    た、残りの一つはＣＲ3基または窒素原子を表わし、Ｗ
    はＣＲ4基または窒素原子を表わす。｛ここで、Ｒ2、Ｒ
    3及びＲ4は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原
    子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、
    Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ
    基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボ
    ニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基またはＣ１〜Ｃ６ハ
    ロアルキルチオ基を表す。｝〕で示されるトリアゾロン
    化合物。
  2. 【請求項２】上記一般式［I］で示されるトリアゾロン
    化合物におけるＡ1およびＡ2において、置換されていて
    もよいＣ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよい
    Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル基、置換されていてもよいＣ２
    〜Ｃ１０アルキニル基、置換されていてもよいＣ３〜Ｃ
    １０シクロアルキル基、置換されていてもよいＣ４〜Ｃ
    ２０シクロアルキルアルキル基、置換されていてもよい
    Ｃ５〜Ｃ１０シクロアルケニル基、置換されていてもよ
    いＣ６〜Ｃ２０シクロアルケニルアルキル基、置換され
    ていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリール基および置換さ
    れていてもよいＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアルキル基
    における置換基が、同一または相異なり、下記ａ群より
    選ばれる１種以上の基であり、置換されていてもよいＣ
    ６〜Ｃ１０アリール基、置換されていてもよいＣ７〜Ｃ
    ２０アリールアルキル基における各置換基が、同一また
    は相異なり、下記ａ群およびｂ群からなる群より選ばれ
    る１種以上の基である請求項１に記載のトリアゾロン化
    合物。 ａ群 ［ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ３〜Ｃ2
    ０トリアルキルシリル基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル
    基、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アル
    コキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１
    ０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキルチオ基、
    Ｃ２〜Ｃ１０アルキルカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ１０アル
    コキシカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ１１アルキルカルボニル
    アミノ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ
    基、フェノキシメチル基、Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール
    基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）メチルオキシ基、
    （Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）オキシメチル基、Ｃ１〜
    Ｃ９ヘテロアリールオキシ基｛該フェニル基、フェノキ
    シ基、ベンジルオキシ基、フェノキシメチル基、Ｃ１〜
    Ｃ９ヘテロアリール基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）
    メチルオキシ基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）オキシ
    メチル基およびＣ１〜Ｃ９ヘテロアリールオキシ基の各
    々は、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ
    ６アルコキシ基、トリフルオロメチル基及びシアノ基か
    らなる群より選ばれる１種以上の基で置換されていても
    よい。｝、水酸基、シアノ基及びニトロ基］ ｂ群 ［メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレンジオキ
    シ基（該メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレン
    ジオキシ基の各々は、アリール部位における隣接する二
    つの炭素原子に結合する。）］
  3. 【請求項３】上記一般式［I］において、Ｔ、Ｕ及びＶ
    の内、一つがＣＲ2基であり、他の一つがＣＨ基であ
    り、また、残りの一つがＣＲ3基であり、ＷがＣＲ4基
    （Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は前記と同じ意味を表す）である
    請求項１または２のいずれかに記載のトリアゾロン化合
    物。
  4. 【請求項４】上記一般式［I］で示されるトリアゾロン
    化合物において、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が同一または相異な
    り、水素原子、ハロゲン原子またはメチル基である請求
    項１〜３のいずれかに記載のトリアゾロン化合物。
  5. 【請求項５】上記一般式［I］において、Ｕ、Ｖ及びＷ
    がＣＨ基であり、ＴがＣＲ2基（Ｒ2は前記と同じ意味を
    表す）である請求項１〜４のいずれかに記載のトリアゾ
    ロン化合物。
  6. 【請求項６】Ｒ2がメチル基である請求項５に記載のト
    リアゾロン化合物。
  7. 【請求項７】上記一般式［I］で示されるトリアゾロン
    化合物において、Ｒ1がＡ1−Ｌ1−基であり、Ｌ1が単結
    合であり、Ａ1が置換されていてもよいフェニル基、置
    換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニル基または置
    換されてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリール基である請求
    項１〜６のいずれかに記載のトリアゾロン化合物。
  8. 【請求項８】上記一般式［I］において、Ｒ1がＡ1−Ｌ1
    −基であり、Ｌ1が単結合であり、Ａ1がフェニル基であ
    り、Ｕ、Ｖ及びＷがＣＨ基であり、ＴがＣＣＨ3基であ
    る ５−ジフルオロメチル−２−メチル−４−（２−メ
    チル−５−フェニルベンジル）−２，４−ジヒドロ−３
    Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オン。
  9. 【請求項９】請求項１〜８のいずれかに記載のトリアゾ
    ロン化合物を有効成分として含有することを特徴とする
    農園芸用殺菌剤。
  10. 【請求項１０】式［L］ で示される５−ジフルオロメチル−２−メチル−２，４
    −ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オ
    ン。
  11. 【請求項１１】一般式［XXVI］ 〔式中、Ｒ1はＡ1−Ｌ1−基、Ａ1−ＯＮ＝ＣＡ2−基、
    Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝ＣＡ2−基、Ａ1−Ｃ
    （Ａ2）＝Ｎ−ＯＣＨ2−基、Ａ1Ｓ−Ｃ（Ａ2）＝Ｎ−
    基、Ａ1−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−基、Ａ1Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ
    −基、Ａ1Ｓ−Ｃ（ＳＡ2）＝Ｎ−基、Ａ1−ＯＮ＝Ｃ
    （ＣＮ）−基、Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝Ｃ
    （ＣＮ）−基、Ａ1−Ｃ（ＣＮ）＝Ｎ−ＯＣＨ2−基、ハ
    ロゲン原子、ニトロ基またはシアノ基｛ここで、Ｌ1は
    単結合、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、−ＯＣＨ
    2−基、−ＳＣＨ2−基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、−ＯＣ
    （＝Ｏ）−基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ2−基、−ＮＨ−基
    またはＣ１〜Ｃ６アルキルイミノ基を表わし、Ａ1及び
    Ａ2は同一または相異なり、置換されていてもよいＣ６
    〜Ｃ１０アリール基、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１
    ０アルキル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アル
    ケニル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニ
    ル基、置換されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキ
    ル基、置換されていてもよいＣ４〜Ｃ２０シクロアルキ
    ルアルキル基、置換されていてもよいＣ５〜Ｃ１０シク
    ロアルケニル基、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０シ
    クロアルケニルアルキル基、置換されていてもよいＣ７
    〜Ｃ２０アリールアルキル基、置換されていてもよいＣ
    １〜Ｃ９ヘテロアリール基、水素原子または置換されて
    いてもよいＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアルキル基を表
    わす。但し、Ｌ1が単結合の場合、Ａ1は水素原子ではな
    い。｝を表わし、Ｔ、Ｕ及びＶの内、一つはＣＲ2基を
    表わし、他の一つはＣＨ基または窒素原子を表わし、ま
    た、残りの一つはＣＲ3基または窒素原子を表わし、Ｗ
    はＣＲ4基または窒素原子を表わす。｛ここで、Ｒ2、Ｒ
    3及びＲ4は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原
    子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、
    Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ
    基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボ
    ニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基またはＣ１〜Ｃ６ハ
    ロアルキルチオ基を表す。｝〕で示されるジフルオロア
    セチルセミカルバジド化合物。
  12. 【請求項１２】上記一般式［XXVI］で示されるジフルオ
    ロアセチルセミカルバジド化合物におけるＡ1およびＡ2
    において、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１０アルキル
    基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、
    置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、置換
    されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、置換
    されていてもよいＣ４〜Ｃ２０シクロアルキルアルキル
    基、置換されていてもよいＣ５〜Ｃ１０シクロアルケニ
    ル基、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０シクロアルケ
    ニルアルキル基、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテ
    ロアリール基および置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１９
    ヘテロアリールアルキル基における置換基が、同一また
    は相異なり、下記ａ群より選ばれる１種以上の基であ
    り、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１０アリール基、置
    換されていてもよいＣ７〜Ｃ２０アリールアルキル基に
    おける各置換基が、同一または相異なり、下記ａ群およ
    びｂ群からなる群より選ばれる１種以上の基である請求
    項１１に記載のジフルオロアセチルセミカルバジド化合
    物。 ａ群 ［ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ３〜Ｃ2
    ０トリアルキルシリル基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル
    基、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アル
    コキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１
    ０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキルチオ基、
    Ｃ２〜Ｃ１０アルキルカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ１０アル
    コキシカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ１１アルキルカルボニル
    アミノ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ
    基、フェノキシメチル基、Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール
    基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）メチルオキシ基、
    （Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）オキシメチル基、Ｃ１〜
    Ｃ９ヘテロアリールオキシ基｛該フェニル基、フェノキ
    シ基、ベンジルオキシ基、フェノキシメチル基、Ｃ１〜
    Ｃ９ヘテロアリール基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）
    メチルオキシ基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）オキシ
    メチル基およびＣ１〜Ｃ９ヘテロアリールオキシ基の各
    々は、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ
    ６アルコキシ基、トリフルオロメチル基及びシアノ基か
    らなる群より選ばれる１種以上の基で置換されていても
    よい。｝、水酸基、シアノ基及びニトロ基］ ｂ群 ［メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレンジオキ
    シ基（該メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレン
    ジオキシ基の各々は、アリール部位における隣接する二
    つの炭素原子に結合する。）］
  13. 【請求項１３】上記一般式［XXVI］において、Ｕ、Ｖ及
    びＷがＣＨ基であり、ＴがＣＣＨ3である請求項１１に
    記載のジフルオロアセチルセミカルバジド化合物。
  14. 【請求項１４】上記一般式［XXVI］において、Ｒ1がＡ1
    −Ｌ1−基であり、Ｌ1が単結合であり、Ａ1がフェニル
    基であり、Ｕ、Ｖ及びＷがＣＨ基であり、ＴがＣＣＨ3
    基である１−ジフルオロアセチル−２−メチル−４−
    （２−メチル−５−フェニルベンジル）セミカルバジ
    ド。
  15. 【請求項１５】一般式［VII］ 〔式中、Ｒ1はＡ1−Ｌ1−基、Ａ1−ＯＮ＝ＣＡ2−基、
    Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝ＣＡ2−基、Ａ1−Ｃ
    （Ａ2）＝Ｎ−ＯＣＨ2−基、Ａ1Ｓ−Ｃ（Ａ2）＝Ｎ−
    基、Ａ1−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−基、Ａ1Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ
    −基、Ａ1Ｓ−Ｃ（ＳＡ2）＝Ｎ−基、Ａ1−ＯＮ＝Ｃ
    （ＣＮ）−基、Ａ1−ＯＮ＝Ｃ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＮ＝Ｃ
    （ＣＮ）−基、Ａ1−Ｃ（ＣＮ）＝Ｎ−ＯＣＨ2−基、ハ
    ロゲン原子、ニトロ基またはシアノ基｛ここで、Ｌ1は
    単結合、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、−ＯＣＨ
    2−基、−ＳＣＨ2−基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基、−ＯＣ
    （＝Ｏ）−基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ2−基、−ＮＨ−基
    またはＣ１〜Ｃ６アルキルイミノ基を表わし、Ａ1及び
    Ａ2は同一または相異なり、置換されていてもよいＣ６
    〜Ｃ１０アリール基、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１
    ０アルキル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アル
    ケニル基、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１０アルキニ
    ル基、置換されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキ
    ル基、置換されていてもよいＣ４〜Ｃ２０シクロアルキ
    ルアルキル基、置換されていてもよいＣ５〜Ｃ１０シク
    ロアルケニル基、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０シ
    クロアルケニルアルキル基、置換されていてもよいＣ７
    〜Ｃ２０アリールアルキル基、置換されていてもよいＣ
    １〜Ｃ９ヘテロアリール基、水素原子または置換されて
    いてもよいＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアルキル基を表
    わす。但し、Ｌ1が単結合の場合、Ａ1は水素原子ではな
    い。｝を表わし、Ｔ、Ｕ及びＶの内、一つはＣＲ2基を
    表わし、他の一つはＣＨ基または窒素原子を表わし、ま
    た、残りの一つはＣＲ3基または窒素原子を表わし、Ｗ
    はＣＲ4基または窒素原子を表わす。｛ここで、Ｒ2、Ｒ
    3及びＲ4は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原
    子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、
    Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ
    基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボ
    ニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基またはＣ１〜Ｃ６ハ
    ロアルキルチオ基を表す。｝〕で示されるセミカルバジ
    ド化合物。
  16. 【請求項１６】上記一般式［VII］で示されるセミカル
    バジド化合物におけるＡ1およびＡ2において、置換され
    ていてもよいＣ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていて
    もよいＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、置換されていてもよ
    いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、置換されていてもよいＣ
    ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、置換されていてもよいＣ
    ４〜Ｃ２０シクロアルキルアルキル基、置換されていて
    もよいＣ５〜Ｃ１０シクロアルケニル基、置換されてい
    てもよいＣ６〜Ｃ２０シクロアルケニルアルキル基、置
    換されていてもよいＣ１〜Ｃ９ヘテロアリール基および
    置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１９ヘテロアリールアル
    キル基における置換基が、同一または相異なり、下記ａ
    群より選ばれる１種以上の基であり、置換されていても
    よいＣ６〜Ｃ１０アリール基、置換されていてもよいＣ
    ７〜Ｃ２０アリールアルキル基における各置換基が、同
    一または相異なり、下記ａ群およびｂ群からなる群より
    選ばれる１種以上の基である請求項１５に記載のセミカ
    ルバジド化合物。 ａ群 ［ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ３〜Ｃ2
    ０トリアルキルシリル基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキル
    基、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アル
    コキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１
    ０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０ハロアルキルチオ基、
    Ｃ２〜Ｃ１０アルキルカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ１０アル
    コキシカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ１１アルキルカルボニル
    アミノ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ
    基、フェノキシメチル基、Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール
    基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）メチルオキシ基、
    （Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）オキシメチル基、Ｃ１〜
    Ｃ９ヘテロアリールオキシ基｛該フェニル基、フェノキ
    シ基、ベンジルオキシ基、フェノキシメチル基、Ｃ１〜
    Ｃ９ヘテロアリール基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）
    メチルオキシ基、（Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール）オキシ
    メチル基およびＣ１〜Ｃ９ヘテロアリールオキシ基の各
    々は、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ
    ６アルコキシ基、トリフルオロメチル基及びシアノ基か
    らなる群より選ばれる１種以上の基で置換されていても
    よい。｝、水酸基、シアノ基及びニトロ基］ ｂ群 ［メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレンジオキ
    シ基（該メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレン
    ジオキシ基の各々は、アリール部位における隣接する二
    つの炭素原子に結合する。）］
  17. 【請求項１７】上記一般式［VII］において、Ｕ、Ｖ及
    びＷがＣＨ基であり、ＴがＣＣＨ3である請求項１５に
    記載のセミカルバジド化合物。
  18. 【請求項１８】上記一般式［VII］において、Ｒ1がＡ1
    −Ｌ1−基であり、Ｌ1が単結合であり、Ａ1がフェニル
    基であり、Ｕ、Ｖ及びＷがＣＨ基であり、ＴがＣＣＨ3
    基である２−メチル−４−（２−メチル−５−フェニル
    ベンジル）セミカルバジド。
  19. 【請求項１９】式[XVI-1] で示される２−メチル−５−フェニルベンジルアミンま
    たはその塩。
  20. 【請求項２０】式[XIII-1] で示される２−メチル−５−フェニルベンジルクロリ
    ド。
  21. 【請求項２１】一般式[XIII-2] 〔式中Ｒ9はメチル基またはｐ−トリル基を表わす。〕
    で示されるスルホン酸エステル化合物。
  22. 【請求項２２】式[LI] で示されるＮ，Ｎ−ジメチル−（２−メチル−５−フェ
    ニルベンジル）アミンまたはその塩。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010513361A (ja) * 2006-12-22 2010-04-30 ラボラトリオス・デル・ドクトル・エステベ・ソシエダッド・アノニマ ヘテロシクリル基によって置換されたエチルアミノフェニル誘導体、その調製方法、および医薬としての使用方法
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006076990A (ja) * 2004-03-12 2006-03-23 Bayer Cropscience Ag 殺虫性ベンゼンジカルボキサミド類
US20110086834A1 (en) * 2008-06-26 2011-04-14 Amgen Inc. Alkynyl alcohols as kinase inhibitors
WO2014089140A1 (en) 2012-12-05 2014-06-12 Merck Sharp & Dohme Corp. Process for making reverse transcriptase inhibitors
CN105339364A (zh) * 2013-06-27 2016-02-17 巴斯夫欧洲公司 用于防治植物病原性真菌的嗜球果伞素类型化合物
WO2015191382A1 (en) * 2014-06-11 2015-12-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Fungicidal tetrazolinones
CN111372915B (zh) * 2018-06-12 2021-01-01 株式会社德山 氨基脲化合物的制造方法
AR115870A1 (es) 2018-07-31 2021-03-10 Sumitomo Chemical Co MÉTODO PARA CONTROLAR EL HONGO DE LA ROYA DE LA SOJA QUE TIENE RESISTENCIA AL INHIBIDOR DE SITIO Qₒ

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4473709A (en) 1980-07-14 1984-09-25 Fmc Corporation Pyrethroid intermediates and process
US5428037A (en) 1993-04-09 1995-06-27 Syntex Pharmaceuticals, Ltd. Heterocyclic derivatives in the treatment of Ischaemia and related diseases
DE4339412A1 (de) 1993-11-18 1995-05-24 Bayer Ag Verfahren und neue Zwischenprodukte zur Herstellung von Triazolinonen
DE4342190A1 (de) 1993-12-10 1995-06-14 Bayer Ag Verfahren und neue Zwischenprodukte zur Herstellung von Triazolinonen
JPH1045754A (ja) 1996-08-01 1998-02-17 Otsuka Chem Co Ltd １，２，４−トリアゾール誘導体及び該誘導体を含有する除草剤
GB9716446D0 (en) 1997-08-05 1997-10-08 Agrevo Uk Ltd Fungicides
AU8749598A (en) 1997-08-26 1999-03-16 Ihara Chemical Industry Co. Ltd. Biarylalkylenecarbamic acid derivatives and bacteriocides for agricultural an d horticultural use
DE19834557A1 (de) 1998-07-31 2000-02-03 Basf Ag (Hetero)Arylverbindungen, Verfahren und Zwischenprodukte zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Bekämpfung von Schadpilzen und tierischen Schädlingen
US6489487B1 (en) * 1998-08-03 2002-12-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Triazolone derivatives, use thereof, and intermediates therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010513361A (ja) * 2006-12-22 2010-04-30 ラボラトリオス・デル・ドクトル・エステベ・ソシエダッド・アノニマ ヘテロシクリル基によって置換されたエチルアミノフェニル誘導体、その調製方法、および医薬としての使用方法
WO2021153782A1 (ja) * 2020-01-31 2021-08-05 住友化学株式会社 ＱｏＩ殺菌剤に対して耐性を有するダイズさび病菌の防除方法

Also Published As

Publication number Publication date
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