JP2001508126A - 電解槽用の壁カバー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は塩素含有プロセスガスを保持するための装置、特に電解槽の側壁（４）のための耐食壁カバー（１）に関する。このカバーは取り外し可能であり、そして特にアマルガム法に従って操作される電解槽の新しい及び使用された側部ピースにおいて使用するのに適している。

Description

【発明の詳細な説明】 電解槽用の壁カバー 本発明は、特に電解槽における塩素含有プロセスガスを集めるように設計され た装置の側壁のための耐食壁カバー（ａｎｔｉ−ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ ｗａｌｌ ｃｏｖｅｒｉｎｇ）に関する。該カバーは取り外し可能でありそしてアマルガ ム法に従って操作される電解槽の新しい及び使用された側部ピース（ｓｉｄｅ ｐｉｅｃｅｓ）において使用するのに適当である。 一般に金属から作られているアマルガム法に使用される電解槽の側壁を覆うた めの種々の方法が知られている。ゴム（合成又は天然ゴム）の取り外しできない カバーが一般に適用される。 取り外しできないゴムカバーは、他の場合に、例えばエチレン−プロピレン− ターポリマーの追加的に結合されたシートを備えている（例えば米国特許第３４ ５０６２１号参照）。 ゴムで覆われた側部ピース上に、或る環境において塩素ガスとの反応によりダ イオキシン含有反応生成物及びフラン含有反応生成物が形成される。これらはそ の毒性のため望ましくない副生物であり、多大の費用をかけて除去しなければな らない。電解装置の側部ピースが再被覆される（ｒｅ−ｃｏｖｅｒｅｄ）べき場 合には、現存のゴムカバーを先ず最初に除去しなければならない。これは普通は ゴムカバーを非常に低い温度に冷却し、それによりカバーは脆くなり、次いで付 着しているゴム残留物を例えば削りとる（ｃｈｉｓｅｌｌｉｎｇ ｏｆｆ）こと による機械的に除去によって達成される。 ゴムと上記した追加のポリマー層の組み合わせを含んで成る側部ピー スは製造するのが複雑でありそして費用もかかる。ゴムカバーが損傷されると、 湿った塩素が普通は鋼製の側部ピースの表面と接触しそして鋼部分のひどい腐食 を引き起こすことがある。結合したポリマーカバーの正しい修理溶接は実際には 可能ではない。 本発明の目的は、前記の先行技術の欠点を持たずそして特に修理の目的で容易 に取り外し可能な例えば電解槽のための使用された又は新しい側部ピースのカバ ーを提供することである。 この目的は、安定性付与鋼部分とともに装置の床に固定されている特定のプラ スチックの溶接された又はトリミングされたシートからカバーを作ることにより 本発明に従って達成される。 本発明は塩素含有プロセスガスを集めるように設計された装置、特に電解槽の ための耐食側壁であって、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフル オロエチレン−コ−ヘキサフルオロプロピレン（ＦＥＰ）、ポリ塩化ビニル（Ｐ ＶＣ又はＰＶＣ−ＨＴ）又はパーフルオロアルコキシポリマー（ＰＦＡ）の随時 溶接又はトリミングされていてもよいシートのカバーを、装置の床又は他の側部 部分（ｓｉｄｅ ｐａｒｔｓ）に取り外し可能な固定手段によって結合されうる （ｊｏｉｎｅｄ）特に鋼又はステンレス鋼の金属支持体構造物（ｍｅｔａｌ ｓ ｕｐｐｏｒｔ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）上に配置しそして随時取り付けの目的で取 り外し可能な接着剤（ｄｅｔａｃｈａｂｌｅ ａｄｈｅｓｉｖｅ）により固定さ せることを特徴とする耐食側壁を提供する。 カバーを製造するための個々のプラスチックシートはトリミングするることが でき、そして支持体構造物に取り付けられる前に例えば溶接により最適条件下に 互いに接合させることができる。金属支持体構造物の 全体の表面は耐食層、例えばＤＤ塗料のコーテイング又はエポキシ樹脂を更に備 えることができる。 カバーが側部ピースからのその除去の後に損傷されるならば、それは容易に修 理することができる。カバーと支持体構造物との間の構造的に定められたギャッ プは更にカバーの漏れ止めをチェックすることを可能とする。 例えば独立気泡ポリマーフォーム、特にポリウレタンフォームをベースとする 熱絶縁体が特に支持体構造物とカバーとの間に追加的に設けられる。 本発明に従って使用されるプラスチック材料は高い熱膨張係数を有するけれど も、上記したプラスチックが電解槽における側部ピースのカバーに特に適してい ることが試験により示された。 提唱された取り外し可能な側部部分は特にアマルガム法に従って塩素を製造す るための電解槽に特に使用される。 カバーと側壁支持体構造物との間の空間にセンサを取り付けることができ、こ れは例えば漏出する塩素又は塩溶液の漏れの試験を可能とする。 本発明を図面の助けを借りて以下に更に詳細に説明する。しかしながら、本発 明をその詳細に関して限定するものではない。 図１は本発明に従う装置カバーの態様の側面図である。 図２は本発明に従う側壁を有する電解槽の一部を示す。 実施例 図１はアマルガム法に従って塩素を製造する電解槽の側壁４を示す。ＰＶＤＦ シートのゆるいカバー１が鋼製支持体構造物３上にある。カバー１は側壁に取り 付けられる前に個々のＰＶＤＦセグメントを溶接する ことにより製造された。ポリウレタンフォームの絶縁層２を支持体構造物３とカ バー１の間に更に設ける。穴５はねじ１０によって電解槽６の床に側壁４を取り 付けるのに役立つ（図１も参照）。 図２は側壁４の断面の形態で電解槽の一部を示す。腐食を防止するために、側 壁４の内側はＤＤ耐食塗料も備えている。塩素含有ガス１１又は塩溶液１２の漏 出を防止するために、耐塩素性シール７及び８が槽カバー９と側壁４の間及び槽 床６と側壁４の間のギャップを閉鎖する作用をする。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，Ｍ Ｗ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ， ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，Ｅ Ｓ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ，ＩＤ ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ， ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，Ｍ Ｇ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ， ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，Ｖ Ｎ，ＹＵ，ＺＷ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．塩素含有プロセスガスを集めるための装置、特に電解槽のための耐食側壁 （４）であって、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチ ーレン−コ−ヘキサフルオロプロピレン（ＦＥＰ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ又 はＰＶＣ−ＨＴ）又はパーフルオロアルコキシポリマー（ＰＦＡ）の随時溶接又 はトリミングされていてもよいシートのカバー（１）を、装置（６）の床又は他 の側部部分（４’）に取り外し可能な固定手段（１０）によって結合されうる金 属支持体構造物上に取り付けることを特徴とする耐食側壁（４）。 ２．カバー（１）が取り外し可能な接着剤により支持体構造物（３）に取り付 けの目的で固定されることを特徴とする請求の範囲１に記載の側壁。 ３．支持体構造物（３）が鋼又はステンレス鋼から成ることを特徴とする請求 の範囲１又は２に記載の側壁。 ４．独立気泡ポリマーフォーム、特にポリウレタンフォームの追加の絶縁層（ ２）を支持体構造物（３）とカバー（１）との間に設けることを特徴とする請求 の範囲１〜３に記載の側壁。