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JP2001305582A - Liquid crystal display with built-in peripheral drive circuit - Google Patents

Liquid crystal display with built-in peripheral drive circuit

Info

Publication number
JP2001305582A
JP2001305582A JP2000122736A JP2000122736A JP2001305582A JP 2001305582 A JP2001305582 A JP 2001305582A JP 2000122736 A JP2000122736 A JP 2000122736A JP 2000122736 A JP2000122736 A JP 2000122736A JP 2001305582 A JP2001305582 A JP 2001305582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
thin film
liquid crystal
built
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000122736A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Hanaki
豊 花木
Tetsuya Kawamura
哲也 川村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000122736A priority Critical patent/JP2001305582A/en
Publication of JP2001305582A publication Critical patent/JP2001305582A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明はコストを増やさずに、回路レイアウ
トの自由度を上げ回路の高機能化や高性能化を実施する
事を目的とする。 【解決手段】 薄膜トランジスタのゲート電極5を形成
する第1の金属薄膜を加工して作った第1の配線、ソー
ス・ドレイン領域6、7にコンタクトする第2の金属薄
膜を加工して作った第2の配線、反射画素電極として用
いる第3の金属薄膜を加工して作った第3の配線13を
備え、第1と、第2と、第3の配線を用いて周辺駆動回
路を作製する。これにより回路レイアウトが容易とな
り、高機能で高性能な周辺駆動回路内蔵型液晶表示装置
をコストを増さずに得られる。
An object of the present invention is to increase the degree of freedom in circuit layout and increase the functionality and performance of a circuit without increasing the cost. SOLUTION: A first wiring formed by processing a first metal thin film forming a gate electrode 5 of a thin film transistor, and a second wiring formed by processing a second metal thin film contacting source / drain regions 6, 7 are formed. A second driving circuit is provided by using a second wiring, a third wiring 13 formed by processing a third metal thin film used as a reflective pixel electrode, and using the first, second, and third wirings. As a result, the circuit layout becomes easy, and a high-performance and high-performance liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit can be obtained without increasing the cost.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型の周辺駆動
回路内蔵型液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection type liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に従来の反射型の周辺駆動回路内蔵
型液晶表示装置について説明する。
2. Description of the Related Art A conventional reflection type liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit will be described below.

【0003】図5および、図6は従来の反射型の周辺駆
動回路内蔵型液晶表示装置の要部の部分模式断面図を示
すものである。図5は周辺駆動回路部であり、P型とN
型の(CMOS構成)薄膜トランジスタで構成されてい
る。図6は画面部である。図5および図6において、1
はガラス基板であり、2は絶縁膜であり、3はポリシリ
コン層であり、4はゲート絶縁膜であり、5はゲート電
極(第1の配線)であり、6はソース領域であり、7は
ドレイン領域であり、8は層間絶縁膜であり、9と10
はソース領域とドレイン領域にコンタクトするソース・
ドレイン電極(第2の配線)であり、3から10で1つ
の薄膜トランジスタが構成されている。11はアクリル
系平坦化膜(膜厚から3μm程度のものが多い)であ
り、12は反射画素電極である。14は液晶であり、1
5は配向膜であり、16は透明電極であり、17は対向
基板である。
FIGS. 5 and 6 are partial schematic cross-sectional views showing the main parts of a conventional reflection type liquid crystal display device with a built-in peripheral drive circuit. FIG. 5 shows a peripheral drive circuit unit, which is of a P type and an N type.
(CMOS configuration) thin film transistor. FIG. 6 shows a screen unit. 5 and 6, 1
Is a glass substrate, 2 is an insulating film, 3 is a polysilicon layer, 4 is a gate insulating film, 5 is a gate electrode (first wiring), 6 is a source region, 7 Is a drain region, 8 is an interlayer insulating film, 9 and 10
Is the source / drain contact
This is a drain electrode (second wiring), and one thin film transistor is composed of 3 to 10. Reference numeral 11 denotes an acrylic planarizing film (often about 3 μm in thickness), and reference numeral 12 denotes a reflective pixel electrode. 14 is a liquid crystal, 1
5 is an alignment film, 16 is a transparent electrode, and 17 is a counter substrate.

【0004】図5および図6では、周辺駆動回路内蔵型
液晶表示装置の一部のみを示しており、この他に偏光板
や、位相フィルムや、外部回路等で周辺駆動回路内蔵型
液晶表示装置が構成される。
FIGS. 5 and 6 show only a part of a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit. In addition, a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit is composed of a polarizing plate, a phase film, an external circuit, and the like. Is configured.

【0005】図では3つのトランジスタの接続を記載し
たが実際には数千または数万のトランジスタを配線して
周辺駆動回路を形成している。
Although FIG. 1 shows the connection of three transistors, thousands or tens of thousands of transistors are actually wired to form a peripheral driving circuit.

【0006】上記構成を直接開示したものではないが周
辺駆動回路内蔵型液晶表示装置に関しては、例えば雑誌
「フラットパネルディスプレイ1999」(日経BP社
刊1998年12月14日発行)の132から139
に記載されている。
Although the above configuration is not directly disclosed, a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit is described in, for example, magazine "Flat Panel Display 1999" (published by Nikkei BP, December 14, 1998), pp. 132-139 . <br/>.

【0007】また、同反射型周辺回路内蔵型液晶表示装
置に関しては、例えば「SID 98 DIGEST」
225から228頁に記載されている。
Further, as for the reflection type liquid crystal display device with a built-in peripheral circuit, for example, “SID 98 DIGEST”
225 to 228.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来例の構成の周辺駆
動回路内蔵型液晶表示装置では、第1の配線(ゲート電
極とそれと同時に形成された配線)と第2の配線(ソー
ス・ドレイン電極とそれと同時に形成された配線)のみ
で周辺駆動回路部の薄膜トランジスタの回路結線を行っ
ていた。そのため、2層の配線のみでは回路配線レイア
ウトの制限が多く、回路の高機能化や高性能化の妨げと
なっていた。
In a conventional liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit, a first wiring (a gate electrode and a wiring formed at the same time) and a second wiring (a source / drain electrode). At the same time, the circuit connection of the thin film transistor of the peripheral drive circuit portion is performed only by the wiring formed at the same time. For this reason, the circuit wiring layout is often limited only by the two-layer wiring, which hinders the enhancement of the function and the performance of the circuit.

【0009】本発明は上記課題に対して、コスト増とな
るような方法を用いずに、回路配線レイアウトの自由度
を上げ回路の高機能化や高性能化を実施できる周辺駆動
回路内蔵型液晶表示装置を提供する事を目的としてい
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a liquid crystal with a built-in peripheral driving circuit which can increase the degree of freedom of circuit wiring layout and realize high functionality and high performance of a circuit without using a method which increases the cost. It aims at providing a display device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の周辺駆動
回路内蔵型液晶表示装置は、薄膜トランジスタのゲート
電極を形成する第1の金属薄膜を加工した第1の配線
と、前記薄膜トランジスタのソース・ドレイン領域にコ
ンタクトする第2の金属薄膜を加工した第2の配線と、
反射画素電極として用いる第3の金属薄膜を加工した第
3の配線とを備え、第1の配線と、第2の配線と、第3
の配線を周辺駆動回路の一部とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit, wherein a first wiring formed by processing a first metal thin film forming a gate electrode of a thin film transistor, and a source and a source of the thin film transistor are formed. A second wiring formed by processing a second metal thin film contacting the drain region;
A third wiring formed by processing a third metal thin film used as a reflective pixel electrode; and a first wiring, a second wiring, and a third wiring.
Are part of the peripheral drive circuit.

【0011】請求項1記載の周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置によれば、第1から第3の配線により、トランジ
スタ上での立体的な配線も可能となるので、回路結線
や、回路レイアウトが容易となり、回路の高機能化や高
性能化も容易となり、その上配線の高密度化や回路面積
の縮小も容易になる。また第3の配線と反射画素電極を
同時に形成しているため、工程の増加もなく、歩留まり
の低下もないため、コストの増加もなく産業上非常に有
意義である。本発明によらずに別の材料で第3の配線を
作製した場合、1層分配線を増やすのに層間絶縁膜を含
めて成膜工程や、マスク工程や、エッチング工程がそれ
ぞれ2度必要となる。
According to the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to the first aspect, the first to third wirings enable a three-dimensional wiring on the transistor, so that circuit connection and circuit layout can be reduced. This facilitates the enhancement of the functions and performance of the circuit, and also facilitates the increase in wiring density and the reduction of the circuit area. In addition, since the third wiring and the reflective pixel electrode are formed at the same time, there is no increase in the number of steps and no reduction in yield. When the third wiring is made of another material without depending on the present invention, a film forming process including an interlayer insulating film, a masking process, and an etching process are each required twice in order to increase the number of wirings for one layer. Become.

【0012】請求項2記載の周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置は、請求項1において、薄膜トランジスタ上に絶
縁膜を形成し、その上に第3の金属薄膜を加工した画素
電極と第3の配線とを有する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device with a built-in peripheral drive circuit according to the first aspect, wherein an insulating film is formed on the thin film transistor, and a third metal thin film is formed thereon and the third wiring. And

【0013】請求項2記載の周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置によれば、請求項1と同様な効果がある。
According to the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to the second aspect, the same effect as that of the first aspect can be obtained.

【0014】請求項3記載の周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置は、請求項2において、薄膜トランジスタがポリ
シリコン薄膜トランジスタである。
According to a third aspect of the present invention, in the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit, the thin film transistor is a polysilicon thin film transistor.

【0015】請求項3記載の周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置によれば、請求項2と同様な効果がある。
According to the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to the third aspect, the same effects as those of the second aspect can be obtained.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下、本発明の
第1の実施の形態について図1を参照しながら説明す
る。
(Embodiment 1) Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0017】図1と、図2は周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置の要部の部分模式断面図を示すものである。図1
は周辺駆動回路部であり、P型とN型の(CMOS構
成)薄膜トランジスタで構成されている。図2は画面部
である。図1と、図2において(図5および、図6と同
一構成のものは同じ符号を付している)、1はガラス基
板例えば歪点が650℃の高耐熱ガラス基板であり、2
は絶縁膜例えばSiO2であり、3はポリシリコン層例
えはレーザアニールにより結晶化したポリシリコン層で
あり、4はゲート絶縁膜例えばSiO2 であり、5はゲ
ート電極例えばCrを用いた電極であり、この第1の金
属薄膜を加工してゲート電極とともに第1の配線を形成
する。6はソース領域であり、7はドレイン領域であ
り、8は層間絶縁膜例えばSiO2 であり、9と10は
ソース領域とドレイン領域にコンタクトするソース・ド
レイン電極であり、例えばAlを用いた第2の金属薄膜
を加工してソース・ドレイン電極とともに第2の配線を
形成する。3から10で例えば1つのポリシリコン薄膜
トランジスタが構成されている。11は絶縁膜であるア
クリル系平坦化膜例えば膜厚が3μmであり、12は反
射画素電極であり、ドレイン電極10に接続している。
13は反射画素電極12と同一の第3の金属薄膜で、同
時に加工して第3の配線を構成している。14は液晶で
あり、15は配向膜であり、16は透明電極であり、1
7は対向基板である。第3の配線の材料は例えばAl、
AlTa、Agなどであり、ソース電極9またはドレイ
ン電極10に接続されている。
FIGS. 1 and 2 are partial schematic cross-sectional views of a main part of a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit. FIG.
Reference numeral denotes a peripheral drive circuit portion, which is composed of P-type and N-type (CMOS configuration) thin film transistors. FIG. 2 shows a screen unit. 1 and 2 (the same components as those in FIGS. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals). Reference numeral 1 denotes a glass substrate, for example, a high heat-resistant glass substrate having a strain point of 650 ° C.
Is an insulating film, for example, SiO 2 , 3 is a polysilicon layer, for example, a polysilicon layer crystallized by laser annealing, 4 is a gate insulating film, for example, SiO 2 , and 5 is a gate electrode, for example, an electrode using Cr. Yes, the first metal thin film is processed to form a first wiring together with a gate electrode. Reference numeral 6 denotes a source region, 7 denotes a drain region, 8 denotes an interlayer insulating film such as SiO 2 , 9 and 10 denote source / drain electrodes contacting the source region and the drain region. The second wiring is formed together with the source / drain electrodes by processing the second metal thin film. For example, one polysilicon thin film transistor is constituted by 3 to 10. Reference numeral 11 denotes an acrylic flattening film, which is an insulating film, for example, having a thickness of 3 μm. Reference numeral 12 denotes a reflective pixel electrode, which is connected to the drain electrode 10.
Reference numeral 13 denotes the same third metal thin film as that of the reflective pixel electrode 12, which is simultaneously processed to form a third wiring. 14 is a liquid crystal, 15 is an alignment film, 16 is a transparent electrode, 1
7 is a counter substrate. The material of the third wiring is, for example, Al,
It is made of AlTa, Ag, or the like, and is connected to the source electrode 9 or the drain electrode 10.

【0018】図1と、図2では、周辺駆動回路内蔵型液
晶表示装置の一部のみを示しており、この他に偏光板
や、位相フィルムや、外部回路等で周辺駆動回路内蔵型
液晶表示装置が構成される。
FIGS. 1 and 2 show only a part of a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit. In addition, a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit is composed of a polarizing plate, a phase film, an external circuit and the like. The device is configured.

【0019】図1および図2では3つのトランジスタの
接続を記載したが実際には数千または数万のトランジス
タを配線して周辺駆動回路を形成している。
Although FIGS. 1 and 2 show the connection of three transistors, thousands or tens of thousands of transistors are actually wired to form a peripheral driving circuit.

【0020】第1の実施の形態によれば、3層の配線を
用いる事により回路配線レイアウトの自由度が大幅に増
す。
According to the first embodiment, the degree of freedom of the circuit wiring layout is greatly increased by using three layers of wiring.

【0021】(実施の形態2)以下、本発明の第2の実
施の形態について図2を参照しながら説明する。
(Embodiment 2) Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0022】図3および、図4は周辺駆動回路内蔵型液
晶表示装置の要部の部分模式断面図を示すものである。
図3は周辺駆動回路部であり、P型とN型の(CMOS
構成)薄膜トランジスタで構成されている。図4は画面
部である。図3と、図4において(図5および、図6と
同一構成のものは同じ符号を付している)、1はガラス
基板例えば歪点が650℃の高耐熱ガラス基板であり、
103はポリシリコン層例えばレーザアニールにより結
晶化したポリシリコン層であり、104Aはゲート絶縁
膜例えばSiNxであり、104Bはゲート絶縁膜例え
ばSiO2 であり、105はゲート電極例えばCrを用
いた電極であり、この第1の金属薄膜を加工してゲート
電極とともに第1の配線を形成する。118は絶縁膜例
えばSiO2 などであり、6はソース領域であり、7は
ドレイン領域であり、8は層間絶縁膜例えばSiO2
あり、9と10はソース領域とドレイン領域にコンタク
トするソース・ドレイン電極であり、例えばAlを用い
て第2の金属薄膜を加工してソース・ドレイン電極とと
もに第2の配線を形成する。6から10と、103と、
104Aと、104Bと、105と、118で例えば1
つのポリシリコン薄膜トランジスタが構成されている。
11は絶縁膜であるアクリル系平坦化膜例えば膜厚が3
μmの膜であり、12は反射画素電極であり、13は反
射画素電極12と同一の第3の金属薄膜で、同時に加工
して第3の配線を構成している。14は液晶であり、1
5は配向膜であり、16は透明電極であり、17は対向
基板である。
FIG. 3 and FIG. 4 are partial schematic cross-sectional views of main parts of a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit.
FIG. 3 shows a peripheral drive circuit section, which is a P-type and an N-type (CMOS).
Configuration) It is composed of a thin film transistor. FIG. 4 shows a screen unit. In FIGS. 3 and 4 (the same components as those in FIGS. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals), 1 is a glass substrate, for example, a high heat-resistant glass substrate having a strain point of 650 ° C.
103 is a polysilicon layer, for example, a polysilicon layer crystallized by laser annealing, 104A is a gate insulating film, for example, SiNx, 104B is a gate insulating film, for example, SiO 2 , and 105 is a gate electrode, for example, an electrode using Cr. Yes, the first metal thin film is processed to form a first wiring together with a gate electrode. Reference numeral 118 denotes an insulating film such as SiO 2, reference numeral 6 denotes a source region, reference numeral 7 denotes a drain region, reference numeral 8 denotes an interlayer insulating film such as SiO 2 , and reference numerals 9 and 10 denote source and source regions which contact the source region and the drain region. A second metal thin film is processed using, for example, Al to form a second wiring together with the source / drain electrodes. 6 to 10, 103,
104A, 104B, 105, and 118, for example, 1
One polysilicon thin film transistor is formed.
Reference numeral 11 denotes an acrylic planarizing film which is an insulating film, for example, having a thickness of 3
A film 12 μm, 12 is a reflective pixel electrode, and 13 is the same third metal thin film as the reflective pixel electrode 12, and is processed at the same time to form a third wiring. 14 is a liquid crystal, 1
5 is an alignment film, 16 is a transparent electrode, and 17 is a counter substrate.

【0023】第3の配線13は第1の実施の形態と同様
に接続されている。
The third wiring 13 is connected in the same manner as in the first embodiment.

【0024】図3と、図4では、周辺駆動回路内蔵型液
晶表示装置の一部のみを示しており、この他に偏光板
や、位相フィルムや、外部回路等で周辺駆動回路内蔵型
液晶表示装置が構成される。
FIGS. 3 and 4 show only a part of the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit. In addition, a liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit using a polarizing plate, a phase film, an external circuit, or the like. The device is configured.

【0025】図3および図4では3つのトランジスタの
接続を記載したが実際には数千または数万のトランジス
タを配線して周辺駆動回路を形成している。
FIGS. 3 and 4 show the connection of three transistors, but in practice thousands or tens of thousands of transistors are wired to form a peripheral drive circuit.

【0026】第2の実施の形態によれば、3層配線を用
いる事により回路配線レイアウトの自由度が大幅に増
す。
According to the second embodiment, the use of three-layer wiring greatly increases the degree of freedom in circuit wiring layout.

【0027】[0027]

【発明の効果】請求項1記載の周辺駆動回路内蔵型液晶
表示装置によれば、第1から第3の配線により、トラン
ジスタ上での立体的な配線も可能となるので、回路結線
や、回路レイアウトが容易となり、回路の高機能化や高
性能化も容易となり、その上配線の高密度化や回路面積
の縮小も容易になる。また第3の配線と反射画素電極を
同時に形成しているため、工程の増加もなく、歩留まり
の低下もないため、コストの増加もなく産業上非常に有
意義である。本発明によらずに別の材料で第3の配線を
作製した場合、1層分配線を増やすのに層間絶縁膜を含
めて成膜工程や、マスク工程や、エッチング工程がそれ
ぞれ2度必要となる。
According to the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to the first aspect of the present invention, the first to third wirings enable a three-dimensional wiring on the transistor. The layout becomes easy, the function and the performance of the circuit become easy, and the wiring density and the circuit area also become easy. In addition, since the third wiring and the reflective pixel electrode are formed at the same time, there is no increase in the number of steps and no reduction in yield. In the case where the third wiring is formed of another material without depending on the present invention, a film forming process including an interlayer insulating film, a masking process, and an etching process are each required twice in order to increase the number of wirings for one layer. Become.

【0028】請求項2記載の周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置によれば、請求項1と同様な効果がある。
According to the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to the second aspect, the same effects as those of the first aspect can be obtained.

【0029】請求項3記載の周辺駆動回路内蔵型液晶表
示装置によれば、請求項2と同様な効果がある。
According to the liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to the third aspect, the same effects as those of the second aspect can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の周辺駆動回路内蔵
型液晶表示装置の説明のための周辺駆動回路部の説明図
FIG. 1 is an explanatory diagram of a peripheral drive circuit unit for describing a liquid crystal display device with a built-in peripheral drive circuit according to a first embodiment of the present invention;

【図2】その画面部の説明図FIG. 2 is an explanatory diagram of the screen unit.

【図3】本発明の第2の実施の形態の周辺駆動回路内蔵
型液晶表示装置の説明のための周辺駆動回路部の説明図
FIG. 3 is an explanatory diagram of a peripheral drive circuit unit for describing a liquid crystal display device with a built-in peripheral drive circuit according to a second embodiment of the present invention;

【図4】その画面部の説明図FIG. 4 is an explanatory view of the screen section.

【図5】従来の周辺駆動回路内蔵型液晶表示装置の説明
のための周辺駆動回路部の説明図
FIG. 5 is an explanatory diagram of a peripheral drive circuit portion for describing a conventional liquid crystal display device with a built-in peripheral drive circuit.

【図6】その画面部の説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of the screen section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 絶縁膜 3 ポリシリコン層 4 ゲート絶縁膜 5 ゲート電極(第1の配線) 6 ソース領域 7 ドレイン領域 8 層間絶縁膜 9 ソース電極(第2の配線) 10 ドレイン電極(第2の配線) 11 平坦化膜 12 反射画素電極 13 第3の配線 14 液晶 15 配向膜 16 透明電極 17 対向基板 103 ポリシリコン層 104A ゲート絶縁膜 104B ゲート絶縁膜 105 ゲート電極 118 絶縁膜 Reference Signs List 1 glass substrate 2 insulating film 3 polysilicon layer 4 gate insulating film 5 gate electrode (first wiring) 6 source region 7 drain region 8 interlayer insulating film 9 source electrode (second wiring) 10 drain electrode (second wiring) 11) Flattening film 12 Reflecting pixel electrode 13 Third wiring 14 Liquid crystal 15 Alignment film 16 Transparent electrode 17 Counter substrate 103 Polysilicon layer 104A Gate insulating film 104B Gate insulating film 105 Gate electrode 118 Insulating film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 29/786 H01L 29/78 612B 612C 619B Fターム(参考) 2H092 GA59 JA25 JA26 JA34 JA37 JA41 JB07 JB22 JB31 JB57 JB58 KA04 MA13 MA17 MA30 NA27 NA29 PA09 PA10 PA11 PA12 5C094 AA15 AA21 BA03 BA43 CA19 CA24 DA09 DA14 DA15 EA04 EA05 EA06 EA07 EB02 ED11 5F110 AA04 AA16 AA30 BB02 BB04 CC02 CC08 DD02 DD07 DD13 EE04 FF02 FF03 FF09 GG02 GG13 HL03 NN03 NN23 NN27 NN72 PP03 5G435 AA16 AA18 BB12 EE33 EE37 GG21 HH12 HH14 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 29/786 H01L 29/78 612B 612C 619B F-term (Reference) 2H092 GA59 JA25 JA26 JA34 JA37 JA41 JB07 JB22 JB31 JB57 JB58 KA04 MA13 MA17 MA30 NA27 NA29 PA09 PA10 PA11 PA12 5C094 AA15 AA21 BA03 BA43 CA19 CA24 DA09 DA14 DA15 EA04 EA05 EA06 EA07 EB02 ED11 5F110 AA04 AA16 AA30 BB02 BB04 CC02 CC08 DD02 NN03 FF03 NN03 FF03 NN03 FF03 NN03 FF04 5G435 AA16 AA18 BB12 EE33 EE37 GG21 HH12 HH14

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄膜トランジスタのゲート電極を形成す
る第1の金属薄膜を加工した第1の配線と、前記薄膜ト
ランジスタのソース・ドレイン領域にコンタクトする第
2の金属薄膜を加工した第2の配線と、反射画素電極と
して用いる第3の金属薄膜を加工した第3の配線とを備
え、前記第1の配線と、前記第2の配線と、前記第3の
配線を周辺駆動回路の一部とした周辺駆動回路内蔵型液
晶表示装置。
A first wiring formed by processing a first metal thin film forming a gate electrode of the thin film transistor; a second wiring formed by processing a second metal thin film contacting a source / drain region of the thin film transistor; A third wiring formed by processing a third metal thin film used as a reflective pixel electrode, wherein the first wiring, the second wiring, and the periphery having the third wiring as a part of a peripheral driving circuit; Liquid crystal display device with built-in drive circuit.
【請求項2】 薄膜トランジスタ上に絶縁膜を形成し、
その上に第3の金属薄膜を加工した画素電極と第3の配
線とを有する請求項1に記載の周辺駆動回路内蔵型液晶
表示装置。
2. An insulating film is formed on the thin film transistor,
2. The liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to claim 1, further comprising a pixel electrode formed by processing a third metal thin film and a third wiring thereon.
【請求項3】 薄膜トランジスタがポリシリコン薄膜ト
ランジスタである請求項2に記載の周辺駆動回路内蔵型
液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device with a built-in peripheral driving circuit according to claim 2, wherein the thin film transistor is a polysilicon thin film transistor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002229061A (en) * 2001-02-01 2002-08-14 Sony Corp Thin film semiconductor device and reflective display device

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