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JP2001278637A - Low reflection glass article - Google Patents

Low reflection glass article

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Publication number
JP2001278637A
JP2001278637A JP2000375694A JP2000375694A JP2001278637A JP 2001278637 A JP2001278637 A JP 2001278637A JP 2000375694 A JP2000375694 A JP 2000375694A JP 2000375694 A JP2000375694 A JP 2000375694A JP 2001278637 A JP2001278637 A JP 2001278637A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
low
fine particles
film
reflection
glass article
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000375694A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4527272B2 (en
Inventor
Toshifumi Tsujino
敏文 辻野
Hideki Okamoto
秀樹 岡本
Tetsuo Kawahara
哲郎 河原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority to JP2000375694A priority Critical patent/JP4527272B2/en
Publication of JP2001278637A publication Critical patent/JP2001278637A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4527272B2 publication Critical patent/JP4527272B2/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a single layer low reflection film which has low reflection coefficient, strong film strength with excellent abrasion resistance and moreover easy to remove the dirt. SOLUTION: The low reflection glass article formed on the glass substrate with the low reflection glass film composed of silica particles and binder is characterized in that the low reflection glass film contains the silica particles and the binder in a wt. ratio of 60:40-95:5 respectively, and the low reflection glass film is formed by coating the glass substrate with coating liquid which is prepared by mixing the raw material particles composed of at least one of non-aggregation silica grains with average grain diameter of 40-1000 nm and chain aggregation silica particles with an average primary diameter of 10-100 nm, with a hydrolyzable metal compound, water and solvent, then hydrolyze the hydrolyzable metal compound in the presence of the raw material particles, and thereafter heat treating is executed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、車両用のガラス
窓、建築用窓、ショーウインドウ、ディスプレイ、太陽
電池用ガラス基板、太陽熱温水器用ガラス板、光学ガラ
ス部品などの低反射ガラス物品に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to low-reflection glass articles such as glass windows for vehicles, architectural windows, show windows, displays, glass substrates for solar cells, glass plates for solar water heaters, and optical glass parts. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガラス基体の可視光反射率の低減には、
ガラス基体上に膜を付与することによる低反射化が広く
知られている。ガラス板上に2層以上の膜を積層して、
光の干渉作用を利用して低反射化を実現する方法として
は、例えば、特開平4−357134号公報には、透明
ガラス基板の少なくとも片側表面にガラス面側から第1
層目として屈折率がn1=1.8〜1.9でかつ膜厚が
700〜900オンク゛ストロームである薄膜層を被覆し、次い
で該1層目薄膜上に、第2層として屈折率がn2=1.
4〜1.5でかつ膜厚が1100〜1300オンク゛ストローム
である薄膜層を被覆積層してなり、さらに前記表面の垂
直線となす入射角が50度〜70度の間で入射する膜面
側の可視光に対し、前記薄膜被覆積層面における反射率
を4.5〜6.5%低減せしめて成ることを特徴とする
2層膜構成の車両用反射低減ガラスが開示されている。
また、特開平4−357135号公報には3層膜からな
る低反射膜を施したガラスが提案されている。
2. Description of the Related Art To reduce the visible light reflectance of a glass substrate,
It is widely known that the reflection is reduced by providing a film on a glass substrate. Laminate two or more layers on a glass plate,
As a method of realizing low reflection by utilizing the interference effect of light, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-357134 discloses a method in which at least one surface of a transparent glass substrate is placed on the first surface from the glass surface side.
As a first layer, a thin film layer having a refractive index of n1 = 1.8 to 1.9 and a film thickness of 700 to 900 angstroms is coated. Then, a second layer having a refractive index of n2 = 1.
A thin film layer having a thickness of 4 to 1.5 and a thickness of 1100 to 1300 angstroms is coated and laminated. A reflection-reducing glass for vehicles having a two-layer film structure, wherein the reflectance of visible light on the thin-film-coated laminated surface is reduced by 4.5 to 6.5% is disclosed.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-357135 proposes a glass provided with a low-reflection film composed of a three-layer film.

【0003】一方、ガラス上に1層の膜を設けて、反射
を低減する方法としては、例えば特開昭63−1931
01号公報には、ガラス体の表面上に、SiO2の微粒子を
添加したSi(OR)4(Rはアルキル基)のアルコール溶液
を塗布後乾燥し、ガラス体表面上にSiO2微粒子及びこれ
を被覆するSiO2薄膜を付着させてなる反射防止膜が開示
されている。
On the other hand, a method of reducing reflection by providing a single layer film on glass is disclosed in, for example, JP-A-63-1931.
The 01 discloses, on the surface of the glass body, Si was added in SiO 2 fine particles (OR) 4 (R is an alkyl group) and dried after coating an alcohol solution of, SiO 2 fine particles and which on the body surface There is disclosed an antireflection film formed by depositing a SiO 2 thin film for covering the substrate.

【0004】特開昭62−17044号公報には、5〜
100nmの粒径を有するコロイダルシリカにテトラエ
トキシシランのような金属アルコレートを、コロイダル
シリカ1モルに対し金属アルコレート1モルの割合で混
合し、アルコールなどの有機溶媒に溶解した混合液を加
水分解し部分縮合させたゾル溶液を光学素子表面にコー
ティングし、熱処理した反射防止膜が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-17044 discloses that
A metal alcoholate such as tetraethoxysilane is mixed with colloidal silica having a particle size of 100 nm at a ratio of 1 mole of metal alcoholate to 1 mole of colloidal silica, and a mixed solution dissolved in an organic solvent such as alcohol is hydrolyzed. An antireflection film is disclosed in which a sol solution that has been partially condensed is coated on the surface of an optical element and then heat-treated.

【0005】また、特開平11−292568号公報に
は、鎖状のシリカ微粒子およびそれに対し5〜30重量
%のシリカを含有する、110〜250nmの厚みの低
反射膜を被覆した可視光低反射ガラスが開示されてい
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-292568 discloses a low visible light reflection coated with a low reflection film having a thickness of 110 to 250 nm containing fine silica particles in chain and 5 to 30% by weight of silica based on the fine particles. Glass is disclosed.

【0006】これらの1層の低屈折率層による低反射膜
は、Optical Engineering Vol.21No.6、(1982)Page
1039〜に記載されているように、反射率の入射角依存
性が小さいこと、反射率の波長依存性が小さいことによ
り低反射の波長帯域が広いことが知られている。
[0006] These low-reflection films formed of one low-refractive-index layer are disclosed in Optical Engineering Vol. 21 No. 6, (1982) Page.
As described in No. 1039, it is known that the wavelength dependence of reflectance is small due to the small dependence of the reflectance on the incident angle and the small wavelength dependence of the reflectance.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】膜を積層する2層膜以
上の構成からなる被覆膜をガラス基体に施す方法は、確
実に可視光を低反射化できる方法であるが、干渉条件を
満たすように膜厚を厳密に規定する必要があり、またコ
ーティング回数が2回以上必要となることから、製造コ
ストが高く好ましくない。また、前記二層膜以上の膜は
反射率の入射角依存性が強くなるので、設計した入射角
度以外では反射率は必ずしも低くない。この点では屈折
率の低い1層による低反射膜をガラス基体に施す方が上
述のように低反射の波長帯域が広い。
The method of applying a coating film composed of two or more layers of a film to a glass substrate is a method capable of reliably reducing visible light, but satisfies interference conditions. As described above, the film thickness must be strictly defined, and the number of coating times must be two or more. Further, since the reflectance of the film having two or more layers is more dependent on the incident angle, the reflectance is not necessarily low except at the designed incident angle. In this respect, when a low-reflection film composed of a single layer having a low refractive index is applied to a glass substrate, the wavelength band of low reflection is wider as described above.

【0008】前記特開昭62−17044号公報および
前記特開昭63−193101号公報に開示されている
反射防止膜では、得られる反射防止性能は十分ではな
い。また、前記特開平11-292568号公報に開示されてい
る可視光低反射ガラスは、低い反射率を実現した単層の
低反射膜であるが、往復摩耗試験のような表面を擦るよ
うな評価では膜強度が十分であるが、テーハ゛ー摩耗試験の
ようなさらに厳しい耐摩耗性試験では、膜強度が不十分
という問題点があった。また、油汚れが付着した場合に
は、乾布及び湿布で拭いて汚れが取れず、反射率が上昇
する問題があった。
The antireflection films disclosed in the above-mentioned JP-A-62-17044 and JP-A-63-193101 do not provide sufficient antireflection performance. Further, the visible light low-reflection glass disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-292568 is a single-layer low-reflection film that achieves a low reflectance, but is evaluated such that the surface is rubbed as in a reciprocating wear test. However, there is a problem that the film strength is insufficient in a more severe abrasion resistance test such as a Tehber wear test. In addition, when oil stains adhere, there is a problem that the stains cannot be removed by wiping with a dry cloth or a compress and the reflectance increases.

【0009】本発明は、単層で、低い反射率を有し、耐
摩耗試験などを満足する強い膜強度を有し、しかも汚れ
除去性に優れた、可視光または赤外光の低反射膜を提供
することを目的とする。
The present invention is a single-layer, low-reflection film for visible light or infrared light which has a low reflectance, a high film strength satisfying a wear resistance test and the like, and is excellent in stain removal. The purpose is to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、シリカ微粒子
およびバインダーからなる低反射膜をガラス基体上に形
成した低反射ガラス物品において、前記低反射膜は前記
シリカ微粒子と前記バインダーを重量比で60:40〜
95:5の割合でそれぞれ含有し、そして前記低反射膜
は、(1)平均粒径が40〜1000nmの非凝集シリ
カ微粒子および平均一次粒径が10〜100nmの鎖状
凝集シリカ微粒子の少なくとも一方からなる原料微粒
子、(2)加水分解可能な金属化合物、(3)水、およ
び(4)溶媒を混合し、そして前記加水分解可能な金属
化合物を前記原料微粒子の存在下で加水分解して調製さ
れたコーティング液を前記ガラス基体上に被覆し、加熱
処理することにより形成されたものであることを特徴と
する低反射ガラス物品である。
According to the present invention, there is provided a low-reflection glass article having a low-reflection film comprising silica fine particles and a binder formed on a glass substrate, wherein the low-reflection film comprises the silica fine particles and the binder in a weight ratio. 60: 40-
95: 5, and the low reflection film comprises: (1) at least one of non-aggregated silica fine particles having an average particle diameter of 40 to 1000 nm and chain-like aggregated silica fine particles having an average primary particle diameter of 10 to 100 nm. And (2) a hydrolyzable metal compound, (3) water and (4) a solvent, and hydrolyzing the hydrolyzable metal compound in the presence of the raw material fine particles. A low-reflection glass article characterized by being formed by coating the coated glass substrate on the glass substrate and performing a heat treatment.

【0011】本発明において用いられるシリカ微粒子は
いかなる製法で作られたものでも良く、ゾルゲル法によ
りシリコンアルコキシドをアンモニア等の塩基性触媒下
で反応させて合成されたシリカ微粒子や、珪酸ソーダな
どを原料としたコロイダルシリカ、気相で合成されるヒ
ュームドシリカなどが例示される。シリカ微粒子の粒径
により、得られる低反射膜の構造は大きく変化する。シ
リカ微粒子の粒径が小さ過ぎると、低反射膜内の粒子間
に生成する空孔の大きさが小さくなって毛管力が増し、
付着した汚れが取れにくくなったり、空気中の水分や有
機物が徐々に前記空孔に入り込むため反射率が経時的に
上昇する。またシリカ微粒子同士およびシリカ微粒子と
ガラス基体との接着に用いられるバインダーの量は後述
のようにその上限が定められいるので、シリカ微粒子の
粒径が小さ過ぎると、微粒子の表面積が相対的に大きく
なり、その表面と反応するバインダー量が不足すること
になり、結果として膜の密着力が弱くなる。また、シリ
カ微粒子径(一次粒径)が小さ過ぎると、形成される膜
表面の凹凸粗さの値または膜内部空隙率(シリカ微粒子
の間の空間でバインダーが埋められていない空間の、膜
体積に対する割合)は小さくなり見かけの屈折率は上昇
する。従って、(1)低反射膜の汚れが取れやすくする
ために、(2)膜強度を高めるために、そして(3)見
かけの屈折率を、低反射膜が被覆されるガラス基体の屈
折率(約1.5)の平方根値(約1.22)に近くなる
ように、下げるために、シリカ微粒子(屈折率約1.4
5)の一次粒径の平均値が40nm以上であることが望
ましく、50nm以上であることがより好ましい。また
シリカ微粒子の粒径が大きすぎると、光の散乱が激しく
なり、またガラス基体との密着性も弱くなる。透視性が
要求される用途、すなわち、ヘイズ率が低いこと、例え
ば1%以下のヘイズ率、が望まれる用途、例えば車両、
建築の窓では、シリカ微粒子の平均粒径は500nm以
下が好ましく、300nm以下がより好ましい。最も好
ましいシリカ微粒子の平均粒径は、50〜200nmで
あり、さらには70〜160nmが最も良い。
The silica fine particles used in the present invention may be prepared by any method. For example, silica fine particles synthesized by reacting silicon alkoxide by a sol-gel method under a basic catalyst such as ammonia or sodium silicate may be used as a raw material. Colloidal silica, fumed silica synthesized in the gas phase, and the like. The structure of the obtained low-reflection film greatly changes depending on the particle size of the silica fine particles. If the particle size of the silica fine particles is too small, the size of the pores generated between the particles in the low reflection film becomes small, and the capillary force increases,
The adhered dirt becomes difficult to remove, and moisture and organic substances in the air gradually enter the pores, so that the reflectance increases with time. In addition, since the upper limit of the amount of the binder used for bonding the silica fine particles to each other and the silica fine particles and the glass substrate is set as described below, if the particle size of the silica fine particles is too small, the surface area of the fine particles is relatively large. As a result, the amount of the binder that reacts with the surface becomes insufficient, and as a result, the adhesion of the film becomes weak. On the other hand, if the silica fine particle diameter (primary particle diameter) is too small, the roughness of the surface of the formed film or the porosity inside the film (the film volume of the space between the silica fine particles where the binder is not buried). ) And the apparent refractive index increases. Therefore, (1) in order to easily remove dirt from the low reflection film, (2) to increase the film strength, and (3) to change the apparent refractive index by the refractive index ( In order to lower the value so as to be close to the square root value (about 1.22) of about 1.5), silica fine particles (refractive index of about 1.4) were used.
5) The average primary particle diameter is desirably 40 nm or more, and more desirably 50 nm or more. On the other hand, if the particle size of the silica fine particles is too large, the scattering of light becomes severe, and the adhesion to the glass substrate becomes weak. Applications where transparency is required, that is, applications where a low haze ratio, for example, a haze ratio of 1% or less, is desired, for example, vehicles,
In architectural windows, the average particle size of the silica fine particles is preferably 500 nm or less, more preferably 300 nm or less. The most preferred average particle size of the silica fine particles is 50 to 200 nm, and most preferably 70 to 160 nm.

【0012】一方、透視性を必要とせず、しかもそれほ
ど強い膜強度を必要としない用途、例えば、太陽電池用
のガラス基板では、反射率を下げることにより透過率を
上げることが重要である。また、前記ガラス基板に近接
して設けるシリコン膜内での太陽光の吸収効率を上げる
ためには、シリコン膜に入射した太陽光のシリコン膜中
での光路長を長くすることが有利となる。低反射膜を通
過する光は直進透過光と拡散透過光に分けることがで
き、直進透過光の量に対する拡散透過光の量が増大する
とヘイズ率が増大する。全光線透過率が同一(従って反
射率が同一)である低反射膜で比較した場合、上記の光
路長を長くするには、低反射膜を通過した後の光のう
ち、拡散透過光の量を大きくなるような低反射膜、すな
わちヘイズ率が大きい低反射膜例えば10〜80%のヘ
イズ率を有する低反射膜が好ましい。この大きなヘイズ
率の低反射膜には、100nm〜1000nmの平均粒
径を有するシリカ微粒子を使用することが好ましい。
On the other hand, in an application that does not require transparency and does not require very high film strength, for example, in a glass substrate for a solar cell, it is important to increase the transmittance by lowering the reflectance. Further, in order to increase the efficiency of absorbing sunlight in the silicon film provided close to the glass substrate, it is advantageous to increase the optical path length of sunlight incident on the silicon film in the silicon film. Light passing through the low-reflection film can be divided into straight transmitted light and diffuse transmitted light, and the haze ratio increases as the amount of diffuse transmitted light with respect to the amount of straight transmitted light increases. In comparison with a low-reflection film having the same total light transmittance (therefore, the same reflectance), the length of the optical path can be increased by increasing the amount of diffusely transmitted light in the light after passing through the low-reflection film. , That is, a low reflection film having a large haze ratio, for example, a low reflection film having a haze ratio of 10 to 80%. For the low reflection film having a large haze ratio, it is preferable to use silica fine particles having an average particle diameter of 100 nm to 1000 nm.

【0013】原料微粒子としてのシリカ微粒子の平均粒
径は、1万倍〜5万倍の透過電子顕微鏡により、その平
面的視野の中で実際に一次粒子(凝集して鎖状二次粒子
を形成している場合は個々の一次粒子)の直径(長径お
よび短径の平均値)を実測し、下記式による微粒子個数
(n=100)の数平均した値dとして定義する。従っ
てこの測定値は、コロイダルシリカなどで表示されてい
るBET法による粒子径とは異なる。シリカ微粒子の真
球度は各微粒子の長軸長さと短軸長さの比を100個平
均した値で表す。また、微粒子の粒度分布を表す、微粒
子粒径の標準偏差は上記直径から下記の式2および3に
より求める。なお各式においてn=100である。
The average particle size of silica fine particles as raw material fine particles is actually measured by a transmission electron microscope of 10,000 to 50,000 times in a planar field of view. In this case, the diameter (average value of the major axis and the minor axis) of each primary particle) is actually measured, and defined as a number average value d of the number of fine particles (n = 100) according to the following equation. Therefore, this measured value is different from the particle diameter according to the BET method indicated by colloidal silica or the like. The sphericity of the silica fine particles is represented by a value obtained by averaging 100 ratios of the major axis length and the minor axis length of each fine particle. The standard deviation of the particle size, which represents the particle size distribution of the particles, is determined from the above diameter by the following formulas 2 and 3. In each equation, n = 100.

【数1】 (Equation 1)

【数2】 (Equation 2)

【数3】標準偏差=(d+σ)/d (3)## EQU3 ## Standard deviation = (d + σ) / d (3)

【0014】シリカ微粒子の真球度が1.0〜1.2で
あれば、微粒子の充填度を高めた低反射膜が形成されて
膜の機械的強度が高くなるので好ましい。より好ましい
真球度は1.0〜1.1である。また、粒径の揃ったシ
リカ微粒子を使用した方が、微粒子間の空隙を大きくす
ることができるので、膜の見かけの屈折率が下がり、反
射率を低くできる。従ってシリカ微粒子の粒度分布を表
すその粒径の標準偏差は1.0〜1.5であることが好
ましく、より好ましくは1.0〜1.3、さらに好まし
くは1.0〜1.1である。
When the sphericity of the silica fine particles is 1.0 to 1.2, a low-reflection film having a high degree of filling of the fine particles is formed, and the mechanical strength of the film is increased. More preferable sphericity is 1.0 to 1.1. In addition, when silica fine particles having a uniform particle diameter are used, the gap between the fine particles can be increased, so that the apparent refractive index of the film decreases and the reflectance can be lowered. Therefore, the standard deviation of the particle size representing the particle size distribution of the silica fine particles is preferably from 1.0 to 1.5, more preferably from 1.0 to 1.3, still more preferably from 1.0 to 1.1. is there.

【0015】平均粒径が40〜1000nmの非凝集シ
リカ微粒子としては、市販品、例えば日産化学製の「ス
ノーテックスOL」、「スノーテックスYL」、「スノ
ーテックスZL」や日本触媒製の「シーホスターKE−
W10」、「シーホスターKE−W20」、「シーホス
ターKE−W30」「シーホスターKE−W50」、
「シーホスターKE−E70」、「シーホスターKE−
E90」などが好適である。シリカ微粒子は、溶媒に分
散させたシリカ微粒子分散液が取り扱いやすく好適であ
る。分散媒としては、水、アルコール類、セロソルブ
類、グリコール類などがあり、これら分散媒に分散させ
たシリカ微粒子分散液が市販されている。また、シリカ
微粒子粉末をこれら分散媒に分散させて使用しても良
い。
As non-agglomerated silica fine particles having an average particle size of 40 to 1000 nm, commercially available products such as "Snowtex OL", "Snowtex YL" and "Snowtex ZL" manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. and "Sea Hostar" manufactured by Nippon Shokubai KE-
W10 "," Seahoster KE-W20 "," Seahoster KE-W30 "," Seahoster KE-W50 ",
"Sea Hoster KE-E70", "Sea Hoster KE-
E90 "and the like are preferable. As the silica fine particles, a silica fine particle dispersion liquid dispersed in a solvent is preferable because it is easy to handle. Examples of the dispersion medium include water, alcohols, cellosolves, and glycols, and silica fine particle dispersions dispersed in these dispersion media are commercially available. Further, silica fine powder may be used by dispersing it in these dispersion media.

【0016】微粒子が複数個凝集して凝集微粒子(二次
微粒子)を形成する場合、その凝集微粒子を構成する個
々の微粒子(一次微粒子)の平均粒径を平均一次粒径と
定義する。 微粒子が枝分かれしない鎖状または枝分か
れした鎖状に凝集した微粒子の集合体(鎖状凝集微粒
子)であれば、膜形成時に各微粒子がその凝集状態を維
持したまま固定されるので膜がかさ高くなり、形成され
る膜表面の凹凸粗さの値および膜内部空隙率は、その鎖
状凝集微粒子の平均一次粒径と同一の平均粒径を有する
非凝集シリカ微粒子の場合に比して、大きくなる。従っ
て鎖状凝集シリカ微粒子としては、40nm未満の平均
一次粒径を有するものであってもよく、10〜100n
mの平均一次粒径dを有する鎖状凝集シリカ微粒子が使
用される。そして鎖状凝集シリカ微粒子は60〜500
nmの平均長さ(L)、および3〜20の平均一次粒径
に対する平均長さの比(L/d)を有することが好まし
い。この鎖状凝集シリカ微粒子の例としては、日産化学
社製の「スノーテックスOUP」、「スノーテックスU
P」がある。
When a plurality of fine particles are aggregated to form aggregated fine particles (secondary fine particles), the average particle size of the individual fine particles (primary fine particles) constituting the aggregated fine particles is defined as the average primary particle size. In the case of an aggregate of fine particles that are aggregated in a chain shape or a branched chain in which the fine particles are not branched (chain-like aggregated fine particles), the film becomes bulky because each fine particle is fixed while maintaining the aggregated state during film formation. The value of the roughness of the surface of the formed film and the porosity inside the film are larger than those of the non-agglomerated silica fine particles having the same average particle size as the average primary particle size of the chain aggregated fine particles. . Therefore, as the chain-like aggregated silica fine particles, those having an average primary particle size of less than 40 nm may be used.
Chain aggregated silica fine particles having an average primary particle diameter d of m are used. The chain aggregated silica fine particles have a particle size of 60 to 500.
It preferably has an average length (L) of nm and a ratio of the average length to the average primary particle size (L / d) of 3-20. Examples of the chain-like aggregated silica fine particles include “Snowtex OUP” and “Snowtex U” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
P ".

【0017】低反射膜を形成するためのコーティング液
の調製は、シリカ微粒子の存在下で加水分解可能な金属
化合物の加水分解を行うことによりなされ、それにより
得られる膜の機械的強度が格段に向上する。シリカ微粒
子の存在下で前記金属化合物を加水分解する本発明の場
合には、加水分解により生じた生成物と微粒子表面に存
在するシラノールとの縮合反応が加水分解とほぼ同時に
起こり、従って(1)微粒子の表面の反応性がバインダ
ー成分との縮合反応により向上し、(2)さらにその縮
合反応が進むことによりシリカ微粒子表面がバインダー
で被覆されていくので、バインダーがシリカ微粒子とガ
ラス基体との接着性向上に有効に利用される。他方、微
粒子が存在しない状態で前記金属化合物の加水分解を行
うと、加水分解生成物同士での縮合反応によりバインダ
ー成分は高分子化する。この高分子化したバインダー成
分とシリカ微粒子を混合してコーティング液の調製を行
った場合には、(1)バインダー成分とシリカ微粒子間
の縮合反応はほとんど生じないので、微粒子表面の反応
性は乏しく、そして(2)シリカ微粒子表面がほとんど
バインダーで被覆されていない。従って、ガラスとシリ
カ微粒子との接着性を前者と同様に高めようとすると、
より多くのバインダー成分を必要とする。
The preparation of a coating solution for forming a low-reflection film is carried out by hydrolyzing a hydrolyzable metal compound in the presence of silica fine particles, whereby the mechanical strength of the resulting film is significantly improved. improves. In the case of the present invention in which the metal compound is hydrolyzed in the presence of silica fine particles, the condensation reaction between the product generated by the hydrolysis and the silanol present on the surface of the fine particles occurs almost simultaneously with the hydrolysis. The reactivity of the surface of the fine particles is improved by the condensation reaction with the binder component, and (2) the surface of the silica fine particles is coated with the binder as the condensation reaction further proceeds. It is used effectively to improve the performance. On the other hand, when the metal compound is hydrolyzed in the absence of fine particles, the binder component is polymerized by a condensation reaction between the hydrolysis products. When a coating solution is prepared by mixing the polymerized binder component and silica fine particles, (1) the condensation reaction between the binder component and the silica fine particles hardly occurs, so that the reactivity of the fine particle surface is poor. And (2) the surface of the silica fine particles is hardly coated with the binder. Therefore, when trying to increase the adhesion between glass and silica fine particles in the same manner as the former,
Requires more binder components.

【0018】コロイダルシリカ(平均粒径50nm、日
産化学製「スノーテックスOL」)と予め加水分解した
テトラエトキシシランとをそれぞれ固形分比で80:2
0で混合し、さらに加水分解触媒、水、および溶媒を混
合させて調製したコーティング液を用いて作製した膜B
(比較例)と、上記コロイダルシリカとテトラエトキシ
シランとをそれぞれ固形分比で80:20で混合し、さ
らに加水分解触媒、水、および溶媒を混合し、25℃で
24時間攪拌して上記コロイダルシリカ存在下でテトラ
エトキシシランを加水分解して調製したコーティング液
を用いて作製した膜A(本発明)とを、それぞれ10万
倍に拡大した電子顕微鏡(SEM)写真で比較した。膜
Aおよび膜Bの端面(破断面)部分を膜平面方向から3
0度上方斜めから見たSEM写真をそれぞれ図1および
図2に示す。2つの膜はいずれも、シリカ微粒子がガラ
ス基体上に積層した膜となっている。なお、図右下に1
1個の白点が並んでいるが、この両端の白点の間の距離
が300nmを示している。
Colloidal silica (average particle diameter 50 nm, "Snowtex OL" manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) and tetraethoxysilane hydrolyzed in advance are mixed at a solid content ratio of 80: 2.
0, and a film B prepared using a coating solution prepared by further mixing a hydrolysis catalyst, water, and a solvent.
(Comparative Example), the above-mentioned colloidal silica and tetraethoxysilane were mixed at a solid content ratio of 80:20, respectively, and a hydrolysis catalyst, water, and a solvent were further mixed. The film A (the present invention) prepared using a coating solution prepared by hydrolyzing tetraethoxysilane in the presence of silica was compared with an electron microscope (SEM) photograph enlarged 100,000 times. The end faces (broken surfaces) of the films A and B are 3
SEM photographs viewed obliquely from above by 0 degrees are shown in FIGS. 1 and 2, respectively. Each of the two films is a film in which silica fine particles are laminated on a glass substrate. Note that 1
One white point is arranged, and the distance between the white points at both ends indicates 300 nm.

【0019】図2(膜B)では、膜表面に隣り合って並
んだ数個のシリカ微粒子の表面を覆った、かなりの厚み
の膜状付着物の存在が確認できる。この膜状付着物はテ
トラエトキシシランから由来するバインダー成分と思わ
れるので、図2(膜B)では、微粒子同士および微粒子
と基体との接着のために有効に働くべきバイダー量が、
上記の膜状付着物のために、減少していると思われる。
もし接着のために有効に働くべきバイダー量を増加させ
るためにテトラエトキシシラン配合量を増加させると、
微粒子同士の間の空隙および微粒子と基体表面との間の
空隙が減少して膜の見かけ屈折率が大きくなり、反射率
を低くすることが困難となる。
In FIG. 2 (film B), it is possible to confirm the presence of a film-like deposit having a considerable thickness covering the surface of several silica fine particles arranged next to the film surface. Since this film-like deposit is considered to be a binder component derived from tetraethoxysilane, in FIG. 2 (film B), the amount of binder that should work effectively for adhesion between the fine particles and between the fine particles and the substrate is as follows.
It appears to be reduced due to the above film deposits.
If the amount of tetraethoxysilane is increased to increase the amount of binder that must work effectively for adhesion,
The voids between the fine particles and the voids between the fine particles and the substrate surface are reduced, the apparent refractive index of the film is increased, and it is difficult to lower the reflectance.

【0020】図1(膜A)ではこのような膜状付着物は
ほとんど見えないかまたは存在せず、バインダー成分の
すべてが各シリカ微粒子の表面を均一に覆っていて、バ
インダーが微粒子同士および微粒子と基体との接着のた
めに有効に働いていると推測される。膜Aの調製方法を
行えば、膜強度を維持したままバインダー成分の含有量
を減らすことが可能となり、膜の見かけ屈折率を小さく
することができ、結果として膜強度の維持と膜の反射率
の低減を両立させ得ることになる。膜Aの方法によれ
ば、予め加水分解したバインダーにシリカ微粒子を混合
したコーティング液を使用した膜Bの場合に比べて、バ
インダー量を半分に減らしても同等の膜強度が得られ
る。ここで、膜強度の判定基準はJIS−R3212、
およびJIS−R3221で規定されるテーバー摩耗試
験で、CS−10Fの回転ホイルを使用し、500g荷
重で1000回転(JIS−R3212)または500
g荷重で200回転(JIS−R3221)での膜の残
存の有無およびテーバー摩耗試験前後のヘイズ率を測定
した結果から判定したものである。
In FIG. 1 (film A), such film-like deposits are hardly visible or exist, and all of the binder components uniformly cover the surface of each silica fine particle. It is presumed to be working effectively for adhesion between the substrate and the substrate. When the method for preparing the film A is performed, the content of the binder component can be reduced while maintaining the film strength, and the apparent refractive index of the film can be reduced. As a result, the film strength can be maintained and the reflectance of the film can be reduced. Can be achieved at the same time. According to the method of the film A, the same film strength can be obtained even when the amount of the binder is reduced by half, as compared with the case of the film B using a coating solution in which silica particles are mixed with a binder which has been hydrolyzed in advance. Here, the criterion of the film strength is JIS-R3212,
And in a Taber abrasion test specified in JIS-R3221, using a CS-10F rotating foil, 1000 rotations (JIS-R3222) or 500 rotations under a load of 500 g.
This was determined from the result of measuring the presence or absence of the film remaining at 200 rotations (JIS-R3221) with a g load and the haze ratio before and after the Taber abrasion test.

【0021】本発明におけるバインダーは金属酸化物か
らなり、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸
化物、ジルコニウム酸化物およびタンタル酸化物からな
る群より選ばれる少なくとも1種の金属酸化物が好まし
く用いられる。低反射膜を形成するシリカ微粒子とバイ
ンダーの重量比は60:40〜95:5の範囲である。
バインダーの量がこの範囲よりも多いと、微粒子がバイ
ンダーに埋まり、微粒子による凹凸粗さ値または膜内の
空隙率が小さくなるので反射防止効果が小さくなる。ま
た、バインダー量がこれよりも少ないと、微粒子とガラ
ス基体間及び微粒子間の密着力が低下し、膜の機械的強
度が弱くなる。反射率と膜強度とのバランスを考えれ
ば、シリカ微粒子とバインダーの重量比は、より好まし
くは65:35〜85:15である。バインダーはシリ
カ微粒子の全表面に被覆されていることが好ましく、そ
の被覆厚みは1〜100nmでかつ前記シリカ微粒子の
平均粒径の2〜9%であることが好ましい。
The binder in the present invention comprises a metal oxide, and at least one metal oxide selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide is preferably used. . The weight ratio between the silica fine particles forming the low reflection film and the binder is in the range of 60:40 to 95: 5.
If the amount of the binder is larger than this range, the fine particles are buried in the binder and the roughness value of the fine particles or the porosity in the film becomes small, so that the antireflection effect becomes small. If the amount of the binder is smaller than this, the adhesion between the fine particles and the glass substrate and between the fine particles is reduced, and the mechanical strength of the film is reduced. Considering the balance between the reflectance and the film strength, the weight ratio of the silica fine particles to the binder is more preferably 65:35 to 85:15. The binder is preferably coated on the entire surface of the silica fine particles, and the coating thickness is preferably 1 to 100 nm and 2 to 9% of the average particle size of the silica fine particles.

【0022】バインダー原料となる加水分解可能な金属
化合物としては、Si、Al、Ti、Zr、Taの金属
アルコキシドが膜の強度や化学的安定性などから好適で
ある。これらの金属アルコキシドの中で、シリコンテト
ラアルコキシド、アルミニウムトリアルコキシド、チタ
ンテトラアルコキシドおよびジルコニウムテトラアルコ
キシド、特にメトキシド、エトキシド、プロポキシドお
よびブトキシドが好ましく用いられる。特にバインダー
成分の含有量を多くした膜では、バインダー成分の屈折
率が反射率に影響を与えることになるので、屈折率の小
さいシリコンアルコキシド、特にシリコンテトラアルコ
キシドまたはそのオリゴマーが最も好適である。また、
バインダー成分はこれら金属アルコキシドの中から複数
混合したものを使用しても構わない。金属アルコキシド
以外でも、加水分解によりM(OH)nの反応生成物が得
られれば限定されず、例えば、金属のハロゲン化物や、
イソシアネート基、アシルオキシ基、アミノキシ基など
を有する金属化合物が例示される。また、例えば、シリ
コンアルコキシドの一種であるR1 nM(OR2)4-nで表され
る化合物(Mはケイ素原子、R1はアルキル基、アミノ
基、エポキシ基、フェニル基、メタクリロキシ基など有
機官能基、R2 は例えばアルキル基、nは1〜3の整
数)もバインダー原料として使用できる。上記のR1 n
(OR2)4-nで表される化合物を用いると、コーティング後
のゲル膜に有機残基が残るので、バインダー原料全てに
これを使用すれば、熱処理後、有機残基部がナノメート
ル程度の微細孔となり、この微細孔径が小さいことで毛
管力が増し、付着した汚れが除去しにくくなったり、汚
れや水などが微細孔に入り込み反射率の経時変化を引き
起こすなど問題が生じ、また膜強度も弱くなるので、前
記R1 nM(OR2)4-nで表される化合物は、多量に使用しな
い方が好ましく、例えば金属酸化物に換算して、バイン
ダー総量に対して50重量%以内に制限される。
As the hydrolyzable metal compound serving as a binder raw material, metal alkoxides of Si, Al, Ti, Zr, and Ta are preferable from the viewpoint of the strength and chemical stability of the film. Among these metal alkoxides, silicon tetraalkoxide, aluminum trialkoxide, titanium tetraalkoxide and zirconium tetraalkoxide, particularly methoxide, ethoxide, propoxide and butoxide are preferably used. In particular, in a film in which the content of the binder component is large, the refractive index of the binder component affects the reflectance, so that a silicon alkoxide having a small refractive index, particularly silicon tetraalkoxide or an oligomer thereof is most preferable. Also,
As the binder component, a mixture of a plurality of these metal alkoxides may be used. Other than metal alkoxides, there is no limitation as long as a reaction product of M (OH) n can be obtained by hydrolysis. For example, metal halides,
Metal compounds having an isocyanate group, an acyloxy group, an aminoxy group and the like are exemplified. Further, for example, a compound represented by R 1 n M (OR 2 ) 4-n which is a kind of silicon alkoxide (M is a silicon atom, R 1 is an alkyl group, an amino group, an epoxy group, a phenyl group, a methacryloxy group, etc. An organic functional group, R 2 is, for example, an alkyl group and n is an integer of 1 to 3) can also be used as a binder raw material. R 1 n M above
When the compound represented by (OR 2 ) 4-n is used, an organic residue remains on the gel film after coating. The small pore size increases the capillary force, making it difficult to remove the adhered dirt, causing problems such as dirt and water entering the micropores and causing a change in reflectance over time, and also causes a problem with the film. The compound represented by R 1 nM (OR 2 ) 4-n is preferably not used in a large amount because the strength is also weakened. Within

【0023】低反射膜が被覆されたガラス物品のヘイズ
率は、ガラス基体自体のヘイズ率と低反射膜のヘイズ率
を総合したものとなるが、本発明におけるガラス基体と
しては、ヘイズ率ができるだけ小さな、例えばヘイズ率
が0.1%以下のガラス板が用いられる。従って本発明
の低反射ガラス物品のヘイズ率は低反射膜のヘイズ率と
ほぼ等しい。低反射膜のヘイズ率は、用途によって異な
る最適な範囲に調整することが好ましい。例えば、自動
車用窓では、安全性の点からヘイズ率は低いものが好ま
しく、低反射ガラス物品のヘイズ率としては1%以下、
より好ましくは0.5%以下である。
The haze ratio of a glass article coated with a low-reflection film is the sum of the haze ratio of the glass substrate itself and the haze ratio of the low-reflection film. A small glass plate having a haze ratio of 0.1% or less, for example, is used. Therefore, the haze ratio of the low reflection glass article of the present invention is substantially equal to the haze ratio of the low reflection film. It is preferable that the haze ratio of the low reflection film is adjusted to an optimum range that varies depending on the application. For example, in an automobile window, a low haze ratio is preferable from the viewpoint of safety, and the haze ratio of the low reflection glass article is 1% or less.
More preferably, it is 0.5% or less.

【0024】一方、太陽電池用ガラス板では、太陽光の
エネルギーを有効に利用するために、前記ガラス板に近
接して設ける多結晶シリコン、単結晶シリコン、アモル
ファスシリコンなどの膜中を多重反射させて光路長を長
くするようにすれば、入射した光を効率的に利用できる
ので変換効率は向上する。このためには、前述のよう
に、拡散透過光の量が大きくなるような低反射膜、すな
わちヘイズ率の大きな低反射膜が最も良い。
On the other hand, in a glass plate for a solar cell, in order to make effective use of the energy of sunlight, a film of polycrystalline silicon, single crystal silicon, amorphous silicon or the like provided in close proximity to the glass plate is subjected to multiple reflection. If the optical path length is increased, the incident light can be used efficiently, so that the conversion efficiency is improved. For this purpose, as described above, a low-reflection film having a large amount of diffused transmitted light, that is, a low-reflection film having a large haze ratio is best.

【0025】反射率を低下させ拡散透過させる太陽電池
用ガラス板は全光線透過率(直進透過光および拡散透過
光の合計の透過率)を増やすこととシリコン中の光路長
を長くすることに有効でありヘイズ率が10%以上でそ
の効果は顕著にみられる。80%を超えるヘイズ率とな
ると、反射率の低下(透過率の増加)効果がほぼ無くな
る。従って本発明の太陽電池用ガラス板は10〜80%
のヘイズ率を有することが好ましい。しかし、高い全光
線透過率よりも、拡散光の光量の増加が望まれる場合や
正反射光の低減(反射像の映り込みの防止)などの外観
が重要な場合はヘイズ率が80%を超えてもよい。な
お、大きな膜強度が要求される場合には、太陽電池用ガ
ラス板のヘイズ率は30%以下の範囲が目安となる。反
射防止性能と光の拡散透過性を両立させる方法として
は、低反射膜用コーティング液に用いる非凝集シリカ微
粒子として、平均粒径が異なる2種の微粒子、すなわ
ち、(1)平均粒径が40〜200nmの第1の非凝集
シリカ微粒子 70〜95重量%、および(2)200
nmを超え3000nm以下でかつ前記第1の非凝集シ
リカ微粒子の平均粒径よりも少なくとも100nm大き
い平均粒径を有する第2の非凝集シリカ微粒子 5〜3
0重量%を使用することがあげられる。この非凝集シリ
カ微粒子を使用して得られる低反射膜において、平均粒
径が40nm〜200nmの微粒子を膜上部からみた占
有面積が30〜90%となり、平均粒径が200nm〜
3000nmの微粒子の占有面積が50%以下、より好
ましくは1%以上30%以下となる。ここで、占有面積
とは、ガラス面を垂直方向からみて、膜の単位面積あた
りの微粒子が存在し占有している面積を指す。微粒子が
重なっている場合は、最上部にある微粒子の面積で占有
面積を求める。基体上の全ての表面部分が微粒子に占有
されている必要は無い。前者の微粒子占有部分では反射
防止性能が得られ、後者の微粒子占有部分では光の拡散
透過性能が得られる。このようにして反射率を低く保ち
ながらヘイズ率を30%まで大きくすることができる。
A glass plate for a solar cell that reduces the reflectance and diffuses and transmits light is effective in increasing the total light transmittance (total transmittance of the linearly transmitted light and the diffusely transmitted light) and increasing the optical path length in silicon. The effect is remarkable when the haze ratio is 10% or more. When the haze ratio exceeds 80%, the effect of lowering the reflectance (increase of the transmittance) is almost eliminated. Therefore, the glass plate for a solar cell of the present invention is 10 to 80%
It is preferable to have a haze ratio of However, the haze ratio exceeds 80% when an increase in the amount of diffused light is desired rather than a high total light transmittance or when appearance such as reduction of specular reflection light (prevention of reflection image reflection) is important. You may. When a large film strength is required, the haze ratio of the glass plate for a solar cell is a standard of 30% or less. As a method for achieving both the antireflection performance and the light diffusion / transmission property, two types of fine particles having different average particle sizes, that is, (1) an average particle size of 40, are used as the non-aggregated silica fine particles used in the coating liquid for a low reflection film. 70-95% by weight of first non-agglomerated silica microparticles of -200 nm, and (2) 200
second non-agglomerated silica fine particles having an average particle diameter of not less than 3000 nm and not more than 3000 nm and at least 100 nm larger than the average particle diameter of the first non-agglomerated silica fine particles.
0% by weight may be used. In the low reflection film obtained by using the non-agglomerated silica fine particles, the occupied area of the fine particles having an average particle size of 40 nm to 200 nm as viewed from above the film is 30 to 90%, and the average particle size is 200 nm to 200 nm.
The occupied area of the 3000 nm fine particles is 50% or less, more preferably 1% or more and 30% or less. Here, the occupied area refers to an area occupied and occupied by fine particles per unit area of the film when the glass surface is viewed from the vertical direction. When the fine particles are overlapped, the occupied area is obtained from the area of the uppermost fine particles. Not all surface portions on the substrate need be occupied by particulates. The former portion occupied by the fine particles provides antireflection performance, and the latter portion occupies the fine particle scattered light. In this way, the haze can be increased up to 30% while keeping the reflectance low.

【0026】粒径がそろった非凝集微粒子をガラス基体
上に一段に並べた場合、微粒子の粒径とヘイズ率の関係
を示すと、微粒子の含有量を80重量%、バインダー量
20重量%として、粒径が200nmのみの微粒子で形
成された膜ではヘイズ率は10%程度、300nmのみ
では20%程度、500nmのみでは55%程度、粒径
が700nmの微粒子では70%となる。粒径が900
nm以上の微粒子では、70%を超えるヘイズ率とな
る。
When non-agglomerated fine particles having a uniform particle size are arranged in a row on a glass substrate, the relationship between the particle size of the fine particles and the haze ratio is shown assuming that the content of the fine particles is 80% by weight and the binder amount is 20% by weight. The haze ratio is about 10% for a film formed of fine particles having a particle size of only 200 nm, about 20% for only 300 nm, about 55% for only 500 nm, and 70% for fine particles having a particle size of 700 nm. Particle size 900
In the case of fine particles of nm or more, the haze ratio exceeds 70%.

【0027】低反射の効果があればあるほど自動車用で
は安全性が向上し、太陽電池基板では利用できる光のエ
ネルギーが増すので、反射率は低い方が好ましく、膜面
からの反射率は2%以下であり、より好ましくは1%以
下、さらに好ましくは0.7%以下である。
The lower the reflection effect, the higher the safety for automobiles, and the more energy available for the solar cell substrate, the lower the reflectance is preferable, and the reflectance from the film surface is 2%. %, More preferably 1% or less, further preferably 0.7% or less.

【0028】低反射膜の構造としては、表面にバインダ
ーが被覆されたシリカ微粒子(以下単に微粒子というこ
とがある)がガラス基体の表面をほぼ全て覆うような形
状を有していることが膜の反射率を低減させるのに最も
良い。全く同じ粒径の微粒子を最密充填してガラス基体
上に一層敷き詰めた場合、その微粒子の上部からみた占
有面積は理論的には約90%である。微粒子を一層のみ
形成させた低反射膜では、その占有面積は、50%以
上、より好ましくは70%以上であることが低反射性能
を得るのに好ましい。この占有面積が50%未満ではガ
ラス基体表面が露出していることによりそのガラスと空
気の屈折率差による反射が強く出てくるので、反射の低
減ができない。微粒子がガラス上面に一層のみ配列した
低反射膜の構造でもよく、多段に微粒子が積層した構造
でも良い。1層でも、多段に積層したものでも、微粒子
径に応じた空孔が、ガラス基体と微粒子との間隙または
微粒子同士の間の隙間に形成され、この空孔が見かけ上
の屈折率を低減させるのに有効となる。膜の真上から膜
を電子顕微鏡で観察して、膜の最表面に平面的に並んで
いる微粒子、及び、最表面の微粒子より下側に位置し、
最表面の微粒子の隙間から僅かでも観察できる微粒子の
総数は、原料微粒子として40〜500nmの平均粒径
を有する非凝集シリカ微粒子を使用した場合、1μm×
1μmの正方形の面積中に30〜3000個でありこれ
らの微粒子は40〜500nmの平均粒径を有すること
が好ましい。上記総数はより好ましくは100個以上1
000個以下である。また、原料微粒子として100〜
1000nmの平均粒径を有する非凝集シリカ微粒子を
使用した場合、前記微粒子の総数は、10μm×10μ
mの正方形の面積の中に10〜50000個であり、こ
れらの微粒子は100〜1000nmの平均粒径を有す
ることが好ましい。上記総数はより好ましくは20個以
上25000個以下である。この微粒子密度は微粒子の
大きさに依存し、微粒子径が大きければ数は小さくな
り、微粒子径が小さければ数は多くなる。微粒子が単独
にガラス基板上に担持されるよりも、微粒子が密に存在
し互いにバインダーを介して接触し結合した構造が膜強
度を高める点からも望ましい。例えば、微粒子の平均粒
径がDnmである場合、10μm×10μmの正方形の
膜に真上から電子顕微鏡で観察される微粒子の数は5,00
0,000/D2〜10,000,000/D2個が好ましい。
The structure of the low-reflection film is such that the silica fine particles having a surface coated with a binder (hereinafter sometimes simply referred to as fine particles) have a shape such that they cover almost the entire surface of the glass substrate. Best for reducing reflectivity. When fine particles of exactly the same particle size are closely packed and spread over a glass substrate, the area occupied by the fine particles as viewed from above is theoretically about 90%. In the low reflection film in which only one layer of fine particles is formed, the occupied area is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, for obtaining low reflection performance. If the occupied area is less than 50%, since the surface of the glass substrate is exposed, the reflection due to the difference in the refractive index between the glass and the air appears strongly, so that the reflection cannot be reduced. The structure may be a low-reflection film in which the fine particles are arranged only on the upper surface of the glass, or a structure in which the fine particles are stacked in multiple stages. In either a single layer or a multi-layered structure, pores corresponding to the diameter of the fine particles are formed in the gap between the glass substrate and the fine particles or in the gap between the fine particles, and the pores reduce the apparent refractive index. It is effective for Observing the film with an electron microscope from directly above the film, the fine particles lined up in a plane on the outermost surface of the film, and located below the uppermost fine particles,
The total number of fine particles that can be observed even slightly from the gap between the fine particles on the outermost surface is 1 μm × when non-agglomerated silica fine particles having an average particle size of 40 to 500 nm are used as raw material fine particles.
It is preferable that 30 to 3000 particles are present in a 1 μm square area, and these fine particles have an average particle size of 40 to 500 nm. The total number is more preferably 100 or more and 1
000 or less. In addition, 100 to 100
When non-agglomerated silica fine particles having an average particle size of 1000 nm are used, the total number of the fine particles is 10 μm × 10 μm.
The number of particles is preferably 10 to 50,000 in the square area of m, and these fine particles preferably have an average particle diameter of 100 to 1000 nm. The total number is more preferably 20 or more and 25,000 or less. The density of the fine particles depends on the size of the fine particles. The larger the fine particle diameter, the smaller the number, and the smaller the fine particle diameter, the larger the number. Rather than the fine particles being carried alone on the glass substrate, a structure in which the fine particles exist densely and come into contact with each other via a binder to increase the film strength is desirable. For example, when the average particle size of the fine particles is Dnm, the number of fine particles observed by an electron microscope from directly above a 10 μm × 10 μm square film is 5,000.
It is preferably from 000 / D 2 to 10,000,000 / D 2 .

【0029】本発明の低反射膜の平均厚みについて以下
に定義する。電子顕微鏡にて、5万倍に拡大して膜の横
断面を観察した写真を用意する。電子顕微鏡写真の10
cm(実質2μm)の長さを任意に取り、膜の最も大き
い凸部から順に12カ所選び、最も大きい方から数えて
3番目から12番目までの10カ所の凸部の基体表面か
らの高さの平均値を平均厚みとする。もし、使用する微
粒子径が大きいかまたは微粒子がまばらに存在するため
に12カ所の凸部を選べないときは、電子顕微鏡の倍率
を5万倍より順次小さくして、12カ所の凸部を選べる
ようにして上記方法で平均厚みを求める。この平均厚み
が90nm以上180nm以下の範囲である膜が、最も
可視光領域の反射率を低減する。光学厚み(n・d)で
定義される物理厚みdの値は、この平均厚みよりも小さ
く、上記平均厚み90〜180nmに相当する物理厚み
dとしては、80〜140nmである。これはガラス/
膜の界面及び膜/空気界面間の反射光の干渉条件を満た
すからである。この干渉条件は、先に述べた厚みの2n-1
倍(nは自然数)でも成立するので、3倍厚み以上の厚
みでも反射率が低減するが、膜の強度の低下があり好ま
しくない。
The average thickness of the low reflection film of the present invention is defined below. A photograph is prepared by observing the cross section of the film at a magnification of 50,000 with an electron microscope. Electron micrograph 10
cm (substantially 2 μm), arbitrarily selected, twelve places in order from the largest convex part of the film, and heights from the base surface of ten tenth convex parts from third to twelfth counted from the largest. Is the average thickness. If 12 convex portions cannot be selected because the diameter of the fine particles to be used is large or fine particles are sparse, the magnification of the electron microscope can be sequentially reduced from 50,000 times to select 12 convex portions. Thus, the average thickness is determined by the above method. A film having an average thickness in the range of 90 nm or more and 180 nm or less reduces the reflectance in the visible light region most. The value of the physical thickness d defined by the optical thickness (nd) is smaller than the average thickness, and the physical thickness d corresponding to the average thickness of 90 to 180 nm is 80 to 140 nm. This is glass /
This is because the interference condition of the reflected light between the film interface and the film / air interface is satisfied. This interference condition is 2n-1 of the thickness described above.
Therefore, even if the thickness is three times or more, the reflectance is reduced, but the strength of the film is undesirably reduced.

【0030】一方、反射率を小さくすべき領域として可
視光(400〜780nm)および赤外光(780nm
〜1.5μm)の両方にまたがる領域を考えると、低反
射膜の平均厚みは90nm以上350nm以下であるこ
とが好ましい。これは、物理厚みdとしては80nm〜
300nmに相当する。
On the other hand, visible light (400 to 780 nm) and infrared light (780 nm)
Considering a region extending over both of the low-reflection films, the average thickness of the low-reflection film is preferably 90 nm or more and 350 nm or less. This is because the physical thickness d is 80 nm or more.
It corresponds to 300 nm.

【0031】特に、自動車用のウィンドシールドでは、
その取り付け角(鉛直面からの傾斜角)が60度前後と
なるので、その使用方法に応じた膜設計が必要となる。
屈折率が1.52のソーダライムガラスの表面反射率
(裏面反射を含まない)は12度の入射角で4.2%で
あるが、60度の入射角、それは自動車に取り付けられ
たウィンドシールドに対して水平方向からの入射光の入
射角に相当する、における表面反射率は9%以上にも達
する。微粒子とバインダーからなる低反射膜は、空孔を
含んだ平均屈折率からなる一層の膜と近似されるが、ガ
ラス−低反射膜界面の反射光と低反射膜−空気界面の反
射光の干渉作用を利用して互いの反射光の光路差を半波
長ずらせることにより低反射性能が実現される。低反射
膜付きガラスへの入射角を大きくした場合には、この光
路差は、小さくなる方向に動くので、垂直入射の反射に
比べて低反射膜の光学厚み(nd)を大きくする必要が
ある。60度入射での反射率を低減させるためには、光
学厚みで140nm〜250nm程度に設計することが
好ましい。60度の入射角での表面反射率は、低反射膜
の見かけの屈折率や光学厚みに大きく依存するが、6%
以下、好ましくは5%以下、さらに好ましくは4%以下
である。
Particularly, in a windshield for an automobile,
Since the mounting angle (the inclination angle from the vertical plane) is about 60 degrees, a film design according to the method of use is required.
The surface reflectance (excluding back reflection) of soda lime glass with a refractive index of 1.52 is 4.2% at an incident angle of 12 degrees, but an incident angle of 60 degrees, which is a windshield attached to an automobile. , Which corresponds to the incident angle of incident light from the horizontal direction, reaches 9% or more. A low-reflection film composed of fine particles and a binder is approximated as a single-layer film having an average refractive index including voids, but the interference between the reflected light at the glass-low-reflection film interface and the reflected light at the low-reflection film-air interface. By utilizing the action to shift the optical path difference between the reflected lights by half a wavelength, low reflection performance is realized. When the angle of incidence on the glass with the low reflection film is increased, the optical path difference moves in the direction of decreasing, so that it is necessary to increase the optical thickness (nd) of the low reflection film compared to the reflection at normal incidence. . In order to reduce the reflectance at 60 degrees incidence, it is preferable to design the optical thickness to be about 140 nm to 250 nm. The surface reflectance at an incident angle of 60 degrees largely depends on the apparent refractive index and optical thickness of the low reflection film, but is 6%.
Or less, preferably 5% or less, more preferably 4% or less.

【0032】本発明において、低反射膜のためのコーテ
ィング液は、シリカ微粒子、加水分解可能な金属化合
物、加水分解のための触媒、水および溶媒を混合して、
加水分解させる。例えば室温で1時間〜24時間攪拌し
て反応させるか、室温よりも高い温度、例えば40℃〜
80℃で10分〜50分攪拌して反応させることができ
る。得られたコーティング液は、その後コーティング方
法に応じて適当な溶媒で希釈しても構わない。
In the present invention, the coating liquid for the low reflection film is prepared by mixing silica fine particles, a hydrolyzable metal compound, a hydrolysis catalyst, water and a solvent.
Hydrolyze. For example, the reaction is performed by stirring at room temperature for 1 hour to 24 hours, or at a temperature higher than room temperature, for example, 40 ° C.
The reaction can be carried out by stirring at 80 ° C. for 10 to 50 minutes. The obtained coating liquid may be subsequently diluted with an appropriate solvent according to the coating method.

【0033】加水分解の触媒としては、酸触媒が最も有
効であり、塩酸や硝酸などの鉱酸や酢酸などが例示され
る。酸触媒では、加水分解可能な金属化合物例えば金属
アルコキシドの加水分解反応の速度に比して縮重合反応
速度が小さく、加水分解反応生成物であるM(OH)n
を多量に生成させるので、これがバインダーとして有効
に作用するので好ましい。塩基性触媒では、加水分解反
応の速度に比して縮重合反応速度が大きいので、金属ア
ルコキシドは微粒子状の反応生成物となったり、もとも
と存在しているシリカ微粒子の粒径成長に使用され、そ
の結果、金属アルコキシドのバインダーとしての作用が
小さくなる。触媒の含有量はバインダーとなる金属化合
物に対してモル比で0.001〜4であることが好まし
い。
As the hydrolysis catalyst, an acid catalyst is most effective, and examples thereof include mineral acids such as hydrochloric acid and nitric acid, and acetic acid. In the case of an acid catalyst, the condensation polymerization rate is lower than that of a hydrolysis reaction of a hydrolyzable metal compound such as a metal alkoxide, and the hydrolysis reaction product M (OH) n
Is generated in a large amount, which is effective because it effectively acts as a binder. With a basic catalyst, the condensation polymerization rate is higher than the rate of the hydrolysis reaction, so the metal alkoxide is used as a reaction product in the form of fine particles or used to grow the particle size of the silica particles originally present, As a result, the effect of the metal alkoxide as a binder is reduced. The content of the catalyst is preferably 0.001 to 4 in a molar ratio to the metal compound serving as the binder.

【0034】上記金属化合物の加水分解に必要な水の添
加量は、金属化合物に対してモル比で0.1〜100が
良い。水添加量がモル比で0.1より少ないと、金属化
合物の加水分解の促進が充分でなく、またモル比で10
0より多いと、液の安定性が低下する傾向になり好まし
くない。
The amount of water required for the hydrolysis of the metal compound is preferably 0.1 to 100 in a molar ratio to the metal compound. When the amount of water added is less than 0.1 in molar ratio, the promotion of hydrolysis of the metal compound is not sufficient, and
If it is more than 0, the stability of the liquid tends to decrease, which is not preferable.

【0035】なお、前記金属化合物として上記クロロ基
含有化合物を用いる場合には、必ずしも触媒の添加は必
要ではない。上記クロロ基含有化合物は触媒がなくても
加水分解反応が可能である。しかし、付加的に酸を加え
ても何ら差し支えない。
When the above-mentioned chloro group-containing compound is used as the metal compound, it is not always necessary to add a catalyst. The chloro group-containing compound can undergo a hydrolysis reaction without a catalyst. However, it does not matter if an acid is additionally added.

【0036】上記溶媒は、実質的に上記金属化合物を溶
解すれば基本的に何でも良いが、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピルセロソルブ
類などのセロソルブ類、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ヘキシレングリコールなどのグリコール
類が最も好ましい。上記溶媒に溶解させる金属化合物の
濃度があまり高すぎると、分散させるシリカ微粒子の量
も関係するが、膜中の上記微粒子の間に十分な空隙を生
じさせることができなくなるので、20重量%以下とす
ることが好ましく、1〜20重量%の濃度が好ましい。
そしてコーティング液中の、シリカ微粒子の量と上記金
属化合物の量(金属酸化物であるSiO2、Al23
TiO2、ZrO2、Ta25にそれぞれ換算)の割合
は、重量比で、60:40〜95:5が好ましく、より
好ましくは65:35〜85:15である。
The solvent may be basically any solvent as long as it substantially dissolves the metal compound, but may be any of alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, cellosolves such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve and propyl cellosolve, and ethylene. Glycols such as glycol, propylene glycol and hexylene glycol are most preferred. If the concentration of the metal compound dissolved in the solvent is too high, the amount of the silica fine particles to be dispersed also depends on the concentration, but it is not possible to generate a sufficient space between the fine particles in the film. And preferably a concentration of 1 to 20% by weight.
Then, in the coating solution, the amount of the silica fine particles and the amount of the metal compound (metal oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 ,
The proportion of each conversion) on TiO 2, ZrO 2, Ta 2 O 5 , in weight ratio, 60: 40-95: 5, and more preferably 65: 35 to 85: a 15.

【0037】本発明におけるコーティング液の好ましい
原料配合比は、次の表1の通りである。
The preferred raw material mixing ratio of the coating liquid in the present invention is as shown in Table 1 below.

【0038】[0038]

【表1】 ────────────────────────────────── 加水分解可能な金属化合物(金属酸化物換算) 100重量部、 平均粒径が40〜1000nmの非凝集シリカ微粒子および平均一次粒径が10 〜100nmの鎖状凝集シリカ微粒子の少なくとも一方からなる原料微粒子 150〜1900重量部、 水 50〜10000重量部、 酸触媒 0〜200重量部、 好ましくは0.01〜200重量部、 溶媒 1000〜500000重量部 ──────────────────────────────────[Table 1] 金属 Hydrolyzable metal compounds (in terms of metal oxides) 100 parts by weight, raw material fine particles comprising at least one of non-agglomerated silica fine particles having an average particle diameter of 40 to 1000 nm and chain aggregated silica fine particles having an average primary particle diameter of 10 to 100 nm, 150 to 1900 parts by weight, water 50 to 10,000 parts by weight Acid catalyst 0 to 200 parts by weight, preferably 0.01 to 200 parts by weight, solvent 1000 to 500,000 parts by weight ─────────

【0039】上記コーティング液をガラス基体に塗布
し、加熱することにより、前記金属化合物加水分解物の
脱水縮合反応、揮発成分の気化・燃焼が行われて、ガラ
ス基板上に低反射膜を形成する。
The coating solution is applied to a glass substrate and heated to cause a dehydration-condensation reaction of the hydrolyzate of the metal compound and vaporization / burning of volatile components to form a low-reflection film on the glass substrate. .

【0040】上記塗布の方法は、公知の技術を用いれば
よく特に限定されないが、スピンコーター、ロールコー
ター、スプレーコーター、カーテンコーター等の装置を
用いる方法や、浸漬引き上げ法(ディップコーティング
法)、流し塗り法(フローコーティング法)などの方法
や、スクリーン印刷、グラビア印刷、曲面印刷などの各
種印刷法が用いられる。特に高沸点溶媒を必要とするよ
うなコーティング方法、例えばフレキソ印刷やグラビア
印刷などの印刷法ではグリコール類は、有効な溶媒であ
り、理由は定かでないが、グリコール類は微粒子の凝集
を抑制しヘイズの少ない低反射膜を作製するには好都合
な溶媒である。コーティング液中に含まれるグリコール
の重量比率は5%以上80%以下で添加すると良い。
The coating method is not particularly limited as long as a known technique can be used. Examples of the method include a method using an apparatus such as a spin coater, a roll coater, a spray coater, a curtain coater, a dipping and pulling method (dip coating method), and a flowing method. Various printing methods such as a coating method (flow coating method) and screen printing, gravure printing, and curved surface printing are used. Glycols are effective solvents especially in coating methods that require a high boiling point solvent, such as flexographic printing and gravure printing, for unknown reasons, but glycols suppress aggregation of fine particles and haze. This is a convenient solvent for producing a low-reflection film having a low density. The weight ratio of glycol contained in the coating liquid is preferably 5% or more and 80% or less.

【0041】ガラス基体によっては、上記コーティング
液をはじくなどして均一に塗布できない場合があるが、
これは基板表面の洗浄や表面改質を行うことで改善でき
る。洗浄や表面改質の方法としては、アルコール、アセ
トン、ヘキサンなどの有機溶媒による脱脂洗浄、アルカ
リや酸による洗浄、研磨剤により表面を研磨する方法、
超音波洗浄、紫外線照射処理、紫外線オゾン処理、プラ
ズマ処理などが挙げられる。
Depending on the glass substrate, it may not be possible to apply the coating solution uniformly by repelling the coating solution.
This can be improved by cleaning or modifying the surface of the substrate. As a method of cleaning or surface modification, alcohol, acetone, degreasing cleaning with an organic solvent such as hexane, cleaning with an alkali or acid, a method of polishing the surface with an abrasive,
Examples include ultrasonic cleaning, ultraviolet irradiation treatment, ultraviolet ozone treatment, and plasma treatment.

【0042】塗布後の加熱処理は、シリカ微粒子および
バインダーからなる膜とガラス基体の密着性を上げるの
に有効な方法である。処理温度としては最高到達温度で
200℃以上、好ましくは400℃以上、さらに好まし
くは600℃以上、1800℃以下である。200℃以
上でコーティング液の溶媒成分が蒸発、膜のゲル化が進
み接着力が生じる。さらに400℃以上では膜に残存し
た有機成分がほぼ完全に燃焼により消失する。600℃
以上では、残存した未反応のシラノール基や金属化合物
の加水分解物の加水分解基の縮合反応がほぼ完了し、膜
の緻密化が生じさらに膜強度が向上する。加熱時間は5
秒から5時間が好ましく、30秒〜1時間がより好まし
い。
The heat treatment after coating is an effective method for increasing the adhesion between the film composed of the silica fine particles and the binder and the glass substrate. The processing temperature is 200 ° C. or higher, preferably 400 ° C. or higher, and more preferably 600 ° C. or higher and 1800 ° C. or lower at the highest temperature. At a temperature of 200 ° C. or higher, the solvent component of the coating liquid evaporates, the gelation of the film proceeds, and an adhesive force is generated. Further, at 400 ° C. or higher, the organic components remaining in the film are almost completely eliminated by combustion. 600 ° C
Above, the condensation reaction of the remaining unreacted silanol groups and the hydrolyzable groups of the hydrolyzate of the metal compound is almost completed, and the film is densified, and the film strength is further improved. Heating time is 5
Seconds to 5 hours are preferred, and 30 seconds to 1 hour are more preferred.

【0043】本発明の低反射膜はガラス基板の一方表面
または両表面に形成される。ガラス板の両表面が空気、
気体のような屈折率が1に近い媒体に面して使用される
場合は、この膜をガラス基板の両表面に形成させる方が
高い反射防止効果が得られる。しかし、ガラス基板の一
方表面がガラス基板の屈折率に近い屈折率を有する媒体
に面して使用される場合、例えば2枚のガラス板がその
間にポリビニルブチラールのような透明樹脂層を介して
接合される合わせガラスでは、ガラス板と透明樹脂層と
の界面での可視光反射は無視することができるので、低
反射膜は、透明樹脂層に面するガラス板表面には形成さ
せずに、各ガラス板の外側表面のみに形成させるだけで
十分である。
The low reflection film of the present invention is formed on one or both surfaces of a glass substrate. Both surfaces of the glass plate are air,
When the film is used facing a medium having a refractive index close to 1 such as gas, a higher antireflection effect can be obtained by forming this film on both surfaces of the glass substrate. However, when one surface of the glass substrate is used to face a medium having a refractive index close to the refractive index of the glass substrate, for example, two glass plates are bonded between the two via a transparent resin layer such as polyvinyl butyral. In the laminated glass, the visible light reflection at the interface between the glass plate and the transparent resin layer can be neglected, so that the low reflection film is not formed on the surface of the glass plate facing the transparent resin layer. It is sufficient to form it only on the outer surface of the glass plate.

【0044】本発明の低反射ガラス物品を、例えば、自
動車用途に使用する場合には、低反射膜を被覆したガラ
ス板は、更にその表面に撥水性被膜または防曇性被膜を
被覆することができる。撥水性被膜を被覆することによ
り撥水性能が得られ、また汚れが付着した場合、汚れ除
去性も更に改善できる。本発明の低反射膜の上に撥水性
被膜を被覆することにより得られる撥水性は、無処理の
ガラス板表面を同じ撥水剤で処理した場合に比して優れ
た撥水性を示す。また防曇性被膜を被覆することにより
防曇性能が得られ、また汚れが付着した場合、汚れ除去
性も改善できる。ガラス板(合わせガラス板でもよい)
の両表面に低反射膜を被覆し、その上に撥水性被膜を被
覆してもよく、ガラス板の片側表面に低反射膜を被覆
し、低反射膜および無処理ガラス表面の両方、またはそ
の一方の上に撥水性被膜を被覆してもよい。
When the low-reflection glass article of the present invention is used, for example, for automobiles, the glass plate coated with the low-reflection film may be further coated with a water-repellent coating or an anti-fog coating on its surface. it can. By coating with a water-repellent film, water-repellent performance can be obtained, and when dirt adheres, the dirt-removing property can be further improved. The water repellency obtained by coating the water repellent film on the low reflection film of the present invention shows superior water repellency as compared with a case where an untreated glass plate surface is treated with the same water repellent. In addition, by coating the antifogging film, antifogging performance can be obtained, and when dirt adheres, the dirt removability can be improved. Glass plate (Laminated glass plate may be used)
Both surfaces may be coated with a low-reflection film, and a water-repellent film may be coated thereon.A low-reflection film may be coated on one surface of the glass plate, and both the low-reflection film and the untreated glass surface, or a combination thereof. A water-repellent coating may be coated on one of them.

【0045】同様にガラス板(合わせガラス板でもよ
い)の両表面に低反射膜を被覆し、その上に防曇性被膜
を被覆してもよく、ガラス板(合わせガラス板でもよ
い)の片側表面に低反射膜を被覆し、低反射膜および無
処理ガラス表面の両方またはその一方の上に防曇性被膜
を被覆してもよい。
Similarly, both surfaces of a glass plate (which may be a laminated glass plate) may be coated with a low-reflection film, and an antifogging film may be coated thereon, or one side of a glass plate (which may be a laminated glass plate). The surface may be coated with a low-reflection film, and the anti-fogging film may be coated on both or one of the low-reflection film and the untreated glass surface.

【0046】また、ガラス板(合わせガラス板でもよ
い)の両側表面に低反射膜が被覆され、片側の前記膜の
表面(車内側、屋内側)に防曇性被膜が被覆され、他方
側の前記層膜面(車外側、屋外側)に撥水性被膜が被覆
されていることが好ましく、また、ガラス板(合わせガ
ラス板でもよい)の片側表面(車内側、屋内側)のみに
低反射膜が被覆され、前記膜の表面に防曇性被膜が被覆
され、前記ガラス基板の他方側表面(車外側、屋外側)
に、撥水性被膜が被覆されていることが好ましい。低反
射膜の上に、上記防曇性被膜、撥水性被膜が被覆されて
も、反射率はほとんど変化せず低い反射率が保たれる。
Further, both surfaces of a glass plate (which may be a laminated glass plate) are coated with a low-reflection film, the surface of one of the films (inside the vehicle, the indoor side) is coated with an anti-fog coating, and the other surface is coated. It is preferable that a water-repellent coating is coated on the surface of the layer film (outside of the car, outside), and a low-reflection film is formed only on one surface (inside of the car, indoor) of a glass plate (or a laminated glass plate). And the surface of the film is coated with an anti-fogging film, and the other surface of the glass substrate (outside the car, outside)
It is preferable that a water-repellent film is coated thereon. Even if the anti-fogging film and the water repellent film are coated on the low reflection film, the reflectance is hardly changed and the low reflectance is maintained.

【0047】本発明における透明ガラス基体としては、
屈折率が1.47〜1.53の透明ガラス物品、例えば
ソーダ石灰珪酸塩ガラス、ホウ珪酸塩ガラス、アルミノ
珪酸塩ガラスなどの組成を有する、無着色のガラス板、
緑色、ブロンズ色等に着色されたガラス板、または紫外
線、熱線等を遮断する性能を有するガラス板、又は前記
各種組成、着色、遮断性能を備えた前記板状以外の形状
を有するガラス材からなる透明ガラス基体等を使用して
もよく、厚みが0.2mm〜5.0mmで、可視光透過
率Yaが70%以上で、ヘイズ率が0.1%以下のガラ
ス板が好ましく用いられる。太陽電池パネルの前面ガラ
ス板、太陽電池基板用ガラス板のような太陽電池用ガラ
ス板に用いられる場合は、厚みが0.2mm〜5.0m
mで、可視光透過率Yaが85%以上、特に好ましくは
90%以上で、ヘイズ率が0.1%以下のガラス板基体
が好ましく用いられる。
As the transparent glass substrate in the present invention,
A transparent glass article having a refractive index of 1.47 to 1.53, such as a soda-lime silicate glass, a borosilicate glass, or an aluminosilicate glass;
A glass plate colored green, bronze, or the like, or a glass plate having a performance of blocking ultraviolet rays, heat rays, or the like, or a glass material having a shape other than the plate shape having the various compositions, coloring, and blocking performance. A transparent glass substrate or the like may be used, and a glass plate having a thickness of 0.2 mm to 5.0 mm, a visible light transmittance Ya of 70% or more, and a haze ratio of 0.1% or less is preferably used. When used for a glass plate for a solar cell such as a front glass plate for a solar cell panel or a glass plate for a solar cell substrate, the thickness is 0.2 mm to 5.0 m.
In m, a glass plate substrate having a visible light transmittance Ya of 85% or more, particularly preferably 90% or more, and a haze ratio of 0.1% or less is preferably used.

【0048】本発明の低反射ガラス物品は、透視性・視
認性や車内反射像の映り込み防止が特に必要な自動車、
鉄道などの車両の窓ガラス;建築用窓、ショーウインド
ウ、画像表示装置の前面ガラス板、または光学ガラス部
品;太陽熱温水器の前面ガラス板;太陽電池パネルの前
面ガラス板、太陽電池基板用ガラス板のような太陽電池
用ガラス板;等に用いられる。
The low-reflection glass article of the present invention can be used for automobiles, which are particularly required to have transparency / visibility and prevention of reflection of reflected images in vehicles.
Window glass for vehicles such as railways; front windows for architectural windows, show windows, image display devices, or optical glass parts; front glass plates for solar water heaters; front glass plates for solar cell panels; glass plates for solar cell substrates Such as a glass plate for a solar cell.

【0049】[0049]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を具体的に
説明するが、本発明はこれらによって限定されることは
ない。以下の実施例及び比較例において、光学特性はJI
S-R3106により、下記のように反射率、反射色調を測定
し、表面粗さ、耐摩耗性、汚れ防止性を下記のようにし
て測定した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto. In the following Examples and Comparative Examples, the optical characteristics were JI
The reflectance and the reflection color tone were measured by S-R3106 as described below, and the surface roughness, abrasion resistance and stain resistance were measured as described below.

【0050】膜面反射率1:JIS−Z8720に規定
される標準の光Aに対して、入射角12度で膜面側から
入射させた場合の反射率をJIS R 3106により測
定し、ガラスの裏面の反射を含まない反射率である。単
に「反射率」、「膜面反射率」というときはこの膜面反
射率1を指す。 膜面反射率2:入射角12度で膜面側から入射させた場
合の反射率を測定し、ガラスの裏面の反射を含む反射率
である。 全光線透過率およびヘイズ率:積分球式光線透過率測定
装置(スガ試験機(株)製、「HGM−2DP」、C光
源使用、膜面側から光入射)を用いて、全光線透過率お
よび曇価(ヘイズ率)を、JIS K7105-1981
(プラスチックの光学特性試験法)に記載されている曇
価測定法により測定した。 反射色調(a,b):C光源を使用して入射角12度で膜面
から入射させ、ガラス裏面の反射光を含む反射光の反射
色をJIS Z 8729により測定しハンターの色座標
により求めた値である。 テーバー摩耗1:JIS−R3221の規定に準じて、
CS-10Fの回転ホイルを使用し、500g荷重で200回
転後の膜の有無を調べた。膜が全面に残っている場合は
○、部分的に残っているものを△、全く膜がない場合を
×とした。括弧内にはテーバー摩耗後のヘイズ率上昇分
(「[テーバー摩耗試験後のヘイズ率(%)]−[テー
バー摩耗試験前のヘイズ率(%)]」の値)を示す。 テーバー摩耗2:条件が500g荷重で1000回転後
による評価である以外は、上記テーバー摩耗1と同じ。 堅牢度:乾式ネル布トラバース試験機(新東科学社製
「HEIDON−18」、荷重500g/cm2で10
00往復)による結果を試験前後のヘイズ率と全光線透
過率で評価した。なお、上記のテーバー摩耗1、テーバ
ー摩耗2、および堅牢度はいずれも膜の耐摩耗性を評価
する尺度であり、耐摩耗試験としては、最も厳しいのが
テーバー摩耗2であり、ついでテーバー摩耗1、堅牢度
の順に緩くなっている。テーバー摩耗1およびテーバー
摩耗2は、例えば自動車・建築用の窓として使用する場
合の耐摩耗性の評価に適しており、堅牢度は太陽電池用
ガラス板の耐摩耗性の評価に適している。 表面粗さ(Ra): 原子間力顕微鏡(AFM、セイコ
ー電子「SPI3700」)にて2μm×2μmの測定
範囲で表面粗さRaを測定した。 汚れ除去性:ガラスの膜を付けた面に手の親指を押しつ
けて指紋を付け、呼気をかけてティッシュペーパーで拭
いた。再び呼気をかけて指紋の残存状況を観察し、また
指紋付け・ティッシュペーパーでのふき取りの前後で反
射率が変化しているかを下記の通り判定した。 判定 ○:指紋形状が見えず、反射率がふき取り前後で変化無し △:指紋形状が見えるが、反射率がふき取り前後で変化無し ×:指紋形状が見え、反射率がふき取り前後で変化あり
Film surface reflectance 1: The reflectance when standard light A specified in JIS-Z8720 is incident from the film surface side at an incident angle of 12 degrees is measured according to JIS R 3106, and The reflectance does not include the reflection on the back surface. The term “reflectance” or “film surface reflectance” simply refers to this film surface reflectance 1. Film surface reflectance 2: The reflectance when the light is incident from the film surface side at an incident angle of 12 degrees is measured, and is the reflectance including the reflection on the back surface of the glass. Total light transmittance and haze ratio: Total light transmittance using an integrating sphere type light transmittance measuring device (“HGM-2DP”, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., using a C light source, light incident from the film surface side). And the haze (haze rate) are measured in accordance with JIS K7105-1981.
It was measured by the haze measurement method described in (Test Method for Optical Properties of Plastics). Reflection color tone (a, b): A C light source is used to make the light incident on the film surface at an incident angle of 12 degrees, and the reflection color of the reflection light including the reflection light on the back surface of the glass is measured according to JIS Z 8729 and obtained by the color coordinates of the hunter. Value. Taber abrasion 1: According to the provisions of JIS-R3221,
Using a rotating foil of CS-10F, the presence or absence of the film after 200 rotations with a load of 500 g was examined. When the film was left on the entire surface, it was evaluated as 、, when it was partially left, it was evaluated as △, and when there was no film, ×. The increase in haze after Taber abrasion is shown in parentheses.
(“[Haze rate (%) after Taber abrasion test] − [haze rate (%) before Taber abrasion test]]” is shown. Taber abrasion 2: The same as Taber abrasion 1 except that the condition was evaluated after 1000 rotations with a load of 500 g. Robustness: Dry flannel cloth traverse tester (“HEIDON-18” manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd., 10 with a load of 500 g / cm 2)
(00 reciprocations) was evaluated by the haze ratio and total light transmittance before and after the test. Note that the above Taber abrasion 1, Taber abrasion 2, and robustness are all measures for evaluating the abrasion resistance of the film, and the most severe abrasion test is Taber abrasion 2, followed by Taber abrasion 1. , In the order of robustness. Taber abrasion 1 and Taber abrasion 2 are suitable for evaluation of abrasion resistance when used, for example, as windows for automobiles and buildings, and the robustness is suitable for evaluation of abrasion resistance of a glass plate for a solar cell. Surface roughness (Ra): The surface roughness Ra was measured with an atomic force microscope (AFM, Seiko Denshi “SPI3700”) in a measurement range of 2 μm × 2 μm. Stain removal: Fingerprints were applied by pressing the thumbs of the hands against the glass-coated surface, and breath was wiped off with tissue paper. Exhalation was again performed to observe the remaining state of the fingerprint, and it was determined whether or not the reflectance changed before and after fingerprinting and wiping with tissue paper as follows. Judgment :: Fingerprint shape is not visible, reflectance does not change before and after wiping △: Fingerprint shape is visible, but reflectance does not change before and after wiping ×: Fingerprint shape is visible and reflectance changes before and after wiping

【0051】[実施例1]シリカ微粒子分散液(平均粒
径50nm、粒径の標準偏差1.4、長軸長さと短軸長
さの比の平均値1.1、固形分20%、日産化学製「ス
ノーテックスOL」)40gを撹拌しながら、それにエ
チルセロソルブ 52.1g、濃塩酸1g、テトラエト
キシシラン6.9gを順次添加し、120分間撹拌した
後、12時間静置して反応させた。このゾル4gにエチ
ルセロソルブ6gを加えて希釈し、固形分4%のコーテ
ィング液を作成した。
Example 1 Silica fine particle dispersion (average particle diameter 50 nm, standard deviation of particle diameter 1.4, average value of ratio of long axis length to short axis length 1.1, solid content 20%, Nissan) While stirring 40 g of chemical “Snowtex OL”, 52.1 g of ethyl cellosolve, 1 g of concentrated hydrochloric acid, and 6.9 g of tetraethoxysilane were sequentially added thereto, and the mixture was stirred for 120 minutes and left to react for 12 hours. Was. 4 g of this sol was diluted with 6 g of ethyl cellosolve to prepare a coating solution having a solid content of 4%.

【0052】ソーダ石灰珪酸塩ガラス組成を有し緑色に
着色された3.4mm厚みのフロートガラス基板(屈折
率=1.52、可視光線透過率Ya=81.3%、全光
線透過率=81.1%、日射透過率Tg=60.8%、
紫外線透過率Tuv(iso)=26.9%、可視光反射率
7.4%、Hunter表色系の透過色L=90.7,a=−
4.5,b=0.8、反射色L=27.3,a=−1.
3、b=−0.4)の片面に上記コーティング液を用い
てスピンコーティングにより成膜し、さらに700℃の
電気炉に2分間入れることにより平均膜厚が128nm
の低反射膜が被覆された低反射ガラス板が得られた。な
お電気炉内加熱による最高到達温度で630℃であっ
た。得られた膜付きガラス板の膜の端面(破断面)部分
を膜平面方向から30度上方斜めから見た電子顕微鏡
(10万倍に拡大)の写真は前述の図1と同じである。
A 3.4 mm thick float glass substrate having a soda-lime silicate glass composition and colored green (refractive index = 1.52, visible light transmittance Ya = 81.3%, total light transmittance = 81) 0.1%, solar radiation transmittance Tg = 60.8%,
UV transmittance Tuv (iso) = 26.9%, visible light reflectance 7.4%, transmission color L of Hunter color system L = 90.7, a = −
4.5, b = 0.8, reflection color L = 27.3, a = -1.
3, b = -0.4) on one surface by spin coating using the above coating solution, and further placed in an electric furnace at 700 ° C. for 2 minutes to obtain an average film thickness of 128 nm.
The low reflection glass plate coated with the low reflection film was obtained. The maximum temperature reached by heating in the electric furnace was 630 ° C. A photograph of an electron microscope (magnified 100,000 times) in which the end surface (broken surface) of the film of the obtained glass plate with a film is viewed obliquely upward by 30 degrees from the film plane direction is the same as that in FIG. 1 described above.

【0053】[実施例2]実施例1で膜の平均厚みを1
05nmにした以外は同様に行った。なおこの平均膜厚
は可視光反射率が最小になる条件を満足するように調整
した。以下の実施例3〜5、比較例1〜7についても平
均膜厚を同様に調節した。
Example 2 The average thickness of the film in Example 1 was set to 1
The same procedure was performed except that the thickness was changed to 05 nm. The average film thickness was adjusted so as to satisfy the condition that the visible light reflectance was minimized. The average film thickness of the following Examples 3 to 5 and Comparative Examples 1 to 7 was similarly adjusted.

【0054】[実施例3]シリカ微粒子分散液(平均粒
径70nm、粒径の標準偏差1.3、長軸長さと短軸長
さの比の平均値1.1、固形分40%、日産化学製「ス
ノーテックスYL」)21.3gを撹拌しながら、それ
に水21.3g、エチルセロソルブ51.3g、濃塩酸
1g、テトラエトキシシラン5.2gを順次添加し、約
4時間反応させた。このゾル4gにエチルセロソルブ6
gを添加しコーティング液とした。実施例1で用いた基
板と同じ組成で2.0mm厚みのガラス基板(可視光線
透過率Ya=85.3%、全光線透過率=85.4%、
日射透過率Tg=71.0%、紫外線透過率Tuviso=
61.6%、可視光反射率7.6%、Hunter表色系の透
過色a=−2.9,b=0.4、反射色 a=−0.
1、b=−0.8)を用いて成膜し、実施例1と同様の
熱処理を行った。得られた膜の平均厚みは123nmで
あった。得られた膜付きガラス板の膜の端面(破断面)
部分を膜平面方向から30度上方斜めから見た電子顕微
鏡(10万倍に拡大)の写真を図3に示す。
Example 3 Silica fine particle dispersion (average particle diameter 70 nm, standard deviation of particle diameter 1.3, average value of ratio of major axis length to minor axis length 1.1, solid content 40%, Nissan) With stirring 21.3 g of chemical "Snowtex YL", 21.3 g of water, 51.3 g of ethyl cellosolve, 1 g of concentrated hydrochloric acid, and 5.2 g of tetraethoxysilane were sequentially added thereto and reacted for about 4 hours. Ethyl cellosolve 6 is added to 4 g of this sol.
g was added to obtain a coating solution. A glass substrate having the same composition as the substrate used in Example 1 and having a thickness of 2.0 mm (visible light transmittance Ya = 85.3%, total light transmittance = 85.4%,
Solar transmittance Tg = 71.0%, UV transmittance Tuviso =
61.6%, visible light reflectance 7.6%, transmission color a = −2.9, b = 0.4, reflection color a = −0.
1, b = -0.8) and subjected to the same heat treatment as in Example 1. The average thickness of the obtained film was 123 nm. End face (fracture surface) of the obtained glass plate with film
FIG. 3 shows a photograph of an electron microscope (magnified 100,000 times) in which the portion was viewed obliquely upward by 30 degrees from the film plane direction.

【0055】[実施例4]シリカ微粒子分散液(平均粒
径110nm、粒径の標準偏差1.1、長軸長さと短軸
長さの比の平均値1.03、固形分15%、日本触媒製
「シーホスターKE−W10」)50.0gを撹拌しな
がら、それにエタノール40.3g、テトラエトキシシ
ラン8.7g、濃硝酸1.0gを順次添加し、3時間反
応させた。固形分3%に調製しスピンコーティングによ
り膜を、ソーダ石灰珪酸塩ガラス組成を有し無着色透明
(クリア)の2.8mm厚みのフロートガラス基板(屈
折率=1.52、可視光線透過率Ya=89.9%、全
光線透過率=89.7%、日射透過率Tg=84.3
%、紫外線透過率Tuviso=61.3%、可視光反射率
8.0%、Hunter表色系の透過色L=94.9,a=−
1.0,b=0.2、反射色L=28.3,a=−0.
4、b=−0.6)の片側表面に形成した。500度に
加熱した電気炉にコーティングしたガラスを30分間入
れて熱処理を行った。得られた膜の平均厚みは163n
mであった。得られた膜付きガラス板の膜の端面(破断
面)部分を膜平面方向から30度上方斜めから見た電子
顕微鏡(10万倍に拡大)の写真を図4に示す。
Example 4 Silica Fine Particle Dispersion (Average Particle Size: 110 nm, Standard Deviation of Particle Size: 1.1, Average of Ratio of Long Axis Length to Short Axis Length: 1.03, Solid Content: 15%, Japan 40.3 g of ethanol, 8.7 g of tetraethoxysilane, and 1.0 g of concentrated nitric acid were sequentially added to 50.0 g of a catalyst “Seahoster KE-W10” while stirring, and reacted for 3 hours. The solid content was adjusted to 3%, and the film was formed by spin coating to form an uncolored transparent (clear) float glass substrate having a soda-lime silicate glass composition and a thickness of 2.8 mm (refractive index = 1.52, visible light transmittance Ya). = 89.9%, total light transmittance = 89.7%, solar transmittance Tg = 84.3
%, UV transmittance Tuviso = 61.3%, visible light reflectance 8.0%, transmission color L of Hunter color system L = 94.9, a = −
1.0, b = 0.2, reflection color L = 28.3, a = -0.
4, b = -0.6). The coated glass was placed in an electric furnace heated to 500 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment. The average thickness of the obtained film is 163n.
m. FIG. 4 shows a photograph of an electron microscope (enlarged 100,000 times) in which the end surface (fracture surface) of the film of the obtained glass plate with a film is viewed obliquely upward by 30 degrees from the film plane direction.

【0056】[実施例5]鎖状凝集シリカ微粒子分散液
(平均一次粒径25nm、平均長さ100nm、固形分
15%、日産化学製「スノーテックスOUP」、)5
3.3g、エタノール38.8g、3モル/Lの塩酸1
g、テトラエトキシシラン6.9gを混合し、12時間
反応させコーティング液を調製した。実施例1と同じガ
ラス基板の片側表面に上記コーティング液を用いてスピ
ンコーティングにより成膜し、さらに600℃の電気炉に
10分間入れることにより平均膜厚が120nmの低反
射膜が被覆された低反射ガラス板が得られた。なお電気
炉内加熱による最高到達温度で590℃であった。
Example 5 Chain-Aggregated Silica Fine Particle Dispersion (Average Primary Particle Size 25 nm, Average Length 100 nm, Solid Content 15%, Nissan Chemical's “Snowtex OUP”) 5
3.3 g, ethanol 38.8 g, 3 mol / L hydrochloric acid 1
g, and 6.9 g of tetraethoxysilane were mixed and reacted for 12 hours to prepare a coating solution. The same glass substrate as in Example 1 was spin-coated on one surface using the above-mentioned coating solution, and further placed in an electric furnace at 600 ° C. for 10 minutes to form a low-reflection film having an average film thickness of 120 nm. A reflective glass plate was obtained. The maximum temperature reached by heating in the electric furnace was 590 ° C.

【0057】上記実施例1〜5における、シリカ微粒子
の形態(非凝集微粒子か鎖状凝集微粒子かの区別、およ
び2種の微粒子を混合した場合は「混合」の表記)、シ
リカ微粒子の寸法である平均粒径(ただし鎖状凝集シリ
カ微粒子については平均一次粒径)、膜中のバインダー
含有量(重量%)、シリカ微粒子含有量(重量%)、最
終膜厚(平均膜厚)、コーティング液の調製における、
シリカ微粒子の存在下でのシリコンアルコキシドの加水
分解の有無(「シリカ微粒子存在下加水分解」の有
無)、膜の上方から膜を電子顕微鏡で観察して1μm×
1μmの正方形面積の膜面中の微粒子の数(微粒子密
度)、およびガラス基板の種類(色と厚み(mm))
と、得られた低反射ガラス板についての膜面反射率1、
膜面反射率2、ヘイズ率(%)、反射色調a/b、テーバ
ー摩耗1、テーバー摩耗2、表面粗さRa(nm)、汚
れ除去性の評価結果は表2に示す。なお、反射色調から
計算した反射光彩度の値[(a2+b21/2]は、いず
れの実施例も4以下であった。
In Examples 1 to 5, the form of the silica fine particles (discrimination between non-agglomerated fine particles and chain-like agglomerated fine particles, and when two types of fine particles are mixed is referred to as “mixing”), Certain average particle size (however, the average primary particle size for chain-like agglomerated silica particles), binder content (% by weight), silica fine particle content (% by weight), final film thickness (average film thickness), coating liquid In the preparation of
The presence or absence of hydrolysis of silicon alkoxide in the presence of silica fine particles (the presence or absence of “hydrolysis in the presence of silica fine particles”).
The number of fine particles (fine particle density) on the film surface with a square area of 1 μm, and the type of glass substrate (color and thickness (mm))
And the film surface reflectivity 1 of the obtained low reflection glass plate,
Table 2 shows the evaluation results of the film surface reflectance 2, haze ratio (%), reflection color tone a / b, Taber abrasion 1, Taber abrasion 2, surface roughness Ra (nm), and stain removal. The value of the reflected light saturation [(a 2 + b 2 ) 1/2 ] calculated from the reflected color tone was 4 or less in each of the examples.

【0058】[0058]

【表2】 ─────────────────────────────────── 実施例1 実施例2 実施例3 実施例4 実施例5 ───────────────────────────────────シリカ 微粒子 非凝集 同左 同左 同左 鎖状凝集 平均粒径 50nm 50nm 70nm 110nm 25nmハ゛インタ゛ー 量 20% 20% 15% 25% 20%シリカ 微粒子量 80% 80% 85% 75% 80% 平均膜厚 128nm 105nm 123nm 163nm 120nm 存在下加水分解 有 有 有 有 有 微粒子密度 800個 750個 500個 180個 2700個 (1μm角) 基板(色、厚みmm) ク゛リーン3.4 ク゛リーン3.4 ク゛リーン2.0 クリア2.8 ク゛リ-ン3.4 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 膜面反射率1 1.3% 0.9% 0.6% 0.3% 0.4% 膜面反射率2 4.7% 4.3% 4.0% 4.3% 3.6%ヘイス゛ 率(%) 0.1 0.2 0.1 0.2 0.1 反射色調a/b -1.3/-3.5 -1.2/-1.1 -1.0/-1.9 -1.5/2.1 -1.1/-1.4テーハ゛ー 摩耗1 ○(1.3) ○(1.2) ○(1.0) ○(1.3) ○(1.9)テーハ゛ー 摩耗2 ○(1.8) ○(1.6) ○(1.5) ○(1.5) ○(2.4) Ra(nm) 10.1 7.8 12.5 19.6 5.8 汚れ除去性 ○ ○ ○ ○ ○ ───────────────────────────────────[Table 2] ─────────────────────────────────── Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 Example 5 ─────────────────────────────────── Silica fine particles Non-aggregation Same as left Same as left Same as left Chain aggregation Average Particle size 50 nm 50 nm 70 nm 110 nm 25 nm binder amount 20% 20% 15% 25% 20% silica fine particle amount 80% 80% 85% 75% 80% average thickness 128 nm 105 nm 123 nm 163 nm 120 nm hydrolysis in the presence of yes yes yes yes yes fine particles Density 800 pieces 750 pieces 500 pieces 180 pieces 2700 pieces (1 μm square) Substrate (color, thickness mm) Clean 3.4 Clean 3.4 Clean 2.0 Clear 2.8 Clean 3.4 −−−−−−−−−−−−−−−−−− −−−−−−−−−−−−−−−−−−−− Film reflectance 1 1.3% 0.9% 0.6% 0.3% 0.4% Film reflectance 2 4.7% 4.3% 4.0% 4.3% 3.6% Haze ゛Rate (%) 0.1 0.2 0.1 0.2 0.1 Reflected color tone a / b -1.3 / -3.5 -1.2 / -1.1 -1.0 / -1.9 -1.5 / 2.1 -1.1 / -1.4 The wear of the taper 1 ○ (1.3) ○ (1.2) ○ (1.0) ○ (1.3) ○ (1.9) The wear of the taper 2 ○ (1.8) ○ (1.6) ○ (1.5) ○ (1.5) ○ (2.4) Ra (nm) 10.1 7.8 12.5 19.6 5.8 Stain removal ○ ○ ○ ○ ○ ────────────────── ─────────────────

【0059】実施例1〜5の低反射ガラスにおいて、膜
面反射率、特に膜面反射率1(裏面反射を含まない反射
率)が0.3〜1.3%と小さな値であり、そしてヘイ
ズ率は0.1〜0.2と小さくて透視性に優れているこ
と、ならびに耐摩耗性および汚れ除去性も優れているこ
とが表3からわかる。
In the low reflection glasses of Examples 1 to 5, the film surface reflectance, particularly the film surface reflectance 1 (reflectance not including back surface reflection) is as small as 0.3 to 1.3%, and It can be seen from Table 3 that the haze ratio is as small as 0.1 to 0.2 and excellent in transparency, and also excellent in abrasion resistance and stain removal.

【0060】実施例1〜5の低反射ガラスを製造後、2
ケ月間、屋外に放置した後にその反射率、反射色調を測
定したところ、いずれの実施例も屋外放置前後の測定値
の変化はなく、耐久性に優れていることがわかった。
After producing the low reflection glasses of Examples 1 to 5,
When the reflectance and the reflection color tone were measured after being left outdoors for a period of one month, there was no change in the measured values before and after being left outdoors, and it was found that each of the examples had excellent durability.

【0061】多結晶太陽電池(57mm×28mmのモジュール
3個を直列接続。特性値 Pmax(W)=0.57, Voc(V)=1.7,
Isc(mA)=450 AM1.5, 100mW/cm2,25℃)の前面のカ
バーガラスとして、実施例4で得られた低反射ガラス
(低反射膜を外側にする)と実施例4で使用した低反射
膜被覆前のガラス基板を使用して晴天時に発生する電流
値を測定し比較した。前者の電流値は397mA、後者
の電流値は387mAであり、低反射ガラスの方の変換
効率が約3%上昇した。
Polycrystalline solar cell (three modules of 57 mm × 28 mm connected in series. Characteristic values Pmax (W) = 0.57, Voc (V) = 1.7,
Isc (mA) = 450 AM1.5, 100 mW / cm 2 , 25 ° C.) Used as the front cover glass in Example 4 with the low-reflection glass (low-reflection film on the outside) obtained in Example 4. Using a glass substrate before coating with a low-reflection film, the current value generated in fine weather was measured and compared. The former current value was 397 mA, and the latter current value was 387 mA, and the conversion efficiency of the low-reflection glass was increased by about 3%.

【0062】なお、実施例4で得られた低反射膜の上に
撥水膜を以下のようにして被覆した。CF3(CF27
(CH22Si(OCH33(ヘプタデカフルオロデシ
ルトリメトキシシラン、東芝シリコーン製)1gをエタ
ノール98gに溶解し、更に0.1規定塩酸を1.0g
添加し、1時間撹拌し、撥水処理剤を得た。
A water-repellent film was coated on the low reflection film obtained in Example 4 as follows. CF 3 (CF 2 ) 7
1 g of (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 (heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, manufactured by Toshiba Silicone) is dissolved in 98 g of ethanol, and 1.0 g of 0.1 N hydrochloric acid is further dissolved.
The mixture was stirred for 1 hour to obtain a water-repellent agent.

【0063】綿布に3mlの上記撥水処理剤をつけ、こ
れを上記の低反射ガラス板の低反射膜の表面に塗り込ん
だ後、過剰に付着した撥水処理剤を新しい綿布で拭き取
り、撥水処理ガラスを得た。
After applying 3 ml of the above-mentioned water-repellent treatment agent to a cotton cloth and applying it to the surface of the low-reflection film of the above-mentioned low-reflection glass plate, the excessively adhered water-repellent treatment agent is wiped off with a new cotton cloth, and the water-repellent agent is removed. A water-treated glass was obtained.

【0064】この撥水処理ガラスについて、接触角計
(CA−DT、協和界面科学製)を用いて、水滴重量2
mgとして静的水滴接触角を測定した。接触角の値は約
125度であり、無処理のガラス板表面に上記と同じ方
法で撥水処理して得られる接触角の値約105度よりも
遙かに大きい値が得られ、非常に優れた撥水性を有する
ことがわかった。また、この撥水処理をした低反射ガラ
スの反射防止性能および変換効率は優れていた。
The water-repellent glass was measured for a water droplet weight of 2 using a contact angle meter (CA-DT, manufactured by Kyowa Interface Science).
The static water contact angle was measured as mg. The value of the contact angle is about 125 degrees, which is much larger than the value of the contact angle of about 105 degrees obtained by performing the water-repellent treatment on the untreated glass plate surface in the same manner as described above. It was found to have excellent water repellency. The anti-reflection performance and conversion efficiency of the low-reflection glass subjected to the water-repellent treatment were excellent.

【0065】また実施例1〜5のすべての膜表面につい
て、接触角計(CA−DT、協和界面科学製)を用い
て、水滴重量2mgとして、水の接触角を測定したとこ
ろ、いずれも5度以下であり、優れた親水性を示した。
The contact angles of water were measured for all the film surfaces of Examples 1 to 5 using a contact angle meter (CA-DT, manufactured by Kyowa Interface Science) with a water droplet weight of 2 mg. Degrees or less, and showed excellent hydrophilicity.

【0066】次に太陽電池用ガラス板への応用に関する
実施例(実施例6〜10)を記載する。 [実施例6]第1のシリカ微粒子分散液(平均粒径50
nm、固形分20%、前記の日産化学製「スノーテック
スOL」、)32.0gと第2のシリカ微粒子分散液
(平均粒径300nm、粒径の標準偏差1.1、長軸長
さと短軸長さの比の平均値1.02、固形分20%、日
本触媒製「シーホスターKE−W30」)8.0gを固
形分比で4:1の割合として混合してシリカ微粒子分散
液(平均粒径50nm、第1のシリカ微粒子平均粒径と
ほぼ等しい)40.0gを得た。これに、さらにエタノ
ール52.6g、3モル/Lの塩酸0.5g、テトラエ
トキシシラン6.9gを添加し、12時間反応させ、コ
ーティング液を調製した。ソーダ石灰珪酸塩ガラス組成
を有し無着色透明(クリア)の4.0mm厚みのフロー
トガラス基板(可視光線透過率Ya=88.5%)、全
光線透過率=88.5%、日射透過率Tg=79.6
%、紫外線透過率Tuviso=52.0%、可視光反射率
7.7%、Hunter表色系の透過色L=94.3−,a=
−1.7,b=0.2、反射色L=27.8,a=−
0.5、b=−0.6)の表面に、上記コーティング液
をスピンコート法により塗布し、さらに500℃の電気
炉に10分間保持することによりヘイズ率が5.1%を
有する低反射膜(平均膜厚250nm)が被覆された低
反射ガラス板が得られた。
Next, examples (Examples 6 to 10) relating to application to a glass plate for a solar cell will be described. Example 6 First silica fine particle dispersion (average particle diameter 50
32.0 g of a second silica fine particle dispersion (average particle diameter 300 nm, standard deviation of particle diameter 1.1, major axis length and short length) A mixture of 8.0 g of an average shaft length ratio of 1.02, solid content of 20%, and Nippon Shokubai's "Seahoster KE-W30" at a solid content ratio of 4: 1 was mixed and dispersed in silica fine particles (average). (The particle diameter is 50 nm, which is almost equal to the average particle diameter of the first silica fine particles). To this, 52.6 g of ethanol, 0.5 g of 3 mol / L hydrochloric acid and 6.9 g of tetraethoxysilane were further added and reacted for 12 hours to prepare a coating solution. Non-colored transparent (clear) float glass substrate having a soda-lime silicate glass composition and having a thickness of 4.0 mm (visible light transmittance Ya = 88.5%), total light transmittance = 88.5%, solar radiation transmittance Tg = 79.6
%, UV transmittance Tuviso = 52.0%, visible light reflectance 7.7%, transmission color L of Hunter color system = 94.3, a =
-1.7, b = 0.2, reflection color L = 27.8, a =-
0.5, b = -0.6), the above coating solution is applied by a spin coating method, and further kept in an electric furnace at 500 ° C. for 10 minutes to obtain a low reflection having a haze ratio of 5.1%. A low-reflection glass plate coated with a film (average thickness 250 nm) was obtained.

【0067】[実施例7]シリカ微粒子分散液(平均粒
径550nm、粒径の標準偏差1.1、長軸長さと短軸
長さの比の平均値1.02、固形分20%、日本触媒製
「KE−W50」)40gを撹拌しながら、それにエチ
ルセロソルブ 52.1g、濃塩酸1g、テトラエトキ
シシラン6.9gを順次添加し、240分間撹拌しなが
ら反応させてゾルを得た。このゾル3gにエチルセロソ
ルブ3g、ヘキシレングリコール4gを加えて希釈し、
固形分3重量%のコーティング液を作成した。
Example 7 Silica Fine Particle Dispersion (Average Particle Size: 550 nm, Standard Deviation of Particle Size: 1.1, Average of Ratio of Long Axis Length to Short Axis Length: 1.02, Solid Content: 20%, Japan While stirring 40 g of "KE-W50" manufactured by Catalyst, 52.1 g of ethyl cellosolve, 1 g of concentrated hydrochloric acid, and 6.9 g of tetraethoxysilane were sequentially added thereto, and reacted with stirring for 240 minutes to obtain a sol. 3 g of this sol was diluted with 3 g of ethyl cellosolve and 4 g of hexylene glycol,
A coating solution having a solid content of 3% by weight was prepared.

【0068】実施例4と同じ組成および厚みのフロート
ガラス基板の片面に上記コーティング液を用いてスピン
コーティングにより成膜し、さらに700℃の電気炉に
2分間入れることによりヘイズ率が51.7%を有する
低反射膜(平均膜厚560nm)が被覆された低反射ガ
ラス板が得られた。なお電気炉内加熱による最高到達温
度で630℃であった。
A film was formed on one surface of a float glass substrate having the same composition and thickness as in Example 4 by spin coating using the above coating solution, and further placed in an electric furnace at 700 ° C. for 2 minutes to obtain a haze ratio of 51.7%. A low-reflection glass plate coated with a low-reflection film having an average thickness of 560 nm was obtained. The maximum temperature reached by heating in the electric furnace was 630 ° C.

【0069】[実施例8]シリカ微粒子分散液(平均粒
径740nm、粒径の標準偏差1.1、長軸長さと短軸
長さの比の平均値1.02、固形分20%、日本触媒製
「KE−E70」)40gを撹拌しながら、それにエチ
ルセロソルブ 52.1g、濃塩酸1g、テトラエトキ
シシラン6.9gを順次添加し、240分間撹拌しなが
ら反応させた。このゾル6gにヘキシレングリコール4
gを加えて希釈し、固形分6%のコーティング液を作成
した。実施例7と同じ組成および厚みのフロートガラス
基板の片面にスピンコーティングにより成膜し、さらに
700℃の電気炉に2分間入れることによりヘイズ率が6
9.5%を有する低反射膜(平均膜厚750nm)が被
覆された低反射ガラス板が得られた。
Example 8 Silica Fine Particle Dispersion (Average Particle Size: 740 nm, Standard Deviation of Particle Size: 1.1, Average Ratio of Long Axis Length to Short Axis Length: 1.02, Solid Content: 20%, Japan While stirring 40 g of "KE-E70" manufactured by Catalyst, 52.1 g of ethyl cellosolve, 1 g of concentrated hydrochloric acid and 6.9 g of tetraethoxysilane were sequentially added thereto, and the mixture was reacted with stirring for 240 minutes. Hexylene glycol 4
g was added and diluted to prepare a coating solution having a solid content of 6%. A film was formed by spin coating on one surface of a float glass substrate having the same composition and thickness as in Example 7, and
Haze rate is 6 by placing in an electric furnace at 700 ° C for 2 minutes.
A low-reflection glass plate coated with a low-reflection film (average thickness 750 nm) having 9.5% was obtained.

【0070】[実施例9]シリカ微粒子分散液(平均粒
径300nm、固形分20%、前記の日本触媒製「KE
−W30」)35gを撹拌しながら、それにエチルセロ
ソルブ 52.1g、濃塩酸1g、テトラエトキシシラ
ン10.4gを順次添加し、300分間撹拌しながら反
応させた。このゾル3gにヘキシレングリコール4gを
加えて希釈し、固形分3%のコーティング液を作成し
た。実施例7と同じ組成および厚みのフロートガラス基
板の片面にスピンコーティングにより成膜し、さらに7
00℃の電気炉に2分間入れることによりヘイズ率が1
8.2%を有する低反射膜(平均膜厚320nm)が被
覆された低反射ガラス板が得られた。
Example 9 Silica fine particle dispersion (average particle diameter 300 nm, solid content 20%, "KE"
-W30 "), while stirring, 352.1 g of ethyl cellosolve (52.1 g), concentrated hydrochloric acid (1 g), and tetraethoxysilane (10.4 g) were sequentially added, and the mixture was reacted with stirring for 300 minutes. Hexylene glycol (4 g) was added to and diluted with 3 g of the sol to prepare a coating solution having a solid content of 3%. A film was formed on one surface of a float glass substrate having the same composition and thickness as in Example 7 by spin coating.
A haze ratio of 1 was obtained by placing the furnace in a 00 ° C electric furnace for 2 minutes.
A low-reflection glass plate coated with a low-reflection film (average thickness: 320 nm) having 8.2% was obtained.

【0071】[実施例10]実施例4で使用した微粒子
含有加水分解液(平均粒径110nm)16g、実施例
7で使用した微粒子含有加水分解液(平均粒径550n
m)24g、エチルセロソルブ20g、ヘキシレングリ
コール40gを混合し、コーティング液とした。実施例
6で使用したと同じガラス基板の表面に、上記コーティ
ング液をグラビアコーティング法により塗布し、さらに
500℃の電気炉に10分間保持することによりヘイズ
率が27.2%を有する低反射膜(平均膜厚570n
m)が被覆された低反射ガラス板が得られた。
Example 10 16 g of the hydrolyzate containing fine particles (average particle diameter 110 nm) used in Example 4 and the hydrolyzate containing fine particles used in Example 7 (average particle diameter of 550 n)
m) 24 g, ethyl cellosolve 20 g, and hexylene glycol 40 g were mixed to prepare a coating solution. The above-mentioned coating solution was applied to the surface of the same glass substrate as used in Example 6 by a gravure coating method, and further kept in an electric furnace at 500 ° C. for 10 minutes, whereby a low reflection film having a haze ratio of 27.2% was obtained. (Average film thickness 570n
A low reflection glass plate coated with m) was obtained.

【0072】実施例6〜10の低反射ガラスの反射率、
反射色調は、2ヶ月後に再度測定しても変化が無く、測
定値は全て測定器の誤差範囲内にあった。
The reflectance of the low reflection glass of Examples 6 to 10,
The reflection color tone did not change even when measured again after two months, and all the measured values were within the error range of the measuring instrument.

【0073】上記実施例6〜10における、シリカ微粒
子の形態(非凝集微粒子か鎖状凝集微粒子かの区別、お
よび2種の微粒子を混合した場合は「混合」の表記)、
シリカ微粒子の寸法(平均粒径)、膜中のバインダー含
有量(重量%)、シリカ微粒子含有量(重量%)、最終
膜厚(平均膜厚)、コーティング液の調製における、シ
リカ微粒子の存在下でのシリコンアルコキシドの加水分
解の有無(「存在下加水分解」の有無)、膜の上部から
膜を電子顕微鏡で観察して膜面積100平方μm(10
μm×10μm)中の微粒子の数(微粒子密度)、およ
び基体のガラス板の種類(色と厚み(mm))と、得ら
れた低反射ガラス板についての膜面反射率1および2、
反射色調a/b、汚れ除去性、初期のヘイズ率(%)、初
期の全光線透過率(%)および、堅牢度試験(500g
/cm2荷重で1000回往復)後のヘイズ率(%)全
光線透過率(%)の評価結果は表3に示す。なお、反射
色調から計算した反射光彩度の値[(a2+b21/2
は、いずれの実施例も4以下であった。表3の記載か
ら、実施例6〜8,および10においては、得られた低
反射ガラス板はガラス基板の全光線透過率よりも高い全
光線透過率を有しており、実施例9においては得られた
低反射ガラス板はガラス板基体の全光線透過率とほぼ等
しい全光線透過率を有していることがわかる。実施例6
〜10の低反射ガラスはヘイズ率が大きく、自動車、建
築などの窓ガラスとしてはあまり適しないが、太陽電池
用基板用ガラス板および太陽熱温水器用ガラス板として
好適に使用することができる。
In the above Examples 6 to 10, the form of the silica fine particles (discrimination between non-aggregated fine particles and chain-like aggregated fine particles, and when two types of fine particles are mixed, the notation of “mixing”);
The size of silica fine particles (average particle size), the content of binder in the film (% by weight), the content of silica fine particles (% by weight), the final film thickness (average film thickness), the presence of the silica fine particles in the preparation of the coating solution The presence or absence of hydrolysis of the silicon alkoxide (the presence or absence of “hydrolysis in the presence”), observing the film with an electron microscope from the top of the film, and measuring the film area of 100 square μm (10
μm × 10 μm), the type of substrate glass plate (color and thickness (mm)), and film surface reflectivities 1 and 2 of the obtained low reflection glass plate.
Reflection color a / b, dirt removal, initial haze ratio (%), initial total light transmittance (%), and fastness test (500 g)
Table 3 shows the evaluation results of the haze ratio (%) and the total light transmittance (%) after 1000 reciprocations under a load of / cm 2 . The value of the reflected light saturation calculated from the reflected color tone [(a 2 + b 2 ) 1/2 ]
Was 4 or less in all Examples. From the description in Table 3, in Examples 6 to 8 and 10, the obtained low reflection glass plate has a higher total light transmittance than the total light transmittance of the glass substrate. It can be seen that the obtained low reflection glass plate has a total light transmittance substantially equal to the total light transmittance of the glass plate substrate. Example 6
The low-reflection glass having a high haze ratio of 10 to 10 is not very suitable as a window glass for automobiles and buildings, but can be suitably used as a glass plate for a solar cell substrate and a glass plate for a solar water heater.

【0074】[0074]

【表3】 ─────────────────────────────────── 実施例6 実施例7 実施例8 実施例9 実施例10 ───────────────────────────────────シリカ 微粒子 非凝集・混合 非凝集 同左 同左 非凝集・混合 平均粒径 50nm 550nm 740nm 300nm 160nmハ゛インタ゛ー 量 20% 20% 20% 30% 22%シリカ 微粒子量 80% 80% 80% 70% 78% 平均膜厚 250nm 560nm 750nm 320nm 570nm 存在下加水分解 有 有 有 有 有 微粒子密度 650個 100個 30個 300個 6500個 (10μm角) 基板(色、厚みmm) クリア4.0 クリア2.8 クリア2.8 クリア2.8 クリア4.0 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 膜面反射率1 0.5% 0.2% 0.2% 0.3% 0.2% 膜面反射率2 4.3% 2.6% 2.9% 3.9% 3.4% 反射色調a/b -1.9/0 1.0/-1.3 -0.3/0.8 -0.8/-0.8 -0.1/0.9 汚れ除去性 ○ ○ ○ ○ ○ 初期ヘイス゛率(%) 5.1 51.7 69.5 18.2 27.1 初期全光線透過率 91.5 91.2 90.5 89.5 91.4 堅牢度試験後 ヘイス゛率(%) 5.3 52.6 70.8 19.0 28.5 全光線透過率(%) 91.4 91.3 90.7 89.5 91.2 ───────────────────────────────────[Table 3] ─────────────────────────────────── Example 6 Example 7 Example 8 Example 9 Example 10 ─────────────────────────────────── Silica fine particles Non-agglomerated / mixed Non-agglomerated Same as left Same as left Non Aggregation / mixing Average particle size 50 nm 550 nm 740 nm 300 nm 160 nmBinder amount 20% 20% 20% 30% 22% Silica fine particle amount 80% 80% 80% 70% 78% Average film thickness 250 nm 560 nm 750 nm 320 nm 570 nm Yes Yes Yes Fine particle density 650 100 30 300 6500 (10 μm square) Substrate (color, thickness mm) Clear 4.0 Clear 2.8 Clear 2.8 Clear 2.8 Clear 4.0 ----------------------------- −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− Film reflectance 1 0.5% 0.2% 0.2% 0.3% 0.2% Film reflectance 2 4.3% 2.6% 2.9% 3.9% 3.4 % Reflective color a / b -1.9 / 0 1.0 / -1.3 -0.3 / 0.8 -0.8 / -0.8 -0.1 / 0.9 Stain removal ○ ○ ○ ○ ○ Initial haze rate (%) 5.1 51.7 69.5 18.2 27.1 Initial total light transmittance 91.5 91.2 90.5 89.5 91.4 After fastness test Haze rate (%) 5.3 52.6 70.8 19.0 28.5 Total light transmittance (%) 91.4 91.3 90.7 89.5 91.2 ───────────────────────────────────

【0075】実施例6〜10では、堅牢度試験前後の膜
面反射率1、2および反射色調の変化は分光光度計の測
定誤差範囲内であり、光学的な厚みの変化は無いと判断
できた。堅牢度試験後に、ヘイズ率は若干上昇している
が、全光線透過率はほとんど変化せず、従って微粒子に
よる光の散乱により生じる拡散透過光の減少は無いこと
から、強固にガラス基板に微粒子が密着していることが
わかる。
In Examples 6 to 10, the changes in the film surface reflectances 1, 2 and the reflection color tone before and after the robustness test were within the measurement error range of the spectrophotometer, and it could be determined that there was no optical thickness change. Was. After the fastness test, the haze increased slightly, but the total light transmittance hardly changed.Therefore, there was no decrease in diffuse transmitted light caused by light scattering by the fine particles. It can be seen that they are in close contact.

【0076】[比較例1]シリカ微粒子分散液(平均粒
径50nm、固形分20%、前記日産化学製「スノーテ
ックスOL」)12.5gにエタノール45g、テトラ
エトキシシラン8.67g、濃塩酸1gを順次添加し、
24時間攪拌して加水分解反応させた。さらにエチルセ
ロソルブで希釈しコーティング液(シリカ微粒子および
エチルシリケートが、それぞれシリカ換算で4:1の重
量比で含有)とした。
[Comparative Example 1] 45 g of ethanol, 8.67 g of tetraethoxysilane, and 1 g of concentrated hydrochloric acid were added to 12.5 g of a silica fine particle dispersion (average particle size: 50 nm, solid content: 20%, the above-mentioned "Snowtex OL" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.). Are sequentially added,
The mixture was stirred for 24 hours to cause a hydrolysis reaction. The mixture was further diluted with ethyl cellosolve to prepare a coating liquid (containing silica fine particles and ethyl silicate at a weight ratio of 4: 1 in terms of silica, respectively).

【0077】[比較例2]テトラメトキシシラン15.
2gにエタノール36.8g、3モル/Lの塩酸7.2
gを混合し、12時間反応させてテトラメトキシシラン
を加水分解した。鎖状凝集シリカ微粒子分散液(平均一
次粒径25nm、固形分15%、前述の日産化学製「ス
ノーテックス−OUP」)160gと上記加水分解液と
を混合し、コーティング液を調製した。
Comparative Example 2 Tetramethoxysilane
26.8 g of ethanol 36.8 g, 3 mol / L hydrochloric acid 7.2
g were mixed and reacted for 12 hours to hydrolyze tetramethoxysilane. A coating liquid was prepared by mixing 160 g of a chain-like aggregated silica fine particle dispersion (average primary particle size: 25 nm, solid content: 15%, “Snowtex-OUP” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) and the above hydrolyzed liquid.

【0078】[比較例3]テトラエトキシシラン21g
に撹拌しながらエチルセルソルブ29g、1モル/Lの
塩酸10gを添加し12時間反応させた。この反応液
3.3gとシリカ微粒子分散液(平均粒径50nm、固
形分20%、前記日産化学製「スノーテックスO
L」、)3.3gの割合で混合しエチルセロソルブで希
釈しコーティング液とした。
[Comparative Example 3] 21 g of tetraethoxysilane
While stirring, 29 g of ethyl cellosolve and 10 g of 1 mol / L hydrochloric acid were added and reacted for 12 hours. This reaction solution
3.3 g of a silica fine particle dispersion (average particle size 50 nm, solid content 20%, "Snowtex O" manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.
L ")) at a rate of 3.3 g and diluted with ethyl cellosolve to prepare a coating solution.

【0079】[比較例4]シリカ微粒子分散液(平均粒
径30nm、固形分20%、日産化学製「スノーテック
スO」)20gにエタノール74.53g、テトラエト
キシシラン3.47g、濃塩酸2gを順次添加し、18
時間攪拌して加水分解反応させた。 さらにエチルセロ
ソルブで希釈しコーティング液(シリカ微粒子およびエ
チルシリケートが、それぞれシリカ換算で4:1の重量
比で含有)とした。
[Comparative Example 4] 74.53 g of ethanol, 3.47 g of tetraethoxysilane and 2 g of concentrated hydrochloric acid were added to 20 g of a silica fine particle dispersion (average particle size: 30 nm, solid content: 20%, “Snowtex O” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.). Add sequentially, 18
The mixture was stirred for a time to cause a hydrolysis reaction. The mixture was further diluted with ethyl cellosolve to prepare a coating liquid (containing silica fine particles and ethyl silicate at a weight ratio of 4: 1 in terms of silica, respectively).

【0080】[比較例5]エタノール 70gにシリカ
微粒子分散液(平均粒径30nm、固形分20%、前記
日産化学製「スノーテックスO」)20g、エチルシリ
ケートの加水分解縮重合液(商品名:HAS−10、コ
ルコート株式会社製、SiO2 含量10重量%)10g
を順次加えコーティング液(シリカ微粒子およびエチル
シリケートが、それぞれシリカ換算で4:1の重量比で
含有)とした。
Comparative Example 5 20 g of silica fine particle dispersion (average particle size: 30 nm, solid content: 20%, “Snowtex O” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to 70 g of ethanol, and a hydrolytic condensation polymerization solution of ethyl silicate (trade name: HAS-10, manufactured by Colcoat Co., Ltd., SiO 2 content 10% by weight) 10 g
Were sequentially added to form a coating liquid (containing silica fine particles and ethyl silicate at a weight ratio of 4: 1 in terms of silica, respectively).

【0081】[比較例6]テトラメトキシシラン8.4
g、エタノール53.8g、3モル/Lの塩酸4.5g
を混合し、24時間反応させた加水分解溶液を得た。さ
らにシリカ微粒子分散液(平均粒径50nm、固形分2
0%、前記日産化学社製「スノーテックス−OL」、)
33.3gを加え、さらにエチルセロソルブを加え希釈
しコーティング液とした。
Comparative Example 6 Tetramethoxysilane 8.4
g, 53.8 g of ethanol, 4.5 g of 3 mol / L hydrochloric acid
Were mixed to obtain a hydrolysis solution reacted for 24 hours. Further, a silica fine particle dispersion (average particle size 50 nm, solid content 2
0%, "Snowtex-OL" manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.)
33.3 g was added, and ethyl cellosolve was further added to dilute it to obtain a coating solution.

【0082】[比較例7]シリカ微粒子分散液(平均粒
径30nm、固形分20%、前記日産化学製「スノーテ
ックス−O」)33.3gにテトラメトキシシラン8.
4g、エタノール57.3g、3モル/Lの塩酸1.0
gを混合し、12時間反応させてテトラメトキシシラン
を加水分解させコーティング液を調製した。これを用い
て、実施例1で使用したと同じガラス基板(緑色着色、
3.4mm厚み)を用いて実施例1と同様に塗布、乾
燥、熱処理して厚み125nmのシリカ凹凸膜が各表面
に形成されたガラス板を得た。
Comparative Example 7 Tetramethoxysilane was added to 33.3 g of a silica fine particle dispersion (average particle size: 30 nm, solid content: 20%, “Snowtex-O” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
4 g, ethanol 57.3 g, 3 mol / L hydrochloric acid 1.0
g were mixed and reacted for 12 hours to hydrolyze tetramethoxysilane to prepare a coating solution. Using this, the same glass substrate (green coloration,
(Thickness: 3.4 mm), applied, dried and heat-treated in the same manner as in Example 1 to obtain glass plates having a silica uneven film having a thickness of 125 nm formed on each surface.

【0083】比較例1〜7で作製したコーティング液を
使用して、実施例1における700℃の電気炉での2分
間の加熱処理に代えて600℃の電気炉での10分間の
加熱処理を行った以外は、実施例1で使用したと同じガ
ラス基板(緑色着色、3.4mm厚み)を用いて、実施
例1と同様にコーティング・熱処理して表4および5に
示す厚みを有するシリカ凹凸膜が被覆されたガラスを得
た。得られたガラス板の評価結果を表4、5に示す。な
お、表の「微粒子密度」の欄で、「判定不可」とあるの
は、微粒子がバインダーに埋没し、微粒子個数が数えら
れないことを示している。
Using the coating liquids prepared in Comparative Examples 1 to 7, the heat treatment for 10 minutes in an electric furnace at 600 ° C. was performed in place of the heat treatment for 2 minutes in an electric furnace at 700 ° C. in Example 1. Using the same glass substrate (green coloring, 3.4 mm thickness) as used in Example 1 except that the coating was performed and heat-treated in the same manner as in Example 1, silica having the thickness shown in Tables 4 and 5 was used. A glass coated with a membrane was obtained. Tables 4 and 5 show the evaluation results of the obtained glass plates. In the column of "fine particle density" in the table, "not determined" means that the fine particles are buried in the binder and the number of fine particles cannot be counted.

【0084】表4の記載から、各比較例について次のこ
とがわかる。バインダー量が40%を超える比較例1で
は膜面反射率が高くなっている。非凝集シリカ微粒子の
平均粒径が40nm未満でありかつ「シリカ微粒子存在
下加水分解」を行わない比較例2および比較例5では耐
摩耗性および汚れ除去性が劣っている。「シリカ微粒子
存在下加水分解」を行わない比較例3では膜面反射率が
高くしかも耐摩耗性が劣っている。非凝集シリカ微粒子
の平均粒径が40nm未満である比較例4では膜面反射
率特に裏面反射を含まない膜面反射率1が高くしかも汚
れ除去性が劣っている。バインダー量が40%を超えか
つ「シリカ微粒子存在下加水分解」を行わない比較例6
では耐摩耗性が劣っている。非凝集シリカ微粒子の平均
粒径が40nm未満でありかつバインダー量が40%を
超える比較例7では膜面反射率が高くなっている。
From the description in Table 4, the following can be understood for each comparative example. In Comparative Example 1 in which the binder amount exceeds 40%, the film surface reflectance is high. In Comparative Examples 2 and 5 in which the average particle diameter of the non-agglomerated silica fine particles is less than 40 nm and "hydrolysis in the presence of the silica fine particles" is not performed, the abrasion resistance and stain removal properties are inferior. In Comparative Example 3 in which “hydrolysis in the presence of silica fine particles” was not performed, the film surface reflectance was high and the abrasion resistance was poor. In Comparative Example 4 in which the average particle size of the non-agglomerated silica fine particles is less than 40 nm, the film surface reflectance, particularly the film surface reflectance 1 not including the back surface reflection, is high and the stain removal property is poor. Comparative Example 6 in which the amount of binder exceeds 40% and "hydrolysis in the presence of silica fine particles" is not performed
Is inferior in wear resistance. In Comparative Example 7 in which the average particle diameter of the non-agglomerated silica fine particles is less than 40 nm and the amount of the binder exceeds 40%, the film surface reflectance is high.

【0085】[0085]

【表4】 ──────────────────────────────── 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 ──────────────────────────────── シリカ微粒子 非凝集 鎖状凝集 非凝集 同左 平均粒径 50nm 25nm 50nm 30nmハ゛インタ゛ー 量 50% 20% 33% 20%シリカ 微粒子量 50% 80% 67% 80% 平均膜厚 125 110nm 120nm 110nm 存在下加水分解 有 無 無 有 微粒子密度 850個 2800個 650個 2500個 (1μm角) 基板(色、厚みmm) ク゛リーン3.4 ク゛リ-ン3.4 ク゛リーン3.4 ク゛リーン3.4 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 膜面反射率1(%) 2.4 0.5 1.9 1.9 膜面反射率2(%) 5.8 3.8 5.3 5.3ヘイス゛ 率(%) 0.1 5.1 0.4 0.1 a/b -1.2/-1.0 -1.5/-0.5 -1.4/-0.1 -1.1/-1.0テーハ゛ー 摩耗1 ○(1.5) × × ○(1.2)テーハ゛ー 摩耗2 ○(1.6) × × ○(1.4) 汚れ除去性 ○ × ○ △ ────────────────────────────────Table 4 Comparative Example 1 Comparative Example 2 Comparative Example 3 Comparative Example 4微粒子 Silica fine particles Non-aggregated Chain-like aggregate Non-aggregated Same as on the left Average particle size 50 nm 25 nm 50 nm 30 nm % 20% 33% 20% Silica Fine particle amount 50% 80% 67% 80% Average film thickness 125 110nm 120nm 110nm Hydrolysis Yes No No Yes Fine particle density 850 2800 650 2500 (1μm square) Substrate (color , Thickness mm) Clean 3.4 Clean 3.4 Clean 3.4 Clean 3.4 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− Surface reflectance 1 (%) 2.4 0.5 1.9 1.9 Film surface reflectivity 2 (%) 5.8 3.8 5.3 5.3 Haze ゛ ratio (%) 0.1 5.1 0.4 0.1 a / b -1.2 / -1.0 -1.5 / -0.5 -1.4 / -0.1 -1.1 / -1.0 taper wear 1 ○ (1.5) × × ○ (1.2) taper wear 2 ○ (1.6) × × (1.4) stain removal properties ○ × ○ △ ────────────────────────────────

【0086】[0086]

【表5】 ──────────────────────────── 比較例5 比較例6 比較例7 ──────────────────────────── シリカ微粒子 非凝集 同左 同左 平均粒径 30nm 50nm 30nmハ゛インタ゛ー 量 20% 67% 67%シリカ 微粒子量 80% 33% 33% 平均膜厚 110nm 130nm 120nm 存在下加水分解 無 無 有 微粒子密度 2300 800 判定不可 基板(色、厚みmm) ク゛リーン3.4 ク゛リーン3.4 ク゛リーン3.4 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 膜面反射率1(%) 1.9 1.6 3.3 膜面反射率2(%) 5.4 4.9 6.7ヘイス゛ 率(%) 0.1 0.2 0.1 a/b -1.2/0.1 -1.4/-0.6 -1.1/-1.0テーハ゛ー 摩耗1 × × ○(1.2)テーハ゛ー 摩耗2 × × ○(1.4) 汚れ除去性 × ○ ○ ────────────────────────────Table 5 Comparative Example 5 Comparative Example 6 Comparative Example 7微粒子 Silica fine particles Non-aggregated Same as on the left Same as on the left Average particle size 30 nm 50 nm 30 nm binder amount 20% 67% 67% silica particle amount 80% 33% 33% average film Thickness 110nm 130nm 120nm Hydrolysis No No Yes Fine particle density 2300 800 Indeterminable Substrate (color, thickness mm) Clean 3.4 Clean 3.4 Clean 3.4 --- --- --- --- --- --- --- --- --- −−−−−−−− Reflectance of film surface 1 (%) 1.9 1.6 3.3 Reflectance of film surface 2 (%) 5.4 4.9 6.7 Haze ゛ ratio (%) 0.1 0.2 0.1 a / b -1.2 / 0.1 -1.4 / -0.6 -1.1 / -1.0 Abrasion 1 × × ○ (1.2) Abrasion 2 × × ○ (1.4) Stain removal × ○ ○ ───────────────────── ───────

【0087】[比較例8]実施例4で使用したのと同じ
組成および厚みのフロートガラス基板の片側表面を#1
00番の研磨砂でこすって表面を粗くしたスリガラスを
作成した。このスリガラスをヘイズメーターにてヘイズ
率と全光線透過率を測定した。ヘイズ率は82.6%
で、全光線透過率は75.4%であった。またこのスリ
ガラスの機械的強度は元のガラスの強度の約40%に低
下した。
Comparative Example 8 One side surface of a float glass substrate having the same composition and thickness as used in Example 4 was # 1
A ground glass whose surface was roughened by rubbing with # 00 abrasive sand was prepared. The haze ratio and the total light transmittance of this ground glass were measured by a haze meter. Haze rate is 82.6%
And the total light transmittance was 75.4%. The mechanical strength of the ground glass was reduced to about 40% of the strength of the original glass.

【0088】[比較例9]比較例6における#100番
の研磨砂に代えて#1000の研磨砂を使用した以外は
比較例6と同様にしてスリガラスを作成し、ヘイズ率と
全光線透過率を測定した。ヘイズ率は81.4%、全光
線透過率は83.0%であった。またこのスリガラスの
機械的強度は元のガラスの強度の約50%に低下した。
Comparative Example 9 A ground glass was prepared in the same manner as in Comparative Example 6, except that # 1000 abrasive sand was used in place of # 100 abrasive sand in Comparative Example 6, and the haze ratio and the total light transmittance were obtained. Was measured. The haze ratio was 81.4% and the total light transmittance was 83.0%. The mechanical strength of the ground glass was reduced to about 50% of the strength of the original glass.

【0089】[0089]

【発明の効果】本発明によれば、シリカ微粒子存在下で
加水分解可能な金属化合物を加水分解して得られるコー
ティグ液を使用し、そして、比較的大きなシリカ微粒子
を使用するか、または、シリカ微粒子と前記バインダー
を特定の割合で使用することにより、格段に低い反射率
および高い膜強度が得られ、汚れ除去性も向上し、反射
率の経時変化もない。
According to the present invention, a coating solution obtained by hydrolyzing a metal compound hydrolyzable in the presence of silica fine particles is used, and relatively large silica fine particles are used. By using the fine particles and the binder in a specific ratio, a remarkably low reflectance and a high film strength can be obtained, the dirt removal property is improved, and the reflectance does not change with time.

【0090】また本発明によれば、ガラス基体を軟化点
以上に加熱した場合でも、膜の収縮によるガラスの反り
の発生が全くない。これは、主に収縮量がほぼ無いシリ
カ微粒子が膜を構成しているので、膜とガラスとの結合
が少なくなり、微粒子間の接触も少なくなるためであ
る。特に共加水分解により得られた膜では、シリカ微粒
子の表面にバインダー濃度が高くなり、バインダーがガ
ラス基体表面上で膜を形成しないのでバインダーの収縮
力がガラスに作用しにくいと考えられる。従って、例え
ば自動車用のガラスのような曲面形状に成形する場合で
も、膜の無いガラスと同様な加工が行え、製造コストを
低減できる。また、太陽電池用基板や建築用窓のような
用途においても、膜強度を向上させるために高い加熱処
理を行ってもガラスの平坦性が維持できるので好適であ
る。
Further, according to the present invention, even when the glass substrate is heated to a temperature higher than the softening point, no warpage of the glass due to shrinkage of the film occurs. This is mainly because the silica fine particles having almost no shrinkage constitute the film, so that the bonding between the film and the glass is reduced and the contact between the particles is also reduced. In particular, in the film obtained by co-hydrolysis, the binder concentration is high on the surface of the silica fine particles, and the binder does not form a film on the surface of the glass substrate, so that it is considered that the shrinkage of the binder does not easily act on the glass. Therefore, for example, even in the case of forming into a curved surface shape such as glass for automobiles, the same processing as glass having no film can be performed, and the manufacturing cost can be reduced. In addition, even in applications such as solar cell substrates and architectural windows, glass flatness can be maintained even when high heat treatment is performed to improve film strength, which is preferable.

【0091】更に本発明によれば、低反射ガラスの最表
面を凹凸形状にしたことにより、二酸化珪素が持つ親水
性が向上し、付着水蒸気による曇りが生じにくいガラス
表面となる。水滴が付着しても、その接触角は小さく、
非常に親水性の表面となるので、ほこりなどの汚れが容
易に洗い流せる。水滴が残りにくいので、表面に水跡な
どの汚れが生じにくい防汚性を有する。
Further, according to the present invention, since the outermost surface of the low-reflection glass is made uneven, the hydrophilicity of silicon dioxide is improved, and the glass surface is less likely to be fogged by attached water vapor. Even if water drops adhere, the contact angle is small,
As it has a very hydrophilic surface, dirt such as dust can be easily washed away. Since water droplets do not easily remain, it has an antifouling property in which dirt such as water marks does not easily occur on the surface.

【0092】さらに、本発明による単層の低反射膜は、
多層膜に比べ、製造コストが安くなるばかりでなく、そ
の反射性能においても、広い波長領域で反射率が低く、
入射角に対する反射率の上昇が小さく、且つ反射光の彩
度が小さいという利点を有する。このような性能は、特
に自動車用窓や太陽電池用ガラス板には有用なものであ
る。また、反射の低下は透過率を増加させるので光を他
のエネルギーに変換する太陽電池用ガラスには好適であ
り、使用するガラス基体の全光線透過率と等しいかまた
はそれよりも高い全光線透過率、特に88%以上の全光
線透過率を有する低反射ガラス物品が得られる。
Further, the single-layer low-reflection film according to the present invention comprises:
Compared with multilayer films, not only the manufacturing cost is reduced, but also in the reflection performance, the reflectance is low in a wide wavelength range,
There is an advantage that the rise of the reflectance with respect to the incident angle is small and the saturation of the reflected light is small. Such performance is particularly useful for windows for automobiles and glass sheets for solar cells. In addition, since the decrease in reflection increases the transmittance, it is suitable for a solar cell glass that converts light into other energy, and has a total light transmittance equal to or higher than the total light transmittance of the glass substrate used. Low-reflective glass articles having a total light transmittance of at least 88%.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施例の低反射膜の構造を示す電
子顕微鏡写真。
FIG. 1 is an electron micrograph showing the structure of a low reflection film according to one embodiment of the present invention.

【図2】 比較例の低反射膜の構造を示す電子顕微鏡写
真。
FIG. 2 is an electron micrograph showing the structure of a low reflection film of a comparative example.

【図3】 本発明の他の実施例の低反射膜の構造を示す
電子顕微鏡写真。
FIG. 3 is an electron micrograph showing the structure of a low reflection film according to another embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の他の実施例の低反射膜の構造を示す
電子顕微鏡写真。
FIG. 4 is an electron micrograph showing the structure of a low reflection film according to another embodiment of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河原 哲郎 大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本 板硝子株式会社内 Fターム(参考) 4G059 AA01 AC04 EA05 EB07 EB09 FA05  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Tetsuro Kawahara 3-5-11 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka Japan F-term in Sheet Glass Co., Ltd. (Reference) 4G059 AA01 AC04 EA05 EB07 EB09 FA05

Claims (29)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シリカ微粒子およびバインダーからなる
低反射膜をガラス基体上に形成した低反射ガラス物品に
おいて、前記低反射膜は前記シリカ微粒子と前記バイン
ダーを重量比で60:40〜95:5の割合でそれぞれ
含有し、そして前記低反射膜は、(1)平均粒径が40
〜1000nmの非凝集シリカ微粒子および平均一次粒
径が10〜100nmの鎖状凝集シリカ微粒子の少なく
とも一方からなる原料微粒子、(2)加水分解可能な金
属化合物、(3)水、および(4)溶媒を混合し、そし
て前記加水分解可能な金属化合物を前記原料微粒子の存
在下で加水分解して調製されたコーティング液を前記ガ
ラス基体上に被覆し、加熱処理することにより形成され
たものであることを特徴とする低反射ガラス物品。
1. A low-reflection glass article having a low-reflection film comprising silica fine particles and a binder formed on a glass substrate, wherein the low-reflection film has a weight ratio of the silica fine particles and the binder of 60:40 to 95: 5. And the low-reflection film has (1) an average particle size of 40
Raw material fine particles comprising at least one of non-aggregated silica fine particles having a mean primary particle diameter of 10 to 100 nm, (2) a hydrolyzable metal compound, (3) water, and (4) a solvent. And coating the coating solution prepared by hydrolyzing the hydrolyzable metal compound in the presence of the raw material fine particles on the glass substrate, followed by heat treatment. A low reflection glass article characterized by the following.
【請求項2】 前記加水分解可能な金属化合物はケイ素
アルコキシド、アルミニウムアルコキシド、チタンアル
コキシド、ジルコニウムアルコキシドおよびタンタルア
ルコキシドからなる群より選ばれる少なくとも1種の金
属アルコキシドであり、前記バインダーは前記金属化合
物の金属の酸化物である請求項1に記載の低反射ガラス
物品。
2. The hydrolyzable metal compound is at least one metal alkoxide selected from the group consisting of silicon alkoxide, aluminum alkoxide, titanium alkoxide, zirconium alkoxide and tantalum alkoxide, and the binder is a metal of the metal compound. The low reflection glass article according to claim 1, which is an oxide of:
【請求項3】前記低反射膜は、シリカ微粒子とバインダ
ーを重量で65:35〜85:15の割合でそれぞれ含
有する請求項1または2に記載の低反射ガラス物品。
3. The low reflection glass article according to claim 1, wherein the low reflection film contains silica fine particles and a binder in a weight ratio of 65:35 to 85:15, respectively.
【請求項4】前記コーティング液中の非凝集シリカ微粒
子は1.0〜1.2の長軸長さと短軸長さの比を有する
請求項1〜3のいずれか1項に記載の低反射ガラス物
品。
4. The low reflection light according to claim 1, wherein the non-agglomerated silica fine particles in the coating liquid have a ratio of the major axis length to the minor axis length of 1.0 to 1.2. Glass articles.
【請求項5】前記コーティング液中の非凝集シリカ微粒
子は1.0〜1.5の一次粒径標準偏差を有する請求項
1〜4のいずれか1項に記載の低反射ガラス物品。
5. The low reflection glass article according to claim 1, wherein the non-agglomerated silica fine particles in the coating liquid have a primary particle size standard deviation of 1.0 to 1.5.
【請求項6】 前記原料微粒子は40〜500nmの平
均粒径を有する前記非凝集シリカ微粒子のみからなる請
求項1〜5のいずれか1項に記載の低反射ガラス物品。
6. The low-reflection glass article according to claim 1, wherein the raw material fine particles consist only of the non-agglomerated silica fine particles having an average particle size of 40 to 500 nm.
【請求項7】 前記原料微粒子は100〜1000nm
の平均粒径を有する前記非凝集シリカ微粒子のみからな
る請求項1〜5のいずれか1項に記載の低反射ガラス物
品。
7. The raw material fine particles have a thickness of 100 to 1000 nm.
The low-reflection glass article according to any one of claims 1 to 5, comprising only the non-agglomerated silica fine particles having an average particle size of:
【請求項8】 前記原料微粒子は前記非凝集シリカ微粒
子のみからなり、そして前記非凝集シリカ微粒子は、
(1)平均粒径が40〜200nmの第1の非凝集シリ
カ微粒子 70〜95重量%、および(2)200nm
を超え3000nm以下でかつ前記第1の非凝集シリカ
微粒子の平均粒径よりも少なくとも100nm大きい平
均粒径を有する第2の非凝集シリカ微粒子 5〜30重
量%からなる請求項1〜4のいずれか1項に記載の低反
射ガラス物品。
8. The raw material fine particles are composed of only the non-agglomerated silica fine particles, and the non-agglomerated silica fine particles are
(1) 70 to 95% by weight of first non-agglomerated silica fine particles having an average particle diameter of 40 to 200 nm, and (2) 200 nm
The second non-agglomerated silica fine particles having a mean particle size of not more than 3000 nm and not more than 3000 nm and at least 100 nm larger than the average particle size of the first non-agglomerated silica fine particles, comprising 5 to 30% by weight. 2. The low reflection glass article according to claim 1.
【請求項9】 前記低反射膜は膜上部から見て1μm×
1μmの正方形の中に、微粒子がその膜の表面に30〜
3000個並んで存在しており、これらの微粒子は40
〜500nmの平均粒径を有する請求項6に記載の低反
射ガラス物品。
9. The low reflection film is 1 μm × 1 μm when viewed from above the film.
In a 1 μm square, fine particles have 30 to
3000 particles are present side by side.
The low-reflection glass article according to claim 6, having an average particle size of ~ 500 nm.
【請求項10】 前記低反射膜は膜上部から見て10μ
m×10μmの正方形の中に微粒子が10〜50000
個その膜の表面に並んで存在しており、これらの微粒子
は100〜1000nmの平均粒径を有する請求項7に
記載の低反射ガラス物品。
10. The low reflection film has a thickness of 10 μm when viewed from above the film.
Fine particles are 10 to 50,000 in a square of m × 10 μm.
The low-reflection glass article according to claim 7, wherein the fine particles have an average particle diameter of 100 to 1000 nm, which are present side by side on the surface of the film.
【請求項11】 前記低反射膜は膜上部から見て10μ
m×10μmの正方形の中に、40〜1000nmの平
均粒径Dnmを有する微粒子がその膜の表面に5,000,00
0/D2〜10,000,000/D2個並んで存在する請求項6ま
たは7に記載の低反射ガラス物品。
11. The low reflection film has a thickness of 10 μm when viewed from above the film.
Fine particles having an average particle diameter Dnm of 40 to 1000 nm are placed on the surface of the film in a square of mx10 μm.
The low reflection glass article according to claim 6, wherein 0 / D 2 to 10,000,000 / D 2 are present side by side.
【請求項12】 前記低反射膜は、膜の厚み方向の断面
からみて、厚み方向に、1つの微粒子が存在するか、ま
たは2〜5個の微粒子が積み重なってなる請求項1〜1
1のいずれか1項に記載の低反射ガラス物品。
12. The low reflection film according to claim 1, wherein one fine particle is present or two to five fine particles are stacked in the thickness direction when viewed from a cross section in the thickness direction of the film.
The low-reflection glass article according to any one of claims 1 to 7.
【請求項13】 前記低反射膜は膜上部から見て前記第
2非凝集シリカ微粒子から由来する微粒子の表面占有面
積が50%以下である請求項8記載の低反射ガラス物
品。
13. The low-reflection glass article according to claim 8, wherein the low-reflection film has a surface occupied area of 50% or less of fine particles derived from the second non-agglomerated silica fine particles when viewed from above the film.
【請求項14】 前記バインダーは、1〜100nmで
かつ前記シリカ微粒子の平均粒径の2〜9%の膜厚で、
前記シリカ微粒子の全表面に被覆されている請求項1〜
13のいずれか1項に記載の低反射ガラス物品。
14. The binder has a thickness of 1 to 100 nm and a thickness of 2 to 9% of an average particle size of the silica fine particles,
The entire surface of the silica fine particles is coated.
14. The low reflection glass article according to any one of 13).
【請求項15】 前記低反射膜が90nm以上350n
m以下の平均厚みを有する請求項1〜14のいずれか1
項に記載の低反射ガラス物品。
15. The low reflection film has a thickness of 90 nm or more and 350 n or more.
15. Any one of claims 1 to 14 having an average thickness of not more than m.
Item 6. The low reflection glass article according to item 1.
【請求項16】 前記低反射膜が90nm以上180n
m以下の平均厚みを有する請求項1〜14のいずれか1
項に記載の低反射ガラス物品。
16. The low reflection film has a thickness of 90 nm or more and 180 n or more.
15. Any one of claims 1 to 14 having an average thickness of not more than m.
Item 6. The low reflection glass article according to item 1.
【請求項17】 前記加熱処理は、前記コーティング液
を被覆したガラス基体が最高到達温度で200度以上に
なるようにおこなう請求項1〜16のいずれか1項に記
載の低反射ガラス物品。
17. The low-reflection glass article according to claim 1, wherein the heat treatment is performed so that the maximum temperature of the glass substrate coated with the coating liquid is 200 ° C. or higher.
【請求項18】 前記低反射膜はAFM(原子間力顕微
鏡)で測定して3〜50nmの表面平均粗さ(Ra)を
有する請求項1〜18のいずれか1項に記載の低反射ガ
ラス物品。
18. The low reflection glass according to claim 1, wherein the low reflection film has a surface average roughness (Ra) of 3 to 50 nm as measured by an AFM (atomic force microscope). Goods.
【請求項19】 前記ガラス基体は板状であり、前記低
反射膜は、JIS−Z8720に規定される標準の光A
に対して、12度の入射角で板状ガラス基体にその低反
射膜面側から入射させて、板状ガラス基体の裏面の反射
光を含まない膜面反射率で表して2%以下の膜面反射率
を有する請求項1〜6、9、11、12、および14〜
18のいずれか1項に記載の低反射ガラス物品。
19. The glass substrate has a plate shape, and the low-reflection film has a standard light A defined by JIS-Z8720.
To the plate-like glass substrate at an incident angle of 12 degrees from the low-reflection film surface side, and a film surface reflectance of 2% or less expressed as a film surface reflectance not including the reflected light on the back surface of the plate-like glass substrate. Claims 1 to 6, 9, 11, 12, and 14 to having surface reflectance.
19. The low-reflection glass article according to any one of 18.
【請求項20】前記ガラス基体は板状であり、前記低反
射ガラス物品は30%以下のヘイズ率を有する請求項1
〜19のいずれか1項に記載の低反射ガラス物品。
20. The glass substrate according to claim 1, wherein the low-reflection glass article has a haze ratio of 30% or less.
20. The low-reflection glass article according to any one of items 19 to 19.
【請求項21】前記ガラス基体は板状であり、前記低反
射ガラス物品は1%以下のヘイズ率を有する請求項1〜
6、9、11、12、および14〜19のいずれか1項
に記載の低反射ガラス物品。
21. The glass substrate according to claim 1, wherein the glass substrate has a haze ratio of 1% or less.
The low reflection glass article according to any one of 6, 9, 11, 12, and 14 to 19.
【請求項22】 前記ガラス基体は板状であり、前記低
反射ガラス物品は、前記ガラス基体の全光線透過率と等
しいかまたはそれよりも高い全光線透過率、および10
〜90%のヘイズ率を有する請求項1〜5、7、8、お
よび10〜18のいずれか1項記載の低反射ガラス物
品。
22. The glass substrate, wherein the glass substrate is plate-like and the low-reflection glass article has a total light transmittance equal to or higher than the total light transmittance of the glass substrate;
The low-reflection glass article according to any one of claims 1 to 5, which has a haze ratio of 90%.
【請求項23】 前記低反射ガラス物品が車両用窓であ
る請求項1〜6、9、11、12、14〜19、および
21のいずれか1項に記載の低反射ガラス物品。
23. The low-reflection glass article according to any one of claims 1 to 6, 9, 11, 12, 12, 14 to 19, and 21, wherein the low-reflection glass article is a vehicle window.
【請求項24】 前記低反射ガラス物品が建築用窓、シ
ョーウインドウ、ディスプレイガラス板、または光学ガ
ラス部品である請求項1〜6、9、11、12、14〜
19、および21のいずれか1項に記載の低反射ガラス
物品。
24. The low-reflection glass article is an architectural window, a show window, a display glass plate, or an optical glass part.
22. The low reflection glass article according to any one of 19 and 21.
【請求項25】 前記低反射ガラス物品が、太陽電池用
ガラス板または太陽熱温水器用ガラス板である請求項1
〜5、7、8、10〜18、および20のいずれか1項
に記載の低反射ガラス物品。
25. The low reflection glass article is a glass plate for a solar cell or a glass plate for a solar water heater.
21. The low-reflection glass article according to any one of Items to 5, 7, 8, 10 to 18, and 20.
【請求項26】85%以上の全光線透過率およびソーダ
ライム珪酸塩ガラス組成を有するフロートガラス板上に
シリカ微粒子およびバインダーからなる低反射膜を形成
した低反射ガラス物品において、前記低反射膜は前記シ
リカ微粒子と前記バインダーを重量比で65:35〜9
5:5の割合でそれぞれ含有し、そして前記バインダー
は、1〜100nmの膜厚で、前記シリカ微粒子の表面
に被覆されており、そして前記ガラス基体の全光線透過
率と等しいかまたはそれよりも高い全光線透過率を有す
ることを特徴とする太陽電池用または太陽熱温水器用低
反射ガラス物品。
26. A low-reflection glass article having a low-reflection film comprising silica fine particles and a binder formed on a float glass plate having a total light transmittance of 85% or more and a soda lime silicate glass composition. The silica fine particles and the binder are in a weight ratio of 65: 35-9.
5: 5 respectively, and the binder is coated on the surface of the silica fine particles in a film thickness of 1 to 100 nm, and is equal to or less than the total light transmittance of the glass substrate. A low-reflection glass article for a solar cell or a solar water heater, having a high total light transmittance.
【請求項27】(1)平均粒径が40〜1000nmの
非凝集シリカ微粒子および平均一次粒径が10〜100
nmの鎖状凝集シリカ微粒子の少なくとも一方の原料微
粒子、 (2)加水分解可能な金属化合物、 (3)水、および (4)溶媒を、前記原料微粒子と前記金属化合物を、前
記金属化合物は金属酸化物に換算して、重量比で60:
40〜95:5の割合でそれぞれ含有するように、混合
し、前記金属化合物を前記原料微粒子の存在下で加水分
解して調製されたコーティング液を前記ガラス基体上に
被覆し、加熱することを特徴とする被覆ガラス物品を製
造する方法。
(1) Non-agglomerated silica fine particles having an average particle size of 40 to 1000 nm and an average primary particle size of 10 to 100
(2) a hydrolyzable metal compound, (3) water, and (4) a solvent, the raw material particles and the metal compound, and the metal compound is a metal. In terms of oxide, the weight ratio is 60:
Covering the glass substrate with a coating solution prepared by mixing and hydrolyzing the metal compound in the presence of the raw material fine particles so as to contain them in a ratio of 40 to 95: 5, respectively, and heating the glass substrate. A method of producing a coated glass article characterized by:
【請求項28】 前記加水分解可能な金属化合物はケイ
素アルコキシド、アルミニウムアルコキシド、チタンア
ルコキシド、ジルコニウムアルコキシドおよびタンタル
アルコキシドからなる群より選ばれる少なくとも1種の
金属アルコキシドを含む請求項27記載の被覆ガラス物
品を製造する方法。
28. The coated glass article according to claim 27, wherein the hydrolyzable metal compound contains at least one metal alkoxide selected from the group consisting of silicon alkoxide, aluminum alkoxide, titanium alkoxide, zirconium alkoxide and tantalum alkoxide. How to make.
【請求項29】 前記コーティング液は、前記金属化合
物(金属酸化物換算) 100重量部、前記原料微粒子
150〜1900重量部、前記触媒 0〜200重量
部、前記水 50〜10000重量部、前記溶媒100
0〜500000重量部、の原料配合比を有する請求項
27または28記載の被覆ガラス物品を製造する方法。
29. The coating liquid includes 100 parts by weight of the metal compound (in terms of metal oxide), 150 to 1900 parts by weight of the raw material particles, 0 to 200 parts by weight of the catalyst, 50 to 10000 parts by weight of water, and the solvent. 100
The method for producing a coated glass article according to claim 27 or 28, having a raw material mixing ratio of 0 to 500,000 parts by weight.
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