JP2001277101A - 研磨布 - Google Patents
研磨布Info
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- JP2001277101A JP2001277101A JP2000089967A JP2000089967A JP2001277101A JP 2001277101 A JP2001277101 A JP 2001277101A JP 2000089967 A JP2000089967 A JP 2000089967A JP 2000089967 A JP2000089967 A JP 2000089967A JP 2001277101 A JP2001277101 A JP 2001277101A
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- Japan
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- polishing cloth
- polishing
- adipate
- polyol component
- butadiene
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- Pending
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 研磨布自体にドレッシング性を持たせ、研磨
寿命を長くすることができる研磨布を提供すること。 【解決手段】 ポリウレタン組成物よりなり、テーバー
摩耗試験による摩耗量が150mg〜350mgである
研磨布。ポリウレタン組成物が、ポリオール成分とし
て、ポリプロピレングリコール、ポリジエチレンアジペ
ート、ポリジプロピレンアジペート、ポリネオペンチレ
ンアジペート、およびポリ(1,2−ブタジエン)、ポ
リ(1,4−ブタジエン)からなる群から選択される少
なくとも一種を含有する。
寿命を長くすることができる研磨布を提供すること。 【解決手段】 ポリウレタン組成物よりなり、テーバー
摩耗試験による摩耗量が150mg〜350mgである
研磨布。ポリウレタン組成物が、ポリオール成分とし
て、ポリプロピレングリコール、ポリジエチレンアジペ
ート、ポリジプロピレンアジペート、ポリネオペンチレ
ンアジペート、およびポリ(1,2−ブタジエン)、ポ
リ(1,4−ブタジエン)からなる群から選択される少
なくとも一種を含有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、電子部品
等の被研磨部材の研磨加工において使用される研磨布に
関し、特にSi基板、GaAs基板、ガラス、ハードデ
イスク、LCD基板等の薄型基板用の研磨布に関する。
等の被研磨部材の研磨加工において使用される研磨布に
関し、特にSi基板、GaAs基板、ガラス、ハードデ
イスク、LCD基板等の薄型基板用の研磨布に関する。
【0002】
【従来の技術】発泡ウレタン研磨布を用いて、シリコン
ウエハを研磨する場合、連続で研磨を行っていくと、研
磨布の表層において研磨布の発泡孔へのスラリー、研磨
くずの目詰まりが発生したり、スラリー等による研磨布
の劣化が発生する。そのため、従来では、研磨処理を中
断し、ドレッシングツールを用いて研磨布表面を強制ド
レッシングし、つまり、研磨布の劣化した表層を除去し
て新しい表層を露出させ、その後、再び研磨加工を行っ
ている。
ウエハを研磨する場合、連続で研磨を行っていくと、研
磨布の表層において研磨布の発泡孔へのスラリー、研磨
くずの目詰まりが発生したり、スラリー等による研磨布
の劣化が発生する。そのため、従来では、研磨処理を中
断し、ドレッシングツールを用いて研磨布表面を強制ド
レッシングし、つまり、研磨布の劣化した表層を除去し
て新しい表層を露出させ、その後、再び研磨加工を行っ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の実状に
着目してなされたものであって、その目的とするところ
は、研磨布自体にドレッシング性を持たせ、研磨寿命を
長くすることができる研磨布を提供することにある。
着目してなされたものであって、その目的とするところ
は、研磨布自体にドレッシング性を持たせ、研磨寿命を
長くすることができる研磨布を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の研磨布は、ポリ
ウレタン組成物よりなり、テーバー摩耗試験による摩耗
量が150mg〜350mgであり、そのことにより上
記目的が達成される。
ウレタン組成物よりなり、テーバー摩耗試験による摩耗
量が150mg〜350mgであり、そのことにより上
記目的が達成される。
【0005】一つの実施態様では、前記ポリウレタン組
成物が、ポリオール成分として、ポリプロピレングリコ
ール、ポリジエチレンアジペート、ポリジプロピレンア
ジペート、ポリネオペンチレンアジペート、およびポリ
(1,2−ブタジエン)、ポリ(1,4−ブタジエン)
からなる群から選択される少なくとも一種を含有する。
成物が、ポリオール成分として、ポリプロピレングリコ
ール、ポリジエチレンアジペート、ポリジプロピレンア
ジペート、ポリネオペンチレンアジペート、およびポリ
(1,2−ブタジエン)、ポリ(1,4−ブタジエン)
からなる群から選択される少なくとも一種を含有する。
【0006】本発明の作用は次の通りである。
【0007】研磨布に耐摩耗性の劣るポリオール成分を
配合することにより、研磨布自体のドレッシング性を向
上することができる。つまり、表層における研磨布の発
泡孔へスラリー、研磨くず等の目詰まりが発生したとし
ても、また研磨布の劣化が生じたとしても、研磨加工す
る際に研磨布の表層が徐々に除去されることにより、常
に新しい表層が露出されるために研磨寿命を延ばすこと
ができる。
配合することにより、研磨布自体のドレッシング性を向
上することができる。つまり、表層における研磨布の発
泡孔へスラリー、研磨くず等の目詰まりが発生したとし
ても、また研磨布の劣化が生じたとしても、研磨加工す
る際に研磨布の表層が徐々に除去されることにより、常
に新しい表層が露出されるために研磨寿命を延ばすこと
ができる。
【0008】本明細書において、テーバー摩耗試験は、
JIS K7312(熱硬化性ポリウレタンエラストマ
ーの成形物の物理試験方法)に準じて行った。摩耗輪
は、H−18、測定加重は500g、回転数は4000
rpmで測定した。
JIS K7312(熱硬化性ポリウレタンエラストマ
ーの成形物の物理試験方法)に準じて行った。摩耗輪
は、H−18、測定加重は500g、回転数は4000
rpmで測定した。
【0009】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。
【0010】本発明の研磨布はポリウレタン組成物から
製造され、いわゆるプレポリマー法やワンショット法で
製造することができる。
製造され、いわゆるプレポリマー法やワンショット法で
製造することができる。
【0011】プレポリマー法とは、ポリオール成分とイ
ソシアネート成分との反応物であるウレタンプレポリマ
ーを用い、ジアミン類又はジオール類、発泡剤、触媒を
添加混合して得られるウレタン組成物を硬化させる方法
である。ワンショット法とは、ポリオール成分、イソシ
アネート成分、ジアミン類又はジオール類、そして発泡
剤、触媒等を混合して得られるウレタン組成物を硬化さ
せる方法である。
ソシアネート成分との反応物であるウレタンプレポリマ
ーを用い、ジアミン類又はジオール類、発泡剤、触媒を
添加混合して得られるウレタン組成物を硬化させる方法
である。ワンショット法とは、ポリオール成分、イソシ
アネート成分、ジアミン類又はジオール類、そして発泡
剤、触媒等を混合して得られるウレタン組成物を硬化さ
せる方法である。
【0012】上記ウレタンプレポリマーとしては、ポリ
エーテル系ウレタンプレポリマー、ポリエステル系ウレ
タンプレポリマー、ポリエステルエーテル系ウレタンプ
レポリマーのいずれも使用することができる。
エーテル系ウレタンプレポリマー、ポリエステル系ウレ
タンプレポリマー、ポリエステルエーテル系ウレタンプ
レポリマーのいずれも使用することができる。
【0013】ウレタンプレポリマー法において各ウレタ
ンプレポリマーの製造に使用されるポリオール成分とし
て、またワンショット法において使用されるポリオール
成分として、本発明では、作成された研磨布の耐摩耗性
が従来のものに比べて劣る成分を使用する。つまり、研
磨布のテーバー摩耗試験による摩耗量が150mg〜3
50mgとなるようなポリオール成分Aを使用する。そ
のような好ましいポリオール成分Aとしては、ポリプロ
ピレングリコール、ポリジエチレンアジペート、ポリジ
プロピレンアジペート、ポリネオペンチレンアジペー
ト、およびポリ(1,2−ブタジエン)、ポリ(1,4
−ブタジエン)等があげられ、これらの1種または2種
以上が使用される。
ンプレポリマーの製造に使用されるポリオール成分とし
て、またワンショット法において使用されるポリオール
成分として、本発明では、作成された研磨布の耐摩耗性
が従来のものに比べて劣る成分を使用する。つまり、研
磨布のテーバー摩耗試験による摩耗量が150mg〜3
50mgとなるようなポリオール成分Aを使用する。そ
のような好ましいポリオール成分Aとしては、ポリプロ
ピレングリコール、ポリジエチレンアジペート、ポリジ
プロピレンアジペート、ポリネオペンチレンアジペー
ト、およびポリ(1,2−ブタジエン)、ポリ(1,4
−ブタジエン)等があげられ、これらの1種または2種
以上が使用される。
【0014】ポリオール成分Aは、典型的には側鎖を有
するポリオールであり、ポリオール成分Aを配合するこ
とにより研磨布の耐摩耗性を低下させ、研磨布自体のド
レッシング性を向上することができる。
するポリオールであり、ポリオール成分Aを配合するこ
とにより研磨布の耐摩耗性を低下させ、研磨布自体のド
レッシング性を向上することができる。
【0015】本発明では、ポリオール成分A以外に、そ
の他のポリオール成分Bも使用することができる。その
ようなポリオール成分Bとしては、ポリエチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエチレンア
ジペート、ポリテトラメチレンアジペート、ポリヘキサ
メチレンアジペートがあげられる。
の他のポリオール成分Bも使用することができる。その
ようなポリオール成分Bとしては、ポリエチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエチレンア
ジペート、ポリテトラメチレンアジペート、ポリヘキサ
メチレンアジペートがあげられる。
【0016】上記ポリオール成分Aとイソシアネート成
分の重合体及びポリオール成分Bとイソシアネート成分
の重合体を併用する場合は、前者の重合体を全重合体に
対して20重量%以上使用するのが好ましい。
分の重合体及びポリオール成分Bとイソシアネート成分
の重合体を併用する場合は、前者の重合体を全重合体に
対して20重量%以上使用するのが好ましい。
【0017】特に好ましい配合は次の通りである。
【0018】ポリオール成分Aとイソシアネート成分の
重合物10〜90重量部と、ポリオール成分Bとイソシ
アネート成分の重合物90〜10重量部との混合物。
重合物10〜90重量部と、ポリオール成分Bとイソシ
アネート成分の重合物90〜10重量部との混合物。
【0019】上記イソシアネート成分としては、例え
ば、4、4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、
2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレン
ジイソシアネート等が挙げられる。
ば、4、4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、
2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレン
ジイソシアネート等が挙げられる。
【0020】上記ジアミン類としては、4,4’−メチ
レン−ビス(2−クロロアニリン)等があり、ジオール
類としてはエチレングリコール、1、4−ブタンジオー
ル、プロピレングリコール等があげられる。また、硬化
剤として、トリメチロールプロパン等のトリオール類お
よびこれらの混合物を用いてもよい。
レン−ビス(2−クロロアニリン)等があり、ジオール
類としてはエチレングリコール、1、4−ブタンジオー
ル、プロピレングリコール等があげられる。また、硬化
剤として、トリメチロールプロパン等のトリオール類お
よびこれらの混合物を用いてもよい。
【0021】上記発泡剤、触媒は従来より公知のものが
使用され、例えば、発泡剤として水またはアゾビスイソ
ブチロニトリルなどの有機発泡剤があり、触媒としてト
リメチレンジアミン等がある。また、シリコーン整泡
剤、充填材が任意に配合される。充填剤としては、たと
えばシリカ(疎水性を含む)、カーボン粉末、含水ケイ
酸カルシウム、含水ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネ
シウム、炭酸カルシウム、酸化セリウム、炭酸マグネシ
ウムなどの一種以上を挙げることができる。
使用され、例えば、発泡剤として水またはアゾビスイソ
ブチロニトリルなどの有機発泡剤があり、触媒としてト
リメチレンジアミン等がある。また、シリコーン整泡
剤、充填材が任意に配合される。充填剤としては、たと
えばシリカ(疎水性を含む)、カーボン粉末、含水ケイ
酸カルシウム、含水ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネ
シウム、炭酸カルシウム、酸化セリウム、炭酸マグネシ
ウムなどの一種以上を挙げることができる。
【0022】上記各成分を混合してウレタン組成物が得
られ、このウレタン組成物を硬化発泡させて本発明の研
磨布が得られる。
られ、このウレタン組成物を硬化発泡させて本発明の研
磨布が得られる。
【0023】得られた研磨布の硬度は、JIS A硬度
において70〜100が好ましく、圧縮率は1.5〜
5.0%が好ましく、また密度は0.30〜0.80g
/cm 3が好ましい。
において70〜100が好ましく、圧縮率は1.5〜
5.0%が好ましく、また密度は0.30〜0.80g
/cm 3が好ましい。
【0024】また、研磨布のテーバー摩耗試験による摩
耗量は、上記したように、150mg〜350mgが好
ましい。さらに好ましくは200mg〜300mgであ
る。研磨布の摩耗量が150mg未満では、ドレッシン
グ性が悪く、使用可能期間が短い。研磨布の摩耗量が3
50mgを越えると、研磨布の機械的強度が低下するた
めに好ましくない。
耗量は、上記したように、150mg〜350mgが好
ましい。さらに好ましくは200mg〜300mgであ
る。研磨布の摩耗量が150mg未満では、ドレッシン
グ性が悪く、使用可能期間が短い。研磨布の摩耗量が3
50mgを越えると、研磨布の機械的強度が低下するた
めに好ましくない。
【0025】なお、研磨布の発泡性(孔の径や発泡倍率
等)は上記発泡剤、シリコーン系整泡剤等の配合量を変
えることにより、調整することができる。
等)は上記発泡剤、シリコーン系整泡剤等の配合量を変
えることにより、調整することができる。
【0026】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。 (実施例1) ウレタンプレポリマーA(ポリプロピレングリコールと2,4−トリレンジイ ソシアネートとの重合体) 25重量部 ウレタンプレポリマーB(ポリテトラメチレングリコールと2,4−トリレン ジイソシアネートとの重合体) 75重量部 3、3’ジクロロ−4,4’ジアミノジフェニルメタン 20重量部 トリエチレンジアミン(触媒) 0.05重量部 水(発泡剤) 0.2重量部 シリコーン整泡剤(硬質ウレタンフォーム用) 0.5重量部 上記各成分を混合して得られるウレタン組成物を発泡硬
化させて、シート状の研磨布を得た。
る。 (実施例1) ウレタンプレポリマーA(ポリプロピレングリコールと2,4−トリレンジイ ソシアネートとの重合体) 25重量部 ウレタンプレポリマーB(ポリテトラメチレングリコールと2,4−トリレン ジイソシアネートとの重合体) 75重量部 3、3’ジクロロ−4,4’ジアミノジフェニルメタン 20重量部 トリエチレンジアミン(触媒) 0.05重量部 水(発泡剤) 0.2重量部 シリコーン整泡剤(硬質ウレタンフォーム用) 0.5重量部 上記各成分を混合して得られるウレタン組成物を発泡硬
化させて、シート状の研磨布を得た。
【0027】得られた研磨布のJIS A硬度を測定し
たところ89であった。
たところ89であった。
【0028】圧縮率は2.8%、密度は0.54g/c
m3であった。またTaber 摩耗試験(JIS K731
2に準ずる)での摩耗量は260mgであった。 (比較例1)実施例1で用いたウレタンプレポリマーA
とウレタンプレポリマーBの混合に代えて、ウレタンプ
レポリマーBのみを100重量部用いたこと以外は、実
施例1と同様にしてシート状の研磨布を得た。
m3であった。またTaber 摩耗試験(JIS K731
2に準ずる)での摩耗量は260mgであった。 (比較例1)実施例1で用いたウレタンプレポリマーA
とウレタンプレポリマーBの混合に代えて、ウレタンプ
レポリマーBのみを100重量部用いたこと以外は、実
施例1と同様にしてシート状の研磨布を得た。
【0029】この研磨布について実施例1と同様に物性
を試験したところ以下の通りであった。硬度88、圧縮
率は2.6%、密度は0.54g/cm3、Taber 摩耗
試験での摩耗量は60mgであった。 (比較例2)実施例1で用いたウレタンプレポリマーA
を10重量部、ウレタンプレポリマーBを90重量部用
いたこと以外は、実施例1と同様にしてシート状の研磨
布を得た。
を試験したところ以下の通りであった。硬度88、圧縮
率は2.6%、密度は0.54g/cm3、Taber 摩耗
試験での摩耗量は60mgであった。 (比較例2)実施例1で用いたウレタンプレポリマーA
を10重量部、ウレタンプレポリマーBを90重量部用
いたこと以外は、実施例1と同様にしてシート状の研磨
布を得た。
【0030】この研磨布について実施例1と同様に物性
を試験したところ以下の通りであった。硬度88,圧縮
率は2.6%、密度は0.52g/cm3、Taber 摩耗
試験での摩耗量は100mgであった。 (比較例3)実施例1で用いたウレタンプレポリマーA
とウレタンプレポリマーBの混合に代えて、ウレタンプ
レポリマーAのみを100重量部用いたこと以外は、実
施例1と同様にしてシート状の研磨布を得た。
を試験したところ以下の通りであった。硬度88,圧縮
率は2.6%、密度は0.52g/cm3、Taber 摩耗
試験での摩耗量は100mgであった。 (比較例3)実施例1で用いたウレタンプレポリマーA
とウレタンプレポリマーBの混合に代えて、ウレタンプ
レポリマーAのみを100重量部用いたこと以外は、実
施例1と同様にしてシート状の研磨布を得た。
【0031】この研磨布について実施例1と同様に物性
を試験したところ以下の通りであった。硬度88,圧縮
率は2.8%、密度は0.53g/cm3、Taber 摩耗
試験での摩耗量は360mgであった。
を試験したところ以下の通りであった。硬度88,圧縮
率は2.8%、密度は0.53g/cm3、Taber 摩耗
試験での摩耗量は360mgであった。
【0032】次に、従来品(比較例1の研磨布)でシリ
コンウエハを研磨している条件で、上記の実施例1およ
び比較例2〜3の研磨布を用いて研磨試験を行った。
コンウエハを研磨している条件で、上記の実施例1およ
び比較例2〜3の研磨布を用いて研磨試験を行った。
【0033】その結果、比較例2のものでは、研磨ライ
フの向上はほとんどなかった。実施例1の研磨布では、
研磨布ライフが20%向上し、かつ研磨速度が10%上
昇した。
フの向上はほとんどなかった。実施例1の研磨布では、
研磨布ライフが20%向上し、かつ研磨速度が10%上
昇した。
【0034】比較例3の研磨布は、機械的強度が弱すぎ
るため、研磨布のドレッシング時の機械的作用に耐えら
れなかった。
るため、研磨布のドレッシング時の機械的作用に耐えら
れなかった。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、特定のポリオール成分
を用いたので、静的物性を維持しながら、摩耗性が改良
された研磨布を得ることができ、従来の研磨布に比べて
ドレッシング性を向上させることができる。すなわち、
研磨時に研磨布の表層自体が摩耗されることにより、強
制ドレッシングの回数が減少した。さらに、従来品と静
物性の値がほぼ同等であったため、研磨仕上がり状態も
同等であった。従って、研磨布の目詰まり、劣化が生じ
たときの研磨布表面状態の改善のための強制ドレッシン
グの回数が減少し、スループットが大幅に改善された。
を用いたので、静的物性を維持しながら、摩耗性が改良
された研磨布を得ることができ、従来の研磨布に比べて
ドレッシング性を向上させることができる。すなわち、
研磨時に研磨布の表層自体が摩耗されることにより、強
制ドレッシングの回数が減少した。さらに、従来品と静
物性の値がほぼ同等であったため、研磨仕上がり状態も
同等であった。従って、研磨布の目詰まり、劣化が生じ
たときの研磨布表面状態の改善のための強制ドレッシン
グの回数が減少し、スループットが大幅に改善された。
【図1】研磨布のTaber摩耗試験結果を示すグラフであ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松村 進一 奈良県大和郡山市池沢町172 ロデール・ ニッタ株式会社奈良工場内 (72)発明者 羽場 真一 奈良県大和郡山市池沢町172 ロデール・ ニッタ株式会社奈良工場内 (72)発明者 伊藤 栄直 奈良県大和郡山市池沢町172 ロデール・ ニッタ株式会社奈良工場内 Fターム(参考) 3C058 AA07 AA09 AA19 BC02 CA01 CB03 3C063 AA10 BE01 BE03 EE10 FF30
Claims (2)
- 【請求項1】 ポリウレタン組成物よりなり、テーバー
摩耗試験による摩耗量が150mg〜350mgである
研磨布。 - 【請求項2】 前記ポリウレタン組成物が、ポリオール
成分として、ポリプロピレングリコール、ポリジエチレ
ンアジペート、ポリジプロピレンアジペート、ポリネオ
ペンチレンアジペート、およびポリ(1,2−ブタジエ
ン)、ポリ(1,4−ブタジエン)からなる群から選択
される少なくとも一種を含有する請求項1に記載の研磨
布。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000089967A JP2001277101A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 研磨布 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000089967A JP2001277101A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 研磨布 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001277101A true JP2001277101A (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=18605644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000089967A Pending JP2001277101A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 研磨布 |
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Country | Link |
---|---|
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---|---|---|---|---|
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