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JP2001256606A - Magnetic head and method of its manufacture - Google Patents

Magnetic head and method of its manufacture

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Publication number
JP2001256606A
JP2001256606A JP2000076400A JP2000076400A JP2001256606A JP 2001256606 A JP2001256606 A JP 2001256606A JP 2000076400 A JP2000076400 A JP 2000076400A JP 2000076400 A JP2000076400 A JP 2000076400A JP 2001256606 A JP2001256606 A JP 2001256606A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
substrate
gap
edge position
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000076400A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Hoshi
一廣 星
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2000076400A priority Critical patent/JP2001256606A/en
Publication of JP2001256606A publication Critical patent/JP2001256606A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize so proper recording and reproducing characteristics. SOLUTION: A metal magnetic film 5, as a main core material, is formed on a ferrite substrate 4 as an auxiliary core material. A magnetic gap S2 is formed by constructing a pair of the metal magnetic films 5 which butt against each other. At this time, edge positions P1 and P2 of the metal magnetic films 5 are formed deviated by a prescribed quantity of deviation in a prescribed direction with respect to edge positions P3 and P4 of the ferrite substrates 4. Thereby, even when a pseudo-gap is generated at an interface S1 between the ferrite substrate 4 and the metal magnetic film 5, a region L2 which is greatly affected by the pseudo-gap can be made small.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上における磁
性膜の成膜面と磁気ギャップとが略々平行とされてなる
磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head in which a surface on which a magnetic film is formed on a substrate and a magnetic gap are substantially parallel, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気記録の分野においては、高記
録密度化が進められており、高い抗磁力と高い残留磁束
密度とを有する磁気記録媒体が用いられるようになって
きている。このような磁気記録媒体としては、例えば、
強磁性金属材料を非磁性支持体上に直接被着してなるメ
タルテープ等がある。これに伴って、磁気ヘッドにおい
ては、高い飽和磁束密度と高い透磁率とを有する材料を
用いて磁気コアを形成することが要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of magnetic recording, higher recording densities have been promoted, and magnetic recording media having high coercive force and high residual magnetic flux density have been used. As such a magnetic recording medium, for example,
There is a metal tape or the like in which a ferromagnetic metal material is directly applied on a nonmagnetic support. Accordingly, in a magnetic head, it is required to form a magnetic core using a material having high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability.

【0003】このような要求を満たすために、補助コア
材としてのフェライトの上に高飽和磁束密度を有する金
属磁性膜を主コア材として形成し、この金属磁性膜によ
り磁気ギャップを形成するようにした、いわゆるMIG
(Metal In Gap)型の磁気ヘッド(以下、MIGヘッド
と称する。)が提案されている。
In order to satisfy such requirements, a metal magnetic film having a high saturation magnetic flux density is formed as a main core material on ferrite as an auxiliary core material, and a magnetic gap is formed by the metal magnetic film. So-called MIG
(Metal In Gap) type magnetic heads (hereinafter referred to as MIG heads) have been proposed.

【0004】MIGヘッドとしては、例えば、図17に
示すような積層型ヘッド100が提案されている。積層
型ヘッド100は、図17に示すように、一対の磁気コ
ア半体101,102が非磁性薄膜103を介して接合
されてなる。磁気コア半体101,102は、基板材1
04の間に、金属磁性膜105が非磁性薄膜106を介
して複数積層されてなるメタル磁性体107を備えてい
る。積層型ヘッド100では、磁路を構成するメタル磁
性体107が、金属磁性膜105が非磁性薄膜106を
介して積層された構成とされていることから、渦電流損
失を低減することができるという利点を有している。ま
た、積層型ヘッド100は、基板材104とメタル磁性
体107との界面が、磁気ギャップを構成する一対の磁
気コア半体101,102の突合せ面に対して平行とさ
れていないため、この界面が疑似ギャップとして働いて
しまうことを防止されている。
As a MIG head, for example, a multilayer head 100 as shown in FIG. 17 has been proposed. As shown in FIG. 17, the multilayer head 100 includes a pair of magnetic core halves 101 and 102 joined via a nonmagnetic thin film 103. The magnetic core halves 101 and 102 are
A metal magnetic body 107 formed by laminating a plurality of metal magnetic films 105 via a non-magnetic thin film 106 is provided between the layers. In the multilayer head 100, the metal magnetic body 107 forming the magnetic path has a configuration in which the metal magnetic film 105 is stacked via the non-magnetic thin film 106, so that eddy current loss can be reduced. Has advantages. Further, in the multilayer head 100, the interface between the substrate material 104 and the metal magnetic body 107 is not parallel to the abutting surface of the pair of magnetic core halves 101 and 102 forming the magnetic gap. Is prevented from acting as a pseudo gap.

【0005】また、MIGヘッドとしては、例えば、図
18に示すようなTSS(Tilted Sendust Sputter)ヘ
ッド110が提案されている。TSSヘッド110は、
図18に示すように、一対の磁気コア半体111,11
2が、磁気ギャップとなる突合せ面において非磁性薄膜
113を介して接合されてなる。磁気コア半体111,
112は、突合せ面に対して斜めとなるように形成され
た基板材114の傾斜面上に金属磁性膜115が成膜さ
れてなる。また、基板材114は、金属磁性膜115が
成膜された傾斜面が低融点ガラス116によって充填さ
れ、突合せ面で平坦化されている。TSSヘッド110
は、基板材114と金属磁性膜115との界面が、磁気
ギャップとなる突合せ面に対して平行とされていないた
め、この界面が疑似ギャップとして働いてしまうことを
防止されている。
As a MIG head, for example, a TSS (Tilted Sendust Sputter) head 110 as shown in FIG. 18 has been proposed. The TSS head 110 is
As shown in FIG. 18, a pair of magnetic core halves 111, 11
2 are joined together via a non-magnetic thin film 113 at the butting surface serving as a magnetic gap. Magnetic core half 111,
Reference numeral 112 denotes a metal magnetic film 115 formed on an inclined surface of a substrate material 114 formed to be inclined with respect to the abutting surface. In addition, the substrate material 114 is filled with the low-melting glass 116 on the inclined surface on which the metal magnetic film 115 is formed, and is flattened at the abutting surface. TSS head 110
Since the interface between the substrate material 114 and the metal magnetic film 115 is not parallel to the abutting surface serving as a magnetic gap, this interface is prevented from acting as a pseudo gap.

【0006】また、従来から広く利用されているMIG
ヘッドとしては、例えば、図19に示すような、いわゆ
る平行膜MIGヘッド120がある。平行膜MIGヘッ
ド120は、図19に示すように、一対の磁気コア半体
121,122が、磁気ギャップとなる突合せ面におい
て非磁性薄膜125を介して接合されてなる。磁気コア
半体121,122は、基板材123上に金属磁性膜1
24が成膜されてなり、この金属磁性膜124が突合せ
面で非磁性薄膜125を介して突き合わされていること
によって磁気ギャップを構成している。また、基板材1
23は、磁気ギャップの両端部で突合せ面から深さ方向
に切り欠かれており、これによって磁気ギャップの幅、
すなわちトラック幅が規制されている。また、基板材1
23は、切り欠かれた部位に低融点ガラス126が充填
されて、突合せ面で平坦化されている。
In addition, MIG which has been widely used conventionally
As the head, for example, there is a so-called parallel film MIG head 120 as shown in FIG. As shown in FIG. 19, the parallel film MIG head 120 is formed by joining a pair of magnetic core halves 121 and 122 via a non-magnetic thin film 125 at an abutting surface serving as a magnetic gap. The magnetic core halves 121 and 122 are provided on the substrate material 123 by the metal magnetic film 1.
The magnetic gap is formed by the metal magnetic film 124 abutting on the abutting surface via the non-magnetic thin film 125. In addition, substrate material 1
23 is cut out in the depth direction from the abutting surface at both ends of the magnetic gap, whereby the width of the magnetic gap,
That is, the track width is regulated. In addition, substrate material 1
In 23, the notched portion is filled with the low-melting glass 126, and the butted surface is flattened.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな積層型ヘッド100やTSSヘッド110は、渦電
流損失の低減や疑似ギャップの防止などが図られている
ことにより記録再生特性に優れているものの、平行膜M
IGヘッド120と比較すると製造プロセスが複雑とな
るため、高価なものとなってしまう。そこで、低コスト
化を図るためには平行膜MIGヘッド120を用いるこ
ととなるが、この平行膜MIGヘッド120は、基板材
123と金属磁性膜124との界面が、磁気ギャップと
なる突合せ面に対して平行とされているため、この界面
が疑似ギャップとして働いてしまうといった問題があっ
た。
Incidentally, the above-mentioned laminated type head 100 and TSS head 110 are excellent in recording / reproducing characteristics due to reduction of eddy current loss and prevention of a pseudo gap. However, the parallel film M
As compared with the IG head 120, the manufacturing process is complicated and therefore expensive. Therefore, in order to reduce the cost, the parallel film MIG head 120 is used. However, in the parallel film MIG head 120, the interface between the substrate material 123 and the metal magnetic film 124 is formed on the abutting surface serving as a magnetic gap. On the other hand, there is a problem that this interface acts as a pseudo gap because it is parallel.

【0008】すなわち、平行膜MIGヘッド120で
は、基板材123と金属磁性膜124との界面が疑似ギ
ャップとして働いてしまうことにより、再生対象となる
磁気信号を磁気ギャップで検出する際に、この疑似ギャ
ップによって再生対象外の磁気信号をも検出してしま
う。これにより、再生時の出力にうねり(リップル)が
生じてしまう。したがって、平行膜MIGヘッド120
は、微小な磁気信号を高精度に検出して、再生特性を向
上させることが困難であった。
That is, in the parallel film MIG head 120, since the interface between the substrate material 123 and the metal magnetic film 124 acts as a pseudo gap, when the magnetic signal to be reproduced is detected by the magnetic gap, the pseudo gap is generated. Due to the gap, a magnetic signal not to be reproduced is also detected. As a result, swell (ripple) occurs in the output during reproduction. Therefore, the parallel film MIG head 120
However, it has been difficult to detect a minute magnetic signal with high accuracy and improve the reproduction characteristics.

【0009】一方、さらなる高記録密度化に伴い、磁気
記録媒体上に記録される記録パターンにおける幅方向の
ピッチ、いわゆるトラックピッチを狭くすることが望ま
れている。この場合に、磁気ヘッドにおいては、隣接す
る記録トラックからのクロストークによる影響が増大
し、SN比が劣化したり、エラーレートが増大してしま
うといったことが問題となる。そこで、図20に示すよ
うに、磁気ギャップとなる部位において金属磁性膜12
4同士を意図的にずらして構成された磁気ヘッド130
が提案されている。なお、図20においては、金属磁性
膜124同士がずれている他は図19と同一であるた
め、説明を省略して同一の符号を付している。
On the other hand, as the recording density is further increased, it is desired that the pitch in the width direction of a recording pattern recorded on a magnetic recording medium, that is, the so-called track pitch, be reduced. In this case, in the magnetic head, there is a problem that the influence of crosstalk from an adjacent recording track increases, the SN ratio deteriorates, and the error rate increases. Therefore, as shown in FIG.
Magnetic head 130 constructed by intentionally shifting four
Has been proposed. Note that FIG. 20 is the same as FIG. 19 except that the metal magnetic films 124 are displaced from each other, so that the description is omitted and the same reference numerals are given.

【0010】磁気ヘッド130では、図21に示すよう
に、磁気ギャップにおける金属磁性膜124同士のずれ
による開き角θ1の二等分線方向が、隣接する記録トラ
ックのアジマス角と逆の方向である場合に、クロストー
クが減少し、図22に示すように、金属磁性膜124同
士のずれによる開き角θ1の二等分線方向が、隣接する
記録トラックのアジマス角と同じ方向である場合に、ク
ロストークが増大することが知られている。そこで、磁
気ヘッド130では、図21に示すように、金属磁性膜
124同士をずらして突き合わせることにより、クロス
トークを低減することが提案されている。
In the magnetic head 130, as shown in FIG. 21, the direction of the bisector of the opening angle θ1 due to the displacement between the metal magnetic films 124 in the magnetic gap is the direction opposite to the azimuth angle of the adjacent recording track. In this case, the crosstalk decreases, and as shown in FIG. 22, when the bisector direction of the opening angle θ1 due to the displacement between the metal magnetic films 124 is the same as the azimuth angle of the adjacent recording track, It is known that crosstalk increases. Therefore, in the magnetic head 130, as shown in FIG. 21, it has been proposed to reduce the crosstalk by shifting the metal magnetic films 124 and butting them.

【0011】磁気ヘッド130は、上述したように、磁
気ギャップが形成される部位において金属磁性膜124
同士がずれていることにより、再生時に隣接する記録ト
ラックからのクロストークを低減することができる。し
かしながら、磁気ヘッド130を用いて磁気記録媒体に
対する記録を行う場合には、金属磁性膜124同士がず
れている部位におけるコア間隔が狭くなるために、トラ
ックエッジにおけるフリンジ量が大きくなり、その結
果、隣接する記録トラックに記録された磁気信号を破壊
してしまう現象、いわゆるサイドイレーズ現象が顕著と
なってしまうといった問題があった。
As described above, the magnetic head 130 has the metal magnetic film 124 at the portion where the magnetic gap is formed.
Due to the misalignment, crosstalk from adjacent recording tracks during reproduction can be reduced. However, when recording is performed on a magnetic recording medium using the magnetic head 130, the core interval at a portion where the metal magnetic films 124 are shifted from each other is narrowed, so that the fringe amount at the track edge increases, and as a result, There has been a problem that a phenomenon that a magnetic signal recorded on an adjacent recording track is destroyed, that is, a so-called side erase phenomenon becomes remarkable.

【0012】サイドイレーズ現象を低減するためには、
図23乃至図25に示すように、磁気ギャップが形成さ
れる部位において、基板材123をトリミングすること
によりトラック幅を規制した磁気ヘッド140が提案さ
れている。なお、図23乃至図25において、図20と
同一又は同等の部位については同一の符号を付し、説明
を省略する。
In order to reduce the side erase phenomenon,
As shown in FIGS. 23 to 25, there has been proposed a magnetic head 140 in which a track width is regulated by trimming a substrate material 123 at a portion where a magnetic gap is formed. 23 to 25, the same or equivalent parts as those in FIG. 20 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0013】しかしながら、磁気ヘッド140では、一
対の磁気コア半体121,122を接合した後に、基板
材123をトリミング加工する必要があるため、製造プ
ロセスが複雑となり、高コストとなってしまうといった
問題があった。
However, in the magnetic head 140, since the substrate material 123 needs to be trimmed after the pair of magnetic core halves 121 and 122 are joined, the manufacturing process becomes complicated and the cost increases. was there.

【0014】そこで、本発明は、上述したような従来の
実情を鑑みて提案するものであり、高記録密度化に対応
して良好な記録再生特性を示すとともに、複雑なプロセ
スを経ることなく低コストで製造することが可能な磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention is proposed in view of the above-mentioned conventional situation, and shows good recording / reproducing characteristics in response to the increase in recording density, and provides low recording / reproducing characteristics without going through a complicated process. It is an object of the present invention to provide a magnetic head that can be manufactured at low cost and a method of manufacturing the same.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、基板上に磁性膜が成膜されてなる一対の磁気コア半
体が、上記磁性膜の成膜面と平行な突合せ面同士で非磁
性膜を介して突き合わせることにより磁気ギャップが形
成されてなる。上記磁気ギャップは、その両端部におい
て上記基板が突合せ面から深さ方向に切り欠かれている
ことによって、幅が規制されている。また、上記磁気ギ
ャップにおいて、上記磁性膜のエッジ位置は、上記基板
のエッジ位置に対して、所定の方向に所定のずれ量だけ
ずれている。
According to the magnetic head of the present invention, a pair of magnetic core halves each having a magnetic film formed on a substrate are joined by abutting surfaces parallel to the film forming surface of the magnetic film. A magnetic gap is formed by abutting through the non-magnetic film. The width of the magnetic gap is regulated by notching the substrate at both ends in the depth direction from the abutting surface. In the magnetic gap, the edge position of the magnetic film is shifted by a predetermined amount in a predetermined direction from the edge position of the substrate.

【0016】以上のように構成された本発明に係る磁気
ヘッドは、磁性膜のエッジ位置が基板のエッジ位置に対
してずれていることによって、疑似ギャップが形成され
やすい磁性膜と基板との界面を、記録トラックからオフ
セットすることができる。このため、疑似ギャップによ
る影響を低減して、再生特性を向上させることができ
る。
In the magnetic head according to the present invention configured as described above, since the edge position of the magnetic film is shifted with respect to the edge position of the substrate, an interface between the magnetic film and the substrate where a pseudo gap is easily formed is provided. Can be offset from the recording track. Therefore, the influence of the pseudo gap can be reduced, and the reproduction characteristics can be improved.

【0017】また、本発明に係る磁気ヘッドでは、上記
一対の磁気コア半体が、上記突合せ面において、上記磁
性膜同士をずらして突き合わされており、上記磁気ギャ
ップにおいて、上記磁性膜のエッジ位置が、上記基板の
エッジ位置に対して、上記磁性膜同士のずれ方向と同方
向にずれていることが望ましい。これにより、結果とし
てトラック決定側における磁性膜のエッジ位置での丸み
部の幅が減少することから、トラックエッジにおけるフ
リンジ量が抑制されて、記録時におけるサイドイレーズ
を防止することができる。したがって、磁気ギャップに
よる影響を低減することができるだけでなく、再生時の
クロストークを低減する目的で磁性膜同士をずらして突
き合わせた場合であっても、サイドイレーズ現象の防止
を図ることができる。
Also, in the magnetic head according to the present invention, the pair of magnetic core halves are butted against each other on the abutting surface so that the magnetic films are shifted from each other. However, it is desirable that the magnetic films are shifted from the edge position of the substrate in the same direction as the shift direction of the magnetic films. As a result, the width of the rounded portion at the edge position of the magnetic film on the track determination side is reduced, so that the fringe amount at the track edge is suppressed, and side erasure during recording can be prevented. Therefore, not only can the effect of the magnetic gap be reduced, but also the side erase phenomenon can be prevented even when the magnetic films are shifted and butted for the purpose of reducing crosstalk during reproduction.

【0018】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
は、基板上に磁性膜を成膜してなる一対の磁気コア半体
を、上記磁性膜の成膜面と平行な突合せ面同士で非磁性
膜を介して突き合わせることにより磁気ギャップを形成
してなる磁気ヘッドの製造方法である。そして、溝形成
工程と、成膜工程とを有する。溝形成工程では、上記基
板に上記磁気ギャップの幅を規制するトラック幅規制溝
を形成する。成膜工程では、上記基板に対して斜め方向
にスパッタリングを行うことにより、上記磁気ギャップ
となる部位において、上記基板のエッジ位置に対して所
定の方向に所定のずれ量だけエッジ位置をずらして上記
磁性膜を成膜する。
Further, in the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a pair of magnetic core halves each having a magnetic film formed on a substrate may be joined by abutting surfaces parallel to a film forming surface of the magnetic film. This is a method for manufacturing a magnetic head in which a magnetic gap is formed by abutting via a magnetic film. And it has a groove forming step and a film forming step. In the groove forming step, a track width regulating groove for regulating the width of the magnetic gap is formed in the substrate. In the film forming step, by performing sputtering in an oblique direction with respect to the substrate, the edge position is shifted by a predetermined shift amount in a predetermined direction with respect to the edge position of the substrate in a portion to be the magnetic gap. A magnetic film is formed.

【0019】上述したような本発明に係る磁気ヘッドの
製造方法によれば、基板に対して斜め方向にスパッタリ
ングを行うだけで、磁性膜のエッジ位置を基板のエッジ
位置に対してずらして成膜することができ、疑似ギャッ
プによる影響が低減されて、再生特性が向上した磁気ヘ
ッドを製造することができる。また、斜め方向にスパッ
タリングを行うことにより、サイドイレーズが生じる側
のトラックエッジの位置で、磁性膜の丸み部の幅を低減
することができ、記録時におけるサイドイレーズが防止
された磁気ヘッドを容易に製造することができる。
According to the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention as described above, the film is formed by shifting the edge position of the magnetic film with respect to the edge position of the substrate only by sputtering the substrate in an oblique direction. Thus, the influence of the pseudo gap is reduced, and a magnetic head with improved reproduction characteristics can be manufactured. Further, by performing sputtering in an oblique direction, the width of the rounded portion of the magnetic film can be reduced at the track edge on the side where side erase occurs, and the magnetic head in which side erase during recording is prevented can be easily performed. Can be manufactured.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態に
ついて、図面を参照しながら詳細に説明する。以下で
は、本発明を適用した磁気ヘッドとして、図1に示すよ
うな磁気ヘッド1について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Hereinafter, a magnetic head 1 as shown in FIG. 1 will be described as a magnetic head to which the present invention is applied.

【0021】磁気ヘッド1は、図1に示すように、一対
の磁気コア半体2,3が突合せ面で突き合わされて接合
一体化されてなる。一対の磁気コア半体2,3は、補助
コア材としてのフェライト基板4と、このフェライト基
板4上に形成された主コア材としての金属磁性膜5と、
このフェライト基板4上に金属磁性膜5を覆うように形
成された低融点ガラス6とにより、それぞれ形成されて
いる。また、磁気ヘッド1においては、一対の磁気コア
半体2,3が突合せ面において、非磁性薄膜7を介して
接合されている。そして、磁気テープが摺動する摺動面
1aにおいて、金属磁性膜5同士が非磁性薄膜7を介し
て突き合わされていることにより、磁気ギャップが形成
されている。
As shown in FIG. 1, the magnetic head 1 has a pair of magnetic core halves 2 and 3 butted together on a butted surface to be joined and integrated. The pair of magnetic core halves 2 and 3 include a ferrite substrate 4 as an auxiliary core material, and a metal magnetic film 5 as a main core material formed on the ferrite substrate 4.
The low melting point glass 6 is formed on the ferrite substrate 4 so as to cover the metal magnetic film 5. In the magnetic head 1, a pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined via a nonmagnetic thin film 7 at the butting surfaces. Then, on the sliding surface 1a on which the magnetic tape slides, a magnetic gap is formed by the metal magnetic films 5 abutting each other via the non-magnetic thin film 7.

【0022】磁気ギャップは、その両端部においてフェ
ライト基板4が突合せ面から深さ方向に切り欠かれてい
ることによって、幅が規制されている。そして、磁気ヘ
ッド1においては、フェライト基板4の切り欠き部に低
融点ガラス6が充填され、突合せ面で平坦化されてな
る。また、磁気ヘッド1は、磁気ギャップが形成されて
なる部位において、図2に示すように、一対の磁気コア
半体2,3の突合せ面S1と、フェライト基板4上にお
ける金属磁性膜5の成膜面S2とが略々平行とされてい
る。なお、図2は、磁気ヘッド1における摺動面1aの
平面図である。
The width of the magnetic gap is regulated by the ferrite substrate 4 being cut off in the depth direction from the abutting surface at both ends. In the magnetic head 1, the notched portion of the ferrite substrate 4 is filled with the low-melting glass 6 and is flattened at the abutting surface. As shown in FIG. 2, the magnetic head 1 includes a magnetic surface 5 formed of a pair of magnetic core halves 2 and 3 and a metal magnetic film 5 on a ferrite substrate 4 at a portion where a magnetic gap is formed. The film surface S2 is substantially parallel. FIG. 2 is a plan view of the sliding surface 1 a of the magnetic head 1.

【0023】また、磁気ヘッド1は、摺動面1aの両側
部に、磁気テープとの当接幅を規制するための当接幅規
制溝1bが形成されている。さらに、磁気ヘッド1は、
一対の磁気コア半体2,3の突合せ面の中央部に、巻き
線窓1cが形成されており、この巻き線窓1cの磁気ギ
ャップ側まで低融点ガラス6が充填されている。すなわ
ち、一対の磁気コア半体2,3は、低融点ガラス6によ
って接合されている。また、磁気ヘッド1は、摺動面1
aの両端部で巻き線窓1cと略同等の高さとなる位置
に、巻き線補助溝1dが形成されている。そして、巻き
線窓1c及び巻き線補助溝1dに図示しないコイルが巻
回されてなる。
In the magnetic head 1, contact width regulating grooves 1b for regulating the contact width with the magnetic tape are formed on both sides of the sliding surface 1a. Further, the magnetic head 1
A winding window 1c is formed at the center of the abutting surfaces of the pair of magnetic core halves 2 and 3, and the low melting point glass 6 is filled up to the magnetic gap side of the winding window 1c. That is, the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined by the low melting point glass 6. The magnetic head 1 has a sliding surface 1.
A winding auxiliary groove 1d is formed at a position which is approximately the same height as the winding window 1c at both ends of "a". A coil (not shown) is wound around the winding window 1c and the winding auxiliary groove 1d.

【0024】すなわち、以上のように構成された磁気ヘ
ッド1においては、フェライト基板4と金属磁性膜5と
によって磁気コアが構成されるとともに、この磁気コア
に巻回されたコイルに電流が供給されることによって、
摺動面1aにおいて磁気ギャップから漏れ磁界を発生さ
せ、磁気テープに磁気信号の記録を行う。また、磁気テ
ープに記録された磁気信号を再生する際には、磁気ギャ
ップによって磁気信号を検出し、磁気コアに巻回された
コイルによって、検出した磁気信号に応じた電流変化を
検出する。
That is, in the magnetic head 1 configured as described above, a magnetic core is formed by the ferrite substrate 4 and the metal magnetic film 5, and a current is supplied to a coil wound around the magnetic core. By doing
A magnetic field is generated from the magnetic gap on the sliding surface 1a to record a magnetic signal on a magnetic tape. When reproducing a magnetic signal recorded on a magnetic tape, a magnetic signal is detected by a magnetic gap, and a current wound in accordance with the detected magnetic signal is detected by a coil wound around a magnetic core.

【0025】ところで、磁気ヘッド1は、図3に示すよ
うに、フェライト基板4上に形成されている金属磁性膜
5のエッジ位置P1,P2が、フェライト基板4のエッ
ジ位置P3,P4に対して、所定の方向に所定のずれ量
だけずれて形成されている。具体的には、例えば、図3
に示すように、金属磁性膜5のエッジ位置P1,P2
が、フェライト基板4のエッジ位置P3,P4に対し
て、それぞれ摺動面1a側からみて時計回りの方向にず
れ量L1だけずれて形成されている。なお、図3は、摺
動面1aからみたフェライト基板4及び金属磁性膜5を
拡大して示す概略図であり、一対の磁気コア半体2,3
のうちの一方についてのみ示している。
In the magnetic head 1, as shown in FIG. 3, the edge positions P1 and P2 of the metal magnetic film 5 formed on the ferrite substrate 4 are different from the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4. , Are formed to be shifted by a predetermined amount in a predetermined direction. Specifically, for example, FIG.
As shown in the figure, the edge positions P1, P2 of the metal magnetic film 5
Are formed with respect to the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4 by a shift amount L1 in the clockwise direction as viewed from the sliding surface 1a side. FIG. 3 is an enlarged schematic view showing the ferrite substrate 4 and the metal magnetic film 5 as viewed from the sliding surface 1a.
Only one of them is shown.

【0026】本発明を適用した磁気ヘッド1は、このよ
うに金属磁性膜5のエッジ位置がフェライト基板4のエ
ッジ位置に対して、ずれて形成されていることにより、
疑似ギャップが形成されやすい金属磁性膜4とフェライ
ト基板4との界面を、記録トラックからオフセットする
ことが可能とされており、この疑似ギャップによる影響
を低減して、記録再生特性を向上させることを可能とさ
れている。
In the magnetic head 1 to which the present invention is applied, the edge position of the metal magnetic film 5 is shifted from the edge position of the ferrite substrate 4 as described above.
It is possible to offset the interface between the metal magnetic film 4 where the pseudo gap is easily formed and the ferrite substrate 4 from the recording track, and to reduce the influence of the pseudo gap to improve the recording / reproducing characteristics. It is possible.

【0027】以下では、上述した本発明の効果につい
て、模式図を参照しながら説明する。すなわち、図4に
示すように、フェライト基板4上に金属磁性膜5が形成
されてなる、いわゆる平行膜MIGヘッドによりアジマ
ス記録を行った場合には、フェライト基板4と金属磁性
膜5との界面S1で疑似ギャップが生じてしまう。この
結果、例えば図4中矢印Aに示す方向に平行膜MIGヘ
ッドを移動させて再生を行うと、磁気テープに記録され
た磁気信号が、磁気ギャップS2だけでなく、界面S1
で生じる疑似ギャップのうち、磁気ギャップS2と重な
る領域L2の部分でも検出されてしまい、再生時の出力
にうねり(リップル)が生じてしまう。そして、この疑
似ギャップによる影響は、高記録密度化に伴い、記録さ
れる磁気信号が微小化するにしたがって顕著となる。な
お、疑似ギャップのうち、磁気ギャップS2で検出する
記録トラックと重ならない領域L3の部分では、隣接す
る記録トラックにおけるアジマス角が異なるために、疑
似ギャップによる影響が少ない。
Hereinafter, effects of the present invention will be described with reference to schematic diagrams. That is, as shown in FIG. 4, when azimuth recording is performed by a so-called parallel film MIG head having a metal magnetic film 5 formed on a ferrite substrate 4, an interface between the ferrite substrate 4 and the metal magnetic film 5 is formed. A pseudo gap occurs in S1. As a result, for example, when the reproduction is performed by moving the parallel film MIG head in the direction indicated by the arrow A in FIG.
Of the pseudo gaps generated in step (1), a portion of the region L2 overlapping the magnetic gap S2 is also detected, and swell (ripple) occurs in the output during reproduction. The influence of the pseudo gap becomes more remarkable as the magnetic signal to be recorded becomes smaller as the recording density increases. In the pseudo gap, a portion of the region L3 that does not overlap the recording track detected by the magnetic gap S2 has a small influence of the pseudo gap because the azimuth angles in the adjacent recording tracks are different.

【0028】そこで、本発明に係る磁気ヘッド1では、
図5に示すように、磁気ギャップS2を形成する金属磁
性膜5のエッジ位置P1,P2を、フェライト基板4の
エッジ位置P3,P4に対してそれぞれずらすことによ
り、これらフェライト基板4と金属磁性膜5との界面S
1に生じる疑似ギャップのうち、磁気ギャップS2で検
出する記録トラックと重なる領域L2の部分を小さくす
ることができる。これにより、磁気ヘッド1は、再生出
力に生じるリップルを低減することができる。
Therefore, in the magnetic head 1 according to the present invention,
As shown in FIG. 5, by shifting the edge positions P1 and P2 of the metal magnetic film 5 forming the magnetic gap S2 with respect to the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4, respectively, the ferrite substrate 4 and the metal magnetic film Interface S with 5
1, the portion of the region L2 overlapping the recording track detected by the magnetic gap S2 can be reduced. Thereby, the magnetic head 1 can reduce the ripple generated in the reproduction output.

【0029】ところで、磁気ヘッド1では、金属磁性膜
5のエッジ位置P1,P2が、フェライト基板4のエッ
ジ位置P3,P4に対して、アジマス角と同方向にずれ
ていることが望ましい。これにより、図6に示すよう
に、記録トラックの幅をW、アジマス角をθ2、エッジ
位置P1,P2とエッジ位置P3,P4とのずれ角をθ
3、金属磁性膜5の膜厚をhとしたときに、フェライト
基板4のエッジ位置P3のオフセット量wfは、以下の
式1に示すようになる。また、疑似ギャップによる影響
が生じる領域L2は、以下の式2に示すようになる。
In the magnetic head 1, it is desirable that the edge positions P1 and P2 of the metal magnetic film 5 are shifted from the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4 in the same direction as the azimuth angle. As a result, as shown in FIG. 6, the width of the recording track is W, the azimuth angle is θ2, and the deviation angle between the edge positions P1, P2 and the edge positions P3, P4 is θ.
3. When the thickness of the metal magnetic film 5 is h, the offset amount wf of the edge position P3 of the ferrite substrate 4 is expressed by the following equation 1. A region L2 affected by the pseudo gap is represented by the following expression (2).

【0030】 wf=h・sin(θ2+θ3) ・・・(式1) L2=W−wf=W−h・sin(θ2+θ3) ・・・(式2) したがって、アジマス角θ2とエッジ位置のずれ角θ3
との和に応じてオフセット量wfを大きくすることがで
き、領域L2を小さくすることができる。
Wf = h · sin (θ2 + θ3) (Equation 1) L2 = W−wf = W−h · sin (θ2 + θ3) (Equation 2) Accordingly, the azimuth angle θ2 and the deviation angle of the edge position θ3
, The offset amount wf can be increased, and the area L2 can be reduced.

【0031】逆に、金属磁性膜5のエッジ位置P1,P
2を、フェライト基板4のエッジ位置P3,P4に対し
て、アジマス角と異なる方向にずらした場合には、図7
に示すように、フェライト基板4のエッジ位置P3のオ
フセット量wfは、以下の式3に示すようになる。ま
た、疑似ギャップによる影響が生じる領域L2は、以下
の式4に示すようになる。
Conversely, the edge positions P1, P of the metal magnetic film 5
7 is shifted in a direction different from the azimuth angle with respect to the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4, FIG.
As shown in the above, the offset amount wf of the edge position P3 of the ferrite substrate 4 is expressed by the following expression 3. A region L2 in which the influence of the pseudo gap occurs is represented by the following Expression 4.

【0032】 wf=h・|sin(θ2−θ3)| ・・・(式3) L2=W−wf=W−h・|sin(θ2−θ3)| ・・・(式4) すなわち、この場合には、アジマス角θ2とエッジ位置
のずれ角θ3との差に応じてオフセット量wfが決定さ
れてしまうため、領域L2を小さくするためには、エッ
ジ位置のずれ角θ3を上の場合と比較して大きくしなく
てはならなくなってしまう。
Wf = h · | sin (θ2−θ3) | (Expression 3) L2 = W−wf = Wh · | sin (θ2−θ3) | (Expression 4) In this case, the offset amount wf is determined according to the difference between the azimuth angle θ2 and the deviation angle θ3 of the edge position. You have to make it bigger.

【0033】また、磁気ヘッド1は、一対の磁気コア半
体2,3が突合せ面において金属磁性膜5同士をずらし
て突き合わされるとともに、磁気ギャップにおいて、金
属磁性膜5のエッジ位置P1,P2が、フェライト基板
4のエッジ位置P3,P4に対して、金属磁性膜5同士
のずれ方向と同じ方向にずらして形成されていることが
望ましい。磁気ヘッド1は、一対の磁気コア半体2,3
が金属磁性膜5同士をずらして突き合わされていること
により、図21及び図22で説明したように、再生動作
時に、隣接する記録トラックからのクロストークを低減
することができる。このとき、さらに、金属磁性膜5の
エッジ位置P1,P2は、フェライト基板4のエッジ位
置P3,P4に対して、金属磁性膜5同士のずれ方向と
同じ方向にずれていることにより、疑似ギャップによる
影響が生じる領域L2を小さくすることができる。
In the magnetic head 1, a pair of magnetic core halves 2 and 3 are abutted against each other with the metal magnetic films 5 shifted from each other, and edge positions P1 and P2 of the metal magnetic film 5 in the magnetic gap. Are desirably formed in the same direction as the shift directions of the metal magnetic films 5 with respect to the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4. The magnetic head 1 includes a pair of magnetic core halves 2 and 3
Since the metal magnetic films 5 are abutted with the metal magnetic films 5 shifted from each other, as described with reference to FIGS. 21 and 22, it is possible to reduce the crosstalk from the adjacent recording tracks during the reproducing operation. At this time, the edge positions P1 and P2 of the metal magnetic film 5 further deviate from the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4 in the same direction as the direction in which the metal magnetic films 5 deviate. In this case, the area L2 in which the influence of the light is generated can be reduced.

【0034】ところで、磁気ヘッド1は、上述したよう
に一対の磁気コア半体2,3が金属磁性膜5同士をずら
して突き合わされている場合に、サイドイレーズ現象に
よる影響を考慮する必要がある。以下では、この点につ
いて、本発明者が検討した結果について説明する。
Incidentally, in the magnetic head 1, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are butted with the metal magnetic films 5 shifted as described above, it is necessary to consider the influence of the side erase phenomenon. . In the following, a description will be given of results obtained by the present inventor regarding this point.

【0035】金属磁性膜5同士がずらして突き合わされ
ている磁気ヘッド1において、磁気ギャップの端部で生
じるサイドイレーズに必要となる磁界の大きさは、図8
に模式的に示すように、対向する磁気コアとの距離xに
依存すると考えられる。なお、図8は、磁気ヘッド1に
おける磁気ギャップの端部近傍を拡大して示す模式図で
あり、フェライト基板5及び非磁性薄膜7を省略して示
す。
In the magnetic head 1 in which the metal magnetic films 5 are staggered against each other, the magnitude of the magnetic field required for the side erase generated at the end of the magnetic gap is shown in FIG.
As schematically shown in FIG. 3, it is considered that the distance depends on the distance x between the magnetic core and the magnetic core. FIG. 8 is an enlarged schematic view showing the vicinity of the end of the magnetic gap in the magnetic head 1, in which the ferrite substrate 5 and the nonmagnetic thin film 7 are omitted.

【0036】本発明者は、検討を進めた結果、金属磁性
膜5の端部における丸み部の終端位置P5と、この金属
磁性膜5に対向する金属磁性膜5との距離cが、サイド
イレーズに影響を及ぼす距離xよりも小さい場合には、
サイドイレーズが生じる幅yが、金属磁性膜5の斜面の
傾きaと、金属磁性膜5のエッジ位置(平坦部の終端位
置)P1から丸み部の終端位置P5までのトラック幅方
向の距離bとを用いて、以下の式5に示すように一次近
似することができることを見出した。
As a result of study, the present inventor has found that the distance c between the end position P5 of the rounded portion at the end of the metal magnetic film 5 and the metal magnetic film 5 facing the metal magnetic film 5 is equal to the side erase. Is smaller than the distance x that affects
The width y at which the side erase occurs is the slope a of the slope of the metal magnetic film 5 and the distance b in the track width direction from the edge position (end position of the flat portion) P1 of the metal magnetic film 5 to the end position P5 of the rounded portion. It has been found that a first-order approximation can be made as shown in the following Expression 5 using

【0037】y=ax+b ・・・(式5) したがって、磁気ヘッド1において、サイドイレーズに
よる影響を低減するためには、金属磁性膜5の端部にお
ける丸み部の終端位置P5を、この金属磁性膜5のエッ
ジ位置P1に近づけることにより、距離bを小さくする
ことが有効であると考えられる。
Y = ax + b (Equation 5) Therefore, in the magnetic head 1, in order to reduce the influence of side erasure, the end position P5 of the rounded portion at the end of the metal magnetic film 5 is set to It is considered effective to reduce the distance b by approaching the edge position P1 of the film 5.

【0038】磁気ヘッド1では、図3にも示すように、
金属磁性膜5のエッジ位置P1,P2をフェライト基板
4のエッジ位置P3,P4に対してずらして形成するに
際して、後述するように斜め方向からスパッタリングを
行うことによって、エッジ位置P1側の丸み部を小さく
することができる。この結果、エッジ位置P1と丸み部
の終端位置P5との距離bを小さくすることができ、記
録時におけるサイドイレーズ現象による影響を低減する
ことができる。
In the magnetic head 1, as shown in FIG.
When the edge positions P1 and P2 of the metal magnetic film 5 are shifted from the edge positions P3 and P4 of the ferrite substrate 4, sputtering is performed in an oblique direction as described later, so that the rounded portion on the edge position P1 side is formed. Can be smaller. As a result, the distance b between the edge position P1 and the end position P5 of the round portion can be reduced, and the influence of the side erase phenomenon at the time of recording can be reduced.

【0039】すなわち、磁気ヘッド1では、再生時にお
ける隣接する記録トラックからのクロストークを低減す
る目的で、一対の磁気コア半体2,3の金属磁性膜5同
士をずらして突き合わせた場合であっても、この金属磁
性膜5同士のずれ方向を、金属磁性膜5のエッジ位置P
1とフェライト基板4のエッジ位置P3とのずれ方向と
同じ方向とすることによって、サイドイレーズ現象によ
る影響を低減することができる。
That is, in the magnetic head 1, the metal magnetic films 5 of the pair of magnetic core halves 2 and 3 are shifted and butted to reduce crosstalk from adjacent recording tracks during reproduction. However, the direction of displacement between the metal magnetic films 5 is determined by the edge position P of the metal magnetic film 5.
1 and the edge direction P3 of the ferrite substrate 4 are set in the same direction as the shift direction, so that the influence of the side erase phenomenon can be reduced.

【0040】次に、以上で説明した磁気ヘッド1の製造
方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。磁
気ヘッド1を製造する際には、先ず、複数個の磁気コア
半体2,3を同一基板上に形成する。そして、この基板
を一対貼り合わせ、個々の磁気ヘッド1に切り離すこと
により、磁気ヘッド1が完成する。
Next, a method for manufacturing the magnetic head 1 described above will be described in detail with reference to the drawings. When manufacturing the magnetic head 1, first, a plurality of magnetic core halves 2 and 3 are formed on the same substrate. Then, the magnetic head 1 is completed by bonding a pair of the substrates and separating the substrates into individual magnetic heads 1.

【0041】先ず、図9に示すように、略平板状の基板
20を用意する。この基板20は、磁気ヘッド1のフェ
ライト基板4となるものであり、例えば、厚さが2mm
程度とされ、長さ及び幅が30mm程度とされる。基板
20は、例えば、Mn−Zn単結晶フェライトや、Ni
−Znフェライトなどの材料により形成されていればよ
い。また、多結晶フェライト材料を用いてもよいし、単
結晶フェライト材料と多結晶フェライト材料とを接合し
た基板材料を用いてもよい。また、基板20の端部に
は、後の工程で各部の位置合わせを容易とするために、
位置決め用切欠部20aを形成しておいてもよい。
First, as shown in FIG. 9, a substantially flat substrate 20 is prepared. The substrate 20 is to be the ferrite substrate 4 of the magnetic head 1 and has a thickness of, for example, 2 mm.
And the length and width are about 30 mm. The substrate 20 is made of, for example, Mn—Zn single crystal ferrite, Ni
-It may be formed of a material such as Zn ferrite. Further, a polycrystalline ferrite material may be used, or a substrate material in which a single crystal ferrite material and a polycrystalline ferrite material are joined may be used. Further, in order to facilitate alignment of each part in a later step,
The positioning notch 20a may be formed.

【0042】次に、図10に示すように、基板20上
に、ガラス溝21及び巻き線溝22を形成する。巻き線
溝22は、最終的に磁気ヘッド1における巻き線窓1c
となるものである。
Next, as shown in FIG. 10, a glass groove 21 and a winding groove 22 are formed on the substrate 20. The winding groove 22 is finally connected to the winding window 1 c of the magnetic head 1.
It is what becomes.

【0043】次に、図11に示すように、基板20上
に、ガラス溝21及び巻き線溝22に対して垂直な方向
に、スライサー等を用いてトラック幅規制溝23を形成
する。このトラック幅規制溝23は、最終的に磁気ヘッ
ド1において、低融点ガラス6を充填する溝部となるも
のであり、磁気ギャップの幅を規制するフェライト基板
4の傾斜面となるものである。そして、トラック幅規制
溝23を形成後に、基板20の表面に対して鏡面研磨加
工を施し、図11に示すように、この基板20をガラス
溝21及び巻き線溝22が形成された方向に切断するこ
とにより、一対の磁気コア半体ブロック24を形成す
る。
Next, as shown in FIG. 11, a track width regulating groove 23 is formed on the substrate 20 in a direction perpendicular to the glass groove 21 and the winding groove 22 by using a slicer or the like. The track width regulating groove 23 finally serves as a groove for filling the low melting point glass 6 in the magnetic head 1 and serves as an inclined surface of the ferrite substrate 4 for regulating the width of the magnetic gap. After the track width regulating groove 23 is formed, the surface of the substrate 20 is subjected to mirror polishing, and the substrate 20 is cut in the direction in which the glass groove 21 and the winding groove 22 are formed as shown in FIG. Thus, a pair of magnetic core half blocks 24 is formed.

【0044】次に、磁気コア半体ブロック24に対し
て、斜め方向にスパッタリングを行うことにより、金属
磁性膜5を成膜する。このとき、例えば、図12に示す
ように、磁気コア半体ブロック24を磁性材ターゲット
25に対して傾けることによって、斜め方向にスパッタ
リングを行うことができる。また、図13に示すよう
に、所定の位置に開口部26aを有するマスク板26
を、磁気コア半体ブロック24と磁性材ターゲット25
との間に配し、この開口部26aを通して、斜め方向に
スパッタリングを行うとしてもよい。
Next, a metal magnetic film 5 is formed on the magnetic core half block 24 by sputtering in an oblique direction. At this time, for example, as shown in FIG. 12, by tilting the magnetic core half block 24 with respect to the magnetic material target 25, sputtering can be performed in an oblique direction. As shown in FIG. 13, a mask plate 26 having an opening 26a at a predetermined position is provided.
The magnetic core half block 24 and the magnetic material target 25
And sputtering may be performed in an oblique direction through the opening 26a.

【0045】本発明では、このように、磁気コア半体ブ
ロック24に対して斜め方向にスパッタリングを行うこ
とにより、磁気ヘッド1の磁気ギャップとなる部位にお
いて、フェライト基板4のエッジ位置に対して所定の方
向に所定のずれ量だけエッジ位置をずらして金属磁性膜
5を成膜することができる。また、この結果として、金
属磁性膜5のエッジ位置P1における丸み部のトラック
方向の幅bを低減することができる。したがって、本発
明によれば、記録再生特性が向上した磁気ヘッド1を製
造するに際して、特別な装置が不要であり、製造工程が
増えることもないことから、極めて低コストで製造する
ことができる。
According to the present invention, by sputtering the magnetic core half block 24 in the oblique direction as described above, a predetermined position with respect to the edge position of the ferrite substrate 4 is determined at the position corresponding to the magnetic gap of the magnetic head 1. The metal magnetic film 5 can be formed by shifting the edge position by a predetermined amount in the direction of. As a result, the width b in the track direction of the round portion at the edge position P1 of the metal magnetic film 5 can be reduced. Therefore, according to the present invention, when manufacturing the magnetic head 1 with improved recording / reproducing characteristics, no special device is required and the number of manufacturing steps is not increased, so that the manufacturing can be performed at extremely low cost.

【0046】なお、フェライト基板4のエッジ位置P1
に対する金属磁性膜5のエッジ位置P3のずれ角(図6
におけるθ3)は、5°〜45°であることが好まし
い。ずれ角θ3が5°未満である場合には、本発明によ
る効果を十分に得ることができず、θ3が45°を超え
るように金属磁性膜5を精度よく成膜することは困難で
ある。
The edge position P1 of the ferrite substrate 4
Of the edge position P3 of the metal magnetic film 5 with respect to
Is preferably 5 ° to 45 °. If the shift angle θ3 is less than 5 °, the effect of the present invention cannot be sufficiently obtained, and it is difficult to form the metal magnetic film 5 with high accuracy so that θ3 exceeds 45 °.

【0047】また、金属磁性膜5を形成する材料として
は、例えば、Fe−Ru−Ga−Si合金(SMX合
金)やセンダストなどを用いることができる。また、こ
れらSMX合金やセンダストに酸素や窒素を添加して形
成してもよい。或いは、各種の結晶質磁性膜、Fe系微
結晶膜、Co系微結晶膜として形成してもよい。
As a material for forming the metal magnetic film 5, for example, an Fe-Ru-Ga-Si alloy (SMX alloy), sendust, or the like can be used. Further, oxygen or nitrogen may be added to these SMX alloys or sendust to form them. Alternatively, they may be formed as various crystalline magnetic films, Fe-based microcrystalline films, and Co-based microcrystalline films.

【0048】また、金属磁性膜5を成膜する前に、この
金属磁性膜5とフェライト基板4との付着力を向上させ
るために、下地膜を形成しておいてもよい。下地膜とし
ては、例えば、SiO2やTa25等の酸化物材料、S
34等の窒化物材料、Cr,Al,Si,Pt等の金
属材料、或いはこれら金属の合金材料などを用いること
ができる。また、これら材料を積層して用いてもよい。
Before the metal magnetic film 5 is formed, a base film may be formed to improve the adhesion between the metal magnetic film 5 and the ferrite substrate 4. As the base film, for example, an oxide material such as SiO 2 or Ta 2 O 5 ,
A nitride material such as i 3 N 4 , a metal material such as Cr, Al, Si, and Pt, or an alloy material of these metals can be used. Further, these materials may be stacked and used.

【0049】次に、基板20の主面に露出する金属磁性
膜5上に、非磁性薄膜7を成膜する。非磁性薄膜7は、
例えばSiO2による単層膜とすればよい。また、後の
工程で充填する低融点ガラス6との反応防止膜として、
非磁性薄膜7の上層に、例えばCr膜などを成膜しても
よい。
Next, a non-magnetic thin film 7 is formed on the metal magnetic film 5 exposed on the main surface of the substrate 20. The non-magnetic thin film 7
For example, a single-layer film of SiO 2 may be used. Further, as a reaction prevention film with the low melting point glass 6 to be filled in a later step,
For example, a Cr film or the like may be formed on the nonmagnetic thin film 7.

【0050】次に、図14に示すように、非磁性薄膜7
が形成された磁気コア半体ブロック24を接合一体化し
て、磁気コアブロック27を形成する。このとき、ガラ
ス溝21及び巻き線溝22に低融点ガラス6を充填し、
一対の磁気コア半体ブロック24同士を圧着しながら5
00℃〜800℃に加熱することによって、一対の磁気
コア半体ブロック24を接合する。
Next, as shown in FIG.
The magnetic core half block 24 formed with is formed and joined together to form a magnetic core block 27. At this time, the glass groove 21 and the winding groove 22 are filled with the low-melting glass 6,
5 while pressing the pair of magnetic core half blocks 24 together.
By heating to 00 ° C. to 800 ° C., the pair of magnetic core half blocks 24 are joined.

【0051】また、このとき、一対の磁気コア半体ブロ
ック24上に形成された金属磁性膜5をずらして接合す
ることが望ましい。このときのずれ量は、例えば、0.
5μm〜2μm程度とする。
At this time, it is preferable that the metal magnetic films 5 formed on the pair of magnetic core half-blocks 24 are joined while being shifted. The shift amount at this time is, for example, 0.
It is about 5 μm to 2 μm.

【0052】次に、図15に示すように、磁気コアブロ
ック27における、金属磁性膜5同士の突合せ面が露出
する側の面に対して、円筒研磨加工を施す。これによ
り、この面が磁気ヘッド1における摺動面1aとなる。
また、この摺動面1aの両端部に、巻き線補助溝28を
形成する。巻き線補助溝28は、最終的に磁気ヘッド1
における巻き線補助溝1dとなるものである。
Next, as shown in FIG. 15, cylindrical polishing is performed on the surface of the magnetic core block 27 where the abutting surfaces of the metal magnetic films 5 are exposed. As a result, this surface becomes the sliding surface 1a of the magnetic head 1.
Further, winding auxiliary grooves 28 are formed at both ends of the sliding surface 1a. The winding auxiliary groove 28 is finally
In the auxiliary winding groove 1d.

【0053】次に、図16に示すように、磁気コアブロ
ック27に対して当接幅規制溝1bを形成し、個々の磁
気ヘッド1に切断することにより、磁気ヘッド1が切断
する。このとき、当接幅規制溝1bを形成する方向、及
び個々の磁気ヘッド1に切断する方向は、磁気ヘッド1
が所望とするアジマス角を有する方向とする。すなわ
ち、当接幅規制溝1bを形成する方向、及び個々の磁気
ヘッド1に切断する方向によって、磁気ヘッド1のアジ
マス角が決定される。アジマス角は、例えば、±20°
程度とすればよい。
Next, as shown in FIG. 16, a contact width regulating groove 1b is formed in the magnetic core block 27, and the magnetic head 1 is cut by cutting the individual magnetic heads 1. At this time, the direction in which the contact width regulating groove 1b is formed, and the direction in which the individual magnetic heads 1 are cut, are
Is the direction having the desired azimuth angle. That is, the azimuth angle of the magnetic head 1 is determined by the direction in which the contact width regulating groove 1b is formed and the direction in which the individual magnetic heads 1 are cut. The azimuth angle is, for example, ± 20 °
It should be about the degree.

【0054】以上のようにして磁気ヘッド1が完成す
る。
The magnetic head 1 is completed as described above.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上で説明したように、本発明に係る磁
気ヘッドは、磁性膜のエッジ位置が基板のエッジ位置に
対してずれていることによって、疑似ギャップが形成さ
れやすい磁性膜と基板との界面を、記録トラックからオ
フセットすることができる。このため、疑似ギャップに
よる影響を低減して、再生特性を向上させることができ
る。さらに、本発明に係る磁気ヘッドでは、再生時のク
ロストークを低減する目的で、一対の磁気コア半体同士
が突合せ面において磁性膜同士をずらして突き合わせる
場合であっても、この磁性膜同士のずれ方向と、磁性膜
のエッジ位置と基板のエッジ位置とのずれ方向とを同じ
方向とすることにより、記録時におけるサイドイレーズ
を低減することができる。したがって、本発明に係る磁
気ヘッドは、高記録密度化に対応するためにトラック幅
を狭くした場合であっても、良好な記録再生特性を確保
することが可能となる。
As described above, in the magnetic head according to the present invention, since the edge position of the magnetic film is shifted from the edge position of the substrate, the magnetic film and the substrate are likely to form a pseudo gap. Can be offset from the recording track. Therefore, the influence of the pseudo gap can be reduced, and the reproduction characteristics can be improved. Further, in the magnetic head according to the present invention, even when the pair of magnetic core halves are shifted from each other on the abutting surface to abut against each other for the purpose of reducing crosstalk at the time of reproduction, the magnetic films are not attached to each other. By making the direction of the shift and the direction of the shift between the edge position of the magnetic film and the edge position of the substrate the same, it is possible to reduce the side erase during recording. Therefore, the magnetic head according to the present invention can ensure good recording / reproducing characteristics even when the track width is narrowed in order to cope with higher recording density.

【0056】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
によれば、基板に対して斜め方向にスパッタリングを行
うだけで、疑似ギャップによる影響が低減されて、記録
再生特性が向上した磁気ヘッドを製造することができ
る。すなわち、複雑なプロセスを経ることなく、良好な
記録再生特性を示す磁気ヘッドを低コストで製造するこ
とが可能となる。
Further, according to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, the effect of the pseudo gap is reduced by only performing sputtering in an oblique direction with respect to the substrate to manufacture a magnetic head having improved recording / reproducing characteristics. can do. That is, it is possible to manufacture a magnetic head exhibiting good recording / reproducing characteristics at low cost without going through a complicated process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した磁気ヘッドを示す概略斜視図
である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a magnetic head to which the present invention is applied.

【図2】同磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍を拡大して示
す要部拡大平面図である。
FIG. 2 is an enlarged plan view of a main part, showing the vicinity of a magnetic gap of the magnetic head in an enlarged manner.

【図3】同磁気ヘッドにおけるフェライト基板と金属磁
性膜との積層構造を説明するために示す概略図である。
FIG. 3 is a schematic view illustrating a laminated structure of a ferrite substrate and a metal magnetic film in the magnetic head.

【図4】同磁気ヘッドにより低減される疑似ギャップに
よる影響を説明するための図であり、本発明を適用しな
い場合について示す概略図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining an effect of a pseudo gap reduced by the magnetic head, and is a schematic diagram showing a case where the present invention is not applied.

【図5】同磁気ヘッドにより低減される疑似ギャップに
よる影響を説明するための図であり、本発明を適用した
場合について示す概略図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining an effect of a pseudo gap reduced by the magnetic head, and is a schematic diagram showing a case where the present invention is applied.

【図6】同磁気ヘッドにおける金属磁性膜のエッジ位置
の記録トラックからのオフセット量を説明するための図
である。
FIG. 6 is a view for explaining an offset amount from a recording track of an edge position of a metal magnetic film in the magnetic head.

【図7】同磁気ヘッドにおける金属磁性膜のエッジ位置
の記録トラックからのオフセット量を説明するための図
である。
FIG. 7 is a diagram for explaining an offset amount of a position of an edge of a metal magnetic film from a recording track in the magnetic head.

【図8】同磁気ヘッドにおける金属磁性膜のエッジ位置
のサイドイレーズ量を説明するために用いる模式図であ
る。
FIG. 8 is a schematic diagram used to explain a side erase amount at an edge position of a metal magnetic film in the magnetic head.

【図9】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図で
あり、基板を示す斜視図である。
FIG. 9 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing the substrate.

【図10】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、基板上にガラス溝及び巻き線溝を形成した状態
を示す斜視図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where a glass groove and a winding groove are formed on the substrate.

【図11】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、トラック幅規制溝を形成した状態を示す斜視図
である。
FIG. 11 is a diagram for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where a track width regulating groove is formed.

【図12】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、基板上に金属磁性膜を斜めにスパッタリングす
る場合の一例を示す図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a diagram illustrating an example in which a metal magnetic film is obliquely sputtered on a substrate.

【図13】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、基板上に金属磁性膜を斜めにスパッタリングす
る場合の別の一例を示す図である。
FIG. 13 is a diagram for explaining the method of manufacturing the magnetic head, and is a diagram illustrating another example in which a metal magnetic film is obliquely sputtered on a substrate.

【図14】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、磁気コア半体ブロックを接合して磁気コアブロ
ックを形成した状態を示す斜視図である。
FIG. 14 is a diagram for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where the magnetic core blocks are formed by joining the magnetic core half blocks.

【図15】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、磁気コアブロックに対して円筒研磨加工を施
し、巻き線補助溝28を形成した状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 15 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state in which the magnetic core block is subjected to cylindrical polishing to form the winding auxiliary groove 28.

【図16】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、磁気コアブロックを個々の磁気ヘッドに切断し
た状態を示す斜視図である。
FIG. 16 is a view for explaining the method for manufacturing the same magnetic head, and is a perspective view showing a state where the magnetic core block is cut into individual magnetic heads.

【図17】従来の積層型ヘッドの一例を示す図であり、
磁気ギャップ近傍を拡大して示す概略図である。
FIG. 17 is a view showing an example of a conventional laminated head.
It is the schematic which expands and shows the magnetic gap vicinity.

【図18】従来のTSSヘッドの一例を示す図であり、
磁気ギャップ近傍を拡大して示す概略図である。
FIG. 18 is a diagram showing an example of a conventional TSS head;
It is the schematic which expands and shows the magnetic gap vicinity.

【図19】従来の平行膜MIGヘッドの一例を示す図で
あり、磁気ギャップ近傍を拡大して示す概略図である。
FIG. 19 is a diagram showing an example of a conventional parallel film MIG head, and is a schematic diagram showing an enlarged view of the vicinity of a magnetic gap.

【図20】従来の平行膜MIGヘッドの別の一例を示す
図であり、磁気ギャップ近傍を拡大して示す概略図であ
る。
FIG. 20 is a diagram showing another example of the conventional parallel film MIG head, and is a schematic diagram showing the vicinity of a magnetic gap in an enlarged manner.

【図21】従来の平行膜MIGヘッドにおいて、金属磁
性膜同士のずれ方向とクロストークとの関係を説明する
ために用いる概略図である。
FIG. 21 is a schematic diagram used to explain the relationship between the direction of displacement between metal magnetic films and crosstalk in a conventional parallel film MIG head.

【図22】従来の平行膜MIGヘッドにおいて、金属磁
性膜同士のずれ方向とクロストークとの関係を説明する
ために用いる概略図である。
FIG. 22 is a schematic view used to explain the relationship between the direction of displacement between metal magnetic films and crosstalk in a conventional parallel film MIG head.

【図23】サイドイレーズが低減された従来の磁気ヘッ
ドの一例を示す図であり、磁気ギャップ近傍を拡大して
示す概略図である。
FIG. 23 is a diagram showing an example of a conventional magnetic head in which side erase is reduced, and is a schematic diagram showing an enlarged view of the vicinity of a magnetic gap.

【図24】サイドイレーズが低減された従来の磁気ヘッ
ドの別の一例を示す図であり、磁気ギャップ近傍を拡大
して示す概略図である。
FIG. 24 is a diagram showing another example of a conventional magnetic head in which side erase is reduced, and is a schematic diagram showing an enlarged view of the vicinity of a magnetic gap.

【図25】サイドイレーズが低減された従来の磁気ヘッ
ドのさらに別の一例を示す図であり、磁気ギャップ近傍
を拡大して示す概略図である。
FIG. 25 is a diagram showing still another example of a conventional magnetic head in which side erase is reduced, and is a schematic diagram showing an enlarged view of the vicinity of a magnetic gap.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気ヘッド、2,3 磁気コア半体、4 フェライ
ト基板、5 金属磁性膜、6 低融点ガラス、7 非磁
性薄膜
1 magnetic head, 2, 3 magnetic core half, 4 ferrite substrate, 5 metal magnetic film, 6 low melting point glass, 7 non-magnetic thin film

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に磁性膜が成膜されてなる一対の
磁気コア半体が、上記磁性膜の成膜面と平行な突合せ面
同士で非磁性膜を介して突き合わせることにより磁気ギ
ャップが形成されてなる磁気ヘッドにおいて、 上記磁気ギャップは、その両端部において上記基板が突
合せ面から深さ方向に切り欠かれていることによって、
幅が規制されているとともに、 上記磁気ギャップにおいて、上記磁性膜のエッジ位置
は、上記基板のエッジ位置に対して、所定の方向に所定
のずれ量だけずれていることを特徴とする磁気ヘッド。
1. A magnetic gap formed by a pair of magnetic core halves each having a magnetic film formed on a substrate abutting each other via a non-magnetic film at abutting surfaces parallel to a film forming surface of the magnetic film. Wherein the magnetic gap is formed by cutting the substrate at both ends in the depth direction from the abutting surface.
A magnetic head, wherein the width is regulated, and in the magnetic gap, an edge position of the magnetic film is shifted from an edge position of the substrate by a predetermined amount in a predetermined direction.
【請求項2】 上記磁気ギャップにおいて、上記磁性膜
のエッジ位置は、上記基板のエッジ位置に対して、アジ
マス角と同方向にずれていることを特徴とする請求項1
記載の磁気ヘッド。
2. The magnetic gap according to claim 1, wherein the edge position of the magnetic film is shifted in the same direction as the azimuth angle with respect to the edge position of the substrate.
The magnetic head as described.
【請求項3】 上記一対の磁気コア半体は、上記突合せ
面において、上記磁性膜同士をずらして突き合わされて
おり、 上記磁気ギャップにおいて、上記磁性膜のエッジ位置
は、上記基板のエッジ位置に対して、上記磁性膜同士の
ずれ方向と同方向にずれていることを特徴とする請求項
1記載の磁気ヘッド。
3. The pair of magnetic core halves are butted against each other on the butting surface so that the magnetic films are shifted from each other. In the magnetic gap, the edge position of the magnetic film is set at the edge position of the substrate. 2. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic films are shifted in the same direction as the shift directions of the magnetic films.
【請求項4】 基板上に磁性膜を成膜してなる一対の磁
気コア半体を、上記磁性膜の成膜面と平行な突合せ面同
士で非磁性膜を介して突き合わせることにより磁気ギャ
ップを形成してなる磁気ヘッドの製造方法において、 上記基板に上記磁気ギャップの幅を規制するトラック幅
規制溝を形成する溝形成工程と、 上記基板に対して斜め方向にスパッタリングを行うこと
により、上記磁気ギャップとなる部位において、上記基
板のエッジ位置に対して所定の方向に所定のずれ量だけ
エッジ位置をずらして上記磁性膜を成膜する成膜工程と
を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
4. A magnetic gap is formed by abutting a pair of magnetic core halves, each having a magnetic film formed on a substrate, at a butting surface parallel to a film forming surface of the magnetic film via a non-magnetic film. Forming a track width regulating groove for regulating the width of the magnetic gap in the substrate, and performing sputtering in an oblique direction with respect to the substrate, A step of shifting the edge position by a predetermined amount in a predetermined direction with respect to the edge position of the substrate in a portion to be a magnetic gap to form the magnetic film. Production method.
【請求項5】 上記成膜工程においては、上記基板を磁
性材ターゲットに対して傾けることにより、斜め方向に
スパッタリングを行うことを特徴とする請求項4記載の
磁気ヘッドの製造方法。
5. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 4, wherein in the film forming step, sputtering is performed in an oblique direction by tilting the substrate with respect to a magnetic material target.
【請求項6】 上記成膜工程においては、所定の位置に
開口部を有するマスク板を上記基板と磁性材ターゲット
との間に配し、上記開口部を通して斜め方向にスパッタ
リングを行うことを特徴とする請求項4記載の磁気ヘッ
ドの製造方法。
6. In the film forming step, a mask plate having an opening at a predetermined position is disposed between the substrate and the magnetic material target, and sputtering is performed obliquely through the opening. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 4.
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