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JP2001223325A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001223325A
JP2001223325A JP2000218824A JP2000218824A JP2001223325A JP 2001223325 A JP2001223325 A JP 2001223325A JP 2000218824 A JP2000218824 A JP 2000218824A JP 2000218824 A JP2000218824 A JP 2000218824A JP 2001223325 A JP2001223325 A JP 2001223325A
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JP
Japan
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semiconductor device
insulating substrate
insulating
conductive
conductive wiring
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JP2000218824A
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Japanese (ja)
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Kenzo Hatada
賢造 畑田
Kozo Sato
浩三 佐藤
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Shindo Denshi Kogyo KK
Original Assignee
Shindo Denshi Kogyo KK
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Landscapes

  • Combinations Of Printed Boards (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simply reliably connect in continuity between the insulating boards by visually confirming a connecting state of laminated semiconductor devices to easily inspect it, and reducing number of component of the device to simplify its constitution. SOLUTION: The semiconductor device comprises a plurality of insulating boards 10 for mounting electronic components 12 and sequentially laminated. The device further comprises first conductive wirings 11 projected from a peripheral edge of the respective boards 10 to be formed by bending in a predetermined shape, and second conductive wirings 11 projected from a peripheral edge of an uppermost or lowermost layer of the laminated boards 10 to be formed and extended to the board 10 of the lowermost or uppermost layer. In this case, the first and second boards 10 are connected in continuity at the peripheral edges.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、電子部品が搭載
された複数の絶縁基板を順次積層してなる半導体装置に
関し、特に各絶縁基板の周縁部にて曲げられる導電性配
線を、各絶縁基板のうちの最上層から最下層または最下
層から最上層まで延在する導電性配線によって、当該絶
縁基板の周縁部で導通接続してなる半導体装置に適用し
て好適である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device in which a plurality of insulating substrates on which electronic components are mounted are sequentially laminated, and more particularly, to a conductive wiring which is bent at the periphery of each insulating substrate. Of these, it is preferable to apply the present invention to a semiconductor device which is electrically connected to the periphery of the insulating substrate by a conductive wiring extending from the uppermost layer to the lowermost layer or from the lowermost layer to the uppermost layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、エレクトロニクス機器は、軽薄短
小傾向を強め、高機能集積化および信号処理の高速化が
進んでいる。これに伴って半導体装置の形状も、例えば
QFP(Quad Flat Package)等のようなパッケージの
側面から導電性配線であるリード端子をガルウィング状
に引き出した形状から、例えばBGA(Ball Grid Arra
y)等のようなパッケージの下面側に金バンプ等を用い
て電極を形成した形状にすることにより、このような半
導体装置をマザー基板に実装する際の半導体装置の占有
面積を格段的に小型化し得る形状に移行してきている。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic equipment has been becoming lighter, thinner and smaller, and high-performance integration and high-speed signal processing have been advanced. Along with this, the shape of the semiconductor device is changed from a shape in which lead terminals, which are conductive wiring, are drawn out from the side surface of a package such as a QFP (Quad Flat Package) in a gull wing shape, for example, a BGA (Ball Grid Arra).
By forming electrodes using gold bumps or the like on the lower surface side of the package as shown in y), etc., the area occupied by the semiconductor device when mounting such a semiconductor device on a motherboard is significantly reduced. It is shifting to a shape that can be transformed.

【0003】そして、このBGAよりもさらに小型化し
た半導体装置として、例えばセラミックスからなる絶縁
基板としてのリジッド基板等に電子部品である半導体チ
ップをフリップチップ実装法などの手法を用いて実装し
てなるCSP(Chip Size Package)等が注目を集めて
いる。
[0003] As a semiconductor device further downsized than the BGA, for example, a semiconductor chip as an electronic component is mounted on a rigid substrate or the like as an insulating substrate made of ceramics by a method such as a flip chip mounting method. CSP (Chip Size Package) is attracting attention.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の半導体装置によると、パッケージを小型化
することにより、マザー基板上におけるこのような半導
体装置1つ分の占有面積を小さくすることはできるもの
の、近年のエレクトロニクス機器への新機能追加に伴
い、マザー基板上に実装される半導体装置の実装点数が
増加し続けていることから、これに対応させてマザー基
板が大型化する問題があった。
However, according to the above-described conventional semiconductor device, it is difficult to reduce the area occupied by one such semiconductor device on the mother substrate by reducing the size of the package. Although it is possible, the number of mounting semiconductor devices mounted on the motherboard has been increasing along with the recent addition of new functions to electronic equipment. Was.

【0005】また、かかる半導体装置では、マザー基板
が大きくなるばかりでなく、主要な半導体装置から他の
半導体装置までのリード端子の長さが極めて長くなった
り、これに伴い信号の遅延、信号の歪み、消費電力の増
大などを招き、所定の電気的性能を得ることが困難な不
都合が生じる結果となる。特に、回路システムが、高速
化、大容量化するメディア機器にあっては、このリード
端子長の短縮は重要な課題であった。
In such a semiconductor device, not only the mother substrate becomes large, but also the length of the lead terminals from the main semiconductor device to other semiconductor devices becomes extremely long. This results in distortion, an increase in power consumption, and the like, resulting in inconvenience that it is difficult to obtain predetermined electrical performance. Particularly, in the case of a media device having a high-speed and large-capacity circuit system, reducing the lead terminal length has been an important issue.

【0006】さらに、マザー基板を小型化したとして
も、マザー基板上における半導体装置1つ分の実装領域
に実装し得る半導体装置の点数は1つであるため、逆に
このマザー基板上に実装し得る半導体装置の点数を限定
するおそれもあった。
Further, even if the mother board is reduced in size, the number of semiconductor devices that can be mounted on a mounting area for one semiconductor device on the mother board is one. There is also a risk of limiting the number of semiconductor devices to be obtained.

【0007】かかる問題を解決する1つの方法として、
従来、例えば特開平10−223683号公報、実開昭63−6115
0号公報および特開平7−106509号公報等に開示されるよ
うに、半導体チップを搭載した絶縁フィルムや絶縁性シ
ートに、配線、はんだボール、インナーリード、バイア
ホールおよびスルーホール等を設け、この絶縁フィルム
や絶縁性シートを順次積層して、その絶縁フィルムや絶
縁性シート間を配線、はんだボール、インナーリード、
バイアホールおよびスルーホール等を介して導通接続す
るものが提案されていた。
As one method for solving such a problem,
Conventionally, for example, JP-A-10-223683, JP-A-63-6115
No. 0 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-106509, etc., provide wiring, solder balls, inner leads, via holes, through holes, and the like on an insulating film or an insulating sheet on which a semiconductor chip is mounted. Insulating films and insulating sheets are sequentially laminated, and wiring, solder balls, inner leads,
There have been proposals for conductive connection via via holes and through holes.

【0008】ところが、これでは、絶縁フィルムや絶縁
性シート間の接続状態を目視確認することが困難であ
り、また積層した絶縁フィルムや絶縁性シートの一部ま
たは全体を樹脂で封止する必要があることから、一部に
不良が生じても修理するのが困難となり、未だ不十分な
問題があった。
However, in this case, it is difficult to visually confirm the connection state between the insulating films and the insulating sheets, and it is necessary to seal a part or the whole of the laminated insulating films and the insulating sheets with a resin. For this reason, it is difficult to repair even if some defects occur, and there is still an insufficient problem.

【0009】また、特開平7−14979号公報等に開示され
るように、半導体メモリを搭載したリードレスのチップ
キャリアを、実装ケースの中に順次絶縁シートを介して
積層し、これら積層したチップキャリアを、その側面に
形成される端面スルーホール電極と、実装ケース内の信
号線とを接触するようにして、導通接続するものも提案
されていた。
Further, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-14979, etc., a leadless chip carrier on which a semiconductor memory is mounted is sequentially stacked in a mounting case via an insulating sheet. There has also been proposed a carrier that is electrically connected to a carrier such that an end face through-hole electrode formed on a side surface thereof contacts a signal line in a mounting case.

【0010】しかし、これでも、積層したチップキャリ
ア間の接続状態を目視確認することが困難であり、また
各チップキャリア同士を接続するために、実装ケース
や、その内部の信号線等が別途必要となる分、部品点数
が増えて構成が煩雑となり、未だ不十分な問題があっ
た。
However, even in this case, it is difficult to visually confirm the connection state between the stacked chip carriers, and a mounting case and signal lines inside the chip case are separately required to connect the chip carriers. Therefore, the number of parts increases, the configuration becomes complicated, and there is still an insufficient problem.

【0011】そこで、この発明の第1の課題は、半導体
装置において、積層した半導体装置間の接続状態を目視
確認して容易に検査し、また半導体装置の部品点数を減
らして構成を簡略化することにより、積層した絶縁基板
間を簡便にかつ確実に導通接続することにある。
Accordingly, a first object of the present invention is to provide a semiconductor device in which the connection state between stacked semiconductor devices is visually checked and easily inspected, and the configuration is simplified by reducing the number of parts of the semiconductor device. Thus, the present invention is to easily and reliably conduct conductive connection between the laminated insulating substrates.

【0012】第2の課題は、導電性配線の一端部と、電
子部品の電極との接続の際に、その導電性配線が曲がる
のを防止することにある。
A second object is to prevent the conductive wiring from bending when one end of the conductive wiring is connected to the electrode of the electronic component.

【0013】第3の課題は、電子部品が搭載された複数
の絶縁基板を安定して積層することにあり、第4の課題
は、それら積層した絶縁基板が、導通接続前に崩れるの
を未然に防止することにある。
A third problem is to stably stack a plurality of insulating substrates on which electronic components are mounted, and a fourth problem is to prevent the stacked insulating substrates from collapsing before conducting connection. It is to prevent.

【0014】第5の課題は、複数の導電性配線が、ばら
けるのを防止することにあり、第6の課題は、電子部品
が搭載された複数の絶縁基板を積層する際、これら絶縁
基板の位置決めを簡便にすることにある。
A fifth problem is to prevent a plurality of conductive wirings from being separated, and a sixth problem is to stack a plurality of insulating substrates on which electronic components are mounted when stacking the plurality of insulating substrates. In order to simplify the positioning of the device.

【0015】第7の課題は、導通接続の際の熱により生
じる内部ひずみに起因して、各絶縁基板における隅部の
導電性配線間に発生する応力集中に、耐え得ることにあ
る。
A seventh object is to be able to withstand stress concentration generated between conductive wires at corners of each insulating substrate due to internal strain caused by heat at the time of conductive connection.

【0016】第8の課題は、部品点数を増やすことな
く、位置決め用のアライメントマークを形成することに
あり、第9の課題は、その位置決め用のアライメントマ
ークを簡単に形成することにある。
An eighth object is to form alignment marks for positioning without increasing the number of parts, and a ninth object is to easily form alignment marks for positioning.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】そのため、請求項1に記
載の発明は、上述した第1の課題を達成すべく、電子部
品が搭載された複数の絶縁基板を順次積層してなる半導
体装置において、各絶縁基板の周縁部から突出し、それ
ぞれ所定形状に曲げて形成する1の導電性配線と、積層
した各絶縁基板のうちの最上層または最下層の周縁部か
ら突出し、最下層または最上層の絶縁基板まで延在して
形成する2の導電性配線とを備え、1および2の絶縁基
板を周縁部で導通接続してなる、ことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device in which a plurality of insulating substrates on which electronic components are mounted are sequentially laminated to achieve the first object. One conductive wiring projecting from the peripheral portion of each insulating substrate, and being formed by bending into a predetermined shape, and projecting from the peripheral portion of the uppermost layer or the lowermost layer of the laminated insulating substrates, and forming the lowermost layer or the uppermost layer. And two conductive wirings extending to the insulating substrate, wherein the first and second insulating substrates are electrically connected at the peripheral edge.

【0018】請求項2に記載の発明は、上述した第2の
課題を達成すべく、電子部品が、各絶縁基板の一面上に
それぞれフリップチップ実装してなる、ことを特徴とす
る。
According to a second aspect of the present invention, in order to achieve the second object, the electronic component is flip-chip mounted on one surface of each insulating substrate.

【0019】請求項3に記載の発明は、上述した第3の
課題を達成すべく、積層する複数の絶縁基板を、順次隣
り合う下層の電子部品上に載置してなる、ことを特徴と
する。
According to a third aspect of the present invention, in order to achieve the third object, a plurality of insulating substrates to be laminated are sequentially mounted on adjacent lower electronic components. I do.

【0020】請求項4に記載の発明は、上述した第4の
課題を達成すべく、隣り合う絶縁基板と電子部品とが接
着剤を介在してなる、ことを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in order to achieve the fourth object, an adjacent insulating substrate and an electronic component are interposed with an adhesive.

【0021】請求項5に記載の発明は、上述した第5の
課題を達成すべく、1および2の導電性配線をそれぞれ
対応する絶縁基板上に複数並べて配列するとともに、最
上層または最下層まで延在する2の導電性配線の先端部
に、これら2の導電性配線を束ねる、ばらけ防止部材を
設けてなる、ことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in order to achieve the above-mentioned fifth object, a plurality of 1 and 2 conductive wirings are arranged and arranged on a corresponding insulating substrate, respectively, and up to an uppermost layer or a lowermost layer. It is characterized in that a dispersion preventing member for bundling these two conductive wirings is provided at the end of the two conductive wirings extending.

【0022】請求項6に記載の発明は、上述した第6の
課題を達成すべく、各絶縁基板の四隅部分に、これら絶
縁基板を積層する際の位置決め用突起を有してなる、こ
とを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in order to achieve the sixth object described above, each of the insulating substrates has, at four corners thereof, positioning projections for laminating these insulating substrates. Features.

【0023】請求項7に記載の発明は、上述の第7の課
題を達成すべく、1および2の導電性配線のうちの隅部
の導電性配線が、それ以外の導電性配線よりも幅広でな
る、ことを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in order to achieve the seventh object, one of the first and second conductive wires is wider than the other conductive wires at the corners. , Characterized by the following.

【0024】請求項8に記載の発明は、上述の第8の課
題を達成すべく、幅広の導電性配線に位置決め用のアラ
イメントマークが形成されてなる、ことを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in order to achieve the eighth object, an alignment mark for positioning is formed on a wide conductive wiring.

【0025】請求項9に記載の発明は、上述の第9の課
題を達成すべく、アライメントマークが丸穴でなる、こ
とを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in order to achieve the ninth object, the alignment mark is formed of a round hole.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ、この発
明の実施の形態について詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0027】図1および図2は、この発明による半導体
装置の外観斜視図および縦断面構成図である。図示半導
体装置は、電子部品であるIC,LSI等の半導体チッ
プ12が搭載されてなる絶縁基板10が、順次下層の半
導体チップ12の上にその上層の絶縁基板10を重ねる
ように、例えば接着剤を介在して積層してなる。また、
この半導体装置における最下層の絶縁基板10の他面側
には、この半導体装置とマザー基板等とを導通接続する
ための電極10Aが、所定の配列で配設してなる。
FIGS. 1 and 2 are an external perspective view and a vertical sectional view of a semiconductor device according to the present invention. In the illustrated semiconductor device, for example, an adhesive such that an insulating substrate 10 on which a semiconductor chip 12 such as an IC or an LSI, which is an electronic component, is mounted is superimposed on the lower semiconductor chip 12 in order. And laminated. Also,
On the other surface side of the lowermost insulating substrate 10 of the semiconductor device, electrodes 10A for electrically connecting the semiconductor device to a mother substrate or the like are arranged in a predetermined arrangement.

【0028】この絶縁基板10は、それぞれガラスエポ
キシや、ポリイミド等からなり、一面上に所定パターン
で導電性配線11が配設され、当該導電性配線11の一
端部11Aに半導体チップ12の電極12Aが、フリッ
プチップ実装法あるいはTAB方式で搭載されることに
より、それぞれモジュールMO1〜MO4を形成してなる。
The insulating substrate 10 is made of glass epoxy, polyimide, or the like. A conductive wiring 11 is disposed on one surface of the insulating substrate 10 in a predetermined pattern. One end 11A of the conductive wiring 11 has an electrode 12A of the semiconductor chip 12. Are mounted by a flip chip mounting method or a TAB method to form modules MO1 to MO4, respectively.

【0029】また、このような多層モジュール構造でな
る半導体装置の各絶縁基板10の導電性配線11の他端
部11Bは、この絶縁基板10の周縁部にて突出すると
ともに、例えば当該絶縁基板10の他面側に向かって下
向きに湾曲を有して曲げられて形成されてなる。
The other end portion 11B of the conductive wiring 11 of each insulating substrate 10 of the semiconductor device having such a multilayer module structure protrudes at the peripheral edge of the insulating substrate 10 and, for example, Is formed so as to be bent downward toward the other surface side.

【0030】一方、各絶縁基板10のうちの、図3に示
すような最上層の絶縁基板10、または図4に示すよう
な最下層の絶縁基板10の導電性配線11の他端部11
Bは、この絶縁基板10の周縁部にて突出するととも
に、対応する最下層または最上層の導電性配線11の他
端部11Bまで延在して形成されてなる。
On the other hand, the other end 11 of the conductive wiring 11 of the uppermost insulating substrate 10 as shown in FIG. 3 or the lowermost insulating substrate 10 as shown in FIG.
B is formed so as to protrude at the peripheral edge of the insulating substrate 10 and extend to the other end 11B of the corresponding lowermost or uppermost conductive wiring 11.

【0031】そして、この半導体装置では、これら各絶
縁基板10の導電性配線11の他端部11Bと、最上層
または最下層の絶縁基板10の導電性配線11の他端部
11B側とを、この半導体装置の周縁部で導通接続して
なる。
In this semiconductor device, the other end 11B of the conductive wiring 11 of each of the insulating substrates 10 and the other end 11B of the conductive wiring 11 of the uppermost or lowermost insulating substrate 10 are connected to each other. The semiconductor device is electrically connected at a peripheral portion of the semiconductor device.

【0032】また、この実施の形態の場合、この最上層
または最下層の絶縁基板10から延在する導電性配線1
1の他端部11Bの先端部には、例えば絶縁基板10と
同一材料で構成された、当該導電性配線11を束ねるた
めのばらけ防止部材13が設けられており、これによ
り、各導電性配線11がそれぞれ一定のピッチ精度を有
するように固定された構造となっている。
In the case of this embodiment, conductive wiring 1 extending from insulating substrate 10 in the uppermost or lowermost layer is used.
At the tip of the other end 11B of the first unit 1A, there is provided an anti-separation member 13 made of, for example, the same material as that of the insulating substrate 10 for bundling the conductive wirings 11. The wiring 11 has a structure in which each wiring 11 is fixed so as to have a constant pitch accuracy.

【0033】このような積層構造にするには、半導体チ
ップ12を絶縁基板10に搭載したモジュールMO1、
MO2、MO3、MO4を順次上層の絶縁基板10と、
その1つ下層の半導体チップ12とを接着剤を介して積
層した後、各層の導電性配線11を垂直方向に順次接合
し、各層間の電気的接続を完成させる。このとき、モジ
ュールMO1〜MO3の半導体チップ12において、そ
れぞれ当該半導体チップ12の電極と、導電性配線11
との接合部が絶縁材料等からなる封止樹脂FJによって
封止される。
In order to form such a laminated structure, the module MO1 in which the semiconductor chip 12 is mounted on the insulating substrate 10,
MO2, MO3, MO4 are sequentially formed on the upper insulating substrate 10;
After laminating the semiconductor chip 12 one layer below via an adhesive, the conductive wires 11 of each layer are sequentially joined in the vertical direction to complete the electrical connection between the layers. At this time, in the semiconductor chips 12 of the modules MO1 to MO3, the electrodes of the semiconductor chips 12 and the conductive wires 11
Is sealed with a sealing resin FJ made of an insulating material or the like.

【0034】モジュールMO1〜MO4を積層すること
により、最上層の絶縁基板10から順次折り曲げられた
導電性配線11の先端が、その1つ下層の絶縁基板10
上の導電性配線11の上面と接触する。そして、接触し
た導電性配線同士の接合は、はんだ付け、導電性ペース
ト材料または溶接等で行われる。
By stacking the modules MO1 to MO4, the leading ends of the conductive wirings 11 sequentially bent from the uppermost insulating substrate 10 are connected to the insulating substrate 10 in the next lower layer.
It comes into contact with the upper surface of the upper conductive wiring 11. Then, the contacting conductive wires are joined by soldering, a conductive paste material, welding, or the like.

【0035】このようにして、この半導体装置では、各
半導体チップ12が、それぞれ各絶縁基板10の導電性
配線11を順次介して導通接続されるとともに、最下層
の電極10Aを介してマザー基板の電極に導通接続する
ようになされている。
As described above, in this semiconductor device, the respective semiconductor chips 12 are electrically connected to each other sequentially through the conductive wirings 11 of the respective insulating substrates 10, and are connected to the mother substrate via the lowermost electrodes 10 A. It is configured to be electrically connected to the electrode.

【0036】因みに、各層の絶縁基板10上に形成した
導電性配線11の配線パターンは、搭載される半導体チ
ップ12が異なる場合には、必ずしも同一の配線パター
ンではなく、共通でない半導体チップの電極を処理する
ために、配線構成が異なるものである。
Incidentally, when the semiconductor chip 12 to be mounted is different, the wiring pattern of the conductive wiring 11 formed on the insulating substrate 10 of each layer is not always the same wiring pattern, and the electrodes of the non-common semiconductor chip are not necessarily the same. The wiring configuration is different for processing.

【0037】また、絶縁基板10および半導体チップ1
2の厚さは、数10〔μm〕〜数100〔μm〕の厚さで構成
されるものである。半導体チップ12は、ウェハー状態
またはチップ状態で素子が形成されていない裏面をグラ
イディングやポリッシング等の機械的研磨法、HF液を
主体としたエッチング液で溶解する方法等の化学的研磨
法、またはこれらの手法を併用したCMP方法等によっ
て所望の厚さに研磨されるものである。
The insulating substrate 10 and the semiconductor chip 1
The thickness 2 is a thickness of several tens [μm] to several hundreds [μm]. The semiconductor chip 12 is formed by a mechanical polishing method such as gliding or polishing, or a chemical polishing method such as a method of dissolving the back surface on which no elements are formed in a wafer state or a chip state with an etching solution mainly composed of an HF solution, or the like. Is polished to a desired thickness by a CMP method or the like using the above method in combination.

【0038】さらに、各絶縁基板10における導電性配
線11の他端部側11Bの曲げ部分は、図5(a)およ
び図5(b)に示すように、各絶縁基板10の端部を切
り欠いた状態で所定の治具20によって折り曲げること
により形成することができる。
Further, as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), the bent portion of the other side 11B of the conductive wiring 11 in each of the insulating substrates 10 cuts the end of each of the insulating substrates 10. It can be formed by bending with a predetermined jig 20 in a chipped state.

【0039】さらに、この半導体装置では、図6に示す
ように、絶縁基板10上の複数並べて配列される導電性
配線11における少なくとも端部(コーナーに最も近い
ところ)に位置する導電性配線11の幅員を、この導電
性配線11よりも内側に位置する他の導電性配線11の
幅員よりも広く形成するようにしてもよい。
Further, in this semiconductor device, as shown in FIG. 6, the conductive wiring 11 located at least at the end (closest to the corner) of the plurality of conductive wirings 11 arranged on the insulating substrate 10 is arranged. The width may be formed to be wider than the width of another conductive wiring 11 located inside the conductive wiring 11.

【0040】これにより、半導体チップ12と絶縁基板
10との間の膨張の差に起因して、導電性配線11に応
力集中が発生したときに、これらが破断するのを防止で
き、高い信頼性を得ることができる。また、導電性配線
11の幅員は、絶縁基板10の寸法や環境条件により異
なるが、広い方の幅員は、狭い方の幅員よりも1.2倍
以上の大きさとすることが望ましい。
Accordingly, when stress concentration occurs in the conductive wiring 11 due to a difference in expansion between the semiconductor chip 12 and the insulating substrate 10, they can be prevented from being broken, and high reliability can be obtained. Can be obtained. Further, the width of the conductive wiring 11 varies depending on the dimensions of the insulating substrate 10 and environmental conditions, but it is desirable that the width of the wider one is 1.2 times or more larger than the width of the narrower one.

【0041】さらに、図6には、絶縁基板10の少なく
とも4隅に突起部15を設けた構成を示す。このよう
に、突起部15を、絶縁基板10と一体に、その外形寸
法よりもはみ出して形成する。因みに、この図6では、
導電性配線が長く形成される最上層または最下層の絶縁
基板10以外の層の絶縁基板10を用いて説明したが、
これに限るところではない。
FIG. 6 shows a configuration in which protrusions 15 are provided at least at four corners of the insulating substrate 10. In this manner, the protrusion 15 is formed integrally with the insulating substrate 10 so as to protrude beyond its outer dimensions. By the way, in FIG. 6,
Although the description has been made using the insulating substrate 10 in a layer other than the uppermost or lowermost insulating substrate 10 in which the conductive wiring is formed long,
It is not limited to this.

【0042】このような構成により、導電性配線11の
位置は、突起部15よりも内側に位置することになる。
そして、絶縁基板10の周縁から折り曲げられた導電性
配線11が、外部部品と接触したり、操作中に導電性配
線を損傷することを未然に防止することができる。ま
た、この突起部15は、導電性配線を機械的、電気的に
保護することができるばかりでなく、絶縁基板10を積
層する際に絶縁基板10間の位置合わせに用いることも
でき、突起部15の先端を位置合わせの外形とすれば、
位置合わせを容易にすることもできる。
With such a configuration, the position of the conductive wiring 11 is located inside the protrusion 15.
In addition, it is possible to prevent the conductive wiring 11 bent from the peripheral edge of the insulating substrate 10 from coming into contact with an external component or damaging the conductive wiring during operation. The protrusions 15 can not only protect the conductive wiring mechanically and electrically, but also can be used for alignment between the insulating substrates 10 when the insulating substrates 10 are laminated. If the tip of 15 is the outer shape for alignment,
Positioning can be facilitated.

【0043】これに加えて突起部15は、その外形寸法
と、マザー基板の電極との接続用の電極10Aを有する
最下層の絶縁基板10の外形寸法をほぼ同じ寸法にすれ
ば、積層する絶縁基板の位置合わせが容易であるばかり
でなく、折り曲げた導電性配線領域、すなわち絶縁基板
の側面領域に保護樹脂を形成する場合にも、最下層の絶
縁基板10と他の絶縁基板10の突起部15の外形寸法
とをほぼ同じにすれば、容易に保護樹脂を形成できるば
かりでなく、保護樹脂の厚さも均一に形成することがで
きる。
In addition, if the outer dimensions of the projection 15 and the outer dimensions of the lowermost insulating substrate 10 having the electrodes 10A for connection to the electrodes of the mother board are made substantially the same, the protrusions 15 can be laminated. Not only is the positioning of the substrate easy, but also in the case where a protective resin is formed in the bent conductive wiring region, that is, in the side region of the insulating substrate, the protrusions of the lowermost insulating substrate 10 and the other insulating substrate 10 If the external dimensions of the 15 are substantially the same, not only can the protective resin be easily formed, but also the thickness of the protective resin can be made uniform.

【0044】さらに、この半導体装置において、積層し
た絶縁基板10間の導電性配線11の接続は、例えばそ
の導電性配線11にはんだ材料を配設しておき、このは
んだ材料をリフローさせることにより、折り曲げた導電
性配線11とその下層に位置する絶縁基板10上の導線
性配線11とが接触しているので、はんだを溶融させる
ことにより、容易に接続することができる。
Further, in this semiconductor device, the connection of the conductive wiring 11 between the laminated insulating substrates 10 is performed, for example, by disposing a solder material on the conductive wiring 11 and reflowing the solder material. Since the bent conductive wiring 11 is in contact with the conductive wiring 11 on the insulating substrate 10 located thereunder, the solder can be easily connected by melting the solder.

【0045】また、例えばヒータを備えたはんだ槽内で
はんだを溶融しておき、この溶融したはんだ中に、積層
したモジュールMO1〜MO4を浸漬して接続すること
もできる。
Further, for example, the solder may be melted in a solder bath provided with a heater, and the laminated modules MO1 to MO4 may be immersed and connected in the melted solder.

【0046】このように、はんだ槽の内で溶融している
はんだ中に浸漬する工程では、溶融しているはんだから
半導体装置を引き上げるときには、六方体である半導体
装置の少なくとも一つのコーナーと溶融したはんだ面と
の成す角度θを30〔°〕〜60〔°〕にすれば、絶縁
基板10間を接続する導電性配線11の隣接間のショー
トを防ぐことができる。
As described above, in the step of immersing the semiconductor device in the molten solder in the solder bath, when the semiconductor device is pulled up from the molten solder, at least one corner of the hexagonal semiconductor device is melted. When the angle θ formed with the solder surface is in the range of 30 ° to 60 °, a short circuit between adjacent conductive wirings 11 connecting the insulating substrates 10 can be prevented.

【0047】さらに、最下層の絶縁基板10の他面側に
は、マザー基板と接続するための外部接続用電極10A
が形成されている。この電極10Aとして、図1、2お
よび4の例では、はんだボールが形成され、いわゆるC
SP(Chip Size Package),BGA(Ball Grid Arra
y)の構造を示している。この最下層の絶縁基板10お
よびその上に形成された導電性配線11は、それより上
層の絶縁基板10と同じ工法で製作されるものである。
Further, on the other side of the lowermost insulating substrate 10, an external connection electrode 10A for connecting to the mother substrate is provided.
Are formed. In the examples of FIGS. 1, 2 and 4, a solder ball is formed as the electrode 10A, and a so-called C
SP (Chip Size Package), BGA (Ball Grid Arra)
y) shows the structure. The lowermost insulating substrate 10 and the conductive wiring 11 formed thereon are manufactured by the same method as the upper insulating substrate 10.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上説明した通り、この発明によれば、
電子部品が搭載された複数の絶縁基板を順次積層してな
る半導体装置において、各絶縁基板間の導電性配線を、
これら絶縁基板の周縁部で接続することにより、接続箇
所を外部から目視確認することができ、接続箇所の検査
を極めて容易にすることができるとともに、絶縁基板間
における導通接続を確実に行うことができる。
As described above, according to the present invention,
In a semiconductor device in which a plurality of insulating substrates on which electronic components are mounted are sequentially stacked, conductive wiring between the insulating substrates is
By connecting at the periphery of these insulating substrates, the connection points can be visually confirmed from the outside, and the inspection of the connection points can be extremely easily performed, and the conductive connection between the insulating substrates can be reliably performed. it can.

【0049】また、各絶縁基板間の導電性配線を、最上
層または最下層の絶縁基板の周縁から突出して延在した
導線性配線により、これら積層した絶縁基板の周縁部で
接続することにより、新たな接続用部品を追加すること
なく接続することができ、半導体装置の接続箇所を外部
から目視確認することができるため、接続箇所の検査を
極めて容易にすることができ、かくして絶縁基板間にお
ける導通接続を簡便にかつ確実に行うことができる。
Further, the conductive wiring between the insulating substrates is connected by the conductive wiring protruding from the peripheral edge of the uppermost or lowermost insulating substrate at the peripheral portion of the laminated insulating substrate. The connection can be performed without adding new connection parts, and the connection point of the semiconductor device can be visually confirmed from the outside. Therefore, the inspection of the connection point can be extremely easily performed, and thus the connection between the insulating substrates can be easily performed. Conductive connection can be easily and reliably performed.

【0050】さらに、積層した絶縁基板の側面で接続を
行なっているので、万が一、積層した絶縁基板の一部に
不良が発生しても、容易にリペアーを実施することがで
きる。また、接続用の導電性配線が、絶縁基板の側面に
突出して形成されているので、はんだディップまたは、
はんだリフロー等の簡便な工程を用いて一括でかつ確実
に接続を実現できるために、低コストなモジュールを実
現することができる。
Further, since the connection is made on the side surface of the laminated insulating substrate, even if a defect occurs in a part of the laminated insulating substrate, repair can be easily performed. In addition, since the conductive wiring for connection is formed to protrude from the side surface of the insulating substrate, the solder dip or
Since the connection can be realized collectively and reliably using a simple process such as solder reflow, a low-cost module can be realized.

【0051】請求項2に係る発明によれば、絶縁基板上
に導電性配線を配設するようにして、電子部品をフリッ
プチップ実装することにより、導電性配線の一端部と電
子部品の電極との接続の際に、絶縁基板によってその導
電性配線が曲がって変形するのを防止することができ
る。
According to the second aspect of the present invention, one end of the conductive wiring is connected to the electrode of the electronic component by flip-chip mounting the electronic component such that the conductive wiring is disposed on the insulating substrate. In this connection, the conductive wiring can be prevented from being bent and deformed by the insulating substrate.

【0052】請求項3に係る発明によれば、各絶縁基板
の下層の電子部品上に、その1つ下層の絶縁基板を積層
することにより、複数の絶縁基板を積層する際の安定感
を高めることができる。
According to the third aspect of the present invention, the lower one of the insulating substrates is laminated on the electronic component of the lower layer of each of the insulating substrates, so that a sense of stability when the plurality of insulating substrates are laminated is improved. be able to.

【0053】請求項4に係る発明によれば、積層方向に
隣り合う絶縁基板と電子部品との間に接着剤を介在する
ようにしたことにより、積層した複数の絶縁基板が、導
通接続前に崩れるのを未然に防止することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the adhesive is interposed between the insulating substrate and the electronic component adjacent in the laminating direction, the plurality of laminated insulating substrates can be connected before the conductive connection. Collapse can be prevented beforehand.

【0054】請求項5に係る発明によれば、絶縁基板上
に複数の導電性配線が配列され、最上層または最下層の
絶縁基板における導電性配線の他端側の先端に、ばらけ
防止部材を設けるようにしたことにより、これら導電性
配線が、ばらけるのを防止するとともに、各導電性配線
が、それぞれ一定のピッチ精度を有するように固定する
ことができる。
According to the fifth aspect of the present invention, a plurality of conductive wirings are arranged on the insulating substrate, and the end of the conductive wiring on the other end side of the uppermost or lowermost insulating substrate is provided with a scattering prevention member. Is provided, it is possible to prevent the conductive wirings from being separated and to fix the conductive wirings so as to have a constant pitch accuracy.

【0055】請求項6に係る発明によれば、絶縁基板の
隅部に突起部を設けるようにしたことにより、突起部を
用いて上下の絶縁基板の積層時の位置合わせを一層容易
にすることができ、高い位置合わせ精度を得ることがで
きる。また、実装体の樹脂成形時の外形基準となり、正
確な樹脂成形を行うこともできる。
According to the sixth aspect of the present invention, since the projections are provided at the corners of the insulating substrate, the positioning at the time of laminating the upper and lower insulating substrates is further facilitated by using the projections. And high alignment accuracy can be obtained. In addition, it becomes a reference for the outer shape at the time of resin molding of the mounting body, so that accurate resin molding can be performed.

【0056】さらに、積層した絶縁基板間の導電性配線
よりも突出して突起部を設けるため、当該導電性配線に
外力が加えられ、これら導電性配線が変形したり、破損
するのを未然に防止することができる。
Further, since the projections are provided so as to protrude from the conductive wirings between the laminated insulating substrates, external force is applied to the conductive wirings, thereby preventing the conductive wirings from being deformed or damaged. can do.

【0057】請求項7に係る発明によれば、絶縁基板上
の複数の導電性配線における配列のうちの隅部の導電性
配線が、他の導電性配線よりも幅広なので、電子部品と
絶縁基板との膨張の差により、導電性配線に応力が加わ
ったときに破断するのを防止でき、接続のうえで信頼性
を向上することができる。
According to the seventh aspect of the present invention, since the conductive wiring at the corner of the array of the plurality of conductive wirings on the insulating substrate is wider than the other conductive wirings, the electronic component and the insulating substrate Due to the difference between the expansion and the expansion, it is possible to prevent the conductive wiring from being broken when stress is applied thereto, and to improve reliability in connection.

【0058】請求項8に係る発明によれば、導電性配線
のうちの隅部の導電性配線にアライメントマークを設け
るようにしたことにより、複数の絶縁基板を積層する際
に、上下の絶縁基板間における位置決めをより一層簡略
化することができる。
According to the eighth aspect of the present invention, the alignment marks are provided on the conductive wirings at the corners of the conductive wirings. Positioning between them can be further simplified.

【0059】請求項9に係る発明によれば、アライメン
トマークを丸穴で形成することにより、当該アライメン
トマークを他の工程で一括して簡単に形成することがで
きる。
According to the ninth aspect of the present invention, since the alignment mark is formed by a round hole, the alignment mark can be easily formed collectively in another process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明による半導体装置の略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a semiconductor device according to the present invention.

【図2】その半導体装置の縦断面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the semiconductor device.

【図3】その最上層の絶縁基板を示す略斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view showing the uppermost insulating substrate.

【図4】その最下層の絶縁基板を示す略斜視図である。FIG. 4 is a schematic perspective view showing the lowermost insulating substrate.

【図5】絶縁基板から突き出た導電性配線を治具によっ
て折り曲げられる手順を示す略断面図で、(a)は折曲
する前、(b)は折曲した後である。
5A and 5B are schematic cross-sectional views showing a procedure for bending a conductive wiring projecting from an insulating substrate by a jig, wherein FIG. 5A shows a state before bending and FIG. 5B shows a state after bending.

【図6】絶縁基板の4隅に突起を形成するとともに、導
電性配線のうちの隅部が幅広で形成されてなる絶縁基板
を示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing an insulating substrate in which projections are formed at four corners of the insulating substrate and corners of the conductive wiring are formed to be wide;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MO1 モジュール MO2 モジュール MO3 モジュール MO4 モジュール FJ 封止樹脂層 10 絶縁基板 10A 電極 11 導電性配線 11A 一端部 11B 他端部 11C アライメントマーク 12 半導体チップ(電子部品) 13 ばらけ防止部材 14 接着剤 15 突起部 20 治具 MO1 module MO2 module MO3 module MO4 module FJ sealing resin layer 10 insulating substrate 10A electrode 11 conductive wiring 11A one end 11B other end 11C alignment mark 12 semiconductor chip (electronic component) 13 anti-separation member 14 adhesive 15 protrusion 20 jig

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子部品が搭載された複数の絶縁基板を
順次積層してなる半導体装置において、 各上記絶縁基板の周縁部から突出し、それぞれ所定形状
に曲げて形成する第1の導電性配線と、 上記積層した各絶縁基板のうちの最上層または最下層の
周縁部から突出し、最下層または最上層の絶縁基板まで
延在して形成する第2の導電性配線とを備え、 上記1および2の絶縁基板を各上記絶縁基板の周縁部で
導通接続してなる、半導体装置。
1. A semiconductor device in which a plurality of insulating substrates on which electronic components are mounted are sequentially laminated, wherein a first conductive wiring projecting from a peripheral portion of each of the insulating substrates and being bent into a predetermined shape is formed. A second conductive wiring protruding from a peripheral portion of an uppermost layer or a lowermost layer of the laminated insulating substrates and extending to the lowermost layer or the uppermost insulating substrate; A semiconductor device, wherein the insulated substrates are electrically connected at the periphery of each of the insulated substrates.
【請求項2】 上記電子部品が、各上記絶縁基板の一面
上にそれぞれフリップチップ実装してなる、請求項1に
記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said electronic components are flip-chip mounted on one surface of each of said insulating substrates.
【請求項3】 上記積層する複数の絶縁基板を、順次隣
り合う下層の電子部品上に載置してなる、請求項1また
は2に記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the plurality of insulating substrates to be stacked are sequentially mounted on adjacent lower electronic components.
【請求項4】 上記隣り合う絶縁基板と電子部品とが接
着剤を介在してなる、請求項3に記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the adjacent insulating substrate and the electronic component have an adhesive therebetween.
【請求項5】 上記1および2の導電性配線をそれぞれ
の上記絶縁基板上に複数並べて配列するとともに、上記
最上層または最下層まで延在する上記2の導電性配線の
先端部に、これら2の導電性配線を束ねる、ばらけ防止
部材を設けてなる、請求項1、2、3または4、に記載
の半導体装置。
5. A method according to claim 1, wherein a plurality of said conductive wirings are arranged on said insulating substrate and a plurality of said conductive wirings are provided at the tip of said conductive wiring extending to said uppermost layer or lowermost layer. 5. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a dispersion preventing member for bundling the conductive wirings. 5.
【請求項6】 各上記絶縁基板の四隅部分に、これら絶
縁基板を積層する際の位置決め用突起を有してなる、請
求項1、2、3、4または5に記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 1, further comprising positioning projections at the four corners of each of said insulating substrates for laminating said insulating substrates.
【請求項7】 上記1および2の導電性配線のうちの端
部の導電性配線が、それ以外の導電性配線よりも幅広で
なる、請求項1または5に記載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein one of the first and second conductive wirings has a wider end than the other conductive wiring.
【請求項8】 上記幅広の導電性配線に位置決め用のア
ライメントマークが形成されてなる、請求項7に記載の
半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein an alignment mark for positioning is formed on said wide conductive wiring.
【請求項9】 上記アライメントマークが丸穴でなる、
請求項8に記載の半導体装置。
9. The method according to claim 9, wherein the alignment mark is a circular hole.
The semiconductor device according to claim 8.
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