JP2001187764A

JP2001187764A - 界面活性化合物

Info

Publication number: JP2001187764A
Application number: JP2000318438A
Authority: JP
Inventors: Hiroaki Arima; 弘朗在間; Hideo Matsui; 英雄松井
Original assignee: Kansai Research Institute KRI Inc
Current assignee: Kansai Research Institute KRI Inc
Priority date: 1999-10-19
Filing date: 2000-10-18
Publication date: 2001-07-10

Abstract

(57)【要約】【課題】界面活性能と重合開始能とを有する界面活性
化合物を提供する。【解決手段】界面活性化合物は下記式（２）で表され
る。 [R^1a−(B¹)_r−(X¹−B²)_t]_p−(S)_k−[(B³−X²)_u−(B⁴)_s−R^2a]_q (２) （式中、Ｒ^1aは疎水性基を有するユニット、Ｒ^2aは親水
性基を有するユニット、Ｂ¹及びＢ⁴は、Ｒ¹又はＲ²と活
性基Ｘ¹又はＸ²とを結合するユニットを示し、Ｂ ²及び
Ｂ³は、スペーサーＳとＸとを結合するユニットを示
す。ｋ、ｒ、ｓ、ｔ及びｕは、０又は１を示す。ただ
し、ｔとｕは同時に０でない。ｐ及びｑは１〜３の整数
を示す）活性基は、通常、熱又は光によりラジカルを発生する基
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、重合開始基を含
み、界面活性能を有する化合物及びこの化合物の用途
（すなわち、前記化合物が吸着した基材、ならびに基材
に吸着した界面活性化合物を開始剤として重合体が結合
した複合基材及びその製造方法）、ならびに前記化合物
を得るための中間体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、充填剤、顔料、無機微粒子などの
基材の表面を改質することにより、媒体やマトリックス
への基材の分散性を向上させている。一般に、基材表面
を改質するために、基材表面を有機物質で被覆する方法
が行われている。

【０００３】従来の表面改質方法としては、例えば、
（１）高分子を基材表面に吸着させる方法、（２）界面
活性化合物を基材表面に吸着させる方法、（３）アゾ
基、過酸化基などのラジカル開始基を基材表面に導入
し、次いでモノマーを重合させて高分子化合物を基材表
面にグラフトする方法、（４）不飽和二重結合を有する
化合物を基材表面に導入し、次いでモノマーを重合させ
て高分子化合物を表面にグラフトする方法、（５）不飽
和二重結合を有する界面活性化合物を基材表面に吸着さ
せ、次いでモノマーを重合させて高分子化合物を基材表
面にグラフトする方法などが行われている。

【０００４】しかし、上記（１）の方法では、基材表面
に効率よく高分子を吸着させるのが困難であり、表面改
質に多くの高分子を必要とする。さらに、高分子の種類
が特定されるばかりか、このような特定の高分子を見い
出すのは容易でない。また、上記（２）の方法では、親
水化に伴って用途が制限されるだけでなく、十分に表面
改質できない。

【０００５】上記（３）の方法では、カーボンブラック
のように表面に高反応性基を有する基材の場合には、基
材表面に結合したアゾ基、過酸化基などを起点に高分子
化合物が成長するため、表面改質効果やグラフト効率は
高い。しかし、一般的な有機又は無機顔料などのよう
に、表面が不活性又は低反応性の基材の場合には、通
常、アゾ基、過酸化基などを基材表面に化学結合させる
ことは困難であり、効率よく表面改質できない。

【０００６】上記（４）の方法では、表面に結合した不
飽和二重結合が、重合反応により生成したラジカル種と
反応した場合にのみ、高分子化合物の基材表面へのグラ
フトが起こるため、グラフト確率は低く、グラフトしな
いフリーの高分子化合物が多く生成する。また、一般に
不飽和二重結合を表面に化学結合させることは困難であ
る。そのため、（４）の方法においても、表面に高反応
性基を有する基材の場合には有効であるが、高反応性基
を有していない基材の場合には十分な効果が得られな
い。

【０００７】上記（５）の方法では、（４）の方法に比
べて多くの不飽和二重結合を基材表面に容易に導入でき
るが、（４）の方法と同様にグラフト確率は低く、グラ
フトしないフリーの高分子化合物が多く生成する。ま
た、通常、界面活性化合物の吸着により、立体障害が大
きくなり二重結合の反応性が低下する。従って、基材表
面に十分な高分子化合物層を形成することは困難であ
る。

【０００８】このように、従来の方法では、基材表面の
改質効果が未だ十分でなく、基材に対する有機物質のグ
ラフト率も低いため、基材のマトリックスへの分散性を
向上させるのは困難である。

【０００９】特開平１１−１９４４９１号公報には、シ
リカ微粒子表面の高反応性基（ヒドロキシル基）に、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを結合さ
せることにより、感光性基を導入できることが記載され
ている。この方法においても、粒子表面に高反応性基を
有する必要があり、使用できる基材が制限される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、界面活性能を有するとともに、重合開始剤としても
機能する界面活性化合物、およびこの界面活性化合物で
形成されたミセルを提供することにある。

【００１１】本発明の他の目的は、基材表面の状態を疎
水性又は親水性に制御でき、所望の媒体に分散できる界
面活性化合物、およびこの界面活性化合物が吸着した基
材を提供することにある。

【００１２】本発明のさらに他の目的は、基材表面への
重合体の結合率を高めるとともに、基材表面を有効に改
質でき、所定のマトリックスに対する基材の分散性を大
きく改善できる複合基材及びその製造方法を提供するこ
とにある。

【００１３】本発明の別の目的は、基材表面全体を重合
体で効果的に被覆できるとともに、被覆の程度を制御で
きる複合基材およびその複合基材の製造方法を提供する
ことにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を達成するため鋭意検討した結果、界面活性能と重合開
始能とを有する界面活性化合物を使用すれば、基材の表
面を有効に改質できることを見いだし、本発明を完成し
た。

【００１５】すなわち、本発明の界面活性化合物は、下
記式（１）で表される。

【００１６】（Ｒ¹）_m−Ｚ−（Ｒ²）_n （１）（式中、Ｒ¹は少なくとも疎水性基を有するユニット、
Ｒ²は少なくとも親水性基を有するユニットを示し、Ｚ
は少なくとも１つの活性基を有するユニットを示し、ｍ
及びｎは１〜３の整数を示す。Ｒ¹及びＲ²の種類は、ｍ
又はｎの値によって異なっていてもよい）式（１）で表
される化合物は、下記式（２）で表される化合物であっ
てもよい。

【００１７】 [R^1a−(B¹)_r−(X¹−B²)_t]_p−(S)_k−[(B³−X²)_u−(B⁴)_s−R^2a]_q (２) （式中、Ｒ^1aは少なくとも疎水性基を有するユニット、
Ｒ^2aは少なくとも親水性基を有するユニットを示し、Ｘ
¹及びＸ²は、同一又は異なって、活性基を示す。Ｂ¹及
びＢ⁴は、Ｒ¹又はＲ²と活性基Ｘ¹又はＸ²とを結合する
ユニットを示し、Ｂ ²及びＢ³は、スペーサーＳと活性基
Ｘ¹又はＸ²とを結合するユニットを示す。ｋ、ｒ、ｓ、
ｔ及びｕは、０又は１を示す。ただし、ｔとｕは同時に
０でない。ｐ及びｑは１〜３の整数を示す）前記疎水性
基は、炭素数５〜６０の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜
６０の芳香族炭化水素基、複素環基、ポリシロキサン残
基などであってもよく、親水性基は多糖基、ポリエーテ
ル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、硫酸基、スル
ホン酸基、リン酸基、ホスホニウム塩基、複素環基、ア
ミノ基、これらの塩、これらのエステルなどであっても
よい。特に、疎水性基はＣ_8-22長鎖脂肪族炭化水素基又
はＣ_1-20アルキル−Ｃ_6-12アリール基であってもよく、
親水性基は、カルボキシル基、硫酸基、スルホン酸基、
これらの塩、ポリオキシエチレン基などであってもよ
い。活性基Ｘ¹及びＸ²は、熱又は光により、ラジカル、
カチオン又はアニオンを発生する基（特に、アゾ基、過
酸化基、ラジカル発生可能なケト基など）であってもよ
い。結合ユニットＢ¹、Ｂ²、Ｂ³及びＢ⁴は、エステル結
合、アミド結合、ウレア結合、ウレタン結合、エーテル
結合、チオエーテル結合、イミノ結合などの結合様式を
有していてもよい。スペーサーＳは、アルキレン基、ア
リーレン基、複素環基などの多価基で構成されていても
よく、これらの基は種々の置換基を有していてもよい。
式（２）において、(i)ｋ＝０、ｐ＝１及びｑ＝１、あ
るいは(ii)ｋ＝１、ｐ＝１又は２及びｑ＝１又は２であ
ってもよい。

【００１８】前記式（１）で表される界面活性化合物を
得るための化合物は、下記式（３）で表される。

【００１９】（Ｅ¹）_m−Ｚ−（Ｅ²）_n （３）（式中、Ｅ¹は、式（１）のＲ¹に対応する疎水性基又は
反応によって疎水性基を生成する反応性基を示し、Ｅ²
は、式（１）のＲ²に対応する親水性基又は反応によっ
て親水性基を生成する反応性基を示す。ただし、Ｅ¹及
びＥ²のうち少なくとも一方は反応性基である；Ｚ、ｍ
及びｎは請求項１に同じ）前記反応性基は、活性化され
たカルボキシル基であってもよい。

【００２０】なお、本発明には、前記式（１）の界面活
性化合物を製造する方法も含まれる。また、本発明に
は、前記界面活性化合物で形成されたミセル、被処理基
材（例えば、顔料などの粒子）と、この被処理基材の表
面に吸着した前記界面活性化合物とで構成されている基
材、基材表面に吸着した界面活性化合物を開始剤として
重合性単量体の重合体が基材に結合している複合基材、
被処理基材表面に界面活性化合物を吸着させて、重合性
単量体を重合させる複合基材の製造方法も含まれる。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の界面活性化合物におい
て、疎水性基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化
水素基、複素環基、ポリシロキサン残基などが挙げられ
る。これらの疎水性基は、単独で又は二種以上組み合わ
せて使用してもよい。

【００２２】脂肪族炭化水素基としては、飽和又は不飽
和鎖状又は分岐鎖状脂肪族炭化水素基［例えば、ペンチ
ル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル（ラウリ
ル）、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキ
サデシル（セチル）、ヘプタデシル、オクタデシル、ノ
ナデシル、エイコシル、ドコシル、ヘキサコシル（セリ
ル）、トリアコンチル、ヘントリアコンチル（メリシ
ル）、α−オレフィン重合体などの炭素数５〜６０（好
ましくは６〜３０、さらに好ましくは８〜２５、特に８
〜２０）程度のアルキル基、ヘキセニル、トリデセニ
ル、オクタデカジエニル、オクタデセニル、ノナデセニ
ル、ドコセニル、ヘキサコセニル、α−オレフィン重合
体（不飽和二重結合を有するオレフィン系オリゴマー）
などの炭素数５〜６０（好ましくは６〜３０、さらに好
ましくは８〜２０）程度のアルケニル基、ヘキシニル、
ノナデシニルなどの炭素数５〜６０（好ましくは６〜３
０、さらに好ましくは８〜２０）程度のアルキニル基な
ど］、飽和又は不飽和環状脂肪族炭化水素基［例えば、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シ
クロオクチル、シクロデシル、シクロドデシル、シクロ
ペンタデシルなどの炭素数５〜６０（好ましくは６〜２
０）程度のシクロアルキル基、シクロヘキセニル、シク
ロヘキサジエニル、シクロオクテニル、シクロデセニル
などの炭素数６〜６０（好ましくは６〜２０）程度のシ
クロアルケニル基など］、飽和又は不飽和多環式炭化水
素基［例えば、カラン、ピナン、ボルナン、ノルピナ
ン、ノルボルナンなどの２環式炭化水素に対応する基
（架橋単環式飽和又は不飽和炭化水素基）、アダマンタ
ンなどの３環式炭化水素に対応する基（架橋多環式飽和
又は不飽和炭化水素）、コレステ−５−エンなどの多環
式炭化水素に対応する基など］が挙げられる。

【００２３】芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナ
フチル、ビフェニル、フルオレニル、アントラセニル、
フェナントレニル、ベンズアントラセニル、ピレニル、
トリフェニレル、ペリレニルなどのアリール基、イソプ
ロピルフェニル、ブチルフェニル、アミルフェニル、ヘ
キシルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、
デシルフェニル、ドデシルフェニル、テトラデシルフェ
ニルなどのアルキル−アリール基（好ましくはＣ_1-20ア
ルキル−Ｃ_6-18アリール基、さらに好ましくはＣ_6-18ア
ルキル−Ｃ_6-12アリール基、特にＣ_6-16アルキル−フェ
ニル類）などが挙げられる。

【００２４】複素環基としては、１２−クラウン−４、
１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、ジシクロヘ
キサノ−２４−クラウン−８、ジベンゾ−１８−クラウ
ン−６、シクレン、ヘキサシクレン、１−アザ−１２−
クラウン−４、１−アザ−１５−クラウン−５、１−ア
ザ−１８−クラウン−６などのクラウンエーテル類、テ
トラオキサジアザシクロオクタデカン、ペンタオキサジ
アザビシクロトリコサンなどのヘテロ原子として酸素又
は窒素原子を有する複素環化合物類、エチオポルフィリ
ン、オクタエチルポルフィリン、プロトポルフィリン、
ヘマトポルフィリン、コプロポルフィリン、メソポルフ
ィリン、テトラフェニルポルフィリンなどのポルフィリ
ン類、フタロシアニン、ナフタロシアニンなどが挙げら
れる。なお、前記複素環基は、骨格中に金属を保持して
いてもよく、金属としては、リチウム、ナトリウム、カ
リウムなどのアルカリ金属、マグネシウムなどのアルカ
リ土類金属、アルミニウム、ガリウムなどの周期表３Ｂ
属金属、珪素、スズ、鉛などの周期表４Ｂ属金属、バナ
ジウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウ
ム、銅、亜鉛などの遷移金属などが挙げられる。また、
これら金属に対するアニオンが共存していてもよく、ア
ニオンとしては、ハロゲンイオン、有機酸イオン（酢酸
イオンなど）、無機酸イオン（硫酸イオンなど）、テト
ラフルオロホウ素イオン、ヘキサフルオロリンイオンな
どが挙げられる。

【００２５】ポリシロキサン残基には、例えば、下記式
で表される基が含まれる。

【００２６】ＣＨ₃−(Ｓｉ(ＣＨ₃)₂Ｏ)_h− （式中、ｈは５〜３０、好ましくは１０〜２０の整数を
示す）なお、疎水性基には、異種の疎水性基が互いに結合した
複合疎水性基も含まれる。

【００２７】これらの疎水性基は、種々の置換基を有し
ていてもよい。置換基としては、カルボニル基、チオカ
ルボニル基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシル基、メルカプト
基、オキシム基、イミノ基、イソシアナト基（イソシア
ネート基）、チオイソシアナト基（チオイソシアネート
基）、シアノ基、第１〜３級アミノ基、ニトロ基、カル
ボキシル基、鎖式炭化水素基（Ｃ_1-12アルキル基）、単
環式脂肪族炭化水素基（Ｃ_3-15のシクロアルキル基）な
どが挙げられる。例えば、パーフルオロフェニル、パー
フルオロペンチル、パーフルオロドデシルなどを使用し
てもよい。

【００２８】好ましい疎水性基としては、界面活性剤と
して疎水性機能を十分に発揮する基、例えば、ノニル、
ドデシル（ラウリル）、テトラデシル、ヘキサデシル
（セチル）、オクタデシルなどのＣ_8-22長鎖脂肪族炭化
水素基（好ましくはＣ_10-18長鎖脂肪族炭化水素基、さ
らに好ましくはＣ_12-16長鎖脂肪族炭化水素基）、オク
チルフェニル、ノニルフェニル、デシルフェニル、ドデ
シルフェニルなどのＣ_1- ₂₀アルキル−Ｃ_6-12アリール
（好ましくはＣ_6-20アルキル−Ｃ_6-12アリール、さらに
好ましくはＣ_8-16アルキル−Ｃ_6-12アリール（例えば、
Ｃ_8-16アルキル−フェニル））などが挙げられる。

【００２９】親水性基としては、ノニオン性基（例え
ば、エーテル基、ヒドロキシル基など）、アニオン性基
（例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、硫酸基、リ
ン酸基、ホスホニウム塩基、これらの塩又はエステルな
ど）、カチオン性基（例えば、複素環基、アミノ基又は
これらの塩など）などが挙げられる。これらの親水性基
は、単独で又は二種以上組み合わせて使用してもよい。
ユニットＲ²は、前記親水性基で構成されていてもよ
く、前記親水性基を有する化合物に由来する基で構成さ
れていてもよい。前記親水性基には、Ｃ_2-4アルキレン
オキサイドが付加していてもよい。

【００３０】エーテル基としては、ポリオキシエチレン
基、ポリオキシプロピレン基などのポリオキシＣ_2-4ア
ルキレン基（特に、ポリオキシエチレン基）などが挙げ
られる。ヒドロキシル基を有する化合物としては、１価
アルコールであってもよいが、通常、多価アルコールで
ある。多価アルコールとして、例えば、多糖類（ショ
糖、ソルビトール（ソルビット）、ソルビタン（例え
ば、１，５−ソルビタン、３，６−ソルビタンなどの１
分子脱水物、ソルビドなどの２分子脱水物）、これらの
エステルなど）、グリセリンなどの３価アルコール、
Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシＣ_1-4アルキルアミドなどの２価
アルコールなどが含まれる。なお、前記ヒドロキシル基
を有する化合物には、Ｃ_2-4アルキレンオキサイド（特
にエチレンオキサイド）が付加していてもよい。

【００３１】アニオン性基のうち、カルボキシル基を有
する化合物としては、Ｃ_1-6脂肪族カルボン酸、炭素数
が１〜６個程度のアミノ酸（例えば、Ｎ−アシルアミノ
酸など）などが挙げられる。スルホン酸基を有する化合
物としては、ベンゼンスルホン酸基などのＣ_6-12アリー
ルスルホン酸、スルホ酢酸、スルホコハク酸などのスル
ホン酸基を有するＣ_2-6脂肪族カルボン酸、Ｎ−Ｃ_1-4ア
シルメチルタウリンなどのアミノＣ_1-6アルカンスルホ
ン酸なども含まれる。さらに、硫酸基を有する化合物に
は、グリセリンモノサルフェートなどの硫酸とアルコー
ル類とのエステルも含まれる。リン酸基を有する化合物
には、リン酸エステルなども含まれる。なお、前記アニ
オン性基及びアニオン性基を有する化合物には、Ｃ_2-4
アルキレンオキサイド（特にエチレンオキサイド）が付
加していてもよい。このような化合物としては、例え
ば、ポリオキシアルキレンエーテルカルボン酸、ポリオ
キシエチレンエーテル硫酸、ポリオキシエチレンエーテ
ルリン酸などが含まれる。

【００３２】親水性基がアニオン性基（カルボン酸、ス
ルホン酸など）の場合、種々の塩基と塩を形成していて
もよい。塩基としては、無機塩基（例えば、リチウム、
ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、マグネシウ
ムなどのアルカリ土類金属、アンモニアなど）、有機塩
基（例えば、アミン類など）が挙げられる。

【００３３】カチオン性基のうち、複素環基には、ヘテ
ロ原子として窒素原子、酸素原子及びイオウ原子から選
択された少なくとも１種の原子を含む５〜８員の複素環
に対応する基が含まれる。特に、ヘテロ原子として窒素
原子を有する複素環基の４級アンモニウム塩、例えば、
下記式で表されるピリジニウム塩やイミダゾリニウム塩
などの複素環基が挙げられる。

【００３４】

【化１】

【００３５】（式中、Ｒ⁵はアルキル基を示す）Ｒ⁵で表されるアルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、ヘキシルなどのＣ_1-6低級アルキル基が挙げ
られる。

【００３６】なお、複素環基において、結合手は、ヘテ
ロ原子が有していてもよく、ヘテロ原子以外の環構成炭
素原子が有していてもよい。

【００３７】アミノ基としては、１級、２級、３級又は
４級アミノ基が挙げられる。１〜３級アミノ基の場合、
無機酸（例えば、塩酸など）又は有機酸（例えば、酢酸
など）との塩又はアミドを形成していてもよい。２級〜
４級アミノ基としては、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、トリメチルアミノ、テトラメチル
アミノ、トリメチルラウリルなどのモノ〜テトラＣ_1-30
アルキルアミノ基（モノ、ジ、トリ又はテトラＣ_1-10ア
ルキルアミノ基（好ましくはＣ_1-6アルキルアミノ基、
さらに好ましくはＣ_1-4アルキルアミノ基））、フェニ
ルアミノ、ジフェニルアミノなどのモノ〜テトラＣ_6-12
アリールアミノ基、ベンザルコニウム塩基などのモノ、
ジ又はトリＣ_1-4アルキルＣ_7-20アラルキル基などであ
ってもよい。

【００３８】なお、カチオン性基（特に、アミノ基）
は、アニオン性基（特に、カルボキシル基、硫酸基）と
ともに、両性イオン基を形成してもよい。このような両
性イオンを形成する基としては、例えば、カルボキシエ
チルアミノ基（-NHCH₂CH₂COOH）などのアミノカルボン
酸残基、ジヒドロキシメチルアミノ基（-N(CH₂CH₂O
H)₂）、ジカルボキシメチルアミノ基（-N(CH₂COO
H)₂）、ジカルボキシエチルアミノ基（-N(CH₂CH₂COO
H)₂）、硫酸アミノ基（-NHOSO₃H）、カルボキシエチル
カルボニルアミノ基（-NHCOCH₂CH₂COOH）などのカルボ
キシル基及び／又はヒドロキシル基とアミノ基を有する
基が挙げられる。また、カルボキシル基とアミノ基を有
する化合物としては、カルボキシベタイン（アミノ酸の
Ｎ−トリＣ_1-4アルキル置換体）、スルホベタイン、複
素環のヘテロ原子にカルボキシル基又はヒドロキシル基
を有するアルキル基が置換した複素環式化合物（例え
は、イミダゾリンの窒素原子にカルボキシルＣ_1-4アル
キル基及びヒドロキシＣ_1-4アルキル基が置換した化合
物）、アミンオキサイド基、ホスファチジルコリン基な
どのリン酸基とアミノ基を有する化合物などが例示でき
る。

【００３９】前記親水性基は、種々の置換基で置換され
ていてもよい。置換基としては、前記疎水性基の項で例
示した置換基が挙げられる。また、親水性基には、異種
の親水性基が互いに結合した複合親水性基も含まれる。

【００４０】好ましい親水性基としては、界面活性剤と
しての親水性基の役割を十分に発揮する親水性基、例え
ば、カルボキシル基、硫酸基、スルホン酸基、それらの
塩、ポリエーテル基などが挙げられる。

【００４１】なお、ユニットＲ¹及びＲ^1aは、少なくと
も疎水性基を有していればよく、前記例示の親水性基を
ユニット内に有していてもよい。また、ユニットＲ²及
びＲ² ^aにおいても、少なくとも親水性基を有していれば
よく、さらに前記例示の疎水性基を有していてもよい。
例えば、前記親水性基（例えば、複素環基、Ｎ−置換ア
ミノ基など）、前記疎水性基（Ｃ_8-22長鎖脂肪族炭化水
素基など）が置換した基などが挙げられる。このような
基としては、親水性基としての複素環基のヘテロ原子
に、長鎖脂肪族炭化水素基が置換した基（前記複素環基
の式において、Ｒ ⁵がＣ_8-16アルキル基である基など）
などが挙げられる。

【００４２】ユニットＲ¹とＲ²は、ユニットＺを介して
結合している。ユニットＺに含まれる活性基（後述する
活性基Ｘ¹及びＸ²）としては、重合開始剤として機能す
る基、例えば、熱や光によりラジカル、カチオン、アニ
オンなどを発生する基（例えば、アゾ基、過酸化基（パ
ーオキシ基）、ケト基又はカルボニル基（ラジカル発生
可能なケト基）、過硫酸基などの重合開始基）を有する
基が含まれる。活性基は、通常、ラジカル発生基であ
る。

【００４３】アゾ基を有する活性基としては、下記式
(i)で表される基が例示できる。

【００４４】

【化２】

【００４５】（Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dは、同一又は異な
って、水素原子、酸素原子、アルキル基又は電子吸引性
基を示す）アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル基など
のＣ_1-4アルキル基（好ましくはＣ_1-2アルキル基、特に
メチル基）などが挙げられる。

【００４６】電子吸引性基としては、シアノ基、アシル
基（アセチル基などのＣ_1-4アシル基）、アルコキシカ
ルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
基などのＣ_1-4アルコキシカルボニル基）などが挙げら
れる。Ｒ^a及びＲ^bのうち、少なくとも１つは電子吸引性
基であってもよく、Ｒ^c及びＲ^dうち、少なくとも１つは
電子吸引性基であってもよい。なお、Ｒ^a及びＲ^b（Ｒ^c
及びＲ^d）のいずれか一方が酸素原子である場合、他方
は、隣接炭素原子と前記酸素原子との二重結合の結合手
であり、Ｒ^a及びＲ^b（Ｒ^c及びＲ^d）は隣接炭素原子とと
もにカルボニル基（-C(=O)-）を形成できる。

【００４７】前記活性基は、非対称であってもよいが、
活性基を中心に対称な構造を有するのが好ましい。

【００４８】パーオキシ基を有する活性基としては、下
記式(ii)又は(iii)で表される基が例示できる。

【００４９】

【化３】

【００５０】（式中、Ｒ^e、Ｒ^f、Ｒ^g及びＲ^hは、同一又
は異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アシル
基又はアルコキシカルボニル基を示す。Ｒ^e及びＲ^gは、
互いに結合して環を形成していもよい。aは０又は１を
示す。Ｍはアルカリ金属を示す）アルキル基としては、Ｃ_1-20アルキル基（特に、メチル
基、エチル基などのＣ _1-4アルキル基など）が挙げら
れ、シクロアルキル基としては、Ｃ_3-8シクロアルキル
基（特にシクロヘキシル基）などが挙げられる。また、
アリール基としては、フェニル基などのＣ_6-12アリール
基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素、
塩素原子などが挙げられる。アシル基としては、アセチ
ル基などのＣ _1-4アシル基、アルコキシカルボニル基と
しては、メトキシカルボニルなどのＣ₁ _-4アルコキシカ
ルボニル基などが挙げられる。特に、ａが１であるエス
テル型の過酸化基である場合、Ｒ^e、Ｒ^f、Ｒ^g又はＲ
^hは、Ｃ_1-20アルキル基（長鎖のＣ_6- ₁₈アルキル基な
ど）、フェニル基などのアリール基である場合が多い。

【００５１】Ｙで表されるアルカリ金属としては、ナト
リウム、カリウムなどが挙げられる。なお、前記式(ii
i)で表される活性基は、親水性基としても働くため、式
（１）のユニット−Ｚ−Ｒ²を構成してもよい。

【００５２】ケト基を有する活性基は、下記式(iv)で表
される。

【００５３】

【化４】

【００５４】（式中、Ａは炭素原子又はリン原子を示
し、ｙは０又は１を示す。Ｒ^k又はＲ^mは、アルキレン
基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を示し、Ｒⁿ
はアルキル基を示す。Ｒⁿは隣接酸素原子が形成する二
重結合の結合手であってもよい）なお、アルキレン基としては、メチレン、エチレン基な
どのＣ_1-4アルキレン基、特にメチレン基などが挙げら
れる。シクロアルキレン基としては、シクロヘキシレン
基などのＣ_3-8シクロアルキレン基などが挙げられる。
アリーレン基としては、フェニレン基などのＣ_6-12アリ
ーレン基、特にフェニレン基などが挙げられる。Ｒⁿで
表されるアルキル基としては、前記例示のＣ_1-6アルキ
ル基（特に、Ｃ_1-4アルキル基）などが挙げられる。特
に、ケト基の隣接部位は、立体障害を有するバルキーな
基である場合が多い。

【００５５】前記アルキレン基、シクロアルキレン基及
びアリーレン基には、種々の置換基（例えば、置換基
（Ｃ_1-4アルキル基（特にメチル基、エチル基）、Ｃ
_7-20アラルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基（メ
トキシ、エトキシ基などのＣ_1-4アルコキシ基）、カル
ボキシル基、Ｃ_1-4アルコキシカルボニル基、ハロゲン
原子（塩素原子など）、アミノ基、Ｎ−置換アミノ基
（ジメチルアミノなどのモノ又はジＣ_1-4アルキル置換
アミノ基など）、複素環基（モルホリノ基など）など）
が置換していてもよい。

【００５６】なお、ラジカル発生可能なケト基は、炭化
水素環を構成してもよく、硫黄原子などのヘテロ原子を
有する複素環を構成してもよい。また、前記炭化水素環
及び複素環は、単環に限らず、炭化水素環（非芳香族性
炭化水素環又は芳香族炭化水素環）や複素環が縮合（オ
ルソ縮合、オルソアンドペリ縮合など）した縮合複素環
であってもよい。なお、結合手は、いずれの環が有して
いてもよく、複素環においては、ヘテロ原子が有してい
てもよく、複素環を構成する炭素原子が有していてもよ
い。

【００５７】式（１）で表される化合物は、下記式
（２）で表される化合物であってもよい。

【００５８】 [R^1a−(B¹)_r−(X¹−B²)_t]_p−(S)_k−[(B³−X²)_u−(B⁴)_s−R^2a]_q (２) （式中、Ｒ^1aは少なくとも疎水性基を有するユニット、
Ｒ^2aは少なくとも親水性基を有するユニットを示し、Ｘ
¹及びＸ²は、同一又は異なって、活性基を示す。Ｂ¹及
びＢ⁴は、Ｒ¹又はＲ²と活性基Ｘ¹又はＸ²とを結合する
ユニットを示し、Ｂ ²及びＢ³は、スペーサーＳと活性基
Ｘ¹又はＸ²とを結合するユニットを示す。ｋ、ｒ、ｓ、
ｔ及びｕは、０又は１を示す。ただし、ｔとｕは同時に
０でない。ｐ及びｑは１〜３の整数を示す）Ｒ^1a及びＲ^2aとしては、前記Ｒ¹及びＲ²と同様のユニッ
トであり、前記Ｒ¹及びＲ²の項で例示したユニットが挙
げられる。

【００５９】結合ユニットＢ¹、Ｂ²、Ｂ³及びＢ⁴は、Ｒ
¹、Ｒ²、Ｘ、Ｓなどの種類に応じて適当に選択でき、通
常、多価基である。このような結合ユニットは、例え
ば、アルキレン基（メチレン、エチレン、プロピレン、
ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン基などのＣ_1-10アル
キレン基、好ましくはＣ_2-6アルキレン基）；シクロア
ルキレン基（シクロヘキシレン基などのＣ_4-12シクロア
ルキレン基、好ましくはＣ_4-8シクロアルキレン基）；
アリーレン基（フェニレン、ナフタレン基などのＣ_6-18
アリーレン基、好ましくはＣ_6-12アリーレン基など）；
複素環基[窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択さ
れた少なくとも１種のヘテロ原子を含む二価の複素環基
（ピロリジンジイル、ピペリジンジイル、ピリジンジイ
ル、ピラジンジイルなどのヘテロ原子として窒素原子を
有する５又は６員の複素環基、キノリンジイルなどのヘ
テロ原子として窒素原子を有する５又は６員の縮合複素
環基）など］などの多価基を含む分子鎖で構成されてい
る。なお、前記複素環基は、非芳香族性であってもよく
芳香族性であってもよい。さらに、複素環と炭化水素環
とが縮合した縮合複素環基においては、複素環又は炭化
水素環のいずれかが結合手を有していてもよい。また、
分子鎖は、前記多価基単独で構成されていてもよく、複
数の多価基で構成された分子鎖（例えば、−Ｒ−Ａｒ−
（Ｒは前記アルキレン基、Ａｒは前記アリーレン基を示
す）など）で構成されていてもよい。

【００６０】このような結合ユニットＢ¹、Ｂ²、Ｂ³及
びＢ⁴は、前記分子鎖中に、種々の結合（例えば、エス
テル結合、アミド結合などの結合）を有している場合が
多い。結合の種類としては、エステル結合、アミド結
合、ウレア結合、ウレタン結合、エーテル結合、チオエ
ーテル結合（スルフィド結合）、イミノ結合などが例示
できる。このような結合は、ユニットＲ¹、Ｒ²、Ｓ、Ｘ
（Ｘ¹及びＸ²をまとめてＸという場合がある）などが、
後述する反応性基（例えば、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、アミノ基、エポキシ基、チオール基、カルボキシ
ル基、イソシアネート基、ハロゲン原子など）を有する
化合物を用いて導入されるため、これら反応性基の反応
によって生成する。

【００６１】前記反応性基の反応によって生成する結合
様式は、例えば、アルコキシ基と、アルコキシ基に対し
て反応性を有する基（例えば、ヒドロキシル基、メルカ
プト基、カルボキシル基、イソシアネート基など）との
反応によって生成する結合（例えば、エーテル結合、チ
オエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合など）；
ヒドロキシル基と、ヒドロキシル基に対して反応性を有
する基（例えば、メルカプト基、カルボキシル基、イソ
シアネート基など）との反応によって生成する結合（例
えば、チオエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合
など）；ハロゲン原子と、ハロゲン原子に対して反応性
を有する基（ヒドロキシル基、アルコキシ基など）との
反応によって生成する結合（例えば、エーテル結合な
ど）；アミノ基と、アミノ基に対して反応性を有する基
（例えば、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネー
ト基など）との反応によって生成する結合（例えば、ア
ミド結合、イミノ結合、ウレア結合など）；エポキシ基
と、エポキシ基に対して反応性を有する基（例えば、ア
ミノ基、カルボキシル基など）との反応によって生成す
る結合（例えば、イミノ結合、エステル結合など）；メ
ルカプト基と、メルカプト基に対して反応性を有する基
（例えば、アルコキシ基など）；カルボキシル基と、カ
ルボキシル基に対して反応性を有する基（例えば、ヒド
ロキシル基、アミノ基、エポキシ基など）との反応によ
って生成する結合（エステル結合、アミド結合、エステ
ル結合など）；イソシアネート基と、イソシアネート基
に対して反応性を有する基（例えば、ヒドロキシル基、
アミノ基、カルボキシル基など）との反応によって生成
する結合（例えば、ウレタン結合、ウレア結合、エステ
ル結合など）などが挙げられる。

【００６２】活性基Ｘ¹及びＸ²としては、前記例示の活
性基が挙げられる。

【００６３】スペーサーＳは、ｐ及びｑの値に応じて選
択され、通常、多価基（２〜６価基、特に２〜４価基）
である。多価基は、例えば、分子鎖が、多価のＣ_1-10ア
ルカン（好ましくはＣ_1-6アルカン）基、Ｃ_3-20シクロ
アルカン（好ましくはＣ_3-10シクロアルカン）基、Ｃ
_6-20アリール（好ましくはＣ_6-12アリール）基、複素環
基（前記例示の窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選
択された少なくとも１種のヘテロ原子を含む二価の複素
環基）で構成されている。分子鎖は、前記多価基単独で
構成されていてもよく、複数の多価基で構成された分子
鎖（例えば、−Ｒ−Ａｒ−（Ｒはアルキレン基、Ａｒは
アリーレン基を示す）など）で構成されていてもよい。

【００６４】なお、スペーサーＳは、分子鎖中に種々の
置換基（Ｃ_1-4アルキル基、Ｃ_1-4アルコキシ基、シアノ
基、アミノ基、Ｎ−置換アミノ基（Ｎ−Ｃ_1-4アルキル
置換アミノ基）、ハロゲン原子など）を有していてもよ
い。

【００６５】式（１）〜（２）の化合物において、好ま
しい基の組合せとしては、例えば、疎水性基がＣ_8-22長
鎖脂肪族炭化水素基（特に、Ｃ_10-18長鎖脂肪族炭化水
素基）又はＣ_6-20アルキル−Ｃ_6-12アリール基（特に、
Ｃ_6-18アルキル−フェニル基）であり、親水性基が、ポ
リエーテル基（特にポリオキシエチレン基）、カルボキ
シル基、硫酸基、スルホン酸基又はこれらの塩である。
また、式（２）の化合物において、結合ユニットＢ¹〜
Ｂ⁴のうち、少なくとも１つは、エステル結合又はアミ
ド結合様式を有しているのが好ましい。好ましい係数の
組合せは、(i)ｋ＝０、ｐ＝１及びｑ＝１（特に、ｋ＝
０、ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ＝０、ｔ＝１及びｕ＝
０）、あるいは(ii)ｋ＝１、ｐ＝１又は２及びｑ＝１又
は２（特に、ｋ＝０、ｐ＝２、ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ＝
１、ｔ＝１又は０及びｕ＝０又は１）である。

【００６６】［製造方法］界面活性化合物の製造方法
は、特に制限されず、前記Ｒ¹、Ｒ²及びＺに対応する化
合物（あるいは基Ｒ¹、Ｒ²、Ｂ¹〜Ｂ⁴、Ｘ¹、Ｘ²及びＳ
に対応する化合物）をそれぞれ順に反応させてもよく、
Ｒ¹、Ｒ²及びＺ基（あるいは基Ｒ¹、Ｒ²、Ｂ ¹〜Ｂ⁴、Ｘ
¹、Ｘ²及びＳ）のうち複数の基に対応する単一の化合物
と、残余基に対応する単一又は複数の化合物とを反応さ
せてもよい。例えば、以下の方法により、界面活性化合
物を調製してもよい。

【００６７】下記式（４）で表される化合物と、Ｒ¹−Ｆ¹ （４）（式中、Ｆ¹は反応性基を示す。Ｒ¹は前記に同じ）下記
式（５）で表される化合物とを反応させる方法などが挙
げられる。

【００６８】（Ｆ²）_m−Ｚ−（Ｒ²）_n （５）（式中、Ｆ²は前記反応性基Ｆ¹に対応する反応性基を示
す。Ｚ、Ｒ²、ｍ及びｎは前記に同じ）より具体的に
は、基−Ｒ¹に対応する化合物（例えば、反応性基を有
するアルキルフェノールなど）と、基−Ｚ−（Ｒ²）_nに
対応する化合物（例えば、アゾ基を有し、末端に前記反
応性基に対応する反応性基を有する化合物など）とを反
応（例えば、エステル化）させてもよい。

【００６９】特に、式（２）で表される界面活性化合物
の場合、(i)ｋが０である場合、下記式（６）で表され
る化合物と、下記式（７）で表される化合物とを反応さ
せる方法；Ｒ^1a−(Ｂ¹)_r−(Ｘ¹−Ｂ²)_t−Ｆ³ （６）（Ｆ⁴）_p−[(Ｂ³−Ｘ²)_u−(Ｂ⁴)_s−Ｒ^2a]_q （７）（式中、Ｆ³は反応性基を示す。Ｆ⁴は前記反応性基Ｆ³
に対応する反応性基を示す。Ｒ^1a、Ｒ^2a、Ｂ¹、Ｂ²、Ｂ
³、Ｂ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ及びｕは前記に
同じ） (ii)ｋが１である場合、下記式（８）で表される化合物
と、下記式（９）で表される化合物と、下記式（１０）
で表される化合物とを反応させる方法などが挙げられ
る。

【００７０】（Ｆ⁵）_p−Ｓ−（Ｆ⁶）_q （８）Ｒ^1a−(Ｂ¹)_r−(Ｘ¹−Ｂ²)_t−Ｆ⁷ （９）Ｆ⁸−(Ｂ³−Ｘ²)_u−(Ｂ⁴)_s−Ｒ^2a （１０）（式中、Ｆ⁵及びＦ⁶は反応性基を示す。Ｆ⁷及びＦ⁸は、
同一又は異なって、前記反応性基Ｆ⁵又はＦ⁶に対応する
反応性基を示す。Ｓ、Ｒ^1a、Ｒ^2a、Ｂ¹、Ｂ²、Ｂ ³、
Ｂ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ及びｕは前記に同
じ）より具体的には、例えば、(i)ｋが０の場合、反応
性基と少なくともユニットＲ^1aとを有する化合物（例え
ば、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する長鎖脂
肪族炭化水素など）と、前記反応性基に対応する反応性
基と少なくともユニットＸ¹及び／又はＸ²とＲ^2aとを有
する化合物［例えば、（Ｂ¹）_r−（Ｘ¹−Ｂ²）_t−（Ｂ³
−Ｘ²）_u−（Ｂ₄）_s−Ｒ²に対応する化合物（カルボキ
シル基又はアミノ基を有し、かつアゾ基などの活性基を
有する化合物など）］とを反応（エステル化又はアミド
化）させて調製してもよい。

【００７１】また、(ii)ｋが１の場合、複数の反応性基
と少なくともスペーサーＳを有する化合物（例えば、ヒ
ドロキシル基及びアミノ基を有する脂肪族炭化水素な
ど）と、前記反応性基に対応する反応性基と少なくとも
ユニットＲ^1aを有する化合物［例えば、Ｒ^1a−（Ｂ¹）_r
−（Ｘ¹−Ｂ²）_tに対応する化合物（長鎖アルキル基を
有する酸ハライドなど）］と、前記反応性基に対応する
反応性基と少なくともユニットＲ²及びＸ²を有する化合
物［例えば、Ｒ^2a−（Ｂ⁴）_r−（Ｘ²−Ｂ³）_tに対応す
る化合物（カルボキシル基を有し、かつアゾ基などの活
性基を有する化合物など）］とを反応させて調製しても
よい。

【００７２】また、活性基Ｘは、予め活性基Ｘを有する
化合物（少なくとも基ＸとＲ¹又はＲ²とを有する化合
物）を使用することにより導入してもよく、基Ｘに対応
する前駆体基に、Ｒ¹及び／又はＲ²を導入した後、導入
してもよい。例えば、活性基が過酸化基の場合、活性基
の前駆体ユニットＸ^aを有する化合物と、過酸化物と反
応させることにより過酸化基を導入してもよい。

【００７３】なお、対応する反応性基の組合せ（Ｆ¹と
Ｆ²、Ｆ³とＦ⁴、ならびにＦ⁵及びＦ⁶とＦ⁷とＦ⁸との組
合せ）は、反応性基の種類に応じで選択でき、例えば、
一方の反応性基がカルボキシル基である場合、他方の反
応性基は、ヒドロキシル基、アミノ基又はエポキシ基な
どであってもよく、一方がヒドロキシル基である場合、
他方はカルボキシル基、イソシアネート基、エポキシ基
などであってもよい。さらに、一方がアミノ基である場
合、他方がカルボキシル基、イソシアネート基又はエポ
キシ基などであってもよい。

【００７４】前記化合物（４）〜（１０）としては、前
記反応性基［結合ユニットＢ¹〜Ｂ⁴の項で例示した結合
に対応する基（カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミ
ノ基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性
基）］を末端に有する化合物が使用できる。また、化合
物（８）としては、例えば、多価アルコール、多価カル
ボン酸、ヒドロキシカルボン酸、ポリアミン類、ポリイ
ソシアネート類などが使用できる。

【００７５】なお、疎水性基を有するユニットＲ¹（及
びＲ^1a）は、例えば、フリーデルクラフツ反応や置換反
応などにより導入又は生成させてもよい。例えば、少な
くとも基Ｘ及びＲ¹を有する化合物（例えば、ラウロイ
ルクロライドなどのＣ_8-22脂肪酸ハライドなど）と、少
なくとも基−Ｚを有する化合物（例えば、ベンゼン環を
有し、少なくとも基Ｚ及びＲ²を有する化合物など）と
のフリーデルクラフツアシル化反応により、Ｒ¹を導入
してもよい。また、基Ｒ¹に対応する化合物（例えば、
ラウロイルアルコキシドなどのＣ_8-22アルコキシドな
ど）と、少なくとも基−Ｚを有する化合物（例えば、ハ
ロゲン原子を有し、基−Ｚ−Ｒ²に対応する化合物な
ど）とを、置換反応に供することにより疎水性基Ｒ¹を
導入してもよい。

【００７６】前記（４）〜（１０）の化合物の使用量
は、反応性基に応じて、適宜選択され、反応条件（温
度、時間、溶媒など）は、後述する反応条件から適宜選
択できる。

【００７７】また、親水性基を有するユニットＲ²（及
びＲ^2a）は、例えば、グリニャール反応、加水分解、エ
チレンオキサイドの付加などにより導入又は生成しても
よい。例えば、少なくとも基−Ｚを有する化合物（例え
ば、ハロゲン原子を有し、基Ｚ−Ｒ¹に対応する化合
物）をグリニャール反応に供し、カルボキシル基を導入
してもよい。また、少なくとも基−Ｚを有する化合物
（例えば、エステル基を有し、基Ｚ−Ｒ¹に対応する化
合物）を加水分解することにより、親水性基Ｒ²である
カルボキシル基を導入してもよく、前記少なくとも基−
Ｚを有する化合物にエチレンオキサイドを付加してもよ
い。なお、疎水性基Ｒ¹又は親水性基Ｒ²の導入順序は、
特に制限されない。

【００７８】前記反応性基を利用して、各ユニット（例
えばＲ¹、Ｒ²など）を導入する方法では、(I)反応性基
を保護してもよく、(II)反応性基を活性化させてもよ
く、又は(III)カップリング試薬を用いてもよい。

【００７９】(I)の方法において、保護基としては、慣
用の保護基、ベンジル基や第３級ブチル基などの立体障
害を有する脱離可能な保護基が使用でき、特に、アミノ
保護基（ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシ
カルボニル基などの置換基を有していてもよいベンジル
オキシカルボニル基；第３級ブチルオキシカルボニル
基；フタロイル基などのアシル基、トリフェニルメチル
基などのアラルキル基など）、カルボキシル保護基（ベ
ンジルエステル基；第３級ブチルエステル基；Ｃ_1-2ア
ルキルエステル基など）、ヒドロキシル保護基（ベンジ
ル基、ジメチルカルバモイルベンジル基などの置換基を
有していてもよいベンジル基；第３級ブチル基；テトラ
ヒドロピラニル基；トリメチルシリル基など）などが使
用できる。反応性基の末端を保護基で保護することによ
り、所定の部位に疎水性基、親水性基及び／又は活性基
を結合させることができる。前記保護基は、慣用の脱離
手段、例えば、接触還元法、酸処理、アルカリ処理など
によって容易に脱離できる。

【００８０】(II)の方法では、副生物などの生成を抑制
でき、高収率で界面活性化合物を得ることができる。例
えば、反応性基（カルボキシル基など）を有する化合物
を使用し、前記反応性基を活性化させた後、疎水性基、
親水性基及び／又は活性基と前記反応性基と反応可能な
基（アミノ基など）とを有する化合物を反応させると、
界面活性化合物を効率よく調製できる。反応性基の活性
化は、通常、カルボキシル基を活性化するのが有利であ
る。反応性基の活性化には、慣用の方法が使用でき、例
えば、カルボキシル基を活性化する方法（活性エステル
化法、混合酸無水物法、アジド法などのＣ末端活性化
法）などにより行なうことができる。

【００８１】例えば、(i)活性エステル化法において、
カルボキシル基を活性化する化合物としては、電子吸引
性基を有する化合物などが挙げられる。前記電子吸引性
基としては、シアノ基、ニトロ基、アシル基（特にＣ
_1-4アシル基）、カルボキシル基、アルコキシカルボニ
ル基（特にＣ_1-4アルコキシカルボニル基）、スルホン
酸基、メルカプト基、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭
素原子など）などが挙げられる。前記電子吸引性基を有
する化合物としては、例えば、ｐ−ニトロフェノール、
ジニトロフェノールなどのニトロフェノール類；チオフ
ェノール；ニトロチオフェノール；トリクロロフェノー
ル、テトラクロロフェノール、トリフルオロフェノー
ル、テトラフルオロフェノールなどのハロゲン置換フェ
ノール類など］、ヒドロキシアミン類［Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒ
ドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸イ
ミドなどのＮ−ヒドロキシＣ_4-20ジカルボン酸イミド、
１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシイ
ミノ−２−シアノ酢酸エチルエステル又はそのアミドな
ど］、ヒドロキシル基を有し、ヘテロ原子として窒素原
子を有する複素環化合物［ヒドロキシキノリンなどのキ
ノリン類、ヒドロキシピリジンなどのピリジン類な
ど］；ヒドロキシル基を有する芳香族化合物［カテコー
ル、フェナシルカテコールなどの隣接ヒドロキシル基を
有するカテコール類など］などが使用できる。これらの
化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用でき
る。

【００８２】(ii)混合酸無水物法では、カルボキシル基
を有する化合物と、酸（例えば、炭酸モノアルキルエス
テル（イソブチルクロロホルメートなど）、吉草酸、イ
ソ吉草酸、リン酸（トリプロピルトリメタリン酸など）
など）などを併用することにより活性化を行う。(iii)
アジド法では、例えば、カルボキシル基を有する化合物
と、ヒドラジンとを反応させて、ヒドラジドを生成し、
次いで亜硝酸によりアジドに変換する。カルボキシル基
がアジドに変換されて活性化した化合物は、アミノ基を
有する化合物と効率よく反応する。

【００８３】(III)の方法において、カップリング試薬
としては、慣用のカップリング試薬、例えば、N,N'-ジ
シクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、カルボニル
ジイミダゾール、Ｎ−エチル−５−フェニルイソキサゾ
リウム−３'−スルホン酸塩などが使用できる。さら
に、ＤＣＣと前記活性エステル化法の項で例示した電子
吸引性基を有する化合物（例えば、（Ｎ−ヒドロキシス
クシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールなど
のヒドロキシアミン類など）とを組み合わせて、カップ
リング試薬として使用してもよい（ＤＣＣ−additive
法）。

【００８４】なお、前記方法(I)〜(II)により界面活性
化合物を調製すると、中間体として下記式（３）で表さ
れる化合物が得られる。式（３）の化合物は、本発明の
界面活性化合物を製造する上で特に有用である。

【００８５】（Ｅ¹）_m−Ｚ−（Ｅ²）_n （３）（式中、Ｅ¹は、式（１）のＲ¹に対応する疎水性基又は
反応によって疎水性基を生成する反応性基を示し、Ｅ²
は、式（１）のＲ²に対応する親水性基又は反応によっ
て親水性基を生成する反応性基を示す。ただし、Ｅ¹及
びＥ²のうち少なくとも一方は反応性基である；Ｚ、ｍ
及びｎは請求項１に同じ）Ｅ¹及びＥ²で表される反応性
基としては、例えば、活性化された反応性基（例えば、
前記例示の保護基で保護された反応性基、ｐ−ニトロフ
ェニルオキシカルボニル基、チオフェニルオキシカルボ
ニル基、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドエステル基などの
電子吸引性化合物により活性化された反応性基（特に活
性化されたカルボキシル基）など）などが挙げられる。

【００８６】式（３）の化合物のうち、特に好ましい化
合物としては、前記式（２）の化合物に対応する化合物
であって、下記式（１１）で表される化合物などが例示
できる。

【００８７】 [E^1a−(B¹)_r−(X¹−B²)_t]_p−(S)_k−[(B³−X²)_u−(B⁴)_s−E^2a]_q (11) （式中、Ｅ^1a及びＥ^2aは活性基を示す。Ｂ¹、Ｂ²、
Ｂ³、Ｂ⁴、Ｓ、ｋ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ及びｕは、前記
に同じ）前記式（３）で表される化合物は、例えば、１又は複数
の反応性基（カルボキシル基など）を有し、かつ少なく
ともユニットＺ（又は式（１１）においては、少なくと
もＸを有するユニット）を有する化合物と、前記保護基
に対応する化合物及び／又は前記反応性基を活性化する
化合物とを反応させることによって調製できる。例え
ば、ユニットＺ−Ｒ¹又はユニットＺ−Ｒ²に対応し、か
つ１つのカルボキシル基を有する化合物と、前記保護基
に対応する化合物又は前記反応性基を活性化する化合物
とを反応させてもよく、ユニットＺに対応し、かつ２つ
のカルボキシル基を有する化合物と、前記保護基に対応
する化合物又は前記反応性基を活性化する化合物とを反
応させてもよい。前記保護基に対応する化合物又は前記
反応性基を活性化する化合物の使用量は、反応性基１当
量当たり、１〜３当量、好ましくは１．５〜２当量程度
である。

【００８８】反応性基（カルボキシル基など）が活性化
された前記式（３）の化合物を、Ｒ ¹又はＲ²と前記反応
性基と反応可能な基とを有する化合物とを反応させるこ
とにより、本発明の界面活性化合物（１）を得ることが
できる。前記反応性基と反応可能な基を有する化合物の
使用量は、式（３）の化合物の反応性基１当量当たり、
１〜３当量、好ましくは１．５〜２当量程度である。

【００８９】前記反応は、溶媒の存在下で行ってもよ
い。溶媒としては、慣用の溶媒（例えば、ヘキサンなど
の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化
水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、
メチレンクロライド、エチレンクロライドなどのハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノンなどのケトン類、ジメチルホルムアミ
ドなどのアミド類、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール、ブタノールなどのアルコール類など）
が使用できる。なお、活性化法のうち、酸無水物法を使
用する場合、溶媒は無水物であるのが好ましい。

【００９０】反応温度は、０〜１５０℃の範囲から選択
でき、例えば、１０〜１２０℃、好ましくは２０〜１０
０℃程度である。反応は常圧、減圧又は加圧下で行なう
ことができる。反応は、不活性ガス（例えば、窒素、ア
ルゴン、ヘリウムなど）の雰囲気下で行ってもよい。

【００９１】上記反応により生成した化合物（１）及び
化合物（３）は、反応終了後、慣用の方法、例えば、濾
過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマト
グラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手
段により、容易に分離精製できる。

【００９２】なお、本発明の界面活性化合物は、種々の
媒体中に溶解又は分散可能であり、媒体の種類に応じ
て、順相又は逆相ミセルを形成できる。媒体としては、
特に制限されず、例えば、水、ヘキサンなどの脂肪族炭
化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メチレンク
ロライド、エチレンクロライドなどのハロゲン化炭化水
素類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノールなどのアルコール類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルな
どのエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類
などが挙げられる。

【００９３】本発明の界面活性化合物は、界面活性能を
有するとともに、重合性開始剤としても機能する。その
ため、本発明の界面活性化合物で被処理基材を処理する
と、被処理基材の表面を有効に改質でき、活性基を開裂
させることにより、表面の状態を疎水性又は親水性に制
御できる。従って、処理された基材を、用途に応じて、
所望の媒体に分散できる。

【００９４】前記被処理基材としては、特に制限され
ず、用途に応じて、無機又は有機基材の広い範囲から選
択できる。また、被処理基材の形状も特に制限されず、
例えば、球状、楕円形状、偏平状、ロッド状、繊維状、
平板状などであってもよい。また、被処理基材として、
プラスチックフィルムやプラスチック成形体を使用して
もよい。被処理基材としては、通常、粒子（特に、機能
性粒子）が使用される。

【００９５】粒子には、絶縁体、低誘電体、着色剤、導
電体、誘電体、磁性体などが含まれる。これらの粒子
は、有機又は無機粒子で構成できる。

【００９６】絶縁体又は低誘電体としては、有機ポリマ
−、例えば、フッ素樹脂（例えば、ポリテトラフルオロ
エチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン（ＰＣＴＦ）、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤ
Ｆ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）、テトラフル
オロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（Ｐ
ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体
（ＰＥＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオ
ロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）など）、
ポリメタクリル酸メチル系樹脂、メラミン樹脂、架橋ス
チレン系樹脂、シリコーン系樹脂；無機絶縁体材料、例
えば、シリカ（ＳｉＯ₂）、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）など
が挙げられる。

【００９７】着色剤としては、有機顔料、例えば、赤色
顔料（例えば、トルイジンレッド、パーマネントレッ
ド、ブリリアントファストスカーレット、バルカンファ
ストレッド、ピラゾロンレッド、リソールレッド、レー
キレッド、ブリリアントカーミン、レーキボルドーなど
のアゾ系顔料、ローダミンレーキなどのレーキ顔料な
ど）、橙色顔料（例えば、ピラゾロンオレンジ、バルカ
ンオレンジ、パーマネントオレンジなど）、黄色顔料
（例えば、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、バル
カンファストイエロー、パーマネントイエローなど）、
緑色顔料（例えば、フタロシアニングリーンなどのフタ
ロシアニン顔料、ファイナルイエローグリーンなどのレ
ーキ顔料など）、青色顔料（例えば、フタロシアニンブ
ルー、ファストスカイブルーなどのフタロシアニン顔
料、メチルバイオレットレーキ、ビクトリアピュアーブ
ルーレーキなどのレーキ顔料など）；無機顔料、例え
ば、白色顔料（例えば、酸化亜鉛、リトポン、酸化チタ
ン（ルチル型など）など）、赤色顔料（例えば、酸化鉄
赤、赤色酸化鉛、モリブデンレッドなど）、橙色顔料
（例えば、モリブデートオレンジなど）、黄色顔料（例
えば、酸化鉄黄、黄色酸化鉛、クロムエロー、ニッケル
チタンエローなど）、緑色顔料（例えば、クロムグリー
ン、酸化クロムなど）、青色顔料（例えば、紺青、群
青、コバルトブルー）、紫色顔料（例えば、マンガンバ
イオレットなど）、黒色顔料（例えば、チャンネルブラ
ック、ファーネスブラックなどのカーボンブラック、酸
化鉄黒など）などが挙げられる。

【００９８】さらに、有機顔料として、キナクリドン
系、ペリレン系、イソインドリノン系、ジオキサジン
系、スレン系顔料などの有機顔料を使用してもよい。ま
た、体質顔料（例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、水酸化アルミニウムなど）を使用してもよい。

【００９９】磁性体としては、例えば、鉄、ニッケル、
コバルト、アルミニウムなどの金属又はこれらの合金を
含む磁性材料、例えば、フェライト、超微粒子フェライ
ト、パーマロイ、スーパーマロイ、パーメンダーなど；
強誘電体としては、例えば、チタン酸バリウム、ニオブ
酸リチウムなど；導電体としては、例えば、金、銀、
銅、白金、アルミニウムなどの金属単体又はこれらの合
金、透明導電材（例えば、酸化錫、酸化インジウム、Ｉ
ＴＯ、ＳｎＯ₂−Ｓｂ、ＳｎＯ₂−Ｆ、ＺｎＯ−Ａｌ、Ｚ
ｎＯ−Ｆ、Ｃｄ₂ＳｎＯ₄など）など；感光剤としては、
例えば、酸化亜鉛、酸化チタン（アナターゼ型などの光
酸化触媒）、前記有機顔料などが挙げられる。また、圧
電体、蛍光体、超伝導体、センサー材などの機能性粒子
を使用してもよい。

【０１００】機能性分散粒子の平均粒子径は、例えば、
１ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５ｎｍ〜０．５μｍ、さら
に好ましくは１０ｎｍ〜０．３μｍ程度の範囲から選択
できる。

【０１０１】また、機能性粒子を使用する場合、ゾルの
形態で使用してもよい。

【０１０２】プラスチックフィルム又は成形体として
は、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィ
ン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、エチレン
−ビニルアルコール共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸
エステル、ポリスチレン、ポリエステル（ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポ
リアルキレンテレフタレートなど）、ポリアミド（ポリ
アミド６、ポリアミド６６、ポリアミド６１０など）、
ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンエ
ーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、酢
酸セルロースなどのセルロース誘導体などが挙げられ
る。

【０１０３】これらの被処理基材は、所望する機能に応
じて、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

【０１０４】被処理基材に対する界面活性化合物の使用
量は、特に制限されず、被処理基材１００重量部に対し
て、０．００１〜１０重量部、好ましくは０．０１〜８
重量部、さらに好ましくは０．０５〜５重量部程度であ
る。

【０１０５】被処理基材として粒子状基材を使用する場
合、界面活性化合物が吸着した基材の平均粒径は、基材
粒子の平均粒径に応じて異なるが、例えば、１ｎｍ〜５
μｍ、好ましくは５ｎｍ〜１μｍ、さらに好ましくは１
０ｎｍ〜０．５μｍ程度である。

【０１０６】界面活性化合物による被処理基材の処理
は、界面活性化合物の噴霧、浸漬、含浸などにより、直
接適用してもよく、化合物と含有する前記媒体を噴霧、
浸漬、含浸させ、吸着又は付着処理することにより行う
ことができる。［複合基材］界面活性化合物が吸着した基材は、界面活
性化合物を開始剤として、重合性単量体を重合でき、基
材表面に重合体が効率よく結合した複合基材を得ること
ができる。従って、得られた複合基材は、新たな機能を
付与でき、さらにポリマーマトリックスへの分散性を大
きく改善できる。また、基材に結合させる重合体の種類
を選択することにより、複合基材の表面を親水性又は疎
水性に制御できるため、種々の媒体に対する複合基材の
分散性も制御できる。さらに、本発明の複合基材は、ビ
ニル基などの不飽和結合よりも開裂しやすい活性基（例
えば、アゾ基）を起点に重合性単量体を重合するので、
基材と重合性単量体との結合率（グラフト率）も大きく
改善できるとともに、基材表面全体を重合体で有効に被
覆できる。

【０１０７】重合性単量体としては、前記活性基（重合
開始基）の開裂により重合を開始できる単量体、例え
ば、ビニル単量体などが挙げられる。ビニル単量体とし
ては、例えば、芳香族ビニル化合物［例えば、スチレ
ン、アルキルスチレン（例えば、ビニルトルエンな
ど）、α−アルキルスチレン（例えば、α−メチルスチ
レンなど）；α,β−不飽和カルボン酸［例えば、（メ
タ）アクリル酸などのモノカルボン酸、マレイン酸、フ
マル酸、イタコン酸などの多価カルボン酸又はそれらの
酸無水物（例えば、無水マレイン酸など）］；（メタ）
アクリル酸のエステル［例えば、（メタ）アクリル酸メ
チル、(メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸
ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メ
タ）アクリル酸オクチルなどの（メタ）アクリル酸Ｃ
_1-14アルキルエステル、ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレート（ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなど）、グリ
シジル（メタ）アクリレート］；（メタ）アクリルアミ
ド又はその誘導体（例えば、Ｎ−メチロール（メタ）ア
クリルアミドなど）；マレイミド又はその誘導体（例え
ば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドな
ど）など］；（メタ）アクリロニトリル；カルボン酸ビ
ニルエステル［例えば、酢酸ビニルなど］；共役ジエン
系単量体［例えば、ブタジエン、イソプレンなど］；オ
レフィン系単量体［例えば、エチレン、プロピレンな
ど］；ハロゲン化ビニル［例えば、塩化ビニルなど］；
ハロゲン化ビニリデン［例えば、塩化ビニリデンなど］
などが挙げられる。

【０１０８】また、架橋性単量体として、例えば、多官
能重合性単量体［エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４
−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビ
スアクリルアミドなど］を使用してもよい。

【０１０９】また、架橋性単量体として、例えば、架橋
性官能基を有する単量体［エポキシ基含有単量体［グリ
シジル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルグリシジ
ルエーテル、１−アリルオキシ−３，４−エポキシブタ
ン、１−（３−ブテニルオキシ）−２，３−エポキシプ
ロパン、４−ビニル−１−シクロヘキセン−１，２−エ
ポキシドなど］、メチロール基含有単量体又はその誘導
体［Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メト
キシメチル（メタ）アクリルアミドなどのＮ−Ｃ_1-4ア
ルコキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチロー
ル（メタ）アクリルアミドなど］などを使用してもよ
い。

【０１１０】これらの重合性単量体は、単独で又は二種
以上組み合わせて使用してもよい。

【０１１１】なお、これら架橋性単量体を使用すれば、
基材表面に強靱な被膜を形成して、カプセル化できる。
また、重合性単量体の使用量の調整することにより、基
材表面を被覆する重合体の厚みも調整できる。

【０１１２】重合性単量体の使用量は、基材１００重量
部に対して、０．１〜１００００重量部、好ましくは
０．５〜１０００重量部、さらに好ましくは１〜１００
重量部程度である。

【０１１３】前記基材として、粒状の機能性粒子を使用
する場合、得られた複合基材（複合粒子）の平均粒径
は、基材粒子の平均粒径に応じて異なるが、通常、１０
ｎｍ〜５０μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜１０μｍ、さら
に好ましくは１００ｎｍ〜５μｍ程度の範囲から選択で
きる。［複合基材の製造方法］複合基材は、被処理基材を本発
明の界面活性化合物で処理して、前記重合性単量体を重
合させることにより製造できる。特に、基材表面に吸着
した界面活性化合物の存在下、重合性単量体を熱又は光
照射（例えば、紫外線照射など）により重合することに
よって製造できる。熱又は光照射に伴って、界面活性化
合物の活性基（重合開始基）が開裂し、開裂によって生
じた基（特に、ラジカル）を起点として重合性単量体が
重合し、基材表面に重合体を結合（特に、グラフト）す
る。

【０１１４】重合は、溶媒の存在下又は非存在下、特に
前記例示の媒体中で行うことができる。

【０１１５】加熱温度としては、例えば、５０〜１２０
℃、好ましくは６０〜１００℃程度の範囲から選択でき
る。

【０１１６】なお、重合に際しては、必要により、光重
合促進剤（例えば、第３級脂肪族アミン類、第３級芳香
族アミン、ホスフィン系重合促進剤）、熱重合促進剤な
どを併用してもよい。

【０１１７】界面活性化合物及び基材は、被処理基材を
界面活性化合物で処理した基材を使用してもよく、水性
媒体中、被処理基材を界面活性化合物で処理した基材を
用いてもよい。

【０１１８】また、界面活性化合物の活性基が開裂する
と、親水性基又は疎水性基のいずれか一方が媒体中に放
出される。そして、被処理基材表面での重合及び放出さ
れた基を起点とする重合が進行するにつれて、単量体の
種類に応じて双方の成分の親水化又は疎水化が進み、互
いに集合又は凝集するようである。

【０１１９】本発明の複合基材は、マトリックス及び媒
体への分散性が良好であるとともに、基材表面の被覆の
程度を調整できるため、種々の用途に利用できる。例え
ば、透明性を有するプラスチック製品に顔料などを添加
する場合であっても、本発明の複合基材はポリマーマト
リックスへの分散性が高いので、透明性を維持しつつ、
顔料の添加が可能であるため、印刷インキやインク用材
料、インクジェット用インキとして有用である。また、
基材として薬剤などの有機又は無機粒子を使用すれば、
カプセル化が可能であり、薬剤のコントロールリリース
が可能である。さらに、保冷剤や蓄熱材としても有用で
ある。なお、マトリックスとしては、前記重合性単量体
の重合体などが使用できる。

【０１２０】

【発明の効果】本発明では、界面活性能と重合開始能と
を有する界面活性化合物を使用するので、基材表面に重
合体を有効に結合させることができるとともに、ポリマ
ーマトリックス又は媒体への分散性を大きく改善でき
る。さらに、基材表面を重合体で効率よく被覆でき、基
材表面の被覆量も制御できる。

【０１２１】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

【０１２２】実施例１［界面活性化合物の製造］

【０１２３】

【化５】

【０１２４】上記式で表される４，４’−アゾビス（４
−シアノペンタン酸）（和光純薬（株）製）２．８ｇ
（０．０１モル）を２００ｍＬのアセトンに溶解し、ｐ
−ドデシルフェノール２．６ｇ（０．０１モル）とＮ，
Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド２．１ｇ（０．
０１モル）とを加え、５℃で２４時間攪拌した。その
後、沈殿したジシクロヘキシル尿素を除去し、アセトン
溶液に２００ｍＬの蒸留水を加え、１０重量％−水酸化
ナトリウム水溶液を加えてｐＨを１０に調製した。分離
した油層分を除去した後、濃塩酸数滴を加え溶液のｐＨ
を３に調製した。分離した油層分をジエチルエーテル１
００ｍＬで抽出し、蒸留水で数回洗浄した。無水硫酸マ
グネシウムによりエーテル層を乾燥後、真空下５℃でエ
ーテルを留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、下記式で表される化合物１
２ｇを得た。

【０１２５】

【化６】

【０１２６】この化合物を２０ｍＬのメタノールに溶解
し、１モル／Ｌ（１Ｎ）水酸化ナトリウム水溶液を加え
て一晩攪拌し、下記式で表される化合物１を得た。この
化合物１は、前記式（２）において、ｋ＝０、ｐ＝１、
ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ＝０、ｔ＝１及びｕ＝０である化合
物に相当する。

【０１２７】

【化７】

【０１２８】ｐ−ドデシルフェノールに代えてドデシル
アルコール２．０ｇを用いる以外、上記と同様にして、
下記式で表される化合物２を得た。この化合物２は、前
記式（２）において、ｋ＝０、ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝
１、ｓ＝０、ｔ＝１及びｕ＝０である化合物に相当す
る。

【０１２９】

【化８】

【０１３０】実施例２［吸着粒子の製造］５重量％の塩化チタン（ＴｉＣｌ）水溶液１００ｍＬ
に、１０重量％炭酸ナトリウム（Ｎａ₂ＣＯ₃）水溶液約
１２ｍＬを加え、溶液のｐＨを制御することにより、酸
化チタンヒドロゾルを調製した。このヒドロゾルに、上
記化合物１の１０重量％水溶液１０ｍＬを加えた後、２
重量％ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＳＤ
Ｓ）水溶液約１５ｍＬを加え、化合物１が吸着した酸化
チタン粒子を得た。水相から分離した上記粒子を回収
し、真空乾燥機中２０℃で乾燥することにより、界面活
性化合物が吸着した粒子を得た。

【０１３１】得られた粒子はトルエン、クロロホルムに
容易に分散する粉末であり、平均粒子径は１．７ｎｍで
あった。

【０１３２】実施例３［吸着粒子］化合物１に代えて、化合物２を用いる以外、実施例２と
同様にして吸着粒子を得た。得られた粒子はトルエン、
クロロホルムに容易に分散する粉末であり、平均粒子径
は１．７ｎｍであった。

【０１３３】実施例４［吸着粒子の活性基を開裂させて
得られる粒子の製造］上記化合物１が吸着した酸化チタン粒子１ｇを７０℃で
１０分間加熱した。加熱後、上記粒子をエタノールに分
散させたところ、加熱前では分散しなかった粒子が、加
熱後では均一に分散した。すなわち、上記粒子は界面活
性化合物の活性基（分解性官能基）が分解することによ
り、表面が疎水性から親水性に変化することが認められ
た。

【０１３４】実施例５［複合粒子］上記化合物１が吸着した酸化チタン粒子１ｇを３０ｍＬ
のトルエンに分散させ、スチレンモノマー０．５ｇを加
え、窒素気流下７０℃で２４時間攪拌した。その後、上
記溶液を２００ｍＬのメタノールに加え、重合体を再沈
殿により回収した。回収した重合体を真空下６０℃で２
４時間乾燥し、複合粒子を得た。

【０１３５】上記複合粒子は透過型電子顕微鏡観察によ
り、酸化チタン粒子を骨格中心に保持していた。この複
合粒子をスチレンポリマーと混合したところ、透明性を
維持した酸化チタン−スチレン複合体を得た。

【０１３６】同様にして、上記化合物１が吸着した酸化
チタン粒子１ｇを３０ｍＬのトルエンに分散後、Ｎ，
Ｎ’−ジメチルアクリルアミド０．５ｇを加え、窒素気
流下７０℃で２４時間攪拌した。その後、上記溶液を２
００ｍＬのノルマルヘキサンに加え、重合体を再沈殿に
より回収した。回収した重合体を真空下６０℃で２４時
間乾燥し、複合粒子を得た。

【０１３７】上記複合粒子は透過型電子顕微鏡観察によ
り、酸化チタン粒子を骨格中心に保持していた。この複
合粒子をアクリル樹脂と混合したところ、透明性を維持
した酸化チタンとアクリル樹脂との複合体を得た。ま
た、この複合粒子はメタノールに均一分散することが認
められた。

【０１３８】実施例６［複合粒子］前記化合物２の１０重量％水溶液２ｍＬ、ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム０．０２ｇをイオン交換水１
００ｍＬに溶解し、さらに５重量％銅フタロシアニン顔
料のアセトン分散液２ｍＬを超音波ホモジナイザーで分
散した。水分散液は青色半透明液であり、液中の顔料粒
子の体積平均粒子径は１７０ｎｍであった。次いで、水
分散液にスチレン７ｍＬを加え、窒素気流下、７０℃で
１７時間重合を行った。液は、青色半透明の水乳化液と
なった。液中の顔料粒子の体積平均粒子径は１１０ｎｍ
であった。この乳化液を酸性にすると青色の沈殿物が得
られた。この沈殿物を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察
したところ球状の微粒子であり、ほぼすべての顔料粒子
がポリスチレンで被覆されていた。

【０１３９】実施例７前記化合物２の２重量％水溶液２ｍＬ、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム０．０９ｇをイオン交換水１０
０ｍＬに溶解し、さらに５重量％銅フタロシアニン顔料
のアセトン分散液２０ｍＬを超音波ホモジナイザーで分
散した。分散液は青色半透明液であり、液中の顔料粒子
の体積平均粒子径は２１０ｎｍであった。次いで、分散
液にスチレン１ｍＬを加え、窒素気流下、８０℃で２時
間重合を行った。次いで、窒素置換したアクリルアミド
（０．２ｇ）／メチレンビスアクリルアミド（０．５
ｇ）水溶液を加え、さらに重合を行った。重合後、青色
半透明液が得られた。液中の顔料粒子の体積平均粒子径
は１００ｎｍであった。この分散液は、強アルカリ性下
及び強酸性下のいずれにおいても凝集せず、安定であっ
た。液中の粒子を乾燥させてＳＥＭで観察したところ球
状の微粒子であり、ほぼすべての顔料粒子がポリマーで
被覆されていた。この乾燥粒子は、水に再分散可能であ
り、青色半透明液となった。

【０１４０】実施例８実施例１で使用した４，４’−アゾビス（４−シアノペ
ンタン酸）（和光純薬（株）製）５．６ｇをテトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）５０ｍｌに溶解し、さらにＮ−ヒド
ロキシスクシンイミド４．６ｇとＮ，Ｎ'−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド（ＤＣＣ）８．２４ｇを加え、室
温で２４時間攪拌した。反応混合物からＴＨＦを留去し
た後、アセトン５００ｍｌに分散させ、生じた沈殿を除
去した。次いで、反応混合物からアセトンを留去して下
記式で表されるカルボキシル基がエステル化された化合
物の結晶を得た。

【０１４１】

【化９】

【０１４２】前記結晶１．７６ｇをジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）３５ｍｌに溶解し、ドデシルアミン０．７
４ｇを加えて１晩攪拌した。反応混合物を水３００ｍｌ
に添加して、析出した沈殿を濾過及び水洗した後、ジメ
トキシエタンに再溶解させ、硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒（ジメトキシエタン）を留去し、さらに酢酸エ
チルで洗浄及び乾燥させて、前記ジエステルの一方のエ
ステル基がドデシルアミンに置換した生成物を得た。こ
の生成物は下記式で表される。

【０１４３】

【化１０】

【０１４４】続いて、前記生成物１．７ｇをメタノール
２０ｍｌに分散させ、さらに水酸化ナトリウム水溶液
（２モル／Ｌ＝２Ｎ）１．６ｍｌを加えて室温で攪拌
し、もう一方のエステルを加水分解して下記目的化合物
を得た。この化合物は、前記式（２）において、ｋ＝
０、ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ＝０、ｔ＝１及びｕ＝
０である化合物に相当する。

【０１４５】

【化１１】

【０１４６】実施例９上記ジエステルの一方のエステルがドデシルアミンで置
換された生成物２．７２ｇをメタノール４０ｍｌに分散
させ、スルファニル酸０．８７ｇを加えて１晩攪拌し、
次いで水酸化ナトリウム水溶液（２モル／Ｌ＝２Ｎ）２
ｍｌを加えて下記式で表される化合物を得た。この化合
物は、前記式（２）において、ｋ＝０、ｐ＝１、ｑ＝
１、ｒ＝１、ｓ＝０、ｔ＝１及びｕ＝０である化合物に
相当する。

【０１４７】

【化１２】

【０１４８】実施例１０ベンゾイン２１．２ｇ（０．１モル）を３００ｍＬのメ
タノールに溶解し、さらにアセチルクロライド７．９ｇ
（０．１モル）とトリエチルアミン１５ｇ（０．１５モ
ル）を加え、８時間加熱還流した。次いで、反応混合物
に１重量％塩酸５００ｍＬを加え、生成物を５００ｍＬ
のジエチルエーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで
エーテル溶液を乾燥後、真空下でエーテルを留去した。
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、下記式で表されるベンゾインエステル化合物１
０a（２２．９ｇ）を得た。

【０１４９】

【化１３】

【０１５０】前記化合物１０a（２２．９ｇ）を３００
ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、ラウロ
イルクロライド１６．５ｇ（０．０７５）と塩化アルミ
ニウム(III)１０．０ｇ（０．０７５モル）を加え、８
時間加熱還流した。反応混合物に蒸留水１００ｍＬを徐
々に加えた後、固形分をろ別し、反応溶液を５００ｍＬ
のジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マグネシウム
でエーテル溶液を乾燥後、真空下でエーテルを留去し
た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグフラフィー
により精製し、下記式で表される化合物１０b（１４．
１ｇ）を得た。

【０１５１】

【化１４】

【０１５２】前記化合物１０b（１４．１ｇ）を５重量
％水酸化カリウムのエタノール（ＥｔＯＨ）溶液２００
ｍＬに加え、８０℃で１時間加熱攪拌した。その後、１
重量％塩酸で反応混合物のｐＨを７に調整し、生成物を
５００ｍＬのジエチルエーテルで抽出し、エーテル層を
１０重量％炭酸水素ナトリウム溶液５００ｍＬで洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムでエーテル溶液を乾燥後、真
空下でエーテルを留去し、下記式で表される化合物１０
c（１２．１ｇ）を得た。

【０１５３】

【化１５】

【０１５４】前記化合物１０c（１２．１ｇ）を３００
ｍＬのＴＨＦに溶解し、さらに４−クロロスルホニル安
息香酸６．６ｇ（０．０３モル）とトリエチルアミン１
０ｇ（０．１モル）を加え、８時間加熱還流した。反応
混合物に５重量％塩酸を加え、ｐＨを３に調整した後、
生成物を５００ｍＬのジエチルエーテルで抽出した。無
水硫酸マグネシウムでエーテル溶液を乾燥後、真空下で
エーテルを留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製し、次いで実施例１と同様に
して、水酸化ナトリウム水溶液（０．５モル／Ｌ＝０．
５Ｎ）を加えて、下記式で表される化合物１０ｄ（１
２．６ｇ）を得た。この化合物１０ｄは、前記式（２）
において、ｋ＝０、ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ＝０、
ｔ＝１及びｕ＝０である化合物に相当する。

【０１５５】

【化１６】

【０１５６】実施例１１４，４'−ジヒドロキベンゾフェノン２１．４ｇ（０．
１モル）を５００ｍＬのＴＨＦに溶解し、さらにラウリ
ル酸２０．０ｇ（０．１モル）とＤＣＣ２０．６ｇ
（０．１モル）を加え、室温で２４時間攪拌した。その
後、沈殿したジシクロヘキシル尿素（ＤＣＵ）を除去
し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、次いで実施例１と同様にして、下記式で表
される化合物１１a（２４．８ｇ）を得た。

【０１５７】

【化１７】

【０１５８】前記化合物１１a（２４．８ｇ（０．０６
ｍｏｌ））を３００ｍＬのＤＭＦに溶解し、さらに無水
コハク酸６．０ｇ（０．０６モル）とトリエチルアミン
１０ｇ（０．１モル）と４，４−ジメチルアミノピリジ
ン（ＤＡＰ）１．２ｇ（０．０１モル）を加え、１００
℃で８時間加熱攪拌した。その後、この反応混合物に蒸
留水３００ｍＬを加え、１０重量％塩酸でｐＨを３に調
整し、生成物を５００ｍＬのジエチルエーテルで抽出し
た。無水硫酸マグネシウムでエーテル溶液を乾燥後、真
空下でエーテルを留去した。粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、水酸化ナトリウム
水溶液（０．５モル／Ｌ＝０．５Ｎ）を加えて、下記式
で表される化合物1１ｂ（２１．９ｇ）を得た。この化
合物１１ｂは、前記式（２）において、ｋ＝０、ｐ＝
１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ＝０、ｔ＝１及びｕ＝０である
化合物に相当する。

【０１５９】

【化１８】

【０１６０】実施例１２実施例１で使用した４，４’−アゾビス（４−シアノペ
ンタン酸）（和光純薬（株）製）２８．０ｇ（０．１モ
ル）を５００ｍＬのＤＭＦに溶解し、さらにラウリルア
ルコール１８．６ｇ（０．１モル）とＤＣＣ２０．６ｇ
（０．１モル）を加え、５℃で２４時間攪拌した。その
後、沈殿したＤＣＵを除去し、３００ｍＬの蒸留水を加
えた後、１０重量％−水酸化ナトリウム水溶液を加えて
ｐＨを１０に調整した。分離した油層分を除去した後、
５重量％塩酸を加え溶液のｐＨを３に調整した。分離し
た油層分をジエチルエーテル５００ｍＬで抽出し、無水
硫酸マグネシウムでエーテル溶液を乾燥後、真空下でエ
ーテルを留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、次いで実施例１と同様にし
て、水酸化ナトリウム水溶液（０．５モル／Ｌ＝０．５
Ｎ）を加えて、下記式で表される化合物１２a（２４．
２ｇ）を得た。

【０１６１】

【化１９】

【０１６２】前記化合物１２a（２４．２ｇ）を３００
ｍＬのＤＭＦに溶解し、スルファニル酸９．０ｇ（０．
０５２モル）とＤＣＣ１０．７ｇ（０．０５２モル）と
トリエチルアミン１０．０ｇ（０．１モル）を加え、室
温で２４時間攪拌した。その後、沈殿したＤＣＵを除去
し、３００ｍＬの蒸留水を加えた後、５重量％塩酸を加
え溶液のｐＨを３に調整した。分離した油層分をジエチ
ルエーテル５００ｍＬで抽出し、無水硫酸マグネシウム
でエーテル溶液を乾燥後、真空下でエーテルを留去し
た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、次いで実施例１と同様にして、水酸化ナト
リウム水溶液（０．５モル／Ｌ＝０．５Ｎ）を加えて、
下記式で表される化合物１２ｂ（２６．７ｇ）を得た。
この化合物１２ｂは、前記式（２）において、ｋ＝０、
ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ＝０、ｔ＝１及びｕ＝０で
ある化合物に相当する。

【０１６３】

【化２０】

【０１６４】実施例１３２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イ
ル）プロパン］（和光純薬（株）製）２６．６ｇ（０．
１モル）を３００ｍＬのメタノールに溶解し、さらにラ
ウリルブロマイド４９．８ｇ（０．２モル）とトリエチ
ルアミン２０ｇ（０．２モル）を加え、８時間５０℃で
反応させた。その後、蒸留水２００ｍＬを加え、１０重
量％水酸化ナトリウム水溶液を加え、溶液のｐＨを１０
に調整した。分離した油層分をジエチルエーテル５００
ｍＬで抽出し、無水硫酸マグネシウムでエーテル溶液を
乾燥後、真空下でエーテルを留去した。粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記式
で表される化合物１３a（５２．４ｇ）を得た。

【０１６５】

【化２１】

【０１６６】前記化合物１３ａ（５２．４ｇ（０．０８
７モル））を３００ｍＬのジクロロメタンに溶解し、さ
らにヨウ化メチル５０ｍＬ（０．３５モル）を加え、８
時間５０℃で攪拌した。その後、溶媒を留去し、生じた
固形分をジクロロメタン２００ｍＬで洗浄し、下記式で
表される化合物１３ｂ（３８．４ｇ）を得た。この化合
物１３ｂは、前記式（２）において、ｋ＝０、ｐ＝１、
ｑ＝１、ｒ＝０、ｓ＝０、ｔ＝０及びｕ＝０である化合
物に相当する。

【０１６７】

【化２２】

【０１６８】実施例１４２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキ
シエチル）プロピオアミド］（和光純薬（株）製）２
８．８ｇ（０．１モル）５００ｍＬのＤＭＦに溶解し、
さらにラウリル酸２０．０ｇ（０．１モル）とＤＣＣ２
０．６ｇ（０．１モル）を加え、５℃で２４時間攪拌し
た。その後、沈殿したＤＣＵを除去し、３００ｍＬの蒸
留水を加えた後、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液を
加えてｐＨを１０に調整した後、反応生成物をジエチル
エーテル５００ｍＬで抽出し、無水硫酸マグネシウムで
エーテル溶液を乾燥後、真空下でエーテルを留去した。
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、下記式で表される化合物１４ａ（３１，６ｇ）
を得た。

【０１６９】

【化２３】

【０１７０】前記化合物１４ａ（３１．６ｇ（０．０６
７モル））を３００ｍＬのＤＭＦに溶解し、さらに無水
コハク酸６．７ｇ（０．０６７モル）とトリエチルアミ
ン１０ｇ（０．１モル）と４，４−ジメチルアミノピリ
ジン（ＤＡＰ）１．２ｇ（０．０１モル）を加え、室温
で８時間加熱攪拌した。その後、この反応混合物に蒸留
水３００ｍＬを加え、１０重量％塩酸でｐＨを３に調整
し、反応生成物を５００ｍＬのジエチルエーテルで抽出
した。無水硫酸マグネシウムでエーテル溶液を乾燥後、
真空下でエーテルを留去した。粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、次いで実施例１
と同様にして、水酸化ナトリウム水溶液（０．５モル／
Ｌ＝０．５Ｎ）を加えて、下記式で表される化合物１４
ｂ（３４ｇ）を得た。この化合物１４ｂは、前記式
（２）において、ｋ＝０、ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｓ
＝０、ｔ＝１及びｕ＝０である化合物に相当する。

【０１７１】

【化２４】

【０１７２】実施例１５安息香酸エチル１５．０ｇ（０．１モル）を３００ｍＬ
のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、さらにラウ
ロイルクロライド２２．０ｇ（０．１モル）と塩化アル
ミニウム(III)１３．３ｇ（０．１モル）を加え、８時
間加熱還流した。この反応混合物に蒸留水１００ｍＬを
徐々に加えた後、固形分をろ別し、反応混合物を５００
ｍＬのジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マグネシ
ウムでエーテル溶液を乾燥後、真空下でエーテルを留去
した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、ｐ−ラウロイル安息香酸エチル２４．６
ｇを得た。

【０１７３】前記ｐ−ラウロイル安息香酸エチル（２
４．６ｇ）を５重量％の水酸化カリウム（ＫＯＨ）を含
むエタノール溶液２００ｍＬに加え、１時間８０℃に加
熱攪拌した。その後、１重量％塩酸で反応混合物のｐＨ
を７に調整し、反応混合物を５００ｍＬのジエチルエー
テルで抽出し、エーテル層を１０重量％炭酸水素ナトリ
ウム溶液５００ｍＬで洗浄した。無水硫酸マグネシウム
でエーテル溶液を乾燥後、真空下でエーテル留去し、ｐ
−ラウロイル安息香酸２１．４ｇを得た。

【０１７４】前記ｐ−ラウロイル安息香酸（３．０ｇ
（０．０１モル））を２００ｍＬのメタノールに溶解
し、氷冷下ジベンゾイルペルオキシド（ＢＰＯ）４．８
ｇ（０．０２モル）とナトリウムメトキシド１．１ｇ
（０．０２モル）を加え、反応混合物を１５℃まで昇温
し、２４時間攪拌した。その後、この反応混合物に蒸留
水２００ｍＬをゆっくりと加え、１重量％塩酸で溶液の
ｐＨを３に調整した。分離した油層分を回収し、この油
層分に蒸留水３００ｍＬを加え、１重量％水酸化ナトリ
ウム水溶液で溶液のｐＨを７に調整した。さらに、残存
する油層分を除去し、下記式で表される化合物１５のナ
トリウム塩を水溶液（約１重量％）を得た。この化合物
１５は、前記式（２）において、ｋ＝０、ｐ＝１、ｑ＝
１、ｒ＝０、ｓ＝０、ｔ＝０及びｕ＝１である化合物に
相当する。

【０１７５】

【化２５】

【０１７６】実施例１６４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）（和光純
薬（株）製）５．６ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
５０ｍＬに溶解し、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド４．
６ｇとＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド８．２
４ｇを加え、室温で２４時間攪拌した。次いで、ＴＨＦ
を溜去して残った固体をアセトン５００ｍＬに分散さ
せ、生じた沈殿を濾過した。濾液よりアセトンを溜去し
て４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）のジエ
ステルを得た。

【０１７７】得られたジエステル１．８１ｇを、メタノ
ール２０ｍＬに分散させ、さらに２Ｎ（２モル／Ｌ）水
酸化ナトリウム水溶液２ｍＬを加えて室温で５時間攪拌
し、２Ｎ（２モル／Ｌ）塩酸水溶液で中和した後、溶媒
を溜去した。残留物をＴＨＦに溶解させ、次いで臭化ベ
ンジル０．６５ｇを加えて、３時間攪拌した。

【０１７８】次いで、得られた溶液に２−（２−アミノ
エチルアミノ）エタノール（アルドリッチ社製）０．２
ｇを加えて、室温で２４時間攪拌した。

【０１７９】反応混合物にスルホ酢酸０．５６ｇ及びジ
シクロヘキシルカルボジイミド０．８２ｇを加えて、室
温で２４時間攪拌した後、２Ｎ（２モル／Ｌ）水酸化ナ
トリウム水溶液を、メタノール１０ｍＬに対して１ｍＬ
の割合で加え、室温で５時間攪拌した。次いで、溶媒を
溜去して残ったオイルを水に静かに溶解させ、不要物を
濾過して下記式で表される化合物１６を得た。この化合
物１６は、前記式（２）において、ｋ＝１、ｐ＝２、ｑ
＝１、ｒ＝１、ｓ＝１、ｔ＝１及びｕ＝０である化合物
に相当する。

【０１８０】

【化２６】

【０１８１】実施例１７１，３−ジアミノ−２−ヒドロキシプロパン４．５ｇを
ジアオキサン／水（６０ｍＬ／２０ｍＬ）に溶解させ、
トリエチルアミン１５．１ｇを加え、さらにアミノ保護
基として２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ−２
−フェニルアセトニトリル２７．１ｇを加え、室温で３
時間攪拌した。３時間後、反応液に水２００ｍＬを加え
て、析出した生成物を回収し、減圧乾燥させた。

【０１８２】得られた生成物７．２６ｇ及びトリエチル
アミン２．５３ｇをＴＨＦ３０ｍＬに溶解させ、塩化ラ
ウロイル５．５ｇを加えて室温で３時間攪拌し、次いで
メタノール５ｍＬを加えて、３０分放置した。

【０１８３】反応液から溶媒を溜去した後、残留物にエ
ーテルを加えて不純物を回収した。次いで前記保護基の
脱離のため、不溶物が溶けるまでトリフルオロ酢酸を加
えて室温で１時間攪拌した。１時間後、トリフルオロ酢
酸を溜去し、減圧乾燥した。

【０１８４】次いで、実施例１６と同様にして合成した
４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）のジエス
テル９．４ｇをジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）６０ｍ
Ｌに溶解させ、上記生成物１．７ｇを加えて、室温で４
８時間攪拌した。

【０１８５】反応液に水５００ｍＬを混合して析出した
固体を回収した。次いで、得られた固体をジメトキシエ
タン６０ｍＬに分散させて不溶物を濾別し、濾液に１Ｎ
（１モル／Ｌ）水酸化ナトリウム水溶液をメタノール３
０ｍＬに対して１０ｍＬ加え、室温で５時間攪拌し、溶
媒を溜去して下記式で表される化合物１７を得た。この
化合物１７は、前記式（２）において、ｋ＝１、ｐ＝
１、ｑ＝２、ｒ＝１、ｓ＝１、ｔ＝０及びｕ＝１である
化合物に相当する。

【０１８６】

【化２７】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０７Ｃ 309/51 Ｃ０７Ｃ 309/51 309/77 309/77 409/24 409/24 Ｃ０７Ｄ 233/24 Ｃ０７Ｄ 233/24 Ｃ０８Ｆ 2/00 Ｃ０８Ｆ 2/00 Ｃ 4/00 4/00 Ｃ０８Ｊ 7/16 ＣＥＲＣ０８Ｊ 7/16 ＣＥＲＣＥＺＣＥＺ // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記式（１）で表される界面活性化合
物。（Ｒ¹）_m−Ｚ−（Ｒ²）_n （１）（式中、Ｒ¹は少なくとも疎水性基を有するユニット、
Ｒ²は少なくとも親水性基を有するユニットを示し、Ｚ
は少なくとも１つの活性基を有するユニットを示し、ｍ
及びｎは１〜３の整数を示す。Ｒ¹及びＲ²の種類は、ｍ
又はｎの値によって異なっていてもよい）
【請求項２】式（１）で表される化合物が、下記式
（２） [R^1a−(B¹)_r−(X¹−B²)_t]_p−(S)_k−[(B³−X²)_u−(B⁴)_s−R^2a]_q (２) （式中、Ｒ^1aは少なくとも疎水性基を有するユニット、
Ｒ^2aは少なくとも親水性基を有するユニットを示し、Ｘ
¹及びＸ²は、同一又は異なって、活性基を示す。Ｂ¹及
びＢ⁴は、Ｒ¹又はＲ²と活性基Ｘ¹又はＸ²とを結合する
ユニットを示し、Ｂ ²及びＢ³は、スペーサーＳと活性基
Ｘ¹又はＸ²とを結合するユニットを示す。ｋ、ｒ、ｓ、
ｔ及びｕは、０又は１を示す。ただし、ｔとｕは同時に
０でない。ｐ及びｑは１〜３の整数を示す）で表される
請求項１記載の界面活性化合物。
【請求項３】疎水性基が炭素数５〜６０の脂肪族炭化
水素基、炭素数６〜６０の芳香族炭化水素基、複素環基
及びポリシロキサン残基から選択された少なくとも１種
の基であり、親水性基が多糖基、ポリエーテル基、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基、硫酸基、スルホン酸基、
リン酸基、ホスホニウム塩基、複素環基、アミノ基、こ
れらの塩及びこれらのエステルから選択された少なくと
も１種である請求項１又は２記載の界面活性化合物。
【請求項４】疎水性基が、Ｃ_8-22長鎖脂肪族炭化水素
基又はＣ_6-20アルキル−Ｃ_6-12アリール基であり、親水
性基が、ポリエーテル基、カルボキシル基、硫酸基、ス
ルホン酸基又はこれらの塩である請求項１又は２記載の
界面活性化合物。
【請求項５】活性基が、熱又は光により、ラジカル、
カチオン又はアニオンを発生する請求項１又は２記載の
界面活性化合物。
【請求項６】活性基が、アゾ基、過酸化基及びラジカ
ル発生可能なケト基から選択された少なくとも１種であ
る請求項１又は２記載の界面活性化合物。
【請求項７】結合ユニットＢ¹、Ｂ²、Ｂ³及びＢ⁴のう
ち、少なくとも１つの結合ユニットが、エステル結合、
アミド結合、ウレア結合、ウレタン結合、エーテル結
合、チオエーテル結合及びイミノ結合から選択された結
合様式を有する請求項２記載の界面活性化合物。
【請求項８】スペーサーＳが、アルキレン基、アリー
レン基及び複素環基から選択された少なくとも１種の多
価基で構成されている請求項２記載の界面活性化合物。
【請求項９】式（２）の化合物において、(i)ｋ＝
０、ｐ＝１及びｑ＝１、あるいは(ii)ｋ＝１、ｐ＝１又
は２及びｑ＝１又は２である請求項２記載の界面活性化
合物。
【請求項１０】請求項１記載の式（１）で表される界
面活性化合物を得るための化合物であって、前記界面活
性化合物を得るための化合物が、下記式（３）で表され
る化合物。（Ｅ¹）_m−Ｚ−（Ｅ²）_n （３）（式中、Ｅ¹は、式（１）のＲ¹に対応する疎水性基又は
反応によって疎水性基を生成する反応性基を示し、Ｅ²
は、式（１）のＲ²に対応する親水性基又は反応によっ
て親水性基を生成する反応性基を示す。ただし、Ｅ¹及
びＥ²のうち少なくとも一方は反応性基である；Ｚ、ｍ
及びｎは請求項１に同じ）
【請求項１１】反応性基が、活性化されたカルボキシ
ル基である請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】請求項１記載の界面活性化合物を製造
する方法であって、下記式（４）Ｒ¹−Ｆ¹ （４）（式中、Ｆ¹は反応性基を示す。Ｒ¹は請求項１に同じ）
で表される化合物と、下記式（５）（Ｆ²）_m−Ｚ−（Ｒ²）_n （５）（式中、Ｆ²は前記反応性基Ｆ¹に対応する反応性基を示
す。Ｚ、Ｒ²、ｍ及びｎは請求項１に同じ）で表される
化合物とを反応させる方法。
【請求項１３】式（５）で表される化合物として、請
求項１０記載の式（３）の化合物を用いる請求項１２記
載の製造方法。
【請求項１４】下記式（２） [R^1a−(B¹)_r−(X¹−B²)_t]_p−(S)_k−[(B³−X²)_u−(B⁴)_s−R^2a]_q (２) （式中、Ｒ^1aは少なくとも疎水性基を有するユニット、
Ｒ^2aは少なくとも親水性基を有するユニットを示し、Ｘ
¹及びＸ²は、同一又は異なって、活性基を示す。Ｂ¹及
びＢ⁴は、Ｒ¹又はＲ²と活性基Ｘ¹又はＸ²とを結合する
ユニットを示し、Ｂ ²及びＢ³は、スペーサーＳと活性基
Ｘ¹又はＸ²とを結合するユニットを示す。ｋ、ｒ、ｓ、
ｔ及びｕは、０又は１を示す。ただし、ｔとｕは同時に
０でない。ｐ及びｑは１〜３の整数を示す）で表される
化合物を製造する方法であって、(i)ｋが０である場
合、下記式（６）Ｒ^1a−(Ｂ¹)_r−(Ｘ¹−Ｂ²)_t−Ｆ³ （６）（式中、Ｆ³は反応性基を示す。Ｒ^1a、Ｂ¹、Ｂ²、Ｘ¹、
ｒ及びｔは前記に同じ）で表される化合物と、下記式
（７）（Ｆ⁴）_p−[(Ｂ³−Ｘ²)_u−(Ｂ⁴)_s−Ｒ^2a]_q （７）（式中、Ｆ⁴は前記反応性基Ｆ³に対応する反応性基を示
す。Ｒ^2a、Ｂ³、Ｂ⁴、Ｘ ²、ｐ、ｑ、ｓ及びｕは前記に
同じ）で表される化合物とを反応させる；(ii)ｋが１で
ある場合、下記式（８）（Ｆ⁵）_p−Ｓ−（Ｆ⁶）_q （８）（式中、Ｆ⁵及びＦ⁶は反応性基を示す。Ｓ、ｐ及びｑは
前記に同じ）で表される化合物と、前記式（９）Ｒ^1a−(Ｂ¹)_r−(Ｘ¹−Ｂ²)_t−Ｆ⁷ （９）（式中、Ｆ⁷は前記反応性基Ｆ⁵又はＦ⁶に対応する反応
性基を示す。Ｒ^1a、Ｂ¹、Ｂ²、Ｘ¹、ｒ及びｔは前記に
同じ）で表される化合物と、下記式（１０）Ｆ⁸−(Ｂ³−Ｘ²)_u−(Ｂ⁴)_s−Ｒ^2a （１０）（式中、Ｆ⁸は前記反応性基Ｆ⁵又はＦ⁶に対応する反応
性基を示す。Ｒ^2a、Ｂ³、Ｂ⁴、Ｘ²、u及びsは前記に同
じ）で表される化合物とを反応させる請求項１２記載の
製造方法。
【請求項１５】請求項１記載の界面活性化合物により
形成される順相又は逆相ミセル。
【請求項１６】被処理基材と、この被処理基材の表面
に吸着した請求項１記載の界面活性化合物とで構成され
ている基材。
【請求項１７】被処理基材が粒子である請求項１６記
載の基材。
【請求項１８】被処理基材と界面活性化合物との割合
が、被処理基材１００重量部に対して、０．００１〜１
０重量部である請求項１６記載の基材。
【請求項１９】基材表面に吸着した請求項１記載の界
面活性化合物を開始剤として重合性単量体の重合体が基
材に結合している複合基材。
【請求項２０】被処理基材表面に請求項１記載の界面
活性化合物を吸着させて、重合性単量体を重合させる複
合基材の製造方法。
【請求項２１】界面活性化合物が吸着した基材１００
重量部に対して、重合性単量体０．１〜１００００重量
部を重合させる請求項２０記載の複合基材の製造方法。