JP2001118916A - 静電チャック装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】吸着力の低下や、製造効率の悪化、および歩留
まりの低下を招くことなく、ウエハの冷却効率を向上で
きるようにする。 【解決手段】電極層および絶縁性フィルム層を有する積
層体からなる電極シート２を、接着剤層を介して金属基
盤１の表面上に積層してなる静電チャック装置であっ
て、金属基盤１の表面には溝３が形成されており、かつ
電極シート２には、溝３内に電極シート２を埋め込んで
なる凹部５が形成されていることを特徴とする静電チャ
ック装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ等の導電体
または半導電体を静電気力で吸着固定するための静電チ
ャック装置およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば半導体ウエハを加工する工程にお
いては、半導体ウエハを加工機の所定部位に固定するた
めにチャック装置が使用される。チャック装置として
は、機械式、真空式、および静電式の装置が存在する
が、静電チャック装置は、取り扱いが簡単で、真空中で
も使用できる利点を有している。

【０００３】図７および図８は従来の静電チャック装置
の第１の例を示すもので、図７は平面図、図８は図７中
VIII−VIII線に沿う断面図である。一般に、静電チャッ
ク装置は、少なくとも電極層および絶縁性フィルム層を
有する積層体からなる電極シート２１を、接着剤層（図
示略）を介して金属基盤２２の表面上に積層して構成さ
れている。そして、電極シート２１の電極層に通電する
ことによって電極シート２１の上面２１ａに静電気力を
生じさせ、その静電気力で電極シート上面２１ａにウエ
ハが吸着固定されるようになっている。

【０００４】ところで、ウエハは静電チャック装置に吸
着固定された状態で、例えばプラズマエッチング処理な
どの加工処理が施されるが、加工時のウエハの昇温を抑
えるために、ウエハの吸着面側に冷却ガスを接触させる
ことが行われる。そのために従来は、例えば図７および
図８に示すように、金属基盤２２を貫通するガス供給孔
２３を多数穿設するとともに、電極シート２１の、ガス
供給孔２３に対応する位置に孔状の開口部２４を多数打
ち抜き加工して、冷却ガスが、金属基盤２２のガス供給
孔２３および電極シート２１の開口部２４を経て電極シ
ート上面２１ａに供給されるように構成されていた。

【０００５】図９〜１１は従来の静電チャック装置の第
２の例を示すもので、図９は平面図、図１０は図９中Ｘ
−Ｘ線に沿う断面図、図１１は電極シートにおける電極
層の説明図である。この例の装置は、金属基盤３２の表
面に細い溝３５を形成し、その溝３５内の所々にガス供
給孔３３を穿設するとともに、電極シート３１の、溝３
５に対応する部分を打ち抜き加工して打ち抜き部３６を
形成し、冷却ガスが、金属基盤３２のガス供給孔３３を
経て、溝３５および打ち抜き部３６によって形成される
溝状の空間内に供給されるように構成されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記第
１の例の構成では、金属基盤２２のガス供給孔２３およ
び電極シートの開口部２４の数が少ないと、ウエハに接
触する冷却ガスの量が少なくて十分な冷却効率が得られ
ず、反対に、ガス供給孔２３および開口部２４の数を多
くすると冷却効率は向上するが、金属基盤２２の穿設加
工および電極シート２１の打ち抜き加工のための作業量
が増大して製造効率が悪くなるとともに、電極シート上
面２１ａ、すなわちウエハを吸着する面における電極層
の面積が減少することによって吸着力が低下するという
問題があった。

【０００７】一方、前記第２の例の構成によれば、金属
基盤３２に溝３５を形成するとともに、電極シート３１
に打ち抜き部３６を形成したので、金属基盤３２に穿設
するガス供給孔３３の数が少なくても冷却効率を上げる
ことができる。したがって、前記第１の例の構成に比べ
て金属基盤３２の穿設加工作業は軽減されるが、電極シ
ート３１に打ち抜き部３６を形成したことにより、電極
シート３１の吸着面における電極層の面積がより減少
し、このために吸着力の低下が大きくなるという問題が
あった。また、金属基盤３２と電極層との絶縁性を確保
するために、電極シート３１における電極層は、図１１
に示すように打ち抜き部３６の端縁３６ａより電極層の
端縁３７（図中破線で示す）が内方に位置する形状とす
る必要がある。このため、電極層の形状が複雑化して製
造が煩雑になり、製造効率の悪化や歩留まりの低下につ
ながるという問題もあった。

【０００８】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、静電チャック装置において、吸着力の低下や、製造
効率の悪化、および歩留まりの低下を招くことなく、ウ
エハの冷却効率を向上できるようにすることを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記課題は、電極層およ
び絶縁性フィルム層を有する積層体からなる電極シート
を、接着剤層を介して金属基盤の表面上に積層してなる
静電チャック装置であって、前記金属基盤の表面には溝
が形成されており、かつ前記電極シートには、前記溝内
に該電極シートを埋め込んでなる凹部が形成された静電
チャック装置によって解決できる。前記電極シートの凹
部が、該電極シートの電極層を有する部位に形成されて
いることが好ましい。前記電極シートの凹部内には、該
凹部内に冷却ガスを供給するための開口部が少なくとも
１つ設けられており、該開口部は、前記金属基盤を貫通
するガス供給孔に連通していることが好ましい。また本
発明の静電チャック装置の製造方法は、電極層および絶
縁性フィルム層を有する積層体からなる電極シートを作
製する工程と、該電極シートを、表面に溝が形成された
金属基盤の表面上に積層する工程と、該金属基盤の溝内
に前記電極シートを埋め込んで、該電極シートに凹部を
形成する工程とを有することを特徴とする。前記電極シ
ートを表面に溝が形成された金属基盤の表面上に積層し
た状態で、前記溝内部の圧力を前記電極シートを隔てた
溝外部の圧力よりも低くすることによって、前記金属基
盤の溝内に前記電極シートを埋め込む方法を好ましく用
いることができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
図１〜３は本発明の静電チャック装置の一実施形態を示
したもので、図１はウエハが吸着される吸着面側から見
た平面図、図２は図１中II−II線に沿う断面図、図３は
要部を拡大して示した断面図である。図中符号１は金属
基盤であり、その表面上には電極シート２が積層されて
いる。また図示していないが、金属基盤１の表面と電極
シート２との間には全面にわたって接着剤層が介在して
おり、この接着剤層によって金属基盤１と電極シート２
とが貼り合わされている。

【００１１】電極シート２は、少なくとも電極層と絶縁
性フィルム層とを有する積層体からなるものであればよ
く、各種の構成のものを用いることができる。例えば、
図４に示すように、フィルム状の電極層１１の一面上に
接着剤層１２を介して第１の絶縁性フィルム１３を積層
し、電極層１１の他面上に接着剤層１４を介して第２の
絶縁性フィルム１５を積層した厚さ３０〜４５０μｍ程
度のもの、さらに好ましくは厚さ５０〜２００μｍ程度
のものを好適に用いることができる。また電極層１１と
金属基盤１との絶縁性を確保するために、例えば図５に
示すように電極シート２の外周縁部と、後述の開口部６
が形成される部位およびその周囲には電極層１１を形成
しない。一方、後述の凹部５が形成される部位は電極層
１１を有していることが好ましい。したがって、図５に
示すように電極層１１と金属基盤１との絶縁性を確保す
る必要がある部位以外は、一様に電極層１１を設けるこ
とが好ましい。なお必要に応じて、電極シート２に、例
えばウエハを昇降させるための駆動ロッドを通過させる
ための貫通孔（図示せず）などを形成してもよく、その
場合には、貫通孔が形成される部位およびその周囲には
電極層１１を形成しないようにして、電極層１１と金属
基盤１との絶縁性を確保する。

【００１２】金属基盤１の表面には溝３が形成されてお
り、図３に示すように、溝３内には電極シート２が埋め
込まれている。これにより電極シート２には、溝３の内
面形状にほぼ追従する形状の溝状の凹部５が形成され、
凹部５以外の電極シート２は平坦となっている。また溝
３の内面は電極シート２の凹部５によって覆われてい
る。凹部５は、電極シート２の吸着面にウエハ等が吸着
された状態で、ウエハ等と凹部５内面との間に冷却ガス
が流通できる程度の空間が形成されるものであればよ
く、凹部５の断面形状や大きさ、および平面形状は特に
限定されない。また溝３の断面形状、大きさおよび平面
形状は、これらによって凹部５の形状が決まるので、凹
部５のガス流通性および凹部５形成のための加工性を主
に考慮して好ましく設定される。本実施形態における溝
３の断面形状は、溝３を断面視したときの溝３内の空間
部分の形状、即ち、溝３の断面図において溝３の内面と
開放端を結ぶ線とで囲まれた形状が、図２および図３に
示すように長方形となっているが、長方形に限らず、例
えば三角形、正方形、台形、五角形、六角形等の多角形
としてもよく、あるいは溝３の内面を円弧状としてもよ
い。溝３の断面形状は、溝３の幅が底部から開放端側へ
向かって拡大する形状が好ましく、溝３内の空間部分の
断面形状が三角形または台形、あるいは溝３の内面を円
弧状とした形状がより好ましい。溝３の好ましい幅は、
溝３の開放端における幅（図３中符号Ｗで示す）が１．
０〜７．０ｍｍ、より好ましくは１．０〜５．０ｍｍで
あり、最も好ましいのは１．０〜３．０ｍｍである。ま
た溝３の好ましい深さは０．０１〜０．２０ｍｍ、より
好ましくは０．０２〜０．１５ｍｍであり、最も好まし
いのは０．０２〜０．１０ｍｍである。溝３の平面形状
は適宜設計可能であり、本実施形態においては、円形の
金属基盤１の表面に、２つの同心円状の溝３ａ、３ｂ
と、金属基盤１表面の中心において交差する十文字状の
溝３ｃとが互いに連続した形状の溝３が形成されてお
り、電極シート２にはこの溝３の内面形状に沿って連続
する凹部５が形成されている。

【００１３】また凹部５内には、少なくとも１つの開口
部６が設けられるとともに、金属基盤１には開口部６に
連通するガス供給孔４が穿設されており、ガス供給孔４
および開口部６を経て凹部５内に冷却ガスが供給される
ように構成されている。開口部６の形状は、ガス供給孔
４から供給される冷却ガスを凹部５内に流通させること
ができるものであればよい。また開口部６は、連続して
いる１条の凹部５に対して少なくとも１カ所に形成する
必要があり、複数形成してもよい。金属基盤１のガス供
給孔４は、金属基盤１の外部に設けられた冷却ガス供給
源（図示せず）からの冷却ガスを開口部６を介して凹部
５内に供給できるものであればよく、その形状は任意で
ある。本実施形態では、電極シート２に形成されている
凹部５は全て連続しているので開口部６およびガス供給
孔４は最低１ヶ所に設ければよいが、図１に示すように
合計９ヶ所に設けられている。

【００１４】本実施形態の静電チャック装置によれば、
金属基盤１の表面に溝３が形成され、この表面上に電極
シート２が積層され、金属基盤１の溝３には電極シート
２が埋められて電極シート２に溝状の凹部５が形成され
ている。したがって、電極シート２の凹部５内に冷却ガ
スを流通させることによって、静電チャック装置の電極
シート２上に吸着固定されるウエハ等を効率良く冷却す
ることができる。冷却ガスの流路となる凹部５は、電極
シート２を金属基盤１の溝３内に埋め込むことによって
形成されており、電極シート２の打ち抜きは開口部６だ
けである。したがって、電極シート２に複雑な形状の打
ち抜き加工を施す必要がなく、電極層の平面形状も簡単
である。したがって電極シート２の製造効率や歩留まり
が向上するとともに、電極シート２自体の形状保持性お
よび取り扱い性も良い。また、凹部５の形状を変更して
も、開口部６の位置が変化しなければ電極シート２を変
更しなくてよく、設計の変更が容易である。そして、電
極シート２の電極層を有する部位に凹部５が形成されて
いるので、凹部５の形成に伴って電極層の面積が減少す
ることがなく、したがって吸着力を低下させずに冷却効
率を向上させることができる。さらに金属基盤１の溝３
の内面は電極シート２によって覆われているので、金属
基盤１がほとんど露出しておらず、金属基盤１の劣化が
少ないので静電チャック装置の寿命が長くなる。また、
凹部５内に開口部６が設けられるとともに、金属基盤１
にガス供給孔４が穿設されてこれらが連通されているの
で、簡単な構成で、凹部５内に確実、かつ効率よく冷却
ガスを供給することができる。

【００１５】なお上記の実施形態においては、図４に示
す構成の電極シート２を用いたが、電極シート２の構成
はこれに限らず、例えば図６に示すように、絶縁性フィ
ルム層１６の一面上に電極層１７として蒸着、スパッタ
リング、メッキ等により金属薄膜を形成した厚さ１０〜
１５０μｍ程度のもの、より好ましくは厚さ１５〜１０
０μｍ程度のものも好適に用いることができる。

【００１６】次に本発明の静電チャック装置を製造する
ための第１の製造方法の一例について説明する。まず、
少なくとも電極層１１と絶縁フィルム層１３とを有する
積層体からなる電極シート２を周知の手法により作製す
る。このとき電極シート２の外周部と開口部６が形成さ
れる部位およびその周囲には電極層１１を形成しない。
一方、金属基盤１を用意する。金属基盤１の表面には溝
３を形成するとともに、金属基盤１を貫通するガス供給
孔４を穿設する。次に電極シート２を金属基盤１の表面
上に積層する。このとき、予め電極シート２の金属基盤
１との接着面に接着剤を塗布しておき、電極シート２と
金属基盤１とを、後の凹部５を形成する工程で互いに位
置ずれしないように貼り合わせることが好ましい。この
状態で電極シート２は全面平坦である。次いで、金属基
盤１の溝３に嵌合する形状の凸条を有する押し型を用い
て、電極シート２を押圧することによって、溝３内に電
極シート２を埋め込んで、電極シート２に凹部５を形成
する。そして凹部５を形成した後に金属基盤１と電極シ
ート２との間の接着剤をさらに硬化させて、両者を強固
に固定することが好ましい。電極シート２の開口部６は
シート２を金属基盤１に積層する前に打ち抜き加工して
おいてもよく、電極シート２に凹部５を形成した後に打
ち抜いてもよい。

【００１７】静電チャック装置の第２の製造方法の一例
を示す。まず、上記第１の製造方法と同様にして電極シ
ート２および金属基盤１を用意し、これらを貼り合わせ
る。そして、金属基盤１の溝３内部の圧力を、電極シー
ト２を隔てた溝３外部の圧力よりも低くすることによっ
て、溝３内に電極シート２を埋め込ませて、電極シート
２に凹部５を形成する。具体的には、電極シート２を金
属基盤１の表面上に貼り合わせる工程を減圧下で行う、
あるいは電極シート２を金属基盤１の表面上に貼り合わ
せた後に溝３内を減圧するなどの方法により、電極シー
ト２と金属基盤１とを貼り合わせた状態で溝３内部を減
圧状態とした後、電極シート２を隔てた溝３の内外で気
圧差を生じせしめる。この気圧差により、電極シート２
は溝３の内側へ凹み、溝３の内面に追従する形状に変形
して凹部５が形成される。そして凹部５を形成した後に
金属基盤１と電極シート２との間の接着剤をさらに硬化
させて、両者を強固に固定することが好ましい。

【００１８】上記第１および第２の製造方法によれば、
電極シート２に、冷却ガスが流通できる程度の溝状の凹
部５を、簡単な操作で、再現性良く形成することができ
る。また、特に第２の製造方法によれば、押し型が不要
であり、押し型と金属基盤１との位置合わせも不要であ
るので、作業が容易である。

【００１９】

【実施例】以下、具体的な実施例を示して本発明の効果
を明らかにする。以下、単位の「部」は「重量部」であ
る。 （接着剤溶液の調製例）トルエン／イソプロピルアルコ
ール混合溶剤に下記接着剤組成物を溶解して固形分４０
ｗｔ％の接着剤溶液を得た。 ・ポリアミド樹脂（日本リルサン社製、商品名：フ゜ラタホ゛ンタ゛M−995） ４４５部 ・エポキシ樹脂（油化シェルエホ゜キシ社製、商品名：ＹＬ−９７９） ２２２部 ・ノボラックフェノール樹脂（荒川化学社製、商品名：タノマル752） １１１部 ・ジシアンジアミド ０．６部

【００２０】（電極シートａの作製例）図４に示す構成
の電極シートを構成した。第１の絶縁性フィルム１３と
して厚さ５０μｍの絶縁性フィルム（ポリイミドフィル
ム：東レデュポン社製、商品名：カプトン２００Ｈ）を
用い、その一面に上記接着剤溶液を乾燥後の厚さが１０
μｍになるように塗布、乾燥させて接着剤層１２を形成
した。次いで、接着剤層１２に電解銅箔（日本鉱業社
製、１／２ＯＺ）を貼りあわせ、さらにネガ型感光フィ
ルムを貼り合わせた。次いで、露光−現像−エッチング
−洗浄−乾燥の手順により、所定形状の電極層１１を形
成した。一方、第２の絶縁性フィルム１５として、厚さ
２５μｍの絶縁性フィルム（ポリイミドフィルム：宇部
興産社製、商品名：ユーピレックス２５Ｓ）を用い、そ
の一面に上記接着剤溶液を乾燥後の厚さが１０μｍにな
るように塗布、乾燥させて接着剤層１４を形成した。こ
の接着剤層１４と前記電極層１１が形成された面とを貼
り合わせて電極シートａを得た。なお、電極シートａの
電極層１１の平面形状は図５に示したとおりとした。

【００２１】（電極シートｂの作製例）図６に示す構成
の電極シートを構成した。すなわち、厚さ５０μｍの絶
縁性フィルム（ポリイミドフィルム：東レデュポン社
製、商品名：カプトン２００Ｈ）１６の一面に、蒸着及
びメッキを行い厚さ５μｍの銅膜を形成した。この銅膜
にネガ型感光フィルムを貼り合わせた。次いで、露光−
現像−エッチング−洗浄−乾燥の手順により、所定形状
の電極層１７を形成して電極シートｂを得た。なお、電
極シートｂの電極層１７の平面形状は図５に示したとお
りとした。

【００２２】（実施例１）金属基盤は、図１および図２
に示す形状の溝とガス供給孔が形成された直径８インチ
のものを用いた。前記電極シートａの第２の絶縁性フィ
ルム（厚さ２５μｍ）側に、上記接着剤溶液を乾燥後の
厚さが１０μｍになるように塗布、乾燥させ、金属基盤
の表面に減圧下で貼り合わせた後、溝の内外で気圧差を
生じせしめることによって、電極シートを溝内へ埋め込
み、溝状の凹部を形成した。そして、電極シートが溝部
に埋め込まれた状態で１２０〜１５０℃のステップキュ
アーを行い接着剤層を硬化させて、図１，２に示す構成
の静電チャック装置を得た。

【００２３】（実施例２）前記実施例１において電極シ
ートａに代えて前記電極シートｂを使用した。すなわち
前記電極シートｂの電極側に上記接着剤溶液を乾燥後の
厚さが２０μｍになるように塗布、乾燥させた以外は、
実施例１と同様にして静電チャック装置を得た。

【００２４】（実施例３）前記電極シートａの第２の絶
縁性フィルム（厚さ２５μｍ）側に、上記接着剤溶液を
乾燥後の厚さが１０μｍになるように塗布、乾燥させた
後、前記実施例１と同様の金属基盤の表面上に積層し、
パターン状溝に対応する形状の押し型をあてて電極シー
トを溝に押し込んだ状態で貼り合わせた。電極シートが
溝部に埋め込まれた状態で１２０〜１５０℃のステップ
キユアーを行い接着剤層を硬化させて、図１，２に示す
構成の静電チャック装置を得た。

【００２５】（実施例４）前記実施例３において電極シ
ートａに代えて前記電極シートｂを使用した。すなわ
ち、前記電極シートｂの電極側に上記接着剤溶液を乾燥
後の厚さが２０μｍになるように塗布、乾燥させた以外
は、実施例３と同様にして静電チャック装置を得た。

【００２６】（比較用電極シートｃの作製例）電極層の
平面形状を図１１に破線で示す形状とした以外は、前記
電極シートａの作製例と同様にして電極シートを作製
し、電極シートの第２の絶縁性フィルム（厚さ２５μ
ｍ）側に、上記接着剤溶液を乾燥後の厚さが１０μｍに
なるように塗布、乾燥させ、さらに電極層が無い部分を
打ち抜き加工して図１１に示す形状の電極シートｃを作
製した。 （比較例１）金属基盤は、図９および図１０に示す形状
の溝とガス供給孔が形成された直径８インチのものを用
いた。電極シートｃを金属基盤に貼り合わせ、接着剤層
を硬化させることによって、図９，１０に示す構成の静
電チャック装置を得た。

【００２７】（吸着力の評価）上記実施例および比較例
で得られた各々の静電チャック装置に、直流電流を印加
して静電気発生電圧を測定した。測定条件は次の通りと
した。 測定雰囲気：大気圧中（２２℃、５４％ＲＨ） 電源：ＤＣ正極性（１０ＫＶＤＣ発生装置、東京変圧器
社製） 静電気測定器：シムコエレクトロスタティックロケータ
ーＳＳ−２型（シムコジャパン社製） 測定距離：５０ｍｍ 印加する直流電圧を０Ｖ、１．５ＫＶ、および３ＫＶに
変化させたときに発生した静電気の電圧をそれぞれ測定
した。その結果を下記表１に示す。表１に示されるよう
に、実施例１〜４の静電チャック装置では、比較例の静
電チャック装置に比べて高い電圧の静電気が発生した。

【００２８】

【表１】

【００２９】（ウエハ表面温度の測定）上記実施例１〜
４及び比較例１の静電チャック装置にウエハを載置して
吸着させ、ウエハ上に温度測定プレートを貼りつけた状
態で、下記エッチング条件にてウエハに対して１分間放
電したときの、ウエハー中心部、エッジ部、および中間
部の温度をそれぞれ測定した。なお、静電チャック装置
の印加電圧は２．０ＫＶとした。エッチング条件は、 高周波出力＝１４００（Ｗ） チャンバー真空度＝５．３（Ｐａ） チャンバー内充填ガス：ＣＨＦ₃／ＣＯ＝４５／１５５
（ｓｃｃｍ） 冷却Ｈｅガス＝１３３０（Ｐａ） チャンバー内温度（上部／側面／底部）＝６０／６０／
２０（℃） 測定の結果、上記実施例１〜４及び比較例１におけるウ
エハ温度は各測定点で同等であり、ウエハ冷却性はいず
れの静電チャック装置も同等であった。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したように本発明の静電チャッ
ク装置は、電極層および絶縁性フィルム層を有する積層
体からなる電極シートを、接着剤層を介して金属基盤の
表面上に積層してなる静電チャック装置であって、前記
金属基盤の表面には溝が形成されており、かつ前記電極
シートには、前記溝内に該電極シートを埋め込んでなる
凹部が形成されていることを特徴とするものである。し
たがって、電極シートの凹部内に冷却ガスを流通させる
ことによって、静電チャック装置の電極シート上に吸着
固定されるウエハ等を効率良く冷却することができる。
また冷却ガスの流路となる凹部が、電極シートを金属基
盤の溝内に埋め込んで形成されるため、従来のように電
極シートおよび金属基盤に多数の孔を形成する必要がな
く、あるいは金属基盤に溝を形成するとともに電極シー
トに溝を打ち抜き加工する必要がない。電極層の平面形
状も複雑化されない。したがって、電極シートおよび金
属基盤の加工が簡単になり、製造効率が向上して歩留ま
りも良くなる。また電極シートの凹部を、電極シートの
電極層を有する部位に形成することができるので、凹部
の形成に伴って電極層の面積が低減するのを防止するこ
とができる。したがって吸着力を低下させることなく冷
却効率を向上させることができる。また電極シートには
溝状の凹部が形成されているので、この凹部内に冷却ガ
スを供給するための開口部を少なくとも１つ設け、この
開口部を金属基盤を貫通するガス供給孔に連通させるこ
とによって、簡単な構造で凹部内に冷却ガスを効率良く
流通させることができる。

【００３１】また本発明の静電チャック装置の製造方法
は、電極層および絶縁性フィルム層を有する積層体から
なる電極シートを作製する工程と、該電極シートを、表
面に溝が形成された金属基盤の表面上に積層する工程
と、該金属基盤の溝内に前記電極シートを埋め込んで、
該電極シートに凹部を形成する工程とを有することを特
徴とするものである。この方法によれば、静電チャック
装置を構成する電極シートに溝状の凹部を、簡単な操作
で、再現性良く形成することができる。また電極シート
を表面に溝が形成された金属基盤の表面上に積層した状
態で、溝内部の圧力を電極シートを隔てた溝外部の圧力
よりも低くすることによって、金属基盤の溝内に電極シ
ートを埋め込む方法によれば、作業が容易であり、連続
生産ラインにも好ましく適用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の静電チャック装置の一実施形態を示し
た平面図である。

【図２】図１中II−II線に沿う断面図である。

【図３】図１の静電チャック装置の要部拡大断面図であ
る。

【図４】本発明に係る電極シートの例を示す断面図であ
る。

【図５】本発明に係る電極シートの例を示す平面図であ
る。

【図６】本発明に係る電極シートの他の例を示す断面図
である。

【図７】従来の静電チャック装置の第１の例を示す平面
図である。

【図８】図７中VIII−VIII線に沿う断面図である。

【図９】従来の静電チャック装置の第２の例を示す平面
図である。

【図１０】図９中Ｘ−Ｘ線に沿う断面図である。

【図１１】図９の装置における電極層の説明図である。

【符号の説明】 １…金属基盤、２…電極シート、３…溝、４…ガス供給
孔 ５…凹部、６…開口部、１１，１７…電極層、１３
…第１の絶縁性フィルム（絶縁性フィルム層） １６…絶縁性フィルム層

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極層および絶縁性フィルム層を有する
   積層体からなる電極シートを、接着剤層を介して金属基
   盤の表面上に積層してなる静電チャック装置であって、 前記金属基盤の表面には溝が形成されており、かつ前記
   電極シートには、前記溝内に該電極シートを埋め込んで
   なる凹部が形成されていることを特徴とする静電チャッ
   ク装置。
2. 【請求項２】 前記電極シートの凹部が、該電極シート
   の電極層を有する部位に形成されていることを特徴とす
   る請求項１記載の静電チャック装置。
3. 【請求項３】 前記電極シートの凹部内には、該凹部内
   に冷却ガスを供給するための開口部が少なくとも１つ設
   けられており、該開口部は、前記金属基盤を貫通するガ
   ス供給孔に連通していることを特徴とする請求項１記載
   の静電チャック装置。
4. 【請求項４】 電極層および絶縁性フィルム層を有する
   積層体からなる電極シートを作製する工程と、 該電極シートを、表面に溝が形成された金属基盤の表面
   上に積層する工程と、 該金属基盤の溝内に前記電極シートを埋め込んで、該電
   極シートに凹部を形成する工程とを有することを特徴と
   する静電チャック装置の製造方法。
5. 【請求項５】 前記電極シートを表面に溝が形成された
   金属基盤の表面上に積層した状態で、前記溝内部の圧力
   を前記電極シートを隔てた溝外部の圧力よりも低くする
   ことによって、前記金属基盤の溝内に前記電極シートを
   埋め込むことを特徴とする請求項４記載の静電チャック
   装置の製造方法。