JP2001066416A

JP2001066416A - カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子

Info

Publication number: JP2001066416A
Application number: JP24453999A
Authority: JP
Inventors: Shoji Shiba; 昭二芝; Hideaki Takao; 英昭高尾; Ryuichi Yokoyama; 隆一横山; Masaji Sofue; 正司祖父江; Takeshi Okada; 岡田　　健
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1999-08-31
Filing date: 1999-08-31
Publication date: 2001-03-16

Abstract

(57)【要約】【課題】インクジェット方式によりインク受容層を着
色して形成されるカラーフィルタにおいて、体積膨張し
た着色部の検査時における損傷を防止する。【解決手段】透明基板１上にインク受容層を形成し、
パターン露光して被着色部と非着色部５を形成し、該被
着色部にインクを付与して硬化させ、着色部８を形成し
た後、非着色部５を覆うレジストパターン１０を形成
し、透明基板１表面からの最も高い位置をレジストパタ
ーン１０表面とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
カラー液晶素子の構成部材であるカラーフィルタとその
製造方法、さらには該カラーフィルタを用いた液晶素子
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。

【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、未だ全ての要求特性を満足する方法は確立さ
れていない。以下にそれぞれの方法を説明する。

【０００４】第一の方法は染色法である。染色法は、先
ず透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料
層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望
の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色
浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３
回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）
の３色の着色層からなるカラーフィルタを得る。

【０００５】第二の方法は顔料分散法であり、近年最も
盛んに行われている。この方法は、先ず透明基板上に顔
料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニン
グすることにより単色のパターンを得る。さらにこの工
程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色
層からなるカラーフィルタを形成する。

【０００６】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、先ず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの
３色の着色層を形成し、最後に焼成してカラーフィルタ
を得る方法である。

【０００７】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、
Ｇ、Ｂに塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより
Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色層からなるカラーフィルタを得
る。

【０００８】いずれの方法においても着色層の上に保護
層を形成するのが一般的である。また、これらの方法に
共通している点は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色を着色するために
同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になる
ことである。また、工程数が多いほど歩留まりが低下す
るという問題を有している。さらに、電着法において
は、形成可能なパターン形状が限定されるため、現状の
技術ではＴＦＴ型（薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用い
たアクティブマトリクスタイプ）液晶素子には不向きで
ある。また、印刷法は、解像性が悪いためファインピッ
チのパターンの形成は困難である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記製造方法の欠点を
補うべく、インクジェット方式を用いたカラーフィルタ
の製造方法として、特開昭５９−７５２０５号、特開昭
６３−２３５９０１号、特開平１−２１７３０２号等の
提案があるが、未だ不十分である。特に、インクジェッ
ト方式を用いてカラーフィルタを作製する際には、隣
接する異なる色の画素間における混色、及び、着色部
とブラックマトリクスとの境界部における白抜けや、着
色画素内における着色濃度の分布に起因する色ムラが問
題となる。

【００１０】そこで、カラーフィルタの画素間における
混色を防止する方法として、特開平４−１２３００５号
の提案がある。当該提案においては、ブラックマトリク
ス上に撥水、撥油性の大きなシリコーンゴムのパターン
を形成し、インクジェット方式或いは印刷法における混
色を防止する方法が記載されている。

【００１１】しかしながら、シリコーンゴムのパターン
を形成する方法としては、感光性樹脂層上にシリコーン
ゴム層を形成した後にフォトリソグラフィによって該シ
リコーンゴム層或いはシリコーンゴム層と感光性樹脂層
をパターニングするため、工程数が多く、製造工程的に
不利である。

【００１２】そこで、より簡便な方法で表面に撥水、撥
油性を有するブラックマトリクスを得る方法として、特
開平７−３５９１６号の提案がある。該提案は、ブラッ
クマトリクス形成用部材上に、シリコーン微粒子を含有
する光透過性の感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層
をフォトリソグラフィによってパターニングした後、パ
ターニングされた感光性樹脂層をマスクとしてブラック
マトリクス形成用部材のパターニングを行う方法であ
る。

【００１３】しかしながら、該提案は、感光性樹脂中に
微粒子状態でシリコーンを含有するため、（１）シリコーン微粒子が現像残渣となり、これがブラ
ックマトリクス形成用部材に転写されてブラックマトリ
クスに欠陥が発生する。（２）シリコーン微粒子の添加量を多くすると解像性が
低下するため、微細パターンの形成には不向きである。
等の問題がある。

【００１４】また、感光性シリコーンを用いて画素のに
じみを防止する方法として、特開昭６３−６６５０１号
公報に感光性樹脂でマトリクスを形成し、その上部に印
刷により黒色部を設けてブラックマトリクスとした後、
感光性シリコーンを用いてブラックマトリクス上に保護
層を形成する方法が記載されている。この方法は、ブラ
ックマトリクスの間隙に設ける画素部とブラックマトリ
クスとの境界を明確にし、画素のにじみを防止してコン
トラストの高いカラーフィルタを目的としたものである
が、感光性樹脂で形成したブラックマトリクスのエッジ
部まで感光性シリコーンで被覆するため、着色部とブラ
ックマトリクスとの境界部において白抜けが発生すると
いう問題がある。

【００１５】本発明者等は、簡便な方法で混色を防止す
る方法として、特開平８−７５９１６号を提案した。こ
の方法は、透明基板上に光照射または光照射と熱処理に
よりインク吸収性が低下する感光性樹脂組成物からなる
インク受容層を設け、非着色部に対してパターン露光を
行ってインク吸収性を低下させた後、未露光部に対して
インクジェット方式によりインクを付与し、着色部を形
成するものである。この製造方法は、いわばインク受容
層中に化学的な壁を設けることにより混色を防止するも
のである。

【００１６】しかしながら、インク受容層の表面層にお
いて既にインクの混色が発生している場合には、その効
果を十分に発揮することができない。即ち、インクジェ
ット記録装置に搭載されるインクジェットヘッドに不良
が発生し、インクのよれ或いはサテライト等が発生する
場合には混色の防止に対する効果が不十分である。さら
に、白抜け及び画素内色ムラを防止するために、多量の
インクを未露光部に対して付与した場合にも、インクが
インク受容層に吸収される前に表面層で混色してしまう
ことがあり、同様に混色防止効果を十分に発揮すること
は困難である。

【００１７】また、該製造方法により製造されたカラー
フィルタの着色層は、着色部がインク中の着色剤を吸収
することにより体積が増加するため、非着色部よりも盛
り上がった構造となる。一方、カラーフィルタの色ムラ
を検査する方法としては、一般に、バックライト上で、
対応するカラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂのいずれか一色分
の開口部を有するよう遮光部を形成したマスク（１／３
ＢＭマスク）をカラーフィルタに密着させ、徐々にずら
せることによって、Ｒ、Ｇ、Ｂ各色を単色で表示させて
目視によって評価する方法がとられている。該方法によ
って、上記本発明者等が提案した方法で製造したカラー
フィルタを検査した場合、表面が盛り上がった着色部が
上記マスクに接するために、該マスクをずらせる際に着
色部表面に傷が付く場合があり、表示不良の原因となる
可能性があった。

【００１８】本発明の目的は、上記問題を解決し、簡便
な方法で歩留まり良くカラーフィルタを製造し、該カラ
ーフィルタを用いて表示特性に優れた液晶素子を安価に
提供することにある。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
は、透明基板上に、複数の着色部と隣接する該着色部間
に位置する非着色部を有する着色層と、該非着色部上に
位置するレジストパターンと、を少なくとも有し、透明
基板の表面から着色部の表面までの高さよりも、透明基
板の表面からレジストパターンの表面までの高さの方が
高いことを特徴とする。

【００２０】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、上記本発明のカラーフィルタの製造方法であって、
第一の方法は、透明基板上に少なくとも光照射によって
インク吸収性が低減するインク受容層を形成する工程
と、上記インク受容層をパターン露光してインク吸収性
を有する被着色部と、被着色部間に位置し該被着色部よ
りもインク吸収性が低い非着色部を形成する工程と、上
記インク受容層の被着色部にインクジェット方式により
インクを付与して着色する工程と、上記インク受容層を
熱処理により硬化して着色した被着色部を着色部とし、
着色部と非着色部からなる着色層を形成する工程と、上
記着色層上にレジスト層を形成する工程と、上記レジス
ト層をパターン露光して非着色部上にレジストパターン
を形成する工程と、を少なくとも有することを特徴とす
る。

【００２１】本発明のカラーフィルタの第二の製造方法
は、透明基板上に少なくとも光照射によって、インク吸
収性が低減するインク受容層を形成する工程と、上記イ
ンク受容層をパターン露光してインク吸収性を有する被
着色部と、被着色部間に位置し該被着色部よりもインク
吸収性が低い非着色部を形成する工程と、上記インク受
容層上にレジスト層を形成する工程と、上記レジスト層
をパターン露光して少なくとも非着色部上を覆うレジス
トパターンを形成する工程と、上記インク受容層の被着
色部にインクジェット方式によりインクを付与して着色
する工程と、上記インク受容層を熱処理により硬化して
着色した被着色部を着色部とし、着色部と非着色部から
なる着色層を形成する工程と、を少なくとも有すること
を特徴とする。

【００２２】本発明のカラーフィルタの第三の製造方法
は、透明基板上に少なくとも光照射によって、インク吸
収性が低減するインク受容層を形成する工程と、上記イ
ンク受容層上にネガ型レジスト層を形成する工程と、イ
ンク受容層とレジスト層を同時にパターン露光して、イ
ンク受容層にインク吸収性を有する被着色部と、被着色
部間に位置し該被着色部よりもインク吸収性が低い非着
色部を形成すると同時に、該非着色部上を覆うレジスト
パターンを形成する工程と、上記インク受容層の被着色
部にインクジェット方式によりインクを付与して着色す
る工程と、上記インク受容層を熱処理により硬化して着
色した被着色部を着色部とし、着色部と非着色部からな
る着色層を形成する工程と、を少なくとも有することを
特徴とする。

【００２３】さらに本発明の液晶素子は、一対の基板間
に液晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のカラ
ーフィルタを用いて構成されていることを特徴とする。

【００２４】本発明のカラーフィルタは、着色層の非着
色部上にレジストパターンを設けることによって、透明
基板表面から最も高い位置を該レジスト表面とし、カラ
ーフィルタ検査時における着色部の損傷を防止するもの
である。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明を詳
細に説明する。

【００２６】本発明のカラーフィルタの製造方法は、前
記したように、第一〜第三の製造方法があるが、その違
いを要約すると以下の通りである。

【００２７】第一の製造方法：着色層を形成した後に非
着色部上にレジストパターンを形成する。

【００２８】第二の製造方法：インク受容層をパターン
露光した後に、非着色部上にレジストパターンを形成
し、インク受容層を着色する。

【００２９】第三の製造方法：インク受容層のパターン
露光とレジスト層のパターン露光を同時に行い、インク
受容層を着色する。

【００３０】第二の製造方法と第三の製造方法では、イ
ンク受容層の非着色部上にレジストパターンを形成した
後に被着色部にインクを付与して着色するため、インク
を付与した際には、該レジストパターンが隔壁となっ
て、インク受容層表面でのインクの混色を防止すること
ができる。

【００３１】以下に図面を参照して本発明を詳細に説明
する。

【００３２】図１、図２は本発明のカラーフィルタの第
一の製造方法の一実施形態の工程図である。図中、１は
透明基板、２はブラックマトリクス、３はインク受容
層、４，４’はフォトマスク、５は非着色部、６は被着
色部、７はインク、８は着色部、９はレジスト層、１０
はレジストパターン、１１は保護層である。尚、図１，
図２の（ａ）〜（ｉ）は下記工程（ａ）〜（ｉ）に対応
する断面模式図である。

【００３３】工程（ａ）透明基板１上に必要に応じて画素間を遮光する遮光層を
形成する。本例ではブラックマトリクス２を形成した場
合を示すが、ブラックストライプを用いる場合もある。
透明基板１としては、通常ガラス基板が用いられるが、
カラーフィルタとしての透明性及び機械的強度等必要特
性を有するものであれば、プラスチック基板等適宜用い
ることができる。ブラックマトリクス２の形成方法とし
ては、通常スパッタもしくは蒸着により金属薄膜を形成
し、フォトリソ工程によりパターニングして形成するこ
とができる。

【００３４】工程（ｂ）透明基板１上にインク受容層３を形成する。インク受容
層３は少なくとも光照射によってインク吸収性が低減す
る素材で形成する。具体的には、光照射或いは光照射と
熱処理によってインク吸収性が低減する感光性樹脂組成
物が好ましく用いられる。このような感光性樹脂として
は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、
フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂などが必要に応
じて光開始剤（架橋剤）と併せて用いられる。

【００３５】上記感光性樹脂組成物は透明基板１上にデ
ィッピング法、ロールコート法、バーコート法、スリッ
トコート法等の公知の手段により塗布し、必要に応じて
プリベークしてインク受容層３とする。

【００３６】尚、本発明においては、インク受容層３は
光照射によってインク受容層３のインク吸収性が低減す
ると同時に、インクぬれ性も低減するものが好ましい。

【００３７】工程（ｃ）フォトマスク４を介してパターン露光を行うことによ
り、インク吸収性を有する被着色部６とインク吸収性が
被着色部６より低い（或いは無い）非着色部５を形成す
る。この場合、ブラックマトリクス２の開口部における
色抜けを防止するために、着色部８をブラックマトリク
ス２の開口部よりも広く形成する意味から、ブラックマ
トリクス２の幅よりも非着色部５の幅が狭くなるような
開口パターンを有するフォトマスクを用いることが好ま
しい。

【００３８】工程（ｄ）インク受容層の被着色部６にインクジェット方式によ
り、所定の着色パターンに沿ってＲ、Ｇ、Ｂの各インク
７を付与する。この時、被着色部６間にはインク吸収性
が低い（或いはない）非着色部５が介在するため、被着
色部６からはみ出したインクは非着色部５においてはじ
かれ、隣接する被着色部６間での混色が防止される。

【００３９】本発明において用いられるインク７として
は、染料系、顔料系のいずれでも用いることができ、イ
ンクジェット方式によって吐出が可能なものであれば好
ましく用いることができる。

【００４０】また、本発明において用いられるインクジ
ェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着
色面積及び着色パターンは任意に設定することができ
る。

【００４１】工程（ｅ）インク７が被着色部６に吸収され十分に拡散した後、必
要に応じて乾燥処理を施し、さらに光照射、熱処理等必
要な処理を施してインク受容層全体を硬化させ、非着色
部５と着色部８からなる着色層を形成する。

【００４２】工程（ｆ）インク中の着色剤を吸収して体積膨張した着色部８の表
面が露出しないように、着色層全面が覆われるようにレ
ジスト層９を形成する。

【００４３】工程（ｇ）レジスト層９をフォトマスク４’を介してパターン露光
する。この時、レジスト層９としてネガ型レジストを用
いておくことにより、フォトマスク４、４’として同じ
開口パターンのものを用いることができるため、好まし
い。また、レジストの感光性をポジ型とした場合には、
フォトマスク４とは逆の開口部を有するフォトマスク
４’を用いる。本実施形態はネガ型レジストを用いた例
を示す。

【００４４】工程（ｈ）パターン露光したレジスト層９を現像して未露光部を取
り除き、非着色部５上にレジストパターン１０を形成す
る。これにより、透明基板１の表面から着色部８の表面
までの高さよりも、透明基板１の表面からレジストパタ
ーン１０の表面までの高さの方が高くなる。

【００４５】工程（ｉ）必要に応じて保護層１１を形成する。保護層１１として
は、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬化型の樹
脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等によって形成され
た無機膜等を用いることができる。いずれの場合も、カ
ラーフィルタとしての透明性を有し、その後のＩＴＯ膜
形成工程、配向膜形成工程等液晶素子の製造工程に耐え
るものであれば使用することができる。

【００４６】また、本発明のカラーフィルタは、表面に
液晶を駆動するための電極となるＩＴＯ等の透明導電膜
を形成した状態で提供される場合もある。

【００４７】次に、図４、図５に本発明のカラーフィル
タの第二の製造方法の一実施形態の工程図を示す。図
中、図１，図２と同じ部材には同じ符号を付した。尚、
図４、図５の（ａ）〜（ｆ）は下記工程（ａ）〜（ｆ）
に対応する断面模式図である。

【００４８】工程（ａ）〜（ｃ）先の第一の製造方法の実施形態における工程（ａ）、
（ｂ）と同様にして、透明基板１上にブラックマトリク
ス２とインク受容層３を形成し、インク受容層３をパタ
ーン露光して被着色部６と非着色部５を形成する。

【００４９】工程（ｄ）インク受容層上に全面にレジスト層９を形成する。

【００５０】工程（ｅ）ブラックマトリクス２をフォトマスクとして用いて透明
基板１の裏面からレジスト層９をパターン露光する。本
実施形態ではレジスト層９の感光性はポジ型である。こ
のように、ポジ型のレジストを用いることにより、フォ
トマスクを用いずにパターン露光することが可能であ
る。また、ネガ型のレジストを用いた場合には、工程
（ｃ）でインク受容層３のパターン露光に用いたフォト
マスク４を用いてレジスト層９をパターン露光すればよ
い。

【００５１】尚、本製造方法において、ポジ型レジスト
を用いる場合、レジスト層９のパターン露光の際にイン
ク受容層３の被着色部６が反応して硬化してしまわない
ように、互いに感光波長が異なる素材を選択することが
必要である。例えば、インク受容層３には、Ｄｅｅｐ−
ＵＶ領域（波長３００ｎｍ以下）に対して感光性を有す
る素材を用い、レジスト層９には３００ｎｍを超える波
長に感光するポジ型素材を選択すればよい。一般的に支
持基板として用いられるガラス基板は、３００ｎｍ以下
の波長の光を透過しないことから、ポジ型のレジスト層
９を裏面から露光する場合には、ｉ線（３６５ｎｍ）或
いはｇ線（４３６ｎｍ）に対して感光性を有する素材を
レジスト層９として選択すればよい。

【００５２】工程（ｆ）現像処理を行って、レジストパターン１０を形成する。

【００５３】工程（ｇ）〜（ｉ）先の第一の製造方法の実施形態における工程（ｄ）、
（ｅ）、（ｉ）と同様にして、インクジェット方式によ
り、インク受容層の被着色部６にインク７を付与し、適
宜必要な処理を施して硬化させ、着色部６を得る。さら
に、必要に応じて保護層１１を着色層上に形成する。ま
たさらに、必要に応じて透明導電膜を形成する場合もあ
る。

【００５４】次に、図６に本発明のカラーフィルタの第
三の製造方法の一実施形態の工程図を示す。図中、図
１，図２と同じ部材には同じ符号を付した。尚、図６の
（ａ）〜（ｈ）は下記工程（ａ）〜（ｈ）に対応する断
面模式図である。

【００５５】工程（ａ）、（ｂ）先の第一の製造方法の実施形態における工程（ａ）、
（ｂ）と同様にして、透明基板１上にブラックマトリク
ス２とインク受容層３を形成する。

【００５６】工程（ｃ）インク受容層３上にネガ型のレジスト層９を形成する。

【００５７】工程（ｄ）フォトマスク４を用いて、インク受容層３とレジスト層
９を同時にパターン露光する。この場合、ブラックマト
リクス２の開口部における色抜けを防止するために、着
色部８をブラックマトリクス２の開口部よりも広く形成
する意味から、ブラックマトリクス２の幅よりも非着色
部５の幅が狭くなるような開口パターンを有するフォト
マスクを用いることが好ましい。工程（ｅ）現像処理を行って、レジストパターン１０を形成する。

【００５８】工程（ｆ）〜（ｈ）先の第一の製造方法の実施形態における工程（ｄ）、
（ｅ）、（ｉ）と同様にして、インクジェット方式によ
り、インク受容層の被着色部６にインク７を付与し、適
宜必要な処理を施して硬化させ、着色部６を得る。さら
に、必要に応じて保護層１１を着色層上に形成する。ま
たさらに、必要に応じて透明導電膜を形成する場合もあ
る。

【００５９】次に、本発明の液晶素子の一例を図３に示
す。図３は、図１，図２に示した工程で得られた本発明
のカラーフィルタを用いて構成した液晶素子の一例の断
面模式図である。図中、２１は対向基板、２２は共通電
極、２３は画素電極、２４，２５は配向膜、２６は液晶
である。本液晶素子は、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）を配置したアクティブマトリクスタイプ（いわゆ
るＴＦＴ型）の液晶素子の一例である。

【００６０】カラー表示の液晶素子は、一般的にカラー
フィルタ側基板１と対向基板２１を合わせ込み、液晶２
６を封入することにより形成される。対向基板２１の内
側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極２３がマ
トリクス状に形成される。また、透明基板１の内側に
は、画素電極２３に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列
するようにカラーフィルタの着色部８が設置され、その
上に透明な共通電極２２が一面に形成される。ブラック
マトリクス２は、通常カラーフィルタ側に形成される
が、ＢＭオンアレイタイプの液晶素子においては対向基
板２１側に形成される。さらに、両基板の面内には配向
膜２４，２５が形成されており、これらをラビング処理
することにより液晶分子を一定方向に配列させることが
できる。これらの基板はスペーサー（図示しない）等を
介して対向配置され、シール材（図示しない）によって
貼り合わされ、その間隙に液晶２６が充填される。

【００６１】上記液晶素子は、透過型の場合には両基板
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板２１の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶２６
を光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させ
ることにより表示を行う。

【００６２】上記実施形態においては、ＴＦＴ型の液晶
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。

【００６３】また、本発明の液晶素子においては、本発
明のカラーフィルタを用いて構成されていれば、他の部
材については従来の液晶素子の技術を用いることがで
き、液晶としても一般的に用いられているＴＮ型液晶や
強誘電性液晶等いずれも用いることができる。

【００６４】

【実施例】（実施例１）ブラックマトリクスが形成され
たガラス基板上に、下記の組成からなるアクリル系共重
合体を９７重量部とメチルメタクリレート５０重量部ヒドロキシエチルメタクリレート３０重量部Ｎ−メチロールアクリルアミド２０重量部３重量部のトリフェニルスルフォニウムトリフラート
（みどり化学社製「ＴＰＳ−１０５」）をエチルセロソ
ルブに溶解してなる感光性樹脂組成物を膜厚が２μｍと
なるようにスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベ
ークを行って、感光性樹脂組成物からなるインク受容層
を形成した。

【００６５】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して、上記インク受
容層をパターン露光し、さらに１２０℃のホットプレー
ト上で１分間の熱処理を施して非着色部を形成した。

【００６６】上記インク受容層の未露光の被着色部にイ
ンクジェット記録装置を用い、Ｒ、Ｇ、Ｂの染料系イン
クを所定の着色パターンに沿って付与して着色した後、
９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き２３０
℃で３０分間の熱処理を行ってインク受容層全体を硬化
させ、着色部と非着色部を有する着色層を形成した。

【００６７】次いで、上記着色層にネガ型フォトレジス
ト（東京応化社製「ＯＭＲ−８５」）を膜厚が０．５μ
ｍとなるようにスピンコートし、真空乾燥を行ってネガ
型レジスト層を形成し、インク受容層のパターン露光に
用いたフォトマスクを介して該ネガ型レジスト層をパタ
ーン露光し、現像処理を行って非着色部上にレジストパ
ターンを形成した。

【００６８】得られたカラーフィルタについて、表面粗
さ計（テンコール社製）により着色部表面からレジスト
パターン表面までの段差を測定したところ、Ｒ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２３μｍＧ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．３０μｍＢ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２５μｍであった。また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡によ
り観察したところ、混色は観察されなかった。さらに、
該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記検査
用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
の着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光学顕
微鏡により観察したところ、傷、膜剥がれ等の傷害は観
察されなかった。

【００６９】（実施例２）実施例１で得られたカラーフ
ィルタ上にスパッタによりＩＴＯからなる透明導電膜を
形成し、実施例１と同様に表面粗さ計を用いて着色部上
の透明導膜表面からレジストパターン上の透明導電膜表
面までの段差を測定したところ、Ｒ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．２３μｍＧ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．３０μｍＢ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．２５μｍであった。

【００７０】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで透明導電膜表面
を光学顕微鏡により観察したところ、着色部上に傷、膜
剥がれ等の傷害は観察されなかった。

【００７１】（比較例１）レジストパターンを形成しな
い以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製し
た。得られたカラーフィルタについて、実施例１と同様
に表面粗さ計を用いて着色部表面からレジストパターン
表面までの段差を測定したところ、非着色部表面からＲ着色部表面までの段差：０．２７μ
ｍ非着色部表面からＧ着色部表面までの段差：０．２０μ
ｍ非着色部表面からＢ着色部表面までの段差：０．２５μ
ｍであった。

【００７２】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光
学顕微鏡により観察したところ、Ｒ及びＢの着色部にお
いて傷が観察された。

【００７３】（比較例２）比較例１のカラーフィルタ上
に、実施例２と同様にスパッタによりＩＴＯからなる透
明導電膜を形成した。実施例１と同様に表面粗さ計を用
いて着色部上の透明導膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差を測定したところ、非着色部上の透明導電膜表面からＲ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２７μｍ非着色部上の透明導電膜表面からＧ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２０μｍ非着色部上の透明導電膜表面からＢ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２５μｍであった。

【００７４】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで透明導電膜表面
を光学顕微鏡により観察したところ、Ｒ及びＧの着色部
上の透明導電膜に傷が観察された。

【００７５】（実施例３）実施例１と同様にして、ブラ
ックマトリクスを備えたガラス基板上にインク受容層を
形成した。次いで、該インク受容層上にポジ型フォトレ
ジスト（東京応化社製「ＯＦＰＲ−８００」）を膜厚
０．５μｍとなるようにスピンコートし、真空乾燥を行
ってポジ型レジスト層を形成し、次いで基板裏面から全
面露光を行った後、現像処理を施してレジストパターン
を形成した。

【００７６】引き続き、インク受容層の未露光部（被着
色部）にインクジェット記録装置を用いてＲ、Ｇ、Ｂの
染料系インクを所定の着色パターンに沿って付与して着
色した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行い、さら
に、２３０℃で３０分間の熱処理を行ってインク受容層
を硬化させ、着色部と非着色部からなる着色層を形成し
た。

【００７７】得られたカラーフィルタについて、実施例
１と同様に、表面粗さ計（テンコール社製）により着色
部表面からレジストパターン表面までの段差を測定した
ところ、Ｒ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２３μｍＧ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．３０μｍＢ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２５μｍであった。また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡によ
り観察したところ、混色は観察されなかった。さらに、
該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記検査
用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
の着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光学顕
微鏡により観察したところ、傷、膜剥がれ等の傷害は観
察されなかった。

【００７８】（実施例４）付与するインク量を所定量の
１．３倍とした以外は、実施例３と同様にしてカラーフ
ィルタを作製した。得られたカラーフィルタについて、
実施例１と同様に、表面粗さ計（テンコール社製）によ
り着色部表面からレジストパターン表面までの段差を測
定したところ、Ｒ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．１７μｍＧ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２３μｍＢ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．１８μｍであった。また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡によ
り観察したところ、混色は観察されなかった。さらに、
該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記検査
用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
の着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光学顕
微鏡により観察したところ、傷、膜剥がれ等の傷害は観
察されなかった。

【００７９】（実施例５）実施例３で得られたカラーフ
ィルタ上にスパッタによりＩＴＯからなる透明導電膜を
形成し、実施例１と同様に表面粗さ計を用いて着色部上
の透明導膜表面からレジストパターン上の透明導電膜表
面までの段差を測定したところ、Ｒ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．２３μｍＧ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．３０μｍＢ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．２５μｍであった。

【００８０】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで着色部上の透明
導電膜表面を光学顕微鏡により観察したところ、傷、膜
剥がれ等の傷害は観察されなかった。

【００８１】（比較例３）レジストパターンを形成しな
い以外は実施例３と同様にしてカラーフィルタを作製し
た。得られたカラーフィルタについて、実施例１と同様
に表面粗さ計を用いて着色部表面からレジストパターン
表面までの段差を測定したところ、非着色部表面からＲ着色部表面までの段差：０．２７μ
ｍ非着色部表面からＧ着色部表面までの段差：０．２０μ
ｍ非着色部表面からＢ着色部表面までの段差：０．２５μ
ｍであった。

【００８２】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光
学顕微鏡により観察したところ、Ｒ及びＢの着色部にお
いて傷が観察された。

【００８３】（比較例４）レジストパターンを形成しな
い以外は実施例４と同様にしてカラーフィルタを作製し
た。得られたカラーフィルタについて、実施例１と同様
に表面粗さ計を用いて着色部表面からレジストパターン
表面までの段差を測定したところ、非着色部表面からＲ着色部表面までの段差：０．３３μ
ｍ非着色部表面からＧ着色部表面までの段差：０．２７μ
ｍ非着色部表面からＢ着色部表面までの段差：０．３２μ
ｍであった。

【００８４】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、一部混色が観察された。さらに、
該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記検査
用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
の着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光学顕
微鏡により観察したところ、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色
部においても傷が観察された。

【００８５】（比較例５）比較例３のカラーフィルタ上
に、実施例５と同様にスパッタによりＩＴＯからなる透
明導電膜を形成した。実施例１と同様に表面粗さ計を用
いて着色部上の透明導膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差を測定したところ、非着色部上の透明導電膜表面からＲ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２７μｍ非着色部上の透明導電膜表面からＧ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２０μｍ非着色部上の透明導電膜表面からＢ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２５μｍであった。

【００８６】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで透明導電膜表面
を光学顕微鏡により観察したところ、Ｒ及びＧの着色部
上の透明導電膜に傷が観察された。

【００８７】（実施例６）実施例１と同様にして、ブラ
ックマトリクスを備えたガラス基板上にインク受容層を
形成した。次いで、該インク受容層上にネガ型フォトレ
ジスト（東京応化社製「ＯＭＲ−８５」）を膜厚が０．
５μｍとなるようにスピンコートし、真空乾燥を行って
ネガ型レジスト層を形成し、ブラックマトリクスの幅よ
りも狭い開口部を有するフォトマスクを介してパターン
露光し、さらに１２０℃のホットプレート上で１分間の
熱処理を施してインク受容層に非着色部を形成した。そ
の後、現像処理を行ってインク受容層の非着色部上にレ
ジストパターンを形成した。

【００８８】引き続き、インク受容層の未露光部（被着
色部）にインクジェット記録装置を用いてＲ、Ｇ、Ｂの
染料系インクを所定の着色パターンに沿って付与して着
色した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行い、さら
に、２３０℃で３０分間の熱処理を行ってインク受容層
を硬化させ、着色部と非着色部からなる着色層を形成し
た。

【００８９】得られたカラーフィルタについて、実施例
１と同様に、表面粗さ計（テンコール社製）により着色
部表面からレジストパターン表面までの段差を測定した
ところ、Ｒ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２３μｍＧ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．３０μｍＢ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２５μｍであった。また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡によ
り観察したところ、混色は観察されなかった。さらに、
該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記検査
用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
の着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光学顕
微鏡により観察したところ、傷、膜剥がれ等の傷害は観
察されなかった。

【００９０】（実施例７）付与するインク量を所定量の
１．３倍とした以外は、実施例６と同様にしてカラーフ
ィルタを作製した。得られたカラーフィルタについて、
表面粗さ計（テンコール社製）により着色部表面からレ
ジストパターン表面までの段差を測定したところ、Ｒ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．１７μｍＧ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．２３μｍＢ着色部表面からレジストパターン表面までの段差：
０．１８μｍであった。また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡によ
り観察したところ、混色は観察されなかった。さらに、
該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記検査
用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
の着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光学顕
微鏡により観察したところ、傷、膜剥がれ等の傷害は観
察されなかった。

【００９１】（実施例８）実施例６で得られたカラーフ
ィルタ上にスパッタによりＩＴＯからなる透明導電膜を
形成し、実施例１と同様に表面粗さ計を用いて着色部上
の透明導膜表面からレジストパターン上の透明導電膜表
面までの段差を測定したところ、Ｒ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．２３μｍＧ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．３０μｍＢ着色部上の透明導電膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差：０．２５μｍであった。

【００９２】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで着色部上の透明
導電膜表面を光学顕微鏡により観察したところ、傷、膜
剥がれ等の傷害は観察されなかった。

【００９３】（比較例６）レジストパターンを形成しな
い以外は実施例６と同様にしてカラーフィルタを作製し
た。得られたカラーフィルタについて、実施例１と同様
に表面粗さ計を用いて着色部表面からレジストパターン
表面までの段差を測定したところ、非着色部表面からＲ着色部表面までの段差：０．２７μ
ｍ非着色部表面からＧ着色部表面までの段差：０．２０μ
ｍ非着色部表面からＢ着色部表面までの段差：０．２５μ
ｍであった。

【００９４】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光
学顕微鏡により観察したところ、Ｒ及びＢの着色部にお
いて傷が観察された。

【００９５】（比較例７）レジストパターンを形成しな
い以外は実施例７と同様にしてカラーフィルタを作製し
た。得られたカラーフィルタについて、実施例１と同様
に表面粗さ計を用いて着色部表面からレジストパターン
表面までの段差を測定したところ、非着色部表面からＲ着色部表面までの段差：０．３３μ
ｍ非着色部表面からＧ着色部表面までの段差：０．２７μ
ｍ非着色部表面からＢ着色部表面までの段差：０．３２μ
ｍであった。

【００９６】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、一部混色が観察された。さらに、
該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記検査
用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
の着色部の色ムラを検査し、次いで着色部表面を光学顕
微鏡により観察したところ、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色
部においても傷が観察された。

【００９７】（比較例８）比較例６のカラーフィルタ上
に、実施例８と同様にスパッタによりＩＴＯからなる透
明導電膜を形成した。実施例１と同様に表面粗さ計を用
いて着色部上の透明導膜表面からレジストパターン上の
透明導電膜表面までの段差を測定したところ、非着色部上の透明導電膜表面からＲ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２７μｍ非着色部上の透明導電膜表面からＧ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２０μｍ非着色部上の透明導電膜表面からＢ着色部上の透明導電
膜表面までの段差：０．２５μｍであった。

【００９８】また、当該カラーフィルタを光学顕微鏡に
より観察したところ、混色は観察されなかった。さら
に、該カラーフィルタをバックライト上に設置し、前記
検査用の１／３ＢＭマスクを密着させてＲ、Ｇ、Ｂそれ
ぞれの着色部の色ムラを検査し、次いで透明導電膜表面
を光学顕微鏡により観察したところ、Ｒ及びＧの着色部
上の透明導電膜に傷が観察された。

【００９９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カラーフィルタ検査時におけるカラーフィルタの損傷が
防止され、また、レジストパターンを着色工程に先だっ
て形成しておくことにより、インク受容層表面での混色
も防止されるため、簡便な工程により信頼性の高いカラ
ーフィルタを歩留まり良く製造することができる。よっ
て、該カラーフィルタを用いて、カラー表示特性に優れ
た液晶素子をより安価に提供することが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの第一の製造方法の一
実施形態の工程図である。

【図２】本発明のカラーフィルタの第一の製造方法の一
実施形態の工程図である。

【図３】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。

【図４】本発明のカラーフィルタの第二の製造方法の一
実施形態の工程図である。

【図５】本発明のカラーフィルタの第二の製造方法の一
実施形態の工程図である。

【図６】本発明のカラーフィルタの第三の製造方法の一
実施形態の工程図である。

【符号の説明】

１透明基板２ブラックマトリクス３インク受容層４、４’ フォトマスク５非着色部６被着色部７インク８着色部９レジスト層１０レジストパターン１１保護層２１対向基板２２共通電極２３画素電極２４，２５配向膜２６液晶

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者横山隆一東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者祖父江正司東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者岡田健東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内Ｆターム(参考） 2C056 FB01 2H048 BA02 BA56 BA60 BB02 BB14 BB15 BB24 BB37 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FC01 FC12 FD04 FD05 LA12 LA15 LA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に、複数の着色部と隣接する
該着色部間に位置する非着色部を有する着色層と、少な
くとも非着色部上を覆うレジストパターンと、を少なく
とも有し、透明基板の表面から着色部の表面までの高さ
よりも、透明基板の表面からレジストパターンの表面ま
での高さの方が高いことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】非着色部に少なくとも重なる遮光層を有
する請求項１記載のカラーフィルタ。
【請求項３】遮光層の幅が非着色部の幅よりも広い請
求項２記載のカラーフィルタ。
【請求項４】着色層上に保護層を有する請求項１〜３
のいずれかに記載のカラーフィルタ。
【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載のカラー
フィルタの製造方法であって、透明基板上に少なくとも
光照射によって、インク吸収性が低減するインク受容層
を形成する工程と、上記インク受容層をパターン露光し
てインク吸収性を有する被着色部と、被着色部間に位置
し該被着色部よりもインク吸収性が低い非着色部を形成
する工程と、上記インク受容層の被着色部にインクジェ
ット方式によりインクを付与して着色する工程と、上記
インク受容層を熱処理により硬化して着色した被着色部
を着色部とし、着色部と非着色部からなる着色層を形成
する工程と、上記着色層上にレジスト層を形成する工程
と、上記レジスト層をパターン露光して少なくとも非着
色部上を覆うレジストパターンを形成する工程と、を少
なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造
方法。
【請求項６】レジストとしてネガ型レジストを用い、
インク受容層とレジスト層のそれぞれのパターン露光に
おいて同じフォトマスクを用いる請求項５記載のカラー
フィルタの製造方法。
【請求項７】請求項１〜４のいずれかに記載のカラー
フィルタの製造方法であって、透明基板上に少なくとも
光照射によって、インク吸収性が低減するインク受容層
を形成する工程と、上記インク受容層をパターン露光し
てインク吸収性を有する被着色部と、被着色部間に位置
し該被着色部よりもインク吸収性が低い非着色部を形成
する工程と、上記インク受容層上にレジスト層を形成す
る工程と、上記レジスト層をパターン露光して少なくと
も非着色部上を覆うレジストパターンを形成する工程
と、上記インク受容層の被着色部にインクジェット方式
によりインクを付与して着色する工程と、上記インク受
容層を熱処理により硬化して着色した被着色部を着色部
とし、着色部と非着色部からなる着色層を形成する工程
と、を少なくとも有することを特徴とするカラーフィル
タの製造方法。
【請求項８】レジストとしてネガ型レジストを用い、
インク受容層とレジスト層のそれぞれのパターン露光に
おいて同じフォトマスクを用いる請求項７記載のカラー
フィルタの製造方法。
【請求項９】透明基板上に遮光層を形成する工程を有
し、レジストがポジ型であり、パターン露光に際してフ
ォトマスクとして遮光層を用いて透明基板裏面より露光
する請求項７に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】インク受容層の感光波長が３００ｎｍ
以下であり、レジストの感光波長が３００ｎｍを超える
請求項９記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】請求項１〜４のいずれかに記載のカラ
ーフィルタの製造方法であって、透明基板上に少なくと
も光照射によって、インク吸収性が低減するインク受容
層を形成する工程と、上記インク受容層上にネガ型レジ
スト層を形成する工程と、インク受容層とレジスト層を
同時にパターン露光して、インク受容層にインク吸収性
を有する被着色部と、被着色部間に位置し該被着色部よ
りもインク吸収性が低い非着色部を形成すると同時に、
該非着色部上を覆うレジストパターンを形成する工程
と、上記インク受容層の被着色部にインクジェット方式
によりインクを付与して着色する工程と、上記インク受
容層を熱処理により硬化して着色した被着色部を着色部
とし、着色部と非着色部からなる着色層を形成する工程
と、を少なくとも有することを特徴とするカラーフィル
タの製造方法。
【請求項１２】一対の基板間に液晶を狭持してなり、
一方の基板が請求項１〜４のいずれかに記載のカラーフ
ィルタを用いて構成されていることを特徴とする液晶素
子。