JP2001060600A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
- Publication number
- JP2001060600A JP2001060600A JP11233438A JP23343899A JP2001060600A JP 2001060600 A JP2001060600 A JP 2001060600A JP 11233438 A JP11233438 A JP 11233438A JP 23343899 A JP23343899 A JP 23343899A JP 2001060600 A JP2001060600 A JP 2001060600A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- tape carrier
- substrate
- semiconductor device
- wiring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、テープキャリアに
形成されたリード配線の断線防止技術に関し、特に、C
SP(Chip Size Package)などの補
強枠が用いられたテープキャリアの断線防止に適用して
有効な技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technology for preventing disconnection of a lead wiring formed on a tape carrier, and more particularly, to a technology for preventing disconnection of a lead wire.
The present invention relates to a technology effective when applied to prevent disconnection of a tape carrier using a reinforcing frame such as SP (Chip Size Package).
【0002】[0002]
【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、た
とえば、テープ形BGA(BallGrid Arra
y)半導体装置は、半導体チップを搭載するキャリア基
板としてテープキャリア基板が用いられ、TAB(Ta
pe AutomatedBonding)技術によっ
て接続される。2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventors, for example, a tape-type BGA (Ball Grid Array)
y) In a semiconductor device, a tape carrier substrate is used as a carrier substrate on which a semiconductor chip is mounted, and TAB (Ta)
(Automated Bonding) technology.
【0003】このテープキャリア基板は、たとえば、ポ
リイミドなどからなる樹脂テープの裏面にリード配線と
なる銅箔が貼り付けられている。テープキャリア基板の
中央部には、半導体チップを搭載するデバイスホールが
設けられており、デバイスホールから突き出した配線部
分がパッド電極となり、半導体チップのボンディングパ
ッドと電気的に接続されている。In this tape carrier substrate, for example, a copper foil serving as a lead wiring is adhered to the back surface of a resin tape made of polyimide or the like. A device hole for mounting a semiconductor chip is provided at the center of the tape carrier substrate, and a wiring portion protruding from the device hole serves as a pad electrode and is electrically connected to a bonding pad of the semiconductor chip.
【0004】テープキャリア基板の裏面には、アレイ状
の基板電極が形成されており、これら基板電極はリード
配線を介してそれぞれのパッド電極に電気的に接続され
ている。各々の基板電極には、外部導出用リードの代わ
りとして球形のはんだ、いわゆる、はんだボールが形成
されており、これらはんだボールを介して電子部品が実
装されるプリント配線基板の電極部に接続されている。An array of substrate electrodes is formed on the back surface of the tape carrier substrate, and these substrate electrodes are electrically connected to respective pad electrodes via lead wires. On each of the substrate electrodes, spherical solders, so-called solder balls, are formed in place of the leads for external lead-out, and are connected to the electrodes of the printed wiring board on which electronic components are mounted via these solder balls. I have.
【0005】また、テープキャリア基板の表面における
搭載された半導体チップの外周部近傍には、たとえば、
ニッケルからなる補強枠が接着されている。この補強枠
により、テープキャリア基板の平坦度が維持され、実装
時の取り扱いを容易にすることができる。In addition, for example, near the outer periphery of the mounted semiconductor chip on the surface of the tape carrier substrate,
A reinforcing frame made of nickel is bonded. With this reinforcing frame, the flatness of the tape carrier substrate is maintained, and handling during mounting can be facilitated.
【0006】なお、この種の半導体装置について詳しく
述べてある例としては、平成10年7月27日、株式会
社プレスジャーナル発行、「’99半導体組立・検査技
術」P17〜P20があり、この文献には、各種のBG
A形半導体装置における構成などが記載されている。[0006] As an example describing this type of semiconductor device in detail, there is "1999 Semiconductor Assembly and Inspection Technology" published on July 27, 1998 by Press Journal, P17 to P20. Has various BG
It describes the configuration of an A-type semiconductor device.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な半導体装置では、次のような問題点があることが本発
明者により見い出された。However, the present inventor has found that the above-described semiconductor device has the following problems.
【0008】すなわち、基板電極から引き出されたリー
ド配線が、テープキャリア基板の表面に接着された補強
枠と直交するように配線されており、テープキャリア基
板と補強枠との膨張係数の違いなどからテープキャリア
基板における補強枠の周辺部に応力が集中してしまい、
リード配線が断線してしまう恐れがあり、半導体装置の
信頼性が低下してしまうという問題がある。That is, the lead wiring drawn out from the substrate electrode is wired so as to be orthogonal to the reinforcing frame adhered to the surface of the tape carrier substrate, and due to the difference in expansion coefficient between the tape carrier substrate and the reinforcing frame. Stress concentrates on the periphery of the reinforcing frame on the tape carrier substrate,
There is a risk that the lead wiring may be disconnected, and the reliability of the semiconductor device is reduced.
【0009】また、このような断線は、補強枠における
周辺部の直下に位置する基板電極から引き出されるリー
ド配線が顕著となっている。In addition, such a disconnection is conspicuous in a lead wiring drawn from a substrate electrode located immediately below a peripheral portion of a reinforcing frame.
【0010】本発明の目的は、熱収縮量差に起因する応
力の集中があっても、配線リードの断線を確実に防止
し、接続信頼性を向上することのできる半導体装置を提
供することにある。An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of reliably preventing disconnection of a wiring lead and improving connection reliability even when stress due to a difference in heat shrinkage is concentrated. is there.
【0011】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.
【0013】すなわち、本発明の半導体装置は、バンプ
が形成されるテープキャリア基板の基板電極から引き出
されるリード配線を、半導体チップの外周部近傍に設け
られた補強枠の内周辺に直交しないように配線したもの
である。That is, in the semiconductor device of the present invention, the lead wires drawn from the substrate electrodes of the tape carrier substrate on which the bumps are formed are arranged so as not to be orthogonal to the inner periphery of the reinforcing frame provided near the outer periphery of the semiconductor chip. Wired.
【0014】また、本発明の半導体装置は、前記リード
配線を、テープキャリア基板に形成された基板電極のう
ち、補強枠における内周辺の直下またはその近傍に位置
する基板電極にのみ形成したものである。Further, in the semiconductor device according to the present invention, the lead wiring is formed only on the substrate electrode located immediately below or near the inner periphery of the reinforcing frame among the substrate electrodes formed on the tape carrier substrate. is there.
【0015】さらに、本発明の半導体装置は、前記基板
電極におけるリード配線の引き出し部を、ある配線長だ
け補強枠の内周辺に平行して配線した後、リード配線の
折れ曲がり部を円弧状に形成し、補強枠の内周辺に直交
しないように配線したものである。Further, in the semiconductor device according to the present invention, the lead wire lead-out portion of the substrate electrode is wired in parallel with the inner periphery of the reinforcing frame by a certain wire length, and then the bent portion of the lead wire is formed in an arc shape. And it is wired so as not to be orthogonal to the inner periphery of the reinforcing frame.
【0016】以上のことにより、補強枠の内周辺を通過
するリード配線の面積を大きくすることができ、リード
配線の断線を大幅に低減することができる。As described above, the area of the lead wiring passing through the inner periphery of the reinforcing frame can be increased, and disconnection of the lead wiring can be greatly reduced.
【0017】また、基板電極から引き出されたリード配
線の折れ曲がり部に所定の円弧を形成することにより、
リード配線をより断線しにくくすることができる。Further, by forming a predetermined arc at the bent portion of the lead wiring drawn out from the substrate electrode,
The lead wiring can be made harder to break.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0019】図1は、本発明の一実施の形態による半導
体装置の断面図、図2は、本発明の一実施の形態による
テープキャリア基板の平面図、図3は、本発明の一実施
の形態による基板電極からリード配線が引き出されるリ
ード引き出し部における形状の説明図、図4は、本発明
の一実施の形態による半導体装置における製造工程のフ
ローチャート、図5〜図8は、本発明の一実施の形態に
よる半導体装置における製造工程の説明図、図9は、本
発明の一実施の形態による半導体チップが搭載されたテ
ープキャリア基板の平面図である。FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a tape carrier substrate according to one embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 4 is an explanatory view of a shape of a lead lead-out portion from which a lead wiring is drawn out from a substrate electrode according to an embodiment. FIG. 4 is a flowchart of a manufacturing process in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG. 9 is an explanatory diagram of a manufacturing process in the semiconductor device according to the embodiment, and FIG. 9 is a plan view of a tape carrier substrate on which a semiconductor chip according to one embodiment of the present invention is mounted.
【0020】本実施の形態において、半導体装置1は、
表面実装形パッケージの一種であるテープBGAからな
っている。半導体装置1には、図1に示すように、テー
プ状のフレキシブル配線基板であるテープキャリア基板
2が設けられている。In the present embodiment, the semiconductor device 1
It is made of a tape BGA, which is a type of surface mount package. As shown in FIG. 1, the semiconductor device 1 is provided with a tape carrier substrate 2 which is a tape-shaped flexible wiring substrate.
【0021】テープキャリア基板2は、たとえば、ポリ
イミドなどの絶縁テープフィルム2aの裏面に接着材を
介して配線リード3が形成されている。この配線リード
3における先端部がインナリード3aとなり、これらイ
ンナリード3aがテープキャリア基板2の中央部に位置
するデバイスホール4に搭載された半導体チップCHの
バンプBPと接続されている。半導体チップCHのバン
プBPは、たとえば、金(Au)バンプなどからなる。In the tape carrier substrate 2, for example, wiring leads 3 are formed on the back surface of an insulating tape film 2a made of polyimide or the like via an adhesive. The tips of the wiring leads 3 are inner leads 3a, and these inner leads 3a are connected to the bumps BP of the semiconductor chips CH mounted in the device holes 4 located at the center of the tape carrier substrate 2. The bump BP of the semiconductor chip CH is made of, for example, a gold (Au) bump.
【0022】半導体チップCHの外周部近傍には、銅あ
るいはニッケルなどからなる枠状の補強材(補強枠)5
が接着材6を介してテープキャリア基板2に貼り付けら
れている。補強材5は、テープキャリア基板2の平坦度
を維持し、実装時の取り扱いを容易にする。In the vicinity of the outer peripheral portion of the semiconductor chip CH, a frame-like reinforcing material (reinforcing frame) 5 made of copper, nickel or the like is provided.
Is attached to the tape carrier substrate 2 via the adhesive 6. The reinforcing material 5 maintains the flatness of the tape carrier substrate 2 and facilitates handling during mounting.
【0023】また、テープキャリア基板2に搭載された
半導体チップCHの側面および主面には、エポキシなど
のレジン7が塗布され封止されている。テープキャリア
基板2の裏面には、円形の基板電極8が形成されてお
り、これら基板電極8以外の裏面には、ソルダーレジス
ト9が形成されている。Further, a resin 7 such as epoxy is applied and sealed on the side surface and the main surface of the semiconductor chip CH mounted on the tape carrier substrate 2. A circular substrate electrode 8 is formed on the back surface of the tape carrier substrate 2, and a solder resist 9 is formed on the back surface other than the substrate electrode 8.
【0024】さらに、基板電極8は、テープキャリア基
板2の裏面における補強材5が貼り付けられた領域に形
成されている。基板電極8には、バンプ10がそれぞれ
形成されている。これらバンプ10は、球状のはんだで
ある、いわゆるはんだボールからなり、半導体装置1の
外部引き出し用リードの代わりとなって、電子部品など
を実装するプリント配線基板に実装される。Further, the substrate electrode 8 is formed on the back surface of the tape carrier substrate 2 in a region where the reinforcing material 5 is adhered. The bumps 10 are respectively formed on the substrate electrodes 8. These bumps 10 are formed of so-called solder balls, which are spherical solders, and are mounted on a printed wiring board on which electronic components and the like are mounted, instead of the leads for external drawing of the semiconductor device 1.
【0025】次に、本実施例におけるテープキャリア基
板2における配線リード3と基板電極8との接続形状に
ついて、図2、図3を用いて説明する。Next, the connection shape between the wiring lead 3 and the substrate electrode 8 on the tape carrier substrate 2 in this embodiment will be described with reference to FIGS.
【0026】テープキャリア基板2には、図2に示すよ
うに、デバイスホール4の各外周辺からテープキャリア
基板2の外周辺にかけてそれぞれ3列の基板電極8が形
成されている。As shown in FIG. 2, three rows of substrate electrodes 8 are formed on the tape carrier substrate 2 from the outer periphery of the device hole 4 to the outer periphery of the tape carrier substrate 2.
【0027】これら基板電極8のうち、デバイスホール
4の外周辺に最も近い、すなわち半導体チップCH周辺
部に最も近い位置に形成された基板電極8aは、該基板
電極8aの端部が、補強材5の内周辺である補強材端ラ
インHLの直下に位置している。Of the substrate electrodes 8, the substrate electrode 8 a formed closest to the outer periphery of the device hole 4, that is, the position closest to the peripheral portion of the semiconductor chip CH, is formed such that an end of the substrate electrode 8 a is formed of a reinforcing material. 5 is located immediately below the reinforcing material end line HL, which is the inner periphery of 5.
【0028】また、基板電極8aのリード引き出し部8
bから引き出されたリード配線3は、図3に示すよう
に、ある長さだけ補強材端ラインHLに沿って平行に配
線された後、その折れ曲がり部に所定の円弧が形成され
て曲げられており、補強材端ラインHLに直交せずに斜
めに、ある角度をつけて配線されている。よって、補強
材端ラインHLを通過するリード配線3の面積を大きく
することができる。The lead lead-out portion 8 of the substrate electrode 8a
As shown in FIG. 3, the lead wiring 3 drawn out from b is wired in parallel along the reinforcing material end line HL by a certain length, and then is bent by forming a predetermined arc at the bent portion thereof. It is wired obliquely at a certain angle without being orthogonal to the reinforcing member end line HL. Therefore, the area of the lead wiring 3 passing through the reinforcing material end line HL can be increased.
【0029】次に、半導体装置1の製造方法について、
図1、図2、図4のフローチャート、図5〜図8の工程
説明図、および図9の平面図を用いて説明する。Next, a method of manufacturing the semiconductor device 1 will be described.
This will be described with reference to the flowcharts of FIGS. 1, 2 and 4, the process explanatory diagrams of FIGS. 5 to 8, and the plan view of FIG. 9.
【0030】まず、図5に示すように、テープキャリア
基板2(図2)が繰り返し形成されたテープキャリアT
Pを準備する。このテープキャリアTPに、図6に示す
ように、接着材6を介して補強材5を熱圧着などによっ
て貼り付ける(ステップS101)。First, as shown in FIG. 5, a tape carrier T on which a tape carrier substrate 2 (FIG. 2) is repeatedly formed.
Prepare P. As shown in FIG. 6, a reinforcing material 5 is attached to the tape carrier TP via an adhesive 6 by thermocompression bonding or the like (step S101).
【0031】そして、テープキャリアTPにおけるテー
プキャリア基板2上に半導体チップCHを搭載し、図7
に示すように、半導体チップCHに形成されたバンプB
Pとテープキャリア基板2に形成されたインナリード3
aとを、一括熱圧着ボンディング、いわゆるギャグボン
ディングなどにより接続する(ステップS102)。Then, the semiconductor chip CH is mounted on the tape carrier substrate 2 of the tape carrier TP, and FIG.
As shown in FIG. 5, bumps B formed on the semiconductor chip CH
P and inner lead 3 formed on tape carrier substrate 2
is connected by batch thermocompression bonding, so-called gag bonding or the like (step S102).
【0032】ここで、半導体チップCHのバンプBPと
テープキャリア基板2インナリード3aとがギャグボン
ディングされた状態の図9に示す。Here, FIG. 9 shows a state in which the bumps BP of the semiconductor chip CH and the inner leads 3a of the tape carrier substrate 2 are gag-bonded.
【0033】その後、図8に示すように、半導体チップ
CHの側面、ならびに主面に液状のレジン7を塗布して
封止し(ステップS103)、テープキャリア基板2の
基板電極8にバンプ10を蒸着法などによって形成し
(ステップS104)、テープキャリアTPを個片切断
して図1に示すような半導体装置が製造される。Thereafter, as shown in FIG. 8, a liquid resin 7 is applied to the side surfaces and the main surface of the semiconductor chip CH and sealed (step S103), and the bumps 10 are formed on the substrate electrodes 8 of the tape carrier substrate 2. The tape carrier TP is formed by a vapor deposition method or the like (step S104), and the semiconductor device as shown in FIG. 1 is manufactured by cutting the tape carrier TP into individual pieces.
【0034】それにより、本実施の形態においては、基
板電極8aに接続されるリード配線3を補強材端ライン
HLに対して斜めに、ある角度をつけて引き出して配線
することにより、補強材端ラインHLを通過するリード
配線3の面積を大きくすることができ、テープキャリア
基板2における補強材端ラインHL近傍に温度変化など
によって応力がかかってもリード配線3の断線を大幅に
低減することができる。Accordingly, in the present embodiment, the lead wire 3 connected to the substrate electrode 8a is drawn obliquely with respect to the reinforcing material end line HL at a certain angle, and is wired, whereby the reinforcing material end is provided. The area of the lead wiring 3 passing through the line HL can be increased, and even if stress is applied to the vicinity of the reinforcing material end line HL in the tape carrier substrate 2 due to a temperature change or the like, disconnection of the lead wiring 3 can be greatly reduced. it can.
【0035】また、基板電極8aから引き出されたリー
ド配線3の折れ曲がり部に所定の円弧を形成することに
より、リード配線3をより断線しにくくすることができ
る。Further, by forming a predetermined circular arc at the bent portion of the lead wire 3 drawn out from the substrate electrode 8a, it is possible to make the lead wire 3 harder to break.
【0036】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.
【0037】たとえば、前記実施の形態では、半導体チ
ップ周辺部に最も近い位置に形成された基板電極だけに
断線防止のリード配線形状としたが、リード配線のレイ
アウトに余裕がある場合には、すべての基板電極から引
き出されるリード配線を補強材端ラインに対して斜めに
配線することにより、応力による配線パターンの断線を
大幅に低減でき、半導体装置の接続信頼性をより向上す
ることができる。For example, in the above-described embodiment, only the substrate electrode formed at the position closest to the peripheral portion of the semiconductor chip has a lead wire shape for preventing disconnection. By arranging the lead wiring drawn from the substrate electrode obliquely to the reinforcing material end line, disconnection of the wiring pattern due to stress can be significantly reduced, and the connection reliability of the semiconductor device can be further improved.
【0038】また、基板電極から引き出されるリード配
線は、前記実施の形態に示した形状以外でもよく、たと
えば、図10に示すように、電極基板8aのリード引き
出し部8bを補強材端ラインHLに平行に配線せずに、
補強材端ラインに対して斜めに、ある角度をつけて引き
出すようにしてもよい。The lead wiring drawn out from the substrate electrode may have a shape other than that shown in the above embodiment. For example, as shown in FIG. 10, the lead lead portion 8b of the electrode substrate 8a is connected to the reinforcing material end line HL. Without wiring in parallel,
The reinforcing member end line may be drawn obliquely at an angle.
【0039】これによっても、配線パターンの断線を大
幅に低減でき、半導体装置の接続信頼性をより向上する
ことができる。With this, the disconnection of the wiring pattern can be significantly reduced, and the connection reliability of the semiconductor device can be further improved.
【0040】[0040]
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.
【0041】(1)本発明によれば、基板電極に接続さ
れるリード配線を補強枠の内周辺に対して斜めに配線す
ることにより、温度変化などによるリード配線の断線を
大幅に低減することができる。(1) According to the present invention, disconnection of the lead wiring due to temperature change or the like is greatly reduced by laying the lead wiring connected to the substrate electrode obliquely to the inner periphery of the reinforcing frame. Can be.
【0042】(2)また、本発明では、基板電極から引
き出されたリード配線の折れ曲がり部に所定の円弧を形
成することにより、リード配線の断線をより低減するこ
とができる。(2) Further, according to the present invention, by forming a predetermined circular arc at the bent portion of the lead wiring drawn out from the substrate electrode, disconnection of the lead wiring can be further reduced.
【0043】(3)さらに、本発明においては、上記
(1)、(2)により、半導体装置における信頼性を大
幅に向上することができる。(3) Further, in the present invention, the reliability in the semiconductor device can be greatly improved by the above (1) and (2).
【図1】本発明の一実施の形態による半導体装置の断面
図である。FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施の形態によるテープキャリア基
板の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a tape carrier substrate according to one embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施の形態による基板電極からリー
ド配線が引き出されるリード引き出し部における形状の
説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a shape of a lead lead-out portion from which a lead wiring is led out from a substrate electrode according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施の形態による半導体装置におけ
る製造工程のフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart of a manufacturing process in the semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図5】本発明の一実施の形態による半導体装置におけ
る製造工程の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a manufacturing process in the semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
【図6】図5に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。FIG. 6 is an explanatory view of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 5;
【図7】図6に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。FIG. 7 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 6;
【図8】図7に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。FIG. 8 is an explanatory view of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 7;
【図9】本発明の一実施の形態による半導体チップが搭
載されたテープキャリア基板の平面図である。FIG. 9 is a plan view of a tape carrier substrate on which a semiconductor chip according to one embodiment of the present invention is mounted.
【図10】本発明の他の実施の形態による基板電極から
リード配線が引き出されるリード引き出し部における形
状の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a shape of a lead lead-out portion from which a lead wire is led out from a substrate electrode according to another embodiment of the present invention.
1 半導体装置 2 テープキャリア基板 2a 絶縁テープフィルム 3 リード配線 3a インナリード 4 デバイスホール 5 補強材(補強枠) 6 接着材 7 レジン 8 基板電極 8a 基板電極 8b リード引き出し部 9 ソルダーレジスト 10 バンプ CH 半導体チップ BP バンプ TP テープキャリア HL 補強材端ライン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 Tape carrier board 2a Insulating tape film 3 Lead wiring 3a Inner lead 4 Device hole 5 Reinforcement material (reinforcement frame) 6 Adhesive material 7 Resin 8 Substrate electrode 8a Substrate electrode 8b Lead extraction part 9 Solder resist 10 Bump CH Semiconductor chip BP Bump TP Tape carrier HL Reinforcement end line
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 萩原 靖久 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 春田 亮 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 Fターム(参考) 5F044 MM03 MM08 MM13 MM25 MM28 MM31 NN09 RR18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yasuhisa Hagiwara 5-22-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitachi Super-LSI Systems Co., Ltd. (72) Inventor Ryo Haruta Tokyo 5-20-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi F-term in Hitachi Semiconductor Co., Ltd. F-term (reference) 5F044 MM03 MM08 MM13 MM25 MM28 MM31 NN09 RR18
Claims (3)
プが搭載され、前記半導体チップの外周部近傍に補強枠
が接着され、裏面にバンプを並べて外部端子とする半導
体装置であって、前記バンプが形成される基板電極から
引き出されるリード配線を、前記補強枠の内周辺に直交
しないように配線したことを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted on a surface of a tape carrier substrate, a reinforcing frame is adhered near an outer peripheral portion of the semiconductor chip, and bumps are arranged on the rear surface to serve as external terminals. A lead wire drawn from a substrate electrode to be formed is wired so as not to be orthogonal to the inner periphery of the reinforcing frame.
記リード配線を、前記テープキャリア基板に形成された
前記基板電極のうち、前記補強枠における内周辺の直下
またはその近傍に位置する基板電極に形成したことを特
徴とする半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the lead wiring is connected to a substrate electrode located immediately below or near an inner periphery of the reinforcing frame among the substrate electrodes formed on the tape carrier substrate. A semiconductor device characterized by being formed.
いて、前記基板電極における前記リード配線の引き出し
部を、ある配線長だけ前記補強枠の内周辺に平行して配
線した後、前記リード配線の折れ曲がり部を円弧状に形
成し、前記補強枠の内周辺に直交しないように配線した
ことを特徴とする半導体装置。3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a lead wire lead-out portion of the substrate electrode is wired in parallel with an inner periphery of the reinforcing frame by a certain wire length, and then the lead wire is connected to the lead wire. A semiconductor device, wherein a bent portion is formed in an arc shape and wired so as not to be orthogonal to the inner periphery of the reinforcing frame.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11233438A JP2001060600A (en) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11233438A JP2001060600A (en) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001060600A true JP2001060600A (en) | 2001-03-06 |
Family
ID=16955054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11233438A Withdrawn JP2001060600A (en) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001060600A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7786569B2 (en) | 2007-01-19 | 2010-08-31 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device using wiring substrate having a wiring structure reducing wiring disconnection |
JP2013518417A (en) * | 2010-01-29 | 2013-05-20 | シェンゼェン ビーワイディー オート アールアンドディー カンパニー リミテッド | Golden finger contact piece, golden finger, and connector with golden finger |
-
1999
- 1999-08-20 JP JP11233438A patent/JP2001060600A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7786569B2 (en) | 2007-01-19 | 2010-08-31 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device using wiring substrate having a wiring structure reducing wiring disconnection |
JP2013518417A (en) * | 2010-01-29 | 2013-05-20 | シェンゼェン ビーワイディー オート アールアンドディー カンパニー リミテッド | Golden finger contact piece, golden finger, and connector with golden finger |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20020105069A1 (en) | Semiconductor device including stud bumps as external connection terminals | |
JP3429718B2 (en) | Surface mounting substrate and surface mounting structure | |
JP2001015679A (en) | Semiconductor device and manufacture thereof | |
JP2002110898A (en) | Semiconductor device | |
JP5232394B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JPH1050883A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP2000307045A (en) | Lead frame and manufacture of resin sealed semiconductor device using it | |
JP2005332965A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP3150253B2 (en) | Semiconductor device, its manufacturing method and mounting method | |
JP3437477B2 (en) | Wiring board and semiconductor device | |
US5559305A (en) | Semiconductor package having adjacently arranged semiconductor chips | |
US5946195A (en) | Semiconductor device, method of making the same and mounting the same, circuit board and flexible substrate | |
JP2001024133A (en) | Lead frame, resin sealed semiconductor device employing it and manufacture thereof | |
JPH0563138A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH09129779A (en) | Semiconductor package with a hyperfine conduction electrode | |
JP2001185585A (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
JP2001060600A (en) | Semiconductor device | |
JPH11260850A (en) | Semiconductor device and its manufacture | |
JP2002289741A (en) | Semiconductor device | |
JPH0547836A (en) | Semiconductor device mounting structure | |
JP2001077285A (en) | Lead frame and manufacture of resin-sealed semiconductor device using the same | |
JPH0851180A (en) | Semiconductor device | |
JPH09199631A (en) | Structure and manufacturing method of semiconductor device | |
KR100608331B1 (en) | Multi-chip package | |
JPH0834282B2 (en) | Lead frame for semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061107 |