JP2001056577A - 電荷輸送層中に消去防止添加剤を有する光導電性画像形成部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】電荷輸送層及び電荷発生層を含む少なくとも２
つの電気作用層を有し、電荷輸送層がコロナ帯電装置の
使用によって発生する消去に対して安定化される画像形
成部材を提供することである。 【解決手段】テトラキス｛メチレン（３，５−ジ−tert
-ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）｝メタ
ンは、消去防止添加剤として、電子写真画像形成部材の
電荷輸送層中に含まれる。また電荷輸送層は、芳香族ア
ミン正孔輸送分子及び連続高分子バインダ相も含む。電
荷発生層も電子写真画像形成部材に含まれる。画像形成
部材は、適切な電子写真画像形成装置で使用することが
できる。電荷輸送層にテトラキス｛メチレン（３，５−
ジ−tert-ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト）｝メタンの包含させると、画像形成部材を用いて形
成される電子写真画像における消去が除去される、ある
いは実質的に防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は一般的に、画像形成
部材と、電子写真画像形成装置及び画像形成プロセスに
おけるこのような画像形成部材の使用と、に関する。更
に詳細には、本発明は、電荷輸送部材が正孔輸送分子及
び消去防止添加剤（deletion preventingadditive）を
含む層状画像形成部材に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真技術では、光導電性絶縁層を含
む電子写真画像形成部材はまず、例えばコロトロンを使
用して画像形成部材の画像形成表面を均一に静電的に帯
電させることによって画像形成される。画像形成部材は
次に、光導電性絶縁層の非照明領域の静電潜像を残しな
がら照明領域の電荷を選択的に消失させる光等の活性化
電磁放射パターンへ露光される。静電潜像は次に、細か
く分割されたエレクトロスコピックマーキング粒子を光
導電性絶縁層表面に付着させることによって現像され、
可視画像を形成できる。

【０００３】フレキシブル画像形成部材を含む層状又は
複合画像形成部材は当該技術でよく知られている。この
ような装置の１つは、米国特許第４，２６５，９９０号
（参照によってここにその全体が組み込まれる）に記載
されるように、支持層、光発生層、及び電荷輸送層を含
む。もう１つの層状画像形成部材は、例えば米国特許第
４，２５１，６１２号（これも参照によってここにその
全体が組み込まれる）に記載されるように、正孔注入層
で上塗りされ、次に輸送層、光発生層、及び最後に有機
絶縁性樹脂の頂部コーティングで上塗りされた基板から
構成される。

【０００４】電荷又は正孔輸送層は高分子マトリックス
材料に溶解された無機正孔輸送材料から構成されるのが
典型的であり、この層は、例えば可視光のように所期の
用途のスペクトル領域で実質的に非吸収性であるが、帯
電した光発生層から光発生された正孔の注入が達成され
得るという点で活性でもある。更に、電荷輸送層は、輸
送層表面への正電荷の効率的な輸送を可能にする。電荷
輸送層は例えば、連続高分子バインダに分散されたジア
ミンなどの正孔輸送分子を含むことができる。

【０００５】上述のように、画像形成部材の帯電は、コ
ロトロン、スコロトロン、ジコロトロン又はピン帯電装
置等のコロナ帯電装置の使用を必要とする。しかしなが
ら、コロナ帯電装置の使用は問題を伴う。帯電動作の
間、コロナ帯電装置はある化学種を吸収し、これは次
に、帯電装置のパーキング時、即ち休止時にコロナ帯電
装置から脱着されると考えられる。これは、コロナ帯電
装置が画像形成部材の部分の上に置かれる場合に特に問
題となる。何故なら、コロナ帯電装置により生成されコ
ロナ帯電装置から脱着される酸性の酸化的排出物（oxid
ative effluent）は輸送層の表面領域で正孔輸送分子
と反応し、これにより、正孔輸送分子が酸化されるから
である。この酸化は輸送層表面を導電性にし、その結
果、パーキング消去（parking deletion）として知られ
る現象によって解像度の低下が起こる。このような消去
バンドを含む画像形成部材が負電荷で帯電されると、表
面が導電性にされるので、次の印刷実行時にその領域で
画像の電荷パターンが横方向に広がり、ひどい消去を起
こす。休止したコロトロンの下方領域に局在化されるパ
ーキング消去に加えて、印刷エンジンの作動の間にコロ
トロン排出物へさらされる結果、輸送層表面での電荷輸
送分子の酸化により印刷領域全体に解像度の全般的な低
下が引き起こされるであろう。表面酸化は表面導電率の
増大をもたらし、従って、解像度の低下をもたらす。

【０００６】このパーキング消去及び全般的な解像度低
下の問題を処理することを試みるため、先行技術では２
つの方法が使用された。第１に、中和により酸性の酸化
的排出物の生成を減少させるため、コロトロンハウジン
グ上にアクアダグ（acquadag）コーティングが使用され
た。第２に、排出物をその生成時に運び去り、コロトロ
ンへの吸着を最小限にするために、コロトロンと光導電
体の間の領域で空気流が使用された。このような先行技
術の方法は、低解像度のコピー装置では問題を処理しや
すいレベルに抑えることができた。

【０００７】しかしながら、より高解像度（ドット／イ
ンチ）のコピーに対する要求は増大し続けている。６０
０dpiで十分である白黒複写と比較して、高品質カラー
印刷は、例えば、１２００乃至２４００dpiの範囲の解
像度を要求する。上記で議論された先行技術の方法は、
高解像度コピーでは、関連の消去問題における正孔輸送
分子の酸化を十分に排除せず、従って、消去は重大な問
題をまだ残している。

【０００８】そこで求められるのは、コロナ帯電装置の
使用から発生する消去問題を防止するためにより有効な
方法である。

【０００９】米国特許第４，４５７，９９４号は、ジア
ミン及びトリフェニルメタンを含む安定化された有機層
状装置について記載する。米国特許第４，３３０，６０
８号は、トリフェニルメタン及び置換又は未置換のベン
ゾトリアゾールを含む安定化された有機層状装置につい
て記載する。この装置はＵＶ劣化に対して安定化され
る。米国特許第４，２３２，１０３号は、ジアミン及び
置換又は未置換のベンゾトリアゾールを含む安定化有機
層状装置について記載する。この装置はＵＶ劣化に対し
て安定化される。米国特許第５，４０１，６１５号は、
ニトロン、イソベンゾフラン、ヒドロキシ芳香族化合
物、及びその混合物から成る群より選択される安定化添
加剤を含むオーバーコートで安定化された有機層状装置
について記載する。米国特許第５，３９１，４４７号
は、ジアミン及びトリフェニルメタンを含むオーバーコ
ートを有する安定化有機装置について記載する。米国特
許第４，３９７，９３１号は、電荷輸送層が絶縁性及び
透明性の高い有機樹脂材料に分散された一般式の化合物
を含む安定化有機層状光導電性装置について記載してお
り、この化合物は電荷輸送層中で安定化物質としての働
きをする。米国特許第４，５６３，４０８号は、電荷発
生層が光導電性材料、高分子バインダ、及びヒドロキシ
芳香族酸化防止剤を含む電子写真画像形成部材について
記載する。ヒドロキシ芳香族酸化防止剤はフェノール誘
導体であると記載されている。カラム９の２８行目から
カラム１１の４８行目を参照。米国特許第４，５９９，
２８６号は、電荷輸送層中に安定化剤を有する光導電性
画像形成部材について記載する。化学安定化剤は、一定
のニトロン、イソベンゾフラン、ヒドロキシ芳香族化合
物、及びその混合物から成る群より選択される。米国特
許第４，９３１，３７２号は、支持体から最も外側の層
の表面部分がポリカーボネートと束縛されたフェノール
構造を有する化合物とを含む受光体の受光層について記
載する。しかしながら、米国特許第４，５６３，４０８
号、同第４，５９９，２８６号、及び同第４，９３１，
３７２号は、これらの化合物を使用する結果の悪影響に
ついて明確にすることなく、材料の種類を列挙する。こ
の段落で記述される米国特許のそれぞれは、参照によっ
てここにその全体が組み込まれる。

【００１０】これらの参考文献は非常に多数の安定化添
加剤を画像形成部材の種々の層へ使用することを記載し
ているが、これらの参考文献はいずれも、本発明で達成
されるように、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス
（３−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）−
４，４′−ジアミン（以下ＴＰＤと識別する）等の正孔
輸送分子を含む電荷輸送層への消去防止添加剤として、
テトラキス｛メチレン（３，５−ジ−tert−ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナメート）｝メタンを使用する
ことに関連する驚くべき利益を教示又は提唱しない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、電荷
輸送層及び電荷発生層を含む少なくとも２つの電気作用
層を有し、電荷輸送層がコロナ帯電装置の使用によって
発生する消去に対して安定化される画像形成部材を提供
することである。

【００１２】本発明のもう１つの目的は、電荷輸送層及
び電荷発生層を含む少なくとも２つの電気作用層を有
し、電荷輸送層がコロナ帯電装置の使用によって発生す
る消去に対して安定化されており、このような消去に対
して安定であるように導入された変化の結果、輸送層の
結晶化等の望ましくない副作用のない画像形成部材を提
供することである。

【００１３】本発明の更にもう１つの目的は、電荷輸送
層及び電荷発生層を含む少なくとも２つの電気作用層を
有し、電荷輸送層がコロナ帯電装置の使用によって発生
する消去に対して安定化されており、このような消去に
対して安定であるように導入された変化の結果、サイク
ルアップ等の望ましくない副作用のない画像形成部材を
提供することである。

【００１４】更に本発明のもう１つの目的は、電荷輸送
層及び電荷発生層を含む少なくとも２つの電気作用層を
有し、電荷輸送層がコロナ帯電装置の使用によって発生
する消去に対して安定化されており、このような消去に
対して安定であるように導入された変化の結果、感度低
下などの望ましくない副作用のない画像形成部材を提供
することである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明のこれら及び他の
目的は、電荷輸送分子として芳香族アミン分子を含む電
荷輸送層へ特定の消去防止添加剤を包含させることによ
って達成される。

【００１６】本発明の電子写真画像形成部材は、導電層
と、連続高分子バインダ相に分散された芳香族アミン正
孔輸送分子及びテトラキス｛メチレン（３，５−ジ−te
rt−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）｝メ
タンから成る消去防止添加剤を含む電荷輸送層と、隣接
する電荷発生層と、を備える。画像形成部材は、適切な
電子写真画像形成装置で使用することができる。

【００１７】また本発明は、電子写真画像の消去を排除
する又は実質的に防止するためのプロセスに関し、
（１）導電層と、連続高分子バインダ相に分散された芳
香族アミン正孔輸送分子及びテトラキス｛メチレン
（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
ンナメート）｝メタンからなる消去防止添加剤を含む電
荷輸送層と、（２）隣接する電荷発生層と、から構成さ
れる画像形成部材をコロナ帯電装置で帯電させて画像形
成部材を帯電させ、帯電した画像形成部材で電子写真画
像を形成することを含む。

【００１８】

【発明の実施の形態】理論上は、層内の酸化を最小限に
するために、画像形成部材の電荷（又は正孔）輸送層に
添加剤として酸化防止剤を使用できるであろう。しかし
ながら、このような添加剤が電子写真印刷装置で有用で
あるためには、幾つかの要件を満たさなければない。

【００１９】（１）添加剤は輸送層内の酸化、特に正孔
輸送分子の酸化を防止する、あるいは少なくとも実質的
に低減させることができなければならない。

【００２０】（２）添加剤は、輸送層中にどんなトラッ
ピングも発生させてはならない。電荷キャリヤのトラッ
プが電荷輸送層中にもたらされると、光応答特性の低下
が起こる。キャリヤトラップの存在の結果、残留する電
荷の蓄積、サイクルアップとして知られる現象が起こ
る。例えば、５０，０００連続サイクルにおけるサイク
ルアップは最小限（２０ボルト未満）でなければならな
い。

【００２１】（３）添加剤は電荷輸送層に混合される
が、電荷発生層へいくらかの移行が発生する。光誘導放
電特性（Photo-Induced Discharge characteristics、
ＰＩＤＣ）曲線の形状で測定される画像形成部材の感度
は電荷発生層の特性なので、添加剤の存在が引き起こす
ＰＩＤＣ形状の変化は最小限でなければならない。更
に、添加剤がＰＩＤＣ形状に変化を引き起こすとして
も、トリフルオロ酢酸などの更なる添加剤の使用によっ
て規格内で形状を元へ戻すことができるように最小限で
なければならない。

【００２２】ＰＩＤＣは次のように測定される。各受光
体装置は、スキャナの軸で回転される円筒形アルミニウ
ムドラム基板上に取り付けられる。各受光体は、ドラム
の周囲に沿って取りつけられたコロトロンによって帯電
される。表面電位は軸のまわりの異なる位置に配置され
た容量結合電圧プローブによって時間の関数として測定
される。プローブは既知の電位をドラム基板へ適用する
ことによって校正される。ドラム上の受光体は、コロト
ロンから下流のドラム近くの位置に配置された光源によ
って露光される。ドラムが回転されると、初期（前露
光）帯電電位は電圧プローブ１によって測定される。更
に回転して露光ステーションへ至ると、受光体は既知の
強度の単色光放射へ露光される。受光体は帯電の上流の
位置に配置された光源によって消去される。行われた測
定は、定電流又は定電圧モードでの受光体の帯電を含ん
だ。受光体は負極性へコロナ帯電される。ドラムが回転
されると、初期帯電電位は電圧プローブ１によって測定
される。更に回転して露光ステーションへ至ると、受光
体は既知の強度の単色光放射へ露光される。露光後の表
面電位は電圧プローブ２及び３によって測定される。受
光体は最後に適切な強度の消去ランプへ露光され、残留
電位は電圧プローブ４によって測定される。プロセス
は、次のサイクルの間に自動的に変化される露光の大き
さで繰り返される。光放電特性は、電圧プローブ２及び
３の電位を露光の関数としてプロットすることによって
得られる。

【００２３】（４）添加剤は、他の成分と反応しないよ
うに、画像形成部材の他の全ての成分と適合性でなけれ
ばならない。従って、添加剤は正孔輸送分子の性能に悪
影響を与えてはならず、輸送層バインダ又は電荷発生層
バインダを劣化させてはならず、例えば、三方晶セレ
ン、ベンズアミダゾールペリレン、クロロガリウムフタ
ロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン等のよ
うに、電荷発生層中で使用されるであろう顔料の全てと
適合性でなければならない。

【００２４】本発明より前には、上記基準の全てを満た
す酸化防止剤は知られていなかった。しかしながら、膨
大な調査によって、本発明の発明者は驚くべきことに、
正孔輸送分子として芳香族ジアミン化合物も含む画像形
成部材の電荷輸送層へ消去防止添加剤として添加された
場合に、テトラキス｛メチレン（３，５−ジ−tert-ブ
チル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）｝メタンが
上記基準の全てを満たすことを発見した。消去防止添加
剤は、イルガノックス（Irganox）１０１０としてチバ
ガイギーから市販されている。

【００２５】イルガノックス−２５９（１，６−ヘキサ
メチレンビス−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシヒドロシンナメート）、イルガノックス−１０９
３（０．０−ジ−n−オクタデシル−３，５−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート）、イ
ルガノックスＭＤ−１０２４（１，２−ヒドラジンビス
−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシシンナ
モイル） 等の幾つかの他のイルガノックス は、ひどい
サイクルアップの問題を起こす。イルガノックス１０１
０と同様に、イルガノックス２５９、１０９３、及びＭ
Ｄ−１０２４は束縛されたフェノールである。しかしな
がら、イルガノックス１０１０は、これらの他の束縛フ
ェノールとは違って、ひどいサイクルアップを起こすこ
となく電荷輸送層を驚くほど安定化させる。

【００２６】最も好ましい実施例では、消去防止添加剤
は、正孔輸送分子としてＴＰＤを包含する電荷輸送層中
に含まれる。

【００２７】１つの実施例では、層状画像形成部材は、
次の順序で、電気伝導性基板と、任意のブロッキング層
と、任意の接着層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、任
意のオーバーコーティング層と、を含むことができる。
もう１つの実施例では、光応答性装置は、次の順序で、
電気伝導性層と、任意のブロッキング層と、任意の接着
層と、電荷輸送層と、電荷発生層と、任意のオーバーコ
ーティング層と、を含む。また装置は、接地ストリップ
（grounding strip）及び任意のカール防止バックコー
ト（anticurl backcoat、ＡＣＢＣ）層を有してもよ
い。

【００２８】１つの好ましい実施例では、本発明は、
（１）導電性基板と、（２）電荷ブロッキング層と、
（３）接着層と、（４）電荷発生層と、（５）不活性樹
脂バインダ組成物に分散された一定の芳香族ジアミンか
ら構成され、上記の消去防止添加剤を含む電荷輸送層
と、（６）保護オーバーコーティング層と、を順に含む
改良された画像形成部材に関する。

【００２９】これらの画像形成部材は、複写機、複製機
及び印刷システム等のどのタイプの電子写真画像形成装
置においても使用できる。これらの複写機、複製機、及
び印刷システムは、レーザ、例えばヒ化ガリウムレー
ザ、あるいは現像される画像を発生するための画像バー
などの種々の露光手段を利用することができる。

【００３０】基板は不透明でも実質的に透明でもよく、
必要な機械特性を有する多数の適切な材料を含むことが
できる。支持基板全体を含んでもよく、コーティング又
は下側部材（例えば、金属などの無機材料又は高分子膜
などの有機材料）として存在してもよい導電層又は接地
面は、例えばアルミニウム、チタン、ニッケル、クロ
ム、真ちゅう、金、ステンレス鋼、カーボンブラック、
黒鉛などを含む適切な材料を含むことができる。導電層
の厚さは、電子光導電性画像形成部材の所望される用途
によって、実質的に広い範囲にわたって変えることがで
きる。従って、導電層の厚さは、一般的に、約５０オン
グストロームから何センチメートルにもわたることがで
きる。フレキシブルな光応答性画像形成装置が所望され
る場合、厚さは約１００オングストロームと約５，００
０オングストロームの間でよい。

【００３１】下側部材は、金属及びプラスチックなどを
含む従来の材料でよい。典型的な下側部材には、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン
などを含むこの目的のために既知の種々の樹脂から成る
絶縁性非導電性材料が含まれる。

【００３２】被覆された又はされない支持基板はフレキ
シブルでも剛性でもよく、例えば、プレート、円筒形ド
ラム、スクロール、膜、無端フレキシブルベルトなどの
多数の多くの異なる形状を有することができる。

【００３３】好ましくは、絶縁基板は無端フレキシブル
ベルトの形であり、E. I. デュポン社から得られるマイ
ラー（Mylar）として知られる市販のポリエチレンテレ
フタレートポリエステルを含む。

【００３４】上述のように、本発明の画像形成部材は、
電気伝導性又は非電気伝導性のいずれかの基板を含むこ
とができる。特に、非導電性基板が使用される場合、電
気伝導性の接地面が使用されるのが好ましく、接地面は
導電層として作用する。導電性基板が使用される場合、
基板は導電層として作用できるが、所望されれば導電性
接地面が提供されてもよい。

【００３５】接地面は、溶液コーティング、蒸気蒸着、
及びスパッタリングのような既知のコ−ティング技法に
よって塗布できる。電気伝導性接地面を塗布する好まし
い方法は真空蒸着である。他の適切な方法も使用でき
る。

【００３６】幾つかの状況のもと、特に基板が有機高分
子材料の場合には、ファルベンファブリッケンバイエル
ＡＧからマクロロン（MAKROLON、登録商標）として市販
されているポリカーボネート材料や、グッドイヤータイ
ヤアンドラバー社から得られるバイテルＰＥ−２００の
ようなコポリエステル樹脂などのカール防止層を基板の
裏側に被覆することが望ましい。更に、本発明の実施例
のカール防止コーティングは、好ましくはカール防止層
の１０重量％までの量の接着促進剤を含むことができ
る。また、カール防止層は、シリカなどの摩擦及び／又
は摩耗減少剤も含むことができる。

【００３７】所望されるなら、導電層と電荷発生層の間
に適切なブロッキング層が挿入されてもよい。好ましい
ブロッキング層は、加水分解されたシランと導電性アノ
ードの金属酸化物層との間の反応生成物を含む。画像形
成部材は、例えば、金属導電性アノード層の金属酸化物
層の上にｐＨ約４乃至約１０で加水分解シラン水溶液の
コーティングを付着させ、反応生成物層を乾燥させてシ
ロキサン膜を形成し、任意の接着層、発生層、及び電荷
輸送層をシロキサン膜へ塗布することによって調製され
る。典型的な加水分解可能なシランには、３−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチル３−ア
ミノ）プロピルトリエトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノフェニルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニルアミ
ノプロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルプ
ロピルエチレンジアミン、トリメトキシシリルプロピル
エチレンジアミン、トリメトキシシリルプロピルジエチ
レントリアミン、及びそれらの混合物が含まれる。

【００３８】一般的に、希薄溶液は薄いコーティングを
達成するために好ましい。満足な反応生成物膜は、溶液
全体の重量を基準として約０．１重量パーセント乃至約
１．５重量パーセントのシランを含む溶液で達成でき
る。

【００３９】加水分解シラン溶液を金属導電層の金属酸
化物層へ塗布するために適切な技法を利用できる。典型
的な塗布技法には、スプレーイング、ディップコーティ
ング、ロールコーティング、ワイヤワウンドロッドコー
ティングなどが含まれる。一般的に、加水分解シラン及
び金属酸化物層の反応生成物が約２０オングストローム
と約２，０００オングストロームの間の厚さを有する層
を形成する場合に、満足できる結果が達成できる。

【００４０】より均一な電気特性を有し、加水分解シラ
ンのシロキサンへの転化がより完全であり、未反応シラ
ノールが少ない反応生成物層を提供するために、金属酸
化物層上の加水分解シランの乾燥又は硬化は、およその
室温よりも高い温度で実行されなければならない。一般
的には、電気化学特性の安定化を最大にするために、約
１００℃乃至約１５０℃の反応温度が好ましい。このシ
ロキサンコーティングは米国特許第４，４６４，４５０
号に記載されており、その開示はここにその全体が組み
込まれる。

【００４１】ある場合には、接着を改良するため、ある
いは電気障壁層として作用するために、ブロッキング層
と隣接の電荷発生又は光発生材料との間に中間層が所望
されてもよい。このような層が利用される場合、それら
は、好ましくは、約０．０１マイクロメートル乃至約５
マイクロメートルの間の乾燥厚さを有する。典型的な接
着層は、ポリエステル、デュポン４９，０００樹脂（E.
I. デュポン社から得られる）、ポリビニルブチラ−
ル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセテート、ポ
リウレタン、ポリメチルメタクリレートなどの膜形成ポ
リマーを含む。

【００４２】適切な電荷発生又は光発生材料は、多層光
導電体の２つ以上の電気作用層のうちの１つで使用でき
る。光発生層は、例えば、電荷キャリヤ輸送層と電子的
に適合性であれば、即ち光励起された電荷キャリヤを輸
送層中へ効率的に注入できるならば、多数の光導電性電
荷キャリヤ発生材料を含む。

【００４３】光吸収光発生層（即ち、電荷発生層）は、
有機光導電性顔料及び／又は無機光導電性顔料を含むこ
とができる。典型的な有機光導電性顔料には、バナジル
フタロシアニン及びヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン、クロロガリウムフタロシアニン、無金属フタロシア
ニン、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニンのよう
な他のフタロシアニン化合物、例えばモナストラルレッ
ド、モナストラルバイオレット及びモナストラルレッド
Ｙの商品名でデュポンから得られるキナクリドン、米国
特許第３，４４２，７８１号に開示された置換２，４−
ジアミノ−トリアジン、ヒドロキシスクアリリウム顔料
などのスクアリン顔料、スクアリリウム化合物、ピリジ
ニウム化合物、アゾ染料、ジアゾ染料、アントラキノン
などの多核芳香族キノン、及びインドファストダブルス
カーレット及びインドファストバイオレットレイクＢ、
インドファストブリリアントスカーレット及びインドフ
ァストオレンジの商品名でアライドケミカル社から得ら
れるもの、チオピリリウム顔料、ベンズアミダゾールペ
リレン等のペリレン顔料、キノメリドン、あるいはそれ
らの混合物が含まれる。

【００４４】典型的な無機感光性顔料には、アモルファ
スセレン、三方晶セレン、ＩＡ族及びIIＡ族元素の混合
物、Ａｓ₂Ｓｅ₃、セレン合金、セレン化カドミウム、ス
ルホセレン化カドミウム、銅及び塩素ドープされた硫化
カドミウム、及びそれらの混合物が含まれる。

【００４５】好ましい顔料には、ヒドロキシガリウムフ
タロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、三方晶
セレン及びベンズアミダゾールペリレンが含まれる。

【００４６】適切な不活性樹脂バインダ材料は、電荷発
生層中で使用できる。典型的な有機樹脂バインダには、
ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、アクリレー
トポリマー、ビニルポリマー、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリ
ウレタン、エポキシドなどが含まれる。多数の有機樹脂
バインダは、例えば、米国特許第３，１２１，００６号
及び同第４，４３９，５０７号に開示されており、その
全体の開示は参照によってここに組み込まれる。有機樹
脂ポリマーはブロック、ランダム、又は交互共重合体で
よい。

【００４７】光導電性組成物及び／又は顔料並びに樹脂
バインダ材料を含む光発生層は、一般的に厚さが約０．
０１マイクロメートル乃至約１０マイクロメートルの範
囲であり、好ましくは約０．２マイクロメートル乃至約
３マイクロメートルの厚さを有する。一般的に、この層
の最高の厚さは主に機械的問題等の因子に依存するが、
この層の最低の厚さは、例えば、顔料の粒子サイズや光
発生顔料の光学密度などに依存する。これらの範囲外の
厚さが選択されることもできる。

【００４８】しかしながら、光発生組成物又は顔料は、
一般的には層の約５重量パーセント乃至約８０重量パー
セントの種々の量で、好ましくは層の約１０重量パーセ
ント乃至約５０重量パーセントの量で、樹脂バインダ組
成物中に存在する。従って、この実施例では、樹脂バイ
ンダは、約９５重量パーセント乃至約２０重量パーセン
トの量、好ましくは約９０重量パーセント乃至約５０重
量パーセントの量で存在する。選択される特定の割合
は、発生体層の厚さにある程度までは依存する。

【００４９】本発明のプロセスによって調製される多層
又は複合光導電体の２つの電気作用層のうちの１つで使
用される好ましい電荷輸送層は、約１０乃至７５重量パ
ーセントの少なくとも１つの電荷輸送芳香族アミン化合
物と、電荷輸送化合物が均一に分散される高分子膜形成
樹脂と、を含む。電荷輸送層は、一般的には、約５乃至
約１００マイクロメートルの範囲の厚さを有し、好まし
くは約１０乃至約４０マイクロメートルの厚さを有する
が、この範囲外の厚さも使用できる。

【００５０】芳香族アミン化合物は、次の一般式を有す
る１つ又はそれ以上の化合物でよい。

【００５１】

【化１】

【００５２】ここで、Ｒ₁₂及びＲ₁₃は、置換又は未置換
フェニル基、ナフチル基及びポリフェニル基より成る群
から選択される芳香族基であり、Ｒ₁₄は、置換又は未置
換アリール基、１乃至１８個の炭素原子を有するアルキ
ル基、及び３乃至１８個の炭素原子を有する環状脂肪族
化合物より成る群から選択される。

【００５３】電荷発生層の光発生された正孔の注入を支
援でき、電荷輸送層を通って正孔を輸送することができ
る電荷輸送層のための上記構造式で表される電荷輸送芳
香族アミンの例には、トリフェニルアミン及びＮ，Ｎ′
−ビス（アルキル−フェニル）−（１，１′−ビフェニ
ル）−４，４′−ジアミン（ここで、アルキルは、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル等であ
る）、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（クロロ
フェニル）−（１，１′−ビフェニル）−４，４′−ジ
アミンが含まれる。

【００５４】最も好ましいのは、不活性樹脂バインダに
分散されたＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３
−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）−４，
４′−ジアミン（ＴＰＤ）である。ＴＰＤは次の化学式
を有する。

【００５５】

【化２】

【００５６】塩化メチレン又は他の適切な溶媒に可溶性
の適切な不活性樹脂バインダは、本発明のプロセスで使
用できる。過度の暗減衰を防止するために少なくとも１
０¹²ohm-cmの抵抗率を有するのが好ましいこの不活性な
高絶縁性樹脂バインダは、光発生層からの正孔の注入を
必ずしも支援できるとは限らず、これらの正孔の材料内
の輸送を可能にできない材料である。塩化メチレン又は
他の適切な有機溶媒に可溶性の典型的な不活性樹脂バイ
ンダには、マクロロン、メルロン、及びレクサンとして
市販されているポリカーボネート樹脂、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリアリーレート、ポリアクリレート、
ポリエーテル、ポリスルホンなどが含まれる。重量平均
分子量は臨界的でも重要でもないが、例えば、約８，０
００乃至約１，５００，０００の範囲でよいが、典型的
には、例えばおよそ２０，０００乃至１００，０００で
ある。

【００５７】また、本発明の画像形成部材の電荷輸送層
は、約０．１重量パーセント乃至約１０重量パーセン
ト、好ましくは約０．５重量パーセント乃至約６重量パ
ーセントの上記の消去防止添加剤がその中に分散されて
いる。ここでもう一度、この添加剤は、テトラキス｛メ
チレン（３，５−ジ−tert-ブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート）｝メタンであり、次の化学式を有す
る。

【００５８】

【化３】

【００５９】この物質は、チバガイギーからイルガノッ
クス１０１０の名前で市販されている。この添加剤は、
束縛フェノールとして広義に識別される物質の種類であ
り、４つの立体的に束縛されたフェノール性ヒドロキシ
ル基を含む。

【００６０】その上、電荷輸送層は１つ又はそれ以上の
従来の添加剤を更に含んでもよい。特に、電荷輸送層
は、消去防止添加剤の添加により起こり得る感度変化を
相殺できるトリフルオロ酢酸等の添加剤を含むことがで
きる。トリフルオロ酢酸は、例えば０．１乃至１０重量
パーセントの量で電荷輸送層に含まれることができる。

【００６１】電荷輸送層コーティング混合物を混合し、
その後画像形成部材へ塗布するために、適切な従来の技
法を利用できる。典型的な塗布技法には、スプレーコー
ティング、ディップコーティング、ロールコーティン
グ、ワイヤワウンドロッドコーティング等が含まれる。
付着されたコーティングの乾燥は、オーブン乾燥、赤外
放射乾燥、空気乾燥などの適切な従来の技法によって行
うことができる。

【００６２】電荷輸送層は、受光体の画像形成表面に置
かれる静電荷が、静電潜像がその上に形成及び保持され
るのを防止するために十分な速度で、照明がないときは
伝導又は放電されない程度まで絶縁体でなければならな
い。一般的に、電荷輸送層対電荷発生層の厚さの比率
は、好ましくは、約２：１乃至２００：１に保持され、
ある場合には４００：１にもなる。塩化メチレンなどの
コーティング溶媒は、電荷輸送層を形成する際に使用で
きる。

【００６３】任意に、摩耗への耐性を改良するためにオ
ーバーコーティング層も利用できる。これらのオーバー
コーティング層は、電気的に絶縁性又はわずかに半導性
である有機ポリマー又は無機ポリマーを含むことができ
る。オーバーコーティング層は一般的に、厚さが約０．
０５マイクロメートル乃至約１０マイクロメートルの範
囲であり、好ましくは約０．２マイクロメートル乃至約
５マイクロメートルの厚さを有し、輸送層及び／又は光
発生層に含まれる材料の紫外光劣化を最小限にするよう
に紫外光を吸収できる材料を含む。また、このオーバー
コーティング層は、光応答性装置の保護層としての機能
を果たすこともできる。

【００６４】ここに記載される光導電性画像形成部材
は、ゼログラフィ画像形成装置として従来知られている
ような種々の画像形成システムに組み込むことができ
る。更には、本発明の画像形成部材は、可視、近赤及び
／赤外光による画像形成及び印刷システムのために選択
できる。この実施例では、光応答性装置は負又は正に帯
電され、例えばヒ化物タイプのレーザなどの固体レーザ
によって連続的又は同時に発生されるような約７００乃
至約９００、好ましくは７４０乃至８００ナノメートル
の波長を有する光へ露光され、その後、得られた画像は
現像され、透明体又は紙などの印刷基体へ転写される。
更に、本発明の画像形成部材は、可視光による画像形成
及び印刷システムのために選択できる。この実施例で
は、光応答性装置は負または正に帯電され、約４００乃
至約約７００ナノメートルの波長を有する光へ露光され
た後、既知のトナーで現像され、次に印刷基体に画像を
転写し、定着する。

【００６５】本発明はまた、ここに開示される光導電性
画像形成部材による画像の生成方法を包含する。方法
は、一般的に、まず例えばコロトロン、ジコロトロン、
スコロトロン、ピン帯電装置、バイアス帯電ロール（Ｂ
ＣＲ）などのコロナ帯電装置で画像形成部材を帯電させ
るステップを含む。スコロトロンが好ましい。次に、上
述のような静電画像形成装置を用いて、静電画像が光導
電性画像形成部材上に生成される。続いて、静電画像
は、既知の現像装置によって、例えば樹脂粒子、顔料粒
子、電荷制御剤を含む添加剤、及びキャリヤ粒子などか
ら成る組成物のような現像剤組成物を付与する１つ又は
それ以上の現像ステーションで現像される。米国特許第
４，５５８，１０８号、同第４，５６０，５３５号、同
第３，５９０，０００号、同第４，２６４、６７２号、
同第３，９００，５８８号、及び同第３，８４９，１８
２号が参照される。これらの特許のそれぞれの開示は、
参照によってここに完全に組み込まれる。現像された静
電画像は次に、画像転写ステーションで紙又は透明体な
どの適切な印刷基体へ転写され、基体へ定着される。画
像の現像は、カスケード、タッチダウン、パウダー雲、
磁気ブラシなどの多数の方法によって達成できる。

【００６６】現像された画像の印刷基体への転写は、コ
ロトロン又はバイアスロールが選択される方法を含む適
切な方法によることができる。定着ステップは、フラッ
シュ定着、加熱定着、加圧定着、蒸気定着等のような適
切な方法によって実行できる。

【００６７】現像された画像が画像形成部材表面から転
写された後、画像形成部材は好ましくは表面に残存する
残留現像剤がクリーニングされ、更なる又は次の画像現
像のための帯電が行われる前に、残留静電荷もクリーニ
ングされる。

【００６８】正孔輸送分子として芳香族アミン化合物
（特に、ＴＰＤ）を含む本発明の画像形成層の電荷輸送
層中で消去防止添加剤を使用すると、コロトロンからの
パーキング消去などの全般的な消去や１バイト画像の消
滅などのミクロ消去の両方を含む印刷画像における消去
問題が実質的に除去される。添加剤は、電荷輸送層表面
の正孔輸送分子の酸化を実質的に減少又は除去すること
によってそのようにする。

【００６９】添加剤は、画像形成部材の他の材料又は特
性に悪影響を与えることなく、消去の回避を達成する。
特に、添加剤は電荷発生層の感度（光誘導放電特性の形
状）に最小限の影響を与えるだけであり、三方晶セレ
ン、ベンズアミダゾールペリレン及びヒドロキシガリウ
ムフタロシアニン等の一般的な電荷発生材料では、５
０，０００連続サイクルでごくわずかなサイクルアップ
を示すだけである。更に、添加剤は思いがけず、電荷発
生顔料としてベンズアミダゾールペリレンを利用する画
像形成部材の空乏（depletion）、ベンズアミダゾール
ペリレン受容体を悩ますランダムであるが一般的な問題
を減少させるという驚くべき利益を提供する。空乏は、
帯電電位を容量性帯電と呼ばれる可能な最大値から減少
させる現象である。

【００７０】以下の実施例は、幾つかの他の束縛フェノ
ールを含む市販の酸化防止剤を含む、あるいは安定化材
料を全く含まない画像形成部材と比較して、電荷輸送層
中に消去防止添加剤としてイルガノックス１０１０を使
用することで達成される驚くべき利点を更に説明する。

【００７１】実施例Ｉ 受光体の製造 （ａ）ブロッキング層及び接着層の製造：ブロッキング
及び接着層は、従来の技法を用いて、ポリエチレンテレ
フタレート膜上に真空蒸着されたチタン層を含む基板上
にコーティングを形成することによって調製される。チ
タン層上に形成される第１のコーティングは、厚さ０．
００５マイクロメートル（５０オングストローム）の加
水分解ガンマアミノプロピルトリエトキシシランから形
成されたシロキサン障壁層であった。障壁層コーティン
グ組成物は、３−アミノプロピルトリエトキシシラン
（ＰＣＲリサーチセンターケミカルズオブフロリダから
得られる）とエタノールを体積比１：５０で混合するこ
とによって調製される。コーティング組成物はマルチク
リアランスフィルムアプリケータによって塗布されて、
ウェット厚０．５ミルを有するコーティングを形成す
る。次にコーティングは、室温で５分間乾燥させられた
後、強制エアオーブン中摂氏１１０度で１０分間硬化さ
れる。第２のコーティングは、０．００５マイクロメー
ル（５０オングストローム）の厚さを有するポリエステ
ル樹脂（４９，０００、 E. I. デュポン社から得られ
る）の接着層である。第２コーティング組成物は０．５
ミルのバーを用いて塗布され、その結果得られるコーテ
ィングは強制エアオーブン中で１０分間硬化される。３
つの異なる顔料の電荷発生層は、次のように被覆され
る。

【００７２】（ｂ）電荷発生層の製造 （１）三方晶セレン（ｔ−Ｓｅ）：三方晶セレンの電荷
発生層は、約７ミリリットルのテトラヒドロフラン及び
約７ミリリットルのトルエン中に約０．０５マイクロメ
ートル乃至０．２マイクロメートルの粒子サイズを有す
る０．８グラムの三方晶セレン及び約０．８グラムのポ
リ（Ｎ−ビニルカルバゾール）を含む溶液から接着層上
に被覆される。発生層コーティングは０．００５インチ
のバードアプリケータで塗布され、層は強制エアオーブ
ン中約１３５℃で乾燥されて、１．６マイクロメートル
の厚さを有する層を形成する。

【００７３】（２）ベンズアミダゾールペリレン：４０
体積パーセントのＢｚＰ及び６０体積パーセントのポリ
カーボネート（ＰＣＺ）を含むベンズアミダゾールペリ
レン（ＢｚＰ）の電荷発生層は、接着層上に被覆され
る。この光発生層は、０．４５グラムのＰＣＺ及び５０
mlのテトラヒドロフランを４オンスの黄褐色ビンに入れ
ることによって調製される。この溶液へ、２．４グラム
のＢｚＰ及び３００グラムの直径１／８インチ（３．２
ミリメートル）のステンレス鋼ショットが添加される。
この混合物は次に、７２乃至９６時間ボールミルに配置
される。続いて、２．２５グラムのＰＣＺは４６．１グ
ラムのテトラヒドロフランに溶解され、次にこのＢｚＰ
スラリーへ添加される。このスラリーは、次に、１０分
間振とう機上に配置される。得られるスラリーは、その
後、１／２ミルギャップのバードアプリケータを用いる
ことによって接着界面層へ塗布され、ウェット厚０．５
ミル（１２．７マイクロメートル）を有するコーティン
グ層を形成する。この光発生層は強制エアオーブン中１
２５℃で１分間乾燥され、厚さ１．０マイクロメートル
を有する乾燥した光発生層を形成する。

【００７４】（３）ヒドロキシガリウムフタロシアニン
（ＯＨＧａＰｃ）：４０体積パーセントのヒドロキシガ
リウムフタロシアニン及び６０体積パーセントのＭｗ１
１，０００を有するスチレン（８２パーセント）／４‐
ビニルピリジン（１８パーセント）のブロックコポリマ
ーを含む光発生層は、次のように接着層上に被覆され
る。この光発生コーティング組成物は、１．５グラムの
スチレン／４‐ビニルピリジンのブロックコポリマーを
４２ｍｌのトルエンに溶解することによって調製され
る。この溶液へ、１．３３グラムのヒドロキシガリウム
フタロシアニン及び３００グラムの直径１／８インチの
ステンレス鋼ショットが添加される。この混合物は次
に、２０時間ボールミル上に配置される。得られるスラ
リーは、その後、バードアプリケータを用いて接着界面
へ塗布され、０．２５ミルのウェット厚を有する層を形
成する。この層は、強制エアオーブン中１３５℃で５分
間乾燥されて、０．４マイクロメートルの乾燥厚さを有
する光発生層を形成する。

【００７５】（Ｃ）電荷輸送層の製造 （１）安定化添加剤なし：輸送層は、１１．５グラムの
塩化メチレン溶媒に溶解された１グラムのＮ，Ｎ′−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチル−フェニル）−
（１，１′−ビフェニル）−４，４′−ジアミン（ＴＰ
Ｄ）及び１グラムのポリカーボネート樹脂（ポリ（４，
４′−イソプロピリデン−ジフェニレンカーボネート）
（ファルベンファブリッケンバイエルＡ．Ｇ．からマク
ロロン（登録商標）として得られる）を含む溶液を塗布
するためにバードコーティングアプリケータを用いるこ
とによって、電荷発生層（ｔ−Ｓｅ、ＢｚＰ又はＯＨＧ
ａＰｃのいずれか）上に形成される。Ｎ，Ｎ′−ジフェ
ニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチル−フェニル）−
（１，１′−ビフェニル）−４，４′−ジアミンは電気
的に活性な芳香族ジアミン電荷輸送小分子であるが、ポ
リカーボネート樹脂は、電気的に不活性な膜形成バイン
ダである。被覆された装置は強制エアオーブン中８０℃
で３０分間乾燥され、乾燥した２５マイクロメートル厚
の電荷輸送層を形成する。

【００７６】（２）安定化添加剤あり：輸送層は、１
１．５グラムの塩化メチレン溶媒に溶解された１グラム
のＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチル
−フェニル）−（１，１′−ビフェニル）−４，４′−
ジアミン及び１グラムのポリカーボネート樹脂（ポリ
（４，４′−イソプロピリデン−ジフェニレンカーボネ
−ト）（ファルベンファブリッケンバイエルＡ．Ｇ．か
らマクロロン（登録商標）として得られる）及び０．１
グラムの安定化添加剤を含む溶液を塗布するためにバー
ドコーティングアプリケータを用いることによって電荷
発生層（ｔ−Ｓｅ、ＢｚＰ又はＯＨＧａＰｃのいずれ
か）上に形成される。被覆された装置は強制エアオーブ
ン中８０℃で３０分間乾燥され、乾燥した２５マイクロ
メートル厚の電荷輸送層を形成する。

【００７７】安定化添加剤の構造：添加剤イルガノック
ス−１０１０（その構造は前に記載した）に加えて、い
くつかの他の束縛フェノール（単数及び複数）が試験さ
れる。これらには次のようなものが含まれる。

【００７８】（１）イルガノックス−２５９：１，６−
ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−tert−ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナメート

【００７９】

【化４】

【００８０】（２）イルガノックス−１０９３（０，０
−ジ−ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−tert−ブチル−
４−ヒドロキシベンジルホスホネート）

【００８１】

【化５】

【００８２】（３）イルガノックスＭＤ−１０２４
（１，２ヒドラジンビス−（３，５−ジ−tert−ブチル
−４‐４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）

【００８３】

【化６】

【００８４】（４）フェノール＃１：２，２′−メチレ
ンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）

【００８５】

【化７】

【００８６】（５）チヌビン（Tinuvin）３２６（クロ
ロベンゾトリアゾ−ル）

【００８７】

【化８】

【００８８】（６）チヌビン７７０

【００８９】

【化９】

【００９０】実施例II 実施例Ｉに記載された手順を用いて２１個の受光体が調
製された。輸送層中に添加剤を有さず、３つの顔料ｔ−
Ｓｅ、ＢｚＰ及びＯＨＧａＰｃを含む３つのコントロー
ル装置（比較例１〜３）がある。次の３つのサンプル
（例１〜３）はそれぞれ、発生層中に３つの顔料のうち
の１つを有し、０．５wt％のイルガノックス１０１０を
含む輸送層を有して調製される。次の３つのサンプル
（比較例４〜６）はそれぞれ、発生層中に３つの顔料の
うちの１つを有し、０．５wt％のイルガノックス２５９
を含む輸送層を有して調製される。次の３つのサンプル
（比較例７〜９）はそれぞれ、発生層中に３つの顔料の
うちの１つを有し、０．５wt％のイルガノックス１０９
３を含む輸送層を有して調製される。次の３つのサンプ
ル（比較例１０〜１２）はそれぞれ、発生層中に３つの
顔料のうちの１つを有し、０．５wt％のフェノール＃１
を含む輸送層を有して調製される。次の３つのサンプル
（比較例１３〜１５）はそれぞれ、発生層中に３つの顔
料のうちの１つを有し、０．５wt％のＩチヌビン３２６
を含む輸送層を有して調製される。次の３つのサンプル
（比較例１６〜１８）はそれぞれ、発生層中に３つの顔
料のうちの１つを有し、０．５wt％のチヌビン７７０を
含む輸送層を有して調製される。イルガノックスＭＤ−
１０２４を有する輸送層溶液はゲル化したので、イルガ
ノックスＭＤ−１０２４を有する輸送層は被覆できなか
った。

【００９１】実施例III 本発明の装置及び比較例の試験：実施例IIの２１個の装
置は全て、まずゼログラフィ感度及びサイクリック安定
性の試験が行われる。各受光体装置は、スキャナの軸で
回転される円筒形アルミニウムドラム基板上に取り付け
られる。各受光体は、ドラムの周囲に沿って取りつけら
れたコロトロンによって帯電される。表面電位は、軸の
まわりの異なる位置に配置された容量結合電圧プローブ
によって時間の関数として測定される。プローブは既知
の電位をドラム基板へ適用することによって校正され
る。ドラム上の受光体は、コロトロンから下流のドラム
近くの位置に配置された光源によって露光される。ドラ
ムが回転されると、初期（露光前）帯電電位は電圧プロ
ーブ１によって測定される。更に回転して露光ステーシ
ョンへ至ると、受光体は既知の強度の単色光放射へ露光
される。受光体は帯電の上流の位置に配置された光源に
よって消去される。行われた測定は、定電流の電圧モー
ドにおける受光体の帯電を含む。受光体は負極性へコロ
ナ帯電される。ドラムが回転されると、初期帯電電位は
電圧プローブ１によって測定される。更に回転して露光
ステーションへ至ると、受光体は既知の強度の単色光放
射へ露光される。露光後の表面電位は電圧プローブ２及
び３によって測定される。受光体は最後に適切な強度の
消去ランプへ露光され、残留電位は電圧プローブ４によ
って測定される。プロセスは、次のサイクルの間に自動
的に変化される露光の大きさで繰り返される。光放電特
性は、電圧プローブ２及び３の電位を露光の関数として
プロットすることによって得られる。また、電荷受容及
び暗減衰はスキャナで測定される。装置は、残留サイク
ルアップの兆候を求めて５０，０００サイクルにわたっ
て連続的に繰返される。結果は表１及び表２に示され
る。

【００９２】

【表１】

【００９３】

【表２】

【００９４】表１及び表２の両方において、ＶＲは消去
ステップ後の初期残留電位であり、ＶＲ（５０ｋ）は、
Ｂゾーン（２０Ｃ及び４０％ＲＨ）における連続５０，
０００サイクル後のサイクルアップである。結果は、イ
ルガノックス−１０１０（３つ全ての顔料）、チヌビン
３２６（３つ全ての顔料）、及びＯＨＧａＰｃを有する
フェノール＃１を除いて、残りの材料は、容認できない
初期残留電位を生成するか、あるいは容認できないサイ
クルアップを引き起こすかのどちらかであることを示
す。

【００９５】実施例IV 消去耐性の試験：負のコロトロンは、接地された電極と
反対の位置で、（コロトロンワイヤへ接続された高電圧
で）数時間作動される。高電圧は停止され、コロトロン
は、試験中の光導電体装置のセグメント上に３０分間配
置（又はパーキング）される。従って、光導電体装置の
短い中間セグメントだけが、脱着されて受光体表面に衝
突するコロトロン排出物へさらされる。さらされた領域
の両側のさらされなかった領域がコントロールとして使
用される。光導電体装置は次に、ドナータイプの分子を
用いるシステムの正帯電特性のためにスキャナで試験さ
れる。これらのシステムは、潜像形成ステップで負極性
コロトロンと共に作動される。電気伝導性表面領域（過
剰な正孔濃度）は、さらされた領域における正電荷受容
の損失又は暗減衰の増大として現れる（短い中間セグメ
ントの両側のさらされなかったコントロール領域と比較
して）。電気伝導性領域は受光体装置表面に配置される
ので、負電荷受容走査は、コロトロン排出物にさらされ
ることによる影響を受けない（負電荷は、ドナー分子か
らなる電荷輸送層を通って移動しない）。しかしなが
ら、表面の過剰なキャリヤは画像の解像度の低下をもた
らす表面導電性を引き起こし、ひどい場合には消去を引
き起こす。この例で利用される測定技法は、消去抑制で
成される研究と関連して、印刷試験の良好な代用法とし
て知られる。Ｉ−１０１０、チヌビン３２６及びフェノ
ール＃１を含む実施例IIからの受光体装置並びに添加剤
を含まないコントロール装置は、消去耐性の試験が行わ
れる。また、チヌビン３２６（全固体重量に基づいて
０．２５wt％）及びチヌビン７７０（全固体重量に基づ
いて０．２５wt％）の混合物を含む輸送層を有する装置
が試験される。消去耐性試験の実験は絶対的な実験では
なく、結果はコロトロンの「効力」（どのくらい長く運
転したか、相対湿度、コロトロンの寿命など）に依存す
る。従って、全ての装置は、装置を連続的に配置し、全
ての装置上にコロトロンを同時に配置することによっ
て、同じコロトロンで試験される。コロナ排出物にさら
されない領域は５つの場合全てにおいて１０００ボルト
へ正帯電されたが、チヌビン３２６を有する装置のコロ
ナ露光領域は５００ボルトへ帯電され（５００ボルトの
損失）、フェノール＃１を有する装置は７００ボルトへ
帯電され（３００ボルトの損失）、チヌビン３２６及び
チヌビン７７０の混合物を有する装置は３５０ボルトへ
帯電され（６５０ボルトの損失）、添加剤のないコント
ロール装置は３００ボルトへ帯電され（７００ボルトの
損失）、Ｉ−１０１０を有する装置は１０００ボルトに
近接して帯電された（実質的に電圧損失がない）。

【００９６】データは、本発明の消去防止添加剤（イル
ガノックス１０１０）を用いる装置の表面の酸化安定性
における大幅な改良を示す。チヌビン３２６又はチヌビ
ン３２６及びチヌビン７７０の混合物は、輸送層表面の
酸化安定性に顕著な改良を示さない。添加剤として２，
２′−メチレン−ビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェノール）（フェノール＃１）を用いると、非常にわず
かの改良が見られる。フェノール＃１は更に、ｔ−Ｓｅ
及びＢｚＰを含む装置に使用された場合に、残留電位の
問題を引き起こす（表１及び表２）。

【００９７】表１及び表２のデータにより示されるよう
に、イルガノックス１０１０が消去防止添加剤として使
用されると、非常に最小限の変化が見られる。イルガノ
ックス−２５９は３つ全ての顔料で受け入れがたいサイ
クルアップを示し、イルガノックス−１０９３は、３つ
全ての顔料で高い〜非常に高い残留電位及びひどいサイ
クルアップを示す。フェノール＃１は三方晶セレンのＰ
ＩＤＣに対して非常にひどい悪影響を示し、ベンズアミ
ダゾールペリレンではひどいサイクルアップを示す。チ
ヌビン７７０は、３つ全ての電荷発生顔料で、例えば１
０，０００サイクルで数百ボルトのひどいサイクルアッ
プを引き起こす。チヌビン３２６は、ＵＶ誘導劣化に対
する安定化剤であると知られるが、コロトロン誘導劣化
に対する表面の消去耐性では明らかな増大は示さない。

【００９８】更に、発明者は、電荷発生顔料としてベン
ズアミダゾールペリレンを使用し、電荷輸送層中にトリ
フルオロ酢酸も含む画像形成部材に、本発明の消去防止
添加剤を包含させると、思いがけず、このような装置で
は約５０乃至７０ボルト程度の空乏（トリフルオロ酢酸
の存在によって発生する）の発生が減少されることを発
見した。空乏の発生は装置の帯電能力を減少させる。こ
れは、消去防止添加剤の使用による非常に驚くべき利点
である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョン エフ．ヤヌス アメリカ合衆国 14580 ニューヨーク州 ウェブスター リトル バードフィール ド ロード 924 (72)発明者 ポール ジェイ．デ フェオ アメリカ合衆国 14555 ニューヨーク州 ソダス ポイント ノース フィツヒュ ー ストリート 7538 (72)発明者 エドワード エー．ダム アメリカ合衆国 14468 ニューヨーク州 ヒルトン ポスト アベニュー 128 (72)発明者 スーザン エム．ヴァン ドゥーセン アメリカ合衆国 14589 ニューヨーク州 ウィリアムソン カイラー ドライブ 4107 (72)発明者 デイル エス．レンファー アメリカ合衆国 14580 ニューヨーク州 ウェブスター アダムズ ロード 498

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電層、 任意の電荷ブロッキング層、 任意の接着層、 電荷発生層、および連続高分子バインダ相に分散された
   芳香族アミン正孔輸送分子と、テトラキス｛メチレン
   （３，５−ジ−tert-ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
   ンナメート）｝メタンからなる消去防止添加剤と、を含
   む電荷輸送層、 を備えた電子写真画像形成部材。