JP2001049127A - 有機高分子材料用安定剤および有機高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 （ａ）６−ヒドロキシクロマン化合物、
（ｂ）ビフェニレンホスホナイト化合物、アリールホス
ファイト化合物、ペンタエリスリトールホスファイト化
合物、およびオキサホスホシン化合物から選ばれるリン
系酸化防止剤、および（ｃ）フェノール系酸化防止剤と
を含有し、成分（ａ）と成分（ｂ）と成分（ｃ）との総
量に対して、成分（ａ）を０．５重量％〜１０重量％、
成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量を９９．５重量％〜９
０重量％の割合で含有する有機高分子材料用安定剤組成
物、ならびに有機高分子に上記有機高分子材料用安定剤
組成物を配合した有機高分子材料組成物。 【効果】 本発明の安定剤組成物を有機高分子材料の安
定化剤として使用することにより、加工安定性に優れ
た、極めて工業的に有用な安定化された有機高分子材料
組成物を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、酸化、熱、光によ
り劣化を起こす有機高分子材料に対して、加工時および
使用時に経時的な熱履歴を受けても、物性変化や外観変
化などの品質低下を起こし難い安定化された有機高分子
材料組成物に関する。本発明はまた安定化された有機高
分子材料組成物を得るために用いる添加剤である有機高
分子材料用安定剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】天然高分子、合成高分子、油脂、潤滑
油、作動油などの有機化合物よりなる有機高分子材料は
酸化、熱、光などにより劣化を受けて有用性を減じるた
めに、この劣化を防止することを目的として有機高分子
材料中に種々の安定剤、所謂酸化防止剤を添加し、劣化
を受けにくい有機高分子材料組成物を得ている。

【０００３】本発明の有機高分子材料用安定剤組成物の
一成分である一般式（１）

【０００４】

【化７７】

【０００５】（式中、Ｒ¹は炭素数１〜１８のアルキル
基または炭素数２〜１８のアルケニル基を示し、Ｒ²は
炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵
は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子ま
たは炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁶は水素原子
または炭素数１〜５のアルキル基を示す。）により表さ
れる化合物は、油脂およびポリオレフィンの酸化防止剤
として広く知られている化合物である。

【０００６】例えば、Ｒ¹およびＲ²がともにメチル基で
ある一般式（１）の化合物は、特公昭４２−１１０６４
号、米国特許３４７６７７２号、ケミカルアブストラク
ツ７０巻第２５００項目、同５０巻第１５１０４項目、
同７２巻第１３９００項目、ドイツ特許１１４９１６
号、特開昭４９−７２３３８号の公報または抄録誌など
に酸化防止剤として記載されている。これらの６−ヒド
ロキシクロマン化合物を配合した有機高分子材料は、着
色が著しい点が解決されていないことから、これらの６
−ヒドロキシクロマン化合物は酸化防止剤として広く使
用されるには至っていない。

【０００７】また、Ｒ¹が炭素数１６のアルキル基など
であり、Ｒ²がメチル基であるビタミンＥ（トコフェロ
ール）は、天然物であることから食品の酸化防止の目的
として広く用いられている。

【０００８】１９４０年代にはリン系化合物が研究開発
され、特に幾つかの酸化防止剤は非常に広範囲に用いら
れている。例えば、特開平１−２５４７４４号公報に
は、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイトが記載されてい
る。特開平５−１７８８７０号公報には、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイトやそれらを含む
組成物が記載されている。

【０００９】特開平８−２３１５６８号公報には、
（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ビス［４’−
［ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィ
ノ］ビフェニル−４−イル］ホスフィン、（２，４−ジ
第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ビス［４’−
［ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキ
シ）ホスフィノ］ビフェニル−４−イル］ホスフィンな
どやこれらの化合物を含む組成物が記載されている。

【００１０】特開平９−２３８４９０号公報には、２，
４−ジ第３級ブチルフェニル（ビフェニル−４−イル）
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホ
スファニルビフェニル−４−イル］ホスフィナイト、
２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル（ビフェ
ニル−４−イル）［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチ
ル−５−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−
４−イル］ホスフィナイトなどやこれらの化合物を含む
組成物が記載されている。

【００１１】上記文献には、これらの化合物やこれらの
化合物を含む組成物が有機高分子材料用安定剤として効
果を示すことが記載されている。また、この他にも例え
ば、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフ
ェニル）エチルホスファイト、トリフェニルホスファイ
ト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアル
キルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファ
イト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホ
スファイト、ビス（２，４−ジ−第３級ブチル−６−メ
チルフェニル）メチルホスファイトなどのアリールホス
ファイト化合物が酸化防止剤として用いられている。

【００１２】また、例えば、ビス（２，４−ジ第３級ブ
チルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペ
ンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ
（１−フェニル−１，１−ジメチルメチル）フェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、（２，４，６−
トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチル−２−エチル
−１，３−プロパンジオールジホスファイト、ビスイソ
デシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）ペンタエ
リスリトールジホスファイトなどのペンタエリスリトー
ルホスファイト化合物が酸化防止剤として用いられてい
る。

【００１３】さらに、例えば、２，２−メチレンビス
（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）２-エチルヘキシ
ルホスファイト、６−フルオロ−２，４，８，１０−テ
トラ第３級ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］
−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−
ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’５，５’−テト
ラ第３級ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジ
イル）ホスファイト]などのビスアリールアルキルホス
ファイト（オキサホスホシン）化合物が酸化防止剤とし
て用いられている。

【００１４】１９３０年代にはフェノール系化合物が研
究開発され、特に幾つかの酸化防止剤は非常に広範囲に
用いられている。例えば、汎用されているフェノール系
酸化防止剤として、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト、テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタ
ン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５
−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンなどが挙げ
られる。

【００１５】また、異なった効果を同時に発現させた
り、相乗効果を得るために、複数の種類の酸化防止剤を
組み合せて使用することも広く行なわれている。例え
ば、特開昭５３−７８２４８号公報には、６−ヒドロキ
シクロマン化合物と、フェノール系酸化防止剤である
２，６−ジ第３級ブチル−６−メチルフェノールやテト
ラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタンを配合
したポリオレフィン組成物を用いることにより黄変を防
止する方法が記載されている。同明細書には、樹脂１０
０重量部に対し、６−ヒドロキシクロマン化合物を０．
００５〜０．５重量部、好ましくは０．０１〜０．２重
量部を、フェノール系酸化防止剤を０．００５〜１重量
部、好ましくは０．０１〜０．５重量部を添加すること
が記載されている。

【００１６】また、特開昭５４−２００５６号公報に
は、６−ヒドロキシクロマン化合物を配合した熱安定性
が改良された熱可塑性重合体について記載されている。
樹脂１００重量部に対し、６−ヒドロキシクロマン化合
物を０．００５〜０．２重量部、好ましくは０．０１〜
０．１重量部と記載されている。また、配合量が０．０
０５重量部未満では、熱安定化効果がほとんどないこと
も記載されている。

【００１７】また、特開昭５３−１１４８５２号公報に
は、６−ヒドロキシクロマン化合物と、フェノール系酸
化防止剤である２，６−ジ第３級ブチル−６−メチルフ
ェノールや２，２−メチレンビス（４−エチル−６−第
３級ブチル）フェノールなどを配合することにより優れ
た安定性を有するポリオレフィンが得られることが記載
されている。樹脂１００重量部に対し、６−ヒドロキシ
クロマン化合物を０．００５〜０．５重量部、好ましく
は０．０１〜０．２重量部を、フェノール系酸化防止剤
を０．０１〜５重量部、好ましくは０．０５〜１．０重
量部を配合することが記載されている。

【００１８】ところで、フェノール系酸化防止剤とリン
系酸化防止剤とは双方が異なった作用を示すという観点
から、これらを併用して用いることが提案されており、
リン系化合物を合成樹脂の加工時の二次酸化防止剤とし
て、ヒンダードフェノール化合物を一次酸化防止剤とし
て、併用して使用することにより、安定化された有機高
分子材料の着色を改善することが知られており広く用い
られている。

【００１９】例えば、特公平４−６９６５７号公報に
は、６−ヒドロキシクロマン化合物とテトラキス（２，
４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレ
ンジホスファイトをそれぞれ０．０１〜１重量％配合し
たポリオレフィン組成物について記載されている。

【００２０】また、特開昭６３−１３７９４１号公報に
は、樹脂１００重量部に対し、ビタミンＥを０．００５
〜０．５重量部、好ましくは０．０３〜０．３重量部
を、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスファイトを０．００５〜
０．５重量部、好ましくは０．０３〜０．３重量部とを
配合した組成物が、熱安定性、色相に優れたポリオレフ
ィン組成物として記載されている。また、樹脂１００重
量部に対するビタミンＥの配合量を０．００５重量部未
満とすると、色相は良くなるが、成形加工時の熱安定化
効果が充分でないことが記載されている。

【００２１】また、特開昭６２−８６０３６号公報に
は、樹脂１００重量部に対し、６−ヒドロキシクロマン
化合物０．００５〜０．５重量部、好ましくは０．０１
〜０．２重量部，リン系酸化防止剤であるジステアリル
ペンタエリスリトールホスファイトまたはトリス（２，
４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイトを０．０１
〜０．５重量部、好ましくは０．０２〜０．３重量部を
配合することにより、ポリオレフィンの安定性と着色性
および黒点問題を改良することが記載されている。ま
た、さらにフェノール系酸化防止剤を添加することもで
きるとが記載されている。

【００２２】また、特開平２−２２５５４２号公報に
は、樹脂１００重量部に対し、６−ヒドロキシクロマン
化合物０．０１〜１重量部、好ましくは０．０５〜０．
５重量部を配合し、リン系酸化防止剤である特定のホス
ファイト化合物を０．０１〜１重量部と配合することに
より、安定化されたポリオレフィン組成物が記載されて
いる。また、樹脂１００重量部に対し６−ヒドロキシク
ロマン化合物の配合量が０．０１重量部未満の配合は加
工安定性の改善効果が十分に発揮されないことが記載さ
れている。

【００２３】すなわち、これらの公報に記載された技術
は、ビタミンＥを含む６−ヒドロキシクロマン化合物は
優れた酸化防止剤あるいは加工安定剤であるにも拘わら
ず、樹脂を着色させる欠点があるため、可能な限り少量
（有機高分子１００重量部に対し０．００５重量部以
上）のビタミンＥを含む６−ヒドロキシクロマン化合物
を他の酸化防止剤を併用使用して問題を解決しようとす
るものである。

【００２４】また、ビタミンＥを含む６−ヒドロキシク
ロマン化合物の配合量は、従来用いられていたフェノー
ル系酸化防止剤と同様に有機高分子１００重量部に対し
て０．００５重量部〜０．５重量部と記載されており、
６−ヒドロキシクロマン化合物とリン系酸化防止剤との
配合比率については何等記載も示唆もされてない。

【００２５】すなわち、特開昭５３−７８２４８号に
は、黄変を防止する方法のみ記載され加工安定性につい
ては記載されていない。またリン系酸化防止剤を含有し
ていないものであることはもとより、実施例に記載され
た例について酸化防止剤との総量に対する６−ヒドロキ
シクロマン化合物の割合を計算すると、２２．２％〜１
５．７％の場合について記載されている。

【００２６】また、特開昭５４−２００５６号には、フ
ェノール系酸化防止剤と相乗効果が認められる記載があ
るが、これらのフェノール系酸化防止剤の添加量は、樹
脂１００重量部に対し、０．０１〜１重量部との記載以
外、実施例を含めて具体的記載はない。実施例には、６
−ヒドロキシクロマン化合物を単独で樹脂に配合した例
のみ記載されている。

【００２７】また、特開昭５３−１１４８５２号には、
６−ヒドロキシクロマン化合物と、複数のフェノール系
酸化防止剤とを併用することが記載されているが、実施
例には、樹脂に対して、ビタミンＥを０．０３重量部、
２種類のフェノール系酸化防止剤を各々０．１重量部配
合した例が記載されており、これらの総量に対する６−
ヒドロキシクロマン化合物の割合は約１３重量％の例の
み記載されている。

【００２８】また、特開昭６３−１３７９４１号には、
実施例に、樹脂１００重量部に対し、ビタミンＥを０．
０３重量部または０．１０重量部、テトラキス（２，４
−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ジホスホナイトを０．０３重量部を配合した例が記載さ
れており、これら酸化防止剤の総量に対する６−ヒドロ
キシクロマンの割合は、５０％と７７％となる。

【００２９】また、特開昭６２−８６０３６号には、樹
脂１００重量部に対し、ビタミンＥを０．０５重量部、
ジステアリルペンタエリスリトールホスファイトまたは
トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイ
トを０．０５重量部や０．２重量部などを配合した例が
記載されており、これら酸化防止剤の総量に対する６−
ヒドロキシクロマンの割合は、５０％や２０％となる例
が記載されている。

【００３０】また、特開平２−２２２５４２号には、樹
脂１００重量部に対し、ビタミンＥを０．０５重量部、
リン系酸化防止剤である特定のホスファイト化合物を
０．０５重量部を配合した実施例が記載されており、こ
れらの比率は１：１であり、酸化防止剤の総量に対する
６−ヒドロキシクロマンの割合が５０％である場合につ
いてのみ記載されている。

【００３１】上記の文献には、６−ヒドロキシクロマン
化合物とフェノール系酸化防止剤、或いは６−ヒドロキ
シクロマン化合物とリン系酸化防止剤との２種類の成分
を併用することについて記載されていることはもとよ
り、６−ヒドロキシクロマン化合物とフェノール系酸化
防止剤とリン系酸化防止剤との３種類の成分を併せて使
用するという包括的な記載がある場合もその具体的な記
載はなく、加えて６−ヒドロキシクロマン化合物とフェ
ノール系またはリン系酸化防止剤の配合割合について、
記載も示唆もされていない。したがって、上記公報に
は、本発明のフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止
剤にさらに少量の６−ヒドロキシクロマン化合物を有機
高分子材料に配合することによって、着色を抑え、且つ
加工安定性について顕著な相乗化効果を発揮することに
ついては何ら記載も示唆もされていない。

【００３２】例えば、特開昭６３−１０５０６０号また
は米国特許４８０６５８０号公報には、ビタミンＥを１
重量部とテトラキス（２，４−ジ−第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスファイトなどの特
定のリン系酸化防止剤を５〜１４重量部とを配合した合
成樹脂用安定剤組成物は、着色性に対して、より安定化
されたことが記載されている。また、ビタミンＥを１重
量部とテトラキス（２，４−ジ−第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスファイトなどの特
定のリン系酸化防止剤を１５重量部、または１６重量部
配合した組成物が比較例として記載されている。

【００３３】明細書２頁（特開昭６３−１０５０６０号
公報）左下欄には、衛生上あるいは安全性上の問題から
より好ましい化合物が求められ、フェノール系酸化防止
剤として天然物由来のビタミンＥやビタミンＥに類似の
構造をもつ６−ヒドロキシクロマン化合物がそれ以前に
使用されていたフェノール系酸化防止剤の代替品として
用いるという発明の背景が記載されている。

【００３４】同公報に記載された配合比を換算すると、
ビタミンＥとリン系酸化防止剤との総量に対して、ビタ
ミンＥを約６．７重量％〜約１６．７重量％含有した範
囲が特許されており、約６．３重量％、約５．９重量％
の比較例組成物は安定化効果が良くないことが記載され
ている。

【００３５】同公報にはそれ以前に使用されていたフェ
ノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを併せて配合
する替わりに、６−ヒドロキシクロマン化合物とリン系
酸化防止剤とを併せて配合した有機高分子材料組成物に
ついて提案されたものあって、６−ヒドロキシクロマン
化合物をフェノール系化合物の範疇で捉えた配合例が提
案されており、酸化防止剤の配合比率も本発明とは異な
るものである。

【００３６】すなわち、本発明である加工安定性におい
て、フェノール系酸化防止剤と相乗効果のあるリン系酸
化防止剤に加えて極めて少量の一般式（１）により表さ
れる６−ヒドロキシクロマン化合物を含む安定剤組成物
を用いることにより、フェノール系酸化防止剤のもつ耐
熱性やリン系酸化防止剤のもつ着色防止性を維持しつ
つ、飛躍的な加工安定性を増強させることとは異なるも
のである。本発明は６−ヒドロキシクロマン化合物をフ
ェノール系酸化防止剤およびリン系酸化防止剤の加工安
定性効力増強剤とも考えることができるものである。

【００３７】近年、３−アリールベンゾフラノン化合物
がリン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とを併用
する場合の相乗化剤として開発されているる。 例え
ば、特開平７−２３３１６０号公報の段落番号０２２６
に記載された実施例１４に本発明と同様な目的で使用す
ることができる３−（３，４−ジメチルフェニル）−
５，７−ジ第３級ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オ
ン（同出願では、化合物１０３と表記）が記載されてい
る。１９９７年２月２３日〜２６日に米国テキサス州ヒ
ューストンにて行われたポリオレフィンに関する国際会
議（Polyolefins Xinternational conference）にて発
表されたポリマー安定化による飛躍的な進歩（A major
breakthrough in polymer stabilization）と題する
Ｃ．Ｋｒｏｈｎｋｅによる講演の資料にも記載されてお
り、フェノール系酸化防止剤やリン系酸化防止剤の相乗
化剤として記載されている。しかしながら、この相乗化
効果については、満足できるものではなく、さらに効果
のある相乗化剤が求められている。

【００３８】また、最近は高速成型のための成型温度の
高温化やエンジニヤリングプラスチック等とのアロイに
よる高温成型などのため、更に耐熱性に加えて、加工安
定性に対して効果のある優れた酸化防止剤の要求が高ま
ってきており、これら公知の安定化組成物はその目的の
ためにはいまだ十分に満足されるものではない。また、
耐熱性に加えて、加工安定性に対して、少量の添加であ
っても効果のある酸化防止剤の要求も高まっている。

【００３９】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、着色防止性を維持し、さらに耐熱性および少量で加
工安定性に対して効果のある優れた酸化防止剤を提供す
ることにある。

【００４０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するものであり、以下に関する。 ［１］（ａ）：一般式（１）

【００４１】

【化７８】

【００４２】（式中、Ｒ¹は炭素数１〜１８のアルキル
基または炭素数２〜１８のアルケニル基を示し、Ｒ²は
炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵
は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子ま
たは炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁶は水素原子
または炭素数１〜５のアルキル基を示す。）により表さ
れる化合物（以下、６−ヒドロキシクロマン化合物とも
いう）の少なくとも１種と、 （ｂ）次の（ｂ−１）、（ｂ−２）、（ｂ−３）および
（ｂ−４）から選ばれるリン系酸化防止剤と、 （ｂ−１）：一般式（２）

【００４３】

【化７９】

【００４４】（式中、Ｑ¹は一般式（３）

【００４５】

【化８０】

【００４６】（式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は各々同一または異
なっていてもよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、
Ｒ⁹は水素原子またはメチル基を示す。）を示し、Ｑ²は
各々の繰り返し単位について独立して一般式（３）

【００４７】

【化８１】

【００４８】（式中の記号は前記と同義である。）を示
し、ｉは各々の繰り返し単位について独立して０または
１を示し、ｊは０または１を示し、ｎ¹は１〜１０の整
数を示す。）または一般式（４）

【００４９】

【化８２】

【００５０】（式中の記号は前記と同義である。）によ
り表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ−２）：一般式（５）

【００５１】

【化８３】

【００５２】（式中、Ｒ¹⁰は、各々同一または異なって
いてもよく、炭素数１〜１８のアルキル基、フェニル
基、炭素数１〜９のアルキル基で置換されたフェニル
基、または一般式（６）

【００５３】

【化８４】

【００５４】（式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または
異なっていてもよく、炭素数１〜４のアルキル基を示
し、Ｒ¹⁴は水素原子またはメチル基を示す。）により表
される基を示し、Ｒ¹¹は、炭素数１〜１８のアルキル
基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、シクロヘキシ
ル基、フェニル基、炭素数１〜９のアルキル基で置換さ
れたフェニル基、または一般式（６）

【００５５】

【化８５】

【００５６】（式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または
異なっていてもよく、炭素数１〜４のアルキル基を示
し、Ｒ¹⁴は水素原子またはメチル基を示す。）により表
される基を示す。）、または一般式（７）

【００５７】

【化８６】

【００５８】（式中、Ｒ¹⁰は前記と同義であり、ｎ⁴は
３を示し、Ｌ¹は１，１，３−ブタントリイル基を示
す。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ−３）：一般式（８）

【００５９】

【化８７】

【００６０】または一般式（９）

【００６１】

【化８８】

【００６２】（式中、ｑは１または２を表し、Ａはｑが
１を表す場合、一般式（１０）

【００６３】

【化８９】

【００６４】（式中、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹は同一または異な
っていてもよく、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を
示し、Ｒ²⁰は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基
を示す。）により表される基を示し、Ａはｑが２を表す
場合、炭素数２〜１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン
基またはｐ−ビフェニレン基を示し、Ｒ¹⁵およびＲ
¹⁶は、互いに独立して炭素数１〜４のアルキル基を示
し、Ｒ¹⁷は互いに独立して炭素数１〜１８のアルキル
基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、シクロヘキシ
ル基、フェニル基、または一般式（１１）

【００６５】

【化９０】

【００６６】（式中、Ｒ²¹およびＲ²²は同一または異な
っていてもよく、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基ま
たは炭素数７〜９のフェニルアルキル基を示し、Ｒ²³は
水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示す。）に
より表される基を示す。）により表される化合物の少な
くとも１種、 （ｂ−４）：一般式（１２）

【００６７】

【化９１】

【００６８】（式中、Ｒ²⁴は各々同一または異なってい
てもよく炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ²⁵は各々
同一または異なっていてもよく水素原子または炭素数１
〜５のアルキル基を示し、Ｒ²⁶は同一または異なってい
てもよく水素原子またはメチル基を示し、Ｒ²⁷は直接結
合、メチレン基、−ＣＨ（Ｒ²⁹）−基（Ｒ²⁹は炭素数１
〜４のアルキル基を示す。）、または硫黄原子を示し、
ｎ³は１または３を示し、ｎ³が３の場合Ｒ²⁸はＮ（ＣＨ
₂ＣＨ₂Ｏ−）₃により表される基を示し、ｎ³が１の場合
Ｒ²⁸は炭素数１〜１８のアルキル基、ハロゲン原子、水
酸基、または炭素数１〜８のアルコキシ基を示す。）に
より表される化合物の少なくとも１種、 （ｃ）：フェノール系酸化防止剤とを含有し、成分
（ａ）と成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量に対して、成
分（ａ）を０．５重量％〜１０重量％、成分（ｂ）と成
分（ｃ）との総量を９９．５重量％〜９０重量％の割合
で含有する有機高分子材料用安定剤組成物。

【００６９】［２］成分（ｂ）が一般式（２）

【００７０】

【化９２】

【００７１】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（４）

【００７２】

【化９３】

【００７３】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１］に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。

【００７４】［３］成分（ｂ）が、一般式（１３）

【００７５】

【化９４】

【００７６】（式中、Ｑ³は一般式（１４）

【００７７】

【化９５】

【００７８】（式中、Ｒ⁹は水素原子またはメチル基を
示す。）を示し、Ｑ⁴は各々の繰り返し単位について独
立して一般式（１４）

【００７９】

【化９６】

【００８０】（式中、Ｒ⁹は水素原子またはメチル基を
示す。）を示し、ｉは各々の繰り返し単位について独立
して０または１を示し、ｊは０または１を示し、ｎ²は
１〜３の整数を示す。）または一般式（１５）

【００８１】

【化９７】

【００８２】（式中の記号は前記と同義である。）によ
り表される化合物の少なくとも１種である前記［２］に
記載の有機高分子材料用安定剤組成物。

【００８３】［４］成分（ｂ）が、テトラキス（２，４
−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル
−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホ
スホナイト、（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ビ
ス｛４’−（ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキ
シ）ホスフィノ）ビフェニル−４−イル｝ホスフィン、
および（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキ
シ）ビス｛４’−（ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスフィノ）ビフェニル−４−イ
ル｝ホスフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種
である前記［３］に記載の有機高分子材料用安定剤組成
物。

【００８４】［５］成分（ｂ）が一般式（５）

【００８５】

【化９８】

【００８６】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（７）

【００８７】

【化９９】

【００８８】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１］に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。

【００８９】［６］成分（ｂ）が、トリス（２，４−ジ
第３級ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−
ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファ
イト、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキル
ホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホス
ファイト、トリオクタデシルホスファイト、およびビス
（２，４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル）メ
チルホスファイトからなる群より選ばれる少なくとも１
種である前記［５］に記載の有機高分子材料用安定剤組
成物。

【００９０】［７］成分（ｂ）が一般式（８）

【００９１】

【化１００】

【００９２】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（９）

【００９３】

【化１０１】

【００９４】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１］に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。

【００９５】［８］成分（ｂ）が、ビス（２，４−ジ第
３級ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステア
リルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
４−ジ（１−フェニル−１，１−ジメチルメチル）フェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、（２，
４，６−トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチル−２
−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイト、ビ
スイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、お
よびビス（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイトからなる群より選ば
れる少なくとも１種である前記［７］に記載の有機高分
子材料用安定剤組成物。

【００９６】［９］成分（ｂ）が一般式（１２）

【００９７】

【化１０２】

【００９８】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１］に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。

【００９９】［１０］成分（ｂ）が、２，２−メチレン
ビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチル
ヘキシルホスファイト、６−フルオロ−２，４，８，１
０−テトラ第３級ブチル−１２−メチル−ジベンゾ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、および
２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，
３’，５，５’−テトラ第３級ブチル−１，１’−ビフ
ェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］からなる群
より選ばれる少なくとも１種である前記［９］に記載の
有機高分子材料用安定剤組成物。

【０１００】［１１］成分（ｃ）が、一般式（１６）

【０１０１】

【化１０３】

【０１０２】（式中、Ｒ³⁰は炭素数１〜５のアルキル基
を示し、Ｒ³¹は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ³²
は水素原子またはメチル基を示し、Ｌは、

【０１０３】

【化１０４】

【０１０４】または

【０１０５】

【化１０５】

【０１０６】または

【０１０７】

【化１０６】

【０１０８】または

【０１０９】

【化１０７】

【０１１０】または

【０１１１】

【化１０８】

【０１１２】を示す。）により表される構造を分子内に
１つ以上含む化合物である前記［１］〜［１０］のいず
れかに記載の有機高分子材料用安定剤組成物。

【０１１３】［１２］成分（ｃ）が、テトラキス［３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシメチル］メタン、ｎ−オクタデシル
３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェ
ニル）プロピオネート、トリス（３，５−ジ第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ−ト、およ
び１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，
５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ンからなる群より選ばれる少なくとも１種である前記
［１］〜［１０］のいずれかに記載の有機高分子材料用
安定剤組成物。

【０１１４】［１３］成分（ｂ）の配合量と、成分
（ｃ）の配合量の重量比が、９：１〜１：９である前記
［１］〜［１２］のいずれかに記載の有機高分子材料用
安定剤組成物。

【０１１５】［１４］成分（ｂ）の配合量と、成分
（ｃ）の配合量の重量比が、４：１〜１：４である前記
［１］〜［１２］のいずれかに記載の有機高分子材料用
安定剤組成物。

【０１１６】［１５］成分（ａ）が一般式（１７）

【０１１７】

【化１０９】

【０１１８】（式中、Ｒ³³は炭素数１〜５のアルキル基
または炭素数２〜５のアルケニル基を示し、Ｒ²は炭素
数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は同
一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子または
炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁶は水素原子また
は炭素数１〜５のアルキル基を示す。）により表される
化合物の少なくとも１種である前記［１］〜［１４］の
いずれかに記載の有機高分子材料用安定剤組成物。

【０１１９】［１６］有機高分子に、前記［１］〜［１
５］のいずれかに記載の有機高分子材料用安定剤組成物
を配合してなる有機高分子材料組成物。

【０１２０】［１７］さらに硫黄系酸化防止剤および／
または光安定剤を含有する前記［１６］に記載の有機高
分子材料組成物。

【０１２１】［１８］（ａ）：一般式（１）

【０１２２】

【化１１０】

【０１２３】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ）次の（ｂ−１）、（ｂ−２）、（ｂ−３）および
（ｂ−４）から選ばれるリン系酸化防止剤と、 （ｂ−１）：一般式（２）

【０１２４】

【化１１１】

【０１２５】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（４）

【０１２６】

【化１１２】

【０１２７】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ−２）：一般式（５）

【０１２８】

【化１１３】

【０１２９】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（７）

【０１３０】

【化１１４】

【０１３１】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ−３）：一般式（８）

【０１３２】

【化１１５】

【０１３３】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（９）

【０１３４】

【化１１６】

【０１３５】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ−４）：一般式（１２）

【０１３６】

【化１１７】

【０１３７】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｃ）：フェノール系酸化防止剤、および （ｄ）：有機高分子を含有する有機高分子材料組成物で
あって、有機高分子材料組成物１００重量部に対して、
成分（ａ）を０．０００５重量部〜０．０１０重量部の
範囲で含有する有機高分子材料組成物。

【０１３８】［１９］有機高分子材料組成物１００重量
部に対して、成分（ａ）を０．００１重量部〜０．００
５重量部の範囲で含有する前記［１８］に記載の有機高
分子材料組成物。

【０１３９】［２０］成分（ｂ）が一般式（２）

【０１４０】

【化１１８】

【０１４１】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（４）

【０１４２】

【化１１９】

【０１４３】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１８］または［１９］に記載の有機高分子材料組成
物。

【０１４４】［２１］成分（ｂ）が、一般式（１３）

【０１４５】

【化１２０】

【０１４６】（式中の記号は前記［３］と同義であ
る。）または一般式（１５）

【０１４７】

【化１２１】

【０１４８】（式中の記号は前記［３］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［２０］に記載の有機高分子材料組成物。

【０１４９】［２２］成分（ｂ）が、テトラキス（２，
４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレ
ンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチ
ル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジ
ホスホナイト、（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）
ビス｛４’−（ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキ
シ）ホスフィノ）ビフェニル−４−イル｝ホスフィン、
および（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキ
シ）ビス｛４’−（ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスフィノ）ビフェニル−４−イ
ル｝ホスフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種
である前記［２１］に記載の有機高分子材料組成物。

【０１５０】［２３］成分（ｂ）が一般式（５）

【０１５１】

【化１２２】

【０１５２】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）または一般式（７）

【０１５３】

【化１２３】

【０１５４】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１８］または［１９］に記載の有機高分子材料組成
物。

【０１５５】［２４］成分（ｂ）が、トリス（２，４−
ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフ
ァイト、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキ
ルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、ト
リス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホ
スファイト、トリオクタデシルホスファイト、およびビ
ス（２，４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル）
メチルホスファイトからなる群より選ばれる少なくとも
１種である前記［２３］に記載の有機高分子材料組成
物。

【０１５６】［２５］成分（ｂ）が一般式（８）

【０１５７】

【化１２４】

【０１５８】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）

【０１５９】

【化１２５】

【０１６０】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１８］または［１９］に記載の有機高分子材料組成
物。

【０１６１】［２６］成分（ｂ）が、ビス（２，４−ジ
第３級ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステ
アリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，４−ジ（１−フェニル−１，１−ジメチルメチ
ル）フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチ
ル−２−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイ
ト、ビスイソデシルペンタエリスリトールジホスファイ
ト、およびビス（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトからなる群よ
り選ばれる少なくとも１種である前記［２５］に記載の
有機高分子材料組成物。

【０１６２】［２７］成分（ｂ）が一般式（１２）

【０１６３】

【化１２６】

【０１６４】（式中の記号は前記［１］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１８］または［１９］に記載の有機高分子材料組成
物。

【０１６５】［２８］成分（ｂ）が、２，２−メチレン
ビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチル
ヘキシルホスファイト、６−フルオロ−２，４，８，１
０−テトラ第３級ブチル−１２−メチル−ジベンゾ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、および
２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，
３’，５，５’−テトラ第３級ブチル−１，１’−ビフ
ェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］からなる群
より選ばれる少なくとも１種である前記［２７］に記載
の有機高分子材料組成物。

【０１６６】［２９］成分（ｃ）が、一般式（１６）

【０１６７】

【化１２７】

【０１６８】（式中の記号は前記［１１］と同義であ
る。）により表される構造を分子内に１つ以上含む化合
物である前記［１８］〜［２８］のいずれかに記載の有
機高分子材料組成物。

【０１６９】［３０］成分（ｃ）が、テトラキス［３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシメチル］メタン、ｎ−オクタデシル
３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェ
ニル）プロピオネート、トリス（３，５−ジ第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ−ト、およ
び１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，
５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ンからなる群より選ばれる少なくとも１種である前記
［２９］に記載の有機高分子材料組成物。

【０１７０】［３１］成分（ｂ）の配合量と、成分
（ｃ）の配合量の重量比が、９：１〜１：９である前記
［１８］〜［３０］のいずれかに記載の有機高分子材料
組成物。

【０１７１】［３２］成分（ｂ）の配合量と、成分
（ｃ）の配合量の重量比が、４：１〜１：４である前記
［１８］〜［３０］のいずれかに記載の有機高分子材料
組成物。

【０１７２】［３３］成分（ａ）が一般式（１７）

【０１７３】

【化１２８】

【０１７４】（式中の記号は前記［１５］と同義であ
る。）により表される化合物の少なくとも１種である前
記［１８］〜［３２］のいずれかに記載の有機高分子材
料組成物。

【０１７５】［３４］有機高分子が、合成樹脂である前
記［１８］〜［３３］のいずれかに記載の有機高分子材
料組成物。

【０１７６】［３５］有機高分子が、オレフィン系樹脂
である前記［１８］〜［３３］のいずれかに記載の有機
高分子材料組成物。

【０１７７】［３６］有機高分子が、ポリエチレン系樹
脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂とポリ
プロピレン系樹脂との混和物または相溶性重合体、ポリ
エチレン系樹脂および／またはポリプロピレン系樹脂を
含む相溶性重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ま
たはエチレン−プロピレン共重合体である前記［１８］
〜［３３］のいずれかに記載の有機高分子材料組成物。

【０１７８】［３７］さらに硫黄系酸化防止剤および／
または光安定剤を含有する前記［１８］〜［３６］のい
ずれかに記載の有機高分子材料組成物。

【０１７９】

【発明の実施の形態】本発明の有機高分子材料用安定剤
組成物の構成成分である一般式（１）の化合物における
置換基について説明する。

【０１８０】

【化１２９】

【０１８１】一般式（１）により表される化合物のＲ¹
は、炭素数１〜１８のアルキル基または炭素数２〜１８
のアルケニル基であり、当該アルキル基またはアルケニ
ル基は直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級
ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル
基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メチルブタン
−２−イル基、２−メチルブタン−３−イル基、２−メ
チルブタン−４−イル基、ネオペンチル基、ヘキシル
基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エ
チルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデ
シル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシ
ル基、４−メチルペント−３−エニル基（−ＣＨ₂ＣＨ₂
ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＨ₃基）、４，８，１２−トリメ
チルトリデシル基（−｛ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）｝₃−ＣＨ₃基）、４，８，１２−トリメチル−
３，７，１１−トリデカトリエニル基(−｛ＣＨ₂ＣＨ₂
ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ₃）｝₃−ＣＨ₃基）などが挙げられる。

【０１８２】一般式（１）により表される化合物のＲ¹
の好ましい例としては、メチル基、４，８，１２−トリ
メチルトリデシル基（−｛ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）｝ ₃−ＣＨ₃基）、４，８，１２−トリメチル−
３，７，１１−トリデカトリエニル基（−｛ＣＨ₂ＣＨ₂
ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ₃）｝₃−ＣＨ₃基）などが挙げられ、メ
チル基、４，８，１２−トリメチルトリデシル基（−
｛ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）｝₃−ＣＨ₃基）が特に
好ましく、このなかでもメチル基が最も好ましい。

【０１８３】一般式（１）により表される化合物のＲ²
は、炭素数１〜５のアルキル基であり、当該アルキル基
は直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル
基、ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２
−メチルブタン−１−イル基、２−メチルブタン−２−
イル基、２−メチルブタン−３−イル基、２−メチルブ
タン−４−イル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
一般式（１）により表される化合物のＲ²として好まし
い基は、メチル基である。

【０１８４】一般式（１）により表される化合物の
Ｒ³、Ｒ⁴、およびＲ⁵は、同一または異なっていてもよ
く、それぞれ水素原子または炭素数１〜４のアルキル基
であり、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれで
あってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級
ブチル基、第３級ブチル基などが挙げられる。

【０１８５】一般式（１）により表される化合物の
Ｒ³、Ｒ⁴、およびＲ⁵の好ましい例としては、水素原
子、メチル基、イソプロピル基、第３級ブチル基が挙げ
られ、特に好ましい基としては、水素原子、メチル基が
挙げられ、なかでもメチル基が最も好ましい。

【０１８６】一般式（１）により表される化合物のＲ⁶
は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり、
当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれであっても
よく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル
基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、３
−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メ
チルブタン−２−イル基、２−メチルブタン−３−イル
基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペンチル基な
どが挙げられる。一般式（１）により表される化合物の
Ｒ⁶として好ましいものは、水素原子である。

【０１８７】一般式（１）により表される化合物として
は、具体的には以下の化合物が挙げられるがこれに限ら
れるものではない。 ２，２−ジメチル−６−ヒドロキシクロマン ２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−６−ヒド
ロキシクロマン ２，２，５−トリメチル−８−第３級ブチル−６−ヒド
ロキシクロマン ２，２，７，８−テトラメチル−６−ヒドロキシクロマ
ン ２，２，５，７−テトラメチル−６−ヒドロキシクロマ
ン ２，２，５，８−テトラメチル−６−ヒドロキシクロマ
ン ２，２−ジメチル−７−第３級ブチル−６−ヒドロキシ
クロマン ４−イソプロピル−２，２，５−トリメチル−７−第３
級ブチル−６−ヒドロキシクロマン ２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシク
ロマン ４−イソプロピル−２，２−ジメチル−７−第３級ブチ
ル−６−ヒドロキシクロマン ２，２−ジメチル−５−第３級ブチル−６−ヒドロキシ
クロマン ２，５，７，８−テトラメチル−２−（４−メチルペン
ト−３−エニル）−６−ヒドロキシクロマン ２，５−ジメチル−８−第３級ブチル−２−（４−メチ
ルペント−３−エニル）−６−ヒドロキシクロマン ２−メチル−２−（４−メチルペント−３−エニル）−
６−ヒドロキシクロマン ２，２，５−トリメチル−６−ヒドロキシクロマン ２，２，７−トリメチル−６−ヒドロキシクロマン ２，２，８−トリメチル−６−ヒドロキシクロマン α−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
トリデシル基、Ｒ²はメチル基、Ｒ³とＲ⁴とＲ⁵はともに
メチル基、Ｒ⁶は水素原子） β−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
トリデシル基、Ｒ²はメチル基、Ｒ³とＲ⁵はともにメチ
ル基、Ｒ⁴は水素原子、Ｒ⁶は水素原子） γ−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
トリデシル基、Ｒ²はメチル基、Ｒ⁴とＲ⁵はともにメチ
ル基、Ｒ³は水素原子、Ｒ⁶は水素原子） δ−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
トリデシル基、Ｒ²はメチル基、Ｒ³とＲ⁴はともに水素
原子、Ｒ⁵はメチル基、Ｒ⁶は水素原子） トコール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチルトリデシル
基、Ｒ²はメチル基、Ｒ ³とＲ⁴とＲ⁵はともに水素原子、
Ｒ⁶は水素原子） ε−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
−３，７，１１−トリデカトリエニル基、Ｒ²はメチル
基、Ｒ³とＲ⁵はともにメチル基、Ｒ⁴は水素原子、Ｒ⁶は
水素原子） ξ₁−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
−３，７，１１−トリデカトリエニル基 、Ｒ²はメチル
基 、Ｒ³とＲ⁴とＲ⁵はともにメチル基、Ｒ⁶は水素原
子） ξ₂−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
トリデシル基、Ｒ²はメチル基、Ｒ³とＲ⁴はともにメチ
ル基、Ｒ⁵は水素原子、Ｒ⁶は水素原子） η−トコフェロール（Ｒ¹は４，８，１２−トリメチル
トリデシル基、Ｒ²はメチル基、Ｒ³とＲ⁵はともに水素
原子、Ｒ⁴はメチル基、Ｒ⁶は水素原子）

【０１８８】一般式（１）により表される化合物として
は、２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキ
シクロマンや各種トコフェロールが好ましく、この中で
も２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシ
クロマンが特に好ましい。

【０１８９】本発明において、成分（ａ）は、一般式
（１）により表される化合物またはそれらの混合物であ
ってもよく、例えば、上記各種トコフェロールまたはそ
れらの混合物であってもよい。

【０１９０】本発明の有機高分子材料用安定剤組成物の
構成成分である一般式（２）または一般式（４）の化合
物の置換基について説明する。 一般式（２）

【０１９１】

【化１３０】

【０１９２】または一般式（４）

【０１９３】

【化１３１】

【０１９４】における置換基Ｑ¹またはＱ²である一般式
（３）

【０１９５】

【化１３２】

【０１９６】におけるＲ⁷およびＲ⁸は、同一または異な
っていてもよく、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基で
あり、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれであ
ってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第３級
ブチル基が挙げられ、第３級ブチル基が好ましい。なか
でも、Ｒ⁷とＲ⁸の双方とも第３級ブチル基であることが
特に好ましい。

【０１９７】上記一般式（３）により表される基におけ
るＲ⁹は、水素原子またはメチル基であり、Ｒ⁹がメチル
基の場合、Ｒ⁹が一般式（３）のフェニル環上の５位ま
たは６位に置換したものが特に好ましく、５位に置換し
たものが最も好ましい。一般式（３）により表される基
の特に好ましい例としては、２，４−ジ第３級ブチルフ
ェノキシ基、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ノキシ基が挙げられる。

【０１９８】一般式（２）または一般式（４）における
ｎ¹は、１〜１０の整数であり、１または２が好まし
く、特に１が好ましい。ｉ、ｊは０または１であり、０
であることが好ましい。

【０１９９】成分（ｂ）が（ｂ−１）である場合、一般
式（２）の化合物が主成分であることが好ましく、一般
式（４）の化合物は含まれていなくてもよい。

【０２００】本発明の有機高分子材料用安定剤組成物の
構成成分の一つである一般式（２）または（４）により
表される化合物としては以下のものが挙げられる。特公
昭５０−３５０９６号公報に記載されているテトラキス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイトを代表とする４，４’−ビフェ
ニレンジホスホナイト化合物、特開平１−２５４７４４
号公報に記載されているテトラキス（２，４−ジ第３級
ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イトと対応するビフェニレンモノホスホナイトを含有す
る組成物、特開平２−２７０８９２号公報に記載されて
いるテトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトな
どからなる組成物、特開平５−２０２０７８号公報に記
載されているテトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホネートなどか
らなる組成物、特開平５−１７８８７０号公報に記載さ
れているテトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メ
チルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイ
ト化合物、

【０２０１】特開平８−２３１５６８号公報に記載され
ている２，４−ジ第３級ブチルフェニル ビス［４’−
ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニ
ルビフェニル−４−イル］ホスフィナイト（または
（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ビス［４’−
［ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィ
ノ］ビフェニル−４−イル］ホスフィンともよばれ
る）、２，４−ジ第３級ブチルフェニル ［４’−ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニルビ
フェニル−４−イル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］
ホスフィナイト、２，４−ジ第３級ブチルフェニル ビ
ス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）
ホスファニルビフェニル−４−イル］ホスフィネート、
２，４−ジ第３級ブチルフェニル ［４’−ビス（２，
４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニルビフェニ
ル−４−イル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル
フェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフ
ィネート、２，４−ジ第３級ブチルフェニル ビス
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホ
スホリルビフェニル−４−イル］ホスフィナイト、２，
４−ジ第３級ブチルフェニル ビス［４’−ビス（２，
４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル
−４−イル］ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチル
−５−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ
第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスファニルビ
フェニル−４−イル］ホスフィナイト（または（２，４
−第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ビス［４’−
［ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキ
シ）ホスフィノ］ビフェニル−４−イル］ホスフィンと
もよばれる）、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェニル ［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホス
フィナイト、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチル−５−メ
チルフェニル ［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル
−５−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４
−イル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］
ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル
−５−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−
イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル
−４−イル］ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチル
フェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビス（２，
４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニルビフェニ
ル−４−イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３級ブチ
ル−５−メチルフェニル（ビフェニル−４−イル）
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］ホスフ
ィナイト、２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４−ジ
第３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスファニルビ
フェニル−４−イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３
級ブチルフェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビ
ス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスホリルビ
フェニル−４−イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３
級ブチルフェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビ
ス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニル
ビフェニル−４−イル］ホスフィネート、２，４−ジ第
３級ブチルフェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−
ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスホリル
ビフェニル−４−イル］ホスフィネートなどの化合物が
挙げられる。

【０２０２】一般式（２）により表される化合物として
は、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイトが特に好まし
く、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイトを主成分とし
て、（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ビス［４’
−［ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフ
ィノ］ビフェニル−４−イル］ホスフィン、［（２，４
−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィノ］ビフェニ
ル、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスフ
ァイトなどを含有する組成物、またはテトラキス（２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’
−ビフェニレンジホスホナイトを主成分として、（２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ビス
［４’−［ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェノキシ）ホスフィノ］ビフェニル−４−イル］ホス
フィン、［（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ノキシ）ホスフィノ］ビフェニル、トリス（２，４−ジ
第３級ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイトなど
を含有する組成物が最も好ましい。

【０２０３】本発明の有機高分子材料用安定剤組成物の
構成成分である一般式（５）または一般式（７）の化合
物の置換基について説明する。一般式（５）および一般
式（７）のＲ¹⁰、および一般式（５）のＲ¹¹における炭
素数１〜１８のアルキル基は、直鎖または分枝鎖のいず
れであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第
２級ブチル基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペン
チル基、３−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル
基、２−メチルブタン−２−イル基、２−メチルブタン
−３−イル基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペ
ンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラ
デシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデ
シル基、オクタデシル基などが挙げられ、好ましくはオ
クタデシル基である。

【０２０４】一般式（５）および一般式（７）のＲ¹⁰、
および一般式（５）のＲ¹¹における炭素数１〜９のアル
キル基で置換されたフェニル基としては、例えば、メチ
ルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、イソプロピルフェニル基、ブチルフェニル基、イソ
ブチルフェニル基、第２級ブチルフェニル基、第３級ブ
チルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニ
ル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニ
ルフェニル基などが挙げられる。

【０２０５】一般式（５）のＲ¹¹における炭素数７〜９
のフェニルアルキル基はアルキル部分が直鎖または分枝
鎖のいずれであってもよく、例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベ
ンジル基などが挙げられる。

【０２０６】一般式（６）により表される基におけるＲ
¹²およびＲ¹³は同一または異なっていてもよく、それぞ
れ炭素数１〜４のアルキル基であり、当該アルキル基は
直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、第３級ブチル基が挙げられ、第３
級ブチル基が好ましい。なかでも、Ｒ¹²およびＲ¹³がと
もに第３級ブチル基であることが特に好ましい。

【０２０７】一般式（６）により表される基におけるＲ
¹⁴は、水素原子またはメチル基であり、Ｒ¹⁴がメチル基
の場合、Ｒ¹⁴がフェニル環上の５位または６位に置換し
たものが好ましい。

【０２０８】一般式（６）により表される基の好ましい
例としては、２，４−ジ第３級ブチルフェニル基、２，
４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル基が挙げられ
る。

【０２０９】一般式（５）におけるＲ¹⁰の好ましい例と
しては、ドデシル基、オクタデシル基、フェニル基、ノ
ニルフェニル基、２，４−ジ第３級ブチルフェニル基、
２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル基が挙げ
られる。

【０２１０】一般式（５）におけるＲ¹¹の好ましい例と
しては、メチル基、エチル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、フェニル基、ノニルフェニル基、２，４−ジ第３
級ブチルフェニル基、２，４−ジ第３級ブチル−６−メ
チルフェニル基が挙げられる。

【０２１１】一般式（７）におけるＲ¹⁰の好ましい例と
しては、ドデシル基、オクタデシル基、フェニル基、ノ
ニルフェニル基、２，４−ジ第３級ブチルフェニル基、
２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル基が挙げ
られる。

【０２１２】一般式（５）または（７）により表される
化合物としては、具体的には、例えば、トリス（２，４
−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，
４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）エチルホス
ファイト、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアル
キルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、
トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリル
ホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ビス
（２，４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル）メ
チルホスファイトなどが挙げられる。

【０２１３】本発明の有機高分子材料用安定剤組成物の
構成成分である一般式（８）または一般式（９）の化合
物の置換基について説明する。一般式（１０）により表
される基におけるＲ¹⁸およびＲ¹⁹は同一または異なって
いてもよく、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基であ
り、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれであっ
てもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第３級ブチ
ル基が挙げられ、メチル基、第３級ブチル基が好まし
い。

【０２１４】一般式（１０）により表される基における
Ｒ²⁰は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であ
り、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれであっ
てもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第３級ブチ
ル基が挙げられる。Ｒ²⁰としては、水素原子、第３級ブ
チル基が好ましい。Ｒ²⁰が炭素数１〜４のアルキル基の
場合、Ｒ²⁰がフェニル環上の５位または６位に置換した
ものが好ましく、特に６位に置換したものが好ましい。

【０２１５】一般式（１０）により表される基の好まし
い例としては、２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル
基、２，４−ジ第３級ブチルフェニル基、２，６−ジ第
３級ブチル−４−メチルフェニル基が挙げられる。

【０２１６】一般式（８）のＡにおける炭素数２〜１８
のアルキレン基は、直鎖または分枝鎖のいずれであって
もよく、例えば、エチレン基、エチリデン基、トリメチ
レン基、イソプロピリデン基、テトラメチレン基、ペン
タメチレン基、ヘキサメチレン基などが挙げられる。

【０２１７】ｑが１を示す場合、Ａの好ましい例として
は、２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル基、２，４
−ジ第３級ブチルフェニル基、２，６−ジ第３級ブチル
−４−メチルフェニル基が挙げられる。一般式（８）に
おけるｑは１が好ましい。

【０２１８】一般式（８）におけるＲ¹⁵およびＲ¹⁶は、
同一または異なっていてもよく、それぞれ炭素数１〜４
のアルキル基であり、当該アルキル基は直鎖または分枝
鎖のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、第３級ブチル基が挙げられる。

【０２１９】一般式（９）のＲ¹⁷における炭素数１〜１
８のアルキル基は、直鎖または分枝鎖のいずれであって
もよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル
基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、３
−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メ
チルブタン−２−イル基、２−メチルブタン−３−イル
基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペンチル基、
ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、イソ
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基などが挙げられ、好まし
くはオクタデシル基である。

【０２２０】一般式（９）のＲ¹⁷における炭素数７〜９
のフェニルアルキル基はアルキル部分が直鎖または分枝
鎖のいずれであってもよく、例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベ
ンジル基などが挙げられる。

【０２２１】一般式（１１）のＲ²¹およびＲ²²における
炭素数１〜４のアルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれ
であってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第３
級ブチル基が挙げられ、メチル基、第３級ブチル基が好
ましい。

【０２２２】一般式（１１）のＲ²¹およびＲ²²における
炭素数７〜９のフェニルアルキル基はアルキル部分が直
鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、例えば、ベン
ジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、α，α
−ジメチルベンジル基などが挙げられる。

【０２２３】一般式（１１）により表される基における
Ｒ²³は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であ
り、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれであっ
てもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第３級ブチ
ル基が挙げられる。Ｒ²³としては、水素原子、第３級ブ
チル基が好ましい。Ｒ²³が炭素数１〜４のアルキル基の
場合、Ｒ²³がフェニル環上の５位または６位に置換した
ものが好ましく、特に６位に置換したものが好ましい。

【０２２４】Ｒ¹⁷の好ましい例としては、２，４−ジ第
３級ブチルフェニル基、２，６−ジ第３級ブチル−４−
メチルフェニル基、２，４−ジ（１−フェニル−１，１
−ジメチルメチル）フェニル基、２，４，６−トリ第３
級ブチルフェニル基、オクタデシル基、イソデシル基が
挙げられる。

【０２２５】一般式（８）または（９）により表される
化合物としては、具体的には、例えば、ビス（２，４−
ジ第３級ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジス
テアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，４−ジ（１−フェニル−１，１−ジメチルメチ
ル）フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチ
ル−２−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイ
ト、ビスイソデシルペンタエリスリトールジホスファイ
ト ビス（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。

【０２２６】本発明の有機高分子材料用安定剤組成物の
構成成分である一般式（１２）の化合物の置換基につい
て説明する。一般式（１２）におけるＲ²⁴は各々同一ま
たは異なっていてもよく炭素数１〜５のアルキル基であ
り、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれであっ
てもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチ
ル基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、
３−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−
メチルブタン−２−イル基、２−メチルブタン−３−イ
ル基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペンチル基
などが挙げられる。Ｒ²⁴としては、第３級ブチル基が好
ましい。

【０２２７】一般式（１２）におけるＲ²⁵は各々同一ま
たは異なっていてもよく水素原子または炭素数１〜５の
アルキル基であり、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖
のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、第３級ブチル基が挙げられる。Ｒ²⁵としては、第
３級ブチル基が好ましい。

【０２２８】一般式（１２）におけるＲ²⁶は各々同一ま
たは異なっていてもよく水素原子またはメチル基であ
り、好ましくは水素原子である。

【０２２９】一般式（１２）におけるＲ²⁹は炭素数１〜
４のアルキル基であり、当該アルキル基は直鎖または分
枝鎖のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、第３級ブチル基が挙げられる。Ｒ²⁹としては、
メチル基が好ましい。

【０２３０】一般式（１２）におけるＲ²⁷の好ましい例
としては、直接結合、メチレン基、エチリデン基が挙げ
られる。

【０２３１】一般式（１２）のＲ²⁸における炭素数１〜
１８のアルキル基は、直鎖または分枝鎖のいずれであっ
てもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチ
ル基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、
３−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−
メチルブタン−２−イル基、２−メチルブタン−３−イ
ル基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペンチル
基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基などが挙げられる。

【０２３２】一般式（１２）のＲ²⁸におけるハロゲン原
子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素
原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。

【０２３３】一般式（１２）のＲ²⁸における炭素数１〜
８のアルコキシ基は、直鎖または分枝鎖のいずれであっ
てもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、第２級ブチルオ
キシ基、第３級ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、２−エチルヘキシルオキシ基などが挙げられ、好ま
しくは２−エチルヘキシルオキシ基である。

【０２３４】一般式（１２）において、ｎ³が１の場
合、Ｒ²⁸の好ましい例としては、フッ素原子、２−エチ
ルヘキシルオキシ基が挙げられる。

【０２３５】一般式（１２）により表される化合物とし
ては、具体的には、例えば、２，２−メチレンビス
（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）２-エチルヘキシ
ルホスファイト（または６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ第３級ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシンともよば
れる）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第３
級ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，
３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリ
ロ［トリエチルトリス（３，３’５，５’−テトラ第３
級ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）
ホスファイト］などが挙げられる。

【０２３６】本発明の有機高分子材料用安定剤組成物の
構成成分の一つであるフェノール系酸化防止剤は、一般
式（１６）

【０２３７】

【化１３３】

【０２３８】（式中、Ｒ³⁰は炭素数１〜５のアルキル基
を示し、Ｒ³¹は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ³²
は水素原子またはメチル基を示し、Ｌは、

【０２３９】

【化１３４】

【０２４０】または

【０２４１】

【化１３５】

【０２４２】または

【０２４３】

【化１３６】

【０２４４】または

【０２４５】

【化１３７】

【０２４６】または

【０２４７】

【化１３８】

【０２４８】を示す。）により表される構造を分子内に
１または２以上有する化合物などが挙げられる。

【０２４９】これらの化合物として、具体的には、例え
ば、ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキ
ス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、１，３，
５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，１，３−トリス
［２−メチル−４−［３−（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−５−
第３級ブチルフェニル］ブタン、ビス（３−第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペ
ンタジエン、１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシア
ヌル酸、３，９−ビス［２−［３−（３−第３級ブチル
−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニル
オキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１
０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，６
−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、２，４−ジ
メチル−６−第３級ブチルフェノール、２，６−ジ第３
級ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、２，６−
ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、２，４，６−
トリ第３級ブチルフェノール、

【０２５０】ブチル化ヒドロキシアニソール、イソオク
チル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチル
フェニル）プロピオネート、ジステアリル・（４−ヒド
ロキシ−３−メチル−５−第３級ブチル）ベンジルマロ
ネート、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第
３級ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４
−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、４，４’−
メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノール）、
２，２’−ブチリデンビス（４−エチル−６−第３級ブ
チルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メ
チル−６−第３級ブチルフェノール）、２，２’−チオ
ビス（４−メチル−６−第３級ブチルフェノール）、
４，４’−チオビス（３−メチル−６−第３級ブチルフ
ェノール）、スチレン化フェノール、Ｎ，Ｎ’−ヘキサ
メチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナミド）、ビス（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウ
ム、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、１，６−ヘキサ
ンジオール−ビス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２’−
メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノ
ール）、２，２’−メチレンビス［６−（１−メチルシ
クロヘキシル）−４−メチルフェノール］、トリエチレ
ングリコール−ビス［３−（３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］、エ
チレングリコール−ビス（３，３−ビス（３−第３級ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）ブチラート）、

【０２５１】２−第３級ブチル−６−（３−第３級ブチ
ル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチ
ルフェニルアクリラート、２，２’−オキサミド−ビス
［エチル・３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート］、６−（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジ第３級ブチルアニリノ）−２，４−ジオ
クチルチオ−１，３，５−トリアジン、ビス［２−第３
級ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第
３級ブチル−５−メチルベンジル）フェニル］テレフタ
レート、３，９−ビス［２−［３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキ
シ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−
テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３，５
−トリス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアネ
ート、２，２−チオジエチレン−ビス［３−（３，５−
ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート］、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３
級ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ第３級ペン
チルフェニルアクリレート １，３，５−トリス（４−第３級ブチル−３−ヒドロキ
シ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸、１，
３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）イソシアヌル酸、２，４−ジ−オクチル
チオメチル−６−メチルフェノールなどが挙げられ、ま
た、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−ク
レゾール、没食子酸プロピル、没食子酸オクチル、没食
子酸ドデシルのそれぞれの化合物も挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。

【０２５２】好ましいフェノール系酸化防止剤として
は、ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキ
ス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、１，３，
５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，１，３−トリス
［２−メチル−４−［３−（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−５−
第３級ブチルフェニル］ブタン、２，４−ジ−オクチル
チオメチル−６−メチルフェノール ビス（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）ジシクロペンタジエン、１，３，５−トリス
（４−第３級ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチ
ルベンジル）イソシアヌル酸、３，９−ビス［２−［３
−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチ
ル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．
５］ウンデカンなどが挙げられる。

【０２５３】特に好ましいフェノール系酸化防止剤とし
ては、ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラ
キス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、１，
３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリメ
チル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンなどが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。

【０２５４】本発明において、これらのフェノール系酸
化防止剤の１種または２種以上を併せて用いることがで
きる。

【０２５５】本発明の安定剤組成物により安定化される
有機高分子としては、合成有機高分子、天然有機高分子
が挙げられる。合成有機高分子としては、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂などの合成樹脂が挙げられる。

【０２５６】熱可塑性樹脂としては、例えばオレフィン
系樹脂、含ハロゲン系重合体、スチレン系樹脂、アクリ
ル系樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、芳香族ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹
脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリフェニレンエーテ
ル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、石油樹
脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ビニルアセタール樹脂、繊維
素（セルロース）系樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、
ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルケトン樹
脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリオキシベンゾイル樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリマレイミド樹脂、ポリアミド
イミド樹脂、ポリアリレート樹脂、フッ素樹脂、アイオ
ノマー、熱可塑性エラストマーなどが挙げられ、これら
の混合物を使用することもできる。

【０２５７】前記オレフィン系樹脂としては、例えば、
低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密
度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超高分子量ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリペン
テン、ポリ−３−メチルブチレンなどの炭素数２〜８の
α−オレフィン単独重合体；エチレン・プロピレンラン
ダム共重合体、エチレン・プロピレンブロック共重合
体、エチレン・ブテン−１ランダム共重合体、プロピレ
ン・エチレン・ブテン−１ランダム共重合体などのα−
オレフィン共重合体；無水マレイン酸変性ポリプロピレ
ン、エチレン・酢酸ビニル共重合体などのα−オレフィ
ンと他の単量体との共重合体などが挙げられ、これらの
２種類以上または、これらと他の相溶性重合体との混合
物を使用することもできる。

【０２５８】これらのオレフィン系樹脂は重合後、触媒
残渣を除去する工程を入れた僅かに精製処理を行ったも
のや、比較的高度に精製したもののほかに、高活性触媒
を用い、触媒除去工程を経ていないか、または簡略化し
て得られる触媒残渣を含有するオレフィン系樹脂、特
に、ハロゲン含有マグネシウム化合物を触媒担体とする
チーグラー型触媒やクロム系触媒を用いて得られ、未だ
触媒残留物除去工程を経ていない結晶性オレフィン系樹
脂であってもよい（特公昭６２−４４１８号公報、特公
平３−５６２４５号公報、米国特許４１１５６３９号明
細書参照）。さらに、メタロセン系シングルサイト触媒
によって得られる分子量分布の非常に狭いオレフィン系
樹脂であってもよい（ジャーナル・オブ・ポリマー・サ
イエンス．ポリマー・ケミストリー・エディション（Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃ
ｅ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｄｉｔｉ
ｏｎ）第２３巻，２１５１頁（１９８５年））。

【０２５９】前記含ハロゲン系重合体としては、例え
ば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル・アクリル
酸アルキルエステル共重合体、塩素化ポリエチレンなど
が挙げられる。

【０２６０】前記スチレン系樹脂としては、例えば、ポ
リスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、スチレン・アクリ
ロニトリル共重合体、スチレン・ＭＭＡ共重合体、ＡＢ
Ｓ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、ＡＡＳ樹脂、ＥＥＳ
樹脂など、およびこれらの混合物などが挙げられる。

【０２６１】前記アクリル系樹脂としては、例えば、ポ
リアクリレート、ポリメタクリレートなどが挙げられ
る。

【０２６２】前記熱可塑性ポリエステル樹脂としては、
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレートなどが挙げられる。

【０２６３】前記ポリアミド樹脂としては、例えば、ナ
イロン４、ナイロン６、ナイロン４・６、ナイロン６・
６、ナイロン６・１０、ナイロン７、ナイロン８、ナイ
ロン１２、ナイロン６・１２、ナイロン１１・１２、ア
ラミドなど、およびこれらの混合物などが挙げられる。

【０２６４】また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリ
エステル樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、
ジアリルフタレート樹脂、ポリウレタン樹脂、フラン樹
脂などが挙げられる。

【０２６５】また、天然有機高分子としては、天然ゴ
ム、蛋白質、セルロースなどの誘導体、鉱油、動植物
油、ロウ、油脂などを挙げることができる。

【０２６６】本発明の安定化された有機高分子材料組成
物に用いられる有機高分子としては、特にオレフィン系
樹脂、なかでもα−オレフィン単独重合体またはα−オ
レフィン共重合体が好適である。このような有機高分子
に本発明の安定剤組成物を配合した場合、優れた酸化防
止効果を示す。α−オレフィンとして最も好適であるの
はポリエチレン及びポリプロピレンである。

【０２６７】本発明に用いられる一般式（１）

【０２６８】

【化１３９】

【０２６９】（式中の各記号は前記のとおり。）により
表される６−ヒドロキシクロマン化合物は、特公昭４５
−２３１４６号公報に記載の方法に準じて合成できる。

【０２７０】上記のリン系酸化防止剤、フェノール系酸
化防止剤は既知の化合物であり、それらの多くは酸化防
止剤として販売されており、一般に入手可能なものであ
る。

【０２７１】一般式（１）により表される６−ヒドロキ
シクロマン化合物（成分（ａ））と（ｂ−１）、（ｂ−
２）、（ｂ−３）および（ｂ−４）から選ばれるリン系
酸化防止剤（（成分（ｂ））とフェノール系酸化防止剤
（成分（ｃ））との割合は、成分（ａ）と成分（ｂ）と
成分（ｃ）との総量に対して、成分（ａ）が０．５重量
％〜１０重量％、成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量が９
９．５重量％〜９０重量％であり、好ましくは成分
（ａ）が１．０重量％〜１０重量％、成分（ｂ）と成分
（ｃ）との総量が９９．０重量％〜９０重量％であり、
より好ましくは成分（ａ）が１重量％〜８重量％、成分
（ｂ）と成分（ｃ）との総量が９９重量％〜９２重量％
であり、さらに好ましくは、成分（ａ）が１重量％〜
６．５重量％、成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量が９９
重量％〜９３．５重量％であり、特に好ましくは、成分
（ａ）が１．０重量％〜５．５重量％、成分（ｂ）と成
分（ｃ）との総量が９９．０重量％〜９４．５重量％で
あり、なかでも経済的観点も勘案すると、成分（ａ）が
１．０重量％〜４．５重量％、成分（ｂ）と成分（ｃ）
との総量が９９．０重量％〜９５．５重量％が最も好ま
しい。

【０２７２】一般式（１）により表される６−ヒドロキ
シクロマン化合物を上記範囲の少量で含有する本発明の
有機高分子材料用安定剤組成物を用いることにより、着
色し難く、加工安定性に優れた有機高分子材料を得るこ
とができる。

【０２７３】本発明においては、成分（ｂ）の配合量と
成分（ｃ）の配合量の重量比は、９：１〜１：９、好ま
しくは４：１〜１：４、より好ましくは１：０．５〜
１：２である。

【０２７４】成分（ｂ）と成分（ｃ）の重量比が上記範
囲である本発明の有機高分子材料用安定剤組成物を用い
ることにより、着色防止性および加工安定性の優れた有
機高分子材料を得ることができる。

【０２７５】本発明の有機高分子材料組成物中の一般式
（１）の６−ヒドロキシクロマン化合物の含有量は、有
機高分子材料組成物１００重量部に対して、０．０００
５重量部〜０．０１００重量部、好ましくは０．００１
重量部〜０．００７重量部であり、さらに好ましくは
０．００１重量部〜０．００５５重量部であり、通常
０．００１重量部〜０．００５重量部にて用いられ、さ
らに経済的観点からみて中でも好ましくは０．００１重
量部〜０．００４５重量部である。

【０２７６】本発明の有機高分子材料１００重量部に対
して、一般式（１）の６−ヒドロキシクロマン化合物と
（ｂ−１）、（ｂ−２）、（ｂ−３）および（ｂ−４）
から選ばれるリン系酸化防止剤（（成分（ｂ））とフェ
ノール系酸化防止剤との総量は、０．０１重量部〜１重
量部、好ましくは０．０２重量部〜０．２重量部であ
る。０．０１重量部〜１重量部とすることにより、着色
し難く、加工安定性に優れた有機高分子材料を得ること
ができる。

【０２７７】成分（ｂ）が（ｂ−１）である場合、本発
明の有機高分子材料組成物には、（ｂ−１）以外のリン
系酸化防止剤を、さらに配合することにより、さらに安
定化された有機高分子材料組成物を得ることができる。
このようなその他のリン系酸化防止剤としては、（ｂ−
２）、（ｂ−３）または（ｂ−４）のリン系酸化防止剤
が挙げられる。

【０２７８】成分（ｂ）が（ｂ−１）である場合の好ま
しいその他のリン系酸化防止剤としては、トリス（２，
４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト、ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３級ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチ
ルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、ビス
−［２−メチル−４，６−ビス（１，１−ジメチルエチ
ル）フェニル］エチルホスファイト、２，２’，２”−
ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テ
トラ−第３級ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’
−ジイル）ホスファイト］、２，２−エチリデン−ビス
（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）フルオロホスホナ
イト、２，１０−ジメチル−４，８−ジ第３級ブチル−
６−｛２−［３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エトキ
シ｝−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオ
キサホスホシン、ビス［２，４−ジ（１−フェニル−
１，１−ジメチルメチル）フェニル］ペンタエリスリト
ールホスファイト、（２，４，６−トリ第３級ブチルフ
ェニル）−２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパン
ジオールホスファイトが挙げられる。

【０２７９】特に好ましいその他のリン系酸化防止剤と
しては、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホ
スファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−
ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，
６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホ
スファイト、ビス−［２−メチル−４，６−ビス（１，
１−ジメチルエチル）フェニル］エチルホスファイト、
２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，
３’，５，５’−テトラ−第３級ブチル−１，１’−ビ
フェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］などが挙
げられる。

【０２８０】なかでも特に好ましいその他のリン系酸化
防止剤としては、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ニル）ホスファイトなどが挙げられる。

【０２８１】成分（ｂ）が（ｂ−２）である場合、本発
明の有機高分子材料組成物には、（ｂ−２）以外のリン
系酸化防止剤を、さらに配合することもできる。このよ
うなその他のリン系酸化防止剤としては、（ｂ−１）、
（ｂ−３）または（ｂ−４）のリン系酸化防止剤などが
挙げられる。

【０２８２】成分（ｂ）が（ｂ−２）である場合の好ま
しいその他のリン系酸化防止剤としてはテトラキス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３
級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニ
レンジホスホナイト、［（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ノキシ）ホスフィノ］ビフェニル、［（２，４−ジ第３
級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスフィノ］ビフェ
ニル、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３
級ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ビス（２，４−ジ（１−フェニル−
１，１−ジメチルメチル）フェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、（２，４，６−トリ第３級ブチル
フェニル）−２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパ
ンジオールホスファイト、２，２−メチレンビス（４，
６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホ
スファイト、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルト
リス（３，３’，５，５’−テトラ第３級ブチル−１，
１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイ
ト］、２，２−エチリデン−ビス（４，６−ジ第３級ブ
チルフェニル）フルオロホスホナイト、２，１０−ジメ
チル−４，８−ジ第３級ブチル−６−｛２−［３−（３
−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピオニルオキシ］エトキシ｝−１２Ｈ−ジベン
ゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシンなどが
挙げられる。

【０２８３】成分（ｂ）が（ｂ−３）である場合、本発
明の有機高分子材料組成物には、（ｂ−３）以外のリン
系酸化防止剤を、さらに配合することもできる。このよ
うなその他のリン系酸化防止剤としては、（ｂ−１）、
（ｂ−２）または（ｂ−４）のリン系酸化防止剤などが
挙げられる。

【０２８４】成分（ｂ）が（ｂ−３）である場合の好ま
しいその他のリン系酸化防止剤としては、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３
級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニ
レンジホスホナイト、［（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ノキシ）ホスフィノ］ビフェニル、［（２，４−ジ第３
級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスフィノ］ビフェ
ニル、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチル
フェニル）エチルホスファイト、２，２−メチレンビス
（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキ
シルホスファイト、２，２’，２”−ニトリロ［トリエ
チルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第３級ブチル
−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファ
イト］、２，２−エチリデン−ビス（４，６−ジ第３級
ブチルフェニル）フルオロホスホナイト、２，１０−ジ
メチル−４，８−ジ第３級ブチル−６−｛２−［３−
（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオニルオキシ］エトキシ｝−１２Ｈ−ジベ
ンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシンなど
が挙げられる。

【０２８５】成分（ｂ）が（ｂ−４）である場合、本発
明の有機高分子材料組成物には、（ｂ−４）以外のリン
系酸化防止剤を、さらに配合することもできる。このよ
うなその他のリン系酸化防止剤としては、（ｂ−１）、
（ｂ−２）または（ｂ−３）のリン系酸化防止剤などが
挙げられる。

【０２８６】成分（ｂ）が（ｂ−４）である場合の好ま
しいその他のリン系酸化防止剤としては、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３
級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニ
レンジホスホナイト、［（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ノキシ）ホスフィノ］ビフェニル、［（２，４−ジ第３
級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスフィノ］ビフェ
ニル、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチル
フェニル）エチルホスファイト、ビス（２，４−ジ第３
級ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
４−ジ（１−フェニル−１，１−ジメチルメチル）フェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、（２，
４，６−トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチル−２
−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイト、

【０２８７】上記のようなその他のリン系酸化防止剤を
配合する場合、成分（ｂ）のリン系酸化防止剤の総量１
重量部に対して、好ましくは０．０１〜１００重量部、
より好ましくは０．１〜１０重量部、更に好ましくは
０．２５〜４重量部の割合で配合することができる。

【０２８８】また、その他のリン系酸化防止剤をあらか
じめ、本発明有機高分子用安定剤組成物と混合し、有機
高分子に添加することもできる。

【０２８９】本発明の安定化された有機高分子材料組成
物は、さらに硫黄系酸化防止剤を配合することにより、
より安定性に優れた有機高分子材料を得ることができ
る。

【０２９０】硫黄系酸化防止剤として、特に限定されな
いが、好ましくは、ジラウリルチオジプロピオネート、
ラウリルステアリルチオジプロピオネート、ジミリスチ
ルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオ
ネート、ジトリデシルチオジプロピオネート、テトラキ
ス［（３−ラウリルチオプロピオニルオキシ）メチル］
メタン、テトラキス［（３−ステアリルチオプロピオニ
ルオキシ）メチル］メタン、ビス［２−メチル−４−
（３−ｎ−アルキル（Ｃ₁₂〜Ｃ₁₄）チオプロピオニルオ
キシ）−５−第３級ブチルフェニル］スルフィドなどが
挙げられる。

【０２９１】本発明の有機高分子材料組成物には、１種
または２種以上の硫黄系酸化防止剤を添加することがで
きる。硫黄系酸化防止剤は、有機高分子材料組成物１０
０重量部に対し、好ましくは０．００５〜５重量部、よ
り好ましくは０．０１〜１重量部の割合で配合すること
ができる。２種以上の硫黄系酸化防止剤を使用する場合
は、その総量が上記範囲となるよう添加することが好ま
しい。本発明の安定化された有機高分子材料組成物に、
さらに紫外線安定剤や光安定剤を配合することにより、
より安定性に優れた有機高分子材料を得ることができ
る。

【０２９２】紫外線吸収剤および光安定剤として、サリ
チル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリ
アゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノアク
リレート系化合物、ニッケル系化合物、またはピペリジ
ン系化合物などが挙げられる。

【０２９３】紫外線吸収剤として用いることができるサ
リチル酸系化合物として、フェニルサリチレート、ｐ−
第３級ブチルフェニルサリチレート、ｐ−オクチルフェ
ニルサリチレートなどが挙げられる。

【０２９４】紫外線吸収剤として用いることができるベ
ンゾフェノン系化合物として、２，４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチル
オキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−イソオク
チルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデ
シルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オク
タデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、ビス（５
−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトシキフェニ
ル）メタン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノン・トリハイドレート、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−ベンゾイルオキシベンゾフェノンなどの化合物
が挙げられる。

【０２９５】紫外線吸収剤として用いることができるベ
ンゾトリアゾール系化合物として、２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第３
級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメ
チルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２
−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジ
ル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル・
３−［３−第３級ブチル−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオ
ネートとポリエチレングリコールとの縮合物、２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級アミルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２−
ヒドロキシ−５−第３級オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，
６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフ
ェニル］ベンゾトリアゾールなどの化合物が挙げられ
る。

【０２９６】光安定剤として用いることができるベンゾ
エート系化合物として、ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，４−
ジ第３級ブチルフェニル・３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエートなどの化合物が挙げられる。

【０２９７】紫外線吸収剤として用いることができるシ
アノアクリレート系化合物として、エチル・２−シアノ
−３，３−ジフェニルアクリレート、オクチル・２−シ
アノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどが挙げられ
る。

【０２９８】紫外線吸収剤として用いることができるニ
ッケル系化合物として、２−エチルヘキシルアミン・ニ
ッケル、ジメチルジチオカルバミン酸ニッケル、［２，
２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）フェノラート］］−ｎ−ブチルアミン・ニッケ
ル、［２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）フェノラート］］ニッケルなどの化
合物が挙げられる。

【０２９９】光安定剤として用いることができるピペリ
ジン系化合物として、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチ
ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピぺリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロ
ネート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピぺリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカル
ボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピぺリジル）−１，２，３，４−ブタン
テトラカルボキシレート、ポリ［［６−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリアジン−
２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピぺリジル）イミノ］］、
ポリ［（６−モルホリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジ
イル）［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピぺリ
ジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］（塩化シアヌ
ル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサ
ン縮合物）、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチルジアミン
／２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−６−ク
ロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などの化合物が挙
げられる。

【０３００】紫外線吸収剤および光安定剤として用いる
ことができる好ましい化合物として、２−ヒドロキシ−
４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２−（２−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ポリ
［［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキ
サメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）イミノ］］（塩化シアヌル／第３級オクチル
アミン／１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン縮合物）などが挙げ
られる。

【０３０１】本発明の有機高分子材料組成物には、１種
または２種以上の紫外線吸収剤または光安定剤を添加す
ることができる。紫外線吸収剤または光安定剤は、有機
高分子材料組成物１００重量部に対し、好ましくは０．
００５〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部
の割合で配合することができる。２種以上の紫外線吸収
剤または光安定剤を使用する場合は、その総量が上記範
囲となるよう添加することが好ましい。

【０３０２】さらに必要に応じて、本発明の安定化され
た有機高分子材料組成物の性能を著しく損なわない程度
の他の添加物、例えば、ハイドロタルサイト類、ステア
リン酸カルシウムなどの金属石鹸、ヒドラジン系化合物
などの重金属不活性化剤、モノアルキル錫トリス（チオ
グリコール酸オクチルエステル）、ジアルキル錫トリス
（チオグリコール酸オクチルエステル）、モノアルキル
錫トリス（マレイン酸モノアルキルエステル）またはジ
アルキル錫トリス（マレイン酸モノアルキルエステル）
などの有機錫安定剤、エポキシ化大豆油またはエポキシ
オクチルステアレートなどのエポキシ化合物、各種の有
機顔料、リン酸エステルなどの難燃剤、カチオン系また
はアニオン系界面活性剤などの帯電防止剤、脂肪族アミ
ドまたは脂肪酸の低級アルコールエステル類などの滑
剤、アクリル系高分子加工助剤、ジ−２−エチルヘキシ
ルフタレートまたはジ−２−エチルヘキシルアジペート
などの可塑剤、酸化アルミニウムなどの充填剤、重炭酸
ナトリウムまたはアゾジカルボンアミドなどの発泡剤な
どの１種以上と併用することもできる。

【０３０３】また、本発明の安定化された有機高分子材
料組成物に、必要に応じて、結晶核剤、透明化剤などと
併用することもできる。

【０３０４】結晶核剤、透明化剤として、ビス（ｐ−第
３級ブチル安息香酸）ヒドロキシアルミニウム、ビス
（４−第３級ブチルフェニル）ホスフェートナトリウ
ム、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチル
フェニル）ホスフェートナトリウム、２，２’−メチレ
ンビス （４，６−ジ第３級ブチルフェニル）ホスフェ
ートヒドロキシアルミニウム ２，２’−メチレンビス （４，６−ジ第３級ブチルフ
ェニル）ホスフェートヒドロキシアルミニウムとステア
リン酸リチウムとの１：１の組成物、ジベンジリデンソ
ルビトール、ビス（ｐ−メチルベンジリデン）ソルビト
ール、ビス（ｐ−エチルベンジリデン）ソルビトール、
ビス（ｐ−クロルベンジリデン）ソルビトールなどが挙
げられる。

【０３０５】本発明に係る有機高分子材料組成物を調製
するには、本発明の６−ヒドロキシクロマン化合物また
はその化合物を含む混合物を、必要に応じてフェノール
系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、
紫外線吸収剤、光安定剤、あるいはその他添加剤とを、
それぞれ所定量秤量し、有機高分子に混合すればよく、
混合した後に混練してもよく、押し出しなどの工程を経
ることもできる。

【０３０６】混合する際には、有機高分子に添加物を混
合する際に従来から使用されている混合機、例えば、ボ
ールミル、ペブルミル、タンブルミキサー、チェンジカ
ンミキサー、スーパーミキサー（ヘンシェルミキサー）
などが挙げられ、混練する際には、有機高分子に添加物
を混練する際に従来から使用されている混練機、例え
ば、ミキシングロール、バンバリーミキサー、Σ羽根型
混合機、高速二軸連続ミキサー、押出機型混練機などが
挙げられる。

【０３０７】本発明に係る有機高分子材料組成物は、従
来から知られている有機高分子材料の各種成形法、例え
ば、射出成形法、押出成形法、カレンダー成形法、吹込
み成形法、圧縮成形法などによって、目的の製品に成形
することができる。製品は特に制限がなく、屋内で使用
されるもの、屋外で使用されるもののいずれでもよく、
具体的には、電気製品の部品、電子製品の部品、農業機
械の部品、農業用製品、水産機械の部品、水産用製品、
自動車の部品、日用品、雑貨品などが挙げられる。さら
に具体的には、重質油高温輸送用鋼管の被覆層、温熱パ
イプ（給湯用、床下暖房用など）、ジャー、ポット、洗
濯機などの家庭電器製品の部品などが挙げられる。

【０３０８】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもの
ではない。

【０３０９】流動性の尺度として、有機高分子材料の成
形加工性を予想したり、規格表示や品質管理を行なう目
的で、メルトインデックス（以下、ＭＩともいう。）
が、工業的に広く用いられている。このメルトインデッ
クス（ＭＩ）は、一定温度で溶融した有機高分子材料を
規定の長さと径の円形ダイから一定荷重で押し出すと
き、１０分間の流量を重量（ｇ単位）で表した数値であ
り、溶融粘度の指標として使われている。高分子重合体
のうちポリプロピレンの場合には、その数値が小さいほ
ど加工安定性がよく、大きいほど加工安定性が悪いと考
えられ、また、ＭＩを繰り返し測定することにより、そ
の数値の変動の少ないものがＭＩ保持効果が大きく、加
工安定性に優れているとされている。

【０３１０】また、添加剤を有機高分子材料に練り込ん
だ場合、変色度の尺度として黄色度（ＹＩともいう。）
も一般的に広く用いられている。黄色度（ＹＩ）はカラ
ーメーターにより測定し、数値の大きいほど変色度また
は着色度が大きいことを示し、小さいほど加工時の着色
が少なく優れているとされている。

【０３１１】また高分子材料の流動性の尺度としては、
ＭＩを測定することが一般的であるが、ポリエチレン樹
脂のような熱履歴により分子架橋と分子切断の両方を起
こして劣化が進行していく材料では、単にＭＩだけの評
価では劣化程度の把握は困難である。そのためラボプラ
ストミルを使用し、混練中のトルク変化を追跡してトル
クが上昇し始めるまでの時間（以下、トルク上昇開始時
間という）を求め、この数値が大きいほど熱安定性が良
好であるとされている。

【０３１２】さらに、安定剤組成物の取り扱いやすさを
判定するために４０℃におけるハンドリング性について
試験した。ハンドリング性の試験方法は、次の通りであ
る。所定の酸化防止剤を秤量し、乳鉢にて充分混合した
組成物を製造する。その組成物をポリエチレン製の袋に
入れ、ヒートシールした後、４０℃の恒温槽に４週間保
存する。その後、恒温槽から取り出し、冷却後、手で触
ってベトツキの有無を確認することにより、安定剤のハ
ンドリング性を評価する。

【０３１３】合成例１ ２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシク
ロマンの合成例 ５０ｍｌの４頚コルベンに、２，３，５−トリメチルハ
イドロキノン５．０ｇ、塩化亜鉛０．８ｇ、酢酸０．３
５ｍｌ、メチルエチルケトン４ｍｌ、トルエン１５ｍｌ
を仕込み加熱した。１００℃のとき、イソプレン２．５
ｇをトルエン５ｍｌに加えた溶液を、還流下に、２時間
で滴下した。滴下後、更に４時間還流を続け後、室温ま
で冷却した。反応物を分液ロートに移し５０ｍｌの水で
３回洗浄後、溶媒を留去し、６．５ｇのオイル状物質を
得た。これを石油エーテル５０ｍｌで再結晶し、融点９
４〜９５℃の２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−
ヒドロキシクロマンの針状結晶を２．５ｇ得た。

【０３１４】 元素分析値 炭素原子 水素原子 理論値 ７６．３３％ ９．１５％ 実験値 ７６．３４％ ９．１０％

【０３１５】実施例１ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表１
記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダイ
ス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷し
た後に、切断しペレットを得た。これを４回繰り返し
た。加工安定性を見るために各回毎に押し出したペレッ
トをＪＩＳ−Ｋ７２１０に準じてメルトインデックス
（ＭＩ）を測定した。測定温度は２３０℃、測定荷重は
２．１６ｋｇｆとした。また、各回毎に押し出したペレ
ットについてＪＩＳ−Ｋ７１０３に準じて黄色度（Ｙ
Ｉ）を測定した。

【０３１６】配合処方および表１に記載した記号につい
て説明する。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン（合成例１により合成したものを用い
た。） ＭＩ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ＭＩ４欄：４回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ＹＩ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＹＩ値
を示した。 ＹＩ４欄：４回目に得たペレットにより測定したＹＩ値
を示した。

【０３１７】配合処方は表１に示したように、ポリプロ
ピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステア
リン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防止
剤（Ｐ１０１）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）
と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との総量
を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないかまた
は０．０００２重量部〜０．０１５０重量部の９種の配
合量とし、リン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤
の配合量が同量となるよう「（０．１００重量部−（Ｓ
−１２配合量））÷２」により計算した値（重量部）と
したものである。

【０３１８】表１に示した結果から、Ｐ１０１、Ｔ−Ｔ
Ｔ、およびＳ−１２の配合量の合計に対するＳ−１２の
配合量が、１５重量％（配合１０）ではＹＩ値が著しく
増加し極めて変色が激しく、１０重量％以上（配合９、
１０）を添加してもさらなるＭＩ値の向上効果はほとん
どなく、０．５重量％（配合３）ではＭＩ値、ＹＩ値と
も僅かに効力は認められるが効果が薄く、０．２重量％
（配合２）ではＭＩ値、ＹＩ値ともほとんど効力が認め
られないことがわかる。

【０３１９】したがって、Ｐ１０１、Ｔ−ＴＴ、および
Ｓ−１２の配合量の合計に対するＳ−１２の配合量が、
０．５重量％〜１０重量％（配合３、４、５、６、７、
８、９）、好ましくは１．０重量％〜８．０重量％（配
合４、５、６、７、８）、より好ましくは１重量％〜
５．５重量％（配合４、５、６）、更に好ましくは１重
量％〜４．５重量％（配合４、５）の範囲内で、着色し
難く、加工時の安定性を顕著に改良することが認められ
た。

【０３２０】

【表１】

【０３２１】実施例２ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）を測定した。配合処方および表２に記載した記号に
ついて説明する。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン ＭＩ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ＭＩ４欄：４回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ×：樹脂が劣化しておりストランド押し出し後、ペレッ
トを得ることができなかったことを示す。

【０３２２】配合処方は表２に示したように、ポリプロ
ピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステア
リン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防止
剤（Ｐ１０１）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）
と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との総量
を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないかまた
は０．００４５重量部配合し、リン系酸化防止剤とフェ
ノール系酸化防止剤の重量比が０：１、１：９、２：
８、１：１、８：２、９：１、および１：０となるよう
Ｐ１０１の配合量とＴ−ＴＴの配合量を計算した値（重
量部）とした。

【０３２３】表２に示した結果から、Ｐ１０１とＴ−Ｔ
Ｔの配合比率が９：１〜１：９の場合、Ｓ−１２を配合
した組成物（配合３、５、７、９、１１）は、Ｓ−１２
を配合しない組成物（配合４、６、８、１０、１２）と
各々比較して併用効果が認められた。また、特に、８：
２〜２：８の配合比率において、より顕著にその効果が
あることが認められた。なお、リン系酸化防止剤を配合
しない場合（配合１、２）とフェノール系酸化防止剤を
配合しない場合（配合１３、１４）を比較例として記載
した。

【０３２４】

【表２】

【０３２５】実施例３ 線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）の加工時熱安定
性を評価するために、以下の方法でトルク上昇開始時間
を測定した。ビーカー中に表３記載の配合物を精秤混合
し、ラボプラストミル（東洋精機製作所製５０Ｃ−１５
０型）を用いて２１０℃、６０ｒｐｍの条件で混合（ミ
キシング）を行い、トルク上昇開始時間を求めた。

【０３２６】配合処方および表３に記載した記号につい
て説明する。 ＬＬＤＰＥ：線状低密度ポリエチレン Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） ＰＥＰＱ：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（クラリ
アント株式会社製、商品名：「サンドスタブＰＥＰ
Ｑ」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン

【０３２７】配合処方は表３に示したように、線状低密
度ポリエチレンを９９．８２５重量部、ステアリン酸カ
ルシウムを０．０７５重量部、６−ヒドロキシクロマン
化合物（Ｓ−１２）を配合しないかまたは０．００３重
量部配合し、リン系酸化防止剤（Ｐ１０１またはＰＥＰ
Ｑ）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＳＳ）とを同量と
なるよう「（０．１００重量部−（Ｓ−１２配合量））
÷２」により計算した値（重量部）としたものである。

【０３２８】表３に示した結果から、Ｓ−１２を配合し
た本発明組成物（配合１、３）は、Ｓ−１２を配合しな
い比較例組成物（配合２、４）と比較して、トルク上昇
開始時間が３倍以上となることが認められた。

【０３２９】

【表３】

【０３３０】実施例４ 線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）について加工時
熱安定性を見るために、実施例３と同様な方法によりト
ルク上昇開始時間を測定した。

【０３３１】配合処方および表４に記載した記号につい
て説明する。 ＬＬＤＰＥ：線状低密度ポリエチレン Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト、（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：
「ＧＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１４：ビタミンＥ(東京化成工業株式会社製 試
薬）

【０３３２】配合処方は表４に示したように、線状低密
度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を９９．９００重量部、
６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１４）を配合しな
いか、０．００１重量部配合するか、０．００５重量部
配合し、リン系酸化防止剤（Ｐ１０１）とフェノール系
酸化防止剤（Ｔ−ＳＳ）とを同量となるよう「（０．１
００重量部−（Ｓ−１４配合量））÷２」により計算し
た値（重量部）としたものである。

【０３３３】表４に示した結果から明らかなように、リ
ン系酸化防止剤（Ｐ１０１）、フェノール系酸化防止剤
（Ｔ−ＳＳ）、およびビタミンＥ（Ｓ−１４）の総量に
対してビタミンＥ（Ｓ−１４）を１重量％、５重量％配
合した本発明組成物（配合２、３）は、ビタミンＥ（Ｓ
−１４）を含有しない比較例組成物（配合１）に比較し
て極めて良好な加工時熱安定性を示すことが認められ
た。

【０３３４】

【表４】

【０３３５】実施例５ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）を測定した。ただし、繰り返し回数は３回とした。

【０３３６】配合処方および表５に記載した記号につい
て説明する。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル) −５，７
−ジ第３級ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（特
開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって合成
した。） ＭＩ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ＭＩ２欄：２回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ＭＩ３欄：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ×：樹脂が劣化しておりストランド押し出し後、ペレッ
トを得ることができなかったことを示す。

【０３３７】配合処方は表５に示したように、ポリプロ
ピレン（ホモポリマー）を９９．８００重量部、ステア
リン酸カルシウムを０．１００重量部、６−ヒドロキシ
クロマン化合物（Ｓ−１２）を配合しないかまたは０．
００２重量部配合し、リン系酸化防止剤（Ｐ１０１）と
フェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）の重量比が２：１
となるようＰ１０１の配合量とＴ−ＴＴの配合量を計算
した値（重量部）とした。また、比較例として、６−ヒ
ドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）の替わりにベンゾ
フラノン化合物（Ｒ−１０）とした配合についても試験
した。

【０３３８】表５に示した結果から、６−ヒドロキシク
ロマン化合物（Ｓ−１２）を配合した本発明組成物（配
合１）は、ベンゾフラノン化合物（Ｒ−１０）を配合し
た比較例組成物（配合２）に比較して、加工安定性が優
れている。また、６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−
１２）を配合した本発明組成物（配合１）は、６−ヒド
ロキシクロマン化合物を配合しない比較例組成物（配合
３）に比べ、加工安定性が顕著に改良されることが認め
られた。

【０３３９】

【表５】

【０３４０】実施例６ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）を測定した。ただし繰り返し回数は３回とした。

【０３４１】配合処方および表６に記載した記号につい
て説明する。 ＰＥＰＱ：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（クラリ
アント社製、商品名：「サンドスタブＰ−ＥＰＱ」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｙ３１４：トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート（吉富ファインケミ
カル株式会社製、商品名：「ヨシノックス３１４」） １３３０：１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリ
ス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「ヨシノックス１３３０」） Ｓ−２：２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−
６−ヒドロキシクロマン その他の記号は実施例５に準じる。

【０３４２】配合処方は表６に示した。表６に示した結
果から、下記に示す比較において、６−ヒドロキシクロ
マン化合物（Ｓ−２）を含有する本発明組成物（配合１
〜３）は、６−ヒドロキシクロマン化合物を含有しない
比較例組成物（配合４〜６）に比べ繰り返し押し出しに
おける加工安定性が極めて良好であることが認められ
た。 比較（Ａ）：本発明組成物配合１と比較例組成物配合４ 比較（Ｂ）：本発明組成物配合２と比較例組成物配合５ 比較（Ｃ）：本発明組成物配合３と比較例組成物配合６

【０３４３】

【表６】

【０３４４】実施例７ ポリエチレン（線状ポリエチレン）について加工時熱安
定性を見るために、実施例３と同様な方法によりトルク
上昇開始時間を測定した。

【０３４５】配合処方および表７に記載した記号につい
て説明する。 ＰＥ：ポリエチレン（線状ポリエチレン） Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−２：２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−
６−ヒドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ−第３級−ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン
（特開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって
合成した。）

【０３４６】配合処方は表７に示した。表７に示した結
果から、６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−２）を配
合した本発明組成物（配合１）は、同量のベンゾフラノ
ン化合物（Ｒ−１０）を配合した場合（配合２）や６−
ヒドロキシクロマン化合物を配合しない場合（配合３）
に比べてトルク上昇開始時間が長く、良好な加工時熱安
定性を示すことがわかる。

【０３４７】

【表７】

【０３４８】実施例８ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）を測定した。ただし、繰り返し回数は５回とした。

【０３４９】配合処方および表８に記載した記号につい
て説明する。 Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） ＰＥＰＱ：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（クラリ
アント社製、商品名：「サンドスタブＰ−ＥＰＱ」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン ＭＩ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ＭＩ３欄：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 ＭＩ５欄：５回目に得たペレットにより測定したＭＩ値
を示した。 その他の記号は実施例１に準じる。

【０３５０】配合処方は表８に示したように、ポリプロ
ピレン（ホモポリマー）を９９．８００重量部、ステア
リン酸カルシウムを０．１００重量部、６−ヒドロキシ
クロマン化合物（Ｓ−１２）を配合しないかまたは０．
００２５重量部配合し、リン系酸化防止剤（Ｐ１０１）
の配合量がフェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）とＳ−
１２の合計の配合量と同量であり、酸化防止剤の総量が
０．１００重量部となるようにした。

【０３５１】表８に示した結果から、６−ヒドロキシク
ロマン化合物（Ｓ−１２）を含有する本発明組成物（配
合１、２）は、６−ヒドロキシクロマン化合物を含有し
ない比較例組成物（配合３、４）に比べ繰り返し押し出
しにおける加工安定性が良好であることがわかる。 比較（Ａ）：本発明組成物配合１と比較例組成物配合３ 比較（Ｂ）：本発明組成物配合２と比較例組成物配合４

【０３５２】

【表８】

【０３５３】実施例９ フェノール系酸化防止剤の配合量とリン系酸化防止剤の
配合量との重量比を変えて加工時熱安定性を評価した。
ＬＬＤＰＥについて実施例３と同様な方法によりトルク
上昇開始時間を測定した。

【０３５４】配合処方および表９に記載した記号につい
て説明する。 ＬＬＤＰＥ：線状低密度ポリエチレン Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン

【０３５５】配合処方は表９に示したように、ＬＬＤＰ
Ｅを１００重量部、リン系酸化防止剤（Ｐ１０１）とフ
ェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＳＳ）と６−ヒドロキシク
ロマン化合物（Ｓ−１２）との総量を０．１９９５重量
部とし、Ｓ−１２を配合しないかまたは０．００９５重
量部配合し、リン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止
剤の重量比が１：２、１：１、および２：１となるよう
Ｐ１０１の配合量とＴ−ＳＳの配合量を計算した値（重
量部）とした。

【０３５６】表９に示した結果から、６−ヒドロキシク
ロマン化合物を含有する本発明組成物（配合１〜３）
は、６−ヒドロキシクロマン化合物を含有しない組成物
（配合４〜６）に比べて、トルク上昇開始時間が約３倍
となり、加工時熱安定性に優れることがわかる。

【０３５７】

【表９】

【０３５８】実施例１０ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）および黄色度（ＹＩ）を測定した。

【０３５９】配合処方および表１０に記載した記号につ
いて説明する。 Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス−２０２」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例１に準じる。

【０３６０】配合処方は表１０に示したように、ポリプ
ロピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステ
アリン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防
止剤（Ｔ２０２）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−Ｔ
Ｔ）と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との
総量を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないか
または０．０００２重量部〜０．０１５０重量部の９種
の配合量とし、リン系酸化防止剤とフェノール系酸化防
止剤の配合量が同量となるよう「（０．１００重量部−
（Ｓ−１２配合量））÷２」により計算した値（重量
部）としたものである。

【０３６１】表１０の結果から、以下のことが判明し
た。 （１）ＭＩに関しては、Ｓ−１２、Ｔ−ＴＴ、およびＴ
２０２の総量に対するＳ−１２の配合量を、１０重量％
以上にしてもさらなるＭＩの向上効果はほとんどなく、
０．５重量％では効力は認められるが効果が薄く、０．
２重量％ではほとんど効力がみられない。またＹＩに関
しては、１５重量％では極めて変色が激しいことがわか
る。（２）したがって、Ｓ−１２の配合量を０．５〜１
０重量％にすることにより着色し難く、加工時の安定性
を顕著に改良することがわかる。

【０３６２】

【表１０】

【０３６３】実施例１１ ポリプロピレンに対する加工安定性を見るために実施例
１と同様な方法によりメルトインデックス（ＭＩ）を測
定した。

【０３６４】配合処方および表１１に記載した記号につ
いて説明する。 Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例１および実施例２に準じる。

【０３６５】配合処方は表１１に示したように、ポリプ
ロピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステ
アリン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防
止剤（Ｔ２０２）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−Ｔ
Ｔ）と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との
総量を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないか
または０．００４５重量部配合し、リン系酸化防止剤と
フェノール系酸化防止剤の重量比が０：１、１：９、
２：８、１：１、８：２、９：１、および１：０となる
ようＴ２０２の配合量とＴ−ＴＴの配合量を計算した値
（重量部）とした。

【０３６６】表１１の結果から、以下のことが判明し
た。本発明のＳ−１２を配合した組成物では、Ｔ２０２
およびＴ−ＴＴの重量比が９：１〜１：９において併用
効果が確認でき、４：１〜１：４の重量比において、よ
り顕著にその効果が確認できる。

【０３６７】

【表１１】

【０３６８】実施例１２ 線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）の加工時熱安定
性を評価するために、実施例３と同様な方法によりトル
ク上昇開始時間を測定した。

【０３６９】配合処方および表１２に記載した記号につ
いて説明する。 Ｔ２０２： トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、
商品名：「トミホス２０２」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例３に準じる。

【０３７０】配合処方は表１２に示したように、線状低
密度ポリエチレンを９９．８２５重量部、ステアリン酸
カルシウムを０．０７５重量部、６−ヒドロキシクロマ
ン化合物（Ｓ−１２）を配合しないかまたは０．００３
重量部配合し、リン系酸化防止剤（Ｔ２０２）とフェノ
ール系酸化防止剤（Ｔ−ＳＳ）とを同量となるよう
「（０．１００重量部−（Ｓ−１２配合量））÷２」に
より計算した値（重量部）としたものである。

【０３７１】表１２の結果から、以下のことが判明し
た。Ｔ−ＳＳとＴ２０２との併用系にＳ−１２を併用す
る本発明組成物は、加工時熱安定性が顕著に改良される
ことがわかる。

【０３７２】

【表１２】

【０３７３】実施例１３ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）を測定した。ただし、ダイス設定温度は２６０℃と
した。また、実施例１と同様な方法により黄色度（Ｙ
Ｉ）を測定した。

【０３７４】配合処方および表１３に記載した記号につ
いて説明する。 Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス−２０２」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｓ−１４：ビタミンＥ(東京化成工業株式会社製 試
薬） その他の記号は実施例１および実施例２に準じる。

【０３７５】配合処方は表１３に示した。表１３の結果
から、以下のことが判明した。リン系酸化防止剤とフェ
ノール系酸化防止剤との併用処方に加工安定剤の相乗化
剤としてＳ−１２に代表されるクロマン化合物を極めて
少量配合することにより着色し難く、加工時の安定性を
顕著に改良することがわかる。

【０３７６】

【表１３】

【０３７７】実施例１４ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）および黄色度（ＹＩ）を測定した。

【０３７８】配合処方および表１４に記載した記号につ
いて説明する。 Ｕ６２６：ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトール−ジ−ホスファイト（ＧＥ Ｓｐｅ
ｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製、商品名：「ＵＬ
ＴＲＡＮＯＸ６２６」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例１に準じる。

【０３７９】配合処方は表１４に示したように、ポリプ
ロピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステ
アリン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防
止剤（Ｕ６２６）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−Ｔ
Ｔ）と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との
総量を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないか
または０．０００２重量部〜０．０１５０重量部の９種
の配合量とし、リン系酸化防止剤とフェノール系酸化防
止剤の配合量が同量となるよう「（０．１００重量部−
（Ｓ−１２配合量））÷２」により計算した値（重量
部）としたものである。

【０３８０】表１４の結果から、以下のことが判明し
た。 （１）ＭＩに関しては、Ｓ−１２、Ｔ−ＴＴ、およびＵ
６２６の総量に対するＳ−１２の配合量を、１０重量％
以上にしてもさらなるＭＩの向上効果はほとんどなく、
０．５重量％では効力は認められるが効果が薄く、０．
２重量％ではほとんど効力がみられない。またＹＩに関
しては、１５重量％では極めて変色が激しいことがわか
る。（２）したがって、Ｓ−１２の配合量を０．５〜１
０重量％にすることにより着色し難く、加工時の安定性
を顕著に改良することがわかる。

【０３８１】

【表１４】

【０３８２】実施例１５ ポリプロピレンに対する加工安定性を見るために実施例
１と同様な方法によりメルトインデックス（ＭＩ）を測
定した。

【０３８３】配合処方および表１５に記載した記号につ
いて説明する。 Ｕ６２６：ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトール−ジ−ホスファイト（ＧＥ Ｓｐｅ
ｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製、商品名：「ＵＬ
ＴＲＡＮＯＸ６２６」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例１および実施例２に準じる。

【０３８４】配合処方は表１５に示したように、ポリプ
ロピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステ
アリン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防
止剤（Ｕ６２６）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−Ｔ
Ｔ）と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との
総量を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないか
または０．００４５重量部配合し、リン系酸化防止剤と
フェノール系酸化防止剤の重量比が０：１、１：９、
２：８、１：１、８：２、９：１、および１：０となる
ようＵ６２６の配合量とＴ−ＴＴの配合量を計算した値
（重量部）とした。

【０３８５】表１５の結果から、以下のことが判明し
た。本発明のＳ−１２を配合した組成物では、Ｕ６２６
およびＴ−ＴＴの重量比が９：１〜１：９において併用
効果が確認でき、４：１〜１：４の重量比において、よ
り顕著にその効果が確認できる。

【０３８６】

【表１５】

【０３８７】実施例１６ 線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）の加工時熱安定
性を評価するために、実施例３と同様な方法によりトル
ク上昇開始時間を測定した。

【０３８８】配合処方および表１６に記載した記号につ
いて説明する。 Ｕ６２６：ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトール−ジ−ホスファイト（ＧＥ Ｓｐｅ
ｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製、商品名：「ＵＬ
ＴＲＡＮＯＸ６２６」） Ｐ３６：ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト（旭
電化工業株式会社製、商品名：「ＰＥＰ−３６」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン

【０３８９】その他の記号は実施例３に準じる。配合処
方は表１６に示したように、線状低密度ポリエチレンを
９９．８２５重量部、ステアリン酸カルシウムを０．０
７５重量部、６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１
２）を配合しないかまたは０．００３重量部配合し、リ
ン系酸化防止剤（Ｕ６２６またはＰ３６）とフェノール
系酸化防止剤（Ｔ−ＳＳ）とを同量となるよう「（０．
１００重量部−（Ｓ−１２配合量））÷２」により計算
した値（重量部）としたものである。

【０３９０】表１６の結果から、以下のことが判明し
た。Ｔ−ＳＳとＵ６２６との併用系、またはＴ−ＳＳと
Ｐ３６との併用系に、Ｓ−１２を併用する本発明組成物
は、加工時熱安定性が顕著に改良されることがわかる。

【０３９１】

【表１６】

【０３９２】実施例１７ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）を測定した。ただし、ダイス設定温度は２６０℃と
した。また、実施例１と同様な方法により黄色度（Ｙ
Ｉ）を測定した。

【０３９３】配合処方および表１７に記載した記号につ
いて説明する。 Ｕ６２６：ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトール−ジ−ホスファイト（ＧＥ Ｓｐｅ
ｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製、商品名：「ＵＬ
ＴＲＡＮＯＸ６２６」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｙ−ＢＢ：４，４−ブチリデンビス（３−メチル−６−
第三級ブチルフェノール）（吉富ファインケミカル株式
会社製、商品名：「ヨシノックスＢＢ」） ＹＢＨＴ：２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノ
ール）（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：
「ヨシノックスＢＨＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｓ−１４：ビタミンＥ（東京化成工業株式会社 試薬） その他の記号は実施例１に準じる。

【０３９４】配合処方は表１７に示した。表１７の結果
から、以下のことが判明した。リン系酸化防止剤とフェ
ノール系酸化防止剤との併用処方に加工安定剤の相乗化
剤としてＳ−１２に代表される６−ヒドロキシクロマン
化合物を極めて少量配合することにより着色し難く、加
工時の安定性を顕著に改良することがわかる。

【０３９５】

【表１７】

【０３９６】実施例１８ 実施例１と同様な方法によりメルトインデックス（Ｍ
Ｉ）および黄色度（ＹＩ）を測定した。

【０３９７】配合処方および表１８に記載した記号につ
いて説明する。 ＨＰ１０：２，２−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブ
チルフェニル）オクチル−ホスファイト（旭電化工業株
式界社製、商品名：「アデカスタブＨＰ−１０」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例１に準じる。

【０３９８】配合処方は表１８に示したように、ポリプ
ロピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステ
アリン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防
止剤（ＨＰ１０）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−Ｔ
Ｔ）と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との
総量を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないか
または０．０００２重量部〜０．０１５０重量部の９種
の配合量とし、リン系酸化防止剤とフェノール系酸化防
止剤の配合量が同量となるよう「（０．１００重量部−
（Ｓ−１２配合量））÷２」により計算した値（重量
部）としたものである。

【０３９９】表１８の結果から、以下のことが判明し
た。 （１）ＭＩに関しては、Ｓ−１２、Ｔ−ＴＴ、およびＨ
Ｐ１０の総量に対するＳ−１２の配合量を、１０重量％
以上にしてもさらなるＭＩの向上効果はほとんどなく、
０．５重量％では効力は認められるが効果が薄く、０．
２重量％ではほとんど効力がみられない。またＹＩに関
しては、１５重量％では極めて変色が激しいことがわか
る。（２）したがって、Ｓ−１２の配合量を０．５〜１
０重量％にすることにより着色し難く、加工時の安定性
を顕著に改良することがわかる。

【０４００】

【表１８】

【０４０１】実施例１９ ポリプロピレンに対する加工安定性を見るために実施例
１と同様な方法によりメルトインデックス（ＭＩ）を測
定した。配合処方および表１９に記載した記号について
説明する。 ＨＰ１０：２，２−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブ
チルフェニル）オクチル−ホスファイト（旭電化工業株
式界社製、商品名：「アデカスタブＨＰ−１０」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例１および実施例２に準じる。

【０４０２】配合処方は表１９に示したように、ポリプ
ロピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステ
アリン酸カルシウムを０．０７５重量部、リン系酸化防
止剤（ＨＰ１０）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−Ｔ
Ｔ）と６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）との
総量を０．１００重量部とし、Ｓ−１２を配合しないか
または０．００４５重量部配合し、リン系酸化防止剤と
フェノール系酸化防止剤の重量比が０：１、１：９、
２：８、１：１、８：２、９：１、および１：０となる
ようＨＰ１０の配合量とＴ−ＴＴの配合量を計算した値
（重量部）とした。

【０４０３】表１９の結果から、以下のことが判明し
た。本発明のＳ−１２を配合した組成物では、ＨＰ１０
およびＴ−ＴＴの重量比が９：１〜１：９において併用
効果が確認でき、４：１〜１：４の重量比において、よ
り顕著にその効果が確認できる。

【０４０４】

【表１９】

【０４０５】実施例２０ 線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）の加工時熱安定
性を評価するために、実施例３と同様な方法によりトル
ク上昇開始時間を測定した。

【０４０６】配合処方および表２０に記載した記号につ
いて説明する。 ＨＰ１０：２，２−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブ
チルフェニル）オクチル−ホスファイト（旭電化工業株
式界社製、商品名：「アデカスタブＨＰ−１０」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例３に準じる。

【０４０７】配合処方は表２０に示したように、線状低
密度ポリエチレンを９９．８２５重量部、ステアリン酸
カルシウムを０．０７５重量部、６−ヒドロキシクロマ
ン化合物（Ｓ−１２）を配合しないかまたは０．００３
重量部配合し、リン系酸化防止剤（ＨＰ１０）とフェノ
ール系酸化防止剤（Ｔ−ＳＳ）とを同量となるよう
「（０．１００重量部−（Ｓ−１２配合量））÷２」に
より計算した値（重量部）としたものである。

【０４０８】表２０の結果から、以下のことが判明し
た。Ｔ−ＳＳとＨＰ１０との併用系に、Ｓ−１２を併用
する本発明組成物は、加工時熱安定性が顕著に改良され
ることがわかる。

【０４０９】

【表２０】

【０４１０】実施例２１ この実施例では、少量の６−ヒドロキシクロマン化合物
を添加することにより、リン系酸化防止剤およびフェノ
ール系酸化防止剤の配合量を減らすことができ、より少
ない使用量の酸化防止剤で同等の安定性向上効果が得ら
れることを示す。実施例１と同様な方法によりメルトイ
ンデックス（ＭＩ）および黄色度（ＹＩ）を測定した。
ただし、繰り返し回数は３回とした。

【０４１１】配合処方および表２１に記載した記号につ
いて説明する。 Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス−２０２」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商 品名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン ＹＩ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＹＩ値
を示した。 ＹＩ２欄：２回目に得たペレットにより測定したＹＩ値
を示した。 ＹＩ３欄：３回目に得たペレットにより測定したＹＩ値
を示した。 その他の記号は実施例５に準じる。

【０４１２】配合処方は表２１に示した。リン系酸化防
止剤（Ｔ２０２）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−Ｔ
Ｔ）の総量を０．１００重量部（配合３，９）または
０．０６０重量部（配合６）とした。配合１、４、７
は、リン系酸化防止剤（Ｔ２０２）とフェノール系酸化
防止剤（Ｔ−ＴＴ）との総量を上記の配合３、６、９と
同様とし、０．１００重量部とし、その一部を６−ヒド
ロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）に替えた。配合２、
５、８は、６−ヒドロキシクロマン化合物を添加せず、
リン系酸化防止剤（Ｔ２０２）とフェノール系酸化防止
剤（Ｔ−ＴＴ）を配合３、６、９の場合と比較して１．
５倍添加した。各々について、リン系酸化防止剤とフェ
ノール系酸化防止剤の比率を１：１、２：１、１：２と
変化させた。

【０４１３】表２１に示した結果から、酸化防止剤の配
合量がともに０．１００重量部である「配合３と配合
１」、「配合６と配合４」、「配合９と配合７」を比較
すると、いずれも６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−
１２）を含有する本発明有機高分子材料用安定剤組成物
を用いた場合（配合１、４、７）が６―ヒドロキシクロ
マン化合物を配合しない場合（配合３、６、９）と比較
して顕著な効果を示している。

【０４１４】また、「配合３に添加した酸化防止剤の量
の１．５倍重量を配合した配合２」と、「配合３に添加
した酸化防止剤の量と同量を配合しその一部を６−ヒド
ロキシクロマン化合物とした配合１」を比較すると、６
−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）を含有する本
発明の安定剤組成物を用いた場合（配合１）は、６−ヒ
ドロキシクロマン化合物を配合せず１．５倍重量の酸化
防止剤を配合した場合（配合２）と比較して同等の効果
かあるいは若干良好な効果を示している。「配合５と配
合４」、および「配合８と配合７」の比較においても同
様の効果が認められた。

【０４１５】このことから、少量の６−ヒドロキシクロ
マン化合物を添加することにより、リン系酸化防止剤と
フェノール系酸化防止剤の配合量を増加した場合と同等
またはそれ以上の安定性向上効果が得られることがわか
る。これにより、有機高分子材料に添加する酸化防止剤
の量を減らすことができる。

【０４１６】

【表２１】

【０４１７】実施例２２ この実施例では、少量の６−ヒドロキシクロマン化合物
を添加することにより、リン系酸化防止剤およびフェノ
ール系酸化防止剤の配合量を減らすことができ、より少
ない使用量の酸化防止剤で同等の安定性向上効果が得ら
れることを示す。実施例１と同様な方法によりメルトイ
ンデックス（ＭＩ）を測定した。ただし、繰り返し回数
は３回とした。

【０４１８】配合処方および表２２に記載した記号につ
いて説明する。 ＰＥＰＱ：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（クラリ
アント株式会社製、商品名：「サンドスタブＰＥＰ
Ｑ」) Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例５に準じる。

【０４１９】配合処方は表２２に示した。リン系酸化防
止剤としてＰＥＰＱを使用した以外は、実施例２１と同
様の配合処方とした。

【０４２０】表２２に示した結果から、酸化防止剤の配
合量がともに０．１００重量部である「配合３と配合
１」、「配合６と配合４」、「配合９と配合７」を比較
すると、いずれも６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−
１２）を含有する本発明有機高分子材料用安定剤組成物
を用いた場合（配合１、４、７）が６―ヒドロキシクロ
マン化合物を配合しない場合（配合３、６、９）と比較
して顕著な効果を示している。

【０４２１】また、「配合３に添加した酸化防止剤の量
の１．５倍重量を配合した配合２」と、「配合３に添加
した酸化防止剤の量と同量を配合しその一部を６−ヒド
ロキシクロマン化合物とした配合１」を比較すると、６
−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）を含有する本
発明の安定剤組成物を用いた場合（配合１）は、６−ヒ
ドロキシクロマン化合物を配合せず１．５倍重量の酸化
防止剤を配合した場合（配合２）と比較して同等の効果
かあるいは若干良好な効果を示している。「配合５と配
合４」、および「配合８と配合７」の比較においても同
様の効果が認められた。

【０４２２】このことから、少量の６−ヒドロキシクロ
マン化合物を添加することにより、リン系酸化防止剤と
フェノール系酸化防止剤の配合量を増加した場合と同等
またはそれ以上の安定性向上効果が得られることがわか
る。これにより、有機高分子材料に添加する酸化防止剤
の量を減らすことができる。

【０４２３】

【表２２】

【０４２４】実施例２３ この実施例では、少量の６−ヒドロキシクロマン化合物
を添加することにより、リン系酸化防止剤およびフェノ
ール系酸化防止剤の配合量を減らすことができ、より少
ない使用量の酸化防止剤で同等の安定性向上効果が得ら
れることを示す。実施例１と同様な方法によりメルトイ
ンデックス（ＭＩ）を測定した。ただし、繰り返し回数
は３回とした。

【０４２５】配合処方および表２３に記載した記号につ
いて説明する。 Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン その他の記号は実施例５に準じる。

【０４２６】配合処方は表２３に示した。リン系酸化防
止剤としてＰ１０１を使用した以外は、実施例２１と同
様の処方とした。表２３に示した結果から、酸化防止剤
の配合量がともに０．１００重量部である「配合３と配
合１」、「配合６と配合４」、「配合９と配合７」を比
較すると、いずれも６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ
−１２）を含有する本発明有機高分子材料用安定剤組成
物を用いた場合（配合１、４、７）が６―ヒドロキシク
ロマン化合物を配合しない場合（配合３、６、９）と比
較して顕著な効果を示している。

【０４２７】また、「配合３に添加した酸化防止剤の量
の１．５倍重量を配合した配合２」と、「配合３に添加
した酸化防止剤の量と同量を配合しその一部を６−ヒド
ロキシクロマン化合物とした配合１」を比較すると、６
−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）を含有する本
発明の安定剤組成物を用いた場合（配合１）は、６−ヒ
ドロキシクロマン化合物を配合せず１．５倍重量の酸化
防止剤を配合した場合（配合２）と比較して同等の効果
を示している。「配合５と配合４」、および「配合８と
配合７」の比較においては同等もしくは若干良好な効果
が認められた。

【０４２８】このことから、少量の６−ヒドロキシクロ
マン化合物を添加することにより、リン系酸化防止剤と
フェノール系酸化防止剤の配合量を増加した場合と同等
またはそれ以上の安定性向上効果が得られることがわか
る。これにより、有機高分子材料に添加する酸化防止剤
の量を減らすことができる。

【０４２９】

【表２３】

【０４３０】実施例２４ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表２
４記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダ
イス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷
した後に、切断しペレットを得た。これを４回繰り返し
た。加工安定性を見るために各回毎に押し出したペレッ
トについてＪＩＳ Ｋ−７２１０に準じてＭＩを測定し
た。測定温度は２３０℃、測定荷重は２．１６ｋｇｆと
した。比較例の配合３では、６−ヒドロキシクロマン化
合物の代わりに下記のベンゾフラノン化合物（Ｒ−１
０）を用いた。

【０４３１】表２４に記載した記号について説明する。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−２：２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−
６−ヒドロキシクロマン Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル) −５，７
−ジ第３級ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（特
開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって合成
した。） ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ２：２回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ４：４回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ×：樹脂が劣化しておりストランド押し出し後、ペレッ
トを得ることができなかったことを示す。

【０４３２】表２４に示した結果から、６−ヒドロキシ
クロマン化合物（Ｓ−２またはＳ−１２）を配合した本
発明組成物（配合１、２）は、同量のベンゾフラノン化
合物（Ｒ−１０）を配合した比較例組成物（配合３）と
比べて、加工安定性に優れている。

【０４３３】

【表２４】

【０４３４】実施例２５ ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）について表２
５記載の配合処方でビーカー中にて混合し、ラボプラス
トミル（東洋精機製作所製５０Ｃ−１５０型）を用い
て、２１０℃、５０ｒｐｍの条件で混合（ミキシング）
を行い、トルク上昇開始時間を求めた。比較例の配合２
および配合３では、６−ヒドロキシクロマン化合物の代
わりに下記のベンゾフラノン化合物（Ｒ−１０）を用い
た。

【０４３５】表２５に記載した記号について説明する。 ＥＶＡ：エチレン−酢酸ビニル共重合体 Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル) −５，７
−ジ第３級ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（特
開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって合成
した。）

【０４３６】表２５より、６−ヒドロキシクロマン化合
物を含有する本発明組成物（配合１）は、同量の３−
（３，４−ジメチルフェニル) −５，７−ジ第３級ブチ
ル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（Ｒ−１０）を配合
した組成物（比較例の配合２）やＲ−１０を３倍量配合
した組成物（比較例の配合３）、または６−ヒドロキシ
クロマン化合物を添加しない場合（比較例の配合４）と
比較して、ラボプラストミルによる加工時の熱安定性が
極めて良好であることがわかる。

【０４３７】

【表２５】

【０４３８】実施例２６ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表２
６−１および表２６−２記載の配合物を用い、直径２０
ｍｍの押し出し機（ダイス設定温度２６０℃）でストラ
ンドを押し出し、水冷した後に、切断しペレットを得
た。これを４回繰り返した。加工安定性を見るために各
回毎に押し出したペレットについてＪＩＳＫ−７２１０
に準じてＭＩを測定した。測定温度は２３０℃、測定荷
重は２．１６ｋｇｆとした。比較例では、６−ヒドロキ
シクロマン化合物の代わりに下記の６−アセトキシクロ
マン化合物（Ｓ−４）またはベンゾフラノン化合物（Ｒ
−１０）を用いた。

【０４３９】表２６−１および表２６−２に記載した記
号の意味は以下の通りである。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」）

【０４４０】Ｓ−１：２，２−ジメチル−６−ヒドロキ
シクロマン Ｓ−２：２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−
６−ヒドロキシクロマン Ｓ−３：２，２，５−トリメチル−８−第３級ブチル−
６−ヒドロキシクロマン Ｓ−５：２，２，７，８−テトラメチル−６−ヒドロキ
シクロマン Ｓ−６：２，２，５，７−テトラメチル−６−ヒドロキ
シクロマン Ｓ−７：２，２，５，８−テトラメチル−６−ヒドロキ
シクロマン Ｓ−８：２，２−ジメチル−７−第３級ブチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｓ−９：４−イソプロピル−２，２，５−トリメチル−
７−第３級ブチル−６−ヒドロキシクロマン Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｓ−４：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−アセ
トキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル) −５，７
−ジ第３級ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（特
開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって合成
した。） ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ２：２回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ４：４回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。

【０４４１】表２６−１に示した結果から、６−ヒドロ
キシクロマン化合物を配合した本発明組成物（配合２〜
１０）が、６−ヒドロキシクロマン化合物を添加しない
組成物（配合１）、または同量の６−アセトキシクロマ
ン化合物（Ｓ−４）またはベンゾフラノン化合物（Ｒ−
１０）を配合した比較例組成物（配合１１、１２）に比
べて、加工安定性に優れていることがわかる。６−アセ
トキシクロマン化合物（Ｓ−４）を配合した組成物（配
合１１）は６−ヒドロキシクロマン化合物を添加しない
組成物（配合１）と同程度の加工安定性を示す。６−ヒ
ドロキシクロマン化合物の配合量を半量（０．００２５
重量部）にした組成物（配合１３〜２１）においても、
同様の結果が認められた（表２６−２）。

【０４４２】

【表２６】

【０４４３】実施例２７ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表２
７記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダ
イス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷
した後に、切断しペレットを得た。これを３回繰り返し
た。加工安定性を見るために各回毎に押し出したペレッ
トについてＪＩＳ Ｋ−７２１０に準じてＭＩを測定し
た。測定温度は２３０℃、測定荷重は２．１６ｋｇｆと
した。比較例では、６−ヒドロキシクロマン化合物の代
わりに下記のフェノール系酸化防止剤（ＹＢＨＴ）また
はベンゾフラノン化合物（Ｒ−１０）を用いた。

【０４４４】表２７に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） ＹＢＨＴ：２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノ
ール（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「ヨ
シノックスＢＨＴ」） Ｓ−２：２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−
６−ヒドロキシクロマン Ｓ−６：２，２，５，７−テトラメチル−６−ヒドロキ
シクロマン Ｓ−８：２，２−ジメチル−７−第３級ブチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ−第３級−ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン
（特開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって
合成した。） ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ２：２回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ×：樹脂が劣化しておりストランド押し出し後、ペレッ
トを得ることができなかったことを示す。

【０４４５】表２７から、本発明組成物（配合２〜４）
は６−ヒドロキシクロマン化合物を配合しない場合（配
合１）と比べて著しくＭＩ値が小さく加工安定性が比較
例に対し優れ、良好な加工安定性を示していることがわ
かる。また、相乗化剤として６−ヒドロキシクロマン化
合物（Ｓ−２、Ｓ−６、Ｓ−８）を配合した本発明組成
物（配合２〜４）は、相乗化剤として２，６−ジ第３級
ブチル−４−メチルフェノール（ＹＢＨＴ）や３−
（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第３級−
ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（Ｒ−１０）を
同量配合した組成物（配合５、６）と比較してより良好
な加工安定性改良効果を示した。６−ヒドロキシクロマ
ン化合物の配合量を半量（０．００２５重量部）にした
組成物（配合７〜９）においても、同様の結果が認めら
れた。

【０４４６】

【表２７】

【０４４７】実施例２８ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表２
８Ａ記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機
（ダイス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、
水冷した後に、切断しペレットを得た。これを５回繰り
返した。加工安定性を見るために各回毎に押し出したペ
レットについてＪＩＳ Ｋ−７２１０に準じてＭＩを測
定した。測定温度は２３０℃、測定荷重は２．１６ｋｇ
ｆとした。

【０４４８】表２８Ａおよび表２８Ｂに記載した記号の
意味は以下の通りである。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商 品名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ２：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ５：５回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ×：樹脂が劣化しておりストランド押し出し後、ペレッ
トを得ることができなかったことを示す。

【０４４９】本発明組成物の配合１、２、３および４に
は、６−ヒドロキシクロマン化合物を５重量％含有する
酸化防止剤（Ｔ２０２／Ｔ−ＴＴ／Ｓ−１２＝４７．５
／４７．５／５）をそれぞれポリプロピレン組成物中に
０．０５重量％、０．１０重量％、０．３０重量％、
０．５０重量％の濃度で配合した。比較例組成物の配合
６、７、８および９には、６−ヒドロキシクロマン化合
物を含有しない酸化防止剤（Ｔ２０２／Ｔ−ＴＴ＝１／
１）をそれぞれポリプロピレン組成物中に０．０５重量
％、０．１０重量％、０．３０重量％、０．５０重量％
の濃度で配合した。

【０４５０】ＭＩと酸化防止剤の濃度との関係を表２８
Ｂに示す。表２８Ｂ中の記号は次の意味を示す。 ← ６−ヒドロキシクロマン化合物を含有しない場合、
ペレットを得ることができないほど劣化していた。 ◎ ６−ヒドロキシクロマン化合物を含有する場合の方
が、含有しない場合と比較して著しくＭＩ値が小さい。 ○ ６−ヒドロキシクロマン化合物を含有する場合、含
有しない場合と同程度のＭＩ値であるが、含有する場合
の方が０．２ポイント以上ＭＩ値が良好である。 △ ６−ヒドロキシクロマン化合物を含有する場合、含
有しない場合と同程度のＭＩ値であり、６−ヒドロキシ
クロマン化合物を含有する場合と含有しない場合との差
が０．１である。 ＝ ６−ヒドロキシクロマン化合物を含有する場合と含
有しない場合で差異はない。

【０４５１】表２８Ｂに示す結果から明らかなように、
６−ヒドロキシクロマン化合物を含有する酸化防止剤
（ポリプロピレン組成物中に配合した酸化防止剤の総量
に対して６−ヒドロキシクロマン化合物が５重量％）を
０．０５重量％〜０．５０重量％の割合で添加した組成
物（ポリプロピレン組成物中に６−ヒドロキシクロマン
化合物が０．００２５重量％〜０．０２５重量％）は、
同量の６−ヒドロキシクロマン化合物を含有しない酸化
防止剤を添加した組成物に比べてＭＩ値が著しく小さ
く、加工安定性に特に優れている。

【０４５２】

【表２８】

【０４５３】実施例２９ ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）について表２
９記載の配合処方でビーカー中にて混合し、ラボプラス
トミルを用いて２１０℃、５０ｒｐｍ、樹脂量４０ｇの
条件でミキシングを行い、トルク上昇開始時間を求め
た。比較例では、６−ヒドロキシクロマン化合物の代わ
りに下記のベンゾフラノン化合物（Ｒ−１０）を用い
た。

【０４５４】表２９に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＥＶＡ：エチレン−酢酸ビニル共重合体 Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−２：２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−
６−ヒドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ−第３級−ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン
（特開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって
合成した。）

【０４５５】表２９から、６−ヒドロキシクロマン化合
物を配合した本発明組成物（配合１）は、同量のベンゾ
フラノン化合物（Ｒ−１０）を配合した場合（比較例の
配合２）や６−ヒドロキシクロマン化合物を配合しない
場合（比較例の配合３）に比べてトルク上昇開始時間が
約２倍長く、良好な加工時熱安定性を示していることが
わかる。

【０４５６】

【表２９】

【０４５７】実施例３０ フェノール系酸化防止剤の配合量とリン系酸化防止剤の
配合量との重量比を変えて加工時熱安定性を評価した。
ビーカー中に表３０記載の配合物を精秤混合し、ラボプ
ラストミル（東洋精機製作所製５０Ｃ−１５０型）を用
いて２１０℃、６０ｒｐｍの条件で混合（ミキシング）
を行い、トルク上昇開始時間を求めた。

【０４５８】表３０に記載した記号の意味は以下のとお
りである。 ＬＬＤＰＥ：線状低密度ポリエチレン Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン

【０４５９】表３０より、６−ヒドロキシクロマン化合
物を含有する本発明組成物（配合１〜３）は、６−ヒド
ロキシクロマン化合物を含有しない組成物（比較例の配
合４〜６）に比べてトルク上昇開始時間が約３倍とな
り、加工時熱安定性に優れることがわかる。

【０４６０】

【表３０】

【０４６１】実施例３１ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表３
１記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダ
イス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷
した後に、切断しペレットを得た。これを４回繰り返し
た。加工安定性を見るために各回毎に押し出したペレッ
トについてＪＩＳ Ｋ−７２１０に準じてＭＩを測定し
た。測定温度は２３０℃、測定荷重は２．１６ｋｇｆと
した。比較例では、６−ヒドロキシクロマン化合物の代
わりに下記のベンゾフラノン化合物（Ｒ−１０）を用い
た。

【０４６２】表３１に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ−第３級−ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン
（特開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって
合成した。） ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ２：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ４：４回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。

【０４６３】表３１より、本発明組成物（配合１〜６）
は比較例組成物（配合７〜１３）に比べて加工安定性が
優れていることがわかる。また、本発明で用いる６−ヒ
ドロキシクロマン化合物は、３−（３，４−ジメチルフ
ェニル）−５，７−ジ−第３級−ブチル−３Ｈ−ベンゾ
フラン−２−オン（Ｒ−１０）より良好な安定化効果を
示した。

【０４６４】

【表３１】

【０４６５】実施例３２ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表３
２記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダ
イス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷
した後に、切断しペレットを得た。このペレット１５ｇ
を用い、直径５０ｍｍのシャーレ中に入れ、１６０℃に
設定したギヤオーブン中で所定の時間熱処理を行った。
熱処理後のペレットについてカラーメーターにより黄色
度（ＹＩ）を測定した。ＹＩの数値変化が小さいほど、
使用時における熱安定性が良好であるといえる。

【０４６６】表３２に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ−第３級−ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン
（特開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって
合成した。） ×：ポリプロピレン組成物を目視したところ赤褐色を呈
していた。

【０４６７】表３２より、本発明組成物（配合１および
２）は比較例組成物（配合３〜５）に比べ使用時におけ
る熱安定性が極めて良好であることがわかる。また本発
明で用いる６−ヒドロキシクロマン化合物は３−（３，
４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第３級−ブチル
−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（Ｒ−１０）より良好
な使用時熱安定性効果を示した。

【０４６８】

【表３２】

【０４６９】実施例３３ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表３
３記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダ
イス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷
した後に、切断しペレットを得た。このペレット１５ｇ
を用い、直径５０ｍｍのシャーレ中に入れ、１６０℃に
設定したギヤオーブン中で所定の時間熱処理を行った。
熱処理後のペレットについてカラーメーターにより黄色
度（ＹＩ）を測定した。ＹＩの数値変化が小さいほど、
使用時における熱安定性が良好であるといえる。

【０４７０】表３３に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」）。 Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ−第３級−ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン
（特開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって
合成した。） ×：ポリプロピレン組成物を目視したところ赤褐色を呈
していた。

【０４７１】表３３より、本発明組成物（配合１および
２）は比較例組成物（配合３〜５）に比べ使用時におけ
る熱安定性が極めて良好であることがわかる。また本発
明で用いる６−ヒドロキシクロマン化合物は３−（３，
４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第３級−ブチル
−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（Ｒ−１０）より良好
な使用時熱安定性効果を示した。

【０４７２】

【表３３】

【０４７３】実施例３４ 表３４に示した配合処方により配合した配合物を、タン
ブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した後、直径
２０ｍｍの押し出し機を用い、ダイス設定温度２８０℃
で繰り返し押し出し、造粒した。加工安定性を見るため
に各回毎に押し出したペレットをＪＩＳ Ｋ−７２１０
に準じて測定温度２３０℃、測定荷重２．１６ｋｇｆに
てＭＩ値を測定した。また、ＪＩＳ Ｋ−７１０３に準
じて、ＹＩ値を測定した（カラーメーター 反射法によ
るペレットの黄色度）。その測定結果を表３４に示す。

【０４７４】表３４に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｓ−１４：ビタミンＥ(東京化成工業株式会社製の試
薬） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」） ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ２：２回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＹＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＹＩ値を
示した。 ＹＩ２：２回目に得たペレットにより測定したＹＩ値を
示した。 ＹＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＹＩ値を
示した。 ×: 樹脂の劣化でストランド方式による樹脂の引き取り
ができず、ペレットを得ることができなかった。

【０４７５】表３４に示した結果から、フェノール系酸
化防止剤（Ｔ−ＴＴ）、リン系酸化防止剤（Ｔ２０２）
およびビタミンＥ（Ｓ−１４）の総量に対してビタミン
Ｅを５重量％、２重量％配合した本発明組成物を配合し
た有機高分子材料組成物は、着色を抑えＭＩ値が小さく
加工安定性が比較例組成物に対し優れていることが判明
した。特に、少量添加により相乗効果を示し、良好な加
工安定性を示していることがわかる。

【０４７６】

【表３４】

【０４７７】実施例３５ 表３５に示した配合処方により配合した配合物を、実施
例３４と同様な方法で混合し、繰り返し押し出し、造粒
したペレットについてＭＩ値を測定した。その測定結果
を表３５に示す。

【０４７８】表３５に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」） 本発明組成物に用いた化合物 Ｓ−１４：ビタミンＥ(東京化成工業株式会社製 試
薬） 比較例組成物に用いた化合物 Ｓ−１５：ビタミンＥアセテート(和光純薬工業株式会
社製 試薬） ＹＢＨＴ：２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノ
ール（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「ヨ
シノックスＢＨＴ」） Ｒ−１０：３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７
−ジ第３級ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（特
開平７−２３３１６０号公報に記載の方法によって合成
した。）

【０４７９】表３５に示した結果から、ビタミンＥ（Ｓ
−１４）を配合した本発明組成物（配合１）はＭＩ値の
値が小さく加工安定性が比較例組成物に対し優れ、少量
添加により相乗効果を示し、良好な加工安定性を示して
いることがわかる。しかし、類似化合物であるビタミン
Ｅアセテート（Ｓ−１５）、２，６−ジ第３級ブチル−
４−メチルフェノール（ＹＢＨＴ）を配合した組成物
（配合２、３）はこれらを配合しない組成物（配合５）
と同程度であり、配合した効果はほとんど認められな
い。

【０４８０】

【表３５】

【０４８１】実施例３６ 表３６に示した配合処方により配合した配合物を、実施
例３４と同様な方法で混合し、繰り返し押し出し、造粒
したペレットについてＭＩ値、ＹＩ値を測定した。その
測定結果を表３６に示す。表３６に記載した記号の意味
は実施例３４と同様である。

【０４８２】表３６から本発明組成物を配合した組成物
は、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤および
ビタミンＥの総量に対してビタミンＥの配合量が０．０
０１重量部以下では樹脂の劣化による着色が起こり充分
な効果を示さず、０．００５重量部を超えると添加剤に
よる樹脂の変色を起こし、それ以上配合しても増量によ
る効果が少ないことがわかる。

【０４８３】

【表３６】

【０４８４】実施例３７ タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表３
７記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダ
イス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷
した後に、切断しペレットを得た。これを５回繰り返し
た。加工安定性を見るために各回毎に押し出したペレッ
トについてＪＩＳ Ｋ−７２１０に準じてＭＩを測定し
た。測定温度は２３０℃、測定荷重は２．１６ｋｇｆと
した。

【０４８５】表３７に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー） Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｐ３６：ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（旭電化
工業株式会社製、商品名：「アデカスタブＰＥＰ−３
６」） Ｕ６２６：ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイト（ＧＥスペシャリテ
ィケミカルズ社製、商品名：「ウルトラノックス６２
６」） Ｔ−ＴＴ：テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ３：３回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ５：５回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。

【０４８６】表３７より下記に示す比較において、６−
ヒドロキシクロマン化合物を含有する本発明組成物（配
合１、３）は、６−ヒドロキシクロマン化合物を含有し
ない比較例組成物（配合２、４）に比べ繰り返し押し出
しにおける加工安定性が良好であることがわかる。 比較（Ａ）：本発明組成物配合１と比較例組成物配合２ 比較（Ｂ）：本発明組成物配合３と比較例組成物配合４

【０４８７】本実施例では、フェノール系酸化防止剤と
して、テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メ
タン（Ｔ−ＴＴ）を用い、リン系酸化防止剤として、比
較（Ａ）ではビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（Ｐ
３６）を、比較（Ｂ）ではビス（２，４−ジ第３級ブチ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（Ｕ
６２６）を用いた。種々のリン系酸化防止剤を用いた場
合も、６−ヒドロキシクロマン化合物を配合した本発明
組成物は加工安定性が良好であることがわかる。

【０４８８】

【表３７】

【０４８９】実施例３８ 表３８に示した配合処方により配合した配合物を、タン
ブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した後、直径
２０ｍｍの押し出し機を用い、ダイス設定温度２８０℃
で繰り返し押し出し、造粒した。加工安定性を見るため
に各回毎に押し出したペレットをＪＩＳ Ｋ−７２１０
に準じて測定温度２３０℃、測定荷重２．１６ｋｇｆに
てＭＩ値を測定した。また、ＪＩＳ Ｋ−７１０３に準
じて、ＹＩ値を測定した（カラーメーター 反射法によ
るペレットの黄色度）。その測定結果を表３８に示す。

【０４９０】表３８に記載した記号の意味は以下の通り
である。 ＰＰ：ポリプロピレン Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム Ｓ−１２：２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒ
ドロキシクロマン（合成例１により合成したものを用い
た。） Ｓ−１４：ビタミンＥ(東京化成工業株式会社製の試
薬） Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミノックスＴＴ」） Ｔ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品
名：「トミホス２０２」） ＭＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＭＩ４：４回目に得たペレットにより測定したＭＩ値を
示した。 ＹＩ１：１回目に得たペレットにより測定したＹＩ値を
示した。 ＹＩ４：４回目に得たペレットにより測定したＹＩ値を
示した。 ×: 樹脂の劣化でストランド方式による樹脂の引き取り
ができず、ペレットを得ることができなかった。

【０４９１】配合処方は表３８に示したように、ポリプ
ロピレン（ホモポリマー）を９９．８２５重量部、ステ
アリン酸カルシウムを０．０７５重量部、６−ヒドロキ
シクロマン化合物（Ｓ−１２、Ｓ−１４）を０．００５
重量部、リン系酸化防止剤（Ｔ２０２、Ｕ６２６、ＰＥ
ＰＱ）を０．０４７５重量部、フェノール系酸化防止剤
（Ｔ−ＴＴ）の総量を０．０４７５重量部配合した本発
明の有機高分子材料用安定剤組成物を配合した場合（配
合１、２、１１、１２、１４、１５）を実施例とした。
また比較例として、６−ヒドロキシクロマン化合物とリ
ン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤との総量は実
施例と同量である０．１００重量部として、６−ヒドロ
キシクロマン化合物（Ｓ−１２、Ｓ−１４）とリン系酸
化防止剤（Ｔ２０２、Ｕ６２６）を配合した場合（配合
３、４、１３）、６−ヒドロキシクロマン化合物（S−
１２）とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）を配合し
た場合（配合５）、リン系酸化防止剤（Ｔ２０２）とフ
ェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）を配合した場合（配
合６）、６−ヒドロキシクロマン化合物（Ｓ−１２）の
みを配合した場合（配合７、８）、リン系酸化防止剤
（Ｔ２０２）のみを配合した場合（配合９）、フェノー
ル系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）のみを配合した場合（配合
１０）の配合にて実施例と同様に試験を行なった。

【０４９２】表３８に示した結果から、以下のことが判
明した。リン系酸化防止剤（Ｔ２０２）とフェノール系
酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）に６−ヒドロキシ化合物を少量
配合した本発明組成物（配合１、２）は６−ヒドロキシ
化合物を添加しない組成物（配合６、９、１０）や、多
量（有機高分子１００重量部に対して、０．０５０〜
０．１００重量部）の６−ヒドロキシ化合物のみを添加
した組成物（配合７、８）や６−ヒドロキシクロマン化
合物とリン系酸化防止剤またはフェノール系酸化防止剤
との２種類の酸化防止剤を併用した組成物（配合３、
４）と比較して極めて着色が少なく加工安定性が優れて
いることが認められた。

【０４９３】また、リン系酸化防止剤をＰＥＰＱやＵ６
２６に変えた組成物についても、同様に、リン系酸化防
止剤（ＰＥＰＱやＵ６２６）とフェノール系酸化防止剤
（Ｔ−ＴＴ）にさらに６−ヒドロキシ化合物を少量配合
した本発明組成物（配合１１、１２、１４、１５）は６
−ヒドロキシ化合物を添加しない処方（配合１３、１
６）にくらべ極めて着色が少なく加工安定性が優れてい
ることがわかる。

【０４９４】

【表３８】

【０４９５】実施例３９ 本発明組成物のハンドリング性を判定するために、以下
の方法で４０℃における保存安定性を測定した。表３９
に記載の配合物を、乳鉢にて混合した後、ポリエチレン
製の袋に入れ、ヒートシール後４０℃の恒温槽に４週間
保存した。その後、手で触ってベトツキを感じるかどう
かを判定した。

【０４９６】配合処方および表３９に記載した記号につ
いて説明する。 Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト（吉富ファインケミカル株式会社製、商品名：「Ｇ
ＳＹ−Ｐ１０１」） Ｔ−ＳＳ：ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（吉
富ファインケミカル株式会社製、商品名：「トミノック
スＳＳ」） Ｓ−１４：ビタミンＥ（東京化成工業株式会社製 試
薬） Ｔ−ＳＳとＰ１０１との重量比が１：２の組成物を作成
し、それにＴ−ＳＳとＰ１０１とＳ−１４との合計量に
対して、Ｓ−１４が表３９に規定した割合になるよう秤
量し、配合した。試験結果を表３９に示した。

【０４９７】

【表３９】

【０４９８】表３９から、本発明組成物に対して、ビタ
ミンＥ（Ｓ−１４）の割合が５重量％以下であれば試験
期間中は異常なく安定であったが、６重量％を超えると
ベトツキ現象を起こし、保存安定性が悪いことが判明し
た。

【０４９９】

【発明の効果】本発明の安定剤組成物は、特定のリン系
酸化防止剤およびフェノール系酸化防止剤に、一般式
（１）で表される６−ヒドロキシクロマン化合物を少量
配合したことを特徴とする。本発明の安定剤組成物を有
機高分子材料の安定化剤として使用することにより、加
工時熱安定性に優れた、極めて工業的に有用な安定化さ
れた有機材料組成物を得ることができる。

【０５００】本出願は、日本で出願された平成１０年特
許願第１０８２６０号および平成１０年特許願第１８１
１７４号、ならびに国際出願ＰＣＴ／ＪＰ９８／０４４
６２およびＰＣＴ／ＪＰ９８／０５８２９を基礎として
おりそれらの内容は本明細書に全て包含されるものであ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｆ 9/6574 Ｃ０７Ｆ 9/6574 Ｚ Ｃ０８Ｋ 5/13 Ｃ０８Ｋ 5/13 5/1545 5/1545 5/51 5/51 Ｃ０９Ｋ 15/08 Ｃ０９Ｋ 15/08 15/32 15/32 Ｃ // Ｃ０７Ｄ 311/72 １０１ Ｃ０７Ｄ 311/72 １０１ (Ｃ０８Ｌ 101/00 85:02） (31)優先権主張番号 特願平10−108260 (32)優先日 平成10年４月17日(1998．4．17) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） Ｆターム(参考） 4C062 FF16 4H025 AA63 AA65 AA84 AC05 4H050 AB83 4J002 BB031 BB051 BB062 BB121 BB122 BB141 BB151 BB152 CQ013 EL096 EW027 EW037 EW067 EW087 EW127 FD036 FD073 FD077

Claims (46)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）：一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹は炭素数６〜１８のアルキル基または炭素
   数６〜１８のアルケニル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜５
   のアルキル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は同一または
   異なっていてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１
   〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁶は水素原子または炭素数
   １〜５のアルキル基を示す。）により表される化合物の
   少なくとも１種と、 （ｂ）次の（ｂ−１）、（ｂ−２）、（ｂ−３）および
   （ｂ−４）から選ばれるリン系酸化防止剤と、 （ｂ−１）：一般式（２） 【化２】 （式中、Ｑ¹は一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は各々同一または異なっていても
   よく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁹は水素原
   子またはメチル基を示す。）を示し、Ｑ²は各々の繰り
   返し単位について独立して一般式（３） 【化４】 （式中の記号は前記と同義である。）を示し、ｉは各々
   の繰り返し単位について独立して０または１を示し、ｊ
   は０または１を示し、ｎ¹は１〜１０の整数を示す。）
   または一般式（４） 【化５】 （式中の記号は前記と同義である。）により表される化
   合物の少なくとも１種、 （ｂ−２）：一般式（５） 【化６】 （式中、Ｒ¹⁰は、各々同一または異なっていてもよく、
   炭素数１〜１８のアルキル基、フェニル基、炭素数１〜
   ９のアルキル基で置換されたフェニル基、または一般式
   （６） 【化７】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
   もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
   原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
   し、Ｒ¹¹は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜
   ９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル
   基、炭素数１〜９のアルキル基で置換されたフェニル
   基、または一般式（６） 【化８】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
   もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
   原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
   す。）、または一般式（７） 【化９】 （式中、Ｒ¹⁰は前記と同義であり、ｎ⁴は３を示し、Ｌ¹
   は１，１，３−ブタントリイル基を示す。）により表さ
   れる化合物の少なくとも１種、 （ｂ−３）：一般式（８） 【化１０】 または一般式（９） 【化１１】 （式中、ｑは１または２を表し、Ａはｑが１を表す場
   合、一般式（１０） 【化１２】 （式中、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹は同一または異なっていてもよ
   く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²⁰は
   水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示す。）に
   より表される基を示し、Ａはｑが２を表す場合、炭素数
   ２〜１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン基またはｐ−
   ビフェニレン基を示し、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、互いに独立
   して炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁷は互いに独
   立して炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜９のフ
   ェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ま
   たは一般式（１１） 【化１３】 （式中、Ｒ²¹およびＲ²²は同一または異なっていてもよ
   く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基または炭素数７
   〜９のフェニルアルキル基を示し、Ｒ²³は水素原子また
   は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）により表される
   基を示す。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ−４）：一般式（１２） 【化１４】 （式中、Ｒ²⁴は各々同一または異なっていてもよく炭素
   数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ²⁵は各々同一または異
   なっていてもよく水素原子または炭素数１〜５のアルキ
   ル基を示し、Ｒ²⁶は同一または異なっていてもよく水素
   原子またはメチル基を示し、Ｒ²⁷は直接結合、メチレン
   基、−ＣＨ（Ｒ²⁹）−基（Ｒ²⁹は炭素数１〜４のアルキ
   ル基を示す。）、または硫黄原子を示し、ｎ³は１また
   は３を示し、ｎ³が３の場合Ｒ²⁸はＮ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ
   −）₃により表される基を示し、ｎ³が１の場合Ｒ²⁸は炭
   素数１〜１８のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ま
   たは炭素数１〜８のアルコキシ基を示す。）により表さ
   れる化合物の少なくとも１種、 （ｃ）：フェノール系酸化防止剤とを含有し、成分
   （ａ）と成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量に対して、成
   分（ａ）を０．５重量％〜１０重量％、成分（ｂ）と成
   分（ｃ）との総量を９９．５重量％〜９０重量％の割合
   で含有する有機高分子材料用安定剤組成物。
2. 【請求項２】 成分（ａ）と成分（ｂ）と成分（ｃ）と
   の総量に対して、成分（ａ）を１．０重量％〜５．５重
   量％、成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量を９９．０重量
   ％〜９４．５重量％の割合で含有する請求項１に記載の
   有機高分子材料用安定剤組成物。
3. 【請求項３】 成分（ａ）と成分（ｂ）と成分（ｃ）と
   の総量に対して、成分（ａ）を１．０重量％〜４．５重
   量％、成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量を９９．０重量
   ％〜９５．５重量％の割合で含有する請求項１に記載の
   有機高分子材料用安定剤組成物。
4. 【請求項４】 成分（ｂ）が一般式（２） 【化１５】 （式中、Ｑ¹は一般式（３） 【化１６】 （式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は同一または異なっていてもよ
   く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁹は
   水素原子またはメチル基を示す。）を示し、Ｑ²は各々
   の繰り返し単位について独立して一般式（３） 【化１７】 （式中の記号は前記と同義である。）を示し、ｉは各々
   の繰り返し単位について独立して０または１を示し、ｊ
   は０または１を示し、ｎ¹は１〜１０の整数を示す。）
   または一般式（４） 【化１８】 （式中の記号は前記と同義である。）により表される化
   合物の少なくとも１種である請求項１〜３のいずれか１
   項に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。
5. 【請求項５】 成分（ｂ）が、一般式（１３） 【化１９】 （式中、Ｑ³は一般式（１４） 【化２０】 （式中、Ｒ⁹は水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、Ｑ⁴は各々の繰り返し単位について独立して一般式
   （１４） 【化２１】 （式中、Ｒ⁹は水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｉは各々の繰り返し単位について独立して０または
   １を示し、ｊは０または１を示し、ｎ²は１〜３の整数
   を示す。）または一般式（１５） 【化２２】 （式中の記号は前記と同義である。）により表される化
   合物の少なくとも１種である請求項４に記載の有機高分
   子材料用安定剤組成物。
6. 【請求項６】 成分（ｂ）が、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
   ４’−ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
   ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、 （２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ビス｛４’−
   （ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィ
   ノ）ビフェニル−４−イル｝ホスフィン、および（２，
   ４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ビス
   ｛４’−（ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
   フェノキシ）ホスフィノ）ビフェニル−４−イル｝ホス
   フィンからなる群より選ばれる少なくとも１種である請
   求項５に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。
7. 【請求項７】 成分（ｂ）が、テトラキス（２，４−ジ
   第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホ
   スホナイトまたはテトラキス（２，４−ジ第３級ブチル
   −５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホ
   スホナイトを含有するリン系酸化防止剤である請求項５
   に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。
8. 【請求項８】 成分（ｂ）が一般式（５） 【化２３】 （式中、Ｒ¹⁰は、各々同一または異なっていてもよく、
   炭素数１〜１８のアルキル基、フェニル基、炭素数１〜
   ９のアルキル基で置換されたフェニル基、または一般式
   （６） 【化２４】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
   もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
   原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
   し、Ｒ¹¹は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜
   ９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル
   基、炭素数１〜９のアルキル基で置換されたフェニル
   基、または一般式（６） 【化２５】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
   もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
   原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
   す。）、または一般式（７） 【化２６】 （式中、Ｒ¹⁰は前記と同義であり、ｎ⁴は３を示し、Ｌ¹
   は１，１，３−ブタントリイル基を示す。）により表さ
   れる化合物の少なくとも１種である請求項１〜３のいず
   れか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。
9. 【請求項９】 成分（ｂ）が、 トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイ
   ト、 ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）
   エチルホスファイト、 トリフェニルホスファイト、 ジフェニルアルキルホスファイト、 フェニルジアルキルホスファイト、 トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、 トリラウリルホスファイト、 トリオクタデシルホスファイト、およびビス（２，４−
   ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフ
   ァイトからなる群より選ばれる少なくとも１種である請
   求項８に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。
10. 【請求項１０】 成分（ｂ）が一般式（８） 【化２７】 または一般式（９） 【化２８】 （式中、ｑは１または２を表し、Ａはｑが１を表す場
    合、一般式（１０） 【化２９】 （式中、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹は同一または異なっていてもよ
    く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²⁰は
    水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示す。）に
    より表される基を示し、Ａはｑが２を表す場合、炭素数
    ２〜１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン基またはｐ−
    ビフェニレン基を示し、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、互いに独立
    して炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁷は互いに独
    立して炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜９のフ
    ェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ま
    たは一般式（１１） 【化３０】 （式中、Ｒ²¹およびＲ²²は同一または異なっていてもよ
    く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基または炭素数７
    〜９のフェニルアルキル基を示し、Ｒ²³は水素原子また
    は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）により表される
    基を示す。）により表される化合物の少なくとも１種で
    ある請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機高分子材
    料用安定剤組成物。
11. 【請求項１１】 成分（ｂ）が、 ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペンタエリス
    リトールジホスファイト、 ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）
    ペンタエリスリトールジホスファイト、 ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、 ビス（２，４−ジ（１−フェニル−１，１−ジメチルメ
    チル）フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイ
    ト、 （２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチ
    ル−２−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイ
    ト、 ビスイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、
    およびビス（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）
    ペンタエリスリトールジホスファイトからなる群より選
    ばれる少なくとも１種である請求項１０に記載の有機高
    分子材料用安定剤組成物。
12. 【請求項１２】 成分（ｂ）が一般式（１２） 【化３１】 （式中、Ｒ²⁴は各々同一または異なっていてもよく炭素
    数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ²⁵は各々同一または異
    なっていてもよく水素原子または炭素数１〜５のアルキ
    ル基を示し、Ｒ²⁶は同一または異なっていてもよく水素
    原子またはメチル基を示し、Ｒ²⁷は直接結合、メチレン
    基、−ＣＨ（Ｒ²⁹）−基（Ｒ²⁹は炭素数１〜４のアルキ
    ル基を示す。）、または硫黄原子を示し、ｎ³は１また
    は３を示し、ｎ³が３の場合Ｒ²⁸はＮ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ
    −）₃により表される基を示し、ｎ³が１の場合Ｒ²⁸は炭
    素数１〜１８のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ま
    たは炭素数１〜８のアルコキシ基を示す。）により表さ
    れる化合物の少なくとも１種である請求項１〜３のいず
    れか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。
13. 【請求項１３】 成分（ｂ）が、 ２，２−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニ
    ル）−２−エチルヘキシルホスファイト、 ６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第３級ブチル
    −１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジ
    オキサホスホシン、および２，２’，２”−ニトリロ
    ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第３
    級ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）
    ホスファイト］からなる群より選ばれる少なくとも１種
    である請求項１２に記載の有機高分子材料用安定剤組成
    物。
14. 【請求項１４】 成分（ｃ）が、一般式（１６） 【化３２】 （式中、Ｒ³⁰は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ³¹
    は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ³²は水素原子ま
    たはメチル基を示し、Ｌは、 【化３３】 または 【化３４】 または 【化３５】 または 【化３６】 または 【化３７】 を示す。）により表される構造を分子内に１つ以上含む
    化合物である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の有
    機高分子材料用安定剤組成物。
15. 【請求項１５】 成分（ｃ）が、 テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
    ロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、 ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
    第３級ブチルフェニル）プロピオネート、 トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
    ジル）イソシアヌレ−ト、および１，３，５−トリメチ
    ル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４
    −ヒドロキシベンジル）ベンゼンからなる群より選ばれ
    る少なくとも１種である請求項１〜１３のいずれか１項
    に記載の有機高分子材料用安定剤組成物。
16. 【請求項１６】 成分（ｃ）が、ｎ−オクタデシル ３
    −（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニ
    ル）プロピオネートおよびテトラキス［３−（３，５−
    ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
    ルオキシメチル］メタンからなる群より選ばれる少なく
    とも１種のフェノール系酸化防止剤である請求項１〜１
    ３のいずれか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成
    物。
17. 【請求項１７】 成分（ｂ）の配合量と、成分（ｃ）の
    配合量の重量比が、９：１〜１：９である請求項１〜１
    ６のいずれか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成
    物。
18. 【請求項１８】 成分（ｂ）の配合量と、成分（ｃ）の
    配合量の重量比が、４：１〜１：４である請求項１〜１
    ６のいずれか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成
    物。
19. 【請求項１９】 一般式（１）において、Ｒ¹が４，
    ８，１２−トリメチルトリデシル基である請求項１〜１
    ８のいずれか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成
    物。
20. 【請求項２０】 （ａ）：一般式 【化３８】 （式中、Ｒ¹は４，８，１２−トリメチルトリデシル基
    または４，８，１２−トリメチル−３，７，１１−トリ
    デカトリエニル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜５のアルキ
    ル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は同一または異なって
    いてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１〜４のア
    ルキル基を示し、Ｒ⁶は水素原子または炭素数１〜５の
    アルキル基を示す。）により表される化合物の少なくと
    も１種と、 （ｂ）：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
    ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトまたはテ
    トラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニ
    ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトを含有す
    るリン系酸化防止剤と、 （ｃ）：ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−
    ３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネートおよ
    びテトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒ
    ドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン
    からなる群より選ばれる少なくとも１種のフェノール系
    酸化防止剤とを含有し、成分（ａ）と成分（ｂ）と成分
    （ｃ）との総量に対して、成分（ａ）を１．０重量％〜
    ５．５重量％、成分（ｂ）と成分（ｃ）との総量を９
    ９．０重量％〜９４．５重量％の割合で含有する有機高
    分子材料用安定剤組成物。
21. 【請求項２１】 有機高分子に、請求項１〜２０のいず
    れか１項に記載の有機高分子材料用安定剤組成物を配合
    してなる有機高分子材料組成物。
22. 【請求項２２】 さらに硫黄系酸化防止剤および／また
    は光安定剤を含有する請求項２１に記載の有機高分子材
    料組成物。
23. 【請求項２３】 （ａ）：一般式（１） 【化３９】 （式中、Ｒ¹は炭素数６〜１８のアルキル基または炭素
    数６〜１８のアルケニル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜５
    のアルキル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は同一または
    異なっていてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１
    〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁶は水素原子または炭素数
    １〜５のアルキル基を示す。）により表される化合物の
    少なくとも１種、 （ｂ）次の（ｂ−１）、（ｂ−２）、（ｂ−３）および
    （ｂ−４）から選ばれるリン系酸化防止剤と、 （ｂ−１）：一般式（２） 【化４０】 （式中、Ｑ¹は一般式（３） 【化４１】 （式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は各々同一または異なっていても
    よく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁹は水素原
    子またはメチル基を示す。）を示し、Ｑ²は各々の繰り
    返し単位について独立して一般式（３） 【化４２】 （式中の記号は前記と同義である。）を示し、ｉは各々
    の繰り返し単位について独立して０または１を示し、ｊ
    は０または１を示し、ｎ¹は１〜１０の整数を示す。）
    または一般式（４） 【化４３】 （式中の記号は前記と同義である。）により表される化
    合物の少なくとも１種、 （ｂ−２）：一般式（５） 【化４４】 （式中、Ｒ¹⁰は、各々同一または異なっていてもよく、
    炭素数１〜１８のアルキル基、フェニル基、炭素数１〜
    ９のアルキル基で置換されたフェニル基、または一般式
    （６） 【化４５】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
    もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
    原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
    し、Ｒ¹¹は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜
    ９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル
    基、炭素数１〜９のアルキル基で置換されたフェニル
    基、または一般式（６） 【化４６】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
    もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
    原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
    す。）、または一般式（７） 【化４７】 （式中、Ｒ¹⁰は前記と同義であり、ｎ⁴は３を示し、Ｌ¹
    は１，１，３−ブタントリイル基を示す。）により表さ
    れる化合物の少なくとも１種、 （ｂ−３）：一般式（８） 【化４８】 または一般式（９） 【化４９】 （式中、ｑは１または２を表し、Ａはｑが１を表す場
    合、一般式（１０） 【化５０】 （式中、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹は同一または異なっていてもよ
    く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²⁰は
    水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示す。）に
    より表される基を示し、Ａはｑが２を表す場合、炭素数
    ２〜１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン基またはｐ−
    ビフェニレン基を示し、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、互いに独立
    して炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁷は互いに独
    立して炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜９のフ
    ェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ま
    たは一般式（１１） 【化５１】 （式中、Ｒ²¹およびＲ²²は同一または異なっていてもよ
    く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基または炭素数７
    〜９のフェニルアルキル基を示し、Ｒ²³は水素原子また
    は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）により表される
    基を示す。）により表される化合物の少なくとも１種、 （ｂ−４）：一般式（１２） 【化５２】 （式中、Ｒ²⁴は各々同一または異なっていてもよく炭素
    数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ²⁵は各々同一または異
    なっていてもよく水素原子または炭素数１〜５のアルキ
    ル基を示し、Ｒ²⁶は同一または異なっていてもよく水素
    原子またはメチル基を示し、Ｒ²⁷は直接結合、メチレン
    基、−ＣＨ（Ｒ²⁹）−基（Ｒ²⁹は炭素数１〜４のアルキ
    ル基を示す。）、または硫黄原子を示し、ｎ³は１また
    は３を示し、ｎ³が３の場合Ｒ²⁸はＮ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ
    −）₃により表される基を示し、ｎ³が１の場合Ｒ²⁸は炭
    素数１〜１８のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ま
    たは炭素数１〜８のアルコキシ基を示す。）により表さ
    れる化合物の少なくとも１種、 （ｃ）：フェノール系酸化防止剤、および （ｄ）：有機高分子を含有する有機高分子材料組成物で
    あって、有機高分子材料組成物１００重量部に対して、
    成分（ａ）を０．０００５重量部〜０．０１０重量部の
    範囲で含有する有機高分子材料組成物。
24. 【請求項２４】 有機高分子材料組成物１００重量部に
    対して、成分（ａ）を０．００１重量部〜０．００５重
    量部の範囲で含有する請求項２３に記載の有機高分子材
    料組成物。
25. 【請求項２５】 成分（ｂ）が一般式（２） 【化５３】 （式中、Ｑ¹は一般式（３） 【化５４】 （式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は同一または異なっていてもよ
    く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁹は
    水素原子またはメチル基を示す。）を示し、Ｑ²は各々
    の繰り返し単位について独立して一般式（３） 【化５５】 （式中の記号は前記と同義である。）を示し、ｉは各々
    の繰り返し単位について独立して０または１を示し、ｊ
    は０または１を示し、ｎ¹は１〜１０の整数を示す。）
    または一般式（４） 【化５６】 （式中の記号は前記と同義である。）により表される化
    合物の少なくとも１種である請求項２３または２４に記
    載の有機高分子材料組成物。
26. 【請求項２６】 成分（ｂ）が、一般式（１３） 【化５７】 （式中、Ｑ³は一般式（１４） 【化５８】 （式中、Ｒ⁹は水素原子またはメチル基を示す。）によ
    り表される基を示し、Ｑ⁴は各々の繰り返し単位につい
    て独立して一般式（１４） 【化５９】 （式中、Ｒ⁹は水素原子またはメチル基を示す。）によ
    り表される基を示し、ｉは各々の繰り返し単位について
    独立して０または１を示し、ｊは０または１を示し、ｎ
    ²は１〜３の整数を示す。）または一般式（１５） 【化６０】 （式中の記号は前記と同義である。）により表される化
    合物の少なくとも１種である請求項２５に記載の有機高
    分子材料組成物。
27. 【請求項２７】 成分（ｂ）が、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
    ４’−ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
    ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、 （２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ビス｛４’−
    （ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィ
    ノ）ビフェニル−４−イル｝ホスフィン、および（２，
    ４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ビス
    ｛４’−（ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
    フェノキシ）ホスフィノ）ビフェニル−４−イル｝ホス
    フィンからなる群より選ばれる少なくとも１種である請
    求項２６に記載の有機高分子材料組成物。
28. 【請求項２８】 成分（ｂ）が、テトラキス（２，４−
    ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジ
    ホスホナイトまたはテトラキス（２，４−ジ第３級ブチ
    ル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジ
    ホスホナイトを含有するリン系酸化防止剤である請求項
    ２６に記載の有機高分子材料組成物。
29. 【請求項２９】 成分（ｂ）が一般式（５） 【化６１】 （式中、Ｒ¹⁰は、各々同一または異なっていてもよく、
    炭素数１〜１８のアルキル基、フェニル基、炭素数１〜
    ９のアルキル基で置換されたフェニル基、または一般式
    （６） 【化６２】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
    もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
    原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
    し、Ｒ¹¹は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜
    ９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル
    基、炭素数１〜９のアルキル基で置換されたフェニル
    基、または一般式（６） 【化６３】 （式中、Ｒ¹²およびＲ¹³は各々同一または異なっていて
    もよく、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁴は水素
    原子またはメチル基を示す。）により表される基を示
    す。）、または一般式（７） 【化６４】 （式中、Ｒ¹⁰は前記と同義であり、ｎ⁴は３を示し、Ｌ¹
    は１，１，３−ブタントリイル基を示す。）により表さ
    れる化合物の少なくとも１種である請求項２３または２
    ４に記載の有機高分子材料組成物。
30. 【請求項３０】 成分（ｂ）が、 トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイ
    ト、 ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）
    エチルホスファイト、 トリフェニルホスファイト、 ジフェニルアルキルホスファイト、 フェニルジアルキルホスファイト、 トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、 トリラウリルホスファイト、 トリオクタデシルホスファイト、およびビス（２，４−
    ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフ
    ァイトからなる群より選ばれる少なくとも１種である請
    求項２９に記載の有機高分子材料組成物。
31. 【請求項３１】 成分（ｂ）が一般式（８） 【化６５】 または一般式（９） 【化６６】 （式中、ｑは１または２を表し、Ａはｑが１を表す場
    合、一般式（１０） 【化６７】 （式中、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹は同一または異なっていてもよ
    く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²⁰は
    水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示す。）に
    より表される基を示し、Ａはｑが２を表す場合、炭素数
    ２〜１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン基またはｐ−
    ビフェニレン基を示し、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、互いに独立
    して炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ¹⁷は互いに独
    立して炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数７〜９のフ
    ェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ま
    たは一般式（１１） 【化６８】 （式中、Ｒ²¹およびＲ²²は同一または異なっていてもよ
    く、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基または炭素数７
    〜９のフェニルアルキル基を示し、Ｒ²³は水素原子また
    は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）により表される
    基を示す。）により表される化合物の少なくとも１種で
    ある請求項２３または２４に記載の有機高分子材料組成
    物。
32. 【請求項３２】 成分（ｂ）が、 ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペンタエリス
    リトールジホスファイト、 ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）
    ペンタエリスリトールジホスファイト、 ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、 ビス（２，４−ジ（１−フェニル−１，１−ジメチルメ
    チル）フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイ
    ト、 （２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）−２−ブチ
    ル−２−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイ
    ト、 ビスイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、
    およびビス（２，４，６−トリ第３級ブチルフェニル）
    ペンタエリスリトールジホスファイトからなる群より選
    ばれる少なくとも１種である請求項３１に記載の有機高
    分子材料組成物。
33. 【請求項３３】 成分（ｂ）が一般式（１２） 【化６９】 （式中、Ｒ²⁴は各々同一または異なっていてもよく炭素
    数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ²⁵は各々同一または異
    なっていてもよく水素原子または炭素数１〜５のアルキ
    ル基を示し、Ｒ²⁶は同一または異なっていてもよく水素
    原子またはメチル基を示し、Ｒ²⁷は直接結合、メチレン
    基、−ＣＨ（Ｒ²⁹）−基（Ｒ²⁹は炭素数１〜４のアルキ
    ル基を示す。）、または硫黄原子を示し、ｎ³は１また
    は３を示し、ｎ³が３の場合Ｒ²⁸はＮ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ
    −）₃により表される基を示し、ｎ³が１の場合Ｒ²⁸は炭
    素数１〜１８のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ま
    たは炭素数１〜８のアルコキシ基を示す。）により表さ
    れる化合物の少なくとも１種である請求項２３または２
    ４に記載の有機高分子材料組成物。
34. 【請求項３４】 成分（ｂ）が、 ２，２−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニ
    ル）−２−エチルヘキシルホスファイト、 ６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第３級ブチル
    −１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジ
    オキサホスホシン、および２，２’，２”−ニトリロ
    ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第３
    級ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）
    ホスファイト］からなる群より選ばれる少なくとも１種
    である請求項３３に記載の有機高分子材料組成物。
35. 【請求項３５】 成分（ｃ）が、一般式（１６） 【化７０】 （式中、Ｒ³⁰は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ³¹
    は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ³²は水素原子ま
    たはメチル基を示し、Ｌは、 【化７１】 または 【化７２】 または 【化７３】 または 【化７４】 または 【化７５】 を示す。）により表される構造を分子内に１つ以上含む
    化合物である請求項２３〜３４のいずれか１項に記載の
    有機高分子材料組成物。
36. 【請求項３６】 成分（ｃ）が、 テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
    ロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、 ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
    第３級ブチルフェニル）プロピオネート、 トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
    ジル）イソシアヌレ−ト、および １，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
    −ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン
    からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項２
    ３〜３４のいずれか１項に記載の有機高分子材料組成
    物。
37. 【請求項３７】 成分（ｃ）が、ｎ−オクタデシル ３
    −（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニ
    ル）プロピオネートおよびテトラキス［３−（３，５−
    ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
    ルオキシメチル］メタンからなる群より選ばれる少なく
    とも１種のフェノール系酸化防止剤である請求項２３〜
    ３４のいずれか１項に記載の有機高分子材料組成物。
38. 【請求項３８】 成分（ｂ）の配合量と、成分（ｃ）の
    配合量の重量比が、９：１〜１：９である請求項２３〜
    ３７のいずれか１項に記載の有機高分子材料組成物。
39. 【請求項３９】 成分（ｂ）の配合量と、成分（ｃ）の
    配合量の重量比が、４：１〜１：４である請求項２３〜
    ３７のいずれか１項に記載の有機高分子材料組成物。
40. 【請求項４０】 一般式（１）において、Ｒ¹が４，
    ８，１２−トリメチルトリデシル基である請求項２３〜
    ３９のいずれか１項に記載の有機高分子材料組成物。
41. 【請求項４１】 有機高分子が、合成樹脂である請求項
    ２３〜４０のいずれか１項に記載の有機高分子材料組成
    物。
42. 【請求項４２】 有機高分子が、オレフィン系樹脂であ
    る請求項２３〜４０のいずれか１項に記載の有機高分子
    材料組成物。
43. 【請求項４３】 有機高分子が、ポリエチレン系樹脂、
    ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂とポリプロ
    ピレン系樹脂との混和物または相溶性重合体、ポリエチ
    レン系樹脂および／またはポリプロピレン系樹脂を含む
    相溶性重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、または
    エチレン−プロピレン共重合体である請求項２３〜４０
    のいずれか１項に記載の有機高分子材料組成物。
44. 【請求項４４】 （ａ）：一般式 【化７６】 （式中、Ｒ¹は４，８，１２−トリメチルトリデシル基
    または４，８，１２−トリメチル−３，７，１１−トリ
    デカトリエニル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜５のアルキ
    ル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は同一または異なって
    いてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１〜４のア
    ルキル基を示し、Ｒ⁶は水素原子または炭素数１〜５の
    アルキル基を示す。）により表される化合物の少なくと
    も１種、 （ｂ）：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
    ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトまたはテ
    トラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニ
    ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトを含有す
    るリン系酸化防止剤、 （ｃ）：ｎ−オクタデシル ３−（４−ヒドロキシ−
    ３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネートおよ
    びテトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒ
    ドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン
    からなる群より選ばれる少なくとも１種のフェノール系
    酸化防止剤、および （ｄ）：ポリオレフィン系樹脂を含有する有機高分子材
    料組成物であって、有機高分子材料組成物１００重量部
    に対して、成分（ａ）を０．０００５重量部〜０．０１
    ０重量部の範囲で含有する有機高分子材料組成物。
45. 【請求項４５】 ポリオレフィン系樹脂が、ポリエチレ
    ンまたはポリプロピレンである請求項４４に記載の有機
    高分子材料組成物。
46. 【請求項４６】 さらに硫黄系酸化防止剤および／また
    は光安定剤を含有する請求項２３〜４５のいずれか１項
    に記載の有機高分子材料組成物。