JP2001046927A - 静電回転噴霧装置 - Google Patents
静電回転噴霧装置Info
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 単位時間当り高いラッカー量において、大径
の回転噴霧装置の場合に匹敵する噴霧品質で、極力小径
のスプレーパターンを生成することを可能とする噴霧ヘ
ッドを備えた回転噴霧装置を提供すること。 【解決手段】 本発明は、被覆剤、特に塗料、ラッカー
等を塗布するための静電回転噴霧装置であって、回転駆
動される軸４に配置される噴霧ヘッド２とこの噴霧ヘッ
ド２の内部９に被覆剤用ノズル８とを有するものに関す
る。本発明の核心として、噴霧ヘッドがその周面に、被
覆剤用噴霧エッジ１４を備えた複数の噴出孔１３を有す
る。
の回転噴霧装置の場合に匹敵する噴霧品質で、極力小径
のスプレーパターンを生成することを可能とする噴霧ヘ
ッドを備えた回転噴霧装置を提供すること。 【解決手段】 本発明は、被覆剤、特に塗料、ラッカー
等を塗布するための静電回転噴霧装置であって、回転駆
動される軸４に配置される噴霧ヘッド２とこの噴霧ヘッ
ド２の内部９に被覆剤用ノズル８とを有するものに関す
る。本発明の核心として、噴霧ヘッドがその周面に、被
覆剤用噴霧エッジ１４を備えた複数の噴出孔１３を有す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗布されるべき被
覆剤の静電荷により作動し且つ噴霧ヘッドを有し、この
噴霧ヘッドが、回転駆動軸に配置され且つ被覆剤用ノズ
ルを含む、静電回転噴霧装置に関する。
覆剤の静電荷により作動し且つ噴霧ヘッドを有し、この
噴霧ヘッドが、回転駆動軸に配置され且つ被覆剤用ノズ
ルを含む、静電回転噴霧装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】塗料又はラッカー等の被覆剤は、一般
に、被動中空軸の内部で定置ノズルに供給される。ノズ
ルから被覆剤は、高速で回転する一般にベル型の噴霧ヘ
ッドに達し、最後にはその噴霧エッジから放出される。
これらの特徴がドイツ実用新案（deutscher Gebrauchsm
uster）第９２１７４５８号公報に図示し説明されてい
る。噴霧エッジから半径方向に噴出されたラッカー粒子
が被塗物に達するように、噴霧されたラッカーは軸方向
で前方に移動しなければならない。このため、この方向
で作用する静電力の他に、通常、誘導空気流（Lenkluft
stroemung）も利用される。誘導空気流は、回転式ベル
型噴霧装置の背後で穴のリム（Kranz）から噴出し、次
に軸方向で、噴霧されたラッカー粒子に作用する。
に、被動中空軸の内部で定置ノズルに供給される。ノズ
ルから被覆剤は、高速で回転する一般にベル型の噴霧ヘ
ッドに達し、最後にはその噴霧エッジから放出される。
これらの特徴がドイツ実用新案（deutscher Gebrauchsm
uster）第９２１７４５８号公報に図示し説明されてい
る。噴霧エッジから半径方向に噴出されたラッカー粒子
が被塗物に達するように、噴霧されたラッカーは軸方向
で前方に移動しなければならない。このため、この方向
で作用する静電力の他に、通常、誘導空気流（Lenkluft
stroemung）も利用される。誘導空気流は、回転式ベル
型噴霧装置の背後で穴のリム（Kranz）から噴出し、次
に軸方向で、噴霧されたラッカー粒子に作用する。
【０００３】ベル型噴霧装置の直径とその回転数とに依
存してスプレーパターンは直径が約５００〜７００ｍｍ
である。このような塗装工程では、半径方向遠心力と、
回転式噴霧装置によって引き起こされるやはり半径方向
の空気流と、軸方向で作用する誘導空気流が重畳する。
存してスプレーパターンは直径が約５００〜７００ｍｍ
である。このような塗装工程では、半径方向遠心力と、
回転式噴霧装置によって引き起こされるやはり半径方向
の空気流と、軸方向で作用する誘導空気流が重畳する。
【０００４】特にメタリックラッカーを噴霧する場合、
前記境界条件は、従来のエア噴霧式スプレーガンでメタ
リックラッカーを塗布する場合とは著しく異なる構成の
メタリック効果の達成をもたらす。
前記境界条件は、従来のエア噴霧式スプレーガンでメタ
リックラッカーを塗布する場合とは著しく異なる構成の
メタリック効果の達成をもたらす。
【０００５】このように異なる構成のメタリック効果の
結果、メタリックラッカーの第２層は実際には大抵の場
合静電噴霧装置によってではなく従来のエア噴霧式スプ
レーガンで塗布され、そのことからラッカー損失が著し
く多くなる。
結果、メタリックラッカーの第２層は実際には大抵の場
合静電噴霧装置によってではなく従来のエア噴霧式スプ
レーガンで塗布され、そのことからラッカー損失が著し
く多くなる。
【０００６】更に、ベル型噴霧装置でラッカーを自動静
電噴霧するとき、４００ｍｍ未満のスプレーパターン径
を達成するのが困難である。この問題は例えば細い異形
帯材の塗装時に生じるか、又はラッカーがアンダカット
（Hinterschneidung）、くぼみ又はその他のいわゆるフ
ァラデー箱（Faradaysche Kaefig）内に達すべき場合に
生じる。
電噴霧するとき、４００ｍｍ未満のスプレーパターン径
を達成するのが困難である。この問題は例えば細い異形
帯材の塗装時に生じるか、又はラッカーがアンダカット
（Hinterschneidung）、くぼみ又はその他のいわゆるフ
ァラデー箱（Faradaysche Kaefig）内に達すべき場合に
生じる。
【０００７】ベル型噴霧装置の直径を通常よりも著しく
小さく選定するとき、一層小さな直径でもスプレーパタ
ーンを達成することは、基本的に確かに可能ではある。
しかしそれに伴って噴霧エッジの長さが短くなり、その
ため噴霧能力が低下するので、このようなベル型回転噴
霧装置では単位時間当り著しく少ない量のラッカーを処
理することができるにすぎない。
小さく選定するとき、一層小さな直径でもスプレーパタ
ーンを達成することは、基本的に確かに可能ではある。
しかしそれに伴って噴霧エッジの長さが短くなり、その
ため噴霧能力が低下するので、このようなベル型回転噴
霧装置では単位時間当り著しく少ない量のラッカーを処
理することができるにすぎない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、単位
時間当り高いラッカー量において、大径の回転噴霧装置
の場合に匹敵する噴霧品質で、極力小径のスプレーパタ
ーンを生成することを可能とする噴霧ヘッドを備えた回
転噴霧装置を提供することである。
時間当り高いラッカー量において、大径の回転噴霧装置
の場合に匹敵する噴霧品質で、極力小径のスプレーパタ
ーンを生成することを可能とする噴霧ヘッドを備えた回
転噴霧装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明では、噴霧ヘッドがその周面に、被覆剤用噴霧
エッジを備え、軸方向で相互に距離を置いて配置される
複数の噴出孔を有する。
に本発明では、噴霧ヘッドがその周面に、被覆剤用噴霧
エッジを備え、軸方向で相互に距離を置いて配置される
複数の噴出孔を有する。
【００１０】本発明がもたらす結果として、小さなスプ
レーパターンを生成するのに適した噴霧ヘッドは、小さ
な直径にもかかわらず、従来公知の大径噴霧ヘッドと同
量のラッカーをなお噴霧することができる。大切な点は
十分な数の噴霧エッジを備えた噴出孔が噴霧ヘッドに設
けられていることであり、その際、これらの噴出孔は望
ましくは、軸方向で前後に配置される複数の噴霧エッジ
を形成する。このような噴霧ヘッドで達成可能なスプレ
ーパターンは、目的の小さな直径を有し、なおかつ、単
位時間当り大量のラッカーを処理することができる。最
終的に、メタリックラッカー処理時のメタリック効果も
エア噴霧式スプレーガン使用時のと同じ現象パターンを
有する。ファラデー箱の作用を有する形状内への噴霧さ
れた帯電ラッカーの浸入も一層良好に実現することがで
きる。
レーパターンを生成するのに適した噴霧ヘッドは、小さ
な直径にもかかわらず、従来公知の大径噴霧ヘッドと同
量のラッカーをなお噴霧することができる。大切な点は
十分な数の噴霧エッジを備えた噴出孔が噴霧ヘッドに設
けられていることであり、その際、これらの噴出孔は望
ましくは、軸方向で前後に配置される複数の噴霧エッジ
を形成する。このような噴霧ヘッドで達成可能なスプレ
ーパターンは、目的の小さな直径を有し、なおかつ、単
位時間当り大量のラッカーを処理することができる。最
終的に、メタリックラッカー処理時のメタリック効果も
エア噴霧式スプレーガン使用時のと同じ現象パターンを
有する。ファラデー箱の作用を有する形状内への噴霧さ
れた帯電ラッカーの浸入も一層良好に実現することがで
きる。
【００１１】本発明のその他の特徴は、明細書及び図面
に関連して従属請求項から明らかとなる。
に関連して従属請求項から明らかとなる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図面に示された実施例に基づいて
以下に本発明を詳しく説明する。
以下に本発明を詳しく説明する。
【００１３】図１の回転噴霧装置１が噴霧ヘッド２を含
み、この噴霧ヘッドはケース３内において基本的に公知
の方法で軸４に支承されている。この軸４は中空軸であ
る。軸の内部にある供給管５がラッカー若しくは洗浄剤
用穴６、７を備えている。穴６、７は供給管５の自由端
のノズル８へと通じている。図２によれば、塗装工程中
も停止しているノズル８が噴霧ヘッド２の内部９にあ
る。
み、この噴霧ヘッドはケース３内において基本的に公知
の方法で軸４に支承されている。この軸４は中空軸であ
る。軸の内部にある供給管５がラッカー若しくは洗浄剤
用穴６、７を備えている。穴６、７は供給管５の自由端
のノズル８へと通じている。図２によれば、塗装工程中
も停止しているノズル８が噴霧ヘッド２の内部９にあ
る。
【００１４】中空軸４の駆動と、供給管５内への穴６、
７の設置は、公知の回転噴霧装置と相違していない。ま
た、ノズル８は基本的に公知の方法で液体被覆剤若しく
は洗浄剤を案内し放出するのに役立つ。しかしながら、
ノズル８若しくはその孔は、円筒形噴流ではなく扇形噴
流若しくは円錐形状の噴流が生じるように形成されてい
るのが望ましい。
７の設置は、公知の回転噴霧装置と相違していない。ま
た、ノズル８は基本的に公知の方法で液体被覆剤若しく
は洗浄剤を案内し放出するのに役立つ。しかしながら、
ノズル８若しくはその孔は、円筒形噴流ではなく扇形噴
流若しくは円錐形状の噴流が生じるように形成されてい
るのが望ましい。
【００１５】噴霧ヘッド２は、実施例によれば外側がほ
ぼ円筒形の保持兼支持要素１０を含み、この保持兼支持
要素は同時に軸の自由端１１に固着するのに役立つ。ノ
ズル８はこの場合噴霧ヘッド２のほぼ中心にある。
ぼ円筒形の保持兼支持要素１０を含み、この保持兼支持
要素は同時に軸の自由端１１に固着するのに役立つ。ノ
ズル８はこの場合噴霧ヘッド２のほぼ中心にある。
【００１６】最初の実施例によれば軸方向でノズル８の
前、若しくは図２においてその左側に、多部分からなる
噴霧要素１２が配置されている。
前、若しくは図２においてその左側に、多部分からなる
噴霧要素１２が配置されている。
【００１７】噴霧ヘッド２は噴霧要素１２の領域に、周
面側（umfangsseitig）及び軸方向で相互に距離を置い
て配置される被覆剤用若しくは洗浄剤用噴出孔１３を複
数有する。噴出孔１３はそれぞれ噴霧要素１２若しくは
噴霧ヘッド２の周面全体にわたって延びている。実施例
によれば、噴霧ヘッド２に９つの環状噴出孔１３が設け
られている。
面側（umfangsseitig）及び軸方向で相互に距離を置い
て配置される被覆剤用若しくは洗浄剤用噴出孔１３を複
数有する。噴出孔１３はそれぞれ噴霧要素１２若しくは
噴霧ヘッド２の周面全体にわたって延びている。実施例
によれば、噴霧ヘッド２に９つの環状噴出孔１３が設け
られている。
【００１８】周方向に延びる２つの円形噴霧エッジ１４
が各噴出孔１３に属している。９つの噴出孔１３に合わ
せて、噴霧ヘッド２は２倍の数の噴霧エッジ１４をそれ
ぞれ軸方向で相互に距離を置いて有する。
が各噴出孔１３に属している。９つの噴出孔１３に合わ
せて、噴霧ヘッド２は２倍の数の噴霧エッジ１４をそれ
ぞれ軸方向で相互に距離を置いて有する。
【００１９】各２つの噴霧エッジ１４に対して少なくと
も各１つの被処理液用供給面１５及び／又は少なくとも
１つの供給通路１６が設けられている。
も各１つの被処理液用供給面１５及び／又は少なくとも
１つの供給通路１６が設けられている。
【００２０】複数のディスク１７が噴霧エッジ１４を形
成するのに役立つ。実施例によればディスク１７は環状
である。実施例によればすべてのディスク１７の外径は
等しい。ディスク１７の中心に配置される穴１８はディ
スクごとに段階付けられており、ノズル８に隣接したデ
ィスク１９が最大径の穴を有し、成端ディスク２０（Ab
schlussscheibe）又はそれに最も近いディスク２１が最
小穴径を有する。
成するのに役立つ。実施例によればディスク１７は環状
である。実施例によればすべてのディスク１７の外径は
等しい。ディスク１７の中心に配置される穴１８はディ
スクごとに段階付けられており、ノズル８に隣接したデ
ィスク１９が最大径の穴を有し、成端ディスク２０（Ab
schlussscheibe）又はそれに最も近いディスク２１が最
小穴径を有する。
【００２１】実施例によれば成端ディスク２０は中心に
配置される噴出孔２０’を有する。この噴出孔２０’は
ラバル管（Laval-Duese）と同様の形姿を有する。ノズ
ル８から噴霧要素１２に供給される液の一部は中央の噴
出孔２０’から噴出し、遠心力によって露出正面２０”
を経て噴霧エッジ１４’に達する。
配置される噴出孔２０’を有する。この噴出孔２０’は
ラバル管（Laval-Duese）と同様の形姿を有する。ノズ
ル８から噴霧要素１２に供給される液の一部は中央の噴
出孔２０’から噴出し、遠心力によって露出正面２０”
を経て噴霧エッジ１４’に達する。
【００２２】ディスク１７はすべて、そして実施例によ
れば成端ディスク２０も、ノズル８に向き合う側に環状
隆起部若しくは環状鍔部（Bund）２２を有する。各環状
鍔部２２の外径はディスク１７の外径よりも小さい。鍔
部２２の内径はディスク１７の穴１８の直径よりも大き
い。これにより、組立状態のとき噴霧要素１２の周面に
スリット状溝２３が位置し、噴霧エッジ１４を備えた噴
出孔１３を形成する。
れば成端ディスク２０も、ノズル８に向き合う側に環状
隆起部若しくは環状鍔部（Bund）２２を有する。各環状
鍔部２２の外径はディスク１７の外径よりも小さい。鍔
部２２の内径はディスク１７の穴１８の直径よりも大き
い。これにより、組立状態のとき噴霧要素１２の周面に
スリット状溝２３が位置し、噴霧エッジ１４を備えた噴
出孔１３を形成する。
【００２３】半径方向を向く多くの供給通路１６が各噴
霧エッジ１４に通じている。供給通路はそれぞれ各鍔部
２２の領域に三角形断面を有し、そのことは特に図２の
図示から中心線２４の領域で明らかとなる。各鍔部２２
の領域で断面が三角形の供給通路１６は、半径方向外側
にある環状供給面１５の領域では、僅かな深さの切欠き
若しくは条溝にすぎない。それ故に、外側にある環状供
給面１５は図２、図５、図６に示す実施例によればロー
レット切りされている。
霧エッジ１４に通じている。供給通路はそれぞれ各鍔部
２２の領域に三角形断面を有し、そのことは特に図２の
図示から中心線２４の領域で明らかとなる。各鍔部２２
の領域で断面が三角形の供給通路１６は、半径方向外側
にある環状供給面１５の領域では、僅かな深さの切欠き
若しくは条溝にすぎない。それ故に、外側にある環状供
給面１５は図２、図５、図６に示す実施例によればロー
レット切りされている。
【００２４】供給通路１６に付属した切欠き１６’はデ
ィスク１７若しくは２０のそれぞれノズル側正面で、穴
１８に達する前に、半径方向内側で徐々に成端してい
る。
ィスク１７若しくは２０のそれぞれノズル側正面で、穴
１８に達する前に、半径方向内側で徐々に成端してい
る。
【００２５】正面側に配置される成端ディスク２０を含
めてディスク１７を固着するのには例えばねじの態様の
取付手段２５が役立つ。取付手段は穴２６に通される。
これらの穴２６は望ましくはそれぞれディスク１７の鍔
部２２の領域にある。
めてディスク１７を固着するのには例えばねじの態様の
取付手段２５が役立つ。取付手段は穴２６に通される。
これらの穴２６は望ましくはそれぞれディスク１７の鍔
部２２の領域にある。
【００２６】ディスク１７の相互固着若しくは保持兼支
持要素１０への固着はその他の接着、締付等の固着技術
によっても可能である。
持要素１０への固着はその他の接着、締付等の固着技術
によっても可能である。
【００２７】取付手段２５若しくはねじでディスク１
７、２０は保持兼支持要素１０に固定されている。保持
兼支持要素１０は筒状若しくは環状である。図２によれ
ば保持兼支持要素は外側が円筒形、内側が複数の階段状
であり、軸４の自由端１１に固着可能である。
７、２０は保持兼支持要素１０に固定されている。保持
兼支持要素１０は筒状若しくは環状である。図２によれ
ば保持兼支持要素は外側が円筒形、内側が複数の階段状
であり、軸４の自由端１１に固着可能である。
【００２８】噴霧ディスクとして役立つ環状ディスク１
７は、さまざまな穴径に基づいて、ノズル８から流入す
る液がディスク１７の間の空隙に分布することを引き起
こす。次いで、そこで液は半径方向で噴霧エッジ１４に
供給される。ディスク１７の数に合わせて設けられる多
数の噴霧エッジ１４若しくはそれらの全長は、ディスク
１７の直径が小さい場合でも、単位時間当り大量のラッ
カーを高品質で処理することを可能とする。
７は、さまざまな穴径に基づいて、ノズル８から流入す
る液がディスク１７の間の空隙に分布することを引き起
こす。次いで、そこで液は半径方向で噴霧エッジ１４に
供給される。ディスク１７の数に合わせて設けられる多
数の噴霧エッジ１４若しくはそれらの全長は、ディスク
１７の直径が小さい場合でも、単位時間当り大量のラッ
カーを高品質で処理することを可能とする。
【００２９】図３には図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った
断面が、但し変更態様の噴霧ヘッド２ａについて、示し
てある。基本的に同じ部品には同じ符号と添字ａが付け
てある。
断面が、但し変更態様の噴霧ヘッド２ａについて、示し
てある。基本的に同じ部品には同じ符号と添字ａが付け
てある。
【００３０】噴霧ヘッド２ａは、各ディスク１７ａの鍔
部２２ａと噴霧エッジ１４ａとの間の半径方向外側にあ
る環状供給面１５ａがローレット切りされていない点で
のみ、噴霧ヘッド２と相違している。ディスク滑らかな
環状面である。
部２２ａと噴霧エッジ１４ａとの間の半径方向外側にあ
る環状供給面１５ａがローレット切りされていない点で
のみ、噴霧ヘッド２と相違している。ディスク滑らかな
環状面である。
【００３１】図４に示した細部は変更態様のディスク１
７ｂに関するものであり、このディスクは、平滑供給面
１５ａの代わりに、噴霧エッジ１４ｂの近傍で斑点が設
けられた供給面１５ｂを有する。
７ｂに関するものであり、このディスクは、平滑供給面
１５ａの代わりに、噴霧エッジ１４ｂの近傍で斑点が設
けられた供給面１５ｂを有する。
【００３２】図２と図６に示すディスク１７のその他の
変更態様が図７と図８から明らかとなる。ディスク１７
ｃは、ノズル側に、穴１８ｃを制限する環状刃（Ringsc
hneide）２７ｃを備えている。この環状刃２７ｃは衝突
する液流を半径方向外方に、隣接する環状面２８ｃへと
導く。匹敵する環状面２８ｃ（図３）をすべてのディス
クが有する。
変更態様が図７と図８から明らかとなる。ディスク１７
ｃは、ノズル側に、穴１８ｃを制限する環状刃（Ringsc
hneide）２７ｃを備えている。この環状刃２７ｃは衝突
する液流を半径方向外方に、隣接する環状面２８ｃへと
導く。匹敵する環状面２８ｃ（図３）をすべてのディス
クが有する。
【００３３】図７から更に明らかとなるように、ディス
ク１７ｃは、ディスク平面３０ｃに対して曲げられ、噴
霧エッジ１４ｃを担持する外縁３１ｃを有することもで
きる。円錐台形の曲がった外縁３１ｃは半径方向外方に
流れる液を方向転換させ、これにより液の半径方向加速
度が低減し、かつ接線方向で加速される。供給面１５ｃ
は平滑にしておくことができるか、又は図７に従ってロ
ーレット切りしておくことができる。
ク１７ｃは、ディスク平面３０ｃに対して曲げられ、噴
霧エッジ１４ｃを担持する外縁３１ｃを有することもで
きる。円錐台形の曲がった外縁３１ｃは半径方向外方に
流れる液を方向転換させ、これにより液の半径方向加速
度が低減し、かつ接線方向で加速される。供給面１５ｃ
は平滑にしておくことができるか、又は図７に従ってロ
ーレット切りしておくことができる。
【００３４】図８は、完全に又は部分的に湾曲した他の
ディスク１７ｄの細部を示す。その供給面１５ｄも平滑
にしておくことができるか、又は図８に従ってローレッ
ト切りしておくことができ、このために、他のローレッ
ト切りディスクと同様に条溝３２ｄを有することができ
る。
ディスク１７ｄの細部を示す。その供給面１５ｄも平滑
にしておくことができるか、又は図８に従ってローレッ
ト切りしておくことができ、このために、他のローレッ
ト切りディスクと同様に条溝３２ｄを有することができ
る。
【００３５】供給管５の自由端のノズル８は円錐形液流
又は扇形状の液流を生じさせる。そのことが図９に示し
てある。
又は扇形状の液流を生じさせる。そのことが図９に示し
てある。
【００３６】変更態様の噴霧要素１２ｅを備えた他の噴
霧ヘッド２ｅが図１０に示してある。保持兼支持要素１
０ｅは図２の実施例のものに殆ど一致している。それぞ
れに付属した噴霧エッジ１４ｅを備えた噴出孔１３ｅを
形成するのに多孔質体３３ｅを使用する。この多孔質体
３３ｅは正面側で保持兼支持要素１０ｅに環状に配置さ
れている。図２の噴霧ヘッド２の場合と同じように、成
端ディスク２０ｅが正面側で噴霧要素１２ｅを閉鎖す
る。
霧ヘッド２ｅが図１０に示してある。保持兼支持要素１
０ｅは図２の実施例のものに殆ど一致している。それぞ
れに付属した噴霧エッジ１４ｅを備えた噴出孔１３ｅを
形成するのに多孔質体３３ｅを使用する。この多孔質体
３３ｅは正面側で保持兼支持要素１０ｅに環状に配置さ
れている。図２の噴霧ヘッド２の場合と同じように、成
端ディスク２０ｅが正面側で噴霧要素１２ｅを閉鎖す
る。
【００３７】ノズル８ｅから噴霧要素１２ｅの内輪郭
（Innenkontur）３４ｅに飛散された液は噴霧要素１２
ｅの多孔質構造体を通して噴出孔１３ｅまで流れ、次に
その噴霧エッジ１４ｅから放出される。
（Innenkontur）３４ｅに飛散された液は噴霧要素１２
ｅの多孔質構造体を通して噴出孔１３ｅまで流れ、次に
その噴霧エッジ１４ｅから放出される。
【００３８】図１１の他の実施例は噴霧要素１２ｆとし
てブシュ状体（buechsenfoermigenKoerper）３５ｆを有
する。半径方向を向く貫通穴３７ｆがブシュ状体の円筒
壁３６ｆにある。貫通穴の半径方向外側にある末端が噴
出孔１３ｆと付属の噴霧エッジ１４ｆとを形成する。
てブシュ状体（buechsenfoermigenKoerper）３５ｆを有
する。半径方向を向く貫通穴３７ｆがブシュ状体の円筒
壁３６ｆにある。貫通穴の半径方向外側にある末端が噴
出孔１３ｆと付属の噴霧エッジ１４ｆとを形成する。
【００３９】やはりブシュ状体３５ｉを噴霧要素１２ｉ
として備えた噴霧ヘッド２ｉの最後の実施例が図１２に
示してある。噴出孔１３ｉと付属の噴霧エッジ１４ｉと
を形成するために円筒壁３６ｉが多数の溝孔３８ｉを有
する。溝孔は一定した断面を有する内輪郭３４ｉから噴
霧エッジ１４ｉまで延びている。溝孔３８ｉは周方向で
複数の一直線に並んだ列に配置されており、その長手軸
が噴霧ヘッド２ｉの中心線２４ｉに平行である。
として備えた噴霧ヘッド２ｉの最後の実施例が図１２に
示してある。噴出孔１３ｉと付属の噴霧エッジ１４ｉと
を形成するために円筒壁３６ｉが多数の溝孔３８ｉを有
する。溝孔は一定した断面を有する内輪郭３４ｉから噴
霧エッジ１４ｉまで延びている。溝孔３８ｉは周方向で
複数の一直線に並んだ列に配置されており、その長手軸
が噴霧ヘッド２ｉの中心線２４ｉに平行である。
【図１】回転噴霧装置の部分断面図である。
【図２】図５のローレット切りされた噴霧エッジを有す
る噴霧ヘッドの切欠き拡大断面図である。
る噴霧ヘッドの切欠き拡大断面図である。
【図３】噴霧エッジの他に平滑環状面を有する図２のＩ
ＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
ＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【図４】斑点列を有する噴霧エッジの細部図である。
【図５】ローレット切りされた噴霧エッジの細部を図４
と同様に示す図である。
と同様に示す図である。
【図６】ローレット切りされた噴霧エッジを有する噴霧
ディスクの断面図である。
ディスクの断面図である。
【図７】変更態様の噴霧ディスクの切欠き断面図であ
る。
る。
【図８】他の変更態様の噴霧ディスクの切欠き断面図で
ある。
ある。
【図９】噴霧ヘッドの保持兼支持要素を図２と同様に示
す断面図である。
す断面図である。
【図１０】変更態様の噴霧ヘッドを図２と同様に示す断
面図である。
面図である。
【図１１】他の噴霧ヘッドを図２と同様に示す断面図で
ある。
ある。
【図１２】最後の実施例の断面図である。
１ 回転噴霧装置 ２ 噴霧ヘッド ４ 回転駆動軸 ８ 被覆剤用ノズル ９ 噴霧ヘッド内部 １２ 噴霧要素 １３、１３ｅ、１３ｆ、１３ｉ 噴出孔 １４、１４ｃ、１４ｅ、１４ｆ、１４ｉ 噴霧エッジ １５ 被覆剤供給面 １６ 被覆剤供給通路 １７、１７ｃ、１７ｄ ディスク １８、１８ｃ 穴 ２０ 成端ディスク ２０' 噴出孔 ２２ 環状鍔部 ２３ スリット状溝 ２４ｉ 中心線 ２７ｃ 環状切刃 ２８ 供給面 ３３ｅ 多孔質体 ３７ｆ 貫通穴 ３８ｉ 溝孔
Claims (20)
- 【請求項１】 被覆剤、特に塗料、ラッカー等を塗布す
るための静電回転噴霧装置であって、回転駆動される軸
（４）に配置される噴霧ヘッド（２）とこの噴霧ヘッド
（２）の内部（９）に被覆剤用ノズル（８）とを有する
ものにおいて、被覆剤用噴霧エッジ（１４）を備えた複
数の噴出孔（１３）が噴霧ヘッド（２）の周面に軸方向
で相互に距離を置いて配置されることを特徴とする、回
転噴霧装置。 - 【請求項２】 噴出孔（１３ｅ）及び噴霧エッジ（１４
ｅ）を形成するために多孔質体（３３ｅ）が設けられて
いることを特徴とする、請求項１記載の回転噴霧装置。 - 【請求項３】 噴出孔（１３ｆ）及び噴霧エッジ（１４
ｆ）を形成するために、半径方向に向けられて周方向及
び軸方向で並置された貫通穴（３７ｆ）が設けられてい
ることを特徴とする、請求項１記載の回転噴霧装置。 - 【請求項４】 溝孔（３８ｉ）が噴出孔（１３ｉ）とし
て、かつ噴霧エッジ（１４ｉ）を形成するために、それ
ぞれ設けられていることを特徴とする、請求項１記載の
回転噴霧装置。 - 【請求項５】 溝孔（３８ｉ）がその中心線（２４ｉ）
に平行な方向に延びていることを特徴とする、請求項１
又は４記載の回転噴霧装置。 - 【請求項６】 各噴霧エッジ（１４）に対して１つの被
覆剤供給面（１５）及び／又は少なくとも１つの被覆剤
供給通路（１６）が設けられていることを特徴とする、
請求項１乃至５のいずれか１項記載の回転噴霧装置。 - 【請求項７】 噴霧エッジ（１４）を形成するためのス
リット状溝（２３）が設けられていることを特徴とす
る、請求項１乃至６のいずれか１項記載の回転噴霧装
置。 - 【請求項８】 円環状噴霧エッジ（１４）を形成するた
めに複数のディスク（１７）が設けられていることを特
徴とする、請求項１乃至７のいずれか１項記載の回転噴
霧装置。 - 【請求項９】 ディスク（１７）が供給面（１５、２
８）と供給通路（１６）を有することを特徴とする、請
求項１乃至８のいずれか１項記載の回転噴霧装置。 - 【請求項１０】 ディスク（１７）が環状であることを
特徴とする、請求項１乃至９のいずれか１項記載の回転
噴霧装置。 - 【請求項１１】 ディスク（１７ｃ）が噴霧エッジ（１
４ｃ）の領域で円錐台形に曲げられていることを特徴と
する、請求項１乃至１０のいずれか１項記載の回転噴霧
装置。 - 【請求項１２】 ディスク（１７ｄ）が少なくとも一部
で湾曲されていることを特徴とする、請求項１乃至１１
のいずれか１項記載の回転噴霧装置。 - 【請求項１３】 ディスク（１７）が、それぞれ中心に
配置される各種口径の穴（１８）を有することを特徴と
する、請求項１乃至１２のいずれか１項記載の回転噴霧
装置。 - 【請求項１４】 ディスク（１７）の穴（１８）の直径
がノズル（８）から成端ディスク（２０）へと段階的に
減少していることを特徴とする、請求項１乃至１３のい
ずれか１項記載の回転噴霧装置。 - 【請求項１５】 ディスク（１７、２０）がその一方の
正面に、又は両面に、環状鍔部（２２）を有することを
特徴とする、請求項１乃至１４のいずれか１項記載の回
転噴霧装置。 - 【請求項１６】 ディスク（１７ｃ）がノズル側に、穴
（１８ｃ）を制限する環状刃（２７ｃ）を有することを
特徴とする、請求項１乃至１５のいずれか１項記載の回
転噴霧装置。 - 【請求項１７】 ディスク（１７）が正面側に切欠きを
有することを特徴とする、請求項１乃至１６のいずれか
１項記載の回転噴霧装置。 - 【請求項１８】 成端ディスク（２０）が、中心に配置
される噴出孔（２０’）を有することを特徴とする、請
求項１乃至１７のいずれか１項記載の回転噴霧装置。 - 【請求項１９】 液流を扇形又は円錐形とするノズル
（８）を特徴とする、請求項１乃至１８のいずれか１項
記載の回転噴霧装置。 - 【請求項２０】 可変数の噴霧ディスク（１７）を備え
た噴霧要素（１２）を特徴とする、請求項１乃至１９の
いずれか１項記載の回転噴霧装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19935253A DE19935253A1 (de) | 1999-07-27 | 1999-07-27 | Elektrostatischer Rotationszerstäuber |
| DE19935253:4 | 1999-07-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001046927A true JP2001046927A (ja) | 2001-02-20 |
Family
ID=7916219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000221761A Pending JP2001046927A (ja) | 1999-07-27 | 2000-07-24 | 静電回転噴霧装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1072318B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001046927A (ja) |
| AT (1) | ATE236727T1 (ja) |
| DE (2) | DE19935253A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100781755B1 (ko) * | 2007-06-27 | 2007-12-04 | 녹원종합기술 주식회사 | 로타리 오토마이저의 분사 디스크 회전장치 |
| KR100781754B1 (ko) | 2007-06-27 | 2007-12-04 | 녹원종합기술 주식회사 | 로타리 오토마이저의 분사 디스크 회전장치 |
| KR100786719B1 (ko) | 2007-06-27 | 2007-12-21 | 녹원종합기술 주식회사 | 로타리 오토마이저의 분사 디스크 회전장치 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10115087A1 (de) * | 2001-03-27 | 2002-10-17 | Krones Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Kunststoffbehälters |
| DE102007047411B4 (de) * | 2007-10-04 | 2017-11-16 | Peter Walzel | Vorrichtung zum Aufteilen von Flüssigkeiten in Rotationszerstäubern |
| JP2022176571A (ja) * | 2021-05-17 | 2022-11-30 | 本田技研工業株式会社 | 回転霧化式塗装装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1015360B (de) * | 1953-04-16 | 1957-09-05 | Heinrich Boedicker Dipl Ing | Mit niedrig gespannter Druckluft arbeitende, einen Waermeaustauscher enthaltende Farbspritzpistole, bei der der zu verspritzende Stoff einer feststehenden Duese ueber die Innenflaeche eines rotierenden Hohlkegels zugefuehrt wird |
| US2993468A (en) * | 1957-07-22 | 1961-07-25 | Vilbiss Co | Apparatus for coating with atomized liquid |
| FR1335550A (fr) * | 1962-07-02 | 1963-08-23 | Appareil pour pulvériser des liquides à l'aide de la force centrifuge | |
| DE1400722A1 (de) * | 1962-12-18 | 1969-07-03 | Hege Dr Ing Hermann | Verfahren und Vorrichtung zur Zerstaeubung von Fluessigkeiten mittels rotierender Zerstaeuberkanten |
| LU49795A1 (ja) * | 1965-11-08 | 1966-01-08 | ||
| US3572589A (en) * | 1968-07-31 | 1971-03-30 | Edward O Norris | Electrostatically driven distributor |
| GB1486427A (en) * | 1974-03-27 | 1977-09-21 | Ciba Geigy Ag | Rotary atomiser |
| WO1992020225A1 (fr) * | 1991-05-24 | 1992-11-26 | Mat S.A. | Rotor de micro-pulverisation centrifuge |
| DE4308842A1 (de) * | 1993-03-19 | 1994-09-22 | Peter Prof Dr Walzel | Verfahren und Vorrichtung zum Zerstäuben von Flüssigkeiten |
-
1999
- 1999-07-27 DE DE19935253A patent/DE19935253A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-07-07 AT AT00114620T patent/ATE236727T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-07-07 EP EP00114620A patent/EP1072318B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-07 DE DE50001683T patent/DE50001683D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-24 JP JP2000221761A patent/JP2001046927A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100781755B1 (ko) * | 2007-06-27 | 2007-12-04 | 녹원종합기술 주식회사 | 로타리 오토마이저의 분사 디스크 회전장치 |
| KR100781754B1 (ko) | 2007-06-27 | 2007-12-04 | 녹원종합기술 주식회사 | 로타리 오토마이저의 분사 디스크 회전장치 |
| KR100786719B1 (ko) | 2007-06-27 | 2007-12-21 | 녹원종합기술 주식회사 | 로타리 오토마이저의 분사 디스크 회전장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| ATE236727T1 (de) | 2003-04-15 |
| DE50001683D1 (de) | 2003-05-15 |
| DE19935253A1 (de) | 2001-02-15 |
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