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JP2001035039A - 光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド及びその製造方法

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JP2001035039A
JP2001035039A JP2000189258A JP2000189258A JP2001035039A JP 2001035039 A JP2001035039 A JP 2001035039A JP 2000189258 A JP2000189258 A JP 2000189258A JP 2000189258 A JP2000189258 A JP 2000189258A JP 2001035039 A JP2001035039 A JP 2001035039A
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magneto
coil
optical recording
plating
lens
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雲 培 金
Heisan Ri
炳 贊 李
Keisai Shin
炯 宰 愼
Tessei En
哲 誠 延
Sang Hoon Lee
相 勳 李
Jong-Woo Shin
宗 祐 辛
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Samsung Electronics Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 磁界変調用コイルの構造及び小型の対物レン
ズに対する取付方法が改善された光磁気ヘッド及びその
製造方法を提供する。 【解決手段】 スライダーに設けられ、光磁気記録媒体
に入射光を集束するレンズと、板状のコイルが少なくと
も二層以上積層された複数のコイル層と、コイル層間に
介在された絶縁層とを含むコイル部材と、光磁気記録媒
体に対面するレンズの一面にコイル部材を付着させる接
合部材とを含む。また光磁気ヘッド製造方法は、基板上
に犠牲層を形成する段階と、犠牲層上に複数層のコイル
層と絶縁層を有するコイル部材を形成する段階と、犠牲
層とコイル部材にパタニングにより中空を形成する段階
と、コイル部材の最上層コイル層上にてソルダバンプを
形成する段階と、レンズの下面に金属薄膜をコーティン
グする段階と、コイル部材上にレンズを融着させる段階
と、前記犠牲層を除去して基板をレンズ及びコイル部材
から分離する段階とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁界変調用コイルの
構造及び小型の対物レンズに対する設置構造が改善され
た光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド及びその製造方法
に関する。
【０００２】一般的に、光磁気記録再生装置は、光磁気
記録媒体に対して磁界変調を通じて情報を記録し記録さ
れた情報を光学式に再生する装置である。
【０００３】
【従来の技術】図１を参照するに、一般的な光磁気記録
再生装置は、ベース１０に対して往復回転自在に設けら
れたスイングアーム２１と、前記スイングアーム２１に
回転駆動力を提供するアクチュエータ２３と、空気動圧
により光磁気記録媒体１に対して浮上したまま光磁気記
録媒体１のトラックをスキャンできるように前記スイン
グアーム２１の端部に設けられたスライダー２５と、こ
のスライダー２５に設けられて光学式に情報を再生でき
る光磁気ヘッド３０とを含んで構成される。光磁気ヘッ
ド３０は前記光磁気記録媒体１に光スポットを形成する
対物レンズ３１と、磁界変調のためのコイル(図示せず)
を具備する。
【０００４】図２及び図３を参照するに、従来の光磁気
記録再生装置の光磁気ヘッド３０は、スライダー２５に
設けられて入射されたレーザー光を光磁気記録媒体１に
集束する対物レンズ３１と、この対物レンズ３１と光磁
気記録媒体１との間に位置するように前記スライダー２
５の一側に水平方向に設けられた一対のマグネチックポ
ール３３、３５と、前記一対のマグネチックポール３
３、３５の各々に巻かれた第１及び第２コイル３７、３
９とを含む。前記マグネチックポール３３、３５は前記
対物レンズ３１を通じて集束された光が通過できるよう
に相互離隔して配置されている。従って、前記第１及び
第２コイル３７、３９に印加された電流の方向に従って
形成される水平磁界により光磁気記録媒体１に情報を記
録する。
【０００５】このような構造の光磁気ヘッド３０は、対
物レンズ３１の下部に水平方向に設けられたマグネチッ
クポール３３、３５に第１及び第２コイル３７、３９を
巻回した構造を有する。したがって、光磁気ヘッド３０
の大きさを小型化するには限界があり、記録密度の効率
及び近接場記録の性能が低下する問題点がある。また、
第１及び第２コイル３７、３９をマグネチックポール３
３、３５に巻回することによって組立性及びコスト、収
率低下などによる量産性が落ちるという短所がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記のような
問題点を勘案して案出されたものであって、磁界変調用
薄膜状マイクロコイルを半導体工程によりパタニングし
て形成することによって超小型化して近接場記録性能を
改善すると共に、コイルの超小型化に従う組立上の難点
を解決できるようになった構造の光磁気記録再生装置の
光磁気ヘッド及びその製造方法を提供することに目的が
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに本発明は、空気動圧により浮上したまま光磁気記録
媒体上で動くスライダーに設けられて光磁気方式で情報
の記録及び再生ができるようになった光磁気記録再生装
置の光磁気ヘッドにおいて、前記スライダーに設けら
れ、前記光磁気記録媒体に光スポットが結ばれるように
入射光を集束するレンズと、螺旋状構造で巻回された板
状のコイルが少なくとも二層以上積層し各層の電気接点
が互いに連結された複数のコイル層と、前記コイル層間
に介在されて各コイル層を電気的に絶縁する絶縁層とを
含むコイル部材と、前記光磁気記録媒体に対面する前記
レンズの一面に前記コイル部材を付着させると共に前記
コイル層に外部電源が連結されるように前記コイル部材
と前記レンズとの間に介在された接合部材とを含むこと
を特徴とする。
【０００８】望ましくは、前記接合部材は、前記コイル
部材の最上層に位置したコイル層に対して突設されたも
のであって、熱融着により前記レンズに接合されると共
に外部電源に連結されるようになった伝導性物質のソル
ダバンプであって、錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn
-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合金よりなる材質の中から
選択された何れか一つの材質よりなる。
【０００９】また、前記の目的を達成するために、本発
明に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法
は、基板上に犠牲層を形成する段階と、前記犠牲層上に
複数層のコイル層と絶縁層を有するコイル部材を形成す
る段階と、前記犠牲層と前記コイル部材にパタニングに
より中空を形成する段階と、前記コイル部材の最上層に
位置したコイル層上にメッキ用モールドを形成し、ソル
ダをメッキしてソルダバンプを形成する段階と、光磁気
記録媒体側に所定の長さ突出した出射部を有し、入射光
を集束して前記光磁気記録媒体に光スポットが結ばれる
ようにするレンズを備え、前記出射部を除いた前記レン
ズの下面に所定形状の金属薄膜をコーティングする段階
と、前記出射部が前記中空に差込まれた状態に前記レン
ズを前記ソルダバンプ上に位置させた後、加熱して前記
コイル部材上に前記レンズを融着させる段階と、前記犠
牲層を除去して前記基板を前記レンズ及びコイル部材か
ら分離する段階とを含むことを特徴とする。
【００１０】ここでコイル部材形成段階は、犠牲層上に
メッキ基板層をパタニングする段階と、前記パタニング
されたメッキ基板層上に所定の高さでモールドを塗布し
た後、前記モールドをパタニングしてメッキ型を形成す
る段階と、前記メッキ型間に金属をメッキして所定の厚
さで一層のコイルを形成する段階と、前記メッキ型と前
記コイル上に絶縁層を形成する段階とを含み、前記絶縁
層上に前記のメッキ基板層形成段階、メッキ基板層パタ
ニング段階、メッキ型形成段階、コイル形成段階及び、
絶縁層形成段階を順次に少なくとも一回以上反復して、
各コイル間の平坦性が維持されたまま各層のコイルが多
層で積層されるようになったことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明の望ましい実施例に関して詳細に説明する。
【００１２】図４及び図５を参照するに、本発明の実施
例に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドは、空気動
圧により浮上したまま光磁気記録媒体１００上で動くス
ライダー１１０に設けられる。この光磁気ヘッドは、前
記光磁気記録媒体１００に光スポットが結ばれるように
入射光を集束するレンズ１２０と、前記光磁気記録媒体
１００に対面する前記レンズ１２０の一面に付着された
コイル部材１４０と、前記コイル部材１４０を前記レン
ズ１２０に付着させると共に前記コイル部材１４０に外
部電源を連結させる接合部材１６０とを含んで構成され
る。
【００１３】前記レンズ１２０は、近接場記録時にはレ
ーザーなどの入射光を光磁気記録媒体１００に集束して
光スポットを形成させる。これにより、光磁気記録媒体
１００の光スポットが形成された部分がキュリー温度以
上に加熱され、前記コイル部材１４０を通じて垂直磁界
を発生させることによって磁気的に情報を記録する。再
生時には前記レンズ１２０を通じて集束形成された光ス
ポットがキュリー温度より低い温度を有するようにし、
形成された磁気的情報の方向に従う偏光方向の変化する
性質、即ち、カー効果を用いて再生する。
【００１４】このために、前記レンズ１２０は透過部１
２１、第１反射部１２３、第２反射部１２５、出射部１
２７及び、伝導性反射膜１２９を含んで構成される。前
記透過部１２１は入射光Lを発散透過させるように凹設
される。前記第１反射部１２３は、前記透過部１２１に
対向して配置された平面に入射された光を前記透過部１
２１の周りに位置した第２反射部１２５に反射させる。
前記第２反射部１２５は、前記第１反射部１２３で反射
されて入射された光を集束反射させるように前記透過部
１２１の周りに凹状反射鏡構造で形成される。前記出射
部１２７は、前記第１反射部１２３の中央に対して外側
に所定の長さ突設されたものであって、前記第２反射部
１２５で集束された光を透過させて前記光磁気記録媒体
１００に結ばれるようにする。前記出射部１２７は記録
/再生時前記光磁気記録媒体１００に対して所定間隔浮
上したまま対向して配置される。前記伝導性反射膜１２
９は図６に示したように、少なくとも二部分１２９a、
１２９bに分離された状態で前記第１反射部１２３の外
側面に形成されている。この伝導性反射膜１２９は前記
接合部材１６０が融着されて、外部電源端子を通じて供
給された電流を前記コイル部材１４０に伝達させる。ま
た、前記第１反射部１２３に入射された光を前記第２反
射部１２５に全反射させる。
【００１５】前記コイル部材１４０は少なくとも二つの
コイル層１４１、１５１と、前記コイル層１４１、１５
１間に介在されて各コイル層１４１、１５１を電気的に
絶縁する絶縁層１４３とを含む。前記コイル層１４１、
１５１は後述する接点を通じて電気的に連結されてい
る。
【００１６】図４及び図５は二層のコイル層構造を有す
る場合を例として示すものであって、第１コイル層１４
１及び第２コイル層１５１と前記絶縁層１４３に関する
詳細な構成は図７に示した通りである。
【００１７】図７を参照するに、第１コイル層１４１は
前記レンズ１２０の出射部１２７の周りの所定範囲内に
一方向、例えば反時計回り方向に巻回された螺旋状構造
を有する。この第１コイル層１４１はパターンコイルの
内側端部に形成された第１接点１４１aと、外側に位置
した第２接点１４１bとを有し、この第１及び第２接点
１４１a、１４１bは前記絶縁層１４３を貫通して前記第
２コイル層１５１及び前記伝導性反射膜１２９に電気的
に連結される。第２コイル層１５１は前記絶縁層１４３
により区分されたまま第１コイル層１４１上に積層形成
されるものであって、前記第１コイル層１４１の巻回方
向と反対方向に巻かれた螺旋状構造を有する。前記第２
コイル層１５１は前記第１接点１４１aに連結される第
３接点１５１aと、前記の接合部材１６０を通じて前記
伝導性反射膜１２９に連結される第４接点１５１bとを
有する。また、この第２コイル層１５１の周辺には前記
第２コイル層１５１とは電気的に絶縁され、前記伝導性
反射膜１２９を通して供給された電流が前記第１コイル
層１４１に伝達されるように連結する連結用パターン１
５３が形成されている。従って、前記伝導性反射膜１２
９の一部分１２９bは、前記連結用パターン１５３を通
して前記第１コイル層１４１の第２接点１４１bに連結
される。そして、前記第２コイル層１５１は第４接点１
５１bを通して前記伝導性反射膜１２９の他部分１２９a
に連結される。従って、前記部分１２９bを通じて電流
を印加する時、この印加された電流は前記第２接点１４
１bを通じて前記第１コイル層１４１全体を経由した
後、第１接点１４１a及び第３接点１５１aを通して第２
コイル層１５１に伝達される。そして、前記第２コイル
層１５１全体を経由した後前記第４接点１５１bを通し
て前記伝導性反射膜１２９の他部分１２９aに伝達され
る。
【００１８】前記絶縁層１４３は前記第１コイル層１４
１と第２コイル層１５１との電気的絶縁のために備えら
れたものであって、前記第１接点１４１aと第３接点１
５１aとの電気的連結及び第２接点１４１bと連結用パタ
ーン１５３との電気的連結のために形成された貫通孔１
４３a、１４３bを有する。
【００１９】図４及び図５を参照するに、前記光磁気記
録媒体１００上で前記スライダー１１０が浮上して動く
時、前記コイル部材１４０が前記光磁気記録媒体１００
に接触しないように、前記レンズ１２０の出射部１２７
の突出の長さは前記コイル部材１４０及び接合部材１６
０の全体の高さより相対的に長く形成されることが望ま
しい。
【００２０】前記接合部材１６０は前記コイル部材１４
０の最上層に位置したコイル層、例えば第２コイル層１
５１から突設されたものであって、熱融着により前記伝
導性反射膜１２９に前記コイル部材１４０を接合させる
と共に、前記伝導性反射膜１２９に前記第１及び第２コ
イル層１４１、１５１を電気的に連結させる伝導性物質
よりなるソルダバンプ１６１であることが望ましい。こ
こで、前記ソルダバンプ１６１の材質は錫-鉛(Sn-Pb)合
金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合金よ
り構成されることが望ましい。
【００２１】前記ソルダバンプ１６１は、前記両分され
た伝導性反射膜１２９a、１２９b各々に対して前記第１
コイル層１４１と第２コイル層１５１が独立的に連結さ
れるように配列される。即ち、ソルダバンプ１６１と伝
導性反射膜１２９との所定の接触面積確保と伝導性反射
膜１２９との電極分離のために、第２コイル層１５１の
上部にパターンを形成した後メッキにより配列される。
このように形成されたソルダバンプ１６１には自然酸化
膜が存在しこれは融着を妨害する。
【００２２】これを勘案して前記ソルダバンプ１６１に
対する前記レンズ１２０の熱融着は、フラックスレスリ
フローソルダリング方式で高純度窒素雰囲気または真空
雰囲気で融剤(フラックス)なしに熱により実行される。
即ち、高純度窒素または真空雰囲気で高温によるソルダ
バンプ１６１の表面に酸化膜が形成されることを防止し
て接着力を向上させうる。
【００２３】以下、前記のように構成された光磁気記録
再生装置用光磁気ヘッドの製造方法を詳細に説明する。
【００２４】図８及び図９は、２階薄膜積層構造のコイ
ル部材を有する光磁気ヘッドの製造工程を概略的に示す
ものである。
【００２５】図８（Ａ）に示したように、シリコンウェ
ーハよりなる基板２００を準備し、この基板２００上に
犠牲層２１０を形成する。そして、前記犠牲層２１０上
に複数層、例えば２層のコイル層と絶縁層を有するコイ
ル部材１４０を形成した後、図４に示したようなレンズ
１２０の出射部１２７が位置する中空２２０を形成す
る。
【００２６】前記レンズ１２０の出射部１２７が前記コ
イル部材１４０の高さより長く形成されるように、前記
中空２２０は前記コイル部材１４０と犠牲層２１０に貫
着される。
【００２７】前記犠牲層２１０はチタン(Ti)、クロム(C
r)またはフォトレジストなどの材質で構成される。ここ
で、前記犠牲層２１０をフォトレジストで構成した場合
は後工程により除去しやすいという利点があり、チタン
(Ti)またはクロム(Cr)で構成した場合は後述するメッキ
基板層２３０の形成が容易であるという利点がある。
【００２８】次いで、図８（Ｂ）に示したように、前記
コイル部材１４０の最上層に位置したコイル層、例えば
第２コイル層(図７の１５１)上にメッキ用モールドを形
成し、ソルダをメッキしてソルダバンプ１６１を形成す
る。望ましくは、前記ソルダバンプ１６１は錫-鉛(Sn-P
b)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合
金より構成された材質の中から選択された何れか一つの
材質よりなる。
【００２９】そして、図９（Ａ）に示したように、光磁
気記録媒体(図４の１００)側に所定の長さ突出した出射
部１２７を有し、入射光を集束して前記光磁気記録媒体
１００に光スポットを結ばせるレンズ１２０を備える。
そして、このレンズ１２０の出射部１２７を除外した下
面、即ち、第１反射部１２３の外面にコーティングによ
り金属薄膜よりなる伝導性反射膜１２９を形成する。
【００３０】その後、図９（Ｂ）に示したように、前記
出射部１２７が中空２２０に差込まれた状態でレンズ１
２０をソルダバンプ１６１上に位置させた後、コイル部
材１４０上に前記レンズ１２０が融着されるように加熱
する。ここで、前記ソルダバンプ１６１に対する前記レ
ンズ１２０の熱融着はフラックスレスリフローソルダリ
ング方式で純粋窒素雰囲気または真空雰囲気で融剤なし
に熱により実行される。これにより、高純度窒素または
真空雰囲気で高温によるソルダバンプ１６１の表面に酸
化膜が形成されることを防止すると共に自然酸化膜の破
断を容易にして接着力を向上させうる。
【００３１】最後に、図９（Ｂ）に示した犠牲層２１０
を除去して相互融着された前記レンズ１２０及びコイル
部材１４０を基板２００から分離することによって図９
（Ｃ）に示したような構造の光磁気ヘッドが製造され
る。
【００３２】ここで、図８（Ａ）を参考にして説明され
たコイル部材形成段階をより具体的に調べると次の通り
である。
【００３３】まず、図１０（Ａ）に示したように、基板
２００上部に形成された犠牲層２１０上に第１メッキ基
板層２３０を形成する。前記第１メッキ基板層２３０は
第１コイル層(図１０（Ｄ）の１４１)のメッキ蒸着のた
めの層であって、銅などの電気伝導性に優れた物質を真
空蒸着することによって形成される。ここで、前記犠牲
層２１０がフォトレジストより形成された場合は、前記
第１メッキ基板層２３０の蒸着形成時接着性を考慮して
前記犠牲層２１０上にクロム、チタンなどよりなる接着
層２１５をまず蒸着した後、前記第１メッキ基板層２３
０を蒸着することが望ましい。前記第１メッキ基板層２
３０はクロム-銅(Cr-Cu)合金またはチタン-銅(Ti-Cu)合
金よりなることが望ましい。
【００３４】そして、図１０（Ｂ）に示したような形状
で、メッキされる第１コイル層１４１の形状に対応する
ように第１メッキ基板層２３０'をパタニングする。即
ち、後述する第１メッキ型２４０に対向する部分を除去
して第１絶縁用グルーブ２３１を形成する。
【００３５】次いで、図１０（Ｃ）に示したように前記
パタニングされた第１メッキ基板層２３０'上に所定の
高さでモールドを塗布した後、前記モールドを第１コイ
ル層１４１の形状に対応するネガティブ状にメッキ用モ
ールドをパタニングして第１メッキ型２４０を完成す
る。ここで、前記第１メッキ基板層２３０'は概略１０
００Å程度の薄い膜である為、その上部に前記のメッキ
用モールドをスピンコーティングのような方法で塗布す
る場合、容易にメッキ用モールドの上部面が平坦性を維
持する。この第１メッキ型２４０はフォトレジストなど
の絶縁物質よりなる。この場合、一回の写真蝕刻でパタ
ニングできるという利点がある。
【００３６】以後、図１０（Ｄ）に示したように、パタ
ニングにより形成された第１メッキ型２４０間に金属を
メッキして所定線幅の螺旋状構造を有する第１コイル層
１４１を所定の厚さに形成する。ここで、第１コイル層
１４１は多くの電流を流す用途として使われるもので、
比較的厚い金属膜である為メッキにより形成することが
望ましい。ここで、メッキ方法は電気メッキ法と無電解
メッキ法の両方とも利用できる。
【００３７】次いで、図１１（Ａ）に示したように、前
記第１メッキ型２４０を熱処理する。これは前記第１メ
ッキ型２４０に残っている溶剤を完全に除去して、熱処
理された第１メッキ型２４０が熱的に変形されることを
最小化するためである。ここで、熱処理段階を経る場
合、第１メッキ型２４０'の高さが低くなる。これを勘
案して、図１０（Ｄ）に示したように前記第１メッキ型
２４０の高さを前記第１コイル層１４１の厚さより相対
的に高く形成することが望ましい。例えば、熱処理後の
第１メッキ型２４０'の高さが熱処理前の高さに比べて
７０%程度で低くなる場合には、前記第１メッキ型２４
０の高さを前記第１コイル層１４１の厚さに対して概略
１４０%の高さで形成すれば、熱処理段階後の前記第１
メッキ型２４０'と前記第１コイル層１４１の上面の高
さを図１１（Ａ）に示したように、類似か同一に合せる
ことができる。
【００３８】前記熱処理はオーブン、板加熱装置、紫外
線硬化装置、電子ビーム熱処理装置などを通じて可能で
ある。
【００３９】次に、図１１（Ｂ）に示したように第１メ
ッキ型２４０'と第１コイル層１４１の上面に、前記第
１コイル層１４１と後述する第２コイル層(図１２
（Ｂ）の１５１)との電気的絶縁のための絶縁層１４３
を形成する。このように絶縁層１４３を形成する場合、
絶縁層１４３の上面が平坦性を維持する。ここで、前記
絶縁層１４３には、前記第１コイル層１４１の第１及び
第２接点を第２コイル層１５１及び伝導性反射膜１２９
と電気的に伝導させるために形成された貫通溝１４３
a、１４３bを有する。ここで、前記絶縁層１４３は、シ
リカ酸化物(SiO2)及びシリカ窒化物(Si3N4)より構成さ
れた誘電体材質及び、フォトレジスト及びポリイミドよ
り構成されたポリマー材質の中から選択された何れか一
つの材質よりなることが望ましい。
【００４０】以後、図１１（Ｃ）に示したように、前記
絶縁層１４３上に第２メッキ基板層２５０を形成する。
前記第２メッキ基板層２５０は第２コイル層１５１のメ
ッキ蒸着のための層であって、銅などの電気伝導性に優
れた物質を真空蒸着することによって形成される。ここ
で、前記第２メッキ基板層２５０をなす物質の一部は、
前記貫通溝１４３a、１４３bに充填されて前記第１コイ
ル層１４１と第２コイル層１５１の接点を電気的に導通
させる。
【００４１】次に、図１１（Ｄ）に示したようにメッキ
される第２コイル層１５１の形状に対応して第２メッキ
基板層２５０をパタニングする。即ち、後述する第２メ
ッキ型(図１２（Ａ）の２６０)に対向する部分を除去し
て第２絶縁用グルーブ２５１を形成する。前記第２メッ
キ基板層２５０の材質は前述された第１メッキ基板層２
３０'の材質のようにクロム-銅(Cr-Cu)合金またはチタ
ン-銅(Ti-Cu)合金より構成される。
【００４２】次いで、図１２（Ａ）に示したように前記
パタニングされた第２メッキ基板層２５０'上に所定の
高さでモールドを塗布した後、前記モールドを第２コイ
ル層１５１の形状に対応するネガティブ形状にメッキ用
モールドをパタニングして第２メッキ型２６０を完成す
る。
【００４３】以後、図１２（Ｂ）に示したように、パタ
ニングにより形成された第２メッキ型２６０間に金属を
メッキして所定線幅の螺旋状構造を有する第２コイル層
１５１を所定の厚さで形成する。ここで、第２コイル層
１５１は多くの電流を流す用途で使われるので、比較的
厚い金属膜であるためメッキにより形成することが望ま
しい。この場合にも、メッキ法では電気メッキ法と無電
解メッキ法の両方を利用できる。
【００４４】次いで、図１２（Ｃ）に示したように、前
記第２メッキ型２６０を熱処理する。これは前記第２メ
ッキ型２６０に残っている溶剤を完全に除去して、第２
メッキ型２６０'が熱的に変形されることを最小化する
ためである。ここで、熱処理段階を経る場合、第２メッ
キ型２６０'の高さが低くなる点を考慮して、図１２
（Ｂ）に示したように前記第２メッキ型２６０の高さを
前記第２コイル層１５１の厚さより相対的に高く形成し
て、熱処理段階後の前記第２メッキ型２６０'と前記第
２コイル層１５１の上面の高さを図１２（Ｃ）に示した
ように、類似かまたは同一に合せることができる。以
後、レンズ(図９（Ｂ）の１２０)の出射部が位置する部
分Aを除去して中空を備えることで、コイル部材１４０
の形成が完了する。
【００４５】
【発明の効果】前記のように構成された本発明に係る光
磁気記録再生装置の光磁気ヘッドはソルダバンプを通じ
てレンズの一面に薄膜状マイクロコイルを接着すること
によって、接着及び接着維持が容易で、別の配線が不要
なので組立工数を低減できる。
【００４６】また、薄膜状マイクロコイルを使用するこ
とによって小型化できて光磁気ヘッドの小型化が可能
で、半導体工程を用いた薄膜及びメッキ工程で収率を高
められコストを低減できる。
【００４７】また、光磁気ヘッド用コイル部材を前記の
ような製造方法に従って製造することによって、マイク
ロコイルは一層のコイルの製造工程が完了した後にも製
作されたコイルの上部面が平坦性を維持する。したがっ
て、次の層のコイル製作時にもメッキ基板層の形成工程
時、露光用光学系の焦点深度を維持させることによって
パターンの解像度を維持できる。また、第２メッキ基板
層をなす金属が切れる問題点を根本的に防止できる。従
って、一層コイル上に形成された他層のコイルの線幅
と、コイル間の間隔を希望の範囲内で維持できて多層の
薄膜積層型マイクロコイルの製造を容易にすることがで
きる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】一般の光磁気記録再生装置を示す概略的な平面
図である。
【図２】従来の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドを示
す正面図である。
【図３】図２のIII-III線から見た底面図である。
【図４】本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光
磁気ヘッドがスライダーに搭載された様子を概略的に示
す正面図である。
【図５】本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光
磁気ヘッドを概略的に示す部分断面図である。
【図６】図５のレンズ底面を概略的に示す底面図であ
る。
【図７】本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光
磁気ヘッドのコイル部材を概略的に示す分離斜視図であ
る。
【図８】（Ａ）、（Ｂ）は、本発明の実施例に係る光磁
気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法を説明するため
の図である。
【図９】（Ａ）乃至（Ｃ）は、図８に関連し光磁気ヘッ
ド製造方法を説明するための図である。
【図１０】（Ａ）乃至（Ｄ）は、本発明の実施例に係る
光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドのコイル部材製造方
法を説明するための図である。
【図１１】（Ａ）乃至（Ｄ）は、図１０に続く図であ
る。
【図１２】（Ａ）乃至（Ｃ）は、図１１に続く図であ
る。
【符号の説明】
１００ 光磁気記録媒体 １１０ スライダー １２０ レンズ １２１ 透過部 １２３ 第１反射部 １２５ 第２反射部 １２７ 出射部 １２９ 伝導性反射膜 １４０ コイル部材 １４１ 第１コイル層 １４３ 絶縁層 １５１ 第２コイル層 １５３ 連結用パターン １６０ 接合部材 １６１ ソルダバンプ ２００ 基板 ２１０ 犠牲層 ２１５ 接着層 ２２０ 中空 ２３０、２３０’ 第１メッキ基板層 ２３１ 第１絶縁用グルーブ ２４０、２４０’ 第１メッキ型 ２５０、２５０’ 第２メッキ基板層 ２５１ 第２絶縁用グルーブ ２６０、２６０’ 第２メッキ型
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/105 ５７１ Ｇ１１Ｂ 11/105 ５７１Ｚ 5/02 5/02 Ｔ (72)発明者 愼 炯 宰 大韓民国京畿道城南市盆唐区書▲ひょん▼ 洞87番地 示範団地三星アパート131棟 1204号 (72)発明者 延 哲 誠 大韓民国京畿道水原市八達区仁溪洞159番 地 鮮鯨３次アパート305棟1701号 (72)発明者 李 相 勳 大韓民国ソウル特別市瑞草区方背３洞593 −75番地 (72)発明者 辛 宗 祐 大韓民国ソウル特別市瑞草区瑞草１洞1643 −20番地

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 空気動圧により浮上したまま光磁気記録
    媒体上で動くスライダーに設けられて光学式に情報を再
    生し磁界変調を通じて情報を記録できるようになった光
    磁気記録再生装置の光磁気ヘッドにおいて、 前記スライダーに設けられ、前記光磁気記録媒体に光ス
    ポットが結ばれるように入射光を集束するレンズと、 螺旋状構造で巻回された板状のコイルが少なくとも二層
    以上積層し各層の電気接点が互いに連結されたコイル層
    と、前記コイル層間に介在されて各コイル層を電気的に
    絶縁する絶縁層とを含むコイル部材と、 前記光磁気記録媒体に対面する前記レンズの一面に前記
    コイル部材を付着させると共に前記コイル層に外部電源
    が連結されるように前記コイル部材と前記レンズとの間
    に介在された接合部材とを含むことを特徴とする光磁気
    記録再生装置の光磁気ヘッド。
  2. 【請求項２】 前記接合部材は、 前記コイル部材の最上層に位置したコイル層に突設され
    たものであって、熱融着により前記レンズに接合される
    と共に外部電源に連結されるように伝導性物質よりなる
    ソルダバンプであることを特徴とする請求項１に記載の
    光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
  3. 【請求項３】 前記ソルダバンプは、 錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-
    錫(Au-Sn)合金よりなる材質の中から選択された何れか
    一つの材質よりなることを特徴とする請求項２に記載の
    光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
  4. 【請求項４】 前記コイル部材をなす少なくとも二つの
    コイル層の各々は同一方向の螺旋状構造で巻回されたこ
    とを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録再生装置の
    光磁気ヘッド。
  5. 【請求項５】 前記レンズは、 入射光を発散透過させる透過部と、 前記透過部に対向して配置されて入射光を発散反射する
    第１反射部と、 前記透過部周辺に形成されて前記第１反射部から反射さ
    れ入射された光を集束する第２反射部と、 前記第２反射部で集束された光を透過させるように前記
    第１反射部の中央領域に所定の長さに突設された出射部
    と、 外部電源の端子が電気的に結合されるように少なくとも
    両分された状態に前記第１反射部の外側面に形成され、
    前記接合部材が融着される伝導性反射膜とを含むことを
    特徴とする請求項１乃至４の中からいずれか一項に記載
    の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
  6. 【請求項６】 前記出射部が前記コイル部材より相対的
    に長く形成されて、前記光磁気記録媒体上で前記スライ
    ダーが浮上して動く時、前記コイル部材が前記光磁気記
    録媒体に接触しないようになったことを特徴とする請求
    項５に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
  7. 【請求項７】 空気動圧により浮上したまま光磁気記録
    媒体上で動くスライダーに設けられて光学式に情報を再
    生し、磁界変調を通じて情報を記録できるようになった
    光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法において、 基板上に犠牲層を形成する段階と、 前記犠牲層上に少なくとも二つのコイル層と一層以上の
    絶縁層を有するコイル部材を形成する段階と、 前記犠牲層と前記コイル部材にパタニングにより中空を
    形成する段階と、 前記コイル部材の最上層に位置したコイル層上にメッキ
    用モールドを形成し、ソルダをメッキしてソルダバンプ
    を形成する段階と、 前記光磁気記録媒体側に所定の長さ突出した出射部を有
    し、入射光を集束して前記光磁気記録媒体に光スポット
    が結ばれるようにするレンズを備え、前記出射部を除い
    た前記レンズの下面に所定形状の金属薄膜をコーティン
    グして伝導性反射膜を形成する段階と、 前記出射部が前記中空に差込まれた状態に前記レンズを
    前記ソルダバンプ上に位置させた後、加熱して前記コイ
    ル部材上に前記レンズを融着させる段階と、 前記犠牲層を除去して前記基板を前記レンズ及びコイル
    部材から分離する段階とを含むことを特徴とする光磁気
    記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
  8. 【請求項８】 前記コイル部材形成段階は、 前記犠牲層上にメッキ基板層をパタニングする段階と、 前記パタニングされたメッキ基板層上に所定の高さでモ
    ールドを塗布した後、前記モールドをパタニングしてメ
    ッキ型を形成する段階と、 前記メッキ型間に金属をメッキして所定の厚さで一層の
    コイルを形成する段階と、 前記メッキ型と前記コイル上に絶縁層を形成する段階と
    を含み、 前記絶縁層上にメッキ基板層形成段階、メッキ基板層パ
    タニング段階、メッキ型形成段階、コイル形成段階及
    び、絶縁層形成段階を順次に少なくとも一回以上反復し
    て、各コイル間の平坦性が維持されたまま各層のコイル
    が多層で積層されるようになったことを特徴とする請求
    項７に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方
    法。
  9. 【請求項９】 前記コイル形成段階以後に前記メッキ型
    を熱処理する段階をさらに含んで、メッキ型に残ってい
    る溶剤を除去しメッキ型を熱的に安定させることを特徴
    とする請求項８に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘ
    ッド製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記メッキ型の熱処理後に、前記コイ
    ルと前記メッキ型の上面の高さが同一乃至類似に前記メ
    ッキ型の高さを前記コイルの厚さより相対的に高く形成
    することを特徴とする請求項９に記載の光磁気記録再生
    装置の光磁気ヘッド製造方法。
  11. 【請求項１１】 前記メッキ基板層は、 クロム-銅(Cr-Cu)合金またはチタン-銅(Ti-Cu)合金より
    なることを特徴とする請求項８乃至１０の中からいずれ
    か一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造
    方法。
  12. 【請求項１２】 前記絶縁層は、 シリカ酸化物(SiO2)及びシリカ窒化物(Si3N4)よりなる
    誘電体材質及び、フォトレジスト及びポリイミドよりな
    るポリマー材質の中から選択された何れか一つの材質よ
    りなることを特徴とする請求項８乃至１０の中からいず
    れか一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製
    造方法。
  13. 【請求項１３】 前記犠牲層は、 チタン(Ti)、フォトレジスト及びクロム(Cr)よりなる材
    質の中から選択された何れか一つの材質よりなることを
    特徴とする請求項７乃至１０の中からいずれか一項に記
    載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
  14. 【請求項１４】 前記ソルダバンプは、 錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-
    錫(Au-Sn)合金よりなる材質の中から選択された何れか
    一つの材質よりなることを特徴とする請求項７乃至１０
    の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再生装置の光
    磁気ヘッド製造方法。
  15. 【請求項１５】 前記ソルダバンプに対する前記レンズ
    の熱融着は、 フラックスレスリフローソルダリング方式で窒素雰囲気
    で融剤なく熱により融着されることを特徴とする請求項
    ７乃至１０の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再
    生装置の光磁気ヘッド製造方法。
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