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JP2000516533A - 分散装置 - Google Patents

分散装置

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JP2000516533A
JP2000516533A JP10523446A JP52344698A JP2000516533A JP 2000516533 A JP2000516533 A JP 2000516533A JP 10523446 A JP10523446 A JP 10523446A JP 52344698 A JP52344698 A JP 52344698A JP 2000516533 A JP2000516533 A JP 2000516533A
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JP
Japan
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vessel
rotating shafts
rotation
stirring blades
dispersed
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Pending
Application number
JP10523446A
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English (en)
Inventor
英雄 清水
誠 土肥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Artience Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
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    • B02CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING; PREPARATORY TREATMENT OF GRAIN FOR MILLING
    • B02CCRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING IN GENERAL; MILLING GRAIN
    • B02C17/00Disintegrating by tumbling mills, i.e. mills having a container charged with the material to be disintegrated with or without special disintegrating members such as pebbles or balls
    • B02C17/16Mills in which a fixed container houses stirring means tumbling the charge
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Crushing And Grinding (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 ベッセル内の粒状メディアを撹拌羽根によって分散させることにより、被分散材料の分散処理を充分に成し、撹拌羽根のエネルギーを顔料分散に有効に利用することを可能とし、粒状メディアの充填量を縮小することができ、更にミルベースのショートパス、チョーキング現象の発生を防止し、安全性を確保するとともに、高い粉砕効率、分散効率が得られ、経済的にも有利な連続式分散装置を得ることを目的とするものである。分散装置の構成は、被分散材料の給排口を備えたベッセル内に第1,第2の回転軸を互に平行にかつ回転可能に配置し、上記第1,第2の回転軸に軸方向に適宜間隔に備えた複数の撹拌羽根を軸方向に交互に位置するように配置し、かつ前記ベッセル内に前記被分散材料の分散処理を行う粒状メディアを充填してなる分散装置において、前記第1,第2の回転軸に備えた撹拌羽根の回転領域の1部が重なる構成であり、かつ前記ベッセルの内周面は、前記第1,第2の回転軸に備えた各撹拌羽根の回転外周に沿う2つの円弧状曲面を接合した態様の形状であって、かつ第1,第2の回転軸は同方向に回転する構成である。

Description

【発明の詳細な説明】 分散装置 技術分野 本発明は、例えば粉体顔料をワニス、溶剤等に高濃度に分散させたミルベース 原料である被分散材料の分散処理を行う分散装置に係り、さらに詳細には、分散 装置におけるベッセル内の被分散材料の移動距離を長くして、被分散材料の分散 処理を充分に行い得るようにした分散装置に関する。 背景技術 例えば印刷インキ、塗料の製造では、粉体顔料をワニス、溶剤等に高濃度に分 散させたミルベースが使用される。溶剤等に粉体顔料を分散させる工程では、顔 料一次粒子が凝集した状態の二次粒子の粉体顔料をワニス、溶剤中に粉砕、分散 して、粗大粒子の存在しない微細な顔料粒子とすることが印刷インキ、塗料の着 色力を向上させるために好ましい。 従来、分散装置としては、サンドミル、グレインミル、ボールミル、アトライ ター等が知られている。このような分散装置の内、分散処理を連続的に行う方式 の構成として、図7に示すごとき構成のものがある。 すなわち、円筒形状のベッセル101を水平に設けた横型であって、上記ベッ セル101内に回転軸103を水平にかつ回転可能に配置し、この回転軸103 に、放 射方向に突出したピン状の複数の撹拌羽根105を軸方向に適宜間隔に設け、そ して前記ベッセル101内に、被分散材料の分散処理を行うために、例えば鋼、 セラミックス、石等からなる球状の粒状メディア107を充填した構成である。 上記構成において、回転軸103をモータ等によって回転し、ベッセル101 の一端側に備えた原料供給口109からミルベース原料を供給すると、回転軸1 03に備えた複数の撹拌羽根105によって粒状メディア107が撹拌されるの で、ミルベース原料の分散処理が行われることになる。そして、分散処理された ミルベースが、ベッセル101の他端側に備えた排出口111から連続的に排出 されることになる。 上記構成においては、供給口109からベッセル101内へ供給されたミルベ ース原料は一様に分散されず、いわゆるショートパスが生じて、粗大な顔料粒子 を含むミルベースが排出口111から排出されることがあり、分散処理が充分に 行われないことがあるという問題がある。 また、粒状メディア107の動きについて観察すると、回転軸103に設けた 撹拌羽根105の回転に追従して粒状メディア107が共回りする傾向にあり、 分散処理に有効に機能しないことがあるという問題がある 前記ショートパスを抑制するために、ベッセル101に対する粒状メディア1 07の充填率を高くすると、シ ョートパスをある程度防止することができるが、粒状メディア107の充填率を 高くしすぎると、ベッセル101内において排出口111側へ粒状メディア10 7が偏るチョーキング現象を生じ、安定な運転ができなくなるという新たな問題 がある。そこで、一般的には、粒状メディアの充填率は75〜80%として運転 されている。 また、従来の構成として、図8に示すごとき構成のものがある。この構成は、 円筒形状のベッセル101を垂直に設けた竪型であって、撹拌羽根105を備え た回転軸103が垂直にかつ回転可能に配置してある。 この構成は、横型を竪型にしたもので、ベッセル101の上部に開口して備え た供給口109からベッセル101内へミルベース原料を供給すると共に回転軸 103を回転して粒状メディア107を撹拌することによって、ミルベース原料 の分散処理が行われ、ベッセル101の下部に備えた排出口111から分散処理 後のミルベースが排出されることになる。なお、上記排出口111には、粒状メ ディア107が排出されることを防止する例えば格子あるいは網状の粒状メディ ア分離機構113が設けてあると共に、排出口111を開閉可能の原料排出バル ブ115が設けてある。 上記構成は、ベッセル101が水平な横型を垂直にした構成にすぎないので、 前述した横型と同様の問題を有するものである。 さらに、従来の構成として、図9,図10に示すごと き構成のものがある。この構成は、概略的には垂直な円筒形状のベッセル101 内に第1,第2の回転軸117A,117Bを垂直に配置し、この第1,第2の 回転軸117A,117Bに互いに90°位相のずれたプレート状の第1,第2 の撹拌羽根119A,119Bを設け、上記各撹拌羽根119A,119Bの干 渉を生じないように回転する構成である。 上記構成においては、第1,第2の撹拌羽根119A,119Bの回転軌跡の 1部が重なり合うものの、第1,第2の撹拌羽根119A,119Bがプレート 状であることにより、ベッセル101内においてミルベース原料等の1部が共回 りする傾向にあると共に、領域121A,121B付近は撹拌羽根119A,1 19Bの回転領域外にあり、この部分のミルベース原料の分散処理が行われ難く 不均一になる傾向にあるという問題がある。 さらに、本発明に関係あると思われる先行例としては、特開平1−22405 7号公報(先行例1)、米国特許第4673134号明細書(先行例2)、米国 特許第3199792号明細書(先行例3)、米国特許第4919347号明細 書(先行例4)および米国特許第4998678号明細書(先行例5)等がある 。 上記先行例1においては、断面形状が長円形状のベッセル内に第1,第2の回 転軸を垂直にかつ回転可能に設け、上記第1,第2の回転軸に設けた第1,第2 の撹拌羽根の回転軌跡の1部が重り合う構成であるが、第1, 第2の撹拌羽根の回転方向にみて、上記第1,第2の撹拌羽根の回転軌跡が重な り合う部分の前後両側に、ベッセル内面と上記回転軌跡に囲繞された断面形状が ほぼ三角状のデッドスペースが生じ、このデッドスペースに位置するミルベース 原料の分散処理が充分に行われ得ず不均一になり易いという問題がある。 先行例2には複数の回転軸に撹拌羽根を設けた構成が開示されているが、先行 例2の構成においても、撹拌羽根の回転軌跡とベッセル内面との間にほぼ三角形 状のデッドスペースを生じるものであって、先行例1として同様の問題点を有す るものである。 先行例3の図8には、円弧状の曲面を2つ合わせた形状のベッセル内に第1, 第2の回転軸を垂直にかつ回転可能に設け、上記第1,第2の回転軸に3方向に 延伸した撹拌羽根を設けた構成が開示されているが、上記撹拌羽根はプレート状 であり、かつ互に反対方向に回転されるものであり、さらに互いの回転軌跡が接 する構成であるから、デッドスペースの問題は解消されるものの、例えば粒状メ ディア等は撹拌羽根と共回りする傾向が強く、ミルベース原料の充分な分散処理 に問題がある。 先行例4には、円弧状の曲面を2つ合せた形状のベッセル内に、周面に多数の 凹凸を形成した筒状の第1,第2のローターを配置した構成が開示されている。 この構成においては、筒状の第1,第2のローターの外周はかみ合っておらず、 従ってローターの回転軌跡が互に重り 合うものではない。また、ローターの製造が複雑化するという問題がある。 先行例5には、回転自在な垂直な円筒形状のベッセルの偏心した位置に回転軸 を垂直にかつ回転可能に配置し、この回転軸に、外周縁付近に複数の穴を形成し た複数の円板を軸方向に重ねて備えた構成が開示されている。この構成において は、ベッセルを回転すると共にベッセルの偏心位置に配置した回転軸を回転する 構成であるので、全体的構成が複雑化するという問題がある。 発明の開示 本発明は、前述のごとき従来の諸問題に鑑みてなされたもので、請求項1に係 る発明は、被分散材料の給排口を備えたベッセル内に第1,第2の回転軸を互い に平行にかつ回転可能に配置し、上記第1,第2の回転軸に軸方向に適宜間隔に 備えた複数の撹拌羽根を軸方向に交互に位置するように配置し、かつ前記ベッセ ル内に前記被分散材料の分散処理を行う粒状メディアを充填してなる分散装置に おいて、前記第1,第2の回転軸に備えた撹拌羽根の回転領域の1部が重なる構 成であり、かつ前記ベッセルの内周面は、前記第1,第2の回転軸に備えた各撹 拌羽根の回転外周に沿う2つの円弧状曲面を接合した態様の形状である。 上記構成により、第1,第2の回転軸を回転すると共にベッセルの供給口から 被分散材料の供給を行うと、ベッセル内においては粒状メディアが撹拌羽根によ って撹 拌され、被分散材料の分散処理が行われる。この際、ベッセルの内周面は、第1 ,第2の回転軸に備えた各撹拌羽根の回転外周に沿って設けた2つの円弧状の曲 面を接合した態様の構成であり、かつ各撹拌羽根の回転領域の1部が重る構成で あるから、ベッセル内において粒状メディアの撹拌が行われ難いデッドスペース がなく、かつ第1,第2の回転軸の回転方向を同方向とすることにより、各撹拌 羽根の回転領域が重なり合う部分においては各撹拌羽根の進行方向が逆方向とな り、粒状メディアが互に衝突しあう態様となって共回りすることが防止される。 第1,第2の回転軸の回転方向が異方向の場合においても、各撹拌羽根の回転 領域が重なり合う部分で、粒状メディアが互いに衝突しあい共回りが乱される。 すなわち、両回転軸の回転方向は、同方向に限定されるものではないが、同方向 よりも異方向の方が好ましい。 したがって、上記回転領域が重なり合う部分において被分散材料の分散処理が 充分に行われることとなり、溶剤中の顔料粒子がより微細になると共に濃度差が なくより均一になるものである。 請求項2に係る発明は、請求項1に記載の発明において、第1,第2の回転軸 は水平であり、かつ上記第1,第2の回転軸の軸心を含む平面が垂直であるから 、第1,第2の回転軸を上下の関係に配置した構成である。したがって、下側の 回転軸の位置する室内の粒状メディアに は、上側の回転軸の位置する室内の粒状メディアの荷重が作用し、かつ下側の室 は粒状メディアが充満した態様となるので、より効果的な分散処理を行うことが できるものである。 請求項3に係る発明は、請求項1に記載の発明において、第1,第2の回転軸 は水平であり、かつ上記第1,第2の回転軸の軸心を含む平面が水平であるから 、第1,第2の回転軸を互いに隣接して水平な横方向に配置した構成である。し たがって、第1,第2の回転軸が位置する各室内の粒状メディアの量はほぼ等し く、上記各室に対する被分散材料の蛇行を生じ易いものである。よって、供給口 から排出口に至る被分散材料の行程が長くなり、分散処理が充分に行われ得るも のである。 請求項4に係る発明は、請求項1に記載の発明において、第1,第2の回転軸 は水平であり、かつ上記第1,第2の回転軸の軸心を含む平面が垂直状態と水平 状態との間で変更可能であるから、第1,第2の回転軸の配置関係が水平の場合 と垂直な場合との間で種々変更でき、両方の特性を活しての分散処理を効果的に 行うことができる。 請求項5に係る発明は、請求項1に記載の発明において、第1,第2の回転軸 は垂直であり、かつ上記第1,第2の回転軸の軸心を含む平面は垂直であるから 、第1,第2の回転軸が位置する各室は垂直であり、各室内の粒状メディアの量 はほぼ等しく、各室に対する被分散材料 の蛇行を生じ易く、請求項3に係る発明と同様の効果を奏するものである。 請求項6に係る発明は、請求項1,2,3,4又は5に記載の発明において、 第1の回転軸又は第2の回転軸の少なくとも一方の回転軸に少なくとも1個の盤 状の羽根を設けてなるものであるから、当該盤状の羽根によって被分散材料が軸 に沿って移動することを阻害される傾向にあって、被分散材料の蛇行を促進する 。よって、上記蛇行が効果的に行われて行程が長くなり、分散処理がより効果的 に行われるものである。 請求項7に係る発明は、請求項1,2,3,4,5又は6に記載の発明におい て、第1,第2の回転軸の半径をrA,rB,第1,第2の回転軸に備えた各撹 拌羽根の回転半径をRA,RB,第1,第2の回転軸の軸心間隔寸法をLとする とき、rB+RA=rA+RB<L≦0.9(RA+RB)の関係にあるから、 第1,第2の回転軸に備えた撹拌羽根の回転領域の1部は必ず重なり合うもので あり、当該重なり合い部分において粒状メディアの共回りを阻止することができ るものである。 請求項8に係る発明は、請求項1,2,3,4,5,6又は7に記載の発明に おいて、第1,第2の回転軸の外周面から第2,第1の回転軸に備えた撹拌羽根 の回転外周との間隔および上記撹拌羽根の回転外周からベッセル内面との間隔が 、粒状メディアの平均直径の3倍以上で約10倍以下であるから、第1,第2の 回転軸と各撹 拌羽根との間隙及び各撹拌羽根とベッセル内面との間隙に粒状メディアの詰りを 生じることがなく、また、上記間隙が大きすぎることによって分散処理が低下す ることがないものである。 請求項9に係る発明は、請求項1,2,3,4,5,6,7又は8に記載の発 明において、第1,第2の回転軸の回転方向は同一方向であるから、各撹拌羽根 の回転領域が重り合う位置においては、各撹拌羽根の進行方向が逆方向となり、 共廻りする傾向にある粒状メディアの共回りを効果的に阻止することができるも のである。 図面の簡単な説明 図1は本発明の第1例に係る分散装置を概念的に示す断面説明図である。 図2は図1における2−2線部分の断面説明図である。 図3は本発明の第2例に係る分散装置を概念的に示す断面説明図である。 図4は図3における4−4線部分の断面説明図である。 図5は本発明の第3例に係る分散装置を概念的に示す断面説明図である。 図6は比較例および本発明に係る分散装置を概念的かつ略図的に示した説明図 である。 図7は従来の第1例の分散装置を概念的に示した断面説明図である。 図8は従来の第2例の分散装置を概念的に示した断面説明図である。 図9は従来の第3例の分散装置を概念的に示した断面説明図である。 図10は図9の平断面説明図である。 発明を実施するための最良の形態 以下、この発明の実施の形態の例を、図面を用いて詳細に説明する。 図1,図2を参照するに、第1例に係る分散装置1は、軸心が水平な筒状のベ ッセル3を備えており、このベッセル3内には、互いに平行な第1,第2の回転 軸5A,5Bを水平にかつ回転可能に備えている。そして、上記第1,第2の回 転軸5A,5Bには、放射方向に突出延伸したピン状の複数の撹拌羽根7A,7 Bを軸方向に適宜間隔に備えている。 より詳細には、前記ベッセル3の内面は、図2に示すように、前記第1,第2 の回転軸5A,5Bに備えた第1,第2の撹拌羽根7A,7Bの回転外周に沿う 円弧状曲面9A,9Bを接合した態様の形状である。換言すれば、第1,第2の 回転軸5A,5Bを配置した断面形状がほぼ3/4円弧状の第1,第2の室11 A,11Bを接合した態様であって、いわゆるマユ形を呈している。 上記ベッセル3は前記円弧状曲面9A,9Bを備えた内壁の周囲に外壁13を 備えて、内壁と外壁13との間に、冷却媒体の入口15A、出口15Bに連通し た冷却室15Cが形成してある。そして、上記ベッセル3の一端側には、例えば 粉体顔料をワニス、溶剤等に高濃度に 分散させたミルベース原料の供給口17を備えた第1の蓋部材19がボルト等の ごとき適宜の固定具(図示省略)を介して取り外し可能に固定してある。 前記ベッセル3の他端側には前記第1,第2の回転軸5A,5Bを水平にかつ 回転可能に支持した第2の蓋部材21が適宜の固定具を介して着脱可能に取付け てある。この第2の蓋部材21には排出口23が設けてあり、この第2の蓋部材 21とベッセル3との間には、ベッセル3内に充填した粒状メディア25と分散 処理された被分散材料(ミルベース)とを分散するために、例えば網状または格 子状の粒状メディア分離機構27が配置してある。 上記粒状メディア25は、例えば球状または偏平状あるいは無定形状の鋼、セ ラミックス、石等よりなるものであって、球状の場合には平均粒径が0.2mm 〜15mmのものが使用される。そしてベッセル3内における粒状メディア25 の充填率は70〜95%である。 前記第1,第2の回転軸5A,5Bには冷却媒体を循環し得るように冷却媒体 通路が設けてあるが、冷却媒体通路は必ずしも必要ではない。この第1,第2の 回転軸5A,5Bに備えた前記第1,第2の撹拌羽根7A,7Bは、本例におい ては4本のピンを1組として放射方向に十字形に突出して設けてあるが、ピンの 本数は4本に限ることなく任意の本数で良いものである。また、ピンの断面形状 は円形に限ることなく、その他の任意の形状 としても良いものである。 上記第1,第2の回転軸5A,5Bに備えた第1,第2の撹拌羽根7A,7B は、図1に示すように、各回転軸5A,5Bの軸方向に交互に配置してあり、か つ上記第1,第2の撹拌羽根7A,7Bの回転領域29A,29Bは、図2に示 すように、1部が重なり合う構成である。 前記第1,第2の回転軸5A,5Bは、モータ(図示省略)によって同方向に 等速回転されるようになっている。この際、第1,第2の撹拌羽根7A,7Bの 周速は6m/s〜17m/sであることが望ましく、かつ両者の周速が等しいこ とが望ましい。 前記構成において、第1,第2の回転軸5A,5Bの半径をrA,rBとし、 第1,第2の撹拌羽根7A,7Bの回転半径をRA,RBとし、かつ第1,第2 の回転軸5A,5Bの軸心間隔の寸法をLとすると、rB+RA=rA+RB< L≦0.9×(RA+RB)の条件を満す関係にある。そして、前記第1,第2 の回転軸5A,5Bの周面から第2,第1の撹拌羽根7B,7Aの回転外周との 間隔および第1,第2の撹拌羽根7A,7Bの回転外周からベッセル3の内面と の間隔は、前記粒状メディア25の平均直径の3倍以上で約10倍以下の寸法で ある。 したがって、第1,第2の撹拌羽根7A,7Bと、第1,第2の回転軸5A, 5B及び第1,第2の室11A, 11Bの内面9A,9Bとの間に、粒状メディア25を挾み込むようなことがな いと共に、第1,第2の撹拌羽根7A,7Bと前記内面9A,9Bとの間隔が大 き過ぎることによって撹拌能率が低下するがごとき問題がないものである。 以上のごとき構成において、第1,第2の回転軸5A,5Bを同方向に回転し 、供給口17からミルベース原料(被分散材料)をベッセル3内に供給すると、 第1,第2の回転軸5A,5Bに備えた複数の撹拌羽根7A,7Bによってベッ セル3内の粒状メディア25が駆動撹拌され、被分散材料は上記粒状メディア2 5と混合した状態となって撹拌され分散処理される。 この際、被分散材料は、第1,第2の撹拌羽根7A,7Bの回転により、第1 ,第2の回転軸5A,5Bが位置する第1,第2の室11A,11B内を交互に 移動するように蛇行を生じ、その移動行程が長くなる。上記第1,第2の撹拌羽 根7A,7Bの回転により、ベッセル3内の粒状メディア25は撹拌羽根7A, 7Bの回転に追従して共回りする傾向にあるが、第1,第2の撹拌羽根7A,7 Bの回転領域29A,29Bが重なり合う部分においては第1,第2の撹拌羽根 7A,7Bの移動方向が逆であるので、共回りする傾向にある粒状メディア25 は上記重なり合う部分において互いに衝突し、共回りが有効に阻止されると共に 衝突に起因して撹拌が効果的に行われる。よって、上記重なり合う部分において 被 分散材料の分散処理がより効果的に行われるものである。 そして、分散処理された後の被分散材料は粒状メディア分離機構27によって 粒状メディア25から分離され、排出口23から外部へ排出される。 既に理解されるように、被分散材料は第1,第2の室11,11を交互に移動 するように蛇行し、移動行程が長くなると共に、第1,第2の撹拌羽根7A,7 Bの回転領域が重なり合う部分において、粒状メディア25に衝突する態様の現 象を生じて撹拌が効果的に行われるので、粒状メディア25の充填量を少なくす ることが可能である。 前記構成に係る分散装置の効果を確認するために、比較実験を行った。 (実験例) 実験例1〜7、比較例1〜7 顔料(12部)、アルキッド樹脂(38部)、キシレン(40部)の配合で混 合し、図1,図2に示すごとき構成の本発明に係る分散機にて分散し、顔料分散 ベースを調整した。この顔料分散ベース(88部)にメラミン樹脂(12部)を 混合し、アルキッド/メラミン塗料を調整した。比較対象としては、図7に示す ごとき構成の従来の1軸型サンドミルで実験例と同組成、同時間分散して得た塗 料を用いた。上記塗料の粒度分布を測定した結果、表1に示したように本発明に 係る分散機を使用した方が比較例の分散機を使用したものより顔料の粒径は 小さく、優れた分散性を示した。 また、上記塗料を酸化チタンのベース塗料(酸化チタンの分散ペースト、酸化 チタンをアルキッド/メラミン樹脂系で50PHRとなるように分散したもの) で顔料と酸化チタンの比率が1/10となるように希釈し、淡色塗料を調整した 。この淡色塗料をアート紙に6ミリアプリケーターで塗布し10分間静置した後 、140℃で30分間焼き付けた塗膜の着色力を測定した。着色力は比較例を基 準とした実験例の色差ΔL値から求め、比較例を100として、着色力=(10 0−ΔL×10)で示した。表1に示したように本発明の分散機を使用した方が 比較例の分散機を使用したものよりも着色力は高かった。 また、前記塗料をフォードカップ#4で20秒となるように粘度調整し、中塗 りした塗板(予めプライマー塗料を塗装し、水研ぎした鋼版)に乾燥塗膜の厚さ が約30μmとなるようにエアースプレーで塗装し10分間静置した後、140 ℃で30分間焼き付けた。この塗板の光沢を測定した結果、表1に示したように 本発明に係る分散機を使用した方が比較例の分散機を使用したものより優れた塗 膜光沢を示した。光沢:20°および60°変角光沢値 また、同容量の分散装置で比較した場合、印刷インキミルベースの生産能力は 約50%向上した。 図3,図4は第2例の分散装置1Aを示すものである。この分散装置1Aは、 第1例に示したベッセル3と断面形状が同一のベッセル3Aを垂直に設け、この ベッセル3Aの上部に供給口17Aを設け、かつ底部には前述した従来の構成と 同様の排出口111,粒状メディア分離機構113およびバルブ115を設けた 構成である。その他の構成は、前述した第1例の構成とほぼ同一であるから、同 一機能を奏する部分には同一符号を付することとして重複した説明は省略する。 この第2例においては、ベッセル3の軸心および第1,第2の回転軸5A,5 Bが垂直であり、かつ上記第1,第2の回転軸5A,5Bの軸心を含む平面は垂 直である。したがって、第1,第2の回転軸5A,5Bが位置する各室11A, 11Bは水平方向に隣接する態様であり、各室1IA,11B内の粒状メディア 量はほぼ等しく、供給口17Aからベッセル3A内へ供給された被分散材料は各 室11A,11B間を蛇行して排出口111に至るものであって、前述した第1 例と同様の効果を奏するものである。 この第2例の構成による分散装置の効果を確認するために比較実験を行った。 (実験例) 実験例1〜7、比較例1〜7 顔料(12部)、アルキッド樹脂(38部)、キシレン(40部)の配合で混 合し、図3,図4に示したごとき構成の本発明に係る分散機にて分散し、顔料分 散ベースを調整した。この顔料分散ベース(88部)にメラミン樹脂(12部) を混合し、アルキッド/メラミン塗料を調整した。比較対象としては、図8に示 すごとき従来の1軸型サンドミルで実験例と同組成、同時間分散して得た塗料を 用いた。上記塗料の粒度分布を測定した結果、表2に示したように本発明に係る 分散機を使用した方が比較例の分散機を使用したものより顔料の粒径は小さく、 優れた分散性を示した。 また、上記塗料を酸化チタンのベース塗料(酸化チタンの分散ペースト、酸化 チタンをアルキッド/メラミン樹脂系で50PHRとなるように分散したもの) で顔料と酸化チタンの比率が1/10となるように希釈し、淡色塗料を調整した 。この淡色塗料をアート紙に6ミリアプリケーターで塗布し10分間静置した後 、140℃で30分間焼き付けた塗膜の着色力を測定した。着色力は比較例を基 準とした実験例の色差ΔL値から求め、比較例を100として、着色力=(10 0−ΔL×10)で示した。表1に示したように本発明に係る分散機を使用した 方が比較例の分散機を使用したものよりも着色力は高かった。 また、同容量の分散装置で比較した場合、印刷インキミルベースの生産能力は 約50%向上した。 ところで、図1,図2に示した分散装置1は、第1,第2の回転軸5A,5B の軸心を含む平面が水平であって、第1,第2の回転軸5A,5Bの位置する各 室11A,11Bを水平に配置した構成であるが、上記第1,第2の回転軸5A ,5Bの軸心を含む平面が垂直である構成とすることもできる。すなわち、第1 ,第2の回転軸5A,5Bの位置する各室11A,11Bを上下に配置する構成 とすることも可能である。 この構成においては、ベッセル内の下側の室に粒状メディアが充満し、かつ上 側の室の粒状メディアの重量が下側の室内の粒状メディアに作用することとなり 、下側 の室内においてはより効果的な分散処理が行われることになる。 既に理解されるように、第1,第2の回転軸5A,5Bの軸心を含む平面を水 平に、又は垂直に配置することが可能であるから、ベッセル本体を水平軸心回り に回動可能の構成とすることにより、第1,第2の回転軸5A,5Bの軸心を含 む平面を、水平状態と垂直状態との間で変更可能であり、ベッセル内の各室11 A,11Bの上下を逆にすることが可能である。 この場合、ベッセル内の各室11A,11Bの位置関係を水平、垂直に変更で き、各室11A,11Bが水平な関係にある場合と垂直な関係にある場合との両 方の特性を活かしての分散処理を行うことができる。 図5は第3例を示すものである。この第3例においては、図1,図2に示した 第1例の構成とほとんど同様であり、相違する構成は、第1,第2の回転軸5A ,5Bにそれぞれ円盤31A,31Bを適宜間隙に設けて、供給口17からベッ セル内に供給された被分散材料が第1,第2の回転軸5A,5Bに沿う方向へ移 動するショートパスを防止し、かつ第1,第2の室11A,11Bを被分散材料 が蛇行する傾向を促進した構成である。なお、その他の構成は、前述した第1例 の構成と同一であるから、同一機能を奏する構成部分には同一符号を付すること として重複した説明は省略する。 上記構成においては、供給口17からベッセル3内へ 供給された被分散材料は、各円盤31A,31Bによって、排出口23へ向けて 直線的に移動することが確実に阻止されて、第1,第2の室11A,11Bの間 を蛇行しつつ排出口23に至るので、被分散材料の移動行程が長くなり、より効 果的な分散処理が行われ得るものである。 なお、既に理解されるように、図5に示す構成において第1,第2の回転軸5 A,5Bの配置関係が上下の関係となるように構成することも可能である。また 、図3に示した竪型の構成においても、第1,第2の回転軸5A,5Bにそれぞ れ円盤31A,31Bを設けても良いものである。 ところで、図6に概略的に示す構成(A),(B)の比較例の分散装置と本発 明に係る構成(C),(C’),(D),(D’)および(E)の分散装置によ り、前述した実験と同様の実験を行った結果は表3に示すとおりであり、本発明 に係る分散装置の分散処理が充分に行われることが確認された。 なお、表3において、分散装置型式の符号(A),(B),(C),(D), (E),(C’)および(D’)は、図6に概略的に示した分散装置の形式を示 すものである。 図6において、型式(A)は、前述した図7に示した構成に相当するものであ る。型式(B)は、水平な円筒形状のベッセル内に第1,第2の回転軸5A,5 Bを配 置し、かつ第1,第2の回転軸に備えた第1,第2の撹拌羽根7A,7Bの回転 領域が重なり合うことのない構成としたものである。上記型式(A),(B)は 比較例である。 図6に示す型式(C)は前述した図1,図2に示すごとき構成の分散装置に相 当する構成である。型式(D)は型式(C)の構成を90°回転した構成に相当 するものである。型式(E)は、前述した図3,図4に示すごとき構成の分散装 置に相当する構成である。そして、型式(C’)は、前述した図5の分散装置に 相当するもので、型式(C)において円板を備えた構成に相当するものである。 さらに型式(D’)は、型式(C’)の構成を90゜回転した構成に相当するも ので、型式(D)において円板を備えた構成に相当するものである。 以上、種々の例について説明したが、この発明は、前述した実施の形態の例に のみ限定されるものではなく、適宜の変更を行うことにより、その他の態様で実 施し得るものである。 すなわち、前述した実施の形態においては、第1,第2の回転軸を同方向へ回 転する旨説明した。しかし、場合によっては第1,第2の回転軸を反対方向に回 転することも可能であるが、同方向であることが望ましい。さらに、第1,第2 の回転軸を同方向に回転することと反対方向へ回転することとを任意時間毎に繰 り返す構成とすることも可能である。 さらに、図1,図3に示した構成において、ベッセルの内面の適宜範囲に亘っ て、ベッセルの内面に沿って被分散材料が直線的に移動することを防止する円弧 状の邪魔板を、撹拌羽根と干渉しないように内方向へ僅かに突出して配置する構 成とすることも可能である。 また、第1,第2の回転軸に備えたピン状の撹拌羽根に代えて、円盤状の撹拌 羽根を複数配置する構成とすることも可能である。この場合、上記円盤状の撹拌 羽根には適宜大きさ、形状の複数の貫通穴が設けてあっても、また設けてなくて も良いものであり、さらに貫通穴を設けた円盤状の撹拌羽根と、貫通穴を有しな い円盤状の撹拌羽根とが混在していても良いものである。 さらに、第1,第2の回転軸に備えた第1,第2の撹拌羽根の回転半径を異に することも可能である。産業上の利用分野 以上のごとき実施の形態例の説明より理解されるように、請求項1に係る発明 によれば、第1,第2の回転軸を回転すると共にベッセルの供給口から被分散材 料の供給を行うと、ベッセル内においては粒状メディアが撹拌羽根によって撹拌 され、被分散材料の分散処理が行われる。この際、ベッセルの内周面は、第1, 第2の回転軸に備えた各撹拌羽根の回転外周に沿って設けた2つの円弧状の曲面 を接合した態様の構成であり、かつ各撹拌羽根の回転領域の1部が重る構成であ るから、ベッセル内において粒状メディアの撹拌が行われ難いデッドスペースが なく、かつ第1,第2の回転方向を同方向とすることにより、各撹拌羽根の回転 領域が重なり合う部分においては各撹拌羽根の進行方向が逆方向となり、粒状メ ディアが衝突しあう態様となって共回りすることが防止される。 したがって、被分散材料の分散処理が効果的に行われることとなり、溶剤中の 顔料粒子がより微細になると共に濃度差がなくより均一になるものである。 請求項2に係る発明によれば、下側の回転軸の位置する室内の粒状メディアに は、上側の回転軸の位置する室内の粒状メディアの荷重が作用し、かつ下側の室 は粒状メディアが充満した態様となるので、より効果的な分散処理を行うことが できるものである。 請求項3に係る発明によれば、第1,第2の回転軸が 位置する各室内の粒状メディアの量はほぼ等しく、上記各室に対する被分散材料 の蛇行を生じ易いものである。よって、供給口から排出口に至る被分散材料の行 程が長くなり、分散処理が充分に行われ得るものである。 請求項4に係る発明によれば、第1,第2の回転軸の配置関係が水平の場合と 垂直な場合との間で種々変更でき、両方の特性を活しての分散処理を効果的に行 うことができる。 請求項5に係る発明によれば、第1,第2の回転軸が位置する各室は垂直であ り、各室内の粒状メディアの量はほぼ等しく、各室に対する被分散材料の蛇行を 生じ易く、被分散材料の移動行程が長くなり、分散処理がより効果的に行われる 。 請求項6に係る発明によれば、盤状の羽根によって被分散材料が軸に沿って移 動することを阻害される傾向にあって、被分散材料の蛇行を促進する。よって、 上記蛇行が効果的に行われて分散処理がより効果的に行われるものである。 請求項7に係る発明によれば、第1,第2の回転軸に備えた撹拌羽根の回転領 域の1部は必ず重なり合うものであり、当該重なり合い部分において粒状メディ アの共回りを阻止することができるものである。 請求項8に係る発明によれば、第1,第2の回転軸と各撹拌羽根との間隙及び 各撹拌羽根とベッセル内面との間隙に粒状メディアの詰りを生じることがなく、 また、 上記間隙が大きすぎることによって分散処理が低下することがないものである。 請求項9に係る発明によれば、各撹拌羽根の回転領域が重なり合う位置におい ては、各撹拌羽根の進行方向が逆方向となり、共回りを効果的に阻止することが できるものである。
【手続補正書】 【提出日】平成10年7月29日(1998.7.29) 【補正内容】 (1)請求の範囲を別紙の通り補正する。 (2)明細書の第6頁第12行の「請求項1に係る発明は、」を「本発明の第 1の態様は、」に補正する。 (3)明細書の第7頁第21行〜第22行の「請求項2に係る発明は、請求項 1に記載の発明において、」を「本発明の第2の態様は、上記第1の態様におい て、」に補正する。 (4)明細書の第8頁第5行〜第6行の「請求項3に係る発明は、請求項1に 記載の発明において、」を「本発明の第3の態様は、上記第1の態様において、 」に補正する。 (5)明細書の第8頁第14行〜第15行の「請求項4に係る発明は、請求項 1に記載の発明において、」を「本発明の第4の態様は、上記第1の態様におい て、」に補正する。 (6)明細書の第8頁第21行〜第22行の「請求項5に係る発明は、請求項 1に記載の発明において、」を「本発明の第5の態様は、上記第1の態様におい て、」に補正する。 (7)明細書の第9頁第1行の「請求項3に係る発明」を「上記第3の態様」 に補正する。 (8)明細書の第9頁第3行〜第4行の「請求項6に係る発明は、請求項1, 2,3,4又は5に記載の発明において、」を「本発明の第6の態様は、上記第 1,2,3,4又は5の態様において、」に補正する。 (9)明細書の第9頁第11行〜第12行の「請求項7に係る発明は、請求項 1,2,3,4,5又は6に記載の発明において、」を「本発明の第7の態様は 、上記第1,2,3,4,5又は6の態様において、」に補正する。 (10)明細書の第9頁第20行〜第21行の「請求項8に係る発明は、請求項 1,2,3,4,5,6又は7に記載の発明において、」を「本発明の第8の態 様は、上記第1,2,3,4,5,6又は7の態様において、」に補正する。 (11)明細書の第9頁第22行〜第23行の「攪拌羽根の回転外周との間隔」 を「攪拌羽根の回転外周への間隔」に補正する。 (12)明細書の第9頁第23行〜第24行の「ベッセル内面との間隔が、」を 「ベッセル内面への間隔が、」に補正する。 (13)明細書の第10頁第5行〜第6行の「請求項9に係る発明は、請求項1 ,2,3,4,5,6,7又は8に記載の発明において、」を「本発明の第9の 態様は、上記第1,2,3,4,5,6,7又は8の態様において、」に補正す る。 (14)明細書の第13頁第19行〜第20行の「第2,第1の攪拌羽根7B, 7Aの回転外周との間隔」を「第2,第1の攪拌羽根7B,7Aの回転外周への 間隔」に補正する。 (15)明細書の第13頁第21行の「ベッセル3の内面との間隔は、」を「ベ ッセル3の内面への間隔は、」に補正する。 (16)明細書の第27頁第3行の「請求項1に係る発明によれば、」を「本発 明の第1の態様によれば、」に補正する。 (17)明細書の第27頁第20行の「請求項2に係る発明によれば、」を「本 発明の第2の態様によれば、」に補正する。 (18)明細書の第27頁第25行の「請求項3に係る発明によれば、」を「本 発明の第3の態様によれば、」に補正する。 (19)明細書の第28頁第5行の「請求項4に係る発明によれば、」を「本発 明の第4の熊様によれば、」に補正する。 (20)明細書の第28頁第9行の「請求項5に係る発明によれば、」を「本発 明の第5の態様によれば、」に補正する。 (21)明細書の第28頁第14行の「請求項6に係る発明によれば、」を「本 発明の第6の態様によれば、」に補正する。 (22)明細書の第28頁第19行の「請求項7に係る発明によれば、」を「本 発明の第7の態様によれば、」に補正する。 (23)明細書の第28頁第23行の「請求項8に係る発明によれば、」を「本 発明の第8の態様によれば、」に補正する。 (24)明細書の第29頁第3行の「請求項9に係る発明によれば、」を「本発 明の第9の態様によれば、」に補正する。 請求の範囲 (1)分散される材料の供給口及び排出口を有するベッセルと、 相互に平行に且つ回転可能に、前記ベッセル内に配置された第1及び第2の回 転軸と、 軸方向に任意の間隔だけ互いに離れて前記第1及び第2の回転軸に設けられ、 軸方向に交互に配置された複数の攪拌羽根と、 前記材料の分散処理を行うために設けられ、前記ベッセル内に入れられた粒状 メディアと、 を備えた分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸に設けられた攪拌羽根の回転部分は、重なり合い、 前記ベッセルは、前記第1及び第2の回転軸に設けられた前記攪拌羽根の回転 外端に沿って形成された2つの曲面状の円周弧の組み合わせによって形成された 内面を有し、 前記第1及び第2の回転軸は、水平に配置され、 前記第1及び第2の回転軸を含む面は、垂直面であることを特徴とする分散装 置。 (2)分散される材料の供給口及び排出口を有するベッセルと、 相互に平行に且つ回転可能に、前記ベッセル内に配置された第1及び第2の回 転軸と、 軸方向に任意の間隔だけ互いに離れて前記第1及び第2の回転軸に設けられ、 軸方向に交互に配置された複数の攪拌羽根と、 前記材料の分散処理を行うために設けられ、前記ベッセル内に入れられた粒状 メディアと、 を備えた分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸に設けられた攪拌羽根の回転部分は、重なり合い、 前記ベッセルは、前記第1及び第2の回転軸に設けられた前記攪拌羽根の回転 外端に沿って形成された2つの曲面状の円周弧の組み合わせによって形成された 内面を有し、 前記第1及び第2の回転軸は、水平に配置され、 前記第1及び第2の回転軸を含む面は、水平面であることを特徴とする分散装 置。 (3)分散される材料の供給口及び排出口を有するベッセルと、 相互に平行に且つ回転可能に、前記ベッセル内に配置された第1及び第2の回 転軸と、 軸方向に任意の間隔だけ互いに離れて前記第1及び第2の回転軸に設けられ、 軸方向に交互に配置された複数の攪拌羽根と、 前記材料の分散処理を行うために設けられ、前記ベッセル内に入れられた粒状 メディアと、 を備えた分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸に設けられた攪拌羽根の回転部分は、重なり合い、 前記ベッセルは、前記第1及び第2の回転軸に設けられた前記攪拌羽根の回転 外端に沿って形成された2つの曲面状の円周弧の組み合わせによって形成された 内面を有し、 前記第1及び第2の回転軸は、水平に配置され、 前記第1及び第2の回転軸を含む面は、垂直状態と水平状態とに変更可能であ ることを特徴とする分散装置。 (4)請求項1,2,又は3の何れか1つに記載の分散装置であって、 前記第1又は第2の回転軸の少なくとも一方に、少なくとも1つの盤状の羽根 が設けられていることを特徴とする分散装置。 (5)請求項1,2,3又は4の何れか1つに記載の分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸の半径をrA,rB、前記第1及び第2の回転軸に 設けられた各攪拌羽根の回転半径をRA,RB、前記第1及び第2の回転軸の軸 芯間隔をLとするとき、 rB+RA=rA+RB<L≦0.9×(RA+RB) の関係が成り立つことを特徴とする分散装置。 (6)請求項1,2,3,4.又は5の何れか1つに記載の分散装置であって 、 前記各第1及び第2の回転軸の外面から前記第1及び第2の回転軸に設けられ た攪拌羽根の回転外端の距離と、前記攪拌羽根の回転外端から前記ベッセルの 内面の距離とは、前記粒状メディアの平均直径の3倍以上で約10倍以下であ ることを特徴とする分散装置。 (7)請求項1,2,3,4,5又は6の何れか1つに記載の分散装置であっ て、 前記第1及び第2の回転軸の回転方向は、同じであることを特徴とする分散装 置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)(削除) (2)分散される材料の供給口及び排出口を有するベッセルと、 相互に平行に且つ回転可能に、前記ベッセル内に配置された第1及び第2の回 転軸と、 軸方向に任意の間隔だけ互いに離れて前記第1及び第2の回転軸に設けられ、 軸方向に交互に配置された複数の攪拌羽根と、 前記材料の分散処理を行うために設けられ、前記ベッセル内に入れられた粒状 メディアと、 を備えた分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸に設けられた攪拌羽根の回転部分は、重なり合い、 前記ベッセルは、前記第1及び第2の回転軸に設けられた前記攪拌羽根の回転 外端に沿って形成された2つの曲面状の円周弧の組み合わせによって形成された 内面を有し、 前記第1及び第2の回転軸は、水平に配置され、 前記第1及び第2の回転軸を含む面は、垂直面であることを特徴とする分散装 置。 (3)分散される材料の供給口及び排出口を有するベッセルと、 相互に平行に且つ回転可能に、前記ベッセル内に配置 された第1及び第2の回転軸と、 軸方向に任意の間隔だけ互いに離れて前記第1及び第2の回転軸に設けられ、 軸方向に交互に配置された複数の攪拌羽根と、 前記材料の分散処理を行うために設けられ、前記ベッセル内に入れられた粒状 メディアと、 を備えた分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸に設けられた攪拌羽根の回転部分は、重なり合い、 前記ベッセルは、前記第1及び第2の回転軸に設けられた前記攪拌羽根の回転 外端に沿って形成された2つの曲面状の円周弧の組み合わせによって形成された 内面を有し、 前記第1及び第2の回転軸は、水平に配置され、 前記第1及び第2の回転軸を含む面は、水平面であることを特徴とする分散装 置。 (4)分散される材料の供給口及び排出口を有するベッセルと、 相互に平行に且つ回転可能に、前記ベッセル内に配置された第1及び第2の回 転軸と、 軸方向に任意の間隔だけ互いに離れて前記第1及び第2の回転軸に設けられ、 軸方向に交互に配置された複数の攪拌羽根と、 前記材料の分散処理を行うために設けられ、前記ベッセル内に入れられた粒状 メディアと、 を備えた分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸に設けられた攪拌羽根の回転部分は、重なり合い、 前記ベッセルは、前記第1及び第2の回転軸に設けられた前記攪拌羽根の回転 外端に沿って形成された2つの曲面状の円周弧の組み合わせによって形成された 内面を有し、 前記第1及び第2の回転軸は、水平に配置され、 前記第1及び第2の回転軸を含む面は、垂直状態と水平状態とに変更可能であ ることを特徴とする分散装置。 (5)(削除) (6)請求項2,3,又は4の何れか1つに記載の分散装置であって、 前記第1又は第2の回転軸の少なくとも一方に、少なくとも1つの盤状の羽根 が設けられていることを特徴とする分散装置。 (7)請求項2,3,4,又は6の何れか1つに記載の分散装置であって、 前記第1及び第2の回転軸の半径をrA,rB、前記第1及び第2の回転軸に 設けられた各攪拌羽根の回転半径をRA,RB、前記第1及び第2の回転軸の軸 芯間隔をLとするとき、 rB+RA=rA+RB<L≦0.9×(RA+RB)の関係が成り立つこと を特徴とする分散装置。 (8)請求項2,3,4,6,又は7の何れか1つに記 載の分散装置であって、 前記各第1及び第2の回転軸の外面から前記第1及び第2の回転軸に設けられ た攪拌羽根の回転外端との距離と、前記攪拌羽根の回転外端から前記ベッセルの 内面との距離とは、前記粒状メディアの平均直径の3倍以上で約10倍以下であ ることを特徴とする分散装置。 (9)請求項2,3,4,6,7,又は8の何れか1つに記載の分散装置であ って、 前記第1及び第2の回転軸の回転方向は、同じであることを特徴とする分散装 置。
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