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JP2000347216A - Liquid crystal display device and method of manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP2000347216A
JP2000347216A JP16070799A JP16070799A JP2000347216A JP 2000347216 A JP2000347216 A JP 2000347216A JP 16070799 A JP16070799 A JP 16070799A JP 16070799 A JP16070799 A JP 16070799A JP 2000347216 A JP2000347216 A JP 2000347216A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
pixel electrode
electrode portion
counter electrode
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16070799A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Inoue
一生 井上
Katsuhiko Kumakawa
克彦 熊川
Hirofumi Yamakita
裕文 山北
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP16070799A priority Critical patent/JP2000347216A/en
Priority to TW089110030A priority patent/TWI251697B/en
Priority to CNB001176528A priority patent/CN1214280C/en
Priority to KR1020000028563A priority patent/KR100725768B1/en
Priority to US09/580,171 priority patent/US6583840B1/en
Publication of JP2000347216A publication Critical patent/JP2000347216A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は液晶表示装置や光シャッター等に利
用される液晶パネル及びその製造方法に関するもので、
明るく、応答の速い液晶パネルを得ることを目的とす
る。 【解決手段】 一対の基板1・2と、これら基板1・2
間に封止された液晶とを有すると共に、上記一対の基板
1・2のうち一方の基板1表面上に画素電極体の画素電
極部分8…と対向電極体の対向電極部分6…とが交互に
形成され、上記基板1表面に横電界を発生させることに
より、液晶分子の配列を変化させる液晶パネルを備えた
液晶表示素子において、上記画素電極部分8及び対向電
極部分6のうち少なくとも一方は、横電界方向の断面形
状がテーパーを有し、透明であることを特徴としてい
る。
(57) Abstract: The present invention relates to a liquid crystal panel used for a liquid crystal display device, an optical shutter, and the like, and a method for manufacturing the same.
It is an object of the present invention to obtain a bright and responsive liquid crystal panel. SOLUTION: A pair of substrates 1 and 2 and these substrates 1 and 2 are provided.
And a liquid crystal sealed between them, and the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body and the counter electrode portions 6 of the counter electrode body are alternately formed on the surface of one of the pair of substrates 1 and 2. In a liquid crystal display device having a liquid crystal panel that changes the arrangement of liquid crystal molecules by generating a horizontal electric field on the surface of the substrate 1, at least one of the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6 includes: The cross-sectional shape in the horizontal electric field direction has a taper and is transparent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置や光
シャッター等に利用される液晶表示素子及びその製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device used for a liquid crystal display device, an optical shutter, and the like, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子に用いられる液晶パネルは
薄型化、軽量化、低電圧駆動可能等の長所により腕時
計、電子卓上計算機、パーソナルコンピューター、パー
ソナルワードプロセッサー等に利用されている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal panel used for a liquid crystal display element is used for a wristwatch, an electronic desk calculator, a personal computer, a personal word processor and the like because of its advantages such as thinness, light weight and low voltage drive.

【0003】従来、主として用いられているTN(Twis
ted Nematic )型液晶パネルは上下基板に電極を形成
し、基板に垂直な縦方向電界により液晶をスイッチング
させる方式である。
[0003] Conventionally, TN (Twis
The ted Nematic) type liquid crystal panel is a method in which electrodes are formed on upper and lower substrates and liquid crystal is switched by a vertical electric field perpendicular to the substrates.

【0004】これに対して、液晶パネルの視野角を広げ
る方式として、同一基板上に画素電極体及び対向電極体
を形成し、横方向の電界を印加することにより液晶分子
を動作させる横電界方式が提案されている。この方式は
IPS(In-Plane-Swiching)方式あるいは櫛形電極方
式とも呼ばれている(液晶ディスプレイ技術:産業図書
p42 参照)。
On the other hand, as a method for widening the viewing angle of a liquid crystal panel, a horizontal electric field method in which a pixel electrode body and a counter electrode body are formed on the same substrate and a liquid crystal molecule is operated by applying a horizontal electric field. Has been proposed. This method is also called an IPS (In-Plane-Swiching) method or a comb-shaped electrode method (liquid crystal display technology: Sangyo Tosho)
See p42).

【0005】図22及び図23に従来のIPS方式の液
晶パネルの構成図を示す。ここでは対向電極部分6…
(あるいは画素電極部分8…)に平行に液晶分子を初期
配向させておき、対向電極部分6…と画素電極部分8…
に電圧を印加した場合に液晶分子が対向電極部分6…
(あるいは画素電極部分8…)に垂直に配向する場合を
考えている。尚、下記発明の実施の形態と同一の機能を
有する部材には、同一の符号を付している。
FIGS. 22 and 23 show the configuration of a conventional IPS type liquid crystal panel. Here, the counter electrode portion 6 ...
The liquid crystal molecules are initially aligned in parallel with (or the pixel electrode portions 8) and the counter electrode portions 6 and the pixel electrode portions 8 are formed.
When a voltage is applied to the liquid crystal molecules, the liquid crystal molecules move to the opposite electrode portion 6.
(Or the pixel electrode portion 8 ...) is considered to be vertically oriented. Note that members having the same functions as the following embodiments of the invention are denoted by the same reference numerals.

【0006】しかし、従来の横電界方式では、対向電極
部分6…及び画素電極部分8…が平板で断面四角形状で
あるため、対向電極部分6…及び画素電極部分8…上の
液晶分子は横方向の電界があまりかからない。このた
め、図24に示すように、電圧を印加しても液晶12…
が十分に動作しないという問題があった。尚、従来の横
電界方式の対向電極部分6…及び画素電極部分8…はA
l等の金属で形成されているために両電極部分6…・8
…上は光が透過しない。言い換えれば両電極部分6…・
8…上の液晶分子が動作しなくても電極上は光が透過せ
ず、見えないためにあまり問題視していなかった。
However, in the conventional in-plane switching method, since the counter electrode portion 6 and the pixel electrode portion 8 are flat and have a rectangular cross section, the liquid crystal molecules on the counter electrode portion 6 and the pixel electrode portion 8 are horizontal. The electric field in the direction is not much. For this reason, as shown in FIG.
Did not work well. The conventional lateral electric field type opposing electrode portions 6 and pixel electrode portions 8 are A
Because both electrodes are formed of a metal such as
… No light is transmitted above. In other words, both electrode parts 6 ...
8 ... Even if the liquid crystal molecules above did not operate, light did not pass through the electrodes, and they were not seen much because they could not be seen.

【0007】このようなことを考慮して、反射型液晶パ
ネルにおいて電極上での反射を抑制するために、両電極
部分を透明導電体で形成する方法(特開平9−6184
2号公報参照)も提案されているが、前述したように両
電極部分上の液晶分子には十分な横電界がかからないの
で、液晶分子は横方向に動作せず、両電極部分を透明に
しただけでは効果はない。
In consideration of the above, in order to suppress reflection on electrodes in a reflection type liquid crystal panel, a method of forming both electrode portions with a transparent conductor (JP-A-9-6184).
However, since a sufficient lateral electric field is not applied to the liquid crystal molecules on both electrode portions as described above, the liquid crystal molecules do not operate in the horizontal direction, and both electrode portions are made transparent. Alone has no effect.

【0008】また、画素電極部分及び対向電極部分の断
面を曲断面形状にする方法も考案されている(特開平9
−171194号公報参照)。この提案は電界を連続的
にかけることにより、液晶の立ち上がり特性をよくする
ことを目的とするものである。なぜなら、両電極部分を
曲断面にするだけでは縦方向の電界が強く、横方向に十
分な電界がかからないので、両電極部分上の液晶分子の
動作改善を図ることができず、しかも、当該提案は両電
極部分を透明にするものではないので、開口率の向上を
図ることもできないからである。加えて、当該提案の如
く両電極部分そのものを曲断面にすることは製造上困難
であるといった問題もある。
Further, a method has been devised in which the cross sections of the pixel electrode portion and the counter electrode portion are formed in a curved cross section (Japanese Patent Application Laid-Open No. H9-1997).
171194). This proposal aims at improving the rising characteristics of the liquid crystal by continuously applying an electric field. This is because the electric field in the vertical direction is strong and the electric field in the horizontal direction is not sufficient just by making the two electrode portions curved, and the operation of liquid crystal molecules on both electrode portions cannot be improved. Is not to make both electrode portions transparent, so that the aperture ratio cannot be improved. In addition, there is also a problem that it is difficult to manufacture both electrode portions themselves into a curved cross section as in the proposal.

【0009】更に、画素電極部分あるいは対向電極部分
の一方を逆V字状にして、入射光を電極表面の反射によ
り開口部に集中する方法も考案されている(特開平8−
286211号公報参照)が、光を開口部に集光する必
要があるので、電極を透明電極で形成することはでき
ず、逆に光反射率の高いAlやCu等を用いるような構
成となっている。したがって、開口率の向上を図ること
はできず、しかも、光の入射方向もV字状の先の尖った
方向から入射させる必要があるので、実際上の問題も多
い。
Further, a method has been devised in which one of the pixel electrode portion and the counter electrode portion is formed in an inverted V-shape so that incident light is concentrated on the opening by reflection of the electrode surface (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-8).
However, since it is necessary to condense the light to the opening, the electrode cannot be formed of a transparent electrode, and conversely, a structure using Al, Cu, or the like having a high light reflectance is used. ing. Therefore, the aperture ratio cannot be improved, and the light must be incident from a V-shaped pointed direction, which poses many practical problems.

【0010】加えて、画素電極部分及び対向電極部分を
層間絶縁膜の上面及び傾斜面に形成する方法(特開平9
−258265号公報参照)も提案されているが、当該
提案では両電極部分が透明ではないことを明記してい
る。また、本提案においては、応答速度の改善について
は述べられていない。
In addition, a method of forming a pixel electrode portion and a counter electrode portion on an upper surface and an inclined surface of an interlayer insulating film (Japanese Patent Application Laid-Open No.
JP-A-258265) has been proposed, but the proposal specifies that both electrode portions are not transparent. Also, this proposal does not mention improvement of response speed.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来課題
を考慮してなされたものであって、電極上でも横方向の
電界が液晶に十分にかかることによって表示特性の向上
を図ると共に、開口率の向上によって明るい表示を得る
ことができ、しかも応答速度を向上させることができる
液晶表示素子及びこの液晶表示素子を容易に作製しうる
液晶表示素子の製造方法の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above-mentioned conventional problems, and aims to improve display characteristics by sufficiently applying a horizontal electric field to a liquid crystal even on an electrode. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display element capable of obtaining a bright display by improving the rate and improving the response speed, and a method of manufacturing a liquid crystal display element capable of easily manufacturing the liquid crystal display element.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに請求項1記載の発明は、一対の基板と、これら基板
間に封止された液晶とを有すると共に、上記一対の基板
のうち一方の基板表面上に画素電極体の画素電極部分と
対向電極体の対向電極部分とが交互に形成され、上記基
板表面に横電界を発生させることにより、液晶分子の配
列を変化させる液晶パネルを備えた液晶表示素子におい
て、上記画素電極部分及び対向電極部分のうち少なくと
も一方は、横電界方向の断面形状がテーパーを有し、透
明であることを特徴としている。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 has a pair of substrates and a liquid crystal sealed between the substrates, and further comprises: The pixel electrode portion of the pixel electrode body and the counter electrode portion of the counter electrode body are alternately formed on one substrate surface, and a liquid crystal panel that changes the arrangement of liquid crystal molecules by generating a horizontal electric field on the substrate surface. In the provided liquid crystal display device, at least one of the pixel electrode portion and the counter electrode portion has a tapered cross-sectional shape in a horizontal electric field direction and is transparent.

【0013】上記構成とすることにより、上記電極部分
のうち少なくとも一方の上に電界がかかるので(即ち、
横電界が十分にかかるので)、電極部分上の液晶分子も
動作し、表示特性が向上する。また、両電極部分のうち
少なくとも一方の電極部分は透明であるので、電極部分
により光が遮られるのを抑制でき、これによって開口率
が大幅に向上すると共に、電極部分の間隔を狭くしても
開口率が下がらないので、電極間隔を狭くすることがで
き、これによって液晶の応答を速めることができる。
With the above configuration, an electric field is applied to at least one of the electrode portions (ie,
Since a horizontal electric field is sufficiently applied), the liquid crystal molecules on the electrode portions also operate, and the display characteristics are improved. Further, since at least one of the two electrode portions is transparent, it is possible to prevent light from being blocked by the electrode portions, thereby greatly improving the aperture ratio and reducing the distance between the electrode portions. Since the aperture ratio does not decrease, the distance between the electrodes can be narrowed, whereby the response of the liquid crystal can be accelerated.

【0014】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の発明において、上記画素電極部分と対向電極部分と
の電極間隔が6μm以下に規制されることを特徴として
いる。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the electrode interval between the pixel electrode portion and the counter electrode portion is regulated to 6 μm or less.

【0015】このように規制することにより、上記電極
部分は透明であるので、電極部分により光が遮られるの
を抑制でき、開口率の低下を防止ししつつ電極間隔を短
くすることにより応答時間を速めることができ、動画表
示が十分に可能となる。
By restricting in this way, since the electrode portion is transparent, light can be prevented from being blocked by the electrode portion, and the response time can be reduced by shortening the electrode interval while preventing a decrease in aperture ratio. , And moving image display can be sufficiently performed.

【0016】また、請求項3記載の発明は、請求項1ま
たは2記載の発明において、上記画素電極部分あるいは
対向電極部分の横電界方向の断面形状が3角形状である
ことを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the pixel electrode portion or the counter electrode portion has a triangular cross section in the horizontal electric field direction.

【0017】上記構成とすることにより、上記電極部分
のうち少なくとも一方の断面形状が、テーパーを有する
3角形状であり、電極上に電界がかかるので(即ち、横
電界が十分にかかるので)、電極部分上の液晶分子も動
作し、表示特性が向上する。なお、上記3角形状の頂部
の頂角は135度以下であることが望ましく、特に11
0度以下であることが望ましい。
According to the above configuration, at least one of the electrode portions has a tapered triangular cross-section, and an electric field is applied on the electrode (ie, a lateral electric field is sufficiently applied). The liquid crystal molecules on the electrode portions also operate, and the display characteristics are improved. The apex angle of the apex of the above triangular shape is desirably 135 degrees or less, and particularly 11
It is desirable that it is 0 degrees or less.

【0018】また、請求項4記載の発明は、請求項1ま
たは2記載の発明において、上記画素電極部分あるいは
対向電極部分の横電界方向の断面形状が台形形状である
ことを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the cross-sectional shape of the pixel electrode portion or the counter electrode portion in the horizontal electric field direction is trapezoidal.

【0019】上記構成とすることにより、上記電極部分
のうち少なくとも一方の断面形状がテーパーを有する台
形形状であり、電極上に電界がかかるので(即ち、横電
界が十分にかかるので)、電極部分上の液晶分子も動作
し、表示特性が向上する。なお、A/Bが小さい方が表
示性能(コントラスト)が良く、A/Bを2/3以下、
好ましくは1/2以下にすることが望ましい。
With the above configuration, at least one of the electrode portions has a trapezoidal cross-sectional shape having a taper, and an electric field is applied to the electrodes (ie, a lateral electric field is sufficiently applied). The upper liquid crystal molecules also operate, and the display characteristics are improved. The smaller the A / B is, the better the display performance (contrast) is, and the A / B is 2/3 or less.
Preferably, it is desirable to make it 1 / or less.

【0020】請求項5記載の発明は、請求項1乃至4記
載の発明において、上記画素電極部分及び対向電極部分
を絶縁膜上に形成して、画素電極部分及び対向電極部分
が同一平面上に位置することを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect, the pixel electrode portion and the counter electrode portion are formed on an insulating film so that the pixel electrode portion and the counter electrode portion are on the same plane. It is characterized by being located.

【0021】前記絶縁膜を形成することにより、液晶表
示パネルの開口率を大きくすることができると同時に、
上記画素電極部分と上記対向電極部分との対向面積が大
きくなり、従って、横方向の電界がかかり易くなって、
液晶分子が動きやすくなる。
By forming the insulating film, the aperture ratio of the liquid crystal display panel can be increased, and at the same time,
The opposing area between the pixel electrode portion and the opposing electrode portion is increased, so that a horizontal electric field is easily applied,
The liquid crystal molecules move easily.

【0022】請求項6記載の発明は、請求項5記載の発
明において、上記絶縁膜の膜厚が1μm以上であること
を特徴としている。
According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the invention, the thickness of the insulating film is 1 μm or more.

【0023】このように規制するのは、絶縁膜が形成さ
れた基板表面には、凹凸があるが、絶縁膜の膜厚が1μ
m以上であれば、この凹凸を十分に吸収することができ
るので、絶縁膜の表面が滑らかになるという理由、及び
絶縁膜の絶縁性を確実に発揮するのは、絶縁膜の膜厚が
1μm以上であることが望ましいといった理由による。
The reason for this restriction is that the surface of the substrate on which the insulating film is formed has irregularities, but the thickness of the insulating film is 1 μm.
m or more, the irregularities can be sufficiently absorbed, and the reason that the surface of the insulating film is smooth and that the insulating property of the insulating film is reliably exhibited is that the thickness of the insulating film is 1 μm. This is because it is desirable to be above.

【0024】請求項7記載の発明は、請求項5記載の発
明において、上記絶縁膜がカラーフィルター層から成る
ことを特徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, in the fifth aspect of the invention, the insulating film comprises a color filter layer.

【0025】このような構造であれば、別途カラーフィ
ルターを形成することが不要となるので、カラーフィル
ターの貼り合わせのマージンが不要となり、さらに開口
率が大きくなる。
With such a structure, it is not necessary to separately form a color filter, so that a margin for bonding the color filters is not required, and the aperture ratio is further increased.

【0026】請求項8記載の発明は、一対の基板と、こ
れら基板間に封止された液晶とを有すると共に、上記一
対の基板のうち一方の基板表面上に画素電極体の画素電
極部分と対向電極体の対向電極部分とが交互に形成さ
れ、上記基板表面に横電界を発生させることにより、液
晶分子の配列を変化させる液晶パネルを備えた液晶表示
素子において、上記画素電極部分及び対向電極部分のう
ち少なくとも一方は、横電界方向の断面形状がテ−パ−
を有する透明絶縁層上に形成され、透明導電膜より構成
されていることを特徴としている。
The invention according to claim 8 has a pair of substrates and a liquid crystal sealed between these substrates, and further comprises a pixel electrode portion of a pixel electrode body on a surface of one of the pair of substrates. In a liquid crystal display element including a liquid crystal panel in which a counter electrode portion of a counter electrode body is formed alternately and a lateral electric field is generated on the surface of the substrate to change the arrangement of liquid crystal molecules, the pixel electrode portion and the counter electrode At least one of the portions has a tapered cross section in the transverse electric field direction.
And is formed on a transparent insulating layer having a transparent conductive film.

【0027】上記構成とすることにより、上記電極部分
のうち少なくとも一方の上に電界がかかるので(即ち、
横電界が十分にかかるので)、電極部分上の液晶分子も
動作し、表示特性が向上する。また、両電極部分のうち
少なくとも一方の電極部分は透明であるので、電極部分
により光が遮られるのを抑制でき、これによって開口率
が大幅に向上する。また、上記画素電極部分及び対向電
極部分のうち少なくとも一方は、横電界方向の断面形状
がテ−パ−を有する透明絶縁層上に膜状に形成されてい
るので、電気抵抗が小さくなり、従って、電界がかかり
易くなって、液晶分子がさらに動きやすくなる。
With the above configuration, an electric field is applied on at least one of the electrode portions (ie,
Since a horizontal electric field is sufficiently applied), the liquid crystal molecules on the electrode portions also operate, and the display characteristics are improved. In addition, since at least one of the two electrode portions is transparent, it is possible to prevent light from being blocked by the electrode portions, thereby greatly improving the aperture ratio. Further, since at least one of the pixel electrode portion and the counter electrode portion is formed in a film shape on the transparent insulating layer having a tapered cross section in the lateral electric field direction, the electric resistance is reduced, and accordingly, Thus, an electric field is easily applied, and the liquid crystal molecules are more easily moved.

【0028】また、請求項9記載の発明は、請求項8記
載の発明において、上記画素電極部分と対向電極部分と
の電極間隔が6μm以下に規制されることを特徴として
いる。
According to a ninth aspect of the present invention, in the eighth aspect, an electrode interval between the pixel electrode portion and the counter electrode portion is regulated to 6 μm or less.

【0029】このように規制することにより、上記電極
部分は透明であるので、電極部分により光が遮られるの
を抑制でき、開口率の低下を防止ししつつ電極間隔を短
くすることにより応答時間を速めることができ、動画表
示が十分に可能となる。
By regulating in this way, since the electrode portion is transparent, light can be prevented from being blocked by the electrode portion, and the response time can be reduced by shortening the electrode interval while preventing a decrease in aperture ratio. , And moving image display can be sufficiently performed.

【0030】また、請求項10記載の発明は、請求項8
または9記載の発明において、上記透明絶縁層の横電界
方向の断面形状が3角形状であることを特徴としてい
る。
The invention according to claim 10 is the same as the invention according to claim 8.
In the invention according to the ninth aspect, the transparent insulating layer has a triangular cross-sectional shape in a horizontal electric field direction.

【0031】上記構成とすることにより、上記透明絶縁
層の横電界方向の断面形状が3角形状であるので、上記
透明絶縁層上に形成された電極上に電界がかかることと
なり(即ち、横電界が十分にかかるので)、電極部分上
の液晶分子も動作し、表示特性が向上する。なお、上記
3角形状の頂部の頂角は135度以下であることが望ま
しく、特に110度以下であることが望ましい。
According to the above configuration, since the transparent insulating layer has a triangular cross-sectional shape in the horizontal electric field direction, an electric field is applied to the electrode formed on the transparent insulating layer (ie, the horizontal electric field is applied). Since a sufficient electric field is applied), the liquid crystal molecules on the electrode portions also operate, and the display characteristics are improved. The apex angle of the top of the triangular shape is desirably 135 degrees or less, particularly desirably 110 degrees or less.

【0032】また、請求項11記載の発明は、請求項8
または9記載の発明において、上記透明絶縁層の横電界
方向の断面形状が台形形状であることを特徴としてい
る。
The invention according to claim 11 is the same as the invention according to claim 8.
In the invention described in Item 9, the cross-sectional shape of the transparent insulating layer in the horizontal electric field direction is a trapezoidal shape.

【0033】上記構成とすることにより、上記透明絶縁
層の横電界方向の断面形状が台形形状であるので、上記
透明絶縁層上に形成された電極上に電界がかかることと
なり(即ち、横電界が十分にかかるので)、電極部分上
の液晶分子も動作し、表示特性が向上する。なお、A/
Bが小さい方が表示性能(コントラスト)が良く、A/
Bを2/3以下、好ましくは1/2以下にすることが望
ましい。
According to the above configuration, since the cross section of the transparent insulating layer in the horizontal electric field direction is trapezoidal, an electric field is applied to the electrode formed on the transparent insulating layer (ie, the horizontal electric field). ), The liquid crystal molecules on the electrode portions also operate, and the display characteristics are improved. A /
The smaller B is, the better the display performance (contrast) is.
It is desirable that B is 2 or less, preferably 好 ま し く or less.

【0034】請求項12記載の発明は、請求項8乃至1
1記載の発明において、上記透明絶縁層を絶縁膜上に形
成して、透明絶縁層上に形成される画素電極部分及び対
向電極部分が同一平面上に位置することを特徴としてい
る。
According to the twelfth aspect of the present invention, there is provided an image processing apparatus comprising:
The invention according to claim 1, wherein the transparent insulating layer is formed on an insulating film, and a pixel electrode portion and a counter electrode portion formed on the transparent insulating layer are located on the same plane.

【0035】前記絶縁膜を形成することにより、液晶表
示パネルの開口率を大きくすることができると同時に、
上記画素電極部分と上記対向電極部分との対向面積が大
きくなり、従って、横方向の電界がかかり易くなって、
液晶分子が動きやすくなる。
By forming the insulating film, the aperture ratio of the liquid crystal display panel can be increased, and at the same time,
The opposing area between the pixel electrode portion and the opposing electrode portion is increased, so that a horizontal electric field is easily applied,
The liquid crystal molecules move easily.

【0036】請求項13記載の発明は、請求項12記載
の発明において、上記絶縁膜の膜厚が1μm以上である
ことを特徴としている。
According to a thirteenth aspect, in the twelfth aspect, the insulating film has a thickness of 1 μm or more.

【0037】このように規制するのは、絶縁膜が形成さ
れた基板表面には、凹凸があるが、絶縁膜の膜厚が1μ
m以上であれば、この凹凸を十分に吸収することができ
るので、絶縁膜の表面が滑らかになるという理由、及び
絶縁膜の絶縁性を確実に発揮するのは、絶縁膜の膜厚が
1μm以上であることが望ましいといった理由による。
The reason for this restriction is that the surface of the substrate on which the insulating film is formed has irregularities, but the thickness of the insulating film is 1 μm.
m or more, the irregularities can be sufficiently absorbed, and the reason that the surface of the insulating film is smooth and that the insulating property of the insulating film is reliably exhibited is that the thickness of the insulating film is 1 μm. This is because it is desirable to be above.

【0038】請求項14記載の発明は、請求項12記載
の発明において、上記絶縁膜がカラーフィルター層から
成ることを特徴としている。
According to a fourteenth aspect, in the twelfth aspect, the insulating film comprises a color filter layer.

【0039】このような構造であれば、別途カラーフィ
ルターを形成することが不要となるので、カラーフィル
ターの貼り合わせのマージンが不要となり、さらに開口
率が大きくなる。
With such a structure, it is not necessary to separately form a color filter, so that a margin for bonding the color filters is not required, and the aperture ratio is further increased.

【0040】請求項15記載の発明は、一対の基板と、
これら基板間に封止された液晶とを有すると共に、上記
一対の基板のうち一方の基板表面上に画素電極体の画素
電極部分と対向電極体の対向電極部分とが交互に形成さ
れ、上記基板表面に横電界を発生させることにより、液
晶分子の配列を変化させる液晶パネルを備えた液晶表示
素子の製造方法であって、上記対向電極体を構成する対
向電極部分と上記画素電極体を構成する画素電極部分を
形成する第1の工程と、上記対向電極部分と上記画素電
極部分の少なくとも1つ以上を、横電界方向の断面形状
がテーパーを有するように形成する第2の工程とを有す
ることを特徴としている。
According to a fifteenth aspect of the present invention, a pair of substrates,
A liquid crystal sealed between these substrates, and a pixel electrode portion of a pixel electrode body and a counter electrode portion of a counter electrode body are alternately formed on the surface of one of the pair of substrates. A method for manufacturing a liquid crystal display element including a liquid crystal panel that changes the arrangement of liquid crystal molecules by generating a lateral electric field on a surface, wherein the pixel electrode body and the counter electrode portion forming the counter electrode body are formed. A first step of forming a pixel electrode portion, and a second step of forming at least one of the counter electrode portion and the pixel electrode portion such that a cross-sectional shape in a horizontal electric field direction has a taper. It is characterized by.

【0041】上記方法は、横電界方向の断面形状がテー
パーを有するような電極を形成するものであるため、請
求項1記載の作用効果を有する液晶表示素子を容易に作
製することができる。
In the above method, an electrode having a tapered cross section in the direction of the horizontal electric field is formed, so that a liquid crystal display element having the function and effect described in claim 1 can be easily manufactured.

【0042】また、請求項16記載の発明は、一対の基
板と、これら基板間に封止された液晶とを有すると共
に、上記一対の基板のうち一方の基板表面上に画素電極
体の画素電極部分と対向電極体の対向電極部分とが交互
に形成され、上記基板表面に横電界を発生させることに
より、液晶分子の配列を変化させる液晶パネルを備えた
液晶表示素子の製造方法であって、上記対向電極体を構
成する対向電極部分と上記画素電極体を構成する画素電
極部分の少なくとも一方を形成する位置に、透明絶縁層
を形成する第1の工程と、上記透明絶縁層を、横電界方
向の断面形状がテーパーを有するように形成する第2の
工程と、上記透明絶縁層上に、上記対向電極極部分と画
素電極部分の少なくとも一方を膜状に形成する第3の工
程と、を有することを特徴としている。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a pair of substrates; a liquid crystal sealed between the substrates; A method for manufacturing a liquid crystal display element including a liquid crystal panel in which a portion and a counter electrode portion of a counter electrode body are alternately formed, and a lateral electric field is generated on the surface of the substrate to change the arrangement of liquid crystal molecules. A first step of forming a transparent insulating layer at a position where at least one of a counter electrode portion forming the counter electrode body and a pixel electrode portion forming the pixel electrode body is formed; A second step of forming the cross-sectional shape in the direction to have a taper, and a third step of forming at least one of the counter electrode electrode portion and the pixel electrode portion in a film shape on the transparent insulating layer. Having It is characterized.

【0043】上記方法は、横電界方向の断面形状がテー
パーを有するような透明絶縁層を形成し、上記透明絶縁
層上に電極を形成するものであるため、請求項8記載の
作用効果を有する液晶表示素子を容易に作製することが
できる。
In the above method, a transparent insulating layer having a tapered cross section in the horizontal electric field direction is formed, and an electrode is formed on the transparent insulating layer. A liquid crystal display element can be easily manufactured.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)本発明の実施の
形態1を、図1〜図3に基づいて、以下に説明する。図
1は本発明の本実施の形態1における液晶パネルの構造
を模式的に示す上面図、図2は図1のA−A線断面図、
図3は本実施の形態1における液晶パネルの動作状態を
模式的に示す断面図である。
(Embodiment 1) Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a top view schematically showing a structure of a liquid crystal panel according to Embodiment 1 of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
FIG. 3 is a sectional view schematically showing an operation state of the liquid crystal panel in the first embodiment.

【0045】図1及び図2に示すように、アレイ基板で
あるガラス基板1上には横方向(以下X方向という)に
延びる走査信号線4および櫛型の対向電極体22が設け
られている。上記対向電極体22は、直線状で相互に平
行となるような対向電極部分6…(Y方向に延設)と、
これら対向電極部分6…を連結するリード20(X方向
に延設)とから成る。上記走査信号線4および対向電極
体22上には配線保護のための絶縁膜10aが形成され
ている。この絶縁膜10a上には縦方向(以下Y方向と
いう)に延びる映像信号線7および櫛型の画素電極体2
3が設けられている。上記画素電極体23は、直線状で
相互に平行となるような画素電極部分8…(Y方向に延
設)と、これら画素電極部分8…を連結するリード21
(X方向に延設)とから成る。上記映像信号線7および
画素電極体23上には配線保護のための絶縁膜10bが
形成されている。上記絶縁膜10bの上方には対向基板
であるガラス基板2が設けられており、このガラス基板
2と絶縁膜10bとの間には液晶(図示せず)が封止さ
れている。
As shown in FIGS. 1 and 2, on a glass substrate 1 serving as an array substrate, a scanning signal line 4 extending in a horizontal direction (hereinafter referred to as an X direction) and a comb-shaped counter electrode body 22 are provided. . The opposing electrode body 22 includes opposing electrode portions 6 (extending in the Y direction) that are linear and parallel to each other.
And a lead 20 (extending in the X direction) connecting these opposed electrode portions 6. An insulating film 10a for protecting the wiring is formed on the scanning signal line 4 and the counter electrode body 22. On this insulating film 10a, a video signal line 7 and a comb-shaped pixel electrode body 2 extending in the vertical direction (hereinafter, referred to as Y direction)
3 are provided. The pixel electrode body 23 includes pixel electrode portions 8 (extending in the Y direction) that are linear and parallel to each other, and leads 21 that connect the pixel electrode portions 8.
(Extended in the X direction). An insulating film 10b for protecting the wiring is formed on the video signal line 7 and the pixel electrode body 23. A glass substrate 2 as a counter substrate is provided above the insulating film 10b, and a liquid crystal (not shown) is sealed between the glass substrate 2 and the insulating film 10b.

【0046】また、上記画素電極部分8…と対向電極部
分6…とは、横電界方向の断面形状がテーパーを有する
ように形成(本実施の形態1においては、3角形状に形
成)されるとともに交互に形成されており、上記画素電
極部分8…と上記リード21とは接続され、一方、上記
対向電極部分6…と上記リード20とは接続されてい
る。
The pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 are formed so that the cross-sectional shape in the horizontal electric field direction has a taper (in the first embodiment, a triangular shape). The pixel electrode portions 8 are connected alternately to the leads 21, while the counter electrode portions 6 are connected to the leads 20.

【0047】更に、上記走査信号線4と映像信号線7と
の交差位置には、能動素子(スイッチング素子)として
の半導体層(TFT:Thin Film Transistor)9が配
置されており、走査信号線4からの信号がゲート4aに
与えられて上記半導体層9がON状態になると、映像信
号線7からの映像信号電圧がソース7aとドレイン14
とを介して上記画素電極体23に印加されるような構造
である。
Further, a semiconductor layer (TFT: Thin Film Transistor) 9 as an active element (switching element) is arranged at the intersection of the scanning signal line 4 and the video signal line 7. Is applied to the gate 4a and the semiconductor layer 9 is turned on, the video signal voltage from the video signal line 7 is applied to the source 7a and the drain 14a.
And is applied to the pixel electrode body 23 through

【0048】このような構造を有することにより、画素
電極体23の画素電極部分8…と対向電極部分6…との
間に横電界が生じて、液晶分子が基板面内で回転し、液
晶層の駆動表示が行われる。
With such a structure, a horizontal electric field is generated between the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portions 6. Is displayed.

【0049】ここで、上記構造の液晶パネルは、ガラス
基板1上に金属配線として映像信号線7と走査信号線4
とをマトリクス状に形成し、その交点に半導体層9を形
成するような工程を経て作製されるものであるが、具体
的には、以下の通りである。
Here, in the liquid crystal panel having the above structure, the video signal line 7 and the scanning signal line 4 are formed on the glass substrate 1 as metal wiring.
Are formed in a matrix, and the semiconductor layer 9 is formed through a process of forming a semiconductor layer 9 at the intersection thereof. Specifically, it is as follows.

【0050】先ず、ガラス基板1の表面に、走査信号線
4及び対向電極体22のリード20をAl等から成る金
属で形成する。その後、透明導電膜(ITO:酸化イン
ジウムー酸化スズ)からなる対向電極部分6…を直線状
で相互に平行となるようにY方向に延設するとともに、
これら対向電極部分6…をリード20に連結する。その
後、上記対向電極部分6…はテーパーエッチングによっ
て断面形状が3角形状となるようにする。次に、これら
の配線を保護するためにSiO2等から成る絶縁膜10
aを形成し、更にその上に半導体層9としてTFTを形
成した。
First, the scanning signal lines 4 and the leads 20 of the counter electrode body 22 are formed on the surface of the glass substrate 1 with a metal such as Al. Thereafter, the counter electrode portions 6 made of a transparent conductive film (ITO: indium oxide-tin oxide) are linearly extended in the Y direction so as to be parallel to each other.
These opposing electrode portions 6 are connected to the leads 20. Thereafter, the counter electrode portions 6 are formed into a triangular cross section by taper etching. Next, an insulating film 10 made of SiO2 or the like is used to protect these wirings.
was formed, and a TFT was formed thereon as the semiconductor layer 9.

【0051】次に、映像信号線7、ソース7a及びドレ
イン14を、Al/Ti等から成る金属で形成した後、
リード21をX方向に形成し、上記リード21に連結す
るように、直線状で相互に平行に、透明導電膜(IT
O:酸化インジウムー酸化スズ)からなる画素電極部分
8…をY方向に延設し、上記画素電極部分8は上記ドレ
イン14に接続する。上記画素電極部分8…はテーパー
エッチングによって断面形状が3角形状となるようにす
る。これら配線を保護するためにSiNx等から成る絶
縁膜10bを形成した。
Next, after the video signal line 7, the source 7a and the drain 14 are formed of a metal such as Al / Ti,
Leads 21 are formed in the X direction, and are connected linearly and in parallel to each other so that the transparent conductive films (IT
Pixel electrode portions 8 made of O: indium oxide-tin oxide) extend in the Y direction, and the pixel electrode portions 8 are connected to the drains 14. The pixel electrode portions 8 are formed into a triangular cross section by taper etching. An insulating film 10b made of SiNx or the like was formed to protect these wirings.

【0052】尚、走査信号線4や映像信号線7もITO
で形成することも考えられるが、これら信号線4・7を
ITOで形成すると配線抵抗が大きくなり過ぎるので
(Alの抵抗値は4μΩcm程度であるのに対してIT
Oの抵抗値は100〜500μΩcmである)、信号線
4・7はAl等の配線抵抗の小さい金属で形成するのが
望ましい。
The scanning signal line 4 and the video signal line 7 are also made of ITO.
However, if these signal lines 4.7 are formed of ITO, the wiring resistance becomes too large (Al resistance is about 4 μΩcm, whereas
The resistance value of O is 100 to 500 μΩcm), and the signal lines 4 and 7 are desirably formed of a metal having a low wiring resistance such as Al.

【0053】次に、ガラス基板1とガラス基板2との上
に配向膜(AL5417:JSR製)を印刷して、ラビ
ング処理を施した後、ガラス基板1の縁部にシール樹脂
(ストラクトボンド:三井東圧製)を印刷する。尚、シ
ール樹脂中には、4.0μmのガラスファイバー(日本
電気硝子製)から成るスペーサーを混入した。
Next, an alignment film (AL5417: manufactured by JSR) is printed on the glass substrate 1 and the glass substrate 2 and subjected to a rubbing treatment. Then, a sealing resin (struct bond: Printed by Mitsui Toatsu. A spacer made of 4.0 μm glass fiber (manufactured by Nippon Electric Glass) was mixed into the sealing resin.

【0054】その後、基板間隔を保持するために表示領
域内にスペーサーとして直径3.5μmの樹脂球(エポ
スターGP−HC:日本触媒(株)製)を散布した。し
かる後、ガラス基板1及びガラス基板2を貼り合わせ、
150℃で2時間加熱することでシール樹脂を硬化させ
た。
Thereafter, resin balls having a diameter of 3.5 μm (Eposter GP-HC: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) were sprayed as spacers in the display area in order to maintain the substrate interval. Thereafter, the glass substrate 1 and the glass substrate 2 are bonded together,
The sealing resin was cured by heating at 150 ° C. for 2 hours.

【0055】次いで、以上のようにして作製した空パネ
ルに、液晶(MT5087:チッソ社製)を真空注入法
(空パネルを減圧した槽内に設置し、パネル内を真空に
した後、注入口を液晶に接触させ、槽内を常圧に戻すこ
とにより、液晶をパネル内に注入する方法)にて注入し
た。
Next, a liquid crystal (MT5087: manufactured by Chisso Corporation) was placed in the empty panel prepared as described above by a vacuum injection method (the empty panel was placed in a depressurized tank, and the inside of the panel was evacuated. Was brought into contact with the liquid crystal, and the inside of the tank was returned to normal pressure, whereby the liquid crystal was injected into the panel.

【0056】最後に、液晶パネルの注入口に封口樹脂と
して光硬化性樹脂(ロックタイト352A:日本ロック
タイト製)を注入口全体に塗布し、光を10mW/cm
2 で5分間照射して封口樹脂を硬化させた後、ガラス基
板1とガラス基板2との上下(ガラス基板の外側)に偏
光板(NPF−HEG1425DU:日東電工製)を貼
付した。これにより、液晶パネルが作製される。
Finally, a photocurable resin (Loctite 352A: manufactured by Nippon Loctite) is applied to the entire injection port of the liquid crystal panel as a sealing resin, and light is applied at 10 mW / cm.
After irradiating with 5 for 5 minutes to cure the sealing resin, a polarizing plate (NPF-HEG1425DU: manufactured by Nitto Denko) was attached above and below the glass substrate 1 and the glass substrate 2 (outside the glass substrate). Thus, a liquid crystal panel is manufactured.

【0057】ここで、図22及び図23に示すように、
比較例として画素電極体23の画素電極部分8…と対向
電極体22の対向電極部分6…とを従来と同じく矩形と
した場合の液晶パネルも作製し、本発明の液晶パネルと
種々の性能について比較したので、それらの結果を下記
に示す。
Here, as shown in FIGS. 22 and 23,
As a comparative example, a liquid crystal panel in which the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portions 6 of the counter electrode body 22 are rectangular as in the related art was also manufactured. The results of the comparison are shown below.

【0058】先ず、両液晶パネルに電圧を印加して顕微
鏡を用いて観察したところ、比較例の液晶パネルでは、
図24に示すように、電極上の液晶分子12に十分な横
電界がかからないために、当該部位の液晶分子12は動
作せず、液晶パネルの明るさが十分ではないことが認め
られた。これに対して、本発明の液晶パネルでは、画素
電極部分8…および対向電極部分6…を断面形状を3角
形状としているので、図3に示すように、電極上の液晶
分子12にも十分な横電界がかかるため、当該部位の液
晶分子12も動作し、十分に明るい液晶パネルが得られ
た。また、本発明の如く、画素電極部分8…および対向
電極部分6…を透明電極より形成すれば、開口率を大き
くすることができる。
First, when a voltage was applied to both liquid crystal panels and observed using a microscope, the liquid crystal panel of the comparative example showed that:
As shown in FIG. 24, since a sufficient transverse electric field was not applied to the liquid crystal molecules 12 on the electrodes, the liquid crystal molecules 12 at the corresponding portions did not operate, and it was recognized that the brightness of the liquid crystal panel was not sufficient. On the other hand, in the liquid crystal panel of the present invention, since the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 have a triangular cross-sectional shape, as shown in FIG. Since an intense horizontal electric field is applied, the liquid crystal molecules 12 at the relevant portion also operate, and a sufficiently bright liquid crystal panel is obtained. If the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 are formed of transparent electrodes as in the present invention, the aperture ratio can be increased.

【0059】加えて、本発明の液晶パネルでは断面形状
が3角形状の画素電極部分8…と対向電極部分6…とを
形成しているので、比較例の液晶パネルに比べて画素電
極部分8…及び対向電極部分6…における上向き部分が
狭くなる(即ち、頂部のみにが上向きとなる)。したが
って、縦方向の電界がかかり難くなって、十分に横方向
の電界がかかることになる。
In addition, in the liquid crystal panel of the present invention, the pixel electrode portions 8 having a triangular cross section and the counter electrode portions 6 are formed. , And the upward portions of the counter electrode portions 6 are narrowed (that is, only the top portions are upward). Therefore, it becomes difficult to apply a vertical electric field, and a sufficient horizontal electric field is applied.

【0060】更に、応答時間は画素電極部分8…と対向
電極部分6…との間隔の2乗に比例することは周知であ
るので、画素電極部分8…と対向電極部分6…との電極
間隔を短くした方が良いことは明らかである。ここで、
現状の液晶パネルでは電極間隔は12μm程度であり、
応答時間は60msec程度と遅いことから、画素電極部分
8…と対向電極部分6…との電極間隔を狭くして、応答
速度の向上を図ることも考えられる。しかしながら、従
来の画素電極部分8…と対向電極部分6…とは透明電極
で構成されていないため、画素電極部分8…と対向電極
部分6…との電極間隔を狭くすると、その分だけ電極数
が増えるので、開口率が低下する。
It is well known that the response time is proportional to the square of the distance between the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6. Therefore, the electrode interval between the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6 is known. It is clear that it is better to shorten. here,
In the current liquid crystal panel, the electrode spacing is about 12 μm,
Since the response time is as slow as about 60 msec, it is conceivable to improve the response speed by reducing the electrode interval between the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6. However, since the conventional pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 are not formed of transparent electrodes, if the electrode interval between the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 is reduced, the number of electrodes is reduced accordingly. , The aperture ratio decreases.

【0061】これに対して、本発明のように画素電極部
分8…と対向電極部分6…とを透明電極で構成すれば、
画素電極部分8…と対向電極部分6…との電極間隔を狭
くして電極数を増やしたとしても開口率の低下を防止で
きる。したがって、開口率の低下を防止ししつつ電極間
隔を短くすることにより応答時間を速めることができ
る。尚、電極間隔を6μmにすることにより、応答時間
は15msec以下で駆動できることになり、動画表示が十
分に可能となることを確認した。
On the other hand, if the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 are formed of transparent electrodes as in the present invention,
Even if the electrode interval between the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 is reduced to increase the number of electrodes, a decrease in the aperture ratio can be prevented. Therefore, the response time can be shortened by shortening the electrode interval while preventing a decrease in the aperture ratio. By setting the electrode interval to 6 μm, the response time can be reduced to 15 msec or less, and it has been confirmed that moving images can be sufficiently displayed.

【0062】なお、本実施の形態1では電極の断面形状
を3角形状としたが、断面形状がテーパーを有するよう
な形状であれば限定されるものではなく、5角形状以上
の多角形状とすることも可能である。
In the first embodiment, the cross section of the electrode is triangular. However, the shape is not limited as long as the cross section has a taper shape. It is also possible.

【0063】(実施の形態2)本発明の実施の形態2
を、図4〜図7に基づいて、以下に説明する。図4は本
実施の形態2における液晶パネルの構造を模式的に示す
上面図、図5は図4のA−A線断面図、図6は図4のB
−B断面図、図7は本実施の形態2における液晶パネル
の動作状態を模式的に示す断面図である。
(Embodiment 2) Embodiment 2 of the present invention
Will be described below with reference to FIGS. 4 is a top view schematically showing the structure of the liquid crystal panel according to the second embodiment, FIG. 5 is a sectional view taken along line AA of FIG. 4, and FIG.
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an operation state of the liquid crystal panel according to the second embodiment.

【0064】図4乃至図6に示すように、アレイ基板で
あるガラス基板1上には横方向(以下X方向という)に
延びる走査信号線4が設けられており、この走査信号線
4上には配線保護のための絶縁膜10aが形成されてい
る。この絶縁膜10a上には縦方向(以下Y方向とい
う)に延びる映像信号線7が設けら、この映像信号線7
上には配線保護のための絶縁膜10bが形成されてい
る。この絶縁膜10b上には絶縁膜15が形成されてお
り、上記絶縁膜15の上方には対向基板であるガラス基
板2が設けられており、このガラス基板2と絶縁膜15
との間には液晶(図示せず)が封止されている。
As shown in FIGS. 4 to 6, a scanning signal line 4 extending in the horizontal direction (hereinafter referred to as X direction) is provided on a glass substrate 1 which is an array substrate. Is formed with an insulating film 10a for wiring protection. On the insulating film 10a, a video signal line 7 extending in a vertical direction (hereinafter, referred to as a Y direction) is provided.
An insulating film 10b for wiring protection is formed thereon. An insulating film 15 is formed on the insulating film 10b, and a glass substrate 2 as an opposing substrate is provided above the insulating film 15;
A liquid crystal (not shown) is sealed between the two.

【0065】また、上記絶縁膜15上には、一対の櫛型
の画素電極体23と対向電極体22とが設けられてい
る。上記画素電極体23は、直線状で相互に平行となる
ような画素電極部分8…(Y方向に延設)と、これら画
素電極部分8…を連結するリード21(X方向に延設)
とから成る。一方上記対向電極体22は、直線状で相互
に平行となるような対向電極部分6…(Y方向に延設)
と、これら対向電極部分6…を連結するリード20(X
方向に延設)とから成る。上記画素電極部分8…と対向
電極部分6…とは、断面形状が3角形状に形成されると
ともに交互に形成されている。また、上記画素電極部分
8…と上記リード21とはコンタクトホール13b…を
介して接続されている一方、上記対向電極部分6…と上
記リード20とはコンタクトホール13a…を介して接
続されている。
A pair of comb-shaped pixel electrode bodies 23 and a counter electrode body 22 are provided on the insulating film 15. The pixel electrode body 23 includes linearly parallel pixel electrode portions 8 (extending in the Y direction) and leads 21 connecting these pixel electrode portions 8 (extending in the X direction).
Consisting of On the other hand, the opposing electrode body 22 has opposing electrode portions 6 that are linear and parallel to each other (extend in the Y direction).
And a lead 20 (X
Extending in the direction). The pixel electrode portions 8 and the opposing electrode portions 6 have a triangular cross-section and are formed alternately. The pixel electrode portions 8 and the leads 21 are connected via contact holes 13b, while the counter electrode portions 6 and the leads 20 are connected via contact holes 13a. .

【0066】更に、上記走査信号線4と映像信号線7と
の交差位置には、能動素子(スイッチング素子)として
の半導体層(TFT:Thin Film Transistor)9が配
置されており、走査信号線4からの信号がゲート4aに
与えられて上記半導体層9がON状態になると、映像信
号線7からの映像信号電圧がソース7aとドレイン14
とを介して上記画素電極体23に印加されるような構造
である。
Further, a semiconductor layer (TFT: Thin Film Transistor) 9 as an active element (switching element) is disposed at the intersection of the scanning signal line 4 and the video signal line 7. Is applied to the gate 4a and the semiconductor layer 9 is turned on, the video signal voltage from the video signal line 7 is applied to the source 7a and the drain 14a.
And is applied to the pixel electrode body 23 through

【0067】このような構造を有することにより、画素
電極体23の画素電極部分8…と対向電極部分6…との
間に横電界が生じて、液晶分子が基板面内で回転し、液
晶層の駆動表示が行われる。
With such a structure, a horizontal electric field is generated between the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portions 6. Is displayed.

【0068】ここで、上記構造の液晶パネルは、ガラス
基板1上に金属配線として映像信号線7と走査信号線4
とをマトリクス状に形成し、その交点に半導体層9を形
成するような工程を経て作製されるものであるが、具体
的には、以下の通りである。
Here, the liquid crystal panel having the above structure is composed of a video signal line 7 and a scanning signal line 4 as metal wiring on a glass substrate 1.
Are formed in a matrix, and the semiconductor layer 9 is formed through a process of forming a semiconductor layer 9 at the intersection thereof. Specifically, it is as follows.

【0069】先ず、ガラス基板1の表面に、走査信号線
4及び対向電極体22のリード20をAl等から成る金
属で形成した後、これらの配線を保護するためにSiO
2等から成る絶縁膜10aを形成し、更にその上に半導
体層9としてTFTを形成した。次に、映像信号線7、
ソース7a及びドレイン14を、Al/Ti等から成る
金属で形成した後、これら配線を保護するためにSiO
2等から成る絶縁膜10bを形成した。次いで、光硬化
型樹脂である感光性のアクリル性樹脂(PC302:J
SR製)を用いて、以下に示す方法により、絶縁膜15
を上記絶縁膜10b上に形成した。即ち、アレイ基板上
にPC302をスピンコートにより塗布した後、80℃
で1分間プリベークを行い、更に、ガラス基板1側より
300mJ/ cm2 で露光を行った。その後、現像液
(CD702AD)にて25℃で1分間現像を行い、流
水で洗浄後、200℃で1時間ポストベークを行い(室
温より昇温する)、膜厚1.5μmの絶縁膜15を形成
した。
First, the scanning signal lines 4 and the leads 20 of the counter electrode body 22 are formed of metal such as Al on the surface of the glass substrate 1, and then SiO 2 is formed to protect these wirings.
An insulating film 10a made of 2 or the like was formed, and a TFT was formed thereon as the semiconductor layer 9. Next, the video signal line 7,
After the source 7a and the drain 14 are formed of a metal such as Al / Ti, SiO.
An insulating film 10b made of 2 or the like was formed. Next, a photosensitive acrylic resin (PC302: J
SR) and the insulating film 15 by the method described below.
Was formed on the insulating film 10b. That is, after applying the PC 302 on the array substrate by spin coating,
Pre-baking was performed for 1 minute, and further, exposure was performed at 300 mJ / cm 2 from the glass substrate 1 side. Thereafter, development is performed with a developing solution (CD702AD) at 25 ° C. for 1 minute, washed with running water, and post-baked at 200 ° C. for 1 hour (temperature is raised from room temperature) to form an insulating film 15 having a thickness of 1.5 μm. Formed.

【0070】ここで、十分な絶縁性をとること及び画素
電極体と透明電極をほぼ平坦面上に形成するためには、
絶縁膜の膜厚は1μm以上であることが望ましい。ま
た、ガラス基板1側から光を照射する場合は拡散させた
光を入射する(横方向からも光を入射するか拡散板を通
して光を照射する)方が望ましい。
Here, in order to obtain sufficient insulating properties and to form the pixel electrode body and the transparent electrode on a substantially flat surface,
The thickness of the insulating film is desirably 1 μm or more. In the case of irradiating light from the glass substrate 1 side, it is preferable that diffused light is incident (light is also incident from the lateral direction or light is irradiated through a diffusion plate).

【0071】上記のようにして絶縁膜15を作製した
後、絶縁膜15にコンタクトホール13a・13b・1
3cを形成した。しかる後、ドレイン14とつながる画
素電極体23の画素電極部分8…を透明導電膜(IT
O:酸化インジウム−酸化スズ)で形成する。この際、
コンタクトホール13cを介してドレイン14と画素電
極体23の画素電極部分8…とがコンタクトされると共
に、コンタクトホール13b…を介して画素電極体23
のリード21と画素電極部分8…とがコンタクトされる
ことになる。
After the insulating film 15 is formed as described above, the contact holes 13a, 13b, and 1 are formed in the insulating film 15.
3c was formed. Then, the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 connected to the drain 14 are formed of a transparent conductive film (IT
O: indium oxide-tin oxide). On this occasion,
The drain 14 and the pixel electrode portion 8 of the pixel electrode body 23 are in contact with each other via the contact hole 13c, and the pixel electrode body 23 is connected via the contact hole 13b.
Are brought into contact with the pixel electrode portions 8.

【0072】次に、上記画素電極部分8…を、テーパー
エッチングによって断面形状が3角形状となるように形
成する。次に、対向電極部分6…をITOからなる透明
導電膜で形成する。この際、コンタクトホール13a…
を介して、対向電極体22のリード20と対向電極部分
6…とがコンタクトされることになる。また、上記対向
電極部分6…も同様に、テーパーエッチングによって断
面形状が3角形状となるように形成する。
Next, the pixel electrode portions 8 are formed by taper etching so that the cross-sectional shape becomes a triangular shape. Next, the opposing electrode portions 6 are formed of a transparent conductive film made of ITO. At this time, the contact holes 13a ...
Are brought into contact with the leads 20 of the opposing electrode body 22 and the opposing electrode portions 6. Similarly, the counter electrode portions 6 are also formed by taper etching so that the cross-sectional shape becomes a triangular shape.

【0073】尚、走査信号線4や映像信号線7もITO
で形成することも考えられるが、これら信号線4・7を
ITOで形成すると配線抵抗が大きくなり過ぎるので
(Alの抵抗値は4μΩcm程度であるのに対してIT
Oの抵抗値は100〜500μΩcmである)、信号線
4・7はAl等の配線抵抗の小さい金属で形成するのが
望ましい。また、画素電極体23の画素電極部分8…や
対向電極体22の対向電極部分6…を保護するために、
画素電極部分8…や対向電極部分6…を形成した後、S
iNx から成る絶縁膜を形成しても良い(本実施の形態
では図示せず)。
The scanning signal line 4 and the video signal line 7 are also made of ITO.
However, if these signal lines 4.7 are formed of ITO, the wiring resistance becomes too large (Al resistance is about 4 μΩcm, whereas
The resistance value of O is 100 to 500 μΩcm), and the signal lines 4 and 7 are desirably formed of a metal having a low wiring resistance such as Al. In order to protect the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portions 6 of the counter electrode body 22,
After forming the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6,
An insulating film made of iNx may be formed (not shown in this embodiment).

【0074】次に、ガラス基板1とガラス基板2との上
に配向膜(AL5417:JSR製)を印刷して、ラビ
ング処理を施した後、ガラス基板1の縁部にシール樹脂
(ストラクトボンド:三井東圧製)を印刷する。尚、シ
ール樹脂中には、4.0μmのガラスファイバー(日本
電気硝子製)から成るスペーサーを混入した。
Next, after an orientation film (AL5417: manufactured by JSR) is printed on the glass substrates 1 and 2 and subjected to a rubbing treatment, a sealing resin (structural bond: Printed by Mitsui Toatsu. A spacer made of 4.0 μm glass fiber (manufactured by Nippon Electric Glass) was mixed into the sealing resin.

【0075】その後、基板間隔を保持するために表示領
域内にスペーサーとして直径3.5μmの樹脂球(エポ
スターGP−HC:日本触媒(株)製)を散布した。し
かる後、ガラス基板1及びガラス基板2を貼り合わせ、
150℃で2時間加熱することでシール樹脂を硬化させ
た。
Thereafter, resin balls having a diameter of 3.5 μm (Eposter GP-HC: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) were sprayed as spacers in the display area in order to keep the distance between the substrates. Thereafter, the glass substrate 1 and the glass substrate 2 are bonded together,
The sealing resin was cured by heating at 150 ° C. for 2 hours.

【0076】次いで、以上のようにして作製した空パネ
ルに、液晶(MT5087:チッソ社製)を真空注入法
(空パネルを減圧した槽内に設置し、パネル内を真空に
した後、注入口を液晶に接触させ、槽内を常圧に戻すこ
とにより、液晶をパネル内に注入する方法)にて注入し
た。
Next, a liquid crystal (MT5087: manufactured by Chisso Corporation) was placed in the empty panel prepared as described above by a vacuum injection method (the empty panel was placed in a depressurized tank, and the inside of the panel was evacuated. Was brought into contact with the liquid crystal, and the inside of the tank was returned to normal pressure, whereby the liquid crystal was injected into the panel.

【0077】最後に、液晶パネルの注入口に封口樹脂と
して光硬化性樹脂(ロックタイト352A:日本ロック
タイト製)を注入口全体に塗布し、光を10mW/cm
2 で5分間照射して封口樹脂を硬化させた後、ガラス基
板1とガラス基板2との上下(ガラス基板の外側)に偏
光板(NPF−HEG1425DU:日東電工製)を貼
付した。これにより、液晶パネルが作製される。
Finally, a photocurable resin (Loctite 352A: manufactured by Nippon Loctite) is applied to the entire injection port of the liquid crystal panel as a sealing resin, and light is applied at 10 mW / cm.
After irradiating with 5 for 5 minutes to cure the sealing resin, a polarizing plate (NPF-HEG1425DU: manufactured by Nitto Denko) was attached above and below the glass substrate 1 and the glass substrate 2 (outside the glass substrate). Thus, a liquid crystal panel is manufactured.

【0078】ここで、比較例として画素電極体23の画
素電極部分8…と対向電極体22の対向電極部分6…と
を従来と同じく矩形とした場合の液晶パネルも作製し、
本発明の液晶パネルと種々の性能について比較したの
で、それらの結果を下記に示す。
Here, as a comparative example, a liquid crystal panel in which the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portions 6 of the counter electrode body 22 are rectangular as in the related art was also manufactured.
The liquid crystal panel of the present invention was compared with various performances, and the results are shown below.

【0079】先ず、両液晶パネルに電圧を印加して顕微
鏡を用いて観察したところ、比較例の液晶パネルでは、
図25に示すように、電極上の液晶分子12に十分な横
電界がかからないために、当該部位の液晶分子12は動
作せず、液晶パネルの明るさが十分ではないことが認め
られた。これに対して、本発明の液晶パネルでは、図7
に示すように、電極上の液晶分子12にも十分な横電界
がかかるため、当該部位の液晶分子12も動作し、十分
に明るい液晶パネルが得られた。
First, when a voltage was applied to both liquid crystal panels and observed using a microscope, the liquid crystal panel of the comparative example showed that:
As shown in FIG. 25, since a sufficient lateral electric field was not applied to the liquid crystal molecules 12 on the electrodes, the liquid crystal molecules 12 at the corresponding portions did not operate, and it was recognized that the brightness of the liquid crystal panel was not sufficient. On the other hand, in the liquid crystal panel of the present invention, FIG.
As shown in (2), since a sufficient transverse electric field is applied also to the liquid crystal molecules 12 on the electrodes, the liquid crystal molecules 12 at the corresponding portions also operate, and a sufficiently bright liquid crystal panel was obtained.

【0080】また、図8は、本実施の形態2の液晶パネ
ルにかかる電界をシュミレーションした時の概略を示す
グラフであり、図26は、従来の液晶パネルにかかる電
界をシュミレーションした時の概略を示すグラフであ
る。矢印は電気力線を示しており、従来の液晶パネルで
は画素電極部分8、対向電極部分6上はほとんど縦方向
の電界しかかかっていないのに対して、本発明の液晶パ
ネルでは、画素電極部分8、対向電極部分6上に横方向
に電界がかかっていることがわかる。図10に従来のよ
うにして作製した液晶パネルと実施の形態1および2で
作製した液晶パネルの開口率と画素ピッチの関係を示
す。図10より本発明の実施の形態1および2で作製し
た液晶パネルの開口率が従来の液晶パネルに比べて大幅
に向上しており、さらに、実施の形態2で作製した液晶
パネルの開口率は液晶パネルよりも向上していることが
わかる。よって、本実施の形態2の如く、絶縁膜15を
形成することにより、開口率を大きくすることができる
と同時に、画素電極体23の画素電極部分8…と対向電
極体22の対向電極部分6…との対向面積が大きくなる
ので、横方向の電界がかかり易くなって、液晶分子が動
きやすくなる。
FIG. 8 is a graph showing an outline when an electric field applied to the liquid crystal panel according to the second embodiment is simulated, and FIG. 26 is an outline when an electric field applied to a conventional liquid crystal panel is simulated. It is a graph shown. Arrows indicate lines of electric force. In the conventional liquid crystal panel, almost only a vertical electric field is applied on the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6, whereas in the liquid crystal panel of the present invention, the pixel electrode portion 8. It can be seen that an electric field is applied to the opposing electrode portion 6 in the lateral direction. FIG. 10 shows the relationship between the aperture ratio and the pixel pitch of the liquid crystal panel manufactured as in the related art and the liquid crystal panels manufactured in Embodiments 1 and 2. FIG. 10 shows that the aperture ratios of the liquid crystal panels manufactured in Embodiments 1 and 2 of the present invention are significantly improved as compared with the conventional liquid crystal panel, and the aperture ratio of the liquid crystal panel manufactured in Embodiment 2 is It can be seen that it is higher than the liquid crystal panel. Therefore, by forming the insulating film 15 as in the second embodiment, the aperture ratio can be increased, and at the same time, the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portion 6 of the counter electrode body 22 can be formed. , The electric field in the horizontal direction is easily applied, and the liquid crystal molecules are easily moved.

【0081】加えて、本発明の液晶パネルでは、断面形
状が3角形状の画素電極部分8…と対向電極部分6…と
を形成しているので、比較例の液晶パネルに比べて画素
電極部分8…及び対向電極部分6…における上向き部分
が狭くなる(即ち、頂部のみにが上向きとなる)。した
がって、縦方向の電界がかかり難くなって、十分に横方
向の電界がかかることになる。
In addition, in the liquid crystal panel of the present invention, since the pixel electrode portions 8 having a triangular cross section and the counter electrode portions 6 are formed, the pixel electrode portions are compared with the liquid crystal panel of the comparative example. 8 and the opposed portions of the counter electrode portions 6 are narrowed (that is, only the tops face upward). Therefore, it becomes difficult to apply a vertical electric field, and a sufficient horizontal electric field is applied.

【0082】更に、応答時間は画素電極部分8…と対向
電極部分6…との間隔の2乗に比例することは周知であ
るので、画素電極部分8…と対向電極部分6…との電極
間隔を短くした方が良いことは明らかである。ここで、
現状の液晶パネルでは電極間隔は12μm程度であり、
応答時間は60msec程度と遅いことから、画素電極部分
8…と対向電極部分6…との電極間隔を狭くして、応答
速度の向上を図ることも考えられる。しかしながら、従
来の画素電極部分8…と対向電極部分6…とは透明電極
で構成されていないため、画素電極部分8…と対向電極
部分6…との電極間隔を狭くすると、その分だけ電極数
が増えるので、開口率が低下する。
Since it is well known that the response time is proportional to the square of the distance between the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6, the electrode distance between the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 is known. It is clear that it is better to shorten. here,
In the current liquid crystal panel, the electrode spacing is about 12 μm,
Since the response time is as slow as about 60 msec, it is conceivable to improve the response speed by reducing the electrode interval between the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6. However, since the conventional pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 are not formed of transparent electrodes, if the electrode interval between the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 is reduced, the number of electrodes is reduced accordingly. , The aperture ratio decreases.

【0083】これに対して、本発明のように画素電極部
分8…と対向電極部分6…とを透明電極で構成にすれ
ば、画素電極部分8…と対向電極部分6…との電極間隔
を狭くして電極数を増やしたとしても開口率の低下を防
止できる。したがって、開口率の低下を防止ししつつ電
極間隔を短くすることにより応答時間を速めることがで
きる。尚、電極間隔を6μmにすることにより、応答時
間は15msec以下で駆動できることになり、動画表示が
十分に可能となることを確認した。
On the other hand, if the pixel electrode portions 8 and the opposing electrode portions 6 are made of transparent electrodes as in the present invention, the electrode spacing between the pixel electrode portions 8 and the opposing electrode portions 6 can be reduced. Even if the number of electrodes is increased by making the electrode narrow, it is possible to prevent the aperture ratio from decreasing. Therefore, the response time can be shortened by shortening the electrode interval while preventing a decrease in the aperture ratio. By setting the electrode interval to 6 μm, the response time can be reduced to 15 msec or less, and it has been confirmed that moving images can be sufficiently displayed.

【0084】また、3角形状の頂部の頂角と電極端から
2μm内側の横方向の電界の強さの関係を図9に示す。
(従来構成の電極と電極の間の横方向の電界を100%
としている)。この結果より、頂角が135度以下であ
れば、50%以上の横電界が印加されており、特に頂角
が110度以下であれば70%以上の横電界が印加され
ていることが認められる。したがって、頂角は135度
以下であることが望ましく、特に110度以下であるこ
とが望ましい。
FIG. 9 shows the relationship between the apex angle of the apex of the triangular shape and the strength of the electric field in the lateral direction 2 μm inside the electrode end.
(The electric field in the lateral direction between the electrodes of the conventional configuration is 100%
And). From this result, it is recognized that when the apex angle is 135 degrees or less, a horizontal electric field of 50% or more is applied, and particularly when the apex angle is 110 degrees or less, a horizontal electric field of 70% or more is applied. Can be Therefore, the apex angle is desirably 135 degrees or less, particularly desirably 110 degrees or less.

【0085】また、本実施の形態2で用いた絶縁膜15
をカラーフィルターで形成しても良く、上記カラーフィ
ルターで形成することにより、対向基板側にカラーフィ
ルターが不要となるので、上下基板の合わせ精度が不要
となり、また、開口率を大きくすることができる。
The insulating film 15 used in the second embodiment
May be formed by a color filter, and by forming the color filter, the color filter is not required on the counter substrate side, so that the alignment accuracy of the upper and lower substrates is not required, and the aperture ratio can be increased. .

【0086】(実施の形態3)本発明の実施の形態3
を、図11、図12、図13に基づいて、以下に説明す
る。図11は本発明の実施の形態3における液晶パネル
の構造を示す断面図、図12は本実施の形態3における
他の例に係る液晶パネルの構造を示す断面図、図13は
本実施の形態3における更に他の例に係る液晶パネルの
構造を示す断面図である。
(Embodiment 3) Embodiment 3 of the present invention
Will be described below based on FIG. 11, FIG. 12, and FIG. FIG. 11 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to Embodiment 3 of the present invention, FIG. 12 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to another example of Embodiment 3, and FIG. FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to still another example of FIG.

【0087】図11に示すように、実施の形態3に示す
液晶パネルは、画素電極体23の画素電極部8…と対向
電極体22の対向電極部分6…とを、断面形状が3角形
状である透明絶縁層16…上に形成した他は、上記実施
の形態1と同様の構成である。具体的な形成方法を以下
に示す。
As shown in FIG. 11, in the liquid crystal panel according to the third embodiment, the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portions 6 of the counter electrode body 22 have a triangular cross section. The structure is the same as that of the first embodiment except that it is formed on the transparent insulating layers 16. A specific forming method will be described below.

【0088】先ず、ガラス基板1の表面に、走査信号線
4及び対向電極体22のリード20をAl等から成る金
属で形成する。次に、以下に示す方法により、アレイ基
板1上に、光硬化型樹脂である感光性のアクリル性樹脂
(PC403:JSR製)を用いて、透明絶縁層16
を、対向電極部分6…が形成される位置に形成した。即
ち、アレイ基板1上にPC403をスピンコートにより
塗布した後、90℃で2分間プリベークを行い、更に、
300mJ/ cm2 で露光を行った。その後、現像液
(PD523AD)にて25℃で1分間現像を行い、流
水で洗浄後、110℃のオーブンで2分間ポストベーク
を行った後、220℃で1時間ポストベークを行い、高
さ1μm、幅5μmの3角形状の透明絶縁層16を形成
した。急激にポストベークすることにより、テーパーを
形成することができ、3角形状の透明絶縁層16を作製
することができる。
First, the scanning signal lines 4 and the leads 20 of the counter electrode body 22 are formed on the surface of the glass substrate 1 with a metal such as Al. Next, a transparent insulating layer 16 is formed on the array substrate 1 by using a photosensitive acrylic resin (PC403: manufactured by JSR) as a photocurable resin by the method described below.
Are formed at positions where the counter electrode portions 6 are formed. That is, after the PC 403 is applied on the array substrate 1 by spin coating, prebaking is performed at 90 ° C. for 2 minutes.
Exposure was performed at 300 mJ / cm2. Thereafter, development is performed with a developer (PD523AD) at 25 ° C. for 1 minute, washed with running water, post-baked in an oven at 110 ° C. for 2 minutes, and post-baked at 220 ° C. for 1 hour to obtain a height of 1 μm. Then, a triangular transparent insulating layer 16 having a width of 5 μm was formed. By abrupt post-baking, a taper can be formed, and a triangular transparent insulating layer 16 can be manufactured.

【0089】その後、透明導電膜(ITO:酸化インジ
ウムー酸化スズ)からなる対向電極部分6…を、上記透
明絶縁層16上に形成する。次に、これらの配線を保護
するためにSiO2等から成る絶縁膜10aを形成し、
更にその上に半導体層9としてTFTを形成した。
Then, a counter electrode portion 6 made of a transparent conductive film (ITO: indium oxide-tin oxide) is formed on the transparent insulating layer 16. Next, an insulating film 10a made of SiO2 or the like is formed to protect these wirings.
Further, a TFT was formed thereon as the semiconductor layer 9.

【0090】次に、映像信号線7、ソース7a及びドレ
イン14を、Al/Ti等から成る金属で形成した後、
リード21をX方向に形成し、画素電極部分8が形成さ
れる位置に3角形状の透明絶縁層16を上記方法と同様
にして形成する。
Next, after the video signal line 7, the source 7a and the drain 14 are formed of a metal such as Al / Ti,
The lead 21 is formed in the X direction, and the triangular transparent insulating layer 16 is formed at the position where the pixel electrode portion 8 is formed in the same manner as described above.

【0091】この3角形状の透明絶縁層16の上にドレ
イン14とつながる透明導電膜(ITO:酸化インジウ
ムー酸化スズ)からなる画素電極部分8を形成する。こ
れら配線を保護するためにSiNx等から成る絶縁膜1
0bを形成した。その後、実施の形態1と同様にして液
晶表示素子を作製した。また、図12に示すように、上
記実施の形態2と同様にして、絶縁膜15を形成した
後、3角形状の透明絶縁層16…を形成し、透明絶縁層
16…上に画素電極部分8…または対向電極部分6…を
形成してもよい。なお、上記絶縁膜15をカラーフィル
ターで形成しても良い。
A pixel electrode portion 8 made of a transparent conductive film (ITO: indium oxide-tin oxide) connected to the drain 14 is formed on the triangular transparent insulating layer 16. An insulating film 1 made of SiNx or the like for protecting these wirings
0b was formed. Thereafter, a liquid crystal display element was manufactured in the same manner as in Embodiment 1. Further, as shown in FIG. 12, after forming the insulating film 15 in the same manner as in the second embodiment, a triangular transparent insulating layer 16 is formed, and a pixel electrode portion is formed on the transparent insulating layer 16. 8 or the counter electrode portions 6 may be formed. Note that the insulating film 15 may be formed with a color filter.

【0092】このような構成とすることによっても、電
極上の液晶分子12にも十分な横電界がかかるため、当
該部位の液晶分子12も動作し、十分に明るい液晶パネ
ルが得られた。
With such a configuration, a sufficient transverse electric field is also applied to the liquid crystal molecules 12 on the electrodes. Therefore, the liquid crystal molecules 12 at the relevant portion also operate, and a sufficiently bright liquid crystal panel is obtained.

【0093】また、画素電極部分8…および対向電極部
分6…を透明電極より形成すれば、開口率を大きくする
ことができる。また、図12に示すように、透明絶縁層
16…上に画素電極部分8…または対向電極部分6…を
形成するような構成とすることによって、画素電極体2
3の画素電極部分8…と対向電極体22の対向電極部分
6…との対向面積が大きくなるので、横方向の電界がか
かり易くなって、液晶分子が動きやすくなる。
If the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 are formed of transparent electrodes, the aperture ratio can be increased. Also, as shown in FIG. 12, by forming the pixel electrode portions 8 or the counter electrode portions 6 on the transparent insulating layers 16, the pixel electrode body 2 is formed.
3 and the opposing electrode portions 6 of the opposing electrode body 22 have a large opposing area, so that a horizontal electric field is easily applied and the liquid crystal molecules can move easily.

【0094】加えて、本発明の液晶パネルでは断面形状
が3角形状の画素電極部分8…と対向電極部分6…とを
形成しているので、比較例の液晶パネルに比べて画素電
極部分8…及び対向電極部分6…における上向き部分が
狭くなる(即ち、頂部のみにが上向きとなる)。したが
って、縦方向の電界がかかり難くなって、十分に横方向
の電界がかかることになる。
In addition, in the liquid crystal panel of the present invention, the pixel electrode portions 8 having a triangular cross section and the counter electrode portions 6 are formed. , And the upward portions of the counter electrode portions 6 are narrowed (that is, only the top portions are upward). Therefore, it becomes difficult to apply a vertical electric field, and a sufficient horizontal electric field is applied.

【0095】また、図13に示すように、上記透明絶縁
層16上に画素電極部分8と対向電極部分6を形成する
場合、上記画素電極部分8と対向電極部分6の一部を構
成する縁部8a・8a、縁部6a・6aを同時に形成す
ることによって、製造工程上、確実に画素電極部分8と
対向電極部分6を形成することが可能となる。
As shown in FIG. 13, when the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6 are formed on the transparent insulating layer 16, the edge forming a part of the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6 is formed. By simultaneously forming the portions 8a and 8a and the edges 6a and 6a, the pixel electrode portion 8 and the counter electrode portion 6 can be reliably formed in the manufacturing process.

【0096】(実施の形態4)本発明の実施の形態4
を、図14、図15に基づいて、以下に説明する。図1
4は本発明の形態4における液晶パネルの構造を示す断
面図、図15は本実施の形態4における他の例に係る液
晶パネルの構造を示す断面図である。
(Embodiment 4) Embodiment 4 of the present invention
Will be described below with reference to FIG. 14 and FIG. FIG.
4 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to Embodiment 4 of the present invention, and FIG. 15 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to another example of Embodiment 4.

【0097】図14に示すように、実施の形態4に示す
液晶パネルは、画素電極体23の画素電極部8…と対向
電極体22の対向電極部分6…とを、断面形状が5角形
状の透明絶縁層17…上に形成した他は、上記実施の形
態1と同様の構成である。具体的な形成方法を以下に示
す。
As shown in FIG. 14, in the liquid crystal panel according to the fourth embodiment, the pixel electrode portions 8 of the pixel electrode body 23 and the counter electrode portions 6 of the counter electrode body 22 have a pentagonal cross section. The structure is the same as that of the first embodiment except that it is formed on the transparent insulating layers 17. A specific forming method will be described below.

【0098】先ず、ガラス基板1の表面に、走査信号線
4及び対向電極体22のリード20をAl等から成る金
属で形成する。次に、以下に示す方法により、アレイ基
板1上に、光硬化型樹脂である感光性のアクリル性樹脂
(PC403:JSR製)を用いて、透明絶縁層17
を、対向電極部分6…が形成される位置に形成した。即
ち、アレイ基板1上にPC403をスピンコートにより
塗布した後、90℃で2分間プリベークを行い、更に、
300mJ/ cm2 で露光を行った。その後、現像液
(PD523AD)にて25℃で1分間現像を行い、流
水で洗浄後、220℃で1時間ポストベークを行った後
(室温より昇温する)、高さ0.2μm、幅5μmの断
面形状が4角形状の透明絶縁層を形成した。上記断面形
状が4角形状の透明絶縁層上に、断面形状が3形状の透
明絶縁層を以下の方法で形成した。
First, the scanning signal lines 4 and the leads 20 of the counter electrode body 22 are formed on the surface of the glass substrate 1 with a metal such as Al. Next, a transparent insulating layer 17 is formed on the array substrate 1 by using a photosensitive acrylic resin (PC403: manufactured by JSR) as a photocurable resin by the method described below.
Are formed at positions where the counter electrode portions 6 are formed. That is, after the PC 403 is applied on the array substrate 1 by spin coating, prebaking is performed at 90 ° C. for 2 minutes.
Exposure was performed at 300 mJ / cm2. Thereafter, development is performed with a developer (PD523AD) at 25 ° C. for 1 minute, washed with running water, post-baked at 220 ° C. for 1 hour (temperature is raised from room temperature), and has a height of 0.2 μm and a width of 5 μm Formed a transparent insulating layer having a square cross section. A transparent insulating layer having a cross section of three shapes was formed on the transparent insulating layer having a square cross section by the following method.

【0099】アレイ基板1上にPC403をスピンコー
トにより塗布した後、90℃で2分間プリベークを行
い、更に、300mJ/ cm2 で露光を行った。その
後、現像液(PD523AD)にて25℃で1分間現像
を行い、流水で洗浄後、110℃のオーブンで2分間ポ
ストベークを行った後、220℃で1時間ポストベーク
を行い、高さ1μm、幅5μmの3角形状の透明絶縁層
17を形成した。急激にポストベークすることにより、
テーパーをつけることができ、3角形状の透明絶縁層を
作製することができる。上記の方法で断面形状が5角形
状の透明絶縁層17を形成した。
After applying PC403 to the array substrate 1 by spin coating, prebaking was performed at 90 ° C. for 2 minutes, and exposure was performed at 300 mJ / cm 2. Thereafter, development is performed with a developer (PD523AD) at 25 ° C. for 1 minute, washed with running water, post-baked in an oven at 110 ° C. for 2 minutes, and post-baked at 220 ° C. for 1 hour to obtain a height of 1 μm. A triangular transparent insulating layer 17 having a width of 5 μm was formed. By suddenly post-baking,
A taper can be provided, and a transparent insulating layer having a triangular shape can be manufactured. The transparent insulating layer 17 having a pentagonal cross section was formed by the above method.

【0100】その後、透明導電膜(ITO:酸化インジ
ウムー酸化スズ)からなる対向電極部分6…を、上記透
明絶縁層17上に形成する。次に、これらの配線を保護
するためにSiO2等から成る絶縁膜10aを形成し、
更にその上に半導体層9としてTFTを形成した。
Then, a counter electrode portion 6 made of a transparent conductive film (ITO: indium oxide-tin oxide) is formed on the transparent insulating layer 17. Next, an insulating film 10a made of SiO2 or the like is formed to protect these wirings.
Further, a TFT was formed thereon as the semiconductor layer 9.

【0101】次に、映像信号線7、ソース7a及びドレ
イン14を、Al/Ti等から成る金属で形成した後、
リード21をX方向に形成し、画素電極部分8…が形成
される位置に断面形状が5角形状の透明絶縁層17を上
記方法と同様にして形成する。
Next, after the video signal line 7, the source 7a and the drain 14 are formed of a metal such as Al / Ti,
A lead 21 is formed in the X direction, and a transparent insulating layer 17 having a pentagonal cross section is formed at a position where the pixel electrode portions 8 are formed in the same manner as described above.

【0102】この断面形状が5角形状の透明絶縁層17
…の上にドレイン14とつながる透明導電膜(ITO:
酸化インジウムー酸化スズ)からなる画素電極部分8…
を形成する。これら配線を保護するためにSiNx等か
ら成る絶縁膜10bを形成した。その後、実施の形態1
と同様にして液晶表示素子を作製した。また、図15に
示すように、上記実施の形態2と同様に、絶縁膜15を
形成した後、透明絶縁層17…を形成し、上記透明絶縁
層17…上に画素電極部分8…または対向電極部分6…
を形成してもよい。また、上記絶縁膜15をカラーフィ
ルターで形成しても良い。
The transparent insulating layer 17 having a pentagonal cross section
On the transparent conductive film (ITO:
Pixel electrode portion 8 made of indium oxide-tin oxide) ...
To form An insulating film 10b made of SiNx or the like was formed to protect these wirings. Then, the first embodiment
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in the above. As shown in FIG. 15, similarly to the second embodiment, after forming the insulating film 15, a transparent insulating layer 17 is formed, and the pixel electrode portion 8 or the opposite is formed on the transparent insulating layer 17. Electrode part 6 ...
May be formed. Further, the insulating film 15 may be formed by a color filter.

【0103】このような構成とすることによっても、電
極上の液晶分子12にも十分な横電界がかかるため、当
該部位の液晶分子12も動作し、十分に明るい液晶パネ
ルが得られた。
With such a configuration, a sufficient lateral electric field is also applied to the liquid crystal molecules 12 on the electrodes, so that the liquid crystal molecules 12 at the relevant portions also operate, and a sufficiently bright liquid crystal panel is obtained.

【0104】また、画素電極部分8…および対向電極部
分6…を透明電極より形成すれば、開口率を大きくする
ことができる。また、図15に示すように、透明絶縁層
17…上に画素電極部分8…または対向電極部分6…を
形成するような構成とすることによって、画素電極体2
3の画素電極部分8…と対向電極体22の対向電極部分
6…との対向面積が大きくなるので、横方向の電界がか
かり易くなって、液晶分子が動きやすくなる。
The aperture ratio can be increased by forming the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 from transparent electrodes. Further, as shown in FIG. 15, the pixel electrode body 2 is formed by forming the pixel electrode portions 8 or the counter electrode portions 6 on the transparent insulating layers 17.
3 and the opposing electrode portions 6 of the opposing electrode body 22 have a large opposing area, so that a horizontal electric field is easily applied and the liquid crystal molecules can move easily.

【0105】(実施の形態5)本発明の実施の形態5
を、図16〜図19に基づいて、以下に説明する。図1
6は本発明の形態5における画素電極部分または対向電
極部分の断面形状を示す断面図、図17は本実施の形態
5における液晶パネルの構造を示す断面図、図18は本
実施の形態5における他の例に係る液晶パネルの構造を
示す断面図、図19は本実施の形態5における画素電極
部分または対向電極部分の断面形状の上辺と下辺の比率
とコントラストの関係を示すグラフである。
(Embodiment 5) Embodiment 5 of the present invention
Will be described below with reference to FIGS. FIG.
6 is a sectional view showing a sectional shape of a pixel electrode portion or a counter electrode portion in Embodiment 5 of the present invention, FIG. 17 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel in Embodiment 5, and FIG. FIG. 19 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal panel according to another example, and FIG. 19 is a graph showing the relationship between the ratio of the upper side to the lower side of the cross-sectional shape of the pixel electrode portion or the counter electrode portion in Embodiment 5 and the contrast.

【0106】図16、図17に示すように、実施の形態
5に示す液晶パネルは、画素電極体23の画素電極部1
9…と対向電極体22の対向電極部分18…とを、断面
形状を台形形状とした他は、上記実施の形態1と同様の
構成である。上記台形状の形状の上辺Aを4μm下辺B
を6μmとし、テ−パエッチングの条件を変えることに
よって形成できる。
As shown in FIGS. 16 and 17, the liquid crystal panel according to the fifth embodiment has the pixel electrode portion 1 of the pixel electrode body 23.
9 and the opposing electrode portions 18 of the opposing electrode body 22 have the same configuration as in the first embodiment except that the cross-sectional shape is trapezoidal. The upper side A of the trapezoidal shape is 4 μm lower side B
Can be formed by changing the conditions of the tape etching to 6 μm.

【0107】図17に本実施の形態5による液晶パネル
の構成を示す断面図を示しており、本実施の形態5で
は、画素電極部19…と対向電極部分18…の断面形状
がテーパーを有する台形形状であり、電極上の液晶分子
は実施の形態1(図1)よりは動きにくいが、従来例
(図23)よりは動きやすくなり、表示性能(コントラ
スト)が向上する。
FIG. 17 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to the fifth embodiment. In the fifth embodiment, the sectional shapes of the pixel electrode portions 19 and the counter electrode portions 18 are tapered. Although it has a trapezoidal shape, the liquid crystal molecules on the electrodes are harder to move than in Embodiment 1 (FIG. 1), but are easier to move than in the conventional example (FIG. 23), and the display performance (contrast) is improved.

【0108】また、本実施の形態5における画素電極部
分または対向電極部分の断面形状の上辺と下辺の比率と
コントラストの関係を図19に示す。A/Bが小さい方
がコントラストが良いことがわかり、A/Bを2/3以
下、好ましくは1/2以下にすることが望ましい。ま
た、図18に示すように、上記実施の形態2と同様に、
絶縁膜15を形成した後、上記絶縁膜15上に画素電極
部分19…または対向電極部分18…を形成してもよ
い。また、上記絶縁膜15をカラーフィルターで形成し
ても良い。
FIG. 19 shows the relationship between the ratio of the upper side to the lower side of the sectional shape of the pixel electrode portion or the counter electrode portion and the contrast in the fifth embodiment. It can be seen that the smaller the A / B, the better the contrast, and it is desirable to set the A / B to 2 or less, preferably 1 / or less. Further, as shown in FIG. 18, similar to the second embodiment,
After the insulating film 15 is formed, the pixel electrode portions 19 or the counter electrode portions 18 may be formed on the insulating film 15. Further, the insulating film 15 may be formed by a color filter.

【0109】(実施の形態6)本発明の実施の形態6
を、図20、図21に基づいて、以下に説明する。図2
0は本実施の形態6における液晶パネルの構造を示す断
面図、図21は本実施の形態6における他の例に係る液
晶パネルの構造を示す断面図である。
(Embodiment 6) Embodiment 6 of the present invention
Will be described below with reference to FIGS. 20 and 21. FIG.
0 is a sectional view showing the structure of the liquid crystal panel according to the sixth embodiment, and FIG. 21 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal panel according to another example of the sixth embodiment.

【0110】図20に示すように、本実施の形態6で
は、断面形状が台形状の透明絶縁層20…を形成し、そ
の上に画素電極部分8…および対向電極部分6…を形成
する。上記台形形状の上辺Aを4μm下辺Bを6μmと
した。台形形状の膜はポストベークの条件を変えること
によって形成できる。
As shown in FIG. 20, in the sixth embodiment, a transparent insulating layer 20 having a trapezoidal cross section is formed, and a pixel electrode portion 8 and a counter electrode portion 6 are formed thereon. The upper side A of the trapezoidal shape was 4 μm, and the lower side B was 6 μm. The trapezoidal film can be formed by changing the post-baking conditions.

【0111】本実施の形態6では、画素電極部分8…お
よび対向電極部分6…上の液晶分子は実施の形態3(図
11)よりは動きにくいが、従来例(図23)よりは動
きやすくなり、コントラストが良くなる。A/Bが小さ
い方が表示性能(コントラスト)が良く、A/Bを2/
3以下、好ましくは1/2以下にすることが望ましい。
また、図21に示すように、絶縁膜15を形成した後、
断面形状が台形形状の透明絶縁層20…を形成し、上記
透明絶縁層20上に画素電極部分8…または対向電極部
分6…を形成してもよい。また、上記絶縁膜15をカラ
ーフィルターで形成しても良い。
In the sixth embodiment, the liquid crystal molecules on the pixel electrode portions 8 and the counter electrode portions 6 are harder to move than in the third embodiment (FIG. 11), but are easier to move than in the conventional example (FIG. 23). And the contrast is improved. The smaller the A / B is, the better the display performance (contrast) is.
It is desirably 3 or less, preferably 1/2 or less.
Further, as shown in FIG. 21, after forming the insulating film 15,
The transparent insulating layers 20 having a trapezoidal cross section may be formed, and the pixel electrode portions 8 or the counter electrode portions 6 may be formed on the transparent insulating layer 20. Further, the insulating film 15 may be formed by a color filter.

【0112】(実施の形態1〜実施の形態6の構造に関
するその他の事項) (1)上記各実施の形態では液晶として誘電率異方性が
正のMT5087(チッソ社製)を用いたが、これに限
定するものではなく、E−7(BDH社製)E−8(B
DH社)やZLI4792(メルク社製)やTL202
(メルク社製)等でも良く、また誘電率異方性が負のZ
LI4788(メルク社製)等でも良い。また、液晶も
ネマティック液晶に限らず、強誘電性液晶や反強誘電性
液晶等の液晶を用いることも可能である。即ち、本発明
は液晶材料や配向膜材料によらずに有効である。
(Other Matters Concerning Structure of First to Sixth Embodiments) (1) In the above embodiments, MT5087 (manufactured by Chisso Corporation) having a positive dielectric anisotropy was used as the liquid crystal. However, the present invention is not limited to this, and E-7 (manufactured by BDH) E-8 (B
DH), ZLI4792 (Merck) and TL202
(Manufactured by Merck & Co.), or a material having a negative dielectric anisotropy of Z
LI4788 (manufactured by Merck) or the like may be used. Further, the liquid crystal is not limited to a nematic liquid crystal, and a liquid crystal such as a ferroelectric liquid crystal or an antiferroelectric liquid crystal can be used. That is, the present invention is effective regardless of the liquid crystal material and the alignment film material.

【0113】(2)上記各実施の形態では能動素子とし
て3端子素子のTFTを用いたが、2端子素子のMIM
(Metal −Insulator −Metal )、Zn OバリスタやS
i Nxダイオード、a- Si ダイオード等でも良い。ま
た、トランジスタの構造としてボトムゲート構造のa-Si
に限定するものではなく、トップゲート構造でも良く、
またp-Si等でも良い。加えて、基板周辺に駆動回路が形
成されていても良い。
(2) In each of the above embodiments, a three-terminal element TFT is used as an active element.
(Metal-Insulator-Metal), ZnO varistor and S
An iNx diode, an a-Si diode or the like may be used. Also, as a transistor structure, a-Si with a bottom gate structure
It is not limited to the above, it may be a top gate structure,
Alternatively, p-Si or the like may be used. In addition, a drive circuit may be formed around the substrate.

【0114】(3)上記各実施の形態では両基板ともガ
ラス基板を用いたが、一方あるいは両方の基板をフィル
ムやプラスチック等で形成しても良い。また、ガラス基
板2(対向基板)としてITO付きのガラス基板やカラ
ーフィルター付きの基板等を用いても良い。更に、ガラ
ス基板1(アレイ基板)側にカラーフィルターを形成し
た基板でも良い。
(3) In each of the above embodiments, a glass substrate is used for both substrates, but one or both substrates may be formed of a film, plastic, or the like. Further, a glass substrate with ITO, a substrate with a color filter, or the like may be used as the glass substrate 2 (counter substrate). Further, a substrate having a color filter formed on the glass substrate 1 (array substrate) side may be used.

【0115】(4)配向膜としてプレチルト角の大きく
なる配向膜や垂直配向膜を用いても良く、また、配向方
法としてラビングを用いない配向(例えば光により配向
させる方法)を用いるとさらに均一な配向を得ることが
できるのでコントラストが良くなる。更に、セル厚形成
方法としてもスペーサー散布法ではない方法(例えば樹
脂により柱を形成する方法)を用いることにより均一な
セル厚となる。
(4) An alignment film having a large pretilt angle or a vertical alignment film may be used as the alignment film. Further, when an alignment method using no rubbing (for example, a method of aligning by light) is used, a more uniform alignment film can be obtained. Since the alignment can be obtained, the contrast is improved. Furthermore, a uniform cell thickness can be obtained by using a method other than the spacer spraying method (for example, a method of forming columns with resin) as the cell thickness forming method.

【0116】[0116]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、両電極体
上にも横方向の電界が十分に印加されるので、両電極体
上の液晶分子も動作して、表示特性の向上を図ることが
できる。
As described above, according to the present invention, since a lateral electric field is sufficiently applied to both electrode bodies, the liquid crystal molecules on both electrode bodies also operate to improve display characteristics. Can be planned.

【0117】また、電極部分により光が遮られるのを抑
制でき、これによって開口率が大幅に向上するので、表
示を明るくすることができる。
Further, it is possible to suppress the light from being blocked by the electrode portion, and thereby the aperture ratio is greatly improved, so that the display can be brightened.

【0118】加えて、電極部分の間隔を狭くしても開口
率が下がらないので、電極部分の間隔を狭くすることが
でき、これによって液晶の応答を速めることができると
いった優れた効果を奏する。
In addition, since the aperture ratio does not decrease even if the interval between the electrode portions is narrowed, the interval between the electrode portions can be narrowed, thereby providing an excellent effect that the response of the liquid crystal can be accelerated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態1における液晶パネルの構造を模
式的に示す上面図である。
FIG. 1 is a top view schematically showing a structure of a liquid crystal panel according to a first embodiment.

【図2】図1のA−A線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【図3】本実施の形態1における液晶パネルの動作状態
を模式的に示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an operation state of the liquid crystal panel in the first embodiment.

【図4】本実施の形態2における液晶パネルの構造を模
式的に示す上面図である。
FIG. 4 is a top view schematically showing a structure of a liquid crystal panel in a second embodiment.

【図5】図4のA−A線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line AA of FIG. 4;

【図6】図4のB−B断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line BB of FIG. 4;

【図7】本実施の形態2における液晶パネルの動作状態
を模式的に示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an operation state of the liquid crystal panel in the second embodiment.

【図8】本実施の形態2の液晶パネルにかかる電界をシ
ュミレーションした時の概略を示すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing an outline when an electric field applied to the liquid crystal panel of the second embodiment is simulated.

【図9】3角形状の頂部の頂角と電極端から2μm内側
の横方向の電界の強さの関係を示すグラフである。
FIG. 9 is a graph showing the relationship between the apex angle of the apex of the triangular shape and the strength of the electric field in the lateral direction 2 μm inside the electrode end.

【図10】従来のように作製した液晶パネルと実施の形
態1および2で作製した液晶パネルの開口率と画素ピッ
チの関係を示すグラフである。
FIG. 10 is a graph showing a relationship between an aperture ratio and a pixel pitch of a liquid crystal panel manufactured in a conventional manner and liquid crystal panels manufactured in Embodiments 1 and 2.

【図11】本実施の形態3における液晶パネルの構造を
示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to Embodiment 3.

【図12】本実施の形態3における他の例に係る液晶パ
ネルの構造を示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to another example of the third embodiment.

【図13】本実施の形態3における更に他の例に係る液
晶パネルの構造を示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to yet another example of the third embodiment.

【図14】本実施の形態4における液晶パネルの構造を
示す断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to Embodiment 4.

【図15】本実施の形態4における他の例に係る液晶パ
ネルの構造を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to another example of the fourth embodiment.

【図16】本発明の形態5における画素電極部分または
対向電極部分の断面形状を示す断面図である。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing a cross-sectional shape of a pixel electrode portion or a counter electrode portion in Embodiment 5 of the present invention.

【図17】本実施の形態5における液晶パネルの構造を
示す断面図である。
FIG. 17 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to the fifth embodiment.

【図18】本実施の形態5における他の例に係る液晶パ
ネルの構造を示す断面図である。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to another example in the fifth embodiment.

【図19】本実施の形態5における画素電極部分または
対向電極部分の断面形状の上辺と下辺の比率とコントラ
ストの関係を示すグラフである。
FIG. 19 is a graph showing a relationship between a ratio of an upper side to a lower side of a cross-sectional shape of a pixel electrode portion or a counter electrode portion in Embodiment 5 and contrast.

【図20】本実施の形態6における液晶パネルの構造を
示す断面図である。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to the sixth embodiment.

【図21】本実施の形態6における他の例に係る液晶パ
ネルの構造を示す断面図である。
FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to another example of the sixth embodiment.

【図22】従来の液晶パネルの構造を模式的に示す上面
図である。
FIG. 22 is a top view schematically showing the structure of a conventional liquid crystal panel.

【図23】図22のD−D線断面図である。FIG. 23 is a sectional view taken along line DD of FIG. 22;

【図24】従来の液晶パネルの動作状態を模式的に示す
断面図である。
FIG. 24 is a cross-sectional view schematically showing an operation state of a conventional liquid crystal panel.

【図25】他の従来の液晶パネルの動作状態を模式的に
示す断面図である。
FIG. 25 is a cross-sectional view schematically showing an operation state of another conventional liquid crystal panel.

【図26】従来の液晶パネルにかかる電界をシュミレー
ションした時の概略を示すグラフである。
FIG. 26 is a graph showing an outline when an electric field applied to a conventional liquid crystal panel is simulated.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 ガラス基板 4 走査信号線 6 対向電極部分 7 映像信号線 7a ソース 8 画素電極部分 9 半導体層 10a 絶縁膜 10b 絶縁膜 13a コンタクトホール 13b コンタクトホール 13c コンタクトホール 14 ドレイン 15 絶縁膜 16 透明絶縁層 17 透明絶縁層 18 対向電極部分 19 画素電極部分 20 リード 21 リード 22 対向電極体 23 画素電極体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Glass substrate 4 Scan signal line 6 Counter electrode part 7 Video signal line 7a Source 8 Pixel electrode part 9 Semiconductor layer 10a Insulating film 10b Insulating film 13a Contact hole 13b Contact hole 13c Contact hole 14 Drain 15 Insulating film 16 Transparent insulating Layer 17 Transparent insulating layer 18 Counter electrode part 19 Pixel electrode part 20 Lead 21 Lead 22 Counter electrode body 23 Pixel electrode body

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山北 裕文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H092 GA14 JA26 JA29 JA38 JA42 JB11 JB13 JB23 JB32 JB51 JB57 JB63 JB69 KA05 KA07 KA16 KA18 KB25 MA05 MA08 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA20 MA35 MA37 MA41 NA07 NA25 PA06 PA12 QA06 QA18 5C094 AA06 AA13 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA07 ED03 FA10 GA10 GB01 HA03 HA08 JA08 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hirofumi Yamakita 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture F-term (reference) 2H092 GA14 JA26 JA29 JA38 JA42 JB11 JB13 JB23 JB32 JB51 JB57 JB63 JB69 KA05 KA07 KA07 KA16 KA16 KA16 KA18 KB25 MA05 MA08 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA20 MA35 MA37 MA41 NA07 NA25 PA06 PA12 QA06 QA18 5C094 AA06 AA13 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA07 ED03 FA10 GA10 GB01 HA03 HA08 JA08

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の基板と、これら基板間に封止され
た液晶とを有すると共に、上記一対の基板のうち一方の
基板表面上に画素電極体の画素電極部分と対向電極体の
対向電極部分とが交互に形成され、上記基板表面に横電
界を発生させることにより、液晶分子の配列を変化させ
る液晶パネルを備えた液晶表示素子において、 上記画素電極部分及び対向電極部分のうち少なくとも一
方は、横電界方向の断面形状がテーパーを有し、透明で
あることを特徴とする液晶表示素子。
An image display device comprising: a pair of substrates; a liquid crystal sealed between the substrates; and a pixel electrode portion of a pixel electrode body and a counter electrode of a counter electrode body on a surface of one of the pair of substrates. And a liquid crystal display element having a liquid crystal panel that changes the arrangement of liquid crystal molecules by generating a lateral electric field on the substrate surface, wherein at least one of the pixel electrode portion and the counter electrode portion is formed. A liquid crystal display device characterized in that the cross-sectional shape in the horizontal electric field direction is tapered and transparent.
【請求項2】 上記画素電極部分と対向電極部分との電
極間隔が6μm以下に規制されることを特徴とする請求
項1記載の液晶表示素子。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an electrode interval between the pixel electrode portion and the counter electrode portion is restricted to 6 μm or less.
【請求項3】 上記画素電極部分あるいは対向電極部分
の横電界方向の断面形状が3角形状であることを特徴と
する請求項1または2記載の液晶表示素子。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel electrode portion or the counter electrode portion has a triangular cross section in the horizontal electric field direction.
【請求項4】 上記画素電極部分あるいは対向電極部分
の横電界方向の断面形状が台形形状であることを特徴と
する請求項1または2記載の液晶表示素子。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel electrode portion or the counter electrode portion has a trapezoidal cross section in the horizontal electric field direction.
【請求項5】 上記画素電極部分及び対向電極部分を絶
縁膜上に形成して、画素電極部分及び対向電極部分が同
一平面上に位置することを特徴とする請求項1乃至4記
載の液晶表示素子。
5. The liquid crystal display according to claim 1, wherein the pixel electrode portion and the counter electrode portion are formed on an insulating film, and the pixel electrode portion and the counter electrode portion are located on the same plane. element.
【請求項6】 上記絶縁膜の膜厚が1μm以上であるこ
とを特徴とする請求項5記載の液晶表示素子。
6. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein said insulating film has a thickness of 1 μm or more.
【請求項7】 上記絶縁膜がカラーフィルター層から成
ることを特徴とする請求項5記載の液晶表示素子。
7. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein said insulating film comprises a color filter layer.
【請求項8】 一対の基板と、これら基板間に封止され
た液晶とを有すると共に、上記一対の基板のうち一方の
基板表面上に画素電極体の画素電極部分と対向電極体の
対向電極部分とが交互に形成され、上記基板表面に横電
界を発生させることにより、液晶分子の配列を変化させ
る液晶パネルを備えた液晶表示素子において、 上記画素電極部分及び対向電極部分のうち少なくとも一
方は、横電界方向の断面形状がテ−パ−を有する透明絶
縁層上に形成され、透明導電膜より構成されていること
を特徴とする液晶表示素子。
8. A pixel electrode portion of a pixel electrode body and a counter electrode of a counter electrode body on a surface of one of the pair of substrates, the substrate including a pair of substrates and liquid crystal sealed between the substrates. And a liquid crystal display element having a liquid crystal panel that changes the arrangement of liquid crystal molecules by generating a lateral electric field on the substrate surface, wherein at least one of the pixel electrode portion and the counter electrode portion is formed. And a liquid crystal display element comprising a transparent conductive layer formed on a transparent insulating layer having a tapered cross section in a horizontal electric field direction.
【請求項9】 上記画素電極部分と対向電極部分との電
極間隔が6μm以下に規制されることを特徴とする請求
項8記載の液晶表示素子。
9. The liquid crystal display device according to claim 8, wherein an electrode interval between the pixel electrode portion and the counter electrode portion is regulated to 6 μm or less.
【請求項10】 上記透明絶縁層の横電界方向の断面形
状が3角形状であることを特徴とする請求項8または9
記載の液晶表示素子。
10. The transparent insulating layer has a triangular cross section in the horizontal electric field direction.
The liquid crystal display element as described in the above.
【請求項11】 上記透明絶縁層の横電界方向の断面形
状が台形形状であることを特徴とする請求項8または9
記載の液晶表示素子。
11. A cross-sectional shape of the transparent insulating layer in a horizontal electric field direction is a trapezoidal shape.
The liquid crystal display element as described in the above.
【請求項12】 上記透明絶縁層を絶縁膜上に形成し
て、透明絶縁層上に形成される画素電極部分及び対向電
極部分が同一平面上に位置することを特徴とする請求項
8乃至11記載の液晶表示素子。
12. The transparent insulating layer is formed on an insulating film, and a pixel electrode portion and a counter electrode portion formed on the transparent insulating layer are located on the same plane. The liquid crystal display element as described in the above.
【請求項13】 上記絶縁膜の膜厚が1μm以上である
ことを特徴とする請求項12記載の液晶表示素子。
13. The liquid crystal display device according to claim 12, wherein said insulating film has a thickness of 1 μm or more.
【請求項14】 上記絶縁膜がカラーフィルター層から
成ることを特徴とする請求項12記載の液晶表示素子。
14. The liquid crystal display device according to claim 12, wherein said insulating film comprises a color filter layer.
【請求項15】 一対の基板と、これら基板間に封止さ
れた液晶とを有すると共に、上記一対の基板のうち一方
の基板表面上に画素電極体の画素電極部分と対向電極体
の対向電極部分とが交互に形成され、上記基板表面に横
電界を発生させることにより、液晶分子の配列を変化さ
せる液晶パネルを備えた液晶表示素子の製造方法であっ
て、 上記対向電極体を構成する対向電極部分と上記画素電極
体を構成する画素電極部分を形成する第1の工程と、 上記対向電極部分と上記画素電極部分の少なくとも1つ
以上を、横電界方向の断面形状がテーパーを有するよう
に形成する第2の工程と、を有することを特徴とする液
晶表示素子の製造方法。
15. A liquid crystal display device comprising: a pair of substrates; a liquid crystal sealed between the substrates; and a pixel electrode portion of a pixel electrode body and a counter electrode of a counter electrode body on a surface of one of the pair of substrates. And a liquid crystal display device having a liquid crystal panel that changes the arrangement of liquid crystal molecules by generating a horizontal electric field on the surface of the substrate. A first step of forming an electrode portion and a pixel electrode portion constituting the pixel electrode body; and forming at least one of the counter electrode portion and the pixel electrode portion such that a cross-sectional shape in a horizontal electric field direction has a taper. Forming a liquid crystal display element.
【請求項16】 一対の基板と、これら基板間に封止さ
れた液晶とを有すると共に、上記一対の基板のうち一方
の基板表面上に画素電極体の画素電極部分と対向電極体
の対向電極部分とが交互に形成され、上記基板表面に横
電界を発生させることにより、液晶分子の配列を変化さ
せる液晶パネルを備えた液晶表示素子の製造方法であっ
て、 上記対向電極体を構成する対向電極部分と上記画素電極
体を構成する画素電極部分の少なくとも一方を形成する
位置に、透明絶縁層を形成する第1の工程と、 上記透明絶縁層を、横電界方向の断面形状がテーパーを
有するように形成する第2の工程と、 上記透明絶縁層上に、上記対向電極極部分と画素電極部
分の少なくとも一方を膜状に形成する第3の工程と、を
有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
16. A liquid crystal display device comprising: a pair of substrates; a liquid crystal sealed between the substrates; and a pixel electrode portion of a pixel electrode body and a counter electrode of a counter electrode body on a surface of one of the pair of substrates. And a liquid crystal display device having a liquid crystal panel that changes the arrangement of liquid crystal molecules by generating a horizontal electric field on the surface of the substrate. A first step of forming a transparent insulating layer at a position where at least one of an electrode portion and a pixel electrode portion forming the pixel electrode body is formed; and a cross-sectional shape of the transparent insulating layer in a horizontal electric field direction having a taper. And a third step of forming at least one of the counter electrode portion and the pixel electrode portion in a film on the transparent insulating layer. Elemental Production method.
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