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JP2000336472A - 光学基板上にコーティング被覆を蒸着するための真空被覆装置 - Google Patents

光学基板上にコーティング被覆を蒸着するための真空被覆装置

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Publication number
JP2000336472A
JP2000336472A JP2000124649A JP2000124649A JP2000336472A JP 2000336472 A JP2000336472 A JP 2000336472A JP 2000124649 A JP2000124649 A JP 2000124649A JP 2000124649 A JP2000124649 A JP 2000124649A JP 2000336472 A JP2000336472 A JP 2000336472A
Authority
JP
Japan
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circuit
primary
vacuum
vacuum coating
measuring sensor
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000124649A
Other languages
English (en)
Inventor
Beat Siegrist
ビート・ジークリスト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Satisloh AG
Original Assignee
Satis Vacuum Industries Vertriebs AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Satis Vacuum Industries Vertriebs AG filed Critical Satis Vacuum Industries Vertriebs AG
Publication of JP2000336472A publication Critical patent/JP2000336472A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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    • C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • H01F38/00—Adaptations of transformers or inductances for specific applications or functions
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    • H01F2038/143—Inductive couplings for signals
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空状態を形成可能な真空槽内で蒸発供給
源、及び場合によって付加的な熱線照射器の上方の位置
で回転するドーム形の担持手段上に固定可能な、プラス
チックス眼鏡レンズの様な光学基板上に、コーティング
被覆を蒸着するための真空被覆装置についての従来の実
施方法とは異なり、基板の被覆面における温度を検出す
る。 【解決手段】 少なくとも１つの測定センサー、特に温
度センサーが基板用の回転する担持手段に少なくともこ
の基板の被覆面に近接されて設けられており、被覆装置
の静止している部品と回転する担持手段の間の変圧器的
なエネルギー伝達のために、その際この測定センサー
が、電気的な回路手段と作用結合の状態にある。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空状態を形成可
能な真空槽内で蒸発供給源、及び場合によって付加的な
熱線照射器の上方の位置で回転するドーム形の担持手段
上に固定可能な、プラスチックス眼鏡レンズの様な光学
基板上に、コーティング被覆を蒸着するための真空被覆
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空被覆技術では多くの場合、最適な被
覆品質を得るために、被覆すべき基板を蒸着プロセスの
あいだ常に所定の高い温度にさらしておくことが必要な
ことは明らかである。この目的のために赤外線熱線照射
器が、一般的に使用される。
【０００３】この場合実際上、効果的にその被覆面にお
いて配置された温度センサーによる被覆面における実際
の温度を監視することには基本的に問題点がある。何故
なら、これまでは回転するドームから固定の装置部品へ
の使用可能な測定データの伝達は可能ではなかったから
である。従って、公知の技術にあっては、固定の装置部
品の、被覆面における実際の温度挙動に関する情報を与
えることのできない種々のセンサー手段が知られている
にすぎない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、真空状態を形成可能な真空槽内で蒸発供給源、及び
場合によって付加的な熱線照射器の上方の位置で回転す
るドーム形の担持手段上に固定可能な、プラスチックス
眼鏡レンズの様な光学基板上に、コーティング被覆を蒸
着するための真空被覆装置についての従来の実施方法と
は異なり、基板の被覆面における温度を検出することで
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この上記の課題は本発明
に従い、少なくとも１つの測定センサー、特に温度セン
サーが、基板用の回転する担持手段に少なくともこの基
板の被覆面に近接されて設けられており、被覆装置の静
止している部品と回転する担持手段の間の変圧器的なエ
ネルギー伝達のために、その際この測定センサーが、電
気的な回路手段と作用結合の状態にあることによって達
せられる。
【０００６】これによって、固定の一次回路から相対的
にこの一次回路に対して可動の二次回路への電気的なエ
ネルギー伝達が、並びに二次回路内に発生する測定デー
タから一次回路への帰還伝達が行なわれ、その際、一次
回路内に一次電圧が発生し、且つこの一次電圧が変圧器
で二次回路に伝達され、その際次いで二次回路内で発生
された測定データがデジタルに変換され、そして同一の
変圧器的手段を用いて一次回路に向かって帰還伝達され
且つそこで評価され得る。
【０００７】この目的のためにこの回路手段は、一次回
路と二次回路を備え、その際、一次回路が変圧器を介し
て二次回路と非接触に接続されている。更に、この変圧
器は、一次回路内の固定のコア上に一次コイルを、そし
て二次回路内の、固定のコアに対して相対的に可動のコ
ア上に二次コイルを備える。
【０００８】更に、一次回路内には、電圧供給源並びに
誘導された測定データ用評価装置が、そして二次回路内
には、測定データを発生する測定センサー以外に測定デ
ータデジタル化評価装置があり、この測定データデジタ
ル化評価装置の出力信号が短絡発生器を制御する。
【０００９】固定のコアを有する一次コイルと可動のコ
アを有する二次コイルは、互いに同軸的に且つ相対的に
回転するように配置されていることが、本発明の基本で
ある。
【００１０】この場合、二次回路によって動作される測
定センサーは、この測定センサーのエネルギーを一次回
路から変圧器的に収受し、その際、測定センサーから発
生する電流の測定データと電圧の測定データが測定デー
タデジタル化評価装置に達し、且つ、デジタル出力信号
に変換された測定データが短絡発生器を制御し、この短
絡発生器が二次回路内の電流を測定データの経過に応じ
て短絡させる。この場合、一次回路内に誘導された等価
の電流変更信号と電圧変更信号は、評価装置によって一
次回路内に達し、且つその一次回路内で、例えば熱線照
射器の再調節のために評価可能な出力信号に変換可能で
ある。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に図を参照して、本発明に従う
真空被覆装置の実施の形態を詳しく説明する。図示され
た真空被覆装置は、ドーム形の担持手段１に固定可能で
あるプラスチックス眼鏡レンズの様な光学基板１０上
に、コーティング被覆を蒸着のために用いられ、このド
ーム形の担持手段が真空状態を形成可能な真空槽２内で
蒸発供給源２０及び場合によって付加的な熱線照射器２
１の上方の位置で回転する。
【００１２】このような真空蒸着装置の構造は、詳細な
構造の説明が不必要であるほどに公知である。
【００１３】本発明の基本は、この場合まず第１に少な
くとも１つの測定センサー３、特に温度センサーが、基
板１０用の回転する担持手段１に少なくともこの基板の
被覆面に近接されて設けられており、被覆装置の静止し
ている部品２と回転する担持手段１の間の変圧器的なエ
ネルギー伝達のために、その際この測定センサー３が、
電気的な回路手段１１，１３と作用結合の状態にある。
【００１４】図1に示され、また図２の当該の回路図が
明確にしているように、回路手段は、一次回路１１と二
次回路１３を備え、その際、一次回路１１が変圧器４を
介して二次回路１３と非接触に接続されている。
【００１５】この変圧器４は、一次回路内の固定のコア
６上に一次コイル５を、そして二次回路内の、固定のコ
アに対して相対的に可動のコア８上に二次コイル７を備
える。
【００１６】この場合、一次回路内には、電圧供給源１
２並びに誘導された測定データ用評価装置１６が、そし
て二次回路内には、測定データを発生する測定センサー
３以外に測定データデジタル化評価装置１４があり、こ
の測定データデジタル化評価装置の出力信号が短絡発生
器１５を制御する。
【００１７】固定のコアを有する一次コイルと可動のコ
アを有する二次コイルは、図１から認めることができる
様に、互いに同軸的に且つ相対的に回転するように配置
されている。
【００１８】二次回路１３によって動作される測定セン
サー３は、この測定センサーのエネルギーを一次回路１
１から変圧器的に収受し、その際、測定センサー３から
発生する電流の測定データと電圧の測定データが測定デ
ータデジタル化評価装置１４に達し、次いでその際、デ
ジタル出力信号に変換された測定データが短絡発生器１
５を制御し、この短絡発生器が二次回路１３内の電流を
測定データの経過に応じて短絡させる。その場合、一次
回路１１内に誘導された等価の電流変更信号と電圧変更
信号は、評価装置１６によって一次回路１１内で評価可
能な出力信号に変換可能である。
【００１９】即ちこれらの構成によって、一次回路内に
一次電圧が発生し、且つこの一次電圧が変圧器で二次回
路に伝達され、次いで二次回路内で発生された測定デー
タがデジタルに変換され、そして同一の変圧器的手段を
用いて一次回路に向かって帰還伝達され且つそこで評価
されることによって、固定の一次回路から相対的にこの
一次回路に対して可動の二次回路への電気的なエネルギ
ー伝達が、並びに二次回路内に発生する測定データから
一次回路への帰還伝達が、適当な方法で基本的に可能と
なる。
【００２０】従って、センサー手段を被覆面において直
接設けること、及び、温度等々のような得られた測定デ
ータを記録すること且つ評価することが可能である。
【００２１】当然、前記本発明の範囲で一連の変形は、
発明の思想を離れることなく可能である。従って、測定
センサーは任意の様式で良い。更にまた、二次回路は多
数の同一の或いは異なった測定センサーを備えることも
可能である。その場合に、二次回路内の評価装置と短絡
発生器並びに一次回路内の評価装置は、適当に定めるべ
きである。
【図面の簡単な説明】
【図１】被覆装置の静止している部品と回転する担持手
段の間の変圧器的なエネルギー伝達のために、電気的な
回路手段と作用結合の状態にある温度センサーを有して
いる真空被覆装置の断面図。
【図２】図１に従う、変圧器を介して二次回路と非接触
に接続されている一次回路を有する回路手段の回路図。
【符号の説明】 １ ドーム形の担持手段 ２ 真空状態を形成可能な真空槽 ３ 測定センサー ４ 変圧器 ５ 一次コイル ６ 固定のコア ７ 二次コイル ８ 可動のコア １０ 光学基板 １１ 一次回路 １２ 電圧供給源 １３ 二次回路 １４ 測定データデジタル化評価装置 １５ 短絡発生器 １６ 評価装置 ２０ 蒸発供給源 ２１ 熱線照射器

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 真空状態を形成可能な真空槽（２）内で
    蒸発供給源（２０）、及び場合によって付加的な熱線照
    射器（２１）の上方の位置で回転するドーム形の担持手
    段（１）上に固定可能な、プラスチックス眼鏡レンズの
    様な光学基板（１０）上に、コーティング被覆を蒸着す
    るための真空被覆装置において、少なくとも１つの測定
    センサー（３）、特に温度センサーが基板（１０）用の
    回転する担持手段（1）に少なくともこの基板の被覆面
    に近接されて設けられており、被覆装置の静止している
    部品（２）と回転する担持手段（1）の間の変圧器的な
    エネルギー伝達のために、その際この測定センサー
    （３）が、電気的な回路手段（１１，１３）と作用結合
    の状態にあることを特徴とする真空被覆装置。
  2. 【請求項２】 回路手段は、一次回路（１１）と二次回
    路（１３）を備え、その際、一次回路（１１）が変圧器
    （４）を介して二次回路（１３）と非接触に接続されて
    いることを特徴とする請求項１に記載の真空被覆装置。
  3. 【請求項３】 この変圧器（４）は、一次回路内の固定
    のコア（６）上に一次コイル（５）を、そして二次回路
    内の、固定のコアに対して相対的に可動のコア（８）上
    に二次コイル（７）を備えることを特徴とする請求項２
    に記載の真空被覆装置。
  4. 【請求項４】 一次回路内には、電圧供給源（１２）並
    びに誘導された測定データ用評価装置（１６）があり、
    そして二次回路内には、測定データを発生する測定セン
    サー（３）以外に測定データデジタル化評価装置（１
    ４）があり、この測定データデジタル化評価装置の出力
    信号が短絡発生器（１５）を制御することを特徴とする
    請求項３に記載の真空被覆装置。
  5. 【請求項５】 固定のコアを有する一次コイルと可動の
    コアを有する二次コイルは、互いに同軸的に且つ相対的
    に回転するように配置されていることを特徴とする請求
    項３に記載の真空被覆装置。
  6. 【請求項６】 二次回路（１３）によって動作される測
    定センサー（３）は、この測定センサーのエネルギーを
    一次回路（１１）から変圧器的に収受し、測定センサー
    （３）から発生する電流の測定データと電圧の測定デー
    タが測定データデジタル化評価装置（１４）に達するこ
    と、且つデジタル出力信号に変換された測定データが短
    絡発生器（１５）を制御し、この短絡発生器が二次回路
    （１３）内の電流を測定データの経過に応じて短絡させ
    ることを特徴とする請求項３に記載の真空被覆装置。
  7. 【請求項７】 一次回路（１１）内に誘導された等価の
    電流変更信号と電圧変更信号は、評価装置（１６）を介
    して一次回路（１１）内に達し、且つその一次回路内で
    評価可能な出力信号に変換可能であることを特徴とする
    請求項４から６のいずれか一つに記載の真空被覆装置。
JP2000124649A 1999-05-04 2000-04-25 光学基板上にコーティング被覆を蒸着するための真空被覆装置 Pending JP2000336472A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH19990823/99 1999-05-04
CH00823/99A CH693748A5 (de) 1999-05-04 1999-05-04 Vakuum-Beschichtungsanlage zum Aufdampfen von Verguetungsschichten auf optische Substrate.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000336472A true JP2000336472A (ja) 2000-12-05

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JP2000124649A Pending JP2000336472A (ja) 1999-05-04 2000-04-25 光学基板上にコーティング被覆を蒸着するための真空被覆装置

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EP (1) EP1050598B1 (ja)
JP (1) JP2000336472A (ja)
KR (1) KR100705527B1 (ja)
AT (1) ATE298012T1 (ja)
CH (1) CH693748A5 (ja)
DE (1) DE50010545D1 (ja)

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ATE298012T1 (de) 2005-07-15
KR20000077133A (ko) 2000-12-26
EP1050598B1 (de) 2005-06-15
CH693748A5 (de) 2004-01-15
DE50010545D1 (de) 2005-07-21
EP1050598A3 (de) 2004-01-21
KR100705527B1 (ko) 2007-04-10
EP1050598A2 (de) 2000-11-08

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