[go: up one dir, main page]

JP2000308832A - 排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法 - Google Patents

排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法

Info

Publication number
JP2000308832A
JP2000308832A JP11120501A JP12050199A JP2000308832A JP 2000308832 A JP2000308832 A JP 2000308832A JP 11120501 A JP11120501 A JP 11120501A JP 12050199 A JP12050199 A JP 12050199A JP 2000308832 A JP2000308832 A JP 2000308832A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
exhaust gas
compound
titanium oxide
activity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11120501A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3765942B2 (ja
Inventor
Yasuyoshi Kato
泰良 加藤
Koichi Yokoyama
公一 横山
Masatoshi Fujisawa
雅敏 藤澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP12050199A priority Critical patent/JP3765942B2/ja
Application filed by Babcock Hitachi KK filed Critical Babcock Hitachi KK
Priority to AU2000279589A priority patent/AU2000279589A1/en
Priority to EP00970100A priority patent/EP1340539B1/en
Priority to US10/415,320 priority patent/US7005402B1/en
Priority to CA002427081A priority patent/CA2427081C/en
Priority to PCT/JP2000/007506 priority patent/WO2002034388A1/ja
Priority to DE60039922T priority patent/DE60039922D1/de
Priority to CNB008199973A priority patent/CN1209196C/zh
Publication of JP2000308832A publication Critical patent/JP2000308832A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3765942B2 publication Critical patent/JP3765942B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8621—Removing nitrogen compounds
    • B01D53/8625—Nitrogen oxides
    • B01D53/8628—Processes characterised by a specific catalyst
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8643—Removing mixtures of carbon monoxide or hydrocarbons and nitrogen oxides
    • B01D53/8646—Simultaneous elimination of the components
    • B01D53/865—Simultaneous elimination of the components characterised by a specific catalyst
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/002—Mixed oxides other than spinels, e.g. perovskite
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/20—Vanadium, niobium or tantalum
    • B01J23/22—Vanadium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/24—Chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/28—Molybdenum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0201—Impregnation
    • B01J37/0213—Preparation of the impregnating solution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G39/00—Compounds of molybdenum
    • C01G39/006—Compounds containing molybdenum, with or without oxygen or hydrogen, and containing two or more other elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/20—Metals or compounds thereof
    • B01D2255/207—Transition metals
    • B01D2255/20707—Titanium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/20—Metals or compounds thereof
    • B01D2255/207—Transition metals
    • B01D2255/20723—Vanadium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/20—Metals or compounds thereof
    • B01D2255/207—Transition metals
    • B01D2255/20769—Molybdenum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/12—Silica and alumina
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2523/00—Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/24—Nitrogen compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/80—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • C01P2006/82—Compositional purity water content

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来技術で活性の高い触媒を得ることの妨げ
になっている焼成による賦活化を必要とせず、かつＶ、
Ｍｏとの複合化を十二分に図った触媒、およびその製造
法を提供し、活性、特に低温活性と耐久性とを飛躍的に
高めた触媒を提供することにある。 【解決手段】バナジウムとモリブデンの原子比Ｖ／Ｍｏ
が３／２である示性式（ＮＨ4)ｘＭｏ2Ｖx Ｏ(3x+6) 但
しｘは２．８〜３．２）で表わされる排ガス浄化触媒化
合物および酸化モリブデン（ＭｏＯ3)とメタバナジン酸
アンモン（ＮＨ4ＶＯ3)とを水の共存下で所定時間反応
させることを特徴とする化合物の製法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は排ガス浄化用触媒に
係り、特に低温活性と耐ＳＯｘ性に優れた窒素酸化物
（ＮＯｘ）のアンモニア（ＮＨ3)還元反応、およびダイ
オキシン酸化分解反応に高活性を示す触媒とその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】発電所、各種工場、自動車などから排出
される排煙中のＮＯｘは、光化学スモッグや酸性雨の原
因物質であり、その効果的な除去方法として、アンモニ
ア（ＮＨ3)等を還元剤とした選択的接触還元による排煙
脱硝法が火力発電所を中心に幅広く用いられている。触
媒には、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍｏ）または
タングステン（Ｗ）を活性成分にした酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2)系触媒が使用されており、特に活性成分の１つとし
てバナジウムを含むものは活性が高いだけでなく、排ガ
ス中に含まれている不純物による劣化が小さいこと、よ
り低温から使用できることなどから、現在の脱硝触媒の
主流になっている（特開昭５０−１２８６８１号公報
等）。触媒は通常ハニカム状、板状に成形されて用いら
れ、各種製造法が発明、考案されてきた。また、近年、
ゴミ燃焼排ガスや産業用排ガス中に毒性の高いダイオキ
シンが含まれることが社会問題になり、脱硝反応を行な
うと同時にダイオキシンを酸化分解する触媒が発明され
ている。
【０００３】上記触媒の多くは、酸化チタンとＶ、Ｍ
ｏ、Ｗなどの触媒活性成分の塩類を水と共に混練後、成
形、焼成する方法（混練法）と、酸化チタンの成形−焼
成体に触媒活性成分塩類の混合溶液を含浸する方法（含
浸法）により調製されるのが通例である（特開昭５０−
１２８６８１号公報、特公昭５３−３４１９５号公報
等）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術である混
練法または含浸法で触媒を調製する方法は、触媒の活性
面からみると必ずしも最良の製造方法とは言えず、特に
前述したような低温活性の高い触媒を得る場合には適さ
ない面が多々あった。これらの課題を混練法と含浸法に
分けて列記すると下記のようになる。 １）混練法 高活性の触媒を得るためには、添加した活性成分塩類
を焼成により分解して賦活化する必要があり、それに伴
って酸化チタン、活性成分が焼結するため低温活性の高
い触媒が得難い。 酸化チタン粒子とＶ、Ｍｏ、Ｗなどの活性成分塩類ま
たは酸化物粒子が一旦混在した状態になり、その後焼成
されて複合化されるため、ＶとＭｏ、Ｗなどとの複合効
果が十分でなく、Ｍｏ、Ｗによる耐久性向上作用が小さ
く、耐ＳＯｘ性の低い触媒になる。
【０００５】２）含浸法 混練法と同様、触媒を焼成することにより活性成分を
賦活する必要があり、活性成分の焼結は免れず、活性特
に低温活性の高い物が得られない。 酸化チタンを予め成形−焼成したものに活性成分を含
浸するため、混練方法に比べると活性成分の複合化は容
易になる。その反面、含浸液内の活性成分が含浸過程で
酸化チタンに吸着されるため、触媒内部と表面で活性成
分濃度が異なったり、複数の活性成分を触媒内で一定比
率に維持することが難しく、最適な複合効果が期待でき
ない。
【０００６】上記した問題点を克服するため、酸化チタ
ン−酸化モリブデン担体にバナジウム塩類を含浸する方
法や、酸化チタン担体にＷ、Ｖなどを逐次含浸する方法
などの、混練方法と含浸法の組合せや、含浸法の改良が
試みられているが、十分な効果が得られるとは言い難
い。本発明の課題は、上記従来技術で活性の高い触媒を
得ることの妨げになっている焼成による賦活化を必要と
せず、かつＶ、Ｍｏとの複合化を十二分に図った触媒、
およびその製造法を提供し、活性、特に低温活性と耐久
性とを飛躍的に高めた触媒を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明で採用した方法は、焼成により賦活化する必
要のない特定組成のＭｏ−Ｖ複合化合物を活性成分に用
い、これを酸化チタンを主成分にする担体に含浸する
か、酸化チタン粉末に添加後混練する方法である。
【０００８】すなわち、本願で特許請求される発明は、
下記のとおりである。 （１）バナジウムとモリブデンの原子比Ｖ／Ｍｏが３／
２である示性式（ＮＨ4)ｘＭｏ2Ｖx Ｏ(3x+6) （但しｘ
は２．８〜３．２）で表わされる排ガス浄化触媒化合
物。 （２）（１）記載の水溶性化合物を担体に担持したこと
を特徴とする排ガス浄化用触媒。 （３）（１）記載の水溶性化合物を酸化チタン担体に含
浸、または酸化チタン粉末とともに混練したことを特徴
とする排ガス浄化用触媒。 （４）前記触媒がさらに５００℃以下の温度で焼成され
たことを特徴とする（２）または（３）記載の排ガス浄
化用触媒。 （５）酸化モリブデン（ＭｏＯ3)とメタバナジン酸アン
モン（ＮＨ4 ＶＯ3)とを水の共存下で所定時間反応させ
ることを特徴とする（１）記載の化合物の製法。 （６）（１）記載の水溶性化合物とシリカゾルのような
ゾル状物とを含む排ガス浄化触媒用組成物。 （７）（６）記載の組成物を担体に担持した排ガス浄化
用触媒。 （８）（１）記載の水溶性化合物とシリカゾルのような
ゾル状物とを予め混合後、酸化チタン担体に担持、また
は酸化チタン粉末に混合することを特徴とする排ガス浄
化用触媒の製法。
【０００９】ここで用いるＭｏ−Ｖ複合化合物は、本発
明者等が上記従来技術の解決のため鋭意研究した結果見
いだしたもので、メタバナジン酸アンモニウム（ＮＨ4
ＶＯ 3)と三酸化モリブデン（ＭｏＯ3)とをＶ／Ｍｏ原子
比で３／２（または６／４）になるように水に添加後、
所定時間（通常は１０時間以上）撹拌して得られる赤褐
色の物質であり、溶解度は常温で１７０g/リットルと大
きいことが特徴である。本発明者等は、この化合物の構
造決定を試みているが、現在の段階では、水にほとんど
溶解しないメタバナジン酸アンモンと三酸化モリブデン
とを水に添加後、長時間撹拌した場合に生成する、Ｖ／
Ｍｏ比が３／２に近い、溶解度の高い赤褐色化合物とし
かわかっていない。また、本化合物をＭｏＯ3 −Ｖ2 Ｏ
5 、ＮＨ 4 ＶＯ3 −モリブデン酸アンモン((ＮＨ4)6 ・
Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ）、パラタングステン酸アンモン
((ＮＨ4)10Ｈ10・Ｗ12Ｏ46・６Ｈ2 Ｏ）とＮＨ4 Ｖ
Ｏ3 、ＮＨ4 ＶＯ3 とＷＯ3 との組合せ等で同様の化合
物の調製を試みたが、これらからのケースでは、上記の
溶解度の高い化合物の生成は認められなかった。従って
本発明で言うＭｏ−Ｖ化合物とは、メタバナジン酸アン
モンと酸化モリブデンとを水と共に撹拌して生成する赤
褐色の溶解度の高い安定な化合物を意味する。本化合物
は、それ自体活性が高く、それを酸化チタンに添加した
場合、改めて焼成して賦活する必要がない上、ＭｏとＶ
が安定な化合物を形成して複合化されているため、排ガ
ス中のＳＯｘにより犯されにくく、耐久性の高い触媒を
与える。
【００１０】本発明による触媒の調製に当たっては、上
記Ｍｏ−Ｖ化合物溶液を、予め調製した酸化チタンの担
体に所定濃度で含浸後、乾燥する操作がとられる。上記
Ｍｏ−Ｖ化合物は、焼成による賦活は必要ではないた
め、乾燥だけで高活性を示すが、必要によっては焼成工
程を追加してもよい。また、本発明のＭｏ−Ｖ化合物を
利用した触媒は、含浸法だけではなく、酸化チタン粉末
に該化合物を添加後、成形、乾燥、必要に応じて焼成す
る方法によっても得ることが可能である。さらに、本発
明の触媒に用いるＭｏ−Ｖ化合物は非常に安定であるた
め、シリカゾルなどのゾル状物と混合しても分解するこ
とがなく、得られた混合溶液を酸化チタン担体に担持す
ることにより、活性、強度ともに高い触媒を得ることが
できる。
【００１１】上記したように本発明の本質は、本発明者
らの見いだした新規なＭｏ−Ｖ組成物を用いる点にあ
り、触媒または酸化チタンに無機繊維、他の触媒成分、
無機または有機結合剤等を含んでいることにより、制限
を受けるものではない。また、焼成による賦活はしない
場合に最も高活性、高耐久性が得られるが、触媒強度や
使用条件によっては５００℃以下で焼成してもよい。さ
らに、酸化チタンに含浸または添加するＭｏ−Ｖ化合物
の量は、限定されないが通常酸化チタンの２０％以下
（重量基準、以下同じ）、望ましくは１０％以下になる
よう選定された場合に好結果を与えやすい。
【００１２】〔作用〕本発明の作用・効果を説明するた
め、従来の混練方法および含浸方法で得られる触媒の問
題点について説明する。図２（Ａ）は従来の混練方法で
得られた触媒の焼成前の表層断面を模式的に示したもの
である。添加した活性成分であるＶ化合物１、Ｍｏ化合
物２の乾燥過程で各々の化合物粒子になり酸化チタンと
混在した状態にある。この状態の触媒が、活性を示すた
めには活性成分が焼成されて酸化物になる必要がある。
さらに、離れた部位にあるＶ、Ｍｏなどが複合化して耐
久性の向上などの複合効果を発揮させるためには、さら
に高い温度で焼成し、熱拡散させて相互に反応させる必
要がある。このため、活性成分のみならず、酸化チタン
の焼結が進行し、比表面積の低い触媒になり、高い活性
は望めない。また、熱拡散による複合化は全ての活性成
分が均一に反応するわけではないので、耐久性の面でも
十分とは言えない。
【００１３】また図２（Ｂ）は、従来の含浸法による触
媒の乾燥段階の同様な模式図を示したものであるが、含
浸方法の場合にも、乾燥段階では各成分が別々に酸化チ
タン（ＴｉＯ2)３が表面に析出しており、焼成による賦
活や複合化が必要になることは言うまでもない。さら
に、従来の含浸法特有の問題点として、含浸された活性
成分の混合溶液中の各成分とＴｉＯ2 との親和性（吸着
力）の差異により、各成分の分布が触媒内に発生する。
このため、触媒全体で均一な活性成分比を維持すること
は至難の業となり、活性成分同士の複合により高い耐久
性を得ようとしても困難である。
【００１４】これに対して図１は、本発明による触媒の
表層断面の模式図であるが、この図から明らかなよう
に、本触媒では新たに見いだした安定度の高いＭｏ−Ｖ
化合物４の溶液を触媒に担持するため、ＴｉＯ2 ３の表
面には乾燥終了段階で既に活性成分であるＭｏとＶは複
合された状態にあり、焼成によって改めて複合化する必
要がない。そればかりではなく、担持されたＭｏ−Ｖ化
合物は、それ自身高活性であるため、焼成による賦活を
必要としない。このため、活性成分および酸化チタンの
シンタリングを引き起こす焼成工程が不要であり、それ
に伴って、活性、特に高表面積の必要な低温活性の極め
て高い触媒を得ることが可能になる。もし、賦活や複合
化以外の理由で、焼成工程を取り入れたにしても、その
温度は必要最低限の低温でよく、活性の高い触媒を容易
に得ることが可能になる。さらに、注目すべきは、添加
された活性成分はＭｏ−Ｖの特定比率を触媒中のどこで
も維持している点であり、これにより特別な複合処理を
必要としないだけではなく、常に活性、耐久性の高い触
媒を得ることが可能になる。
【００１５】本発明のさらに優れた点は、発見したＭｏ
−Ｖ化合物が極めて安定であり、シリカゾル、ＴｉＯ2
と混合しても破壊されることがなく、両者の混合溶液と
して含浸、混練に使用することができる点にある。これ
により、強度向上効果の大きいコロイド状シリカと活性
成分を一度に含浸や混練することが可能になり、製造工
程も極めて簡略にすることが可能になる。また、本発明
に用いるＭｏ−Ｖ化合物は、ＴｉＯ2 との親和力が小さ
いため触媒内部にまで均一に担持される特徴がある。ご
み焼却炉排ガスなどの２００℃近辺の低温脱硝では、触
媒全体の活性点が利用されるため、この点でも有利にな
る。また、低温ではＳＯｘによる劣化が著しくなる傾向
があるが、担持したＭｏ−Ｖ化合物が安定で容易にＳＯ
ｘとは反応としないため、従来では考えられないような
高い耐ＳＯｘ性を有する触媒を得ることが可能になる。
加えて、本発明の触媒は有機塩素化合物の酸化分解にも
高い性能を示し、２００℃近辺で耐久性とダイオキシン
などの含塩素化合物の酸化活性とを合わせもつことが必
要な、ごみ焼却炉排ガスの脱硝−ダイオキシン除去触媒
としても最適である。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下具体例を用いて本発明を詳細
に説明する。 実施例１ 水４１０g に４０．６g の三酸化モリブデン（ＭｏＯ3)
と４９．４g のメタバナジン酸アンモン（ＮＨ4 ＶＯ3)
を添加したスラリを常温で２０時間緩やかに撹拌し、両
者を反応させて完全溶解させた。得られた反応液は、濃
度約１８wt％、Ｖ／Ｍｏ原子比３／２であり、生成、溶
解した褐色物の示性式は（ＮＨ4)3 Ｍｏ 2 Ｖ3 Ｏ15で表
せる。 比較例１ 水４１０g に４９．８g のモリブデン酸アンモン((ＮＨ
4)6 ・Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ）と４９．４g のメタバナ
ジン酸アンモン（ＮＨ4 ＶＯ3)を添加したスラリを常温
で２０時間緩やかに撹拌した。この場合のスラリ中の固
形分濃度約１８wt％、Ｖ／Ｍｏ原子比３／２と実施例１
と同じであったが、メタバナジン酸アンモンが溶解せ
ず、赤褐色の生成物も得られなかった。
【００１７】比較例２ 水４１０g に４９．８g のモリブデン酸アンモン((ＮＨ
4)6 ・Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ）と３８．４g の五酸化バ
ナジウム（Ｖ2 Ｏ5)を添加したスラリを常温で２０時間
緩やかに撹拌した。この場合のスラリ中の固形分濃度約
１８wt％、Ｖ／Ｍｏ原子比３／２と実施例１と同じであ
ったが、五酸化バナジウムが溶解せず、赤褐色の生成物
溶液も得られなかった。 比較例３ 水４１０g に６５．４g の三酸化タングステン（ＷＯ3)
と４９．４g のメタバナジン酸アンモン（ＮＨ4 ＶＯ3)
を添加したスラリを常温で２０時間緩やかに撹拌し、両
者を反応させて完全溶解させた。スラリ中のＶ／Ｗ原子
比３／２と実施例１と同様であるが、両添加物ともほと
んど溶解せず、褐色の生成物は得られなかった。以上、
実施例１および比較例１〜３から明らかなように、Ｖ／
Ｍｏ比が３／２の前記特定化合物と見られる溶解度の大
きな赤褐色物質の生成は、メタバナジン酸アンモンと三
酸化モリブデンとを水中で反応させてできる特定の物質
であると考えられる。それらの生成は、出発原料が異な
ると生成せず、またＭｏと同族のＷの酸化物でも生成し
ないことが分った。
【００１８】実施例２ 繊維径９μｍのＥガラス性繊維１４００本の捻糸を１０
本／インチの荒さで平織りした網状物にチタニア４０
％、シリカゾル２０％、ポリビニールアルコール１％の
スラリを含浸し、１５０℃で乾燥して剛性を持たせ触媒
基材を得た。他方、これとは別に比表面積約２３０m2/g
の酸化チタン１．５kgと蓚酸７５gとを添加したものに
水を加えてペースト状にし、さらにシリカ・アルミナ繊
維を３００g 添加して均一になるまで混練した。得られ
たペーストを先に作った触媒基材の間に挟んで、圧延ロ
ーラを通すことにより０．７mm厚さにチタニア成形し
た。これを室温で乾燥後、４００℃で２時間焼成してチ
タニアを得た。本チタニア担体を、実施例１で合成した
Ｍｏ−Ｖ化合物溶液に浸漬して、Ｍｏ−Ｖ化合物を担持
し、８０℃で２時間乾燥した。得られた触媒中のＭｏＯ
3 およびＶ2 Ｏ5 含有量はＴｉＯ2 に対し４．８wt％お
よび４．５wt％であった。
【００１９】比較例４ 繊維径９μｍのＥガラス性繊維１４００本の捻糸を１０
本／インチの荒さで平織りした網状物にチタニア４０
％、シリカゾル２０％、ポリビニールアルコール１％の
スラリを含浸し、１５０℃で乾燥して剛性を持たせ触媒
基材を得た。他方、これとは別に比表面積約２３０m2/g
の酸化チタン１．５kgとメタバナジン酸アンモン８６．
７g 、モリブデン酸アンモン８８．３g および蓚酸７５
g とを添加したものに水を加えてペースト状にし、さら
にシリカ・アルミナ繊維を３００g 添加して均一になる
まで混練した。得られたペーストを先に作った触媒基材
の間に挟んで、圧延ローラを通して０．７mm厚さに成形
した。これを室温で乾燥後、８０℃で２時間乾燥して触
媒体を得た。本触媒中のＭｏＯ3 およびＶ2 Ｏ5 含有量
は、ＴｉＯ2 に対し４．８wt％および４．５wt％であっ
た。
【００２０】実施例３〜６ 実施例２で得られた触媒を、それぞれ２００、３００、
４００、および５００℃で２時間焼成して触媒を調製し
た。 比較例５〜８ 実施例４で得られた触媒を比較例２〜５と同様に、それ
ぞれ２００、３００、４００、および５００℃で焼成し
て触媒体を得た。 比較例９および１０ メタバナジン酸アンモン８．６７g 、モリブデン酸アン
モン８．８３g とを４１cm3 の１０％モノメチルアミン
水溶液に溶解した。得られた溶液に実施例２で用いたチ
タニア担体を浸漬して含浸後、室温および８０℃で乾燥
して比較例９の触媒を得た。本触媒をさらに５００℃で
２時間焼成し、比較例１０の触媒を得た。
【００２１】実施例２〜６および比較例４〜１０の各触
媒を、２０mm×１００mmに切断後、表１の条件で脱硝試
験を行なった。得られた結果を図３に、焼成温度と脱硝
率との関係として示した。なお、乾燥温度も焼成温度と
みなして、乾燥だけの触媒のデータも含めた。本図から
明らかなように、本願発明の触媒は極めて高い活性が得
られている。そればかりでなく、比較例触媒は４００℃
以上で焼成しないと高い活性が得られないのに対し、本
発明の触媒は、焼成を全く行なわない実施例２の触媒で
も焼成触媒と同様に高い性能が得られた。このことか
ら、本発明の触媒は、焼成などの賦活処理を行なう必要
のないことは明白であり、活性、製造コスト面で極めて
大きな効果があることがわかる。
【００２２】
【表１】 他方、実施例２と６、比較例４と８、９と１０の触媒を
ＳＯ2 を２００ppm 含む排ガス中に、２００℃で１００
時間暴露してＳＯ2 による活性低下度合いを調べた。本
試験前後の２００℃における触媒性能を表１の条件で測
定し、表２にまとめて示した。
【００２３】
【表２】 比較例触媒は、いずれもＳＯ2 含有ガスに曝されたこと
により大幅に活性低下したのに対し、実施例触媒は、活
性低下が極めて小さかった。特に、実施例２の触媒は他
の触媒に比べて最も活性低下が小さいことがわかる。こ
れは、Ｍｏ−Ｖ化合物の形で触媒内に担持することによ
り、両者の複合化が十分であることに加え、ＳＯｘによ
り容易に犯されないためと考えられる。以上のように本
発明による触媒は、高活性な触媒を、焼成することなし
に得られるだけでなく、耐久性の面でも極めて優れたも
のであることがわかった。
【００２４】以下、本発明の効果をさらに明確にするた
め、他の実施例を示す。 実施例７ 比較例４のモリブデン酸アンモンとメタバナジン酸アン
モンに代えて、実施例１で調製したＭｏ−Ｖ化合物液を
用いる他は同様に触媒を調製した。 実施例８ 実施例１で調製したＭｏ−Ｖ液に、ＳｉＯ2 を２０wt％
含むコロイダルシリカ（日産化学社製、シリカゾル−
ｏ）を５００g を加え、両者の混合溶液を得た。本溶液
を用いて、実施例２と同様の方法で触媒を調製した。 比較例１１ 比較例９で用いたＭｏ、Ｖ塩の混合モノメチルアミン溶
液にシリカゾル−ｏを５０g 加えて混合した溶液を調製
して用い、比較例９と同様の触媒を調製した。 実施例９ 実施例４の触媒を用いて２００℃の脱硝活性を測定する
と同時に、排ガス中にダイオキシンの模擬物質としてク
ロロベンゼンを１０ppm 添加し、触媒によるクロロベン
ゼンの酸化率を測定した。実施例７で得られた触媒を、
実施例２と同様に性能試験を行なった結果を、実施例２
の結果と合わせて表３に示した。実施例７に示したよう
に混練法の原料としてＭｏ−Ｖ原料を用いても、含浸法
同様、高い性能が得られることがわかる。
【００２５】
【表３】 また、実施例８と比較例１１の両者の２００℃における
活性と曲げ強度試験結果を表４にまとめて示した。比較
例触媒は、活性が低いだけではなく曲げ強度も、実施例
８のものに比べ極めて低い値である。これは、Ｍｏ、Ｖ
塩のモノメチルアミン溶液とシリカゾルとの混合によ
り、シリカゾル、バナジウム塩がゲル状に変化しチタニ
ア担体内に含浸されなかったためであると推定される。
本例からも明らかなように、本発明のＭｏ−Ｖ化合物は
シリカゾルと任意に混合することが可能であるため、強
度向上剤と活性成分を同時に担持でき、簡単な操作で高
強度で高活性である触媒を得ることができる。
【００２６】
【表４】 また、実施例９で行なった試験の結果、本発明の触媒は
クロロベンゼンの酸化分解活性として８０％以上の高い
値が得られることがわかった。このように、本発明の触
媒は２００℃の低温活性に優れるだけではなく、ごみ焼
却炉排ガス中に含まれるＳＯｘで劣化し難い上、ダイオ
キシン模擬物質である含塩素有機化合物の酸化活性にも
優れている。近年ますます増大しているごみ焼却炉など
でダイオキシンと脱硝の同時処理が望まれているが、本
発明の触媒は、このような社会的ニーズにもマッチした
極めて優れた触媒である。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、焼成による賦活工程を
必要としない触媒活性化合物が得られ、これを担持また
は混練した触媒は、低温活性、耐久性およびダイオキシ
ン分解活性に優れ、このため、ごみ焼却炉浄化装置など
の高効率化が可能になる。また、賦活処理としての焼成
が不要になるため、製造工程の簡略化が可能になるだけ
ではなく、触媒活性に重点を置いた触媒設計が可能にな
り、性能、経済面で各種改良が可能になる。さらに、本
触媒に用いるＭｏ−Ｖ化合物はシリカゾルなどのゾル状
物と混合しても安定であるだけでなく、ゾルのゲル化を
生じない。そのため、強度向上を目的に行なわれている
シリカゾル含浸工程で活性成分を同時に担持することが
でき、高強度、高活性触媒を簡略な工程で得ることが可
能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による触媒の活性成分の分布状態を示し
た触媒の表層断面の模式図。
【図２】従来技術による触媒の活性成分の分布状態を示
す同様な模式補足図。
【図３】本発明の実施例および比較例における触媒の性
能を比較した図。
【符号の説明】
１…Ｖ化合物、２…Ｍｏ化合物、３…酸化チタン、４…
本発明のＭｏ−Ｖ化合物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤澤 雅敏 広島県呉市宝町３番36号 バブコック日立 株式会社呉研究所内 Ｆターム(参考） 4D048 AA06 AA11 AB01 AB02 AB03 BA06X BA07X BA23X BA26X BA41X BA42X BB01 BD10 4G069 AA01 AA03 AA08 BA02A BA02B BA04A BA04B BA37 BB06A BB06B BB06C BC54A BC54B BC54C BC59A BC59B BC59C BE17A BE17B BE17C CA02 CA03 CA07 CA08 CA10 CA13 CA19 FA02 FB05 FB06 FB30 GA01

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 バナジウムとモリブデンの原子比Ｖ／Ｍ
    ｏが３／２である示性式（ＮＨ4)ｘＭｏ2Ｖx Ｏ(3x+6)
    （但しｘは２．８〜３．２）で表わされる排ガス浄化触
    媒化合物。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の水溶性化合物を担体に担
    持したことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の水溶性化合物を酸化チタ
    ン担体に含浸、または酸化チタン粉末とともに混練した
    ことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
  4. 【請求項４】 前記触媒がさらに５００℃以下の温度で
    焼成されたことを特徴とする請求項２または３記載の排
    ガス浄化用触媒。
  5. 【請求項５】 酸化モリブデン（ＭｏＯ3)とメタバナジ
    ン酸アンモン（ＮＨ 4 ＶＯ3)とを水の共存下で所定時間
    反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製
    法。
  6. 【請求項６】 請求項１記載の水溶性化合物とシリカゾ
    ルのようなゾル状物とを含む排ガス浄化触媒用組成物。
  7. 【請求項７】 請求項６記載の組成物を担体に担持した
    排ガス浄化用触媒。
  8. 【請求項８】 請求項１記載の水溶性化合物とシリカゾ
    ルのようなゾル状物とを予め混合後、酸化チタン担体に
    担持、または酸化チタン粉末に混合することを特徴とす
    る排ガス浄化用触媒の製法。
JP12050199A 1999-04-27 1999-04-27 排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法 Expired - Fee Related JP3765942B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12050199A JP3765942B2 (ja) 1999-04-27 1999-04-27 排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法
EP00970100A EP1340539B1 (en) 1999-04-27 2000-10-26 Exhaust gas purifying catalyst compound, catalyst comprising said compound and method for preparing the compound
US10/415,320 US7005402B1 (en) 1999-04-27 2000-10-26 Exhaust gas purifying catalyst compound, catalyst comprising said compound and method for preparing the compound
CA002427081A CA2427081C (en) 1999-04-27 2000-10-26 Catalyst compound for purifying exhaust gas, catalyst comprising the compound, and processes for producing them
AU2000279589A AU2000279589A1 (en) 1999-04-27 2000-10-26 Exhaust gas purifying catalyst compound, catalyst comprising said compound and method for preparing the compound
PCT/JP2000/007506 WO2002034388A1 (fr) 1999-04-27 2000-10-26 Compose catalytique purifiant les gaz d'echappement, catalyseur comprenant ledit compose et procede de preparation du compose
DE60039922T DE60039922D1 (de) 1999-04-27 2000-10-26 Abgasreinigende katalysatorverbindung, diese verbindung enthaltender katalysator und verfahren zur herstellung der verbindung
CNB008199973A CN1209196C (zh) 1999-04-27 2000-10-26 用于净化废气的催化剂化合物、包含所述化合物的催化剂及其制备方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12050199A JP3765942B2 (ja) 1999-04-27 1999-04-27 排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法
PCT/JP2000/007506 WO2002034388A1 (fr) 1999-04-27 2000-10-26 Compose catalytique purifiant les gaz d'echappement, catalyseur comprenant ledit compose et procede de preparation du compose

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000308832A true JP2000308832A (ja) 2000-11-07
JP3765942B2 JP3765942B2 (ja) 2006-04-12

Family

ID=26344962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12050199A Expired - Fee Related JP3765942B2 (ja) 1999-04-27 1999-04-27 排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7005402B1 (ja)
EP (1) EP1340539B1 (ja)
JP (1) JP3765942B2 (ja)
CN (1) CN1209196C (ja)
AU (1) AU2000279589A1 (ja)
CA (1) CA2427081C (ja)
DE (1) DE60039922D1 (ja)
WO (1) WO2002034388A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002034388A1 (fr) * 1999-04-27 2002-05-02 Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha Compose catalytique purifiant les gaz d'echappement, catalyseur comprenant ledit compose et procede de preparation du compose
WO2008099814A1 (ja) 2007-02-13 2008-08-21 Babcock-Hitachi K.K. 窒素酸化物除去用触媒及び窒素酸化物除去方法
WO2009001891A1 (ja) 2007-06-27 2008-12-31 Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha 使用済触媒の再生方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100549778B1 (ko) * 2003-09-27 2006-02-08 한국전력기술 주식회사 저온 탈질 특성을 갖는 바나듐/티타니아계 질소산화물제거용 촉매, 이의 사용방법 및 이의 탈질방법
JP4277226B2 (ja) * 2006-02-09 2009-06-10 バブコック日立株式会社 金属水銀酸化用触媒及び金属水銀酸化用触媒を備えた排ガス浄化用触媒とその製造方法
JP5490074B2 (ja) * 2010-12-28 2014-05-14 トヨタ自動車株式会社 三酸化硫黄分解用触媒、及び水素生成方法
JP5497688B2 (ja) 2011-05-25 2014-05-21 トヨタ自動車株式会社 三酸化硫黄分解用触媒、及び水素生成方法
US8623781B2 (en) * 2011-06-28 2014-01-07 King Fahd University of Pretroleum and Minerals Oxidative dehydrogenation of propane
CN111714964B (zh) * 2020-06-29 2021-08-17 浙江严牌过滤技术股份有限公司 一种除尘脱二噁英一体化滤料及其制备方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3678091A (en) * 1969-05-13 1972-07-18 Aquitaine Petrole Process for the preparation of unsaturated alphatic nitriles by the oxidation of olefins
JPS49126616A (ja) * 1973-04-13 1974-12-04
US4001316A (en) * 1973-06-15 1977-01-04 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Method for manufacture of methacrylic acid
JPS58210849A (ja) * 1982-06-03 1983-12-08 Babcock Hitachi Kk アンモニア接触還元用脱硝触媒
US5166122A (en) * 1988-09-19 1992-11-24 Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha Process for producing a denitration catalyst
EP0375391B2 (en) * 1988-12-21 1997-09-17 Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha Process for producing a catalyst for removing nitrogen oxides
JP3101821B2 (ja) * 1990-02-15 2000-10-23 三菱レイヨン株式会社 メタクリル酸製造用触媒の調製法
RU2115470C1 (ru) * 1994-05-30 1998-07-20 Сименс АГ Катализатор для уменьшения содержания окислов азота в текучей среде и способ его изготовления
JP2000026123A (ja) * 1998-07-08 2000-01-25 Mitsubishi Chemicals Corp 複合酸化物および複合酸化物の製造方法
JP3765942B2 (ja) * 1999-04-27 2006-04-12 バブコック日立株式会社 排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法
WO2004099081A1 (de) * 2003-05-12 2004-11-18 Basf Aktiengesellschaft In reiner i-phase vorliegende, mo, v und alkalimetall enthaltende multimetalloxidmassen

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002034388A1 (fr) * 1999-04-27 2002-05-02 Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha Compose catalytique purifiant les gaz d'echappement, catalyseur comprenant ledit compose et procede de preparation du compose
WO2008099814A1 (ja) 2007-02-13 2008-08-21 Babcock-Hitachi K.K. 窒素酸化物除去用触媒及び窒素酸化物除去方法
WO2009001891A1 (ja) 2007-06-27 2008-12-31 Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha 使用済触媒の再生方法
US9067194B2 (en) 2007-06-27 2015-06-30 Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. Method of regenerating used catalyst

Also Published As

Publication number Publication date
EP1340539A4 (en) 2006-06-21
WO2002034388A1 (fr) 2002-05-02
DE60039922D1 (de) 2008-09-25
CN1209196C (zh) 2005-07-06
CN1455700A (zh) 2003-11-12
EP1340539A1 (en) 2003-09-03
CA2427081C (en) 2007-06-26
US7005402B1 (en) 2006-02-28
JP3765942B2 (ja) 2006-04-12
AU2000279589A1 (en) 2002-05-06
EP1340539B1 (en) 2008-08-13
CA2427081A1 (en) 2003-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5137855A (en) Catalysts for selective catalytic reduction denox technology
CN101151096B (zh) 钛氧化物、废气处理用催化剂及废气净化方法
KR101798713B1 (ko) 질소산화물 제거용 scr 촉매 및 그의 제조방법
JP2008119651A (ja) 窒素酸化物除去用の触媒、および排ガス処理方法
JPH1099684A (ja) ＮＯｘの還元用触媒組成物、その製造方法および酸素含有燃焼排ガス中のＮＯｘの還元法
JP2000308832A (ja) 排ガス浄化触媒化合物、該化合物を含む触媒、およびその製法
JPS63185448A (ja) 排ガス中の窒素酸化物を除去するための触媒及び方法
KR20010089199A (ko) 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법
JP2013132624A (ja) チタン含有粒状粉末及びそれを用いた排ガス処理触媒並びにそれらの製造方法
JP4798909B2 (ja) 窒素酸化物除去用触媒およびその製造方法
JP2916377B2 (ja) アンモニア分解用触媒およびその触媒を用いるアンモニアの分解方法
JPH0824651A (ja) アンモニア分解用触媒およびその触媒を用いるアンモニアの分解方法
JP7183081B2 (ja) 脱硝触媒およびその製造方法
JP2004290754A (ja) ディーゼルエンジン排ガスの脱硝方法
JP2001113170A (ja) 脱硝触媒の製造方法
JP2004290753A (ja) 耐熱性脱硝触媒
KR100714031B1 (ko) 배가스 정화촉매 화합물, 이 화합물을 함유한 촉매 및 그 제조방법
JP2001113167A (ja) 排ガス処理用触媒、その製造方法および排ガス処理方法
JP3860734B2 (ja) 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法
CN114917898B (zh) 一种适用于高温烟气的平板式脱硝催化剂及其制备方法和应用
JP4511920B2 (ja) 脱硝触媒の製造方法
JPS59213442A (ja) 脱硝触媒の調製方法
JP2743336B2 (ja) 窒素酸化物還元用触媒および排ガス中の窒素酸化物の除去方法
JP2017177051A (ja) 排ガス処理触媒および排ガス処理方法
JPH0596165A (ja) 二酸化硫黄の酸化を抑制した脱硝触媒およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050804

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051006

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060112

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060125

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3765942

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100203

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110203

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120203

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120203

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130203

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130203

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140203

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees