JP2000243698A - フォトレジストディスペンシング装置 - Google Patents
フォトレジストディスペンシング装置Info
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K23/00—Valves for preventing drip from nozzles
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 定量のフォトレジストを一定圧力でウェーハ
上に塗布することができるフォトレジストディスペンシ
ング装置を提供する。 【解決手段】 フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンク２
０と、フォトレジストをウェーハに噴射する噴射ノズル
２８と、貯蔵タンクからフォトレジストを導入して噴射
ノズル２８に送出する送出ユニット２４と、送出ユニッ
トの作動を制御する空気圧制御ユニット１００と、貯蔵
タンクと送出ユニットとの間に配設され、送出ユニット
に導入されるフォトレジストのうちの被濾過物を濾過す
るフィルター３４とを含み、送出ユニットは、貯蔵タン
クに連結された流入通路４４、前記ノズルに連結された
送出通路４６及びこれら流入通路と送出通路を連結する
送出ベース４２と、第１遮断バルブ５４と、ポンプ５６
と、第２遮断バルブ５８と、サックバックバルブ６０と
を有する。
上に塗布することができるフォトレジストディスペンシ
ング装置を提供する。 【解決手段】 フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンク２
０と、フォトレジストをウェーハに噴射する噴射ノズル
２８と、貯蔵タンクからフォトレジストを導入して噴射
ノズル２８に送出する送出ユニット２４と、送出ユニッ
トの作動を制御する空気圧制御ユニット１００と、貯蔵
タンクと送出ユニットとの間に配設され、送出ユニット
に導入されるフォトレジストのうちの被濾過物を濾過す
るフィルター３４とを含み、送出ユニットは、貯蔵タン
クに連結された流入通路４４、前記ノズルに連結された
送出通路４６及びこれら流入通路と送出通路を連結する
送出ベース４２と、第１遮断バルブ５４と、ポンプ５６
と、第２遮断バルブ５８と、サックバックバルブ６０と
を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子の製作
工程において、ウェーハ上にフォトレジスト膜を均一に
塗布するために使用されるフォトレジストディスペンシ
ング（Dispensing）装置に関するものである。
工程において、ウェーハ上にフォトレジスト膜を均一に
塗布するために使用されるフォトレジストディスペンシ
ング（Dispensing）装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子は多数の工程により製作さ
れ、特にウェーハ（Wafer）上に所望のパターンを形成
するために写真印刷工程を必要とする。当該工程では、
ウェーハ上にフォトレジスト（photoresist）膜を塗布
し、さらにマスクを通じ光を照射することにより、ウェ
ーハ表面の選択部分を現像処理する。写真印刷工程にお
いて、フォトレジストはウェーハ上に均一に塗布されな
ければならない。このような塗布作業は、フォトレジス
トディスペンシング装置によって行われる。
れ、特にウェーハ（Wafer）上に所望のパターンを形成
するために写真印刷工程を必要とする。当該工程では、
ウェーハ上にフォトレジスト（photoresist）膜を塗布
し、さらにマスクを通じ光を照射することにより、ウェ
ーハ表面の選択部分を現像処理する。写真印刷工程にお
いて、フォトレジストはウェーハ上に均一に塗布されな
ければならない。このような塗布作業は、フォトレジス
トディスペンシング装置によって行われる。
【０００３】図１を参照しつつ、従来のフォトレジスト
ディスペンシング装置を説明する。従来のフォトレジス
トディスペンシング装置は、空気圧を動力源として使用
している。
ディスペンシング装置を説明する。従来のフォトレジス
トディスペンシング装置は、空気圧を動力源として使用
している。
【０００４】この装置は、フォトレジストを貯蔵する貯
蔵タンク１を有し、貯蔵タンク１には、フォトレジスト
を供給ラインを介して圧送するベローズ形ポンプ２が連
結されている。ベローズ形ポンプ２の下流側には、フォ
トレジスト内に含まれた被濾過物を濾過するフィルター
３が連結され、該フィルター３はベントバルブ３ａに連
結されている。このベントバルブ３ａは、フォトレジス
トの濾過時に発生する気泡を外部に放出する機能を有す
る。フィルター３には、これを通過したフォトレジスト
の圧力を調節すると共に、フォトレジストが逆流するこ
とを防止する空気圧作動式圧力調節チェックバルブ４が
連結されており、さらに、サックバックバルブ（Suckba
ck valve）５と噴射ノズル６とが順次連結されている。
蔵タンク１を有し、貯蔵タンク１には、フォトレジスト
を供給ラインを介して圧送するベローズ形ポンプ２が連
結されている。ベローズ形ポンプ２の下流側には、フォ
トレジスト内に含まれた被濾過物を濾過するフィルター
３が連結され、該フィルター３はベントバルブ３ａに連
結されている。このベントバルブ３ａは、フォトレジス
トの濾過時に発生する気泡を外部に放出する機能を有す
る。フィルター３には、これを通過したフォトレジスト
の圧力を調節すると共に、フォトレジストが逆流するこ
とを防止する空気圧作動式圧力調節チェックバルブ４が
連結されており、さらに、サックバックバルブ（Suckba
ck valve）５と噴射ノズル６とが順次連結されている。
【０００５】噴射ノズル６は、チェックバルブ４を通じ
て供給されるフォトレジストをウェーハ上に噴射する役
割を果たしている。サックバックバルブ５は、フォトレ
ジストの噴射後、ノズル６の先に存在するフォトレジス
トを再び装置内に吸入する。前記ベローズ形ポンプ２、
チェックバルブ４及びサックバルブ５は空気圧により作
動し、それぞれ空気圧ライン８及びソレノイドバルブ９
を介して空気圧源（図示せず）に連結されている。
て供給されるフォトレジストをウェーハ上に噴射する役
割を果たしている。サックバックバルブ５は、フォトレ
ジストの噴射後、ノズル６の先に存在するフォトレジス
トを再び装置内に吸入する。前記ベローズ形ポンプ２、
チェックバルブ４及びサックバルブ５は空気圧により作
動し、それぞれ空気圧ライン８及びソレノイドバルブ９
を介して空気圧源（図示せず）に連結されている。
【０００６】しかし、従来のフォトレジストディスペン
シング装置では、作動時間の経過に伴いフィルター３に
被濾過物が集積されてゆく。この被濾過物の集積のた
め、チェックバルブ４に供給されるフォトレジストの量
が減少してしまう。即ち、ベローズ形ポンプ２からフィ
ルター３に一定の圧力でフォトレジストを供給しても、
フィルター３を通過することによりフォトレジストの圧
力が急に降下してしまい、サックバックバルブ５は定量
のフォトレジストを噴射ノズル６に供給することができ
なくなるのである。したがって、ノズル６を通じて噴射
されるフォトレジストの吐出量と圧力は不規則に変化
し、ウェーハ１０に塗布されるフォトレジスト膜の厚さ
が不均一になるという問題点があった。
シング装置では、作動時間の経過に伴いフィルター３に
被濾過物が集積されてゆく。この被濾過物の集積のた
め、チェックバルブ４に供給されるフォトレジストの量
が減少してしまう。即ち、ベローズ形ポンプ２からフィ
ルター３に一定の圧力でフォトレジストを供給しても、
フィルター３を通過することによりフォトレジストの圧
力が急に降下してしまい、サックバックバルブ５は定量
のフォトレジストを噴射ノズル６に供給することができ
なくなるのである。したがって、ノズル６を通じて噴射
されるフォトレジストの吐出量と圧力は不規則に変化
し、ウェーハ１０に塗布されるフォトレジスト膜の厚さ
が不均一になるという問題点があった。
【０００７】特に、ウェーハ１０は回転するスピンチャ
ック１１に固定されているため、ノズル６から一定量の
フォトレジストが一定の圧力で噴射されない場合には、
ウェーハ１０上に塗布されるフォトレジスト膜にいわゆ
る“スピードボート（speedboat）”現象が発生すると
いう問題点があった。
ック１１に固定されているため、ノズル６から一定量の
フォトレジストが一定の圧力で噴射されない場合には、
ウェーハ１０上に塗布されるフォトレジスト膜にいわゆ
る“スピードボート（speedboat）”現象が発生すると
いう問題点があった。
【０００８】また、このようなフォトレジストの圧力の
急激な低下を防止するため、作業者が周期的にフィルタ
ー３の汚染程度を確認し汚染されたフィルター３を交替
する方法も存するが、この作業は生産性を低下させると
いう問題点があった。
急激な低下を防止するため、作業者が周期的にフィルタ
ー３の汚染程度を確認し汚染されたフィルター３を交替
する方法も存するが、この作業は生産性を低下させると
いう問題点があった。
【０００９】さらに、フォトレジストの供給量を増やし
て、フォトレジストの圧力の低下を補償することもでき
るが、この場合は、高価のフォトレジストを大量に使用
しなければならず、半導体素子の製造費用が上昇すると
いう問題点があった。
て、フォトレジストの圧力の低下を補償することもでき
るが、この場合は、高価のフォトレジストを大量に使用
しなければならず、半導体素子の製造費用が上昇すると
いう問題点があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたもので、その目的は、フィルターの汚
染にかかわらず、定量のフォトレジストを一定の圧力で
ウェーハ上に塗布することができるフォトレジストディ
スペンシング装置を提供することである。
に鑑みてなされたもので、その目的は、フィルターの汚
染にかかわらず、定量のフォトレジストを一定の圧力で
ウェーハ上に塗布することができるフォトレジストディ
スペンシング装置を提供することである。
【００１１】本発明の他の目的は、構造が簡単で、補修
及び点検の容易な送出ユニットを有するフォトレジスト
ディスペンシング装置を提供することである。
及び点検の容易な送出ユニットを有するフォトレジスト
ディスペンシング装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係るフォトレジストディスペンシング装置
は、フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンクと、フォトレ
ジストをウェーハに噴射する噴射ノズルと、前記貯蔵タ
ンクからフォトレジストを導入して前記噴射ノズルに送
出する送出ユニットと、前記送出ユニットの作動を制御
する空気圧制御ユニットと、前記貯蔵タンクと送出ユニ
ットとの間に配設され、送出ユニットに導入されるフォ
トレジストのうちの被濾過物を濾過するフィルターとを
含み、前記送出ユニットは、前記貯蔵タンクに連結され
た流入通路、前記ノズルに連結された送出通路及びこれ
ら流入通路と送出通路を連結する第１ないし第３連結通
路を有する送出ベースと、前記流入通路と第１連結通路
との間で前記送出ベースに設けられた第１遮断バルブ
と、前記第１連結通路と第２連結通路との間で前記送出
ベースに設けられたポンプと、前記第２連結通路と第３
連結通路との間で前記送出ベースに設けられた第２遮断
バルブと、前記第３連結通路と送出通路との間で前記送
出ベースに設けられたサックバックバルブとからなる。
め、本発明に係るフォトレジストディスペンシング装置
は、フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンクと、フォトレ
ジストをウェーハに噴射する噴射ノズルと、前記貯蔵タ
ンクからフォトレジストを導入して前記噴射ノズルに送
出する送出ユニットと、前記送出ユニットの作動を制御
する空気圧制御ユニットと、前記貯蔵タンクと送出ユニ
ットとの間に配設され、送出ユニットに導入されるフォ
トレジストのうちの被濾過物を濾過するフィルターとを
含み、前記送出ユニットは、前記貯蔵タンクに連結され
た流入通路、前記ノズルに連結された送出通路及びこれ
ら流入通路と送出通路を連結する第１ないし第３連結通
路を有する送出ベースと、前記流入通路と第１連結通路
との間で前記送出ベースに設けられた第１遮断バルブ
と、前記第１連結通路と第２連結通路との間で前記送出
ベースに設けられたポンプと、前記第２連結通路と第３
連結通路との間で前記送出ベースに設けられた第２遮断
バルブと、前記第３連結通路と送出通路との間で前記送
出ベースに設けられたサックバックバルブとからなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るフォトレジス
トディスペンシング装置の好ましい実施の形態を図２乃
至図５を参照しつつ詳細に説明する。
トディスペンシング装置の好ましい実施の形態を図２乃
至図５を参照しつつ詳細に説明する。
【００１４】図２に示すように、本実施の形態のフォト
レジストディスペンシング装置は、空気圧を動力源とし
て使用し、フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンク２０を
備える。この貯蔵タンク２０は、供給ライン２２を介し
て送出ユニット２４に連結されており、送出ユニット２
４は、送出ライン２６を介して噴射ノズル２８に連結さ
れている。噴射ノズル２８は、回転するスピンチャック
３２により支持されたウェーハ３０の表面にフォトレジ
ストを噴射できるように配設する。
レジストディスペンシング装置は、空気圧を動力源とし
て使用し、フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンク２０を
備える。この貯蔵タンク２０は、供給ライン２２を介し
て送出ユニット２４に連結されており、送出ユニット２
４は、送出ライン２６を介して噴射ノズル２８に連結さ
れている。噴射ノズル２８は、回転するスピンチャック
３２により支持されたウェーハ３０の表面にフォトレジ
ストを噴射できるように配設する。
【００１５】前記貯蔵タンク２０と送出ユニット２４と
の間には、フォトレジスト中の被濾過物、例えば、微粒
子又は気泡等を除去するフィルター３４を設ける。そし
て、このフィルター３４の下流側にはエアディレクター
３６を設ける。このエアディレクター３６は、貯蔵タン
ク２０から空気が供給された場合、これをフォトレジス
トの消尽とみなし、流入通路遮断信号を発生する。
の間には、フォトレジスト中の被濾過物、例えば、微粒
子又は気泡等を除去するフィルター３４を設ける。そし
て、このフィルター３４の下流側にはエアディレクター
３６を設ける。このエアディレクター３６は、貯蔵タン
ク２０から空気が供給された場合、これをフォトレジス
トの消尽とみなし、流入通路遮断信号を発生する。
【００１６】前記フィルター３４には排気ライン４０を
介してベントバルブ３８を連結する。このベントバルブ
３８は平常時には閉鎖位置に維持されており、パイロッ
ト空気圧の作用の度に開放位置にシフトされ、フィルタ
ーに溜まった空気を外部に放出する。
介してベントバルブ３８を連結する。このベントバルブ
３８は平常時には閉鎖位置に維持されており、パイロッ
ト空気圧の作用の度に開放位置にシフトされ、フィルタ
ーに溜まった空気を外部に放出する。
【００１７】図２乃至図５に示すように、前記送出ユニ
ット２４は、送出ベース４２を備えている。この送出ベ
ース４２は、供給ライン２２を介して前記貯蔵タンク２
０に連結された流入通路４４、送出ライン２６を介して
前記噴射ノズル２８に連結された送出通路４６、及び、
これら流入通路４４と送出通路４６を連結する第１ない
し第３連結通路４８、５０、５２を有する。
ット２４は、送出ベース４２を備えている。この送出ベ
ース４２は、供給ライン２２を介して前記貯蔵タンク２
０に連結された流入通路４４、送出ライン２６を介して
前記噴射ノズル２８に連結された送出通路４６、及び、
これら流入通路４４と送出通路４６を連結する第１ない
し第３連結通路４８、５０、５２を有する。
【００１８】また、前記送出ユニット２４は、前記流入
通路４４と第１連結通路４８との間で送出ベース４２に
設けられた第１遮断バルブ５４と、前記第１連結通路４
８と第２連結通路５０との間で送出ベース４２に設けら
れたダイアフラム型のポンプ５６と、前記第２連結通路
５０と第３連結通路５２との間で送出ベース４２に設け
られた第２遮断バルブ５８と、前記第３連結通路５２と
送出通路４６との間で送出ベース４２に設けられたサッ
クバックバルブ６０とを更に備える。
通路４４と第１連結通路４８との間で送出ベース４２に
設けられた第１遮断バルブ５４と、前記第１連結通路４
８と第２連結通路５０との間で送出ベース４２に設けら
れたダイアフラム型のポンプ５６と、前記第２連結通路
５０と第３連結通路５２との間で送出ベース４２に設け
られた第２遮断バルブ５８と、前記第３連結通路５２と
送出通路４６との間で送出ベース４２に設けられたサッ
クバックバルブ６０とを更に備える。
【００１９】前記第１遮断バルブ５４は、空気圧室６４
を有するバルブハウジング６２と、このバルブハウジン
グ６２内で伸縮動作が可能になるように組み立てられ、
伸張時、前記送出ベース４２の流入通路４４を閉塞し、
収縮時、前記流入通路４４を開放するバルブステム６６
と、平常時、このバルブステム６６を収縮位置に付勢す
る圧縮スプリング６８とから構成される。そして、バル
ブハウジング６２の空気圧室６４内に圧縮空気が導入さ
れると、バルブステム６６は圧縮スプリング６８の抵抗
力を克服し伸張位置に移動して流入通路４４を閉塞す
る。
を有するバルブハウジング６２と、このバルブハウジン
グ６２内で伸縮動作が可能になるように組み立てられ、
伸張時、前記送出ベース４２の流入通路４４を閉塞し、
収縮時、前記流入通路４４を開放するバルブステム６６
と、平常時、このバルブステム６６を収縮位置に付勢す
る圧縮スプリング６８とから構成される。そして、バル
ブハウジング６２の空気圧室６４内に圧縮空気が導入さ
れると、バルブステム６６は圧縮スプリング６８の抵抗
力を克服し伸張位置に移動して流入通路４４を閉塞す
る。
【００２０】前記ポンプ５６は、第１及び第２空気圧室
７２、７４を有するポンプハウジング７０と、このポン
プハウジング７０内に伸縮動作が可能になるように組み
立てられるピストン７６と、中央部がピストン７６の先
端に付着され、周縁部が送出ベース４２に固定されたダ
イアフラム７８とから構成される。
７２、７４を有するポンプハウジング７０と、このポン
プハウジング７０内に伸縮動作が可能になるように組み
立てられるピストン７６と、中央部がピストン７６の先
端に付着され、周縁部が送出ベース４２に固定されたダ
イアフラム７８とから構成される。
【００２１】ポンプハウジング７０の第１空気圧室７２
に圧縮空気が導入されると、ピストン７６は伸張位置に
移動し、これによりダイアフラム７８が下方に屈曲しポ
ンプ室８０内のフォトレジストを噴射ノズル２８に圧送
する。
に圧縮空気が導入されると、ピストン７６は伸張位置に
移動し、これによりダイアフラム７８が下方に屈曲しポ
ンプ室８０内のフォトレジストを噴射ノズル２８に圧送
する。
【００２２】逆に、第２空気圧室７４に圧縮空気が導入
されると、ピストン７６は収縮位置に戻り、ダイアフラ
ム７８は上方に屈曲し貯蔵タンク２０のフォトレジスト
をポンプ室８０内に吸入する。
されると、ピストン７６は収縮位置に戻り、ダイアフラ
ム７８は上方に屈曲し貯蔵タンク２０のフォトレジスト
をポンプ室８０内に吸入する。
【００２３】前記第２遮断バルブ５８は、空気圧室８４
を有するバルブハウジング８２と、このバルブハウジン
グ８２内に伸縮動作が可能になるように組み立てられ、
伸張時、前記送出ベース４２の第３連結通路５２を閉塞
し、収縮時、前記第３連結通路５２を開放するバルブス
テム８６と、平常時、このバルブステム８６を収縮位置
に付勢する圧縮スプリング８８とから構成される。そし
て、前記バルブハウジング８２の空気圧室８４内に圧縮
空気が導入されると、バルブステム８６は圧縮スプリン
グ８８の抵抗力を克服し伸張位置に移動して第３連結通
路５２を閉塞する。
を有するバルブハウジング８２と、このバルブハウジン
グ８２内に伸縮動作が可能になるように組み立てられ、
伸張時、前記送出ベース４２の第３連結通路５２を閉塞
し、収縮時、前記第３連結通路５２を開放するバルブス
テム８６と、平常時、このバルブステム８６を収縮位置
に付勢する圧縮スプリング８８とから構成される。そし
て、前記バルブハウジング８２の空気圧室８４内に圧縮
空気が導入されると、バルブステム８６は圧縮スプリン
グ８８の抵抗力を克服し伸張位置に移動して第３連結通
路５２を閉塞する。
【００２４】前記サックバックバルブ６０は、空気圧室
９２を有するバルブハウジング９０と、このバルブハウ
ジング９０内に伸縮可能に組み立てられるバルブステム
９４と、中央部がバルブステム９４の先端に付着され、
周縁部が送出ベース４２に固定されたダイアフラム９６
と、平常時、前記バルブステム９４を収縮位置に付勢す
る圧縮スプリング９８とから構成される。
９２を有するバルブハウジング９０と、このバルブハウ
ジング９０内に伸縮可能に組み立てられるバルブステム
９４と、中央部がバルブステム９４の先端に付着され、
周縁部が送出ベース４２に固定されたダイアフラム９６
と、平常時、前記バルブステム９４を収縮位置に付勢す
る圧縮スプリング９８とから構成される。
【００２５】バルブハウジング９０の空気圧室９２内に
圧縮空気が導入されると、バルブステム９４は圧縮スプ
リング９８の抵抗力を克服し伸張位置に移動することに
より、ダイアフラム９６が下方に屈曲する。
圧縮空気が導入されると、バルブステム９４は圧縮スプ
リング９８の抵抗力を克服し伸張位置に移動することに
より、ダイアフラム９６が下方に屈曲する。
【００２６】逆に、空気圧室９２から圧縮空気が送出さ
れると、バルブステム９４は圧縮スプリング９８の付勢
力により収縮位置に戻り、これにより、ダイアフラム９
６が上方に屈曲する。
れると、バルブステム９４は圧縮スプリング９８の付勢
力により収縮位置に戻り、これにより、ダイアフラム９
６が上方に屈曲する。
【００２７】前記送出ユニット２４の作動は空気圧制御
ユニット１００により制御される。図２に詳細に示すよ
うに、空気圧制御ユニット１００は、第１ないし第４電
磁気作動式コントロールバルブ１０２、１０４、１０
６、１０８と圧力調節バルブ１１０とから構成されてい
る。
ユニット１００により制御される。図２に詳細に示すよ
うに、空気圧制御ユニット１００は、第１ないし第４電
磁気作動式コントロールバルブ１０２、１０４、１０
６、１０８と圧力調節バルブ１１０とから構成されてい
る。
【００２８】第１コントロールバルブ１０２は、ピスト
ンの収縮位置と伸張位置との間でシフトでき、ピストン
の収縮位置では、ポンプ５６の第１空気圧室７２が排気
ライン１１２に連通するとともに第２空気圧室７４が吸
気ライン１１４に連通し、ピストン７６が収縮する。
ンの収縮位置と伸張位置との間でシフトでき、ピストン
の収縮位置では、ポンプ５６の第１空気圧室７２が排気
ライン１１２に連通するとともに第２空気圧室７４が吸
気ライン１１４に連通し、ピストン７６が収縮する。
【００２９】一方、第１コントロールバルブ１０２がピ
ストンの伸張位置にある場合は、ポンプ５６の第１空気
圧室７２が吸気ライン１１４に連通するとともに第２空
気圧室７４が排気ライン１１２に連通し、ピストン７６
が伸張する。
ストンの伸張位置にある場合は、ポンプ５６の第１空気
圧室７２が吸気ライン１１４に連通するとともに第２空
気圧室７４が排気ライン１１２に連通し、ピストン７６
が伸張する。
【００３０】吸気ライン１１４を通じてポンプ５６に供
給される圧縮空気の圧力は圧力調節バルブ１１０により
一定に維持される。
給される圧縮空気の圧力は圧力調節バルブ１１０により
一定に維持される。
【００３１】第２コントロールバルブ１０４は、吸気位
置と排気位置との間でシフトでき、平常時、吸気位置に
維持される。吸気位置では、前記第１遮断バルブ５４の
空気圧室６４が吸気ライン１１４に連通することによ
り、バルブステム６６が圧縮空気により伸張され、排気
位置では、前記第１遮断バルブ５４の空気圧室６４が排
気ライン１１２に連通することにより、バルブステム６
６が圧縮スプリング６８により収縮される。
置と排気位置との間でシフトでき、平常時、吸気位置に
維持される。吸気位置では、前記第１遮断バルブ５４の
空気圧室６４が吸気ライン１１４に連通することによ
り、バルブステム６６が圧縮空気により伸張され、排気
位置では、前記第１遮断バルブ５４の空気圧室６４が排
気ライン１１２に連通することにより、バルブステム６
６が圧縮スプリング６８により収縮される。
【００３２】第３コントロールバルブ１０６は、吸気位
置と排気位置との間でシフトでき、平常時、吸気位置に
維持される。吸気位置では、前記第２遮断バルブ５８の
空気圧室８４が吸気ライン１１４に連通することによ
り、バルブステム８６が圧縮空気により伸張され、排気
位置では、前記第２遮断バルブ５８の空気圧室８４が排
気ライン１１２に連通することにより、バルブステム８
６が圧縮スプリング８８により収縮される。
置と排気位置との間でシフトでき、平常時、吸気位置に
維持される。吸気位置では、前記第２遮断バルブ５８の
空気圧室８４が吸気ライン１１４に連通することによ
り、バルブステム８６が圧縮空気により伸張され、排気
位置では、前記第２遮断バルブ５８の空気圧室８４が排
気ライン１１２に連通することにより、バルブステム８
６が圧縮スプリング８８により収縮される。
【００３３】第４コントロールバルブ１０８は、吸気位
置と排気位置との間でシフトでき、平常時、排気位置に
維持される。排気位置では、前記サックバックバルブ６
０の空気圧室９２が排気ライン１１２に連通することに
より、バルブステム９４が圧縮スプリング９８により収
縮され、吸気位置では、空気圧室９２が吸気ライン１１
４に連通することにより、バルブステム９４が圧縮空気
により伸張される。
置と排気位置との間でシフトでき、平常時、排気位置に
維持される。排気位置では、前記サックバックバルブ６
０の空気圧室９２が排気ライン１１２に連通することに
より、バルブステム９４が圧縮スプリング９８により収
縮され、吸気位置では、空気圧室９２が吸気ライン１１
４に連通することにより、バルブステム９４が圧縮空気
により伸張される。
【００３４】つぎに、本実施の形態のフォトレジストデ
ィスペンシング装置の作用を図２に基づいて説明する。
ィスペンシング装置の作用を図２に基づいて説明する。
【００３５】貯蔵タンク２０内のフォトレジストを噴射
ノズル２８に圧送するためには、まず空気圧制御ユニッ
ト１００の第２コントロールバルブ１０４を排気位置に
シフトさせると同時に第３コントロールバルブ１０６を
吸気位置に維持する。これにより、送出ユニット２４の
第１遮断バルブ５４のバルブステム６６が圧縮スプリン
グ６８の付勢力により収縮して送出ベース４２の流入通
路４４を開放し、第２遮断バルブ５８のバルブステム８
６が圧縮空気により伸張して第３連結通路５２を閉塞す
る。
ノズル２８に圧送するためには、まず空気圧制御ユニッ
ト１００の第２コントロールバルブ１０４を排気位置に
シフトさせると同時に第３コントロールバルブ１０６を
吸気位置に維持する。これにより、送出ユニット２４の
第１遮断バルブ５４のバルブステム６６が圧縮スプリン
グ６８の付勢力により収縮して送出ベース４２の流入通
路４４を開放し、第２遮断バルブ５８のバルブステム８
６が圧縮空気により伸張して第３連結通路５２を閉塞す
る。
【００３６】この際、第１コントロールバルブ１０２は
ピストン伸張位置に維持され、ポンプ５６のピストン７
６を伸張させる。これにより、ダイアフラム７８が、図
２に仮想線で示すように、下方に屈曲しポンプ室８０の
容積を最小化させる。また、第４コントロールバルブ１
０８は、吸気位置にシフトされてサックバックバルブ６
０に圧縮空気を供給し、これにより、サックバックバル
ブ６０のステム９４が伸張してダイアフラム９６を下方
に屈曲する。
ピストン伸張位置に維持され、ポンプ５６のピストン７
６を伸張させる。これにより、ダイアフラム７８が、図
２に仮想線で示すように、下方に屈曲しポンプ室８０の
容積を最小化させる。また、第４コントロールバルブ１
０８は、吸気位置にシフトされてサックバックバルブ６
０に圧縮空気を供給し、これにより、サックバックバル
ブ６０のステム９４が伸張してダイアフラム９６を下方
に屈曲する。
【００３７】以上のような準備状態で、空気圧制御ユニ
ット１００の第１コントロールバルブ１０２をピストン
収縮位置にシフトさせると、ポンプ５６のピストン７６
が収縮すると同時にダイアフラム７８が、図２に実線で
示すように、上方に屈曲してポンプ室８０の容積を増大
させる。したがって、貯蔵タンク２０内のフォトレジス
トは供給ライン２２、流入通路４４及び第１連結通路４
８を経てポンプ室８０に吸入される。
ット１００の第１コントロールバルブ１０２をピストン
収縮位置にシフトさせると、ポンプ５６のピストン７６
が収縮すると同時にダイアフラム７８が、図２に実線で
示すように、上方に屈曲してポンプ室８０の容積を増大
させる。したがって、貯蔵タンク２０内のフォトレジス
トは供給ライン２２、流入通路４４及び第１連結通路４
８を経てポンプ室８０に吸入される。
【００３８】この吸入過程において、フォトレジストは
フィルター３４を通過し、フィルター３４はフォトレジ
ストに含まれた微粒子及び空気を収集する。フィルター
３４に溜まった空気はベントバルブ３８を通じて外部に
放出される。
フィルター３４を通過し、フィルター３４はフォトレジ
ストに含まれた微粒子及び空気を収集する。フィルター
３４に溜まった空気はベントバルブ３８を通じて外部に
放出される。
【００３９】仮に、フォトレジストが全て消耗され、貯
蔵タンク２０から空気が供給される場合は、エアディレ
クター３６がこれを感知し第２コントロールバルブ１０
４を吸気位置にシフトさせ、第１遮断バルブ５４が流入
通路４４を閉塞する。
蔵タンク２０から空気が供給される場合は、エアディレ
クター３６がこれを感知し第２コントロールバルブ１０
４を吸気位置にシフトさせ、第１遮断バルブ５４が流入
通路４４を閉塞する。
【００４０】こうして定量のフォトレジストがポンプ室
８０に吸入されると、今度は空気圧制御ユニット１００
の第２コントロールバルブ１０４が吸気位置にシフトさ
れ、第１遮断バルブ５４が流入通路４４を閉塞する。こ
れと同時に、第３コントロールバルブ１０６は排気位置
にシフトされて、第２遮断バルブ５８が第３連結通路５
０を開放する。
８０に吸入されると、今度は空気圧制御ユニット１００
の第２コントロールバルブ１０４が吸気位置にシフトさ
れ、第１遮断バルブ５４が流入通路４４を閉塞する。こ
れと同時に、第３コントロールバルブ１０６は排気位置
にシフトされて、第２遮断バルブ５８が第３連結通路５
０を開放する。
【００４１】次いで、第１コントロールバルブ１０２を
ピストン伸張位置にシフトさせると、ポンプ５６の第１
空気圧室７２に圧縮空気が導入されてピストン７６を伸
張させ、これにより、ダイアフラム７８が、図２に仮想
線で示すように、下方に屈曲しポンプ室８０の容積を減
少させる。したがって、ポンプ室８０内のフォトレジス
トは、第２連結通路５０、第３連結通路５２、送出通路
４６及び送出ライン２６を通じて噴射ノズル２８に圧送
される。そして、噴射ノズル２８はウェーハ３０の表面
に均一な厚さのフォトレジスト膜を塗布する。
ピストン伸張位置にシフトさせると、ポンプ５６の第１
空気圧室７２に圧縮空気が導入されてピストン７６を伸
張させ、これにより、ダイアフラム７８が、図２に仮想
線で示すように、下方に屈曲しポンプ室８０の容積を減
少させる。したがって、ポンプ室８０内のフォトレジス
トは、第２連結通路５０、第３連結通路５２、送出通路
４６及び送出ライン２６を通じて噴射ノズル２８に圧送
される。そして、噴射ノズル２８はウェーハ３０の表面
に均一な厚さのフォトレジスト膜を塗布する。
【００４２】フォトレジストが噴射ノズル２８を通じて
噴射された後、第４コントロールバルブ１０８は排気位
置にシフトされ、これにより、サックバックバルブ６０
のバルブステム９４が圧縮スプリング９８の付勢力によ
り収縮され、ダイアフラム９６が上方に屈曲する。これ
により、噴射ノズル２８には負圧がかかるので、噴射ノ
ズル２８の先に残っていたフォトレジストが送出ライン
２６内に吸入される。
噴射された後、第４コントロールバルブ１０８は排気位
置にシフトされ、これにより、サックバックバルブ６０
のバルブステム９４が圧縮スプリング９８の付勢力によ
り収縮され、ダイアフラム９６が上方に屈曲する。これ
により、噴射ノズル２８には負圧がかかるので、噴射ノ
ズル２８の先に残っていたフォトレジストが送出ライン
２６内に吸入される。
【００４３】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明のフ
ォトレジストディスペンシング装置によると、フィルタ
ーがポンプの上流側に設けられ、送出ユニットの作動が
精密に制御されるので、定量のフォトレジストを一定圧
力で噴射ノズルを通じてウェーハに噴射することができ
る。また、送出ユニットの構造が簡単であり、また、作
動が正確であるため、補修及び点検が容易であるという
効果も提供される。
ォトレジストディスペンシング装置によると、フィルタ
ーがポンプの上流側に設けられ、送出ユニットの作動が
精密に制御されるので、定量のフォトレジストを一定圧
力で噴射ノズルを通じてウェーハに噴射することができ
る。また、送出ユニットの構造が簡単であり、また、作
動が正確であるため、補修及び点検が容易であるという
効果も提供される。
【図１】従来のフォトレジストディスペンシング装置を
例示する概略図である。
例示する概略図である。
【図２】本発明に係る実施の形態のフォトレジストディ
スペンシング装置を示す説明図である。尚、送出ユニッ
ト２４は、断面図として示されている。
スペンシング装置を示す説明図である。尚、送出ユニッ
ト２４は、断面図として示されている。
【図３】図２に示す実施の形態のフォトレジストディス
ペンシング装置を構成する送出ユニットの平面図であ
る。
ペンシング装置を構成する送出ユニットの平面図であ
る。
【図４】図３に示すIV−IV線に沿う断面図であり、送出
ベース４２、ポンプ５６及びサックバックバルブ６０の
断面を示している。
ベース４２、ポンプ５６及びサックバックバルブ６０の
断面を示している。
【図５】図３に示すＶ−Ｖ線の断面図であり、送出ベー
ス４２、第１遮断バルブ５４、第２遮断バルブ５８及び
サックバックバルブ６０の断面を示している。
ス４２、第１遮断バルブ５４、第２遮断バルブ５８及び
サックバックバルブ６０の断面を示している。
１ 貯蔵タンク ２ ベローズ形ポンプ ３ フィルター ３ａ ベントバルブ ４ チェックバルブ ５ サックバックバルブ ６ ノズル ８ 空気圧ライン ９ ソレノイドバルブ １０ ウェーハ １１ スピンチャック ２０ 貯蔵タンク ２２ 供給ライン ２４ 送出ユニット ２６ 送出ライン ２８ 噴射ノズル ３０ ウェーハ ３２ スピンチャック ３４ フィルター ３６ エアディレクター ３８ ベントバルブ ４０ 排気ライン ４４ 流入通路 ４６ 送出通路 ４８ 第１連結通路 ５０ 第２連結通路 ５２ 第３連結通路 ５４ 第１遮断バルブ ５６ ポンプ ５８ 第２遮断バルブ ６０ サックバックバルブ ６２ バルブハウジング ６６ バルブステム ６８ 圧縮スプリング ７２ 第１空気圧室 ７４ 第２空気圧室 ７６ ピストン ７８ ダイアフラム ８０ ポンプ室 ８２ バルブハウジング ８４ 空気圧室 ８６ バルブステム ８８ 圧縮スプリング ９０ バルブハウジング ９２ 空気圧室 ９４ バルブステム ９６ ダイアフラム ９８ 圧縮スプリング １００ 空気圧制御ユニット １０２、１０４、１０６、１０８ 電磁気作動式コント
ロールバルブ １１０ 圧力調節バルブ １１２ 排気ライン １１４ 吸気ライン
ロールバルブ １１０ 圧力調節バルブ １１２ 排気ライン １１４ 吸気ライン
Claims (5)
- 【請求項１】 半導体ウェーハ上にフォトレジストを塗
布するためのフォトレジストディスペンシング装置にお
いて、フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンクと、フォト
レジストをウェーハに噴射する噴射ノズルと、前記貯蔵
タンクからフォトレジストを導入して前記噴射ノズルに
送出する送出ユニットと、前記送出ユニットの作動を制
御する空気圧制御ユニットと、前記貯蔵タンクと送出ユ
ニットとの間に配設され、送出ユニットに導入されるフ
ォトレジストのうちの被濾過物を濾過するフィルターと
を含み、 前記送出ユニットは、前記貯蔵タンクに連結された流入
通路、前記ノズルに連結された送出通路及びこれら流入
通路と送出通路を連結する第１ないし第３連結通路を有
する送出ベースと、前記流入通路と第１連結通路との間
で前記送出ベースに設けられた第１遮断バルブと、前記
第１連結通路と第２連結通路との間で前記送出ベースに
設けられたポンプと、前記第２連結通路と第３連結通路
との間で前記送出ベースに設けられた第２遮断バルブ
と、前記第３連結通路と送出通路との間で前記送出ベー
スに設けられたサックバックバルブとを有することを特
徴とするフォトレジストディスペンシング装置。 - 【請求項２】 排気ラインを介して前記フィルターに連
結され、前記フィルタに溜まった空気を外部に放出する
ように作動するベントバルブを更に含むことを特徴とす
る請求項１記載のフォトレジストディスペンシング装
置。 - 【請求項３】 前記フィルターと前記送出ユニットとの
間に設けられ、前記貯蔵タンクから空気が供給される場
合、前記第１遮断バルブが前記送出ベースの流入通路を
遮断するようにするエアディレクターを更に含むことを
特徴とする請求項１記載のフォトレジストディスペンシ
ング装置。 - 【請求項４】 前記ポンプが、第１及び第２空気圧室を
有するポンプハウジングと、このポンプハウジング内に
伸縮運動可能に組み立てられるピストンと、前記ピスト
ンの先端に付着されたダイアフラムとから構成されるこ
とを特徴とする請求項１記載のフォトレジストディスペ
ンシング装置。 - 【請求項５】 前記第１遮断バルブが、空気圧室を有す
るバルブハウジングと、前記バルブハウジング内に伸縮
動作が可能になるように組み立てられ、伸張時、前記送
出ベースの流入通路を閉塞し、収縮時、前記流入通路を
開放するバルブステムと、前記バルブステムを収縮位置
に付勢する圧縮スプリングとから構成され、前記第２遮
断バルブが、空気圧室を有するバルブハウジングと、前
記バルブハウジング内に伸縮動作が可能になるように組
み立てられ、伸張時、前記送出ベースの第３連結通路を
閉塞し、収縮時、前記第３連結通路を開放するバルブス
テムと、前記バルブステムを収縮位置に付勢する圧縮ス
プリングとから構成され、前記サックバックバルブが、
空気圧室を有するバルブハウジングと、前記バルブハウ
ジング内に伸縮運動可能に組み立てられるバルブステム
と、前記バルブステムの先端に付着されるダイアフラム
と、前記バルブステムを収縮位置に付勢する圧縮スプリ
ングとから構成されることを特徴とする請求項４記載の
フォトレジストディスペンシング装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1999-5403 | 1999-02-18 | ||
| KR1019990005403A KR100280770B1 (ko) | 1999-02-18 | 1999-02-18 | 반도체 소자의 포터레지스터 디스팬싱장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000243698A true JP2000243698A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=19574505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000040154A Pending JP2000243698A (ja) | 1999-02-18 | 2000-02-17 | フォトレジストディスペンシング装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6332924B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000243698A (ja) |
| KR (1) | KR100280770B1 (ja) |
| TW (1) | TW459073B (ja) |
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| CN114713450A (zh) * | 2022-04-06 | 2022-07-08 | 精为佳智控技术(苏州)有限公司 | 一种超微量活塞式灌胶头及其控制系统 |
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| KR101023750B1 (ko) * | 2008-10-28 | 2011-03-28 | 세메스 주식회사 | 유체 흐름 개폐 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치. |
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| CN103645607B (zh) * | 2013-12-19 | 2016-09-07 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 涂胶系统 |
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| DE102017122006A1 (de) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | Gemü Gebr. Müller Apparatebau Gmbh & Co. Kommanditgesellschaft | Anordnung mit einer Ventileinheit, einer Rücksaugeinheit und einem Ventilkörper |
| CN112756205B (zh) * | 2020-12-30 | 2023-10-20 | 苏州卓兆点胶股份有限公司 | 一种气动高压阀及其工作过程 |
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