JP2000232006A - チップ型電子部品 - Google Patents
チップ型電子部品Info
- Publication number
- JP2000232006A JP2000232006A JP11031921A JP3192199A JP2000232006A JP 2000232006 A JP2000232006 A JP 2000232006A JP 11031921 A JP11031921 A JP 11031921A JP 3192199 A JP3192199 A JP 3192199A JP 2000232006 A JP2000232006 A JP 2000232006A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- varistor
- capacitor
- chip
- electronic component
- type electronic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 11
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 102100024522 Bladder cancer-associated protein Human genes 0.000 description 1
- 101150110835 Blcap gene Proteins 0.000 description 1
- 101100493740 Oryza sativa subsp. japonica BC10 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 印加電圧の変化に対する応答遅れが小さく、
かつ静電容量の小さなサージ対策用のチップ型電子部品
を提供する。 【解決手段】 コンデンサ1とSiCバリスタ5を一体
化させて素子本体9を形成し、さらにその両端面に形成
された外部電極10によりコンデンサ1とSiCバリス
タ5とを並列に接続する。ここで、SiCバリスタ材料
としては、比誘電率が10〜30のものを用い、バリス
タとコンデンサの合成容量が100pF以下となるよう
にする。
かつ静電容量の小さなサージ対策用のチップ型電子部品
を提供する。 【解決手段】 コンデンサ1とSiCバリスタ5を一体
化させて素子本体9を形成し、さらにその両端面に形成
された外部電極10によりコンデンサ1とSiCバリス
タ5とを並列に接続する。ここで、SiCバリスタ材料
としては、比誘電率が10〜30のものを用い、バリス
タとコンデンサの合成容量が100pF以下となるよう
にする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、チップ型電子部品
に関する。特に、バリスタとコンデンサとからなる、電
子機器等をサージから保護するサージ対策用のチップ型
電子部品に関する。
に関する。特に、バリスタとコンデンサとからなる、電
子機器等をサージから保護するサージ対策用のチップ型
電子部品に関する。
【0002】
【従来の技術】近年において、半導体技術の発展は電子
機器の進歩に大きく貢献し、ICやLSIなどの半導体
素子の使用により、電子機器の小型化及び高性能化が著
しく進展した。しかしながら、半導体素子を含む電子回
路は、サージ(異常電圧)に対して弱く、半導体素子に
サージ電流が流れると、電子回路が破壊されることがあ
る。
機器の進歩に大きく貢献し、ICやLSIなどの半導体
素子の使用により、電子機器の小型化及び高性能化が著
しく進展した。しかしながら、半導体素子を含む電子回
路は、サージ(異常電圧)に対して弱く、半導体素子に
サージ電流が流れると、電子回路が破壊されることがあ
る。
【0003】このようなサージから電子回路を保護する
ためには、以前からバリスタが幅広く用いられている。
バリスタは、電圧に対して電気抵抗が非線形的に変わる
素子で、半導体素子等と並列に接続されると、半導体素
子等に流れるサージを吸収する。つまり、半導体素子等
にバリスタ電圧(バリスタに1mAの電流を流したとき
の電圧)以下の電圧が掛けられている通常の通電時にお
いては高い電気抵抗値を維持し、一方、サージが発生し
て半導体素子等にバリスタ電圧以上の異常電圧が加わる
と、電気抵抗値が急激に低下するバリスタの非直線性を
活かし、サージが発生した場合にはサージ電流をバリス
タへバイパスさせて吸収し、半導体素子等を保護してい
る。
ためには、以前からバリスタが幅広く用いられている。
バリスタは、電圧に対して電気抵抗が非線形的に変わる
素子で、半導体素子等と並列に接続されると、半導体素
子等に流れるサージを吸収する。つまり、半導体素子等
にバリスタ電圧(バリスタに1mAの電流を流したとき
の電圧)以下の電圧が掛けられている通常の通電時にお
いては高い電気抵抗値を維持し、一方、サージが発生し
て半導体素子等にバリスタ電圧以上の異常電圧が加わる
と、電気抵抗値が急激に低下するバリスタの非直線性を
活かし、サージが発生した場合にはサージ電流をバリス
タへバイパスさせて吸収し、半導体素子等を保護してい
る。
【0004】このようなサージ吸収用のバリスタとして
は、電圧に対する電気抵抗の非直線性が大きく、サージ
耐量(半導体素子等を破壊させることなく吸収できる最
大サージ電流値)が大きいことから、特にZnOバリス
タが用いられている。また、最近では、積層構造を有す
る低電圧タイプのZnOチップバリスタが実用化されて
おり、電子回路の表面高密度実装化と駆動電圧の低電圧
化に伴い、半導体素子等の静電気サージ対策用部品とし
てはZnOチップバリスタが多用されている。
は、電圧に対する電気抵抗の非直線性が大きく、サージ
耐量(半導体素子等を破壊させることなく吸収できる最
大サージ電流値)が大きいことから、特にZnOバリス
タが用いられている。また、最近では、積層構造を有す
る低電圧タイプのZnOチップバリスタが実用化されて
おり、電子回路の表面高密度実装化と駆動電圧の低電圧
化に伴い、半導体素子等の静電気サージ対策用部品とし
てはZnOチップバリスタが多用されている。
【0005】しかしながら、ZnOバリスタは応答速
度、すなわち急激な電圧の変化に対する電気抵抗の変化
の反応の速さが充分ではなく、立ち上がりの速いノイ
ズ、例えば周期が10ns以下の短い波長のノイズに対
しては応答遅れが生じ、ノイズ除去効果が充分でなかっ
た。
度、すなわち急激な電圧の変化に対する電気抵抗の変化
の反応の速さが充分ではなく、立ち上がりの速いノイ
ズ、例えば周期が10ns以下の短い波長のノイズに対
しては応答遅れが生じ、ノイズ除去効果が充分でなかっ
た。
【0006】そこで、ZnOバリスタとコンデンサを一
体化し並列接続することにより、バリスタの応答速度を
補償させるようにしたチップ型電子部品が提案されてい
る(特開平10−125557号公報)。このチップ型
電子部品は、図8に示すように、ZnOバリスタ24及
びコンデンサ21が積層された素子本体27の両端面に
それぞれ外部電極28を設けたものである。ZnOバリ
スタ24においては、バリスタ層25が内部電極26に
挟まれており、バリスタ層25を挟む内部電極26は素
子本体27の両端面に交互に露出し、各内部電極26の
露出端面が外部電極28に電気的に接続されている。一
方、コンデンサ21には、誘電体層22が内部電極23
に挟まれており、誘電体層22を挟む内部電極23は、
素子本体27の両端面に交互に露出し、各内部電極23
の露出端面が外部電極28に電気的に接続されている。
この結果、図9の等価回路に表わしたように、ZnOバ
リスタ24とコンデンサ21とは、外部電極28を通じ
て電気的に並列接続されている。
体化し並列接続することにより、バリスタの応答速度を
補償させるようにしたチップ型電子部品が提案されてい
る(特開平10−125557号公報)。このチップ型
電子部品は、図8に示すように、ZnOバリスタ24及
びコンデンサ21が積層された素子本体27の両端面に
それぞれ外部電極28を設けたものである。ZnOバリ
スタ24においては、バリスタ層25が内部電極26に
挟まれており、バリスタ層25を挟む内部電極26は素
子本体27の両端面に交互に露出し、各内部電極26の
露出端面が外部電極28に電気的に接続されている。一
方、コンデンサ21には、誘電体層22が内部電極23
に挟まれており、誘電体層22を挟む内部電極23は、
素子本体27の両端面に交互に露出し、各内部電極23
の露出端面が外部電極28に電気的に接続されている。
この結果、図9の等価回路に表わしたように、ZnOバ
リスタ24とコンデンサ21とは、外部電極28を通じ
て電気的に並列接続されている。
【0007】ZnOバリスタ24に並列に接続されたコ
ンデンサ21は、ZnOバリスタ24単体では応答でき
ない立ち上がりの速いノイズが発生したとき、このノイ
ズを通過させることでノイズを吸収する働きがある。こ
のように、ZnOバリスタ24とコンデンサ21を並列
に接続することで、ZnOバリスタ24の長所である電
気抵抗の電圧非直線性の高さとサージ耐量の大きさを維
持しながら、ZnOバリスタ24の短所であった立ち上
がりの速いノイズに対する応答の遅れを改善している。
また、このチップ型電子部品は、ZnOバリスタ24と
コンデンサ21の2点の部品を一体化していることか
ら、電子機器のさらなる小型化やコストダウンにも貢献
していた。また、このチップ型電子部品はサージ機能を
備えたコンデンサとしても使用可能であった。
ンデンサ21は、ZnOバリスタ24単体では応答でき
ない立ち上がりの速いノイズが発生したとき、このノイ
ズを通過させることでノイズを吸収する働きがある。こ
のように、ZnOバリスタ24とコンデンサ21を並列
に接続することで、ZnOバリスタ24の長所である電
気抵抗の電圧非直線性の高さとサージ耐量の大きさを維
持しながら、ZnOバリスタ24の短所であった立ち上
がりの速いノイズに対する応答の遅れを改善している。
また、このチップ型電子部品は、ZnOバリスタ24と
コンデンサ21の2点の部品を一体化していることか
ら、電子機器のさらなる小型化やコストダウンにも貢献
していた。また、このチップ型電子部品はサージ機能を
備えたコンデンサとしても使用可能であった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、バリスタはコ
ンデンサと同様な構造を有しており、しかもZnOの
(みかけ)比誘電率は100〜500と大きいため、Z
nOバリスタは大きな静電容量を持っている。このZn
Oバリスタにはコンデンサが並列接続されているため、
チップ型電子部品の静電容量はさらに大きな値となる。
このため高周波信号がサージ対策用のチップ型電子部品
を通って洩れ易くなり、高速信号が通過する信号ライン
には使用することができなかった。
ンデンサと同様な構造を有しており、しかもZnOの
(みかけ)比誘電率は100〜500と大きいため、Z
nOバリスタは大きな静電容量を持っている。このZn
Oバリスタにはコンデンサが並列接続されているため、
チップ型電子部品の静電容量はさらに大きな値となる。
このため高周波信号がサージ対策用のチップ型電子部品
を通って洩れ易くなり、高速信号が通過する信号ライン
には使用することができなかった。
【0009】信号速度が高速化する今日においては、こ
のような技術的背景のもとで、応答遅れが小さく、かつ
静電容量の小さなサージ対策用のチップ型電子部品が求
められている。
のような技術的背景のもとで、応答遅れが小さく、かつ
静電容量の小さなサージ対策用のチップ型電子部品が求
められている。
【0010】本発明は上述の技術的問題点を解決するた
めになされたものであり、その目的とするところは、印
加電圧の変化に対する応答遅れが小さく、かつ静電容量
の小さなチップ型電子部品を提供することにある。
めになされたものであり、その目的とするところは、印
加電圧の変化に対する応答遅れが小さく、かつ静電容量
の小さなチップ型電子部品を提供することにある。
【0011】
【発明の開示】請求項1に記載のチップ型電子部品は、
バリスタとコンデンサを並列接続し一体化したチップ型
電子部品において、前記バリスタを構成するバリスタ材
料が、SiCを主成分とする低誘電率材料からなるもの
である。特に、バリスタ材料の比誘電率は10以上30
以下であることが望ましい(請求項2)。
バリスタとコンデンサを並列接続し一体化したチップ型
電子部品において、前記バリスタを構成するバリスタ材
料が、SiCを主成分とする低誘電率材料からなるもの
である。特に、バリスタ材料の比誘電率は10以上30
以下であることが望ましい(請求項2)。
【0012】請求項1のチップ型電子部品で用いている
SiCバリスタは、ZnOバリスタに比べて応答速度が
速いので、SiCバリスタと並列接続するコンデンサの
静電容量を小さくしても高速ノイズに対して応答遅れが
ないサージ対策部品を得ることができる。さらに、比誘
電率の小さなSiCを主成分とするSiCバリスタを用
いているので、バリスタ部分の静電容量も小さくするこ
とができる。従って、SiCバリスタとコンデンサのト
ータルの静電容量(合成静電容量)を小さくすることが
でき、高速信号ラインにも対応できるサージ対策部品と
して使用できる。
SiCバリスタは、ZnOバリスタに比べて応答速度が
速いので、SiCバリスタと並列接続するコンデンサの
静電容量を小さくしても高速ノイズに対して応答遅れが
ないサージ対策部品を得ることができる。さらに、比誘
電率の小さなSiCを主成分とするSiCバリスタを用
いているので、バリスタ部分の静電容量も小さくするこ
とができる。従って、SiCバリスタとコンデンサのト
ータルの静電容量(合成静電容量)を小さくすることが
でき、高速信号ラインにも対応できるサージ対策部品と
して使用できる。
【0013】請求項3の実施態様は、請求項1又は2に
記載のチップ型電子部品において、前記バリスタと前記
コンデンサの合成容量を100pF以下にしたものであ
る。
記載のチップ型電子部品において、前記バリスタと前記
コンデンサの合成容量を100pF以下にしたものであ
る。
【0014】従来より用いられているZnOバリスタを
用いたチップ型電子部品では、トータル静電容量は10
0pFよりも大きいが、SiCバリスタを用いたチップ
型電子部品ではトータル静電容量を100pF以下にす
ることができ、高速信号ラインに適したサージ対策用部
品として用いることができるようになる。
用いたチップ型電子部品では、トータル静電容量は10
0pFよりも大きいが、SiCバリスタを用いたチップ
型電子部品ではトータル静電容量を100pF以下にす
ることができ、高速信号ラインに適したサージ対策用部
品として用いることができるようになる。
【0015】請求項4の実施態様は、請求項1、2又は
3に記載のチップ型電子部品において、前記バリスタと
前記コンデンサとを同時焼成によって積層一体化したも
のである。
3に記載のチップ型電子部品において、前記バリスタと
前記コンデンサとを同時焼成によって積層一体化したも
のである。
【0016】この実施態様では、バリスタとコンデンサ
を同時焼成しているので、バリスタとコンデンサを別々
に焼成する場合に比べて焼成工程を減らすことができ、
チップ型電子部品の製造工程を簡略にすることができ
る。
を同時焼成しているので、バリスタとコンデンサを別々
に焼成する場合に比べて焼成工程を減らすことができ、
チップ型電子部品の製造工程を簡略にすることができ
る。
【0017】また、請求項5の実施態様は、請求項1、
2又は3に記載のチップ型電子部品において、焼成され
た前記バリスタと焼成された前記コンデンサが接着によ
って一体化されたものである。
2又は3に記載のチップ型電子部品において、焼成され
た前記バリスタと焼成された前記コンデンサが接着によ
って一体化されたものである。
【0018】この実施態様では、焼成されたバリスタと
焼成されたコンデンサを接着して一体化しているので、
バリスタとコンデンサを同時焼成する場合のようにチッ
プ型電子部品が焼成によって反ったり、歪を生じたりす
る恐れがない。
焼成されたコンデンサを接着して一体化しているので、
バリスタとコンデンサを同時焼成する場合のようにチッ
プ型電子部品が焼成によって反ったり、歪を生じたりす
る恐れがない。
【0019】
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)図1は本発明
の一実施形態によるサージ対策用のチップ型電子部品の
構造を示す断面図である。このチップ型電子部品は、ガ
ラス被膜4で覆われたコンデンサ1の上に、ガラス被膜
8で覆われたSiCバリスタ5を積み重ね、接着により
一体化させることで素子本体9を形成し、素子本体9の
両端面に外部電極10を形成したものである。
の一実施形態によるサージ対策用のチップ型電子部品の
構造を示す断面図である。このチップ型電子部品は、ガ
ラス被膜4で覆われたコンデンサ1の上に、ガラス被膜
8で覆われたSiCバリスタ5を積み重ね、接着により
一体化させることで素子本体9を形成し、素子本体9の
両端面に外部電極10を形成したものである。
【0020】SiCバリスタ5は、比誘電率の小さなS
iC(比誘電率:10〜30)を主成分とするバリスタ
焼結体6の上面及び下面に対向電極7を形成したもので
あって、その両端面を除く領域がガラス被膜8により覆
われている。バリスタ焼結体6は、SiC粉末にガラス
材料を添加した原料に有機バインダを加えて角板状に成
形した後、焼成することにより形成されている。対向電
極7は、印刷及び焼き付け、蒸着、スパッタリング等の
方法によってバリスタ焼結体6の上下両面に形成されて
いる。詳しくは、図2に示すように、一方の対向電極7
は、バリスタ焼結体6の一方の端面に届かない位置から
他方の端面まで形成されてSiCバリスタ5の他方端面
に露出しており、他方の対向電極7は、バリスタ焼結体
6の他方の端面に届かない位置から一方の端面まで形成
されてSiCバリスタ5の一方端面に露出している。対
向電極7の電極材料も、Ag、Ag/Pd、Pt等の導
電率の良好な金属材料であればよく、特に限定されるも
のではない。
iC(比誘電率:10〜30)を主成分とするバリスタ
焼結体6の上面及び下面に対向電極7を形成したもので
あって、その両端面を除く領域がガラス被膜8により覆
われている。バリスタ焼結体6は、SiC粉末にガラス
材料を添加した原料に有機バインダを加えて角板状に成
形した後、焼成することにより形成されている。対向電
極7は、印刷及び焼き付け、蒸着、スパッタリング等の
方法によってバリスタ焼結体6の上下両面に形成されて
いる。詳しくは、図2に示すように、一方の対向電極7
は、バリスタ焼結体6の一方の端面に届かない位置から
他方の端面まで形成されてSiCバリスタ5の他方端面
に露出しており、他方の対向電極7は、バリスタ焼結体
6の他方の端面に届かない位置から一方の端面まで形成
されてSiCバリスタ5の一方端面に露出している。対
向電極7の電極材料も、Ag、Ag/Pd、Pt等の導
電率の良好な金属材料であればよく、特に限定されるも
のではない。
【0021】ここで、SiCバリスタ5のバリスタ電圧
は、バリスタ焼結体6の上下面間の厚みによって任意に
設定することができる。また、SiCバリスタ5の静電
容量は、対向電極7間の重なり面積によって任意に調整
することができる。
は、バリスタ焼結体6の上下面間の厚みによって任意に
設定することができる。また、SiCバリスタ5の静電
容量は、対向電極7間の重なり面積によって任意に調整
することができる。
【0022】コンデンサ1は、コンデンサ焼結体2の上
面及び下面に対向電極3を形成したものであって、その
両端面を除く領域がガラス被膜4により覆われている。
コンデンサ焼結体2は、例えばBaTiO3のような磁
器材料等の公知のコンデンサ材料に有機バインダを加え
て角板状に成形した後、焼成することによって形成され
ている。対向電極3は、印刷及び焼き付け、蒸着、スパ
ッタリング等の方法によってコンデンサ焼結体2の上下
両面に形成されている。詳しくは、図3に示すように、
一方の対向電極3は、コンデンサ焼結体2の一方の端面
に届かない位置から他方の端面まで形成されてコンデン
サ1の他方端面に露出しており、他方の対向電極3は、
コンデンサ焼結体2の他方の端面に届かない位置から一
方の端面まで形成されてコンデンサ1の一方端面に露出
している。対向電極3の電極材料は、Ag、Ag/P
d、Pt等の導電率の良好な金属材料であればよく、特
に限定されるものではない。また、コンデンサ1の静電
容量は、コンデンサ焼結体2の上下面間の厚み(素子厚
み)、対向電極3どうしの重なり面積、コンデンサ焼結
体2に用いるコンデンサ材料及びその組成によって調整
することができる。
面及び下面に対向電極3を形成したものであって、その
両端面を除く領域がガラス被膜4により覆われている。
コンデンサ焼結体2は、例えばBaTiO3のような磁
器材料等の公知のコンデンサ材料に有機バインダを加え
て角板状に成形した後、焼成することによって形成され
ている。対向電極3は、印刷及び焼き付け、蒸着、スパ
ッタリング等の方法によってコンデンサ焼結体2の上下
両面に形成されている。詳しくは、図3に示すように、
一方の対向電極3は、コンデンサ焼結体2の一方の端面
に届かない位置から他方の端面まで形成されてコンデン
サ1の他方端面に露出しており、他方の対向電極3は、
コンデンサ焼結体2の他方の端面に届かない位置から一
方の端面まで形成されてコンデンサ1の一方端面に露出
している。対向電極3の電極材料は、Ag、Ag/P
d、Pt等の導電率の良好な金属材料であればよく、特
に限定されるものではない。また、コンデンサ1の静電
容量は、コンデンサ焼結体2の上下面間の厚み(素子厚
み)、対向電極3どうしの重なり面積、コンデンサ焼結
体2に用いるコンデンサ材料及びその組成によって調整
することができる。
【0023】ガラス被膜4で覆われたコンデンサ1とガ
ラス被膜8で覆われたSiCバリスタ5を接着剤により
張り合わせ、積層一体化することによって素子本体9が
形成されている。素子本体9の両端面にはそれぞれ金属
キャップからなる外部電極10を取り付け、高温はんだ
で外部電極10を素子本体9に固定する。このとき同時
に、外部電極10と各対向電極3、7が電気的に接続さ
れ、外部電極10を通じてコンデンサ1とSiCバリス
タ5が並列接続される。
ラス被膜8で覆われたSiCバリスタ5を接着剤により
張り合わせ、積層一体化することによって素子本体9が
形成されている。素子本体9の両端面にはそれぞれ金属
キャップからなる外部電極10を取り付け、高温はんだ
で外部電極10を素子本体9に固定する。このとき同時
に、外部電極10と各対向電極3、7が電気的に接続さ
れ、外部電極10を通じてコンデンサ1とSiCバリス
タ5が並列接続される。
【0024】なお、コンデンサ1とSiCバリスタ5と
を貼り合わせる接着剤としてはガラス被膜4、8と同様
のガラスを用いてもよいし、ガラス被膜4、8を再溶融
して接着することもできる。また、上記第1の実施形態
では、コンデンサ1およびSiCバリスタ5のそれぞれ
の両面をガラス被膜4、8で覆ったものを貼り合わせた
例を示したが、これに代えて、コンデンサ1およびSi
Cバリスタ5のそれぞれの片面をガラス被膜4、8で覆
った後、ガラス被覆されていない面同士をガラスで接着
することもできる。
を貼り合わせる接着剤としてはガラス被膜4、8と同様
のガラスを用いてもよいし、ガラス被膜4、8を再溶融
して接着することもできる。また、上記第1の実施形態
では、コンデンサ1およびSiCバリスタ5のそれぞれ
の両面をガラス被膜4、8で覆ったものを貼り合わせた
例を示したが、これに代えて、コンデンサ1およびSi
Cバリスタ5のそれぞれの片面をガラス被膜4、8で覆
った後、ガラス被覆されていない面同士をガラスで接着
することもできる。
【0025】本発明のチップ型電子部品で用いているS
iCバリスタ5は、ZnOバリスタに比べて応答速度が
速いので、SiCバリスタ5と並列接続するコンデンサ
1の静電容量を小さくしても高速ノイズに対して応答遅
れがないサージ対策部品を得ることができる。さらに、
比誘電率の小さなSiCを主成分とするSiCバリスタ
5を用いているので、バリスタ部分の静電容量も小さく
することができる。従って、SiCバリスタ5とコンデ
ンサ1のトータルの静電容量(合成静電容量)を小さく
することができ、このチップ型電子部品を高速信号ライ
ンにも対応できるサージ対策部品として使用できるよう
になる。
iCバリスタ5は、ZnOバリスタに比べて応答速度が
速いので、SiCバリスタ5と並列接続するコンデンサ
1の静電容量を小さくしても高速ノイズに対して応答遅
れがないサージ対策部品を得ることができる。さらに、
比誘電率の小さなSiCを主成分とするSiCバリスタ
5を用いているので、バリスタ部分の静電容量も小さく
することができる。従って、SiCバリスタ5とコンデ
ンサ1のトータルの静電容量(合成静電容量)を小さく
することができ、このチップ型電子部品を高速信号ライ
ンにも対応できるサージ対策部品として使用できるよう
になる。
【0026】特に、SiCバリスタ5とコンデンサ1の
トータル静電容量が100pF以下となるようにすれ
ば、優れたサージ対策用部品を得ることができる。従来
より用いられているZnOバリスタを用いたチップ型電
子部品では、トータル静電容量は100pFよりも大き
く、100pF以下にすることはできなかったが、Si
Cバリスタを用いたチップ型電子部品ではトータル静電
容量を100pF以下にすることができ、高速信号ライ
ンに適したサージ対策用部品として用いることができる
ようになる。
トータル静電容量が100pF以下となるようにすれ
ば、優れたサージ対策用部品を得ることができる。従来
より用いられているZnOバリスタを用いたチップ型電
子部品では、トータル静電容量は100pFよりも大き
く、100pF以下にすることはできなかったが、Si
Cバリスタを用いたチップ型電子部品ではトータル静電
容量を100pF以下にすることができ、高速信号ライ
ンに適したサージ対策用部品として用いることができる
ようになる。
【0027】また、このチップ型電子部品にあっては、
コンデンサ1及びSiCバリスタ5の外部電極10から
露出している領域をガラス被膜4,8で覆っているの
で、コンデンサ1及びSiCバリスタ5を薬品や腐食性
ガス等から保護することができる。
コンデンサ1及びSiCバリスタ5の外部電極10から
露出している領域をガラス被膜4,8で覆っているの
で、コンデンサ1及びSiCバリスタ5を薬品や腐食性
ガス等から保護することができる。
【0028】さらに、このチップ型電子部品では、コン
デンサ1とSiCバリスタ5を接着剤によって接着して
いるので、コンデンサ1とSiCバリスタ5を積層して
同時焼成する場合のように素子本体9に焼成時の反りや
歪が発生する恐れがない。また、所定の特性を有するコ
ンデンサ1とSiCバリスタ5を選別した後に接着剤で
張合わせて一体化することができる。その結果、不良品
率を低下させることができる。
デンサ1とSiCバリスタ5を接着剤によって接着して
いるので、コンデンサ1とSiCバリスタ5を積層して
同時焼成する場合のように素子本体9に焼成時の反りや
歪が発生する恐れがない。また、所定の特性を有するコ
ンデンサ1とSiCバリスタ5を選別した後に接着剤で
張合わせて一体化することができる。その結果、不良品
率を低下させることができる。
【0029】(第2の実施形態)図4は本発明の別な実
施形態によるチップ型電子部品の構造を示す断面図であ
る。このチップ型電子部品は、SiCバリスタ用シート
17とコンデンサ用シート13を圧着させた積層体を焼
成することにより、SiCバリスタ15とコンデンサ1
1を積層一体化したものである。以下、このチップ型電
子部品の構造を図5〜図7に従って製造方法とともに説
明する。
施形態によるチップ型電子部品の構造を示す断面図であ
る。このチップ型電子部品は、SiCバリスタ用シート
17とコンデンサ用シート13を圧着させた積層体を焼
成することにより、SiCバリスタ15とコンデンサ1
1を積層一体化したものである。以下、このチップ型電
子部品の構造を図5〜図7に従って製造方法とともに説
明する。
【0030】まず、SiC粉末にガラスを添加した原料
に有機バインダを加え、よく混練してスラリーにした
後、ドクターブレード法により数μm〜数100μmの
厚さのグリーンシートを得る。同様に、例えばBaTi
O3のような磁器材料等のコンデンサ材料に有機バイン
ダを加え、よく混練してスラリーにした後、ドクターブ
レード法で数μm〜数100μmの厚さのグリーンシー
トを得る。ついで、各グリーンシートを所定の大きさに
切断し、SiCバリスタ用シート17及びコンデンサ用
シート13を得る。SiCバリスタ用シート17の上面
には、図5に示すようなパターンで導電ペーストを印刷
して内部電極18を形成する。また、コンデンサ用シー
ト13の上面にも、図6に示すようなパターンで導電ペ
ーストを印刷して内部電極14を形成する。内部電極用
の導電ペースト材料には、Ag、Pd、Ag/Pd、P
t、Ni等を用いる。
に有機バインダを加え、よく混練してスラリーにした
後、ドクターブレード法により数μm〜数100μmの
厚さのグリーンシートを得る。同様に、例えばBaTi
O3のような磁器材料等のコンデンサ材料に有機バイン
ダを加え、よく混練してスラリーにした後、ドクターブ
レード法で数μm〜数100μmの厚さのグリーンシー
トを得る。ついで、各グリーンシートを所定の大きさに
切断し、SiCバリスタ用シート17及びコンデンサ用
シート13を得る。SiCバリスタ用シート17の上面
には、図5に示すようなパターンで導電ペーストを印刷
して内部電極18を形成する。また、コンデンサ用シー
ト13の上面にも、図6に示すようなパターンで導電ペ
ーストを印刷して内部電極14を形成する。内部電極用
の導電ペースト材料には、Ag、Pd、Ag/Pd、P
t、Ni等を用いる。
【0031】この後、図7に示すように、内部電極14
が形成されていないコンデンサ用シート13の上に内部
電極14が形成された所定枚数のコンデンサ用シート1
3を積層し、その上に内部電極14が形成されていない
コンデンサ用シート13を積層してコンデンサ11を構
成する。ここで、内部電極14を有するコンデンサ用シ
ート13は、内部電極14の方向が交互に逆向きとなる
ように重ね、各層の内部電極14をコンデンサ11の両
端面に交互に露出させる。
が形成されていないコンデンサ用シート13の上に内部
電極14が形成された所定枚数のコンデンサ用シート1
3を積層し、その上に内部電極14が形成されていない
コンデンサ用シート13を積層してコンデンサ11を構
成する。ここで、内部電極14を有するコンデンサ用シ
ート13は、内部電極14の方向が交互に逆向きとなる
ように重ね、各層の内部電極14をコンデンサ11の両
端面に交互に露出させる。
【0032】さらに、このコンデンサ11の上に、内部
電極18が形成されていないSiCバリスタ用シート1
7の上に内部電極18が形成された所定枚数のSiCバ
リスタ用シート17を積層し、その上に内部電極18が
形成されていないSiCバリスタ用シート17を積層し
てコンデンサ11の上にSiCバリスタ15を構成す
る。ここで、内部電極18を有するSiCバリスタ用シ
ート17は、内部電極18の方向が交互に逆向きとなる
ように重ね、各層の内部電極18をSiCバリスタ15
の両端面に交互に露出させる。
電極18が形成されていないSiCバリスタ用シート1
7の上に内部電極18が形成された所定枚数のSiCバ
リスタ用シート17を積層し、その上に内部電極18が
形成されていないSiCバリスタ用シート17を積層し
てコンデンサ11の上にSiCバリスタ15を構成す
る。ここで、内部電極18を有するSiCバリスタ用シ
ート17は、内部電極18の方向が交互に逆向きとなる
ように重ね、各層の内部電極18をSiCバリスタ15
の両端面に交互に露出させる。
【0033】ついで、コンデンサ用シート13とSiC
バリスタ用シート17を圧着させた積層体を所定の温度
で焼成し、素子本体19の焼結体を得る。そして、内部
電極14、18が露出した素子本体19の両端面に導電
ペーストを塗布し、これを焼成して外部電極20を形成
する。外部電極用の導電ペースト材料には、Ag、P
d、Ag/Pd、Ag/Pt等を用い、必要に応じてN
i、Sn等でメッキ処理を行う。
バリスタ用シート17を圧着させた積層体を所定の温度
で焼成し、素子本体19の焼結体を得る。そして、内部
電極14、18が露出した素子本体19の両端面に導電
ペーストを塗布し、これを焼成して外部電極20を形成
する。外部電極用の導電ペースト材料には、Ag、P
d、Ag/Pd、Ag/Pt等を用い、必要に応じてN
i、Sn等でメッキ処理を行う。
【0034】なお、シートを積層する順序に関しては、
図7のように、コンデンサ用シート13を積層し、その
上にSiCバリスタ用シート17を積層するようにして
もよいが、SiCバリスタ用シート17を積層し、その
上にコンデンサ用シート13を積層するという順序であ
ってもよい。
図7のように、コンデンサ用シート13を積層し、その
上にSiCバリスタ用シート17を積層するようにして
もよいが、SiCバリスタ用シート17を積層し、その
上にコンデンサ用シート13を積層するという順序であ
ってもよい。
【0035】また、この実施形態では、SiCバリスタ
15とコンデンサ11を積層してから焼成しているの
で、素子本体19の焼成体を得るために1回の焼成工程
で済み、製造工程が簡略化される。しかし、SiCバリ
スタ用シート17の材料の熱収縮率と、コンデンサ用シ
ート13の材料の熱収縮率の差が大きいと、焼成工程に
おいて素子本体19に歪や反りが生ずる恐れがあるか
ら、コンデンサ用シート13の材料の熱膨張率とSiC
バリスタ用シート17の材料の熱収縮率はほぼ等しいこ
とが望ましい。
15とコンデンサ11を積層してから焼成しているの
で、素子本体19の焼成体を得るために1回の焼成工程
で済み、製造工程が簡略化される。しかし、SiCバリ
スタ用シート17の材料の熱収縮率と、コンデンサ用シ
ート13の材料の熱収縮率の差が大きいと、焼成工程に
おいて素子本体19に歪や反りが生ずる恐れがあるか
ら、コンデンサ用シート13の材料の熱膨張率とSiC
バリスタ用シート17の材料の熱収縮率はほぼ等しいこ
とが望ましい。
【0036】さらに、SiCバリスタ15とコンデンサ
11の界面には、SiCバリスタ15とコンデンサ11
の中間の熱収縮率を有する絶縁材料、例えばSiCバリ
スタ用材料とコンデンサ用材料を混合した材料にて中間
層(図示せず)を形成し、歪を緩和させるようにしても
よい。
11の界面には、SiCバリスタ15とコンデンサ11
の中間の熱収縮率を有する絶縁材料、例えばSiCバリ
スタ用材料とコンデンサ用材料を混合した材料にて中間
層(図示せず)を形成し、歪を緩和させるようにしても
よい。
【0037】また、SiCバリスタ15の上下にコンデ
ンサ11を積層して(あるいは、その逆にコンデンサ1
1の上下にSiCバリスタ15を積層して)サンドイッ
チ構造としてもよい。上下で対称なサンドイッチ構造と
すれば、素子本体19の焼成時に反りが発生しにくくな
る。
ンサ11を積層して(あるいは、その逆にコンデンサ1
1の上下にSiCバリスタ15を積層して)サンドイッ
チ構造としてもよい。上下で対称なサンドイッチ構造と
すれば、素子本体19の焼成時に反りが発生しにくくな
る。
【0038】このチップ型電子部品でも、比誘電率の小
さなSiCを主成分とし、応答速度の速いSiCバリス
タ15を用いているので、バリスタ部分の静電容量を小
さくでき、SiCバリスタ15と並列に接続するコンデ
ンサ11の静電容量も小さくできる。従って、SiCバ
リスタ15とコンデンサ11のトータルの静電容量を小
さくすることができ、高速信号ラインにも対応できるサ
ージ対策部品として使用できる。
さなSiCを主成分とし、応答速度の速いSiCバリス
タ15を用いているので、バリスタ部分の静電容量を小
さくでき、SiCバリスタ15と並列に接続するコンデ
ンサ11の静電容量も小さくできる。従って、SiCバ
リスタ15とコンデンサ11のトータルの静電容量を小
さくすることができ、高速信号ラインにも対応できるサ
ージ対策部品として使用できる。
【0039】特に、SiCバリスタ15とコンデンサ1
1のトータル静電容量が100pF以下となるようにす
れば、優れたサージ対策用部品を得ることができる。従
来より用いられているZnOバリスタを用いたチップ型
電子部品では、トータル静電容量は100pFよりも大
きく、100pF以下にすることはできなかったが、S
iCバリスタを用いたチップ型電子部品ではトータル静
電容量を100pF以下にすることができ、高速信号ラ
インに適したサージ対策用部品として用いることができ
るようになる。
1のトータル静電容量が100pF以下となるようにす
れば、優れたサージ対策用部品を得ることができる。従
来より用いられているZnOバリスタを用いたチップ型
電子部品では、トータル静電容量は100pFよりも大
きく、100pF以下にすることはできなかったが、S
iCバリスタを用いたチップ型電子部品ではトータル静
電容量を100pF以下にすることができ、高速信号ラ
インに適したサージ対策用部品として用いることができ
るようになる。
【図1】本発明の一実施形態によるチップ型電子部品の
構造を示す断面図である。
構造を示す断面図である。
【図2】図1のチップ型電子部品に用いられているSi
Cバリスタの構造を示す斜視図である。
Cバリスタの構造を示す斜視図である。
【図3】図1のチップ型電子部品に用いられているコン
デンサの構造を示す斜視図である。
デンサの構造を示す斜視図である。
【図4】本発明の別な実施形態によるチップ型電子部品
の構造を示す断面図である。
の構造を示す断面図である。
【図5】図4のチップ型電子部品に用いられている、内
部電極が形成されたSiCバリスタ用シートを示す斜視
図である。
部電極が形成されたSiCバリスタ用シートを示す斜視
図である。
【図6】図4のチップ型電子部品に用いられている、内
部電極が形成されたコンデンサ用シートを示す斜視図で
ある。
部電極が形成されたコンデンサ用シートを示す斜視図で
ある。
【図7】図4のSiCバリスタ用シート及びコンデンサ
用シートの積層順序を示す斜視図である。
用シートの積層順序を示す斜視図である。
【図8】従来のチップ型電子部品の構造を示す断面図で
ある。
ある。
【図9】図8のチップ型電子部品の等価回路図である。
1 コンデンサ 2 コンデンサ焼結体 3、7 対向電極 5 SiCバリスタ 6 バリスタ焼結体 10 外部電極 11 コンデンサ 13 コンデンサ用シート 14、18 内部電極 17 SiCバリスタ用シート 20 外部電極
フロントページの続き (72)発明者 鹿間 隆 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AE02 AE03 AF03 AF06 AH01 AH03 AJ03 5E034 CA07 CB01 CC14 DA02 DA07 DC01 DD04 DE07 5E082 AA01 AB03 BB10 BC10 DD04 EE04 EE05 EE11 EE23 EE35 EE37 FF05 FG06 FG26 FG46 GG10 HH43 PP01
Claims (5)
- 【請求項1】 バリスタとコンデンサを並列接続し一体
化したチップ型電子部品において、 前記バリスタを構成するバリスタ材料が、SiCを主成
分とする低誘電率材料からなることを特徴とするチップ
型電子部品。 - 【請求項2】 前記バリスタ材料の比誘電率が、10以
上30以下であることを特徴とする、請求項1に記載の
チップ型電子部品。 - 【請求項3】 前記バリスタと前記コンデンサの合成容
量が100pF以下であることを特徴とする、請求項1
または請求項2に記載のチップ型電子部品。 - 【請求項4】 前記バリスタと前記コンデンサとが、同
時焼成によって積層一体化されていることを特徴とす
る、請求項1、2又は3に記載のチップ型電子部品。 - 【請求項5】 焼成された前記バリスタと焼成された前
記コンデンサが接着によって一体化されていることを特
徴とする、請求項1、2又は3に記載のチップ型電子部
品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11031921A JP2000232006A (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | チップ型電子部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11031921A JP2000232006A (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | チップ型電子部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000232006A true JP2000232006A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=12344449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11031921A Pending JP2000232006A (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | チップ型電子部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000232006A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110520951A (zh) * | 2017-03-29 | 2019-11-29 | 阿莫技术有限公司 | 触电保护元件、其制造方法及具备其的便携式电子装置 |
-
1999
- 1999-02-09 JP JP11031921A patent/JP2000232006A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110520951A (zh) * | 2017-03-29 | 2019-11-29 | 阿莫技术有限公司 | 触电保护元件、其制造方法及具备其的便携式电子装置 |
JP2020512695A (ja) * | 2017-03-29 | 2020-04-23 | アモテック シーオー,エルティーディー | 感電保護素子、その製造方法及びこれを具備した携帯用電子装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8238069B2 (en) | ESD protection device | |
KR101124091B1 (ko) | 적층 세라믹 커패시터 | |
KR101462798B1 (ko) | 외부 전극용 도전성 페이스트 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 전자 부품 | |
JP5196330B2 (ja) | 静電気対策素子及びその複合電子部品 | |
JP5339051B2 (ja) | 静電気対策素子及びその複合電子部品 | |
JP7296744B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ及びその製造方法 | |
US11170937B2 (en) | Multilayer ceramic electronic component | |
JP5403370B2 (ja) | Esd保護装置 | |
KR20140090466A (ko) | 도전성 수지 조성물, 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터 및 그 제조방법 | |
KR100709914B1 (ko) | 적층형 칩 배리스터 | |
JP2003022929A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
KR100271910B1 (ko) | 적층 세라믹 전자부품 | |
JPH1154365A (ja) | 積層セラミック電子部品 | |
US12249461B2 (en) | Multilayer electronic component | |
JP2000232006A (ja) | チップ型電子部品 | |
US20230170145A1 (en) | Ceramic electronic component | |
JP5240286B2 (ja) | チップサーミスタ及びチップサーミスタの製造方法 | |
JP2003264118A (ja) | 積層セラミック電子部品 | |
JP3064676B2 (ja) | 積層セラミック磁器素子 | |
JPH08306576A (ja) | 電子部品とその製造方法 | |
JP4978883B2 (ja) | セラミックバリスタ及び半導体内蔵モジュール並びにそれらの製造方法 | |
JP2643193B2 (ja) | 3端子型複合機能素子 | |
EP0610516B1 (en) | Method of producing ceramic component | |
US12255022B2 (en) | Multilayer electronic component having insulating layer which includes fluorine-based organic material | |
JPH06120073A (ja) | チップ型積層セラミックコンデンサ |