JP2000215984A - 有機電界発光素子 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/14—Carrier transporting layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い発光輝度で、長時間安定して連続発光可
能な有機電界発光素子を提供する。 【解決手段】 陽極6、正孔輸送層5、発光層4、電子
輸送層3、及び陰極2から構成される。電子輸送層3と
して、n型の無機化合物半導体を含むものを用いる。陰
極2から発光層4への電子注入効率を向上させることが
でき、有機電界発光素子1の高輝度化を達成すると共
に、高輝度発光時の長時間駆動性を向上することができ
る。
能な有機電界発光素子を提供する。 【解決手段】 陽極6、正孔輸送層5、発光層4、電子
輸送層3、及び陰極2から構成される。電子輸送層3と
して、n型の無機化合物半導体を含むものを用いる。陰
極2から発光層4への電子注入効率を向上させることが
でき、有機電界発光素子1の高輝度化を達成すると共
に、高輝度発光時の長時間駆動性を向上することができ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、種々の表示装置
や、表示装置の光源、バックライト、あるいは光通信機
器に使用される発光素子等に用いられる有機電界発光素
子に関するものある。
や、表示装置の光源、バックライト、あるいは光通信機
器に使用される発光素子等に用いられる有機電界発光素
子に関するものある。
【0002】
【従来の技術】電界発光素子とは、エレクトロルミネッ
センス素子又はEL素子とも呼ばれる固定蛍光体物質の
電界発光を利用した発光デバイスであり、現在無機系材
料を発光体として用いた無機電界発光素子が実用化さ
れ、液晶ディスプレイのバックライトや、フラットパネ
ルディスプレイ等への応用展開が一部で図られている。
しかし無機電界発光素子は発光させるための電圧が10
0V以上と高く、しかも青色発光が難しいため、RGB
三原色によるフルカラー化が困難であった。
センス素子又はEL素子とも呼ばれる固定蛍光体物質の
電界発光を利用した発光デバイスであり、現在無機系材
料を発光体として用いた無機電界発光素子が実用化さ
れ、液晶ディスプレイのバックライトや、フラットパネ
ルディスプレイ等への応用展開が一部で図られている。
しかし無機電界発光素子は発光させるための電圧が10
0V以上と高く、しかも青色発光が難しいため、RGB
三原色によるフルカラー化が困難であった。
【0003】一方、有機材料を発光体として用いた有機
電界発光素子に関する研究も古くから注目され、様々な
検討が行われてきたが、発光効率が非常に悪いことから
本格的な実用研究には至らなかった。
電界発光素子に関する研究も古くから注目され、様々な
検討が行われてきたが、発光効率が非常に悪いことから
本格的な実用研究には至らなかった。
【0004】しかし、1987年に、コダック社のC.
W.Tangらにより、有機材料を正孔輸送層と発光層
の2層に分けた機能分離型の積層構造を有する有機電界
発光が提案され、10V以下の低電圧にもかかわらず1
000cd/m2以上の高い発光輝度が得られることが
明らかになった。そしてこれ以降、有機電界発光素子が
注目されはじめ、活発な研究が行われるようになった。
W.Tangらにより、有機材料を正孔輸送層と発光層
の2層に分けた機能分離型の積層構造を有する有機電界
発光が提案され、10V以下の低電圧にもかかわらず1
000cd/m2以上の高い発光輝度が得られることが
明らかになった。そしてこれ以降、有機電界発光素子が
注目されはじめ、活発な研究が行われるようになった。
【0005】このような研究開発がなされた結果、有機
電界発光素子は、10V程度の低電圧で、100〜10
0000cd/m2程度の高輝度の面発光が可能とな
り、また蛍光物質の種類を選択することにより、青色か
ら赤色までの発光が可能となった。
電界発光素子は、10V程度の低電圧で、100〜10
0000cd/m2程度の高輝度の面発光が可能とな
り、また蛍光物質の種類を選択することにより、青色か
ら赤色までの発光が可能となった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のように
して開発された従来の有機電界発光素子には、高輝度発
光時の発光寿命が短く、保存耐久性、信頼性が低いとい
う問題があった。その理由としては、有機電界発光素子
の開発において、正孔輸送層に適用できる正孔輸送材料
としては陽極から発光層への正孔注入効率が優れたもの
が開発されたが、陰極から発光層への電子注入効率を向
上させるために電子輸送層を配置しようとしても、有機
化合物には電子輸送性に優れた材料が少なく、陰極から
発光層への電子注入効率が低かったものであり、このこ
とが高輝度化及び低電圧駆動化の妨げとなり、寿命特性
の悪化にもつながったことが挙げられる。
して開発された従来の有機電界発光素子には、高輝度発
光時の発光寿命が短く、保存耐久性、信頼性が低いとい
う問題があった。その理由としては、有機電界発光素子
の開発において、正孔輸送層に適用できる正孔輸送材料
としては陽極から発光層への正孔注入効率が優れたもの
が開発されたが、陰極から発光層への電子注入効率を向
上させるために電子輸送層を配置しようとしても、有機
化合物には電子輸送性に優れた材料が少なく、陰極から
発光層への電子注入効率が低かったものであり、このこ
とが高輝度化及び低電圧駆動化の妨げとなり、寿命特性
の悪化にもつながったことが挙げられる。
【0007】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、高い発光輝度で、長時間安定して連続発光可能な
有機電界発光素子を提供することを目的とするものであ
る。
あり、高い発光輝度で、長時間安定して連続発光可能な
有機電界発光素子を提供することを目的とするものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
有機電界発光素子1は、陽極6、正孔輸送層5、発光層
4、電子輸送層3、及び陰極2から構成され、電子輸送
層3として、n型の無機化合物半導体を含むものを用い
て成ることを特徴とするものである。
有機電界発光素子1は、陽極6、正孔輸送層5、発光層
4、電子輸送層3、及び陰極2から構成され、電子輸送
層3として、n型の無機化合物半導体を含むものを用い
て成ることを特徴とするものである。
【0009】また本発明の請求項2に係る有機電界発光
素子1は、請求項1の構成に加えて、n型の無機化合物
半導体として、硫化カドミウム、硫化亜鉛、又は酸化亜
鉛のうちの少なくとも一つのものを用いて成ることを特
徴とするものである。
素子1は、請求項1の構成に加えて、n型の無機化合物
半導体として、硫化カドミウム、硫化亜鉛、又は酸化亜
鉛のうちの少なくとも一つのものを用いて成ることを特
徴とするものである。
【0010】また本発明の請求項3に係る有機電界発光
素子1は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
3を、n型の無機化合物半導体のみで構成して成ること
を特徴とするものである。
素子1は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
3を、n型の無機化合物半導体のみで構成して成ること
を特徴とするものである。
【0011】また本発明の請求項4に係る有機電界発光
素子1は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
3を、n型の無機化合物半導体及び他の電子輸送材料か
らなる積層構造又は混合層として構成して成ることを特
徴とするものである。
素子1は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
3を、n型の無機化合物半導体及び他の電子輸送材料か
らなる積層構造又は混合層として構成して成ることを特
徴とするものである。
【0012】また本発明の請求項5に係る有機電界発光
素子1は、請求項1乃至4のいずれかの構成に加えて、
電子輸送層3中のn型無機化合物半導体の含有量を、膜
厚換算で0.5〜500nmとして成ることを特徴とす
るものである。
素子1は、請求項1乃至4のいずれかの構成に加えて、
電子輸送層3中のn型無機化合物半導体の含有量を、膜
厚換算で0.5〜500nmとして成ることを特徴とす
るものである。
【0013】また本発明の請求項6に係る有機電界発光
素子1は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
3を、n型の無機化合物半導体を高分子化合物中に分散
させた分散層として形成して成ることを特徴とするもの
である。
素子1は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
3を、n型の無機化合物半導体を高分子化合物中に分散
させた分散層として形成して成ることを特徴とするもの
である。
【0014】また本発明の請求項7に係る有機電界発光
素子1は、請求項6の構成に加えて、電子輸送層3中の
n型の無機化合物半導体の含有量を、15〜70重量%
として成ることを特徴とするものである。
素子1は、請求項6の構成に加えて、電子輸送層3中の
n型の無機化合物半導体の含有量を、15〜70重量%
として成ることを特徴とするものである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
する。
【0016】本発明に係る有機電界発光素子1は、図1
に示すように、陽極6、正孔輸送層5、発光層4、電子
輸送層3、陰極2が順に積層したものとして構成される
ものであり、陽極6に正電圧を、陰極2に負電圧を印加
すると、電子輸送層3を介して発光層4に注入された電
子と、正孔輸送層5を介して発光層4に注入された正孔
とが、発光層4内にて再結合して発光が起こるものであ
る。
に示すように、陽極6、正孔輸送層5、発光層4、電子
輸送層3、陰極2が順に積層したものとして構成される
ものであり、陽極6に正電圧を、陰極2に負電圧を印加
すると、電子輸送層3を介して発光層4に注入された電
子と、正孔輸送層5を介して発光層4に注入された正孔
とが、発光層4内にて再結合して発光が起こるものであ
る。
【0017】素子中に正孔を注入するための電極である
陽極6としては、仕事関数が大きい金属、合金、電気伝
導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料
を用いることが好ましい。ここでこれらの電極材料とし
ては、仕事関数が4eV以上のものを用いることが好ま
しい。このような電極材料としては、具体的には例え
ば、金等の金属、CuI,インジウムチンオキサイド
(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙
げられる。この陽極6は、例えばこれらの電極材料を、
ガラス基板7上に真空蒸着法やスパッタリング法等の方
法により、薄膜に形成することにより作製することがで
きる。
陽極6としては、仕事関数が大きい金属、合金、電気伝
導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料
を用いることが好ましい。ここでこれらの電極材料とし
ては、仕事関数が4eV以上のものを用いることが好ま
しい。このような電極材料としては、具体的には例え
ば、金等の金属、CuI,インジウムチンオキサイド
(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙
げられる。この陽極6は、例えばこれらの電極材料を、
ガラス基板7上に真空蒸着法やスパッタリング法等の方
法により、薄膜に形成することにより作製することがで
きる。
【0018】また、発光層4における発光を、陽極6を
透過させて外部に照射する場合には、陽極6の光透過率
を10%以上とすることが好ましい。また陽極6のシー
ト抵抗は、数百Ω/□以下とすることが好ましく、特に
好ましくは100Ω/□以下とするものである。このシ
ート抵抗は、低ければ低い程好ましいものであるが、現
状における実際上の下限は10Ω/□である。
透過させて外部に照射する場合には、陽極6の光透過率
を10%以上とすることが好ましい。また陽極6のシー
ト抵抗は、数百Ω/□以下とすることが好ましく、特に
好ましくは100Ω/□以下とするものである。このシ
ート抵抗は、低ければ低い程好ましいものであるが、現
状における実際上の下限は10Ω/□である。
【0019】ここで陽極6の膜厚は、陽極6の光透過
率、シート抵抗等の特性を上記のように制御するため
に、材料により異なるものであるが、通常は500μm
以下、好ましくは10〜200μmの範囲とするもので
ある。
率、シート抵抗等の特性を上記のように制御するため
に、材料により異なるものであるが、通常は500μm
以下、好ましくは10〜200μmの範囲とするもので
ある。
【0020】一方、素子中に電子を注入するための電極
である陰極2は、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝
導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料
を用いることが好ましい。ここでこれらの電極材料とし
ては、仕事関数が5eV以下のものを用いることが好ま
しい。このような電極材料としては、具体的には例え
ば、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウ
ム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混
合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム
−リチウム合金、Al/Al2O3混合物、Al/LiF
混合物等が挙げられる。この陰極2は、例えばこれらの
電極材料を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法に
より、薄膜に形成することにより作製することができ
る。
である陰極2は、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝
導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料
を用いることが好ましい。ここでこれらの電極材料とし
ては、仕事関数が5eV以下のものを用いることが好ま
しい。このような電極材料としては、具体的には例え
ば、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウ
ム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混
合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム
−リチウム合金、Al/Al2O3混合物、Al/LiF
混合物等が挙げられる。この陰極2は、例えばこれらの
電極材料を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法に
より、薄膜に形成することにより作製することができ
る。
【0021】また、発光層4における発光を、陰極2を
透過させて外部に照射する場合には、陰極2の光透過率
を10%以上とすることが好ましい。
透過させて外部に照射する場合には、陰極2の光透過率
を10%以上とすることが好ましい。
【0022】ここで陰極2の膜厚は、陰極2の光透過率
等の特性を上記のように制御するために、材料により異
なるものであるが、通常は500μm以下、好ましくは
10〜200μmの範囲とするものである。
等の特性を上記のように制御するために、材料により異
なるものであるが、通常は500μm以下、好ましくは
10〜200μmの範囲とするものである。
【0023】発光層4に使用できる発光材料又はドーピ
ング材料としては、アントラセン、ナフタレン、ピレ
ン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレ
ン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラ
フェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビ
スベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエ
ン、キノリン金属錯体、アミノキノリン金属錯体、ベン
ゾキノリン金属錯体、ピラン、キナクリドン、ルブレ
ン、及び蛍光色素等があるが、これらに限定されるもの
ではない。発光層4は、これらの化合物のうちから選択
される発光材料のみから構成することができる。またこ
れらの化合物のうちから選択される発光材料を90〜9
9.5重量部、ドーピング材料0.5〜10重量部含む
ようにすることも好ましい。この発光層4の厚みは0.
5〜500nm、更に好ましくは0.5〜200nmと
するものである。
ング材料としては、アントラセン、ナフタレン、ピレ
ン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレ
ン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラ
フェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビ
スベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエ
ン、キノリン金属錯体、アミノキノリン金属錯体、ベン
ゾキノリン金属錯体、ピラン、キナクリドン、ルブレ
ン、及び蛍光色素等があるが、これらに限定されるもの
ではない。発光層4は、これらの化合物のうちから選択
される発光材料のみから構成することができる。またこ
れらの化合物のうちから選択される発光材料を90〜9
9.5重量部、ドーピング材料0.5〜10重量部含む
ようにすることも好ましい。この発光層4の厚みは0.
5〜500nm、更に好ましくは0.5〜200nmと
するものである。
【0024】正孔輸送層5を構成する正孔輸送材料とし
ては、正孔を輸送する能力を有し、陽極6からの正孔注
入効果を有すると共に、発光層4または発光材料に対し
て優れた正孔注入効果を有し、また発光層4で生成した
電子の正孔輸送層5への移動を防止し、かつ薄膜形成能
力の優れた化合物が挙げられる。具体的には、フタロシ
アニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、ポルフィリン
誘導体、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾー
ル、イミダゾール、イミダゾロン、ピラゾリン、テトラ
ヒドロイミダゾール、ポリアリールアルカン、ブタジエ
ン、ベンジジン型トリフェニルアミン、スチリルアミン
型トリフェニルアミン、ジアミン型トリフェニルアミン
等とそれらの誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリシ
ラン、導電性高分子等の高分子材料が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
ては、正孔を輸送する能力を有し、陽極6からの正孔注
入効果を有すると共に、発光層4または発光材料に対し
て優れた正孔注入効果を有し、また発光層4で生成した
電子の正孔輸送層5への移動を防止し、かつ薄膜形成能
力の優れた化合物が挙げられる。具体的には、フタロシ
アニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、ポルフィリン
誘導体、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾー
ル、イミダゾール、イミダゾロン、ピラゾリン、テトラ
ヒドロイミダゾール、ポリアリールアルカン、ブタジエ
ン、ベンジジン型トリフェニルアミン、スチリルアミン
型トリフェニルアミン、ジアミン型トリフェニルアミン
等とそれらの誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリシ
ラン、導電性高分子等の高分子材料が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
【0025】特に正孔輸送層5を、ガラス転移温度が高
く、結晶化が起こりにくい有機化合物から構成すると、
寿命が長く、かつ耐熱性に優れた有機電界発光素子1が
得られる。
く、結晶化が起こりにくい有機化合物から構成すると、
寿命が長く、かつ耐熱性に優れた有機電界発光素子1が
得られる。
【0026】また陽極6と正孔輸送層5との間の正孔注
入障壁を低減させる目的で、正孔輸送材料として、フタ
ロシアニン誘導体や、4,4’,4”−トリス(3−メ
チルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m
−MTDATA)等の芳香族三級アミン等を用いると、
駆動電圧の低減効果が大きくなる。
入障壁を低減させる目的で、正孔輸送材料として、フタ
ロシアニン誘導体や、4,4’,4”−トリス(3−メ
チルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m
−MTDATA)等の芳香族三級アミン等を用いると、
駆動電圧の低減効果が大きくなる。
【0027】また正孔輸送材料に電子受容物質を添加す
ると、正孔輸送層5内のキャリア密度が上がって正孔輸
送性を向上し、発光輝度を向上することができる。
ると、正孔輸送層5内のキャリア密度が上がって正孔輸
送性を向上し、発光輝度を向上することができる。
【0028】また本発明において、電子輸送層3とし
て、n型の無機化合物半導体を含むものを用いるもので
ある。このようにすると、陰極2から発光層4への電子
注入効率を向上させることができ、有機電界発光素子1
の高輝度化を達成すると共に、高輝度発光時の長時間駆
動性を向上することができるものである。n型の無機化
合物半導体としては、特に限定されるものではないが、
硫化カドミウム、硫化亜鉛、又は酸化亜鉛、あるいはこ
れらのうちの二種以上の混合物を用いることが好まし
い。これらの化合物は、電子親和力が高く、電子輸送能
が高いものであり、また真空蒸着法、スパッタリング法
等により、簡易に成膜することができるものである。
て、n型の無機化合物半導体を含むものを用いるもので
ある。このようにすると、陰極2から発光層4への電子
注入効率を向上させることができ、有機電界発光素子1
の高輝度化を達成すると共に、高輝度発光時の長時間駆
動性を向上することができるものである。n型の無機化
合物半導体としては、特に限定されるものではないが、
硫化カドミウム、硫化亜鉛、又は酸化亜鉛、あるいはこ
れらのうちの二種以上の混合物を用いることが好まし
い。これらの化合物は、電子親和力が高く、電子輸送能
が高いものであり、また真空蒸着法、スパッタリング法
等により、簡易に成膜することができるものである。
【0029】電子輸送層3は、上記のようなn型の無機
化合物半導体のみで形成することができるものであり、
このときは膜厚は、0.5〜500nmに形成すること
が好ましく、膜厚が0.5nmに満たないと、陰極2か
ら発光層4への電子注入効率の向上の効果が少なく、5
00nmを超えると、印加電圧の増大や、発光効率低下
等の問題が発生するおそれがある。
化合物半導体のみで形成することができるものであり、
このときは膜厚は、0.5〜500nmに形成すること
が好ましく、膜厚が0.5nmに満たないと、陰極2か
ら発光層4への電子注入効率の向上の効果が少なく、5
00nmを超えると、印加電圧の増大や、発光効率低下
等の問題が発生するおそれがある。
【0030】また電子輸送層3は、n型の無機化合物半
導体と、他の電子輸送材料とによって構成することもで
きる。
導体と、他の電子輸送材料とによって構成することもで
きる。
【0031】他の電子輸送材料としては、電子を輸送す
る能力を有し、陰極2からの電子注入効果を有すると共
に、発光層4又は発光材料に対して優れた電子輸送効果
を有し、また発光層4で生成した正孔の電子輸送層3へ
の移動を防止し、かつ薄膜形成能力に優れた化合物が挙
げられる。具体的には例えば、フルオレン、アントラキ
ノジメタン、ジフェノキノン、オキサゾール、オキサジ
アゾール、トリアゾール、イミダゾール、アントラキノ
ジメタン等やそれらの誘導体が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。
る能力を有し、陰極2からの電子注入効果を有すると共
に、発光層4又は発光材料に対して優れた電子輸送効果
を有し、また発光層4で生成した正孔の電子輸送層3へ
の移動を防止し、かつ薄膜形成能力に優れた化合物が挙
げられる。具体的には例えば、フルオレン、アントラキ
ノジメタン、ジフェノキノン、オキサゾール、オキサジ
アゾール、トリアゾール、イミダゾール、アントラキノ
ジメタン等やそれらの誘導体が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。
【0032】また本発明の有機電界発光素子1におい
て、更に効果的な他の電子輸送材料としては、金属錯体
化合物、もしくは含窒素五員誘導体が挙げられる。具体
的には、金属錯体化合物としては、トリス(8−ヒドロ
キシキノリナート)アルミニウム、トリス(2−メチル
−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス
(8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、ビス(10
−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)ベリリウム、
ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)亜
鉛、ビス(2−メチル−8−キノリナート)(o−クレ
ゾラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−キノリナ
ート)(1−ナフトラート)アルミニウム等を挙げるこ
とができるが、これらのものに限定されるものではな
い。また含窒素五員誘導体としては、オキサゾール、チ
アゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、又はト
リアゾール誘導体が好ましく、具体的には、2,5−ビ
ス(1−フェニル)−1,3,4−オキサゾール、2,
5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−チアゾール、
2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール、2−(4’−tert−ブチルフェニル)−
5−(4”−ビフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オ
キサジアゾール、1,4−ビス[2−(5−フェニルチ
アジアゾリル)]ベンゼン、2,5−ビス(1−ナフチ
ル)−1,3,4−トリアゾール、3−(4−ビフェニ
ルイル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチル
フェニル)−1,2,4−トリアゾール等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。
て、更に効果的な他の電子輸送材料としては、金属錯体
化合物、もしくは含窒素五員誘導体が挙げられる。具体
的には、金属錯体化合物としては、トリス(8−ヒドロ
キシキノリナート)アルミニウム、トリス(2−メチル
−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス
(8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、ビス(10
−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)ベリリウム、
ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)亜
鉛、ビス(2−メチル−8−キノリナート)(o−クレ
ゾラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−キノリナ
ート)(1−ナフトラート)アルミニウム等を挙げるこ
とができるが、これらのものに限定されるものではな
い。また含窒素五員誘導体としては、オキサゾール、チ
アゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、又はト
リアゾール誘導体が好ましく、具体的には、2,5−ビ
ス(1−フェニル)−1,3,4−オキサゾール、2,
5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−チアゾール、
2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール、2−(4’−tert−ブチルフェニル)−
5−(4”−ビフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オ
キサジアゾール、1,4−ビス[2−(5−フェニルチ
アジアゾリル)]ベンゼン、2,5−ビス(1−ナフチ
ル)−1,3,4−トリアゾール、3−(4−ビフェニ
ルイル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチル
フェニル)−1,2,4−トリアゾール等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。
【0033】また上記の他の電子輸送材料に電子供与性
物質を添加することも好ましく、このようにすると、電
子輸送層3内の電子密度を向上して電子輸送性を向上
し、電子の流れが円滑となって発光輝度を向上すること
ができる。
物質を添加することも好ましく、このようにすると、電
子輸送層3内の電子密度を向上して電子輸送性を向上
し、電子の流れが円滑となって発光輝度を向上すること
ができる。
【0034】上記に示すようなn型の無機化合物半導体
と他の電子輸送性材料により、電子輸送層3を構成する
にあたっては、電子輸送層3を、n型の無機化合物半導
体からなる層と、他の電子輸送材料からなる層との、積
層構造に形成することができ、またn型の無機化合物半
導体と、他の電子輸送材料を混合してなる混合層として
形成することもできる。
と他の電子輸送性材料により、電子輸送層3を構成する
にあたっては、電子輸送層3を、n型の無機化合物半導
体からなる層と、他の電子輸送材料からなる層との、積
層構造に形成することができ、またn型の無機化合物半
導体と、他の電子輸送材料を混合してなる混合層として
形成することもできる。
【0035】電子輸送層3を積層構造に形成する場合
は、n型の無機化合物半導体からなる層と、他の電子輸
送材料からなる層を、好ましくは電子親和力のより大き
い方が陰極2側となるように配置するものであり、この
ようにすると、陰極2から電子輸送層3への電子注入効
率を向上して電子輸送性を向上するすることができる。
このとき、n型の無機化合物半導体からなる層の膜厚を
0.5〜500nm、電子輸送層3全体の膜厚を0.5
〜800nmに形成することが好ましいものである。n
型の無機化合物半導体からなる層の膜厚が0.5nmに
満たないと、陰極2から発光層4への電子注入効率の向
上の効果が少なく、500nmを超えると、印加電圧の
増大や、発光効率低下等の問題が発生するおそれがあ
る。
は、n型の無機化合物半導体からなる層と、他の電子輸
送材料からなる層を、好ましくは電子親和力のより大き
い方が陰極2側となるように配置するものであり、この
ようにすると、陰極2から電子輸送層3への電子注入効
率を向上して電子輸送性を向上するすることができる。
このとき、n型の無機化合物半導体からなる層の膜厚を
0.5〜500nm、電子輸送層3全体の膜厚を0.5
〜800nmに形成することが好ましいものである。n
型の無機化合物半導体からなる層の膜厚が0.5nmに
満たないと、陰極2から発光層4への電子注入効率の向
上の効果が少なく、500nmを超えると、印加電圧の
増大や、発光効率低下等の問題が発生するおそれがあ
る。
【0036】また電子輸送層3を混合層として形成する
場合は、混合層に含まれるn型の無機化合物半導体の配
合量は、膜厚換算で0.5〜500nmとすることが好
ましい。また混合層の全体の厚みは0.5〜800nm
とすることが好ましいものである。ここで膜厚換算と
は、混合層に含まれるn型の無機化合物半導体にて積層
構造の電子輸送層3におけるn型の無機化合物半導体か
らなる層を形成すると仮定した場合の、このn型の無機
化合物半導体からなる層の厚みに換算した量である。n
型の無機化合物半導体からなる層の膜厚換算での配合量
が0.5nmに満たないと、陰極2から発光層4への電
子注入効率の向上の効果が少なく、500nmを超える
と、印加電圧の増大や、発光効率低下等の問題が発生す
るおそれがある。
場合は、混合層に含まれるn型の無機化合物半導体の配
合量は、膜厚換算で0.5〜500nmとすることが好
ましい。また混合層の全体の厚みは0.5〜800nm
とすることが好ましいものである。ここで膜厚換算と
は、混合層に含まれるn型の無機化合物半導体にて積層
構造の電子輸送層3におけるn型の無機化合物半導体か
らなる層を形成すると仮定した場合の、このn型の無機
化合物半導体からなる層の厚みに換算した量である。n
型の無機化合物半導体からなる層の膜厚換算での配合量
が0.5nmに満たないと、陰極2から発光層4への電
子注入効率の向上の効果が少なく、500nmを超える
と、印加電圧の増大や、発光効率低下等の問題が発生す
るおそれがある。
【0037】また電子輸送層3は、上記のn型の無機化
合物半導体を高分子化合物中に分散させた分散層として
形成することもできる。このとき使用できる高分子化合
物としては、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリア
リレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、セルロース等の絶縁性高分子化合物、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の光導電
性樹脂、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性高分
子等を挙げることができる。
合物半導体を高分子化合物中に分散させた分散層として
形成することもできる。このとき使用できる高分子化合
物としては、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリア
リレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、セルロース等の絶縁性高分子化合物、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の光導電
性樹脂、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性高分
子等を挙げることができる。
【0038】電子輸送層3を分散層として形成するにあ
たっては、高分子化合物にn型の無機化合物半導体を分
散させた後、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等の適当な溶媒を加え
て分散液を調製し、例えばスピンコーティング法、ディ
ッピング法等の湿式成膜法等により、形成することがで
きる。
たっては、高分子化合物にn型の無機化合物半導体を分
散させた後、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等の適当な溶媒を加え
て分散液を調製し、例えばスピンコーティング法、ディ
ッピング法等の湿式成膜法等により、形成することがで
きる。
【0039】上記の分散層として形成される電子輸送層
3中のn型の無機化合物半導体の配合量は、15〜70
重量%とすることが好ましく、15重量%に満たないと
陰極2から発光層4への電子輸送性能が充分に得られ
ず、70重量%を超えると、成膜する際の分散液の粘度
が高くなりすぎて、均一な薄膜を得ることが困難とな
る。また分散層として形成される電子輸送層3の膜厚は
5〜1000nmとすることが好ましく、更に好ましく
は5〜500nmとするものである。
3中のn型の無機化合物半導体の配合量は、15〜70
重量%とすることが好ましく、15重量%に満たないと
陰極2から発光層4への電子輸送性能が充分に得られ
ず、70重量%を超えると、成膜する際の分散液の粘度
が高くなりすぎて、均一な薄膜を得ることが困難とな
る。また分散層として形成される電子輸送層3の膜厚は
5〜1000nmとすることが好ましく、更に好ましく
は5〜500nmとするものである。
【0040】上記のような材料にて本発明の有機電界発
光素子1を作製するにあたっては、例えば、ガラス基板
7上に陽極6をスパッタリング法や真空蒸着法等により
形成した後、更に正孔輸送層5、発光層4を順次真空蒸
着法やスパッタリング法等により形成する。そして、電
子輸送層3をn型の無機化合物の単層として形成する場
合は、発光層4の形成に続いてn型の無機化合物半導体
にて真空蒸着法又はスパッタリング法等の方法により電
子輸送層3を形成するものである。また電子輸送層3を
積層構造として形成する場合は、発光層4の形成に続い
てn型の無機化合物半導体の層と、他の電子輸送材料の
層の内のどちらか一方を真空蒸着法やスパッタリング法
等により形成した後、他方を真空蒸着法やスパッタリン
グ法等により形成する。また電子輸送層3を混合層とし
て形成する場合は、発光層4の形成に続いてn型の無機
化合物半導体と他の電子輸送材料とを同時に真空蒸着法
やスパッタリング法等により電子輸送層3を形成する。
そして電子輸送層3の形成後、陰極2を、真空蒸着法や
スパッタリング法等の方法により形成することができる
ものである。このように電子輸送層3を、n型の無機化
合物半導体の単層、あるいは積層物又は混合物として形
成する場合は、有機電界発光素子1を構成する複数の層
を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法により同一
の真空容器内等で連続的に形成することができ、生産効
率が良いものである。
光素子1を作製するにあたっては、例えば、ガラス基板
7上に陽極6をスパッタリング法や真空蒸着法等により
形成した後、更に正孔輸送層5、発光層4を順次真空蒸
着法やスパッタリング法等により形成する。そして、電
子輸送層3をn型の無機化合物の単層として形成する場
合は、発光層4の形成に続いてn型の無機化合物半導体
にて真空蒸着法又はスパッタリング法等の方法により電
子輸送層3を形成するものである。また電子輸送層3を
積層構造として形成する場合は、発光層4の形成に続い
てn型の無機化合物半導体の層と、他の電子輸送材料の
層の内のどちらか一方を真空蒸着法やスパッタリング法
等により形成した後、他方を真空蒸着法やスパッタリン
グ法等により形成する。また電子輸送層3を混合層とし
て形成する場合は、発光層4の形成に続いてn型の無機
化合物半導体と他の電子輸送材料とを同時に真空蒸着法
やスパッタリング法等により電子輸送層3を形成する。
そして電子輸送層3の形成後、陰極2を、真空蒸着法や
スパッタリング法等の方法により形成することができる
ものである。このように電子輸送層3を、n型の無機化
合物半導体の単層、あるいは積層物又は混合物として形
成する場合は、有機電界発光素子1を構成する複数の層
を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法により同一
の真空容器内等で連続的に形成することができ、生産効
率が良いものである。
【0041】また電子輸送層3を分散層として形成する
場合は、発光層4の形成に続いてスピンコーティング
法、ディッピング法等の湿式成膜法等により電子輸送層
3を形成する。そして電子輸送層3の形成後、陰極2
を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法により形成
することができるものである。このように電子輸送層3
を分散層として形成することにより、n型の無機化合物
半導体を含む電子輸送層3を、湿式成膜法等の塗布工程
により形成することができるものである。またこのとき
は、正孔輸送層5、発光層4及び電子輸送層3を全てス
ピンコーティング法、ディッピング法等の湿式成膜法等
により形成することもできる。
場合は、発光層4の形成に続いてスピンコーティング
法、ディッピング法等の湿式成膜法等により電子輸送層
3を形成する。そして電子輸送層3の形成後、陰極2
を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法により形成
することができるものである。このように電子輸送層3
を分散層として形成することにより、n型の無機化合物
半導体を含む電子輸送層3を、湿式成膜法等の塗布工程
により形成することができるものである。またこのとき
は、正孔輸送層5、発光層4及び電子輸送層3を全てス
ピンコーティング法、ディッピング法等の湿式成膜法等
により形成することもできる。
【0042】またこのようにして陽極6、正孔輸送層
5、発光層4、電子輸送層3、陰極2の形成を行った
後、温度、湿度、雰囲気等に対する安定性を向上するた
めに、素子表面に、シリコーン系接着剤にシリカゲル粉
末等のフィラーを配合する等して調製される樹脂組成物
を塗布硬化させて保護層を設けた後、必要に応じて素子
外面にガラス基板をエポキシ樹脂等を用いて張り合わせ
たり、あるいは、素子外面にガラス基板を配置した状態
でガラス基板と素子の間にシリコンオイル等を封入し
て、素子を保護することも可能である。
5、発光層4、電子輸送層3、陰極2の形成を行った
後、温度、湿度、雰囲気等に対する安定性を向上するた
めに、素子表面に、シリコーン系接着剤にシリカゲル粉
末等のフィラーを配合する等して調製される樹脂組成物
を塗布硬化させて保護層を設けた後、必要に応じて素子
外面にガラス基板をエポキシ樹脂等を用いて張り合わせ
たり、あるいは、素子外面にガラス基板を配置した状態
でガラス基板と素子の間にシリコンオイル等を封入し
て、素子を保護することも可能である。
【0043】以上のようにして構成される有機電解発光
素子1は、高発光輝度化を達成でき、低い駆動電圧で実
用的に使用可能な輝度を得られるものであり、また長期
駆動時の劣化も大幅に低減することができるものであ
る。本発明に係る有機電解発光素子1は、壁掛けテレビ
等のフラットパネルディスプレイや、平面発光体として
複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器
類の光源、表示板、標識等への応用が考えられ、工業的
価値が非常に大きいものである。
素子1は、高発光輝度化を達成でき、低い駆動電圧で実
用的に使用可能な輝度を得られるものであり、また長期
駆動時の劣化も大幅に低減することができるものであ
る。本発明に係る有機電解発光素子1は、壁掛けテレビ
等のフラットパネルディスプレイや、平面発光体として
複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器
類の光源、表示板、標識等への応用が考えられ、工業的
価値が非常に大きいものである。
【0044】
【実施例】以下、本発明を実施例によって詳述するが、
本発明は下記の実施例に限られるものではない。
本発明は下記の実施例に限られるものではない。
【0045】正孔輸送材料としては、N,N’−ビス
(3−メチルフェニル)−(1−1’−ビフェニル)−
4,4’−ジアミン(以下、TPDと略称する。)[東
京化成(株)製]を、発光材料としては、(8−ヒドロ
キシキノリノン)アルミニウム(以下、Alq3と略称
する。)[(株)同仁化学研究所製]を用いた。また電
子輸送材料としては、表1に示す構成にて、n型の無機
化合物半導体として硫化カドミウム[(株)高純度化学
研究所製]、硫化亜鉛[(株)高純度化学研究所製]、
酸化亜鉛[(株)高純度化学研究所製]を、他の電子輸
送材料としては、3−(4−ビフェニルイル)−4−フ
ェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,
2,4−トリアゾール(以下、TAZと略称する。)
[(株)同仁化学研究所製]を、高分子化合物として
は、ポリカーボネート[帝人化成製、商品名 パンライ
トK−1300]を用いた。
(3−メチルフェニル)−(1−1’−ビフェニル)−
4,4’−ジアミン(以下、TPDと略称する。)[東
京化成(株)製]を、発光材料としては、(8−ヒドロ
キシキノリノン)アルミニウム(以下、Alq3と略称
する。)[(株)同仁化学研究所製]を用いた。また電
子輸送材料としては、表1に示す構成にて、n型の無機
化合物半導体として硫化カドミウム[(株)高純度化学
研究所製]、硫化亜鉛[(株)高純度化学研究所製]、
酸化亜鉛[(株)高純度化学研究所製]を、他の電子輸
送材料としては、3−(4−ビフェニルイル)−4−フ
ェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,
2,4−トリアゾール(以下、TAZと略称する。)
[(株)同仁化学研究所製]を、高分子化合物として
は、ポリカーボネート[帝人化成製、商品名 パンライ
トK−1300]を用いた。
【0046】(実施例1)厚み1mmのガラス基板7に
ITOを真空蒸着してシート抵抗50Ω/□の陽極6を
形成したITOガラス電極[松波ガラス製]を用い、こ
れを中性洗剤、純水、アセトン、エタノールで20分間
超音波洗浄した後乾燥させた。このITOガラス電極
を、市販の真空蒸着装置[TOKUDA製]の基板ホル
ダーに固定した。一方、モリブデン製の抵抗加熱ボート
を3つ用意し、それぞれにTPD、Alq3、n型の無
機化合物半導体である硫化カドミウムを100mgずつ
入れ、真空チャンバー内を1×10-5Torrまで減圧
した。そしてまずTPDを入れた抵抗加熱ボードを加熱
していき、水晶振動子膜厚計でモニターしながら、0.
2nm/sの蒸着速度で、50nmの膜厚に成膜した。
続いてAlq3入りの抵抗加熱ボートを加熱し、同一条
件で50nmの膜厚に成膜した。更に、硫化カドミウム
入りの抵抗加熱ボートを加熱し、同一条件で5nmの膜
厚に成膜した。これを真空チャンバーから取り出し、ス
テンレス製のマスクを設けた後、再び基板ホルダーに取
り付けた。一方、タングステンフィラメントに、Li含
有量が1重量%のAl−Li合金を1g入れ、真空チャ
ンバー内を1×10-5Torrまで減圧した。そしてタ
ングステンフィラメントを加熱していき、1nm/sの
蒸着速度で150nmの膜厚まで成膜して、陰極2を形
成し、有機電界発光素子1を作製した。
ITOを真空蒸着してシート抵抗50Ω/□の陽極6を
形成したITOガラス電極[松波ガラス製]を用い、こ
れを中性洗剤、純水、アセトン、エタノールで20分間
超音波洗浄した後乾燥させた。このITOガラス電極
を、市販の真空蒸着装置[TOKUDA製]の基板ホル
ダーに固定した。一方、モリブデン製の抵抗加熱ボート
を3つ用意し、それぞれにTPD、Alq3、n型の無
機化合物半導体である硫化カドミウムを100mgずつ
入れ、真空チャンバー内を1×10-5Torrまで減圧
した。そしてまずTPDを入れた抵抗加熱ボードを加熱
していき、水晶振動子膜厚計でモニターしながら、0.
2nm/sの蒸着速度で、50nmの膜厚に成膜した。
続いてAlq3入りの抵抗加熱ボートを加熱し、同一条
件で50nmの膜厚に成膜した。更に、硫化カドミウム
入りの抵抗加熱ボートを加熱し、同一条件で5nmの膜
厚に成膜した。これを真空チャンバーから取り出し、ス
テンレス製のマスクを設けた後、再び基板ホルダーに取
り付けた。一方、タングステンフィラメントに、Li含
有量が1重量%のAl−Li合金を1g入れ、真空チャ
ンバー内を1×10-5Torrまで減圧した。そしてタ
ングステンフィラメントを加熱していき、1nm/sの
蒸着速度で150nmの膜厚まで成膜して、陰極2を形
成し、有機電界発光素子1を作製した。
【0047】(実施例2)n型の無機化合物半導体とし
て、硫化カドミウムの代わりに硫化亜鉛を用いた以外
は、実施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作
製した。
て、硫化カドミウムの代わりに硫化亜鉛を用いた以外
は、実施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作
製した。
【0048】(実施例3)n型の無機化合物半導体とし
て、硫化カドミウムの代わりに酸化亜鉛を用いた以外
は、実施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作
製した。
て、硫化カドミウムの代わりに酸化亜鉛を用いた以外
は、実施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作
製した。
【0049】(実施例4)電子輸送層3の膜厚を80n
mに形成したこと以外は実施例1と同様に行って、有機
電界発光素子1を作製した。
mに形成したこと以外は実施例1と同様に行って、有機
電界発光素子1を作製した。
【0050】(実施例5)n型の無機化合物半導体とし
て硫化カドミウムを、他の電子輸送材料としてTAZを
用い、これらをそれぞれモリブデン製の抵抗加熱ボード
に入れ、正孔輸送材料、発光材料と共に、真空チャンバ
ーに入れた。そして電子輸送層3の形成にあたっては、
まずTAZを入れた抵抗加熱ボードを加熱して、真空蒸
着法によりTAZからなる層を0.2nm/sの蒸着速
度で5nmの膜厚に形成した後、硫化カドミウムを入れ
た抵抗加熱ボードを加熱して真空蒸着により硫化カドミ
ウムからなる層を0.2nm/sの蒸着速度で5nmの
膜厚に形成することにより、積層構造の電子輸送層3を
形成した。それ以外は実施例1と同様に行って、有機電
界発光素子1を作製した。
て硫化カドミウムを、他の電子輸送材料としてTAZを
用い、これらをそれぞれモリブデン製の抵抗加熱ボード
に入れ、正孔輸送材料、発光材料と共に、真空チャンバ
ーに入れた。そして電子輸送層3の形成にあたっては、
まずTAZを入れた抵抗加熱ボードを加熱して、真空蒸
着法によりTAZからなる層を0.2nm/sの蒸着速
度で5nmの膜厚に形成した後、硫化カドミウムを入れ
た抵抗加熱ボードを加熱して真空蒸着により硫化カドミ
ウムからなる層を0.2nm/sの蒸着速度で5nmの
膜厚に形成することにより、積層構造の電子輸送層3を
形成した。それ以外は実施例1と同様に行って、有機電
界発光素子1を作製した。
【0051】(実施例6)n型の無機化合物半導体とし
て硫化カドミウムを、他の電子輸送材料としてTAZを
用い、これらをそれぞれモリブデン製の抵抗加熱ボード
に入れ、正孔輸送材料、発光材料と共に、真空チャンバ
ーに入れた。そして電子輸送層3の形成にあたっては、
硫化カドミウム入りの抵抗加熱ボードとTAZ入りの加
熱ボードとを同時に加熱して、共に0.2nm/sの蒸
着速度で同時に真空蒸着し、硫化カドミウムを膜厚換算
で5nm含む、総膜厚が10nmの、混合層の電子輸送
層3を形成した。それ以外は実施例1と同様に行って、
有機電界発光素子1を作製した。
て硫化カドミウムを、他の電子輸送材料としてTAZを
用い、これらをそれぞれモリブデン製の抵抗加熱ボード
に入れ、正孔輸送材料、発光材料と共に、真空チャンバ
ーに入れた。そして電子輸送層3の形成にあたっては、
硫化カドミウム入りの抵抗加熱ボードとTAZ入りの加
熱ボードとを同時に加熱して、共に0.2nm/sの蒸
着速度で同時に真空蒸着し、硫化カドミウムを膜厚換算
で5nm含む、総膜厚が10nmの、混合層の電子輸送
層3を形成した。それ以外は実施例1と同様に行って、
有機電界発光素子1を作製した。
【0052】(実施例7)陽極6に発光層4の形成まで
行ったものを真空チャンバーから取り出し、スピンコー
タ上に固定した。一方、n型の無機化合物半導体である
硫化カドミウムを、高分子化合物であるポリカーボネー
ト[帝人化成製、商品名 パンライトK−1300]中
に、20重量%の割合で分散させ、更にこのものを1,
2−ジクロロメタン中に分散させたものを、発光層4の
表面に、1500rpmの条件でスピンコートを行い、
膜厚70nmの電子輸送層3を形成した。それ以外は実
施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作製し
た。
行ったものを真空チャンバーから取り出し、スピンコー
タ上に固定した。一方、n型の無機化合物半導体である
硫化カドミウムを、高分子化合物であるポリカーボネー
ト[帝人化成製、商品名 パンライトK−1300]中
に、20重量%の割合で分散させ、更にこのものを1,
2−ジクロロメタン中に分散させたものを、発光層4の
表面に、1500rpmの条件でスピンコートを行い、
膜厚70nmの電子輸送層3を形成した。それ以外は実
施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作製し
た。
【0053】(実施例8)陽極6に発光層4の形成まで
行ったものを真空チャンバーから取り出し、スピンコー
タ上に固定した。一方、n型の無機化合物半導体である
硫化カドミウムを、高分子化合物であるポリカーボネー
ト[帝人化成製、商品名 パンライトK−1300]中
に、50重量%の割合で分散させ、更にこのものを1,
2−ジクロロメタン中に分散させたものを、発光層4の
表面に、1500rpmの条件でスピンコートを行い、
膜厚80nmの電子輸送層3を形成した。それ以外は実
施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作製し
た。 (比較例1)電子輸送層3を形成せず、発光層4を電子
輸送層3と兼用させた以外は実施例1と同様に行って、
有機電界発光素子1を作製した。
行ったものを真空チャンバーから取り出し、スピンコー
タ上に固定した。一方、n型の無機化合物半導体である
硫化カドミウムを、高分子化合物であるポリカーボネー
ト[帝人化成製、商品名 パンライトK−1300]中
に、50重量%の割合で分散させ、更にこのものを1,
2−ジクロロメタン中に分散させたものを、発光層4の
表面に、1500rpmの条件でスピンコートを行い、
膜厚80nmの電子輸送層3を形成した。それ以外は実
施例1と同様に行って、有機電界発光素子1を作製し
た。 (比較例1)電子輸送層3を形成せず、発光層4を電子
輸送層3と兼用させた以外は実施例1と同様に行って、
有機電界発光素子1を作製した。
【0054】(評価試験)上記のようにして作製した各
実施例及び比較例の有機電界発光素子1を乾燥窒素雰囲
気下で、陽極6であるITOガラス電極に正の電圧を、
陰極2であるAl−Li合金からなる電極に負の電圧を
印加し、印加電圧8Vにおける、ガラス基板7を介して
外部に照射された発光の発光輝度を測定した。
実施例及び比較例の有機電界発光素子1を乾燥窒素雰囲
気下で、陽極6であるITOガラス電極に正の電圧を、
陰極2であるAl−Li合金からなる電極に負の電圧を
印加し、印加電圧8Vにおける、ガラス基板7を介して
外部に照射された発光の発光輝度を測定した。
【0055】また乾燥窒素雰囲気下で有機電界発光素子
1に印加する電圧を連続的にあげていった場合の最大輝
度を測定した。
1に印加する電圧を連続的にあげていった場合の最大輝
度を測定した。
【0056】また、乾燥窒素雰囲気下で有機電界発光素
子1に電流密度10mA/cm2の条件で定電流を流し
て初期発光輝度100cd/m2で直流連続駆動させ、
発光輝度が初期発光輝度の50%まで半減するまでの時
間(輝度半減時間)を測定して、連続駆動性を評価し
た。
子1に電流密度10mA/cm2の条件で定電流を流し
て初期発光輝度100cd/m2で直流連続駆動させ、
発光輝度が初期発光輝度の50%まで半減するまでの時
間(輝度半減時間)を測定して、連続駆動性を評価し
た。
【0057】ここで輝度の測定は輝度計[TOPCON
製、品番BM−7]を用いて行った。
製、品番BM−7]を用いて行った。
【0058】以上の結果を表1に示す。
【0059】
【表1】
【0060】表1から明らかなように、実施例1〜8で
は、n型無機化合物半導体を含む電子輸送層3を形成し
ていない比較例1よりも、8Vにおける発光輝度が高
く、また最大輝度も高いものであり、更に連続駆動性も
高いものであることが確認できた。
は、n型無機化合物半導体を含む電子輸送層3を形成し
ていない比較例1よりも、8Vにおける発光輝度が高
く、また最大輝度も高いものであり、更に連続駆動性も
高いものであることが確認できた。
【0061】
【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係る有
機電界発光素子は、陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸
送層、及び陰極から構成され、電子輸送層として、n型
の無機化合物半導体を含むものを用いるものであり、陰
極から発光層への電子注入効率を向上させることがで
き、有機電界発光素子の高輝度化を達成すると共に、高
輝度発光時の長時間駆動性を向上することができるもの
である。
機電界発光素子は、陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸
送層、及び陰極から構成され、電子輸送層として、n型
の無機化合物半導体を含むものを用いるものであり、陰
極から発光層への電子注入効率を向上させることがで
き、有機電界発光素子の高輝度化を達成すると共に、高
輝度発光時の長時間駆動性を向上することができるもの
である。
【0062】また本発明の請求項2に係る有機電界発光
素子は、請求項1の構成に加えて、n型の無機化合物半
導体として、硫化カドミウム、硫化亜鉛、又は酸化亜鉛
のうちの少なくとも一つのものを用いるものであり、こ
れらの化合物は、電子親和力が高く、電子輸送能が高い
ため、陰極から発光層への電子注入効率を向上させるこ
とができるものであり、また真空蒸着法、スパッタリン
グ法等により、簡易に成膜することができるものであ
る。
素子は、請求項1の構成に加えて、n型の無機化合物半
導体として、硫化カドミウム、硫化亜鉛、又は酸化亜鉛
のうちの少なくとも一つのものを用いるものであり、こ
れらの化合物は、電子親和力が高く、電子輸送能が高い
ため、陰極から発光層への電子注入効率を向上させるこ
とができるものであり、また真空蒸着法、スパッタリン
グ法等により、簡易に成膜することができるものであ
る。
【0063】また本発明の請求項3に係る有機電界発光
素子は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
を、n型の無機化合物半導体のみで構成するものであ
り、n型の無機化合物半導体のみで構成される電子輸送
層にて陰極から発光層への電子注入効率を向上させるこ
とができ、有機電界発光素子の高輝度化を達成すると共
に、高輝度発光時の長時間駆動性を向上することができ
るものである。
素子は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
を、n型の無機化合物半導体のみで構成するものであ
り、n型の無機化合物半導体のみで構成される電子輸送
層にて陰極から発光層への電子注入効率を向上させるこ
とができ、有機電界発光素子の高輝度化を達成すると共
に、高輝度発光時の長時間駆動性を向上することができ
るものである。
【0064】また本発明の請求項4に係る有機電界発光
素子は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
を、n型の無機化合物半導体及び他の電子輸送材料から
なる積層構造又は混合層として構成するものであり、n
型の無機化合物半導体と他の電子輸送層とからなる電子
輸送層にて陰極から発光層への電子注入効率を向上させ
ることができ、有機電界発光素子の高輝度化を達成する
と共に、高輝度発光時の長時間駆動性を向上することが
できるものである。
素子は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
を、n型の無機化合物半導体及び他の電子輸送材料から
なる積層構造又は混合層として構成するものであり、n
型の無機化合物半導体と他の電子輸送層とからなる電子
輸送層にて陰極から発光層への電子注入効率を向上させ
ることができ、有機電界発光素子の高輝度化を達成する
と共に、高輝度発光時の長時間駆動性を向上することが
できるものである。
【0065】また本発明の請求項5に係る有機電界発光
素子は、請求項1乃至4のいずれかの構成に加えて、電
子輸送層中のn型無機化合物半導体の含有量を、膜厚換
算で0.5〜500nmとするものであり、陰極から発
光層への電子注入効率の向上の効果と、印加電圧の増大
や発光効率低下を抑制する効果をバランス良く得ること
ができるものである。
素子は、請求項1乃至4のいずれかの構成に加えて、電
子輸送層中のn型無機化合物半導体の含有量を、膜厚換
算で0.5〜500nmとするものであり、陰極から発
光層への電子注入効率の向上の効果と、印加電圧の増大
や発光効率低下を抑制する効果をバランス良く得ること
ができるものである。
【0066】また本発明の請求項6に係る有機電界発光
素子は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
を、n型の無機化合物半導体を高分子化合物中に分散さ
せた分散層として形成するものであり、電子輸送層を湿
式成膜法にて形成することができるものである。
素子は、請求項1又は2の構成に加えて、電子輸送層
を、n型の無機化合物半導体を高分子化合物中に分散さ
せた分散層として形成するものであり、電子輸送層を湿
式成膜法にて形成することができるものである。
【0067】また本発明の請求項7に係る有機電界発光
素子は、請求項6の構成に加えて、電子輸送層中のn型
の無機化合物半導体の含有量を、15〜70重量%とす
るものであり、陰極から発光層への電子輸送性能が充分
に得られると共に、成膜する際の分散液の粘度が高くな
りすぎることを抑制して、湿式成膜法にて均一な薄膜に
形成することができるものである。
素子は、請求項6の構成に加えて、電子輸送層中のn型
の無機化合物半導体の含有量を、15〜70重量%とす
るものであり、陰極から発光層への電子輸送性能が充分
に得られると共に、成膜する際の分散液の粘度が高くな
りすぎることを抑制して、湿式成膜法にて均一な薄膜に
形成することができるものである。
【図1】本発明の実施の形態の一例の概略を示す正面図
である。
である。
1 有機電解発光素子 2 陰極 3 電子輸送層 4 発光層 5 正孔輸送層 6 陽極
Claims (7)
- 【請求項1】 陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送
層、及び陰極から構成され、電子輸送層として、n型の
無機化合物半導体を含むものを用いて成ることを特徴と
する有機電界発光素子。 - 【請求項2】 n型の無機化合物半導体として、硫化カ
ドミウム、硫化亜鉛、又は酸化亜鉛のうちの少なくとも
一つのものを用いて成ることを特徴とする請求項1に記
載の有機電界発光素子。 - 【請求項3】 電子輸送層を、n型の無機化合物半導体
のみで構成して成ることを特徴とする請求項1又は2に
記載の有機電界発光素子。 - 【請求項4】 電子輸送層を、n型の無機化合物半導体
及び他の電子輸送材料からなる積層構造又は混合層とし
て構成して成ることを特徴とする請求項1又は2に記載
の有機電界発光素子。 - 【請求項5】 電子輸送層中のn型無機化合物半導体の
含有量を、膜厚換算で0.5〜500nmとして成るこ
とを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の有機
電界発光素子。 - 【請求項6】 電子輸送層を、n型の無機化合物半導体
を高分子化合物中に分散させた分散層として形成して成
ることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機電界発
光素子。 - 【請求項7】 電子輸送層中のn型の無機化合物半導体
の含有量を、15〜70重量%として成ることを特徴と
する請求項6に記載の有機電界発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1773099A JP2000215984A (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | 有機電界発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1773099A JP2000215984A (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | 有機電界発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000215984A true JP2000215984A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=11951876
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP1773099A Withdrawn JP2000215984A (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | 有機電界発光素子 |
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Country | Link |
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-
1999
- 1999-01-26 JP JP1773099A patent/JP2000215984A/ja not_active Withdrawn
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