JP2000105347A - マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置 - Google Patents
マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置Info
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 29
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数発光点を有する半導体レーザアレイを光
源として、各々のレーザビームに対して像面側で均一な
ビーム間隔と均一なビーム形状を得ることができるマル
チビーム光源装置を提供すること。 【解決手段】 コリメートレンズ３５は鏡筒６に接着あ
るいは圧入され納められており、鏡筒６は回転基体３の
嵌合孔３ｂに光軸Ａ方向に半導体レーザアレイ３０との
位置を合わせて接着あるいは図示しないネジ等により固
定される。回転基体３に固定された鏡筒６は基体１０の
嵌合孔１０ａと勘合し、鏡筒６の外径６ａを回転中心と
して回動できるようになっている。一般にレンズ外径と
レンズ光軸は精度良く偏芯は抑えられており、且つ鏡筒
６の外径６ａとコリメートレンズ３５の嵌合部６ｂとは
同一加工のため同軸精度が出ており、鏡筒６の外径の６
ａの中心とコリメートレンズ３５の光軸Ａとは正確に一
致することになる。
源として、各々のレーザビームに対して像面側で均一な
ビーム間隔と均一なビーム形状を得ることができるマル
チビーム光源装置を提供すること。 【解決手段】 コリメートレンズ３５は鏡筒６に接着あ
るいは圧入され納められており、鏡筒６は回転基体３の
嵌合孔３ｂに光軸Ａ方向に半導体レーザアレイ３０との
位置を合わせて接着あるいは図示しないネジ等により固
定される。回転基体３に固定された鏡筒６は基体１０の
嵌合孔１０ａと勘合し、鏡筒６の外径６ａを回転中心と
して回動できるようになっている。一般にレンズ外径と
レンズ光軸は精度良く偏芯は抑えられており、且つ鏡筒
６の外径６ａとコリメートレンズ３５の嵌合部６ｂとは
同一加工のため同軸精度が出ており、鏡筒６の外径の６
ａの中心とコリメートレンズ３５の光軸Ａとは正確に一
致することになる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一走査にて複数ビ
ームの光走査を行うためのマルチビーム光源装置、この
光源装置により走査を行うマルチビーム走査装置、およ
びマルチビーム走査装置を用いて画像形成を行うレーザ
プリンタ、ディジタル複写機、ファクシミリ等の画像形
成装置に関する。
ームの光走査を行うためのマルチビーム光源装置、この
光源装置により走査を行うマルチビーム走査装置、およ
びマルチビーム走査装置を用いて画像形成を行うレーザ
プリンタ、ディジタル複写機、ファクシミリ等の画像形
成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザプリンタやディジタル複写
機などの画像形成装置では、記録速度の高速化および記
録密度の高密度化の要求に対応して、複数のレーザビー
ムで感光体の被走査面上を同時に走査するマルチビーム
走査装置が採用されている。このマルチビーム走査装置
は、複数の半導体レーザからの光ビームをそれぞれコリ
メートし、副走査対応方向に互いに微小角度を持たせて
合成し、偏向手段を介し、結像光学系により被走査面上
に複数の光スポットとして結像し、一度に複数ラインを
走査する。この複数のレーザビームを持つ光源として
は、複数の発光点を同一基板上にアレイ状に並べた半導
体レーザアレイが使用されている。例えば、特開平８−
１３６８４１号公報記載の発明では、２ビームＬＤアレ
イの第１の光路を回転部材の回転軸に調整し、第２の光
路は第１の光路を中心として回動する技術が開示されて
いる。また、特開平９−２６５５０号公報記載の発明で
は、ＬＤアレイの複数のビームの深度方向のバラツキ内
に所望のスポット位置を持つ技術が開示されている。さ
らに、特開昭５６−４２２４８公報記載の発明では、複
数の発光部を持つ光源を光学レンズの光軸を中心として
回転可能として、ビームピッチを調整する技術が開示さ
れている。
機などの画像形成装置では、記録速度の高速化および記
録密度の高密度化の要求に対応して、複数のレーザビー
ムで感光体の被走査面上を同時に走査するマルチビーム
走査装置が採用されている。このマルチビーム走査装置
は、複数の半導体レーザからの光ビームをそれぞれコリ
メートし、副走査対応方向に互いに微小角度を持たせて
合成し、偏向手段を介し、結像光学系により被走査面上
に複数の光スポットとして結像し、一度に複数ラインを
走査する。この複数のレーザビームを持つ光源として
は、複数の発光点を同一基板上にアレイ状に並べた半導
体レーザアレイが使用されている。例えば、特開平８−
１３６８４１号公報記載の発明では、２ビームＬＤアレ
イの第１の光路を回転部材の回転軸に調整し、第２の光
路は第１の光路を中心として回動する技術が開示されて
いる。また、特開平９−２６５５０号公報記載の発明で
は、ＬＤアレイの複数のビームの深度方向のバラツキ内
に所望のスポット位置を持つ技術が開示されている。さ
らに、特開昭５６−４２２４８公報記載の発明では、複
数の発光部を持つ光源を光学レンズの光軸を中心として
回転可能として、ビームピッチを調整する技術が開示さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記特開平
８−１３６８４１号公報で提案されている方式では、第
１のレーザ光路を回動部材の回転中心に一致させ、第２
のレーザ光路は回動部材を回動することにより第１と第
２の走査間隔（画像密度間隔）を調整するとしている。
しかし、この従来方式ではその構成上、コリメートレン
ズの光軸から第２のレーザ光路は第１のレーザ光路より
遠ざかってしまう。これにより被走査面上の第１と第２
のビームウェスト位置が異なってしまい、所望のビーム
径を得ることが困難である。また、２つ以上の発光点を
もつ半導体レーザアレイでは、所望のビーム径を得るこ
とはより困難になり、さらなる記録速度の高速化および
記録密度の高密度化に対応できない。
８−１３６８４１号公報で提案されている方式では、第
１のレーザ光路を回動部材の回転中心に一致させ、第２
のレーザ光路は回動部材を回動することにより第１と第
２の走査間隔（画像密度間隔）を調整するとしている。
しかし、この従来方式ではその構成上、コリメートレン
ズの光軸から第２のレーザ光路は第１のレーザ光路より
遠ざかってしまう。これにより被走査面上の第１と第２
のビームウェスト位置が異なってしまい、所望のビーム
径を得ることが困難である。また、２つ以上の発光点を
もつ半導体レーザアレイでは、所望のビーム径を得るこ
とはより困難になり、さらなる記録速度の高速化および
記録密度の高密度化に対応できない。
【０００４】一方で、コリメートレンズがコリメートレ
ンズの光軸を中心として回動することにより、各々のレ
ーザビームに対して像面側で均一なビーム間隔と均一な
ビーム形状を得ることができるが、この場合は、コリメ
ートレンズの光軸が一致するように構成部品の寸法精度
誤差を高めることが必要になり部品コストが上昇する。
また、回動部材の構成部品が多くなると累積誤差も大き
くなってしまう。この誤差が大きくなると回動時に被走
査面上でビーム位置がずれてしまい、それを補正するた
めの調整が必要となり、ますますコストが上昇してしま
う。
ンズの光軸を中心として回動することにより、各々のレ
ーザビームに対して像面側で均一なビーム間隔と均一な
ビーム形状を得ることができるが、この場合は、コリメ
ートレンズの光軸が一致するように構成部品の寸法精度
誤差を高めることが必要になり部品コストが上昇する。
また、回動部材の構成部品が多くなると累積誤差も大き
くなってしまう。この誤差が大きくなると回動時に被走
査面上でビーム位置がずれてしまい、それを補正するた
めの調整が必要となり、ますますコストが上昇してしま
う。
【０００５】そこで、本発明の第１の目的は、等間隔の
複数発光点を有する半導体レーザアレイを光源として、
両端の発光点間の中心あるいは略中心とコリメートレン
ズの光軸を一致するように移動調整して、コリメートレ
ンズの光軸を中心として回動自在としたことで、各々の
レーザビームに対して像面側で均一なビーム間隔と均一
なビーム形状を得ることができるマルチビーム光源装置
を提供することである。本発明の第２の目的は、上記の
回動部材の嵌合摺動部をレンズ光軸と同軸精度の出しや
すいコリメートレンズのレンズ外筒とすることにより、
構成部品を少なくかつ精度良く回動するマルチビーム光
源装置を提供することである。
複数発光点を有する半導体レーザアレイを光源として、
両端の発光点間の中心あるいは略中心とコリメートレン
ズの光軸を一致するように移動調整して、コリメートレ
ンズの光軸を中心として回動自在としたことで、各々の
レーザビームに対して像面側で均一なビーム間隔と均一
なビーム形状を得ることができるマルチビーム光源装置
を提供することである。本発明の第２の目的は、上記の
回動部材の嵌合摺動部をレンズ光軸と同軸精度の出しや
すいコリメートレンズのレンズ外筒とすることにより、
構成部品を少なくかつ精度良く回動するマルチビーム光
源装置を提供することである。
【０００６】また、本発明の第３の目的は、上記のよう
なマルチビーム光源装置を用い、被走査面上に所望の走
査間隔（画素密度間隔）および各々のレーザビームに対
して均一な所望のビーム径を得ることができるマルチビ
ーム走査装置を提供することである。また、本発明の第
４の目的は、このマルチビーム走査装置を備え、画質を
損なうことなく速度の高速化および記録密度の高密度化
を得ることが可能な画像形成装置を提供することであ
る。
なマルチビーム光源装置を用い、被走査面上に所望の走
査間隔（画素密度間隔）および各々のレーザビームに対
して均一な所望のビーム径を得ることができるマルチビ
ーム走査装置を提供することである。また、本発明の第
４の目的は、このマルチビーム走査装置を備え、画質を
損なうことなく速度の高速化および記録密度の高密度化
を得ることが可能な画像形成装置を提供することであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、同一パッケージ内にアレイ状に等間隔の複数発光点
を有する半導体レーザアレイを光源とし、これらの光源
より発光された複数のレーザ光を各々平行光束にするコ
リメートレンズとを有するマルチビーム光源装置におい
て、半導体レーザアレイの両端の発光点の中央部とコリ
メートレンズの光軸とが一致するように移動調整する調
整手段を備え、前記コリメートレンズの光軸を中心とし
て回転自在としたことにより、前記第１の目的を達成す
る。
は、同一パッケージ内にアレイ状に等間隔の複数発光点
を有する半導体レーザアレイを光源とし、これらの光源
より発光された複数のレーザ光を各々平行光束にするコ
リメートレンズとを有するマルチビーム光源装置におい
て、半導体レーザアレイの両端の発光点の中央部とコリ
メートレンズの光軸とが一致するように移動調整する調
整手段を備え、前記コリメートレンズの光軸を中心とし
て回転自在としたことにより、前記第１の目的を達成す
る。
【０００８】請求項２記載の発明では、同一パッケージ
内にアレイ状に等間隔の複数発光点を有する半導体レー
ザアレイを光源とし、これらの光源より発光された複数
のレーザ光を各々平行光束にするコリメートレンズを有
するマルチビーム光源装置において、半導体レーザアレ
イの両端の発光点間の中央部とコリメートレンズの光軸
とが一致するように移動調整する調整手段を備え、前記
コリメートレンズが外筒部に収容されており、且つコリ
メートレンズの光軸を中心として回動自在であり、この
コリメートレンズが収容された外筒部と係合する孔を有
する基体をさらに備え、この回動は、この外筒部が基体
の孔と嵌合摺動することにより、前記第２の目的を達成
する。
内にアレイ状に等間隔の複数発光点を有する半導体レー
ザアレイを光源とし、これらの光源より発光された複数
のレーザ光を各々平行光束にするコリメートレンズを有
するマルチビーム光源装置において、半導体レーザアレ
イの両端の発光点間の中央部とコリメートレンズの光軸
とが一致するように移動調整する調整手段を備え、前記
コリメートレンズが外筒部に収容されており、且つコリ
メートレンズの光軸を中心として回動自在であり、この
コリメートレンズが収容された外筒部と係合する孔を有
する基体をさらに備え、この回動は、この外筒部が基体
の孔と嵌合摺動することにより、前記第２の目的を達成
する。
【０００９】請求項３記載の発明では、請求項１または
請求項２に記載のマルチビーム光源装置を備え、複数の
レーザ光を被走査面に走査する走査手段と、この走査手
段により走査される複数のレーザ光を被走査面に結像さ
せる結像手段と具備したことにより、前記第３の目的を
達成する。
請求項２に記載のマルチビーム光源装置を備え、複数の
レーザ光を被走査面に走査する走査手段と、この走査手
段により走査される複数のレーザ光を被走査面に結像さ
せる結像手段と具備したことにより、前記第３の目的を
達成する。
【００１０】請求項４記載の発明では、請求項３に記載
のマルチビーム走査装置を備え、このマルチビーム走査
装置を用いて、画像データを出力することにより、前記
第４の目的を達成する。
のマルチビーム走査装置を備え、このマルチビーム走査
装置を用いて、画像データを出力することにより、前記
第４の目的を達成する。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図１ないし図５を参照して詳細に説明する。図１は本
実施の形態に係るマルチビーム走査装置の概略構成図で
ある。このマルチビーム走査装置は、アレイ状の複数個
の光源を有する半導体レーザアレイ（半導体レーザダイ
オードアレイ）３０と、この半導体レーザアレイ３０か
らの複数個の光ビームを各々平行光束または略平行光束
にするコリメートレンズ３５、副走査方向にパワーを有
するシリンダレンズ３１、光ビームの偏向走査手段であ
る回転多面鏡３２、ｆθレンズ系３３、トロイダルレン
ズ３４、反射鏡３８、像担持体である感光体ドラム３
６、１走査毎の走査開始時を検知し、同期信号を得るた
めの光検知器３７とから構成されている。
を図１ないし図５を参照して詳細に説明する。図１は本
実施の形態に係るマルチビーム走査装置の概略構成図で
ある。このマルチビーム走査装置は、アレイ状の複数個
の光源を有する半導体レーザアレイ（半導体レーザダイ
オードアレイ）３０と、この半導体レーザアレイ３０か
らの複数個の光ビームを各々平行光束または略平行光束
にするコリメートレンズ３５、副走査方向にパワーを有
するシリンダレンズ３１、光ビームの偏向走査手段であ
る回転多面鏡３２、ｆθレンズ系３３、トロイダルレン
ズ３４、反射鏡３８、像担持体である感光体ドラム３
６、１走査毎の走査開始時を検知し、同期信号を得るた
めの光検知器３７とから構成されている。
【００１２】まず、半導体レーザアレイ３０から発光し
た複数のレーザビームは、コリメートレンズ３５によっ
て平行光束あるいは略平行光束になり、シリンダレンズ
３１を介して回転多面鏡３２よりなる偏向走査手段に入
射される。そして、この回転多面鏡３２を回転させるこ
とにより、主走査方向に繰り返し走査されることにな
る。回転多面鏡３２で反射されたレーザビームは、結像
系であるｆθレンズ３３とトロイダルレンズ３４により
収束光となり、反射鏡３８により反射されて、ビームウ
ェスト位置である結像位置に配置された感光体ドラム３
６等の被走査面３９上に光スポットとして投影される。
このとき４つのレーザビームは、副走査方向（主走査方
向と直行する方向）に画素密度間隔Ｐだけ離れて４本の
走査線が一走査にて同時に書き込まれる。画素密度を６
００ｄｐｉとするとＰ＝１ｉｎｃｈ／６００≒４２．３
μｍとなる。また、有効走査幅の領域外に光検知器３７
を設けており、一走査毎の走査方向にレーザビームを検
知し同期を取っている。
た複数のレーザビームは、コリメートレンズ３５によっ
て平行光束あるいは略平行光束になり、シリンダレンズ
３１を介して回転多面鏡３２よりなる偏向走査手段に入
射される。そして、この回転多面鏡３２を回転させるこ
とにより、主走査方向に繰り返し走査されることにな
る。回転多面鏡３２で反射されたレーザビームは、結像
系であるｆθレンズ３３とトロイダルレンズ３４により
収束光となり、反射鏡３８により反射されて、ビームウ
ェスト位置である結像位置に配置された感光体ドラム３
６等の被走査面３９上に光スポットとして投影される。
このとき４つのレーザビームは、副走査方向（主走査方
向と直行する方向）に画素密度間隔Ｐだけ離れて４本の
走査線が一走査にて同時に書き込まれる。画素密度を６
００ｄｐｉとするとＰ＝１ｉｎｃｈ／６００≒４２．３
μｍとなる。また、有効走査幅の領域外に光検知器３７
を設けており、一走査毎の走査方向にレーザビームを検
知し同期を取っている。
【００１３】図２は本実施の形態のマルチビーム光源装
置の構成例を示した図である。半導体レーザアレイ３０
は、支持体２に圧入または密着、あるいは図示しない別
部材をネジ等で締結することにより固定されている。支
持体２は回転基体３の裏面３ａにネジにて接合される。
ここで支持体２の孔はネジに対して遊びが存在するよう
になっており、コリメートレンズ３５の光軸Ａに対して
半導体レーザアレイ３０を上下左右に位置調整可能とな
っている。
置の構成例を示した図である。半導体レーザアレイ３０
は、支持体２に圧入または密着、あるいは図示しない別
部材をネジ等で締結することにより固定されている。支
持体２は回転基体３の裏面３ａにネジにて接合される。
ここで支持体２の孔はネジに対して遊びが存在するよう
になっており、コリメートレンズ３５の光軸Ａに対して
半導体レーザアレイ３０を上下左右に位置調整可能とな
っている。
【００１４】コリメートレンズ３５は鏡筒６に納められ
ており、鏡筒６は回転基体３の嵌合孔３ｂに光軸Ａ方向
に半導体レーザアレイ３０との位置を合わせて接着ある
いは図示しないネジ等により固定されている。回転基体
３には嵌合孔３ｂと同心の嵌合軸３ｅがあり、基体１０
の嵌合孔１０ａと嵌合し、嵌合軸３ｅを回転中心として
（これはコリメートレンズ３５の光軸あるいは略光軸と
一致する）回動でき、光源装置の調整後にネジ１１によ
り基体１０に固定保持される。回転基体３のボス３ｄに
は半導体レーザアレイ３０の駆動回路よりなる基板７が
ネジ８にて固定されている。この光源装置は走査装置の
光学ハウジング１２に位置決めピン１２ａ、１２ｂによ
り姿勢が、取付面１２ｃにより定められた空間距離をも
って取り付けられる。
ており、鏡筒６は回転基体３の嵌合孔３ｂに光軸Ａ方向
に半導体レーザアレイ３０との位置を合わせて接着ある
いは図示しないネジ等により固定されている。回転基体
３には嵌合孔３ｂと同心の嵌合軸３ｅがあり、基体１０
の嵌合孔１０ａと嵌合し、嵌合軸３ｅを回転中心として
（これはコリメートレンズ３５の光軸あるいは略光軸と
一致する）回動でき、光源装置の調整後にネジ１１によ
り基体１０に固定保持される。回転基体３のボス３ｄに
は半導体レーザアレイ３０の駆動回路よりなる基板７が
ネジ８にて固定されている。この光源装置は走査装置の
光学ハウジング１２に位置決めピン１２ａ、１２ｂによ
り姿勢が、取付面１２ｃにより定められた空間距離をも
って取り付けられる。
【００１５】図３に半導体レーザアレイ３０とコリメー
トレンズ３５との関係を、図４に結像位置でのビームス
ポットの縦方向（副走査方向、画素密度間隔方向）の位
置を示してある。ここでは、調整方法を４つの光源を持
った例について説明する。等間隔に並んだ１０１、１０
２、１０３、１０４のうち両端の１０１と１０４の中央
に、コリメートレンズ３５の光軸Ａが来るように、支持
体２を上下左右に位置調整し固定する。これにより、各
々の光源１０１、１０２、１０３、１０４からコリメー
トレンズ５までの距離Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４がほぼ等
しくなる。光源間隔ｐは数十μｍほどの微少間隔である
ので、すべてのレーザビームが光軸Ａ近傍を通ることに
なり、結像位置での各々のビーム径Ｄと画素密度間隔Ｐ
はほぼ均一となる。この状態で回転基体３を回動すると
略光軸Ａを中心に回動し、画素密度間隔はＰより狭まり
Ｐ’となるのでＰを所望の画素密度間隔より大きくなる
ように、結像系の副走査倍率を決定しておけば、容易に
所望の画素密度間隔を得ることができる。
トレンズ３５との関係を、図４に結像位置でのビームス
ポットの縦方向（副走査方向、画素密度間隔方向）の位
置を示してある。ここでは、調整方法を４つの光源を持
った例について説明する。等間隔に並んだ１０１、１０
２、１０３、１０４のうち両端の１０１と１０４の中央
に、コリメートレンズ３５の光軸Ａが来るように、支持
体２を上下左右に位置調整し固定する。これにより、各
々の光源１０１、１０２、１０３、１０４からコリメー
トレンズ５までの距離Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４がほぼ等
しくなる。光源間隔ｐは数十μｍほどの微少間隔である
ので、すべてのレーザビームが光軸Ａ近傍を通ることに
なり、結像位置での各々のビーム径Ｄと画素密度間隔Ｐ
はほぼ均一となる。この状態で回転基体３を回動すると
略光軸Ａを中心に回動し、画素密度間隔はＰより狭まり
Ｐ’となるのでＰを所望の画素密度間隔より大きくなる
ように、結像系の副走査倍率を決定しておけば、容易に
所望の画素密度間隔を得ることができる。
【００１６】また、各々の光源間の中心付近にて回動す
るため、回動によりビーム位置が大きく異なったりする
こともなく、非常に安定し、精度良く合わせることが可
能となる。この回動により画素密度Ｐ’を調整する際
に、この光源装置を調整治具にて回動位置を合わせてお
けば、光源装置のユニットでの互換性を保つことができ
る。
るため、回動によりビーム位置が大きく異なったりする
こともなく、非常に安定し、精度良く合わせることが可
能となる。この回動により画素密度Ｐ’を調整する際
に、この光源装置を調整治具にて回動位置を合わせてお
けば、光源装置のユニットでの互換性を保つことができ
る。
【００１７】この回動位置の位置決めは、基体１０に設
けられた位置決め孔１０ｂ、１０ｃにより行われる。す
なわち光学ハウジング１２と図示しない調整治具とで、
レーザビームの結像位置よりみて同じ位置に基体１０が
配置するようにすれば良い。これにより市場等で光源装
置を交換することになっても調整することなく交換がで
きるようになる。なお、上記例では、半導体レーザアレ
イ３０の位置を調整する例を説明したが、コリメートレ
ンズ３５の位置を調整するようにしてもよい。
けられた位置決め孔１０ｂ、１０ｃにより行われる。す
なわち光学ハウジング１２と図示しない調整治具とで、
レーザビームの結像位置よりみて同じ位置に基体１０が
配置するようにすれば良い。これにより市場等で光源装
置を交換することになっても調整することなく交換がで
きるようになる。なお、上記例では、半導体レーザアレ
イ３０の位置を調整する例を説明したが、コリメートレ
ンズ３５の位置を調整するようにしてもよい。
【００１８】次に、図５を参照して第２の実施の形態を
説明する。この第２の実施の形態を説明するにあたり、
第１の実施の形態と同様の箇所は、説明を省略し、相違
点のみ以下に述べる。図５に示すように、コリメートレ
ンズ３５は鏡筒６に接着あるいは圧入され納められてお
り、鏡筒６は回転基体３の嵌合孔３ｂに光軸Ａ方向に半
導体レーザアレイ３０との位置を合わせて接着あるいは
図示しないネジ等により固定される。回転基体３に固定
された鏡筒６は基体１０の嵌合孔１０ａと勘合し、鏡筒
６の外径６ａを回転中心として回動できるようになって
いる。一般にレンズ外径とレンズ光軸は精度良く偏芯は
抑えられており、且つ鏡筒６の外径６ａとコリメートレ
ンズ３５の嵌合部６ｂとは同一加工のため同軸精度が出
ており、鏡筒６の外径の６ａの中心とコリメートレンズ
３５の光軸Ａとは正確に一致することになる。この回転
基体３は後述の光源装置の調整後にネジ１１により基体
１０により固定保持される。
説明する。この第２の実施の形態を説明するにあたり、
第１の実施の形態と同様の箇所は、説明を省略し、相違
点のみ以下に述べる。図５に示すように、コリメートレ
ンズ３５は鏡筒６に接着あるいは圧入され納められてお
り、鏡筒６は回転基体３の嵌合孔３ｂに光軸Ａ方向に半
導体レーザアレイ３０との位置を合わせて接着あるいは
図示しないネジ等により固定される。回転基体３に固定
された鏡筒６は基体１０の嵌合孔１０ａと勘合し、鏡筒
６の外径６ａを回転中心として回動できるようになって
いる。一般にレンズ外径とレンズ光軸は精度良く偏芯は
抑えられており、且つ鏡筒６の外径６ａとコリメートレ
ンズ３５の嵌合部６ｂとは同一加工のため同軸精度が出
ており、鏡筒６の外径の６ａの中心とコリメートレンズ
３５の光軸Ａとは正確に一致することになる。この回転
基体３は後述の光源装置の調整後にネジ１１により基体
１０により固定保持される。
【００１９】
【発明の効果】請求項１記載の発明では、同一パッケー
ジ内にアレイ状に等間隔の複数発光点を有する半導体レ
ーザアレイを光源として、両端の発光点間の中心あるい
は略中心とコリメートレンズの光軸を一致するように移
動調整して、コリメートレンズの光軸あるいは略光軸を
中心として回動自在としているので、各々のレーザビー
ムに対して像面側で均一なビーム間隔と均一なビーム形
状を得ることができる。
ジ内にアレイ状に等間隔の複数発光点を有する半導体レ
ーザアレイを光源として、両端の発光点間の中心あるい
は略中心とコリメートレンズの光軸を一致するように移
動調整して、コリメートレンズの光軸あるいは略光軸を
中心として回動自在としているので、各々のレーザビー
ムに対して像面側で均一なビーム間隔と均一なビーム形
状を得ることができる。
【００２０】請求項２記載の発明では、同一パッケージ
内にアレイ状に等間隔の複数発光点を有する半導体レー
ザアレイを光源として、両端の発光点間の中心あるいは
略中心とコリメートレンズの光軸を一致するように移動
調整して、コリメートレンズのレンズ外筒部にて嵌合摺
動させ光軸を中心として回動自在としているので、低コ
ストで精度良く各々のレーザビームに対して像面側で回
動による位置ズレが少ない均一なビーム形状を得ること
ができる。
内にアレイ状に等間隔の複数発光点を有する半導体レー
ザアレイを光源として、両端の発光点間の中心あるいは
略中心とコリメートレンズの光軸を一致するように移動
調整して、コリメートレンズのレンズ外筒部にて嵌合摺
動させ光軸を中心として回動自在としているので、低コ
ストで精度良く各々のレーザビームに対して像面側で回
動による位置ズレが少ない均一なビーム形状を得ること
ができる。
【００２１】請求項３記載の発明では、請求項１または
請求項２に記載のマルチビーム光源装置と複数のレーザ
光を被走査面に走査する走査手段と、走査されるレーザ
光を被走査面に結像させる結像部を有しているので、被
走査面上に所望の走査間隔（画素密度間隔）および各々
のレーザビームに対して均一所望のビーム径を得ること
ができる。
請求項２に記載のマルチビーム光源装置と複数のレーザ
光を被走査面に走査する走査手段と、走査されるレーザ
光を被走査面に結像させる結像部を有しているので、被
走査面上に所望の走査間隔（画素密度間隔）および各々
のレーザビームに対して均一所望のビーム径を得ること
ができる。
【００２２】請求項４記載の発明では、請求項３に記載
のマルチビーム走査装置を備えているので、画質を損な
うことなく速度の高速化と高密度化が可能となる。
のマルチビーム走査装置を備えているので、画質を損な
うことなく速度の高速化と高密度化が可能となる。
【図１】本実施の形態に係るマルチビーム走査装置の概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】第１の実施の形態に係るマルチビーム光源装置
の構成例を示す図である。
の構成例を示す図である。
【図３】半導体レーザアレイとコリメートレンズとの関
係を示した図である。
係を示した図である。
【図４】結像位置でのビームスポットの縦方向（副走査
方向、画素密度間隔方向）の位置を示した図である。
方向、画素密度間隔方向）の位置を示した図である。
【図５】第２の実施の形態に係るマルチビーム光源装置
の構成例を示す図である。
の構成例を示す図である。
２ 支持体 ３ 回転基体 ６ 鏡筒 １０ 基体 １２ 光学ハウジング ３０ 半導体レーザアレイ ３１ シリンダレンズ ３２ 回転多面鏡 ３３ ｆθレンズ ３４ トロイダルレンズ ３５ コリメートレンズ ３６ 感光体ドラム ３７ 光探知器 ３８ 反射鏡 ３９ 被走査面
Claims (4)
- 【請求項１】 同一パッケージ内にアレイ状に等間隔の
複数発光点を有する半導体レーザアレイを光源とし、こ
れらの光源より発光された複数のレーザ光を各々平行光
束にするコリメートレンズを有するマルチビーム光源装
置において、 半導体レーザアレイの両端の発光点間の中央部とコリメ
ートレンズの光軸とが一致するように移動調整する調整
手段を備え、 前記コリメートレンズがコリメートレンズの光軸を中心
として回動自在としたことを特徴とするマルチビーム光
源装置。 - 【請求項２】 同一パッケージ内にアレイ状に等間隔の
複数発光点を有する半導体レーザアレイを光源とし、こ
れらの光源より発光された複数のレーザ光を各々平行光
束にするコリメートレンズを有するマルチビーム光源装
置において、 半導体レーザアレイの両端の発光点間の中央部とコリメ
ートレンズの光軸とが一致するように移動調整する調整
手段を備え、 前記コリメートレンズが外筒部に収容されており、且つ
コリメートレンズの光軸を中心として回動自在であり、 このコリメートレンズが収容された外筒部と係合する孔
を有する基体をさらに備え、 この回動は、この外筒部が基体の孔と嵌合摺動すること
を特徴とするマルチビーム光源装置。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載のマルチ
ビーム光源装置を備え、 複数のレーザ光を被走査面に走査する走査手段と、 この走査手段により走査される複数のレーザ光を被走査
面に結像させる結像手段とからなることを特徴とするマ
ルチビーム走査装置。 - 【請求項４】 請求項３に記載のマルチビーム走査装置
を備え、このマルチビーム走査装置を用いて、画像デー
タを出力することを特徴とする画像形成装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10375098A JP2000105347A (ja) | 1998-07-29 | 1998-12-11 | マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置 |
| ES99114251T ES2205654T3 (es) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Unidad de fuente de luz multi-haz, escaner multi-haz y aparato de formacion de imagenes. |
| DE69911332T DE69911332T2 (de) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Mehrstrahllichtquelle, Mehrstrahlabtaster und Bilderzeugungsgerät |
| EP99114251A EP0977422B1 (en) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Multi-beam light source unit, multi-beam scanner and image forming apparatus |
| US09/361,993 US6320647B1 (en) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Multi-beam light source unit, multi-beam scanner and image forming apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22940998 | 1998-07-29 | ||
| JP10-229409 | 1998-07-29 | ||
| JP10375098A JP2000105347A (ja) | 1998-07-29 | 1998-12-11 | マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000105347A true JP2000105347A (ja) | 2000-04-11 |
Family
ID=26528779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10375098A Pending JP2000105347A (ja) | 1998-07-29 | 1998-12-11 | マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6320647B1 (ja) |
| EP (1) | EP0977422B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000105347A (ja) |
| DE (1) | DE69911332T2 (ja) |
| ES (1) | ES2205654T3 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1316284C (zh) * | 2003-11-01 | 2007-05-16 | 三星电子株式会社 | 多光束光源单元，激光扫描装置和装配方法 |
| JP2008037047A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光線変位算出方法、光走査装置、及び画像形成装置 |
| JP2009098542A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-07 | Hoya Corp | マルチビーム走査装置 |
| JP2011215609A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-10-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 被取付部品の取付構造、光走査装置、及び画像形成装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281578A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム走査装置及び画像形成装置 |
| JP2004126482A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-04-22 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源装置およびマルチビーム走査装置 |
| US7151556B2 (en) * | 2002-08-23 | 2006-12-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Sub-scanning interval adjusting apparatus for multi-beam scanning unit |
| EP1439070B1 (en) * | 2003-01-20 | 2008-10-29 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam scanning device and image forming apparatus using the scanning device |
| JP2004246137A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Pentax Corp | レーザ走査装置 |
| KR100579505B1 (ko) * | 2003-11-05 | 2006-05-15 | 삼성전자주식회사 | 멀티-빔 광원 유닛 및 이를 구비하는 레이저 스캐닝 유닛 |
| JP5449302B2 (ja) * | 2011-12-08 | 2014-03-19 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置、及びこれを用いた画像形成装置 |
| JP2016188966A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置のビーム調整方法及び光走査装置 |
| JP6946983B2 (ja) | 2017-11-30 | 2021-10-13 | 株式会社リコー | 位置検出装置、画像読取装置、画像形成装置、プログラムおよび位置検出方法 |
| CN112567294B (zh) * | 2018-08-16 | 2023-02-17 | 索尼公司 | 光源装置和投影型显示装置 |
| CN110568717B (zh) * | 2019-09-25 | 2024-08-06 | 天逸瑞狮（苏州）口腔医疗科技股份有限公司 | 一种影像扫描设备的光束调整装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4393387A (en) * | 1979-09-14 | 1983-07-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Beam recording apparatus effecting the recording by a plurality of beams |
| JPS5642248A (en) | 1979-09-14 | 1981-04-20 | Canon Inc | Light source device |
| JPH0727988A (ja) * | 1993-07-08 | 1995-01-31 | Canon Inc | 光走査装置 |
| JPH08136841A (ja) * | 1994-11-08 | 1996-05-31 | Canon Inc | レ−ザユニット及び画像形成装置 |
| US5753907A (en) * | 1995-05-24 | 1998-05-19 | Ricoh Company, Ltd. | Multiple beam scanning apparatus |
| JPH0926550A (ja) | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム走査装置 |
| JPH0933834A (ja) * | 1995-07-21 | 1997-02-07 | Canon Inc | ２ビームレーザー走査光学系 |
| JP3545115B2 (ja) * | 1995-09-22 | 2004-07-21 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 像面湾曲の補正方法および該方法に使用する光ビーム走査装置 |
| JPH09251137A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Konica Corp | レーザ記録装置 |
| JPH1010448A (ja) * | 1996-06-24 | 1998-01-16 | Canon Inc | 光走査装置 |
| JPH1010447A (ja) * | 1996-06-24 | 1998-01-16 | Canon Inc | 光走査装置 |
| JPH10193680A (ja) * | 1997-01-10 | 1998-07-28 | Fujitsu Ltd | 光源装置とそれを用いた画像形成装置 |
| JPH10319338A (ja) | 1997-05-16 | 1998-12-04 | Canon Inc | レーザー光発生装置及び光源調整方法 |
| US5999345A (en) * | 1997-07-03 | 1999-12-07 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam light source unit |
| JP3679560B2 (ja) * | 1997-08-22 | 2005-08-03 | キヤノン株式会社 | 走査光学系の調整方法 |
| JPH1158829A (ja) | 1997-08-26 | 1999-03-02 | Canon Inc | レーザー光源装置 |
| JPH1172729A (ja) | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Canon Inc | マルチビーム走査装置 |
| JPH11202230A (ja) * | 1998-01-14 | 1999-07-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
-
1998
- 1998-12-11 JP JP10375098A patent/JP2000105347A/ja active Pending
-
1999
- 1999-07-28 US US09/361,993 patent/US6320647B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-28 ES ES99114251T patent/ES2205654T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-28 DE DE69911332T patent/DE69911332T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-28 EP EP99114251A patent/EP0977422B1/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69911332T2 (de) | 2004-07-01 |
| EP0977422A2 (en) | 2000-02-02 |
| EP0977422A3 (en) | 2001-07-11 |
| US6320647B1 (en) | 2001-11-20 |
| DE69911332D1 (de) | 2003-10-23 |
| ES2205654T3 (es) | 2004-05-01 |
| EP0977422B1 (en) | 2003-09-17 |
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