JP2000098388A - 液晶表示装置 - Google Patents
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-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コントラストが良好で、表示品質の優れたも
のを得る。 【解決手段】 液晶を介して互いに対向配置される一対
の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の液晶側の
面に、光を反射させる材料層を下層として光配向配向膜
が形成されている液晶表示装置において、光を反射させ
る前記材料層のうち、少なくとも反射によって光の偏光
方向を異ならしめる部分の前記光配向配向膜下に反射防
止膜が形成されている。
のを得る。 【解決手段】 液晶を介して互いに対向配置される一対
の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の液晶側の
面に、光を反射させる材料層を下層として光配向配向膜
が形成されている液晶表示装置において、光を反射させ
る前記材料層のうち、少なくとも反射によって光の偏光
方向を異ならしめる部分の前記光配向配向膜下に反射防
止膜が形成されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特に、その配向膜としていわゆる光配向配向膜を用
いた液晶表示装置に関する。
り、特に、その配向膜としていわゆる光配向配向膜を用
いた液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、液晶を介して互いに対
向配置される一対の透明基板を外囲器とし、該液晶の広
がり方向に多数の画素が備えられている。
向配置される一対の透明基板を外囲器とし、該液晶の広
がり方向に多数の画素が備えられている。
【0003】各画素にはそれらに対応する液晶内に電界
を発生せしめる電極等がそれぞれ形成され、該電界によ
って液晶の分子配列を変化させて光透過率を変化させる
ようになっている。
を発生せしめる電極等がそれぞれ形成され、該電界によ
って液晶の分子配列を変化させて光透過率を変化させる
ようになっている。
【0004】このため、各透明基板の液晶側の面には配
向膜が形成されており、この配向膜によって液晶の初期
配列(初期配向)を決定させるようになっている。
向膜が形成されており、この配向膜によって液晶の初期
配列(初期配向)を決定させるようになっている。
【0005】このことから、配向膜は液晶内に電界を発
生せしめる電極等よりも上層に形成され、液晶と直接に
接触するようにして形成されるのが通常となっている。
生せしめる電極等よりも上層に形成され、液晶と直接に
接触するようにして形成されるのが通常となっている。
【0006】そして、近年、この配向膜としていわゆる
光配向配向膜が知られるようになり、所定方向に偏光を
有する光を照射させることによって、これまでのラビン
グ処理を施す必要のない膜が用いられるようになってき
ている。
光配向配向膜が知られるようになり、所定方向に偏光を
有する光を照射させることによって、これまでのラビン
グ処理を施す必要のない膜が用いられるようになってき
ている。
【0007】すなわち、所定方向に偏光を有する光の照
射は、配向膜において液晶分子の配向方向を規制できる
手段としてなされるようになっている。
射は、配向膜において液晶分子の配向方向を規制できる
手段としてなされるようになっている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような光
配向配向膜を用いた液晶表示装置は、コントラストが充
分でないことが指摘されるに到っている。
配向配向膜を用いた液晶表示装置は、コントラストが充
分でないことが指摘されるに到っている。
【0009】この原因を究明した結果、以下のことが判
明するに到った。
明するに到った。
【0010】すなわち、電極等の上層に配向膜としての
材料層を形成した後に、この材料層に光を照射させる際
に、この光は、材料層を照射後も、その一部が電極等に
よって反射されて該材料層に再度照射されるという現象
が生じる。
材料層を形成した後に、この材料層に光を照射させる際
に、この光は、材料層を照射後も、その一部が電極等に
よって反射されて該材料層に再度照射されるという現象
が生じる。
【0011】この場合、前記電極の周辺にテーパが形成
され、このテーパ部において反射が生じている場合、予
め所定方向に偏光を有する光は、該反射によって異なる
方向に偏光を有するようになる場合がある。
され、このテーパ部において反射が生じている場合、予
め所定方向に偏光を有する光は、該反射によって異なる
方向に偏光を有するようになる場合がある。
【0012】このような反射によって、予め設定された
方向と異なる偏光方向を有する光が照射された材料層
は、その部分において配向性が乱れることになり、ひい
ては配向欠陥が生じてしまうことになる。
方向と異なる偏光方向を有する光が照射された材料層
は、その部分において配向性が乱れることになり、ひい
ては配向欠陥が生じてしまうことになる。
【0013】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたものであり、その目的は、コントラストを良好にし
て、表示品質に優れた液晶表示装置を提供することにあ
る。
れたものであり、その目的は、コントラストを良好にし
て、表示品質に優れた液晶表示装置を提供することにあ
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0015】すなわち、液晶を介して互いに対向配置さ
れる一対の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の
液晶側の面に、光を反射させる材料層を下層として光配
向配向膜が形成されている液晶表示装置において、光を
反射させる前記材料層のうち、少なくとも反射によって
光の偏光方向を異ならしめる部分の前記光配向配向膜下
に反射防止膜が形成されていることを特徴とするもので
ある。
れる一対の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の
液晶側の面に、光を反射させる材料層を下層として光配
向配向膜が形成されている液晶表示装置において、光を
反射させる前記材料層のうち、少なくとも反射によって
光の偏光方向を異ならしめる部分の前記光配向配向膜下
に反射防止膜が形成されていることを特徴とするもので
ある。
【0016】このように構成された液晶表示装置は、液
晶の配向性が乱れることのない光配向配向膜を得ること
ができるようになる。
晶の配向性が乱れることのない光配向配向膜を得ること
ができるようになる。
【0017】すなわち、光配向配向膜を配向膜として機
能させるには、それに所定方向に偏光方向を有する光を
照射させる工程を必要とする。しかし、この際に、光
は、一旦、配向膜を照射した後、その下層の光を反射さ
せる材料層(電極等)に反射され、その反射される部分
によっては所定方向と異なる偏光方向を有して再び上層
の配向膜に照射されることになる。
能させるには、それに所定方向に偏光方向を有する光を
照射させる工程を必要とする。しかし、この際に、光
は、一旦、配向膜を照射した後、その下層の光を反射さ
せる材料層(電極等)に反射され、その反射される部分
によっては所定方向と異なる偏光方向を有して再び上層
の配向膜に照射されることになる。
【0018】しかし、この部分には反射防止膜が形成さ
れていることから、異なる偏光方向を有する光が配向膜
に照射されることを回避できることになる。
れていることから、異なる偏光方向を有する光が配向膜
に照射されることを回避できることになる。
【0019】このため、配向膜はその全域にわたって所
定方向に偏光方向を有する光のみが照射されることにな
り、液晶に対する配向性の乱れを惹き起こすことがなく
なる。
定方向に偏光方向を有する光のみが照射されることにな
り、液晶に対する配向性の乱れを惹き起こすことがなく
なる。
【0020】したがって、コントラストを良好にして、
表示品質に優れた液晶表示装置を得ることができるよう
になる。
表示品質に優れた液晶表示装置を得ることができるよう
になる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の一実施例を図面を用いて説明をする。
の一実施例を図面を用いて説明をする。
【0022】〔装置の等価回路〕図2において、まず、
いわゆるアクティブ・マトリックス型の液晶表示パネル
100がある。なお、この液晶表示パネル100は同図
では一方の透明基板1Aのみを示しており、この透明基
板と液晶を介して他方の透明基板とで液晶表示パネル1
00の外囲器を構成している。
いわゆるアクティブ・マトリックス型の液晶表示パネル
100がある。なお、この液晶表示パネル100は同図
では一方の透明基板1Aのみを示しており、この透明基
板と液晶を介して他方の透明基板とで液晶表示パネル1
00の外囲器を構成している。
【0023】この液晶表示パネル100は、その表示部
がマトリックス状に配置された複数の画素の集合によっ
て構成され、それぞれの各画素は、該液晶表示パネル1
00の背部に配置されたバックライトユニット(図示せ
ず)からの透過光を独自に変調制御できるように構成さ
れている。
がマトリックス状に配置された複数の画素の集合によっ
て構成され、それぞれの各画素は、該液晶表示パネル1
00の背部に配置されたバックライトユニット(図示せ
ず)からの透過光を独自に変調制御できるように構成さ
れている。
【0024】そして、各画素における光変調は横電界方
式と称される方法を採用しており、その構成は後に詳述
するが、互いに対向配置される透明基板の間に介在され
る液晶層内に発生させる電界は該透明基板と平行になる
ようになっている。
式と称される方法を採用しており、その構成は後に詳述
するが、互いに対向配置される透明基板の間に介在され
る液晶層内に発生させる電界は該透明基板と平行になる
ようになっている。
【0025】このような液晶表示パネル100は、その
表示面に対して大きな角度視野から観察しても鮮明な映
像を認識でき、いわゆる広角度視野に優れたものとして
知られている。
表示面に対して大きな角度視野から観察しても鮮明な映
像を認識でき、いわゆる広角度視野に優れたものとして
知られている。
【0026】すなわち、一方の透明基板1Aの液晶側の
面に、そのx方向(行方向)に延在しy方向(列方向)
に並設される走査信号線2および基準信号線4とが形成
されている。
面に、そのx方向(行方向)に延在しy方向(列方向)
に並設される走査信号線2および基準信号線4とが形成
されている。
【0027】この場合、同図では、透明基板1Aの上方
から、走査信号線2、この走査信号線2と比較的大きく
離間された基準信号線4、この基準信号線4と近接され
た走査信号線2、この走査信号線2と比較的大きく離間
された基準信号線4、…というように順次配置されてい
る。
から、走査信号線2、この走査信号線2と比較的大きく
離間された基準信号線4、この基準信号線4と近接され
た走査信号線2、この走査信号線2と比較的大きく離間
された基準信号線4、…というように順次配置されてい
る。
【0028】そして、これら走査信号線2および対向電
圧信号線4とそれぞれ絶縁されてy方向に延在しx方向
に並設される映像信号線3が形成されている。
圧信号線4とそれぞれ絶縁されてy方向に延在しx方向
に並設される映像信号線3が形成されている。
【0029】ここで、走査信号線2、基準信号線4、お
よび映像信号線3のそれぞれによって囲まれる矩形状の
比較的広い面積の各領域において単位画素が形成される
領域となり、これら各単位画素がマトリックス状に配置
されて表示面を構成するようになっている。
よび映像信号線3のそれぞれによって囲まれる矩形状の
比較的広い面積の各領域において単位画素が形成される
領域となり、これら各単位画素がマトリックス状に配置
されて表示面を構成するようになっている。
【0030】各画素には、走査信号線2からの走査信号
(電圧)の供給によって駆動される薄膜トランジスタT
FTと、この薄膜トランジスタTFTの駆動によって映
像信号線3からの映像信号(電圧)が印加される画素電
極18等が備えられている。なお、この画素の詳細な構
成は後に説明する。
(電圧)の供給によって駆動される薄膜トランジスタT
FTと、この薄膜トランジスタTFTの駆動によって映
像信号線3からの映像信号(電圧)が印加される画素電
極18等が備えられている。なお、この画素の詳細な構
成は後に説明する。
【0031】そして、液晶表示パネル100には、その
外部回路として垂直走査回路5および映像信号駆動回路
6が備えられ、該垂直走査回路5によって前記走査信号
線2のそれぞれに順次走査信号が供給され、そのタイミ
ングに合わせて映像信号駆動回路6から映像信号線3に
映像信号を供給するようになっている。
外部回路として垂直走査回路5および映像信号駆動回路
6が備えられ、該垂直走査回路5によって前記走査信号
線2のそれぞれに順次走査信号が供給され、そのタイミ
ングに合わせて映像信号駆動回路6から映像信号線3に
映像信号を供給するようになっている。
【0032】なお、垂直走査回路5および映像信号駆動
回路6には、たとえばCPU等からの画像情報がコント
ローラ8を介して入力されるようになっているととも
に、各対向電圧信号線4には基準電圧信号源9から基準
電圧信号が供給されるようになっている。
回路6には、たとえばCPU等からの画像情報がコント
ローラ8を介して入力されるようになっているととも
に、各対向電圧信号線4には基準電圧信号源9から基準
電圧信号が供給されるようになっている。
【0033】〔画素の構成〕図3(a)は、前記単位画
素の一実施例を示す平面図である(図2の点線で囲んだ
領域に相当する)。なお、同図(a)のb−b線におけ
る断面図を同図(b)に、c−c線における断面図を同
図(c)に示している。
素の一実施例を示す平面図である(図2の点線で囲んだ
領域に相当する)。なお、同図(a)のb−b線におけ
る断面図を同図(b)に、c−c線における断面図を同
図(c)に示している。
【0034】同図(a)において、透明基板1Aの主表
面に、x方向に延在する対向電圧信号線4と、この基準
信号線4と(−)y方向に比較的大きく離間されかつ平
行に走査信号線2が形成されている。
面に、x方向に延在する対向電圧信号線4と、この基準
信号線4と(−)y方向に比較的大きく離間されかつ平
行に走査信号線2が形成されている。
【0035】ここで、対向電圧信号線4には、3本の対
向電極14が一体に形成されている。すなわち、そのう
ちの2本の対向電極14は、一対の後述する映像信号線
3とで形成される画素領域のy方向辺、すなわち前記そ
れぞれの映像信号線3に近接して(−)y方向に走査信
号線2の近傍にまで延在されて形成され、残りの1本は
それらの間に形成されている。
向電極14が一体に形成されている。すなわち、そのう
ちの2本の対向電極14は、一対の後述する映像信号線
3とで形成される画素領域のy方向辺、すなわち前記そ
れぞれの映像信号線3に近接して(−)y方向に走査信
号線2の近傍にまで延在されて形成され、残りの1本は
それらの間に形成されている。
【0036】そして、これら走査信号線2、対向電圧信
号線4、および対向電極14が形成された透明基板1A
の表面にはこれら走査信号線2等をも被ってたとえばシ
リコン窒化膜からなる絶縁膜15(同図(b)、(c)
参照)が形成されている。この絶縁膜15は、後述する
映像信号線3に対しては走査信号線2および対向電圧信
号線4との交差部に対する層間絶縁膜として、薄膜トラ
ンジスタTFTの形成領域に対してはゲート絶縁膜とし
て、蓄積容量Cstgの形成領域に対しては誘電体膜と
して機能するようになっている。
号線4、および対向電極14が形成された透明基板1A
の表面にはこれら走査信号線2等をも被ってたとえばシ
リコン窒化膜からなる絶縁膜15(同図(b)、(c)
参照)が形成されている。この絶縁膜15は、後述する
映像信号線3に対しては走査信号線2および対向電圧信
号線4との交差部に対する層間絶縁膜として、薄膜トラ
ンジスタTFTの形成領域に対してはゲート絶縁膜とし
て、蓄積容量Cstgの形成領域に対しては誘電体膜と
して機能するようになっている。
【0037】この絶縁膜15の表面には、まず、その薄
膜トランジスタTFTの形成領域において半導体層16
が形成されている。この半導体層16はたとえばアモル
ファスSiからなり、走査信号線2上において映像信号
線3に近接された部分に重畳して形成されている。これ
により、走査信号線2の一部が薄膜トランジスタTFT
のゲート電極を兼ねた構成となっている。
膜トランジスタTFTの形成領域において半導体層16
が形成されている。この半導体層16はたとえばアモル
ファスSiからなり、走査信号線2上において映像信号
線3に近接された部分に重畳して形成されている。これ
により、走査信号線2の一部が薄膜トランジスタTFT
のゲート電極を兼ねた構成となっている。
【0038】そして、このようにして形成された絶縁膜
15の表面には、同図(a)に示すように、そのy方向
に延在しx方向に並設される映像信号線3が形成されて
いる。 そして、映像信号線3は、薄膜トランジスタT
FTの前記半導体層16の表面の一部にまで延在されて
形成されたドレイン電極3Aが一体となって備えられて
いる。
15の表面には、同図(a)に示すように、そのy方向
に延在しx方向に並設される映像信号線3が形成されて
いる。 そして、映像信号線3は、薄膜トランジスタT
FTの前記半導体層16の表面の一部にまで延在されて
形成されたドレイン電極3Aが一体となって備えられて
いる。
【0039】さらに、画素領域における絶縁膜15の表
面には画素電極18が形成されている。この画素電極1
8は前記対向電極14の間を走行するようにして形成さ
れている。すなわち、画素電極18の一端は前記薄膜ト
ランジスタTFTのソース電極18Aを兼ね、そのまま
(+)y方向に延在され、さらに対向電圧信号線4上に
沿ってx方向に延在された後に、(−)方向に延在して
他端を有するコ字形状となっている。
面には画素電極18が形成されている。この画素電極1
8は前記対向電極14の間を走行するようにして形成さ
れている。すなわち、画素電極18の一端は前記薄膜ト
ランジスタTFTのソース電極18Aを兼ね、そのまま
(+)y方向に延在され、さらに対向電圧信号線4上に
沿ってx方向に延在された後に、(−)方向に延在して
他端を有するコ字形状となっている。
【0040】この場合、画素電極18の対向電圧信号線
4に重畳される部分は、前記対向電圧信号線4との間に
誘電体膜としての前記絶縁膜15を備える蓄積容量Cs
tgを構成している。この蓄積容量Cstgによってた
とえば薄膜トランジスタTFTがオフした際に画素電極
18に映像情報を長く蓄積させる効果を奏するようにし
ている。
4に重畳される部分は、前記対向電圧信号線4との間に
誘電体膜としての前記絶縁膜15を備える蓄積容量Cs
tgを構成している。この蓄積容量Cstgによってた
とえば薄膜トランジスタTFTがオフした際に画素電極
18に映像情報を長く蓄積させる効果を奏するようにし
ている。
【0041】なお、前述した薄膜トランジスタTFTの
ドレイン電極3Aとソース電極18Aとの界面に相当す
る半導体層16の表面にはリン(P)がドープされて高
濃度層となっており、これにより前記各電極におけるオ
ーミックコンタクトを図っている。この場合、半導体層
16の表面の全域には前記高濃度層が形成されており、
前記各電極を形成した後に、該電極をマスクとして該電
極形成領域以外の高濃度層をエッチングするようにして
上記の構成とすることができる。
ドレイン電極3Aとソース電極18Aとの界面に相当す
る半導体層16の表面にはリン(P)がドープされて高
濃度層となっており、これにより前記各電極におけるオ
ーミックコンタクトを図っている。この場合、半導体層
16の表面の全域には前記高濃度層が形成されており、
前記各電極を形成した後に、該電極をマスクとして該電
極形成領域以外の高濃度層をエッチングするようにして
上記の構成とすることができる。
【0042】ここで、この実施例では、画素電極18の
上面(その側面をも含む)に、換言すれば画素電極18
を被うようにして反射防止膜10が、また、対向電極1
4の上面(絶縁膜15を間にして)に、換言すれば対向
電極14を被うようにして反射防止膜10が形成されて
いる。
上面(その側面をも含む)に、換言すれば画素電極18
を被うようにして反射防止膜10が、また、対向電極1
4の上面(絶縁膜15を間にして)に、換言すれば対向
電極14を被うようにして反射防止膜10が形成されて
いる。
【0043】ここで、画素電極18を被う反射防止膜1
0および対向電極14を被う反射防止膜10は、画素の
開口率を充分に確保できるようにして形成され、したが
って、平面的に観察した場合に、該反射防止膜10は画
素電極18および対向電極14を充分被う程度に最小の
面積を有するものとなっている。
0および対向電極14を被う反射防止膜10は、画素の
開口率を充分に確保できるようにして形成され、したが
って、平面的に観察した場合に、該反射防止膜10は画
素電極18および対向電極14を充分被う程度に最小の
面積を有するものとなっている。
【0044】そして、この反射防止膜10は、光が入射
された場合にその大部分を吸収し、反射光が僅かしかな
い材料で構成されている。
された場合にその大部分を吸収し、反射光が僅かしかな
い材料で構成されている。
【0045】なお、この反射防止膜10については後に
詳述する。
詳述する。
【0046】そして、このように薄膜トランジスタTF
T、映像信号線3、画素電極18、蓄積容量Cstg、
および前記反射防止膜10が形成された絶縁膜15の上
面にはたとえばシリコン窒化膜からなる保護膜19(同
図(b)、(c)参照)が形成され、この保護膜19の
上面には配向膜20が形成されて、液晶表示パネル10
0の透明基板1Aを構成している。
T、映像信号線3、画素電極18、蓄積容量Cstg、
および前記反射防止膜10が形成された絶縁膜15の上
面にはたとえばシリコン窒化膜からなる保護膜19(同
図(b)、(c)参照)が形成され、この保護膜19の
上面には配向膜20が形成されて、液晶表示パネル10
0の透明基板1Aを構成している。
【0047】図1は、図3(b)に示す断面図をさらに
詳細に記載した断面図であり、液晶層LCを介して配置
される他の透明基板1Bとともに示した断面図である。
詳細に記載した断面図であり、液晶層LCを介して配置
される他の透明基板1Bとともに示した断面図である。
【0048】同図において、透明基板1Aの液晶層LC
側と反対側の面には偏光板21が配置されている。
側と反対側の面には偏光板21が配置されている。
【0049】そして、透明基板1Bの液晶層LC側の部
分には、各画素領域の境界部に相当する部分に遮光膜2
2が形成されている。この遮光膜22は、前記薄膜トラ
ンジスタTFTへ直接光が照射されるのを防止するため
の機能と表示コントラストの向上を図る機能とを備える
ものとなっている。
分には、各画素領域の境界部に相当する部分に遮光膜2
2が形成されている。この遮光膜22は、前記薄膜トラ
ンジスタTFTへ直接光が照射されるのを防止するため
の機能と表示コントラストの向上を図る機能とを備える
ものとなっている。
【0050】さらに、遮光膜22の開口部を被ってカラ
ーフィルタ23が形成され、このカラーフィルタ23は
x方向に隣接する画素領域におけるそれとは異なった色
を備えるとともに、それぞれ遮光膜22上において境界
部を有するようになっている。また、このようにカラー
フィルタ23が形成された面には樹脂膜等からなる平坦
膜24が形成され、この平坦膜24の表面には配向膜2
5が形成されている。また、この透明基板1Bの液晶層
LC側と反対側の面には偏光板26が配置されている。
ーフィルタ23が形成され、このカラーフィルタ23は
x方向に隣接する画素領域におけるそれとは異なった色
を備えるとともに、それぞれ遮光膜22上において境界
部を有するようになっている。また、このようにカラー
フィルタ23が形成された面には樹脂膜等からなる平坦
膜24が形成され、この平坦膜24の表面には配向膜2
5が形成されている。また、この透明基板1Bの液晶層
LC側と反対側の面には偏光板26が配置されている。
【0051】〔配向膜と偏光板との関係〕ここで、透明
基板1A側に形成された配向膜20と偏光板21、透明
基板1B側に形成された配向膜25と偏光板26との関
係を図4を用いて説明する。
基板1A側に形成された配向膜20と偏光板21、透明
基板1B側に形成された配向膜25と偏光板26との関
係を図4を用いて説明する。
【0052】表示電極18と基準電極14との間に印加
される電界の方向130に対して、配向膜20および2
5のいずれの初期配向110の角度はφLCとなってい
る。また、一方の偏光板21の偏光透過軸方向120の
角度はφPとなっている。他方の偏光板26の偏光透過
軸は、φPと直交している。また、φLC=φPとなっ
ている。また、液晶層LCとしては、誘電率異方性Δε
が正でその値が7.3(1kHz)、屈折率異方性Δn
が0.073(589nm、20℃)のネマチック液晶
の組成物を用いている。
される電界の方向130に対して、配向膜20および2
5のいずれの初期配向110の角度はφLCとなってい
る。また、一方の偏光板21の偏光透過軸方向120の
角度はφPとなっている。他方の偏光板26の偏光透過
軸は、φPと直交している。また、φLC=φPとなっ
ている。また、液晶層LCとしては、誘電率異方性Δε
が正でその値が7.3(1kHz)、屈折率異方性Δn
が0.073(589nm、20℃)のネマチック液晶
の組成物を用いている。
【0053】このような関係からなる配向膜20、25
と偏光板21、26等の構成は、いわゆるノーマリブラ
ックモードと称されるもので、液晶層LC内に透明基板
1Aと平行な電界Eを発生せしめることにより、該液晶
層LCに光を透過するようになっている。しかし、この
実施例では、このようなノーマリブラックモードに限定
されるものではなく、無電界時に液晶層LCを透過する
光が最大となるノーマリホワイトモードであってもよい
ことはいうまでもない。
と偏光板21、26等の構成は、いわゆるノーマリブラ
ックモードと称されるもので、液晶層LC内に透明基板
1Aと平行な電界Eを発生せしめることにより、該液晶
層LCに光を透過するようになっている。しかし、この
実施例では、このようなノーマリブラックモードに限定
されるものではなく、無電界時に液晶層LCを透過する
光が最大となるノーマリホワイトモードであってもよい
ことはいうまでもない。
【0054】〔液晶の挙動〕図5は、画素電極18と対
向電極14との間の電界の有無による液晶分子LCmの
挙動を示した説明図である。
向電極14との間の電界の有無による液晶分子LCmの
挙動を示した説明図である。
【0055】同図(a)、(a´)は画素電極18と対
向電極14との間に電界が発生していない場合、同図
(b)、(b´)は画素電極18と対向電極14との間
に電界(E:130)が発生している場合を示してい
る。
向電極14との間に電界が発生していない場合、同図
(b)、(b´)は画素電極18と対向電極14との間
に電界(E:130)が発生している場合を示してい
る。
【0056】液晶分子LCmに電界が発生していない場
合は、液晶分子LCmは配向膜19、25の配向方向に
規制され、図のような配置状態となっている。
合は、液晶分子LCmは配向膜19、25の配向方向に
規制され、図のような配置状態となっている。
【0057】そして、液晶分子LCmに電界が発生した
場合には、液晶分子は該電界の強度に応じて捻じれ、こ
れにより液晶の光透過率が変化するようになっている。
場合には、液晶分子は該電界の強度に応じて捻じれ、こ
れにより液晶の光透過率が変化するようになっている。
【0058】〔反射防止膜〕上述した反射防止膜10
は、この実施例では、たとえばカーボンと黒色顔料の混
合系感光性有機膜から構成され、その膜厚は約50nm
となっている。
は、この実施例では、たとえばカーボンと黒色顔料の混
合系感光性有機膜から構成され、その膜厚は約50nm
となっている。
【0059】この反射防止膜10は画素電極18および
対向電極14の上面に形成され、これらは、たとえば周
知のフォトリソグラフィ技術によって形成されている。
対向電極14の上面に形成され、これらは、たとえば周
知のフォトリソグラフィ技術によって形成されている。
【0060】すなわち、画素電極18の形成後におい
て、この画素電極18をも被うようにして基板の全域に
カーボンと黒色顔料の混合系感光性有機膜を均一に塗布
する。
て、この画素電極18をも被うようにして基板の全域に
カーボンと黒色顔料の混合系感光性有機膜を均一に塗布
する。
【0061】その後、フォトマスクを用いて該混合系感
光性有機膜に選択露光を施し、現像処理を行うことによ
り、該混合系感光性有機膜を画素電極18および対向電
極14の上面に残存させる。
光性有機膜に選択露光を施し、現像処理を行うことによ
り、該混合系感光性有機膜を画素電極18および対向電
極14の上面に残存させる。
【0062】この場合、対向電極14上の混合系感光性
有機膜は絶縁膜15を間にして形成されることになる
が、この発明の効果の観点からはなんの妨げにはならな
い。
有機膜は絶縁膜15を間にして形成されることになる
が、この発明の効果の観点からはなんの妨げにはならな
い。
【0063】反射防止膜10を画素電極18および対向
電極14上に設けたのは、実質的に画素として機能する
領域に導電層(金属層)としての画素電極18および対
向電極14が形成され、これら各電極による光反射が液
晶の配向性において不都合が生じ、表示品質に大きく影
響するからである。
電極14上に設けたのは、実質的に画素として機能する
領域に導電層(金属層)としての画素電極18および対
向電極14が形成され、これら各電極による光反射が液
晶の配向性において不都合が生じ、表示品質に大きく影
響するからである。
【0064】このため、実質的に画素として機能しない
領域に形成されている導電層の上面にも及んで反射防止
膜を形成するようにしても何ら差し支えないことはもち
ろんである。
領域に形成されている導電層の上面にも及んで反射防止
膜を形成するようにしても何ら差し支えないことはもち
ろんである。
【0065】たとえば、画素電極18およびこの画素電
極18に電気的に接続される映像信号線3の表面、およ
び対向電極14およびこの対向電極14に電気的に接続
される対向電圧信号線4の表面、さらには走査信号線2
の表面にも形成するようにしてもよい。
極18に電気的に接続される映像信号線3の表面、およ
び対向電極14およびこの対向電極14に電気的に接続
される対向電圧信号線4の表面、さらには走査信号線2
の表面にも形成するようにしてもよい。
【0066】また、上述した説明では、画素電極18を
形成した後、この画素電極18および予め形成されてい
る対向電極14の上面に反射防止膜10を形成するよう
にしたものである。しかし、これに限定されることはな
く、対向電極14を形成した後にその対向電極14上に
反射防止膜10を形成し、さらに、画素電極18を形成
した後にその画素電極18上に反射防止膜10を形成す
るようにしてもよい。
形成した後、この画素電極18および予め形成されてい
る対向電極14の上面に反射防止膜10を形成するよう
にしたものである。しかし、これに限定されることはな
く、対向電極14を形成した後にその対向電極14上に
反射防止膜10を形成し、さらに、画素電極18を形成
した後にその画素電極18上に反射防止膜10を形成す
るようにしてもよい。
【0067】このようにした場合、各工程でフォトリソ
グラフィ技術を適用させなければならないが、同様の効
果が得られるからである。
グラフィ技術を適用させなければならないが、同様の効
果が得られるからである。
【0068】なお、この反射防止膜10は、カーボンと
黒色顔料の混合系感光性有機膜から構成したものである
が、必ずしもこの材料に限定されないことはいうまでも
ない。 光の照射に対してその吸収が大きく、反射光が
小さい材料であれば同様の効果を奏することができるか
らである。
黒色顔料の混合系感光性有機膜から構成したものである
が、必ずしもこの材料に限定されないことはいうまでも
ない。 光の照射に対してその吸収が大きく、反射光が
小さい材料であれば同様の効果を奏することができるか
らである。
【0069】しかし、この発明の効果を充分なものとす
るためには、紫外線に対するその反射率が0〜50%で
ある材料が好ましい。
るためには、紫外線に対するその反射率が0〜50%で
ある材料が好ましい。
【0070】〔配向膜〕配向膜20、25はたとえばポ
リイミド膜から構成され、その厚さは約0.1μmとな
っている。
リイミド膜から構成され、その厚さは約0.1μmとな
っている。
【0071】そして、このポリイミド膜はそれ自体とし
てはいまだ配向膜の機能を有しておらず、たとえば高圧
水銀炉、エキシマレーザ光等の偏光紫外線を照射するこ
とによって配向膜を形成するようになっている。この紫
外線の照射は従来のいわゆるラビング処理に代わるもの
である。
てはいまだ配向膜の機能を有しておらず、たとえば高圧
水銀炉、エキシマレーザ光等の偏光紫外線を照射するこ
とによって配向膜を形成するようになっている。この紫
外線の照射は従来のいわゆるラビング処理に代わるもの
である。
【0072】この場合、配向膜の配向方向を決定づける
ため、該紫外線はその方向に対応する方向に偏光を有し
ていることが必要となる。
ため、該紫外線はその方向に対応する方向に偏光を有し
ていることが必要となる。
【0073】この実施例では、365nmの紫外線を用
い、前記ポリイミド膜に約400mJ/cm2照射し
た。
い、前記ポリイミド膜に約400mJ/cm2照射し
た。
【0074】図6は、ポリイミド膜に紫外線を照射する
ことによって該ポリイミド膜に配向膜としての機能をも
たせる方法を示す一実施例である。
ことによって該ポリイミド膜に配向膜としての機能をも
たせる方法を示す一実施例である。
【0075】同図において、光源として高圧水銀灯ラン
プ31があり、その出射光は分光器32によって分光さ
れた後、ミラー33を介して偏光子34入射されるよう
になっている。偏光子34は表面にポリイミド膜が形成
された透明基板1Aと対向して配置され、これにより、
該ポリイミド膜には所定方向に偏光された紫外線が照射
されて配向膜20が形成されるようになる。
プ31があり、その出射光は分光器32によって分光さ
れた後、ミラー33を介して偏光子34入射されるよう
になっている。偏光子34は表面にポリイミド膜が形成
された透明基板1Aと対向して配置され、これにより、
該ポリイミド膜には所定方向に偏光された紫外線が照射
されて配向膜20が形成されるようになる。
【0076】〔反射防止膜の効果の考察〕上述したよう
に、反射防止膜10の形成によって配向膜の配向欠陥が
生じるのを回避できることになるが、ここで、反射防止
膜が形成されていない場合の配向膜の配向欠陥のメカニ
ズムをさらに詳細に考察する。
に、反射防止膜10の形成によって配向膜の配向欠陥が
生じるのを回避できることになるが、ここで、反射防止
膜が形成されていない場合の配向膜の配向欠陥のメカニ
ズムをさらに詳細に考察する。
【0077】図7において、光反射膜40があり、この
光反射膜に対してその垂線方向に紫外線41を照射する
場合を想定する。
光反射膜に対してその垂線方向に紫外線41を照射する
場合を想定する。
【0078】紫外線41は、その光の進行方向に対して
図示のように所定方向に偏光がなされており、この偏光
の方向は該光反射膜40によって反射される反射光にお
いても不変であることが確認される。
図示のように所定方向に偏光がなされており、この偏光
の方向は該光反射膜40によって反射される反射光にお
いても不変であることが確認される。
【0079】そして、この場合のみに限らず、前記光反
射膜40を図示の符号42に示すように傾けた場合にお
いても入射光に対して反射光の偏光の方向は変わること
がない。
射膜40を図示の符号42に示すように傾けた場合にお
いても入射光に対して反射光の偏光の方向は変わること
がない。
【0080】すなわち、入射光の偏光方向に対して光反
射膜の面が平行である場合には、入射光に対して反射光
の偏光の方向は不変であるが、平行でない場合には(た
とえば図示符号43の場合等)、入射光に対して反射光
の偏光の方向が異なってしまうことになる。
射膜の面が平行である場合には、入射光に対して反射光
の偏光の方向は不変であるが、平行でない場合には(た
とえば図示符号43の場合等)、入射光に対して反射光
の偏光の方向が異なってしまうことになる。
【0081】このことは、液晶表示装置の製造におい
て、画素電極および対向電極の上層に配向膜としての材
料層を形成した後に、この材料層に光を照射させる際
に、この光は、材料層を照射後も、その一部が電極等に
よって反射されて該材料層に再度照射され、該電極の周
辺に形成されたテーパ部において反射が生じている場
合、予め所定方向に偏光を有する光は、該反射によって
異なる方向に偏光を有するようになる場合があることを
意味する。
て、画素電極および対向電極の上層に配向膜としての材
料層を形成した後に、この材料層に光を照射させる際
に、この光は、材料層を照射後も、その一部が電極等に
よって反射されて該材料層に再度照射され、該電極の周
辺に形成されたテーパ部において反射が生じている場
合、予め所定方向に偏光を有する光は、該反射によって
異なる方向に偏光を有するようになる場合があることを
意味する。
【0082】そして、このような反射によって、予め設
定された方向と異なる偏光方向を有する光が照射された
材料層は、その部分において配向性が乱れることにな
り、ひいては配向欠陥が生じてしまうことになる。
定された方向と異なる偏光方向を有する光が照射された
材料層は、その部分において配向性が乱れることにな
り、ひいては配向欠陥が生じてしまうことになる。
【0083】このことから、上述した実施例では、たと
えば画素電極と対向電極の上面に、換言すればそれぞれ
の電極を被うようにして反射防止膜を形成したものであ
るが、必ずしもこのようにする必要はなく、上述した弊
害が生じる部分にのみ反射防止膜を形成するようにして
もよいことはいうまでもない。
えば画素電極と対向電極の上面に、換言すればそれぞれ
の電極を被うようにして反射防止膜を形成したものであ
るが、必ずしもこのようにする必要はなく、上述した弊
害が生じる部分にのみ反射防止膜を形成するようにして
もよいことはいうまでもない。
【0084】すなわち、光を反射させる材料層(電極
等)のうち、少なくとも反射によって光の偏光方向を異
ならしめる部分に反射防止膜を形成するようにすれば充
分となる。
等)のうち、少なくとも反射によって光の偏光方向を異
ならしめる部分に反射防止膜を形成するようにすれば充
分となる。
【0085】しかし、反射によって光の偏光方向を異な
らしめる部分は、その周辺の積層構造の複雑等さから、
正確に確認することが比較的困難となることから、画素
電極(あるいは映像信号線も含めて)と対向電極(ある
いは対向電圧信号線も含めて)の上面に一律に形成する
ことが簡単でかつ確実に効果をあげることができるよう
になる。
らしめる部分は、その周辺の積層構造の複雑等さから、
正確に確認することが比較的困難となることから、画素
電極(あるいは映像信号線も含めて)と対向電極(ある
いは対向電圧信号線も含めて)の上面に一律に形成する
ことが簡単でかつ確実に効果をあげることができるよう
になる。
【0086】上述した液晶表示装置は、いわゆる横電界
方式と称されるもので、一方の透明基板の液晶側の面
に、比較的大きな面積で導電層が微細に形成されてい
る。このため、該導電層の光反射による配向膜への不都
合が顕著となることから、本発明の適用は多大な効果を
もたらすことになる。
方式と称されるもので、一方の透明基板の液晶側の面
に、比較的大きな面積で導電層が微細に形成されてい
る。このため、該導電層の光反射による配向膜への不都
合が顕著となることから、本発明の適用は多大な効果を
もたらすことになる。
【0087】しかし、この発明は横電界方式の液晶表示
装置のみに適用されるものではなく、いわゆる縦電界方
式の液晶表示装置にも適用できることはいうまでもな
い。
装置のみに適用されるものではなく、いわゆる縦電界方
式の液晶表示装置にも適用できることはいうまでもな
い。
【0088】ここで、縦電界方式の液晶表示装置とは、
液晶を介して互いに対向する透明基板のそれぞれの液晶
側の面に画素電極と対向電極とが形成され、これら各電
極の間に発生する電界(基板に対して縦方向)によって
液晶の光透過率を制御する方式のものをいう。
液晶を介して互いに対向する透明基板のそれぞれの液晶
側の面に画素電極と対向電極とが形成され、これら各電
極の間に発生する電界(基板に対して縦方向)によって
液晶の光透過率を制御する方式のものをいう。
【0089】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、コントラストが良
好で、表示品質の優れたものを得ることができる。
本発明による液晶表示装置によれば、コントラストが良
好で、表示品質の優れたものを得ることができる。
【図1】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す要
部断面図である。
部断面図である。
【図2】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す等
価回路図である。
価回路図である。
【図3】本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図4】本発明による液晶表示装置の配向膜と偏光板と
の関係を示す説明図である。
の関係を示す説明図である。
【図5】本発明による液晶表示装置の液晶の挙動の一実
施例を示す説明図である。
施例を示す説明図である。
【図6】本発明による液晶表示装置の配向膜の製造の一
実施例を示す構成図である。
実施例を示す構成図である。
【図7】配向膜への紫外線照射による不都合の考察を示
す説明図である。
す説明図である。
1A……透明基板、3……映像信号線、14……対向電
極、15……絶縁膜、18……画素電極、19……保護
膜、20……配向膜、21……偏光板、LC……液晶、
TFT……薄膜トランジスタ、Cstg……容量素子。
極、15……絶縁膜、18……画素電極、19……保護
膜、20……配向膜、21……偏光板、LC……液晶、
TFT……薄膜トランジスタ、Cstg……容量素子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松山 茂 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 Fターム(参考) 2H090 HA03 HB08Y HB13X HB17X HC05 HC10 HD06 JD03 JD06 KA04 LA01 LA04 LA09 MA02 MA07 MB14 2H091 FA02X FA08X FA08Z FA14Z FA37Z FB02 FB12 FB13 FC01 FC10 FD04 FD05 GA02 GA13 HA06 LA03 LA17 2K009 AA04 CC01 CC14 CC21 DD02 DD12
Claims (6)
- 【請求項1】 液晶を介して互いに対向配置される一対
の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の液晶側の
面に、光を反射させる材料層を下層として光配向配向膜
が形成されている液晶表示装置において、 光を反射させる前記材料層のうち、少なくとも反射によ
って光の偏光方向を異ならしめる部分の前記光配向配向
膜下に反射防止膜が形成されていることを特徴とする液
晶表示装置。 - 【請求項2】 光を反射させる材料層は、各画素領域に
離間されて形成された画素電極および対向電極からな
り、これら各電極の間に発生する液晶内の電界によって
該各電極の間を通過する光の光透過率を制御することを
特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項3】 光を反射させる前記材料層のうち、少な
くとも反射によって光の偏光方向を異ならしめる部分
は、光配向配向膜に照射する光の偏光方向に対して平行
な方向以外の方向に反射面を有する部分であることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項4】 光を反射させる材料層の部分は前記光配
向配向膜下に反射防止膜が形成されていることを特徴と
する請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項5】 光を反射させる材料層は導電層であるこ
とを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項6】 反射防止膜は、その紫外線に対する反射
率が0〜50%であることを特徴とする請求項1記載の
液晶表示装置。
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KR1019990040525A KR100326579B1 (ko) | 1998-09-22 | 1999-09-21 | 광-유도 액정 분자 배향막을 갖는 액정 디스플레이 장치 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP10268086A JP2000098388A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 液晶表示装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000098388A true JP2000098388A (ja) | 2000-04-07 |
Family
ID=17453699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10268086A Pending JP2000098388A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 液晶表示装置 |
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Country | Link |
---|---|
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KR (1) | KR100326579B1 (ja) |
TW (1) | TW548489B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008026705A1 (fr) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Film multicouche |
JP2008070507A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及び電子機器 |
Families Citing this family (1)
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1998
- 1998-09-22 JP JP10268086A patent/JP2000098388A/ja active Pending
-
1999
- 1999-09-21 KR KR1019990040525A patent/KR100326579B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-09-22 TW TW088116470A patent/TW548489B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008026705A1 (fr) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Film multicouche |
JP2008242410A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-10-09 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 多層膜 |
JP2008070507A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及び電子機器 |
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Publication number | Publication date |
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TW548489B (en) | 2003-08-21 |
KR100326579B1 (ko) | 2002-03-12 |
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