JP2000007657A - フッ素置換フェニルピペリジン化合物の製造方法 - Google Patents
フッ素置換フェニルピペリジン化合物の製造方法Info
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Abstract
物の生成を抑制し、高純度のフッ素置換フェニルピペリ
ジン化合物を得ることができる製造方法の提供。 【解決手段】 式(1)の化合物をハロゲン置換ベンゼ
ンの存在下で還元することを特徴とする式(2)の化合
物の製造方法(式中、A1 およびA2 はそれぞれ酸素原
子または2個のHを、R1 はH、C1〜6の低級アルキ
ル基またはC7〜12のアラルキルを、R2 はHまたは
C1〜6の低級アルキル基を表す)。 【化1】
Description
な塩酸パロキセチン等の製造に有用な中間体である後記
式(2)で表されるフッ素置換フェニルピペリジン化合
物(2)を高純度で製造する方法に関する。
される、フッ素置換フェニルピペリジン化合物(2)
は、抗鬱剤である塩酸パロキセチンの有用な中間体であ
る。フッ素置換フェニルピペリジン化合物(2)は、従
来式(1)
記と同義である。)で表される化合物(1)を還元する
ことによって製造されている。その還元の際、強い還元
条件が要求されるので、還元反応に伴ってベンゼン環上
のフッ素原子が脱離した化合物(以下、脱フッ素体と略
する)が一部副生する。この脱フッ素体は除去が困難で
あり、フッ素置換フェニルピペリジン化合物(2)の単
離を困難にする。従って、例えば最終目的物である塩酸
パロキセチンの純度を低下させることになる。このた
め、脱フッ素体の副生しにくいフッ素置換フェニルピペ
リジン化合物(2)の製造方法の開発が望まれている。
成物である脱フッ素体の生成を抑制できるフッ素置換フ
ェニルピペリジン化合物(2)の製造方法を提供するこ
とである。
に、本発明者らは鋭意研究した結果、上記還元の際に、
反応系にハロゲン置換ベンゼンを存在させることによっ
て、脱フッ素体の生成が大幅に抑制され、フッ素置換フ
ェニルピペリジン化合物(2)、ひいては塩酸パロキセ
チンの純度が向上することを見いだした。本発明はかか
る新知見に基づいて完成したものであり、下記の発明に
関する。
っていてもよく、それぞれ酸素原子または2個の水素原
子を、R1 は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基
または炭素数7〜12のアラルキル基を、R2 は水素原
子または炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。)で表
される化合物(1)をハロゲン置換ベンゼンの存在下で
還元することを特徴とする式(2)
されるフッ素置換フェニルピペリジン化合物の製造方
法、(2)還元剤としてヒドリド系還元剤または金属水
素化物類還元剤を用いる上記(1)のフッ素置換フェニ
ルピペリジン化合物の製造方法、(3)還元剤として水
素化アルミニウムリチウムを用いる上記(1)または
(2)のフッ素置換フェニルピペリジン化合物の製造方
法、(4)ハロゲン置換ベンゼンがオルトジクロロベン
ゼン、メタジクロロベンゼン、およびパラジクロロベン
ゼンから選ばれる少なくとも1種である上記(1)〜
(3)のフッ素置換フェニルピペリジン化合物の製造方
法、(5)式(1)および式(2)において、R1 が水
素原子、R2 がメチル基、A1 が酸素原子、A2 が2個
の水素原子であり、フッ素の置換位置が4位である上記
(1)〜(4)のフッ素置換フェニルピペリジン化合物
の製造方法、および(6)式(1)および式(2)にお
いて、ピペリジン環の3位または5位置換基と4位置換
基とがトランス配位である上記(1)〜(5)のフッ素
置換フェニルピペリジン化合物の製造方法に関する。
ことを意味する。R1 およびR2 に関して、炭素数1〜
6の低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ter
t−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが例示され、好ま
しくは炭素数1〜4のものである。
ル基としては、具体的にはベンジル、フェニルエチル、
フェニルプロピル、フェニルブチル、フェニルペンチ
ル、フェニルヘキシルなどが例示され、好ましくは炭素
数7または8のものである。
278754号、特公平6−96551号、またはこれ
に準ずる方法で製造される。
とは、同一または異なっていてもよく、好ましくは1〜
3個、特に好ましくは1または2個のハロゲン原子で置
換されたベンゼンであり、該ハロゲン原子は、好ましく
は塩素、臭素である。具体的には、クロロベンゼン、オ
ルトジクロロベンゼン、メタジクロロベンゼン、パラジ
クロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、
1,2,3−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリク
ロロベンゼン、2−ブロモクロロベンゼン、3−ブロモ
クロロベンゼン、4−ブロモクロロベンゼン、ブロモベ
ンゼン、オルトジブロモベンゼン、メタジブロモベンゼ
ン、パラジブロモベンゼン、1,2,4−トリブロモベ
ンゼン、1,3,5−トリブロモベンゼンなどが挙げら
れ、好ましくは、クロロベンゼン、オルトジクロロベン
ゼン、メタジクロロベンゼン、パラジクロロベンゼンな
どが挙げられる。
化合物(1)に対して通常0.01〜20倍モル量であ
り、好ましくは0.05〜5倍モル量である。
ド系還元剤または金属水素化物類還元剤が好ましく、具
体的には水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルア
ルミニウムヒドリド、トリ(t−ブトキシ)リチウムア
ルミニウムヒドリド、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ
水素化ホウ素ナトリウム、トリメトキシ水素化ホウ素ナ
トリウム、ジボランなどが挙げられ、これらのうち水素
化アルミニウムリチウムが好適なものとして挙げられ
る。
対して1〜4倍モル量でよく、好ましくは1.4〜3.
5倍モル量である。
F)、t−ブチルメチルエーテル、1,2−ジメトキシ
エタンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香
族系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素系溶媒な
どの単独又はこれらの混合溶媒が挙げられる。これらの
うち、トルエン、テトラヒドロフランなどの単独、また
は混合溶媒が好ましいものとして挙げられる。
でよく、通常室温から80℃の範囲で実施するとよい。
置換フェニルピペリジン化合物に関して、ピペリジン環
の3位または5位置換基と4位置換基とは、トランス配
位、シス配位のどちらでもよく、好ましくはトランス配
位である。
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 製造例1 2−シアノ−3−(4’−フルオロフェニル)グルタル
酸ジメチルの合成 温度計、還流器および滴下ロートを取り付けた300m
l容の4つ口フラスコに、メタノール150ml、p−
フルオロ桂皮酸メチル33.0g、シアノ酢酸メチル3
6.3g、および28%ナトリウムメチラートメタノー
ル溶液52.96gを仕込み、混合した後還流温度まで
加熱した。反応液を同温度でさらに90分間攪拌した
後、ロータリーエバポレーターで減圧下に溶媒を除去し
て反応液を濃縮した。
酸水200mlとの混合液中に注ぎ、攪拌したあと静置
し、分液したあと水層を除去した。有機層は、飽和重曹
水100mlで2回洗浄し、次いで水100mlで洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバ
ポレーターで減圧下で溶媒を除去して有機層を濃縮し
た。
70℃(4mmHg)の2−シアノ−3−(4’−フル
オロフェニル)グルタル酸ジメチル(収率:p−フルオ
ロ桂皮酸メチルに対して82.7%)が得られた。この
ものの一部をメタノール中で再結晶し、融点80.2℃
の結晶を得た。
酸ジメチルの合成 温度計、還流器および滴下ロートを取り付けた300m
l容の4つ口フラスコに、酢酸メチル90mlおよびナ
トリウムメチラート10.5gを仕込み、このスラリー
液に10〜20℃で酢酸メチル10mlとp−フルオロ
ベンズアルデヒド10.0gとの混合溶液を30分間か
けて滴下した。同温度でさらに30分間攪拌した後、こ
の反応液に酢酸メチル20mlとシアノ酢酸メチル1
1.9gとの混合溶液を10〜20℃で45分間かけて
滴下した。滴下終了後、さらに57〜58℃で13時間
攪拌した。反応終了液をトルエン100mlと5%塩酸
水150mlとの混合液中に注ぎ、攪拌したあと静置
し、分液したあと水層を除去した。有機層は、飽和重曹
水100mlで2回洗浄し、次いで水100mlで洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバ
ポレーターで減圧下で溶媒を除去して有機層を濃縮し
た。
170℃(4mmHg)の2−シアノ−3−(4’−フ
ルオロフェニル)グルタル酸ジメチル(収率:p−フル
オロベンズアルデヒドに対して69.3%)が得られ
た。
5−メトキシカルボニルピペリジン−2−オンの合成 500ml容のオートクレーブに、メタノール200m
l、製造例1または2で得られた2−シアノ−3−
(4’−フルオロフェニル)グルタル酸ジメチル10.
0gおよびラネーコバルト1.0mlを仕込み、圧力1
5〜17kgf/cm2 、反応温度85〜95℃で水素
ガスを添加した。同条件下で1時間攪拌した後、20〜
30℃まで冷却した。圧力を常圧まで戻し、反応液を濾
過して触媒を除去し、濾液からロータリーエバポレータ
ーで減圧下で溶媒を除去して反応液を濃縮し、(±)−
トランス−4−(4’−フルオロフェニル)−5−メト
キシカルボニルピペリジン−2−オンの粗結晶(収量:
8.97g)が得られた。
分に攪拌した後、結晶を濾別し風乾すると(±)−トラ
ンス−4−(4’−フルオロフェニル)−5−メトキシ
カルボニルピペリジン−2−オン(収量6.55g、収
率:2−シアノ−3−(4’−フルオロフェニル)グル
タル酸ジメチルに対して72.8%)が白色結晶として
得られた。
3−ヒドロキシメチルピペリジンの合成 THF(188ml)に水素化アルミニウムリチウム
(10.5g/0.278mol)を溶解した後、o−
ジクロロベンゼン(2.2g/0.015mol)を添
加した。この溶液中にトルエン(113ml)とTHF
(75ml)に(±)−トランス−4−(4’−フルオ
ロフェニル)−5−メトキシカルボニルピペリジン−2
−オン(37.7g/0.15mol)を懸濁させた液
を、約20分かけて滴下し、2時間還流した。反応液を
室温まで冷却したのち、約3%水酸化ナトリウム水溶液
380mlで、余剰の水素化アルミニウムリチウムを潰
し水層を除去した。有機層からTHFを除きトルエンに
置換したのち、室温まで冷却し析出した結晶を濾過し、
乾燥して(±)−トランス−4−(4’−フルオロフェ
ニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジン(25.6g
/0.122mol/収率81.4%)を得た。HPL
C分析の結果、得られた(±)−トランス−4−(4’
−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジ
ンに対してその脱フッ素体は、0.089%であった。
3−ヒドロキシメチルピペリジンの合成 THF(88ml)に水素化アルミニウムリチウム
(4.9g/0.130mol)を溶解した後、m−ジ
クロロベンゼン(1.0g/0.007mol)を添加
した。この溶液中にトルエン(53ml)とTHF(3
5ml)に(±)−トランス−4−(4’−フルオロフ
ェニル)−5−メトキシカルボニルピペリジン−2−オ
ン(17.6g/0.070mol)を懸濁させた液
を、約15分かけて滴下し、2時間還流した。反応液を
室温まで冷却したのち、約3%水酸化ナトリウム水溶液
180mlで、余剰の水素化アルミニウムリチウムを潰
し水層を除去した。有機層からTHFを除きトルエンに
置換したのち、室温まで冷却し析出した結晶を濾過し、
乾燥して(±)−トランス−4−(4’−フルオロフェ
ニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジン(11.2g
/0.053mol/収率76.2%)を得た。HPL
C分析の結果、得られた(±)−トランス−4−(4’
−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジ
ンに対してその脱フッ素体は、0.172%であった。
3−ヒドロキシメチルピペリジンの合成 THF(188ml)に水素化アルミニウムリチウム
(10.5g/0.278mol)を溶解した後、o−
ジクロロベンゼン(22.1g/0.150mol)を
添加した。この溶液中にトルエン(113ml)とTH
F(75ml)に(±)−トランス−4−(4’−フル
オロフェニル)−5−メトキシカルボニルピペリジン−
2−オン(37.7g/0.150mol)を懸濁させ
た液を、約15分かけて滴下し、2時間還流した。反応
液を室温まで冷却したのち、約3%水酸化ナトリウム水
溶液380mlで、余剰の水素化アルミニウムリチウム
を潰し水層を除去した。有機層からTHFを除きトルエ
ンに置換したのち、室温まで冷却し析出した結晶を濾過
し、乾燥して(±)−トランス−4−(4’−フルオロ
フェニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジン(24.
2g/0.116mol/収率77.2%)を得た。H
PLC分析の結果、得られた(±)−トランス−4−
(4’−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルピ
ペリジンに対してその脱フッ素体は、0.019%であ
った。
3−ヒドロキシメチルピペリジンの合成 THF(138ml)に水素化アルミニウムリチウム
(7.7g/0.204mol)を溶解した。この溶液
中にトルエン(84ml)とTHF(55ml)に
(±)−トランス−4−(4’−フルオロフェニル)−
5−メトキシカルボニルピペリジン−2−オン(27.
6g/0.11mol)を懸濁させた液を、約20分か
けて滴下し、2時間還流した。反応液を室温まで冷却し
たのち、約3%水酸化ナトリウム水溶液280mlで、
余剰の水素化アルミニウムリチウムを潰し水層を除去し
た。有機層からTHFを除きトルエンに置換した後、室
温まで冷却し析出した結晶を濾過し、乾燥して(±)−
トランス−4−(4’−フルオロフェニル)−3−ヒド
ロキシメチルピペリジン(17.6g/0.084mo
l/収率76.4%)を得た。HPLC分析の結果、得
られた(±)−トランス−4−(4’−フルオロフェニ
ル)−3−ヒドロキシメチルピペリジンに対してその脱
フッ素体は、0.848%であった。
3−ヒドロキシメチル−N−メチルピペリジンの合成 THF(28ml)に水素化アルミニウムリチウム
(0.78g/20.46mmol)を溶解した後、o
−ジクロロベンゼン(1.5g/10.23mmol)
を添加した。この溶液中にトルエン(12ml)に
(±)−トランス−3−エトキシカルボニル−4−
(4’−フルオロフェニル)−N−メチルピペリジン−
2,6−ジオン(2.0g/6.82mmol)を懸濁
させた液を滴下し、40℃、1時間熟成した後、2時間
還流した。反応液を室温まで冷却したのち、約3%水酸
化ナトリウム水溶液22mlで、余剰の水素化アルミニ
ウムリチウムを潰し水層を除去した。有機層を減圧濃縮
し、得られた油状物を氷冷下でトルエン−ヘキサンより
結晶化させた。これを濾過し、乾燥して(±)−トラン
ス−4−(4’−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシ
メチル−N−メチルピペリジン(1.19g/5.33
mmol/収率78.3%)を得た。HPLC分析の結
果、得られた(±)−トランス−4−(4’−フルオロ
フェニル)−3−ヒドロキシメチル−N−メチルピペリ
ジンに対してその脱フッ素体は、0.11%であった。
3−ヒドロキシメチル−N−メチルピペリジンの合成 THF(28ml)に水素化アルミニウムリチウム
(0.78g/20.46mmol)を溶解した。この
溶液中にトルエン(12ml)に(±)−トランス−3
−エトキシカルボニル−4−(4’−フルオロフェニ
ル)−N−メチルピペリジン−2,6−ジオン(2.0
g/6.82mmol)を懸濁させた液を滴下し、40
℃、1時間熟成した後、2時間還流した。反応液を室温
まで冷却したのち、約3%水酸化ナトリウム水溶液22
mlで、余剰の水素化アルミニウムリチウムを潰し水層
を除去した。有機層を減圧濃縮し、得られた油状物を氷
冷下でトルエン−ヘキサンより結晶化させた。これを濾
過し、乾燥して(±)−トランス−4−(4’−フルオ
ロフェニル)−3−ヒドロキシメチル−N−メチルピペ
リジン(1.02g/4.57mmol/収率67.1
%)を得た。HPLC分析の結果、得られた(±)−ト
ランス−4−(4’−フルオロフェニル)−3−ヒドロ
キシメチル−N−メチルピペリジンに対してその脱フッ
素体は、2.16%であった。
3−ヒドロキシメチルピペリジンの合成 THF(32ml)に水素化アルミニウムリチウム
(0.84g/22.09mmol)を溶解した後、o
−ジクロロベンゼン(1.5g/10.23mmol)
を添加した。この溶液中にトルエン(14ml)に
(±)−トランス−4−(4’−フルオロフェニル)−
3−メトキシカルボニルピペリジン−2−オン(3.0
g/11.94mmol)を懸濁させた液を滴下し、4
0℃、1時間熟成したあと、2時間還流した。反応液を
室温まで冷却したのち、約3%水酸化ナトリウム水溶液
31mlで、余剰の水素化アルミニウムリチウムを潰し
水層を除去した。有機層を濃縮し、得られた油状物にト
ルエンを加え室温で放置することで結晶が析出した。こ
れを濾過し、乾燥して(±)−トランス−4−(4’−
フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジン
(1.05g/5.02mmol/収率42.0%)を
得た。HPLC分析の結果、得られた(±)−トランス
−4−(4’−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメ
チルピペリジンに対してその脱フッ素体は、0.51%
であった。
3−ヒドロキシメチルピペリジンの合成 THF(32ml)に水素化アルミニウムリチウム
(0.84g/22.09mmol)を溶解した。この
溶液中にトルエン(14ml)に(±)−トランス−4
−(4’−フルオロフェニル)−3−メトキシカルボニ
ルピペリジン−2−オン(3.0g/11.94mmo
l)を懸濁させた液を滴下し、40℃、1時間熟成した
後、2時間還流した。反応液を室温まで冷却したのち、
約3%水酸化ナトリウム水溶液31mlで、余剰の水素
化アルミニウムリチウムを潰し水層を除去した。有機層
を濃縮し、得られた油状物にトルエンを加え室温で放置
することで結晶が析出した。これを濾過し、乾燥して
(±)−トランス−4−(4’−フルオロフェニル)−
3−ヒドロキシメチルピペリジン(1.11g/5.3
0mmol/収率44.4%)を得た。HPLC分析の
結果、得られた(±)−トランス−4−(4’−フルオ
ロフェニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジンに対し
てその脱フッ素体は、1.79%であった。
らフッ素が脱離した化合物の生成を抑制し、純度の高い
フッ素置換フェニルピペリジン化合物(2)を製造する
ことができる。従って、本発明の製造方法により、抗鬱
剤である塩酸パロキセチンの製造に有用な中間体を高い
純度で提供できる。
Claims (6)
- 【請求項1】 式(1) 【化1】 (式中、A1 およびA2 は同一または異なっていてもよ
く、それぞれ酸素原子または2個の水素原子を、R1 は
水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基または炭素数
7〜12のアラルキル基を、R2 は水素原子または炭素
数1〜6の低級アルキル基を表す。)で表される化合物
(1)をハロゲン置換ベンゼンの存在下で還元すること
を特徴とする式(2) 【化2】 (式中、R1 は前記と同義である。)で表されるフッ素
置換フェニルピペリジン化合物の製造方法。 - 【請求項2】 還元剤としてヒドリド系還元剤または金
属水素化物類還元剤を用いる請求項1記載のフッ素置換
フェニルピペリジン化合物の製造方法。 - 【請求項3】 還元剤として水素化アルミニウムリチウ
ムを用いる請求項1または2記載のフッ素置換フェニル
ピペリジン化合物の製造方法。 - 【請求項4】 ハロゲン置換ベンゼンがオルトジクロロ
ベンゼン、メタジクロロベンゼン、およびパラジクロロ
ベンゼンから選ばれる少なくとも1種である請求項1〜
3のいずれかに記載のフッ素置換フェニルピペリジン化
合物の製造方法。 - 【請求項5】 式(1)および式(2)において、R1
が水素原子、R2 がメチル基、A1 が酸素原子、A2 が
2個の水素原子であり、フッ素の置換位置が4位である
請求項1〜4のいずれかに記載のフッ素置換フェニルピ
ペリジン化合物の製造方法。 - 【請求項6】 式(1)および式(2)において、ピペ
リジン環の3位または5位置換基と4位置換基とがトラ
ンス配位である請求項1〜5のいずれかに記載のフッ素
置換フェニルピペリジン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP18043498A JP3735200B2 (ja) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | フッ素置換フェニルピペリジン化合物の製造方法 |
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000007657A true JP2000007657A (ja) | 2000-01-11 |
JP3735200B2 JP3735200B2 (ja) | 2006-01-18 |
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JP (1) | JP3735200B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008013248A1 (fr) * | 2006-07-24 | 2008-01-31 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Procédé de production de (±)-trans-4-(4- fluorophényl)-3-hydroxyméthylpipéridine |
JP2008050345A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-03-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | (±)−トランス−4−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジンの製造方法 |
-
1998
- 1998-06-26 JP JP18043498A patent/JP3735200B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008013248A1 (fr) * | 2006-07-24 | 2008-01-31 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Procédé de production de (±)-trans-4-(4- fluorophényl)-3-hydroxyméthylpipéridine |
JP2008050345A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-03-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | (±)−トランス−4−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルピペリジンの製造方法 |
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