ITTO970572A1

ITTO970572A1 - Substrati rivestiti di metallo

Info

Publication number: ITTO970572A1
Application number: IT97TO000572A
Authority: IT
Inventors: Yvan Novis; Jean-Michel Depauw
Original assignee: Glaverbel
Priority date: 1996-07-25
Filing date: 1997-07-01
Publication date: 1999-01-01
Also published as: US5993950A; FR2751666A1; GB9714525D0; ES2156655A1; CN1067965C; DE19731438A1; CA2211420A1; LU90108B1; CN1173428A; BE1011444A3; NL1006500C2; SE9702555L; FR2751666B1; GB2315496B; SE513629C2; DE19731438B4; NL1006500A1; SE9702555D0; ES2156655B1; CH692505A5

Description

D ESCRIZIONE

dell’ INVENZIONE INDUSTRIALE avente per titolo:

“SUBSTRATI RIVESTITI DI METALLO”

La presente invenzione si riferisce a substrati rivestiti di metallo e in particolare ad una lastra di substrato trasparente rivestita di metallo in cui il metallo è argento, oro o rame o una lega di uno o più di essi.

Tali substrati rivestiti trovano applicazione per esempio come vetrature di finestre per edifici o veicoli, in strutture laminate e come filtri ottici.

Si desidera che i pannelli usati come vetr finestre in edifici abbiano un basso fattore solare definito sotto) in modo che l interno dell ’edificio non venga surriscaldato dalla radiazione solare, pur avendo anche un livello adeguato di trasmittanza luminosa (TL, definito sotto) in modo da fornire sufficiente luce all ’interno. Queste esigenze un po' contrastanti possono anche essere espresse come la necessità da parte del pannello di mostrare una buona selettività, cioè un rapporto elevato tra trasmittanza luminosa e fattore solare (definiti ulteriormente sotto). E’ anche desiderabile che i pannelli di vetratura presentino sia un aspetto neutro in riflessione, altrimenti espresso come bassa purezza di colore, sia un basso livello di riflessione, ma queste proprietà sono tendenzialmente difficili da ottenere in combinazione con una selettività elevata.

E’ noto migliorare la selettività di un rivestimento metallico su pannelli di vetratura aumentando lo spessore dello strato o degli strati metallici. Tuttavia ciò ha lo svantaggio di conferire alla vetratura un colore porpora in riflessione, che si tende a considerare esteticamente sgradevole. E’ stato perciò proposto di ovviare all ’inconveniente usando uno strato di ossido sotto il metallo, detto strato di ossido avendo un indice di rifrazione superiore a quello di altri strati di ossido nel rivestimento, per cui si creano effetti di interferenza tra i rispettivi strati di ossido che riducono la colorazione indesiderata. descrizione di brevetto francese 2719036 illustra l ’uso di un tale sotto- strato di un ossido scelto fra ossido di niobio e ossido di tantalio. Un tale sotto-strato a elevato indice di rifrazione non favorisce tuttavia il raggiungimento di una riflettanza luminosa bassa (RL), e di conseguenza di un ’ elevata selettività, del substrato rivestito.

Le nostre precedenti descrizioni di brevetto britannico 2229737 e 2229738 descrivono un substrato di un materiale di vetratura che porta un rivestimento multistrato, il quale comprende uno strato riflettente d’argento interposto tra un rivestimento inferiore trasparente ed un rivestimento superiore trasparente. Il rivestimento inferiore comprende almeno uno strato di un ossido di metallo al disopra del quale è depositato uno strato di ossido di zinco di spessore fino a 15 nm. Il rivestimento superiore comprende uno strato di un ossido di un metallo di sacrificio come alluminio, bismuto, acciaio inossidabile, stagno o titanio o una loro miscela.

La presente invenzione ha lo scopo di fornire una pila migliorata di strati di rivestimento in cui si neutralizza il colore porpora in riflessione e si ottiene un basso livello di riflessione, senza che risultino inconvenienti nella selettività della pila.

Molte delle proprietà di un substrato rivestito hanno significati precisi definiti da una normativa appropriata. Le proprietà qui usate sono le seguenti, basate sulle definiziòni della International Commission on Illumination-Commission Internationale de l ’Eclairage (“CIE”).

L’illuminante standard qui citato è lilluminante C, come definito dalla CIE. L’ Illuminante C rappresenta la luce diurna media che ha una temperatura di colore di 6700°K.

La “trasmittanza luminosa” (TL) è il flusso luminoso trasmesso attraverso un substrato come percentuale del flusso luminoso incidente (di Illuminante C).

La “riflettanza luminosa” (RL) è il flusso luminoso riflesso da un substrato come percentuale del flusso luminoso incidente di Illuminante C.<‘>

L’"indice di assorbimento spettrale" di un substrato è definito dalla formula:

dove è il coefficiente di assorbimento lineare spettrale.

Il "fattore solare" (FS) è il rapporto percentuale tra la somma dell ’energia totale direttamente trasmessa attraverso un substrato e dell ’energia che è assorbita e reirradiata sul lato opposto alla sorgente di energia, e l ’energia radiante totale incidente sul substrato.

La "selettività" (SE) del substrato rivestito è il rapporto tra la trasmittanza luminosa (TL) e il fattore solare (FS).

La "purezza" (p) del colore del substrato si riferisce alla purezza di eccitazione misurata con l' illuminante C, come definita nel CIE International Lighting Vocabulary, 1987, pagine 87 e 89. La purezza è specificata secondo una scala lineare su cui una sorgente definita di luce bianca ha una purezza di zpro ed il colore puro ha una purezza del 100 per cento. La purezza del substrato rivestito è misurata dal lato opposto a quello con il rivestimento.

Il termine "indice di rifrazione" (n) è definito nel CIE International Lighting Vocabulary, 1987, pagina 138.

La "lunghezza d’onda dominante" (λD), nota anche come la "tinta" , è la lunghezza d’onda di picco nell’intervallo trasmesso o riflesso dal substrato rivestito.

Secondo la presente invenzione viene fornito un substrato rivestito che porta una pila di strati di rivestimento comprendente, in sequenza a partire dal substrato, (i) uno strato di materiale dielettrico, (ii) uno strato di un metallo scelto tra argento, oro, rame e leghe di uno o più di detti metalli, e (iii) un ulteriore strato di materiale dielettrico, caratterizzato dal fatto che lo strato (i) di materiale dielettrico è uno strato composito che comprende un sottostrato di un materiale assorbente in modo selettivo con un indice di rifrazione di almeno 1,4, un indice di assorbimento spettrale kx di almeno 0,4 nella gamma 380 < λ < 450 nm e che presenta un rapporto .

I substrati rivestiti dell’invenzione sono così caratterizzati da un sotto-strato formato da materiale o materiali con particolari propri età assorbenti che differiscono da quelle del sotto-strato delle nostre precedenti domande di brevetto. L’ assorbìmento della componente blu del color porpora indesiderato dovuto allo spessore dello strato o degli strati metallici, che, con riferimento al rapporto k (per 380 < λ < 450 nm) / k (per 650 < λ < 760 nm) dovrebbe essere > 2, è soddisfatto dal materiale o dai materiali che formano il sotto-strato. Le gamme di lunghezza d ’onda citate sono all ’interno dello spettro visibile.

L’invenzione impiega così due meccanismi di neutralizzazione del colore: l ’assorbimento nella parte blu dello spettro (lunghezze d’onda nella gamma di circa 450 nm e meno) ed effetti di interferenza presentati dagli strati collettivi della pila nella parte rossa dello spettro (lunghezze d’onda nella gamma di circa 650 nm e più); ed è così più efficace di proposte precedenti per la riduzione della colorazione porpora. Inoltre, al contrario delle proposte precedenti che si basavano semplicemente su effetti di interferenza, l ’invenzione non richiede l’uso di uno strato neutralizzante con un indice di rifrazione maggiore di quello di altri strati di ossido o nitruro. La pila di strati di rivestimento presenta anche una purezza di riflessione migliorata, cioè ridotta, e sorprentemente ciò viene ottenuto in combinazione con un livello molto basso di riflettanza luminosa (RL).

I substrati rivestiti dell ’invenzione, e quindi pannelli di vetratura che li comprendono, hanno l ’elevata selettività associata alla presenza di grandi spessori di strati metallici ma senza la riflessione significativa e la forte colorazione porpora generalmente inerenti a tali prodotti. In confronto con un substrato rivestito in modo simile contenente uno o più strati metallici spessi ma senza il materiale assorbente, i pannelli secondo l ’invenzione offrono una selettività almeno altrettanto buona, una lunghezza d’onda dominante in riflessione (λD) maggiore -tendente verso il verde- ma contemporaneamente hanno una riflessione più debole dal lato del vetro (RL) ed una purezza di colore minore in riflessione (p).

In altre forme di realizzazione dell ’invenzione la pila di strati di rivestimento può comprendere un ulteriore strato metallico (iv) ed un ulteriore strato dielettrico (v).

Uno strato di barriera di sacrificio, per esempio di un metallo scelto tra cromo, una lega di cromo/nichel, niobio, tantalio, stagno, titanio e zinco, è desiderabilmente fornito immediatamente al di sopra dello strato o di ogni strato metallico. Il metallo di sacrificio preferito è il titanio. Il metallo di sacrificio assorbe ossigeno che altrimenti attaccherebbe lo strato metallico durante e dopo la formazione del rivestimento e l ’ossido risultante fornisce uno strato protettivo sullo strato metallico. Dal punto di vista della funzione di sacrificio, il metallo di sacrificio ha preferibilmente uno spessore da 2 a 5 nra, ma l'impiego di uno spessore fino a 10 nm può essere utile per lasciare uno strato non ossidato del metallo di sacrificio per migliorare le proprietà antisolari del rivestimento nel suo insieme.

I materiali dielettrici degli strati (i), (iii) e (v) comprendono preferibilmente almeno un ossido di metallo o un nitruro metallico. Esempi adatti comprendono allumina ossinitruro di alluminio, magnesia (MgO), ossido di niobio silice nitruro di silicio

ossido di tantalio (Ta02), ossido di stagno , biossido di titanio ossido di ittrio ossido di zinco (ZnO) e solfuro di zinco (ZnS). Questi possono essere usati da soli o in combinazione. Essi sono materiali trasparenti non assorbenti capaci di regolare la riflettanza luminosa RL e la purezza di colore p. Gli effetti di interferenza ottica richiesti per cui la pila riduce la riflessione porpora sono convenientemente ottenuti da sotto-strati multipli di detti materiali, per esempio

In una pila avente un singolo strato metallico gli spessori degli strati dielettrici (i) e (iii) sono preferibilmente compresi rispettivamente nell ’ intervallo 15-45 nm e 30-60 nm, più preferibilmente 25-45 nm e 35-55 nm. In una pila avente due strati metallici gli spessori dégli strati dielettrici (i), (iii) e (v) sono preferibilmente compresi rispettivamente nell 'intervallo 15-35 nm, 60-90 nm e 20-40 nm.

Si è scoperto che la selettività di un substrato rivestito comprendente il sotto-strato è almeno altrettanto grande di quella di un substrato rivestito equivalente dal quale il prodotto del sotto-strato è assente.

Esempi adatti del materiale assorbente in modo selettivo per detto sotto -strato sono ossido di acciaio inossidabile (SSOx), ossido ferrico , un ossido di cromo

ossido di palladio (PdO), germanio, un ossido di germanio , silicio e un ossido di sil icio tra i quali si preferiscono l 'ossido di acciaio inossidabile e l 'ossido ferrico. L’ossido ferrico ha un vantaggio rispetto all ’ossido di acciaio inossidabile in termini di neutralizzazione del colore ma ciò è in certa misura rovesciato poiché l ’ossido di acciaio inossidabile non è magnetico e così è più facile da depositare dell ’ossido ferrico, il cui diamagnetismo impedisce la sua applicazione mediante nebulizzazione catodica a magnetron.

Si deve notare che questi materiali assorbenti in modo selettivo hanno anche buone proprietà assorbenti per le lunghezze d’onda nell ’ultravioletto (UV). Così, un pannello di vetratura con una pila di strati di rivestimento comprendente un tale materiale assorbente in modo selettivo offre l ’ulteriore vantaggio di ridurre la quantità di radiazioni UV che penetrano in una stanza, e protegge perciò dal la decolorazione qualsiasi tessuto o plastica nella stanza.

Anche se gl i strati (iii) o (v) possono analogamente comprendere un sotto-strato di un materiale assorbente in modo selettivo, il grado di assorbimento richiesto in molti casi è ottenuto in modo adeguato dal sotto-strato nel primo strato (i) soltanto.

Lo spessore del sotto-strato o di ogni sotto-strato assorbente in modo selettivo dovrebbe essere preferibilmente inferiore a 15 nm.Substratirivestitisecondo l’invenzione in cuilo spessore didetto sotto-strato è inferiore a 5 nm sono particolarmente interessanti. Uno spessore di 5 nm di SSOx permette la neutralizzazione del colore di uno strato di argento di 14 nm e lo stesso spessore di Fe203 permette la neutralizzazione diuno strato d’argento di17,5 nm.

Gli strati metallici (ii) e (iv) sono formati da argento, oro o rame o da una lega diuno o più diessi.In una forma di realizzazione dell’invenzione con un singolo strato metallico (ii) presente nella pila, lo spessore del metallo è preferibilmente nell'intervallo da 10 a 20 nm,che è associato ad una dilettanza luminosa (RL) inferiore al 20 %. In un’altra forma di realizzazione dell’invenzione con un singolo strato metallico (ii) presente nella pila di strati sovrapposti,ilsuo spessore è preferibilmente nell'intervallo oltre i 20 nm e fino a 30 nm, che è associato ad una riflettanza luminosa (RL) inferiore al40 %.

Quando sono presentidue ditalistrati(ii) e (iv),iloro spessorisono preferibilmente nell'intervallo da 10 a 25 nm.

L’impiego diun sotto-strato assorbente nelprimo strato dielettrico (i) favorisce il raggiungimento di un valore di riflettanza luminosa minore (RL) per il substrato rivestito rispetto ad una pila “di neutralizzazione” tradizionale avente stratimetallicidello stesso spessore diquellididetto substrato rivestito. Nel caso di una pila di strati di rivestimento secondo l’invenzione con due strati metallici (ii)e (iv),ilvalore RL è preferibilmente inferiore al15 %.

Ilsubstrato è neicasipiù tipicivetro ma può essere un altro materiale trasparente come policarbonato, polimetilmetacrilato o poliletilentereftalato.<'>

Il substrato rivestito ha preferibilmente una purezza di colore (p) inferiore al20 %,più preferibilmente inferiore al 10 %. Questa purezza di colore vantaggiosamente bassa è notevole per ilfatto diessere associata con ivaloribassidi RL anch’essiraggiungibilicon la presente invenzione.

Inoltre,in aggiunta ad una cosìnotevole riduzione nella purezza di colore del substrato rivestito, l’invenzione ne aumenta anche la lunghezza d’onda dominante (λD), preferibilmente portandola ad una lunghezza d’onda dominante compresa tra 480 e 500 nm. In questa gamma di lunghezze d’onda la tinta non è più porpora ma piuttosto tende alblu-blu/verde.

I valori di spessore qui citati per gli strati ed i sottostrati della pila di strati di rivestimento sono spessori geometrici. Le proprietà citate del substrato rivestito sono misurate sulla base di una singola lastra di vetro calciosodico chiaro ordinario avente uno spessore, se non altrimenti specificato, di 6 mm. Le proprietà sono come sservato dalla faccia opposta a quella rivestita, cioè dal lato delvetro.La faccia opposta non è solitamente rivestita.

Nel'impiego in un pannello di vetratura, il substrato rivestito è convenientemente inserito,con una o più lastre di substrato non rivestite,in un insieme di vetratura multiplo, con ilrivestimento disposto su diuna faccia interna.

Secondo l’invenzione è diventato possibile ottenere facilmente una vetratura doppia con livellidiselettività che finora erano ottenuti con grande difficoltà. L’invenzione fornisce una selettività superiore a 1,4,quando siimpiega un singolo strato dimetallo in una pila distratidirivestimento, e superiore a 2,0, quando si impiega un doppio strato metallico in una pila distratidirivestimento.Inoltre questi livelli elevati di selettività sono ottenuti in combinazione con una bassa purezza dicolore ed una bassa riflettività.

Anche se l'invenzione è quidescritta principalmente con riferimento a substratirivestitiusatiin pannellidivetratura, essa si può anche applicare a substratirivestiti impiegati in filtri ottici. Esempi tipici di tali filtri sono filtri monocromatici che servono per ridurre la larghezza dibanda delle radiazionivisibiliche liattraversano.Anche noticome filtri a "quarto d’onda" o filtri Fabry-Perot, questi sono centrati tipicamente sulla gamma di lunghezze d'onda della massima acutezza visiva umana (550 nm 50 nm). In particolare possono servire per eliminare quelle parti dello spettro che non contribuiscono alla trasmittanza luminosa ma sono dannose per il fattore solare, cioè le parti dell'infrarosso e dell'infravioletto dello spettro.Essioffrono diconseguenza la possibilità diottenere valoripiù elevatidi selettività,ma questo vantaggio sisconta solitamente con un aumento indesiderato della purezza di colore in riflessione. L'introduzione di un sotto-strato assorbente secondo l’invenzione consente di ovviare a questo inconveniente. I substratirivestitiper questifiltrisono della stessa struttura dei substrati rivestiti a doppio strato metallico descritti sopra, ma hanno spessori diversi degli strati dielettrici, e precisamente:

(i) e (v): meno di 10 nm (escludendo il sotto-strato assorbente in modo selettivo, che dovrebbe essere inferiore a 15 nm)

(iii): (550 nm/4n)± 15 %

[dove n rappresenta l’indice di rifrazione dello strato dielettrico (iii)].

Gli stratidirivestimento sono preferibilmente applicati mediante deposizione sotto vuoto.Questo metodo è preferito perché fornisce rivestimenti di spessore e composizione facilmente controllati e facilita così il raggiungimento dell'uniformità del prodotto richiesta dall'invenzione. La deposizione impiega tipicamente una o più camere di deposizione sotto vuoto, trasportatori per il substrato, sorgentidipotenza e valvole dientrata delgas.Ognicamera dideposizione contiene catodidinebulizzazione a magnetron planare, entrate del gas ed un'uscita di evacuazione, la deposizione essendo ottenuta facendo passare il substrato diverse volte sotto i catodi. La pressione nelle camere è tipicamente dicirca 0,3 Pa.

Gli spessori relativamente bassi dei rispettivi strati del substrato rivestito della presente invenzione forniscono vantaggi operativi sia in termini di minor tempo speso per applicare gli strati che per l’impiego economico dei rispettivimateriali.

ESEMPI

L'invenzione è descritta con maggiori dettagli con riferimento ai seguenti esempi non limitativi. Per ogni esempio secondo l'invenzione si ha almeno un esempio comparativo in modo da dimostrare i miglioramentiottenuti daisubstratirivestitisecondo l'invenzione.

Per ognuno degli esempi si fece passare una lastra di substrato di vetro chiaro spessa 6 mm attraverso un'apparecchiatura di deposizione sotto vuoto comprendente camere con catodi forniti di bersagli formati, secondo la particolare pila,da titanio,acciaio inossidabile,ferro,zinco e stagno impiegati rispettivamente per la deposizione in un'atmosfera diossigeno disotto-stratidielettricidibiossido di titanio (Ti02), ossido di acciaio inossidabile (SSOx), ossido ferrico (Fe203), ossido di zinco (ZnO) e ossido stannico (Sn02) [(i), (iii) e, in alcuni casi (v)]. Furono analogamente usati bersagli di argento e titanio per la deposizione in un'atmosfera di argon di uno o più strati d'argento ((ii) ed in alcuni casi (iv)] e titanio come uno o più stratidibarriera disacrificio.

La lastra di substrato fu sottoposta a passaggi avanti e indietro attraverso l'apparecchiatura di deposizione in modo da ottenere gli strati e gli spessori richiesti di due o tre strati di materiale dielettrico. Le pile complete di strati di rivestimento comprendevano strati come illustrato nella tabella 1 allegata.Le loro proprietà ottiche furono esaminate dal lato delvetro ed irisultatisono illustratinella tabella 2. I risultati di TL, FS e SE nelle ultime tre colonne furono ottenuti per una struttura di vetratura doppia comprendente una lastra rivestita come descritto sopra. Lo spazio intermedio tra le lastre della struttura fu riempito con argon.

Quando in questiesempiidielettricicontenevano sottostrati della struttura Sn02/ZnO, questi ossidi erano presenti nelle stesse proporzioni(0,5/0,5).Quando le strutture erano deltipo ZnO/Sn02/ZnO, le proporzionierano 0,25/0,5/0,25.

In tutti gli esempi ilcoefficiente di assorbimento nella gamma delblu (380 < λ < 450 nm)era compreso tra 0,4 e 1,2 perl'SSOx e tra 0,5 e 0,9 perilFe203.

L'esempio 1 (comparativo) illustra l'impiego di un materiale ad elevato indice di rifrazione (Ti02, che ha un indice dirifrazione di2,5 in confronto con all'incirca 2,0 di ZnO o Sn02) nel dielettrico 1. Un tale materiale limita la purezza di colore del color porpora provocato dallo strato importante d'argento usato rispetto all'impiego di un materiale ad indice di rifrazione minore. Ciò corrisponde alla tecnica nota. L'esempio 2 (comparativo) mostra che anche nelcaso diuna tale tecnica,la riflessione è ridotta,la purezza dicolore è ulteriormente ridotta e la lunghezza della lunghezza d'onda dominante è aumentata dall'introduzione del primo dielettrico di un sotto-strato assorbente secondo l'invenzione.

L'esempio 3 mostra che quanto più sottile è il sottostrato assorbente, tanto più basse sono la riflettanza luminosa e la purezza di colore in riflessione della pila, e tanto più grande è la sua lunghezza d'onda dominante.

L'esempio 10 illustra un'applicazione dell'invenzione nel campo dei filtri ottici. Questo esempio è anche una illustrazione del maggior potere neutralizzante di Fe203 rispetto a SSOx.

Tabella 1

(spessori in nm)

T abella 2

Claims

R I V E N D I C A Z I O N I 1.- Substrato rivestito che porta una pila di strati di rivestimento comprendente, in sequenza a partire dal substrato, (i) uno strato di materiale dielettrico, (ii) uno strato di un metallo scelto tra argento, oro, rame e leghe di uno o più di detti metalli, e (iii) un ulteriore strato di materiale dielettrico, caratterizzato dal fatto che lo strato (i) di materiale dielettrico è uno strato composito che comprende un sotto-strato di un materiale assorbente in modo selettivo, con un indice di rifrazione di almeno 1,4, un indice di assorbimento spettrale k λ di almeno 0,4. nella gamma 380 < λ < 450 nm e che presenta un rapporto
2.- Substrato rivestito secondo la riv. 1, in cui la pila di strati di rivestimento comprende un ulteriore strato metallico (iv) e un ulteriore strato dielettrico (v). 3.- Substrato rivestito secondo la riv. 1 o la riv. 2, in cu i i l ri vesti men to comprende u no strato di barriera di sacrificio immediatamente al di sopra dello strato o di ogni strato metal lico. 4.- Substrato rivestito secondo la riv. 3, in cui lo strato di barriera di sacrificio ha uno spessore da 2 a 5 nm. 5.- Substrato rivestito secondo la riv. 3 o la riv. 4, in cui lo strato di barriera di sacrificio è metallo di titanio che è sostanzialmente completamente ossidato nel rivestimento finito. 6.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui il materiale degli strati dielettrici comprende almeno un ossido metallico o un nitruro metallico. 7.- Substrato rivestito secondo la riv. 6, in cui il materiale degli strati dielettrici comprende uno o più tra allumina, ossinìtruro di alluminio, magnesia, ossido di niobio, silice, nitruro di silicio, ossido di tantalio, ossido di stagno, biossido di titanio, ossido di ittrio, ossido di zinco e solfuro di zinco. 8.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui il materiale assorbente in modo selettivo del sotto-strato è scelto tra ossido di acciaio inossidabile, ossido ferrico, un ossido di cromo, ossido di palladio e ossido di zirconio. 9. - Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui lo spessore del sotto-strato assorbente in modo selettivo è inferiore a 15 nm. 10.- Substrato rivestito secondo la riv. 9, in cui lo spessore del sotto-strato assorbente in modo selettivo è inferiore a 5 nm. 11.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, e avente uno strato metallico singolo, in cui gli spessori degli strati dielettrici (i) e (iii) sono rispettivamente negli intervalli 25-45 nm e 35-55 nm. 12.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti e avente uno strato metallico singolo, in cui lo spessore dello strato metallico è nell ’intervallo da 10 a 20 nm. 13.- Substrato rivestito secondo la riv. 12, che ha un valore di riflettanza luminosa (RL) inferiore al 20 %. 14.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 11 e avente uno strato metallico singolo, in cui lo spessore dello strato metallico è nel l 'intervallo al di sopra di 20 nm e fino a 30 nm. 15.- Substrato rivestito secondo la riv. 14, che ha un valore di riflettanza luminosa (RL) inferiore al 40 %. 16.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 10 e avente due strati metallici, in cui lo spessore di ognuno di detti due strati è nell 'intervallo da 10 nm a 25 nm. 17. - Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 10, o 16, e avente due strati metallici, in cui gli spessori degl i strati dielettrici (i), (iii) e (v) sono rispettivamente negli intervalli 15-35 nm, 60-90 nm e 20-40 nm. 18. - Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, che forma parte di un filtro ottico. 19.- Substrato rivestito secondo la riv. 18, in cui lo spessore diogni strato dielettrico (i) e (v) è inferiore a 10 nm (escludendo qualsiasi sotto-strato assorbente in modo selettivo) e lo spessore degli strati dielettrici (iii) è (550 nm/4n) ± 15 % [dove n rappresenta l’indice di rifrazione dello strato dielettrico (iii)]. 20.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 16 a 19, che ha un valore di riflettanza luminosa (RL)inferiore al15 %. 21.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, che ha una purezza di colore (p) inferiore al20 %,preferibilmente inferiore al10 %. 22.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, che ha una lunghezza d’onda dominante nella gamma da 480 a 500 nm. 23.- Substrato rivestito secondo una qualsiasi delle rivendicazioniprecedenti,che forma parte diun pannello di vetratura. 24.- Pannello di vetratura doppio comprendente un substrato rivestito secondo una qualsiasidelle rivendicazioni precedenti. 25.- Pannello di vetratura doppio secondo la riv. 24, e avente una selettività superiore a 1,4.