FR2609347A1 - SUPERFICIAL ACOUSTIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR ITS ADJUSTMENT - Google Patents
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Abstract
L'INVENTION CONCERNE UN DISPOSITIF A ONDES ACOUSTIQUES SUPERFICIELLES ET UN PROCEDE DE REGLAGE DE SES CARACTERISTIQUES. LE DISPOSITIF COMPORTE UNE BASE 12 ET UN COUVERCLE 14 DONT L'UN EST TRANSPARENT A DE L'ENERGIE ELECTROMAGNETIQUE 30. UNE MATIERE 26 EST DEPOSEE SUR UNE SURFACE INTERIEURE DE LA BASE OU DU COUVERCLE ET ELLE EST ELIMINEE PAR L'ENERGIE ELECTROMAGNETIQUE POUR SE DEPOSER SUR LA SURFACE 12A DE PROPAGATION D'ONDES SUPERFICIELLES AFIN DE MODIFIER LES CARACTERISTIQUES DE VITESSE DE PROPAGATION. L'INVENTION S'APPLIQUE NOTAMMENT A DES RESONATEURS A ONDES ACOUSTIQUES SUPERFICIELLES.THE INVENTION RELATES TO A SURFACE ACOUSTIC WAVES DEVICE AND A PROCESS FOR ADJUSTING ITS CHARACTERISTICS. THE DEVICE INCLUDES A BASE 12 AND A COVER 14, ONE OF WHICH IS TRANSPARENT TO ELECTROMAGNETIC ENERGY 30. MATERIAL 26 IS DEPOSITED ON AN INTERIOR SURFACE OF THE BASE OR COVER AND IT IS ELIMINATED BY THE ELECTROMAGNETIC ENERGY IN ORDER. DEPOSIT ON SURFACE 12A OF SURFACE WAVE PROPAGATION IN ORDER TO MODIFY PROPAGATION SPEED CHARACTERISTICS. THE INVENTION APPLIES IN PARTICULAR TO SURFACE ACOUSTIC WAVE RESONATORS.
Description
-1-1
La présente invention se rapporte de façon géné- The present invention relates generally to
rale aux dispositifs à ondes acoustiques superficielles to superficial acoustic wave devices
et concerne plus particulièrement le réglage des carac- and more particularly the adjustment of the characteristics
téristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acousti- frequency characteristics of an acoustic wave device
ques superficielles.superficial issues.
Comme cela est connu dans la technique, des dis- As is known in the art,
positifs à ondes acoustiques superficielles comme des résonateurs, des lignes à retard, des filtres et des transducteurs de pression sont utilisés dans toute une variété d'applications. En général, un dispositif à ondes acoustiques superficielles comporte au moins un Surface acoustic wave positives such as resonators, delay lines, filters, and pressure transducers are used in a variety of applications. In general, a surface acoustic wave device comprises at least one
transducteur comprenant un ensemble de pièces conductri- transducer comprising a set of conductive parts
ces qui est disposé sur ou en retrait à la partie de those who is willing on or withdrawing to the party of
surface supérieure d'un substrat piézo-électrique. upper surface of a piezoelectric substrate.
Umnrouveau type de boîtier a été développé, qui A new type of case has been developed which
enferme hermétiquement le substrat du dispositif à on- hermetically encloses the substrate of the device
des acoustiques superficielles. Ce nouveau boîtier com- superficial acoustics. This new housing
porte deux substrats piézo-électriques qui sont scellés ensemble par un frittage de verre, comme cela est décrit dans un article intitulé "Saw Resonator Frit Bonded Pressure Transducer" par D. Weirauch et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, 1979, page 874 et dans un article intitulé "Long Term Aging, A Mechanical Stability of 1,4 GHz SAW Oscillators" par M. Gilden et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, I980, page 184; un second type de boîtier est décrit dans le Brevet des Etats Unis d'Amérique N 4 270 107, de Parker et al, délivré le 26 Mai I98I et intitulé "Stabilized carries two piezoelectric substrates which are sealed together by glass sintering, as described in an article entitled "Saw Resonator Fried Bonded Pressure Transducer" by D. Weirauch et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, 1979, page 874 and in an article entitled "Long Term Aging, A Mechanical Stability of 1.4 GHz SAW Oscillators" by M. Gilden et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, 1980, page 184; a second type of housing is described in U.S. Patent No. 4,270,107 to Parker et al., issued May 26, 1981, entitled "Stabilized
Surface Wave Device" et assigné à la demanderesse. Surface Wave Device "and assigned to the plaintiff.
Bien que ces boîtiers apportent un conditionne- Although these cases bring a condition-
ment amélioré et des possibilités de manutention des improvement and the possibilities of handling
dispositifs à ondes acoustiques superficielles, un pro- superficial acoustic wave devices, a
blème qui leur est associé est que, pendant la fabri- The problem with them is that during the manufacturing process
cation du boîtier, les caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superficielles sous -2- cation of the housing, the frequency characteristics of the superficial acoustic wave device under -2-
boitier sont changées par rapport à celles d'un dispo- box are changed in relation to those of a
sitif avant sa mise sous boitier. Par exemple, pour before putting it in a box. For example, for
des résonateurs à ondes acoustiques superficielles fonc- superficial acoustic wave resonators function
tionnant aux environs de 350 MHz, ce décalage de fré- around 350 MHz, this difference in frequency
quence peut être en moyenne d'environ 45 ppm et peut quence can be on average about 45 ppm and can
présenter un écart standard aussi élevé que + 15 ppm. have a standard deviation as high as + 15 ppm.
Pour d'autres types de dispositifs qui sont conçus pour fonctionner à des fréquences plus élevées, l'amplitude et l'écart standard de ce décalage augmentent, de sorte qu'un réglage précis des caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superficielles est plus difficile. Dans de nombreuses applications, une possibilité de réglage précis de la fréquence de + 1 For other types of devices that are designed to operate at higher frequencies, the amplitude and standard deviation of this offset increase, so that fine tuning of the frequency characteristics of the surface acoustic wave device is more difficult. In many applications, a possibility of fine tuning the frequency of + 1
ppm serait souhaitable.ppm would be desirable.
Une solution à ce problème consiste à utiliser des composants électriques extérieurs pour régler les caractéristiques en fréquence des circuits utilisant le dispositif à ondes acoustiques superficielles. Le One solution to this problem is to use external electrical components to adjust the frequency characteristics of the circuits using the surface acoustic wave device. The
problème posé par cette solution est que ce type de ré- The problem with this solution is that this type of
glage de fréquence extérieur prend beaucoup de temps, est relativement coûteux car le nombre des composants Frequency frequency setting is time consuming, is relatively expensive because the number of components
nécessaires pour une application particulière c'un dis- necessary for a particular application it
positif à ondes acoustiques superficielles est accru positive surface acoustic wave is increased
et en outre, les composants eux-mêmes peuvent contri- and furthermore, the components themselves can contribute
buer à des variations de fréquence dans des circuits to fluctuate frequency in circuits
qui comportent les dispositifs de ce genre. which include devices of this kind.
L'invention concerne donc un procédé de change- The invention therefore relates to a method of change-
ment de la caractéristique de vitesse d'une onde super- of the velocity characteristic of a superwave wave.
ficielle sur une surface qui supporte une propagation on a surface that supports propagation
d'ondes superficielles, consistant à diriger de l'éner- of superficial waves, consisting of directing energy
gie à travers un premier d'une base et d'un couvercle, through a first of a base and a lid,
enfermant ladite surface, vers une première matière dis- enclosing said surface towards a first material
posée sur ladite surface pour former une couche d'une seconde matière sur ladite surface afin de modifier la caractéristique de vitesse de cette surface. Avec cette -3- disposition particulière, la couche de seconde matière sur la base produit une petite variation localisée de la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle de la surface qui supporte la propagation de cette onde superficielle, permettant ainsi le réglage des caracté- ristiques en fréquence de dispositifs à ondes acoustiques placed on said surface to form a layer of a second material on said surface to modify the velocity characteristic of that surface. With this particular arrangement, the second material layer on the base produces a small localized variation in the velocity characteristic of a surface wave of the surface that supports the propagation of this surface wave, thereby allowing the adjustment of the characteristics of the surface wave. Frequency characteristics of acoustic wave devices
superficielles sous boîtier.superficial in a case.
Selon un autre aspect, l'invention concerne un In another aspect, the invention relates to a
procédé de changement de la vitesse d'une onde superfi- method of changing the speed of a superficial wave
cielle d'un dispositif à ondes acoustiques superficiel- of a surface acoustic wave device-
les sous boîtier consistant à diriger de l'énergie inci- the sub-casing of directing energy inci-
dente à travers un couvercle du dispositif sous boîtier pour enlever une partie d'une couche de matière disposée sur une surface de propagation d'ondes superficielles du dispositif à ondes acoustiques superficielles. Avec cette disposition particulière, la matière éliminée produit une petite variation localisée des propriétés through a cover of the boxed device to remove a portion of a layer of material disposed on a surface wave propagation surface of the surface acoustic wave device. With this particular arrangement, the discarded material produces a small localized variation of the properties
acoustiques de la surface de propagation d'ondes super- acoustics of the super-wave propagation surface
ficielles, assurant ainsi une variation concomitante des caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes to provide a concomitant variation in the frequency characteristics of the wave
acoustiques superficielles.superficial acoustics.
Selon un autre aspect encore, l'invention con- In yet another aspect, the invention
cerne un procédé de modification de la vitesse d'une onde superficielle d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles sous boîtier consistant: à disposer un A method of modifying the speed of a surface wave of a surface acoustic wave device in a package comprising:
couvercle sur le dispositif à ondes superficielles, for- lid on the superficial wave device,
mant une enceinte sur ce dispositif à ondes superficiel- an enclosure on this surface wave device-
les avec au moins l'un du couvercle et de la base cons- with at least one of the lid and base
titué par une matière qui est pratiquement transparente staggered by a material that is virtually transparent
à l'énergie dans une plage sélective de longueur d'onde. to energy in a wavelength selective range.
Une couche de matière est disposée sur une partie de A layer of material is arranged on a part of
surface intérieure du couvercle. De l'énergie est diri- inner surface of the lid. Energy is direc-
gée vers cette couche de matière à travers le couvercle to this layer of material through the lid
ou la base transparents pour éliminer des parties déter- or the transparent base to eliminate specific parts
minées de la matière de la couche, et ces parties dé- of the material of the diaper, and these parts de-
-4- terminées qui sont éliminées se déposant à nouveau, sur la surface de propagation d'une onde superficielle. Avec cette disposition particulière, la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle et par conséquent, les caractéristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles sous boitier peuvent être réglées après la mise sous boitier du dispositif à ondes They are removed and deposited again on the surface of propagation of a surface wave. With this particular arrangement, the velocity characteristic of a surface wave and therefore, the frequency characteristics of a surface acoustic wave device under a case can be adjusted after the case of the wave device
acoustiques superficielles. La matière qui s'est à nou- superficial acoustics. The matter that has become new
veau déposée produit une petite modification localisée calf filed produces a small localized modification
des propriétés acoustiques de la surface piézo-électri- acoustic properties of the piezoelectric surface
que, changeant ainsi la vitesse des ondes superficiel- that, thus changing the speed of the superficial waves
les en propagation. Par conséquent, cette modification de vitesse d'ondes superficielles produit une variation in propagation. As a result, this change in surface wave velocity produces a variation
associée des caractéristiques en fréquence du disposi- associated frequency characteristics of the
tif à ondes acoustiques superficielles. tif with superficial acoustic waves.
Selon un autre aspect encore de l'invention, la partie de couvercle de la matière est en quartz et According to yet another aspect of the invention, the lid portion of the material is made of quartz and
ce quartz est transparent à l'énergie lumineuse prove- this quartz is transparent to the luminous energy
nant d'un laser ayant une longueur d'onde dans la pla- from a laser having a wavelength in the
ge d'environ 0,185 micrométre à 4 micrométres. Sur la partie intérieure du couvercle de quartz est disposé from about 0.185 micrometers to 4 micrometers. On the inner part of the quartz cover is arranged
un tampon consistant en une première couche d'une ma- a buffer consisting of a first layer of a
tière faisant tampon thermiquement, une seconde couche d'une matière de conversion d'énergie et une troisième thermally buffering a second layer of energy conversion material and a third
couche d'une matière pouvant être éliminée ou évaporée. layer of a material that can be removed or evaporated.
L'énergie optique incidente est dirigée vers ce tampon. The incident optical energy is directed to this buffer.
Le couvercle de quartz et la première couche consti- The quartz cover and the first layer constitute
tuant la matière de tampon thermique sont pratiquement transparents à l'énergie optique incidente. Mais cette énergie incidente échauffe la couche intermédiaire de conversion d'énergie entre la couche faisant tampon killing the thermal buffer material are substantially transparent to the incident optical energy. But this incident energy heats up the intermediate layer of energy conversion between the buffer layer
thermique et la couche pouvant être éliminée. La cha- thermal and the layer that can be removed. The chain
leur développée dans la couche de conversion d'énergie their developed in the energy conversion layer
entraine que la couche pouvant être éliminée ou évapo- causes the layer to be eliminated or evapo-
rée s'élimine ou s'évapore et se dépose à nouveau sur - is eliminated or evaporates and settles again on -
des parties sous-jacentes de la surface piézo-électri- underlying parts of the piezoelectric surface
que. La première couche diélectrique est prévue pour faire tampon sur le couvercle de quartz par rapport à than. The first dielectric layer is provided to buffer the quartz cover with respect to
la chaleur associée avec la couche de conversion d'é- the heat associated with the conversion layer of
nergie. Avec cette disposition particulière, les carac- energy. With this particular provision, the characteristics
téristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acous- frequency characteristics of an acoustic wave device
tiques superficielles peuvent être réglées en utili- surface ticks can be adjusted using
sant un laser qui redépose sélectivement une partie pré- a laser that selectively redeposit a pre-selected part of
déterminée de la couche pouvant être éliminée ou éva- determined the layer that can be eliminated or
porée sur la surface de propagation d'ondes superficiel- pored on the superficial wave propagation surface-
les du dispositif à ondes acoustiques superficielles, réglant ainsi la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle et par conséquent, les caractéristiques of the surface acoustic wave device, thereby adjusting the velocity characteristic of a surface wave and therefore the characteristics
en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superfi- in frequency of the acoustic acoustic wave device
cielles.cial.
Selon un autre aspect encore, l'invention con- In yet another aspect, the invention
cerne un procédé de modification de la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle d'un dispositif à identifies a method of modifying the velocity characteristic of a surface wave of a device
ondes acoustiques superficielles sous boîtier, consis- superficial acoustic waves in a casing,
tant à disposer un couvercle constitué d'une matière qui est transparente à de l'énergie électromagnétique, both to have a cover made of a material that is transparent to electromagnetic energy,
dans une plage de longueur d'onde déterminée, le cou- within a specified wavelength range, the
vercle étant disposé de manière à enfermer une surface de propagation d'ondes superficielles. Un faisceau hautement convergent ou une paire de faisceaux, chacun sous un angle d'incidence déterminé pour converger sur ladite surface, est dirigé vers cette dernière pour produire un faisceau d'une intensité suffisante pour vercle being disposed to enclose a surface wave propagation surface. A highly convergent beam or a pair of beams, each at an angle of incidence determined to converge on said surface, is directed thereto to produce a beam of sufficient intensity to
éliminer sélectivement des parties de la surface de pro- selectively remove parts of the surface of
pagation. Avec cette disposition particulière, en éli- pagation. With this particular provision, in
minant sélectivement des parties de la surface de pro- selectively removing parts of the surface of
pagation piézo-électrique, une petite modification lo- piezoelectric paging, a small modification
calisée des propriétés acoustiques et, par conséquent acoustic properties and, consequently,
de la caractéristique de vitesse d'une onde superficiel- of the velocity characteristic of a superficial wave
le est produite. Les caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superficielles sont is produced. The frequency characteristics of the superficial acoustic wave device are
donc également modifiées.therefore also modified.
D'autres caractéristiques et avantages de Other features and benefits of
l'invention apparaitront au cours de la description the invention will appear during the description
qui va suivre.who will follow.
Aux dessins annexés donnés uniquement à ti- In the attached drawings given only at
tre d'exemples nullement limitatifs: examples of non-limiting examples:
la figure 1 est une vue en plan d'un résona- FIG. 1 is a plan view of a resonator
teur à ondes acoustiques superficielles sous boitier avant le réglage de fréquence selon l'invention, la figure 2 est une coupe suivant la ligne 22 de la figure 1, la figure 2A est une vue à plus grande échelle suivant la ligne 2-2 de la figure 2, FIG. 2 is a sectional view along the line 22 of FIG. 1, FIG. 2A is an enlarged view along the line 2-2 of FIG. figure 2,
la figure 3 est une vue en plan d'un résona- FIG. 3 is a plan view of a resonator
teur à ondes acoustiques superficielles sous boitier après le réglage de fréquence selon l'invention, la figure 4 est une coupe suivant la ligne 44 de la figure 3, la figure 4A est une vue à plus grande échelle d'une partie de la figure 4, suivant la ligne 4A-4A de la figure 4, la figure 5 est une coupe d'un autre mode de réalisation de l'invention utilisant des paires convergentes de faisceaux d'énergie dirigés, la figure 5A est une vue à plus grande échelle suivant la ligne 5A-5A de la figure 5, la figure 6 est une coupe d'un autre mode de réalisation de l'invention utilisant des paires FIG. 4 is a sectional view of FIG. 4, a section on line 44 of FIG. 3; FIG. 4A is an enlarged view of part of FIG. along line 4A-4A of FIG. 4, FIG. 5 is a sectional view of another embodiment of the invention using convergent pairs of directed energy beams, FIG. 5A is an enlarged view. along the line 5A-5A of Figure 5, Figure 6 is a section of another embodiment of the invention using pairs
convergentes de faisceaux d'énergie dirigés pour éli- convergence of energy bundles directed to eliminate
miner un tampon déposé sur une surface de propagation d ondes superficielles, la figure 6A est une vue à plus grande échelle -7- suivant la ligne 6A-6A de la figure 6, la figure 7 est une coupe d'un autre mode de réalisation dans lequel un mélange gazeux est enfermé dans le boitier, avec de l'énergie incidente dirigée vers ce mélange pour produire une couche de matière sur la surface de propagation d'ondes superficielles, et A pad is deposited on a surface wave propagation surface, FIG. 6A is an enlarged view along the line 6A-6A of FIG. 6, FIG. 7 is a sectional view of another embodiment. wherein a gaseous mixture is enclosed in the housing, with incident energy directed to the mixture to produce a layer of material on the surface wave propagation surface, and
la figure 7A est une vue à plus grande échel- Figure 7A is a larger scale view.
le suivant la ligne 7A-7A de la figure 7. following line 7A-7A of Figure 7.
Comme lemontrent les figures 1, 2 et 2A, un dispositif à ondes acoustiques superficielles sous As shown in FIGS. 1, 2 and 2A, a superficial acoustic wave device under
boîtier, dans le cas présent un résonateur 10, compor- housing, in this case a resonator 10, comprising
te une base 12 avec une surface 12a qui supporte une propagation d'ondes superficielles, un couvercle 14 et base 12 with a surface 12a which supports surface wave propagation, a cover 14 and
un joint 16 en frittage de verre. La base 12 est cons- a seal 16 in glass sintering. The base 12 is
tituée dans ce cas d'un quartz de coupe ST ou de cou- in this case a quartz of cut ST or of
pe ST tournée, avec, disposés sur sa surface 12a, deux transducteurs imbriqués 20 et 24 (IDT) et des réseaux réflecteurs 27, 29. Les transducteurs imbriqués 20 et 24 sont couplés avec des barres omnibus 18a et 18b, et 19a et 19b respectivement. Sur la base 12 est disposé le couvercle 14, également constitué d'un quartz de eg ST rotated, with, arranged on its surface 12a, two nested transducers 20 and 24 (IDT) and reflector gratings 27, 29. The nested transducers 20 and 24 are coupled with bus bars 18a and 18b, and 19a and 19b respectively . On the base 12 is disposed the cover 14, also made of a quartz of
coupe ST ou de coupe ST tournée. Le quartz est généra- ST cut or ST cut tour. Quartz is generally
lement transparent entre 85% et 95% à de l'énergie ayant des longueurs d'onde dans la plage d'environ 85% to 95% transparency to energy having wavelengths in the range of about
0, 185 micrométre à 4,0 micromètres pour des échantil- 0.185 micrometers at 4.0 micrometers for samples
lons d'une épaisseur de 1 à 3 mm. En variante, la base lons with a thickness of 1 to 3 mm. Alternatively, the base
12 et le couvercle 14 peuvent être constitués par d'au- 12 and the cover 14 may be constituted by
tres matières transparentes, comme du niobate de lithium. very transparent materials, such as lithium niobate.
La base 12 et le couvercle 14 sont scelles ensemble en The base 12 and the lid 14 are sealed together in
utilisant un joint approprié 16 en frittage de verre. using a suitable seal 16 in glass sintering.
Le couvercle 14 a une largeur wc inférieure à la lar- The lid 14 has a width wc lower than the width
geur wb de la base 14, de sorte que, lorsque le couver- wb of base 14, so that when the cover
cle est scellé sur la base, les barres omnibus 18a et key is sealed on the base, the bus bars 18a and
18b, et 19a et 19b sont exposées sur la partie périphé- 18b, and 19a and 19b are exposed on the peripheral
-8- rique de la base, pour établir des contacts électriques -8- of the base, to establish electrical contacts
avec des coposants extérieurs.with external coposants.
Comme le montre plus particulièrement la figure 2A, la surface intérieure 14a du couvercle 14 porte sur une de ses parties, une couche faite de préférence d'une couche composite 26 constituée par une couche 26a de tampon thermique ou d'absorption de choc, une couche 26b d'absorption thermique ou de conversion d'énergie As shown more particularly in FIG. 2A, the inner surface 14a of the cover 14 bears on one of its parts, a layer preferably made of a composite layer 26 constituted by a layer 26a of thermal buffer or shock absorption, a 26b layer of thermal absorption or energy conversion
et une couche 26c d'évaporation ou d'élimination ther- and a layer 26c of evaporation or thermal elimination
mique. Dans cette disposition préférée, la couche 26a d'absorption de choc thermique consiste en une matière nomic. In this preferred arrangement, the thermal shock absorption layer 26a consists of a material
diélectrique qui est pratiquement transparente à l'é- dielectric which is virtually transparent to the
nergie incidente qui est dirigée à travers le couvercle 14 du dispositif à ondes acoustiques superficielles d'une manière qui sera décrite par la suite, mais qui incident energy which is directed through the cover 14 of the surface acoustic wave device in a manner to be described later, but which
présente une résistance thermique suffisante pour assu- has sufficient thermal resistance to ensure
rer un tampon thermique du couvercle 14 par rapport à obtain a thermal buffer from the lid 14 with respect to
la chaleur développée dans la couche d'absorption ther- the heat developed in the heat absorption layer
mique 26b, comme cela sera décrit. La couche de conver- 26b, as will be described. The conversion layer
sion d'énergie 26b est faite d'une matière qui absorbe l'énergie incidente dirigée à travers le couve cle 14 et la couche de choc thermique 26a et elle convertit energy supply 26b is made of a material that absorbs the incident energy directed through the cover 14 and the thermal shock layer 26a and converts
cette énergie incidente dirigée en énergie de rayonne- this incident energy directed into radiation energy-
ment ou en chaleur. La couche d'élimination ou d'éva- or in heat. The elimination or evaporation layer
poration thermique 26c est disposée au-dessus de la cou- thermal poration 26c is arranged above the neck.
che de conversion 26b et elle absorbe une partie de l'énergie de rayonnement développée dans la couche 26b et, si cette énergie a une intensité suffisante, la 26b and it absorbs a portion of the radiation energy developed in the layer 26b and, if this energy has a sufficient intensity, the
pellicule 26c est éliminée sélectivement, en particu- 26c film is selectively removed, in particular
lier éliminée ou évaporée du couvercle pour se déposer ou se condenser sur la surface 12a, comme le montre la figure 4. La quantité de cette masse déposée est choisie bond removed or evaporated from the lid to deposit or condense on the surface 12a, as shown in Figure 4. The quantity of this deposited mass is chosen
pour modifier suffisamment la caractéristique de vites- to sufficiently modify the characteristic of
se d'ondes superficielles du dispositif à ondes acous- superficial waves of the acoustic wave device
tiques superficielles et pour modifier par conséquent g9- superficial ticks and therefore to modify g9-
les caractéristiques en fréquence du dispositif à on- the frequency characteristics of the on-line device
des acoustiques superficielles, selon les besoins. surface acoustics, as needed.
Comme le montrent les figures 3, 4 et 4A, l'é- As shown in Figures 3, 4 and 4A, the
nergie incidente 30 est dirigée à travers le couvercle 14 vers le tampon de réglage 26. L'énergie incidente traverse la couche tampon transparente 26a et elle est absorbée par des parties sous-jacentes déterminées de la couche de conversion d'énergie 26b. La couche 26b convertit l'énergie dirigée en chaleur. La chaleur dans la couche 26b entraîne l'élimination ou l'évaporation The incident energy 30 is directed through the cover 14 to the control pad 26. The incident energy passes through the transparent buffer layer 26a and is absorbed by specific underlying portions of the energy conversion layer 26b. Layer 26b converts the directed energy into heat. The heat in layer 26b leads to removal or evaporation
de parties de la couche 26c. Selon la durée des impul- of parts of the layer 26c. Depending on the duration of the
sions, le niveau de puissance, la longueur d'onde et la fréquence de répétition de cette énergie, la couche the power level, the wavelength and the repetition frequency of this energy, the
26c est évaporée à de faibles niveaux d'énergie ou éli- 26c is evaporated at low energy levels or eliminated
minée à des niveaux d'énergie plus élevés. En outre, mined at higher energy levels. In addition,
à des niveaux suffisamment élevés, des parties détermi- at sufficiently high levels, decisive parts
nées de chacune des couches 26a-26c peuvent être éli- from each of layers 26a-26c may be eli-
minées. La matière éliminée, soit par ablation, soit par évaporation, se condense et se dépose sous forme d'une couche 34 sur la partie de base 12 du dispositif à ondes acoustiques superficielles 10. La présence de la couche 34 sur la surface 12a de la base 12 réduit la vitesse des ondes superficielles dans cette région en raison des effets de charge de masse, quand l'onde superficielle se propage. En augmentant le nombre de mined. The material removed, either by ablation or by evaporation, condenses and is deposited as a layer 34 on the base portion 12 of the surface acoustic wave device 10. The presence of the layer 34 on the surface 12a of the base 12 reduces the speed of surface waves in this region due to mass load effects, when the surface wave propagates. By increasing the number of
ces couches 34 et leur largeur ainsi que la masse tota- these layers 34 and their width as well as the total mass
le, la plage de réglage de la caractéristique de vites- the, the adjustment range of the speed characteristic
se d'ondes superficielles est augmentée. superficial wave is increased.
Des exemples spécifiques de dispositifs fabri- Specific examples of manufacturing devices
qués selon l'invention seront maintenant décrits. Com- according to the invention will now be described. com-
me le montrent les figures 3, 4 et 4A, de l'énergie incidente, dans le cas présent sous forme de faisceaux lumineux, provenant de sources laser comme l'indique as shown in FIGS. 3, 4 and 4A, incident energy, in the present case in the form of light beams, originating from laser sources as indicated by FIG.
le tableau, sont formés avec des longueurs qui fran- the painting, are formed with lengths that
chissent pratiquement la longueur de la surface de pro- almost the length of the surface of
-1O- pagation d'ondes acoustiques et avec des largeurs qui sont généralement de l'ordre de la longueur d'onde du dispositif à ondes acoustiques superficielles (c'est -1O- pagation of acoustic waves and with widths that are generally of the order of the wavelength of the surface acoustic wave device (this is
à dire dans la plage de 2,5 micromètres à 50 micromè- to say in the range of 2.5 micrometers to 50 micrometers
tres). Autrement dit, une longue ligne étroite sui- very). In other words, a long narrow line follows
vant la longueur de la surface de propagation acousti- the length of the acoustic propagation surface
que, centrée et parallèle à l'ouverture acoustique des éléments transducteurs imbriqués est dirigée vers le that, centered and parallel to the acoustic opening of the nested transducer elements, is directed towards the
couvercle en quartz. Cette énergietraverse le couver- quartz cover. This energy reverses the
cle en quartz 14 et elle est absorbée par le tampon de réglage composite disposé sur la surface intérieure quartz key 14 and is absorbed by the composite adjustment pad disposed on the inner surface
14a du couvercle 14. Avec cette configuration de fais- 14a of the lid 14. With this configuration of
ceau laser, la couche d'aluminium 26b est chauffée laser beam, the 26b aluminum layer is heated
sélectivement dans des régions qui reçoivent le fais- selectively in regions receiving the
ceau laser incident. En réponse à ce chauffage locali- incident laser beam. In response to this local heating
sé de la couche d'aluminium, des parties 26c sont éva- of the aluminum layer, parts 26c are
porees ou éliminées de la couche et se déposent sur porees or removed from the diaper and deposited on
la surface sous-jacente 12a de propagation d'ondes su- the underlying surface 12a of wave propagation su-
perficielles. En particulier, étant donné que la va- perficielles. In particular, given that the
leur du réglage de fréquence est liée à la masse de la matière déposée sur la surface de propagation d'ondes superficielles, la valeur de réglage de fréquence par ligne du laser peut être contrôlée par la largeur et their frequency adjustment is related to the mass of the material deposited on the surface wave propagation surface, the frequency setting value per line of the laser can be controlled by the width and
la densité d'énergie du faisceau ainsi que par la quan- the energy density of the beam as well as the quantity
tité de matière déposée sur la partie intérieure du material deposited on the inner part of the
couvercle 14. Il semble que la valeur maximale du dé- 14. It seems that the maximum value of the
placement de fréquence puisse dépasser 10.000 parties par million si la surface totale disposée entre les transducteurs imbriqués est utilisée. Mais il apparait Frequency placement can exceed 10,000 parts per million if the total area between the nested transducers is used. But it appears
également que des déplacements de cet ordre dégrade- also that displacements of this order are degrading-
raient les pertes d'insertion et le facteur Q à vide du dispositif. Mais étant donné que environ 25 à 50 parties par million suffisent généralement pour tenir the insertion losses and the empty Q factor of the device. But since about 25 to 50 parts per million are usually enough to hold
compte de l'incertitude de fréquence après le scelle- account of the frequency uncertainty after the
ment du boîtier, une petite partie seulement de la the case, only a small part of the
surface du tampon est généralement déposée sur la sur- buffer surface is usually deposited on the surface
face active entre les IDT.active face between the IDTs.
Quatre dispositifs fonctionnant à 402 MHz Four devices operating at 402 MHz
ont été accordés selon la technique décrite ci-dessus. were granted according to the technique described above.
Une pellicule à trois niveaux, telle que présentée sur A film with three levels, as shown on
la figure 4, consistant en une couche d'oxyde d'alumi- FIG. 4, consisting of a layer of aluminum oxide
nium Al203 d'une épaisseur de 400K correspondant à la couche 26a, une couche d'aluminum d'une épaisseur de o100oÀ correspondant à la couche 26b et une couche nium Al203 with a thickness of 400K corresponding to the layer 26a, a layer of aluminum with a thickness of 100 oA corresponding to the layer 26b and a layer
d'oxyde d'aluminum d'une épaisseur de 250K correspon- aluminum oxide with a thickness of 250K correspon-
dant à la couche 26c a été déposée sur la partie inté- layer 26c was deposited on the part
rieure du couvercle 14. Les épaisseurs des couches dé- lid thickness 14. The thicknesses of the layers
posées 12a à 12c peuvent être choisies pour apporter 12a to 12c can be chosen to bring
différentes valeurs de chargement de masse par impul- different mass loading values by pulse
sion de lumière incidente. Par conséquent, la couche 26a peut avoir une épaisseur généralement dans la plage de 200 à 1000X, la couche 26b peut avoir une épaisseur dans la plage de 25 à 200K et la couche 26c incident light. Therefore, the layer 26a may have a thickness generally in the range of 200 to 1000X, the layer 26b may have a thickness in the range of 25 to 200K and the layer 26c
peut avoir une épaisseur dans la plage de 50 à 500X. can have a thickness in the range of 50 to 500X.
Le niveau de puissance, le nombre des impul- The power level, the number of
sions et le nombre des lignes déposées prévus pour les quatre exemples de l'invention ainsi que la fréquence initiale, la fréquence finale et le déplacement de and the number of deposited lines provided for the four examples of the invention as well as the initial frequency, the final frequency and the displacement of
fréquence de ces dispositifs apparaissent dans le ta- frequency of these devices appear in the table.
bleau, exemples 1 à 4.bleau, examples 1 to 4.
En variante, le faisceau laser incident peut être dirigé à travers la base 12 vers le tampon de réglage 26. L'énergie laser incidente peut alors être Alternatively, the incident laser beam can be directed through the base 12 to the adjustment buffer 26. The incident laser energy can then be
utilisée pour éliminer des régions du tampon de régla- used to remove regions from the buffer
ge sur le couvercle, par exemple en retournant le dis- on the lid, for example by turning over the
positif à ondes acoustiques superficielles, pour chan- surface acoustic wave, to change
ger à nouveau le chargement de masse dans cette région again mass loading in this region
et par conséquent, la caractéristique de vitesse d'on- and therefore, the speed characteristic of on-
des superficielles du dispositif à ondes acoustiques superficielles. superficial of the surface acoustic wave device.
TABLEAUBOARD
DISPOSITIF TECHNIQUE DE LASER LONGWEJR DENSITE DUREE FREQUENCE LARGEUR NOMBRE DE LIGES fo REGLAGE A f I.D. REGLAGE D'ONDE D'ENERGIE D'IMPL- DE LIGNE FREQUENCE f LASER TECHNICAL DEVICE LONGWEJR DENSITY DURATION FREQUENCY WIDTH NUMBER OF LINES fo ADJUSTMENT A f I.D. ADJUSTMENT OF ENERGY WAVE OF LINE IMPL- FREQUENCY f
PAR SIONBY SION
IMPULSIONIMPULSE
}v m J/cmn2 ns hz Pm MHz MHz PPM 1. PELLICULE Excimer 0,193 5 15 1 7 5 401,831 401,817 -35 3 niveaux sur couvercle } v J / cmn2 ns hz Pm MHz MHz PPM 1. FILM Excimer 0,193 5 15 1 7 5 401,831 401,817 -35 3 levels on cover
2. 5 15 1 7 5 401,840 401,828 -302. 5 15 1 7 5 401,840 401,828 -30
3. Nd:YAG 1,06 0,0025 250 1024 50 5 402,178 402,166 - 30 4. Nd:YAG 1,06 0, 00325 250 1024 60 1 402,219 402,203 -40 5. ELIMINATION cEbimnr 0,193 7 15 50 50 0,1 402,174 402,170 -10 3. Nd: YAG 1.06 0.0025 250 1024 50 5 402.178 402.166 - 30 4. Nd: YAG 1.06 0.00325 250 1024 60 1 402.219 402.203 -40 5. ELIMINATION cEbimnr 0.193 7 15 50 50 0.1 402.174 402.170 -10
DE SURFACEOF SURFACE
DIU DISPOSITIFDEVICE IUD
6. C(1IVCSIMQ Exciner 0,193 5 15 10 100 5 401,962 401,955 -17 6. C (1IVCSIMQ Exciner 0,193 5 15 10 100 5 401,962 401,955 -17
CHIMIQUECHEMICAL
de AL-O Cerme t Qo Cl -13-of AL-O Cerme t Qo Cl -13-
La figure 5 représente un autre mode de réali- Figure 5 represents another embodiment of
* sation de l'invention pour modifier sélectivement les caractéristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acoustiques surperficielles sous boitier. Dans ce cas, le dispositif à ondes acoustiques superficielles sous* sation of the invention for selectively modifying the frequency characteristics of a device underperformed acoustic wave device. In this case, the superficial acoustic wave device
bottier 10' comporte la base précitée 12 et un couver- box 10 'comprises the abovementioned base 12 and a cover
cle 14 comme cela a été décrit de façon générale en re- cle 14, as has been described generally in re-
gard des figures 1 et 2. Selon cet aspect de l'inven- Figures 1 and 2. According to this aspect of the invention,
tion, de l'énergie dirigée, sous la forme de l'énergie lumineuse d'un laser excimer est dirigée à travers le couvercle de quartz 14 vers la base 12. Dans ce cas, deux faisceaux de lumière laser excimer sont dirigés à directed energy, in the form of the light energy of an excimer laser is directed through the quartz cover 14 to the base 12. In this case, two excimer laser light beams are directed to
travers le couvercle de quartz 14 sous un angle d'in- through the quartz cover 14 at an angle of
cidence déterminé de manière à converger sur la base de quartz 12 et éliminer sélectivement une partie de determined to converge on the basis of quartz 12 and selectively remove a portion of
cette base 12 dans l'une de ses régions, disposée en- this base 12 in one of its regions, placed
tre les deux transducteurs imbriqués comme le montre be the two nested transducers as shown
particulièrement la figure 5A. En variante, trois fais- particularly Figure 5A. As a variant, three
ceaux ou davantage, ou encore un faisceau hautement convergent peuvent convenir. La densité de puissance au point o le ou les faisceaux convergent doit être suffisante pour éliminer des quantités déterminées de matière. Etant donné que le couvercle en quartz d'une épaisseur généralement de 1 à 2 mm transmet la lumière à environ 85%-95%, la densité de puissance au point de convergence doit être suffisante pour éliminer le or more, or a highly convergent beam may be suitable. The power density at the point where the beam (s) converge must be sufficient to eliminate specific quantities of material. Since the quartz cover with a thickness of 1 to 2 mm generally transmits light at about 85% -95%, the power density at the point of convergence must be sufficient to eliminate the
quartz dans cette région. Avec cette disposition parti- quartz in this region. With this particular arrangement
culière, étant donné que les propriétés acoustiques because the acoustic properties
de la surface de propagation d'ondes superficielles en- of the superficial wave propagation surface
tre les deux transducteurs 20 et 24 sont modifiées par the two transducers 20 and 24 are modified by
l'émimination sélective de matière, les caractéristi- selective material removal, the characteristics
ques de vitesse d'ondes superficielles entre les deux of superficial wave velocity between the two
transducteurs sont également modifiées. Ainsi, la fré- transducers are also modified. Thus, the frequency
quence du dispositif avec cette disposition est modi- the device with this provision is amended
fiée sélectivement. Egalement, le nombre, la largeur -14- et la profondeur de ces r6gions 12c disposées dans la partie de surface de propagation d'ondes superficielles selectively. Also, the number, width, and depth of these regions disposed in the superficial wave propagation surface portion
de la base 12 peuvent être choisis pour assurer un dé- base 12 can be chosen to ensure
placement déterminé de fréquence acoustique, et par con- determined placement of acoustic frequency, and by
séquent de la caractéristique en fréquence du disposi- tif à ondes acoustiques superficielles. En général, la profondeur des rainures est environ 0,5 micromètre et leur largeur est de l'ordre de la longueur d'onde de of the frequency characteristic of the surface acoustic wave device. In general, the depth of the grooves is about 0.5 micrometer and their width is of the order of the wavelength of
propagation de l'onde superficielle (2 à 50 micromètres). propagation of the superficial wave (2 to 50 micrometers).
Avec cette disposition particulière, l'intensité des faisceaux 30a et 30b dirigés à travers le couvercle de quartz 14 est insuffisante pour rompre ou perturber la matière de ce couvercle. Mais étant donné qu'au point de convergence des deux faisceaux, l'intensité de ces derniers est additionnée, l'intensité du faisceau est alors suffisante pour éliminer une partie déterminée 12c de la surface de propagation d'ondes superficielles With this particular arrangement, the intensity of the beams 30a and 30b directed through the quartz cover 14 is insufficient to break or disturb the material of the cover. But since, at the point of convergence of the two beams, the intensity of the latter is added, the intensity of the beam is then sufficient to eliminate a determined part 12c of the surface of propagation of superficial waves.
12a. Etant donné que la masse et le trajet de propaga- 12a. Since the mass and the propagation path
tion de la surface de propagation d'ondes superficiel- tion of the surface wave propagation surface-
les sont modifiés par cette disposition, la vitesse de propagation d'ondes superficielles et par conséquent are modified by this provision, the speed of propagation of superficial waves and consequently
la fréquence du dispositif sont également modifiées. the frequency of the device are also changed.
L'exemple 5 du tableau montre les résultats d'un dispo- Example 5 in the table shows the results of a
sitif réglé selon cette technique. set using this technique.
La figure 6 représente un autre mode encore de réalisation de l'invention qui comporte un tampon de FIG. 6 represents yet another embodiment of the invention which comprises a buffer of
réglage 26 disposé sur la base dans l'ouverture acousti- setting 26 disposed on the base in the acoustic opening
que des transducteurs imbriqués. Dans ce-cas, un fais- as nested transducers. In this case, a
ceau ou, de préférence, deux faisceaux laser convergents peuvent convenir pour irradier sélectivement une partie du tampon de réglage 26 et pour modifier les liaisons moléculaires de cette partie du tampon. Là également, étant donné que la charge de masse dans la région o Preferably, two or more convergent laser beams may be suitable for selectively irradiating a portion of the adjusting buffer 26 and for modifying the molecular bonds of that portion of the buffer. There too, given that the mass load in the region o
la composition de la matière est changée, les proprié- the composition of the material is changed, the properties
tés acoustiques et, par conséquent, la vitesse superfi- acoustic characteristics and, consequently, the superficial velocity
-15--15-
cielle et les caractéristiques en fréquence du disposi- the frequency characteristics of the device
tif sont également modifiées.tif are also modified.
Plusieurs solutions peuvent convenir pour chan- Several solutions may be suitable for changing
ger lesliaisons moléculaires de la matière du tampon de réglage. Par exemple, un cermet aluminium-oxygène tel que décrit conjointement avec un article intitulé "Submicron Patterning by Projecting Excimer-Laser-Beam the molecular links of the control buffer material. For example, an aluminum-oxygen cermet as described in conjunction with an article entitled "Submicron Patterning by Projecting Excimer-Laser-Beam"
Induced Chemistry" par Ehrlich et al, J.Vac. Sci. Tech. Induced Chemistry "by Ehrlich et al., J.Vac., Sci., Tech.
B 3 (1) Jan/Févr. I985 peut être utilisé. Dans ce cas, B 3 (1) Jan / Feb I985 can be used. In that case,
une couche de cermet est déposée sur le tampon de ré- a layer of cermet is deposited on the buffer of
glage 26. L'énergie d'excimer est dirigée vers le tampon de réglage et en réponse les liaisons Al-0 sont rompues et une croissance localisée de A1203 dans le tampon de 26. The excimer energy is directed to the control buffer and in response the Al-O bonds are broken and localized growth of A1203 in the buffer of
réglage se produit. Egalement, l'écartement et le nom- setting occurs. Also, the spacing and the
bre des régions localisées de croissance de A1203 sont choisis en fonction de la valeur voulue de changement de vitesse d'ondes superficielles. Un exemple de cette technique de réglage est représentée par l'exemple 6 Some of the localized growth regions of A1203 are chosen based on the desired value of surface wave velocity changes. An example of this adjustment technique is represented by Example 6
dans le tableau.In the picture.
En variante, des couches de Al203, Al peuvent être prévues comme tampon de réglage 26 et ce dernier est également soumis dans des régions sélectives à de la lumière d'excimer et les liaisons Al-Al et Al-0 sont rompues et une nouvelle phase Al20x est formée, o x Alternatively, Al 2 O 3, Al layers may be provided as control buffer 26 and the latter is also subjected to excimer light selective regions and the Al-Al and Al-O bonds are broken and a new phase is introduced. Al20x is formed, ox
représente une composition non stoechiométrique. represents a non-stoichiometric composition.
Une autre technique consiste à déposer une cou- Another technique consists in depositing a
che d'aluminium comme tampon de réglage 26. La cavité du boîtier 10 est remplie d'un gaz réagissant 02 ou NO3 par exemple, sous une pression généralement dans la pla- The cavity of the housing 10 is filled with a gas reacting O2 or NO3, for example, under a pressure generally in the surface.
ge de 2 X 10- 6 torr à 1 X 10- 4 torr. L'énergie inciden- 2 X 10-6 torr at 1 X 10 -4 torr. Incidental energy
te est également dirigée vers le tampon de réglage 26 is also directed to the adjustment buffer 26
o des liaisons Al-Al sont rompues entraînant une for- o Al-Al links are broken, resulting in
mation pyrolytique de A1203. En contrôlant la valeur de la zone irradiée, la valeur voulue de la variation pyrolytic release of A1203. By controlling the value of the irradiated area, the desired value of the variation
de vitesse d'ondes superficielles est obtenue. superficial wave velocity is obtained.
Les figures 7, 7A représentent un autre mode -16- encore de réalisation de l'invention. Dans ce cas, le dispositif à ondes acoustiques superficielles sous Figures 7, 7A show another embodiment of the invention. In this case, the superficial acoustic wave device
boitier constitué par le couvercle 14 et la basel2 con- housing constituted by the cover 14 and the basel2 con-
tient des gaz réagissant 32 enfermés hermétiquement. holds reactive gases 32 hermetically sealed.
Un faisceau laser, comme de la lumière d'excimer, Nd-YAG, etc, est dirigé à travers le dispositif pour rompre photolytiquement les liaisons de ces gaz réagissants et pour déposer à partir de cette réaction photolytique A laser beam, such as excimer light, Nd-YAG, etc., is directed through the device to photolytically break the bonds of these reactants and to deposit from this photolytic reaction
une matière sur la surface de propagation d'ondes super- a material on the super-wave propagation surface
ficielles. Dans ce cas, des configurations déterminées ficial. In this case, certain configurations
de lumière d'excimer sont prévues pour déposer des con- of excimer light are provided to deposit
figurations déterminées de la matière sur la surface. definite figurations of matter on the surface.
Les gaz réagissants peuvent comporter l'oxygène et une The reacting gases may comprise oxygen and a
source d'un métal approprié comme l'aluminium, le sili- source of a suitable metal such as aluminum, silicon
cium, etc. Par exemple, du TMAl(triméthylaluminium), cium, etc. For example, TMAl (trimethylaluminum),
de la silam SiH4, etc peuvent convenir. Le gaz particu- SiH4 silam, etc. may be suitable. Particulate gas
lier choisi pour la source de métal par exemple doit être stable pendant l'opération de fermeture hermétique bind chosen for the metal source for example must be stable during the hermetic sealing operation
du frittage de verre dans les types de boitier utili- glass sintering in the types of housing used
sant ce joint.this seal.
La lumière laser d'excimer peut être dirigée vers ces gaz déterminés et rompre photolytiquement les liaisons du gaz source de métal. Le métal libre réagit alors avec l'oxygène et une couche d'oxyde métallique 34' se dépose depuis la vapeur sur le substrat. Ainsi, une région localisée de A1203 peut aussi être formée par croissance sur la surface de propagation d'ondes superficielles. The excimer laser light can be directed to these determined gases and photolytically break the bonds of the metal source gas. The free metal then reacts with oxygen and a metal oxide layer 34 'is deposited from the vapor on the substrate. Thus, a localized region of A1203 can also be grown on the surface wave propagation surface.
Après avoir décrit des modes préférés de réali- After describing preferred modes of
sation de l'invention, il apparaît maintenant à l'hom- of the invention, it now appears to the
me de l'art que d'autres modes de réalisation incorpo- art that other embodiments incorporate
rant ses concepts peuvent être utilisés. En outre, il his concepts can be used. Furthermore, it
apparait également qu'un faisceau ou une paire de fais- It also appears that a beam or a pair of
ceaux convergents peuvent convenir pour éliminer selec- Convergent cages may be suitable for selective
tivement un tampon disposé entre les deux transducteurs -17- imbriqués sur la base 12, comme le montre la figure 6, ou pour éliminer ou déposer à nouveau des parties d'un tampon de réglage disposé sur la partie intérieure du couvercle 12, par exemple en dirigeant les faisceaux à travers la base 12 ou le couvercle 14. Il apparait ainsi queles modes de réalisation ne sont pas limités à ceux qui ont été décrits mais ne le sont que par le Alternatively, a buffer disposed between the two nested transducers on the base 12, as shown in FIG. 6, or to remove or re-deposit portions of a control pad disposed on the inner portion of the cover 12, for example by directing the bundles through the base 12 or the lid 14. It thus appears that the embodiments are not limited to those described but are only by the
cadre et l'esprit des revendications annexées. framework and the spirit of the appended claims.
2-6093472-609347
-18--18-
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