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FR2609347A1 - SUPERFICIAL ACOUSTIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR ITS ADJUSTMENT - Google Patents

SUPERFICIAL ACOUSTIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR ITS ADJUSTMENT Download PDF

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FR2609347A1
FR2609347A1 FR8717911A FR8717911A FR2609347A1 FR 2609347 A1 FR2609347 A1 FR 2609347A1 FR 8717911 A FR8717911 A FR 8717911A FR 8717911 A FR8717911 A FR 8717911A FR 2609347 A1 FR2609347 A1 FR 2609347A1
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superficial
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FR8717911A
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Original Assignee
Raytheon Co
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Publication date
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Abstract

L'INVENTION CONCERNE UN DISPOSITIF A ONDES ACOUSTIQUES SUPERFICIELLES ET UN PROCEDE DE REGLAGE DE SES CARACTERISTIQUES. LE DISPOSITIF COMPORTE UNE BASE 12 ET UN COUVERCLE 14 DONT L'UN EST TRANSPARENT A DE L'ENERGIE ELECTROMAGNETIQUE 30. UNE MATIERE 26 EST DEPOSEE SUR UNE SURFACE INTERIEURE DE LA BASE OU DU COUVERCLE ET ELLE EST ELIMINEE PAR L'ENERGIE ELECTROMAGNETIQUE POUR SE DEPOSER SUR LA SURFACE 12A DE PROPAGATION D'ONDES SUPERFICIELLES AFIN DE MODIFIER LES CARACTERISTIQUES DE VITESSE DE PROPAGATION. L'INVENTION S'APPLIQUE NOTAMMENT A DES RESONATEURS A ONDES ACOUSTIQUES SUPERFICIELLES.THE INVENTION RELATES TO A SURFACE ACOUSTIC WAVES DEVICE AND A PROCESS FOR ADJUSTING ITS CHARACTERISTICS. THE DEVICE INCLUDES A BASE 12 AND A COVER 14, ONE OF WHICH IS TRANSPARENT TO ELECTROMAGNETIC ENERGY 30. MATERIAL 26 IS DEPOSITED ON AN INTERIOR SURFACE OF THE BASE OR COVER AND IT IS ELIMINATED BY THE ELECTROMAGNETIC ENERGY IN ORDER. DEPOSIT ON SURFACE 12A OF SURFACE WAVE PROPAGATION IN ORDER TO MODIFY PROPAGATION SPEED CHARACTERISTICS. THE INVENTION APPLIES IN PARTICULAR TO SURFACE ACOUSTIC WAVE RESONATORS.

Description

-1-1

La présente invention se rapporte de façon géné-  The present invention relates generally to

rale aux dispositifs à ondes acoustiques superficielles  to superficial acoustic wave devices

et concerne plus particulièrement le réglage des carac-  and more particularly the adjustment of the characteristics

téristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acousti-  frequency characteristics of an acoustic wave device

ques superficielles.superficial issues.

Comme cela est connu dans la technique, des dis-  As is known in the art,

positifs à ondes acoustiques superficielles comme des résonateurs, des lignes à retard, des filtres et des transducteurs de pression sont utilisés dans toute une variété d'applications. En général, un dispositif à ondes acoustiques superficielles comporte au moins un  Surface acoustic wave positives such as resonators, delay lines, filters, and pressure transducers are used in a variety of applications. In general, a surface acoustic wave device comprises at least one

transducteur comprenant un ensemble de pièces conductri-  transducer comprising a set of conductive parts

ces qui est disposé sur ou en retrait à la partie de  those who is willing on or withdrawing to the party of

surface supérieure d'un substrat piézo-électrique.  upper surface of a piezoelectric substrate.

Umnrouveau type de boîtier a été développé, qui  A new type of case has been developed which

enferme hermétiquement le substrat du dispositif à on-  hermetically encloses the substrate of the device

des acoustiques superficielles. Ce nouveau boîtier com-  superficial acoustics. This new housing

porte deux substrats piézo-électriques qui sont scellés ensemble par un frittage de verre, comme cela est décrit dans un article intitulé "Saw Resonator Frit Bonded Pressure Transducer" par D. Weirauch et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, 1979, page 874 et dans un article intitulé "Long Term Aging, A Mechanical Stability of 1,4 GHz SAW Oscillators" par M. Gilden et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, I980, page 184; un second type de boîtier est décrit dans le Brevet des Etats Unis d'Amérique N 4 270 107, de Parker et al, délivré le 26 Mai I98I et intitulé "Stabilized  carries two piezoelectric substrates which are sealed together by glass sintering, as described in an article entitled "Saw Resonator Fried Bonded Pressure Transducer" by D. Weirauch et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, 1979, page 874 and in an article entitled "Long Term Aging, A Mechanical Stability of 1.4 GHz SAW Oscillators" by M. Gilden et al, Proceedings of the IEEE Ultrasonic Symposium, 1980, page 184; a second type of housing is described in U.S. Patent No. 4,270,107 to Parker et al., issued May 26, 1981, entitled "Stabilized

Surface Wave Device" et assigné à la demanderesse.  Surface Wave Device "and assigned to the plaintiff.

Bien que ces boîtiers apportent un conditionne-  Although these cases bring a condition-

ment amélioré et des possibilités de manutention des  improvement and the possibilities of handling

dispositifs à ondes acoustiques superficielles, un pro-  superficial acoustic wave devices, a

blème qui leur est associé est que, pendant la fabri-  The problem with them is that during the manufacturing process

cation du boîtier, les caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superficielles sous -2-  cation of the housing, the frequency characteristics of the superficial acoustic wave device under -2-

boitier sont changées par rapport à celles d'un dispo-  box are changed in relation to those of a

sitif avant sa mise sous boitier. Par exemple, pour  before putting it in a box. For example, for

des résonateurs à ondes acoustiques superficielles fonc-  superficial acoustic wave resonators function

tionnant aux environs de 350 MHz, ce décalage de fré-  around 350 MHz, this difference in frequency

quence peut être en moyenne d'environ 45 ppm et peut  quence can be on average about 45 ppm and can

présenter un écart standard aussi élevé que + 15 ppm.  have a standard deviation as high as + 15 ppm.

Pour d'autres types de dispositifs qui sont conçus pour fonctionner à des fréquences plus élevées, l'amplitude et l'écart standard de ce décalage augmentent, de sorte qu'un réglage précis des caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superficielles est plus difficile. Dans de nombreuses applications, une possibilité de réglage précis de la fréquence de + 1  For other types of devices that are designed to operate at higher frequencies, the amplitude and standard deviation of this offset increase, so that fine tuning of the frequency characteristics of the surface acoustic wave device is more difficult. In many applications, a possibility of fine tuning the frequency of + 1

ppm serait souhaitable.ppm would be desirable.

Une solution à ce problème consiste à utiliser des composants électriques extérieurs pour régler les caractéristiques en fréquence des circuits utilisant le dispositif à ondes acoustiques superficielles. Le  One solution to this problem is to use external electrical components to adjust the frequency characteristics of the circuits using the surface acoustic wave device. The

problème posé par cette solution est que ce type de ré-  The problem with this solution is that this type of

glage de fréquence extérieur prend beaucoup de temps, est relativement coûteux car le nombre des composants  Frequency frequency setting is time consuming, is relatively expensive because the number of components

nécessaires pour une application particulière c'un dis-  necessary for a particular application it

positif à ondes acoustiques superficielles est accru  positive surface acoustic wave is increased

et en outre, les composants eux-mêmes peuvent contri-  and furthermore, the components themselves can contribute

buer à des variations de fréquence dans des circuits  to fluctuate frequency in circuits

qui comportent les dispositifs de ce genre.  which include devices of this kind.

L'invention concerne donc un procédé de change-  The invention therefore relates to a method of change-

ment de la caractéristique de vitesse d'une onde super-  of the velocity characteristic of a superwave wave.

ficielle sur une surface qui supporte une propagation  on a surface that supports propagation

d'ondes superficielles, consistant à diriger de l'éner-  of superficial waves, consisting of directing energy

gie à travers un premier d'une base et d'un couvercle,  through a first of a base and a lid,

enfermant ladite surface, vers une première matière dis-  enclosing said surface towards a first material

posée sur ladite surface pour former une couche d'une seconde matière sur ladite surface afin de modifier la caractéristique de vitesse de cette surface. Avec cette -3- disposition particulière, la couche de seconde matière sur la base produit une petite variation localisée de la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle de la surface qui supporte la propagation de cette onde superficielle, permettant ainsi le réglage des caracté- ristiques en fréquence de dispositifs à ondes acoustiques  placed on said surface to form a layer of a second material on said surface to modify the velocity characteristic of that surface. With this particular arrangement, the second material layer on the base produces a small localized variation in the velocity characteristic of a surface wave of the surface that supports the propagation of this surface wave, thereby allowing the adjustment of the characteristics of the surface wave. Frequency characteristics of acoustic wave devices

superficielles sous boîtier.superficial in a case.

Selon un autre aspect, l'invention concerne un  In another aspect, the invention relates to a

procédé de changement de la vitesse d'une onde superfi-  method of changing the speed of a superficial wave

cielle d'un dispositif à ondes acoustiques superficiel-  of a surface acoustic wave device-

les sous boîtier consistant à diriger de l'énergie inci-  the sub-casing of directing energy inci-

dente à travers un couvercle du dispositif sous boîtier pour enlever une partie d'une couche de matière disposée sur une surface de propagation d'ondes superficielles du dispositif à ondes acoustiques superficielles. Avec cette disposition particulière, la matière éliminée produit une petite variation localisée des propriétés  through a cover of the boxed device to remove a portion of a layer of material disposed on a surface wave propagation surface of the surface acoustic wave device. With this particular arrangement, the discarded material produces a small localized variation of the properties

acoustiques de la surface de propagation d'ondes super-  acoustics of the super-wave propagation surface

ficielles, assurant ainsi une variation concomitante des caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes  to provide a concomitant variation in the frequency characteristics of the wave

acoustiques superficielles.superficial acoustics.

Selon un autre aspect encore, l'invention con-  In yet another aspect, the invention

cerne un procédé de modification de la vitesse d'une onde superficielle d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles sous boîtier consistant: à disposer un  A method of modifying the speed of a surface wave of a surface acoustic wave device in a package comprising:

couvercle sur le dispositif à ondes superficielles, for-  lid on the superficial wave device,

mant une enceinte sur ce dispositif à ondes superficiel-  an enclosure on this surface wave device-

les avec au moins l'un du couvercle et de la base cons-  with at least one of the lid and base

titué par une matière qui est pratiquement transparente  staggered by a material that is virtually transparent

à l'énergie dans une plage sélective de longueur d'onde.  to energy in a wavelength selective range.

Une couche de matière est disposée sur une partie de  A layer of material is arranged on a part of

surface intérieure du couvercle. De l'énergie est diri-  inner surface of the lid. Energy is direc-

gée vers cette couche de matière à travers le couvercle  to this layer of material through the lid

ou la base transparents pour éliminer des parties déter-  or the transparent base to eliminate specific parts

minées de la matière de la couche, et ces parties dé-  of the material of the diaper, and these parts de-

-4- terminées qui sont éliminées se déposant à nouveau, sur la surface de propagation d'une onde superficielle. Avec cette disposition particulière, la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle et par conséquent, les caractéristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles sous boitier peuvent être réglées après la mise sous boitier du dispositif à ondes  They are removed and deposited again on the surface of propagation of a surface wave. With this particular arrangement, the velocity characteristic of a surface wave and therefore, the frequency characteristics of a surface acoustic wave device under a case can be adjusted after the case of the wave device

acoustiques superficielles. La matière qui s'est à nou-  superficial acoustics. The matter that has become new

veau déposée produit une petite modification localisée  calf filed produces a small localized modification

des propriétés acoustiques de la surface piézo-électri-  acoustic properties of the piezoelectric surface

que, changeant ainsi la vitesse des ondes superficiel-  that, thus changing the speed of the superficial waves

les en propagation. Par conséquent, cette modification de vitesse d'ondes superficielles produit une variation  in propagation. As a result, this change in surface wave velocity produces a variation

associée des caractéristiques en fréquence du disposi-  associated frequency characteristics of the

tif à ondes acoustiques superficielles.  tif with superficial acoustic waves.

Selon un autre aspect encore de l'invention, la partie de couvercle de la matière est en quartz et  According to yet another aspect of the invention, the lid portion of the material is made of quartz and

ce quartz est transparent à l'énergie lumineuse prove-  this quartz is transparent to the luminous energy

nant d'un laser ayant une longueur d'onde dans la pla-  from a laser having a wavelength in the

ge d'environ 0,185 micrométre à 4 micrométres. Sur la partie intérieure du couvercle de quartz est disposé  from about 0.185 micrometers to 4 micrometers. On the inner part of the quartz cover is arranged

un tampon consistant en une première couche d'une ma-  a buffer consisting of a first layer of a

tière faisant tampon thermiquement, une seconde couche d'une matière de conversion d'énergie et une troisième  thermally buffering a second layer of energy conversion material and a third

couche d'une matière pouvant être éliminée ou évaporée.  layer of a material that can be removed or evaporated.

L'énergie optique incidente est dirigée vers ce tampon.  The incident optical energy is directed to this buffer.

Le couvercle de quartz et la première couche consti-  The quartz cover and the first layer constitute

tuant la matière de tampon thermique sont pratiquement transparents à l'énergie optique incidente. Mais cette énergie incidente échauffe la couche intermédiaire de conversion d'énergie entre la couche faisant tampon  killing the thermal buffer material are substantially transparent to the incident optical energy. But this incident energy heats up the intermediate layer of energy conversion between the buffer layer

thermique et la couche pouvant être éliminée. La cha-  thermal and the layer that can be removed. The chain

leur développée dans la couche de conversion d'énergie  their developed in the energy conversion layer

entraine que la couche pouvant être éliminée ou évapo-  causes the layer to be eliminated or evapo-

rée s'élimine ou s'évapore et se dépose à nouveau sur -  is eliminated or evaporates and settles again on -

des parties sous-jacentes de la surface piézo-électri-  underlying parts of the piezoelectric surface

que. La première couche diélectrique est prévue pour faire tampon sur le couvercle de quartz par rapport à  than. The first dielectric layer is provided to buffer the quartz cover with respect to

la chaleur associée avec la couche de conversion d'é-  the heat associated with the conversion layer of

nergie. Avec cette disposition particulière, les carac-  energy. With this particular provision, the characteristics

téristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acous-  frequency characteristics of an acoustic wave device

tiques superficielles peuvent être réglées en utili-  surface ticks can be adjusted using

sant un laser qui redépose sélectivement une partie pré-  a laser that selectively redeposit a pre-selected part of

déterminée de la couche pouvant être éliminée ou éva-  determined the layer that can be eliminated or

porée sur la surface de propagation d'ondes superficiel-  pored on the superficial wave propagation surface-

les du dispositif à ondes acoustiques superficielles, réglant ainsi la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle et par conséquent, les caractéristiques  of the surface acoustic wave device, thereby adjusting the velocity characteristic of a surface wave and therefore the characteristics

en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superfi-  in frequency of the acoustic acoustic wave device

cielles.cial.

Selon un autre aspect encore, l'invention con-  In yet another aspect, the invention

cerne un procédé de modification de la caractéristique de vitesse d'une onde superficielle d'un dispositif à  identifies a method of modifying the velocity characteristic of a surface wave of a device

ondes acoustiques superficielles sous boîtier, consis-  superficial acoustic waves in a casing,

tant à disposer un couvercle constitué d'une matière qui est transparente à de l'énergie électromagnétique,  both to have a cover made of a material that is transparent to electromagnetic energy,

dans une plage de longueur d'onde déterminée, le cou-  within a specified wavelength range, the

vercle étant disposé de manière à enfermer une surface de propagation d'ondes superficielles. Un faisceau hautement convergent ou une paire de faisceaux, chacun sous un angle d'incidence déterminé pour converger sur ladite surface, est dirigé vers cette dernière pour produire un faisceau d'une intensité suffisante pour  vercle being disposed to enclose a surface wave propagation surface. A highly convergent beam or a pair of beams, each at an angle of incidence determined to converge on said surface, is directed thereto to produce a beam of sufficient intensity to

éliminer sélectivement des parties de la surface de pro-  selectively remove parts of the surface of

pagation. Avec cette disposition particulière, en éli-  pagation. With this particular provision, in

minant sélectivement des parties de la surface de pro-  selectively removing parts of the surface of

pagation piézo-électrique, une petite modification lo-  piezoelectric paging, a small modification

calisée des propriétés acoustiques et, par conséquent  acoustic properties and, consequently,

de la caractéristique de vitesse d'une onde superficiel-  of the velocity characteristic of a superficial wave

le est produite. Les caractéristiques en fréquence du dispositif à ondes acoustiques superficielles sont  is produced. The frequency characteristics of the superficial acoustic wave device are

donc également modifiées.therefore also modified.

D'autres caractéristiques et avantages de  Other features and benefits of

l'invention apparaitront au cours de la description  the invention will appear during the description

qui va suivre.who will follow.

Aux dessins annexés donnés uniquement à ti-  In the attached drawings given only at

tre d'exemples nullement limitatifs:  examples of non-limiting examples:

la figure 1 est une vue en plan d'un résona-  FIG. 1 is a plan view of a resonator

teur à ondes acoustiques superficielles sous boitier avant le réglage de fréquence selon l'invention, la figure 2 est une coupe suivant la ligne 22 de la figure 1, la figure 2A est une vue à plus grande échelle suivant la ligne 2-2 de la figure 2,  FIG. 2 is a sectional view along the line 22 of FIG. 1, FIG. 2A is an enlarged view along the line 2-2 of FIG. figure 2,

la figure 3 est une vue en plan d'un résona-  FIG. 3 is a plan view of a resonator

teur à ondes acoustiques superficielles sous boitier après le réglage de fréquence selon l'invention, la figure 4 est une coupe suivant la ligne 44 de la figure 3, la figure 4A est une vue à plus grande échelle d'une partie de la figure 4, suivant la ligne 4A-4A de la figure 4, la figure 5 est une coupe d'un autre mode de réalisation de l'invention utilisant des paires convergentes de faisceaux d'énergie dirigés, la figure 5A est une vue à plus grande échelle suivant la ligne 5A-5A de la figure 5, la figure 6 est une coupe d'un autre mode de réalisation de l'invention utilisant des paires  FIG. 4 is a sectional view of FIG. 4, a section on line 44 of FIG. 3; FIG. 4A is an enlarged view of part of FIG. along line 4A-4A of FIG. 4, FIG. 5 is a sectional view of another embodiment of the invention using convergent pairs of directed energy beams, FIG. 5A is an enlarged view. along the line 5A-5A of Figure 5, Figure 6 is a section of another embodiment of the invention using pairs

convergentes de faisceaux d'énergie dirigés pour éli-  convergence of energy bundles directed to eliminate

miner un tampon déposé sur une surface de propagation d ondes superficielles, la figure 6A est une vue à plus grande échelle -7- suivant la ligne 6A-6A de la figure 6, la figure 7 est une coupe d'un autre mode de réalisation dans lequel un mélange gazeux est enfermé dans le boitier, avec de l'énergie incidente dirigée vers ce mélange pour produire une couche de matière sur la surface de propagation d'ondes superficielles, et  A pad is deposited on a surface wave propagation surface, FIG. 6A is an enlarged view along the line 6A-6A of FIG. 6, FIG. 7 is a sectional view of another embodiment. wherein a gaseous mixture is enclosed in the housing, with incident energy directed to the mixture to produce a layer of material on the surface wave propagation surface, and

la figure 7A est une vue à plus grande échel-  Figure 7A is a larger scale view.

le suivant la ligne 7A-7A de la figure 7.  following line 7A-7A of Figure 7.

Comme lemontrent les figures 1, 2 et 2A, un dispositif à ondes acoustiques superficielles sous  As shown in FIGS. 1, 2 and 2A, a superficial acoustic wave device under

boîtier, dans le cas présent un résonateur 10, compor-  housing, in this case a resonator 10, comprising

te une base 12 avec une surface 12a qui supporte une propagation d'ondes superficielles, un couvercle 14 et  base 12 with a surface 12a which supports surface wave propagation, a cover 14 and

un joint 16 en frittage de verre. La base 12 est cons-  a seal 16 in glass sintering. The base 12 is

tituée dans ce cas d'un quartz de coupe ST ou de cou-  in this case a quartz of cut ST or of

pe ST tournée, avec, disposés sur sa surface 12a, deux transducteurs imbriqués 20 et 24 (IDT) et des réseaux réflecteurs 27, 29. Les transducteurs imbriqués 20 et 24 sont couplés avec des barres omnibus 18a et 18b, et 19a et 19b respectivement. Sur la base 12 est disposé le couvercle 14, également constitué d'un quartz de  eg ST rotated, with, arranged on its surface 12a, two nested transducers 20 and 24 (IDT) and reflector gratings 27, 29. The nested transducers 20 and 24 are coupled with bus bars 18a and 18b, and 19a and 19b respectively . On the base 12 is disposed the cover 14, also made of a quartz of

coupe ST ou de coupe ST tournée. Le quartz est généra-  ST cut or ST cut tour. Quartz is generally

lement transparent entre 85% et 95% à de l'énergie ayant des longueurs d'onde dans la plage d'environ  85% to 95% transparency to energy having wavelengths in the range of about

0, 185 micrométre à 4,0 micromètres pour des échantil-  0.185 micrometers at 4.0 micrometers for samples

lons d'une épaisseur de 1 à 3 mm. En variante, la base  lons with a thickness of 1 to 3 mm. Alternatively, the base

12 et le couvercle 14 peuvent être constitués par d'au-  12 and the cover 14 may be constituted by

tres matières transparentes, comme du niobate de lithium.  very transparent materials, such as lithium niobate.

La base 12 et le couvercle 14 sont scelles ensemble en  The base 12 and the lid 14 are sealed together in

utilisant un joint approprié 16 en frittage de verre.  using a suitable seal 16 in glass sintering.

Le couvercle 14 a une largeur wc inférieure à la lar-  The lid 14 has a width wc lower than the width

geur wb de la base 14, de sorte que, lorsque le couver-  wb of base 14, so that when the cover

cle est scellé sur la base, les barres omnibus 18a et  key is sealed on the base, the bus bars 18a and

18b, et 19a et 19b sont exposées sur la partie périphé-  18b, and 19a and 19b are exposed on the peripheral

-8- rique de la base, pour établir des contacts électriques  -8- of the base, to establish electrical contacts

avec des coposants extérieurs.with external coposants.

Comme le montre plus particulièrement la figure 2A, la surface intérieure 14a du couvercle 14 porte sur une de ses parties, une couche faite de préférence d'une couche composite 26 constituée par une couche 26a de tampon thermique ou d'absorption de choc, une couche 26b d'absorption thermique ou de conversion d'énergie  As shown more particularly in FIG. 2A, the inner surface 14a of the cover 14 bears on one of its parts, a layer preferably made of a composite layer 26 constituted by a layer 26a of thermal buffer or shock absorption, a 26b layer of thermal absorption or energy conversion

et une couche 26c d'évaporation ou d'élimination ther-  and a layer 26c of evaporation or thermal elimination

mique. Dans cette disposition préférée, la couche 26a d'absorption de choc thermique consiste en une matière  nomic. In this preferred arrangement, the thermal shock absorption layer 26a consists of a material

diélectrique qui est pratiquement transparente à l'é-  dielectric which is virtually transparent to the

nergie incidente qui est dirigée à travers le couvercle 14 du dispositif à ondes acoustiques superficielles d'une manière qui sera décrite par la suite, mais qui  incident energy which is directed through the cover 14 of the surface acoustic wave device in a manner to be described later, but which

présente une résistance thermique suffisante pour assu-  has sufficient thermal resistance to ensure

rer un tampon thermique du couvercle 14 par rapport à  obtain a thermal buffer from the lid 14 with respect to

la chaleur développée dans la couche d'absorption ther-  the heat developed in the heat absorption layer

mique 26b, comme cela sera décrit. La couche de conver-  26b, as will be described. The conversion layer

sion d'énergie 26b est faite d'une matière qui absorbe l'énergie incidente dirigée à travers le couve cle 14 et la couche de choc thermique 26a et elle convertit  energy supply 26b is made of a material that absorbs the incident energy directed through the cover 14 and the thermal shock layer 26a and converts

cette énergie incidente dirigée en énergie de rayonne-  this incident energy directed into radiation energy-

ment ou en chaleur. La couche d'élimination ou d'éva-  or in heat. The elimination or evaporation layer

poration thermique 26c est disposée au-dessus de la cou-  thermal poration 26c is arranged above the neck.

che de conversion 26b et elle absorbe une partie de l'énergie de rayonnement développée dans la couche 26b et, si cette énergie a une intensité suffisante, la  26b and it absorbs a portion of the radiation energy developed in the layer 26b and, if this energy has a sufficient intensity, the

pellicule 26c est éliminée sélectivement, en particu-  26c film is selectively removed, in particular

lier éliminée ou évaporée du couvercle pour se déposer ou se condenser sur la surface 12a, comme le montre la figure 4. La quantité de cette masse déposée est choisie  bond removed or evaporated from the lid to deposit or condense on the surface 12a, as shown in Figure 4. The quantity of this deposited mass is chosen

pour modifier suffisamment la caractéristique de vites-  to sufficiently modify the characteristic of

se d'ondes superficielles du dispositif à ondes acous-  superficial waves of the acoustic wave device

tiques superficielles et pour modifier par conséquent g9-  superficial ticks and therefore to modify g9-

les caractéristiques en fréquence du dispositif à on-  the frequency characteristics of the on-line device

des acoustiques superficielles, selon les besoins.  surface acoustics, as needed.

Comme le montrent les figures 3, 4 et 4A, l'é-  As shown in Figures 3, 4 and 4A, the

nergie incidente 30 est dirigée à travers le couvercle 14 vers le tampon de réglage 26. L'énergie incidente traverse la couche tampon transparente 26a et elle est absorbée par des parties sous-jacentes déterminées de la couche de conversion d'énergie 26b. La couche 26b convertit l'énergie dirigée en chaleur. La chaleur dans la couche 26b entraîne l'élimination ou l'évaporation  The incident energy 30 is directed through the cover 14 to the control pad 26. The incident energy passes through the transparent buffer layer 26a and is absorbed by specific underlying portions of the energy conversion layer 26b. Layer 26b converts the directed energy into heat. The heat in layer 26b leads to removal or evaporation

de parties de la couche 26c. Selon la durée des impul-  of parts of the layer 26c. Depending on the duration of the

sions, le niveau de puissance, la longueur d'onde et la fréquence de répétition de cette énergie, la couche  the power level, the wavelength and the repetition frequency of this energy, the

26c est évaporée à de faibles niveaux d'énergie ou éli-  26c is evaporated at low energy levels or eliminated

minée à des niveaux d'énergie plus élevés. En outre,  mined at higher energy levels. In addition,

à des niveaux suffisamment élevés, des parties détermi-  at sufficiently high levels, decisive parts

nées de chacune des couches 26a-26c peuvent être éli-  from each of layers 26a-26c may be eli-

minées. La matière éliminée, soit par ablation, soit par évaporation, se condense et se dépose sous forme d'une couche 34 sur la partie de base 12 du dispositif à ondes acoustiques superficielles 10. La présence de la couche 34 sur la surface 12a de la base 12 réduit la vitesse des ondes superficielles dans cette région en raison des effets de charge de masse, quand l'onde superficielle se propage. En augmentant le nombre de  mined. The material removed, either by ablation or by evaporation, condenses and is deposited as a layer 34 on the base portion 12 of the surface acoustic wave device 10. The presence of the layer 34 on the surface 12a of the base 12 reduces the speed of surface waves in this region due to mass load effects, when the surface wave propagates. By increasing the number of

ces couches 34 et leur largeur ainsi que la masse tota-  these layers 34 and their width as well as the total mass

le, la plage de réglage de la caractéristique de vites-  the, the adjustment range of the speed characteristic

se d'ondes superficielles est augmentée.  superficial wave is increased.

Des exemples spécifiques de dispositifs fabri-  Specific examples of manufacturing devices

qués selon l'invention seront maintenant décrits. Com-  according to the invention will now be described. com-

me le montrent les figures 3, 4 et 4A, de l'énergie incidente, dans le cas présent sous forme de faisceaux lumineux, provenant de sources laser comme l'indique  as shown in FIGS. 3, 4 and 4A, incident energy, in the present case in the form of light beams, originating from laser sources as indicated by FIG.

le tableau, sont formés avec des longueurs qui fran-  the painting, are formed with lengths that

chissent pratiquement la longueur de la surface de pro-  almost the length of the surface of

-1O- pagation d'ondes acoustiques et avec des largeurs qui sont généralement de l'ordre de la longueur d'onde du dispositif à ondes acoustiques superficielles (c'est  -1O- pagation of acoustic waves and with widths that are generally of the order of the wavelength of the surface acoustic wave device (this is

à dire dans la plage de 2,5 micromètres à 50 micromè-  to say in the range of 2.5 micrometers to 50 micrometers

tres). Autrement dit, une longue ligne étroite sui-  very). In other words, a long narrow line follows

vant la longueur de la surface de propagation acousti-  the length of the acoustic propagation surface

que, centrée et parallèle à l'ouverture acoustique des éléments transducteurs imbriqués est dirigée vers le  that, centered and parallel to the acoustic opening of the nested transducer elements, is directed towards the

couvercle en quartz. Cette énergietraverse le couver-  quartz cover. This energy reverses the

cle en quartz 14 et elle est absorbée par le tampon de réglage composite disposé sur la surface intérieure  quartz key 14 and is absorbed by the composite adjustment pad disposed on the inner surface

14a du couvercle 14. Avec cette configuration de fais-  14a of the lid 14. With this configuration of

ceau laser, la couche d'aluminium 26b est chauffée  laser beam, the 26b aluminum layer is heated

sélectivement dans des régions qui reçoivent le fais-  selectively in regions receiving the

ceau laser incident. En réponse à ce chauffage locali-  incident laser beam. In response to this local heating

sé de la couche d'aluminium, des parties 26c sont éva-  of the aluminum layer, parts 26c are

porees ou éliminées de la couche et se déposent sur  porees or removed from the diaper and deposited on

la surface sous-jacente 12a de propagation d'ondes su-  the underlying surface 12a of wave propagation su-

perficielles. En particulier, étant donné que la va-  perficielles. In particular, given that the

leur du réglage de fréquence est liée à la masse de la matière déposée sur la surface de propagation d'ondes superficielles, la valeur de réglage de fréquence par ligne du laser peut être contrôlée par la largeur et  their frequency adjustment is related to the mass of the material deposited on the surface wave propagation surface, the frequency setting value per line of the laser can be controlled by the width and

la densité d'énergie du faisceau ainsi que par la quan-  the energy density of the beam as well as the quantity

tité de matière déposée sur la partie intérieure du  material deposited on the inner part of the

couvercle 14. Il semble que la valeur maximale du dé-  14. It seems that the maximum value of the

placement de fréquence puisse dépasser 10.000 parties par million si la surface totale disposée entre les transducteurs imbriqués est utilisée. Mais il apparait  Frequency placement can exceed 10,000 parts per million if the total area between the nested transducers is used. But it appears

également que des déplacements de cet ordre dégrade-  also that displacements of this order are degrading-

raient les pertes d'insertion et le facteur Q à vide du dispositif. Mais étant donné que environ 25 à 50 parties par million suffisent généralement pour tenir  the insertion losses and the empty Q factor of the device. But since about 25 to 50 parts per million are usually enough to hold

compte de l'incertitude de fréquence après le scelle-  account of the frequency uncertainty after the

ment du boîtier, une petite partie seulement de la  the case, only a small part of the

surface du tampon est généralement déposée sur la sur-  buffer surface is usually deposited on the surface

face active entre les IDT.active face between the IDTs.

Quatre dispositifs fonctionnant à 402 MHz  Four devices operating at 402 MHz

ont été accordés selon la technique décrite ci-dessus.  were granted according to the technique described above.

Une pellicule à trois niveaux, telle que présentée sur  A film with three levels, as shown on

la figure 4, consistant en une couche d'oxyde d'alumi-  FIG. 4, consisting of a layer of aluminum oxide

nium Al203 d'une épaisseur de 400K correspondant à la couche 26a, une couche d'aluminum d'une épaisseur de o100oÀ correspondant à la couche 26b et une couche  nium Al203 with a thickness of 400K corresponding to the layer 26a, a layer of aluminum with a thickness of 100 oA corresponding to the layer 26b and a layer

d'oxyde d'aluminum d'une épaisseur de 250K correspon-  aluminum oxide with a thickness of 250K correspon-

dant à la couche 26c a été déposée sur la partie inté-  layer 26c was deposited on the part

rieure du couvercle 14. Les épaisseurs des couches dé-  lid thickness 14. The thicknesses of the layers

posées 12a à 12c peuvent être choisies pour apporter  12a to 12c can be chosen to bring

différentes valeurs de chargement de masse par impul-  different mass loading values by pulse

sion de lumière incidente. Par conséquent, la couche 26a peut avoir une épaisseur généralement dans la plage de 200 à 1000X, la couche 26b peut avoir une épaisseur dans la plage de 25 à 200K et la couche 26c  incident light. Therefore, the layer 26a may have a thickness generally in the range of 200 to 1000X, the layer 26b may have a thickness in the range of 25 to 200K and the layer 26c

peut avoir une épaisseur dans la plage de 50 à 500X.  can have a thickness in the range of 50 to 500X.

Le niveau de puissance, le nombre des impul-  The power level, the number of

sions et le nombre des lignes déposées prévus pour les quatre exemples de l'invention ainsi que la fréquence initiale, la fréquence finale et le déplacement de  and the number of deposited lines provided for the four examples of the invention as well as the initial frequency, the final frequency and the displacement of

fréquence de ces dispositifs apparaissent dans le ta-  frequency of these devices appear in the table.

bleau, exemples 1 à 4.bleau, examples 1 to 4.

En variante, le faisceau laser incident peut être dirigé à travers la base 12 vers le tampon de réglage 26. L'énergie laser incidente peut alors être  Alternatively, the incident laser beam can be directed through the base 12 to the adjustment buffer 26. The incident laser energy can then be

utilisée pour éliminer des régions du tampon de régla-  used to remove regions from the buffer

ge sur le couvercle, par exemple en retournant le dis-  on the lid, for example by turning over the

positif à ondes acoustiques superficielles, pour chan-  surface acoustic wave, to change

ger à nouveau le chargement de masse dans cette région  again mass loading in this region

et par conséquent, la caractéristique de vitesse d'on-  and therefore, the speed characteristic of on-

des superficielles du dispositif à ondes acoustiques superficielles.  superficial of the surface acoustic wave device.

TABLEAUBOARD

DISPOSITIF TECHNIQUE DE LASER LONGWEJR DENSITE DUREE FREQUENCE LARGEUR NOMBRE DE LIGES fo REGLAGE A f I.D. REGLAGE D'ONDE D'ENERGIE D'IMPL- DE LIGNE FREQUENCE f  LASER TECHNICAL DEVICE LONGWEJR DENSITY DURATION FREQUENCY WIDTH NUMBER OF LINES fo ADJUSTMENT A f I.D. ADJUSTMENT OF ENERGY WAVE OF LINE IMPL- FREQUENCY f

PAR SIONBY SION

IMPULSIONIMPULSE

}v m J/cmn2 ns hz Pm MHz MHz PPM 1. PELLICULE Excimer 0,193 5 15 1 7 5 401,831 401,817 -35 3 niveaux sur couvercle  } v J / cmn2 ns hz Pm MHz MHz PPM 1. FILM Excimer 0,193 5 15 1 7 5 401,831 401,817 -35 3 levels on cover

2. 5 15 1 7 5 401,840 401,828 -302. 5 15 1 7 5 401,840 401,828 -30

3. Nd:YAG 1,06 0,0025 250 1024 50 5 402,178 402,166 - 30 4. Nd:YAG 1,06 0, 00325 250 1024 60 1 402,219 402,203 -40 5. ELIMINATION cEbimnr 0,193 7 15 50 50 0,1 402,174 402,170 -10  3. Nd: YAG 1.06 0.0025 250 1024 50 5 402.178 402.166 - 30 4. Nd: YAG 1.06 0.00325 250 1024 60 1 402.219 402.203 -40 5. ELIMINATION cEbimnr 0.193 7 15 50 50 0.1 402.174 402.170 -10

DE SURFACEOF SURFACE

DIU DISPOSITIFDEVICE IUD

6. C(1IVCSIMQ Exciner 0,193 5 15 10 100 5 401,962 401,955 -17  6. C (1IVCSIMQ Exciner 0,193 5 15 10 100 5 401,962 401,955 -17

CHIMIQUECHEMICAL

de AL-O Cerme t Qo Cl -13-of AL-O Cerme t Qo Cl -13-

La figure 5 représente un autre mode de réali-  Figure 5 represents another embodiment of

* sation de l'invention pour modifier sélectivement les caractéristiques en fréquence d'un dispositif à ondes acoustiques surperficielles sous boitier. Dans ce cas, le dispositif à ondes acoustiques superficielles sous* sation of the invention for selectively modifying the frequency characteristics of a device underperformed acoustic wave device. In this case, the superficial acoustic wave device

bottier 10' comporte la base précitée 12 et un couver-  box 10 'comprises the abovementioned base 12 and a cover

cle 14 comme cela a été décrit de façon générale en re-  cle 14, as has been described generally in re-

gard des figures 1 et 2. Selon cet aspect de l'inven-  Figures 1 and 2. According to this aspect of the invention,

tion, de l'énergie dirigée, sous la forme de l'énergie lumineuse d'un laser excimer est dirigée à travers le couvercle de quartz 14 vers la base 12. Dans ce cas, deux faisceaux de lumière laser excimer sont dirigés à  directed energy, in the form of the light energy of an excimer laser is directed through the quartz cover 14 to the base 12. In this case, two excimer laser light beams are directed to

travers le couvercle de quartz 14 sous un angle d'in-  through the quartz cover 14 at an angle of

cidence déterminé de manière à converger sur la base de quartz 12 et éliminer sélectivement une partie de  determined to converge on the basis of quartz 12 and selectively remove a portion of

cette base 12 dans l'une de ses régions, disposée en-  this base 12 in one of its regions, placed

tre les deux transducteurs imbriqués comme le montre  be the two nested transducers as shown

particulièrement la figure 5A. En variante, trois fais-  particularly Figure 5A. As a variant, three

ceaux ou davantage, ou encore un faisceau hautement convergent peuvent convenir. La densité de puissance au point o le ou les faisceaux convergent doit être suffisante pour éliminer des quantités déterminées de matière. Etant donné que le couvercle en quartz d'une épaisseur généralement de 1 à 2 mm transmet la lumière à environ 85%-95%, la densité de puissance au point de convergence doit être suffisante pour éliminer le  or more, or a highly convergent beam may be suitable. The power density at the point where the beam (s) converge must be sufficient to eliminate specific quantities of material. Since the quartz cover with a thickness of 1 to 2 mm generally transmits light at about 85% -95%, the power density at the point of convergence must be sufficient to eliminate the

quartz dans cette région. Avec cette disposition parti-  quartz in this region. With this particular arrangement

culière, étant donné que les propriétés acoustiques  because the acoustic properties

de la surface de propagation d'ondes superficielles en-  of the superficial wave propagation surface

tre les deux transducteurs 20 et 24 sont modifiées par  the two transducers 20 and 24 are modified by

l'émimination sélective de matière, les caractéristi-  selective material removal, the characteristics

ques de vitesse d'ondes superficielles entre les deux  of superficial wave velocity between the two

transducteurs sont également modifiées. Ainsi, la fré-  transducers are also modified. Thus, the frequency

quence du dispositif avec cette disposition est modi-  the device with this provision is amended

fiée sélectivement. Egalement, le nombre, la largeur -14- et la profondeur de ces r6gions 12c disposées dans la partie de surface de propagation d'ondes superficielles  selectively. Also, the number, width, and depth of these regions disposed in the superficial wave propagation surface portion

de la base 12 peuvent être choisis pour assurer un dé-  base 12 can be chosen to ensure

placement déterminé de fréquence acoustique, et par con-  determined placement of acoustic frequency, and by

séquent de la caractéristique en fréquence du disposi- tif à ondes acoustiques superficielles. En général, la profondeur des rainures est environ 0,5 micromètre et leur largeur est de l'ordre de la longueur d'onde de  of the frequency characteristic of the surface acoustic wave device. In general, the depth of the grooves is about 0.5 micrometer and their width is of the order of the wavelength of

propagation de l'onde superficielle (2 à 50 micromètres).  propagation of the superficial wave (2 to 50 micrometers).

Avec cette disposition particulière, l'intensité des faisceaux 30a et 30b dirigés à travers le couvercle de quartz 14 est insuffisante pour rompre ou perturber la matière de ce couvercle. Mais étant donné qu'au point de convergence des deux faisceaux, l'intensité de ces derniers est additionnée, l'intensité du faisceau est alors suffisante pour éliminer une partie déterminée 12c de la surface de propagation d'ondes superficielles  With this particular arrangement, the intensity of the beams 30a and 30b directed through the quartz cover 14 is insufficient to break or disturb the material of the cover. But since, at the point of convergence of the two beams, the intensity of the latter is added, the intensity of the beam is then sufficient to eliminate a determined part 12c of the surface of propagation of superficial waves.

12a. Etant donné que la masse et le trajet de propaga-  12a. Since the mass and the propagation path

tion de la surface de propagation d'ondes superficiel-  tion of the surface wave propagation surface-

les sont modifiés par cette disposition, la vitesse de propagation d'ondes superficielles et par conséquent  are modified by this provision, the speed of propagation of superficial waves and consequently

la fréquence du dispositif sont également modifiées.  the frequency of the device are also changed.

L'exemple 5 du tableau montre les résultats d'un dispo-  Example 5 in the table shows the results of a

sitif réglé selon cette technique.  set using this technique.

La figure 6 représente un autre mode encore de réalisation de l'invention qui comporte un tampon de  FIG. 6 represents yet another embodiment of the invention which comprises a buffer of

réglage 26 disposé sur la base dans l'ouverture acousti-  setting 26 disposed on the base in the acoustic opening

que des transducteurs imbriqués. Dans ce-cas, un fais-  as nested transducers. In this case, a

ceau ou, de préférence, deux faisceaux laser convergents peuvent convenir pour irradier sélectivement une partie du tampon de réglage 26 et pour modifier les liaisons moléculaires de cette partie du tampon. Là également, étant donné que la charge de masse dans la région o  Preferably, two or more convergent laser beams may be suitable for selectively irradiating a portion of the adjusting buffer 26 and for modifying the molecular bonds of that portion of the buffer. There too, given that the mass load in the region o

la composition de la matière est changée, les proprié-  the composition of the material is changed, the properties

tés acoustiques et, par conséquent, la vitesse superfi-  acoustic characteristics and, consequently, the superficial velocity

-15--15-

cielle et les caractéristiques en fréquence du disposi-  the frequency characteristics of the device

tif sont également modifiées.tif are also modified.

Plusieurs solutions peuvent convenir pour chan-  Several solutions may be suitable for changing

ger lesliaisons moléculaires de la matière du tampon de réglage. Par exemple, un cermet aluminium-oxygène tel que décrit conjointement avec un article intitulé "Submicron Patterning by Projecting Excimer-Laser-Beam  the molecular links of the control buffer material. For example, an aluminum-oxygen cermet as described in conjunction with an article entitled "Submicron Patterning by Projecting Excimer-Laser-Beam"

Induced Chemistry" par Ehrlich et al, J.Vac. Sci. Tech.  Induced Chemistry "by Ehrlich et al., J.Vac., Sci., Tech.

B 3 (1) Jan/Févr. I985 peut être utilisé. Dans ce cas,  B 3 (1) Jan / Feb I985 can be used. In that case,

une couche de cermet est déposée sur le tampon de ré-  a layer of cermet is deposited on the buffer of

glage 26. L'énergie d'excimer est dirigée vers le tampon de réglage et en réponse les liaisons Al-0 sont rompues et une croissance localisée de A1203 dans le tampon de  26. The excimer energy is directed to the control buffer and in response the Al-O bonds are broken and localized growth of A1203 in the buffer of

réglage se produit. Egalement, l'écartement et le nom-  setting occurs. Also, the spacing and the

bre des régions localisées de croissance de A1203 sont choisis en fonction de la valeur voulue de changement de vitesse d'ondes superficielles. Un exemple de cette technique de réglage est représentée par l'exemple 6  Some of the localized growth regions of A1203 are chosen based on the desired value of surface wave velocity changes. An example of this adjustment technique is represented by Example 6

dans le tableau.In the picture.

En variante, des couches de Al203, Al peuvent être prévues comme tampon de réglage 26 et ce dernier est également soumis dans des régions sélectives à de la lumière d'excimer et les liaisons Al-Al et Al-0 sont rompues et une nouvelle phase Al20x est formée, o x  Alternatively, Al 2 O 3, Al layers may be provided as control buffer 26 and the latter is also subjected to excimer light selective regions and the Al-Al and Al-O bonds are broken and a new phase is introduced. Al20x is formed, ox

représente une composition non stoechiométrique.  represents a non-stoichiometric composition.

Une autre technique consiste à déposer une cou-  Another technique consists in depositing a

che d'aluminium comme tampon de réglage 26. La cavité du boîtier 10 est remplie d'un gaz réagissant 02 ou NO3 par exemple, sous une pression généralement dans la pla-  The cavity of the housing 10 is filled with a gas reacting O2 or NO3, for example, under a pressure generally in the surface.

ge de 2 X 10- 6 torr à 1 X 10- 4 torr. L'énergie inciden-  2 X 10-6 torr at 1 X 10 -4 torr. Incidental energy

te est également dirigée vers le tampon de réglage 26  is also directed to the adjustment buffer 26

o des liaisons Al-Al sont rompues entraînant une for-  o Al-Al links are broken, resulting in

mation pyrolytique de A1203. En contrôlant la valeur de la zone irradiée, la valeur voulue de la variation  pyrolytic release of A1203. By controlling the value of the irradiated area, the desired value of the variation

de vitesse d'ondes superficielles est obtenue.  superficial wave velocity is obtained.

Les figures 7, 7A représentent un autre mode -16- encore de réalisation de l'invention. Dans ce cas, le dispositif à ondes acoustiques superficielles sous  Figures 7, 7A show another embodiment of the invention. In this case, the superficial acoustic wave device

boitier constitué par le couvercle 14 et la basel2 con-  housing constituted by the cover 14 and the basel2 con-

tient des gaz réagissant 32 enfermés hermétiquement.  holds reactive gases 32 hermetically sealed.

Un faisceau laser, comme de la lumière d'excimer, Nd-YAG, etc, est dirigé à travers le dispositif pour rompre photolytiquement les liaisons de ces gaz réagissants et pour déposer à partir de cette réaction photolytique  A laser beam, such as excimer light, Nd-YAG, etc., is directed through the device to photolytically break the bonds of these reactants and to deposit from this photolytic reaction

une matière sur la surface de propagation d'ondes super-  a material on the super-wave propagation surface

ficielles. Dans ce cas, des configurations déterminées  ficial. In this case, certain configurations

de lumière d'excimer sont prévues pour déposer des con-  of excimer light are provided to deposit

figurations déterminées de la matière sur la surface.  definite figurations of matter on the surface.

Les gaz réagissants peuvent comporter l'oxygène et une  The reacting gases may comprise oxygen and a

source d'un métal approprié comme l'aluminium, le sili-  source of a suitable metal such as aluminum, silicon

cium, etc. Par exemple, du TMAl(triméthylaluminium),  cium, etc. For example, TMAl (trimethylaluminum),

de la silam SiH4, etc peuvent convenir. Le gaz particu-  SiH4 silam, etc. may be suitable. Particulate gas

lier choisi pour la source de métal par exemple doit être stable pendant l'opération de fermeture hermétique  bind chosen for the metal source for example must be stable during the hermetic sealing operation

du frittage de verre dans les types de boitier utili-  glass sintering in the types of housing used

sant ce joint.this seal.

La lumière laser d'excimer peut être dirigée vers ces gaz déterminés et rompre photolytiquement les liaisons du gaz source de métal. Le métal libre réagit alors avec l'oxygène et une couche d'oxyde métallique 34' se dépose depuis la vapeur sur le substrat. Ainsi, une région localisée de A1203 peut aussi être formée par croissance sur la surface de propagation d'ondes superficielles.  The excimer laser light can be directed to these determined gases and photolytically break the bonds of the metal source gas. The free metal then reacts with oxygen and a metal oxide layer 34 'is deposited from the vapor on the substrate. Thus, a localized region of A1203 can also be grown on the surface wave propagation surface.

Après avoir décrit des modes préférés de réali-  After describing preferred modes of

sation de l'invention, il apparaît maintenant à l'hom-  of the invention, it now appears to the

me de l'art que d'autres modes de réalisation incorpo-  art that other embodiments incorporate

rant ses concepts peuvent être utilisés. En outre, il  his concepts can be used. Furthermore, it

apparait également qu'un faisceau ou une paire de fais-  It also appears that a beam or a pair of

ceaux convergents peuvent convenir pour éliminer selec-  Convergent cages may be suitable for selective

tivement un tampon disposé entre les deux transducteurs -17- imbriqués sur la base 12, comme le montre la figure 6, ou pour éliminer ou déposer à nouveau des parties d'un tampon de réglage disposé sur la partie intérieure du couvercle 12, par exemple en dirigeant les faisceaux à travers la base 12 ou le couvercle 14. Il apparait ainsi queles modes de réalisation ne sont pas limités à ceux qui ont été décrits mais ne le sont que par le  Alternatively, a buffer disposed between the two nested transducers on the base 12, as shown in FIG. 6, or to remove or re-deposit portions of a control pad disposed on the inner portion of the cover 12, for example by directing the bundles through the base 12 or the lid 14. It thus appears that the embodiments are not limited to those described but are only by the

cadre et l'esprit des revendications annexées.  framework and the spirit of the appended claims.

2-6093472-609347

-18--18-

Claims (54)

REVENDICATIONS 1. Procédé de réglage des caractéristiques d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles, caracté- risé en ce qu'il consiste essentiellement à diriger de l'énergie (30) vers une matière (26) disposée sur une surface (12a) de propagation d'ondes superficielles d'un dispositif (10O) à ondes acoustiques superficielles sous  A method of adjusting the characteristics of a surface acoustic wave device, characterized in that it consists essentially of directing energy (30) to a material (26) disposed on a propagation surface (12a). of superficial waves of a device (10O) with superficial acoustic waves boîtier, à travers une première d'une partie de couver-  casing, through a first of a part of a cover cle (14) et d'une partie de base (12) du dispositif à  key (14) and a base portion (12) of the device ondes acoustiques superficielles sous boîtier, pour dé-  superficial acoustic waves in a housing, to de- poser une seconde matière (34) sur ladite surface de propagation d'ondes superficielles afin de changer les  placing a second material (34) on said surface wave propagation surface in order to change the propriétés acoustiques de ladite surface.  acoustic properties of said surface. 2. Procédé selon la revendication 1, caractéri-  2. Process according to claim 1, characterized sé en ce que ladite première matière (26) est disposée sur une première d'une surface intérieure du couvercle  in that said first material (26) is disposed on a first one of an inner surface of the lid (14) ou de la base (12).(14) or the base (12). 3.Procèdé selon la revendication 2, caractérisé en ce que ladite première matière (26) est disposée sur le couvercle et l'énergie incidente (30) est dirigée sur ladite première matière pour en éliminer une partie sélectionnée pour former ladite seconde matière (34)  3.Procédé according to claim 2, characterized in that said first material (26) is disposed on the cover and the incident energy (30) is directed on said first material to remove a selected portion to form said second material (34). ) sur ladite surface.on said surface. 4. Procédé selon la revendication 2, caractéri-  4. Process according to claim 2, characterized sé en ce que ladite première matière (26) est disposée sur une surface intérieure de ladite base (12), ladite surface intérieure (12a) étant la surface qui supporte  characterized in that said first material (26) is disposed on an inner surface of said base (12), said inner surface (12a) being the supporting surface une propagation d'ondes superficielles et ladite éner-  a superficial wave propagation and said energy gie dirigée étant sélectionnée pour éliminer une par-  directed geometry being selected to eliminate a tie sélectionnée de ladite première matière de ladite  selected portion of said first material of said surface pour former ladite seconde matière (34) sur la-  surface for forming said second material (34) on the dite surface.said surface. 5. Procédé selon la revendication 1, caractérisé -19- en ce que ladite première matière est ladite surface (12a) de propagation d'ondes superficielles et ladite  The method of claim 1, characterized in that said first material is said surface wave propagating surface (12a) and said énergie (30) est dirigée vers ladite surface pour élimi-  energy (30) is directed to said surface to eliminate ner une partie sélectionnée de ladite surface et former ladite seconde matière.  a selected portion of said surface and forming said second material. 6. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que laditepremière matière (26) est disposée sur ladite surface (12a) et l'énergie (30) est dirigée vers6. Method according to claim 1, characterized in that said first material (26) is disposed on said surface (12a) and the energy (30) is directed towards ladite première matière pour changer les liaisons chi-  said first material for changing the chemical bonds miques de ladite première matière et la convertir en la-  of said first material and convert it to dite seconde matière (34).said second material (34). 7. Procédé selon la revendication 6, caractéri-  7. Process according to claim 6, characterized sé en ce que ladite première matière comporte une cou-  in that said first material comprises a che (26c) de matière disposée sur ladite surface et un gaz réagissant disposé au-dessus de ladite surface,  che (26c) of material disposed on said surface and a reacting gas disposed above said surface, l'énergie (30) étant dirigée vers ladite première matiè-  the energy (30) being directed to said first material re pour incorporer ledit gaz réagissant dans ladite  re for incorporating said reactant gas into said couche de matière et former ainsi ladite seconde matiè-  layer of material and thereby form said second material re.re. 8. Procédé selon la revendication 1, caractéri-  8. Process according to claim 1, characterized sé en ce que ladite première matière consiste en des gaz réagissants (32) enfermés entre ladite base (12) et ledit couvercle (14), ladite énergie (30) étant dirigée  in that said first material consists of reactant gases (32) enclosed between said base (12) and said cover (14), said energy (30) being directed vers lesdits gaz réagissants pour rompre photolytique-  to said reacting gases to break photolytically ment les liaisons desdits gaz et produire ainsi la se-  the connections of the said gases and thus produce the conde matière à partir desdits gaz réagissants.  material from said reactant gases. 9. Procédé selon la revendication 8, caractéri-  9. Process according to claim 8, characterized sé en ce que lesdits gaz réagissants contiennent de  in that said reactant gases contain l'oxygène et un gaz avec un ion métallique.  oxygen and a gas with a metal ion. 10. Procédé de réglage des caractéristiques  10. Method of setting characteristics d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles, ca-  of a device with superficial acoustic waves, ractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à dispo-  characterized in that it consists essentially of ser une base (12) avec une surface (12a) qui supporte une propagation d'ondes superficielles, à disposer une première matière (26) sur ladite surface de propagation -20- d'ondes superficielles, à disposer un couvercle (14)  forming a base (12) with a surface (12a) which supports surface wave propagation, disposing a first material (26) on said surface wave propagation surface, having a cover (14) sur ladite surface de propagation d'ondes superficiel-  on said surface wave propagation surface les et ladite première matière et à diriger un fais-  them and said first material and to direct a ceau d'énergie laser (30) à travers un premier dudit couvercle et de ladite base vers une partie sélection- née de ladite première matière pour former une seconde  laser energy beam (30) through a first one of said lid and said base to a selected portion of said first material to form a second matière (34) sur ladite base et changer ainsi les pro-  material (34) on said base and thereby change the priétés acoustiques de la surface de propagation d'on-  Acoustic properties of the propagation surface of des superficielles.superficial. 11. Procédé selon la revendication 10, carac-  11. The method of claim 10, wherein térisé en ce que ladite première matière est disposée sur une première surface intérieure du couvercle ou  characterized in that said first material is disposed on a first interior surface of the lid or de la base.from the base. 12. Procédé selon la revendication 11, caracté-  12. The method of claim 11, characterized risé en ce que ladite première matière (26) est dispo-  in that said first material (26) is sée sur le couvercle et l'énergie laser (30) est diri-  on the cover and the laser energy (30) is directly gée vers ladite première matière pouren enlever une  to said first material to remove one partie sélectionnée et former ainsi ladite seconde ma-  selected part and thereby form said second ma- tière (34) sur ladite surface.(34) on said surface. 13. Procédé selon le revendication 11, carac-  13. The method of claim 11, wherein térisé en ce que ladite première matière (26) est dis-  characterized in that said first material (26) is posée sur une surface intérieure de ladite base, ladite surface intérieure étant la surface (12a) qui supporte  placed on an inner surface of said base, said inner surface being the supporting surface (12a) une propagation d'ondes superficielles et ladite éner-  a superficial wave propagation and said energy gie laser étant sélectionnée pour éliminer une partie  the laser is selected to eliminate some sélectionnée de ladite première matière de ladite sur-  selected from said first material of said face pour former ladite seconde matière (34) sur ladi-  face to form said second material (34) on te surface.surface. 14. Procédé selon la revendication 10, carac-  14. The method of claim 10, wherein térisé en ce que ladite première matière est ladite  characterized in that said first material is said surface de propagation d'ondes superficielles et la-  surface of propagation of superficial waves and la- dite énergie laser est dirigée vers ladite surface  said laser energy is directed to said surface pour en enlever une partie sélectionnée et former la-  to remove a selected part and train the- dite seconde matière.said second material. 15 Procédé selon la revendication 1, caracté-  The process according to claim 1, characterized -21- risé en ce que ladite première matière est disposée sur ladite surface et ladite énergie laser est dirigée vers ladite première matière pour changer les liaisons chimiques de ladite première matière et la convertir en ladite seconde matière.  Wherein said first material is disposed on said surface and said laser energy is directed to said first material to change the chemical bonds of said first material and convert it to said second material. 16. Procèdé selon la revendication 6, caractéri-  16. Process according to claim 6, characterized sé en ce que ladite première matière comporte une cou-  in that said first material comprises a che de matière disposée sur ladite surface et un gaz réagissant (32) disposé au-dessus de ladite surface, l'énergie laser (30) étant dirigée vers ladite matière pour incorporer ledit gaz réagissant dans le couche de  layer of material disposed on said surface and a reacting gas (32) disposed above said surface, the laser energy (30) being directed toward said material to incorporate said reactant gas into the matière et former ainsi ladite seconde matière.  material and thus form said second material. 17. Procédé selon la revendication 10, carac-  17. The method of claim 10, wherein térisé en ce que ladite base et ledit couvercle enfer-  characterized in that said base and said lid are ment ladite surface de propagation d'ondes superficiel-  said surface of propagation of superficial waves les et ladite matière consiste en des gaz réagissants  and said material consists of reactants (32) enfermés entre ladite base et ledit couvercle, la-  (32) enclosed between said base and said cover, dite énergie laser (30) étant dirigée vers lesdits gaz réagissants pour rompre photolytiquement les liaisons desdits gaz et pour former la seconde matière à partir  said laser energy (30) being directed to said reacting gases to photolytically break the bonds of said gases and to form the second material from desdits gaz réagissants.said reactant gases. 18. Procédé selon la revendication 17, carac-  18. The method of claim 17, wherein térisé en ce que lesdits gaz (32) contiennent de l'oxy-  characterized in that said gases (32) contain oxy- gène et un gaz contenant de l'aluminium.  gene and a gas containing aluminum. 19. Procédé de réglage des caractéristiques de vitesse d'ondes superficielles d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles sous boîtier, caractérisé  19. A method of adjusting the surface wave velocity characteristics of a case-in-situ acoustic wave device, characterized en ce qu'il consiste essentiellement à disposer un cou-  in that it consists essentially of having a vercle (14) fait d'une matière qui est transparente  vercle (14) made of a material that is transparent dans une plage de longueurs d'onde d'énergie électroma-  in a wavelength range of electromagnetic energy gnétique sur une surface (12a) de propagation d'ondes superficielles, sur une partie intérieure de laquelle est disposée une couche de matière (26) et à diriger de l'énergie (30) dans ladite plage de longueurs d'onde vers ladite couche de matière, à travers le couvercle, -22- pour éliminer une partie sélectionnée de ladite matière  on a surface (12a) of surface wave propagation, on an inner portion of which is disposed a layer of material (26) and directing energy (30) in said wavelength range to said layer of material, through the cover, to remove a selected portion of said material de la couche et pour que ladite partie éliminée sélec-  of the layer and for said selected eliminating portion tionnée se dépose sur la surface sous-jacente de propa-  is deposited on the underlying surface of gation d'ondes superficielles.formation of superficial waves. 20. Procédé selon la revendication 19, caracté- risé en ce que la couche (26) disposée sur la partie  20. Process according to claim 19, characterized in that the layer (26) disposed on the part intérieure du couvercle est une couche composite, com-  inside of the lid is a composite layer, portant: une première couche (26a) consistant en une matière de tampon thermique disposée sur le couvercle de quartz, une seconde (26b) d'une matière qui absorbe  carrying: a first layer (26a) consisting of a thermal buffer material disposed on the quartz cover, a second layer (26b) of a material that absorbs l'énergie électromagnétique incidente et convertit la-  the incident electromagnetic energy and converts dite énergie absorbée en énergie de rayonnement, ladite couche étant disposée sur la couche de tampon thermique  said energy absorbed in radiation energy, said layer being disposed on the thermal buffer layer et une troisième couche (26c) disposée sur ladite secon-  and a third layer (26c) disposed on said second de couche, réagissant à l'énergie libérée par la couche de conversion thermique dans des parties sélectionnées, éliminées, déposées sur la surface de propagation  of layer, reacting to the energy released by the thermal conversion layer in selected portions, removed, deposited on the propagation surface d'ondes superficielles.superficial waves. 21. Procédé selon la revendication 20, caracté-  21. The method of claim 20, characterized risé en ce que la première couche (26a) consiste en de l'oxyde d'aluminium, la seconde couche (26b) consiste en aluminium et la troisième couche (26c) consiste en  in that the first layer (26a) consists of aluminum oxide, the second layer (26b) consists of aluminum and the third layer (26c) consists of oxyde d'aluminium.aluminum oxide. 22. Procédé selon la revendication 21, caracté-  22. The method of claim 21, characterized risé en ce que l'épaisseur de la première couche d'oxyde d'aluminium se situe dans la plage de 200 R à 1000, l'épaisseur de la couche d'aluminium se situe dans la  in that the thickness of the first aluminum oxide layer is in the range of 200 R to 1000, the thickness of the aluminum layer lies in the plage de 25 e à 200 R et l'épaisseur de la couche d'oxy-  range from 25 to 200 R and the thickness of the oxy- de d'aluminium se situe dans la plage de 50 f à 500 R.  of aluminum is in the range of 50 f to 500 R. 23. Procédé selon la revendication 19, caracté-  23. The method of claim 19, characterized risé en ce que l'énergie (30) est fournie sous la forme  in that the energy (30) is supplied in the form d'impulsions de lumière laser.pulses of laser light. 24. Procédé selon la revendciation 23, caracté-  24. Process according to claim 23, characterized risé en ce que la lumière laser est produite par un la-  in that the laser light is produced by a laser ser excimer ayant une longueur d'onde de 193 nanométres.  excimer serum having a wavelength of 193 nanometers. -23--23- 25. Procédé selon la revendication 24, caracté-  25. The method of claim 24, characterized risé en ce que plusieurs impulsions de ladite lumière laser excimer sont dirigées vers la couche de matière  in that several pulses of said excimer laser light are directed to the material layer disposée sur la partie intérieure du couvercle pour for-  disposed on the inner part of the cover to form mer plusieurs régions déposées de matière sur la surface  sea several deposited regions of matter on the surface de propagation d'ondes superficielles.  of superficial wave propagation. 26. Procédé selon la revendication 22, caracté-  26. The method of claim 22, characterized risé en ce que l'énergie est de la lumière provenant  rised in that the energy is light coming from d'un laser excimer.an excimer laser. 27. Procédé selon la revendication 26, caracté-  27. The method of claim 26, characterized risé en ce que plusieurs faisceaux de ladite lumière excimer sont dirigés vers la couche composite (26) pour former, en réponse à ladite lumière laser, plusieurs lignes déposées de la matière éliminée sur la surface  characterized in that a plurality of beams of said excimer light are directed to the composite layer (26) to form, in response to said laser light, a plurality of deposited lines of the material removed on the surface de propagation d'ondes superficielles.  of superficial wave propagation. 28. Procédé selon la revendication 24, caracté-  28. The method of claim 24, characterized risé en ce que le laser est un laser à Nd:YAG.  in that the laser is an Nd: YAG laser. 29. Procédé selon la revendication 28, caracté-  29. The method of claim 28, characterized risé en ce que plusieurs impulsions de ladite lumière laser Nd:YAG sont dirigées vers la couche de matière  in that several pulses of said Nd: YAG laser light are directed to the material layer disposée sur la partie intérieure du couvercle pour for-  disposed on the inner part of the cover to form mer plusieurs régions déposées de matière sur la surfa-  several areas deposited on the surface ce de propagation d'ondes superficielles.  this of superficial wave propagation. 30. Procédé selon la revendication 22, caracté-  30. The method of claim 22, characterized risé en ce que l'énergie est de la lumière provenant  rised in that the energy is light coming from d'un laser Nd:YAG.of an Nd: YAG laser. 31. Procédé selon la revendication 30, caracté-  31. The method of claim 30, characterized risé en ce que plusieurs faisceaux de ladite lumière  rised in that several beams of said light Nd:YAG sont dirigés vers la couche composite pour for-  Nd: YAG are directed to the composite layer to form mer, en réponse à ladit lumière laser, plusieurs lignes  sea, in response to ladit laser light, several lines déposées de la matière éliminée sur la surface de pro-  of the material removed on the surface of the pagation d'ondes superficielles.paging of superficial waves. 32. Dispositif à ondes acoustiques superficiel-  32. Superficial acoustic wave device les, caractérisé en ce qu'il comporte une base (12) avec une surface (12a) qui supporte une propagation -24-  characterized in that it comprises a base (12) with a surface (12a) which supports propagation -24- d'ondes superficielles, comprenant au moins un trans-  superficial waves, comprising at least one trans- ducteur (20,24) couplé avec ladite surface de propaga-  driver (20,24) coupled with said propagating surface tion d'ondes superficielles, un couvercle (14) dispo-  surface waves, a cover (14) sé sur ladite base, pour fermer ladite surface de pro-  on said base, for closing said pro- pagation d'ondes superficielles, ledit couvercle étant fait d'une matière qui est transparente optiquement  pagation of superficial waves, said cover being made of a material which is optically transparent à de l'énergie électromagnétique dans la plage de lon-  to electromagnetic energy in the long range gueurs d'onde d'environ 0,185 micromètre à 4 micromètres  wavelengths from about 0.185 micrometers to 4 micrometers et une couche de matière (26) disposée sur ladite sur-  and a layer of material (26) disposed on said surface face de propagation.spread face. 33. Dispositif selon la revendication 32, carac-  33. Device according to claim 32, characterized térisé en ce que ladite couche de matière est une cou-  characterized in that said layer of material is a che composite comportant une première couche (26a) d'une matière de tampon thermique, une seconde couche (26b) d'une matière d'absorption thermique et une  composite layer comprising a first layer (26a) of a thermal buffer material, a second layer (26b) of a thermal absorption material and a troisième couche (26c) d'une matière pouvant être éli-  third layer (26c) of a material eligible for minée thermiquement.thermally mined. 34. Dispositif selon la revendication 33, carac-  Apparatus according to claim 33, characterized térisé en ce que ladite couche composite (26) de matié-  characterized in that said composite layer (26) of re est disposée sur une partie intérieure dudit couver-  re is disposed on an inner portion of said cover cle (14).cle (14). 35. Dispositif selon la revendication 34, carac-  35. Device according to claim 34, characterized térisé en ce qu'une partie de ladite couche de matière est disposée sur la surface (12a) de propagation d'ondes  characterized in that a portion of said layer of material is disposed on the wave propagation surface (12a) superficielles.superficial. 36. Dispositif selon la revendication 33, carac-  36. Device according to claim 33, characterized térisé en ce que ladite base (12) et ledit couvercle (14) sont scellés ensemble par un frittage de verre (16).  characterized in that said base (12) and said cover (14) are sealed together by glass sintering (16). 37. Dispositif selon la revendication 35, carac-  37. Device according to claim 35, characterized térisé en ce que ladite base et ledit couvercle sont  in that said base and said cover are scellés ensemble par un frittage de verre (16).  sealed together by glass sintering (16). 38. Dispositif selon la revendication 37, carac-  38. Device according to claim 37, characterized térisé en ce que le couvercle et ladite base sont cons-  in that the cover and said base are titués chacun d'un quartz de coupe ST ou de coupe ST -25- tournée.  each with ST-cut quartz or ST-25- round cut. 39. Dispositif selon la revendication 38, ca-  39. Device according to claim 38, ractérisé en ce que ladite couche de matière (26) com-  characterized in that said layer of material (26) comprises porte une première partie disposée sur ledit couvercle (14) et une seconde partie sélectionnée disposée sur  a first portion disposed on said lid (14) and a second selected portion disposed on ladite surface (12a) de propagation d'ondes superficiel-  said surface wave propagation surface (12a) les.the. 40.Dispositif selon la revendication 39, carac-  40.Device according to claim 39, characterized térisé en ce que ladite couche de matière consiste en  characterized in that said layer of material consists of de l'aluminium.aluminum. 41. Dispositif selon la revendication 32, carac-  41. Device according to claim 32, characterized térisé en ce que ladite couche de matière comporte une première partie disposée sur ledit couvercle (14) et une seconde partie sélectionnée disposée sur ladite  characterized in that said layer of material has a first portion disposed on said cover (14) and a second selected portion disposed on said surface (12a) de propagation d'ondes superficielles.  surface (12a) for propagating surface waves. 42. Dispositif selon la revendication 41, carac-  42. Device according to claim 41, characterized térise en ce que ladite couche de matière consiste en  characterized in that said layer of material consists of de l'aluminium.aluminum. 43. Dispositif selon la revendication 32, carac-  43. Device according to claim 32, characterized térisé en ce que ladite couche de matière est une pre-  characterized in that said layer of material is a first mière couche consistant en un gaz réagissant (32) en-  first layer consisting of a reactive gas (32) fermé par ledit couvercle et ladite base et une couche  closed by said lid and said base and a layer de matière étant disposée sur ladite surface de propa-  of material being disposed on said propellant surface gation d'ondes superficielles.formation of superficial waves. 44. Dispositif selon la revendication 43, carac-  44. Device according to claim 43, characterized térisé en ce qu'une seconde matière consistant en un  characterized in that a second material consisting of gaz réagissant (32) et une couche de matière est dispo-  reacting gas (32) and a layer of material is sée sur ladite surface de propagation d'ondes superfi-  on said superficial wave propagation surface ciel les.heaven them. 45. Dispositif selon la revendication 32, carac-  45. Device according to claim 32, characterized térisé en ce que la couche de matière est une première couche et consiste en une paire de gaz réagissant (32)  characterized in that the layer of material is a first layer and consists of a pair of reacting gases (32) enfermé par ledit couvercle et la base.  enclosed by said lid and the base. 46. Dispositif selon la revendication 45, carac-  46. Device according to claim 45, characterized térisé en ce qu'une seconde couche de matière est' le -26-  in that a second layer of material is' -26- produit de la réaction de ladite paire de gaz réagis-  product of the reaction of said pair of reactants sant, disposé sur ladite surface de propagation d'on-  placed on said propagation surface of on- des superficielles.superficial. 47. Dispositif selon la revendication 46, ca-  47. Device according to claim 46, ractérisé en ce que ledit produit est un oxyde métal- lique.  characterized in that said product is a metal oxide. 48. Procédé de réglage de la caractéristique de vitesse d'ondes superficielles d'un dispositif à ondes acoustiques superficielles, caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à disposer un boVtier comprenant une partie de couvercle (14) et une partie48. A method of adjusting the superficial wave velocity characteristic of a surface acoustic wave device, characterized in that it consists essentially of disposing a boVtier comprising a lid part (14) and a part de base (12) dont l'un au moins est fait d'une matié-  (12) of which at least one is made of a material re qui est transparente à de l'énergie électromagné-  re that is transparent to electromagnetic energy tique dans une plage de longueurs d'onde sélectionnée,  tick in a selected wavelength range, ladite base et ledit couvercle étant disposés pour en-  said base and said cover being arranged for fermer une surface (12a) de propagation d'ondes super-  close a surface (12a) of super-wave propagation ficielles et à diriger une paire de faisceaux (30a,30b) d'énergie laser vers ladite surface de propagation d'ondes superficielles à travers un premier de ladite  and directing a pair of beams (30a, 30b) of laser energy to said surface wave propagation surface through a first one of said base et du couvercle pour que lesdits faisceaux conver-  base and cover so that said beams converge gent sur la surface de propagation d'ondes supcrficiel-  on the surficial wave propagation surface- les afin d'éliminer sélectivement des parties de la-  to selectively eliminate parts of the dite surface.said surface. 49.Procédé selon la revendication 48, caracté-  49.A method according to claim 48, characterized risé en ce que ledit premier de la base et du couver-  in that said first of the base and the cover cle est fait d'un quartz de coupe ST ou ST tournée et  key is made of a quartz cut ST or ST rotated and lesdits faisceaux d'énergie laser provenant d'un la-  said beams of laser energy from a laser ser excimer.excimer 50. Dispositif à ondes acoustiques superficiel-  50. Surface acoustic wave device les, caractérisé en ce qu'il comporte une base (12) avec une surface (12a) qui supporte une propagation  the, characterized in that it comprises a base (12) with a surface (12a) which supports a propagation d'ondes superficielles, comprenant au moins un transduc-  superficial waves, comprising at least one transducer teur (20,24) couplé avec ladite surface de propagation d'ondes superficielles, ladite surface de propagation  tor (20,24) coupled with said surface wave propagation surface, said propagation surface d'ondes superficielles comprenant un logement dans la-  of superficial waves comprising a dwelling in the -27- dite surface, un couvercle (14) disposé sur ladite  Said surface, a cover (14) disposed on said base pour enfermer ladite surface de propagation d'on-  base for enclosing said propagation surface of on- des superficielles et dans lequel l'un au moins de la-  superficial and in which at least one of the dite base et dudit couvercle est transparent à l'éner-  said base and said cover is transparent to the energy gie optique.optics. 51. Dispositif selon la revendication 50, ca-  51. Device according to claim 50, ractérisé en ce que ledit logement est une ligne étroi-  characterized in that said housing is a narrow line te formée dans ladite surface.formed in said surface. 52. Dispositif selon la revendication 51, ca-  52. Device according to claim 51, ractérisé en ce que ladite base comporte une paire desdits transducteurs (20,24) et ladite ligne étroite est formée en travers et parallèlement à une partie  characterized in that said base comprises a pair of said transducers (20,24) and said narrow line is formed across and parallel to a portion d'une ouverture acoustique de ladite paire de transduc-  an acoustic opening of said pair of transducers teurs.tors. 53. Dispositif selon la revendication 50, ca-  53. Device according to claim 50, ractérisé en ce que ladite base est faite d'un quartz  characterized in that said base is made of a quartz de coupe ST ou ST tournée.cutting ST or ST rotated. 54. Dispositif selon la revendication 50, ca-  54. Device according to claim 50, ractérisé en ce que ledit couvercle est fait d'un quartz  characterized in that said lid is made of a quartz de coupe ST ou ST tournée.cutting ST or ST rotated.
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