FI86380C - Foerfarande foer rening av filter. - Google Patents
Foerfarande foer rening av filter. Download PDFInfo
- Publication number
- FI86380C FI86380C FI904465A FI904465A FI86380C FI 86380 C FI86380 C FI 86380C FI 904465 A FI904465 A FI 904465A FI 904465 A FI904465 A FI 904465A FI 86380 C FI86380 C FI 86380C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- filter unit
- aqueous solution
- sinter
- hydrogen peroxide
- water
- Prior art date
Links
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 title 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 32
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 11
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 10
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 5
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 9,10-Dihydroxyanthracene Chemical class C1=CC=C2C(O)=C(C=CC=C3)C3=C(O)C2=C1 PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
- B01D65/02—Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/11—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements
- B01D29/31—Self-supporting filtering elements
- B01D29/35—Self-supporting filtering elements arranged for outward flow filtration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/50—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition
- B01D29/52—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition in parallel connection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/62—Regenerating the filter material in the filter
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D41/00—Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids
- B01D41/04—Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids of rigid self-supporting filtering material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B15/00—Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
- C01B15/01—Hydrogen peroxide
- C01B15/022—Preparation from organic compounds
- C01B15/023—Preparation from organic compounds by the alkyl-anthraquinone process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2201/00—Details relating to filtering apparatus
- B01D2201/04—Supports for the filtering elements
- B01D2201/043—Filter tubes connected to plates
- B01D2201/0446—Filter tubes connected to plates suspended from plates at the upper side of the filter elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2201/00—Details relating to filtering apparatus
- B01D2201/08—Regeneration of the filter
- B01D2201/085—Regeneration of the filter using another chemical than the liquid to be filtered
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2321/00—Details relating to membrane cleaning, regeneration, sterilization or to the prevention of fouling
- B01D2321/08—Use of hot water or water vapor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2321/00—Details relating to membrane cleaning, regeneration, sterilization or to the prevention of fouling
- B01D2321/16—Use of chemical agents
- B01D2321/162—Use of acids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2321/00—Details relating to membrane cleaning, regeneration, sterilization or to the prevention of fouling
- B01D2321/16—Use of chemical agents
- B01D2321/164—Use of bases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
1 86380
Menetelmä suotimen puhdistamiseksi - Förfarande för rening av filter 5 Tämä keksintö kohdistuu menetelmään suotimen ja erityisesti metallikatalyyttisuspension suodatukseen käytetyn sintterin puhdistamiseksi. Erityisen hyvin tämä keksintö soveltuu antrakinonin tai sen johdannaisen katalyyttisestä hydrauk-sesta peräisin olevan, useasta sintteristä muodostuvan 10 suodinyksikön puhdistukseen, ts. vetyperoksiditehtaan pri-määrisuodinyksikön puhdistuskäsittelyyn.
Tunnetusti vetyperoksidia voidaan valmistaa ns. antrakino-niprosessilla. Tässä menetelmässä antrakinonijohdannainen 15 liuotetaan yhdestä tai useammasta komponentista koostuvaan orgaaniseen liuottimeen. Näin valmistettu liuos, jota yleisen käytännön mukaisesti kutsutaan työliuokseksi, johdetaan ensin hydrausvaiheeseen. Hydrausvaiheessa osa antrakinoni-johdannaisesta pelkistetään vetykaasun avulla katalyytin 20 läsnäollessa vastaavaksi antrahydrokinonijohdannaiseksi. Ennen seuraavaa vaihetta, hapetusta, katalyytti erotetaan työliuoksesta. Katalyytin erotus tehdään useimmiten suodattamalla. Hapetusvaiheessa antrahydrokinonijohdannainen hapetetaan ilmalla tai hapella, jolloin se palautuu hyd-25 rausta edeltävään muotoonsa, siis antrakinonijohdannaiseksi. Samalla syntyy vetyperoksidia. Muodostunut vetyperoksidi poistetaan työliuoksesta uuttamalla sitä vedellä. Uuton jälkeen työliuos kuivataan ja johdetaan takaisin hydrauk-seen. Uuttovaiheessa saatava vetyperoksidin vesiliuos puh-30 distetaan ja väkevöidään (Kirk-Othmer, Encyclopedia of Chemical Technology 3. painos, Voi. 13, sivut 16-21).
Suodattamalla tapahtuvaan suspensiokatalyytin erotukseen voidaan käyttää mm. keraami- tai metallisintterisuodattimia ; 35 (Chemical Processing, January 1982, sivu 24) sekä hiilisuo- 2 86380 timia (DE-PS-1 272 292). Jatkuvatoimisessa suodatuksessa suotimet tukkeutuvat vähitellen käytössä olevista takaisin-huuhtelujärjestelmistä huolimatta.
5 Tämän keksinnön tarkoituksena on näinollen aikaansaada menetelmä metallikatalyyttisuspension suodatukseen käytetyn metallisen tai keraamisen sintterin puhdistamiseksi entistä tehokkaammin sen huokosiin tunkeutuneesta hienojakoisesta metallikatalyytistä.
10
Metallisintterisuotimien puhdistus tapahtuu yleensä siten, että ne irrotetaan primäärisuodinyksikön kansilevyistä ja siirretään pesualtaisiin, joissa ne irrallisina upotetaan pesuliuoksiin. Pesutapahtuma käsittää useita käsityövaiheita 15 ja on näin ollen sekä hankala että aikaavaativa.
Esillä olevan keksinnön tarkoituksena on siten lisäksi aikaansaada menetelmä antrakinonin tai sen johdannaisen katalyyttisestä hydrauksesta peräisin olevan, useasta sint-20 teristä muodostuvan suodinyksikön puhdistamiseksi irrottamatta yksittäisiä sinttereitä suodinyksikön kansilevystä. Keksintö soveltuu siten hyvin jalometallikatalyyttien erotukseen käytettyjen suotimien puhdistukseen ja aivan erityisen hyvin vetyperoksidin valmistusprosessissa jalometallika-25 talyyttien suodatukseen käytettyjen suotimien puhdistukseen.
Keksinnön pääasialliset tunnusmerkit ilmenevät oheisista patenttivaatimuksista.
30 Keksinnön mukaisessa menetelmässä metallinen tai keraaminen huokoinen sintteri käsitellään vetyperoksidin vesiliuoksella sintterin huokosissa olevan metallikatalyytin syrjäyttämiseksi metallikatalyytin aiheuttaman vetyperoksidin hajoamisen kehittämän kaasun avulla, kunnes kaasun kehittyminen 35 lakkaa merkiksi siitä, että sintterissä ei enää ole merkittäviä määriä metallikatalyyttiä.
3 86380
Esillä olevan keksinnön mukainen menetelmä on siten erittäin selektiivinen, sillä vetyperoksidin hajoamisesta johtuva kaasun kehittyminen keskittyy nimenomaan niihin huokosiin sintterissä, jossa on metallikatalyyttiä. Kehittyvä kaasu 5 "puhaltaa" tehokkaasti hienojakoisen metallikatalyytin ulos sintterin huokosista. Menetelmän etuna on, että kaasun kehittyminen lakkaa, kun sintterin huokosissa ei enää ole merkittäviä määriä metallikatalyyttiä, mistä helposti voidaan todeta, että sintteri on riittävän puhdas.
10
Keksinnön mukainen menetelmä soveltuu erityisen hyvin antra-kinonin tai sen johdannaisen katalyyttisestä hydrauksesta peräisin olevan useasta sintteristä muodostuvan suodinyksi-kön puhdistamiseen, jolloin yksittäisiä sinttereitä ei 15 tarvitse irrottaa primäärisuodinyksikön kansilevystä. Tällöin vältytään irrallisten sintterien käsittelystä ja minimoidaan samalla vaara, että yksittäiset sintterit vaurioituisivat. Tällä ratkaisulla myös suotimien tiivistystarve vähenee oleellisesti. Keksinnön avulla saavutetaan myös 20 työhygieenisesti edullisin ratkaisu, kun yksittäisiä sinttereitä ei tarvitse irrottaa suodinyksiköstä.
Keksinnön mukaan antrakinonin tai sen johdannaisen liuotukseen käytetyllä liuottimena huuhdeltu ja sen jälkeen höy-25 rystämällä liuottimesta vapautettu suodinyksikkö käsitellään vetyperoksidin 5-50-%:isella vesiliuoksella niin kauan tai niin monta kertaa, ettei kaasua enää oleellisesti kehity, minkä jälkeen suodinyksikkö pestään vedellä ja kuivataan lopuksi.
30
Erityisen edulliseksi on todettu käsitellä suodinyksikkö laimealla 5-15-%:isella, esimerkiksi 10-%:isella vetyperoksidin vesiliuoksella.
35 Vedellä pesty suodinyksikkö voidaan vielä pestä lämpimällä, metallikatalyyttiä liuottavan hapon vesiliuoksella ennen uutta vetyperoksidikäsittelyä, vesipesua ja loppukuivausta metallikatalyytin tarkemmaksi poistamiseksi suodinyksikön j 4 86380 sinttereistä. Puhdistustehokkuutta voidaan edelleen tehostaa pesemällä suodinyksikkö liuotinhuuhtelun ja höyrystyksen jälkeen lämpimällä emäksisellä vesiliuoksella ja huuhtele-malla vedellä ennen varsinaista vetyperoksidikäsittelyä.
5 Puhdistuskäsittelyä voidaan edelleen tehostaa käsittelemällä suodinyksikköä ennen lämpimällä emäksisellä vesiliuoksella suoritettavaa pesua vetyperoksidin vesiliuoksella ja suorittamalla sen jälkeen vesipesu.
10 Hapon vesiliuoksena voidaan käyttää 10-50-%:ista typpihapon vesiliuosta, jonka lämpötila on 20-80°C. Erityisen edullisesti käytetään 25-35-%:ista, esimerkiksi 30-%:ista typpihapon vesiliuosta, jonka lämpötila on 60-70°C, esimerkiksi noin 65°C.
15
Emäksisenä vesiliuoksena voidaan käyttää 1-20-%:ista, edullisesti noin 5-%:ista natriumhydroksidin vesiliuosta, jonka lämpötila on yli 20°C, edullisesti 70-90°C, esimerkiksi noin 80°C.
20 Tässä yhteydessä kaikki prosenttiluvut on ilmaistu tilavuusprosentteina ellei muuta ole mainittu.
Keksinnön mukainen menetelmä soveltuu erityisen hyvin keraa-• 25 misten tai metallisten huokoisten sintterien puhdistukseen, . joita sinttereitä on käytetty jalometallikatalyyttien, erityisesti palladiummustan suodatukseen.
Keksintöä selostetaan seuraavassa lähemmin viitaten oheiseen 30 piirustukseen, joka esittää kaaviomaista, poikkileikattua pystykuvantoa keksinnön mukaisen menetelmän toteuttamiseen soveltuvasta pesulaitteistosta.
Oheisessa kuviossa on esitetty pesuyksikkö vetyperoksiditeh-35 taan metallisten primäärisuotimien puhdistamiseksi. Varsi--·' nainen pesusäiliö on yleisesti merkitty viitenumerolla 1 ja se muodostuu yläosasta 4 ja alaosasta 5, joiden väliin ·'. suodinyksikön kansi 2 sinttereineen 3 on tiiviisti sovitet- 5 86380 tavissa. Metallisintterit 3 ovat pitkänomaisia alapäästään suljettuja suodinelementtejä, joiden avoin yläpää liittyy tiiviisti kannessa 2 vastaavalla kohdalla olevaan aukkoon niin, että virtaukset kannen ylä- ja alapuolen välillä 5 kulkevat mainittujen aukkojen ja niihin liittyvien sintte-rien 3 seinämien läpi.
Säiliön 1 yläosaan 4 johdetaan kuivausilmaa putkessa 14, johon on liitetty lämmönvaihdin 12' kuivausilman lämmittämi-10 seksi höyryn 13' avulla, joka poistuu lämmönvaihtimesta 12' kondenssina 15'. Yläosaan 4 voidaan myös johtaa suoraan höyryä putkijohdosta 13. Viitenumero 17 tarkoittaa yläosaan 4 liittyvää poistojohtoa. Tämän lisäksi yläosaan 4 johdetaan vetyperoksidin vesiliuosta säiliöstä 6 johtoa 16 pit-15 kin. Vetyperoksidin vesiliuos virtaa näin ollen yläosasta 4 sintterien 3 sisäpuolelle niiden nk. puhtaalle puolelle ja sintterien läpi alaosaan 5 eli sintterien 3 nk. likaiselle puolelle, ts. päinvastaiseen suuntaan kuin mitä metalli-katalyyttisuspensio on virrannut metallikatalyytin suodatuk-20 sen aikana antrakinonin tai sen johdannaisen katalyyttisessä hydrauksessa. Tämä edesauttaa erityisen tehokkaasti sintterien 3 huokosiin tarttuneen metallikatalyytin irrottamista, koska metallikatalyytti on helpompi poistaa siihen suuntaan mistä se on tullutkin. Vetyperoksidin hajoamisessa syntyy 25 nimittäin vettä ja happikaasua, joka nostaa painetta sintterien 3 puhtaalla puolella niin, että sintterien 3 puhtaan ja likaisen puolen välille syntyy paine-ero, joka pakottaa suodinelementtien 3 huokosiin tarttuneen metallikatalyytin ulos huokosista samaan suuntaan kuin ne ovat näihin huo-30 kosiin joutuneetkin.
Pesuyksikköön kuuluu lisäksi säiliöt typpihapon vesiliuosta 7, lipeävesiliuosta 8 ja vettä 9 varten, joita syötetään vuorotellen putkea 11 pitkin pesusäiliön 1 alaosaan 5, ' 35 jolloin myös putkijohdossa 11 on lämmönvaihdin 12 näiden virtausten lämmittämiseksi epäsuorasti höyryn 13 avulla.
6 86380
Pesusäiliön 1 alaosan 5 yläosaan liittyy lisäksi poistojoh-to 18 sekä johto 20 pesuliuosten poistamiseksi alaosasta 5 ylivirtauksena niiden palauttamiseksi säiliöönsä 6, 7, 8 tai 9 pesusäiliön 1 alaosan 5 pohjaan liittyvän poistoput-5 ken 19 ja kuhunkin säiliöön 6, 7, 8 ja 9 liittyvän suotimen 10 kautta. Suotimien 10 huokoskoon tulee olla pienempi kuin metallisintterien 3 huokoskoko kiinteiden epäpuhtauksien estämiseksi joutumasta säiliöihin 6, 7, 8 ja 9. Säiliöihin 6, 7, 8 ja 9 lisätään luonnollisesti kyseistä tuoretta 10 liuosta tarpeen mukaan.
Keksintöä selostetaan vielä seuraavassa lähemmin esimerkkien avulla.
15 Esimerkki 1
Vetyperoksiditehtaalla suoritettiin ns. lyhyt pesuohjelma kuvion mukaisella pesuyksiköllä
Yhden suodinyksikön kansi 2 sinttereineen 3 (Pall Filters 20 PSS, Pali Corporation, Englanti) nostettiin pesusäiliöön 1 sen jälkeen, kun suodinyksikkö oli takaisinhuuhdeltu työliu-oksen liuotinkomponentilla (aromaattinen hiilivety). Pesusäiliön 1 yläosaan 4 ns. puhtaalle puolelle johdettiin suodatettua höyryä 13 (2-2,5 aty 135-140°C), höyryn annet-25 tiin poistua likaisen puolen hönkäputkesta 18, kun taas muodostunut pieni kondenssimäärä sai jäädä pesusäiliöön 1. Höyrystyksen jälkeen pumpattiin esilämmitettyä ionivaihdet-tua puhdasta vettä 9 lämmönsiirtimen 12 (65°C) ja johdon 11 kautta suodinelementin 3 likaiselle puolelle noin 15 30 minuutin ajan. Likaiselta puolelta vesi johdettiin pesusäiliön 1 alaosasta 5 ylivuotona 20 suotimen 10 kautta takaisin vesisäiliöön 9. Seuraavaksi pumpattiin noin 20 minuutin ajan suodinelementtien 3 läpi puhtaalta likaiselle puolelle laimeaa (10 % H2O2) huoneenlämpöistä (20°C) vetyperoksidin 35 vesiliuosta säiliöstä 6. Vetyperoksidikäsittelyä seurasi vesihuuhtelu (kuten edellä 65°C, 15 min.). Ennen loppukui-vausta sintterit 3 kuumennettiin johtamalla niiden puhtaalle puolelle höyryä 13 noin 5 minuutin ajan, kondensoimaton 7 86380 höyry johdettiin hönkäputkeen 18 ja kondenssi höyrystyksen lopussa vesisäiliöön 9. Lopuksi suoritettiin sintterien 3 kuivaus johtamalla niiden puhtaalle puolelle suodatettua kuumaa (105°C) paineilmaa 14 noin 20 minuutin ajan, ilma 5 poistui likaisen puolen hönkäputkesta 18.
Esimerkki 2
Vetyperoksiditehtaalla suoritettiin ns. keskipitkä pesuohjelma kuvion 1 mukaisella pesuyksiköllä 10
Yhden suodinyksikön kansilevy 2 sinttereineen 3 (Pall Filters PSS) nostettiin pesusäiliöön 1. Sintterit 3 oli huuhdeltu ennen siirtoa orgaanisella liuottimena. Ensimmäiseksi pesusäiliön 1 yläosaan 4 ns. puhtaalle puolelle johdet-15 tiin suodatettua höyryä 13 (2-2,5 aty 135-140°C), höyryn annettiin poistua likaisen puolen hönkäputkesta 18 ja muodostunut pieni kondenssimäärä sai jäädä pesusäiliöön 1. Höyrystyksen jälkeen pumpattiin puhdasta, ionivaihdettua vettä 9 lämmönsiirtimen 12 (65°C) kautta sintterien 3 likaiselle 20 puolelle noin 15 minuutin ajan. Pesusäiliön 1 likaiselta puolelta vesi johdettiin ylivuotona 20 suotimen 10 kautta takaisin vesisäiliöön 9. Seuraavaksi pumpattiin noin 20 minuutin ajan sintterien 3 läpi puhtaalta likaiselle puolelle laimeaa (10 %), huoneenlämpöistä (20°C) vetyperoksidin 25 vesiliuosta 6. Vetyperoksidikäsittelyä seurasi vesihuuhtelu (kuten edellä 65°C, 15 min.). Vesihuuhtelun jälkeen pumpattiin esilämmitettyä typpihappoliuosta 7 (30 %) lämmönsiirtimen 12 kautta pesusäiliöön 1 noin 65°C:isena, jälleen sintterien 3 likaiselle puolelle. Pesusäiliön 1 likaiselta puo-30 lelta typpihappoliuos johdettiin ylivuotona 20 suotimen 10 kautta takaisin typpihapposäiliöön 7. Happokäsittelyn jälkeen suoritettiin vesihuuhtelu (65°C, 15 min.). Ennen loppu-kuivausta sintterit 3 kuumennettin johtamalla niiden puhtaalle puolelle höyryä 13 noin 5 minuutin ajan, kondensoimaton 35 höyry johdettiin hönkäputkeen 18 ja kondenssi höyrystyksen lopussa vesisäiliöön 9. Lopuksi suoritettiin sintterien 3 kuivaus johtamalla niiden puhtaalle puolelle suodatettua, 8 86380 kuumaa (105°C) paineilmaa 14 noin 20 minuutin ajan, ilma poistui likaisen puolen hönkäputkesta 18.
Esimerkki 3 5 Vetyperoksiditehtaalla suoritettiin ns. pitkä pesuohjelma kuvion mukaisella pesuyksiköllä
Yhden suodinyksikön kansilevy 2 sinttereineen 3 (Pall Filters PSS) nostettiin pesusäiliöön 1. Pesusäiliön 1 yläosaan 10 4 ns. puhtaalle puolelle johdettiin suodatettua höyryä 13 (2-2,5 aty 135-140°C), höyryn annettiin poistua likaisen puolen hönkäputkesta 18 ja muodostunut pieni kondenssimäärä sai jäädä pesusäiliöön 1. Esilämmitettyä lipeäliuosta 8 (5 % NaOH) pumpattiin lämmönsiirtimen 12 kautta noin 15 80°C:isena pesusäiliöön johtoa 11 pitkin noin 30 minuutin ajan. Pesusäiliöstä 1 lipeä poistui ylivuotona 20 suotimen 10 kautta takaisin lipeäsäiliöön 8. Höyrystyksen ja lipeä-pesun aikana irronnut katalyytti erotettiin lipeäkierron suotimella 10. Lipeäpesun loputtua liuos tyhjennettiin 20 pesusäiliöstä johdon 19 kautta. Lipeäpesun jälkeen pumpattiin puhdasta, ionivaihdettua vettä 9 lämmönsiirtimen 12 kautta noin 65°C:isena sintterien likaiselle puolelle noin 15 minuutin ajan. Likaiselta puolelta vesi johdettiin ylivuotona 20 suotimen 10 kautta takaisin vesisäiliöön 9.
25 Seuraavaksi pumpattiin noin 20 minuutin ajan sintterien 3 läpi puhtaalta likaiselle puolelle laimeaa (10 %) huoneenlämpöistä (20°C) vetyperoksidin vesiliuosta 6. Vetyperoksi-dikäsittelyä seurasi vesihuuhtelu (kuten edellä 65°C, 15 min.). Seuraavaksi pumpattiin esilämmitettyä typpihappoli-30 uosta 7 (30 %) lämmönsiirtimen 12 ja johdon 11 kautta pesusäiliöön noin 65°C:isena jälleen sintterien 3 likaiselle puolelle. Pesusäiliön 1 likaiselta puolelta typpihappoliuos johdettiin ylivuotona 20 suotimen 10 kautta takaisin typpi-happosäiliöön 7. Happokäsittelyn jälkeen suoritettiin vesi-35 huuhtelu (65°C, 15 min.) ja vetyperoksidikäsittely (10 % HaOa, 20°C, 20 min.) sekä vesihuuhtelu (65°C, 15 min.). Ennen loppukuivausta sintterit 3 kuumennettiin johtamalla niiden puhtaalle puolelle höyryä 13 noin 5 minuutin ajan, 9 86380 kondensoimaton höyry johdettiin hönkäputkeen 18 ja kondenssi höyrystyksen lopussa vesisäiliöön 9. Lopuksi suoritettiin sintterien 3 kuivaus johtamalla niiden puhtaalle puolelle suodatettua, kuumaa (105°C) paineilmaa 14 noin 20 minuutin 5 ajan, ilma poistui likaisen puolen hönkäputkesta 18.
Keksinnön mukaisilla pesuohjelmilla saadaan aivan erityisen hyvä lopputulos verrattuna siihen, että suodinyksikköä käsiteltäisiin pelkästään vetyperoksidin vesiliuoksella.
10
Claims (10)
1. Menetelmä metallikatalyyttisuspension suodatukseen käytetyn sintterin puhdistamiseksi, tunnettu siitä, että sintteri käsitellään vetyperoksidin vesiliuoksella sintterin 5 huokosissa olevan metallikatalyytin syrjäyttämiseksi metal-likatalyytin aiheuttaman vetyperoksidin hajoamisen kehittämän kaasun avulla, kunnes kaasun kehittyminen lakkaa merkiksi siitä, että sintterissä ei enää ole merkittäviä määriä metallikatalyyttiä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä antrakinonin tai sen johdannaisen katalyyttisestä hydrauksesta peräisin olevan sinttereistä muodostuvan suodinyksikön puhdistamiseksi huuhtelemalla suodinyksikköä antrakinonin tai sen johdan- 15 naisen liuotukseen käytetyllä liuottimena ja höyryttämällä suodinyksikkö liuottimen poistamiseksi siitä, tunnettu siitä, että huuhdeltu ja höyrytetty suodinyksikkö käsitellään vetyperoksidin 5-50-%:isella vesiliuoksella niin kauan tai monta kertaa, ettei kaasua enää oleellisesti kehity, 20 minkä jälkeen suodinyksikkö pestään vedellä ja kuivataan lopuksi.
3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että suodinyksikkö käsitellään 5-15-%:isella, esimer- 25 kiksi 10-%:isella, vetyperoksidin vesiliuoksella.
4. Patenttivaatimuksen 2 tai 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että vedellä pesty suodinyksikkö pestään lämpimällä, metallikatalyyttiä liuottavan hapon vesiliuoksella ennen 30 uutta vetyperoksidikäsittelyä, vesipesua ja loppukuivausta.
5. Patenttivaatimuksen 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että liuotinhuuhtelun ja höyrystyksen jälkeen suodinyksikkö pestään lämpimällä emäksisellä vesiliuoksella 35 ja huuhdellaan vedellä ennen varsinaista vetyperoksidikäsittelyä. 11 86380
6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen menetelmä/ tunnettu siitä/ että ennen pesua lämpimällä emäksisellä vesiliuoksella suoritetaan suodinyksikölle käsittely vetyperoksidin vesiliuoksella ja vesipesu. 5
7. Jonkin patenttivaatimuksen 4-6 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että käytetään 10-50-%:ista typpihapon vesi-liuosta, jonka lämpötila on 20-80°C.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että käytetään 25-35-%:ista, esimerkiksi noin 30-%:ista, typpihapon vesiliuosta, jonka lämpötila on 60-70°C, esimerkiksi noin 65°C.
9. Jonkin patenttivaatimuksen 5-8 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että käytetään l-20-%:ista, edullisesti noin 5-%:ista, NaOH:n vesiliuosta, jonka lämpötila on yli 20°C, edullisesti 70-90°C, esimerkiksi noin 80°C.
10. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen menetel mä, tunnettu siitä, että pestään keraamista tai metallista sintteriä, jota on käytetty jalometallikatalyytin, erityisesti Pd-mustan suodatukseen. i2 86380
Priority Applications (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI904465A FI86380C (fi) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Foerfarande foer rening av filter. |
GB9119133A GB2248559B (en) | 1990-09-10 | 1991-09-06 | Procedure for cleaning filter |
AU83687/91A AU630827B2 (en) | 1990-09-10 | 1991-09-06 | Procedure for cleaning filter |
SE9102558A SE506718C2 (sv) | 1990-09-10 | 1991-09-06 | Förfarande för rening av filter |
SE9102558D SE9102558L (sv) | 1990-09-10 | 1991-09-06 | Foerfarande foer rening av filter |
DE4129865A DE4129865A1 (de) | 1990-09-10 | 1991-09-07 | Filterreinigungsverfahren |
CA002050991A CA2050991A1 (en) | 1990-09-10 | 1991-09-09 | Procedure for cleaning filter |
BR919103882A BR9103882A (pt) | 1990-09-10 | 1991-09-09 | Processo para limpeza de um aglomerado usado para filtrar uma suspensao de metal catalisador e processo para limpeza de uma unidade de filtro |
NZ239721A NZ239721A (en) | 1990-09-10 | 1991-09-09 | A method for cleaning a sinter by treatment with aqueous hydrogen peroxide |
BE9100838A BE1004406A3 (fr) | 1990-09-10 | 1991-09-10 | Procede de nettoyage de filtres. |
JP3230618A JPH05309221A (ja) | 1990-09-10 | 1991-09-10 | 洗浄方法 |
ITMI912384A IT1251405B (it) | 1990-09-10 | 1991-09-10 | Procedimento per pulire un filtro |
ES9102020A ES2038540B1 (es) | 1990-09-10 | 1991-09-10 | Procedimiento para limpiar un sinterizado usado para filtrar una suspension catalizadora metalica. |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI904465A FI86380C (fi) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Foerfarande foer rening av filter. |
FI904465 | 1990-09-10 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI904465A0 FI904465A0 (fi) | 1990-09-10 |
FI904465A FI904465A (fi) | 1992-03-11 |
FI86380B FI86380B (fi) | 1992-05-15 |
FI86380C true FI86380C (fi) | 1992-08-25 |
Family
ID=8531044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI904465A FI86380C (fi) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Foerfarande foer rening av filter. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05309221A (fi) |
AU (1) | AU630827B2 (fi) |
BE (1) | BE1004406A3 (fi) |
BR (1) | BR9103882A (fi) |
CA (1) | CA2050991A1 (fi) |
DE (1) | DE4129865A1 (fi) |
ES (1) | ES2038540B1 (fi) |
FI (1) | FI86380C (fi) |
GB (1) | GB2248559B (fi) |
IT (1) | IT1251405B (fi) |
NZ (1) | NZ239721A (fi) |
SE (2) | SE506718C2 (fi) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI86380C (fi) * | 1990-09-10 | 1992-08-25 | Kemira Oy | Foerfarande foer rening av filter. |
JPH0747101B2 (ja) * | 1991-08-15 | 1995-05-24 | 丸善石油化学株式会社 | 目詰まりしたフィルターの再生方法 |
DE4418931C2 (de) * | 1994-05-31 | 1997-06-19 | Degussa | Verfahren zur Abtrennung katalysatorfreier Arbeitslösung aus dem Hydrierkreislauf des Anthrachinonverfahrens zur Herstellung von Wasserstoffperoxid |
FR2741280B1 (fr) * | 1995-11-22 | 1997-12-19 | Omnium Traitement Valorisa | Procede de nettoyage d'une installation de filtration du type a membranes immergees |
FR2751957A1 (fr) * | 1996-08-01 | 1998-02-06 | Pechiney Aluminium | Procede non polluant de regeneration de pieces en ceramique utilisees en fonderie de l'aluminium |
JP4103151B2 (ja) * | 1997-03-19 | 2008-06-18 | 栗田工業株式会社 | プレコート濾過装置の性能回復方法 |
US6949219B1 (en) * | 2002-12-13 | 2005-09-27 | Calgon Carbon Corporation | Method for disinfection of activated carbon through contact with peroxide containing materials |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2608899C3 (de) * | 1976-03-04 | 1982-12-30 | Müller, Wolf-Rüdiger, Dipl.-Ing., 7000 Stuttgart | Verfahren zur Verbesserung des Rückspülvorganges bei Filtern aus körnigen Materialien durch den Einsatz von Wasserstoffperoxid (H↓2↓O↓2↓) |
DE2623917A1 (de) * | 1976-05-28 | 1977-12-15 | Edel Heinz H | Verfahren zur reinigung gebrauchter dialysatoren |
JPS55129107A (en) * | 1979-03-28 | 1980-10-06 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Washing method of selective permeable membrane |
US4493756A (en) * | 1983-06-21 | 1985-01-15 | Pall Corporation | Process for cleaning metal filters |
US4740308A (en) * | 1984-04-26 | 1988-04-26 | Champion International Corporation | Membrane cleaning process |
GB8415887D0 (en) * | 1984-06-21 | 1984-07-25 | Atomic Energy Authority Uk | Membrane cleaning |
JPS6393310A (ja) * | 1986-10-08 | 1988-04-23 | Nippon Atom Ind Group Co Ltd | 再生機能を備えた油水分離装置 |
FI86380C (fi) * | 1990-09-10 | 1992-08-25 | Kemira Oy | Foerfarande foer rening av filter. |
-
1990
- 1990-09-10 FI FI904465A patent/FI86380C/fi not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-09-06 SE SE9102558A patent/SE506718C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1991-09-06 AU AU83687/91A patent/AU630827B2/en not_active Ceased
- 1991-09-06 SE SE9102558D patent/SE9102558L/xx not_active Application Discontinuation
- 1991-09-06 GB GB9119133A patent/GB2248559B/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-07 DE DE4129865A patent/DE4129865A1/de not_active Withdrawn
- 1991-09-09 BR BR919103882A patent/BR9103882A/pt unknown
- 1991-09-09 NZ NZ239721A patent/NZ239721A/xx unknown
- 1991-09-09 CA CA002050991A patent/CA2050991A1/en not_active Abandoned
- 1991-09-10 ES ES9102020A patent/ES2038540B1/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-10 JP JP3230618A patent/JPH05309221A/ja not_active Withdrawn
- 1991-09-10 BE BE9100838A patent/BE1004406A3/fr not_active IP Right Cessation
- 1991-09-10 IT ITMI912384A patent/IT1251405B/it active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE1004406A3 (fr) | 1992-11-17 |
JPH05309221A (ja) | 1993-11-22 |
BR9103882A (pt) | 1992-05-26 |
GB2248559A (en) | 1992-04-15 |
AU8368791A (en) | 1992-03-12 |
GB2248559A8 (en) | |
FI904465A0 (fi) | 1990-09-10 |
IT1251405B (it) | 1995-05-09 |
AU630827B2 (en) | 1992-11-05 |
GB2248559B (en) | 1994-02-23 |
FI86380B (fi) | 1992-05-15 |
NZ239721A (en) | 1993-04-28 |
ITMI912384A0 (it) | 1991-09-10 |
FI904465A (fi) | 1992-03-11 |
SE9102558D0 (sv) | 1991-09-06 |
CA2050991A1 (en) | 1992-03-11 |
ES2038540A1 (es) | 1993-07-16 |
SE9102558L (sv) | 1992-03-11 |
GB9119133D0 (en) | 1991-10-23 |
DE4129865A1 (de) | 1992-04-16 |
SE506718C2 (sv) | 1998-02-02 |
ES2038540B1 (es) | 1994-02-16 |
ITMI912384A1 (it) | 1993-03-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI86380C (fi) | Foerfarande foer rening av filter. | |
JPH1128339A (ja) | 洗浄薬品の除去方法 | |
KR0154384B1 (ko) | 중공사 막을 사용하는 수처리 장치 | |
CN1123543C (zh) | 含氨/铵废水的处理和回收方法 | |
CN101549875A (zh) | 丝光废碱的净化和回收工艺及其系统 | |
US5217629A (en) | Procedure for cleaning filter used in production of hydrogen peroxide from anthraquinone | |
JP4500233B2 (ja) | 汚泥脱水システムおよびフィルタープレス機のフィルタークロスを自動洗浄する方法 | |
JP3656908B2 (ja) | 膜処理装置とその洗浄方法 | |
CN218596135U (zh) | 一种碱回收系统 | |
CN215049778U (zh) | 2-乙基蒽醌生产中的除硫和除氯系统 | |
CN111940409A (zh) | 清洁液循环利用的清洗系统及方法 | |
CN211226750U (zh) | 一种高效的污水回收处理装置 | |
CN214327453U (zh) | 一种双氧水生产废水蒸发回用装置 | |
JP3817799B2 (ja) | 排水の膜処理装置 | |
US10960391B2 (en) | Method and system of elemental sulfur recycling and catalyst regenerating for sulfur-deposited catalyst | |
JP4136156B2 (ja) | 半導体ウェハの洗浄液を回収する方法 | |
JP3775778B2 (ja) | 膜ろ過装置の逆洗方法 | |
CN221752603U (zh) | 一种明胶胶液除杂浓缩系统 | |
CN110314548A (zh) | 再造烟叶萃取液膜分离净化浓缩系统及其处理工艺 | |
CN215403594U (zh) | 一种pcb板微蚀液循环利用处理装置 | |
CN1095685C (zh) | 分子筛法脱除酰胺类或酮类有机液态化合物中水分的方法 | |
CN211521710U (zh) | 用于挥发性有机胺与氨氮处理的气膜接触器系统 | |
CN115676894B (zh) | 高锰酸钠处理有机废水产生的废渣的资源化利用方法 | |
CN214714929U (zh) | 共用真空泵的白油回收过滤系统 | |
CN219209532U (zh) | 一种适用于粘胶长丝压洗污水处理的超滤膜化学清洗系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: KEMIRA OY |