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ES2626536T3 - Artículo recubierto con una capa reflectante de IR y un procedimiento de fabricación de la misma - Google Patents

Artículo recubierto con una capa reflectante de IR y un procedimiento de fabricación de la misma Download PDF

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ES2626536T3
ES2626536T3 ES06011652.2T ES06011652T ES2626536T3 ES 2626536 T3 ES2626536 T3 ES 2626536T3 ES 06011652 T ES06011652 T ES 06011652T ES 2626536 T3 ES2626536 T3 ES 2626536T3
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ES
Spain
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layer
coated article
oxide
silicon nitride
glass substrate
Prior art date
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Application number
ES06011652.2T
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English (en)
Inventor
Jochen Butz
Richard Blacker
Uwe Kriltz
Anton Dietrich
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Guardian Europe SARL
Guardian Industries Corp
Original Assignee
Guardian Europe SARL
Guardian Industries Corp
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Publication date
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Abstract

Un artículo recubierto que incluye un recubrimiento (25) soportado por un sustrato de vidrio (1), comprendiendo el recubrimiento, desde el sustrato de vidrio hacia fuera: una capa que comprende nitruro de silicio (5) u óxido de estaño; una capa que comprende óxido de zinc (7) por encima y que está en contacto directo con la capa que comprende nitruro de silicio u óxido de estaño; una capa que comprende un óxido de Ni y/o Cr (8) por encima y que está en contacto directo con la capa que comprende óxido de zinc; una capa reflectante de infrarrojos (IR) (9) que comprende plata por encima y que está en contacto directo con la capa que comprende un óxido de Ni y/o Cr; y una una capa dieléctrica (13, 15), en donde el artículo recubierto tiene solo una capa reflectante de IR (9) que comprende plata.

Description

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DESCRIPCION
Artlcuio recubierto con una capa reflectante de IR y un procedimiento de fabricacion de la misma
Esta solicitud se refiere a un artlculo recubierto que incluye una capa reflectante de infrarrojos (IR) que comprende piata. En determinadas realizaciones de ejemplo no limitantes, se han descubierto que la provision de una capa que comprende nitruro de silicio en un area particular, mejora la estabilidad termica del artlculo recubierto (p. ej., al templar o similar). Ademas, en determinadas realizaciones de ejemplo no limitantes, se proporciona una capa que comprende oxido de zinc bajo la capa reflectante de IR con el fin de mejorar sus cualidades y se proporciona una capa que comprende un material tal como un oxido de Ni y/o Cr entre la capa reflectante de iR y la capa con oxido de zinc con el fin de mejorar la estabilidad termica durante el tratamiento termico (p. ej., temple termico) y para preservar sustancialmente el rendimiento despues de tal tratamiento termico. En determinadas realizaciones de ejemplo no limitantes, la capa con oxido de zinc esta formada por pulverizacion por bombardeo atomico de un objetivo ceramico, el cual se ha descubierto que mejora las propiedades de la capa reflectante de IR. En vista de lo anterior, es posible permitir que el artlculo recubierto, por ejemplo, logre propiedades mejoradas, tales como, una o mas de estabilidad termica al tratamiento termico, emitancia, valor U y/o resistividad especlfica. Los artlculos recubiertos en el presente documento pueden usarse en el contexto de unidades de ventana de vidrio aislante (VA) o en otras aplicaciones adecuadas tales como aplicaciones de ventanas monollticas, ventanas laminadas y/o similares.
Antecedentes y sumario de las realizaciones de ejemplo de la invencion
Los artlculos recubiertos son conocidos en la tecnica para su uso en aplicaciones de ventanas, tales como, unidades de ventana de vidrio aislante (VA), ventanas de vehlculo, ventanas monollticas y/o similares. En determinados casos de ejemplo, los disenadores de artlculos recubiertos, a menudo, intentan conseguir una combinacion de alta transmision visible, color sustancialmente neutro, baja emisividad (o emitancia), baja resistencia de lamina (Rl), valores U bajos en el contexto de unidades de ventana de VA y/o baja resistividad especlfica. Una alta transmision visible y un color sustancialmente neutro pueden permitir que los artlculos recubiertos se usen en aplicaciones en las que se desean estas caracterlsticas, tales como en aplicaciones arquitectonicas o de ventanas de vehlculos, mientras que caracterlsticas de baja emisividad (baja E), baja resistencia de lamina y baja resistividad especlfica permiten que tales artlculos recubiertos bloqueen cantidades significativas de radiacion IR para reducir, por ejemplo, el calentamiento indeseable de interiores de vehlculos o de edificios.
Considere un artlculo recubierto tlpico con la siguiente pila de capas. Este artlculo recubierto es adecuado para su uso en una unidad de ventana de VA (vidrio aislante). Para el artlculo recubierto que se enumera a continuacion, el recubrimiento incluye capas que se enumeran desde el sustrato de vidrio hacia fuera.
Vidrio de
Espesor(A)
capa
140 A
TiOx
SnOx
100 A
ZnAlOx
70 A
Ag
118 A
NiCrOx
20 A
SnOx
223 A
SiNx
160 A
La capa de plata (Ag) del artlculo recubierto anterior tiene un espesor de 118 angstrom (A) y una resistencia de lamina (Rl) de 4.6 ohmios/cuadrado. Esto se traduce en una resistividad especlfica (Re multiplicada por el espesor de la capa reflectante de IR) para la capa reflectante de IR de plata de 5,43 micro-ohm.cm.
Aunque la resistividad especlfica (RE) antes mencionada de la capa reflectante de IR de plata es adecuada en muchas situaciones, serla deseable mejorar la misma. Por ejemplo, si el artlculo recubierto anterior es tratado termicamente (p. ej., (templado termicamente), no tiene buena estabilidad termica. En otras palabras, dicho tratamiento termico (TT) provoca que las propiedades opticas del artlculo recubierto (p. ej., una o mas de a*, b*, L* y, fluidez) cambien sustancialmente de una manera indeseable. Si los valores de a*, b* y/o L* cambian demasiado durante el TT del artlculo recubierto, se dice, entonces, que el artlculo recubierto es termicamente inestable ya que se ve muy diferente despues de TT que antes de TT. Ademas, Si la emisividad y la resistencia de lamina suben demasiado durante el TT, entonces, se dice, tambien, que el producto es termicamente inestable.
El documento de la patente U.S. N.° 2005/0042460 desvela una pila de capas que es adecuada en muchos casos diferentes, en la que la capa de oxido de zinc contacta con la parte inferior de la capa reflectante de IR de plata. Se ha descubierto que cuando el oxido de zinc esta en contacto directo con la parte inferior de la plata, la turbidez y/o la resistencia de lamina de lamina del recubrimiento, en algunos casos, se elevan demasiado durante el TT.
En vista de lo anterior, se valorara que exista la necesidad en la tecnica de un artlculo recubierto que incluya un
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recubrimiento que tenga buenas propiedades termicas (p. ej., emisividad/emitancia y resistencia de lamina), buenas propiedades opticas (p. ej., a*, b* y/o L*) y que tenga dichas buenas propiedades termicas y opticas, tras el tratamiento termico, tal como el templado termico. Determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, se refieren a un artlculo recubierto que permite que se logren algunas de estas ventajas.
En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, se ha descubierto de manera sorprendente que la provision de una pila de capas que incluye la siguiente secuencia de capas, que se alejan del sustrato de vidrio, es ventajosa: (a) una capa de nitruro de silicio o que incluya nitruro de silicio, (b) una capa de oxido de zinc o que incluya oxido de zinc, (c) una capa de un oxido de Ni y/o Cr o que incluya un oxido de Ni y/o Cr y (d) una capa reflectante de IR. Esta secuencia de capas permite que el artlculo recubierto logre una estabilidad termica mejorada. De este modo, el color del artlculo recubierto, la turbidez, la emitancia y la resistencia de lamina no cambian de una manera indeseable debido a tratamiento termico (TT). Por ejemplo, la emitancia y/o la resistencia de lamina no aumentan sustancialmente (pero pueden disminuir) durente el TT, y/o el artlculo recubierto no se vuelve demasiado turbio debido a TT. En determinadas realizaciones de ejemplo, se pueden proporcionar capas de oxido de titanio o que incluyan oxido de titanio (y posiblemente oxido de estano) debajo y en contacto con la capa que comprende nitruro de silicio.
En otras realizaciones de ejemplo de esta invencion, se ha descubierto de manera sorprendente que la siguiente secuencia de capas es ventajosa: (a) una capa de oxido de estano o que incluya oxido de estano, (b) una capa de oxido de zinc o que incluya oxido de zinc, (c) una capa de un oxido de Ni y/o Cr o que incluya un oxido de Ni y/o Cr y (d) una capa reflectante de IR (p. ej., una capa con plata). Esta secuencia de capas permite que el artlculo recubierto logre una estabilidad termica mejorada. De este modo, el color y la turbidez del artlculo recubierto no cambian de una manera indeseable debido a TT. Por ejemplo, los valores de a*, b* y/o L* no cambian demasiado durante el TT y/o el artlculo recubierto no se vuelve demasiado turbio debido a TT.
En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, la capa con oxido de zinc puede formarse por pulverization por bombardeo de un objetivo ceramico. Se ha descubierto que la implementation de una capa con oxido de cinc formada usando un objetivo ceramico, por debajo de una capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr, produce una mejora en la calidad de la capa reflectante de IR con plata superpuesta. Se ha descubierto tambien, de manera sorprendente, que esta estructura proporciona un mayor grado de estabilidad termica durante el TT en comparacion con el uso de oxido de zinc solo como la capa base bajo la plata.
En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, es especialmente sorprendente que tales ventajas se puedan lograr en un unico recubrimiento de capa reflectante de IR (p. ej., un solo recubrimiento de plata) que tambien es capaz de lograr, cuando se usa en una unidad de VA (vidrio aislante), un valor U no mayor de 1,25 W/(m2K), mas preferentemente no mayor de 1,20 W/(m2K), incluso, mas preferentemente, no mayor de 1,15 W/(m2K) y mas preferentemente, no mayor de 1,10 W/(m2K).
En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, se proporciona un artlculo recubierto tratado termicamente que incluye un recubrimiento soportado por un sustrato de vidrio, comprendiendo el recubrimiento: una capa dielectrica; una capa que comprende nitruro de silicio; una capa que comprende oxido de zinc por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende nitruro de silicio; una capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende oxido de zinc; Una capa reflectante de infrarrojos (IR) que comprende plata sobre el sustrato de vidrio, situada por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr; otra capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr situada por encima y que esta en contacto directo con la capa reflectante de IR que comprende plata; una capa que comprende un oxido metalico situada por encima y que esta en contacto directo con la otra capa que comprende el oxido de Ni y/o Cr; y una capa que comprende nitruro de silicio situada sobre la capa que comprende el oxido metalico.
En otras realizaciones de ejemplo de esta invencion, se proporciona un artlculo recubierto que incluye un recubrimiento soportado por un sustrato de vidrio, comprendiendo el recubrimiento, desde el sustrato de vidrio hacia fuera: una capa que comprende nitruro de silicio u oxido de estano; una capa que comprende oxido de zinc por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende nitruro de silicio u oxido de estano; una capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende oxido de zinc; una capa reflectante de infrarrojos (IR) que comprende plata, por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr; y una capa dielectrica.
En otras realizaciones de ejemplo de esta invencion, se proporciona un procedimiento para fabricar un artlculo recubierto, comprendiendo el procedimiento: proporcionar un sustrato de vidrio; formar una capa que comprenda nitruro de silicio u oxido de estano sobre el sustrato de vidrio; pulverizar por bombardeo atomico un objetivo ceramico que comprende zinc y oxlgeno en una atmosfera que incluye, al menos, un gas inerte con el fin de formar una capa que comprenda oxido de zinc sobre el sustrato de vidrio por encima y que contacte directamente con la capa que comprende nitruro de silicio u oxido de estano; formar una capa que comprenda un oxido de Ni y/o Cr sobre el sustrato de vidrio y que contacte directamente con la capa que comprende oxido de zinc; formar una capa reflectante de infrarrojos (IR) que comprenda plata sobre el sustrato de vidrio por encima y que contacte directamente con la capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr; y formar una capa dielectrica sobre, al menos, la
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capa reflectante de IR.
Breve descripcion de los dibujos
La Figura 1 es una vista transversal de un artlculo recubierto de acuerdo con una realizacion de ejemplo de esta invencion.
La Figura 2 es una vista transversal de parte de una unidad de ventana de vidrio aislante (VA) que incluye el artlculo recubierto de la Fig. 1 (o de la Fig. 3) de acuerdo con una realizacion de ejemplo de esta invencion.
La Figura 3 es una vista transversal de un artlculo recubierto de acuerdo con otra realizacion de ejemplo de esta invencion.
Descripcion detallada de las realizaciones de ejemplo de la invencion
En referencia ahora a los dibujos en los que numeros de referencia similares indican partes similares a lo largo de las diversas vistas.
Los artlculos recubiertos en el presente documento se pueden usar en aplicaciones tales como ventanas monollticas, unidades de ventana de VA, ventanas de vehlculos y/o cualquier otra aplicacion adecuada que incluya substratos simples o multiples tales como sustratos de vidrio.
En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, se proporciona un recubrimiento para un artlculo recubierto, tal que el recubrimiento tenga buenas propiedades termicas (p. ej., emisividad/emitancia y resistencia de lamina), buenas propiedades opticas (p. ej., a*, b* y/o L*) y que tenga dichas buenas propiedades termicas y opticas, tras el tratamiento termico (TT), tal como el templado termico, flexion termica, refuerzo termico o similares. Determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, se refieren a un artlculo recubierto que permite que se logren algunas de estas ventajas.
En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, se ha descubierto, de manera sorprendente, que la provision de una pila de capas que incluyen las siguientes capas secuenciales, se mueven desde el sustrato de vidrio hacia fuera: (a) una capa que comprende nitruro de silicio, (b) una capa que comprende oxido de zinc por encima y que contacta con la capa que comprende nitruro de silicio, (c) una capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr por encima y que contacta con la capa que comprende oxido de zinc y (d) una capa reflectante de IR, que comprende o que consiste esencialmente en plata, situada por encima y que contacta con la capa que comprende el oxido de Ni y/o Cr. Esta secuencia de capas permite que el artlculo recubierto logre una estabilidad termica mejorada. De este modo, el color del artlculo recubierto, la turbidez, la emitancia y la resistencia de lamina no cambian de una manera indeseable debido a tratamiento termico (TT). Por ejemplo, la emitancia y/o la resistencia de lamina no aumentan sustancialmente (pero pueden disminuir) durante el tT, y/o el artlculo recubierto no se vuelve demasiado turbio debido a TT. En determinadas realizaciones de ejemplo, se puede proporcionar una capa dielectrica (p. ej., de oxido de titanio o que incluye oxido de titanio) bajo la secuencia de capas anteriormente enumerada de manera que este entre la secuencia y el sustrato de vidrio. En otras realizaciones de ejemplo determinadas, puede proporcionarse una capa de oxido de estano o que incluye oxido de estano, entre la capa que comprende oxido de titanio y la capa (a) de la secuencia. En aun otras realizaciones de ejemplo, la capa (a) de la secuencia puede ser, en cambio, de oxido de estano o comprender oxido de estano.
En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, la secuencia tambien permite, de manera sorprendente, que la capa reflectante de IR (p. ej., la capa con plata) tenga una resistividad especlfica (RE) no mayor que 5,0, mas preferentemente no mayor de 4,8, e incluso mas preferentemente no mayor de 4,6 micro- ohmios.cm y posiblemente no mayor de 4,2 despues de TT. Tales bajos valores de RE permiten que los valores U y la emitancia del recubrimiento se reduzcan dado un espesor particular para la capa o capas reflectantes de IR. Normalmente, para el mismo material de plata, una emisividad inferior requiere mas plata y, por lo tanto, menos transmision. Sin embargo, una resistividad especlfica inferior permite una resistencia de lamina inferior para la misma transmision - lo cual es normalmente bueno, ya que se puede usar menos plata para el mismo rendimiento.
La Figura 1 es una vista transversal de un artlculo recubierto de acuerdo con una realizacion de ejemplo de esta invencion. El artlculo recubierto incluye el sustrato de vidrio 1 (p. ej., un sustrato de vidrio transparente, verde, de bronce o azul verdoso de aproximadamente 1,0 a 10,0 mm de grosor, mas preferentemente de aproximadamente 1,0 mm a 6,0 mm de grosor) y un recubrimiento multicapa (o un sistema multicapa) proporcionado sobre el sustrato, ya sea directa o indirectamente. Como se muestra en la figura 1, el recubrimiento 25 comprende la capa dielectrica 3, la capa dielectrica 5 de nitruro de silicio o que incluye nitruro de silicio (p. ej., Si3N4, o alguna otra estequiometrla adecuada), la capa 7 con oxido de zinc (p. ej., ZnOx en el que "x" es de 1 a 3, mas preferentemente, aproximadamente 2; o ZnAlOx), la capa 8 de contacto inferior de un oxido de Ni y/o Cr o que incluye un oxido de Ni y/o Cr (p. ej., NiCrOx), la capa reflectante de IR (infrarroja) 9 que incluye o es de plata, oro o similares, la capa 11 de contacto superior de un oxido de Ni y/o Cr o que incluye un oxido de Ni y/o Cr (p. ej., NiCrOx), la capa 13 con un oxido metalico (p. ej., un oxido de estano) y una capa dielectrica 15 de un material o que incluye un material tal como
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nitruro de silicio y/o oxinitruro de silicio que puede ser, en determinados casos de ejemplo, un recubrimiento de proteccion. Tambien pueden proporcionarse otras capas y/o materiales en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, y tambien es posible que determinadas capas se puedan retirar o dividir en determinadas realizaciones de ejemplo. Ademas, algunas de las capas tratadas anteriormente pueden doparse con otros materiales en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion.
En casos monollticos, el artlculo recubierto incluye solo un sustrato tal como el sustrato de vidrio 1 (vease la Fig. 1). Sin embargo, los artlculos recubiertos monollticos en el presente documento se pueden usar en dispositivos tales como unidades de ventana de VA, por ejemplo. Normalmente, como se muestra en la Fig. 2, una unidad de ventana de VA puede incluir dos sustratos separados 1 y 2, con un espacio 4 definido entre ellos. Las unidades de ventana de VA de ejemplo se ilustran y se describen, por ejemplo, en las patentes de los Estados Unidos N.° 5.770.321, 5.800.933, 6.524.714, 6,541,084 y 2003/0150711.
Una unidad de ventana de VA de ejemplo como se muestra en la Fig. 2 puede incluir, por ejemplo, el sustrato de vidrio recubierto 1 mostrado en la Fig. 1 acoplado a otro sustrato de vidrio 2 a traves de un espaciador o espaciadores, sellador o selladores o similares con un hueco 4 que esta definido entre ellos. Este hueco 4 entre los sustratos en las realizaciones de unidad de VA puede llenarse, en determinados casos, con un gas tal como argon (Ar). Una unidad de VA de ejemplo puede comprender un par de sustratos de vidrio separados sustancialmente transparentes, cada uno de aproximadamente 4 mm de espesor, uno de los cuales esta recubierto con un recubrimiento 25 en el presente documento en determinados casos de ejemplo, en la que el espacio 4 entre los sustratos puede ser de aproximadamente 5 a 30 mm, mas preferentemente de aproximadamente 10 a 20 mm y mas preferentemente de aproximadamente 16 mm. En determinados casos de ejemplo, se puede proporcionar el recubrimiento 25 en el lado del sustrato de vidrio interior 1 que esta enfrente del hueco (aunque el recubrimiento puede estar sobre el otro sustrato en determinadas realizaciones alternativas). Aun en referencia a la Fig. 2, en determinadas realizaciones de ejemplo de la unidad de VA de esta invencion, el recubrimiento 25 esta disenado de tal manera que la unidad de VA resultante (p. ej., con, con fines de referencia, un par de sustratos de vidrio transparentes de 4 mm separados 16 mm con gas Ar en el hueco) tienen un valor U no mayor de 1,25 W/(m2K), mas preferentemente no mayor de 1,20 W/(m2K), incluso, mas preferentemente, no mayor de 1,15 W/(m2K) y mas preferentemente, no mayor de 1,10 W/(m2K), incluso despues de que el artlculo recubierto haya sido sometido a TT opcional tal como, templado. El valor U se mide de acuerdo con la norma EN 673.
La capa dielectrica inferior 3 puede ser de oxido de titanio o incluir oxido de titanio en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion. El oxido de titanio de la capa 3 puede estar representado, en determinados casos de ejemplo, por TiOx, en el que "x" es de 1,5 a 2,5, mas preferentemente, de aproximadamente 2,0. El oxido de titanio se puede depositar por pulverizacion por bombardeo o similar en diferentes realizaciones. En determinados casos de ejemplo, la capa dielectrica 3 puede tener un Indice de refraccion (n), a 550 nm, de al menos 2,0, mas preferentemente, de al menos 2,1 y posiblemente de aproximadamente 2,3 a 2,6 cuando la capa es de oxido de titanio o incluye oxido de titanio. En determinadas realizaciones de esta invencion, el espesor de la capa 3 con oxido de titanio se controla de manera que permita que los valores de color a* y/o b * (p. ej., el lado de la pellcula transmisivo y, reflectante y/o el lado reflectante del vidrio) sean relativamente neutros (es decir, cercanos a cero) y/o deseables. Se pueden usar otros materiales ademas de o en lugar de oxido de titanio en determinados casos de ejemplo. En determinadas realizaciones alternativas, el Ti en la capa de oxido 3 puede reemplazarse por otro metal.
La capa 5 con nitruro de silicio se proporciona sobre, al menos, la capa dielectrica 3. La capa 5 de nitruro de silicio o que incluye nitruro de silicio es ventajosa en cuanto a que permite que la estabilidad termica del recubrimiento se mejore tras TT, ya que el nitruro de silicio actua como una supuesta barrera frente a la difusion de determinados materiales durante TT. De este modo, los cambios de color pueden reducirse usando nitruro de silicio como la capa o en la capa 5.
La capa dielectrica 7 es de oxido de zinc o incluye oxido de zinc (p. ej., ZnO). El oxido de zinc de la capa o de las capas 7 puede contener tambien otros materiales, tales como Al (p. ej., para formar ZnAlOx) en determinadas realizaciones de ejemplo. Por ejemplo, en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, la capa 7 de oxido de zinc puede doparse con aproximadamente de un 1 a un 10 % de Al (o B), mas preferentemente de aproximadamente un 1 a un 5 % de Al (o B) y mas preferentemente de aproximadamente un 2 a un 4 % de Al (o B). El uso de oxido de zinc 7 bajo la plata en la capa 9 permite que se logre una excelente calidad de plata. En determinadas realizaciones de ejemplo (p. ej., a tratarse a continuacion), la capa sub-base 7 con oxido de zinc puede formarse por pulverizacion por bombardeo de un objetivo ceramico de pulverizacion por bombardeo por magnetron giratorio. Se ha descubierto que el uso del objetivo ceramico (p. ej., de ZnO), que puede o no estar dopado con Al, F o similar) permite que se proporcione una alta calidad de plata, obteniendose asl, un recubrimiento de emisividad inferior.
En un esfuerzo por obtener un recubrimiento de baja E de baja emisividad (o emitancia), se intenta asegurar que la capa reflectante de IR (p. ej., la capa de plata 9) este lo mas cerca posible de las propiedades de volumen. Esto se consigue a menudo por pulverizacion por bombardeo de una capa "base" sobre la cual es posible depositar y hacer crecer una capa de plata perfeccionada. Un ejemplo de capa base tlpica es oxido de zinc que es pulverizado por bombardeo desde un objetivo metalico de Zn en una atmosfera con oxlgeno. Todo el oxlgeno para la capa base
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proviene, por lo tanto, del gas oxlgeno en la camara o las camaras de pulverizacion. Sin embargo, la pulverizacion por bombardeo de la capa de oxido de zinc en una atmosfera altamente oxigenada, puede conducir a la contamination gaseosa cruzada de una capa de plata adyacente que es pulverizada por bombardeo atomico en una camara o camaras adyacentes, lo que puede degradar la calidad de la capa de plata conduciendo, por lo tanto, a una emisividad incrementada y al recubrimiento en su totalidad.
Con el fin de abordar este problema, se ha descubierto en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invention que la capa 7 con oxido de zinc puede formarse por pulverizacion por bombardeo atomico de un objetivo ceramico con magnetron (p. ej., un objetivo de ZnO, ZnAlO o similar). La relation de Zn:O en el objetivo ceramico puede ser de aproximadamente 1:1 en determinadas realizaciones de ejemplo, pero puede ser, en cambio, subestequiometrica en otras realizaciones de ejemplo de esta invencion. Se ha descubierto que el uso de tal objetivo ceramico para formar la capa 7 de oxido de zinc permite que se forme una mayor calidad de plata en la capa 9 reflectante de IR, incluso aunque otra capa separe las capas 7 y 9 - esto es particularmente sorprendente, puesto que la tecnica de formation de una capa, retirada una capa de la capa reflectante de IR, afecta a sus propiedades de emisividad. En otras palabras, Se ha descubierto que la implementation de una capa 7 con oxido de zinc formada usando un objetivo ceramico, por debajo de una capa 8 que comprende un oxido de Ni y/o Cr, produce una mejora en la calidad de la capa reflectante de iR 9 con plata. Se ha descubierto tambien, de manera sorprendente, que esta estructura proporciona un mayor grado de estabilidad termica durante el TT en comparacion con el uso de oxido de zinc solo como la capa base bajo la plata. Se indica que el objetivo u objetivos con oxido de zinc y la capa resultante pueden estar dopados con un no metal tal como F y/o B en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion.
Aunque la relacion de Zn:O en el objetivo ceramico puede ser estequiometrica en determinadas realizaciones de ejemplo, al menos un objetivo ceramico subestequiometrico que comprende ZnOx (p. ej., en el que 0,25 < x < 0,99, mas preferentemente 0,50 < x < 0,97 e incluso mas preferentemente 0,70 < x < 0,96) puede, en su lugar, usarse en depositar por pulverizacion por bombardeo una capa 7 con oxido de zinc debajo de la capa de contacto 8. El termino "subestequiometrico" significa que "x" es inferior a 1,0 en el caso de ZnOx, por ejemplo. En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, la naturaleza subestequiometrica del objetivo ceramico con ZnOx para formar la capa 7 provoca que el objetivo ceramico sea mas conductor, reduciendo o eliminando, de este modo, la necesidad de un dopante o dopantes metalicos en el objetivo 2. En particular, sin dopado metalico, un objetivo ceramico con ZnOx subestequiometrico es capaz de lograr rendimientos mejorados de pulverizacion por bombardeo y velocidades de pulverizacion mas rapidas en comparacion con un objetivo ceramico de ZnO estequiometrico. Esto es muy ventajoso, como valoraran los expertos en la tecnica. En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, no se necesitan dopantes para el objetivo u objetivos ceramicos con ZnOx subestequiometricos usados en la formacion de la capa 7. Sin embargo, en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, un objetivo ceramico con ZnOx subestequiometrico esta dopado con un elemento no metalico tal como F y/o B (o como alternativa, un metal, tal como, Al o similar). Cuando se usan F y/o B como dopantes, aumentan la conductividad electrica del objetivo, lo cual puede ser necesario en determinadas situaciones en las que x es proximo a 1,0 incluso aunque el objetivo es todavla ligeramente subestequiometrico. En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, el objetivo ceramico puede estar dopado de manera que incluya aproximadamente de un 0,5 a un 5,0 % de F y/o B, mas preferentemente, aproximadamente de un 0,5 a un 3 % de F y/o B (% atomico). En determinadas realizaciones alternativas de esta invencion, un objetivo ceramico de ZnO estequiometrico puede estar dopado con aproximadamente de un 0,5 a un 5,0 % de F y/o B, mas preferentemente, aproximadamente de un 0,5 a un 3 % de F y/o B. En determinadas realizaciones de ejemplo, el objetivo puede estar dopado con aproximadamente de un 0,5 a un 10,0 % de boro. El aumento de la conductividad provocado por el dopaje del objetivo con F y/o B (o Al) tambien puede conducir a un aumento de la reflexion IR del recubrimiento resultante en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion. Si no se proporciona suficiente F y/o B, el objetivo puede padecer con respecto a la conductividad en determinadas situaciones, y si se proporciona demasiado F y/o B en el crecimiento y funcionalidad de la pellcula objetivo, resultarla indeseable ya que demasiado F y/o B terminarlan en la pellcula depositada por pulverizacion y la plata adyacente tendrla propiedades indeseables. Se indica que las cantidades de fluor y /o boro en el material de pulverizacion por bombardeo del objetivo tienden a terminar tambien en la capa con oxido de zinc resultante que se encuentra en el sustrato en cantidades similares. La conductividad del objetivo o catodo surge principalmente del dopante (p. ej., B y/o F) y/o una vacante de oxlgeno. Sin embargo, si la concentration de dopante es demasiado alta, los dopantes excesivos en la pellcula pueden actuar como defectos y reducir la conductividad. Por lo tanto, se desea una concentracion de dopante optimizada en el objetivo en determinadas situaciones de ejemplo no limitantes.
Dicho objetivo u objetivos ceramicos de oxido/suboxido de zinc de pulverizacion por bombardeo pueden usarse para depositar por pulverizacion, la capa de ZnO 7 en un ambiente con bajo contenido en oxlgeno (es decir, se requiere una baja cantidad de gas oxlgeno en la camara o compartimiento de pulverizacion por bombardeo en los que el objetivo u objetivos estan situados) usando pulverizacion por bombardeo AC o DC. En determinadas realizaciones, tanto el oxlgeno como el gas argon se introducen en la camara de pulverizacion por bombardeo que aloja el objetivo ceramico a traves de las respectivas fuentes de gas. En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, no mas de aproximadamente un 40 %, mas preferentemente no mas de aproximadamente un 30 %, y mas preferentemente, no mas de aproximadamente un 20 % del gas total (p. ej., argon mas oxlgeno) en la camara de pulverizacion por bombardeo que incluye el objetivo ceramico es oxlgeno cuando se usa el objetivo u objetivos ceramicos subestequiometricos opcionales. Ademas del gas oxlgeno en la camara, el resto del gas en la camara de
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pulverization por bombardeo puede ser un gas inerte tal como argon o similar. Debido al bajo porcentaje de gas 02, la degradation de las propiedades de plata en la capa reflectante de IR se puede reducir debido a un menor riesgo de interferencia.
La capa 9 reflectante de infrarrojos (IR) es preferentemente, sustancialmente o totalmente metalica y/o conductora, y puede comprender o consistir esencialmente en plata (Ag), oro, o cualquier otro material reflectante de IR adecuado. La capa reflectante de IR 9 permite que el recubrimiento tenga caracterlsticas de baja E y/o de buen control solar, tales como baja emitancia, baja resistencia de lamina, etc. Sin embargo, la capa reflectante de IR, puede estar ligeramente oxidada en determinadas realizaciones de esta invention.
Las capas de contacto inferior y superior 8 y/o 11 pueden ser de un oxido de Ni y/o Cr o incluir un oxido de Ni y/o Cr. En determinadas realizaciones de ejemplo, las capas de contacto inferior y/o superior 8, 11 pueden ser o incluir oxido de nlquel (Ni), oxido cromado/de cromo (Cr) o un oxido de aleacion de nlquel, tal como, oxido de cromo nlquel (NiCrOx) u otro material o materiales adecuados. El uso de, por ejemplo, NiCrOx en esta capa o capas 11 permite que la durabilidad se mejore. La capas o capas 8, 11 de NiCrOx, pueden estar completamente oxidadas en determinadas realizaciones de esta invencion (es decir, ser completamente estequiometricas), o de manera alternativa, solo pueden estar oxidadas parcialmente - subestequiometricas (antes y/o despues de TT). En determinados casos, las capas 8, 11 de NiCrOx, pueden oxidarse, al menos aproximadamente un 50 %. La capa o capas de contacto 8, 11 (p. ej., de un oxido de Ni y/o Cr o que incluyen un oxido de Ni y/o Cr) pueden o no ser clasificadas por oxidation en diferentes realizaciones de esta invencion. La clasificacion por oxidation significa que el grado de oxidacion en la capa, cambia a traves del espesor de la capa, para que, por ejemplo, una capa de contacto puede ser graduada de manera que sea menos oxidada en la interfaz de contacto con la capa reflectante de IR 9 inmediatamente adyacente, que en una portion de la capa o capas de contacto aun mas o mas/la mas distante de la capa reflectante de IR inmediatamente adyacente. Las descripciones de diversos tipos de capas de contacto graduadas por oxidacion se exponen en la patente de Estados Unidos N.° 6.576.349. La capa o capas de contacto 8, 11 (p. ej., de un oxido de Ni y/o Cr o que incluyen un oxido de Ni y/o Cr) pueden o no ser continuas en diferentes realizaciones de esta invencion a traves de toda la capa 9 reflectante de IR.
Aunque el oxido de zinc se usa a menudo como una capa de contacto, se ha descubierto, de manera sorprendente, que la provision de una capa 8 de un oxido de Ni y/o Cr o que incluye un oxido de Ni y/o Cr entre el oxido de zinc de la capa 7 y la plata de la capa 9, da como resultado un recubrimiento que logra una emisividad mejorada (es decir, mas baja) y/o una resistencia de lamina despues de TT. Sin la capa 8 que comprende un oxido de Ni y/o Cr entre el oxido de zinc y la plata, los experimentos han mostrado que el recubrimiento tendra un valor de turbidez y/o resistencia de lamina demasiado alto despues de TT. Por lo tanto, se ha descubierto que el uso de la siguiente secuencia de capas inmediatamente adyacentes es, de manera sorprendente, beneficioso: (a) una capa 5 que comprende nitruro de silicio, (b) una capa 7 que comprende oxido de zinc por encima y que contacta con la capa que comprende nitruro de silicio, (c) una capa 8 que comprende un oxido de Ni y/o Cr por encima y que contacta con la capa que comprende oxido de zinc y (d) una capa 9 reflectante de IR.
La capa dielectrica 13 puede ser de un oxido metalico o incluir un oxido metalico, tal como, oxido de estano en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion. Se proporciona una capa 13 con oxido metalico con fines antirreflectantes, y tambien mejora la emisividad del artlculo recubierto y la estabilidad y la eficiencia del procedimiento de fabrication. La capa 13 de oxido de estano puede estar dopada con otros materiales tales como nitrogeno en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion.
La capa dielectrica 15, la cual puede ser un recubrimiento en determinados casos de ejemplo, puede ser de nitruro de silicio o incluir nitruro de silicio (p. ej., Si3N4 u otra estequiometrla adecuada) o puede ser o incluir cualquier otro material adecuado en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion, tales como, oxinitruro de silicio. Opcionalmente, pueden proporcionarse otras capas por encima de la capa 15. La capa 15 se proporciona con fines de durabilidad y para proteger las capas subyacentes. En determinadas realizaciones de ejemplo, la capa 15 puede tener un Indice de refraction (n) de entre aproximadamente 1,9 a 2,2, mas preferentemente de aproximadamente 1,95 a 2,05.
Tambien pueden proporcionarse otra capa o capas por debajo o por encima del recubrimiento 25 ilustrado. De este modo, mientras el sistema o el recubrimiento de capa esta "encendido" o "soportado por" el sustrato 1 (directa o indirectamente), se puede proporcionar otra capa o capas entre ellas. De este modo, por ejemplo, el recubrimiento de la Fig. 1 puede considerarse "encendido" y "soportado por" el sustrato 1 incluso si se proporciona otra capas o capas entre la capa 3 y el sustrato 1. Ademas, determinadas capas del recubrimiento ilustrado pueden retirarse en determinadas realizaciones, mientras que otras pueden anadirse entre las diversas capas, o la capa o capas diversas, pueden dividirse con otra capa o capas anadidas entre las secciones divididas en otras realizaciones de esta invencion. Por ejemplo y sin limitation, la capa 13 puede retirarse en determinadas situaciones de ejemplo.
Aunque pueden usarse diversos espesores en diferentes realizaciones de esta invencion, se pueden usar espesores y materiales de ejemplo para las respectivas capas sobre el sustrato de vidrio 1 de la realization de la Fig. 1 de la manera siguiente, a partir del sustrato de vidrio hacia fuera (p. ej., el contenido de Al en la capa 7 de oxido de zinc puede ser de aproximadamente un 1-10 %, mas preferentemente de aproximadamente un 1-3 % en
determinadas realizaciones de ejemplo):
Tabla 1: (Materiales/espesores de ejemplo; Realization de la Fig 1)
Capa
Intervalo preferente (A) Mas preferente (A) Ejemplo
TiOx (capa 3)
30-200 A 40-95 A 67 A
SixNy (capa 5)
20-300 A 60-160 A 111 A
ZnAlOx (capa 7)
10-200 A 40-120 A 72 A
NiCrOx (capa 8)
10-90 A 20-60 A 38 A
Ag (capa 9)
50-250 A 80-150 A 127 A
NiCrOx (capa 11)
10-80 A 20-70 A 48 A
SnO2 (capa 13)
40-400 A 90-200 A 134 A
SixNy (capa 15)
50-750 A 150-400 A 304 A
5 En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invention, los articulos recubiertos en el presente documento (p. ej., vease la Fig. 1) pueden tener las siguientes caracteristicas de baja E (baja emisividad), solares y/u opticas expuestas en la Tabla 2 cuando se miden monoliticamente, despues del tratamiento termico (p. ej., templado termico). La resistividad especifica (RE) es de la capa reflectante de IR 9 de plata.
10 Tabla 2: Caracteristicas de baja E/ solares (monoliticas; TT)
Caracteristica
General Mas preferente La mas preferente
Rl (ohms/m2):
<= 5,0 A II CO OO A II CO 4^
RE de la plata (microohms.cm):
<= 5,0 A II cn A II 4^ To
En:
<= 0,10 <= 0,05 <= 0,038
Tvis (%):
>= 70 >= 80 >= 85
Turbidez:
CM cT II V <= 0,1 <= 0,08
Ademas, los articulos recubiertos que incluyen
recubrimientos de acuerdo con determinadas realizaciones de
ejemplo de esta invencion tienen las siguientes caracteristicas opticas (p. ej., cuando el recubrimiento o recubrimientos se proporcionan sobre un sustrato de vidrio 1 de silice transparente de sosa cal de 1 a 10 mm de 15 grosor, preferentemente aproximadamente de 4 mm de grosor). En la Tabla 3, todos los parametros se miden monoliticamente, antes y/o despues de TT. Se indica que los valores de AE * en la tabla siguiente se deben al TT (es decir, a una funcion de los cambios en a*, b* y L* debido a TT como se conoce en la tecnica).
Tabla 3: Caracteristicas opticas de ejemplo (monoliticas)
Caracteristica
General Mas preferente
Tvis (o TY)(Ill. C, 2 grados):
>= 70 % >= 80 % (o >= 85 %)
a*t (Ill. C, 2°):
-2,5 a +1,0 -2,0 a 0,0
b*t (Ill. C, 2°):
-1,0 a +6,0 0,0 a +4,0
L*t:
>=90 >=93
RfY (Ill. C, 2 grados):
1 a 7 % 1 a 6 %
a*f (Ill. C, 2°):
-5,0 a +4,0 -1,5 a +3,0
b*f (Ill. C, 2°):
-14,0 a +10,0 -10,0 a 0
L*f:
22-30 25-30
AE*:
RgY (Ill. C, 2 grados):
1 a 11 % 1 a 10 %
a*g (Ill. C, 2°):
-5,0 a +4,0 -1,5 a +2,0
b*g (Ill. C, 2°):
-14,0 a +10,0 -12,0 a 0
L*g:
27-40 30-37
AE* (reflectante del lado de la pelicula):
o ii V o CO II V
AE* (transmisivo):
o ii V o co~ II V
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Ademas, los articulos recubiertos que incluyen recubrimientos de acuerdo con determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion tienen las siguientes caracteristicas opticas cuando el articulo recubierto es una unidad de GA en determinadas realizaciones de ejemplo (p. ej., con fines de referencia, cuando el recubrimiento se proporciona sobre un sustrato de vidrio 1 de silice transparente de sosa cal de 1 a 10 mm de grosor, 25 preferentemente de aproximadamente 4 mm de espesor) sobre la superficie # 3 de una unidad de ventana de VA, despues de TT. Se indica que el valor U se mide de acuerdo con la norma EN 673.
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10
15
20
25
30
35
Tabla 4: Caracteristicas opticas de ejemplo (unidad de GA-TT)
Caracterlstica
Tvis (o TY)(Ill. C, 2 grados):
a*t (Ill. C, 2°):
b*t (Ill. C, 2°):
R fuera de Y (Ill. C, 2 grados): a* exterior (Ill. C, 2°): b* exterior (Ill. C, 2°):
R dentro de Y (Ill. C, 2 grados): a* interior (Ill. C, 2°): b* interior (Ill. C, 2°):
Valor U (GA)(W/(m2K)):
General
Mas preferente
>= 70 %
>= 75 %
-4,5 a +1,0
-3,5 a 0,0
-1,0 a +4,0
0,0 a 3,0
<=14 %
<=12 %
-3,0 a +3,0
-2 a +2,0
-10,0 a +10,0
-6,0 a 0
<=15 %
<=13 %
-5,0 a +4,0
-1,5 a +3,0
-14,0 a +10,0
-10,0 a 0
<= 1,25
<= 1,15 (o <= 1,10)
La Figura 3 es una vista transversal de otra realizaciOn de ejemplo de esta invenciOn. La realizaciOn de la Fig. 3 es similar a la de la Fig. 1 (y veanse las tablas anteriores de las caracteristicas), excepto que la capa adicional 4 de Oxido de estano o que incluye Oxido de estano se proporciona bajo la capa 5 con nitruro de silicio. La capa 4 de Oxido de estano esta situada entre y en contacto con la capa 5 de nitruro de silicio y la capa 3 de Oxido de titanio en determinadas realizaciones de ejemplo. El rendimiento de esta pila es similar al de la pila de la Fig. 1 anteriormente tratada, en cuanto a que es completamente templable y muestra buena estabilidad termica, sin experimentar degradaciones significativas de rendimiento durante las cocciones de horno.
En otra realizaciOn de ejemplo mas de esta invenciOn, la realizaciOn de la Fig 1 puede modificarse usando Oxido de estano en lugar de nitruro de silicio para la capa 5. Aunque tal recubrimiento es algo similar con respecto a la estabilidad, si sufre con respecto a un aumento de la emisividad normal despues de TT (p. ej., aproximadamente 0,05, en lugar de aproximadamente 0,038 para un ejemplo de la realizaciOn de la Fig 1).
Ejemplo
El siguiente ejemplo se proporciona solo con fines de ejemplo y no pretende ser limitante. El siguiente ejemplo se realizO por pulverizaciOn por bombardeo para tener aproximadamente la pila de capas expuesta a continuaciOn, desde el sustrato de vidrio transparente hacia fuera. Los espesores enumerados son aproximaciones:
Tabla 5: Pila de capas para el ejemplo
Capa
Espesor
Sustrato de vidrio
4 mm
TiOx
250 A
Si3N4
10 A
ZnAlOx
80 A
NiCrOx
30 A
Ag
100 A
NiCrOx
30 A
SnO2
160 A
Si3N4
300 A
La capa de plata 9 se pulverizO por bombardeo usando dos objetivos planares de plata, y usando flujos de gas que incluyen Ar y Kr, en los que se usO mucho mas Ar que Kr. La capa 3 de Oxido de titanio se pulverizO por bombardeo usando dos objetivos con Ti en una atmOsfera que inclula los gases Ar y O. Las capas 5 y 15 de nitruro de silicio se pulverizaron por bombardeo usando objetivos de SiAl en una atmOsfera que inclula los gases Ar y N. Las capas 8 y 11 de NiCrOx se pulverizaron por bombardeo usando objetivos de NiCr en una atmOsfera que inclula los gases Ar y oxigeno. La capa 7 de Oxido de zinc se pulverizO usando un objetivo de ZnO ceramico en una atmOsfera que inclula gas Ar y una cantidad bastante pequena de gas oxigeno. La capa 13 de Oxido de estano se pulverizO por bombardeo usando tres objetivos de Sn en una atmOsfera que inclula los gases Ar, O y N. Despues de depositarse por pulverizaciOn por bombardeo sobre el sustrato de vidrio, el articulo recubierto del ejemplo tenia las siguientes caracteristicas, medido monoliticamente (medido en el centro del articulo recubierto).
Tabla 6: Caracteristicas del ejemplo (monoliticas- sin TT)
Caracterlstica Ejemplo
Trans. visible (Tvis o TY)(Ill. C 2 grados): 81,7 %
a* -2,0
b* 2,8
L*
92,4
Reflectancia del lado del vidrio (RY)(Ill C, grados):
2 7,1 %
a*
0,2
b*
-9,0
L*
31,9
Reflectante del lado de la pelicula (FY)(Ill. C, grados):
2 4,3
a*
4,5
b*
-9,7
L*
24,7
Rl (ohms/m2):
4,6
5
A continuacion, el artlcuio recubierto del ejemplo se trato termicamente por templado termico, a traves de un ciclo de doce minutos con las cuatro zonas del horno a 580, 700, 700 y 640 grados C, respectivamente. Despues de TT, el artlculo recubierto tenia las siguientes caracterlsticas:
Tabla 7: Caracterlsticas del ejemplo (monollticas- despues de TT)
Caracteristica
Ejemplo
Trans. visible (Tvis o TY)(Ill. C 2 grados):
86,8 %
a*
-2,1
b*
2,4
L*
94,7
Reflectancia del lado del vidrio (RY)(Ill C, 2 grados):
6,7 %
a*
3,2
b*
-9,5
L*
31,1
Reflectante del lado de la pelicula (FY)(Ill. C, 2 grados):
5,1 %
a*
4,7
b*
-8,3
L*
26,9
Rl (ohms/m2):
3,3
Emisividad (normal):
0,038
Turbidez:
0,07
AE* (reflectante del lado de la pelicula):
2,62
AE* (transmisivo):
2,34
Se prepararon y ensayaron ejemplos comparativos. Por ejemplo, un ejemplo comparativo que era similar al ejemplo anterior, excepto que no inclula capa 8 de NiCrOx. Este ejemplo comparativo tenia una emisividad mucho mas alta 10 despues de TT que la que tenia el ejemplo anterior, indicando, de ese modo, los resultados inesperados asociados con determinadas realizaciones de ejemplo de esta invencion. Se preparo y ensayo otro ejemplo, y fue similar al ejemplo anterior, excepto que se uso oxido de estano en lugar de nitruro de silicio para la capa 5. Este ejemplo tenia una emisividad mucho mas alta despues de TT en comparacion con el ejemplo anterior.
15 Los bajos valores reflectantes y transmisores de AE* del lado de la pelicula, debido al tratamiento termico, son indicativos de la estabilidad termica durante el tratamiento termico.
Cuando el ejemplo monolitico mencionado antes se uso en una unidad de ventana de VA, la unidad de ventana de VA tenia un valor U de aproximadamente 1,1 W/(m2K).

Claims (25)

  1. 5
    10
    15
    20
    25
    30
    35
    40
    45
    50
    55
    60
    65
    REIVINDICACIONES
    1. Un artlcuio recubierto que incluye un recubrimiento (25) soportado por un sustrato de vidrio (1), comprendiendo el recubrimiento, desde el sustrato de vidrio hacia fuera:
    una capa que comprende nitruro de siiicio (5) u oxido de estano;
    una capa que comprende oxido de zinc (7) por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende nitruro de silicio u oxido de estano;
    una capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr (8) por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende oxido de zinc;
    una capa reflectante de infrarrojos (IR) (9) que comprende plata por encima y que esta en contacto directo con la capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr; y una una capa dielectrica (13, 15),
    en donde el artlculo recubierto tiene solo una capa reflectante de IR (9) que comprende plata.
  2. 2. El artlculo recubierto de la reivindicacion 1, que comprende ademas una capa (3) que comprende un oxido metalico situado entre el sustrato de vidrio (1) y la capa que comprende nitruro de silicio (5) u oxido de estano.
  3. 3. El artlculo recubierto de la reivindicacion 1, en donde el artlculo recubierto no esta tratado termicamente y la capa (8) que comprende el oxido de Ni y/o Cr es subestequiometrica.
  4. 4. El artlculo recubierto de la reivindicacion 1, en donde el artlculo recubierto esta tratado termicamente.
  5. 5. El artlculo recubierto de la reivindicacion 1, que comprende ademas:
    otra capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr (11) situada por encima y que esta en contacto directo con la capa reflectante de IR que comprende plata (9);
    una capa que comprende un oxido metalico (13) situada por encima y que esta en contacto directo con la otra capa que comprende el oxido de Ni y/o Cr; y
    una capa dielectrica (15) situada por encima de la capa que comprende el oxido metalico (13).
  6. 6. El artlculo recubierto de la reivindicacion 1, en donde el artlculo recubierto esta templado termicamente y tiene una resistencia de lamina no mayor de 3,4 ohms/m2.
  7. 7. El artlculo recubierto de acuerdo con la reivindicacion 1, en donde el artlculo recubierto esta tratado termicamente y la capa que comprende nitruro de silicio u oxido de estano comprende nitruro de silicio (5) y el recubrimiento comprende, ademas:
    una capa dielectrica (3) por debajo de la capa que comprende nitruro de silicio (5);
    otra capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr (11) situada por encima y que esta en contacto directo con la capa reflectante de IR que comprende plata (9);
    una capa que comprende un oxido metalico (13) situada por encima y que esta en contacto directo con la otra capa que comprende el oxido de Ni y/o Cr; y
    una capa que comprende nitruro de silicio (15) situada sobre la capa que comprende el oxido metalico (13), como la capa dielectrica.
  8. 8. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7, en el que la capa dielectrica (3) por debajo de la capa que comprende nitruro de silicio (5), comprende oxido de titanio.
  9. 9. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7, en el que la capa dielectrica (3) por debajo de la capa que comprende nitruro de silicio (5), comprende oxido de estano.
  10. 10. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7 que comprende, ademas, una capa que comprende oxido de estano (4) proporcionada entre la capa dielectrica (3) debajo de la capa que comprende nitruro de silicio (5) y de la capa que comprende nitruro de silicio.
  11. 11. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7, en el que la capa reflectante de IR que comprende plata tiene una resistividad especlfica (RE) no mayor de 4,5 micro-ohms.cm.
  12. 12. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7, en el que la capa reflectante de IR que comprende plata tiene una resistividad especlfica (RE) no mayor de 4,2 micro-ohms.cm.
  13. 13. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7, en el que el recubrimiento tiene una resistencia de lamina (Rl) no mayor de 3,8 ohms/m2.
    5
    10
    15
    20
    25
    30
    35
    40
    45
  14. 14. El artlcuio recubierto de la reivindicacion 7, en el que el recubrimiento tiene una resistencia de lamina (Rl) no mayor de 3,4 ohms/m2.
  15. 15. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7, en donde el artlculo recubierto es una unidad de ventana de vidrio aislante (VA).
  16. 16. El artlculo recubierto de la reivindicacion 7, en donde el artlculo recubierto es una unidad de ventana de vidrio aislante (VA), comprendiendo la unidad de ventana de VA dicho sustrato de vidrio y otro sustrato de vidrio separado del mismo y, en el que la unidad de ventana de VA tiene un valor U no mayor de 1,25 W/(m2K).
  17. 17. El artlculo recubierto de la reivindicacion 16, en el que la unidad de ventana de VA tiene un valor U no mayor de 1,15 W/(m2K).
  18. 18. El artlculo recubierto de la reivindicacion 17, en el que la unidad de ventana de VA tiene un valor U no mayor de 1,1 W/(m2K).
  19. 19. El artlculo recubierto de la reivindicacion 17, en el que la unidad de ventana de VA tiene una transmision visible de al menos un 70 %.
  20. 20. Un procedimiento para fabricar un artlculo recubierto, comprendiendo el procedimiento: proporcionar un sustrato de vidrio (1);
    formar una capa que comprenda nitruro de silicio (5) u oxido de estano sobre el sustrato de vidrio; pulverizar por bombardeo atomico un objetivo ceramico que comprende zinc y oxlgeno en una atmosfera que incluya al menos un gas inerte, con el fin de formar una capa que comprenda oxido de zinc (7) sobre el sustrato de vidrio por encima y que este en contacto directo con la capa que comprende nitruro de silicio (5) u oxido de estano;
    formar una capa que comprenda un oxido de Ni y/o Cr (8) sobre el sustrato de vidrio y que este en contacto directo con la capa que comprende oxido de zinc (7);
    formar una capa reflectante de infrarrojos (IR) (9) que comprenda plata sobre el sustrato de vidrio por encima y que este en contacto directo con la capa que comprende un oxido de Ni y/o Cr (8); y
    formar una capa dielectrica (13, 15) sobre, al menos, la capa reflectante de IR, en donde el artlculo recubierto tiene solo una capa reflectante de IR (9) que comprende plata.
  21. 21. El procedimiento de la reivindicacion 20, que comprende ademas, depositar por pulverizacion por bombardeo, una capa que comprende un oxido de titanio (3) sobre el sustrato de vidrio (1) de manera que se encuentre entre, al menos, el sustrato y la capa que comprende nitruro de silicio (5) u oxido de estano.
  22. 22. El procedimiento de la reivindicacion 20, en el que la capa que comprende nitruro de silicio u oxido de estano, comprende nitruro de silicio.
  23. 23. El procedimiento de la reivindicacion 20, que comprende, ademas, templar termicamente el artlculo recubierto.
  24. 24. El artlculo recubierto de la reivindicacion 1, en donde el artlculo recubierto tiene una valor de AE* (transmisivo y reflectivo del lado de la pellcula) no mayor de 4,0 debido a tratamiento termico.
  25. 25. El artlculo recubierto de la reivindicacion 1, en donde el artlculo recubierto tiene una valor de AE* (transmisivo y reflectivo del lado de la pellcula) no mayor de 3,0 debido a tratamiento termico.
ES06011652.2T 2005-06-07 2006-06-06 Artículo recubierto con una capa reflectante de IR y un procedimiento de fabricación de la misma Active ES2626536T3 (es)

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